特許 7060009 レーザーレーダー装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2022-04-18

(45)【発行日】2022-04-26

(54)【発明の名称】レーザーレーダー装置

(51)【国際特許分類】

   G01S 7/486 20200101AFI20220419BHJP

   H01L 31/107 20060101ALI20220419BHJP

【ＦＩ】

G01S7/486

H01L31/10 B

【請求項の数】 13

(21)【出願番号】P 2019507501

(86)(22)【出願日】2018-03-05

(86)【国際出願番号】 JP2018008253

(87)【国際公開番号】W WO2018173712

(87)【国際公開日】2018-09-27

【審査請求日】2020-09-28

(31)【優先権主張番号】P 2017055292

(32)【優先日】2017-03-22

(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP

(73)【特許権者】

【識別番号】000001270

【氏名又は名称】コニカミノルタ株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110001254

【氏名又は名称】特許業務法人光陽国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】竹内 裕一

【審査官】山下 雅人

(56)【参考文献】

【文献】特開２０１７－０３２５５２（ＪＰ，Ａ）

【文献】特表２０１６－５２６２９５（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１４－１３０８９０（ＪＰ，Ａ）

【文献】米国特許出願公開第２０１４／０２９１６８２（ＵＳ，Ａ１）

【文献】特開２００９－１２４１４５（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１１－２２２８７４（ＪＰ，Ａ）

【文献】国際公開第２０１８／０２１１２６（ＷＯ，Ａ１）

【文献】MORSE M. et al.，Performance of Ge/Si receivers at 1310nm，Physica E，2009年05月，Volume 41, Issue 6，1076-1081

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｇ０１Ｓ ７／４８ － ７／５１

Ｇ０１Ｓ１７／００ －１７／９５

Ｈ０１Ｌ３１／１０７

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

レーザー光を対象物に対して照射する投光部と、前記対象物で散乱した前記レーザー光の散乱光を受光する受光部と、を備えたレーザーレーダー装置であって、
前記レーザー光の波長が、１４００～２６００ｎｍの範囲内であり、
前記受光部は、基板上に、シリコン（Ｓｉ）を含有する増幅層、ゲルマニウム（Ｇｅ）を含有する吸収層及び反射防止層がこの順に積層されてなり、前記散乱光を受光する受光素子を有し、
前記増幅層が、ｎ型にドープされたｎ－Ｓｉ層と、ｐ型にドープされたｐ－Ｓｉ層とを前記基板上に少なくともこの順に有しており、
前記吸収層が、真性領域であるｉ－Ｇｅ層と、ｐ型にドープされたｐ－Ｇｅ層とを前記増幅層上に少なくともこの順に有しており、
当該吸収層の厚さが、前記レーザー光の８０％以上を吸収する厚さであるレーザーレーダー装置。

【請求項2】

前記吸収層が、前記ｉ－Ｇｅ層と前記増幅層との間に、第２のｐ－Ｇｅ層を有する請求項１に記載のレーザーレーダー装置。

【請求項3】

前記吸収層が、前記ｐ－Ｇｅ層よりも高濃度でｐ型にドープされたｐ^＋－Ｇｅ層を有し、前記ｐ－Ｇｅ層上に前記ｐ^＋－Ｇｅ層が積層されている請求項１又は請求項２に記載のレーザーレーダー装置。

【請求項4】

前記増幅層が、ｎ－Ｓｉ層とｐ－Ｓｉ層との間に、真性領域であるｉ－Ｓｉ層を有する請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載のレーザーレーダー装置。

【請求項5】

前記反射防止層を形成する材料の屈折率が、１．２～３．５の範囲内である請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載のレーザーレーダー装置。

【請求項6】

前記反射防止層の表面には、微細な凹凸構造が形成されている請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載のレーザーレーダー装置。

【請求項7】

前記微細な凹凸構造は、モスアイ構造である請求項６に記載のレーザーレーダー装置。

【請求項8】

前記反射防止層が、複数の反射防止層が積層された多層構造を有する請求項１から請求項７までのいずれか一項に記載のレーザーレーダー装置。

【請求項9】

前記基板の前記吸収層が設けられた側とは反対側に、前記吸収層で受光対象となる光の少なくとも一部を反射する光反射層が形成されている請求項１から請求項８までのいずれか一項に記載のレーザーレーダー装置。

【請求項10】

前記受光部が、複数の前記受光素子が１次元又は２次元アレイ状に配列されてなる近赤外光検出器を備える請求項１から請求項９までのいずれか一項に記載のレーザーレーダー装置。

【請求項11】

前記レーザー光のレーザー光源が、半導体レーザー又はファイバーレーザーである請求項１から請求項１０までのいずれか一項に記載のレーザーレーダー装置。

【請求項12】

前記投光部から照射された前記レーザー光を主走査方向に走査するための走査部を更に備える請求項１から請求項１１までのいずれか一項に記載のレーザーレーダー装置。

【請求項13】

前記走査部として、ポリゴンミラー又はＭＥＭＳミラーを用いる請求項１２に記載のレーザーレーダー装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、レーザー照射に対する散乱光を検出し、対象物までの距離を計測するレーザーレーダー装置に関する。具体的には、本発明は、ゲルマニウム（Ｇｅ）の吸収層を有し、生産性が高くて製造コストが低く、かつ自由空間からの光を効率的に受光できる受光素子を用いたレーザーレーダー装置に関する。

【背景技術】

【0002】

従来、レーザーレーダー（ライダー）等の計測機器においては、例えば、目の網膜まで達しにくい波長１４００～２６００ｎｍの範囲内の光を光源から投光し、その光を受光素子により受光することによって対象物の計測が行われている。現在、光源に関しては様々な選択肢があるものの、受光素子については選択肢が限られており、課題も多い。

