特許 7032273 プラズマ照射装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2022-02-28

(45)【発行日】2022-03-08

(54)【発明の名称】プラズマ照射装置

(51)【国際特許分類】

   A61C 19/06 20060101AFI20220301BHJP

   A61C 1/08 20060101ALI20220301BHJP

   H05H 1/26 20060101ALI20220301BHJP

   A61N 1/44 20060101ALI20220301BHJP

【ＦＩ】

A61C19/06 Z

A61C1/08 Z

H05H1/26

A61N1/44

【請求項の数】 5

(21)【出願番号】P 2018175789

(22)【出願日】2018-09-20

(65)【公開番号】P2020044160

(43)【公開日】2020-03-26

【審査請求日】2020-09-24

(73)【特許権者】

【識別番号】000002174

【氏名又は名称】積水化学工業株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100161207

【弁理士】

【氏名又は名称】西澤 和純

(74)【代理人】

【識別番号】100152272

【弁理士】

【氏名又は名称】川越 雄一郎

(74)【代理人】

【識別番号】100147267

【弁理士】

【氏名又は名称】大槻 真紀子

(74)【代理人】

【識別番号】100188592

【弁理士】

【氏名又は名称】山口 洋

(72)【発明者】

【氏名】長原 悠

(72)【発明者】

【氏名】上原 剛

(72)【発明者】

【氏名】東儀 彰子

(72)【発明者】

【氏名】▲高▼田 雅宏

(72)【発明者】

【氏名】安宅 元晴

(72)【発明者】

【氏名】多田 麻友華

(72)【発明者】

【氏名】大下 貴也

(72)【発明者】

【氏名】井上 毅

【審査官】小河 了一

(56)【参考文献】

【文献】特表２０１２－５２０１０１（ＪＰ，Ａ）

【文献】特表２０１７－５２９１９３（ＪＰ，Ａ）

【文献】米国特許出願公開第２０１７／０３２６３４７（ＵＳ，Ａ１）

【文献】特表２００８－５３８１８８（ＪＰ，Ａ）

【文献】国際公開第２０１７／１１９４８７（ＷＯ，Ａ１）

【文献】特開２００５－１３１３７３（ＪＰ，Ａ）

【文献】米国特許出願公開第２００９／０１８８６２６（ＵＳ，Ａ１）

【文献】特開２０００－１２５９３７（ＪＰ，Ａ）

【文献】特表２００５－５３４４５９（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ａ６１Ｃ １９／０６

Ａ６１Ｃ １／０８

Ｈ０５Ｈ １／２６

Ａ６１Ｎ １／４４

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

プラズマ発生部を長尺状のカウリングの内部に有し、前記プラズマ発生部にて発生したプラズマおよび前記プラズマによって生じる活性ガスの少なくとも一方を吐出する照射器具と、
前記照射器具の表面に設けられ、前記照射器具を把持する使用者の手を定着させる定着機構と、を備え、
前記定着機構は、前記カウリングの短手方向の両側に開口する凹部を備え、
前記凹部は、前記使用者の指が配置される空間であり、前記カウリングの径方向の内側に向かうに従い前記カウリングの長手方向における前記凹部の長さが短くなっている、プラズマ照射装置。

【請求項2】

前記凹部は、前記カウリングの全周に渡って設けられている、請求項１に記載のプラズマ照射装置。

【請求項3】

前記カウリングは、前記カウリングの先端から突出するノズルを有する、請求項１または２に記載のプラズマ照射装置。

【請求項4】

前記プラズマ発生部は、誘電体バリア放電により前記プラズマを発生する請求項１～３のいずれか１項に記載のプラズマ照射装置。

【請求項5】

前記プラズマ発生部は、窒素ガスを用いて前記プラズマを発生する請求項１～４のいずれか１項に記載のプラズマ照射装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、プラズマ照射装置に関する。

【背景技術】

【0002】

従来、例えば、歯科治療等の医療を用途とするプラズマ照射装置が知られている。
プラズマ照射装置は、創傷等の患部にプラズマまたは活性ガスを照射することで、患部を治癒する。前記活性ガスは、プラズマ照射装置内でプラズマによって発生させられる。
例えば、特許文献１は、歯科治療を行うプラズマジェット照射装置を開示している。前記プラズマジェット照射装置は、プラズマジェット照射手段を有する照射器具を備えている。前記プラズマジェット照射装置は、発生したプラズマと、活性種と、を被照射物に照射する。前記活性種は、プラズマ中の気体またはプラズマ周辺の気体とプラズマとが反応して生成される。
特許文献２は、照射器具内部で活性ガス（活性種）を発生させ、その活性ガスをノズルから吐出して患部に照射するプラズマ照射装置を開示している。前記活性ガスは、例えば、活性酸素や活性窒素等である。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【文献】特許第５４４１０６６号公報

【文献】特開２０１７－５０２６７号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

この種のプラズマ照射装置は、使用者が治療中に、照射器具を落下することがあるため、落下しないように改善が望まれていた。特に、使用者が治療中に照射器具を持ち替える際に、照射器具を落下することがあった。また、歯科治療に用いられている照射器具は、患者の唾液や水が付着し、その表面が濡れて滑りやすくなっているため、使用者が照射器具を落下することがあった。また、照射器具の表面が患者に触れて、その表面に汚れが付着する可能性がある。そのため、照射器具の表面に付着した汚れを落としやすい形態が望まれていた。さらに、歯科治療では、細かな操作が必要であるため、照射器具の持ちやすさや、操作性も求められていた。

【0005】

本発明は、前述した事情に鑑みてなされたものであって、使用者が治療中に、照射器具を落下するのを防止し、照射器具の表面に付着した汚れを落としやすく、照射器具の持ちやすさや、操作性に優れるプラズマ照射装置を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0006】

前記課題を解決するために、本発明は以下の手段を提案している。
本発明に係るプラズマ照射装置は、プラズマ発生部を有し、前記プラズマ発生部にて発生したプラズマおよび前記プラズマによって生じる活性ガスの少なくとも一方を吐出する照射器具と、前記照射器具の表面に設けられ、前記照射器具を把持する使用者の手を定着させる定着機構と、を備える。

【0007】

前記照射器具は、長手方向の長さが、該長手方向に直交する短手方向の長さよりも長い長尺状に形成され、前記定着機構は、前記照射器具の外周面から径方向に向けて窪む凹部を備え、前記凹部は、前記照射器具の径方向の内側に向かうに従い前記長手方向の長さが短くなってもよい。

【0008】

前記定着機構は、前記照射器具の使用者の手の指を挿通する環状部であってもよい。

【0009】

前記定着機構は、前記照射器具の表面に設けられた微細な凹凸であってもよい。

【0010】

前記定着機構は、前記照射器具の表面に設けられたラバーグリップであってもよい。

【0011】

前記定着機構は、前記照射器具の使用者の手の指を挿通する環状部材を有するストラップであってもよい。

【0012】

また、上記のプラズマ照射装置において、前記プラズマ発生部は、誘電体バリア放電により前記プラズマを発生してもよい。

【0013】

また、上記のプラズマ照射装置において、前記プラズマ発生部は、窒素ガスを用いて前記プラズマを発生してもよい。

【発明の効果】

【0014】

本発明によれば、使用者が治療中に、照射器具を落下するのを防止し、照射器具の表面に付着した汚れを落としやすく、照射器具の持ちやすさや、操作性に優れるプラズマ照射装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0015】

