(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2022-03-04
(45)【発行日】2022-03-14
(54)【発明の名称】ミストスプレー
(51)【国際特許分類】
B65D 83/00 20060101AFI20220307BHJP
B05B 9/04 20060101ALI20220307BHJP
B05B 11/00 20060101ALI20220307BHJP
【ＦＩ】
B65D83/00 K
B05B9/04
B05B11/00 103H
B05B11/00 102Z
【請求項の数】
4
(21)【出願番号】P 2020097577
(22)【出願日】2020-06-04
(65)【公開番号】P2021187545
(43)【公開日】2021-12-13
【審査請求日】2020-07-29
(73)【特許権者】
【識別番号】307032423
【氏名又は名称】株式会社サイエンス
(74)【代理人】
【識別番号】100085316
【弁理士】
【氏名又は名称】福島 三雄
(74)【代理人】
【識別番号】100171572
【弁理士】
【氏名又は名称】塩田 哲也
(74)【代理人】
【識別番号】100213425
【弁理士】
【氏名又は名称】福島 正憲
(74)【代理人】
【識別番号】100221707
【弁理士】
【氏名又は名称】宮崎 洋介
(74)【代理人】
【識別番号】100221718
【弁理士】
【氏名又は名称】藤原 誠悟
(72)【発明者】
【氏名】水上 康洋
(72)【発明者】
【氏名】平江 真輝
(72)【発明者】
【氏名】奥村 隆宏
【審査官】田中 一正
(56)【参考文献】
【文献】特表平０４－５０２４４１（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１３－２３０８５４（ＪＰ，Ａ）
【文献】特表２００８－５３２８５８（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開平０８－１９２８７８（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｂ６５Ｄ ８３／００
Ｂ０５Ｂ ９／０４
Ｂ０５Ｂ １１／００
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
液体を密封状態で貯留し、及び前記液体の液面上の気体空間に圧縮空気を密封状態で貯留する流体容器と、前記流体容器内に対し密封されて、前記圧縮気体を貯留した前記気体空間に配置され、前記液体及び前記圧縮気体を混合する流体混合室を形成する流体混合器と、
一方の開口端が前記流体混合室に連通される流体路を有するスプレー体と、
前記スプレー体に配置され、前記流体路の他方の開口端に連通される噴霧ノズルと、
前記流体路を開閉する開閉弁と、
開閉操作によって、前記開閉弁を開弁又は閉弁する弁開閉体と、
一方の管端が前記流体容器に貯留した前記液体中に浸漬される液管体と、を備え、
前記流体混合器は、
両端が閉塞されて内部に前記流体混合室を形成し、一方の筒端を前記流体容器に貯留した前記液体の液面に向けて、前記気体空間に配置される気液筒体と、
前記気液筒体の一方の筒端を貫通して、前記気体空間及び前記流体混合室に開口され、前記開閉弁の開弁によって、前記気体空間に貯留した前記圧縮気体を前記流体混合室に噴射する気体噴出穴と、
前記気液筒体の一方の筒端を貫通して、前記気体空間及び前記流体混合室に開口され、前記圧縮気体の前記流体混合室への噴射によって、前記流体容器に貯留した前記液体を前記流体混合室に噴射する液体噴出穴と、を有し、
前記流体路は、前記気液筒体の他方の筒端を貫通して、一方の開口端が前記流体混合室に連通され、
前記液管体は、他方の管端が前記液体噴出穴に連通され、
前記開閉弁は、
前記気液筒体の他方の筒端に当接して前記流体混合室に配置される弁座と、
前記弁座及び前記気液筒体の一方の筒端の間において、前記気液筒体の内周面に弁隙間を隔てて前記流体混合室に配置され、前記弁座に当接し、又は前記弁座から離間して前記流体路を開閉する弁体と、を有し、
前記弁開閉体は、開操作によって、前記開閉弁を開弁して、前記流体路を前記流体混合室に連通し、
前記弁体は、前記弁開閉体の開操作によって、前記弁座から離間されて、前記気液筒体の一方の筒端に開弁隙間を隔てて配置され、
前記気体空間に貯留した前記圧縮気体は、前記開閉弁の開弁によって、前記気体噴出穴を通って前記流体混合室に噴射されると共に、前記開弁隙間において、前記弁体に衝突され、
前記流体容器に貯留した液体は、前記圧縮気体の前記流体混合室への噴射によって、前記液管体及び前記液体噴出穴を通って前記流体混合室に噴射されると共に、前記開弁隙間において、前記弁体に衝突される
ことを特徴とするミストスプレー。
【請求項2】
前記流体混合器は、複数の気体噴出穴を有し、前記液体噴出穴は、
前記気液筒体と同心に配置され、前記気液筒体の一方の筒端を貫通して、前記気体空間及び前記流体混合室に開口され、
前記圧縮気体の前記流体混合室への噴射によって、前記流体容器に貯留した前記液体を前記流体混合室に噴射し、
前記各気体噴出穴は、
前記気液筒体の周方向に等間隔を隔てて前記液体噴出穴の外周りに配置され、前記気液筒体の一方の筒端を貫通して、前記気体空間及び前記流体混合室に開口され、
前記開閉弁の開弁によって、前記気体空間に貯留した前記圧縮気体を前記流体混合室に噴射し、
前記弁体は、
前記気液筒体の筒中心線と同心に配置され、
前記弁座及び前記気液筒体の一方の筒端の間において、前記気液筒体の内周面に弁隙間を隔てて前記流体混合室に配置され、及び前記気液筒体の一方の筒端に弁間隔を隔てて前記弁座に当接され、前記弁座に当接し、又は前記弁座から離間して前記流体路を開閉する
ことを特徴とする請求項１に記載のミストスプレー。
【請求項3】
前記噴霧ノズルに配置されるミスト発生器を備え、前記ミスト発生器は、
前記噴霧ノズルを貫通して、前記流体路に連通されるミスト絞り穴と、
円錐渦巻き状に形成され、同一渦巻き状の複数の渦巻き面を有するミストガイドと、
を備え、
前記ミスト絞り穴は、
前記流体路側から縮径しつつ前記噴霧ノズルを貫通する円錐穴に形成され、
前記各渦巻き面は、
前記ミストガイドの円錐側面に交差して円錐底面及び円錐上面の間に配置され、
前記円錐底面から前記円錐上面に向けて縮径しつつ渦巻き状に形成され、
前記ミストガイドは、
前記円錐側面及び前記ミスト絞り穴の円錐内周面の間に隙間を隔てて、前記円錐上面から前記ミスト絞り穴内に挿入され、
前記各渦巻き面及び前記円錐内周面の間に、渦巻き状の複数のミスト流路を形成して、前記ミスト絞り穴内に装着され、
前記各ミスト流路は、
前記ミスト絞り穴内に開口され、前記流体路に連通される
ことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のミストスプレー。
【請求項4】
前記流体容器内に圧縮気体を供給する圧縮気体供給器を備え、前記圧縮気体供給器は、
前記流体容器に貯留した液体の中に、圧縮気体を噴射する
ことを特徴とする請求項１乃至請求項３の何れかに記載のミストスプレー。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、微細な液滴（極微細な液滴）を噴射（噴霧）するミストスプレーに関する。
【背景技術】
【0002】
液滴（ミスト）を噴射する技術として、特許文献１は、トリガースプレイヤを開示する。トリガースプレイヤは、トリガーレバーを回動操作することで、容器の貯留した液体をノズル部に流出して、ノズル部から液体を噴射する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【文献】特開２０１７－１３００８号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
特許文献１では、液体のみをノズル部から噴射しているので、微細な液滴（微細なミスト）を発生することができない。
【0005】
本発明は、マイクロバブル及びウルトラファンバブルの混入、溶け込んだ微細な液滴（微細なミスト）を噴射できるミストスプレーを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明に係る請求項１は、液体を密封状態で貯留し、及び前記液体の液面上の気体空間に圧縮空気を密封状態で貯留する流体容器と、前記流体容器内に対し密封されて、前記圧縮気体を貯留した前記気体空間に配置され、前記液体及び前記圧縮気体を混合する流体混合室を形成する流体混合器と、一方の開口端が前記流体混合室に連通される流体路を有するスプレー体と、前記スプレー体に配置され、前記流体路の他方の開口端に連通される噴霧ノズルと、前記流体路を開閉する開閉弁と、開閉操作によって、前記開閉弁を開弁又は閉弁する弁開閉体と、一方の管端が前記流体容器に貯留した前記液体中に浸漬される液管体と、を備え、前記流体混合器は、両端が閉塞されて内部に前記流体混合室を形成し、一方の筒端を前記流体容器に貯留した前記液体の液面に向けて、前記気体空間に配置される気液筒体と、前記気液筒体の一方の筒端を貫通して、前記気体空間及び前記流体混合室に開口され、前記開閉弁の開弁によって、前記気体空間に貯留した前記圧縮気体を前記流体混合室に噴射する気体噴出穴と、前記気液筒体の一方の筒端を貫通して、前記気体空間及び前記流体混合室に開口され、前記圧縮気体の前記流体混合室への噴射によって、前記流体容器に貯留した前記液体を前記流体混合室に噴射する液体噴出穴と、を有し、前記流体路は、前記気液筒体の他方の筒端を貫通して、一方の開口端が前記流体混合室に連通され、前記液管体は、他方の管端が前記液体噴出穴に連通され、前記開閉弁は、前記気液筒体の他方の筒端に当接して前記流体混合室に配置される弁座と、前記弁座及び前記気液筒体の一方の筒端の間において、前記気液筒体の内周面に弁隙間を隔てて前記流体混合室に配置され、前記弁座に当接し、又は前記弁座から離間して前記流体路を開閉する弁体と、を有し、前記弁開閉体は、開操作によって、前記開閉弁を開弁して、前記流体路を前記流体混合室に連通し、前記弁体は、前記弁開閉体の開操作によって、前記弁座から離間されて、前記気液筒体の一方の筒端に開弁隙間を隔てて配置され、前記気体空間に貯留した前記圧縮気体は、前記開閉弁の開弁によって、前記気体噴出穴を通って前記流体混合室に噴射されると共に、前記開弁隙間において、前記弁体に衝突され、前記流体容器に貯留した液体は、前記圧縮気体の前記流体混合室への噴射によって、前記液管体及び前記液体噴出穴を通って前記流体混合室に噴射されると共に、前記開弁隙間において、前記弁体に衝突されることを特徴とするミストスプレーである。
本発明に係る請求項１では、前記流体混合器は、流体容器内、及び流体混合室に開口され、圧縮気体の流体混合室への噴射に起因して（又は、噴射に伴って）、流体容器に貯留した液体を流体混合室に噴射する液体噴出穴を有する構成も採用できる。請求項１では、気体噴出穴を、気体絞り穴、気体ノズル穴、又は気体オリフィス穴、液体噴出穴を、液体絞り穴、液体ノズル穴、又は液体オリフィス穴で構成できる。
本発明に係る請求項１では、前記流体混合器は、流体容器内、及び流体混合室に開口され、圧縮気体の流体混合室への噴射に起因して（又は、噴射に伴って）、流体容器に貯留した液体を流体混合室に噴射する液体噴出穴を有する構成も採用できる。請求項１では、気体噴出穴を、気体絞り穴、気体ノズル穴、又は気体オリフィス穴、液体噴出穴を、液体絞り穴、液体ノズル穴、又は液体オリフィス穴で構成できる。
【0007】
本発明に係る請求項１によれば、弁開閉体は、開操作によって、開閉弁を開弁し、及び流体路を開いて、流体路を流体混合室に連通する。流体路を開くと、流体容器の気体空間に貯留した圧縮気体は、各気体噴出穴を通って、流体混合室に噴射される。流体容器に貯留した液体は、圧縮気体の流体混合室への噴射によって、液体噴出穴を通って、流体混合室に噴射される。圧縮気体は、流体混合室に噴射されると、流体混合室、開弁した開閉弁を流れ、更に、開弁した開閉弁を通って、流体路を流れる。流体容器に貯留した液体は、流体混合室に噴射された圧縮気体の流れによって、液管体を通して液体噴出穴（流体混合室）に引っ張れて、液管体及び液体噴出穴を通って、流体混合室に噴射される。流体混合室には、圧縮気体の噴射に続いて、液体が噴射される。
流体混合室に噴射された液体は、流体混合室に噴射された圧縮気体を巻き込みしつつ圧縮気体と衝突し、流体混合室において、圧縮気体及び液体は混合されて、微細な液滴（微細なミスト）となる。流体混合室において、圧縮気体及び液体の衝突（乱流）によって、液体中の気泡は、マイクロバブル及びウルトラファインバブルに粉砕（剪断）されて、マイクロバブル及びウルトラファンバブルの混入、溶け込んだ微細な液滴（微細なミスト）となる。
マイクロバブル及びウルトラファンバブルの混入、溶け込んだ微細な液滴及び圧縮気体（気体）は、流体混合室から開弁した開閉弁を通って、流体路に流出（噴射）されて、流体路を流れて、噴霧ノズルから外側（外部）に噴射（噴霧）される。
このように、本発明の請求項１では、流体容器の気体空間に貯留した圧縮気体を流体混合室に噴射し、続いて、流体容器に貯留した液体を流体混合室に噴射することで、液体を圧縮気体に衝突して、液体及び圧縮気体を混合できることから、微細な液滴（微細のミスト）を生成できる。これにより、噴霧ノズルから微細の液滴（微細なミスト）を噴射（噴霧）することが可能となる。
なお、国際標準化機構（ＩＳＯ）の国際規格「ＩＳＯ２０４８０－１」には、１マイクロメートル（μｍ）以上１００マイクロメートル（μｍ）の気泡を「マイクロバブル」１マイクロメートル（μｍ）未満の気泡を「ウルトラファインバブル」と定めている（以下、同様）。
流体混合室に噴射された液体は、流体混合室に噴射された圧縮気体を巻き込みしつつ圧縮気体と衝突し、流体混合室において、圧縮気体及び液体は混合されて、微細な液滴（微細なミスト）となる。流体混合室において、圧縮気体及び液体の衝突（乱流）によって、液体中の気泡は、マイクロバブル及びウルトラファインバブルに粉砕（剪断）されて、マイクロバブル及びウルトラファンバブルの混入、溶け込んだ微細な液滴（微細なミスト）となる。
マイクロバブル及びウルトラファンバブルの混入、溶け込んだ微細な液滴及び圧縮気体（気体）は、流体混合室から開弁した開閉弁を通って、流体路に流出（噴射）されて、流体路を流れて、噴霧ノズルから外側（外部）に噴射（噴霧）される。
このように、本発明の請求項１では、流体容器の気体空間に貯留した圧縮気体を流体混合室に噴射し、続いて、流体容器に貯留した液体を流体混合室に噴射することで、液体を圧縮気体に衝突して、液体及び圧縮気体を混合できることから、微細な液滴（微細のミスト）を生成できる。これにより、噴霧ノズルから微細の液滴（微細なミスト）を噴射（噴霧）することが可能となる。
なお、国際標準化機構（ＩＳＯ）の国際規格「ＩＳＯ２０４８０－１」には、１マイクロメートル（μｍ）以上１００マイクロメートル（μｍ）の気泡を「マイクロバブル」１マイクロメートル（μｍ）未満の気泡を「ウルトラファインバブル」と定めている（以下、同様）。
【0008】
本発明に係る請求項２は、前記流体混合器は、複数の気体噴出穴を有し、前記液体噴出穴は、前記気液筒体と同心に配置され、前記気液筒体の一方の筒端を貫通して、前記気体空間及び前記流体混合室に開口され、前記圧縮気体の前記流体混合室への噴射によって、前記流体容器に貯留した前記液体を前記流体混合室に噴射し、前記各気体噴出穴は、前記気液筒体の周方向に等間隔を隔てて前記液体噴出穴の外周りに配置され、前記気液筒体の一方の筒端を貫通して、前記気体空間及び前記流体混合室に開口され、前記開閉弁の開弁によって、前記気体空間に貯留した前記圧縮気体を前記流体混合室に噴射し、前記弁体は、前記気液筒体の筒中心線と同心に配置され、前記弁座及び前記気液筒体の一方の筒端の間において、前記気液筒体の内周面に弁隙間を隔てて前記流体混合室に配置され、及び前記気液筒体の一方の筒端に弁間隔を隔てて前記弁座に当接され、前記弁座に当接し、又は前記弁座から離間して前記流体路を開閉することを特徴とする請求項１に記載のミストスプレーである。
