特許 7034083 めっき処理用治具及びめっき処理装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2022-03-03

(45)【発行日】2022-03-11

(54)【発明の名称】めっき処理用治具及びめっき処理装置

(51)【国際特許分類】

   C23C 18/31 20060101AFI20220304BHJP

【ＦＩ】

C23C18/31 E

【請求項の数】 7

(21)【出願番号】P 2018548587

(86)(22)【出願日】2017-09-27

(86)【国際出願番号】 JP2017034832

(87)【国際公開番号】W WO2018083914

(87)【国際公開日】2018-05-11

【審査請求日】2020-08-11

(31)【優先権主張番号】P 2016217676

(32)【優先日】2016-11-07

(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP

(73)【特許権者】

【識別番号】000168551

【氏名又は名称】鋼鈑工業株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110000419

【氏名又は名称】特許業務法人太田特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】藤井 透

(72)【発明者】

【氏名】佐村 真樹

(72)【発明者】

【氏名】西崎 努

(72)【発明者】

【氏名】椎木 祐浩

(72)【発明者】

【氏名】山本 靖雄

【審査官】向井 佑

(56)【参考文献】

【文献】特開平１１－２０９８７７（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００７－１６９７５７（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１１－２３１３４７（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開昭６２－０３３７７６（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００１－００３１７７（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平１１－２５６３４７（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平０８－０４１６４９（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｃ２３Ｃ １８／３１

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

めっき浴槽内のめっき液中に、中心孔を有する円盤状の基板を浸漬させるためのめっき処理用治具であって、
前記基板の中心孔へ挿通される支持ロッドと、
前記支持ロッドを支持するとともに、前記支持した支持ロッドが自転することを抑制する自転抑制機構を備えた拘束部材と、
前記拘束部材を介して前記支持ロッドが取り付けられるカローセルと、
を含み、
前記自転抑制機構は、
前記支持ロッドに接触する接触部材と、前記接触部材を前記支持ロッドに対して押し付ける弾性部材を有する押し付け部材を含むことを特徴とするめっき処理用治具。

【請求項2】

めっき浴槽内のめっき液中に、中心孔を有する円盤状の基板を浸漬させるためのめっき処理用治具であって、
前記基板の中心孔へ挿通される支持ロッドと、
前記支持ロッドを収容凹部で着脱可能に支持するとともに、前記支持した支持ロッドが自転することを抑制する自転抑制機構を備えた拘束部材と、
前記拘束部材を介して前記支持ロッドが着脱可能に取り付けられるカローセルと、
を含み、
前記自転抑制機構は、
前記収容凹部に収容された前記支持ロッドを収容凹部側に押し付ける接触部材を含むことを特徴とするめっき処理用治具。

【請求項3】

前記拘束部材には、前記支持ロッドの周面の少なくとも一部が収容されるＵ字状の収容凹部が設けられ、
前記接触部材は、前記収容凹部に前記支持ロッドが収容された状態で前記弾性部材を介して当該支持ロッドに接触して押し付けられる請求項１に記載のめっき処理用治具。

【請求項4】

前記押し付け部材を少なくともそれぞれ２つ具備し、
互いの前記接触部材が進退方向に関して対向するように配置されている請求項１又は３に記載のめっき処理用治具。

【請求項5】

前記接触部材の頂部には、前記支持ロッドの脱着を促すガイド面が形成されてなる請求項１～４のいずれか一項に記載のめっき処理用治具。

【請求項6】

前記接触部材の頂部の少なくとも一部には低摩擦処理が施されてなる請求項１～５のいずれか一項に記載のめっき処理用治具。

【請求項7】

請求項１～６のいずれか一項に記載のめっき処理用治具と、
前記カローセルを回転させる回転機構と、
を含むことを特徴とするめっき処理装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、めっき処理技術に関し、より詳細には中心孔を有する円盤状の基板をめっき浴槽内に浸漬してめっき被膜を基板上に形成するためのめっき処理用治具およびめっき処理装置に関する。

