特許 7037515 水素付加装置及び水素透過膜の消耗度判定方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2022-03-08

(45)【発行日】2022-03-16

(54)【発明の名称】水素付加装置及び水素透過膜の消耗度判定方法

(51)【国際特許分類】

   B01D 61/28 20060101AFI20220309BHJP

   B01D 65/10 20060101ALI20220309BHJP

   B01D 61/02 20060101ALI20220309BHJP

   C02F 1/44 20060101ALI20220309BHJP

   C02F 1/461 20060101ALI20220309BHJP

   C02F 1/68 20060101ALI20220309BHJP

【ＦＩ】

B01D61/28

B01D65/10

B01D61/02

C02F1/44 H

C02F1/461 A

C02F1/68 510A

C02F1/68 510B

C02F1/68 520B

C02F1/68 530L

C02F1/68 530K

C02F1/68 540D

C02F1/68 540E

【請求項の数】 5

(21)【出願番号】P 2019041497

(22)【出願日】2019-03-07

(65)【公開番号】P2020142208

(43)【公開日】2020-09-10

【審査請求日】2020-11-05

(73)【特許権者】

【識別番号】591201686

【氏名又は名称】株式会社日本トリム

(74)【代理人】

【識別番号】100104134

【弁理士】

【氏名又は名称】住友 慎太郎

(74)【代理人】

【識別番号】100156225

【弁理士】

【氏名又は名称】浦 重剛

(74)【代理人】

【識別番号】100168549

【弁理士】

【氏名又は名称】苗村 潤

(74)【代理人】

【識別番号】100200403

【弁理士】

【氏名又は名称】石原 幸信

(72)【発明者】

【氏名】橘 孝士

【審査官】片山 真紀

(56)【参考文献】

【文献】特開２０１４－１６１６０５（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１１－１７７２４２（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１６－０９３７６７（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１８－１１４４５２（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｃ０２Ｆ １／６８

Ｃ０２Ｆ １／４４、４６１、６８

Ｂ０１Ｄ ５３／２２、６１／００－７１／８２

Ｂ０１Ｆ １／００－５／２６

Ａ６１Ｍ １／００－３８

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

水に水素を付加するための装置であって、
溶存水素水を生成する溶存水素水生成部と、
前記溶存水素水が供給される第１室と、
外部から供給された水を、逆浸透膜を用いて浄化して処理水を生成する逆浸透膜処理装置と、
前記処理水を供給される第２室と、
前記第２室で水素付加水を生成するために、前記溶存水素水に溶け込んだ水素分子を前記第１室から前記第２室へと移動させる水素透過膜と、
前記第２室から取り出された前記水素付加水の溶存水素濃度を検出する水素濃度検出部と、
前記溶存水素濃度が予め定められた閾値未満である場合に前記水素透過膜の消耗が進行していると判定する判定部とを備え、
前記溶存水素水生成部は、陽極給電体と陰極給電体とを有し、水を電気分解することにより前記溶存水素水を生成し、前記第１室に供給する電解槽を有し、
前記溶存水素水生成部の前記電解槽と、前記第２室とは、同一の水源である前記逆浸透膜処理装置から前記処理水の供給を受ける、
水素付加装置。

【請求項2】

前記陽極給電体及び前記陰極給電体に印加する電圧を制御する制御部をさらに備え、
前記制御部は、前記溶存水素水の溶存水素濃度が一定となるように、前記電圧を制御する、請求項１に記載の水素付加装置。