【0009】
本発明によれば、流体容器の気体空間に貯留した圧縮気体は、各気体噴出穴によって、液面に直交する方向に向けて流体混合室に噴射されて、液面に直交する方向に向けて流体混合室、開弁する開閉弁を通って、流体路を流れる。流体容器に貯留した液体は、圧縮気体の流れによって、液管体を通して液体噴出穴に引っ張られて、各気体噴出穴の間において流体混合室に噴射される。液体は、流体混合室に噴射されると、圧縮気体（圧縮気体の流れ）に向けて流れて、圧縮気体に衝突され、圧縮気体に混合される。
このように、流体混合室において、圧縮気体及び液体を衝突し、圧縮気体及び液体を混合することで、マイクロバブル及びウルトラファインバブルの混入、溶け込んだ微細な液滴（微細なミスト）を生成できる。
このように、流体混合室において、圧縮気体及び液体を衝突し、圧縮気体及び液体を混合することで、マイクロバブル及びウルトラファインバブルの混入、溶け込んだ微細な液滴（微細なミスト）を生成できる。
【0010】
本発明に係る請求項３は、前記噴霧ノズルに配置されるミスト発生器を備え、前記ミスト発生器は、前記噴霧ノズルを貫通して、前記流体路に連通されるミスト絞り穴と、円錐渦巻き状に形成され、同一渦巻き状の複数の渦巻き面を有するミストガイドと、を備え、前記ミスト絞り穴は、前記流体路側から縮径しつつ前記噴霧ノズルを貫通する円錐穴に形成され、前記各渦巻き面は、前記ミストガイドの円錐側面に交差して円錐底面及び円錐上面の間に配置され、前記円錐底面から前記円錐上面に向けて縮径しつつ渦巻き状に形成され、前記ミストガイドは、前記円錐側面及び前記ミスト絞り穴の円錐内周面の間に隙間を隔てて、前記円錐上面から前記ミスト絞り穴内に挿入され、前記各渦巻き面及び前記円錐内周面の間に、渦巻き状の複数のミスト流路を形成して、前記ミスト絞り穴内に装着され、前記各ミスト流路は、前記ミスト絞り穴内に開口され、前記流体路に連通されることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のミストスプレーである。
【0011】
本発明に係る請求項３によれば、ミスト発生器の各ミスト流路に微細な液滴（微細なミスト）及び圧縮気体（気体）を流すことで、微細な液滴より粒子の細かい微粒子であって、微細な液滴より更に多量のマイクロバブル及びウルトラファンバブルの混入、溶け込んだ極微細な液滴（極微細なミスト）として、噴霧ノズルから噴射（噴霧）できる。
【0012】
本発明に係る請求項４は、前記流体容器内に圧縮気体を供給する圧縮気体供給器を備え、前記圧縮気体供給器は、前記流体容器に貯留した液体の中に、圧縮気体を噴射することを特徴とする請求項１乃至請求項４の何れかに記載のミストスプレーである。
【0013】
本発明に係る請求項４によれば、圧縮気体を流体容器に貯留した液体中に噴射すると、圧縮気体、及び圧縮気体を噴射した領域の液体は、衝突して乱流となる。圧縮気体は、乱流（衝突）によって、液体中で気泡となって、液体中に混入、溶け込む。
これにより、流体容器に貯留した液体中の溶存気体量（液体中の気泡の混入、溶け込み量）を増加することができ、流体混合器で微細な液滴を生成する際、ミスト発生器で極微細な液滴を生成する際に、多量のマイクロバブル及びウルトラファインバブルを微細な液滴、又は極微細な液滴に混入、溶け込ませることが可能となる。
これにより、流体容器に貯留した液体中の溶存気体量（液体中の気泡の混入、溶け込み量）を増加することができ、流体混合器で微細な液滴を生成する際、ミスト発生器で極微細な液滴を生成する際に、多量のマイクロバブル及びウルトラファインバブルを微細な液滴、又は極微細な液滴に混入、溶け込ませることが可能となる。
【発明の効果】
【0014】
本発明は、多量のマイクロバブル及びウルトラファインバブルの混入、溶け込んだ微細な液滴（又は極微細な液滴）を噴射（噴霧）できる。
【図面の簡単な説明】
【0015】
【図1】ミストスプレーの斜視図である。
【図2】ミストスプレーの側面図である。
【図3】ミストスプレーの上面図である。
【図12】保持板体、気液筒体、閉塞筒体、シリンダーを示す図であって、（ａ）は斜視図、（ｂ）は上面図である。
【図16】ノズルユニット（噴霧ノズル、ノズルキャップ）を示す図であって、（ａ）は上面図、（ｂ）は側面図である。
【図19】ガイド体（ガイド円板、ミストガイド）を示す図であって、（ａ）は上面図、（ｂ）は側面図である。
【図21】ピストン本体を示す図であって、（ａ）は斜視図、（ｂ）は正面図である。
【発明を実施するための形態】
【0016】
【0017】
図１乃至図２７において、ミストスプレーＸ（ミストスプレー装置）は、流体容器１、保持板体２、流体混合器３（気液混合手段）、スプレー体４、噴霧ノズル５、ミスト発生器Ｙ（ミスト発生手段）、開閉弁６、弁開閉体７（弁開閉手段）、液管体８、及び圧縮気体供給器９（圧縮気体供給手段）を備える。
【0018】
流体容器１は、図４及び図１０に示すように、液体Ｗを密封状態で貯留する。流体容器１は、圧縮気体Ａが貯留した液体Ｗ中に供給されて、圧縮気体Ａを貯留する。
流体容器１は、貯留した液体Ｗの液面ＷＬ上（液面ＷＬの上方）の気体空間Ｒに圧縮気体Ａを密封状態で貯留する。
液体Ｗは、例えば、水、化粧水、及び美顔、美肌等を目的とした薬液である。
圧縮気体Ａは、例えば、空気である。
流体容器１は、貯留した液体Ｗの液面ＷＬ上（液面ＷＬの上方）の気体空間Ｒに圧縮気体Ａを密封状態で貯留する。
液体Ｗは、例えば、水、化粧水、及び美顔、美肌等を目的とした薬液である。
圧縮気体Ａは、例えば、空気である。
【0019】
【0020】
容器本体１０は、図４及び図１０に示すように、円筒状の胴部１２（円筒胴部）、胴部１２の一方の筒端を閉塞する底部１３、及び胴部１２の他方の筒端に連続する頭部１４（首部）を有する。頭部１４（円筒頭部）は、円筒状に形成され、胴部１２の内部に連続して、胴部１２の外部に開口される。頭部１４は、雄ネジ部１５を有し、雄ネジ部１５は、頭部１４の外周（外周面）に形成される。容器本体１０において、胴部１２、底部１３及び頭部１４は、一体に形成される。
容器本体１０（流体容器１）は、図１０に示すように、流体容器１（容器本体１０）の筒中心線ｂの方向Ｂ（以下、「筒中心線方向Ｂ」という）に容器全長Ｌａを有する。容器本体１０（流体容器１）において、胴部１２は、内直径ｄａ（内周直径）を有し、内半径ｒａ（内周半径）は、ｒａ＝（１／２）×ｄａとなる。
容器本体１０（流体容器１）は、液体Ｗが頭部１４の頭部筒端１４Ａ（容器本体１０の筒開口端）から流入（供給）されて、液体Ｗを貯留する。
容器本体１０（流体容器１）は、図１０に示すように、流体容器１（容器本体１０）の筒中心線ｂの方向Ｂ（以下、「筒中心線方向Ｂ」という）に容器全長Ｌａを有する。容器本体１０（流体容器１）において、胴部１２は、内直径ｄａ（内周直径）を有し、内半径ｒａ（内周半径）は、ｒａ＝（１／２）×ｄａとなる。
容器本体１０（流体容器１）は、液体Ｗが頭部１４の頭部筒端１４Ａ（容器本体１０の筒開口端）から流入（供給）されて、液体Ｗを貯留する。
【0021】
蓋１１（キャップ）は、図１乃至図６、及び図１１に示すように、蓋本体２１、及び蓋板２２（蓋閉塞板）を有する。蓋１１において、蓋本体２１及び蓋板２２は、一体に形成される。
蓋本体２１（蓋円筒本体）は、円筒状に形成される。蓋本体２１は、雌ネジ部２３を有し、雌ネジ部２３は、蓋本体２１の内周（内周面）に形成される。蓋板２２は、蓋本体２１の一方の蓋筒端２１Ａを閉塞して、蓋本体２１に固定される。
蓋本体２１（蓋円筒本体）は、円筒状に形成される。蓋本体２１は、雌ネジ部２３を有し、雌ネジ部２３は、蓋本体２１の内周（内周面）に形成される。蓋板２２は、蓋本体２１の一方の蓋筒端２１Ａを閉塞して、蓋本体２１に固定される。
【0022】
流体容器１は、図４及び図６に示すように、蓋１１を容器本体１０に取外自在に取付けて密封される。蓋１１は、容器本体１０の頭部１４に取付けられる。
蓋１１において、蓋本体２１は、他方の蓋筒端２１Ｂ（蓋筒開口端）から容器本体１０の頭部１４に外嵌されて、雌ネジ部２３を頭部１４の雄ネジ部１５に螺着して、容器本体１０に取付けられる。
容器本体１０は、頭部１４を他方の蓋筒端２１Ｂ（蓋筒開口端）から蓋本体２１内に挿入して、雄ネジ部１５を蓋本体２１の雌ネジ部２３に螺着して蓋１１（蓋本体２１）と一体にされる。
これにより、蓋１１（蓋体）は、図４及び図６に示すように、蓋本体２１及び蓋板２２にて容器本体１０の筒開口端（頭部筒端１４Ａ）を閉塞して、容器本体１０内（流体容器１）を密封する。
流体容器１は、容器本体１０及び蓋１１によって、内部に液体Ｗ及び圧縮気体Ａを貯留する気液空間ＡＷを形成（区画）する。
蓋１１において、蓋本体２１は、他方の蓋筒端２１Ｂ（蓋筒開口端）から容器本体１０の頭部１４に外嵌されて、雌ネジ部２３を頭部１４の雄ネジ部１５に螺着して、容器本体１０に取付けられる。
容器本体１０は、頭部１４を他方の蓋筒端２１Ｂ（蓋筒開口端）から蓋本体２１内に挿入して、雄ネジ部１５を蓋本体２１の雌ネジ部２３に螺着して蓋１１（蓋本体２１）と一体にされる。
これにより、蓋１１（蓋体）は、図４及び図６に示すように、蓋本体２１及び蓋板２２にて容器本体１０の筒開口端（頭部筒端１４Ａ）を閉塞して、容器本体１０内（流体容器１）を密封する。
流体容器１は、容器本体１０及び蓋１１によって、内部に液体Ｗ及び圧縮気体Ａを貯留する気液空間ＡＷを形成（区画）する。
【0023】
流体容器１は、蓋１１にて容器本体１０を閉塞（閉鎖）することで、容器本体１０内（気液空間ＡＷ）に液体Ｗを密封状態で貯留し、及び貯留した液体Ｗの液面ＷＬ上の気体空間Ｒに圧縮気体Ａを密封状態で貯留する。
流体容器１（容器本体１０）において、液体Ｗは、図１０に示すように、液体貯留深さＬＷを有して気液空間ＡＷに貯留される。
液体貯留深さＬＷは、筒中心線方向Ｂにおいて、容器本体１０の底部１３から筒開口端（頭部筒端１４Ａ）に向けた深さ（長さ）であって、流体容器１（容器本体１０）に貯留した液体Ｗの液面ＷＬ及び容器本体１０の底部１３の間の深さ（長さ）である。液体貯留深さＬＷは、例えば、容器本体１０（流体容器１）の容器全長Ｌａに対し、０（零）を超え１／２（２分の１）以下の深さとする［０×Ｌａ＜ＬＷ≦（１／２）×Ｌａ］。液体貯留深さＬＷは、好ましくは、容器本体１０の容器全長Ｌａに対して、０（零）を超え１／３（３分の１）以下の深さとする［０×Ｌａ＜ＬＷ≦（１／３）×Ｌａ］。
流体容器１（容器本体１０）において、圧縮気体Ａの気体貯留深さＬＡは、図１０に示すように、容器本体１０（流体容器１）の容器全長Ｌａとすると、容器全長Ｌａから液体貯留深さＬＷを減算した深さとなる［Ｌａ＜ＬＡ≦［Ｌａ－（１／２）×Ｌａ］、又はＬａ＜ＬＡ≦［Ｌａ－（１／３）×Ｌａ］］。
気体貯留深さＬＡは、筒中心線方向Ｂにおいて、流体容器１（容器本体１０）に貯留した液体Ｗの液面ＷＬ及び容器本体１０の筒開口端（頭部筒端１４Ａ）の間の深さ（長さ）である。
これにより、流体容器１は、容器本体１０内に液体Ｗを貯留すると、気液空間ＡＷに対し、気体貯留深さＬＡの気体空間Ｒを形成する（気液空間ＡＷ＞気体空間Ｒ）。
流体容器１（容器本体１０）において、液体Ｗは、図１０に示すように、液体貯留深さＬＷを有して気液空間ＡＷに貯留される。
液体貯留深さＬＷは、筒中心線方向Ｂにおいて、容器本体１０の底部１３から筒開口端（頭部筒端１４Ａ）に向けた深さ（長さ）であって、流体容器１（容器本体１０）に貯留した液体Ｗの液面ＷＬ及び容器本体１０の底部１３の間の深さ（長さ）である。液体貯留深さＬＷは、例えば、容器本体１０（流体容器１）の容器全長Ｌａに対し、０（零）を超え１／２（２分の１）以下の深さとする［０×Ｌａ＜ＬＷ≦（１／２）×Ｌａ］。液体貯留深さＬＷは、好ましくは、容器本体１０の容器全長Ｌａに対して、０（零）を超え１／３（３分の１）以下の深さとする［０×Ｌａ＜ＬＷ≦（１／３）×Ｌａ］。
流体容器１（容器本体１０）において、圧縮気体Ａの気体貯留深さＬＡは、図１０に示すように、容器本体１０（流体容器１）の容器全長Ｌａとすると、容器全長Ｌａから液体貯留深さＬＷを減算した深さとなる［Ｌａ＜ＬＡ≦［Ｌａ－（１／２）×Ｌａ］、又はＬａ＜ＬＡ≦［Ｌａ－（１／３）×Ｌａ］］。
気体貯留深さＬＡは、筒中心線方向Ｂにおいて、流体容器１（容器本体１０）に貯留した液体Ｗの液面ＷＬ及び容器本体１０の筒開口端（頭部筒端１４Ａ）の間の深さ（長さ）である。
これにより、流体容器１は、容器本体１０内に液体Ｗを貯留すると、気液空間ＡＷに対し、気体貯留深さＬＡの気体空間Ｒを形成する（気液空間ＡＷ＞気体空間Ｒ）。
【0024】
流体容器１（容器本体１０）において、液体Ｗを流体容器１内（気液空間ＡＷ）に貯留する液体貯留量ＶＷ（液体貯留体積）は、図１０に示すように、胴部１２の内半径ｒａ、液体貯留深さＬＷ、及び円周率：πとすると、ＶＷ＝（ｒａ）２×π×ＬＷとなる。圧縮気体Ａを流体容器１内（気体空間Ｒ）に貯留する気体貯留量ＶＡ（気体貯留体積）は、容器本体１０の気液空間ＡＷの総体積ＶＴとすると、気液空間ＡＷの総体積ＶＴから液体Ｗの貯留量ＶＷを減算した体積となる（ＶＡ＝ＶＴ－ＶＷ）。
圧縮気体Ａの気体貯留量ＶＡは、例えば、液体Ｗの液体貯留量ＶＷと同一、又は液体貯留量ＶＷより多い量とする（ＶＡ≧ＶＷ）。
圧縮気体Ａの気体貯留量ＶＡは、例えば、液体Ｗの液体貯留量ＶＷと同一、又は液体貯留量ＶＷより多い量とする（ＶＡ≧ＶＷ）。
【0025】
【0026】
流体混合器３は、図４乃至図６、及び図８に示すように、流体容器１内（容器本体１０内／気液空間ＡＷ）に対し密封されて、圧縮気体Ａを貯留した気体空間Ｒに配置される。流体混合器３は、図６、図８、及び図１２乃至図１４（ａ）に示すように、流体容器１（気液空間ＡＷ）に貯留した液体Ｗ及び圧縮気体Ａを混合する流体混合室Ｍを形成（区画）する。流体混合器３は、保持板体２の板中心線ｃから径外方に間隔を隔てて配置されて、保持板体２の裏板面２Ｂに固定される。
流体混合器３は、図６、図８、及び図１２乃至図１４（ａ）に示すように、気液筒体３０、閉塞筒体３１、管案内筒体３２、液体噴出穴３３、及び複数（２つ）の気体噴出穴３４を有する。
流体混合器３は、図６、図８、及び図１２乃至図１４（ａ）に示すように、気液筒体３０、閉塞筒体３１、管案内筒体３２、液体噴出穴３３、及び複数（２つ）の気体噴出穴３４を有する。
【0027】
気液筒体３０は、例えば、円筒状に形成される。気液筒体３０は、図１２、図１３及び図１４（ａ）に示すように、両筒端３０Ａ，３０Ｂ（両気液筒端）が閉塞（閉鎖）されて、内部に流体混合室Ｍを形成（区画）する。気液筒体３０は、他方の筒端３０Ｂを保持板体２の裏板面２Ｂに当接して、保持板体２に固定される。気液筒体３０は、保持板体２と一体に形成される。
気液筒体３０は、保持板体の板中心線ｃの方向Ｃ（以下、「板中心線方向Ｃ」という）において、保持板体２の裏板面２Ｂから突出して配置される。
気液筒体３０は、保持板体の板中心線ｃの方向Ｃ（以下、「板中心線方向Ｃ」という）において、保持板体２の裏板面２Ｂから突出して配置される。
【0028】
閉塞筒体３１は、例えば、円筒状に形成される。閉塞筒体３１は、図１２、図１３、図１４（ａ）及び図１５に示すように、一方の筒端３１Ａ（一方の閉塞筒端）が閉塞板３５にて閉塞（閉鎖）されて、気液筒体３０に外嵌して配置される。閉塞筒体３１は、他方の筒端３１Ｂ（筒開口端）から気液筒体３０に外嵌して固定され、気液筒体３０は、一方の筒端３０Ａ（一方の気液筒端）から閉塞筒体３１内に圧入される。
閉塞筒体３１は、閉塞板３５の裏板面３５Ｂを気液筒体３０の一方の筒端３０Ａに当接して、気液筒体３０の一方の筒端３０Ａを閉塞（閉鎖）する。
これにより、気液筒体３０（流体混合器３）は、両筒端３０Ａ，３０Ｂが保持板体２（裏板面２Ｂ）、及び閉塞筒体３１の閉塞板３５（裏板面３５Ｂ）にて閉塞（閉鎖）されて、内部に流体混合室Ｍを形成（区画）する。
閉塞筒体３１は、閉塞板３５の裏板面３５Ｂを気液筒体３０の一方の筒端３０Ａに当接して、気液筒体３０の一方の筒端３０Ａを閉塞（閉鎖）する。