【背景技術】

【0002】

ＰＣや家電などに搭載されるＨＤＤ（ハードディスクドライブ）に用いられる磁気記録媒体は、その利便性の高さなどから需要が高く記録密度の著しい向上が図られつつある。
かような磁気記録媒体については、より高い記録密度を実現することが市場から継続して要求されており、そのため磁気記録媒体に用いられる円盤状の基板に対しても今まで以上に平滑性が高く傷の少ない高品質な基板が求められている。

【0003】

この円盤状の基板としては、例えばアルミニウム合金基板やガラス基板などが用いられている。このうちアルミニウム合金基板は、例えば次に示す工程などを経ることによって製造される。すなわち、先ず厚さ１～３ｍｍ程度のアルミニウム合金板をドーナツ状に打ち抜き加工して所望の寸法の基板に加工する。次いで、打ち抜かれた基板に対して端部の面取り加工などを施した後、砥石による研削加工を行い、さらにその後に基板表面に無電解ＮｉＰめっきを施すことなどが行われている。

【0004】

そして無電解ＮｉＰめっきにおいては、例えば特許文献１に示されるように、めっき処理用治具で複数の基板を保持し、これら基板を一括してめっき浴槽中へ浸漬させることが行われる。また、特許文献１にも開示されているとおり、基板表面にめっき被膜を効率よく成膜するため、めっき処理用治具を自転や公転をさせながら複数枚の基板に対して無電解ＮｉＰめっきを施すことも知られている。

【0005】

一方で上記しためっき治具をめっき浴槽内で自転や公転をさせる技術では、めっき治具の摺動部分から発生する摩耗粉によって基板表面にノジュールと呼ばれる欠陥を発生させることがある。
このノジュールが発生すると基板の品質が著しく低下するため、かようなノジュールを如何に抑制するかが重要となる。この点に関して特許文献１では、基板１０の外周縁部を嵌め込む溝の断面をＵ字状とすることで、基板の外周縁部に発生しやすいノジュールを抑制可能であることが示されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0006】

【文献】特開２００７－１６９７５７号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0007】

しかしながら、上記した従来のめっき処理用治具では以下に述べる課題があり、未だに改善すべき点があると言える。
すなわち、確かに特許文献１によれば、基板の外周縁部に起因するノジュールは抑制できる可能性はあるものの、めっき処理用治具の摺動部分から発生する摩耗粉については一切言及がない。このように特許文献１の構成では、めっき処理用治具の摺動部分から発生する摩耗粉によって別のノジュールが発生してしまうことが懸念される。

【0008】

本発明は、かような課題を解決することを鑑みてなされたものであり、めっき浴槽中でめっき処理用治具が回転してもノジュールの発生が抑制可能なめっき処理用治具およびめっき処理装置を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0009】

上記課題を解決するため、本発明の一実施形態にかかるめっき処理用治具は、（１）めっき浴槽内のめっき液中に、中心孔を有する円盤状の基板を浸漬させるためのめっき処理用治具であって、前記基板の中心孔へ挿通される支持ロッドと、前記支持ロッドを支持するとともに、前記支持した支持ロッドが自転することを抑制する自転抑制機構を備えた拘束部材と、前記拘束部材を介して前記支持ロッドが取り付けられるカローセルと、
を含み、前記自転抑制機構は、前記支持ロッドに接触する接触部材と、前記接触部材を前記支持ロッドに対して押し付ける弾性部材を有する押し付け部材を含むことを特徴とする。

【0010】

さらに上記課題を解決するため、本発明の一実施形態にかかるめっき処理用治具は、（２）めっき浴槽内のめっき液中に、中心孔を有する円盤状の基板を浸漬させるためのめっき処理用治具であって、前記基板の中心孔へ挿通される支持ロッドと、前記支持ロッドを収容凹部で着脱可能に支持するとともに、前記支持した支持ロッドが自転することを抑制する自転抑制機構を備えた拘束部材と、前記拘束部材を介して前記支持ロッドが着脱可能に取り付けられるカローセルと、を含み、前記自転抑制機構は、前記収容凹部に収容された前記支持ロッドを収容凹部側に押し付ける接触部材を含むことを特徴とする。