【請求項3】

前記溶存水素水には、前記水素分子が飽和状態で溶解している、請求項１又は２に記載の水素付加装置。

【請求項4】

前記溶存水素水生成部と前記第１室との間で、前記溶存水素水を循環させる循環水路をさらに備える、請求項１乃至３のいずれかに記載の水素付加装置。

【請求項5】

溶存水素水が供給される第１室と、原水が供給される第２室と、前記第２室で水素付加水を生成するために、前記溶存水素水に溶け込んだ水素を前記第１室から前記第２室へと移動させる水素透過膜とを備えた水素透過モジュールにおいて、前記水素透過膜の消耗度を判定する方法であって、
前記溶存水素水を、水を電気分解する電解槽を含む溶存水素水生成部により生成するステップと、
前記原水として、外部から供給された水を、逆浸透膜を用いて浄化した処理水を生成するステップと、
前記溶存水素水生成部の前記電解槽と、前記第２室とに、同一の水源である前記逆浸透膜処理装置で生成された前記処理水を供給するステップと、
前記第２室から取り出された前記水素付加水の溶存水素濃度を検出するステップと、
前記溶存水素濃度が予め定められた閾値未満である場合に前記水素透過膜の消耗が進行していると判定するステップと、
を含む、
水素透過膜の消耗度判定方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、水に水素が付加された水素付加水を生成する装置及び水素透過膜の消耗度判定方法に関する。

【背景技術】

【0002】

水に水素を付加する方法として、水素透過膜（ガス透過膜）によって水素ガス流通部と原料水流通部とが区画されたモジュールを用い、水素ガス流通部に加圧した水素ガスを供給して、原料水流通部に供給した原料水に水素を溶解させる技術が知られている（例えば、特許文献１参照）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【文献】特開２００９－１２５６５４号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

上記特許文献１では、電解槽で電気分解により生成した水素ガスが水素ガス流通部に供給される旨開示されている。しかしながら、このような技術では、例えば、電解槽の水位を適切に制御する構成が必要となり、コストアップを招来する。そこで、上記特許文献１に開示されているような技術の他にも、安価に水素付加水を生成する技術が種々検討されている。

【0005】

一方、上記モジュールは、水素透過膜の消耗によって劣化するため、定期的な交換が推奨される。水素透過膜の消耗度は、例えば、上記モジュールの使用時間等によって簡易的に推定可能である。

【0006】

しかしながら、水素透過膜は高価であることから、低廉なランニングコストで水素付加水を生成するためには、水素透過膜の消耗度をより正確に判定する技術の確立が求められている。

【0007】

本発明は、以上のような実状に鑑み案出されたもので、簡素かつ安価な構成で水素透過膜の消耗度を正確に判定できる水素付加装置及び水素透過膜の消耗度判定方法を提供することを主たる目的としている。

【課題を解決するための手段】

【0008】

本発明の第１発明は、水に水素を付加するための水素付加装置であって、溶存水素水が供給される第１室と、原水が供給される第２室と、前記第２室で水素付加水を生成するために、前記溶存水素水に溶け込んだ水素分子を前記第１室から前記第２室へと移動させる水素透過膜と、前記第２室から取り出された前記水素付加水の溶存水素濃度を検出する水素濃度検出部と、少なくとも、前記溶存水素濃度に基づいて、前記水素透過膜の消耗度を判定する判定部とを備える。

【0009】

本発明に係る前記水素付加装置において、前記第１室に供給する前記溶存水素水を生成する溶存水素水生成部をさらに備える、ことが望ましい。

【0010】

本発明に係る前記水素付加装置において、前記溶存水素水生成部は、陽極給電体と陰極給電体とを有し、水を電気分解することにより前記溶存水素水を生成し、前記第１室に供給する電解槽を有し、前記陽極給電体及び前記陰極給電体に印加する電圧を制御する制御部をさらに備え、前記制御部は、前記溶存水素水の溶存水素濃度が一定となるように、前記電圧を制御する、ことが望ましい。

【0011】

本発明に係る前記水素付加装置において、前記溶存水素水には、前記水素分子が飽和状態で溶解している、ことが望ましい。

【0012】

本発明に係る前記水素付加装置において、前記溶存水素水生成部と前記第１室との間で、前記溶存水素水を循環させる循環水路をさらに備える、ことが望ましい。

【0013】

本発明に係る前記水素付加装置において、前記第２室への前記原水の単位時間あたりの供給量を検出する流量検出部をさらに備え、前記判定部は、さらに、前記供給量に基づいて、前記水素透過膜の消耗度を判定する、ことが望ましい。