これにより、気液筒体３０（流体混合器３）は、両筒端３０Ａ，３０Ｂが保持板体２（裏板面２Ｂ）、及び閉塞筒体３１の閉塞板３５（裏板面３５Ｂ）にて閉塞（閉鎖）されて、内部に流体混合室Ｍを形成（区画）する。
【0029】
管案内筒体３２は、例えば、円筒状に形成される。管案内筒体３２は、図１２、図１４（ａ）及び図１５に示すように、閉塞筒体３１（気液筒体３０）と同心に配置される。管案内筒体３２は、一方の筒端３２Ａ（一方の案内筒端）を閉塞筒体３１の閉塞板３５の表板面３５Ａに当接して、閉塞板３５に固定される。管案内筒体３２は、閉塞筒体３１（閉塞板３５）と一体に形成される。
管案内筒体３２は、閉塞筒体３１の閉塞板３５の表板面３５Ａから突出して配置される。
管案内筒体３２は、閉塞筒体３１の閉塞板３５の表板面３５Ａから突出して配置される。
【0030】
液体噴出穴３３（気体絞り穴、気体ノズル穴、気体オリフィス穴）は、図１３、図１４（ａ）及び図１５に示すように、気液筒体３０の筒中心線ｄに位置して、気液筒体３０（管案内筒体３２）と同心に配置されて、閉塞筒体３１の閉塞板３５に形成される。液体噴出穴３３は、気液筒体３０の筒中心線ｄの方向Ｄ（以下、「筒中心線方向Ｄ」という）において、気液筒体３０の一方の筒端３０Ａ（閉塞板３５）を貫通して、流体混合室Ｍ及び流体容器１内（管案内筒体３２内）に開口される。
【0031】
各気体噴出穴３４（液体絞り穴、液体ノズル穴、液体オリフィス穴）は、図１３、図１４（ａ）及び図１５に示すように、液体噴出穴３３の外周りに配置される。各気体噴出穴３４は、管案内筒体３２（液体噴出穴３３）より外側に位置して、気液筒体３０の筒中心線ｄを中心とする円上に配置される。各気体噴出穴３４は、気液筒体３０の周方向に等間隔（角度：１８０度の間隔）を隔てて配置される。各気体噴出穴３４は、閉塞筒体３１の閉塞板３５に形成される。各気体噴出穴３４は、筒中心線方向Ｄにおいて、気液筒体３０の一方の筒端３０Ａ（閉塞板３５）を貫通して、流体混合室Ｍに開口される。
各気体噴出穴３４は、液体噴出穴３３と平行に配置されて、筒中心線方向Ｄにおいて、気液筒体３０の一方の筒端３０Ａ（閉塞板３５）を貫通する。
なお、液体噴出穴３３、及び複数の気体噴出穴３４は、二流体ノズルを構成し、二流体ノズルは、液体噴出穴３３及び複数の気体噴出穴３４を有して、流体混合器３（閉塞板３５）に配置される。
各気体噴出穴３４は、液体噴出穴３３と平行に配置されて、筒中心線方向Ｄにおいて、気液筒体３０の一方の筒端３０Ａ（閉塞板３５）を貫通する。
なお、液体噴出穴３３、及び複数の気体噴出穴３４は、二流体ノズルを構成し、二流体ノズルは、液体噴出穴３３及び複数の気体噴出穴３４を有して、流体混合器３（閉塞板３５）に配置される。
【0032】
保持板体２、及び流体混合器３は、図４、図５乃至図６、及び図８に示すように、流体容器１内（気体空間Ｒ）に配置される。保持板体２は、表板面２Ａを蓋１１の蓋板２２に向けて、蓋１１の蓋本体２１内に取外自在に挿入される。保持板体２は、図６に示すように、蓋本体２１内において、蓋板２２及び容器本体１０の頭部１４の間に配置されて、蓋１１の蓋板２２に当接される。
保持板体２は、容器本体１０の筒開口端（頭部筒端１４Ａ）の間にシールリング板３６を介在して、蓋本体２１内に収納される。保持板体２は、シールリング板３６を容器本体１０の筒開口端（頭部筒端１４Ａ）に押付けて、容器本体１０内（気液空間ＡＷ）を密封する。
保持板体２は、容器本体１０の筒開口端（頭部筒端１４Ａ）の間にシールリング板３６を介在して、蓋本体２１内に収納される。保持板体２は、シールリング板３６を容器本体１０の筒開口端（頭部筒端１４Ａ）に押付けて、容器本体１０内（気液空間ＡＷ）を密封する。
【0033】
流体混合器３は、図６に示すように、保持板体２の裏板面２Ｂから容器本体１０内に突出して、圧縮気体Ａを貯留した気体空間Ｒに配置される。
流体混合器３において、気液筒体３０は、図４及び図６に示すように、一方の筒端３０Ａを流体容器１（容器本体１０）に貯留した液体Ｗの液面ＷＬに向けて、気体空間Ｒに配置される。気液筒体３０は、筒中心線ｄを液体Ｗの液面ＷＬと直交する方向Ｂ（筒中心線方向Ｂ）に向けて、気体空間Ｒに配置される。
これにより、流体混合器３（気液筒体３０、閉塞筒体３１及び管案内筒体３２）は、流体容器１内（気液空間ＡＷ）において、圧縮気体Ａを貯留した気体空間Ｒ（流体容器１内）に配置される。
流体容器１内（気体空間Ｒ）において、気液筒体３０、閉塞筒体３１及び管案内筒体３２は、保持板体２の裏板面２Ｂから液体Ｗの液面ＷＬと直交する方向Ｂに突出して、気体空間Ｒ内（流体容器１内）に配置される。
流体容器１内（気体空間Ｒ）において、管案内筒体３２の他方の筒端３２Ｂ（他方の案内筒端）は、図４に示すように、気体空間Ｒに開口する。
流体混合器３において、気液筒体３０は、図４及び図６に示すように、一方の筒端３０Ａを流体容器１（容器本体１０）に貯留した液体Ｗの液面ＷＬに向けて、気体空間Ｒに配置される。気液筒体３０は、筒中心線ｄを液体Ｗの液面ＷＬと直交する方向Ｂ（筒中心線方向Ｂ）に向けて、気体空間Ｒに配置される。
これにより、流体混合器３（気液筒体３０、閉塞筒体３１及び管案内筒体３２）は、流体容器１内（気液空間ＡＷ）において、圧縮気体Ａを貯留した気体空間Ｒ（流体容器１内）に配置される。
流体容器１内（気体空間Ｒ）において、気液筒体３０、閉塞筒体３１及び管案内筒体３２は、保持板体２の裏板面２Ｂから液体Ｗの液面ＷＬと直交する方向Ｂに突出して、気体空間Ｒ内（流体容器１内）に配置される。
流体容器１内（気体空間Ｒ）において、管案内筒体３２の他方の筒端３２Ｂ（他方の案内筒端）は、図４に示すように、気体空間Ｒに開口する。
【0034】
液体噴出穴３３は、図４及び図６に示すように、液体Ｗの液面ＷＬと直交する方向Ｂ（筒中心線方向Ｂ）において、気液筒体３０の一方の筒端３１Ａ（閉塞板３５）を貫通して、圧縮気体Ａを貯留した気体空間Ｒ及び流体混合室Ｍに開口される。
【0035】
各気体噴出穴３４は、図４及び図６に示すように、液体Ｗの液面ＷＬと直交する方向Ｂ（筒中心線方向Ｂ）において、気液筒体３０の一方の筒端３０Ａ（閉塞板３５）を貫通して、圧縮気体Ａを貯留した気体空間Ａ（管案内筒体３２内）、及び流体混合室Ｍに開口される。
流体容器１内（気体空間Ｒ）において、液体噴出穴３３、及び各気体噴出穴３４は、相互に平行して配置され、気液筒体３０の一方の筒端３０Ａ（閉塞板３５）を貫通して、流体混合室Ｍ及び気体空間Ｒ（又は管案内筒体３２内）に開口される。
流体容器１内において、各気体噴出穴３４は、気体空間Ｒに貯留した圧縮気体Ａを流体混合室Ｍに噴射し、液体噴出穴３３は、圧縮気体Ａの流体混合室Ｍへの噴射によって、流体容器１に貯留した液体Ｗを流体混合室Ｍに噴射する。
流体容器１内（気体空間Ｒ）において、液体噴出穴３３、及び各気体噴出穴３４は、相互に平行して配置され、気液筒体３０の一方の筒端３０Ａ（閉塞板３５）を貫通して、流体混合室Ｍ及び気体空間Ｒ（又は管案内筒体３２内）に開口される。
流体容器１内において、各気体噴出穴３４は、気体空間Ｒに貯留した圧縮気体Ａを流体混合室Ｍに噴射し、液体噴出穴３３は、圧縮気体Ａの流体混合室Ｍへの噴射によって、流体容器１に貯留した液体Ｗを流体混合室Ｍに噴射する。
【0036】
【0037】
【0038】
バネ保持筒部４３は、例えば、円筒状に形成される。バネ保持筒部４３は、図５及び図１１に示すように、気液筒体３０（流体混合器３）と同心に配置される。バネ保持筒部４３は、蓋１１（蓋板２２）と一体に形成される。バネ保持筒部４３は、図１１に示すように、一方の筒端４３Ａ（一方の保持筒端）を蓋板２２の表板面２２Ａに当接して、蓋板２２に固定される。
バネ保持筒部４３は、蓋板２２の表板面２２Ａから突出して配置され、他方の筒端４３Ｂ（他方の保持筒端）がバネ閉塞板４５にて閉塞（閉鎖）される。バネ保持筒部４３は、内部に第１バネ収納穴４６を形成（区画）する。第１バネ収納穴４６は、バネ保持筒部４３の筒中心線ｅの方向Ｅ（筒中心線方向Ｄ）において、バネ保持筒部４３の一方の筒端４３Ａ及び蓋板２２を貫通して、蓋１１内（蓋本体２１内）に開口される。
バネ保持筒部４３は、蓋板２２の表板面２２Ａから突出して配置され、他方の筒端４３Ｂ（他方の保持筒端）がバネ閉塞板４５にて閉塞（閉鎖）される。バネ保持筒部４３は、内部に第１バネ収納穴４６を形成（区画）する。第１バネ収納穴４６は、バネ保持筒部４３の筒中心線ｅの方向Ｅ（筒中心線方向Ｄ）において、バネ保持筒部４３の一方の筒端４３Ａ及び蓋板２２を貫通して、蓋１１内（蓋本体２１内）に開口される。
【0039】
バネ保持筒部４３は、図５及び図１１に示すように、弁軸穴４７、及び連結ネジ穴４８を有する。
弁軸穴４７は、バネ保持筒部４３の筒中心線ｅの方向Ｅ（以下、「筒中心線方向Ｅ」という）において、バネ閉塞板４５を貫通して、第１バネ収納穴４６に開口される。
連結ネジ穴４８は、バネ保持筒部４３の他方の筒端４３Ｂ側において、バネ閉塞板４５に隣接して配置される。連結ネジ穴４８は、筒中心線方向Ｅと直交する方向において、バネ保持筒部４３を貫通して、第１バネ収納穴４６に開口される。
弁軸穴４７は、バネ保持筒部４３の筒中心線ｅの方向Ｅ（以下、「筒中心線方向Ｅ」という）において、バネ閉塞板４５を貫通して、第１バネ収納穴４６に開口される。
連結ネジ穴４８は、バネ保持筒部４３の他方の筒端４３Ｂ側において、バネ閉塞板４５に隣接して配置される。連結ネジ穴４８は、筒中心線方向Ｅと直交する方向において、バネ保持筒部４３を貫通して、第１バネ収納穴４６に開口される。
【0040】
連結筒部４４は、例えば、円筒状に形成される。連結筒部４４は、図６、図８、図１２、図１３及び図１４（ａ）に示すように、気液筒体３０（バネ保持筒部４３）と同心に配置される。連結筒部４４は、保持板体２と一体に形成される。連結筒部４４は、図１４（ａ）に示すように、一方の筒端４４Ａ（一方の連結筒端）を保持板体２の表板面２Ａに当接して、保持板体２に固定される。
連結筒部４４は、保持板体２の表板面２Ａから突出して配置される。連結筒部４４は、図６及び図８に示すように、蓋１１内（蓋本体２１内）に配置されて、他方の筒端４４Ｂ側からバネ保持筒部４３の第１バネ収納穴４６にシールリングを介在して、気密に挿入される。
連結筒部４４は、内部に第２バネ収納穴４９を形成（区画）する。第２バネ収納穴４９は、連結筒部４４の筒中心線の方向（筒中心線方向Ｄ）において、連結筒部４４の他方の筒端４４Ｂ（他方の連結筒端）を貫通して、バネ保持筒部４３の第１バネ収納穴４６に開口（連通）される。
これにより、バネ保持筒部４３及び連結筒部４４は、図６及び図８に示すように、第１バネ収納穴４６及び第２バネ収納穴４９にてバネ収納空間ＳＰを形成（区画）する。
連結筒部４４は、保持板体２の表板面２Ａから突出して配置される。連結筒部４４は、図６及び図８に示すように、蓋１１内（蓋本体２１内）に配置されて、他方の筒端４４Ｂ側からバネ保持筒部４３の第１バネ収納穴４６にシールリングを介在して、気密に挿入される。
連結筒部４４は、内部に第２バネ収納穴４９を形成（区画）する。第２バネ収納穴４９は、連結筒部４４の筒中心線の方向（筒中心線方向Ｄ）において、連結筒部４４の他方の筒端４４Ｂ（他方の連結筒端）を貫通して、バネ保持筒部４３の第１バネ収納穴４６に開口（連通）される。
これにより、バネ保持筒部４３及び連結筒部４４は、図６及び図８に示すように、第１バネ収納穴４６及び第２バネ収納穴４９にてバネ収納空間ＳＰを形成（区画）する。
【0041】
スプレー軸４１は、例えば、円筒状の軸体に形成される。スプレー軸４１は、図４、図５、図７及び図８に示すように、スプレー軸中心線ｍを気液筒体３０の筒中心線ｄ（流体容器１の筒中心線ｂ）に直交して配置される。スプレー軸４１は、一方の軸端４１Ａをバネ保持筒部４３の連結ネジ穴４８（雌ネジ穴）にシールリングを介在して、気密に挿入される。スプレー軸４１は、一方の軸端４１Ａ側をバネ保持筒部４３の連結ネジ穴４８に螺着して、バネ保持筒部４３（スプレー本体４０、蓋１１）に固定される。
これにより、スプレー軸４１は、気液筒体３０の筒中心線ｄと直交する方向において、バネ保持筒部４３（スプレー本体４０）から突出して延在される。
スプレー軸４１は、図７に示すように、他方の軸端４１Ｂ側に雄ネジ部５１を有し、雄ネジ部５１は、一方の軸端４１Ｂ側において、スプレー軸４１の外周に形成される。
これにより、スプレー軸４１は、気液筒体３０の筒中心線ｄと直交する方向において、バネ保持筒部４３（スプレー本体４０）から突出して延在される。
スプレー軸４１は、図７に示すように、他方の軸端４１Ｂ側に雄ネジ部５１を有し、雄ネジ部５１は、一方の軸端４１Ｂ側において、スプレー軸４１の外周に形成される。
【0042】
スプレー軸４１は、内部に流通穴５２を形成（区画）する。流通穴５２は、図４、図５及び図７に示すように、スプレー軸４１のスプレー軸中心線ｍの方向において、スプレー軸４１を貫通して、各軸端４１Ａ，４１Ｂに開口される。
これにより、スプレー軸４１において、流通穴５２は、スプレー本体４０（バネ保持筒部４３）のバネ収納空間ＳＰ（第１バネ収納穴４６）に開口（連通）される。
これにより、スプレー軸４１において、流通穴５２は、スプレー本体４０（バネ保持筒部４３）のバネ収納空間ＳＰ（第１バネ収納穴４６）に開口（連通）される。
【0043】
流体路４２は、図４、図５、図７及び図８に示すように、スプレー本体４０及びスプレー軸４１（スプレー体４内）に形成される。流体路４２は、図５及び図７に示すように、一方の開口４２Ａが流体混合室Ｍに連通（開口）され、他方に開口端４２Ｂがスプレー軸４１の他方の軸端４１Ｂに開口される。
流体路４２は、図５、図６及び図８に示すように、一方の開口４２Ａ側に流体穴５３を有する。流体穴５３は、連結筒部４４の第２バネ収納穴４９に連続して保持板体２に形成される。流体穴５３は、第２バネ収納穴４９から縮径して保持板体２を貫通して、流体混合室Ｍに開口される。流体穴５３は、図６に示すように、気液筒体３０の筒中心線方向Ｄにおいて、流体混合室Ｍから縮径されて気液筒体３０の他方の筒端３０Ｂ（保持板体２）を貫通し、流体混合室Ｍ及び第２バネ収納穴４９に連通（開口）される。流体路４２は、一方の開口４２Ａが流体穴５３を通して、流体混合室Ｍに連通される。
これにより、スプレー体４において、流体路４２は、流体穴５３、スプレー本体４０のバネ収納空間ＳＰ（第１及び第２バネ収納穴４６，４９）、及びスプレー軸４１の流通穴５２にて形成（区画）される。
流体路４２は、図５、図６及び図８に示すように、一方の開口４２Ａ側に流体穴５３を有する。流体穴５３は、連結筒部４４の第２バネ収納穴４９に連続して保持板体２に形成される。流体穴５３は、第２バネ収納穴４９から縮径して保持板体２を貫通して、流体混合室Ｍに開口される。流体穴５３は、図６に示すように、気液筒体３０の筒中心線方向Ｄにおいて、流体混合室Ｍから縮径されて気液筒体３０の他方の筒端３０Ｂ（保持板体２）を貫通し、流体混合室Ｍ及び第２バネ収納穴４９に連通（開口）される。流体路４２は、一方の開口４２Ａが流体穴５３を通して、流体混合室Ｍに連通される。
これにより、スプレー体４において、流体路４２は、流体穴５３、スプレー本体４０のバネ収納空間ＳＰ（第１及び第２バネ収納穴４６，４９）、及びスプレー軸４１の流通穴５２にて形成（区画）される。
【0044】
噴霧ノズル５（噴射ノズル）は、図１乃至図４、図７、及び図１６乃至図１８に示すように、ノズルキャップ５５に一体に形成される。
ノズルキャップ５５は、図１６及び図１７に示すように、一方の筒端５５Ａ（一方のノズル筒端）を閉塞した円筒状に形成され、ノズル穴５６及びノズル雌ネジ部５７を有する。ノズル穴５６は、ノズルキャップの筒中心線と同心に配置されて、ノズルキャップ５５に形成される。ノズル穴５６は、ノズルキャップ５５の筒中心線の方向に延在して他方の筒端５５Ｂ（他方のノズル筒端）に開口される。ノズル雌ネジ部５７は、ノズルキャップ５５の他方の筒端５５Ｂ側に配置されて、ノズル穴５６の内周面に形成される。ノズル穴５６は、穴直径：ｄＧを有する。