【図1】本発明の一実施形態に係るプラズマ照射装置を示す模式図である。

【図2】本発明の一実施形態に係るプラズマ照射装置を構成する照射器具の部分断面図である。

【図3】図２の照射器具のｘ－ｘ断面図である。

【図4】図２の照射器具のｙ－ｙ断面図である。

【図5】本発明の一実施形態に係るプラズマ照射装置の概略構成を示すブロック図である。

【図6】図２の照射器具の要部の断面図である。

【図7】本発明の一実施形態に係るプラズマ照射装置を構成する照射器具の定着機構を示す模式図である。

【図8】本発明の第１変形例に係る照射器具の定着機構を示す模式図である。

【図9】本発明の第２変形例に係る照射器具の定着機構を示す模式図である。

【図10】本発明の第３変形例に係る照射器具の定着機構を示す模式図である。

【図11】本発明の第４変形例に係る照射器具の定着機構を示す模式図である。

【図12】本発明の第５変形例に係る照射器具の定着機構を示す模式図である。

【図13】本発明の第６変形例に係る照射器具の定着機構を示す模式図である。

【図14】本発明の第７変形例に係る照射器具の定着機構を示す模式図であり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は斜視図である。

【図15】本発明の第８変形例に係る照射器具の定着機構を示す模式図であり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は斜視図である。

【図16】本発明の第９変形例に係る照射器具の定着機構を示す模式図であり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は斜視図である。

【発明を実施するための形態】

【0016】

本発明のプラズマ照射装置の実施の形態について説明する。
なお、本実施の形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。

【0017】

本発明のプラズマ照射装置は、プラズマジェット照射装置または活性ガス照射装置である。
プラズマジェット照射装置は、プラズマを発生させる。プラズマジェット照射装置は、発生したプラズマと、活性種と、を被照射物に直接照射する。前記活性種は、プラズマ中の気体またはプラズマ周辺の気体とプラズマとが反応して生成される。活性種としては、活性酸素種や活性窒素種を例示できる。活性酸素種としては、ヒドロキシルラジカル、一重項酸素、オゾン、過酸化水素、スーパーオキシドアニオンラジカル等を例示できる。活性窒素種としては、一酸化窒素、二酸化窒素、ペルオキシナイトライト、過酸化亜硝酸、三酸化二窒素等を例示できる。

【0018】

活性ガス照射装置は、プラズマを発生させる。活性ガス照射装置は、活性種を含む活性ガスを被照射物に照射する。前記活性種は、プラズマ中の気体またはプラズマ周辺の気体とプラズマとが反応して生成される。

【0019】

以下、本発明のプラズマ照射装置の一実施形態について説明する。
本実施形態のプラズマ照射装置は、活性ガス照射装置である。
図１から図５に示すように、本実施形態のプラズマ照射装置２００は、照射器具１０と、検出部１５と、供給ユニット２０と、ガス管路３０と、電気配線４０と、供給源７０と、報知部８０と、制御部９０（演算部）と、定着機構１００と、を備える。
照射器具１０は、照射器具１０内で発生した活性ガスを吐出する。供給ユニット２０は、照射器具１０に電力およびプラズマ発生用ガスを供給する。供給ユニット２０は、供給源７０を収容している。供給源７０は、プラズマ発生用ガスを収容している。供給ユニット２０は、例えば、１００Ｖの家庭用電源等の電源（不図示）と接続されている。ガス管路３０は、照射器具１０と供給ユニット２０とを接続している。電気配線４０は、照射器具１０と供給ユニット２０とを接続している。本実施形態において、ガス管路３０と電気配線４０とは、各々独立しているが、ガス管路３０と電気配線４０とは一体でもよい。

【0020】

図２は、照射器具１０における軸線に沿う面の断面（縦断面）図である。
図２に示すように、照射器具１０は、長尺状のカウリング２（筐体）と、カウリング２の先端から突出するノズル１１と、カウリング２内に位置するプラズマ発生部１２とを備える。
カウリング２は、円筒形の胴体部２ｂと、胴体部２ｂの先端を塞ぐヘッド部２ａとを備える。なお、胴体部２ｂは、円筒形に限らず、四角筒、六角筒、八角筒等の多角筒形でもよい。

【0021】

ヘッド部２ａは、先端に向かい漸次縮径するテーパ状をなしている。すなわち、本実施形態におけるヘッド部２ａは、円錐形である。なお、ヘッド部２ａは、円錐形に限らず、四角錘、六角錘、八角錘等の多角錘形でもよい。
ヘッド部２ａは、先端に嵌合孔２ｃを有している。嵌合孔２ｃは、ノズル１１を受け入れる孔である。ノズル１１は、ヘッド部２ａに着脱可能になっている。ヘッド部２ａは、管軸Ｏ１方向に延びる第一の活性ガス流路７を内部に有している。管軸Ｏ１は、胴体部２ｂの管軸である。
胴体部２ｂは、外周面に操作スイッチ９（操作部）を備えている。

【0022】

図２および図３に示すように、プラズマ発生部１２は、管状誘電体３（誘電体）と、内部電極４と、外部電極５とを備える。
管状誘電体３は、管軸Ｏ１方向に延びる円筒状の部材である。管状誘電体３は、管軸Ｏ１方向に延びるガス流路６を内部に有している。第一の活性ガス流路７とガス流路６とは連通している。なお、管軸Ｏ１は、管状誘電体３の管軸と同じである。
管状誘電体３は、内部に内部電極４を備えている。内部電極４は、管軸Ｏ１方向に延びる略円柱状の部材である。内部電極４は、管状誘電体３の内面と離間している。
管状誘電体３の外周面の一部には、内部電極４に沿う外部電極５を備えている。外部電極５は、管状誘電体３の外周面に沿って周回する環状の電極である。
図３に示すように、管状誘電体３と内部電極４と外部電極５とは、管軸Ｏ１を中心として同心円状に位置している。
本実施形態において、内部電極４の外周面と外部電極５の内周面とは、管状誘電体３を挟んで互いに対向している。

【0023】

本実施形態では、プラズマ発生部１２は、誘電体バリア放電によりプラズマを発生する。
プラズマ発生部１２は、例えば、窒素を用いてプラズマを発生する。窒素を用いてプラズマを発生するためには、プラズマ発生部１２に印加する電圧が高くなり、プラズマ発生部１２から放射される電磁波を防ぐために必要なシールドが重くなる。このため、プラズマ発生部１２を落としたときに、誘電体バリア放電を発生させるための誘電体が割れやすくなる。

【0024】

プラズマ発生部１２は、カウリング２から離脱可能である。プラズマ発生部１２は、例えば、カウリング２から管軸Ｏ１方向に引き抜かれる。例えば、カウリング２をヘッド部２ａと胴体部２ｂとに分解した後、プラズマ発生部１２が、胴体部２ｂに対して前側に引き抜かれるようにプラズマ発生部１２を構成してもよい（なお、管軸Ｏ１方向に沿ってヘッド部２ａ側を前側、胴体部２ｂ側を後側とする）。
例えば、プラズマ発生部１２が破損した場合などには、カウリング２からプラズマ発生部１２を離脱させた後、新たなプラズマ発生部１２をカウリング２に装着することができる。このとき、新たなプラズマ発生部１２は、カウリング２に対して管軸Ｏ１方向に差し込むことができる。