【0014】

本発明の第２発明は、溶存水素水が供給される第１室と、原水が供給される第２室と、前記第２室で水素付加水を生成するために、前記溶存水素水に溶け込んだ水素を前記第１室から前記第２室へと移動させる水素透過膜とを備えた水素透過モジュールにおいて、前記水素透過膜の消耗度を判定する消耗度判定方法であって、前記第２室から取り出された前記水素付加水の溶存水素濃度を検出するステップと、少なくとも、前記溶存水素濃度に基づいて、前記水素透過膜の消耗度を判定するステップとを含む。

【発明の効果】

【0015】

本第１発明の前記水素付加装置では、前記溶存水素水に溶け込んだ水素が前記水素透過膜を透過して前記第１室から前記第２室へと移動することにより、前記第２室で前記水素付加水が生成される。前記第２室から取り出された前記水素付加水の前記溶存水素濃度は、前記水素透過膜の前記消耗度に依存し、前記水素透過膜が消耗するに従い低くなる。そこで、本第１発明では、前記判定部が、少なくとも、前記水素付加水の前記溶存水素濃度に基づいて、前記水素透過膜の前記消耗度を判定することにより、簡素かつ安価な構成で前記水素透過膜の前記消耗度を正確に判定することが可能となる。

【0016】

本第２発明の前記水素透過膜の前記消耗度判定方法は、前記第２室から取り出された前記水素付加水の前記溶存水素濃度を検出する前記ステップと、少なくとも、前記溶存水素濃度に基づいて、前記水素透過膜の前記消耗度を判定する前記ステップとを含む。従って、簡素かつ安価な構成で前記水素透過膜の前記消耗度を正確に判定することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【0017】

【図1】本発明の実施の一形態である水素付加装置の概略構成を示す図である。

【図2】水素付加装置の主要な構成を示す図である。

【図3】水素付加装置の電気的な構成を示すブロック図である。

【図4】本発明の実施の一形態の消耗度判定方法の処理手順を示すフローチャートである。

【発明を実施するための形態】

【0018】

以下、本発明の実施の一形態が図面に基づき説明される。
図１は、本発明の水素付加装置の一実施形態の概略構成を示している。水素付加装置１は、水に水素を付加するための装置であり、水素が付加された水素付加水は、例えば、透析液調製用水として透析液の調製に用いられる（以下、水素付加水を透析液調製用水と記すこともある）。近年、透析液の調製に水素付加水を用いた血液透析は、患者の酸化ストレス低減に有効であるとして、注目されている。

【0019】

水素付加装置１は、例えば、逆浸透膜処理装置２００の下流側に配置される。水素付加装置１と逆浸透膜処理装置２００とは、統合されて一つの装置として構成されていてもよい。水素付加装置１の下流側には、例えば、透析液調製用水を用いて液状の透析原剤を希釈する透析原剤希釈装置（図示せず）に接続されている。

【0020】

逆浸透膜処理装置２００は、逆浸透膜を用いて外部から供給された水を浄化する。逆浸透膜処理装置２００と、水素付加装置１とは、処理水供給路１０によって接続されている。逆浸透膜処理装置２００によって浄化処理された水（以下、処理水とする）は、処理水供給路１０を通過して水素付加装置１に供給され、透析液調製用の水素付加水を生成するための原水（以下、原水と記す）として用いられる。

【0021】

透析液調製用水の生成に用いられる水素付加装置１は、逆浸透膜処理装置２００から供給された原水に水素を付加して透析液調製用の水素付加水を生成する。水素付加装置１と、上記透析原剤希釈装置とは、水素付加水供給路２０によって接続されている。水素付加装置１によって生成された水素付加水は、水素付加水供給路２０を通過して、上記透析原剤希釈装置に供給され、透析液の調製に用いられる。

