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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2022-03-22
(45)【発行日】2022-03-30
(54)【発明の名称】エッチング装置
(51)【国際特許分類】
C23F 1/08 20060101AFI20220323BHJP
【ＦＩ】
C23F1/08 103
【請求項の数】
12
(21)【出願番号】P 2018082386
(22)【出願日】2018-04-23
(65)【公開番号】P2019189900
(43)【公開日】2019-10-31
【審査請求日】2021-02-18
(73)【特許権者】
【識別番号】000222956
【氏名又は名称】東洋熱工業株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100137589
【弁理士】
【氏名又は名称】右田 俊介
(72)【発明者】
【氏名】青木 大輔
(72)【発明者】
【氏名】田所 徹也
(72)【発明者】
【氏名】石野 智明
【審査官】岡田 隆介
(56)【参考文献】
【文献】特開２００２－１８４７４９（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００５－２００６８４（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００６－２４７６１８（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１５－０９３２６５（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｃ２３Ｆ １／０８
Ｂ０５Ｂ １／２６
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
搬送されるシート状のワークの一方の面にエッチング液を供給して前記ワークのエッチングを行うエッチング装置であって、前記ワークを所定の搬送方向に搬送する搬送部と、
前記エッチング液を吐出するエッチング液吐出口と、
を備え、
前記エッチング液吐出口は、前記搬送方向に対して直交する前記ワークの幅方向に長尺なスリット状であり、前記ワークの幅方向における両端間に亘って連続的に延在しており、
前記エッチング液吐出口よりも前記搬送方向の下流側又は上流側における前記エッチング液吐出口の近傍において前記エッチング液吐出口とは独立して配置され、前記ワークの前記一方の面に気体を噴射する気体噴射口を備え、
前記気体噴射口は、前記ワークの幅方向に長尺なスリット状であり、前記ワークの幅方向における両端間に亘って連続的に延在しており、
前記気体噴射口から、前記ワークの前記一方の面に対して直交する第１方向に前記気体を噴射し、
前記エッチング液吐出口からの前記エッチング液の吐出方向である第２方向は、前記第１方向に対して交差する方向であるエッチング装置。
【請求項2】
搬送されるシート状のワークの一方の面にエッチング液を供給して前記ワークのエッチングを行うエッチング装置であって、前記ワークを所定の搬送方向に搬送する搬送部と、
前記エッチング液を吐出するエッチング液吐出口と、
を備え、
前記エッチング液吐出口は、前記搬送方向に対して直交する前記ワークの幅方向に長尺なスリット状であり、前記ワークの幅方向における両端間に亘って連続的に延在しており、
前記エッチング液吐出口よりも前記搬送方向の下流側又は上流側における前記エッチング液吐出口の近傍において前記エッチング液吐出口とは独立して配置され、前記ワークの前記一方の面に気体を噴射する気体噴射口を備え、
前記気体噴射口は、前記ワークの幅方向に長尺なスリット状であり、前記ワークの幅方向における両端間に亘って連続的に延在しており、
当該エッチング装置は、
前記エッチング液吐出口に前記エッチング液を供給するエッチング液供給路と、
前記気体噴射口に気体を供給する気体供給路と、
を更に備え、
前記エッチング液供給路の下流端において前記エッチング液吐出口が開口しており、
前記気体供給路の下流端において前気体噴射口が開口しており、
前記一方の面に対して直交し且つ前記搬送方向に沿う平面で切断した断面において、前記気体供給路の延長線と前記エッチング液供給路の延長線とが、前記ワークの前記一方の面への到達前に交差するエッチング装置。
【請求項3】
搬送されるシート状のワークの一方の面にエッチング液を供給して前記ワークのエッチングを行うエッチング装置であって、前記ワークを所定の搬送方向に搬送する搬送部と、
前記エッチング液を吐出するエッチング液吐出口と、
を備え、
前記エッチング液吐出口は、前記搬送方向に対して直交する前記ワークの幅方向に長尺なスリット状であり、前記ワークの幅方向における両端間に亘って連続的に延在しており、
前記エッチング液吐出口よりも前記搬送方向の下流側又は上流側における前記エッチング液吐出口の近傍において前記エッチング液吐出口とは独立して配置され、前記ワークの前記一方の面に気体を噴射する気体噴射口を備え、
前記気体噴射口は、前記ワークの幅方向に長尺なスリット状であり、前記ワークの幅方向における両端間に亘って連続的に延在しており、
前記気体噴射口に気体を供給する気体供給路を備え、
前記気体供給路の下流端において前気体噴射口が開口しており、
前記気体噴射口の長手方向に対して直交する前記気体噴射口の幅方向において、前記気体供給路の内腔領域の寸法が、下流側に向けて段階的に縮小しているエッチング装置。
【請求項4】
搬送されるシート状のワークの一方の面にエッチング液を供給して前記ワークのエッチングを行うエッチング装置であって、前記ワークを所定の搬送方向に搬送する搬送部と、
前記エッチング液を吐出するエッチング液吐出口と、
を備え、
前記エッチング液吐出口は、前記搬送方向に対して直交する前記ワークの幅方向に長尺なスリット状であり、前記ワークの幅方向における両端間に亘って連続的に延在しており、
前記エッチング液吐出口よりも前記搬送方向の下流側又は上流側における前記エッチング液吐出口の近傍において前記エッチング液吐出口とは独立して配置され、前記ワークの前記一方の面に気体を噴射する気体噴射口を備え、
前記気体噴射口は、前記ワークの幅方向に長尺なスリット状であり、前記ワークの幅方向における両端間に亘って連続的に延在しており、
前記搬送部は、前記一方の面に対する裏面にて前記ワークを面支持する支持面を有し、
前記気体噴射口から前記支持面までの距離と、前記エッチング液吐出口から前記支持面までの距離とが互いに等しいエッチング装置。
【請求項5】
前記気体噴射口と前記エッチング液吐出口とを有する吐出ヘッドを更に備え、前記吐出ヘッドは、前記支持面に対して対向する対向面を有し、
前記対向面の各部と前記支持面との対向間隔が等間隔であり、
前記対向面において前記気体噴射口及び前記エッチング液吐出口が互いに独立して開口している請求項４に記載のエッチング装置。
【請求項6】
前記支持面と前記対向面とがそれぞれ平面状であり、前記支持面と前記対向面とが互いに平行に対向している請求項５に記載のエッチング装置。
【請求項7】
前記搬送部は円筒状のローラであり、前記支持面は前記ローラの周面であり、
前記対向面は前記ローラの前記周面に沿った凹曲面である請求項５に記載のエッチング装置。
【請求項8】
前記気体噴射口から、前記ワークの前記一方の面に対して直交する第１方向に前記気体を噴射する請求項２から７のいずれか一項に記載のエッチング装置。
【請求項9】
搬送されるシート状のワークの一方の面にエッチング液を供給して前記ワークのエッチングを行うエッチング装置であって、前記ワークを所定の搬送方向に搬送する搬送部と、
前記エッチング液を吐出するエッチング液吐出口と、
を備え、
前記エッチング液吐出口は、前記搬送方向に対して直交する前記ワークの幅方向に長尺なスリット状であり、前記ワークの幅方向における両端間に亘って連続的に延在しており、
前記エッチング液吐出口から、前記ワークの前記一方の面に対して直交する方向に前記エッチング液を吐出し、
当該エッチング装置は、前記エッチング液吐出口を有する吐出ヘッドを更に備え、
前記搬送部は、前記一方の面に対する裏面にて前記ワークを面支持する支持面を有し、
前記吐出ヘッドは、前記支持面に対して対向する対向面を有し、
前記支持面と前記対向面とがそれぞれ平面状であり、前記支持面と前記対向面とが互いに平行に対向しており、
前記対向面の各部と前記支持面との対向間隔が等間隔であるエッチング装置。
【請求項10】
前記エッチング液吐出口に前記エッチング液を供給するエッチング液供給路を備え、前記エッチング液供給路の下流端において前記エッチング液吐出口が開口しており、
前記エッチング液吐出口の長手方向に対して直交する前記エッチング液吐出口の幅方向において、前記エッチング液供給路の内腔領域の寸法が、下流側に向けて段階的に縮小している請求項９に記載のエッチング装置。
【請求項11】
前記搬送方向における前記対向面の寸法が、前記対向面と前記支持面との対向間隔よりも大きい請求項５、７又は９のいずれか一項に記載のエッチング装置。
【請求項12】
前記エッチング液吐出口を有する吐出ヘッドと、前記搬送方向において前記吐出ヘッドの上流側の位置に配置され、前記エッチング液吐出口から吐出された前記エッチング液を吸引して回収する第１回収路と、
前記搬送方向において前記吐出ヘッドの下流側の位置に配置され、前記エッチング液吐出口から吐出された前記エッチング液を吸引して回収する第２回収路と、
を備える請求項１から１１のいずれか一項に記載のエッチング装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、エッチング装置に関する。
【背景技術】
【0002】
エッチング対象物（ワーク）にエッチング液を噴射してエッチングを行うエッチング装置としては、スプレーノズルからエッチング液を噴射するタイプのものがある（例えば、特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【文献】特開２０１７－１３３０７８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
スプレーノズルからエッチング液を噴射するタイプのエッチング装置では、特許文献１の図３及び図４に示されるように、スプレーノズルの先端からエッチング対象物に向けて円錐状にエッチング液が広がって噴射される。このため、エッチング対象物において、スプレーノズルの直下の部分（ノズル孔からの距離が相対的に近い部分）ではエッチングが速く進行し、スプレーノズルの直下から遠い部分（ノズル孔からの距離が相対的に遠い部分）ではエッチングが遅く進行する。
つまり、スプレーノズルからエッチング液を噴射するタイプのエッチング装置では、エッチング処理の面内均一性に関し、改善の余地がある。
つまり、スプレーノズルからエッチング液を噴射するタイプのエッチング装置では、エッチング処理の面内均一性に関し、改善の余地がある。
【0005】
本発明は、上記の課題に鑑みなされたものであり、エッチング処理の良好な面内均一性を実現することが可能な構造のエッチング装置を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明によれば、搬送されるシート状のワークの一方の面にエッチング液を供給して前記ワークのエッチングを行うエッチング装置であって、
前記ワークを所定の搬送方向に搬送する搬送部と、
前記エッチング液を吐出するエッチング液吐出口と、
を備え、
前記エッチング液吐出口は、前記搬送方向に対して直交する前記ワークの幅方向に長尺なスリット状であり、前記ワークの幅方向における両端間に亘って連続的に延在しており、
前記エッチング液吐出口よりも前記搬送方向の下流側又は上流側における前記エッチング液吐出口の近傍において前記エッチング液吐出口とは独立して配置され、前記ワークの前記一方の面に気体を噴射する気体噴射口を備え、
前記気体噴射口は、前記ワークの幅方向に長尺なスリット状であり、前記ワークの幅方向における両端間に亘って連続的に延在しており、
前記気体噴射口から、前記ワークの前記一方の面に対して直交する第１方向に前記気体を噴射し、
前記エッチング液吐出口からの前記エッチング液の吐出方向である第２方向は、前記第１方向に対して交差する方向であるエッチング装置が提供される。
前記ワークを所定の搬送方向に搬送する搬送部と、
前記エッチング液を吐出するエッチング液吐出口と、
を備え、
前記エッチング液吐出口は、前記搬送方向に対して直交する前記ワークの幅方向に長尺なスリット状であり、前記ワークの幅方向における両端間に亘って連続的に延在しており、
前記エッチング液吐出口よりも前記搬送方向の下流側又は上流側における前記エッチング液吐出口の近傍において前記エッチング液吐出口とは独立して配置され、前記ワークの前記一方の面に気体を噴射する気体噴射口を備え、
前記気体噴射口は、前記ワークの幅方向に長尺なスリット状であり、前記ワークの幅方向における両端間に亘って連続的に延在しており、
前記気体噴射口から、前記ワークの前記一方の面に対して直交する第１方向に前記気体を噴射し、
前記エッチング液吐出口からの前記エッチング液の吐出方向である第２方向は、前記第１方向に対して交差する方向であるエッチング装置が提供される。
【発明の効果】
【0007】
本発明によれば、エッチング処理の良好な面内均一性を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【0008】