【0025】

図６に示すように、ノズル１１の先端部の硬さ（ＪＩＳ Ｋ ６２５３に規定されるタイプＡデュロメータにより測定される硬さ、以下「硬さ」という。）は、０度以上６０度以下である。本実施形態では、ノズル１１は、プラズマおよび活性ガスの少なくとも一方が通過する本体管１と、本体管１を覆うカバー１３と、を備えている。カバー１３は、ノズル１１の先端部を形成し、硬さが０度以上６０度以下の材料により形成されている。カバー１３が、硬さが０度以上６０度以下の材料により形成されていることで、ノズル１１の先端部のうちの少なくとも外面（最外層）硬さが、０度以上６０度以下となる。カバー１３の硬さは、例えば、１０度以上４０度以下であることが好ましい。

【0026】

本体管１は、嵌合孔２ｃに嵌合する台座部１ｂと、台座部１ｂから突出する照射管１ｃとを備える。台座部１ｂは、嵌合孔２ｃ（カウリング２）に対して着脱自在に装着されている。照射管１ｃは、円筒状に形成されている。台座部１ｂと照射管１ｃとは一体になっている。本体管１は、その内部に、第二の活性ガス流路８を有している。本体管１は、先端に照射口１ａを有している。第二の活性ガス流路８と第一の活性ガス流路７とは、連通している。

【0027】

本体管１（台座部１ｂおよび照射管１ｃ）は、同一材料で一体に形成されている。本実施形態では、本体管１が金属（例えば、ＳＵＳ（ステンレス鋼）等）により形成されている。本体管１の材料は、特に制限はなく、絶縁性を有してもよいし、導電性を有してもよい。本体管１の材料としては、耐摩耗性、耐腐食性に優れる材料が好ましい。耐摩耗性、耐腐食性に優れる材料としては、ステンレス等の金属を例示できる。

【0028】

カバー１３は、生体適合性かつ絶縁性を具備する軟質な材料によって形成されている。本実施形態では、カバー１３は、樹脂（例えば、シリコン樹脂、より具体的には、硬さが２０度程度のシリコン樹脂など）により形成されている。カバー１３は、前述のように、硬さが０度以上６０度以下の材料により形成されている。カバー１３を形成する材料は、ＳＵＳ（ステンレス鋼）やＡＢＳ樹脂よりも軟質であり、本体管１やカウリング２を形成する材料よりも軟質である。言い換えると、カバー１３と同等の形状、かつ同等の大きさの部材を、ＳＵＳやＡＢＳ樹脂、本体管１を形成する材料、または、カウリング２を形成する材料によって形成した場合、この部材よりもカバー１３の方が変形し易い。

【0029】

カバー１３は、照射管１ｃに外側から嵌合されている。カバー１３の先端部は、本体管１の先端部に対して突出している。図示の例では、カバー１３の先端部が、照射管１ｃの先端部よりも前側に突出している。カバー１３は、円筒状に形成されている。カバー１３の肉厚は、例えば、０．５ｍｍ～５ｍｍ、好ましくは１ｍｍ～３ｍｍである。なお、カバー１３の肉厚が０．５ｍｍ未満では、後述する負担の軽減効果が発揮され難くなる。一方、カバー１３の肉厚が５ｍｍを超えると、ノズル１１の全体が太くなり過ぎ、例えば、治療（歯科治療）し難くなることがある。

【0030】

本実施形態では、カバー１３には、ヘッドカバー１４が一体に設けられている。ヘッドカバー１４は、ヘッド部２ａを覆っており、図示の例では、ヘッド部２ａに外側から嵌合されている。
カバー１３は、本体管１に対して着脱自在に装着されている。本実施形態では、ヘッドカバー１４も、ヘッド部２ａに対して着脱自在に装着されている。カバー１３およびヘッドカバー１４は、本体管１およびヘッド部２ａに対して一体的に着脱自在に装着されている。なお、カバー１３やヘッドカバー１４の着脱性を向上させるため、カバー１３やヘッドカバー１４の内面に、凹凸部を設けてもよい。凹凸部を設けることにより、カバー１３やヘッドカバー１４と、本体管１やヘッド部２ａと、の接触面積を低減させ、着脱時の摩擦抵抗を軽減させることができる。

【0031】

カバー１３（カバー１３とヘッドカバー１４との連結体）は、例えば、押し出し成形で試作後、二次加工をすることで製造してもよい。カバー１３は、例えば、真空注型、ＲＩＭ成形、射出成形により製造してもよい。真空注型やＲＩＭ成形、射出成形によりカバー１３を形成する場合、カバー１３を押し出し成形で試作後、二次加工をする場合に比べて、例えば、カバー１３の内面に前述の凹凸部を設けたり、カバー１３に切込みを入れたりする等し易くなる。そのため、真空注型やＲＩＭ成形、射出成形によりカバー１３を形成することが好ましい。

【0032】

図２に示すように、胴体部２ｂの材料は、特に制限はないが、導電性を有する材料が好ましい。胴体部２ｂは、金属材料で形成されてもよいし、絶縁材料とその表面に金属材料の層を有する多層構造でもよい。
金属材料としては、ステンレス、チタン、アルミニウム等が挙げられる。コストと軽さの観点からアルミニウムが好ましく、アルミニウムを用いる場合は、表面にアルマイト処理がされていることが好ましい。
胴体部２ｂの大きさは、特に制限はなく、手指で把持しやすい大きさとすることができる。

【0033】

ヘッド部２ａの材料は、特に制限はなく、絶縁性を有してもよいし、絶縁性を有しなくてもよい。ヘッド部２ａの材料は、耐摩耗性、耐腐食性に優れる材料が好ましい。耐摩耗性、耐腐食性に優れる材料としては、ステンレス等の金属を例示できる。ヘッド部２ａと胴体部２ｂとの材料は、同じでもよく、異なってもよい。
ヘッド部２ａの大きさは、プラズマ照射装置２００の用途等を勘案して決定できる。例えば、プラズマ照射装置２００が口腔内用治療器具である場合、ヘッド部２ａの大きさは、口腔内に挿入できる大きさが好ましい。

【0034】

管状誘電体３の材料としては、公知のプラズマ装置に使用する誘電体材料を適用できる。管状誘電体３の材料としては、ガラス、セラミックス、合成樹脂等を例示できる。管状誘電体３の誘電率は低いほど好ましい。

【0035】

管状誘電体３の内径Ｒは、内部電極４の外径ｄを勘案して適宜決定できる。内径Ｒは、後述する距離ｓを所望の範囲とするように決定する。

【0036】

内部電極４は、管軸Ｏ１方向に延びる軸部と、軸部の外周面のねじ山とを備える。軸部は、中実でもよいし、中空でもよい。中でも、軸部は中実が好ましい。軸部が中実であれば、加工が容易であり、かつ機械的な耐久性を高められる。内部電極４のねじ山は、軸部の周方向に周回する螺旋状のねじ山である。内部電極４の形態は、雄ねじと同様の形態である。
内部電極４は、外周面にねじ山を有することで、ねじ山先端部の電界が局所的に強くなり、放電開始電圧が低くなる。このため、低電力でプラズマを生成し、維持できる。
なお、内部電極４は、外周面にねじ山等の凹凸を有しなくてもよい。即ち、内部電極４は、外周面に凹凸を有しない円柱の部材でもよい