【0003】

これらの近赤外光に受光感度をもつ従来の受光素子としては、低ノイズであり、かつ応答速度が速いという観点から、例えば、インジウム・ガリウム・ヒ素（ＩｎＧａＡｓ）といった化合物半導体が用いられることが多い。
しかし、インジウム・ガリウム・ヒ素（ＩｎＧａＡｓ）を用いる方法は、生産性が非常に悪く、かつ製造コストを要するという問題がある。そこで、生産性が高く、かつ製造コストを抑えられる新しい受光素子が求められている。

【0004】

ところで、インジウム・ガリウム・ヒ素（ＩｎＧａＡｓ）を用いずに、波長１５５０ｎｍ付近の近赤外線領域に受光感度をもつ受光素子としては、ゲルマニウム（Ｇｅ）を吸収層に用いた受光素子が知られている。

【0005】

このような受光素子としては、真性半導体として、ゲルマニウム（Ｇｅ）や、シリコン（Ｓｉ）－ゲルマニウム（Ｇｅ）を用いることで、近赤外線領域の波長の光を吸収し、光通信等の用途で好適に使用できる光学素子が開示されている（特許文献１）。特許文献１では、ｐドープ領域、真性領域及びｎドープ領域を有し、ｐドープ領域及びｎドープ領域の少なくとも一方がアレイ状に配置されたアバランシェフォトダイオード（ＡＰＤ：avalanche photodiode）が開示されている。

【0006】

また、他の受光素子の例としては、シリコン（Ｓｉ）層上にゲルマニウム（Ｇｅ）を成長させることで、ゲルマニウム（Ｇｅ）を吸収層、シリコン（Ｓｉ）を増幅層としたアバランシェフォトダイオード（ＡＰＤ）の構成が開示されている（非特許文献１）。非特許文献１の受光素子によれば、ゲルマニウム（Ｇｅ）はノイズが多いことが知られているものの、シリコン（Ｓｉ）を増幅層とすることで、低ノイズであり、かつ上述した近赤外線領域の波長に感度を持つセンサーを製造することができることが記載されている。

【0007】

これらの光学素子は光通信用の用途に用いることを想定したものであるため、低消費電力であり、かつ応答速度が速くなるように構成されている。そのため、通常、導波路状に形成された吸収層を用いて光を伝播、吸収する構成となっている（図１５参照）。導波路状の吸収層は、層厚を薄くしても、光を吸収するための相互作用長（図１５のＬ２）を長くとることができるので、暗電流等に起因するノイズを抑え、応答速度が速くすることができる。また、印加電圧を抑えられるため、消費電力も抑えることができる。

【0008】

しかし、これらの光学素子は、光通信用の用途に用いることを想定したものであり、自由空間からの光を受光する用途に用いることは難しい。
特に、ゲルマニウム（Ｇｅ）は屈折率が４程度と非常に大きく、自由空間からの光は、入射角度が大きいものも多いため、吸収層表面で反射してしまう割合も大きく、吸収層にて効率的に吸収することができない。
また、光通信用の用途に用いられる受光素子は、上述したように、吸収層が薄くなっているため、自由空間からの光の受光するための受光素子に用いる場合には、光を吸収するための相互作用長（図８のＬ１）が短くなり、吸収層において、十分に光を吸収することができないという問題が生じる。また、ゲルマニウム（Ｇｅ）からなる吸収層は、ノイズが非常に大きいため、単に吸収層の層厚を厚くしただけでは、応答速度が遅くなるとともに、ノイズが非常に大きくなるため、自由空間からの光を受光する用途に用いることはできない。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0009】

【文献】特開２０１４－１０７５６２号公報

【非特許文献】

【0010】

【文献】Ｎａｔｕｒｅ Ｐｈｏｔｏｎｉｃｓ，２０１０，４，５２７－５３４．

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0011】

本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、生産性が高くて製造コストが低く、かつ自由空間からの光を効率的に受光できるレーザーレーダー装置を提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0012】

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、基板上に、増幅層、吸収層及び反射防止層を順に有し、前記増幅層は少なくともｐ－Ｓｉ層及びｎ－Ｓｉ層を有し、前記吸収層は少なくともｐ－Ｇｅ層を有する受光素子とすることによって、当該吸収層の受光感度の大きい近赤外光を自由空間から効率的に受光できることを見いだし、本発明に至った。
すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。

【0013】

１．レーザー光を対象物に対して照射する投光部と、前記対象物で散乱した前記レーザー光の散乱光を受光する受光部と、を備えたレーザーレーダー装置であって、
前記レーザー光の波長が、１４００～２６００ｎｍの範囲内であり、
前記受光部は、基板上に、シリコン（Ｓｉ）を含有する増幅層、ゲルマニウム（Ｇｅ）を含有する吸収層及び反射防止層がこの順に積層されてなり、前記散乱光を受光する受光素子を有し、
前記増幅層が、ｎ型にドープされたｎ－Ｓｉ層と、ｐ型にドープされたｐ－Ｓｉ層とを前記基板上に少なくともこの順に有しており、
前記吸収層が、真性領域であるｉ－Ｇｅ層と、ｐ型にドープされたｐ－Ｇｅ層とを前記増幅層上に少なくともこの順に有しており、
当該吸収層の厚さが、前記レーザー光の８０％以上を吸収する厚さであるレーザーレーダー装置。

【0015】

２．前記吸収層が、前記ｉ－Ｇｅ層と前記増幅層との間に、第２のｐ－Ｇｅ層を有する第１項に記載のレーザーレーダー装置。

【0016】

３．前記吸収層が、前記ｐ－Ｇｅ層よりも高濃度でｐ型にドープされたｐ＋－Ｇｅ層を有し、前記ｐ－Ｇｅ層上に前記ｐ＋－Ｇｅ層が積層されている第１項又は第２項に記載のレーザーレーダー装置。