【0011】

さらに上記した（１）に記載のめっき処理用治具においては、（３）前記拘束部材には、前記支持ロッドの周面の少なくとも一部が収容されるＵ字状の収容凹部が設けられ、前記接触部材は、前記収容凹部に前記支持ロッドが収容された状態で前記弾性部材を介して当該支持ロッドに接触して押し付けられることが好ましい。

【0012】

また、上記した（１）又は（３）に記載のめっき処理用治具においては、（４）前記押し付け部材を少なくともそれぞれ２つ具備し、互いの前記接触部材が進退方向に関して対向するように配置されていることが好ましい。

【0013】

また、上記した（１）～（４）のいずれかに記載のめっき処理用治具においては、（５）前記接触部材の頂部には、前記支持ロッドの脱着を促すガイド面が形成されてなることが好ましい。

【0014】

また、上記した（１）～（５）のいずれかに記載のめっき処理用治具においては、（６）前記接触部材の頂部の少なくとも一部には低摩擦処理が施されてなることが好ましい。

【0015】

また、上記課題を解決するため、本発明の一実施形態にかかるめっき処理装置は、上記した（１）～（６）のいずれかに記載のめっき処理用治具と、前記カローセルを回転させる回転機構と、を含むことを特徴とする。

【発明の効果】

【0016】

本発明によれば、カローセルに取り付けられる支持ロッドが自転抑制機構によって自転してしまうことが抑制されるため、支持ロッドとカローセルとの接続部位で生じ得る摩耗粉に起因して発生するノジュールを抑制することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【0017】

【図1】めっき処理用治具１０とめっき処理装置１００を示した図である。

【図2】めっき処理用治具１０のうち拘束部材１２を示した図である。

【図3】めっき処理用治具１０の各側面を展開した展開図である。

【図4】めっき処理用治具１０における自転抑制機構のうち接触部材１２ｂを説明するための模式図である。

【図5】めっき処理用治具１０における自転抑制機構のうち軸受部材１２ａを説明するための模式図である。

【図6】めっき処理用治具１０における拘束部材１２に支持ロッド１１が着脱される際の状態遷移の図である。

【発明を実施するための形態】

【0018】

以下、本発明を実施するための実施形態について説明する。なお、以下の説明に用いる図面においては、便宜的にめっき処理用治具１０に取り付けられたときの支持ロッド１１が延びる方向をＸ方向とし、このＸ方向を基準として各図において説明に適した方向を適宜Ｙ方向とＺ方向に設定している。ただしこれらの方向はあくまでも説明の明瞭化という目的で設定されるものであり、本発明を不当に限定解釈するようなものではない。

【0019】

図１は、めっき処理用治具１０とめっき処理装置１００を示した図である。このうち図１（ａ）はめっき処理用治具１０を含むめっき処理装置１００の模式図であり、（ｂ）はめっき処理用治具１０を軸線方向から見た平面図であり、（ｃ）は図１（ａ）における領域Ｐの部分拡大図であり、（ｄ）は図１（ｃ）のＡ－Ａ断面図（ＹＺ平面方向でスライス）である。これらの図に示すように、本実施形態におけるめっき処理装置１００は、主として、めっき処理用治具１０と、回転機構１５、を含んで構成されている。

【0020】

めっき処理用治具１０は、めっき浴槽２０内のめっき液Ｌ中に、中心孔を有する円盤状の基板１を浸漬させるために用いられる。そして本実施形態のめっき処理用治具１０は、支持ロッド１１、拘束部材１２、及びカローセル１３を少なくとも含んで構成されている。