ノズルキャップ５５は、図１６及び図１７に示すように、一方の筒端５５Ａ（一方のノズル筒端）を閉塞した円筒状に形成され、ノズル穴５６及びノズル雌ネジ部５７を有する。ノズル穴５６は、ノズルキャップの筒中心線と同心に配置されて、ノズルキャップ５５に形成される。ノズル穴５６は、ノズルキャップ５５の筒中心線の方向に延在して他方の筒端５５Ｂ（他方のノズル筒端）に開口される。ノズル雌ネジ部５７は、ノズルキャップ５５の他方の筒端５５Ｂ側に配置されて、ノズル穴５６の内周面に形成される。ノズル穴５６は、穴直径：ｄＧを有する。
【0045】
噴霧ノズル５は、図１７（ｂ）に示すように、ノズルキャップ５５の一方の筒端５５Ａ（一方のキャップ筒端）に一体に形成される。噴霧ノズル５は、一方のノズル端５Ａでノズルキャップ５５の一方の筒端５５Ａを閉塞する。
噴霧ノズル５は、図７、及び図１６乃至図１８に示すように、円形突起５８、ノズル絞り穴５９及びミスト絞り穴６０を有する。
噴霧ノズル５は、図７、及び図１６乃至図１８に示すように、円形突起５８、ノズル絞り穴５９及びミスト絞り穴６０を有する。
【0046】
円形突起５８は、図７、図１７及び図１８に示すように、円環状に形成される。円形突起５８は、ノズルキャップ５５と同心に配置されて、噴霧ノズル５に一体に形成される。円形突起５８は、ノズルキャップ５５のノズル穴５６（穴内周面）に環状挿入空間６１を隔てて配置される。円形突起５８は、噴霧ノズル５のノズル中心線ｇの方向において、ノズル穴５６内に突出される。円形突起５８において、ノズル穴５６内に突出する突起端は、噴霧ノズル５の他方のノズル端５Ｂとなる。
【0047】
ノズル絞り穴５９は、図４、図７、図１６（ａ）、図１７及び図１８に示すように、噴霧ノズル５に形成され、ノズル穴５６（円形突起５８）と同心に配置される。ノズル絞り穴５９は、噴霧ノズル５のノズル中心線ｆの方向に延在して、噴霧ノズル５の一方のノズル端５Ａに開口される。
【0048】
ミスト発生器Ｙ（ミスト発生手段）は、図４、図７、図１７及び図１８に示すように、噴霧ノズル５に配置される。
ミスト発生器Ｙは、図７、及び図１７乃至図２０に示すように、ミスト絞り穴６０及びガイド体６２を有する。
ミスト発生器Ｙは、図７、及び図１７乃至図２０に示すように、ミスト絞り穴６０及びガイド体６２を有する。
【0049】
ミスト絞り穴６０は、図４、図７、図１７（ａ）及び図１８に示すように、噴霧ノズル５に形成される。ミスト絞り穴６０は、円形突起５８の突起端であって、噴霧ノズル５の他方のノズル端５Ｂ及びノズル絞り穴５９の間に配置される。ミスト絞り穴６０は、円形突起５８、ノズル絞り穴５９と同心に配置される。
ミスト絞り穴６０は、噴霧ノズル５のノズル中心線ｆの方向において、他方のノズル端５Ｂに開口して、ノズル穴５６（ノズルキャップ５５内）に連通される。
ミスト絞り穴６０は、円形突起５８の筒端であって、他方のノズル端５Ｂ（ノズル穴５６）から縮径して、噴霧ノズル５のノズル中心線ｆの方向に延在される。
ミスト絞り穴６０は、噴霧ノズル５のノズル中心線ｆの方向において、他方のノズル端５Ｂ（ノズル穴５６、流体路４２側）から一方のノズル端５Ａに向けて段々に縮径する円錐穴（円錐台形穴）に形成される。ミスト絞り穴６０は、ノズル絞り穴５９に連通されて、噴霧ノズル５を貫通する。
ミスト絞り穴６０は、図１８に示すように、噴霧ノズル５のノズル中心線ｆの方向に穴長さＭＬを有する。ミスト絞り穴６０は、噴霧ノズル５の他方のノズル端５Ｂに穴直径ｄＭ、一方のノズル端５Ａに穴直径ｄＦを有する（穴直径ｄＭ＞穴直径ｄＦ）。
ミスト絞り穴６０は、噴霧ノズル５のノズル中心線ｆの方向において、他方のノズル端５Ｂに開口して、ノズル穴５６（ノズルキャップ５５内）に連通される。
ミスト絞り穴６０は、円形突起５８の筒端であって、他方のノズル端５Ｂ（ノズル穴５６）から縮径して、噴霧ノズル５のノズル中心線ｆの方向に延在される。
ミスト絞り穴６０は、噴霧ノズル５のノズル中心線ｆの方向において、他方のノズル端５Ｂ（ノズル穴５６、流体路４２側）から一方のノズル端５Ａに向けて段々に縮径する円錐穴（円錐台形穴）に形成される。ミスト絞り穴６０は、ノズル絞り穴５９に連通されて、噴霧ノズル５を貫通する。
ミスト絞り穴６０は、図１８に示すように、噴霧ノズル５のノズル中心線ｆの方向に穴長さＭＬを有する。ミスト絞り穴６０は、噴霧ノズル５の他方のノズル端５Ｂに穴直径ｄＭ、一方のノズル端５Ａに穴直径ｄＦを有する（穴直径ｄＭ＞穴直径ｄＦ）。
【0050】
【0051】
ガイド円板６３は、図１７乃至図２０に示すように、複数（一対）の円形凹部６６，６７、及び複数（４つ）の気液流れ穴６９を有する
各円形凹部６６，６７は、ガイド円板６３の板中心線ｇと同心に配置されて、ガイド円板６３に形成される。
円形凹部６６は、図２０（ｂ）に示すように、ガイド円板６３の表板面６３Ａ（表板平面）からガイド円板６３の板中心線ｇの方向に凹んで、ガイド円板６３の表板面６３Ａに開口する。円形凹部６７は、図２０（ｂ）に示すように、ガイド円板６３の裏板面６３Ｂ（裏板平面）からガイド円板６３の板中心線ｇの方向に凹んで、ガイド円板６３の裏板面６３Ｂに開口する。
各円形凹部６６，６７は、ガイド円板６３の板中心線ｇと同心に配置されて、ガイド円板６３に形成される。
円形凹部６６は、図２０（ｂ）に示すように、ガイド円板６３の表板面６３Ａ（表板平面）からガイド円板６３の板中心線ｇの方向に凹んで、ガイド円板６３の表板面６３Ａに開口する。円形凹部６７は、図２０（ｂ）に示すように、ガイド円板６３の裏板面６３Ｂ（裏板平面）からガイド円板６３の板中心線ｇの方向に凹んで、ガイド円板６３の裏板面６３Ｂに開口する。
【0052】
各気液流れ穴６９は、図１７乃至図２０に示すように、円形凹部６６，６７内に配置されて、ガイド円板６３に形成される。各気液流れ穴６９は、ガイド円板６３の周方向に等間隔を隔てて配置される。各気液流れ穴６９は、ガイド円板６３の板中心線ｇの方向において、ガイド円板６３を貫通して、各円形凹部６６，６７の凹部底面６６Ａ，６７Ａに開口される。
ガイド円板６３は、図２０（ｂ）に示すように、ミスト絞り穴６０の穴直径ｄＭより大きく、及びノズル穴５６の穴直径ｄＧより小さい外周直径ＤＢに形成される。
ガイド円板６３は、図２０（ｂ）に示すように、ミスト絞り穴６０の穴直径ｄＭより大きく、及びノズル穴５６の穴直径ｄＧより小さい外周直径ＤＢに形成される。
【0053】
ミストガイド６５は、図１９及び図２０に示すように、円錐渦巻き状（円錐螺旋状、又は円錐台形の渦巻き状）に形成される。
ミストガイド６５は、図１９及び図２０に示すように、円錐上面６５Ａ、円錐底面６５Ｂ（円錐底平面）、円錐側面６５Ｃ、及び複数の渦巻き面であって、例えば、第１及び第２渦巻き面７１，７２（螺旋状面）を備える。
ミストガイド６５は、図１９及び図２０に示すように、円錐上面６５Ａ、円錐底面６５Ｂ（円錐底平面）、円錐側面６５Ｃ、及び複数の渦巻き面であって、例えば、第１及び第２渦巻き面７１，７２（螺旋状面）を備える。
【0054】
第１及び第２渦巻き面７１，７２は、図１９及び図２０に示すように、同一渦巻き状に形成される。第１及び第２渦巻き面７１，７２は、ミストガイド６５の円錐側面６５Ｃに交差して円錐底面６５Ｂ及び円錐上面６５Ａの間に配置される。
第１及び第２渦巻き面７１，７２は、ミストガイド６５の円錐中心線Ｌを対称点として点対称に配置される。第２渦巻き面７２は、円錐中心線Ｌを中心として、第１渦巻き面７１の位置から角度：１８０度だけ回転して配置される。
第１及び第２渦巻き面７１，７２は、円錐底面６５Ｂから円錐上面６５Ａに向けて縮径しつつ渦巻き状に形成されて、円錐上面６５Ａまで延在される。
第１及び第２渦巻き面７１，７２は、円錐上面６５Ａにおいて、相互に対向して配置される。
第１及び第２渦巻き面７１，７２は、ミストガイド６５の円錐中心線Ｌを対称点として点対称に配置される。第２渦巻き面７２は、円錐中心線Ｌを中心として、第１渦巻き面７１の位置から角度：１８０度だけ回転して配置される。
第１及び第２渦巻き面７１，７２は、円錐底面６５Ｂから円錐上面６５Ａに向けて縮径しつつ渦巻き状に形成されて、円錐上面６５Ａまで延在される。
第１及び第２渦巻き面７１，７２は、円錐上面６５Ａにおいて、相互に対向して配置される。
【0055】
ミストガイド６５は、図２０（ａ）に示すように、円錐中心線Ｌの方向にガイド高さＧＬを有する。ガイド高さＧＬは、ミスト絞り穴６０の穴長さＭＬより低く（短く）する。
ミストガイド６５は、図１９（ａ）に示すように、円錐底面６５Ｂの最大底幅ＧＨを有する。最大底幅ＧＨは、ミスト絞り穴６０の穴直径ｄＭ、及びガイド円板６３の外周直径ＤＢより幅狭である。
ミストガイド６５は、図１９（ａ）に示すように、円錐底面６５Ｂの最大底幅ＧＨを有する。最大底幅ＧＨは、ミスト絞り穴６０の穴直径ｄＭ、及びガイド円板６３の外周直径ＤＢより幅狭である。
【0056】
ガイド体６２において、ミストガイド６５は、図１９及び図２０に示すように、円錐中心線Ｌをガイド円板６３の板中心線ｇに一致して、ガイド円板６３と同心に配置される。
ミストガイド６５は、図２０（ｂ）に示すように、円錐底面６５Ｂから円形凹部６６内に挿入される。ミストガイド６５は、円錐底面６５Ｂを円形凹部６６の凹部底面６６Ａに当接して、ガイド円板６３に配置（載置）される。ミストガイド６５及びガイド円板６３は、一体に形成される。
これにより、ミストガイド６５は、ガイド円板６３の板中心線ｇ（円錐中心線Ｌ）の方向において、円錐上面６５Ａを円形凹部６６（ガイド円板６３の一方の表板面６３Ａ）から突出して配置される。ミストガイド６５は、各気液流れ穴６９を塞ぐことなく、ガイド円板６３の円形凹部６６上（凹部底面６６Ａ上）に配置される。
各気液流れ穴６９は、ミストガイド６５の外周りに配置されて、ガイド円板６３を貫通する。
ミストガイド６５は、図２０（ｂ）に示すように、円錐底面６５Ｂから円形凹部６６内に挿入される。ミストガイド６５は、円錐底面６５Ｂを円形凹部６６の凹部底面６６Ａに当接して、ガイド円板６３に配置（載置）される。ミストガイド６５及びガイド円板６３は、一体に形成される。
これにより、ミストガイド６５は、ガイド円板６３の板中心線ｇ（円錐中心線Ｌ）の方向において、円錐上面６５Ａを円形凹部６６（ガイド円板６３の一方の表板面６３Ａ）から突出して配置される。ミストガイド６５は、各気液流れ穴６９を塞ぐことなく、ガイド円板６３の円形凹部６６上（凹部底面６６Ａ上）に配置される。
各気液流れ穴６９は、ミストガイド６５の外周りに配置されて、ガイド円板６３を貫通する。
【0057】
ミスト発生器Ｙにおいて、ガイド体６２（ガイド円板６３及びミストガイド６５）は、図１７及び図１８に示すように、噴霧ノズル５内及びノズルキャップ５５内に組込まれる。
ガイド体６２は、ミストガイド６５の円錐上面６５Ａ（ガイド円板６３の表板面６３Ａ）からノズルキャップ５５のノズル穴５６内に挿入される。
ガイド体６２は、円錐中心線Ｌを噴霧ノズル５のノズル中心線ｆに一致して、ミスト絞り穴６０と同心に配置される。ガイド体６２は、図１８に示すように、ガイド円板６３をノズルキャップ５５のノズル穴５６内に挿入し、及び環状挿入空間６１（円形突起５８及びノズル穴５６の穴内周面の間）に配置する。ガイド体６２は、ノズル穴５６内において、ガイド円板６３の円形凹部６６内に円形突起５８（噴霧ノズル５の他方のノズル端５Ｂ）を挿入し、及びガイド円板６３の円形凹部６６の凹部底面６６Ａに他方のノズル端５Ｂを当接して配置される。円形突起５８（円環突起）は、ミストガイド６５（円錐側面６５Ｃ）に隙間δａを隔てて円形凹部６６内に挿入される。
ガイド体６２は、図１８に示すように、ミストガイド６５をミスト絞り穴６０内に挿入して配置される。
各気液流れ穴６９は、ミストガイド６５（円錐側面６５Ｃ）及び円形突起５８の間の隙間δａにおいて、ミスト絞り穴６０及びノズル穴５６に連通される。
ガイド体６２は、ミストガイド６５の円錐上面６５Ａ（ガイド円板６３の表板面６３Ａ）からノズルキャップ５５のノズル穴５６内に挿入される。
ガイド体６２は、円錐中心線Ｌを噴霧ノズル５のノズル中心線ｆに一致して、ミスト絞り穴６０と同心に配置される。ガイド体６２は、図１８に示すように、ガイド円板６３をノズルキャップ５５のノズル穴５６内に挿入し、及び環状挿入空間６１（円形突起５８及びノズル穴５６の穴内周面の間）に配置する。ガイド体６２は、ノズル穴５６内において、ガイド円板６３の円形凹部６６内に円形突起５８（噴霧ノズル５の他方のノズル端５Ｂ）を挿入し、及びガイド円板６３の円形凹部６６の凹部底面６６Ａに他方のノズル端５Ｂを当接して配置される。円形突起５８（円環突起）は、ミストガイド６５（円錐側面６５Ｃ）に隙間δａを隔てて円形凹部６６内に挿入される。
ガイド体６２は、図１８に示すように、ミストガイド６５をミスト絞り穴６０内に挿入して配置される。
各気液流れ穴６９は、ミストガイド６５（円錐側面６５Ｃ）及び円形突起５８の間の隙間δａにおいて、ミスト絞り穴６０及びノズル穴５６に連通される。
【0058】
ミストガイド６５は、図１７（ｂ）及び図１８に示すように、円錐上面６５Ａからミスト絞り穴６０内に挿入される。ミストガイド６５は、円錐中心線Ｌをミスト絞り穴６０の中心線ｆ（噴霧ノズル５のノズル中心線ｆ）に一致して、ミスト絞り穴６０内に配置される。ミストガイド６５は、円錐側面６５Ｃ及びミストシ絞り穴６０の円錐内周面６０Ａの間に隙間を隔てて、円錐上面６５Ａからミスト絞り穴６０内に挿入される。
これにより、ミストガイド６５は、図１７（ｂ）及び図１８に示すように、第１及び第２渦巻き面７１，７２、ミスト絞り穴６０の円錐内周面６０Ａ、及び円錐側面６５Ｃの間に、渦巻き状の第１及び第２ミスト流路α，βを形成して、ミスト絞り穴６０内に装着される。
ミストガイド６５及びミスト絞り穴６０は、第１及び第２渦巻き面７１，７２に沿って渦巻き状（螺旋状）の第１及び第２ミスト流路α，βを形成する。
これにより、ミストガイド６５は、図１７（ｂ）及び図１８に示すように、第１及び第２渦巻き面７１，７２、ミスト絞り穴６０の円錐内周面６０Ａ、及び円錐側面６５Ｃの間に、渦巻き状の第１及び第２ミスト流路α，βを形成して、ミスト絞り穴６０内に装着される。
ミストガイド６５及びミスト絞り穴６０は、第１及び第２渦巻き面７１，７２に沿って渦巻き状（螺旋状）の第１及び第２ミスト流路α，βを形成する。
【0059】
第１及び第２ミスト流路α，βは、図１７（ｂ）及び図１８に示すように、第１及び第２渦巻き面７１，７２、ミスト絞り穴６０の円錐内周面６０Ａ、及びミストガイド６５の円錐側面６５Ｃの間に渦巻き状に形成される。
第１及び第２ミスト流路α，βは、噴霧ノズル５のノズル中心線ｆの方向において、ミストガイド６５の円錐底面６５Ｂ（円形凹部６６の凹部底面６６Ａ）から円錐上面６５Ａに渦巻き状に延在されて、ミスト絞り穴６０内、及び各気液流れ穴６９内に開口される。第１及び第２ミスト流路α，βは、各気液流れ穴６９を通して、ノズル穴５６に連通される。第１及び第２ミスト流路α，βは、噴霧ノズル５のノズル絞り穴５９に連通される。
第１及び第２ミスト流路α，βは、噴霧ノズル５のノズル中心線ｆの方向において、ミストガイド６５の円錐底面６５Ｂ（円形凹部６６の凹部底面６６Ａ）から円錐上面６５Ａに渦巻き状に延在されて、ミスト絞り穴６０内、及び各気液流れ穴６９内に開口される。第１及び第２ミスト流路α，βは、各気液流れ穴６９を通して、ノズル穴５６に連通される。第１及び第２ミスト流路α，βは、噴霧ノズル５のノズル絞り穴５９に連通される。
【0060】
ガイド体６２を組込んだ噴霧ノズル５、及びノズルキャップ５５（以下、「ノズルユニットＮＵ」という）は、図４及び図７に示すように、スプレー体４（スプレー軸４１）に配置される。
ノズルユニットＮＵは、図７に示すように、スプレー軸４１の流体路４２（流通穴５２）の他方の開口端４２Ｂ側において、ノズルキャップ５５をスプレー軸４１に外嵌して、スプレー体４（スプレー軸４１）に取付けられる。ノズルユニットＮＵは、ノズルキャップ５５のノズル雌ネジ部５７にスプレー軸４１の雄ネジ部５１を螺着して、スプレー体４（スプレー軸４１）に気密に固定される。