【0017】

４．前記増幅層が、ｎ－Ｓｉ層とｐ－Ｓｉ層との間に、真性領域であるｉ－Ｓｉ層を有する第１項から第３項までのいずれか一項に記載のレーザーレーダー装置。

【0018】

５．前記反射防止層を形成する材料の屈折率が、１．２～３．５の範囲内である第１項から第４項までのいずれか一項に記載のレーザーレーダー装置。

【0019】

６．前記反射防止層の表面には、微細な凹凸構造が形成されている第１項から第５項までのいずれか一項に記載のレーザーレーダー装置。

【0020】

７．前記微細な凹凸構造は、モスアイ構造である第６項に記載のレーザーレーダー装置。

【0021】

８．前記反射防止層が、複数の反射防止層が積層された多層構造を有する第１項から第７項までのいずれか一項に記載のレーザーレーダー装置。

【0022】

９．前記基板の前記吸収層が設けられた側とは反対側に、前記吸収層で受光対象となる光の少なくとも一部を反射する光反射層が形成されている第１項から第８項までのいずれか一項に記載のレーザーレーダー装置。

【0023】

１０．前記受光部が、複数の前記受光素子が１次元又は２次元アレイ状に配列されてなる近赤外光検出器を備える第１項から第９項までのいずれか一項に記載のレーザーレーダー装置。

【0024】

１１．前記レーザー光のレーザー光源が、半導体レーザー又はファイバーレーザーである第１項から第１０項までのいずれか一項に記載のレーザーレーダー装置。

【0026】

１２．前記投光部から照射された前記レーザー光を主走査方向に走査するための走査部を更に備える第１項から第１１項までのいずれか一項に記載のレーザーレーダー装置。

【0027】

１３．前記走査部として、ポリゴンミラー又はＭＥＭＳミラーを用いる第１２項に記載のレーザーレーダー装置。

【発明の効果】

【0028】

本発明の上記手段によれば、生産性が高くて製造コストが低く、かつ自由空間からの光を効率的に受光できるレーザーレーダー装置を提供することが可能となる。
上記効果の作用機構は、以下のとおりである。

【0029】

本発明の受光素子は、基板上に、シリコン（Ｓｉ）を含有する増幅層、ゲルマニウム（Ｇｅ）を含有する吸収層及び反射防止層がこの順に積層されている。
ゲルマニウム（Ｇｅ）を含有する吸収層は、屈折率が非常に大きいため、自由空間からの光は、吸収層表面で反射しやすいが、反射防止層によって、受光素子表面での反射を防止することで、受光素子内部への入光量を増やすことができる。
また、本発明の受光素子は、吸収層が、ｐ型にドープされたｐ－Ｇｅ層を少なくとも有している。ｐ－Ｇｅ層は、キャリアの移動は遅いもののノイズが少ないので、例えば、ｐ－Ｇｅ層の割合を多くして吸収層を厚く設けることで、受光感度（量子効率）を向上させるとともに、ノイズも抑えることができる。
また、本発明は、シリコン（Ｓｉ）を含有する増幅層を有しているので、吸収層から移動したキャリアの移動を増幅させ、より大きな電流を流すことができる。また、Ｓｉを増幅層とすることで、ゲルマニウム（Ｇｅ）の吸収波長の光に感度を有しつつ、低ノイズであるセンサーとすることができる。

【0030】

また、本発明の受光素子は、シリコン（Ｓｉ）層にゲルマニウム（Ｇｅ）を積層した受光素子であるため、ウエハサイズの大きなシリコンウエハを用いて生産することができる。そのため、ウエハサイズの小さいシリコンインジウム・ガリウム・ヒ素（ＩｎＧａＡｓ）を用いる方法よりも、生産性が高く、かつ製造コストを低くおさえることができる。

【図面の簡単な説明】

【0031】

【図1】レーザーレーダー装置の構成を示すブロック図

【図2】レーザーレーダー装置の概略構成の一例を示す模式図

【図3】走査部におけるレーザーの走査について説明するための模式図

【図4】レーザーレーダー装置の概略構成の他の一例を示す模式図

【図5】レーザーレーダー装置の概略構成の他の一例を示す模式図

【図6】光学素子がアレイ状に配列された近赤外光検出器の概略構成を示す平面図

【図7】図６の近赤外光検出器のVII-VII部分の断面図

【図8】光学素子の吸収層で自由光を吸収する様子を模式的に示した断面図

【図9】受光素子の層構成を示す断面図

【図10】図９の受光素子の層構成におけるバンドギャップ図

【図11】受光素子の層構成の他の例を示す断面図

【図12】受光素子の層構成の他の例を示す断面図

【図13】吸収層の層厚と光の吸収率の関係を示したグラフ

【図14】反射防止層の有無と光反射率の関係を示したグラフ

【図15】導波路状の吸収層を有する従来例に係る光学素子において、吸収層で光を吸収する様子を模式的に示した断面図

【発明を実施するための形態】

【0032】

本発明のレーザーレーダー装置は、レーザー光を対象物に対して照射する投光部と、当該対象物で散乱した当該レーザー光の散乱光を受光する受光部と、を備えたレーザーレーダー装置であって、前記レーザー光の波長が、１４００～２６００ｎｍの範囲内であり、前記受光部は、基板上に、シリコン（Ｓｉ）を含有する増幅層、ゲルマニウム（Ｇｅ）を含有する吸収層及び反射防止層がこの順に積層されてなり、前記散乱光を受光する受光素子を有し、前記増幅層が、ｎ型にドープされたｎ－Ｓｉ層と、ｐ型にドープされたｐ－Ｓｉ層とを前記基板上に少なくともこの順に有しており、前記吸収層が、真性領域であるｉ－Ｇｅ層と、ｐ型にドープされたｐ－Ｇｅ層とを前記増幅層上に少なくともこの順に有しており、当該吸収層の厚さが、前記レーザー光の８０％以上を吸収する厚さであることを特徴とする。この特徴は、下記実施態様に共通する又は対応する技術的特徴である。