【0021】

ここで、基板１は、中心に円形の貫通孔（中心孔）を有するガラス製またはアルミニウムなどの金属製の材料で構成された円盤状の部材である。かような基板１は、厚みが０．３ｍｍ～２．０ｍｍ程度であり、一般的には直径が２ ． ５ インチを超える基板にあっては主にアルミニウム製の基板が用いられ、２．５インチ以下のサイズでは主としてガラス製基板が用いられている。

【0022】

このうちアルミニウム製の基板１では、例えばアルミニウム素材から打抜いたサブストレートに所要の前処理を施した後、後述するＮｉ－Ｐめっき液浴による無電解めっき処理を施して表面にＮｉ－Ｐ合金被膜を形成し、さらにその上に強磁性の金属薄膜を積層することなどを経て磁気記録ディスク基板へと形成される。

【0023】

めっき浴槽２０は、１又は複数のめっき処理用治具１０を内包できる程度の大きさの金属製又は樹脂製の槽である。なお、めっき浴槽２０としては、例えば上記した特許文献に開示された浴槽や他の公知の無電解めっき浴槽を適用することができる。なお、本実施形態でめっき浴槽２０内に貯留されるめっき液Ｌは、公知のＮｉ－Ｐめっき液が適用可能であり、一例として例えば硫酸ニッケル：２０ｇ／ｄｍ^３、次亜りん酸ソーダ：２０ｇ／ｄｍ^３、酢酸ソーダ：１０ｇ／ｄｍ^３、クエン酸ソーダ：１０ｇ／ｄｍ^３を含む水溶液などが例示できる。

【0024】

支持ロッド１１は、基板１の中心孔へ挿通される棒状の部材である。この支持ロッド１１は、図１に示すとおり、一対のカローセル１３ａ、１３ｂの間で１又は複数配置される。支持ロッド１１の材質に特に制限はないが、例えば樹脂などが例示される。
なお、支持ロッド１１は、上記した中心孔を介して基板１を支持するものであるが、さらに基板１の外周縁部近くの円周線上に所定間隔おきに配置される外周保持シャフト（特開２００７－１６９７５７号公報などを参照）が支持ロッド１１の周囲に配置されていてもよい。

【0025】

拘束部材１２は、支持ロッド１１を支持する機能を有する。本実施形態における拘束部材１２は、一例として、支持ロッド１１を把持するように断面がＵ字状の部材となっている。そして本実施形態の拘束部材１２は、支持した支持ロッド１１が自転することを抑制する自転抑制機構（後述）を備えている。この拘束部材１２の材質に特に制限はないが、例えば樹脂などが例示される。そして図１に示すとおり、拘束部材１２は、後述する位置決め突部１２ａ_３を介して、Ｕ字状の開口部側（支持ロッド１１が挿入される側の空間）が外周方向を向くように、支持ロッド１１の本数に応じてカローセル１３に１又は複数設置される。

【0026】

カローセル１３は、拘束部材１２を介して支持ロッド１１が取り付けられる部材である。本実施形態のカローセル１３は、外周に歯が形成された大型の円盤であり、支持ロッド１１を横架状に支持可能なように対となって配置される。より具体的には図１に示すとおり、第１カローセル１３ａと第２カローセル１３ｂが所定の間隔で対向配置され、この内部に１又は複数の支持ロッド１１が横架状に配置される。このカローセル１３の材質に特に制限はないが、例えば樹脂などが例示される。

【0027】

また、本実施形態のめっき処理装置１００は、めっき処理用治具１０をめっき浴槽２０内に浸漬した状態で支持する吊り下げ装置１４を含んでいてもよい。
図１に示すとおり、吊り下げ装置１４は、カローセル１３の両端を吊り下げ支持する機能を備えている。このとき、吊り下げ装置１４は、カローセル１３の両端に固定されず、後述する回転機構１５によってカローセル１３が回転することを阻害しない態様でカローセル１３を支持することが好ましい。