【0037】

内部電極４の外径ｄは、プラズマ照射装置２００の用途（すなわち、照射器具１０の大きさ）等を勘案して、適宜決定できる。プラズマ照射装置２００が口腔内用治療器具である場合、外径ｄは、０．５ｍｍ～２０ｍｍが好ましく、１ｍｍ～１０ｍｍがより好ましい。外径ｄが上記下限値以上であれば、内部電極４を容易に製造できる。加えて、外径ｄが上記下限値以上であれば、内部電極４の表面積が大きくなり、プラズマをより効率的に発生して、治癒等をより促進できる。外径ｄが上記上限値以下であれば、照射器具１０を過度に大きくすることなく、プラズマをより効率的に発生し、治癒等をより促進できる。

【0038】

内部電極４のねじ山の高さｈは、内部電極４の外径ｄを勘案して適宜決定できる。
内部電極４のねじ山のピッチｐは、内部電極４の長さや外径ｄ等を勘案して適宜決定できる。ピッチｐは、０．２ｍｍ～３．０ｍｍが好ましく、０．２ｍｍ～２．５ｍｍがより好ましく、０．２ｍｍ～２．０ｍｍがさらに好ましい。

【0039】

内部電極４の材料は、導電材であれば特に制限はなく、公知のプラズマ装置の電極に使用できる金属を適用できる。内部電極４の材料としては、ステンレス、銅、タングステン等の金属、カーボン等を例示できる。

【0040】

内部電極４としては、ＪＩＳ Ｂ ０２０５：２００１のメートルねじの規格品（Ｍ２、Ｍ２．２、Ｍ２．５、Ｍ３、Ｍ３．５等）、ＪＩＳ Ｂ ２０１６：１９８７のメートル台形ねじの規格品（Ｔｒ８×１．５、Ｔｒ９×２、Ｔｒ９×１．５等）、ＪＩＳ Ｂ ０２０６：１９７３のユニファイ並目ねじの規格品（Ｎｏ．１－６４ＵＮＣ、Ｎｏ．２－５６ＵＮＣ、Ｎｏ．３－４８ＵＮＣ等）等と同等の仕様が好ましい。これらの規格品と同等の仕様であれば、コスト面で優位である。

【0041】

内部電極４の外面と管状誘電体３の内面との距離ｓは、０．０５ｍｍ～５ｍｍが好ましく、０．１ｍｍ～１ｍｍがより好ましい。距離ｓが上記下限値以上であれば、所望量のプラズマ発生用ガスを容易に通流できる。距離ｓが上記上限値以下であれば、プラズマをさらに効率的に発生し、活性ガスの温度を低くできる。

【0042】

外部電極５の材料は、導電材であれば特に制限はなく、公知のプラズマ装置の電極に使用する金属を適用できる。外部電極５の材料としては、ステンレス、銅、タングステン等の金属、カーボン等を例示できる。

【0043】

ノズル１１における照射管１ｃ内の流路の長さ（すなわち、距離Ｌ２）は、プラズマ照射装置２００の用途等を勘案して、適宜決定できる。
照射口１ａの開口径は、例えば、０．５ｍｍ～５ｍｍが好ましい。開口径が上記下限値以上であれば、活性ガスの圧力損失を抑制できる。開口径が上記上限値以下であれば、照射する活性ガスの流速を高めて、患部の治癒等を促進できる。
照射管１ｃは、管軸Ｏ１に対して屈曲している。
照射管１ｃの管軸Ｏ２と管軸Ｏ１とのなす角度θは、プラズマ照射装置２００の用途等を勘案して決定できる。

【0044】

外部電極５の先端中心点Ｑ１からヘッド部２ａの先端Ｑ２までの距離Ｌ１と、先端Ｑ２から照射口１ａまでの距離Ｌ２との合計（即ち、内部電極４から照射口１ａまでの道のり）は、プラズマ照射装置２００に求める大きさや、照射した活性ガスが当たる面（被照射面）における温度等を勘案して適宜決定する。距離Ｌ１と距離Ｌ２の合計が長ければ、被照射面の温度を低くできる。距離Ｌ１と距離Ｌ２の合計が短ければ、活性ガスのラジカル密度をさらに高めて、被照射面における清浄化、賦活化、治癒等の効果をさらに高められる。なお、先端Ｑ２は、管軸Ｏ１と管軸Ｏ２との交点である。

【0045】

図２および図４に示すように、検出部１５は、照射器具１０に加えられた外力（衝撃力）を検出する。検出部１５は、ノズル１１よりもプラズマ発生部１２の近くに配置されている。検出部１５は、凹部１６に配置されている。凹部１６は、胴体部２ｂの内周面に形成されている。管軸Ｏ１に直交する方向を径方向とすると、検出部１５は、管状誘電体３に対して径方向の外側に配置されている。検出部１５は、管軸Ｏ１方向に延びる管状に形成されている。
検出部１５は、照射器具１０から離脱可能である。検出部１５は、プラズマ発生部１２をカウリング２から離脱させた後、カウリング２内から外部に取り出される。

【0046】

検出部１５は、検出部１５に外力が加えられたときに変色する。本実施形態では、検出部１５の色は、検出部１５に所定の大きさ以上の外力が加えられる前後で異なる。検出部１５の色は、検出部１５に所定の大きさ以上の外力が加えられた後、元の色に戻らず変色したままである。本実施形態では、検出部１５が、所定の衝撃加速度（衝撃値）以上の衝撃加速度が加えられたときに変色し、変色した状態が維持される。

【0047】

検出部１５としては、例えば、ショックウォッチ社のショックウォッチ（登録商標）を採用することができる。なお、本実施形態のように、検出部１５が管状の場合、検出部１５として、例えば、衝撃検知チューブ（例えば、ショックウォッチ（登録商標）のチューブタイプ等）などを採用することができる。さらに、衝撃検知チューブに代えて、例えば、衝撃検知ラベル（例えば、ショックウォッチ（登録商標）のラベルタイプ等）や、衝撃検知表示器（例えば、ショックウォッチ（登録商標）のＭＡＧ２０００等）などを採用することができる。

【0048】

検出部１５は、例えば、管状誘電体３の強度（大きさや形状、材質）などを勘案して適宜設計することができる。検出部１５を適宜設計することにより、例えば、検出部１５の変色に関する衝撃加速度の閾値を調節すること等ができる。
検出部１５は、照射器具１０の外部から視認可能である。カウリング２には、のぞき窓１７が設けられている。のぞき窓１７は、検出部１５（凹部１６）に対して径方向の外側に配置されている。検出部１５は、のぞき窓１７を通して照射器具１０の外部から視認される。

【0049】

図１に示すような供給ユニット２０は、照射器具１０に電気およびプラズマ発生用ガスを供給する。供給ユニット２０は、内部電極４と外部電極５との間に印加する電圧および周波数を調節できる。供給ユニット２０は、供給源７０を収容する筐体２１を備えている。
筐体２１は、供給源７０を離脱可能に収容する。これにより、筐体２１に収容された供給源７０内のガスがなくなったとき、供給源７０を交換することができる。