【図1】第１実施形態に係るエッチング装置の側断面図であり、エッチングユニット及びその周辺の構成を示す。
【図5】第１実施形態に係るエッチング装置の全体構成を示す模式図である。
【図6】第２実施形態に係るエッチング装置のエッチングユニットの部分拡大の側断面図である。
【図7】第３実施形態に係るエッチング装置の側断面図であり、エッチングユニット及びその周辺の構成を示す。
【図9】第４実施形態に係るエッチング装置のエッチングユニットの部分拡大の側断面図である。
【図10】第５実施形態に係るエッチング装置のエッチングユニットの部分拡大の側断面図である。
【図11】第６実施形態に係るエッチング装置のエッチングユニットの部分拡大の側断面図である。
【図12】第６実施形態に係るエッチング装置の全体構成を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【0009】
以下、本発明の実施形態について、図面を用いて説明する。なお、すべての図面において、同様の構成要素には同一の符号を付し、適宜に説明を省略する。
【0010】
〔第１実施形態〕
先ず、図１から図５を用いて第１実施形態を説明する。
図１は第１実施形態に係るエッチング装置１００の側断面図であり、エッチングユニット９０及びその周辺の構成を示している。
図２は図１の部分拡大図であり、吐出ヘッド６０の先端部（下端部）及びその周辺の構成を示している。
図３は図２の部分拡大図であり、気体噴射口３３、エッチング液吐出口４３及びそれらの周辺の構成を示している。
図４（ａ）は図３のＡ－Ａ線に沿った断面図であり、図４（ｂ）は図３のＢ－Ｂ線に沿った断面図である。
図５は本実施形態に係るエッチング装置１００の全体構成を示す模式図である。
先ず、図１から図５を用いて第１実施形態を説明する。
図１は第１実施形態に係るエッチング装置１００の側断面図であり、エッチングユニット９０及びその周辺の構成を示している。
図２は図１の部分拡大図であり、吐出ヘッド６０の先端部（下端部）及びその周辺の構成を示している。
図３は図２の部分拡大図であり、気体噴射口３３、エッチング液吐出口４３及びそれらの周辺の構成を示している。
図４（ａ）は図３のＡ－Ａ線に沿った断面図であり、図４（ｂ）は図３のＢ－Ｂ線に沿った断面図である。
図５は本実施形態に係るエッチング装置１００の全体構成を示す模式図である。
【0011】
図１から図３のいずれかに示すように、本実施形態に係るエッチング装置１００は、搬送されるシート状のワーク１０の一方の面１１（図２、図３）にエッチング液を供給してワーク１０のエッチングを行うエッチング装置１００である。
【0012】
ここで、エッチング装置１００がワーク１０に対して行うエッチングは、酸エッチングであってもよいし、アルカリエッチングであってもよい。つまり、エッチング液は、酸性であってもよいし、アルカリ性であってもよい。
ワーク１０は、例えば、シート状の基材と、基材上に形成されている金属膜と、金属膜上に形成されているマスクパターンと、を有する。マスクパターンは、ワーク１０の一方の面１１側に形成されている。この場合のエッチング処理は、例えば、マスクパターンを介して酸性のエッチング液により金属膜をエッチングすることによって基材上に配線パターンを形成する処理である。
また、ワーク１０は、シート状の基材と、基材上に形成されている金属膜と、金属膜上に形成されている露光後のレジスト膜と、を有していてもよい。レジスト膜は、ワーク１０の一方の面１１側に形成されている。この場合のエッチング処理は、例えば、アルカリ性のエッチング液によりレジスト膜をエッチングすることによって金属膜上にマスクパターンを形成する処理（いわゆる現像処理）である。
ワーク１０は、例えば、シート状の基材と、基材上に形成されている金属膜と、金属膜上に形成されているマスクパターンと、を有する。マスクパターンは、ワーク１０の一方の面１１側に形成されている。この場合のエッチング処理は、例えば、マスクパターンを介して酸性のエッチング液により金属膜をエッチングすることによって基材上に配線パターンを形成する処理である。
また、ワーク１０は、シート状の基材と、基材上に形成されている金属膜と、金属膜上に形成されている露光後のレジスト膜と、を有していてもよい。レジスト膜は、ワーク１０の一方の面１１側に形成されている。この場合のエッチング処理は、例えば、アルカリ性のエッチング液によりレジスト膜をエッチングすることによって金属膜上にマスクパターンを形成する処理（いわゆる現像処理）である。
【0013】
本実施形態に係るエッチング装置１００は、ワーク１０を所定の搬送方向（図１から図３における右方向；図３の矢印Ｄ方向）に搬送する搬送部（例えば、ローラ２０、２１及び吸引プレート５１等により構成される）と、エッチング液を吐出するエッチング液吐出口４３と、を備えている。
エッチング液吐出口４３は、搬送方向に対して直交するワーク１０の幅方向（図１から図３の奥行き方向）に長尺なスリット状であり、ワーク１０の幅方向における両端間に亘って連続的に延在している。
エッチング液吐出口４３は、搬送方向に対して直交するワーク１０の幅方向（図１から図３の奥行き方向）に長尺なスリット状であり、ワーク１０の幅方向における両端間に亘って連続的に延在している。
【0014】
本実施形態によれば、ワーク１０の幅方向に長尺なスリット状に形成されていてワーク１０の幅方向における両端間に亘って連続的に延在しているエッチング液吐出口４３から、ワーク１０の一方の面１１にエッチング液を吐出して、ワーク１０をエッチングすることができる。
よって、エッチング処理の良好な面内均一性を実現することが可能である。
よって、エッチング処理の良好な面内均一性を実現することが可能である。
【0015】
シート状のワーク１０としては、フィルム状のものも含まれる。
ワーク１０は基板であってもよい。
ワーク１０は、長尺なものであって搬送部によって連続的に搬送されてもよいし、短尺なものであって搬送部によって順次搬送されてもよい。
ワーク１０は、部分的に打ち抜かれた構造（部分的に開口を有する構造）のものであってもよい。本実施形態に係るエッチング装置１００によれば、部分的に打ち抜かれた構造のワーク１０の開口の内周面のエッチング（例えばバリ取り処理など）も好適に行うことができる。
ワーク１０は基板であってもよい。
ワーク１０は、長尺なものであって搬送部によって連続的に搬送されてもよいし、短尺なものであって搬送部によって順次搬送されてもよい。
ワーク１０は、部分的に打ち抜かれた構造（部分的に開口を有する構造）のものであってもよい。本実施形態に係るエッチング装置１００によれば、部分的に打ち抜かれた構造のワーク１０の開口の内周面のエッチング（例えばバリ取り処理など）も好適に行うことができる。
【0016】
以下の説明においては、搬送方向下流側を単に下流側と称したり、前（前側、前方）と称したりする場合がある。また、搬送方向上流側を単に上流側と称したり、後（後側、後方）と称したり場合がある。また、ワーク１０において気体噴射口３３及びエッチング液吐出口４３に対して対向する部位に沿った方向で且つ搬送方向に対して直交する方向を左右方向と称する場合がある。
【0017】
本実施形態の場合、エッチング装置１００は、ワーク１０の一方の面１１に気体を噴射する気体噴射口３３を更に備えている。気体噴射口３３は、エッチング液吐出口４３よりも搬送方向の下流側又は上流側におけるエッチング液吐出口４３の近傍においてエッチング液吐出口４３とは独立して配置されている。
気体噴射口３３は、ワーク１０の幅方向に長尺なスリット状であり、ワーク１０の幅方向における両端間に亘って連続的に延在している。
気体噴射口３３は、ワーク１０の幅方向に長尺なスリット状であり、ワーク１０の幅方向における両端間に亘って連続的に延在している。
【0018】
エッチング液吐出口４３から吐出されたエッチング液を、気体噴射口３３から噴射される気体によって付勢してワーク１０の一方の面１１に供給することができる。このため、ワーク１０の一方の面１１に勢いよくエッチング液を供給することができるので、ワーク１０の面直方向におけるエッチングの進行を容易に促進することができる。よって、良好なエッチファクターを実現できるため、より微細なパターンのエッチングを容易に行うことができる。
【0019】
本実施形態の場合、気体噴射口３３は、エッチング液吐出口４３よりも搬送方向の下流側に配置されている。
気体噴射口３３は、エッチング液吐出口４３に対して並列に延在している。
エッチング液吐出口４３及び気体噴射口３３の各々は、ワーク１０の幅方向に沿って直線状に延在している。
気体噴射口３３は、エッチング液吐出口４３に対して並列に延在している。
エッチング液吐出口４３及び気体噴射口３３の各々は、ワーク１０の幅方向に沿って直線状に延在している。
【0020】
エッチング装置１００は、気体噴射口３３から、ワーク１０の一方の面１１に対して直交する第１方向に気体を噴射するように構成されている。
このため、ワーク１０の面直方向におけるエッチングの進行を更に促進することができ、良好なエッチファクターを実現できるため、より微細なパターンのエッチングを容易に行うことができる。
ここで、第１方向がワーク１０の一方の面１１に対して直交しているとは、第１方向が一方の面１１に対して略直交していることであり、例えば、第１方向と一方の面１１とのなす角度が９０度±１０度以内であることが好ましく、第１方向と一方の面１１とのなす角度が±５度以内であることが更に好ましい。
このため、ワーク１０の面直方向におけるエッチングの進行を更に促進することができ、良好なエッチファクターを実現できるため、より微細なパターンのエッチングを容易に行うことができる。
ここで、第１方向がワーク１０の一方の面１１に対して直交しているとは、第１方向が一方の面１１に対して略直交していることであり、例えば、第１方向と一方の面１１とのなす角度が９０度±１０度以内であることが好ましく、第１方向と一方の面１１とのなす角度が±５度以内であることが更に好ましい。
【0021】
一方、エッチング液吐出口４３からのエッチング液の吐出方向である第２方向は、気体噴射口３３からの気体の噴射方向である第１方向に対して交差する方向である。
このため、エッチング液吐出口４３から吐出されたエッチング液を、気体噴射口３３から噴射される気体により付勢してワーク１０の一方の面１１に供給する動作を、より確実に行うことが可能となる。
このため、エッチング液吐出口４３から吐出されたエッチング液を、気体噴射口３３から噴射される気体により付勢してワーク１０の一方の面１１に供給する動作を、より確実に行うことが可能となる。
【0022】
本実施形態の場合、エッチング液吐出口４３からのエッチング液の吐出方向（第２方向）が搬送方向に対して順方向となるよう、第２方向が第１方向に対して傾斜している
本実施形態の場合、第１方向と一方の面１１とのなす角度は、第２方向と一方の面１１とのなす角度よりも大きい。
また、搬送方向は、ワーク１０の一方の面１１に沿った方向となっている。
本実施形態の場合、第１方向と一方の面１１とのなす角度は、第２方向と一方の面１１とのなす角度よりも大きい。
また、搬送方向は、ワーク１０の一方の面１１に沿った方向となっている。
【0023】
エッチング装置１００は、以下に説明するエッチングユニット９０と、ローラ２０、２１及び吸引プレート５１等により構成される搬送部と、を備えている。
【0024】
本実施形態の場合、エッチング装置１００は、搬送部によってワーク１０を平坦な状態で一方向（矢印Ｄ方向）に搬送しながら、エッチングユニット９０によりワーク１０の一方の面１１のエッチングを行う。
本実施形態の場合、より詳細には、矢印Ｄ方向は水平方向である。ただし、本発明は、この例に限らず、ワーク１０の搬送方向（矢印Ｄ方向）は特に限定されない。
本実施形態の場合、より詳細には、矢印Ｄ方向は水平方向である。ただし、本発明は、この例に限らず、ワーク１０の搬送方向（矢印Ｄ方向）は特に限定されない。
【0025】
搬送部は、例えば、エッチングユニット９０の上流側に配置されていてワーク１０を上下から挟持する上下一対のローラ２０と、エッチングユニット９０の下流側に配置されていてワーク１０を上下から挟持する上下一対のローラ２１と、を備えている。
上流側の一対のローラ２０の少なくとも一方が図示しないモータ等のアクチュエータによって回転駆動されるとともに、下流側の一対のローラ２１の少なくとも一方が図示しないモータ等のアクチュエータによって回転駆動されることにより、ワーク１０が搬送方向に搬送されるようになっている。
上流側の一対のローラ２０の少なくとも一方が図示しないモータ等のアクチュエータによって回転駆動されるとともに、下流側の一対のローラ２１の少なくとも一方が図示しないモータ等のアクチュエータによって回転駆動されることにより、ワーク１０が搬送方向に搬送されるようになっている。
【0026】
吸引プレート５１は、平板状の部材であり、一対のローラ２０と一対のローラ２１との間において、水平に配置されている。
吸引プレート５１の上面である支持面５１ａの高さ位置（鉛直方向における位置）は、一対のローラ２０のうち下側のローラ２０の上端、並びに、一対のローラ２１のうち下側のローラ２１の上端と同等の位置に設定されている。したがって、ワーク１０は、吸引プレート５１の支持面５１ａに沿って搬送されることとなる。
吸引プレート５１の幅寸法（図１において奥行き方向の寸法）は、ワーク１０の幅寸法（図１において奥行き方向の寸法）よりも大きく、吸引プレート５１の幅方向における両端間においてワーク１０が搬送されるようになっている。