【0028】

したがって図１に示すように、吊り下げ装置１４で吊り下げられためっき処理用治具１０に収容された複数の基板１は、それぞれ中心孔に支持ロッド１１が挿通した状態でめっき浴槽２０内のめっき液Ｌ中へ浸漬される。
そして複数の基板１がめっき液Ｌ中へ浸漬した後、めっき処理装置１００の回転機構１５を介してカローセル１３が回転軸１６を中心に回転することで、めっき液Ｌ内で支持ロッド１１が公転することが可能となっている。

【0029】

かような回転機構１５は、例えばモータ１５ａと伝達ギア１５ｂとを含んで構成されている。このうちモータ１５ａは、公知の種々の電気モータを適用してもよい。また、伝達ギア１５ｂはモータ１５ａからの動力をカローセル１３に伝達し、これによりカローセル１３が回転軸１６を中心に回転することが可能となっている。
なお上述したとおり、カローセル１３が回転軸１６を中心に回転するときには、カローセル１３に支持された支持ロッド１１は回転軸１６周りに公転することになる。

【0030】

次に、図２～図５を用いて本実施形態における拘束部材１２の自転抑制機構について詳述する。なお、図２（ａ）は拘束部材１２の外観斜視図であり、（ｂ）は側面図及び上面図である。また、図３は、拘束部材１２を正面、側面、背面および上面から見た外観図である。また、図４は、拘束部材１２の自転抑制機構のうち押し付け部材１２ｂの構成を示す図である。また、図５は、拘束部材１２の自転抑制機構のうち軸受１２ａを示す図である。
上述したとおり、カローセル１３に設置される拘束部材１２は、カローセル１３の回転に伴って支持ロッド１１が回転軸１６周りに公転したときに、支持ロッド１１自身が拘束部材１２内で回転（自転）してしまうことを抑制可能な自転抑制機構を含んでいる。

【0031】

図２に示すとおり、本実施形態における拘束部材１２の自転抑制機構は、軸受１２ａと押し付け部材１２ｂを含んでいる。
このうち、軸受１２ａは、図３及び５などにも示されるとおり、収容凹部１２ａ_１、押し付け部材格納部１２ａ_２、及び位置決め突部１２ａ_３などを含んで構成されている。この軸受１２ａの材質に特に制限はないが、例えば樹脂などで形成してもよい。

【0032】

収容凹部１２ａ_１は、支持ロッド１１の周面の少なくとも一部が収容可能な凹部であり、支持ロッド１１が接触する底面は当該支持ロッド１１の外周面に倣うようにＵ字状の曲面となっている。なお図３に示されるとおり、支持ロッド１１が挿入される長さＬは、支持ロッド１１が拘束部材１２で支持可能な限り特に制限はなく、カローセル１３からの拘束部材１２の高さを考慮して適宜設定してもよい。

【0033】

押し付け部材格納部１２ａ_２は、後述する押し付け部材１２ｂが収容される部位である。押し付け部材格納部１２ａ_２は、本実施形態では収容凹部１２ａ_１を挟むよう２ヶ所で互いに対向するように配置されている。また、図５に示すとおり、押し付け部材格納部１２ａ_２には、押し付け部材１２ｂが脱落しないように当該押し付け部材１２ｂの移動をガイドするガイド溝１２ａ_４が形成されている。

【0034】

さらに、押し付け部材格納部１２ａ_２には、後述する取り付け部材１２ｂ_３が挿入される挿入孔１２ａ_５が形成されている。このように本実施形態では挿入孔１２ａ_５を介して取り付け部材１２ｂ_３が押し付け部材格納部１２ａ_２内に配置されるため、押し付け部材１２ｂを安定して押し付け部材格納部１２ａ_２内に位置付けることが可能となっている。

【0035】

位置決め突部１２ａ_３は、上記したカローセル１３の予め規定された位置に拘束部材１２を設置するためのガイドである。すなわち、カローセル１３にも位置決め突部１２ａ_３と対応する位置決め凹部（不図示）が形成されており、この位置決め凹部に位置決め突部１２ａ_３を挿入することでカローセル１３上における拘束部材１２の位置が確定される。