【0050】

供給源７０は、プラズマ発生部１２にプラズマ発生用ガスを供給する。供給源７０は、内部にプラズマ発生用ガスが収容された耐圧容器である。図５に示すように、供給源７０は、筐体２１内に配置された配管７５に対して着脱可能に装着されている。配管７５は、供給源７０とガス管路３０とを接続している。
配管７５には、電磁弁７１、圧力レギュレータ７３、流量コントローラ７４および圧力センサ７２（残量センサ）が取り付けられている。

【0051】

電磁弁７１が開状態となると、供給源７０から配管７５およびガス管路３０を介して照射器具１０にプラズマ発生用ガスが供給される。図示の例では、電磁弁７１は、弁開度が調節できる構成ではなく、開閉の切り替えのみができる構成である。なお電磁弁７１は、弁開度が調節できる構成であってもよい。
圧力レギュレータ７３は、電磁弁７１と供給源７０との間に配置されている。圧力レギュレータ７３は、供給源７０から電磁弁７１に向かうプラズマ発生用ガスの圧力を低下（プラズマ発生用ガスを減圧）させる。

【0052】

流量コントローラ７４は、電磁弁７１とガス管路３０との間に配置されている。流量コントローラ７４は、電磁弁７１を通過したプラズマ発生用ガスの流量（単位時間当たりの供給量）を調整する。流量コントローラ７４は、プラズマ発生用ガスの流量を、例えば、３Ｌ／ｍｉｎに調整する。
圧力センサ７２は、供給源７０におけるプラズマ発生用ガスの残量Ｖ１を検出する。圧力センサ７２は、前記残量Ｖ１として、供給源７０内の圧力（残圧）を測定する。圧力センサ７２は、圧力レギュレータ７３と供給源７０との間（圧力レギュレータ７３よりも一次側）を通過するプラズマ発生用ガスの圧力を、供給源７０の圧力として測定する。圧力センサ７２としては、例えば、キーエンス社のＡＰ－Ｖ８０シリーズ（具体的には、例えばＡＰ－１５Ｓ）等を採用することができる。

【0053】

配管７５の供給源７０側の端部には、継手７６が設けられている。継手７６には、供給源７０が着脱可能に装着されている。供給源７０を継手７６に着脱させることで、電磁弁７１、圧力レギュレータ７３、流量コントローラ７４および圧力センサ７２（以下、「電磁弁７１等」という。）を筐体２１に固定したまま、供給源７０を交換することができる。
この場合、交換前の供給源７０、交換後の供給源７０のいずれについても共通の電磁弁７１等を使用することができる。なお電磁弁７１等は、供給源７０に固定され、供給源７０と一体的に筐体２１から離脱可能であってもよい。

【0054】

図１に示すように、ガス管路３０は、供給ユニット２０から照射器具１０にプラズマ発生用ガスを供給する経路である。ガス管路３０は、照射器具１０の管状誘電体３の後端部に接続している。ガス管路３０の材料は、特に制限はなく、公知のガス管に用いる材料を適用できる。ガス管路３０の材料としては、例えば、樹脂製の配管、ゴム製のチューブ等を例示でき、可撓性を有する材料が好ましい。

【0055】

電気配線４０は、供給ユニット２０から照射器具１０に電気を供給する配線である。電気配線４０は、照射器具１０の内部電極４、外部電極５および操作スイッチ９に接続している。電気配線４０の材料は、特に制限はなく、公知の電気配線に用いる材料を適用できる。
電気配線４０の材料としては、絶縁材料で被覆した金属導線等を例示できる。

【0056】

図５に示すような制御部９０は、情報処理装置を用いて構成される。すなわち、制御部９０は、バスで接続されたＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｏｒ Ｕｎｉｔ）、メモリおよび補助記憶装置を備える。制御部９０は、プログラムを実行することによって動作する。制御部９０は、例えば、供給ユニット２０に内蔵されていてもよい。制御部９０は、照射器具１０、供給ユニット２０および報知部８０を制御する。

【0057】

制御部９０には、照射器具１０の操作スイッチ９が電気的に接続されている。操作スイッチ９が操作されると、操作スイッチ９から制御部９０に電気信号が送られる。制御部９０が前記電気信号を受け付けると、制御部９０は電磁弁７１および流量コントローラ７４を作動させ、かつ内部電極４と外部電極５との間に電圧を印加する。

【0058】

本実施形態では、操作スイッチ９が押釦であり、使用者が操作スイッチ９を１回押した（使用者が操作スイッチ９を操作した）ときに、制御部９０が前記電気信号を受け付ける。すると制御部９０が、電磁弁７１を所定の時間、開放して電磁弁７１を通過したプラズマ発生用ガスの流量を流量コントローラ７４に調整させ、かつ内部電極４と外部電極５との間に電圧を所定の時間、印加する。その結果、供給源７０からプラズマ発生部１２に一定量のプラズマ発生用ガスが供給され、ノズル１１から活性ガスが一定時間（例えば、数秒から数十秒程度、本実施形態では３０秒）、継続して吐出される。

【0059】

制御部９０は、プラズマ発生用ガスの残回数Ｎを演算する。残回数Ｎは、供給源７０に残存するプラズマ発生用ガスによって、供給源７０からプラズマ発生部１２にプラズマ発生用ガスを供給することができる残りの回数である。残回数Ｎは、供給源７０におけるプラズマ発生用ガスの残量Ｖ１から算出することができる。残回数Ｎは、残量Ｖ１と、操作スイッチ９の操作１回あたりのプラズマ発生用ガスの供給量Ｖ２と、に基づいて演算（Ｎ＝Ｖ１／Ｖ２）することができる。

【0060】

報知部８０は、残回数Ｎを報知する。報知部８０は、制御部９０が演算した残回数Ｎを数字で表示する。報知部８０として、例えば、任意の数字を表示可能なディスプレイ装置を採用してもよく、機械式のカウンタを採用してもよい。なお、報知部８０は、音声によって残回数Ｎを報知してもよい。この場合、報知部８０としては、例えば、スピーカ等を採用することができる。

【0061】

図１に示すように、定着機構１００は、照射器具１０の表面に設けられている。定着機構１００は、照射器具１０を把持する使用者の手を、照射器具１０からずれにくくするための機構である。照明器具１０の表面が平面であると、照射器具１０を把持した手が滑ってしまう。すなわち、定着機構１００は、使用者の手が照射器具１０から滑らないようにするための機構である。

【0062】

本実施形態では、図７に示すように、照射器具１０は、長手方向の長さが、長手方向に直交する短手方向の長さよりも長い長尺状に形成されている。定着機構１００は、照射器具１０の外周面１０ａから径方向に向けて窪み、照射器具１０の短手方向の両側に開口する凹部１０１を備える。さらに、凹部１０１は、照射器具１０の径方向の内側に向かうに従い長手方向の長さが短くなっている。また、凹部１０１は、照射器具１０の使用者の手の指が配置される空間である。凹部１０１は、照射器具１０の長手方向に間隔をあけて複数（図示の例では３つ）設けられている。凹部１０１は、周方向の位置を同等にして設けられている。凹部１０１は、いずれも、照射器具１０の外周面のうち、ノズル１１が曲がる方向に位置する部分に設けられている。これにより、使用者が、照射器具１０に対して握手するように、ノズル１１が曲がる方向の反対側から照射器具１０を把持すると、使用者の指が凹部１０１に配置される。
凹部１０１の大きさは、特に制限はなく、例えば、平均的な成人の手の指の大きさに合せて決定される。