【0034】

また、本発明の実施態様としては、前記吸収層が、前記ｐ－Ｇｅ層よりも高濃度でｐ型にドープされたｐ^＋－Ｇｅ層を有し、前記ｐ－Ｇｅ層上に前記ｐ^＋－Ｇｅ層が積層されていることが好ましい。これにより、キャリアの移動度を向上させ、応答速度を速くすることができる。また、バンド構造で、ｐ－Ｇｅ層とｐ^＋－Ｇｅ層でフェルミ準位が異なるためバンド間で傾きが生じ、電極から電子を取り出しやすくなる。また、ｐ－Ｇｅ層上にｐ^＋－Ｇｅ層が積層されていると、電子が増幅層側に導入しやすくなることが期待できる。さらに、電極との接触抵抗を下げることもできる。

【0035】

また、本発明の実施態様としては、増幅層をｐｉｎ構造とすることでより大きな増幅作用を得る観点から、前記増幅層が、ｎ－Ｓｉ層とｐ－Ｓｉ層との間に、真性領域であるｉ－Ｓｉ層を有することが好ましい。

【0036】

また、本発明の実施態様としては、反射を抑えて受光感度を向上させる観点から、前記反射防止層を形成する材料の屈折率が、１．２～３．５の範囲内であることが好ましい。

【0037】

また、本発明の実施態様としては、反射を抑えて受光感度を向上させる観点から、前記反射防止層の表面には、微細な凹凸構造が形成されていることが好ましい。また、前記微細な凹凸構造は、モスアイ構造であることが好ましい。

【0038】

また、本発明の実施態様としては、反射防止性能を向上させることで受光感度を向上させる観点から、前記反射防止層が、複数の反射防止層が積層された多層構造を有することが好ましい。

【0039】

また、本発明の実施態様としては、前記基板の前記吸収層が設けられた側とは反対側に、前記吸収層で受光対象となる光の少なくとも一部を反射する光反射層が形成されていることが好ましい。これにより、吸収層を通過した光を反射することで再度吸収層を通過させることができるため、光の吸収量を増加させることができ、受光感度を向上させることができる。

【0040】

また、本発明の実施態様としては、本発明の効果をより有効に得る観点から、前記受光部が、複数の前記受光素子が１次元又は２次元アレイ状に配列されてなる近赤外光検出器を備えることが好ましい。

【0041】

また、本発明の実施態様としては、小型でかつ高出力が可能であるという観点から、前記レーザー光のレーザー光源が、半導体レーザー又はファイバーレーザーであることが好ましい。

【0043】

また、本発明の実施態様としては、投光可能な角度を広げる観点から、前記投光部から照射された前記レーザー光を主走査方向に走査するための走査部を更に備えることが好ましい。

【0044】

また、本発明の実施態様としては、投光可能な角度を広げる観点から、前記走査部として、ポリゴンミラー又はＭＥＭＳミラーを用いることが好ましい。

【0045】

以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、数値範囲を表す「～」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用している。

【0046】

［レーザーレーダー装置］
本実施形態に係るレーザーレーダー装置１００は、図１に示すように、例えば、レーザー光Ｌを対象物５００に対して照射する投光部２００と、対象物５００で散乱したレーザー光Ｌの散乱光Ｓを受光する受光部３００と、投光部２００から照射されたレーザー光Ｌを主走査方向Ｄ１に走査する走査部４００とを備える。
また、本実施形態のレーザーレーダー装置１００は、走査部４００を設けずに、投光部２００から出射したレーザー光Ｌを対象物５００に直接照射する構成とすることもできる。しかし、投光可能な角度を広げる観点からは、レーザーレーダー装置１００には、走査部４００を備えることが好ましい。

【0047】

また、図１において、矢印の方向はレーザー光Ｌ又は散乱光Ｓが進む向きを示しており、具体的には、投光部２００から照射されたレーザー光Ｌが走査部４００を介して対象物５００に照射された後、対象物５００で散乱した散乱光Ｓが走査部４００を介して受光部３００に戻ることを意味している。

【0048】

また、レーザーレーダー装置１００では、投光部２００からレーザー光Ｌの照射を開始してから、受光部３００で散乱光Ｓを受光するまでの時間を計測し、当該計測した時間と光速とから、対象物５００までの距離を算出することができる。

【0049】

［投光部］
投光部２００は、レーザー光源２１０と、投光光学系（例えば、コリメータレンズ２２０）とを備える（図２等参照）。
レーザー光源２１０から照射されるレーザー光Ｌは、波長１４００～２６００ｎｍの範囲内（アイセーフ波長）のアイセーフレーザーであることが好ましい。アイセーフレーザーとは、目に対する障害閾値の大きなレーザーの総称である。目に障害を与えないレーザー光の強度については、国際電気標準会議（International Electrotechnical Commission, IEC）やアメリカ規格協会などにより安全基準が設定されており、レーザー光に対する最大許容露光量については、レーザー光の波長やレーザーの動作条件等に依存する。例えば、ＩＥＣ ６０８２５－１：２００７規格によれば、波長が１４００～２６００ｎｍの近赤外線レーザー光は、パルス幅、繰り返し周波数等を変えても他の波長よりも高い許容量を示すため、一般にアイセーフ波長とはこの波長を指す。