ガイド体６２は、図７に示すように、ガイド円板６３の裏板面６３Ｂをスプレー軸４１他方の軸端４１Ｂに当接して配置され、噴霧ノズル５の他方のノズル端５Ｂ（円形突起５８）及びスプレー軸４１の他方の軸端４１Ｂで挟持される。
これにより、ノズルユニットＮＵにおいて、噴霧ノズル５（ノズル絞り穴５９）は、ミスト絞り穴６０（第１及び第２ミスト流路α，β）、ガイド円板６３の円形凹部６６及び各気液流れ穴６９を通して、流体路４２（流通穴５２）の他方の開口端４２Ｂに連通される。
ノズルユニットＮＵおいて、ミスト絞り穴６０（ミスト発生器Ｙ）は、図７に示すように、ガイド体６２（ガイド円板６３）の円形凹部６６、各気液流れ穴６９、円形凹部６７を通して、流体路４２に連通される。ミスト絞り穴６０は、流体路４２側から縮径しつつ噴霧ノズル５を貫通する円錐穴（又は、円錐台形穴）に形成される。
ノズルユニットＮＵにおいて、第１及び第２ミスト流路α，βは、図７に示すように、ノズル絞り穴５９側のミスト絞り穴６０内に開口され、ガイド体６２（ガイド円板６３）の円形凹部６６、各気液流れ穴６９及び円形凹部６７を通して、流体路４２（流通穴５２）に連通される。
ノズルユニットＮＵは、図７に示すように、スプレー軸４１の流体路４２（流通穴５２）の他方の開口端４２Ｂ側において、ノズルキャップ５５をスプレー軸４１に外嵌して、スプレー体４（スプレー軸４１）に取付けられる。ノズルユニットＮＵは、ノズルキャップ５５のノズル雌ネジ部５７にスプレー軸４１の雄ネジ部５１を螺着して、スプレー体４（スプレー軸４１）に気密に固定される。
ガイド体６２は、図７に示すように、ガイド円板６３の裏板面６３Ｂをスプレー軸４１他方の軸端４１Ｂに当接して配置され、噴霧ノズル５の他方のノズル端５Ｂ（円形突起５８）及びスプレー軸４１の他方の軸端４１Ｂで挟持される。
これにより、ノズルユニットＮＵにおいて、噴霧ノズル５（ノズル絞り穴５９）は、ミスト絞り穴６０（第１及び第２ミスト流路α，β）、ガイド円板６３の円形凹部６６及び各気液流れ穴６９を通して、流体路４２（流通穴５２）の他方の開口端４２Ｂに連通される。
ノズルユニットＮＵおいて、ミスト絞り穴６０（ミスト発生器Ｙ）は、図７に示すように、ガイド体６２（ガイド円板６３）の円形凹部６６、各気液流れ穴６９、円形凹部６７を通して、流体路４２に連通される。ミスト絞り穴６０は、流体路４２側から縮径しつつ噴霧ノズル５を貫通する円錐穴（又は、円錐台形穴）に形成される。
ノズルユニットＮＵにおいて、第１及び第２ミスト流路α，βは、図７に示すように、ノズル絞り穴５９側のミスト絞り穴６０内に開口され、ガイド体６２（ガイド円板６３）の円形凹部６６、各気液流れ穴６９及び円形凹部６７を通して、流体路４２（流通穴５２）に連通される。
【0061】
開閉弁６は、流体路４２を開閉する。開閉弁６は、図８に示すように、弁座７５、弁本体７６、バネ受け７７及び弁バネ７８を有する。
【0062】
弁座７５は、例えば、合成ゴム等の弾性材（弾性体）で円筒状（円環状板）に形成される。弁座７５は、図８に示すように、流体混合器３の流体混合室Ｍに配置される。弁座７５は、気液筒体３０の筒中心線ｄと同心に配置される。
弁座７５は、流体混合室Ｍ内において、一方の弁座面７５Ａを保持板体２の裏板面２Ｂに（気液筒体３０の他方の筒端３０Ｂ）に当接して、保持板体２に固定される。
弁座７５は、流体混合室Ｍ内において、一方の弁座面７５Ａを保持板体２の裏板面２Ｂに（気液筒体３０の他方の筒端３０Ｂ）に当接して、保持板体２に固定される。
【0063】
弁本体７６は、図８に示すように、弁軸７９及び弁体８０を有し、弁体８０は、弁軸７９の一方の弁軸端７９Ａに一体に形成されて、弁軸７９に固定される。
【0064】
弁本体７６は、図８に示すように、弁収納空間ＳＰ（第１及び第２バネ収納穴４６，４９）、及び流体混合室Ｍに配置される。
弁本体７６は、弁軸７９及び弁体８０を気液筒体３０（流体路４２の流体穴５３）の筒中心線ｄと同心にして配置される。
弁本体７６は、弁軸７９及び弁体８０を気液筒体３０（流体路４２の流体穴５３）の筒中心線ｄと同心にして配置される。
【0065】
弁本体７６において、弁体８０は、図８に示すように、弁座７５及び閉塞板３５の間において、流体混合室Ｍに配置される。弁体８０は、気液筒体３０の筒中心線方向Ｄにおいて、閉塞板３５（裏板面３５Ｂ）に弁間隔を隔てて、流体混合室Ｍに配置される。弁体８０は、気液筒体３０の筒中心線方向Ｄと直交する方向において、気液筒体３０（内周面３０Ｃ）に弁隙間を隔てて、流体混合室Ｍに配置される。
これにより、弁体８０は、気液筒体３０の筒中心線方向Ｄにおいて、弁座７５（他方の弁座面７５Ｂ）に当接し、又は弁座７５から離間して、流体路４２（流体穴５３）を開閉（開弁又は閉弁）する。
これにより、弁体８０は、気液筒体３０の筒中心線方向Ｄにおいて、弁座７５（他方の弁座面７５Ｂ）に当接し、又は弁座７５から離間して、流体路４２（流体穴５３）を開閉（開弁又は閉弁）する。
【0066】
弁本体７６において、弁軸７９は、図８に示すように、流体混合室Ｍ及びバネ収納空間ＳＰに配置される。弁軸７９は、気液筒体３０の筒中心線方向Ｄにおいて、弁体８０から弁座７５、及び流体穴５３を通して、バネ収納空間ＳＰに延在される。弁軸７９は、弁座７５及び流体穴５３に流通隙間を隔てて、弁座７５及び流体穴５３（保持板体２）を貫通する。
弁軸７９は、気液筒体３０の筒中心線方向Ｄにおいて、流体混合室Ｍからバネ収納空間ＳＰ内に延在され、及びスプレー本体４０（バネ保持筒部４３）の弁軸穴４７を気密に貫通して、他方の弁軸端７９Ｂ（他方の弁軸端７９Ｂ側）をスプレー本体４０の外側に配置する。弁軸７９は、バネ保持筒部４３のバネ閉塞板４５に摺動自在として、弁軸穴４７を貫通する。弁軸の他方の弁軸端７９Ｂ側は、バネ収納空間ＳＰからスプレー本体４０（バネ保持筒部４３）の外側に突出される。
弁軸７９は、気液筒体３０の筒中心線方向Ｄにおいて、流体混合室Ｍからバネ収納空間ＳＰ内に延在され、及びスプレー本体４０（バネ保持筒部４３）の弁軸穴４７を気密に貫通して、他方の弁軸端７９Ｂ（他方の弁軸端７９Ｂ側）をスプレー本体４０の外側に配置する。弁軸７９は、バネ保持筒部４３のバネ閉塞板４５に摺動自在として、弁軸穴４７を貫通する。弁軸の他方の弁軸端７９Ｂ側は、バネ収納空間ＳＰからスプレー本体４０（バネ保持筒部４３）の外側に突出される。
【0067】
バネ受け７７は、図８に示すように、弁軸７９の他方の弁軸端７９Ｂ側に配置される。バネ受け７７は、バネ収納空間ＳＰ内に配置される。バネ受け７７は、弁軸７９に外嵌されて、弁軸７９に固定される。
【0068】
弁バネ７８は、図８に示すように、例えば、コイルバネであって、バネ収納空間ＳＰに配置される。弁バネ７８は、バネ収納空間ＳＰの流体混合室Ｍ側の底面ＢＰ、及びバネ受け７７の間に配置されて、弁軸７９に外嵌される。弁バネ７８は、圧縮状態で、底面ＢＰ及びバネ受け７７の間に配置される。
弁バネ７８の一方のバネ端は、バネ収納空間ＳＰの底面ＢＰに当接し、他方のバネ端は、バネ受け７７に当接する。
これより、開閉弁６は、弁バネ７８のバネ力（付勢力）によって、弁体８０を弁座７５に押圧して、流体路４２（流体穴５３）を閉弁する。
弁バネ７８の一方のバネ端は、バネ収納空間ＳＰの底面ＢＰに当接し、他方のバネ端は、バネ受け７７に当接する。
これより、開閉弁６は、弁バネ７８のバネ力（付勢力）によって、弁体８０を弁座７５に押圧して、流体路４２（流体穴５３）を閉弁する。
【0069】
【0070】
回動軸８２は、図１乃至図４、及び図８に示すように、流体容器１（蓋１１）に配置される。回動軸８２は、バネ保持筒部４３（スプレー本体４０）より流体容器１（容器本体１０）の筒中心線ｂ側に配置されて、スプレー本体４０（スプレー軸４１）に並設される。回動軸８２は、図８に示すように、回動軸中心線ｋを流体容器１（容器本体１０）の筒中心線ｂ、及びスプレー軸４１のスプレー軸中心線ｍと直交する方向に向けて、蓋１１に固定される。
【0071】
操作レバー８３は、図１乃至図４、及び図８に示すように、例えば、湾曲した弓状に形成され、一方のレバー端８３Ａを回動軸８２に回動自在に外嵌して、回動軸８２に軸支される。
操作レバー８３は、図３、図４及び図８に示すように、流体容器１の筒中心線方向Ｂにおいて、スプレー本体４０（バネ保持筒部４３から突出する弁軸７９（他方の弁軸端７９Ｂ）の上方に位置して、操作レバー８３の裏面８３Ｄを弁軸７９の他方の弁軸端７９Ｂに当接して配置される。操作レバー８３は、容器本体１０及び蓋１１に間隔を隔てて、ノズルキャップ５５及び流体容器１（容器本体１０及び蓋１１）の間に配置されて、スプレー軸４１の上方から容器本体１０の底部１３に向けて延在される。操作レバー８３において、他方のレバー端８３Ｂは、ノズルキャップ５５及び容器本体１０の間において、胴部１２まで延在されて、胴部１２に対向して配置される。
操作レバー８３は、図３、図４及び図８に示すように、流体容器１の筒中心線方向Ｂにおいて、スプレー本体４０（バネ保持筒部４３から突出する弁軸７９（他方の弁軸端７９Ｂ）の上方に位置して、操作レバー８３の裏面８３Ｄを弁軸７９の他方の弁軸端７９Ｂに当接して配置される。操作レバー８３は、容器本体１０及び蓋１１に間隔を隔てて、ノズルキャップ５５及び流体容器１（容器本体１０及び蓋１１）の間に配置されて、スプレー軸４１の上方から容器本体１０の底部１３に向けて延在される。操作レバー８３において、他方のレバー端８３Ｂは、ノズルキャップ５５及び容器本体１０の間において、胴部１２まで延在されて、胴部１２に対向して配置される。
【0072】
操作レバー８３は、図１、図３及び図４に示すように、操作穴８４を有する。操作穴８４は、ノズルキャップ５５に対向して、操作レバー８３に形成される。操作穴８４は、スプレー軸４１のスプレー軸中心線ｍの方向（筒中心線方向Ｂと直交する方向）において、操作レバー８３を貫通して、操作レバーの表面８３Ｃ及び裏面８３Ｄに開口する。
操作レバー８３は、図１及び図４に示すように、操作穴８４にスプレー軸４１を貫通して、蓋１１に回動自在に軸支される。スプレー軸４１は、気液筒体３０の筒中心線方向Ｄにおいて、操作穴８４に隙間を隔てて、操作穴８４を貫通して配置される。
操作レバー８３は、図１及び図４に示すように、操作穴８４にスプレー軸４１を貫通して、蓋１１に回動自在に軸支される。スプレー軸４１は、気液筒体３０の筒中心線方向Ｄにおいて、操作穴８４に隙間を隔てて、操作穴８４を貫通して配置される。
【0073】
操作レバー８３は、図１及び図４に示すように、開閉弁６が閉弁する位置（以下、「初期位置Ｐ１」という）において、操作穴８４の穴下端８４Ｂ（穴下縁）にスプレー軸４１を当接して配置される。操作レバー８３は、閉弁位置Ｐ１において、蓋１１側から操作穴８４の穴下端８４Ｂをスプレー軸４１に当接する。弁本体７６は、初期位置Ｐ１において、弁バネ７８を圧縮して、弁軸７９の他方の弁軸端７９Ｂを操作レバー８３の裏面８３Ｄに当接する。
【0074】
液管体８は、図４に示すように、液導入管であって、流体容器１内に配置される。液管体８は、一方の管端８Ａが流体容器１（気液空間ＡＷ）に貯留した液体Ｗに浸漬される。液管体８において、一方の管端８Ａは、液体Ｗ中において、流体容器１（容器本体１０）の底部１３に僅かな隙間（隙間）を隔てて、底部１３に近接して配置される。
液管体８は、図８に示すように、他方の管端８Ｂが液体噴出穴３３に連通される。液管体８は、他方の管端８Ｂ側を他方の筒端３２Ｂから管案内筒体３２内に圧入して管案内筒体３２に固定され、液体噴出穴３３に連通される。
これにより、液管体８は、液体噴出穴３３を通して、流体混合器３の流体混合室Ｍに連通される。
液管体８は、流体容器１に貯留した液体Ｗを液体噴出穴３３に導入（流入）する。
液管体８は、図８に示すように、他方の管端８Ｂが液体噴出穴３３に連通される。液管体８は、他方の管端８Ｂ側を他方の筒端３２Ｂから管案内筒体３２内に圧入して管案内筒体３２に固定され、液体噴出穴３３に連通される。
これにより、液管体８は、液体噴出穴３３を通して、流体混合器３の流体混合室Ｍに連通される。
液管体８は、流体容器１に貯留した液体Ｗを液体噴出穴３３に導入（流入）する。
【0075】
圧縮気体供給器９は、図４、図２２に示すように、流体容器１内（気液空間ＡＷ）に圧縮気体Ａを供給（導入）する。圧縮気体供給器９は、流体容器１に貯留した液体Ｗ中に、圧縮気体Ａを噴射（噴出）する。
圧縮気体供給器９は、図１乃至図４、図９及び図２４に示すように、流体容器１（容器本体１０内及び蓋１１内）に配置される。圧縮気体供給器９は、流体混合器３及びスプレー体４に並列して配置される。
圧縮気体供給器９は、図１乃至図４、図９及び図２４に示すように、シリンダー体８５、圧縮ピストン体８９、シャフトボス９０、ピストンシャフト９１及び操作ハンドル９２を備える。
圧縮気体供給器９は、図１乃至図４、図９及び図２４に示すように、流体容器１（容器本体１０内及び蓋１１内）に配置される。圧縮気体供給器９は、流体混合器３及びスプレー体４に並列して配置される。
圧縮気体供給器９は、図１乃至図４、図９及び図２４に示すように、シリンダー体８５、圧縮ピストン体８９、シャフトボス９０、ピストンシャフト９１及び操作ハンドル９２を備える。
【0076】
【0077】
シリンダー８６は、図９、図１３及び図１４（ｂ）に示すように、円筒状に形成され、一方のシリンダー筒端８６Ａがシリンダー閉塞板９３で閉塞される。
シリンダー８６は、図９、図１２（ｂ）、図１３及び図１４（ｂ）に示すように、シリンダー穴９４、連絡穴９５、円形突部１０５、弁保持穴９６及び複数（４つ）の気体流出穴９７を有する。
シリンダー８６は、図９、図１２（ｂ）、図１３及び図１４（ｂ）に示すように、シリンダー穴９４、連絡穴９５、円形突部１０５、弁保持穴９６及び複数（４つ）の気体流出穴９７を有する。
【0078】
シリンダー穴９４は、図９、図１３及び図１４（ｂ）に示すように、シリンダー８６の他方のシリンダー筒端８６Ｂに開口して、シリンダー８６の筒中心線ｎの方向において、一方のシリンダー筒端８６Ａ側に延在される。
【0079】
連絡穴９５は、図９、図１３及び図１４（ｂ）に示すように、シリンダー穴９４に連続して、シリンダー８６の一方のシリンダー筒端８６Ａ側に配置される。
連絡穴９５は、シリンダー穴９４から段差部９４Ａを有して縮径されて、シリンダー８６の筒中心線ｎの方向において、一方のシリンダー筒端８６Ａ（シリンダー閉塞板９３）まで延在される。連絡穴９５は、一方の穴端（一方のシリンダー筒端８６Ａ）をシリンダー閉塞板９３で閉塞される。シリンダー閉塞板９３は、裏板面９３Ｂ（裏板面）をシリンダー８６の一方のシリンダー筒端８６Ａに当接して、シリンダー８６を閉塞する。
連絡穴９５は、シリンダー穴９４から段差部９４Ａを有して縮径されて、シリンダー８６の筒中心線ｎの方向において、一方のシリンダー筒端８６Ａ（シリンダー閉塞板９３）まで延在される。連絡穴９５は、一方の穴端（一方のシリンダー筒端８６Ａ）をシリンダー閉塞板９３で閉塞される。シリンダー閉塞板９３は、裏板面９３Ｂ（裏板面）をシリンダー８６の一方のシリンダー筒端８６Ａに当接して、シリンダー８６を閉塞する。
【0080】
円形突部１０５は、図９、図１３、図１４（ｂ）に示すように、逆止弁８８の弁座であって、シリンダー閉塞板９３に形成される。円形突部１０５は、シリンダー８６と同心に配置される。円形突部１０５は、シリンダー８６の筒中心線ｎの方向において、シリンダー閉塞板９３の表板面９３Ａから突出して配置される。
【0081】
弁保持穴９６は、図９、図１２（ｂ）、図１３及び図１４（ｂ）に示すように、シリンダー８６の一方のシリンダー筒端８６Ａ（シリンダー閉塞板９３）に配置される。弁保持穴９６は、穴中心線をシリンダー８６の筒中心線ｎに位置して、シリンダー８６と同心に配置される。弁保持穴９６は、円形突部１０５内において、シリンダー閉塞板９３に形成される。弁保持穴９６は、シリンダー８６のシリダンー筒中心線ｎの方向において、シリンダー８６の一方のシリンダー筒端８６Ａ（シリンダー閉塞板９３）を貫通して、連絡穴９５に開口（連通）される。
【0082】