【0022】

図２は、水素付加装置１の主要な構成を示している。水素付加装置１は、溶存水素水生成部２と、水素透過膜モジュール３とを含んでいる。

【0023】

溶存水素水生成部２は、溶存水素水を生成し、水素透過膜モジュール３に供給する。溶存水素水とは、水素分子が溶け込んだ水である。本実施形態では、溶存水素水生成部２として電解槽４が適用されている。電解槽４は、水を電気分解することにより、水素分子を発生させ、溶存水素水を生成する。

【0024】

電解槽４は、第１給電体４１が配された第１極室４０ａと第２給電体４２が配された第２極室４０ｂとが隔膜４３によって区分されてなる。

【0025】

第１給電体４１と第２給電体４２とは、極性が異なる。すなわち、第１給電体４１及び第２給電体４２の一方は陽極給電体として適用され、他方は陰極給電体として適用される。本実施形態では、第１給電体４１が陽極給電体として適用され、第２給電体４２が陰極給電体として適用されている。電解室４０の第１極室４０ａ及び第２極室４０ｂの両方に水が供給され、第１給電体４１及び第２給電体４２に直流電圧が印加されることにより、電解室４０内で水の電気分解が生ずる。

【0026】

図３は、水素付加装置１の電気的な構成を示すブロック図である。第１給電体４１及び第２給電体４２の極性及び第１給電体４１及び第２給電体４２に印加される電圧は、制御部９によって制御される。制御部９は、例えば、各種の演算処理、情報処理等を実行するＣＰＵ（Central Processing Unit）及びＣＰＵの動作を司るプログラム及び各種の情報を記憶するメモリ等を有している。制御部９は、第１給電体４１及び第２給電体４２の他、装置各部の制御を司る。

【0027】

第１給電体４１と制御部９との間の電流供給ラインには、電流検出器４４が設けられている。電流検出器４４は、第２給電体４２と制御部９との間の電流供給ラインに設けられていてもよい。電流検出器４４は、第１給電体４１、第２給電体４２に供給する電解電流を検出し、その値に相当する電気信号を制御部９に出力する。

【0028】

制御部９は、例えば、電流検出器４４から出力された電気信号に基づいて、第１給電体４１及び第２給電体４２に印加する直流電圧を制御する。より具体的には、制御部９は、電流検出器４４によって検出される電解電流が予め設定された所望の値となるように、第１給電体４１及び第２給電体４２に印加する直流電圧をフィードバック制御する。例えば、電解電流が過大である場合、制御部９は、上記電圧を減少させ、電解電流が過小である場合、制御部９は、上記電圧を増加させる。これにより、第１給電体４１及び第２給電体４２に供給する電解電流が適切に制御される。

【0029】

図１、２において、電解室４０内で水が電気分解されることにより、水素ガス及び酸素ガスが発生する。例えば、陰極側の第２極室４０ｂでは、水素ガスが発生し、当該水素分子が溶け込んだ溶存水素水が生成され、水素透過膜モジュール３に供給される。なお、このような電気分解を伴って生成された溶存水素水は、「電解水素水」とも称される。一方、陽極側の第１極室４０ａでは、酸素ガスが発生する。

【0030】

隔膜４３には、例えば、スルホン酸基を有するフッ素系樹脂からなる固体高分子膜が適宜用いられている。固体高分子膜は、電気分解により、陽極側の第１極室４０ａで発生したオキソニウムイオンを陰極側の第２極室４０ｂへと移動させて、水素分子の生成原料とする。従って、電気分解の際に水酸化物イオンが発生することなく、電解水素水のｐＨが変化しない。

【0031】

水素透過膜モジュール３は、第１室３１と、第２室３２と、水素透過膜３３とを備える。第１室３１と第２室３２とは、水素透過膜３３によって隔てられている。

【0032】

第１室３１と電解槽４の第２極室４０ｂとは、水素水供給路５０によって接続されている。電解槽４の第２極室４０ｂにて生成された溶存水素水は、水素水供給路５０を通過して、第１室３１に供給される。

