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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2022-04-20
(45)【発行日】2022-04-28
(54)【発明の名称】走査型光出力装置及びその制御方法
(51)【国際特許分類】
   G02B 26/10 20060101AFI20220421BHJP
   G02B 26/08 20060101ALI20220421BHJP
   B23K 26/00 20140101ALI20220421BHJP
【FI】
G02B26/10 109Z
G02B26/08 F
G02B26/10 C
B23K26/00 B
B23K26/00 M
【請求項の数】 9
(21)【出願番号】P 2019549220
(86)(22)【出願日】2018-10-10
(86)【国際出願番号】 JP2018037696
(87)【国際公開番号】W WO2019078058
(87)【国際公開日】2019-04-25
【審査請求日】2020-03-12
(31)【優先権主張番号】P 2017201846
(32)【優先日】2017-10-18
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(73)【特許権者】
【識別番号】502129933
【氏名又は名称】株式会社日立産機システム
(74)【代理人】
【識別番号】110001689
【氏名又は名称】青稜特許業務法人
(72)【発明者】
【氏名】若山 雄貴
【審査官】堀部 修平
(56)【参考文献】
【文献】特開2000-131640(JP,A)
【文献】国際公開第2011/086849(WO,A1)
【文献】特開2010-164954(JP,A)
【文献】米国特許出願公開第2014/0231647(US,A1)
【文献】特開2008-052007(JP,A)
【文献】国際公開第2015/125976(WO,A1)
【文献】特開2010-008948(JP,A)
【文献】特開平11-179579(JP,A)
【文献】国際公開第2013/156664(WO,A1)
【文献】国際公開第2018/036795(WO,A1)
(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
G02B 26/10 - 26/10
B23K 26/00 - 26/70
G09G 3/02
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
発光素子と、
該発光素子から出力される光を導波させるための光ファイバと、
該光ファイバの両端部のうち前記発光素子と逆側の端近傍に接続された少なくとも2つ以上の光ファイバ駆動機構と、
前記発光素子の駆動電流制御回路と、
前記光ファイバ駆動機構の駆動電圧制御回路と、
前記発光素子と前記光ファイバ駆動機構のタイミング制御回路を備え、
前記駆動電流制御回路が前記発光素子の光出力強度を調整し、
前記駆動電圧制御回路が複数の前記光ファイバ駆動機構に入力される電気信号の大きさを調整し、
前記タイミング制御回路が、前記発光素子の光出射タイミングと、前記光ファイバ駆動機構に入力される電気信号間の位相差を調整し、
前記光ファイバから出力された光の一部を分岐するための光分岐器と、
該光分岐器で分岐された一方の光を入力するための受光器と、
該受光器と電気的に接続されたビーム位置検出回路とを備え、
該ビーム位置検出回路が、ビームの走査軌跡と、走査振幅と、前記光ファイバ駆動機構への入力電気信号波形と光ファイバ振動波形との位相遅れの少なくとも1つを算出し、
該算出した信号を前記駆動電流制御回路と、前記駆動電圧制御回路と、前記タイミング制御回路に入力し、
前記受光器が、受光部が少なくとも2つ以上に分割された分割型受光器であり、
前記ビーム位置検出回路が、前記分割型受光器のそれぞれの受光部からの出力される電気信号波形の位相差からビーム走査軌跡を算出し、該受光部からの出力される電気信号波形の立ち上がり時間から走査振幅を算出し、前記算出した走査軌跡と走査振幅から光ファイバ振動波形を推定することで、前記光ファイバ駆動機構への入力電気信号波形と光ファイバ振動波形との位相遅れを算出することを特徴とする走査型光出力装置。
【請求項2】
請求項1に記載の走査型光出力装置であって、
前記光ファイバと前記光分岐器の光路上に少なくとも1枚のレンズと、
該レンズが光軸方向の位置を調整するためのレンズ駆動機構と、
該レンズ駆動機構の制御回路を備え、
前記ビーム位置検出回路が、
前記分割型受光器のそれぞれの受光部から出力される電気信号の大きさからビーム径を算出し、
算出した信号を前記レンズ駆動機構の制御回路に入力することを特徴とする走査型光出力装置。
【請求項3】
請求項1に記載の走査型光出力装置であって、
前記光分岐器が、透過する光量と反射する光量の分岐比率が光の入射角度に依存する可変式光分岐器であることを特徴とする走査型光出力装置。
【請求項4】