各気体流出穴９７は、図９、図１２（ｂ）、図１３及び図１４（ｂ）に示すように、シリンダー８６の一方のシリンダー筒端８６Ａ（シリンダー閉塞板９３）に配置される。各気体流出穴９７は、弁保持穴９６の外周りに配置される。各気体流出穴９７は、円形突部１０５内において、シリンダー閉塞板９３に形成される。
各気体流出穴９７は、シリンダー８６の筒中心線ｎを中心とする円上に配置される。各気体流出穴９７は、シリンダー８６の周方向に等間隔（角度：９０度の間隔）を隔てて配置される。各気体流出穴９７は、シリンダー８６のシリンダー筒中心線ｎの方向において、シリンダー８６の一方のシリンダー筒端８６Ａ（シリンダー閉塞板９３）を貫通して、連絡穴９５に開口（連通）される。
各気体流出穴９７は、シリンダー８６の筒中心線ｎを中心とする円上に配置される。各気体流出穴９７は、シリンダー８６の周方向に等間隔（角度：９０度の間隔）を隔てて配置される。各気体流出穴９７は、シリンダー８６のシリンダー筒中心線ｎの方向において、シリンダー８６の一方のシリンダー筒端８６Ａ（シリンダー閉塞板９３）を貫通して、連絡穴９５に開口（連通）される。
【0083】
シリンダー筒蓋８７は、図９に示すように、例えば、円筒状に形成され、一方のシリンダー蓋筒端８７Ａが蓋閉塞板９８で閉塞される。
シリンダー筒蓋８７は、複数（２つ）の気液噴射穴９９を有する。各気液噴射穴９９は、シリンダー筒蓋８７の周方向に等間隔（角度：１８０度の間隔）を隔てて配置される。各気液噴射穴９９は、シリンダー筒蓋８７の筒中心線ｐの方向において、シリンダー筒蓋８７の一方のシリンダー蓋筒端８７Ａ（蓋閉塞板９８）を貫通する。
シリンダー筒蓋８７は、図９に示すように、他方のシリンダー蓋端８７Ｂからシリンダー８６の一方のシリンダー筒端８６Ａ側に外嵌して、シリンダー８６に配置される。シリンダー筒蓋８７は、シリンダー８６の外周（外周面）に螺着されて、シリンダー８６の一方のシリンダー筒端８６Ａ側に固定される。
シリンダー筒蓋８７は、シリンダー８６の一方のシリンダー筒端８６Ａに当接されて、一方のシリンダー蓋筒端８７Ａ（蓋閉塞板９８）及び一方のシリンダー筒端８６Ａ（シリンダー閉塞板９３）の間に気液溜め室Ｓを形成（区画）する。
これにより、各気体流出穴９７は、連絡穴９５及び気液溜め室Ｓに開口（連通）され、各気液噴射穴９９は、気液溜め室Ｓに開口（連通）される。
シリンダー筒蓋８７は、複数（２つ）の気液噴射穴９９を有する。各気液噴射穴９９は、シリンダー筒蓋８７の周方向に等間隔（角度：１８０度の間隔）を隔てて配置される。各気液噴射穴９９は、シリンダー筒蓋８７の筒中心線ｐの方向において、シリンダー筒蓋８７の一方のシリンダー蓋筒端８７Ａ（蓋閉塞板９８）を貫通する。
シリンダー筒蓋８７は、図９に示すように、他方のシリンダー蓋端８７Ｂからシリンダー８６の一方のシリンダー筒端８６Ａ側に外嵌して、シリンダー８６に配置される。シリンダー筒蓋８７は、シリンダー８６の外周（外周面）に螺着されて、シリンダー８６の一方のシリンダー筒端８６Ａ側に固定される。
シリンダー筒蓋８７は、シリンダー８６の一方のシリンダー筒端８６Ａに当接されて、一方のシリンダー蓋筒端８７Ａ（蓋閉塞板９８）及び一方のシリンダー筒端８６Ａ（シリンダー閉塞板９３）の間に気液溜め室Ｓを形成（区画）する。
これにより、各気体流出穴９７は、連絡穴９５及び気液溜め室Ｓに開口（連通）され、各気液噴射穴９９は、気液溜め室Ｓに開口（連通）される。
【0084】
逆止弁８８は、合成ゴム等の弾性材（弾性体）で形成される。逆止弁８８は、図９に示すように、逆止弁体１００、及び逆止弁軸１０１を有する。逆止弁体１００及び逆止弁軸１０１は、一体に形成される。
逆止弁体１００は、例えば、球冠状に形成される。逆止弁軸１０１は、図９に示すように、逆止弁体１００と同心に配置されて、逆止弁体１００に固定される。逆止弁軸１０１は、逆止弁体１００の弁平面１００Ａから逆止弁の弁中心線ｓの方向に突出される。
逆止弁８８は、シリンダー８６の一方のシリンダー筒端８６Ａ（シリンダー閉塞板９３）及びシリンダー筒蓋８７の一方のシリンダー蓋筒端８７Ａ（蓋閉塞板９８）の間の気液溜め室Ｓ内に配置される。
逆止弁８８は、図９に示すように、逆止弁軸１０１を気液溜め室Ｓ内から弁保持穴９６に圧入して、シリンダー８６の一方のシリンダー筒端８６Ａ（シリンダー閉塞板９３）に固定される。
逆止弁８８において、逆止弁体１００は、閉弁の際（閉弁時）、気液溜め室Ｓから弁平面１００Ａを円形突部１０５に押圧（当接）されて、各気体流出穴９７に流出隙間を隔てて各気体流出穴９７を閉じる。
これにより、逆止弁８８は、逆止弁体１００の弁平面１００Ａ、及び円形突部１０５内によって、各気体流出穴９７（シリンダー閉塞板９３）の間に気体導入室ＳＱを形成（区画）する。
逆止弁体１００は、例えば、球冠状に形成される。逆止弁軸１０１は、図９に示すように、逆止弁体１００と同心に配置されて、逆止弁体１００に固定される。逆止弁軸１０１は、逆止弁体１００の弁平面１００Ａから逆止弁の弁中心線ｓの方向に突出される。
逆止弁８８は、シリンダー８６の一方のシリンダー筒端８６Ａ（シリンダー閉塞板９３）及びシリンダー筒蓋８７の一方のシリンダー蓋筒端８７Ａ（蓋閉塞板９８）の間の気液溜め室Ｓ内に配置される。
逆止弁８８は、図９に示すように、逆止弁軸１０１を気液溜め室Ｓ内から弁保持穴９６に圧入して、シリンダー８６の一方のシリンダー筒端８６Ａ（シリンダー閉塞板９３）に固定される。
逆止弁８８において、逆止弁体１００は、閉弁の際（閉弁時）、気液溜め室Ｓから弁平面１００Ａを円形突部１０５に押圧（当接）されて、各気体流出穴９７に流出隙間を隔てて各気体流出穴９７を閉じる。
これにより、逆止弁８８は、逆止弁体１００の弁平面１００Ａ、及び円形突部１０５内によって、各気体流出穴９７（シリンダー閉塞板９３）の間に気体導入室ＳＱを形成（区画）する。
【0085】
シリンダー体８５は、図４、図１２、図１３及び図２４に示すように、シリンダー８６を保持板体２と一体に形成して、保持板体２に保持される。
シリンダー体８５において、シリンダー８６は、筒中心線ｎを、気液筒体３０の筒中心線ｄの方向Ｃに向けて、気液筒体３０と平行に配置される。シリンダー８６は、他方のシリンダー筒端８６Ｂ側を保持板体２に固定して配置される。
シリンダー体８５において、シリンダー８６は、筒中心線ｎを、気液筒体３０の筒中心線ｄの方向Ｃに向けて、気液筒体３０と平行に配置される。シリンダー８６は、他方のシリンダー筒端８６Ｂ側を保持板体２に固定して配置される。
【0086】
シリンダー体８５は、図４、図９及び図２４に示すように、流体容器１内（気液空間ＡＷ）に配置される。シリンダー体８５は、スプレー本体４０（バネ保持筒部４３）の間に弁開閉体７の回動軸８２を配置して、気液筒体３０（流体混合器３）に平行して並設される。
シリンダー体８５は、図４及び図９に示すように、流体容器１内（気液空間ＡＷ）において、シリンダー筒蓋８７を容器本体１０の底部１３に向け配置される。シリンダー体８５は、シリンダー筒蓋８７側（シリンダー８６の一方のシリンダー筒端８６Ａ側）を流体容器１に貯留した液体Ｗ中に浸漬して配置される。シリンダー体８５は、シリンダー筒蓋８７を流体容器１の底部１３に僅かな隙間（隙間）を隔てて、底部１３に近接して配置される。
シリンダー体８５は、図２４に示すように、流体容器1内（気液空間ＡＷ）において、シリンダー８６の他方のシリンダー筒端８６Ｂ側を蓋１１（蓋本体２１）内の挿入し、他方のシリンダー筒端８６Ｂを蓋板２２の裏板面２２Ｂに気密に当接して配置される。
これにより、シリンダー８６の他方のシリンダー筒端８６Ｂは、流体容器１内（気液空間ＡＷ）において、蓋１１の蓋板２２で閉塞される。
各気液噴射穴９９は、図９に示すように、流体容器１内（気液空間ＡＷ）において、容器本体１０に貯留した液体Ｗ中、及び気液溜め室Ｓに開口（連通）される。流体容器１内（気液空間ＡＷ）に貯留した液体Ｗは、各気液噴射穴９９から気液溜め室Ｓに流入する。
逆止弁８８において、逆止弁体１００は、気液溜め室Ｓに流入した液体Ｗ（水圧）によって、円形突部１０５に押圧される。
シリンダー体８５は、図４及び図９に示すように、流体容器１内（気液空間ＡＷ）において、シリンダー筒蓋８７を容器本体１０の底部１３に向け配置される。シリンダー体８５は、シリンダー筒蓋８７側（シリンダー８６の一方のシリンダー筒端８６Ａ側）を流体容器１に貯留した液体Ｗ中に浸漬して配置される。シリンダー体８５は、シリンダー筒蓋８７を流体容器１の底部１３に僅かな隙間（隙間）を隔てて、底部１３に近接して配置される。
シリンダー体８５は、図２４に示すように、流体容器1内（気液空間ＡＷ）において、シリンダー８６の他方のシリンダー筒端８６Ｂ側を蓋１１（蓋本体２１）内の挿入し、他方のシリンダー筒端８６Ｂを蓋板２２の裏板面２２Ｂに気密に当接して配置される。
これにより、シリンダー８６の他方のシリンダー筒端８６Ｂは、流体容器１内（気液空間ＡＷ）において、蓋１１の蓋板２２で閉塞される。
各気液噴射穴９９は、図９に示すように、流体容器１内（気液空間ＡＷ）において、容器本体１０に貯留した液体Ｗ中、及び気液溜め室Ｓに開口（連通）される。流体容器１内（気液空間ＡＷ）に貯留した液体Ｗは、各気液噴射穴９９から気液溜め室Ｓに流入する。
逆止弁８８において、逆止弁体１００は、気液溜め室Ｓに流入した液体Ｗ（水圧）によって、円形突部１０５に押圧される。
【0087】
【0088】
ピストン本体１１１は、図２１に示すように、ピストン軸１１５、第１ピストン円板１１６、第２ピストン円板１１７、及び複数（４つ）の気体流れ突起１１８を有する。
【0089】
ピストン軸１１５は、図２１に示すように、ピストン穴１１９を有する。ピストン穴１１９は、ピストン軸１１５と同心に配置される。ピストン穴１１９は、ピストン軸１１５のピストン軸中心線ｔの方向において、ピストン軸１１５を貫通して、ピストン軸１１５の両方のピストン軸端１１５Ａ，１１５Ｂに開口される。
【0090】
第１ピストン円板１１６は、図２１に示すように、ピストン軸１１５と同心に配置されて、ピストン軸１１５に一体に形成される。第１ピストン円板１１６は、ピストン軸１１５の他方のピストン軸端１１５Ｂ側に配置される。第１ピストン円板１１６は、ピストン軸１１５の外周面１１５Ｃから突出して形成される。
第１ピストン円板１１６は、複数の（２つ）の気体流れ溝１２１を有する。各気体流れ溝１２１は、ピストン軸１１５（第１ピストン円板１１６）の周方向に等間隔（角度：１８０度の間隔）を隔てて配置される。各気体流れ溝１２１は、ピストン軸１１５のピストン軸中心線ｔの方向において、第１ピストン円板１１６を貫通して形成される。各気体流れ溝１２１は、ピストン軸１１５の外周面１１５Ｃから延在して第１ピストン円板１１６の外周面１１６Ａに開口される。
第１ピストン円板１１６は、複数の（２つ）の気体流れ溝１２１を有する。各気体流れ溝１２１は、ピストン軸１１５（第１ピストン円板１１６）の周方向に等間隔（角度：１８０度の間隔）を隔てて配置される。各気体流れ溝１２１は、ピストン軸１１５のピストン軸中心線ｔの方向において、第１ピストン円板１１６を貫通して形成される。各気体流れ溝１２１は、ピストン軸１１５の外周面１１５Ｃから延在して第１ピストン円板１１６の外周面１１６Ａに開口される。
【0091】
第２ピストン円板１１７は、図２１に示すように、ピストン軸１１５のピストン軸中心線ｔの方向において、一方のピストン軸端１１５Ａ側に配置される。第２ピストン円板１１７は、ピストン軸１１５のピストン軸中心線ｔの方向において、第１ピストン円板１１６にリング間隔Ｕを隔てて並列（並設）される。第２ピストン円板１１７は、ピストン軸１１５と同心に配置されて、ピストン軸１１５に一体に形成される。
第２ピストン円板１１７は、ピストン軸１１５の外周面１１５Ｃから突出して形成される。
第２ピストン円板１１７は、ピストン軸１１５の外周面１１５Ｃから突出して形成される。
【0092】
各気体流れ突起１１８は、図２１に示すように、第１及び第２ピストン円板１１６，１１７の間に配置される。各気体流れ突起１１８は、ピストン軸１１５（第１及び第２ピストン円板１１６，１１７）の周方向に等間隔（角度：９０度の間隔）を隔てて配置され、例えば、２つの気体流れ突起１１８は、各気体流れ溝１２１の位置に形成される。
各気体流れ突起１１８は、ピストン軸１１５に一体に形成される。各気体流れ突起１１８は、ピストン軸１１５の外周面１１５Ｃから突出して、第１及び第２ピストン円板１１６，１１７の外周面１１６Ａ，１１７Ａに間隔を隔てて配置される。
各気体流れ突起１１８は、ピストン軸１１５に一体に形成される。各気体流れ突起１１８は、ピストン軸１１５の外周面１１５Ｃから突出して、第１及び第２ピストン円板１１６，１１７の外周面１１６Ａ，１１７Ａに間隔を隔てて配置される。
【0093】
ピストン本体１１１は、図９に示すように、シリンダー８６内（シリンダー穴９４）に配置される。ピストン本体１１１は、ピストン軸１１５の他方のピストン軸端１１５Ｂ（第１ピストン円板１１６）をシリンダー８６の一方のシリンダー筒端８６Ａに向けて、シリンダー８６内に挿入される。ピストン本体１１１は、シリンダー８６のシリンダー穴９４内に配置される。
ピストン本体１１１において、ピストン軸１１５は、シリンダー８６（シリンダー穴９４）のシリンダー筒中心線ｎと同心に配置されて、シリンダー８６のシリンダー筒中心線ｎの方向に延在される。
ピストン本体１１１において、ピストン軸１１５は、シリンダー８６（シリンダー穴９４）のシリンダー筒中心線ｎと同心に配置されて、シリンダー８６のシリンダー筒中心線ｎの方向に延在される。
【0094】
ピストン本体１１１において、第１ピストン円板１１６は、図９に示すように、シリンダー８６のシリンダー穴９４（穴内周面）に隙間Ｔを隔てて配置される。
第２ピストン円板１１７は、シリンダー８６の他方のシリンダー筒端８６Ｂ側において、第１ピストン円板１１６にリング間隔Ｕを隔てて並列される。第２ピストン円板１１７は、シリンダー穴９４（穴内周面）に隙間τを隔てて配置される。
第２ピストン円板１１７は、シリンダー８６の他方のシリンダー筒端８６Ｂ側において、第１ピストン円板１１６にリング間隔Ｕを隔てて並列される。第２ピストン円板１１７は、シリンダー穴９４（穴内周面）に隙間τを隔てて配置される。
【0095】
シールリング１１２は、合成ゴム等の弾性材（弾性体）で形成される。シールリング１１２は、図４及び図９に示すように、シリンダー８６内（シリンダー穴９４）に配置される。シールリング１１２は、第１及び第２ピストン円板１１５，１１６の間に配置される。シールリング１１２は、ピストン軸１１５のピストン軸中心線ｔの方向（シリンダー８６のシリンダー筒中心線ｎの方向）において、第１及び第２ピストン円板１１５，１１６にリング移動間隔Ｖを隔てて、第１及び第２ピストン円板１１５，１１６の間で移動自在に配置される。
シールリング１１２は、リング外周面１１２Ａをシリンダー穴９４（穴内周面）に摺動自在に当接し、及び内周面１１２Ｂを各気体流れ突起１１８に隙間を隔てて、ピストン軸１１５に外嵌される。
これにより、ピストン本体１１１は、シールリング１１２をシリンダー穴９４（穴内周面）に当接しつつ、シリンダー８６内（シリンダー穴９４）に摺動自在に配置される。
シールリング１１２は、リング外周面１１２Ａをシリンダー穴９４（穴内周面）に摺動自在に当接し、及び内周面１１２Ｂを各気体流れ突起１１８に隙間を隔てて、ピストン軸１１５に外嵌される。
これにより、ピストン本体１１１は、シールリング１１２をシリンダー穴９４（穴内周面）に当接しつつ、シリンダー８６内（シリンダー穴９４）に摺動自在に配置される。
【0096】
シャフトボス９０は、図２、図４、図６、図１２及び図２４に示すように、蓋１１に配置される。シャフトボス９０は、図４及び図２４に示すように、スプレー本体４０（バネ保持筒部４３）の間に弁開閉体７の回動軸８２を位置して、スプレー本体４０に並列して配置される。
シャフトボス９０は、蓋１１の蓋板２２に一体に形成される。シャフトボス９０は、シリンダー８６と同心に配置される。