【0063】

次に、プラズマ照射装置２００の使用方法を説明する。
例えば、医師などの使用者は、照射器具１０を持って移動させ、ノズル１１を後述する被照射物に向ける。この際、使用者は、自身の利手（照射器具１０の操作を行う手）の指を照射器具１０の表面に設けられた凹部１０１に沿わせて、照射器具１０を把持する。この状態で操作スイッチ９を押し、供給源７０から照射器具１０に電気およびプラズマ発生用ガスを供給する。
照射器具１０に供給したプラズマ発生用ガスは、管状誘電体３の後端部から管状誘電体３の内空部に流入する。プラズマ発生用ガスは、内部電極４と外部電極５とが対向する位置において電離し、プラズマになる。

【0064】

本実施形態においては、内部電極４と外部電極５とが、プラズマ発生用ガスの流れる方向と直交する向きに対向している。内部電極４の外周面と外部電極５の内周面とが対向する位置で発生したプラズマは、ガス流路６と、第一の活性ガス流路７と、第二の活性ガス流路８とをこの順に通流する。この間、プラズマは、ガス組成を変化しつつ通流し、ラジカル等の活性種を含む活性ガスとなる。

【0065】

生じた活性ガスは、照射口１ａから吐出される。吐出された活性ガスは、照射口１ａ近傍の気体の一部をさらに活性化して活性種を生成する。これらの活性種を含む活性ガスを被照射物に照射する。

【0066】

被照射物としては、例えば、細胞、生体組織、生物個体等を例示できる。
生体組織としては、内臓の各器官、体表や体腔の内面を覆う上皮組織、歯肉、歯槽骨、歯根膜およびセメント質等の歯周組織、歯、骨等を例示できる。
生物個体としては、ヒト、犬、猫、豚等の哺乳類；鳥類；魚類等のいずれでもよい。

【0067】

プラズマ発生用ガスとしては、例えば、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン等の希ガス；窒素；等を例示できる。これらのガスは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
プラズマ発生用ガスは、窒素を主成分とすることが好ましい。ここで、窒素を主成分とするとは、プラズマ発生用ガスにおける窒素の含有量が５０体積％超であることをいう。
すなわち、プラズマ発生用ガスにおける窒素の含有量は、５０体積％超が好ましく、７０体積％以上がより好ましく、８０質量％～１００質量％がさらに好ましく、９０質量％～１００質量％が特に好ましい。プラズマ発生用ガス中、窒素以外のガス成分は、特に制限はなく、例えば、酸素、希ガス等を例示できる。

【0068】

プラズマ照射装置２００が口腔内用治療器具である場合、管状誘電体３に導入するプラズマ発生用ガスの酸素濃度は、１体積％以下が好ましい。酸素濃度が上限値以下であれば、オゾンの発生を低減できる。

【0069】

管状誘電体３に導入するプラズマ発生用ガスの流量は、１Ｌ／ｍｉｎ～１０Ｌ／ｍｉｎが好ましい。
管状誘電体３に導入するプラズマ発生用ガスの流量が前記下限値以上であると、被照射物における被照射面の温度の上昇を抑制しやすい。プラズマ発生用ガスの流量が前記上限値以下であると、被照射物の清浄化、賦活化または治癒をさらに促進できる。

【0070】

内部電極４と外部電極５との間に印加する交流電圧は、５ｋＶｐｐ以上２０ｋＶｐｐ以下が好ましい。ここで、交流電圧を表す単位「Ｖｐｐ（Ｖｏｌｔ ｐｅａｋ ｔｏ ｐｅａｋ）」は、交流電圧波形の最高値と最低値との電位差である。
なお、内部電極４が外周面に凹凸を有しない円柱の部材である場合、内部電極４と外部電極５との間に印加する交流電圧は、１０ｋＶｐｐ以上が好ましい。外周面に凹凸を有さない内部電極４を用いる場合、外周面に凹凸を有する内部電極４を用いる場合に比べて、内部電極４と外部電極５との間に印加する交流電圧を高める必要がある。
印加する交流電圧が前記上限値以下であれば、発生するプラズマの温度を低く抑えられる。印加する交流電圧が前記下限値以上であれば、さらに効率的にプラズマを発生できる。

【0071】

内部電極４と外部電極５との間に印加する交流の周波数は、０．５ｋＨｚ以上２０ｋＨｚ未満が好ましく、１ｋＨｚ以上１５ｋＨｚ未満がより好ましく、２ｋＨｚ以上１０ｋＨｚ未満がさらに好ましく、３ｋＨｚ以上９ｋＨｚ未満が特に好ましく、４ｋＨｚ以上８ｋＨｚ未満が最も好ましい。
交流の周波数が前記上限値未満であれば、発生するプラズマの温度を低く抑えられる。交流の周波数が前記下限値以上であれば、さらに効率的にプラズマを発生できる。

【0072】

ノズル１１の照射口１ａから照射する活性ガスの温度は、５０℃以下が好ましく、４５℃以下がより好ましく、４０℃以下がさらに好ましい。
ノズル１１の照射口１ａから照射する活性ガスの温度が前記上限値以下であると、被照射面の温度を４０℃以下にしやすい。被照射面の温度を４０℃以下にすることで、被照射部分が患部である場合にも、患部への刺激を低減できる。
ノズル１１の照射口１ａから照射する活性ガスの温度の下限値は、特に制限はなく、例えば、１０℃以上である。
活性ガスの温度は、照射口１ａにおける活性ガスの温度を熱電対で測定した値である。

【0073】

照射口１ａから被照射面までの距離（照射距離）は、例えば、０．０１ｍｍ～１０ｍｍが好ましい。照射距離が上記下限値以上であれば、被照射面の温度を低くし、被照射面への刺激をさらに緩和できる。照射距離が上記上限値以下であれば、治癒等の効果をさらに高められる。

【0074】

照射口１ａから１ｍｍ以上１０ｍｍ以下の距離で離れた位置の被照射面の温度は、４０℃以下が好ましい。被照射面の温度が４０℃以下であれば、被照射面への刺激を低減できる。被照射面の温度の下限値は特に制限はないが、例えば、１０℃以上である。
被照射面の温度は、内部電極４と外部電極５との間に印加する交流電圧、照射する活性ガスの吐出量、内部電極４の先端Ｑ１から照射口１ａまでの長さ等の組み合わせで調節できる。
被照射面の温度は、熱電対を用いて測定できる。

【0075】

活性ガスに含まれる活性種（ラジカル等）としては、ヒドロキシルラジカル、一重項酸素、オゾン、過酸化水素、スーパーオキシドアニオンラジカル、一酸化窒素、二酸化窒素、ペルオキシナイトライト、過酸化亜硝酸、三酸化二窒素等を例示できる。活性ガスに含まれる活性種の種類は、例えば、プラズマ発生用ガスの種類等にさらに調節できる。

【0076】

活性ガス中におけるヒドロキシラジカルの密度（ラジカル密度）は、０．１μｍｏｌ／Ｌ～３００μｍｏｌ／Ｌが好ましく、０．１μｍｏｌ／Ｌ～１００μｍｏｌ／Ｌがより好ましく、０．１μｍｏｌ／Ｌ～５０μｍｏｌ／Ｌがさらに好ましい。ラジカル密度が前記下限値以上であると、細胞、生体組織および生物個体から選ばれる被照射物の清浄化、賦活化または異常の治癒を促進しやすい。ラジカル密度が前記上限値以下であると、被照射面への刺激を低減できる。