請求項1に記載の走査型光出力装置であって、
前記受光器が、受光面の位置を調整するための受光器駆動機構を備えることを特徴とする走査型光出力装置。
【請求項5】
請求項1に記載の走査型光出力装置であって、
前記光分岐器が、反射面の角度と位置を調整するための光分岐器駆動機構を備えることを特徴とする走査型光出力装置。
【請求項6】
請求項1に記載の走査型光出力装置であって、
前記光分岐器と走査された光を照射するための対象物間に少なくとも1枚のレンズを備え、
該レンズがレンズから出射される主光線が光軸に対して略平行であるテレセントリックレンズであることを特徴とする走査型光出力装置。
【請求項7】
請求項1に記載の走査型光出力装置であって、
前記光ファイバから出力された光を反射するための反射鏡と、
該反射鏡で分岐された光を入力するための受光器と、
該受光器と電気的に接続されたビーム位置検出回路とを備え、
該ビーム位置検出回路が、
走査振幅と、前記光ファイバ駆動機構への入力電気信号波形と光ファイバ振動波形との位相遅れの少なくとも1つを算出し、
該算出した信号を前記駆動電流制御回路と、前記駆動電圧制御回路と、前記タイミング制御回路に入力することを特徴とする走査型光出力装置。
【請求項8】
発光素子と、該発光素子から出力される光を導波させるための光ファイバと、該光ファイバの端近傍に接続された光ファイバ駆動機構と、前記光ファイバから出力された光の一部を分岐するための光分岐器と、該光分岐器で分岐された一方の光を入力するための受光器と、該受光器と電気的に接続されたビーム位置検出回路とを備えた走査型光出力装置の制御方法であって、
前記受光器、または前記光分岐器の位置を調整し、前記受光器の中心と光ビームの重心を略一致させるための原点補正工程と、
前記光ファイバの振動の共振周波数を算出し、前記光ファイバ駆動機構の制御周波数を共振周波数近傍に設定する制御周波数設定工程と、
光走査軌跡を算出し、前記光ファイバ駆動機構の印加電圧の振幅、位相差を調整する走査軌跡補正工程と、
前記光ファイバ駆動機構の印加電圧と前記光ファイバの振動の位相差を検出する位相遅れ検出工程と、
前記発光素子の光出力強度と光出射タイミングを調整する発光素子制御工程からなることを特徴とする走査型光出力装置の制御方法
【請求項9】
請求項8に記載の走査型光出力装置の制御方法であって、
前記発光素子制御工程において、
前記光ファイバの振動の振幅を検出する工程と、
該光ファイバの振動の振幅が許容範囲内か判断する工程を有し、
該光ファイバの振動の振幅が許容範囲内でない場合は、前記光ファイバ駆動機構の制御周波数を微調整することを特徴とする走査型光出力装置の制御方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、走査型光出力装置及びその制御方法に関し、特に、生産ライン上で高速に移動する物体に対し賞味期限やバーコード等を印字するためのレーザマーキング装置に関する。
【背景技術】
【0002】
食品、医薬品、工業製品などに賞味期限やロット番号などを印字する方法として、レーザ光を製品表面に照射することで表面を加工するレーザマーキング方式が知られている。レーザマーキング方式は製品に非接触で、高精細な像を印字できる利点がある。ただし、レーザ光を走査し印字するには比較的時間がかかるため、生産ラインで使用する場合は、高速なラインには適していない。また、光の走査用ミラーとしてガルバノミラーやポリゴンミラーが用いられるが、比較的サイズが大きいため、光走査ヘッドのサイズが大型であり、配置できる場所には制約が生じる。
【0003】
これらの課題を解決するための手段として、例えば、複数の光ファイバから同時に光を出射するパラレル方式のレーザマーキング装置が知られている。この場合は、光の走査が不要であるため高速に印字が出来る利点がある。しかし、パラレル化する本数だけのレーザ光源が必要であり、レーザは一般的に高価であり、それにより装置コストが増大する課題がある。またパラレル化することでレーザのみではなく、光ファイバ、電源、冷却源等もそれぞれ部品点数が増大するため、装置が複雑化、大型化する課題がある。また消費電力が高い課題がある。
【0004】
そこで、他の解決手段として、光ファイバ先端を振動させ走査するファイバスキャナを用いたレーザマーキング装置がある。光ファイバ先端を振動させ走査するファイバスキャナについての背景技術として特許文献1がある。特許文献1には、光ファイバ先端を振動させ走査するファイバスキャナが開示されており、その適用例としてはファイバスコープ内視鏡が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【文献】特表2008-504557号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
特許文献1では、ファイバスコープ内視鏡を前提に記載されているため、ファイバスキャナ技術をレーザマーキング装置に適用した場合の、印字対象物の移動における高品質印字について、考慮されていない。
【0007】