【0033】

一方、第２室３２は、処理水供給路１０と接続されている。第２室３２には、逆浸透膜処理装置２００から原水が供給される。

【0034】

水素透過膜３３は、例えば、水素分子を透過する多孔質膜である中空糸膜によって構成されている。第１室３１には、電解槽４にて生成された溶存水素水が次々と供給されるので、第１室３１内の水の溶存水素濃度は、第２室３２内の水の溶存水素濃度よりも大きい。中空糸膜は、液体に溶け込んだ水素を溶存水素濃度が大きい第１室３１から溶存水素濃度が小さい第２室３２へと移動させる。水素透過膜３３は、液体に溶け込んだ水素分子を、高濃度な液体側から低濃度な液体の側に透過させる機能を有する膜であればよく、中空糸膜に限られない。

【0035】

本発明では、水素透過膜３３は、第２室３２で水素付加水を生成するために、第１室３１内の溶存水素水に溶け込んだ水素分子を第１室３１から第２室３２へと移動させる。これにより、水素分子を加圧するための構成等を必要とすることなく、簡素かつ安価な構成で水素付加水を生成することが可能となる。

【0036】

ところで、水素透過膜３３は、使用に伴い消耗する。そして第２室３２から取り出された水素付加水の溶存水素濃度は、水素透過膜３３の消耗度に依存する。より具体的には、水素透過膜３３が新しいとき、第２室３２にて生成される水素付加水の溶存水素濃度は高く、水素透過膜３３が消耗するに従い、上記溶存水素濃度は低下する。そこで、本水素付加装置１では、制御部９が、水素透過膜３３の消耗度を判定する判定部として機能し、水素透過膜３３の消耗度を監視する。なお、制御部９による水素透過膜３３の消耗度の判定は、随時又は定期的に実行される。

【0037】

水素付加水供給路２０には、水素濃度センサー（水素濃度検出部）２１が設けられている。水素濃度センサー２１は、第２室３２から取り出された水素付加水の溶存水素濃度を検出し、対応する電気信号を制御部９に出力する。

【0038】

水素透過膜３３の消耗度は、第２室３２から取り出された水素付加水の溶存水素濃度と相関がある。例えば、水素付加水の溶存水素濃度が予め定められた閾値未満である場合、水素透過膜３３の消耗が進行していると判定できる。上記閾値は複数定められていてもよい。そこで、制御部９は、水素濃度センサー２１から入力された電気信号、すなわち、水素付加水の溶存水素濃度に基づいて、水素透過膜３３の消耗度を判定する。これにより、簡素かつ安価な構成で水素透過膜モジュール３の消耗度を正確に判定することが可能となる。

【0039】

既に述べたように、制御部９は、電流検出器４４によって検出される電解電流が予め設定された所望の値となるように、第１給電体４１及び第２給電体４２に印加する直流電圧をフィードバック制御する。これにより、電解槽４の陰極側の第２極室４０ｂにて生成され、水素透過膜モジュール３の第１室３１に供給される溶存水素水の溶存水素濃度が一定となり、制御部９が、水素透過膜モジュール３の消耗度をより一層正確に判定することが可能となる。

【0040】

水素透過膜モジュール３の第１室３１に供給される溶存水素水は、水素が飽和状態で溶解している、のが望ましい。溶存水素水の上記飽和状態は、例えば、第１給電体４１及び第２給電体４２に印加する直流電圧を高めることにより実現される。従って、電解槽４の制御が容易となり、かつ、制御部９が、水素透過膜モジュール３の消耗度をより一層正確に判定することが可能となる。また、第２室３２にて生成される水素付加水の溶存水素濃度を高めることが可能となる。

【0041】

本水素付加装置１では、制御部９によって判定された水素透過膜３３の消耗度を出力する出力部９１が設けられている。出力部９１は、上記消耗度を音声又は画像等によって出力する。このような出力部９１は、スピーカー装置、ＬＥＤ（発光ダイオード）、液晶ディスプレイ（Liquid Crystal Display）等によって実現可能である。また、出力部９１は、水素付加装置１を管理するコンピューター装置に、水素透過膜３３の消耗度に対応する無線又は有線による信号を出力するように構成されていてもよい。このような出力部９１により、水素付加装置１の管理者は、水素透過膜３３の消耗度を容易に知得できる。