【0036】

なお、本実施形態の位置決め突部１２ａ_３は円柱状であるが、この態様に限られず例えば三角柱や四角柱、あるいは五角柱などの矩形状であってもよい。位置決め突部１２ａ_３を矩形状とし、対応する位置決め凹部も矩形状とすることで、例えばＵ字状の開口部側が外周を向くなど拘束部材１２の向きも自動的に確定することが可能となる。

【0037】

次に図２～図４を用いて、上記した自転抑制機構のうち押し付け部材１２ｂの詳細な構成について説明する。
まず図４に示すとおり、押し付け部材１２ｂは、接触部材１２ｂ_１、弾性部材１２ｂ_２及び取り付け部材１２ｂ_３を含んで構成されている。
なお図４において、（ａ）は接触部材１２ｂ_１を示し、（ｂ）は弾性部材１２ｂ_２を示し、（ｃ）は取り付け部材１２ｂ_３を示し、（ｄ）は接触部材１２ｂ_１をＹ方向側から見た図であり、（ｅ）は取り付け部材１２ｂ_３をＹ方向側から見た図である。
接触部材１２ｂ_１は、収容凹部１２ａ_１に収容された支持ロッド１１に接触可能な部材である。この接触部材１２ｂ_１の材質に特に制限はないが、例えば樹脂などで形成してもよい。

【0038】

同図に示すとおり、接触部材１２ｂ_１にはネジ孔Ｍが形成されており、後述する取り付け部材１２ｂ_３のネジ部Ｎと螺合される。したがって、接触部材１２ｂ_１は、収容凹部１２ａ_１に支持ロッド１１が収容された状態で後述する弾性部材１２ｂ_２を介して当該支持ロッド１１に接触して押し付けられることが可能となっている。

【0039】

さらに図２や図３にも示されるとおり、本実施形態の拘束部材１２は、押し付け部材１２ｂを少なくとも２つ具備し、互いの接触部材１２ｂ_１が進退方向（図２におけるＹ方向）に関して対向するように配置されていてもよい。
また、図４に示されるとおり、本実施形態の接触部材１２ｂ_１の頂部ｔには、支持ロッド１１の脱着を促すガイド面ｔ１及びガイド面ｔ２が形成されてなる。

【0040】

このうちガイド面ｔ１は、収容凹部１２ａ_１に収容された支持ロッド１１が接触する面である。図３からも明らかなとおり、頂部ｔは三角屋根状又は矢印状のごとき形状となっており、このガイド面ｔ１は、頂部ｔの先端から支持ロッド１１の周面に沿って、Ｙ方向に関して先端が先細りとなるような傾斜した面となっている。

【0041】

一方でガイド面ｔ２は、収容凹部１２ａ_１に支持ロッド１１が収容されるときに当該支持ロッド１１が接触する面である。図３からも明らかなとおり、このガイド面ｔ２も、頂部ｔの先端からＹ方向に関して先端が先細りとなるような傾斜した面となっている。なお、図４のとおり、本実施形態では、ガイド面ｔ１とＹ軸とのなる角度α_１と、ガイド面ｔ２とＹ軸とのなる角度α_２は、互いに等しい角度となっている。しかしながらこの形態に限られず、α_１≠α_２となってα_１＞α_２であってもよいし、α_１＜α_２であってもよい。

【0042】

また、接触部材１２ｂ_１の頂部ｔの少なくとも一部には、低摩擦処理が施されていてもよい。換言すれば、ガイド面ｔ１およびガイド面ｔ２の少なくとも一方には、支持ロッド１１の着脱を促進するように低摩擦処理が施されていてもよい。この低摩擦処理の具体例としては、種々の公知の処理が適用でき、例えばフッ素コーティング膜を別途施してもよいし、ＤＬＣ(ダイヤモンドライクカーボン)コーティング膜を別途施してもよい。

【0043】

また、図４に示すとおり、接触部材１２ｂ_１には、上述した押し付け部材格納部１２ａ_２のガイド溝１２ａ_４に対応するガイド突起１２ｂ_４が形成されている。本実施形態では、ガイド溝１２ａ_４に対応して、接触部材１２ｂ_１の隣り合う２つの側面にそれぞれガイド突起１２ｂ_４が形成されている。