【0050】

レーザー光源２１０は、小型でかつ高出力が可能であるという観点から、半導体レーザー又はファイバーレーザーであることが好ましい。高出力が可能であると、より遠方までの物体を検出することが可能となるため好ましい。
半導体レーザーとしては、複数の光源を２次元に配列させて高出力のレーザー光Ｌを照射することができる観点から、ＶＣＳＥＬ（Vertical Cavity Surface Emitting LASER）を用いることが好ましい。
ファイバーレーザーとしては、例えば、エルビウムファイバーレーザーが挙げられる。

【0051】

また、投光部２００では、レーザー光源２１０から照射されたレーザー光Ｌが、投光光学系としてのコリメータレンズ２２０に入射する。コリメータレンズ２２０に入射されたレーザー光Ｌは、レーザー光Ｌの焦点の位置を調整して平行光線に変換され、走査部４００に出射される。
また、投光光学系の構成は適宜変更可能であり、例えば、コリメータレンズ２２０と走査部４００の間に、コリメータレンズ２２０から出射される平行光の一部のみを通過させることで、平行光を整形し、光量を調節するアパーチャーを設けることとしてもよい。

【0052】

［走査部］
走査部４００は、投光部２００から照射されたレーザー光Ｌを、主走査方向Ｄ１に走査（スキャン）する。走査部４００を備えることにより、投光・受光可能な角度が広がり、広範囲への投光・受光が可能となる。走査部４００としては、ポリゴンミラー又はＭＥＭＳミラーなどの二次元ミラーを用いることが好ましい。
図２には、走査部４００としてポリゴンミラーを用いた例を示している。また、図３には、走査部４００におけるレーザー光Ｌの走査を説明する模式図を示す。図３に示すように、ポリゴンミラーでは、当該ポリゴンミラーの中心軸部４１０を中心にして回動させることによって、レーザー光Ｌを所定の方向に反射することで、レーザー光Ｌを主走査方向Ｄ１に走査する。これにより、対象物５００に対してレーザー光Ｌをより高い、広い角度で投光することが可能となる。
なお、図３では、ポリゴンミラーで反射される前のレーザー光Ｌを実線で示しており、ポリゴンミラーで反射された後のレーザー光Ｌを一点鎖線で示している。

【0053】

また、図４には、走査部４００としてＭＥＭＳミラーを用いた例を示している。ＭＥＭＳミラーでは、平板形状のミラーの角度を、中心軸部４１０を中心にして回動させることによって、図３で示したポリゴンミラーの場合と同様に、レーザー光Ｌを主走査方向Ｄ１に走査することができる。

【0054】

また、ポリゴンミラー及びＭＥＭＳミラーによって、主走査方向Ｄ１の走査を行うことについて説明したが、これに限られず、例えば、更に別の反射ミラーを設けて、主走査方向に交差する方向である副走査方向についても走査するようにしてもよい。

【0055】

また、走査部４００はポリゴンミラー又はＭＥＭＳミラーに限定されず、レーザー光を走査できるものであれば良い。例えば、車に装着されるなど、走査部４００に振動の影響が及ぶような場合、又は走査部４００自体が投光又は受光の妨げとなり得る場合は、これらのミラーの代わりに、例えば、電圧に応じて屈折率が変わる素子を介してレーザー光を伝搬し、当該素子に電圧を加えてその屈折率を変更させることにより、レーザー光の進行方向を変更させてレーザー光を走査させても良い。

【0056】

また、投光可能な角度がより狭くなるが、図５に示すように、レーザーレーダー装置１００に走査部４００を設けない構成とし、投光光学系から出射したレーザー光を、対象物５００に直接照射することも可能である。

【0057】

［受光部］
受光部３００は、近赤外光検出器３１０と、受光光学系（例えば、集光レンズ３２０）とを備える。
受光光学系としての集光レンズ３２０は、対象物５００で散乱された散乱光Ｓを近赤外光検出器３１０の受光面３１０ｓに集光する。
また、受光光学系の構成は適宜変更可能であり、例えば、結像レンズ、光学フィルター等を更に有する構成としてもよい。

【0058】

近赤外光検出器３１０には、近赤外光を受光して電気に変換する受光素子１０が配置されている。また、近赤外光検出器３１０は、受光素子１０が１次元又は２次元アレイ状に配列されていることが好ましい。図６にはその一例として、２行×５列の計１０個の受光素子１０がアレイ状に配列された構成を示す。また、図７には、図６のVII-VII部分の断面図を示す。
近赤外光検出器３１０の各受光素子１０は、ゲルマニウム（Ｇｅ）の吸収層４０を有しているため、自由空間からの近赤外光を受光し検出する用途に好適に用いることができる。

【0059】

近赤外光検出器３１０は、例えば、ＳＯＩ（Silicon on Insulator）ウエハに、公知の方法を用いてパターニングすることによって製造することができる。
具体的には、例えば、米国特許第６８１２４９５号明細書、米国特許第６９４６３１８号明細書に記載されているように、シリコン（Ｓｉ）の基板２０上に、公知のＵＨＶ－ＣＶＤ法を用いてゲルマニウム（Ｇｅ）を成長させることにより製造することができる。

【0060】

［受光素子］
本発明の受光素子１０は、基板２０上に、シリコン（Ｓｉ）を含有する増幅層３０、ゲルマニウム（Ｇｅ）を含有する吸収層４０及び反射防止層５０がこの順に積層されており、増幅層３０が、ｎ型にドープされたｎ－Ｓｉ層３１と、ｐ型にドープされたｐ－Ｓｉ層３３とを基板２０上に少なくともこの順に有しており、吸収層４０が、ｐ型にドープされたｐ－Ｇｅ層４２を少なくとも有することを特徴とする。