すなわち、従来のファイバスキャナ技術をレーザマーキング装置に適用した場合、印字対象物の移動により高品質に印字することが難しい。レーザマーキング装置は生産ラインで使われるため、一般的には印字対象物が高速に移動する。またファイバスキャナの光走査方式として、一般的には光の軌跡が螺旋状となるような螺旋スキャン方式が用いられる。高速に移動する対象物に螺旋スキャン方式で印字した場合、対象物の移動方向に対し字が歪むことがあるという課題がある。
【0008】
また、他の課題として、ファイバスキャナを工場の生産ラインで使用する場合は長期安定性に懸念がある。ファイバスキャナは共振現象を利用するため、特性が温度、湿度などの環境変化に敏感である可能性がある。安定化させるためには定期的なキャリブレーションが有効であるが、生産ラインの装置ではキャリブレーションを行う頻度や時間に制約がある。
【0009】
そこで、本発明は、上記課題を鑑みてなされたものであり、高品質化または長期安定化が可能な走査型光出力装置及びその制御方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0010】
本発明は、上記背景技術及び課題に鑑み、その一例を挙げるならば、走査型光出力装置であって、発光素子と、発光素子から出力される光を導波させるための光ファイバと、光ファイバの両端部のうち発光素子と逆側の端近傍に接続された少なくとも2つ以上の光ファイバ駆動機構と、発光素子の駆動電流制御回路と、光ファイバ駆動機構の駆動電圧制御回路と、発光素子と光ファイバ駆動機構のタイミング制御回路を備え、駆動電流制御回路が発光素子の光出力強度を調整し、駆動電圧制御回路が複数の光ファイバ駆動機構に入力される電気信号の大きさを調整し、タイミング制御回路が、発光素子の光出射タイミングと、光ファイバ駆動機構に入力される電気信号間の位相差を調整するように構成する。
【発明の効果】
【0011】
本発明によれば、高品質化または長期安定化が可能な走査型光出力装置及びその制御方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【0012】
図1】実施例1における走査型光出力装置の概略構成を示すブロック図である。
図2】実施例1における光ファイバと光ファイバ駆動機構の斜視図と、光ファイバ振動を概念的に示す図である。
図3】実施例1における走査型光出力装置を用いたレーザマーキングシステムを概念的に示す図である。
図4】実施例1における走査型光出力装置を用いた理想的な走査軌跡と光照射位置を概念的に示す図である。
図5】実施例1における走査型光出力装置を用いた一般的な走査軌跡と光照射位置を概念的に示す図である。
図6】実施例1における光ファイバ振動の周波数応答特性を概略的に示す図である。
図7】実施例2における走査型光出力装置の概略構成を示すブロック図である。
図8】実施例2における位置検出受光器の斜視図である。
図9】実施例2における分割型受光器の斜視図である。
図10】実施例2における分割型受光器を用いた走査型光出力装置の概略構成を示すブロック図である。
図11】実施例2における走査軌跡補正方法を概略的に示す図である。
図12】実施例2における光ファイバ駆動機構への入力電気信号波形と光ファイバ振動波形との位相遅れを概略的に示す図である。
図13】実施例2における光走査振幅算出方法を概略的に示す図である。
図14】実施例2における発光素子の光出力強度と、光出射タイミングの調整方法を概略的に示す図である。
図15】実施例2における走査型光出力装置の光走査ヘッド部の斜視図である。
図16】実施例2における走査型光出力装置の光走査ヘッド部の一例の断面図である。
図17】実施例2における走査型光出力装置の光走査ヘッド部の他の一例の断面図である。
図18】実施例2における走査型光出力装置の制御フローチャートを示す図である。
図19】実施例3における走査型光出力装置の制御フローチャートを示す図である。
図20】実施例4における走査型光出力装置の光走査ヘッド部の断面図である。
図21】実施例5における走査型光出力装置の光走査ヘッド部の断面図である。
図22】実施例6における走査型光出力装置の光走査ヘッド部の断面図である。
図23】実施例6における走査型光出力装置の概略構成を示すブロック図である。
図24】実施例7における走査型光出力装置の光走査ヘッド部の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0013】
以下、本発明の実施例について図面を用いて詳細に説明する。
【実施例1】
【0014】
図1は、本実施例における走査型光出力装置の概略構成を示すブロック図である。図1において、走査型光出力装置は発光素子を有する光源10と、光源10から出力される光を導波させるための光ファイバ11と、光ファイバの一方の端近傍に接続された光ファイバ駆動機構12と、発光素子の駆動電流を制御する駆動電流制御回路18と、光ファイバ駆動機構12の駆動電圧を制御する駆動電圧制御回路19と、発光素子の駆動電流と光ファイバ駆動機構12の駆動電圧のタイミングを制御するタイミング制御回路17と、データ入力用のデータ入力インターフェース16からなる。また光源10と、駆動電流制御回路18と、駆動電圧制御回路19と、タイミング制御回路17と、データ入力インターフェース16は制御装置本体13に格納されており、光ファイバ駆動機構12は先端の光走査ヘッド部15に格納されている。制御装置本体13と光走査ヘッド部15は光ファイバを含む配線ケーブル14で接続されている。