吸引プレート５１の上面である支持面５１ａの高さ位置（鉛直方向における位置）は、一対のローラ２０のうち下側のローラ２０の上端、並びに、一対のローラ２１のうち下側のローラ２１の上端と同等の位置に設定されている。したがって、ワーク１０は、吸引プレート５１の支持面５１ａに沿って搬送されることとなる。
吸引プレート５１の幅寸法（図１において奥行き方向の寸法）は、ワーク１０の幅寸法（図１において奥行き方向の寸法）よりも大きく、吸引プレート５１の幅方向における両端間においてワーク１０が搬送されるようになっている。
【0027】
吸引プレート５１の下側には、吸引箱５２が配置されている。吸引箱５２は、上端が開口しており、吸引箱５２の上端の開口が吸引プレート５１によって塞がれている。吸引プレート５１は、例えば、吸引箱５２によって支持されている。
吸引箱５２の内部空間は、陰圧に設定される陰圧室５２ａとなっている。すなわち、吸引箱５２の陰圧室５２ａ内の雰囲気が、図示しない吸引源によって吸引されることにより、陰圧室５２ａが陰圧に維持されるようになっている。
吸引プレート５１には、該吸引プレート５１を上下に貫通している多数の細孔（不図示）が形成されている。したがって、吸引プレート５１の上側の雰囲気が、吸引プレート５１の多数の細孔を介して、吸引プレート５１の下側に吸引されることとなる。
ワーク１０が吸引プレート５１の上面である支持面５１ａに沿って搬送される際には、ワーク１０が支持面５１ａ側に吸引されることにより、ワーク１０の浮き上がり（ばたつき）を抑制でき、ワーク１０の搬送経路を支持面５１ａに沿った水平な経路に維持することができるようになっている。
すなわち、ワーク１０は、一対のローラ２０と一対のローラ２１との間において、吸引プレート５１の支持面５１ａに沿って水平に搬送される。
なお、本発明において、ワーク１０を搬送する搬送機構はこの例に限らず、短尺のワーク１０をエッチングユニット９０の上流側の位置まで吸引プレート５１の上流側のローラ２０で搬送し、該ローラ２０から吸引プレート５１にワーク１０を受け渡した後、吸引プレート５１によってワーク１０を吸着し、その状態で吸引プレート５１が搬送方向に移動するとともにその過程でエッチングユニット９０によるワーク１０のエッチングを行い、その後、吸引プレート５１からその下流側のローラ２１にワーク１０を受け渡すようになっていてもよい。また、ワーク１０が吸引プレート５１に吸着された状態で、エッチングユニット９０がワーク１０及び吸引プレート５１に対して相対的に移動（図１における左方向に移動）し、その過程でエッチングユニット９０によるワーク１０のエッチングを行うようにしてもよい。
吸引箱５２の内部空間は、陰圧に設定される陰圧室５２ａとなっている。すなわち、吸引箱５２の陰圧室５２ａ内の雰囲気が、図示しない吸引源によって吸引されることにより、陰圧室５２ａが陰圧に維持されるようになっている。
吸引プレート５１には、該吸引プレート５１を上下に貫通している多数の細孔（不図示）が形成されている。したがって、吸引プレート５１の上側の雰囲気が、吸引プレート５１の多数の細孔を介して、吸引プレート５１の下側に吸引されることとなる。
ワーク１０が吸引プレート５１の上面である支持面５１ａに沿って搬送される際には、ワーク１０が支持面５１ａ側に吸引されることにより、ワーク１０の浮き上がり（ばたつき）を抑制でき、ワーク１０の搬送経路を支持面５１ａに沿った水平な経路に維持することができるようになっている。
すなわち、ワーク１０は、一対のローラ２０と一対のローラ２１との間において、吸引プレート５１の支持面５１ａに沿って水平に搬送される。
なお、本発明において、ワーク１０を搬送する搬送機構はこの例に限らず、短尺のワーク１０をエッチングユニット９０の上流側の位置まで吸引プレート５１の上流側のローラ２０で搬送し、該ローラ２０から吸引プレート５１にワーク１０を受け渡した後、吸引プレート５１によってワーク１０を吸着し、その状態で吸引プレート５１が搬送方向に移動するとともにその過程でエッチングユニット９０によるワーク１０のエッチングを行い、その後、吸引プレート５１からその下流側のローラ２１にワーク１０を受け渡すようになっていてもよい。また、ワーク１０が吸引プレート５１に吸着された状態で、エッチングユニット９０がワーク１０及び吸引プレート５１に対して相対的に移動（図１における左方向に移動）し、その過程でエッチングユニット９０によるワーク１０のエッチングを行うようにしてもよい。
【0028】
【0029】
エッチングユニット９０は、吸引プレート５１の上方に離間して配置されている。
搬送方向における吸引プレート５１の寸法は、搬送方向におけるエッチングユニット９０の寸法よりも大きい。そして、搬送方向上流側における吸引プレート５１の端部は、搬送方向上流側におけるエッチングユニット９０の端部よりも、搬送方向上流側に位置しているとともに、搬送方向下流側における吸引プレート５１の端部は、搬送方向下流側におけるエッチングユニット９０の端部よりも、搬送方向下流側に位置している。
ワーク１０が吸引プレート５１の支持面５１ａに沿って搬送される際には、ワーク１０において支持面５１ａ上に位置する部分の上方にエッチングユニット９０が位置することとなる。
エッチングユニット９０は、気体噴射口３３と、エッチング液吐出口４３と、後述する第１回収路７１及び第２回収路８１と、を有する。すなわち、気体噴射口３３、エッチング液吐出口４３、第１回収路７１及び第２回収路８１は、ワーク１０の上方となる位置に配置されている。
搬送方向における吸引プレート５１の寸法は、搬送方向におけるエッチングユニット９０の寸法よりも大きい。そして、搬送方向上流側における吸引プレート５１の端部は、搬送方向上流側におけるエッチングユニット９０の端部よりも、搬送方向上流側に位置しているとともに、搬送方向下流側における吸引プレート５１の端部は、搬送方向下流側におけるエッチングユニット９０の端部よりも、搬送方向下流側に位置している。
ワーク１０が吸引プレート５１の支持面５１ａに沿って搬送される際には、ワーク１０において支持面５１ａ上に位置する部分の上方にエッチングユニット９０が位置することとなる。
エッチングユニット９０は、気体噴射口３３と、エッチング液吐出口４３と、後述する第１回収路７１及び第２回収路８１と、を有する。すなわち、気体噴射口３３、エッチング液吐出口４３、第１回収路７１及び第２回収路８１は、ワーク１０の上方となる位置に配置されている。
【0030】
エッチングユニット９０は、気体噴射口３３とエッチング液吐出口４３とを有する吐出ヘッド６０を備えている。
吐出ヘッド６０の下端面である対向面６１は、吸引プレート５１の支持面５１ａに対して対向している。
ここで、対向面６１の各部と支持面５１ａとの対向間隔（図２、図３の距離ｄ３）は、等間隔（対向面６１の各部において一定）となっている。そして、対向面６１において気体噴射口３３及びエッチング液吐出口４３が互いに独立して開口している。
吐出ヘッド６０の下端面である対向面６１は、吸引プレート５１の支持面５１ａに対して対向している。
ここで、対向面６１の各部と支持面５１ａとの対向間隔（図２、図３の距離ｄ３）は、等間隔（対向面６１の各部において一定）となっている。そして、対向面６１において気体噴射口３３及びエッチング液吐出口４３が互いに独立して開口している。
【0031】
【0032】
より詳細には、対向面６１は、図３に示すように、エッチング液吐出口４３の上流側に位置する第１部分６１ａと、エッチング液吐出口４３の下流側且つ気体噴射口３３の上流側に位置する第２部分６１ｂと、気体噴射口３３の下流側に位置する第３部分６１ｃと、を有している。
そして、第１部分６１ａと支持面５１ａとの対向間隔、第２部分６１ｂと支持面５１ａとの対向間隔、及び、第３部分６１ｃと支持面５１ａとの対向間隔は、互いに等しく、いずれも距離ｄ３である。
同様に、第１部分６１ａとワーク１０の一方の面１１との対向間隔、第２部分６１ｂと一方の面１１との対向間隔、及び、第３部分６１ｃと一方の面１１との対向間隔は、互いに等しく、いずれも距離ｄ０である。
そして、第１部分６１ａと支持面５１ａとの対向間隔、第２部分６１ｂと支持面５１ａとの対向間隔、及び、第３部分６１ｃと支持面５１ａとの対向間隔は、互いに等しく、いずれも距離ｄ３である。
同様に、第１部分６１ａとワーク１０の一方の面１１との対向間隔、第２部分６１ｂと一方の面１１との対向間隔、及び、第３部分６１ｃと一方の面１１との対向間隔は、互いに等しく、いずれも距離ｄ０である。
【0033】
本実施形態の場合、支持面５１ａと対向面６１とがそれぞれ平面状であり、支持面５１ａと対向面６１とが互いに平行に対向している。
【0034】
吐出ヘッド６０は、エッチング液吐出口４３にエッチング液を供給するエッチング液供給路４２と、気体噴射口３３に気体を供給する気体供給路３２と、を内部に有する。
エッチング液供給路４２は気体供給路３２よりも上流側に配置されている。
エッチング液供給路４２の下流端（下端）においてエッチング液吐出口４３が開口しており、気体供給路３２の下流端（下端）において気体噴射口３３が開口している。
エッチング液供給路４２は気体供給路３２よりも上流側に配置されている。
エッチング液供給路４２の下流端（下端）においてエッチング液吐出口４３が開口しており、気体供給路３２の下流端（下端）において気体噴射口３３が開口している。
【0035】
気体供給路３２は、上端が後述する気体前室３１に連通している。気体供給路３２において、気体前室３１に連通している部位と、下端の気体噴射口３３と、を除く周囲部分は、吐出ヘッド６０の実体部分により囲まれている。
このため、後述する気体供給源から気体前室３１を介して気体供給路３２に供給された気体は、気体噴射口３３から噴射される。
このため、後述する気体供給源から気体前室３１を介して気体供給路３２に供給された気体は、気体噴射口３３から噴射される。
【0036】
エッチング液供給路４２は、上端が後述するエッチング液前室４１に連通している。エッチング液供給路４２において、エッチング液前室４１に連通している部位と、下端のエッチング液吐出口４３と、を除く周囲部分は、吐出ヘッド６０の実体部分により囲まれている。
このため、後述するエッチング液供給源からエッチング液前室４１を介してエッチング液供給路４２に供給されたエッチング液は、エッチング液吐出口４３から吐出される。
このため、後述するエッチング液供給源からエッチング液前室４１を介してエッチング液供給路４２に供給されたエッチング液は、エッチング液吐出口４３から吐出される。
【0037】
ワーク１０の一方の面１１に対して直交し且つ搬送方向に沿う平面で切断した断面（図１から図３に示す断面）において、気体供給路３２の延長線上には気体噴射口３３と支持面５１ａとの間に障害物が無く、且つ、エッチング液供給路４２の延長線上にはエッチング液吐出口４３と支持面５１ａとの間に障害物が無い。ここでいう障害物とは、エッチング装置１００の構成要素であり、ワーク１０は、ここでいう障害物から除外される。
【0038】
本実施形態の場合、ワーク１０の一方の面１１に対して直交し且つ搬送方向に沿う平面で切断した断面（図１から図３に示す断面）において、気体供給路３２の延長線とエッチング液供給路４２の延長線とが、ワーク１０の一方の面１１への到達前に交差するようになっている。
すなわち、図３に示す直線Ｌ１（上記断面における気体供給路３２の軸線）と直線Ｌ２（上記断面におけるエッチング液供給路４２の軸線）との交点Ｉが、対向面６１とワーク１０の一方の面１１との間に位置するようになっている。
すなわち、図３に示す直線Ｌ１（上記断面における気体供給路３２の軸線）と直線Ｌ２（上記断面におけるエッチング液供給路４２の軸線）との交点Ｉが、対向面６１とワーク１０の一方の面１１との間に位置するようになっている。
【0039】
ここで、気体供給路３２は、気体噴射口３３から遠い側から順に、第１部分３２ａ、第２部分３２ｂ及び第３部分３２ｃを備えている。
このうち第２部分３２ｂの流路幅（図２及び図３における左右方向、すなわち搬送方向における流路幅）は、第１部分３２ａの流路幅よりも小さく、第３部分３２ｃの流路幅は、第２部分３２ｂの流路幅よりも更に小さい。
すなわち、気体噴射口３３の長手方向（左右方向）に対して直交する気体噴射口３３の幅方向（前後方向）において、気体供給路３２の内腔領域の寸法が、下流側に向けて段階的に縮小している。
このため、気体噴射口３３から気体をより勢いよく噴射することができるようになっている。
このうち第２部分３２ｂの流路幅（図２及び図３における左右方向、すなわち搬送方向における流路幅）は、第１部分３２ａの流路幅よりも小さく、第３部分３２ｃの流路幅は、第２部分３２ｂの流路幅よりも更に小さい。
すなわち、気体噴射口３３の長手方向（左右方向）に対して直交する気体噴射口３３の幅方向（前後方向）において、気体供給路３２の内腔領域の寸法が、下流側に向けて段階的に縮小している。
このため、気体噴射口３３から気体をより勢いよく噴射することができるようになっている。
【0040】
より詳細には、第１部分３２ａの下側に第２部分３２ｂが連接されており、第２部分３２ｂの下側に第３部分３２ｃが連接されている。第１部分３２ａは、当該第１部分３２ａの上端から下端に向けて気体を通過させ、第２部分３２ｂは、当該第２部分３２ｂの上端から下端に向けて気体を通過させ、第３部分３２ｃは、当該第３部分３２ｃの上端から下端に向けて気体を通過させる。
第１部分３２ａ、第２部分３２ｂ及び第３部分３２ｃは、ワーク１０の幅方向（図１から図３における奥行き方向）における寸法が互いに等しい。
搬送方向における第２部分３２ｂの寸法は、搬送方向における第１部分３２ａの寸法よりも小さく、搬送方向における第３部分３２ｃの寸法は、搬送方向における第２部分３２ｂの寸法よりも更に小さい。