【0061】

受光素子１０の層構成としては、具体的には、以下の例を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
(i) 基板/ｎ－Ｓｉ層/ｐ－Ｓｉ層/ｐ－Ｇｅ層/反射防止層
(ii) 基板/ｎ－Ｓｉ層/ｐ－Ｓｉ層/ｉ－Ｇｅ層/ｐ－Ｇｅ層/反射防止層
(iii) 基板/ｎ－Ｓｉ層/ｐ－Ｓｉ層/ｉ－Ｇｅ層/ｐ－Ｇｅ層/ｐ^＋－Ｇｅ層/反射防止層
(iv) 基板/ｎ－Ｓｉ層/ｐ－Ｓｉ層/ｐ－Ｇｅ層/ｉ－Ｇｅ層/ｐ－Ｇｅ層/反射防止層
(v) 基板/ｎ－Ｓｉ層/ｐ－Ｓｉ層/ｐ－Ｇｅ層/ｉ－Ｇｅ層/ｐ－Ｇｅ層/ｐ^＋－Ｇｅ層/反射防止層
(vi) 基板/ｎ－Ｓｉ層/ｉ－Ｓｉ層/ｐ－Ｓｉ層/ｐ－Ｇｅ層/反射防止層
(vii) 基板/ｎ－Ｓｉ層/ｉ－Ｓｉ層/ｐ－Ｓｉ層/ｉ－Ｇｅ層/ｐ－Ｇｅ層/反射防止層
(viii)基板/ｎ－Ｓｉ層/ｉ－Ｓｉ層/ｐ－Ｓｉ層/ｉ－Ｇｅ層/ｐ－Ｇｅ層/ｐ^＋－Ｇｅ層/反射防止層
(ix) 基板/ｎ－Ｓｉ層/ｉ－Ｓｉ層/ｐ－Ｓｉ層/ｐ－Ｇｅ層/ｉ－Ｇｅ層/ｐ－Ｇｅ層/反射防止層
(x) 基板/ｎ－Ｓｉ層/ｉ－Ｓｉ層/ｐ－Ｓｉ層/ｐ－Ｇｅ層/ｉ－Ｇｅ層/ｐ－Ｇｅ層/ｐ^＋－Ｇｅ層/反射防止層

【0062】

また、以下に一例を示すように、基板２０の底面側（吸収層４０が設けられた側とは反対側）に、さらに光反射層６０が積層された構成とすることも好ましい。
(xi) 光反射層/基板/ｎ－Ｓｉ層/ｉ－Ｓｉ層/ｐ－Ｓｉ層/ｉ－Ｇｅ層/ｐ－Ｇｅ層/ｐ^＋－Ｇｅ層/反射防止層

【0063】

図９には、一例として、上記（viii）の層構成である、基板２０上に、ｎ－Ｓｉ層３１、ｉ－Ｓｉ層３２及びｐ－Ｓｉ層３３から形成される増幅層３０と、ｉ－Ｇｅ層４１、ｐ－Ｇｅ層４２及びｐ^＋－Ｇｅ層４３から形成される吸収層４０と、反射防止層５０とがこの順で積層された受光素子１０を示した。
また、図９に示すように、例えば、ｎ－Ｓｉ層３１に接する箇所と、吸収層４０の上面に、それぞれ電極７０，７１が設けられている。これらの電極７０，７１は図示しない配線等により回路を形成しており、電極間に電位差を生じさせることができるとともに、吸収層４０が光を吸収することによって生じた電子を取り出すことができるようになっている。
なお、電極７０，７１を設ける位置は、上述したように、電位差を生じさせることができ、光を吸収することによって生じた電子を取り出すことができれば、適宜変更可能である。

【0064】

また、図１０には、図９に示した上記（viii）の層構成とした受光素子１０について、逆バイアスの電圧を印加した際のバンド構造を示した。

【0065】

基板２０としては、本発明の効果が得られるものであれば特に限られないが、例えば、シリコン基板が用いられる。

【0066】

増幅層３０は、ｎ型にドープされたｎ－Ｓｉ層３１と、ｐ型にドープされたｐ－Ｓｉ層３３とを基板２０上に少なくともこの順に有しており、吸収層４０から移動したキャリアの移動を増幅させ、より大きな電流を流させる機能を果たしている。
また、増幅層３０は、増幅量を増やす観点から、ｎ－Ｓｉ層３１と、ｐ型にドープされたｐ－Ｓｉ層３３との間に、真性領域であるｉ－Ｓｉ層３２を有する構成とし、ｐｉｎ構造によって形成されていることが好ましい。

【0067】

また、受光素子１０に設けられた電極間に高い逆バイアスをかけることで、アバランシェフォトダイオード（ＡＰＤ：avalanche photodiode）として動作させることが好ましい。アバランシェ効果により、１０～１００倍程度の増倍率といった増幅効果を得ることができる。
ｎ－Ｓｉ層３１やｐ－Ｓｉ層３３のドープ領域は、例えば、公知のイオン注入法や熱拡散法による方法によって、形成することができる。

【0068】

増幅層３０の厚さは、印加電圧に応じて適宜変更可能であり、用途に応じて十分な増幅効果を得られれば、特に制限はない。

【0069】

吸収層４０は、ｐ型にドープされたｐ－Ｇｅ層４２を少なくとも有しており、ゲルマニウム（Ｇｅ）の吸収波長の光を吸収する機能を果たしている。本発明の吸収層４０では、特に近赤外線領域である波長１４００～１５５０ｎｍの範囲内の光を吸収するのに適している。