【0077】

ラジカル密度は、例えば、以下の方法で測定できる。
ＤＭＰＯ（５，５－ジメチル－１－ピロリン－Ｎ－オキシド）０．２ｍｏｌ／Ｌ溶液０．２ｍＬに対して、活性ガスを３０秒間照射する。この際、照射口１ａから液面までの距離を５．０ｍｍとする。活性ガスを照射した前記溶液について、電子スピン共鳴（ＥＳＲ）法を利用してヒドロキシルラジカル濃度を測定し、これをラジカル密度とする。

【0078】

活性ガス中における一重項酸素の密度（一重項酸素密度）は、０．１μｍｏｌ／Ｌ～３００μｍｏｌ／Ｌが好ましく、０．１μｍｏｌ／Ｌ～１００μｍｏｌ／Ｌがより好ましく、０．１μｍｏｌ／Ｌ～５０μｍｏｌ／Ｌがさらに好ましい。一重項酸素密度が前記下限値以上であると、細胞、生体組織および生物個体等の被照射物の清浄化、賦活化または異常の治癒を促進しやすい。前記上限値以下であると、被照射面への刺激を低減できる。

【0079】

一重項酸素密度は、例えば、以下の方法で測定できる。
ＴＰＣ（２，２，５，５－テトラメチル－３－ピロリン－３－カルボキサミド）０．１ｍｏｌ／Ｌ溶液０．４ｍＬに対して、活性ガスを３０秒間照射する。この際、照射口１ａから液面までの距離を５．０ｍｍとする。活性ガスを照射した前記溶液について、電子スピン共鳴（ＥＳＲ）法を利用して一重項酸素濃度を測定し、これを一重項酸素密度とする。

【0080】

照射口１ａから照射する活性ガスの流量は、１Ｌ／ｍｉｎ～１０Ｌ／ｍｉｎが好ましい。
照射口１ａから照射する活性ガスの流量が前記下限値以上であると、活性ガスが被照射面に作用する効果を充分に高められる。照射口１ａから照射する活性ガスの流量が前記上限値未満であると、活性ガスの被照射面の温度が過度に高まることを防止できる。加えて、被照射面が濡れている場合には、被照射面の急速な乾燥を防止できる。さらに、被照射面が患部である場合には、患者への刺激を抑制できる。
なお、プラズマ照射装置２００において、照射口１ａから照射する活性ガスの流量は、管状誘電体３へのプラズマ発生用ガスの供給量で調節できる。

【0081】

プラズマ照射装置２００によって生じる活性ガスは、外傷や異常の治癒を促進する効果を有する。活性ガスを細胞、生体組織または生物個体に照射することによって、その被照射部分の清浄化、賦活化、またはその被照射部分の治癒を促進できる。

【0082】

外傷や異常の治癒を促進する目的で活性ガスを照射する場合、その照射頻度、照射回数および照射期間は特に制限はない。例えば、１Ｌ／ｍｉｎ～５．０Ｌ／ｍｉｎの照射量で活性ガスを患部に照射する場合、１日１～５回、毎回１０秒～１０分、１日間～３０日間、等の照射条件が、治癒を促進する観点から好ましい。

【0083】

本実施形態のプラズマ照射装置２００は、特に口腔内用治療器具、歯科用治療器具として有用である。また、本実施形態のプラズマ照射装置２００は、動物治療用器具（例えば、ヒトを除く動物の口腔内を治療するための治療装置）としても好適である。

【0084】

本実施形態のプラズマ照射装置２００によれば、照射器具１０の表面に設けられた定着機構１００（凹部１０１）に指を沿わせて、照射器具１０を把持することにより、照射器具１０が使用者の手にしっかりと固定されるため、照射器具１０を持ちやすく、操作性に優れ、使用者３００が治療中に、照射器具１０を落下することを防止できる。したがって、適切に治療を行うことができる。また、定着機構１００は、照射器具１０の外周面１０ａから径方向に向けて窪み、照射器具１０の短手方向の両側に開口する凹部１０１を備え、凹部１０１は、照射器具１０の径方向の内側に向かうに従い長手方向の長さが短くなっているため、照射器具１０の表面に付着した汚れが凹部１０１内に溜まり難く、照射器具１０の表面に付着した汚れを落としやすい。

【0085】

＜他の実施形態＞
なお、本発明は、上記の実施形態に限定するものではない。

【0086】

例えば、図８から図１３に示すような第１変形例から第９変形例に係る定着機構１１０，１２０，１３０，１４０，１５０，１６０，１７０，１８０，１９０を採用してもよい。なお、第１変形例から第９変形例に係る定着機構１１０，１２０，１３０，１４０，１５０，１６０，１７０，１８０，１９０では、前記実施形態における構成要素と同一の部分については同一の符号を付し、その説明を省略し、異なる点についてのみ説明する。

【0087】

図８に示す第１変形例に係る定着機構１１０は、照射器具１０の外周面１０ａから径方向に向けて窪み、照射器具１０の短手方向の両側に開口する凹部１１１を備える。さらに、凹部１１１は、照射器具１０の径方向の内側に向かうに従い長手方向の長さが短くなっている。凹部１１１は、例えば、照射器具１０の全周に渡って設けられている。使用者が照射器具１０をペンのように握ると、凹部１１１に指が配置される。
凹部１１１の大きさは、特に制限はなく、例えば、平均的な成人の手の大きさに合せて決定される。

【0088】

図９に示す第２変形例に係る定着機構１２０は、照射器具１０の使用者の手の指を挿通する環状部１２１である。本変形例では、照射器具１０の外形が拳銃の形態をなしており、環状部１２１はその拳銃の形態において、引き金を引くための指を、その内側に挿通する部分である。
環状部１２１の大きさ、言い換えれば、環状部１２１の内側の大きさ（面積）は、特に制限はなく、例えば、平均的な成人の手の指の大きさに合せて決定される。

【0089】

図１０に示す第３変形例に係る定着機構１３０は、ローレット（滑り止め）１３１である。ローレット１３１は、照射器具１０のカウリング２の表面に設けられた微細な凹凸である。ローレット１３１としては、斜めローレット、平目ローレット、綾目ローレット等のいずれでもよい。
ローレット１３１を構成する凹凸の大きさは、特に制限はなく、使用者の手との間に十分な摩擦力が生じるように決定される。

【0090】

図１１に示す第４変形例に係る定着機構１４０は、ラバーグリップ（滑り止め）１４１である。ラバーグリップ１４１は、照射器具１０のカウリング２の表面に設けられている。
ラバーグリップ１４１をゴムの材質は、特に制限はなく、使用者の手との間に十分な摩擦力が生じるように決定される。