なお、搬送方向における第１部分３２ａの寸法は、第１部分３２ａの上端から下端に亘って一定となっている。
同様に、搬送方向における第２部分３２ｂの寸法は、第２部分３２ｂの上端から下端に亘って一定となっている。
同様に、搬送方向における第３部分３２ｃの寸法は、第３部分３２ｃの上端から下端に亘って一定となっている。
第１部分３２ａ、第２部分３２ｂ及び第３部分３２ｃは、ワーク１０の幅方向（図１から図３における奥行き方向）における寸法が互いに等しい。
搬送方向における第２部分３２ｂの寸法は、搬送方向における第１部分３２ａの寸法よりも小さく、搬送方向における第３部分３２ｃの寸法は、搬送方向における第２部分３２ｂの寸法よりも更に小さい。
なお、搬送方向における第１部分３２ａの寸法は、第１部分３２ａの上端から下端に亘って一定となっている。
同様に、搬送方向における第２部分３２ｂの寸法は、第２部分３２ｂの上端から下端に亘って一定となっている。
同様に、搬送方向における第３部分３２ｃの寸法は、第３部分３２ｃの上端から下端に亘って一定となっている。
【0041】
ここで、気体供給路３２の第３部分３２ｃは、ワーク１０の幅方向（図１から図３の奥行き方向）すなわち搬送方向に対して直交し且つ支持面５１ａに沿う方向に延在するスリット状である。そして、第３部分３２ｃは、ワーク１０の幅方向における両端間に亘って連続的に延在している。
第３部分３２ｃはスリット状であり、第３部分３２ｃの内部空間は板状である。この仮想の板（以下、第１板と称する）は鉛直に配置されており、板面が搬送方向下流側及び上流側を向いている。
また、気体噴射口３３も、第３部分３２ｃと同様に、搬送方向に対して直交し且つ支持面５１ａに沿う方向に延在するスリット状である。
このため、後述する気体供給源から気体前室３１を介して気体供給路３２に供給された気体は、第２部分３２ｂにおいて実質的に鉛直下方に直線的に流動した後、気体噴射口３３から実質的に鉛直下方（第１板に沿った方向）に直線的に噴射される。
すなわち、気体噴射口３３から、気体供給路３２に沿った平板のブレード状に、気体が噴射される。
第３部分３２ｃはスリット状であり、第３部分３２ｃの内部空間は板状である。この仮想の板（以下、第１板と称する）は鉛直に配置されており、板面が搬送方向下流側及び上流側を向いている。
また、気体噴射口３３も、第３部分３２ｃと同様に、搬送方向に対して直交し且つ支持面５１ａに沿う方向に延在するスリット状である。
このため、後述する気体供給源から気体前室３１を介して気体供給路３２に供給された気体は、第２部分３２ｂにおいて実質的に鉛直下方に直線的に流動した後、気体噴射口３３から実質的に鉛直下方（第１板に沿った方向）に直線的に噴射される。
すなわち、気体噴射口３３から、気体供給路３２に沿った平板のブレード状に、気体が噴射される。
【0042】
また、エッチング液供給路４２も、搬送方向に対して直交し且つ支持面５１ａに沿う方向に延在するスリット状である。そして、エッチング液供給路４２もワーク１０の幅方向における両端間に亘って連続的に延在している。
エッチング液供給路４２はスリット状であり、エッチング液供給路４２の内部空間は板状である。この仮想の板（以下、第２板）は、上述の第１板に対して傾斜している。すなわち、第２板は図２及び図３において右下がりに傾斜している。
また、エッチング液吐出口４３も、エッチング液供給路４２と同様に、搬送方向に対して直交し且つ支持面５１ａに沿う方向に延在するスリット状である。
このため、後述するエッチング液供給源からエッチング液前室４１を介してエッチング液供給路４２に供給されたエッチング液は、エッチング液供給路４２において図２及び図３における右下の方向に実質的に直線的に流動した後、エッチング液吐出口４３から図２及び図３における右下の方向（第２板に沿った方向）に吐出される。
その結果、好ましくは、エッチング液吐出口４３から、エッチング液供給路４２に沿った平板のブレード状に、エッチング液が吐出される。
エッチング液供給路４２はスリット状であり、エッチング液供給路４２の内部空間は板状である。この仮想の板（以下、第２板）は、上述の第１板に対して傾斜している。すなわち、第２板は図２及び図３において右下がりに傾斜している。
また、エッチング液吐出口４３も、エッチング液供給路４２と同様に、搬送方向に対して直交し且つ支持面５１ａに沿う方向に延在するスリット状である。
このため、後述するエッチング液供給源からエッチング液前室４１を介してエッチング液供給路４２に供給されたエッチング液は、エッチング液供給路４２において図２及び図３における右下の方向に実質的に直線的に流動した後、エッチング液吐出口４３から図２及び図３における右下の方向（第２板に沿った方向）に吐出される。
その結果、好ましくは、エッチング液吐出口４３から、エッチング液供給路４２に沿った平板のブレード状に、エッチング液が吐出される。
【0043】
このように、気体供給路３２（特に第３部分３２ｃ）及びエッチング液供給路４２の各々は、搬送方向に対して直交し且つ支持面５１ａに沿う方向に延在するスリット状であり、ワーク１０の幅方向における両端間に亘って連続的に延在している（図４（ａ）、図４（ｂ）参照）。
【0044】
ここで、気体噴射口３３からの気体の噴射方向である第１方向は、上記第１板の板面に沿う方向であって、且つ、第２部分３２ｂから気体噴射口３３に向かう方向となる。
また、エッチング液吐出口４３からのエッチング液の吐出方向である第２方向は、上記第２板の板面に沿う方向であって、且つ、エッチング液前室４１からエッチング液吐出口４３に向かう方向となる。
第１方向（気体噴射口３３からの気体の噴射方向）に対する第２方向（エッチング液吐出口４３からのエッチング液の噴射方向）の傾斜角度は特に限定されないが、例えば、１０度以上８０度以下とすることができ、３０度以上６０度以下としてもよい。
また、エッチング液吐出口４３からのエッチング液の吐出方向である第２方向は、上記第２板の板面に沿う方向であって、且つ、エッチング液前室４１からエッチング液吐出口４３に向かう方向となる。
第１方向（気体噴射口３３からの気体の噴射方向）に対する第２方向（エッチング液吐出口４３からのエッチング液の噴射方向）の傾斜角度は特に限定されないが、例えば、１０度以上８０度以下とすることができ、３０度以上６０度以下としてもよい。
【0045】
気体前室３１は、例えば、気体供給路３２の第１部分３２ａよりも流路幅が広い空間であり、気体供給路３２の第１部分３２ａの上側に連接されている。気体前室３１は、後述する気体供給源に接続されている。
エッチング液前室４１は、エッチング液供給路４２よりも流路幅が広い空間であり、エッチング液供給路４２の上側に連接されている。エッチング液前室４１は、後述するエッチング液供給源に接続されている。
エッチング液前室４１は、エッチング液供給路４２よりも流路幅が広い空間であり、エッチング液供給路４２の上側に連接されている。エッチング液前室４１は、後述するエッチング液供給源に接続されている。
【0046】
上述のように、吐出ヘッド６０は、エッチング液吐出口４３を有している。
エッチングユニット９０は、更に、搬送方向において吐出ヘッド６０の上流側の位置に配置されていてエッチング液吐出口４３から吐出されたエッチング液を吸引して回収する第１回収路７１と、搬送方向において吐出ヘッド６０の下流側の位置に配置されていてエッチング液吐出口４３から吐出されたエッチング液を吸引して回収する第２回収路８１と、を備えている。
本実施形態の場合、より詳細には、第１回収路７１及び第２回収路８１の各々は、エッチング液吐出口４３から吐出されたエッチング液を気体噴射口３３から噴射された気体とともに吸引して回収する。
エッチングユニット９０は、更に、搬送方向において吐出ヘッド６０の上流側の位置に配置されていてエッチング液吐出口４３から吐出されたエッチング液を吸引して回収する第１回収路７１と、搬送方向において吐出ヘッド６０の下流側の位置に配置されていてエッチング液吐出口４３から吐出されたエッチング液を吸引して回収する第２回収路８１と、を備えている。
本実施形態の場合、より詳細には、第１回収路７１及び第２回収路８１の各々は、エッチング液吐出口４３から吐出されたエッチング液を気体噴射口３３から噴射された気体とともに吸引して回収する。
【0047】
第１回収路７１は、搬送方向において吐出ヘッド６０の上流側に隣接して配置されており、当該第１回収路７１の下端において開口している。
例えば、第１回収路７１は、当該第１回収路７１における前側の端部が吐出ヘッド６０における後側の面により画定されている。
また、第１回収路７１における後側の端部、及び、左右の端部は、第１回収路構成壁７２により画定されている。
第１回収路７１は、筒状の空間である。第１回収路７１の上側には、後述する吸引源に接続された空間である吸引源連絡部７３が配置されており、該吸引源連絡部７３の下端が第１回収路７１の上端に連通している。吸引源連絡部７３は、気体前室３１の後側に配置されている。
第１回収路７１は、その下端の開口から雰囲気を吸引することにより、エッチング液吐出口４３からワーク１０の一方の面１１上に吐出されたエッチング液及び気体噴射口３３から噴射された気体を吸引する。
例えば、第１回収路７１は、当該第１回収路７１における前側の端部が吐出ヘッド６０における後側の面により画定されている。
また、第１回収路７１における後側の端部、及び、左右の端部は、第１回収路構成壁７２により画定されている。
第１回収路７１は、筒状の空間である。第１回収路７１の上側には、後述する吸引源に接続された空間である吸引源連絡部７３が配置されており、該吸引源連絡部７３の下端が第１回収路７１の上端に連通している。吸引源連絡部７３は、気体前室３１の後側に配置されている。
第１回収路７１は、その下端の開口から雰囲気を吸引することにより、エッチング液吐出口４３からワーク１０の一方の面１１上に吐出されたエッチング液及び気体噴射口３３から噴射された気体を吸引する。
【0048】
第２回収路８１は、搬送方向において吐出ヘッド６０の下流側に隣接して配置されており、当該第２回収路８１の下端において開口している。
例えば、第２回収路８１は、当該第２回収路８１における後側の端部が吐出ヘッド６０における前側の面により画定されている。
また、第２回収路８１における前側の端部、及び、左右の端部は、第２回収路構成壁８２により画定されている。
第２回収路８１は、筒状の空間である。第２回収路８１の上側には、後述する吸引源に接続された空間である吸引源連絡部８３が配置されており、該吸引源連絡部８３の下端が第２回収路８１の上端に連通している。吸引源連絡部８３は、気体前室３１の前側に配置されている。
第２回収路８１は、その下端の開口から雰囲気を吸引することにより、エッチング液吐出口４３からワーク１０の一方の面１１上に吐出されたエッチング液及び気体噴射口３３から噴射された気体を吸引する。
例えば、第２回収路８１は、当該第２回収路８１における後側の端部が吐出ヘッド６０における前側の面により画定されている。
また、第２回収路８１における前側の端部、及び、左右の端部は、第２回収路構成壁８２により画定されている。
第２回収路８１は、筒状の空間である。第２回収路８１の上側には、後述する吸引源に接続された空間である吸引源連絡部８３が配置されており、該吸引源連絡部８３の下端が第２回収路８１の上端に連通している。吸引源連絡部８３は、気体前室３１の前側に配置されている。
第２回収路８１は、その下端の開口から雰囲気を吸引することにより、エッチング液吐出口４３からワーク１０の一方の面１１上に吐出されたエッチング液及び気体噴射口３３から噴射された気体を吸引する。
【0049】
第１回収路７１の下端の開口の高さ位置は、吐出ヘッド６０の対向面６１の高さ位置と同等の高さ位置に設定されている。すなわち、第１回収路構成壁７２の下端７２ａの高さ位置は、対向面６１の高さ位置と同等に設定されている。
同様に、第２回収路８１の下端の開口の高さ位置は、吐出ヘッド６０の対向面６１の高さ位置と同等の高さ位置に設定されている。すなわち、第２回収路構成壁８２の下端８２ａの高さ位置は、対向面６１の高さ位置と同等に設定されている。
同様に、第２回収路８１の下端の開口の高さ位置は、吐出ヘッド６０の対向面６１の高さ位置と同等の高さ位置に設定されている。すなわち、第２回収路構成壁８２の下端８２ａの高さ位置は、対向面６１の高さ位置と同等に設定されている。
【0050】
第１回収路７１が単位時間あたりに吸引する雰囲気の体積と、第２回収路８１が単位時間あたりに吸引する雰囲気の体積との合計は、エッチング液吐出口４３から単位時間あたりに吐出されるエッチング液と気体噴射口３３から単位時間あたりに噴射される気体との合計量よりも大きいことが好ましい。
【0051】
なお、ここでは、エッチングユニット９０が第１回収路構成壁７２と第２回収路構成壁８２とを別個に備えている例を説明したが、第１回収路構成壁７２及び第２回収路構成壁８２は、共通の筒状体の一部分ずつにより構成されていても良い。
すなわち、例えば、吐出ヘッド６０の周囲が１つの筒状体により包囲されていて、当該筒状体の下端が開口していても良い。この場合、筒状体の内部空間において、吐出ヘッド６０よりも後側に位置する部分が第１回収路７１であり、吐出ヘッド６０よりも前側に位置する部分が第２回収路８１である。
また、この場合、吸引源連絡部７３と吸引源連絡部８３とは、気体前室３１の周囲を囲む１つの空間の一部分ずつにより構成されていても良い。すなわち、例えば、気体前室３１の周囲が１つの筒状体により包囲されていて、当該筒状体の内部空間において、気体前室３１よりも後側に位置する部分が吸引源連絡部７３であるとともに、気体前室３１よりも前側に位置する部分が吸引源連絡部８３であってもよい。