【0070】

また、吸収層４０は、使用用途に応じて求められるノイズレベルや応答速度によって、以下のように適宜層構成を変更して用いることが好ましい。
例えば、ノイズを小さくすることが求められる場合には、吸収層４０のうち、ｐ－Ｇｅ層４２の占める割合を大きくすることが好ましく、全てをｐ－Ｇｅ層４２によって形成してもよい。
また、応答速度を速くすることが求められる場合には、吸収層４０が、真性領域であるｉ－Ｇｅ層４１を有する構成とし、具体的には、増幅層３０上に、ｉ－Ｇｅ層４１、ｐ－Ｇｅ層４２がこの順に積層された構成とすることが好ましい。ｉ－Ｇｅ層４１は、ｐ－Ｇｅ層４２とｐ－Ｓｉ層３３の間に位置しているため、ｐ－Ｇｅ層４２とｐ－Ｓｉ層３３のフェルミ準位の差によって、逆バイアスの電圧をかけると、バンド構造では図１０に示すような傾きが生じる。したがって、ｉ－Ｇｅ層４１において、キャリアの移動速度を速め、応答速度を速くすることができる。

【0071】

また、吸収層４０が、ｉ－Ｇｅ層４１と増幅層３０との間に、第２のｐ－Ｇｅ層４４を有する構成とすることもできる（図１１）。

【0072】

また、ｐ－Ｇｅ層４２の上に、ｐ－Ｇｅ層４２よりも高濃度でｐ型にドープされたｐ^＋－Ｇｅ層４３を有する構成とすることが好ましい。これにより、キャリアの移動度を向上させ、応答速度を速くすることができる。また、バンド構造で、ｐ－Ｇｅ層４２とｐ^＋－Ｇｅ層４３でフェルミ準位が異なるためバンド間で傾きが生じるため、電極７１から電子を取り出しやすくなる。また、ｐ－Ｇｅ層４２上にｐ^＋－Ｇｅ層４３が積層されていると、電子を増幅層３０側に導入しやすくできることが期待できる。さらに、電極７１との接触抵抗を下げることもできる。
また、本明細書でいうｐ^＋－Ｇｅ層４３とは、上述したように、ｐ－Ｇｅ層４２よりも高濃度でｐ型にドープされたＧｅ層であると定義している。

【0073】

ｐ－Ｇｅ層４２やｐ^＋－Ｇｅ層４３のドープ領域は、例えば、公知のイオン注入法や熱拡散法による方法によって、形成することができる。

【0074】

吸収層４０は、例えば、基板２０及び増幅層３０を６００℃程度に加熱をして、ゲルマニウム（Ｇｅ）の原料ガスであるＧｅＨ_４を用いて、エピタキシャル成長によってＧｅを増幅層３０上に堆積することによって形成することができる。

【0075】

吸収層４０の厚さＬは、受光対象とする光の波長におけるゲルマニウム（Ｇｅ）の吸収係数をαとしたとき、下記式を満たすことが好ましい。
ｅｘｐ（－Ｌ×α）＞０．８
〔αは、受光対象とする光の波長におけるゲルマニウム（Ｇｅ）の吸収係数を表す。〕
また、上記式をＬについて計算すると下記式（１）のようになる。
式（１）：Ｌ＜（ｌｎ０．８）／α

【0076】

上記式（１）を満たすということは、吸収層４０の厚さをＬとした場合に、受光対象の光の８０％を、吸収層４０で吸収できる厚さであることを意味している。

【0077】

また、吸収層４０の厚さが２００ｎｍ、５００ｎｍ、３μｍ（３０００ｎｍ）、５μｍ（５０００ｎｍ）である場合について、複素屈折率の虚部にｋ＝０．１２３を使用して、吸収波長（ｎｍ）と吸光度の関係を計算した結果を図１３に示す。図１３からわかるように、例えば、１５５０ｎｍの光の吸収を計算すると、３μｍの厚さで、９０％を超え、１００％近くの光を吸収することができる。
以上より、光を十分に吸収し受光感度を向上させる観点からは、吸収層４０の厚さＬが、３μｍ以上であることが好ましい。

【0078】

ところで、仮に吸収層４０の全てをｐ－Ｇｅ層４２とした場合、吸収層４０に電界をかけない場合には、電子は拡散速度で吸収層４０を移動することとなる。この場合、電子が正孔と再結合して消滅するまで平均時間（いわゆる少数キャリア寿命）の間、電子が拡散速度で移動するとした場合、移動距離は約７μｍ程度となる。したがって、吸収層４０から増幅層３０に電子にキャリアを移動させやすくする観点からは、吸収層４０の厚さが７μｍ以下であることが好ましい。また、吸収層４０の厚さを７μｍ以下とすることで、計測用のデバイスに使用する際に十分な応答速度を得ることができる。

【0079】

反射防止層５０としては、吸収層４０表面での反射を効率的に抑える観点から、反射防止層５０を形成する材料の屈折率が、１．２～３．５の範囲内であることが好ましく、１．４～３．０の範囲内であることが特に好ましい。
ここで、反射防止層５０の有無と光反射率の関係を示したグラフを図１４に示す。反射防止層５０を設けなかった場合の吸収層４０での光反射率は、図１４の（ａ）に示すとおり、約３６％である。また、屈折率が、それぞれ（ｂ）１．２、（ｃ）１．４、（ｄ）２．０、（ｅ）３．０、（ｆ）３．５の材料からなり、厚さが最適化された反射防止層５０を設けた場合の光反射率（％）をそれぞれ図１４に示す。図１４の（ｄ）からわかるとおり、屈折率２．０の材料からなる反射防止層５０では、波長約１５５０ｎｍの光の反射率をほぼ０程度に抑えることができ、吸収層４０表面での反射を効率的に抑えることができる。また、屈折率が１．２～３．５の材料によって形成された反射防止層５０を設けた場合には、本発明に係る吸収層４０に適した波長１４００～１５５０ｎｍの範囲内の光の反射を好適に抑えることができる。
屈折率が１．２～３．５の範囲内となる材料としては、例えば、屈折率約２．０の窒化ケイ素（ＳｉＮ）や屈折率約１．５の二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）、屈折率約３．５のケイ素（Ｓｉ）を用いることが好ましい。