【0042】

図１に示されるように、本実施形態では、電解槽４で電気分解される水は、逆浸透膜処理装置２００にて逆浸透膜処理された処理水が適用される。処理水は、処理水供給路１０及び処理水供給路１０から分岐する処理水供給路１１等を経て、電解槽４に供給される。すなわち、溶存水素水生成部２の電解槽４と水素透過膜モジュール３の第２室３２とは、同一の水源である逆浸透膜処理装置２００から処理水の供給を受ける。このような構成により、水素付加装置１及びその周辺の配管が簡素化される。

【0043】

本実施形態の水素付加装置１では、電解槽４の第２極室４０ｂと第１室３１との間で溶存水素水を循環させる循環水路５をさらに備えている。電解槽４の第２極室４０ｂと第１室３１とを接続する水素水供給路５０は、循環水路５の一部を構成する。

【0044】

電解槽４にて電気分解を継続しながら、循環水路５で溶存水素水を循環させることにより、第１室３１内での溶存水素濃度が高められる。これにより、第１室３１と第２室３２での溶存水素濃度の差が維持されるので、水素付加水の溶存水素濃度を容易に高めることが可能となる。

【0045】

本実施形態の循環水路５には、循環水路５内で溶存水素水を循環させるためのポンプ６及び溶存水素水を蓄えるタンク７が設けられている。ポンプ６は、タンク７と電解槽４との間に配されている。ポンプ６は、上記制御部によって制御され、循環水路５内の溶存水素水を駆動し、循環させる。これにより、電解槽４にて生成された溶存水素水は、速やかに第１室３１に供給され、第１室３１内の水圧が高められる。一方、タンク７に溶存水素水が蓄えられることにより、循環水路５の容量が増大し、循環水路５内の溶存水素濃度の変動が抑制される。

【0046】

第２室３２に原水を供給する前に、予め第１給電体４１及び第２給電体４２に印加する電圧を高めて、電解槽４を運転することにより、循環水路５内の溶存水素濃度を容易に飽和濃度まで高めることができる。これにより、第１室３１と第２室３２での溶存水素濃度の差が大きくなり、水素付加水の溶存水素濃度を容易に高めることが可能となる。

【0047】

タンク７の上部は開放されている。このため、電解槽４にて溶け込めなかった水素分子は、気泡となって循環水路５を移動し、タンク７に流入し、その一部がタンク７の上部から抜け出る。

【0048】

処理水供給路１０には、入水弁１２及び流量計（流量検出部）１３が設けられている。入水弁１２は、例えば、制御部９によって制御された電磁力によって駆動され、処理水供給路１０内を流れる処理水を制限する。流量計１３は、処理水供給路１０内を流れる処理水、すなわち、第２室３２に供給される原水の単位時間あたりの流量（以下、単に流量又は供給量と記す）を検出し、制御部９に出力する。制御部９は、流量計１３から入力された流量に応じて入水弁１２を制御する。これにより、原水として第２室３２に供給される処理水の流量が適正化される。

【0049】

処理水供給路１１には、給水弁１４が設けられている。給水弁１４は、例えば、制御部９によって制御された電磁力によって駆動され、処理水供給路１１内を流れる処理水を制限する。より具体的には、タンク７に電気分解のための水を充填又は補充する際には、給水弁１４が開かれ、その後、水素透過膜モジュール３の第２室３２に原水を供給する際には、給水弁１４が閉じられる。

【0050】

第２室３２から取り出される水素付加水の溶存水素濃度は、第２室３２への原水の供給量にも依存する。例えば、第２室３２への原水の供給量が増加すると、水素付加水の溶存水素濃度は低下する傾向となる。