すなわち、例えば、吐出ヘッド６０の周囲が１つの筒状体により包囲されていて、当該筒状体の下端が開口していても良い。この場合、筒状体の内部空間において、吐出ヘッド６０よりも後側に位置する部分が第１回収路７１であり、吐出ヘッド６０よりも前側に位置する部分が第２回収路８１である。
また、この場合、吸引源連絡部７３と吸引源連絡部８３とは、気体前室３１の周囲を囲む１つの空間の一部分ずつにより構成されていても良い。すなわち、例えば、気体前室３１の周囲が１つの筒状体により包囲されていて、当該筒状体の内部空間において、気体前室３１よりも後側に位置する部分が吸引源連絡部７３であるとともに、気体前室３１よりも前側に位置する部分が吸引源連絡部８３であってもよい。
【0052】
ここで、図２に示すように、搬送方向における対向面６１の寸法（距離ｄ４）は、対向面６１と支持面５１ａとの対向間隔（距離ｄ３）よりも大きい。
したがって、対向面６１とワーク１０の一方の面１１との対向間隔が、搬送方向における対向面６１の寸法に比して十分に狭くなり、その狭い空間においてエッチング液による一方の面１１のエッチングが行われる。
したがって、対向面６１とワーク１０の一方の面１１との対向間隔が、搬送方向における対向面６１の寸法に比して十分に狭くなり、その狭い空間においてエッチング液による一方の面１１のエッチングが行われる。
【0053】
また、搬送方向において、エッチング液吐出口４３から気体噴射口３３までの距離ｄ５は、気体噴射口３３から対向面６１の下流端までの距離ｄ６よりも小さい。
また、距離ｄ５は、ワーク１０の一方の面１１と対向面６１との対向間隔（図３に示す距離ｄ０）よりも小さいことが好ましい。
ただし、距離ｄ５は、搬送方向における気体供給路３２の第３部分３２ｃの寸法よりも大きいことが好ましい。
また、搬送方向において、エッチング液吐出口４３から気体噴射口３３までの距離ｄ５は、エッチング液吐出口４３から対向面６１の上流端までの距離ｄ７よりも小さい。
したがって、エッチング液吐出口４３に近接して配置された気体噴射口３３から噴射される気体によって、エッチング液吐出口４３から吐出されたエッチング液をワーク１０の一方の面１１に対して連続的に打ち付けることができる。
また、距離ｄ５は、ワーク１０の一方の面１１と対向面６１との対向間隔（図３に示す距離ｄ０）よりも小さいことが好ましい。
ただし、距離ｄ５は、搬送方向における気体供給路３２の第３部分３２ｃの寸法よりも大きいことが好ましい。
また、搬送方向において、エッチング液吐出口４３から気体噴射口３３までの距離ｄ５は、エッチング液吐出口４３から対向面６１の上流端までの距離ｄ７よりも小さい。
したがって、エッチング液吐出口４３に近接して配置された気体噴射口３３から噴射される気体によって、エッチング液吐出口４３から吐出されたエッチング液をワーク１０の一方の面１１に対して連続的に打ち付けることができる。
【0054】
なお、距離ｄ０は、例えば、０．５ｍｍ以上２０ｍｍ以下とすることができ、好ましくは１ｍｍ以上１０ｍｍ以下とすることができる。
また、距離ｄ１、ｄ２、ｄ３は、距離ｄ０とワーク１０の厚みとの合計であるため、距離ｄ０とワーク１０の厚みとに応じて決定される。なお、エッチング装置１００によるエッチング対象となるワーク１０の厚みは特に限定されないが、例えば、数μｍ以上の厚みとすることができる。ワーク１０の厚みの上限は特に限定されない。
また、エッチング装置１００は、距離ｄ０を調節可能（したがって、距離ｄ１、ｄ２、ｄ３を調節可能）に構成されている。例えば、エッチングユニット９０または吸引プレート５１の少なくとも一方を昇降させることにより距離ｄ０を調節可能となっている。
また、距離ｄ４は、例えば、２０ｍｍ以上２００ｍｍ以下とすることができる。
本実施形態の場合、距離ｄ５は、「ワーク１０の一方の面１１に対して直交し且つ搬送方向に沿う平面で切断した断面において、気体供給路３２の延長線とエッチング液供給路４２の延長線とが、ワーク１０の一方の面１１への到達前に交差する」という条件を満たす範囲で、距離ｄ０と、ワーク１０の一方の面１１と第１方向とのなす角度と、第１方向に対する第２方向の傾斜角度と、に応じて設定することができる。なお、気体噴射口３３からの気体の噴射とエッチング液吐出口４３からのエッチング液の吐出とを互いに独立して行うことができるよう、距離ｄ５は０．５ｍｍ以上であることが好ましく、１ｍｍ以上であることが更に好ましい。
また、距離ｄ６は、例えば、１０ｍｍ以上１００ｍｍ以下とすることができる。
また、距離ｄ７は、例えば、１５ｍｍ以上１５０ｍｍ以下とすることができる。
また、距離ｄ１、ｄ２、ｄ３は、距離ｄ０とワーク１０の厚みとの合計であるため、距離ｄ０とワーク１０の厚みとに応じて決定される。なお、エッチング装置１００によるエッチング対象となるワーク１０の厚みは特に限定されないが、例えば、数μｍ以上の厚みとすることができる。ワーク１０の厚みの上限は特に限定されない。
また、エッチング装置１００は、距離ｄ０を調節可能（したがって、距離ｄ１、ｄ２、ｄ３を調節可能）に構成されている。例えば、エッチングユニット９０または吸引プレート５１の少なくとも一方を昇降させることにより距離ｄ０を調節可能となっている。
また、距離ｄ４は、例えば、２０ｍｍ以上２００ｍｍ以下とすることができる。
本実施形態の場合、距離ｄ５は、「ワーク１０の一方の面１１に対して直交し且つ搬送方向に沿う平面で切断した断面において、気体供給路３２の延長線とエッチング液供給路４２の延長線とが、ワーク１０の一方の面１１への到達前に交差する」という条件を満たす範囲で、距離ｄ０と、ワーク１０の一方の面１１と第１方向とのなす角度と、第１方向に対する第２方向の傾斜角度と、に応じて設定することができる。なお、気体噴射口３３からの気体の噴射とエッチング液吐出口４３からのエッチング液の吐出とを互いに独立して行うことができるよう、距離ｄ５は０．５ｍｍ以上であることが好ましく、１ｍｍ以上であることが更に好ましい。
また、距離ｄ６は、例えば、１０ｍｍ以上１００ｍｍ以下とすることができる。
また、距離ｄ７は、例えば、１５ｍｍ以上１５０ｍｍ以下とすることができる。
【0055】
図５に示すように、エッチング装置１００は、例えば、気体噴射口３３から噴射される気体の供給源であるブロワ３４と、ブロワ３４から供給される気体を濾過するフィルタ３５と、を備えている。フィルタ３５は、例えば、プレフィルタとヘパ（ＨＥＰＡ）フィルタとを含んで構成されている。
エッチングユニット９０は、ブロワ３４からフィルタ３５を介して供給される気体を当該エッチングユニット９０に導入させる気体導入部９１を備えている。気体導入部９１に導入された気体は、図１に示す気体前室３１を介して気体供給路３２に供給され、気体噴射口３３から噴射される。
ブロワ３４とフィルタ３５との間、並びに、フィルタ３５と気体導入部９１との間には、図示しない気体供給路が介在しており、清浄な気体をブロワ３４から気体導入部９１に供給可能となっている。
エッチングユニット９０は、ブロワ３４からフィルタ３５を介して供給される気体を当該エッチングユニット９０に導入させる気体導入部９１を備えている。気体導入部９１に導入された気体は、図１に示す気体前室３１を介して気体供給路３２に供給され、気体噴射口３３から噴射される。
ブロワ３４とフィルタ３５との間、並びに、フィルタ３５と気体導入部９１との間には、図示しない気体供給路が介在しており、清浄な気体をブロワ３４から気体導入部９１に供給可能となっている。
【0056】
更に、エッチング装置１００は、例えば、エッチング液吐出口４３から吐出されるエッチング液の供給源である液槽４４及びポンプ４５を備えている。液槽４４にはエッチング液が貯留されている。
エッチングユニット９０は、ポンプ４５によって圧送されるエッチング液を当該エッチングユニット９０に導入させるエッチング液導入部９２を備えている。エッチング液導入部９２に導入されたエッチング液は、図１等に示すエッチング液前室４１を介してエッチング液供給路４２に供給され、エッチング液吐出口４３から吐出される。
液槽４４とポンプ４５との間、並びに、ポンプ４５とエッチング液導入部９２との間は、それぞれ図示しない配管により接続されている。
エッチング装置１００は、更に、ポンプ４５とエッチング液導入部９２との間の配管にそれぞれ設けられた弁４６、流量コントローラ４７及び逆止弁４８を備えている。弁４６によってエッチング液導入部９２へのエッチング液の供給を停止したり、流量コントローラ４７によってエッチング液導入部９２に供給されるエッチング液の流量を調節したりすることが可能となっている。
エッチングユニット９０は、ポンプ４５によって圧送されるエッチング液を当該エッチングユニット９０に導入させるエッチング液導入部９２を備えている。エッチング液導入部９２に導入されたエッチング液は、図１等に示すエッチング液前室４１を介してエッチング液供給路４２に供給され、エッチング液吐出口４３から吐出される。
液槽４４とポンプ４５との間、並びに、ポンプ４５とエッチング液導入部９２との間は、それぞれ図示しない配管により接続されている。
エッチング装置１００は、更に、ポンプ４５とエッチング液導入部９２との間の配管にそれぞれ設けられた弁４６、流量コントローラ４７及び逆止弁４８を備えている。弁４６によってエッチング液導入部９２へのエッチング液の供給を停止したり、流量コントローラ４７によってエッチング液導入部９２に供給されるエッチング液の流量を調節したりすることが可能となっている。
【0057】
更に、エッチング装置１００は、第１回収路７１及び第２回収路８１から吸引源連絡部７３及び吸引源連絡部８３を介して雰囲気を吸引する吸引源であるブロワ７６を備えている。
エッチングユニット９０は、吸引源連絡部７３及び吸引源連絡部８３に対して接続されている排出部９３を備えている。
排出部９３とブロワ７６とは、図示しない気体排気路によって接続されており、エッチングユニット９０からの排気を排出部９３からブロワ７６まで漏らさず送気できるようになっている。
排出部９３とブロワ７６との間の気体排気路には、慣性集塵水切りフィルタボックス７４とフィルタ７５とが排出部９３側からこの順に設けられている。
更に、ブロワ７６の後段には、フィルタ７７が設けられている。
フィルタ７５は、例えば、プレフィルタであり、フィルタ７７は、例えば、ヘパ（ＨＥＰＡ）フィルタである。
慣性集塵水切りフィルタボックス７４によって、排気に含まれるエッチング液及び異物を捕集した後、フィルタ７５によって、排気に含まれるより細かい異物を捕集することができる。更に、ブロワ７６からの排気をフィルタ７７を介して放出することにより、エッチング装置１００からの排気を清浄にすることができる。
エッチングユニット９０は、吸引源連絡部７３及び吸引源連絡部８３に対して接続されている排出部９３を備えている。
排出部９３とブロワ７６とは、図示しない気体排気路によって接続されており、エッチングユニット９０からの排気を排出部９３からブロワ７６まで漏らさず送気できるようになっている。
排出部９３とブロワ７６との間の気体排気路には、慣性集塵水切りフィルタボックス７４とフィルタ７５とが排出部９３側からこの順に設けられている。
更に、ブロワ７６の後段には、フィルタ７７が設けられている。
フィルタ７５は、例えば、プレフィルタであり、フィルタ７７は、例えば、ヘパ（ＨＥＰＡ）フィルタである。
慣性集塵水切りフィルタボックス７４によって、排気に含まれるエッチング液及び異物を捕集した後、フィルタ７５によって、排気に含まれるより細かい異物を捕集することができる。更に、ブロワ７６からの排気をフィルタ７７を介して放出することにより、エッチング装置１００からの排気を清浄にすることができる。
【0058】
次に、動作を説明する。
【0059】
エッチング装置１００のエッチングユニット９０によるワーク１０のエッチングは、搬送部によってワーク１０を搬送しながら行われる。
すなわち、ワーク１０を図１における右方に向けて搬送しながら、気体噴射口３３からワーク１０の一方の面１１に対する気体の噴射と、エッチング液吐出口４３からワーク１０の一方の面１１に対するエッチング液の吐出とを行う。
また、第１回収路７１を介したエッチング液の回収と、第２回収路８１を介したエッチング液の回収も、一方の面１１に対する気体の噴射及びエッチング液の吐出と並行して行う。
ワーク１０の搬送は、例えば、一定速度で連続的に行われる。
また、気体噴射口３３からの気体の噴射は、例えば、一定の流量で連続的に行われる。
また、エッチング液吐出口４３からのエッチング液の吐出は、例えば、一定の流量で連続的に行われる。
また、第１回収路７１からの排気は、例えば、一定の流量で連続的に行われる。
また、第２回収路８１からの排気は、例えば、一定の流量で連続的に行われる。
すなわち、ワーク１０を図１における右方に向けて搬送しながら、気体噴射口３３からワーク１０の一方の面１１に対する気体の噴射と、エッチング液吐出口４３からワーク１０の一方の面１１に対するエッチング液の吐出とを行う。
また、第１回収路７１を介したエッチング液の回収と、第２回収路８１を介したエッチング液の回収も、一方の面１１に対する気体の噴射及びエッチング液の吐出と並行して行う。
ワーク１０の搬送は、例えば、一定速度で連続的に行われる。
また、気体噴射口３３からの気体の噴射は、例えば、一定の流量で連続的に行われる。
また、エッチング液吐出口４３からのエッチング液の吐出は、例えば、一定の流量で連続的に行われる。
また、第１回収路７１からの排気は、例えば、一定の流量で連続的に行われる。