【0080】

また、反射防止層５０としては、吸収層４０表面での反射を効率的に抑える観点から、微細な凹凸構造５１が形成されることも好ましい。微細な凹凸構造５１としては、例えば、吸収層４０に近づくにつれて実質的な屈折率が上昇する形状を有することが好ましく、このような凹凸構造５１として、モスアイ構造を用いることが好ましい。
モスアイ構造としては、図１２に模式図を示すように、例えば、錐体形状の凸部を複数設けることにより形成することができる。
また、モスアイ構造における錐体形状は、特に限定されるものではなく、円錐形状、角錐形状、円錐台形状、角錐台形状、釣鐘形状、楕円錐台形状など、反射防止機能を有する錐体形状であれば適宜選択可能である。

【0081】

モスアイ構造における実質的な屈折率は、モスアイ構造を形成する材料の材質、錐体形状の厚さ方向における構造体と空間の割合の変化率、凹凸のピッチ及び深さなどにより決定されるため、これらを適宜調節することで、屈折率を上述した１．２～３．５の範囲内となるように調整すればよい。凹凸のピッチは、例えば、１０００～１６００ｎｍであることが好ましく、凹凸の深さは、ピッチの０．５～５倍であることが好ましく、１～３倍であることがさらに好ましい。

【0082】

また、反射防止層５０としては、反射防止性能を向上させることで受光感度を向上させる観点から、複数の反射防止層５０が積層された多層構造を有する構成とすることが好ましい。
また、吸収層４０表面での反射を効率的に抑える観点からは、受光対象となる光の波長をλとしたとき、光学層厚が（λ／４）の奇数倍の反射防止層５０が、１層又は複数層積層されていることが好ましい。これにより、反射防止層５０に設けた各層における上面及び下面で反射した光が打消しあうため、光の反射を効果的に防止することができる。

【0083】

（反射率とＳＮ比の関係について）
光学素子に逆バイアスをかけてアバランシェフォトダイオード（ＡＰＤ）として動作させる際に、ＳＮ比を以下式（Ａ１）によって計算することができる。

【0084】

【数1】

【0085】

上記式（Ａ１）において、Ｓ：信号、Ｎ：ノイズ、ｑ：電荷、η：量子効率、Ｐ_ｏｐｔ：入射光のパワー、ｈ：プランク定数、ν：光周波数、Ｉｐ：ショットノイズ電流、Ｉ_Ｂ：背景光ノイズ電流、Ｉ_Ｄ：暗電流、Ｆ（Ｍ）：ノイズファクター、Ｂ：帯域、ｋ：ボルツマン定数、Ｔ：絶対温度、Ｒ_ｅｑ：負荷抵抗、Ｍ：増倍率を表す。
なお、シリコン（Ｓｉ）によって構成される増幅層３０でのノイズは、ゲルマニウム（Ｇｅ）によって構成される吸収層４０のノイズの１／１００以下であるため、上記計算では無視している。

【0086】

本発明の受光素子１０では、図１４に示したように、反射防止層５０を設けない場合には、吸収層４０における波長１５５０ｎｍの光の反射率は約３６％程度であり、屈折率約２．０の窒化ケイ素（ＳｉＮ）により形成された反射防止層５０を設けた場合の反射率は、ほぼ０％とすることができる。
このとき、上記式（Ａ１）によって、ＳＮ比が１となる入射光のパワー（Ｗ）を計算すると、反射率が仮に４０％の場合は１００ｎＷ程度であり、反射率が仮に０％の場合は２０ｎＷとなる。また、反射率４０％と反射率０％では、吸収層４０に入光する光の強さは、（１．０－０．４）：（１．０－０）＝３：５となる。ここで、ＳＮ比には、入射光のパワーが（Ｐｏｐｔ）２乗で効果があるため、反射防止層５０によって反射率を４０％から０％にした場合には、受光感度は５２／３２倍、すなわち約２．８倍程度向上することができる。

【0087】

光反射層６０は、基板２０の下面（吸収層４０が設けられた側とは反対側）に設けられており、吸収層４０を通過した光があった場合に、基板２０を通過した光の少なくとも一部を反射させて再度吸収層４０を通過できるようにしている。これにより、吸収層４０における吸収率を向上させることができる。
光反射層６０としては、受光対象となる近赤外光の少なくとも一部を反射することができれば特に限られず、無機、有機いずれの材料を用いて形成しても良く、形成方法も特に限定されない。
具体的には、例えば、無機材料としてはＩＴＯ（酸化インジウムスズ）やＡＴＯ（アンチモンドープ酸化スズ）等を、また、有機材料としてはポリカーボネート樹脂等を用いることができる。

【0088】

以上で説明した本発明の実施形態は、全ての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。すなわち、本発明の範囲は、上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内での全ての変更が含まれることが意図される。

【産業上の利用可能性】

【0089】

本発明は、レーザー照射に対する散乱光を検出し、対象物までの距離を計測するレーザーレーダー装置に利用することができる。

【符号の説明】

【0090】

１０ 受光素子
２０ 基板
３０ 増幅層
３１ ｎ－Ｓｉ層
３２ ｉ－Ｓｉ層
３３ ｐ－Ｓｉ層
４０ 吸収層
４１ ｉ－Ｇｅ層
４２ ｐ－Ｇｅ層
４３ ｐ^＋－Ｇｅ層
４４ 第２のｐ－Ｇｅ層
５０ 反射防止層
５１ 凹凸構造
６０ 光反射層
１００ レーザーレーダー装置
２００ 投光部
２１０ レーザー光源
３００ 受光部
３１０ 近赤外光検出器
４００ 走査部
５００ 対象物
Ｌ レーザー光
Ｓ 散乱光
Ｄ１ 主走査方向

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】