【0091】

図１２に示す第５変形例に係る定着機構１５０は、照射器具１０の外周面１０ａから径方向に向けて窪み、照射器具１０の短手方向の両側に開口する凹部１５１，１５２を備える。さらに、凹部１５１，１５２は、照射器具１０の径方向の内側に向かうに従い長手方向の長さが短くなっている。また、凹部１５１，１５２は、照射器具１０の使用者の手の指が配置される空間である。凹部１５１，１５２は、照射器具１０の長手方向に間隔をあけて複数（図示の例では６つ）設けられている。凹部１５１と凹部１５２は、照射器具１０のカウリング２の表面において、対向するように設けられている。すなわち、照射器具１０の長手方向に間隔をあけて設けられた３つ窪みからなる凹部１５１と、照射器具１０の長手方向に間隔をあけて設けられた３つ窪みからなる凹部１５２とが、照射器具１０のカウリング２の表面において、対向するように設けられている。凹部１５１，１５２の大きさは、特に制限はなく、例えば、平均的な成人の手の指の大きさに合せて決定される。特に、使用者が照射器具を持ち替えた場合に、使用者の指が凹部１５１または凹部１５２のいずれかに密接するように、凹部１５１および凹部１５２の大きさや位置が設けられていることが好ましい。
これにより、照射器具１０を持ちやすく、操作性に優れ、使用者が照射器具を持ち替えても、照射器具１０を落下することを防止できる。また、定着機構１５０は、照射器具１０の外周面１０ａから径方向に向けて窪み、照射器具１０の短手方向の両側に開口する凹部１５１，１５２を備え、凹部１５１，１５２は、照射器具１０の径方向の内側に向かうに従い長手方向の長さが短くなっているため、照射器具１０の表面に付着した汚れが凹部１５１，１５２内に溜まり難く、照射器具１０の表面に付着した汚れを落としやすい。

【0092】

図１３に示す第６変形例に係る定着機構１６０は、照射器具１０の使用者の手の指を挿通する環状部材１６２を有するストラップ１６１である。ストラップ１６１は、環状部材１６２と、環状部材１６２に連結し、ストラップ１６１を照射器具１０に固定する提げ紐１６３と、を有する。
使用者は、環状部材１６２に手の指を挿通することにより、照射器具１０を手で把持することを止めても、照射器具１０を落下することがない。

【0093】

図１４に示す第７変形例に係る定着機構１７０は、照射器具１０の先端側（ノズル１１側）に照射器具１０の外周面１０ａから径方向に向けて窪む凹部１７１を備える。さらに、凹部１７１は、照射器具１０の径方向の内側に向かうに従い長手方向の長さが短くなっている。また、凹部１７１は、照射器具１０の使用者の手の指が配置される空間である。凹部１７１の大きさは、特に制限はなく、例えば、平均的な成人の手の指の大きさに合せて決定される。特に、使用者が照射器具を持ち替えた場合に、使用者の指が凹部１７１に密接するように、凹部１７１の大きさや位置が設けられていることが好ましい。
これにより、照射器具１０を持ちやすく、操作性に優れ、使用者が照射器具を持ち替えても、照射器具１０を落下することを防止できる。また、定着機構１７０は、照射器具１０の外周面１０ａから径方向に向けて窪む凹部１７１を備え、凹部１７１は、照射器具１０の径方向の内側に向かうに従い長手方向の長さが短くなっているため、照射器具１０の表面に付着した汚れが凹部１７１内に溜まり難く、照射器具１０の表面に付着した汚れを落としやすい。

【0094】

図１５に示す第８変形例に係る定着機構１８０は、照射器具１０の先端側（ノズル１１側）に照射器具１０の外周面１０ａから径方向に向けて窪む凹部１８１を備える。さらに、凹部１８１は、照射器具１０の径方向の内側に向かうに従い長手方向の長さが短くなっている。また、凹部１８１は、照射器具１０の使用者の手の指が配置される空間である。凹部１８１の大きさは、特に制限はなく、例えば、平均的な成人の手の指の大きさに合せて決定される。特に、使用者が照射器具を持ち替えた場合に、使用者の指が凹部１８１に密接するように、凹部１８１の大きさや位置が設けられていることが好ましい。
これにより、照射器具１０を持ちやすく、操作性に優れ、使用者が照射器具を持ち替えても、照射器具１０を落下することを防止できる。また、定着機構１８０は、照射器具１０の外周面１０ａから径方向に向けて窪む凹部１８１を備え、凹部１８１は、照射器具１０の径方向の内側に向かうに従い長手方向の長さが短くなっているため、照射器具１０の表面に付着した汚れが凹部１８１内に溜まり難く、照射器具１０の表面に付着した汚れを落としやすい。

【0095】

図１６に示す第９変形例に係る定着機構１９０は、照射器具１０の使用者の手の指を挿通する環状部１９１である。本変形例では、照射器具１０の外形が拳銃の形態をなしており、環状部１９１はその拳銃の形態において、引き金を引くための指を、その内側に挿通する部分である。また、定着機構１９０は、照射器具１０の先端側（ノズル１１側）にある。
環状部１９１の大きさ、言い換えれば、環状部１９１の内側の大きさ（面積）は、特に制限はなく、例えば、平均的な成人の手の指の大きさに合せて決定される。

【0096】

上述の定着機構のなかでも、口腔内に適応できる、プラズマ照射をし易い、メンテナンス性に優れる等の観点から、図７に示す定着機構１００、図８に示す定着機構１１０、図１２に示す定着機構１５０、図１４に示す定着機構１７０、図１５に示す定着機構１８０がより好ましい。

【0097】

操作スイッチ９が、上記の実施形態と異なっていてもよい。例えば、照射器具１０に操作スイッチ９を設けることに代えて、供給ユニット２０に足踏みペダルを設けてもよい。
この場合、足踏みペダルを操作部とし、例えば使用者が足踏みペダルを踏んだときに、供給源７０からプラズマ発生用ガスをプラズマ発生部１２に供給する構成を採用すること等ができる。
報知部８０や検出部１５がなくてもよい。

【0098】

上述の本実施形態の内部電極４の形状は、ねじ状である。しかしながら、内部電極は、外部電極との間にプラズマを発生できれば、内部電極の形状は限定されない。
内部電極は、表面に凹凸を有してもよいし、表面に凹凸を有しなくてもよい。内部電極としては、外周面に凹凸を有する形状が好ましい。
例えば、内部電極の形状は、コイル状でもよいし、外周面に突起、穴、貫通孔が複数形成された棒形状または筒形状でもよい。内部電極の断面形状は、特に限定されず、例えば、真円形、楕円形等の円形、四角形、六角形等の多角形を例示できる。

【0099】

その他、本発明の趣旨に逸脱しない範囲で、前記実施形態における構成要素を周知の構成要素に置き換えることは適宜可能であり、また、前記した変形例を適宜組み合わせてもよい。

【産業上の利用可能性】

【0100】

本発明のプラズマ式治療キットは、口腔内の治療、歯科の治療、動物の治療等の用途に有用である。活性ガスの照射によって処理可能な疾患および症状としては、例えば、歯肉炎、歯周病等の口腔内の疾患、皮膚の創傷等を例示できる。
本発明の治療方法は、生体組織の治癒促進に有効である。本発明の治療方法は、ヒトのみならず、ヒトを除く動物の治療にも有効である。

【符号の説明】

【0101】

１ 本体管
１０ 照射器具
１１ ノズル
１２ プラズマ発生部
１３ カバー
１００，１１０，１２０，１３０，１４０，１５０，１６０，１７０，１８０，１９０ 定着機構
１０１，１１１，１５１，１５２，１７１，１８１，１９１ 凹部
１２１，１９１ 環状部
１３１ ローレット
１４１ ラバーグリップ
１６１ ストラップ
１６２ 環状部材
２００ プラズマ照射装置

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】