また、第２回収路８１からの排気は、例えば、一定の流量で連続的に行われる。
【0060】
これにより、一方の面１１のエッチングを行うことができる。
ここで、エッチング液吐出口４３から吐出されたエッチング液は、例えば、図３に示す交点Ｉの付近で気体と衝突し、気体によって下方に付勢されて、一方の面１１に衝突する。
よって、エッチング液によりワーク１０の一方の面１１に打撃を加えながらエッチングを行うことができる。よって、エッチング液の滞留を抑制でき、常にエッチング能力が高い新たなエッチング液を一方の面１１に供給しながらエッチングを行うことができる。
また、上記のように、気体噴射口３３からの気体の噴射方向である第１方向は、一方の面１１に対して直交しているため、ワーク１０の面直方向におけるエッチングの進行を促進することができ、良好なエッチファクターを実現できるため、より微細なパターンのエッチングを容易に行うことができる。
ここで、エッチング液吐出口４３から吐出されたエッチング液は、例えば、図３に示す交点Ｉの付近で気体と衝突し、気体によって下方に付勢されて、一方の面１１に衝突する。
よって、エッチング液によりワーク１０の一方の面１１に打撃を加えながらエッチングを行うことができる。よって、エッチング液の滞留を抑制でき、常にエッチング能力が高い新たなエッチング液を一方の面１１に供給しながらエッチングを行うことができる。
また、上記のように、気体噴射口３３からの気体の噴射方向である第１方向は、一方の面１１に対して直交しているため、ワーク１０の面直方向におけるエッチングの進行を促進することができ、良好なエッチファクターを実現できるため、より微細なパターンのエッチングを容易に行うことができる。
【0061】
エッチング液吐出口４３から一方の面１１に供給されたエッチング液及び気体噴射口３３から噴射された気体は、吐出ヘッド６０の上流側及び下流側にそれぞれ配置されている第１回収路７１及び第２回収路８１によって回収される。
【0062】
ここで、エッチング液吐出口４３は気体噴射口３３とは独立して配置されているため、エッチング液が極微細なミスト状になることが抑制され、そのようなミストよりも相対的に大きい塊状のエッチング液が気体により付勢されて一方の面１１に打ち付けられることとなる。よって、一方の面１１に対してより大きなエネルギーでエッチング液を打ち付けることができ、エッチング処理をより効率的に行うことができる。エッチングをより短時間で行うことができるため、ワーク１０の面方向におけるエッチングの進行を抑制でき、良好なエッチファクターを実現できるため、より微細なパターンのエッチングを容易に行うことができる。
【0063】
また、ワーク１０の一方の面１１に対して直交し且つ搬送方向に沿う平面で切断した断面において、気体供給路３２の延長線上には気体噴射口３３と支持面５１ａとの間に障害物が無く、且つ、エッチング液供給路４２の延長線上にはエッチング液吐出口４３と支持面５１ａとの間に障害物が無い。このため、ワーク１０の一方の面１１に打ち付けられるエッチング液の勢いが障害物によって弱められてしまうことが無い。
【0064】
また、ワーク１０の一方の面１１に対して直交し且つ搬送方向に沿う平面で切断した断面において、気体供給路３２の延長線とエッチング液供給路４２の延長線とが、ワーク１０の一方の面１１への到達前に交差するので、気体噴射口３３及びエッチング液吐出口４３と一方の面１１との間の空中において気体とエッチング液とを衝突させて、エッチング液を気体によって付勢し、エッチング液を一方の面１１に打ち付けることができる。
【0065】
また、気体供給路３２及びエッチング液供給路４２の各々は、搬送方向に対して直交し且つ支持面５１ａに沿う方向に延在するスリット状であり、ワーク１０の幅方向における両端間に亘って連続的に延在しているので、気体噴射口３３及びエッチング液吐出口４３からそれぞれ気体及びエッチング液をブレード状に噴射又は吐出することができる。このため、ブレード状（ヘラ状）のエッチング液によって一方の面１１をエッチングすることができる。
これにより、ワーク１０の一方の面１１の幅方向における全域に亘って均一にエッチングを行うことができ、結果的には、ワーク１０の一方の面１１の全面に亘り均一にエッチングを行うことが可能である。
これにより、ワーク１０の一方の面１１の幅方向における全域に亘って均一にエッチングを行うことができ、結果的には、ワーク１０の一方の面１１の全面に亘り均一にエッチングを行うことが可能である。
【0066】
また、吐出ヘッド６０の対向面６１の各部と支持面５１ａとの対向間隔が等間隔であるため、対向面６１と支持面５１ａとの対向間隔の全体を狭い間隔とすることができ、吐出ヘッド６０の前後に配置されている第１回収路７１及び第２回収路８１によるエッチング液等の回収効率を良好なものとすることができる。
【0067】
また、搬送方向において、エッチング液吐出口４３から気体噴射口３３までの距離ｄ５が、気体噴射口３３から対向面６１の下流端までの距離ｄ６よりも小さいので、気体噴射口３３の下流側において、対向面６１と支持面５１ａとの対向間隔が狭い領域が一定以上の長さに形成されている。よって、この領域を介して、下流側の第２回収路８１によって良好にエッチング液を吸引することができる。
【0068】
また、搬送方向において、エッチング液吐出口４３から気体噴射口３３までの距離ｄ５が、エッチング液吐出口４３から対向面６１の上流端までの距離ｄ７よりも小さいので、エッチング液吐出口４３の上流側において、対向面６１と支持面５１ａとの対向間隔が狭い領域が一定以上の長さに形成されている。よって、この領域を介して、上流側の第１回収路７１によって良好にエッチング液を吸引することができる。
【0069】
〔第２実施形態〕
次に、図６を用いて第２実施形態に係るエッチング装置１００について説明する。
図６は本実施形態に係るエッチング装置１００のエッチングユニット９０の部分拡大の側断面図である。
本実施形態に係るエッチング装置１００は、以下に説明する点で、上記の第１実施形態に係るエッチング装置１００と相違しており、その他の点では上記の第１実施形態に係るエッチング装置１００と同様に構成されている。
次に、図６を用いて第２実施形態に係るエッチング装置１００について説明する。
図６は本実施形態に係るエッチング装置１００のエッチングユニット９０の部分拡大の側断面図である。
本実施形態に係るエッチング装置１００は、以下に説明する点で、上記の第１実施形態に係るエッチング装置１００と相違しており、その他の点では上記の第１実施形態に係るエッチング装置１００と同様に構成されている。
【0070】
本実施形態の場合、ワーク１０の一方の面１１に対して直交し且つ搬送方向に沿う平面で切断した断面（図６に示す断面）において、気体供給路３２の延長線とエッチング液供給路４２の延長線とが、ワーク１０の一方の面１１への到達後に交差するようになっている。
すなわち、図６に示す直線Ｌ１（上記断面における気体供給路３２の軸線）と直線Ｌ２（上記断面におけるエッチング液供給路４２の軸線）との交点Ｉが、一方の面１１を基準として、対向面６１側とは反対側（下側）に位置するようになっている。
すなわち、図６に示す直線Ｌ１（上記断面における気体供給路３２の軸線）と直線Ｌ２（上記断面におけるエッチング液供給路４２の軸線）との交点Ｉが、一方の面１１を基準として、対向面６１側とは反対側（下側）に位置するようになっている。
【0071】
本実施形態の場合も、距離ｄ０、ワーク１０の一方の面１１と第１方向とのなす角度、及び、第１方向に対する第２方向の傾斜角度は、第１実施形態と同様である。
本実施形態の場合、距離ｄ５は、距離ｄ０よりも大きくしてもよい。
本実施形態の場合、距離ｄ５は、例えば、１ｍｍ以上とすることができる。
本実施形態の場合、距離ｄ５は、距離ｄ０よりも大きくしてもよい。
本実施形態の場合、距離ｄ５は、例えば、１ｍｍ以上とすることができる。
【0072】
本実施形態の場合、エッチング液吐出口４３から吐出されたエッチング液と気体噴射口３３から噴射された気体とは、例えば、対向面６１と一方の面１１との間では衝突せず、エッチング液が一方の面１１上に供給された後、当該エッチング液に対して、気体噴射口３３から噴射された気体が衝突し、該エッチング液を気体による付勢によって一方の面１１に対して連続的に打ち付ける動作となる。
【0073】
本実施形態においても、ワーク１０のエッチングを良好に行うことが可能である。
なお、本実施形態では、気体供給路３２の延長線とエッチング液供給路４２の延長線とが、ワーク１０の一方の面１１への到達後に交差するため、一方の面１１に付着したエッチング液が下流側に移動してしまうことを、気体噴射口３３から噴射される気流によって堰き止めることができる。よって、一方の面１１にエッチング液が付着したままワーク１０がエッチングユニット９０の下流側に搬送されてしまうことをより確実に抑制できる。また、気体噴射口３３から噴射される気体によって、対向面６１と一方の面１１との間のエッチング液の一部を一方の面１１から除去された異物とともに上流側に押し流し、これを第１回収路７１により回収することができる。
なお、本実施形態では、気体供給路３２の延長線とエッチング液供給路４２の延長線とが、ワーク１０の一方の面１１への到達後に交差するため、一方の面１１に付着したエッチング液が下流側に移動してしまうことを、気体噴射口３３から噴射される気流によって堰き止めることができる。よって、一方の面１１にエッチング液が付着したままワーク１０がエッチングユニット９０の下流側に搬送されてしまうことをより確実に抑制できる。また、気体噴射口３３から噴射される気体によって、対向面６１と一方の面１１との間のエッチング液の一部を一方の面１１から除去された異物とともに上流側に押し流し、これを第１回収路７１により回収することができる。
【0074】
〔第３実施形態〕
次に、図７及び図８を用いて第３実施形態に係るエッチング装置１００について説明する。
図７は第３実施形態に係るエッチング装置１００の側断面図であり、エッチングユニット９０及びその周辺の構成を示す。
図８は図７の部分拡大図であり、吐出ヘッド６０の対向面６１の近傍の構成を示す。
本実施形態に係るエッチング装置１００は、以下に説明する点で、上記の第１実施形態に係るエッチング装置１００と相違しており、その他の点では上記の第１実施形態に係るエッチング装置１００と同様に構成されている。
次に、図７及び図８を用いて第３実施形態に係るエッチング装置１００について説明する。
図７は第３実施形態に係るエッチング装置１００の側断面図であり、エッチングユニット９０及びその周辺の構成を示す。
図８は図７の部分拡大図であり、吐出ヘッド６０の対向面６１の近傍の構成を示す。
本実施形態に係るエッチング装置１００は、以下に説明する点で、上記の第１実施形態に係るエッチング装置１００と相違しており、その他の点では上記の第１実施形態に係るエッチング装置１００と同様に構成されている。
【0075】
上記の第１実施形態ではエッチングユニット９０と対向する位置においてワーク１０が平板状の吸引プレート５１に沿って直線的に移動する例を説明した。
これに対し、本実施形態の場合、搬送部は、ローラ２０、ローラ２１、吸引プレート５１及び吸引箱５２を備えておらず、その代わりに、図示しないモータ等のアクチュエータによって回転駆動されるローラ２５を備えている。
本実施形態では、エッチングユニット９０と対向する位置においてワーク１０が円筒状のローラ２５の周面２５ａに沿って円弧状に移動するようになっており、ワーク１０を面支持する支持面は、ローラ２５の周面２５ａである。
これに対し、本実施形態の場合、搬送部は、ローラ２０、ローラ２１、吸引プレート５１及び吸引箱５２を備えておらず、その代わりに、図示しないモータ等のアクチュエータによって回転駆動されるローラ２５を備えている。
本実施形態では、エッチングユニット９０と対向する位置においてワーク１０が円筒状のローラ２５の周面２５ａに沿って円弧状に移動するようになっており、ワーク１０を面支持する支持面は、ローラ２５の周面２５ａである。
【0076】
また、エッチングユニット９０においてローラ２５と対向する部位の形状もローラ２５の周面２５ａに沿う凹曲面となっている。
すなわち、搬送部は円筒状のローラ２５であり、支持面はローラ２５の周面２５ａであり、吐出ヘッド６０の対向面６１はローラ２５の周面２５ａに沿った凹曲面である。
また、第１回収路構成壁７２及び第２回収路構成壁８２においてローラ２５と対向する部位である曲面状対向部７２ｂ及び曲面状対向部８２ｂも、ローラ２５の周面２５ａに沿った形状となっている。
すなわち、搬送部は円筒状のローラ２５であり、支持面はローラ２５の周面２５ａであり、吐出ヘッド６０の対向面６１はローラ２５の周面２５ａに沿った凹曲面である。
また、第１回収路構成壁７２及び第２回収路構成壁８２においてローラ２５と対向する部位である曲面状対向部７２ｂ及び曲面状対向部８２ｂも、ローラ２５の周面２５ａに沿った形状となっている。
【0077】
図８に示すように、本実施形態の場合も、気体噴射口３３から支持面５１ａまでの距離ｄ１と、エッチング液吐出口４３から支持面５１ａまでの距離ｄ２とが互いに等しい。
また、対向面６１の各部と支持面である周面２５ａとの対向間隔（距離ｄ３）は、等間隔（対向面６１の各部において一定）となっている。
また、対向面６１の各部と支持面である周面２５ａとの対向間隔（距離ｄ３）は、等間隔（対向面６１の各部において一定）となっている。
【0078】
エッチングユニット９０の対向面６１は、例えば、下向きに配置されている。