【0051】

そこで、制御部９は、上記水素濃度センサー２１によって検出された水素付加水の溶存水素濃度に加えて、流量計１３によって検出された原水の供給量に基づいて、水素透過膜３３の消耗度を判定するように構成されている、のが望ましい。これにより、制御部９が、水素透過膜３３の消耗度をより一層正確に判定することが可能となる。

【0052】

電解室４０の第１極室４０ａから上方に延びる排気路１５（図２参照）には、ガス抜き弁１６が設けられている。電気分解によって第１極室４０ａで生成された酸素ガスは、排気路１５及びガス抜き弁１６から排出される。

【0053】

図４は、水素透過膜モジュール３において、水素透過膜３３の消耗度を判定する方法の処理手順を示している。水素透過膜３３の消耗度判定方法は、溶存水素濃度を検出するステップＳ１と、原水の供給量を検出するステップＳ２と、水素透過膜３３の消耗度を判定するステップＳ３と、判定結果を出力するステップＳ４とを含んでいる。

【0054】

ステップＳ１では、第２室３２から取り出された水素付加水の溶存水素濃度が、水素濃度センサー２１によって検出される。ステップＳ２では、第２室３２への原水の供給量が流量計１３によって検出される。ステップＳ１乃至ステップＳ２の順序は、問われない。すなわち、先にステップＳ２が実行され、その後ステップＳ１が実行されてもよい。

【0055】

ステップＳ３では、ステップＳ１で検出された水素付加水の溶存水素濃度及びステップＳ２で検出された原水の供給量に基づいて、制御部９が水素透過膜３３の消耗度を判定する。そして、ステップＳ４では、ステップＳ３の判定結果が、出力部９１によって出力される。

【0056】

本消耗度判定方法によれば、簡素かつ安価な構成で水素透過膜３３の消耗度を正確に判定することが可能となる。

【0057】

以上、本発明の水素付加装置１等が詳細に説明されたが、本発明は上記の具体的な実施形態に限定されることなく種々の態様に変更して実施される。すなわち、水素付加装置１は、少なくとも、溶存水素水が供給される第１室３１と、原水が供給される第２室３２と、第２室３２で水素付加水を生成するために、溶存水素水に溶け込んだ水素を第１室３１から第２室３２へと移動させる水素透過膜３３と、第２室３２から取り出された水素付加水の溶存水素濃度を検出する水素濃度センサー２１と、少なくとも、溶存水素濃度に基づいて、水素透過膜３３の消耗度を判定する制御部９とを備えていればよい。

【0058】

また、図１に示される水素付加装置１において、第１室３１に供給するための溶存水素水を生成する溶存水素水生成部２は、水を電気分解する電解槽４に限られない。例えば、水とマグネシウムとの化学反応等により発生した水素分子を水に溶解させて溶存水素水を生成する装置、又は、水素ガスボンベから供給された水素ガス（水素分子）を水に溶解させて溶存水素水を生成する装置であってもよい。

【0059】

水素付加装置１は、透析液調製用の水素付加水の生成の他、種々の用途に適用可能である。例えば、飲用、料理用又は農業用の水素付加水の生成等にも広く適用可能である。

【0060】

また、消耗度判定方法は、少なくとも、水素透過膜３３の消耗度判定方法は、溶存水素濃度を検出するステップＳ１と、水素透過膜３３の消耗度を判定するステップＳ３とを含んでいればよい。例えば、原水の供給量を検出するステップＳ２が省略されてもよい。この場合、ステップＳ３では、ステップＳ１で検出された水素付加水の溶存水素濃度に基づいて、制御部９が水素透過膜３３の消耗度を判定する。

【符号の説明】

【0061】

１ ：水素付加装置
２ ：溶存水素水生成部
３ ：水素透過膜モジュール
４ ：電解槽
５ ：循環水路
９ ：制御部（判定部）
１３ ：流量計（流量検出部）
２１ ：水素濃度センサー（水素濃度検出部）
３１ ：第１室
３２ ：第２室
３３ ：水素透過膜モジュール
３３ ：水素透過膜
４１ ：第１給電体（陽極給電体）
４２ ：第２給電体（陰極給電体）

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】