シャフトボス９０は、シリンダー８６のシリンダー筒中心線ｎの方向において、蓋板２２の表板面２２Ａから突出して配置される。
シャフトボス９０は、図６及び図２４に示すように、シャフト穴１２２を有する。シャフト穴１２２は、シャフトボス９０に形成される。シャフト穴１２２は、穴中心線をシリンダー８６のシリンダー筒中心線ｎと同心に配置される。シャフト穴１２２は、シリンダー筒中心線ｎの方向において、シャフトボス９０を貫通して、シリンダー８６の他方のシリンダー筒端８６Ｂからシリンダー穴９４内に開口（連通）される。
シャフトボス９０は、蓋１１の蓋板２２に一体に形成される。シャフトボス９０は、シリンダー８６と同心に配置される。
シャフトボス９０は、シリンダー８６のシリンダー筒中心線ｎの方向において、蓋板２２の表板面２２Ａから突出して配置される。
シャフトボス９０は、図６及び図２４に示すように、シャフト穴１２２を有する。シャフト穴１２２は、シャフトボス９０に形成される。シャフト穴１２２は、穴中心線をシリンダー８６のシリンダー筒中心線ｎと同心に配置される。シャフト穴１２２は、シリンダー筒中心線ｎの方向において、シャフトボス９０を貫通して、シリンダー８６の他方のシリンダー筒端８６Ｂからシリンダー穴９４内に開口（連通）される。
【0097】
ピストンシャフト９１は、図４、図９及び図２４に示すように、シリンダー８６内（シリンダー穴９４内）において、ピストン本体１１１及び他方のシリンダー筒端８６Ｂの間に配置される。ピストンシャフト９１は、一方のシャフト軸端９１Ａ側に雄ネジ部１２３を有する。
ピストンシャフト９１において、他方のシャフト軸端９１Ｂ側は、図９に示すように、ピストン軸１１５のピストン穴１１９を気密に貫通して、ピストン本体１１１に固定される。
ピストンシャフト９１は、シリンダー８６のシリンダー筒中心線ｎの方向において、シャフトボス９０側に延在される。ピストンシャフト９１は、図４及び図２４に示すように、シャフトボス９０のシャフト穴１２２を貫通（挿通）して、シリンダー８６（流体容器１）の外側（外部）に一方のシャフト軸端９１Ａを配置する。ピストンシャフト９１の一方のシャフト軸端９１Ａは、シャフトボス９０（シャフト穴１２２）に僅かな隙間（隙間）を隔てて、シャフト穴１２２を貫通して、蓋１１（蓋板２２）の外側（外部）に配置される。
ピストンシャフト９１において、他方のシャフト軸端９１Ｂ側は、図９に示すように、ピストン軸１１５のピストン穴１１９を気密に貫通して、ピストン本体１１１に固定される。
ピストンシャフト９１は、シリンダー８６のシリンダー筒中心線ｎの方向において、シャフトボス９０側に延在される。ピストンシャフト９１は、図４及び図２４に示すように、シャフトボス９０のシャフト穴１２２を貫通（挿通）して、シリンダー８６（流体容器１）の外側（外部）に一方のシャフト軸端９１Ａを配置する。ピストンシャフト９１の一方のシャフト軸端９１Ａは、シャフトボス９０（シャフト穴１２２）に僅かな隙間（隙間）を隔てて、シャフト穴１２２を貫通して、蓋１１（蓋板２２）の外側（外部）に配置される。
【0098】
操作ハンドル９２は、図１乃至図４、及び図２４に示すように、流体容器１（蓋１１）に配置される。操作ハンドル９２は、シリンダー８６のシリンダー筒中心線ｎの方向において、蓋板２２に間隔を隔てて配置される。操作ハンドル９２は、スプレー本体４０（バネ保持筒部４３）の間に回動軸８２を位置して、スプレー本体４０（バネ保持筒部４３）に並列して配置される。
操作ハンドル９２は、図２４に示すように、ハンドルネジ穴１２４（ネジ穴）を有する。操作ハンドル９２は、ハンドルネジ穴１２４にピストンシャフト９１の雄ネジ部１２３を螺着して、ピストンシャフト９１の一方のシャフト軸端９１Ａ側に取付けられる。
これにより、操作ハンドル９２は、流体容器１（蓋１１）の外側（外部）に配置されて、ピストンシャフト９１に連結される。
操作ハンドル９２は、図２４に示すように、ハンドルネジ穴１２４（ネジ穴）を有する。操作ハンドル９２は、ハンドルネジ穴１２４にピストンシャフト９１の雄ネジ部１２３を螺着して、ピストンシャフト９１の一方のシャフト軸端９１Ａ側に取付けられる。
これにより、操作ハンドル９２は、流体容器１（蓋１１）の外側（外部）に配置されて、ピストンシャフト９１に連結される。
【0099】
次に、ミストスプレーＸにおける微細な液滴（極微細な液滴）の噴射（噴霧）について、図４乃至図６、図８、図９、図２２乃至図２７を参照して説明する。
なお、説明の便宜上、流体容器１は、図４及び図１０に示すように、液体Ｗを液体貯留深さＬＷ（液体貯留量ＶＷ）で貯留している。流体容器１に貯留した液体Ｗは、一方の管端８Ａから液管体８内に流入して、流体容器１に貯留した液体Ｗの液面ＷＬまで液管体８に充填される。
また、開閉弁６は、図４及び図８に示すように、流体路４２を流体混合室Ｍから閉じて閉弁されている。
また、弁開閉体７（操作レバー８３）は、図４に示すように、初期位置Ｐ１に配置される。
更に、圧縮気体供給器９において、ピストン本体１１１は、図４及び図９に示すように、シリンダー穴９４の段差部９４Ａに隣接（近接）した位置に配置され、及び逆止弁８８は、各気体流出穴９７（シリンダー穴９４）を気液溜め室Ｓから閉じて閉弁されている（以下、「圧縮気体導入位置Ｐ５」という）。
なお、説明の便宜上、流体容器１は、図４及び図１０に示すように、液体Ｗを液体貯留深さＬＷ（液体貯留量ＶＷ）で貯留している。流体容器１に貯留した液体Ｗは、一方の管端８Ａから液管体８内に流入して、流体容器１に貯留した液体Ｗの液面ＷＬまで液管体８に充填される。
また、開閉弁６は、図４及び図８に示すように、流体路４２を流体混合室Ｍから閉じて閉弁されている。
また、弁開閉体７（操作レバー８３）は、図４に示すように、初期位置Ｐ１に配置される。
更に、圧縮気体供給器９において、ピストン本体１１１は、図４及び図９に示すように、シリンダー穴９４の段差部９４Ａに隣接（近接）した位置に配置され、及び逆止弁８８は、各気体流出穴９７（シリンダー穴９４）を気液溜め室Ｓから閉じて閉弁されている（以下、「圧縮気体導入位置Ｐ５」という）。
【0100】
圧縮気体供給器９において、先ず、操作ハンドル９２を把持して、ピストンシャフト９１をシリンダー８６内から引き出す方向（図４のＡ方向）に引っ張る。
操作ハンドル９２を引っ張ると、シリンダー８６の一方のシリンダー筒端８６Ａ（シリンダー閉塞板９３）、及びピストン本体１１１（第１ピストン円板１１６）の間に形成（区画）される下側空間Ｋ１（第１空間）は、図２３に示すように、負圧（負圧状態）になる。
操作ハンドル９２を引っ張ると、シリンダー８６の一方のシリンダー筒端８６Ａ（シリンダー閉塞板９３）、及びピストン本体１１１（第１ピストン円板１１６）の間に形成（区画）される下側空間Ｋ１（第１空間）は、図２３に示すように、負圧（負圧状態）になる。
【0101】
下側空間Ｋ１が負圧になると、ピストン本体１１１（第２ピストン円板１１７）、及びシリンダー８６の他方にシリンダー筒端８６Ｂ（蓋板２２）の間に形成（区画）される上側空間Ｋ２（第２空間）の気体ＡＸ（空気）は、上側空間Ｋ２から下側空間Ｋ１に向けて流れて、シールリング１１２に作用する。
シールリング１１２は、図２３に示すように、上側空間Ｋ２から下側空間Ｋ１に向けて流れる気体ＡＸによって、シリンダー８６のシリンダー穴９４（穴内周面）を摺動しつつ第２ピストン円板１１７から第１ピストン円板１１６に移動されて、第１ピストン円板１１６に押圧される。
これにより、上側空間Ｋ２の気体ＡＸ（空気）は、隙間τ（第２ピストン円板１１７及びシリンダー穴９４の間）、シールリング１１２の内周面１１２Ｂ及びピストン軸１１５の外周面１１５Ｃの間の隙間、及び各気体流れ溝１２１を通って、下側空間Ｋ１に流れる。
シールリング１１２は、図２３に示すように、上側空間Ｋ２から下側空間Ｋ１に向けて流れる気体ＡＸによって、シリンダー８６のシリンダー穴９４（穴内周面）を摺動しつつ第２ピストン円板１１７から第１ピストン円板１１６に移動されて、第１ピストン円板１１６に押圧される。
これにより、上側空間Ｋ２の気体ＡＸ（空気）は、隙間τ（第２ピストン円板１１７及びシリンダー穴９４の間）、シールリング１１２の内周面１１２Ｂ及びピストン軸１１５の外周面１１５Ｃの間の隙間、及び各気体流れ溝１２１を通って、下側空間Ｋ１に流れる。
【0102】
操作ハンドル９２を引っ張ると、ピストン本体１１１は、図２２に示すように、蓋板２２に当接する位置（以下、「気体初期位置Ｐ６」という）に配置される。
【0103】
圧縮気体供給器９において、操作ハンドル９２を気体初期位置ＰＳから圧縮気体導入位置Ｐ５に向けて押すと、ピストン本体１１１は、下側空間Ｋ１の容積（体積）を減少しつつ、シリンダー８６の一方のシリンダー筒端８６Ａ（シリンダー閉塞板９３側）に移動される。
これにより、下側空間Ｋ１の気体ＡＸは、圧縮され、及び下側空間Ｋ１は高圧状態となる。
これにより、下側空間Ｋ１の気体ＡＸは、圧縮され、及び下側空間Ｋ１は高圧状態となる。
【0104】
下側空間Ｋ１で圧縮された気体Ａ（圧縮気体）は、図９に示すように、隙間Ｔ（第１ピストン円板１１６及びシリンダー穴９４の間）からシールリング１１２に作用する。
これにより、シールリング１１２は、圧縮気体Ａ（圧縮空気）によって、シリンダー８６（シリンダー穴９４の穴内周面）を摺動しつつ、第１ピストン円板１１６から第２ピストン円板１１７に向けて移動されて、第２ピストン円板１１７に押圧される。
シールリング１１２は、図９に示すように、隙間τ（第２ピストン円板１１７及びシリンダー穴９４の穴内周面の間）を閉塞して、下側空間Ｋ１を上側空間Ｋ２から遮断（閉塞）する。
これにより、シールリング１１２は、圧縮気体Ａ（圧縮空気）によって、シリンダー８６（シリンダー穴９４の穴内周面）を摺動しつつ、第１ピストン円板１１６から第２ピストン円板１１７に向けて移動されて、第２ピストン円板１１７に押圧される。
シールリング１１２は、図９に示すように、隙間τ（第２ピストン円板１１７及びシリンダー穴９４の穴内周面の間）を閉塞して、下側空間Ｋ１を上側空間Ｋ２から遮断（閉塞）する。
【0105】
シリンダー８６において、下側空間Ｋ１の圧縮気体Ａは、図９に示すように、各気体流出穴９７を通って、気体導入室ＳＱ（円形突部１０５内）に流入される。
気体導入室ＳＱに流入した圧縮気体Ａは、逆止弁体１００の弁平面１００Ａ（弁平面１００Ａの略全面）に均一に作用する。
気体導入室ＳＱに流入した圧縮気体Ａは、逆止弁体１００の弁平面１００Ａ（弁平面１００Ａの略全面）に均一に作用する。
【0106】
下側空間Ｋ１（気体導入室ＳＱ）の圧縮気体Ａは、一定圧以上（流体容器１の内圧以上／液体Ｗの水圧以上）になると、逆止弁体１００の弁外周側を弾性変形して、円形突部１０５（弁座）から離間する。
これにより、逆止弁８８は、圧縮気体Ａの作用によって、逆止弁体１００（弁外周側）を弾性変形して、各気体流出穴９７を開いて開弁する。下側空間Ｋ１（連絡穴９５）は、各気体流出穴９７、逆止弁８８を通して、気液溜め室Ｓに連通される。
これにより、逆止弁８８は、圧縮気体Ａの作用によって、逆止弁体１００（弁外周側）を弾性変形して、各気体流出穴９７を開いて開弁する。下側空間Ｋ１（連絡穴９５）は、各気体流出穴９７、逆止弁８８を通して、気液溜め室Ｓに連通される。
【0107】
圧縮気体供給器９において、ピストン本体１１１を気体初期位置Ｐ１から圧縮気体導入位置Ｐ５に向けて移動すると、上側空間Ｋ２には、図２４に示すように、シャフトボス９０のシャフト穴１２２（シャフト穴１２２及びピストンシャフト９１の間の隙間）を通して、外気（空気）が流入（導入）される。
【0108】
各気体流出穴９７を開いて開弁すると、圧縮気体Ａは、図９に示すように、シリンダー８６（連絡穴９５）の上側空間Ｋ１から各気体流出穴９７を通って、気液溜め室Ｓ内に噴射（噴出）される。
【0109】
気液溜め室Ｓに噴射された圧縮気体Ａは、気液溜め室Ｓ内の液体Ｗと共に、各気液噴射穴９９から流体容器１（気液空間ＡＷ）に貯留した液体Ｗ中に噴射される。気液溜め室Ｓの全ての液体Ｗが各気液噴射穴９９から流体容器１に貯留した液体Ｗ中に噴射されると、圧縮気体Ａは、気液溜め室Ｓを通って、各気液噴射穴９９から流体容器１に貯留した液体Ｗ中に噴射される。
各気液噴射穴９９は、圧縮気体Ａの流速を増加しつつ減圧して、流体容器１に貯留した液体Ｗ中に噴射する。
各気液噴射穴９９は、圧縮気体Ａの流速を増加しつつ減圧して、流体容器１に貯留した液体Ｗ中に噴射する。
【0110】
圧縮気体Ａを流体容器１に貯留した液体Ｗ中に噴射すると、圧縮気体Ａ、及び圧縮気体Ａを噴射した領域（底部１３及びシリンダー筒蓋８７の間の領域）の液体Ｗは、衝突して乱流となる。圧縮気体Ａは、乱流（衝突）によって、液体Ｗ中で気泡（例えば、数ミリの気泡）となって、液体Ｗ中に混入、溶け込む。
これにより、流体容器１（気液空間ＡＷ）に貯留した液体Ｗは、溶存気体量（液体Ｗ中の気泡の混入、溶け込み量）が増加される。
これにより、流体容器１（気液空間ＡＷ）に貯留した液体Ｗは、溶存気体量（液体Ｗ中の気泡の混入、溶け込み量）が増加される。
【0111】
圧縮気体Ａは、図４に示すように、流体容器１に貯留した液体Ｗに噴射（噴出）されると、液体Ｗ中で気泡となって、気体空間Ｒ（容器本体１０の他方の筒端１０Ｂ、流体混合器３）に向けて、液体Ｗ中を流れて、気体空間Ｒに貯留（充填）される。
このように、圧縮気体供給器９は、気体初期位置ＰＳ及び圧縮気体導入位置Ｐ５を１回、又は複数回、繰り返すことで、流体容器１に貯留した液体Ｗの溶存気体量を増加しつつ、十分な量（十分な体積）の圧縮気体Ａを流体容器１の気体空間Ｒに貯留（充填）する。
このように、圧縮気体供給器９は、気体初期位置ＰＳ及び圧縮気体導入位置Ｐ５を１回、又は複数回、繰り返すことで、流体容器１に貯留した液体Ｗの溶存気体量を増加しつつ、十分な量（十分な体積）の圧縮気体Ａを流体容器１の気体空間Ｒに貯留（充填）する。
【0112】
上側空間Ｋ１の圧縮気体Ａを全て流体容器１内に噴射すると、流体容器１に貯留した液体Ｗは、各気液噴射穴９９から気液溜め室Ｓに流入して、逆止弁８８の逆止弁体１００に作用する。これにより、逆止弁８８は、図９に示すように、気液溜め室Ｓの液体Ｗ（液体Ｗの水圧）によって、逆止弁体１００の弁平面１００Ａを円形突部１０５に当接して、各気体流出穴９７を閉弁して、シリンダー８６（シリンダー穴９４、連絡穴９５）を流体容器１内（貯留した液体Ｗ）から遮断（閉塞）する。
これにより、流体容器１に貯留した液体Ｗは、逆止弁８８で各気体流出穴９７を閉弁することで、シリンダー８６内に逆流して、流入しない。
これにより、流体容器１に貯留した液体Ｗは、逆止弁８８で各気体流出穴９７を閉弁することで、シリンダー８６内に逆流して、流入しない。
【0113】
スプレーミストＸにおいて、圧縮気体Ａを流体容器１の気体空間Ｒに貯留（充填）すると、操作レバー８３に人の指を掛けて、操作レバー８３を流体容器１側（胴部１２側）に引いて回動して開操作する（図２５参照）。
操作レバー８３は、図２５に示すように、回動軸８２を中心として、初期位置Ｐ１から一方向に回動（旋回）される。操作レバー８３は、初期位置Ｐ１から弁バネ７８のバネ力（付勢力）に抗して、容器本体１０側に向けて回動（旋回）される。
これにより、弁軸７９（他方の弁軸端７９Ｂ）に当接する操作レバー８３は、開操作によって、弁軸７９（弁体８０）を弁バネ７８のバネ力（付勢力）に抗して、バネ収納空間ＳＰ（スプレー本体４０内）に移動する。
弁本体７６（弁軸７９、弁体８０）は、図２５及び図２６に示すように、操作レバー８３の一方向の回動（開操作）によって、気液筒体３０の筒中心線方向Ｄに移動して、バネ収納空間ＳＰ（スプレー本体４０）に押込まれる。
これにより、弁体８０は、図２５及び図２６に示すように、筒中心線方向Ｄにおいて、弁座７５から離間される。
開閉弁６は、弁体８０を弁座７５から離間することで、流体路４２を開いて開弁する。流体路４２は、開閉弁６の開弁によって、流体穴５３を通して流体混合室Ｍに連通される。
操作レバー８３は、図２５に示すように、回動軸８２を中心として、初期位置Ｐ１から一方向に回動（旋回）される。操作レバー８３は、初期位置Ｐ１から弁バネ７８のバネ力（付勢力）に抗して、容器本体１０側に向けて回動（旋回）される。