【0044】

弾性部材１２ｂ_２は、上記した接触部材１２ｂ_１を支持ロッド１１に対して押し付ける機能を有する。本実施形態における弾性部材１２ｂ_２の具体例としては、接触部材１２ｂ_１を支持ロッド１１に対して押し付けることが可能であれば特に制限はないが、例えばバネやゴムなどが例示できる。そして弾性部材１２ｂ_２は、支持ロッド１１が収容凹部１２ａ_１内に収容された状態において、当該支持ロッド１１を接触部材１２ｂ_１が押し付け続けられる程度のバネ定数を有していることが好ましい。

【0045】

そして本実施形態の弾性部材１２ｂ_２は、一方の端部が接触部材１２ｂ_１と接触するとともに、他方の端部が押し付け部材格納部１２ａ_２に接触している。これにより、支持ロッド１１が脱着される際に、弾性部材１２ｂ_２は、押し付け部材格納部１２ａ_２を基端にして接触部材１２ｂ_１を押し出す作用を奏することができる。

【0046】

取り付け部材１２ｂ_３は、図３などに示されるとおり、押し付け部材格納部１２ａ_２に格納される部位である。この取り付け部材１２ｂ_３の材質に特に制限はないが、例えば樹脂などで形成してもよい。上述のとおり本実施形態では、押し付け部材格納部１２ａ_２に挿入孔１２ａ_５が形成されるとともに、この挿入孔１２ａ_５に取り付け部材１２ｂ_３が挿入される。また、取り付け部材１２ｂ_３の先端部はネジ部Ｎとなっており、接触部材１２ｂ_１の上記したネジ孔Ｍと螺合されることで一体化される。これにより、押し付け部材格納部１２ａ_２に押し付け部材１２ｂが格納され、さらにガイド溝１２ａ_４とガイド突起１２ｂ_４とで押し付け部材１２ｂが脱落することが防止されている。

【0047】

次に図６を用いて、支持ロッド１１が拘束部材１２の収容凹部１２ａ_１に対して挿脱される際の状態遷移について説明する。なお図６（ａ）は支持ロッド１１が収容凹部１２ａ_１の外部にあるときを示し、（ｂ）は支持ロッド１１が収容凹部１２ａ_１に挿入中のときを示し、（ｃ）は支持ロッド１１の収容凹部１２ａ_１への収容が完了したときを示す。
そして図６（ｂ）に示されるとおり、支持ロッド１１が拘束部材１２の収容凹部１２ａ_１に収容されるときは、支持ロッド１１の挿入に伴って押し付け部材１２の接触部材１２ｂ_１が外側に（一対の接触部材１２ｂ_１が互いに離間する方向に）スライド移動する。

【0048】

そして図６（ｃ）に示されるとおり、支持ロッド１１がさらに移動して収容凹部１２ａ_１内に進入すると、弾性部材１２ｂ_２の作用で接触部材１２ｂ_１が支持ロッド１１の外周面を押し付ける。これにより、収容凹部１２ａ_１内で支持ロッド１１は固定されることとなり、上述のとおりカローセル１３が回転することで支持ロッド１１が公転したとしても、収容凹部１２ａ_１内で支持ロッド１１が自転してしまうことが抑制される。

【0049】

一方で、例えばＮｉ－Ｐめっき処理が完了して支持ロッド１１から基板１を取り外す際などは、拘束部材１２による拘束を解放して支持ロッド１１をカローセル１３から外す必要がある。このような場合には、図６（ｂ）のとおり支持ロッド１１が収容凹部１２ａ_１内から離脱するに伴って押し付け部材１２の接触部材１２ｂ_１が外側にスライド移動する。次いで図６（ａ）のとおり、支持ロッド１１が収容凹部１２ａ_１内から完全に離脱した後は、弾性部材１２ｂ_２の作用で接触部材１２ｂ_１が元の位置へ戻ることとなる。