エッチングユニット９０は、ワーク１０の一方の面１１のエッチングを行う。
エッチングユニット９０は、ワーク１０の一方の面１１のエッチングを行う。
【0079】
ローラ２５を含む搬送部によってワーク１０を搬送しながら、エッチングユニット９０によってワーク１０の一方の面１１のエッチングを行うことができる。
【0080】
本実施形態によっても、第１実施形態と同様の効果が得られる。
【0081】
〔第４実施形態〕
次に、図９を用いて第４実施形態に係るエッチング装置１００について説明する。
本実施形態に係るエッチング装置１００は、以下に説明する点で、上記の第１実施形態に係るエッチング装置１００と相違しており、その他の点では上記の第１実施形態に係るエッチング装置１００と同様に構成されている。
次に、図９を用いて第４実施形態に係るエッチング装置１００について説明する。
本実施形態に係るエッチング装置１００は、以下に説明する点で、上記の第１実施形態に係るエッチング装置１００と相違しており、その他の点では上記の第１実施形態に係るエッチング装置１００と同様に構成されている。
【0082】
図９に示すように、本実施形態に係るエッチング装置１００は、ワーク１０の搬送方向において第２回収路８１の下流側の位置に配置されていて第２回収路８１に向けて気体を噴射するエアナイフ１１０を備えている。すなわち、エアナイフ１１０は、搬送方向における上流側に向けて気体を噴射する。
【0083】
エアナイフ１１０は、例えば、図９の奥行き方向に延在する（搬送方向に対して直交し且つ支持面５１ａに沿う方向に延在する）主流路１１１と、主流路１１１に連通しているスリット状の噴射スリット１１２と、を備えている。噴射スリット１１２は、図９の奥行き方向に延在している。噴射スリット１１２は、主流路１１１から、搬送方向に対する逆方向に延びていて、当該噴射スリット１１２における主流路１１１側とは反対側の端（つまり噴射スリット１１２の先端）から気体を噴射する。よって、噴射スリット１１２の先端から、第２回収路８１に向けて（搬送方向における上流側に向けて）気体を噴射することができる。
エアナイフ１１０は、例えば、第２回収路構成壁８２の前面における下端部に固定されており、第２回収路構成壁８２の下端８２ａとワーク１０の一方の面１１との間に気体を噴射するようになっている。
噴射スリット１１２は、図９において左下がりに傾斜して配置されていて、噴射スリット１１２の先端（左端且つ下端）の高さ位置は、下端８２ａと同等の高さ位置に設定されている。
主流路１１１には、図示しない気体供給源から気体が供給されるようになっている。この気体供給源は、気体導入部９１を介して気体前室３１に気体を供給する気体供給源と共通でも良いし、それとは別の気体供給源であってもよい。
主流路１１１に供給された気体は、噴射スリット１１２に導入されて、該噴射スリット１１２の先端から噴射される。
エアナイフ１１０は、例えば、第２回収路構成壁８２の前面における下端部に固定されており、第２回収路構成壁８２の下端８２ａとワーク１０の一方の面１１との間に気体を噴射するようになっている。
噴射スリット１１２は、図９において左下がりに傾斜して配置されていて、噴射スリット１１２の先端（左端且つ下端）の高さ位置は、下端８２ａと同等の高さ位置に設定されている。
主流路１１１には、図示しない気体供給源から気体が供給されるようになっている。この気体供給源は、気体導入部９１を介して気体前室３１に気体を供給する気体供給源と共通でも良いし、それとは別の気体供給源であってもよい。
主流路１１１に供給された気体は、噴射スリット１１２に導入されて、該噴射スリット１１２の先端から噴射される。
【0084】
本実施形態によれば、エッチング装置１００がエアナイフ１１０を備えていることにより、エッチング液吐出口４３から吐出されてワーク１０の一方の面１１に付着したエッチング液のうち、吐出ヘッド６０の上流側及び下流側の第１回収路７１及び第２回収路８１によって回収しきれずに一旦は第２回収路８１の下流側まで搬送されてきたエッチング液を、第２回収路８１側に押し戻し、該第２回収路８１によってより確実に回収させることができる。
よって、エッチングユニット９０を通過後のワーク１０の一方の面１１におけるエッチング液の残留を抑制することができるため、エッチングユニット９０を通過後のワーク１０の一方の面１１をより乾燥した状態にすることができる。これにより、エッチングユニット９０の下流側に配置されているローラ（図１に示すローラ２１）にエッチング液が付着してしまうことを抑制できる。
よって、エッチングユニット９０を通過後のワーク１０の一方の面１１におけるエッチング液の残留を抑制することができるため、エッチングユニット９０を通過後のワーク１０の一方の面１１をより乾燥した状態にすることができる。これにより、エッチングユニット９０の下流側に配置されているローラ（図１に示すローラ２１）にエッチング液が付着してしまうことを抑制できる。
【0085】
〔第５実施形態〕
次に、図１０を用いて第５実施形態に係るエッチング装置１００について説明する。
本実施形態に係るエッチング装置１００は、以下に説明する点で、上記の第３実施形態に係るエッチング装置１００と相違しており、その他の点では上記の第３実施形態に係るエッチング装置１００と同様に構成されている。
次に、図１０を用いて第５実施形態に係るエッチング装置１００について説明する。
本実施形態に係るエッチング装置１００は、以下に説明する点で、上記の第３実施形態に係るエッチング装置１００と相違しており、その他の点では上記の第３実施形態に係るエッチング装置１００と同様に構成されている。
【0086】
図１０に示すように、本実施形態に係るエッチング装置１００は、ワーク１０の搬送方向において第２回収路８１の下流側の位置に配置されていて第２回収路８１に向けて気体を噴射するエアナイフ１１０を備えている。すなわち、エアナイフ１１０は、搬送方向における上流側に向けて気体を噴射する。
【0087】
エアナイフ１１０の構造は、第４実施形態と同様である。
すなわち、エアナイフ１１０は、例えば、図１０の奥行き方向に延在する主流路１１１と、主流路１１１に連通しているスリット状の噴射スリット１１２と、を備えており、噴射スリット１１２の先端から、第２回収路８１に向けて気体を噴射することができる。
エアナイフ１１０は、例えば、第２回収路構成壁８２の前端部における下面に固定されており、第２回収路構成壁８２の曲面状対向部８２ｂとワーク１０の一方の面１１との間に気体を噴射するようになっている。
噴射スリット１１２は、図１０において左上がりに傾斜して配置されている。噴射スリット１１２の先端と周面２５ａとの距離は、曲面状対向部８２ｂと周面２５ａとの距離と同等の距離に設定されている。
すなわち、エアナイフ１１０は、例えば、図１０の奥行き方向に延在する主流路１１１と、主流路１１１に連通しているスリット状の噴射スリット１１２と、を備えており、噴射スリット１１２の先端から、第２回収路８１に向けて気体を噴射することができる。
エアナイフ１１０は、例えば、第２回収路構成壁８２の前端部における下面に固定されており、第２回収路構成壁８２の曲面状対向部８２ｂとワーク１０の一方の面１１との間に気体を噴射するようになっている。
噴射スリット１１２は、図１０において左上がりに傾斜して配置されている。噴射スリット１１２の先端と周面２５ａとの距離は、曲面状対向部８２ｂと周面２５ａとの距離と同等の距離に設定されている。
【0088】
本実施形態によっても、エッチング装置１００がエアナイフ１１０を備えていることにより、エッチング液吐出口４３から吐出されてワーク１０の一方の面１１に付着したエッチング液のうち、吐出ヘッド６０の上流側及び下流側の第１回収路７１及び第２回収路８１によって回収しきれずに一旦は第２回収路８１の下流側まで搬送されてきたエッチング液を、第２回収路８１側に押し戻し、該第２回収路８１によってより確実に回収させることができる。
よって、エッチングユニット９０を通過後のワーク１０の一方の面１１におけるエッチング液の残留を抑制することができるため、エッチングユニット９０を通過後のワーク１０の一方の面１１をより乾燥した状態にすることができる。これにより、エッチングユニット９０の下流側に配置されているローラにエッチング液が付着してしまうことを抑制できる。
よって、エッチングユニット９０を通過後のワーク１０の一方の面１１におけるエッチング液の残留を抑制することができるため、エッチングユニット９０を通過後のワーク１０の一方の面１１をより乾燥した状態にすることができる。これにより、エッチングユニット９０の下流側に配置されているローラにエッチング液が付着してしまうことを抑制できる。
【0089】
〔第６実施形態〕
次に、図１１及び図１２を用いて第６実施形態に係るエッチング装置１００について説明する。
本実施形態に係るエッチング装置１００は、以下に説明する点で、上記の第１実施形態に係るエッチング装置１００と相違しており、その他の点では上記の第１実施形態に係るエッチング装置１００と同様に構成されている。
次に、図１１及び図１２を用いて第６実施形態に係るエッチング装置１００について説明する。
本実施形態に係るエッチング装置１００は、以下に説明する点で、上記の第１実施形態に係るエッチング装置１００と相違しており、その他の点では上記の第１実施形態に係るエッチング装置１００と同様に構成されている。
【0090】
上記の第１実施形態では、吐出ヘッド６０からエッチング液を吐出しつつ気体を噴射する例を説明したが、本実施形態の場合、吐出ヘッド６０からエッチング液と気体とのうちエッチング液のみをワーク１０に吐出する。
このため、図１１に示すように、エッチングユニット９０は、気体前室３１、気体供給路３２及び気体噴射口３３等を有していない。
また、図１２に示すように、エッチング装置１００は、ブロワ３４、フィルタ３５及び気体導入部９１を有していない。
このため、図１１に示すように、エッチングユニット９０は、気体前室３１、気体供給路３２及び気体噴射口３３等を有していない。
また、図１２に示すように、エッチング装置１００は、ブロワ３４、フィルタ３５及び気体導入部９１を有していない。
【0091】
本実施形態の場合、エッチング液前室４１、エッチング液供給路４２及びエッチング液吐出口４３が上記の第１実施形態における気体前室３１、気体供給路３２及び気体噴射口３３と同様に構成及び配置されている。
【0092】
したがって、本実施形態の場合、エッチング液吐出口４３から、ワーク１０の一方の面１１に対して直交する方向にエッチング液を吐出するように、エッチング装置１００が構成されている。
よって、本実施形態の場合も、ワーク１０の一方の面１１に勢いよくエッチング液を供給することができるので、ワーク１０の面直方向におけるエッチングの進行を容易に促進することができる。よって、良好なエッチファクターを実現できるため、より微細なパターンのエッチングを容易に行うことができる。
よって、本実施形態の場合も、ワーク１０の一方の面１１に勢いよくエッチング液を供給することができるので、ワーク１０の面直方向におけるエッチングの進行を容易に促進することができる。よって、良好なエッチファクターを実現できるため、より微細なパターンのエッチングを容易に行うことができる。
【0093】
ここで、エッチング液吐出口４３からのエッチング液の吐出方向がワーク１０の一方の面１１に対して直交しているとは、当該吐出方向が一方の面１１に対して略直交していることであり、例えば、当該吐出方向と一方の面１１とのなす角度が９０度±１０度以内であることが好ましく、当該吐出方向と一方の面１１とのなす角度が±５度以内であることが更に好ましい。
【0094】
エッチング液供給路４２は、エッチング液吐出口４３から遠い側から順に、第１部分４２ａ、第２部分４２ｂ及び第３部分４２ｃを備えている。
このうち第２部分４２ｂの流路幅（図１１における左右方向、すなわち搬送方向における流路幅）は、第１部分４２ａの流路幅よりも小さく、第３部分４２ｃの流路幅は、第２部分４２ｂの流路幅よりも更に小さい。
すなわち、エッチング液吐出口４３の長手方向に対して直交するエッチング液吐出口４３の幅方向において、エッチング液供給路４２の内腔領域の寸法が、下流側に向けて段階的に縮小している。
よって、ワーク１０の一方の面１１により勢いよくエッチング液を供給することができる。
なお、第１部分４２ａ、第２部分４２ｂ及び第３部分４２ｃの形状及び配置は、第１実施形態における第１部分３２ａ、第２部分３２ｂ及び第３部分３２ｃの形状及び配置と同様である。
このうち第２部分４２ｂの流路幅（図１１における左右方向、すなわち搬送方向における流路幅）は、第１部分４２ａの流路幅よりも小さく、第３部分４２ｃの流路幅は、第２部分４２ｂの流路幅よりも更に小さい。
すなわち、エッチング液吐出口４３の長手方向に対して直交するエッチング液吐出口４３の幅方向において、エッチング液供給路４２の内腔領域の寸法が、下流側に向けて段階的に縮小している。
よって、ワーク１０の一方の面１１により勢いよくエッチング液を供給することができる。
なお、第１部分４２ａ、第２部分４２ｂ及び第３部分４２ｃの形状及び配置は、第１実施形態における第１部分３２ａ、第２部分３２ｂ及び第３部分３２ｃの形状及び配置と同様である。
【0095】
本実施形態の場合も、吐出ヘッド６０の対向面６１の各部と吸引プレート５１の支持面５１ａとの対向間隔が等間隔である。
すなわち、エッチング装置１００は、エッチング液吐出口４３を有する吐出ヘッド６０を備え、搬送部は、一方の面１１に対する裏面１２にてワーク１０を面支持する支持面５１ａを有し、吐出ヘッド６０は、支持面５１ａに対して対向する対向面６１を有し、対向面６１の各部と支持面５１ａとの対向間隔が等間隔である。