これにより、弁軸７９（他方の弁軸端７９Ｂ）に当接する操作レバー８３は、開操作によって、弁軸７９（弁体８０）を弁バネ７８のバネ力（付勢力）に抗して、バネ収納空間ＳＰ（スプレー本体４０内）に移動する。
弁本体７６（弁軸７９、弁体８０）は、図２５及び図２６に示すように、操作レバー８３の一方向の回動（開操作）によって、気液筒体３０の筒中心線方向Ｄに移動して、バネ収納空間ＳＰ（スプレー本体４０）に押込まれる。
これにより、弁体８０は、図２５及び図２６に示すように、筒中心線方向Ｄにおいて、弁座７５から離間される。
開閉弁６は、弁体８０を弁座７５から離間することで、流体路４２を開いて開弁する。流体路４２は、開閉弁６の開弁によって、流体穴５３を通して流体混合室Ｍに連通される。
【0114】
操作レバー８３は、図２５に示すように、一方向の回動によって、操作穴８４の穴上案８４Ａにスプレー軸４１を当接して、一方向の回動（旋回）を停止する。
これにより、弁本体７６の移動が停止されて、弁体８０は、気液筒体３０の筒中心線方向Ｄにおいて、気液筒体３０の一方の筒端３０Ａ（閉塞板３５）に開弁間隔ε（開弁隙間）を隔てて配置される。
このように、弁開閉体７は、操作レバー８３の開操作（一方向の回動）によって、開閉弁６を開弁して、流体路４２を流体混合室Ｍに連通する。
これにより、弁本体７６の移動が停止されて、弁体８０は、気液筒体３０の筒中心線方向Ｄにおいて、気液筒体３０の一方の筒端３０Ａ（閉塞板３５）に開弁間隔ε（開弁隙間）を隔てて配置される。
このように、弁開閉体７は、操作レバー８３の開操作（一方向の回動）によって、開閉弁６を開弁して、流体路４２を流体混合室Ｍに連通する。
【0115】
開閉弁６を開弁して、流体路４２を流体混合室Ｍに連通すると、流体容器１の気体空間Ｒに貯留した圧縮気体Ａは、図２６に示すように、各気体噴出穴３４を通って、気液筒体３０の筒中心線方向Ｄ（液面ＷＬに直交する方向Ｂ）に向けて流体混合室Ｍに噴射（噴出）される。
圧縮気体Ａは、流体混合室Ｒに噴射されると、筒中心線方向Ｄ（液面ＷＬに直交する方向Ｂ）に向けて流体混合室Ｍ、弁体８０及び気液筒体３０の内周面３０Ｃの間の隙間、開弁する開閉弁６（弁体８０と弁座７５の間の隙間）、及び流体路４２の流体穴５３を通って、流体路４２（バネ収納空間ＳＰ）を流れる。
液管体８内の液体Ｗ（流体容器１に貯留した溶存気体量の増加した液体）は、圧縮気体Ａの流体混合室Ｍへの噴射によって、液体噴出穴３３を通って、流体混合室Ｍに噴射（噴出）される。液管体８内の液体Ｗは、圧縮気体Ａの流体混合室Ｍへの噴射に起因して、流体混合室Ｍに噴射される。液管体８内の液体Ｗは、図２６に示すように、流体混合室Ｍに噴射された圧縮気体Ａの流れによって、液管体８を通して液体噴出穴３３（流体混合室Ｍ）に引っ張られて、液管体８及び液体噴出穴３３を通って、各気体噴出穴３４の間において流体混合室Ｍに噴射される。
圧縮気体Ａは、流体混合室Ｒに噴射されると、筒中心線方向Ｄ（液面ＷＬに直交する方向Ｂ）に向けて流体混合室Ｍ、弁体８０及び気液筒体３０の内周面３０Ｃの間の隙間、開弁する開閉弁６（弁体８０と弁座７５の間の隙間）、及び流体路４２の流体穴５３を通って、流体路４２（バネ収納空間ＳＰ）を流れる。
液管体８内の液体Ｗ（流体容器１に貯留した溶存気体量の増加した液体）は、圧縮気体Ａの流体混合室Ｍへの噴射によって、液体噴出穴３３を通って、流体混合室Ｍに噴射（噴出）される。液管体８内の液体Ｗは、圧縮気体Ａの流体混合室Ｍへの噴射に起因して、流体混合室Ｍに噴射される。液管体８内の液体Ｗは、図２６に示すように、流体混合室Ｍに噴射された圧縮気体Ａの流れによって、液管体８を通して液体噴出穴３３（流体混合室Ｍ）に引っ張られて、液管体８及び液体噴出穴３３を通って、各気体噴出穴３４の間において流体混合室Ｍに噴射される。
【0116】
各気体噴出穴３４は、圧縮気体Ａの流速を増加しつつ減圧して、圧縮気体Ａを流体混合室Ｍ内に噴射し、液体噴出穴３３は、液体Ｗの流速を増加しつつ減圧して、液体Ｗを各気体噴出穴３４の間において流体混合室Ｍに噴射する。
これにより、液気噴出室Ｍには、圧縮気体Ａの噴射に続いて、液体Ｗが噴射される。
これにより、液気噴出室Ｍには、圧縮気体Ａの噴射に続いて、液体Ｗが噴射される。
【0117】
圧縮気体Ａは、図２６に示すように、流体混合室Ｍに噴射されると、気液筒体３０の筒中心線方向Ｄ（液面ＷＬに直交する方向Ｂ）に流れると共に、開弁隙間εにおいて、弁体８０に衝突して乱流となる。
液体Ｗは、流体混合室Ｍに噴射されると、圧縮気体Ａ（圧縮気体）の流れ）に向けて流れると共に、開弁隙間εにおいて、弁体８０に衝突して乱流となる。
液体Ｗは、流体混合室Ｍに噴射されると、圧縮気体Ａを巻き込みつつ圧縮気体Ａと衝突し、流体混合室Ｍにおいて、圧縮気体Ａ及び液体Ｗは混合されて、マイクロバブル及びウルトラファンバブルの混入、溶け込んだ微細な液滴ＡＷ（以下、「微細な液滴又は微細なミスト」という）となる。
流体混合室Ｍに噴射される液体Ｗは、溶存気体量が増加されており、流体混合室Ｍにおいて、圧縮気体Ａ及び液体Ｗの衝突（乱流）によって、液体Ｗ中の気泡は、多量のマイクロバブル及びウルトラファインバブルに粉砕（剪断）されて、多量のマイクロバブル及びウルトラファインバブルの混入、溶け込んだ微細な液滴ＡＷ（微細なミスト）となる。
このように、流体混合室Ｍにおいて、圧縮気体Ａ及び溶存気体量の増加した液体Ｗを衝突し、圧縮気体Ａ及び液体Ｗを混合することで、多量のマイクロバブル及びウルトラファインバブルの混入、溶け込んだ微細な液滴（微細なミスト）を生成する。
液体Ｗは、流体混合室Ｍに噴射されると、圧縮気体Ａ（圧縮気体）の流れ）に向けて流れると共に、開弁隙間εにおいて、弁体８０に衝突して乱流となる。
液体Ｗは、流体混合室Ｍに噴射されると、圧縮気体Ａを巻き込みつつ圧縮気体Ａと衝突し、流体混合室Ｍにおいて、圧縮気体Ａ及び液体Ｗは混合されて、マイクロバブル及びウルトラファンバブルの混入、溶け込んだ微細な液滴ＡＷ（以下、「微細な液滴又は微細なミスト」という）となる。
流体混合室Ｍに噴射される液体Ｗは、溶存気体量が増加されており、流体混合室Ｍにおいて、圧縮気体Ａ及び液体Ｗの衝突（乱流）によって、液体Ｗ中の気泡は、多量のマイクロバブル及びウルトラファインバブルに粉砕（剪断）されて、多量のマイクロバブル及びウルトラファインバブルの混入、溶け込んだ微細な液滴ＡＷ（微細なミスト）となる。
このように、流体混合室Ｍにおいて、圧縮気体Ａ及び溶存気体量の増加した液体Ｗを衝突し、圧縮気体Ａ及び液体Ｗを混合することで、多量のマイクロバブル及びウルトラファインバブルの混入、溶け込んだ微細な液滴（微細なミスト）を生成する。
【0118】
微細な液滴ＡＷ（微細なミスト）及び圧縮気体Ａ（気体）は、図２６に示すように、流体混合室Ｍから弁体８０及び弁座７５の間を通って、流体路４２の流体穴５３に流入し、バネ収納室ＳＰ（流体路４２）に噴射（噴出）される。微細な液滴ＡＷ及び圧縮気体Ａ（気体）は、図２５及び図２７に示すように、流体路４２のバネ収納空間ＳＰ（弁軸７９及び第１、第２バネ収納穴４６，４９の間）、及び流通穴５２（スプレー軸４１内）を流れて、ミスト発生器Ｙに流入する。
微細な液滴ＡＷ及び圧縮気体Ａは、図２７に示すように、流体路４２（流通穴５２）からガイド円板６３の各気液流れ穴６９（隙間δａ）を通って、ミスト絞り穴６０に流入する。
微細な液滴ＡＷ及び圧縮気体Ａは、図２７に示すように、流体路４２（流通穴５２）からガイド円板６３の各気液流れ穴６９（隙間δａ）を通って、ミスト絞り穴６０に流入する。
【0119】
ミスト絞り穴６０内に流入した微細な液滴ＡＷ及び圧縮気体Ａは、図２７に示すように、渦巻き状の第１及び第２ミスト流路α，βを流れて、ノズル絞り穴５９側のミスト絞り穴６０内に噴射（噴出）される。
微細な液滴ＡＷ及び圧縮気体Ａ（気体）は、図２７に示すように、渦巻き状の第１及び第２ミスト流路α，βを流れることによって、流速を増加しつつ減圧されて、第１及び第２ミスト流路α，βからノズル絞り穴５９側のミスト絞り穴６０内に噴射される。更に、ミスト絞り穴６０、ノズル絞り穴５９を通って、多量のマイクロバブル及びウルトラファインバブルの混入、溶け込んだ極微細な液滴ＡＺ（以下、「極微細な液滴又は極微細なミスト」という）として、噴霧ノズル５から外側（外部）に噴射（噴霧）される。
これにより、第１及び第２ミスト流路α，βからミスト絞り穴６０に噴射される微細な液滴ＡＷ及び圧縮気体Ａは、高圧で乱流となる。
微細な液滴ＡＷは、ノズル絞り穴５９側のミスト絞り穴６０において、ミスト絞り穴６０に噴射された圧縮気体Ａに衝突して、微細な液滴ＡＷ及び圧縮気体Ａは混合して、極微細な液滴ＡＺ（極微細なミスト）となる。極微細な液滴ＡＺは、微細な液滴ＡＷより粒子の細かい微粒子であって、雲や霧の中のような、ガスに近い極微細の粒子である。
微細な液滴ＡＷ及び圧縮気体Ａ（気体）は、図２７に示すように、渦巻き状の第１及び第２ミスト流路α，βを流れることによって、流速を増加しつつ減圧されて、第１及び第２ミスト流路α，βからノズル絞り穴５９側のミスト絞り穴６０内に噴射される。更に、ミスト絞り穴６０、ノズル絞り穴５９を通って、多量のマイクロバブル及びウルトラファインバブルの混入、溶け込んだ極微細な液滴ＡＺ（以下、「極微細な液滴又は極微細なミスト」という）として、噴霧ノズル５から外側（外部）に噴射（噴霧）される。
これにより、第１及び第２ミスト流路α，βからミスト絞り穴６０に噴射される微細な液滴ＡＷ及び圧縮気体Ａは、高圧で乱流となる。
微細な液滴ＡＷは、ノズル絞り穴５９側のミスト絞り穴６０において、ミスト絞り穴６０に噴射された圧縮気体Ａに衝突して、微細な液滴ＡＷ及び圧縮気体Ａは混合して、極微細な液滴ＡＺ（極微細なミスト）となる。極微細な液滴ＡＺは、微細な液滴ＡＷより粒子の細かい微粒子であって、雲や霧の中のような、ガスに近い極微細の粒子である。
【0120】
ノズル絞り穴５９（ミスト絞り穴６０）から微細な液滴ＡＺが噴射（噴霧）されると、ノズル絞り穴５９（ミスト絞り穴５９）の出口側（微細な液滴ＡＺの噴射した側）で負圧状態となる。
ミスト絞り穴６９（ノズル絞り穴５９）の出口側を負圧状態にすることで、第１及び第２ミスト流路α，βからノズル絞り穴５９側のミスト絞り穴６０に流出された高圧及び乱流の微細な液滴ＡＺは、ミスト絞り穴６０の出口部分を通過する際に、減圧による気泡析出と、噴射の際に巻き込んだ気体が乱流により粉砕（剪断）され、微細な液滴ＡＷより更に、多量のマイクロバブル及びウルトラファインバブルの混入、溶け込んだ極微細な液滴ＡＺ（極微細なミスト）となる。
また、微細な液滴ＡＺは、ミストガイド６５の円錐上面６５Ａにおいて、相互に対向する第１及び第２ミスト流路α，βからノズル絞り穴５９側のミスト絞り穴６０に噴射されて、衝突されて、極微細な液滴ＡＺとなる。
極微細な液滴ＡＺは、図２７に示すように、ミスト絞り穴６０を通って、噴霧ノズル５のノズル絞り穴５９から噴射（噴霧）される。ミスト絞り穴６０は、極微細な液滴ＡＺをノズル絞り穴５９から外側（外部）に噴射（噴霧）する。
ミスト絞り穴６９（ノズル絞り穴５９）の出口側を負圧状態にすることで、第１及び第２ミスト流路α，βからノズル絞り穴５９側のミスト絞り穴６０に流出された高圧及び乱流の微細な液滴ＡＺは、ミスト絞り穴６０の出口部分を通過する際に、減圧による気泡析出と、噴射の際に巻き込んだ気体が乱流により粉砕（剪断）され、微細な液滴ＡＷより更に、多量のマイクロバブル及びウルトラファインバブルの混入、溶け込んだ極微細な液滴ＡＺ（極微細なミスト）となる。
また、微細な液滴ＡＺは、ミストガイド６５の円錐上面６５Ａにおいて、相互に対向する第１及び第２ミスト流路α，βからノズル絞り穴５９側のミスト絞り穴６０に噴射されて、衝突されて、極微細な液滴ＡＺとなる。
極微細な液滴ＡＺは、図２７に示すように、ミスト絞り穴６０を通って、噴霧ノズル５のノズル絞り穴５９から噴射（噴霧）される。ミスト絞り穴６０は、極微細な液滴ＡＺをノズル絞り穴５９から外側（外部）に噴射（噴霧）する。
【0121】
ミストスプレーＸにおいて、操作レバー８３から人の指を離して閉操作すると、弁本体７６は、弁バネ７８のバネ力（付勢力）によって、気液筒体３０の筒中心線方向Ｄに移動されて、弁軸７９の他方の弁軸端７９Ｂ側をバネ収納空間ＳＰ（スプレー本体４０内）から突出する（図４及び図２５参照）。
これにより、開閉弁６は、弁体８０を弁座７５に押圧して、流体路４２（流体穴５３）を閉じて閉弁する。
流体路４２は、開閉弁６の閉弁によって、流体混合室Ｍから遮断（閉塞）される。
これにより、開閉弁６は、弁体８０を弁座７５に押圧して、流体路４２（流体穴５３）を閉じて閉弁する。
流体路４２は、開閉弁６の閉弁によって、流体混合室Ｍから遮断（閉塞）される。
【0122】
操作レバー８３は、図４及び図２５に示すように、バネ収納空間ＳＰ（スプレー本体４０内）から突出する弁軸７９によって、流体容器１側（胴部１２側）から離間しつつ、他方向に回動（旋回）される。操作レバー８３は、他方の回動（旋回）によって、操作穴８４の穴下端８４Ｂにスプレー軸４１を当接して、他方の回動を停止する。
これにより、弁本体７６の移動が停止されて、弁体８０は、一定圧によって、弁座７５に押圧されて、流体路４２を流体混合室Ｍから閉じて閉弁する。
これにより、弁本体７６の移動が停止されて、弁体８０は、一定圧によって、弁座７５に押圧されて、流体路４２を流体混合室Ｍから閉じて閉弁する。
【0123】
ミストスプレーＸでは、ミスト発生器Ｙを備えない構成も採用でき、微細の液滴ＡＷ（微細なミスト）は、噴霧ノズル５（ノズル絞り穴５９）から外側（外部）に噴射（噴霧）される。
【0124】
ミストスプレーＸにおいて、圧縮気体Ａの気体貯留量ＶＡ（液体貯留深さＬＡ）を液体Ｗの液体貯留量ＶＷ（液体貯留深さＬＷ）より多い量とすることで、流体容器１に貯留した液体Ｗの全てを微細な液滴ＡＷ（極微細な液滴ＡＺ）として噴射（噴霧）できる十分な圧縮気体を流体容器１に貯留（充填）できる。
これにより、十分な量の圧縮気体Ａ（圧縮気体Ａの圧力）を使用して、流体容器１に貯留した液体Ｗの全てを微細の液滴ＡＷ（極微細の液滴ＡＺ）として、噴霧ノズル５（ノズル絞り穴５９）から噴霧（噴射）することが可能となる。
また、流体混合室Ｍに噴射する圧縮気体Ａの圧力が低下した際には、圧縮気体供給器９によって、圧縮気体Ａを流体容器１（気体空間Ｒ）に貯留（充填）することで、流体容器１に貯留した液体Ｗの全てを微細の液滴ＡＷ（極微細の液滴ＡＺ）として、噴霧ノズル５（ノズル絞り穴５９）から噴霧（噴射）できる。
これにより、十分な量の圧縮気体Ａ（圧縮気体Ａの圧力）を使用して、流体容器１に貯留した液体Ｗの全てを微細の液滴ＡＷ（極微細の液滴ＡＺ）として、噴霧ノズル５（ノズル絞り穴５９）から噴霧（噴射）することが可能となる。
また、流体混合室Ｍに噴射する圧縮気体Ａの圧力が低下した際には、圧縮気体供給器９によって、圧縮気体Ａを流体容器１（気体空間Ｒ）に貯留（充填）することで、流体容器１に貯留した液体Ｗの全てを微細の液滴ＡＷ（極微細の液滴ＡＺ）として、噴霧ノズル５（ノズル絞り穴５９）から噴霧（噴射）できる。
【産業上の利用可能性】
【0125】
本発明は、微細な液滴を噴射するのに最適である。
【符号の説明】
【0126】
Ｘ ノズルスプレー
Ｙ ミスト発生器
１ 流体容器
３ 流体混合器
４ スプレー体
５ 噴霧ノズル（噴射ノズル）
６ 開閉弁
７ 弁開閉体
８ 液管体
９ 圧縮気体供給器
３３ 液体噴出穴
３４ 気体噴出穴
４２ 流体路
Ｍ 流体混合室
Ｒ 気体空間
Ｗ 液体
Ａ 圧縮気体（圧縮空気）
ＷＬ 液面
Ｙ ミスト発生器
１ 流体容器
３ 流体混合器
４ スプレー体
５ 噴霧ノズル（噴射ノズル）
６ 開閉弁
７ 弁開閉体
８ 液管体
９ 圧縮気体供給器
３３ 液体噴出穴
３４ 気体噴出穴
４２ 流体路
Ｍ 流体混合室
Ｒ 気体空間
Ｗ 液体
Ａ 圧縮気体（圧縮空気）
ＷＬ 液面
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】
【図24】
【図25】
【図26】
【図27】