【0050】

このように本実施形態では、カローセル１３に設置された拘束部材１２は、支持ロッド１１を着脱自在に支持しつつ、自転抑制機構の作用によって支持ロッド１１が収容凹部１２ａ_１内で自転してしまうことを抑制している。
これにより、支持ロッドとカローセルとの接続部位で生じ得る摩耗粉に起因して発生するノジュールを抑制することが可能となる。

【0051】

なお上記で説明した実施形態は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の変形が可能である。以下、本発明に適用が可能な変形例について説明する。
上記した実施形態では、接触部材１２ｂ_１の頂部ｔにはガイド面が形成されて三角屋根状又は矢印状のごとき形状となっていたが、ガイド面ｔ２は支持ロッド１１の周面と同様の曲面となっていてもよい。あるいは、接触部材１２ｂ_１の頂部ｔにガイド面は必須ではなく、適宜これを省略してもよい。

【0052】

また、上記で説明した実施形態は、頂部ｔは先端が先細りとなった三角屋根状又は矢印状のごとき形状となっている。ここで頂部ｔの先端は尖っていても良いが、先端にＲ部（アール部）を有する先丸形状となっていることがさらに好ましい。
すなわち、先端にＲ部（アール部）を有する形状とすることにより、支持ロッド１１の装着がよりスムーズに行えるようになる。その結果、ディスク基板を装着した支持ロッド１１を本願発明のめっき処理用治具１０に装着する際に、ディスク基板同士やディスク基板とめっき処理用治具１０が衝突して生ずるシャローピット（小さい凹み欠陥）の発生を抑制することが可能となる。
そのため、頂部ｔは先端にＲ部（アール部）を有する形状とすることがより好ましいものである。
なお上記Ｒ部（アール部）の大きさとしては特に制限されるものではないが、例えばＲ０．５～Ｒ５．０程度の大きさであれば好ましい。

【0053】

また、拘束部材１２の自転抑制機構として、軸受１２ａと押し付け部材１２ｂの例を説明したが、支持ロッド１１の自転を抑制できれば他の構造を採用してもよい。例えば、軸受１２ａの収容凹部１２ａ_１内に、支持ロッド１１が圧入可能なように凹状のスポンジやゴムなどの個体弾性部材を配置し、この個体弾性部材内に支持ロッド１１を圧入して自転を抑制する態様であってもよい。また、上記実施形態では、押しつけ部材１２ｂを対向するように形成したが、自転を抑制できれば押しつけ部材１２ｂは片側に１つだけ設ける構造を用いてもよい。
さらに、上記した実施形態では、拘束部材１２は支持ロッド１１を把持可能な断面がＵ字状の部材であったが、同様の作用効果が得られれば他の構造を用いてもよい。

【0054】

また、上記実施形態では、めっき処理用治具１０の主とした材質を樹脂で形成したが、これに限られず、めっき処理した金属など他の材料を用いてもよい。
また、上記実施形態では、基板１の用途としてＨＤＤ向けの磁気ディスク（磁気記録媒体）を例にして説明したが、磁気ディスク以外の他の用途に適用してもよい。この場合、その用途に即してめっき浴槽内のめっき液が変更されることは言うまでもない。

【産業上の利用可能性】

【0055】

以上説明したように、本発明のめっき処理用治具およびめっき処理装置は、各種めっき処理される基板の製造に適しており、幅広い分野の産業への適用が可能である。

【符号の説明】

【0056】

Ｌ めっき液
１ 基板
１０ めっき処理用治具
１１ 支持ロッド
１２ 拘束部材
１２ａ 軸受
１２ｂ 押し付け部材
１３ カローセル
１３ａ 第１カローセル
１３ｂ 第２カローセル
１４ 吊り下げ装置
１５ 回転機構
１５ａ モータ
１５ｂ 伝達ギア
１６ 回転軸
２０ めっき浴槽
１００ めっき処理装置

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】