すなわち、エッチング装置１００は、エッチング液吐出口４３を有する吐出ヘッド６０を備え、搬送部は、一方の面１１に対する裏面１２にてワーク１０を面支持する支持面５１ａを有し、吐出ヘッド６０は、支持面５１ａに対して対向する対向面６１を有し、対向面６１の各部と支持面５１ａとの対向間隔が等間隔である。
【0096】
以上、図面を参照して各実施形態を説明したが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することもできる。
【0097】
エッチング液吐出口４３と対向する位置で搬送されるワーク１０の姿勢は、水平な姿勢に限らず、例えば、鉛直な姿勢や傾斜した姿勢であってもよい。
また、気体噴射口３３からの気体の噴射方向や、エッチング液吐出口４３からのエッチング液の吐出方向は、下向き成分を持つ方向に限らず、例えば、水平方向などであってもよい。
また、気体噴射口３３からの気体の噴射方向や、エッチング液吐出口４３からのエッチング液の吐出方向は、下向き成分を持つ方向に限らず、例えば、水平方向などであってもよい。
【0098】
また、上記の実施形態は、内容が相反しない範囲で組み合わせることができる。
【0099】
本実施形態は以下の技術思想を包含する。
（１）搬送されるシート状のワークの一方の面にエッチング液を供給して前記ワークのエッチングを行うエッチング装置であって、
前記ワークを所定の搬送方向に搬送する搬送部と、
前記エッチング液を吐出するエッチング液吐出口と、
を備え、
前記エッチング液吐出口は、前記搬送方向に対して直交する前記ワークの幅方向に長尺なスリット状であり、前記ワークの幅方向における両端間に亘って連続的に延在しているエッチング装置。
（２）前記エッチング液吐出口よりも前記搬送方向の下流側又は上流側における前記エッチング液吐出口の近傍において前記エッチング液吐出口とは独立して配置され、前記ワークの前記一方の面に気体を噴射する気体噴射口を備え、
前記気体噴射口は、前記ワークの幅方向に長尺なスリット状であり、前記ワークの幅方向における両端間に亘って連続的に延在している（１）に記載のエッチング装置。
（３）前記気体噴射口から、前記ワークの前記一方の面に対して直交する第１方向に前記気体を噴射する（２）に記載のエッチング装置。
（４）前記エッチング液吐出口からの前記エッチング液の吐出方向である第２方向は、前記第１方向に対して交差する方向である（３）に記載のエッチング装置。
（５）前記エッチング液吐出口に前記エッチング液を供給するエッチング液供給路と、
前記気体噴射口に気体を供給する気体供給路と、
を備え、
前記エッチング液供給路の下流端において前記エッチング液吐出口が開口しており、
前記気体供給路の下流端において前気体噴射口が開口しており、
前記一方の面に対して直交し且つ前記搬送方向に沿う平面で切断した断面において、前記気体供給路の延長線と前記エッチング液供給路の延長線とが、前記ワークの前記一方の面への到達前に交差する（２）から（４）のいずれか一項に記載のエッチング装置。
（６）前記気体噴射口に気体を供給する気体供給路を備え、
前記気体供給路の下流端において前気体噴射口が開口しており、
前記気体噴射口の長手方向に対して直交する前記気体噴射口の幅方向において、前記気体供給路の内腔領域の寸法が、下流側に向けて段階的に縮小している（２）から（５）のいずれか一項に記載のエッチング装置。
（７）前記搬送部は、前記一方の面に対する裏面にて前記ワークを面支持する支持面を有し、
前記気体噴射口から前記支持面までの距離と、前記エッチング液吐出口から前記支持面までの距離とが互いに等しい（２）から（６）のいずれか一項に記載のエッチング装置。
（８）前記気体噴射口と前記エッチング液吐出口とを有する吐出ヘッドを更に備え、
前記吐出ヘッドは、前記支持面に対して対向する対向面を有し、
前記対向面の各部と前記支持面との対向間隔が等間隔であり、
前記対向面において前記気体噴射口及び前記エッチング液吐出口が互いに独立して開口している（７）に記載のエッチング装置。
（９）前記エッチング液吐出口から、前記ワークの前記一方の面に対して直交する方向に前記エッチング液を吐出する（１）に記載のエッチング装置。
（１０）前記エッチング液吐出口に前記エッチング液を供給するエッチング液供給路を備え、
前記エッチング液供給路の下流端において前記エッチング液吐出口が開口しており、
前記エッチング液吐出口の長手方向に対して直交する前記エッチング液吐出口の幅方向において、前記エッチング液供給路の内腔領域の寸法が、下流側に向けて段階的に縮小している（９）に記載のエッチング装置。
（１１）前記エッチング液吐出口を有する吐出ヘッドを更に備え、
前記搬送部は、前記一方の面に対する裏面にて前記ワークを面支持する支持面を有し、
前記吐出ヘッドは、前記支持面に対して対向する対向面を有し、
前記対向面の各部と前記支持面との対向間隔が等間隔である（９）又は（１０）に記載のエッチング装置。
（１２）前記支持面と前記対向面とがそれぞれ平面状であり、前記支持面と前記対向面とが互いに平行に対向している（８）又は（１１）に記載のエッチング装置。
（１３）前記搬送部は円筒状のローラであり、
前記支持面は前記ローラの周面であり、
前記対向面は前記ローラの前記周面に沿った凹曲面である（８）又は（１１）に記載のエッチング装置。
（１４）前記搬送方向における前記対向面の寸法が、前記対向面と前記支持面との対向間隔よりも大きい（８）、（１１）、（１２）又は（１３）のいずれか一項に記載のエッチング装置。
（１５）前記エッチング液吐出口を有する吐出ヘッドと、
前記搬送方向において前記吐出ヘッドの上流側の位置に配置され、前記エッチング液吐出口から吐出された前記エッチング液を吸引して回収する第１回収路と、
前記搬送方向において前記吐出ヘッドの下流側の位置に配置され、前記エッチング液吐出口から吐出された前記エッチング液を吸引して回収する第２回収路と、
を備える（１）から（１４）のいずれか一項に記載のエッチング装置。
（１）搬送されるシート状のワークの一方の面にエッチング液を供給して前記ワークのエッチングを行うエッチング装置であって、
前記ワークを所定の搬送方向に搬送する搬送部と、
前記エッチング液を吐出するエッチング液吐出口と、
を備え、
前記エッチング液吐出口は、前記搬送方向に対して直交する前記ワークの幅方向に長尺なスリット状であり、前記ワークの幅方向における両端間に亘って連続的に延在しているエッチング装置。
（２）前記エッチング液吐出口よりも前記搬送方向の下流側又は上流側における前記エッチング液吐出口の近傍において前記エッチング液吐出口とは独立して配置され、前記ワークの前記一方の面に気体を噴射する気体噴射口を備え、
前記気体噴射口は、前記ワークの幅方向に長尺なスリット状であり、前記ワークの幅方向における両端間に亘って連続的に延在している（１）に記載のエッチング装置。
（３）前記気体噴射口から、前記ワークの前記一方の面に対して直交する第１方向に前記気体を噴射する（２）に記載のエッチング装置。
（４）前記エッチング液吐出口からの前記エッチング液の吐出方向である第２方向は、前記第１方向に対して交差する方向である（３）に記載のエッチング装置。
（５）前記エッチング液吐出口に前記エッチング液を供給するエッチング液供給路と、
前記気体噴射口に気体を供給する気体供給路と、
を備え、
前記エッチング液供給路の下流端において前記エッチング液吐出口が開口しており、
前記気体供給路の下流端において前気体噴射口が開口しており、
前記一方の面に対して直交し且つ前記搬送方向に沿う平面で切断した断面において、前記気体供給路の延長線と前記エッチング液供給路の延長線とが、前記ワークの前記一方の面への到達前に交差する（２）から（４）のいずれか一項に記載のエッチング装置。
（６）前記気体噴射口に気体を供給する気体供給路を備え、
前記気体供給路の下流端において前気体噴射口が開口しており、
前記気体噴射口の長手方向に対して直交する前記気体噴射口の幅方向において、前記気体供給路の内腔領域の寸法が、下流側に向けて段階的に縮小している（２）から（５）のいずれか一項に記載のエッチング装置。
（７）前記搬送部は、前記一方の面に対する裏面にて前記ワークを面支持する支持面を有し、
前記気体噴射口から前記支持面までの距離と、前記エッチング液吐出口から前記支持面までの距離とが互いに等しい（２）から（６）のいずれか一項に記載のエッチング装置。
（８）前記気体噴射口と前記エッチング液吐出口とを有する吐出ヘッドを更に備え、
前記吐出ヘッドは、前記支持面に対して対向する対向面を有し、
前記対向面の各部と前記支持面との対向間隔が等間隔であり、
前記対向面において前記気体噴射口及び前記エッチング液吐出口が互いに独立して開口している（７）に記載のエッチング装置。
（９）前記エッチング液吐出口から、前記ワークの前記一方の面に対して直交する方向に前記エッチング液を吐出する（１）に記載のエッチング装置。
（１０）前記エッチング液吐出口に前記エッチング液を供給するエッチング液供給路を備え、
前記エッチング液供給路の下流端において前記エッチング液吐出口が開口しており、
前記エッチング液吐出口の長手方向に対して直交する前記エッチング液吐出口の幅方向において、前記エッチング液供給路の内腔領域の寸法が、下流側に向けて段階的に縮小している（９）に記載のエッチング装置。
（１１）前記エッチング液吐出口を有する吐出ヘッドを更に備え、
前記搬送部は、前記一方の面に対する裏面にて前記ワークを面支持する支持面を有し、
前記吐出ヘッドは、前記支持面に対して対向する対向面を有し、
前記対向面の各部と前記支持面との対向間隔が等間隔である（９）又は（１０）に記載のエッチング装置。
（１２）前記支持面と前記対向面とがそれぞれ平面状であり、前記支持面と前記対向面とが互いに平行に対向している（８）又は（１１）に記載のエッチング装置。
（１３）前記搬送部は円筒状のローラであり、
前記支持面は前記ローラの周面であり、
前記対向面は前記ローラの前記周面に沿った凹曲面である（８）又は（１１）に記載のエッチング装置。
（１４）前記搬送方向における前記対向面の寸法が、前記対向面と前記支持面との対向間隔よりも大きい（８）、（１１）、（１２）又は（１３）のいずれか一項に記載のエッチング装置。
（１５）前記エッチング液吐出口を有する吐出ヘッドと、
前記搬送方向において前記吐出ヘッドの上流側の位置に配置され、前記エッチング液吐出口から吐出された前記エッチング液を吸引して回収する第１回収路と、
前記搬送方向において前記吐出ヘッドの下流側の位置に配置され、前記エッチング液吐出口から吐出された前記エッチング液を吸引して回収する第２回収路と、
を備える（１）から（１４）のいずれか一項に記載のエッチング装置。
【符号の説明】
【0100】
１０ ワーク
１１ 一方の面
１２ 裏面
２０ ローラ（搬送部を構成する）
２１ ローラ（搬送部を構成する）
２５ ローラ（搬送部を構成する）
２５ａ 周面（支持面）
３１ 気体前室
３２ 気体供給路
３２ａ 第１部分
３２ｂ 第２部分
３２ｃ 第３部分
３３ 気体噴射口
３４ ブロワ
３５ フィルタ
４１ エッチング液前室
４２ エッチング液供給路
４２ａ 第１部分
４２ｂ 第２部分
４２ｃ 第３部分
４３ エッチング液吐出口
４４ 液槽
４５ ポンプ
４６ 弁
４７ 流量コントローラ
４８ 逆止弁
５１ 吸引プレート（搬送部を構成する）
５１ａ 支持面
５２ 吸引箱（搬送部を構成する）
５２ａ 陰圧室
６０ 吐出ヘッド
６１ 対向面
６１ａ 第１部分
６１ｂ 第２部分
６１ｃ 第３部分
７１ 第１回収路
７２ 第１回収路構成壁
７２ａ 下端
７２ｂ 曲面状対向部
７２ｃ 上端
７３ 吸引源連絡部
７４ 慣性集塵水切りフィルタボックス
７５ フィルタ
７６ ブロワ
７７ フィルタ
８１ 第２回収路
８２ 第２回収路構成壁
８２ａ 下端
８２ｂ 曲面状対向部
８２ｃ 上端
８３ 吸引源連絡部
９０ エッチングユニット
９１ 気体導入部
９２ エッチング液導入部
９３ 排出部
１００ エッチング装置
１１０ エアナイフ
１１０ａ 下面
１１０ｂ 対向面
１１１ 主流路
１１２ 噴射スリット
１１ 一方の面
１２ 裏面
２０ ローラ（搬送部を構成する）
２１ ローラ（搬送部を構成する）
２５ ローラ（搬送部を構成する）
２５ａ 周面（支持面）
３１ 気体前室
３２ 気体供給路
３２ａ 第１部分
３２ｂ 第２部分
３２ｃ 第３部分
３３ 気体噴射口
３４ ブロワ
３５ フィルタ
４１ エッチング液前室
４２ エッチング液供給路
４２ａ 第１部分
４２ｂ 第２部分
４２ｃ 第３部分
４３ エッチング液吐出口
４４ 液槽
４５ ポンプ
４６ 弁
４７ 流量コントローラ
４８ 逆止弁
５１ 吸引プレート（搬送部を構成する）
５１ａ 支持面
５２ 吸引箱（搬送部を構成する）
５２ａ 陰圧室
６０ 吐出ヘッド
６１ 対向面
６１ａ 第１部分
６１ｂ 第２部分
６１ｃ 第３部分
７１ 第１回収路
７２ 第１回収路構成壁
７２ａ 下端
７２ｂ 曲面状対向部
７２ｃ 上端
７３ 吸引源連絡部
７４ 慣性集塵水切りフィルタボックス
７５ フィルタ
７６ ブロワ
７７ フィルタ
８１ 第２回収路
８２ 第２回収路構成壁
８２ａ 下端
８２ｂ 曲面状対向部
８２ｃ 上端
８３ 吸引源連絡部
９０ エッチングユニット
９１ 気体導入部
９２ エッチング液導入部
９３ 排出部
１００ エッチング装置
１１０ エアナイフ
１１０ａ 下面
１１０ｂ 対向面
１１１ 主流路
１１２ 噴射スリット
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】