【0015】
本実施例における走査型光出力装置の第1の特徴は、駆動電流制御回路18が発光素子の光出力強度を調整することが可能であり、駆動電圧制御回路19が複数の光ファイバ駆動機構に入力される電気信号の大きさを調整することが可能であり、タイミング制御回路17が、発光素子の光出射タイミングと、光ファイバ駆動機構12に入力される電気信号間の位相差を調整することが可能であることである。
【0016】
次に、本実施例における走査型光出力装置の第2の特徴を説明するために、光ファイバ駆動機構12の一例について図2を用いてより詳しく説明する。図2において、光ファイバ駆動機構は電圧を印加したときに歪が生じるピエゾ素子を用いている。図2ではピエゾ素子23の周回に沿って4つのピエゾ素子電極21a、21b、22a、22bが配置された光ファイバ駆動機構の斜視図を示している。ピエゾ素子23の中心穴には光ファイバ24が通されている。ピエゾ素子電極21a、21bは、横方向(x方向)の変位量調整用の電極であり、ピエゾ素子電極22a、22bは、縦方向(y方向)の変位量調整用の電極である。そのため、光ファイバ駆動機構12は、x方向y方向に歪を生じさせることが可能であり、光ファイバの出射端面25と略水平な2次元面内において光を走査することが可能である。
【0017】
以上の特徴により本実施例における走査型光出力装置は、食品、医薬品、工業製品などに賞味期限やロット番号などを印字するレーザマーキング装置に好適である。
【0018】
レーザマーキング装置とは、レーザを使ってさまざまな製品に文字・記号・マークなどを印字する装置であり、例えば、レーザにより表面を溶かす、焦がす、表面層をはがす、削るなどの物理的変化で印字を行なうものや、レーザにより表面を酸化させる、変色させる、または、レーザにより色相や濃度が調整可能なインクの塗布による化学的変化で印字を行なうものがある。
【0019】
図3に、本実施例における走査型光出力装置を用いて印字するイメージ図を示す。図3において、32は制御装置本体、33はディスプレイ、34は配線ケーブル、35は光走査ヘッド部、36は印字されたラベル、30は製造用ベルトコンベアである搬送装置、31a、b、cは印字対象物である。本実施例における走査型光出力装置は、光の走査方式としてピエゾ素子を使った光ファイバの偏向方向制御を用いているため、光走査ヘッド部35が非常に小型であり、搬送装置30上を移動する印字対象物31a、b、cの所定の印字領域の近くに光走査ヘッド部35を近づけて印字することが可能である。また、光走査ヘッド部35と制御装置本体32は配線ケーブル34で接続されているため、製造ラインと物理的に干渉しない位置に制御装置本体32を配置することが可能であり、製造ラインの種類に対する柔軟性が高い。
【0020】
次に、本実施例における走査型光出力装置を用いて理想的な印字をするときの光の走査軌跡と光照射タイミングについて図4を用いて説明する。製造ラインにおいては一般的には印字対象物が高速に移動しているため、走査軌跡は移動方向と略垂直方向がより好ましい。そのため、光ファイバ先端の変位が時間に対し正弦関数で変化している場合、図4に示すように、印字対象物における光の走査軌跡40は破線で示したように正弦関数となる。走査軌跡の山と谷の部分は間隔が狭くなるため、その部分では光を出射しないことが好ましい。そのため、図4に示すように、全体の走査領域のうち中心から7割程度の部分のみ光照射領域として光を照射すれば、黒丸で示す光照射位置41の間隔が略等しくなり高精度な印字が可能となる。
【0021】
以上のように本実施例によれば、小型化が可能で、高速化かつ高品質化が可能な走査型光出力装置を提供することが可能となる。
【実施例2】
【0022】
本実施例は、より高品質な印字が可能であり、さらに長期安定化が高い走査型光出力装置について説明する。
【0023】
まず、図5図6を用いて印字品質が劣化する要因と長期安定性を損ねる要因について説明する。
【0024】
上述したように走査軌跡は印字対象物の移動方向と略垂直方向が好ましいが、ピエゾ素子を図4に示したような方向に制御した場合でも、ピエゾ素子の製造ばらつきや、光ファイバのピエゾ素子への実装誤差により、不要な方向、すなわち印字対象物の移動方向にもわずかに振動をする。すなわち、走査軌跡が厳密には直線ではなく楕円形状となる。楕円形状で走査した場合の、印字対象物における光の走査軌跡を図5に示す。破線が走査軌跡50、黒丸が光照射位置51である。直線走査した場合と同じタイミングで光を照射したときの光照射位置51は、図5に示すように、走査軌跡同士が重なりあうことで照射位置も重なりあい、これが印字品質を劣化する要因となる。
【0025】
次に、図6を用いて長期安定性を損ねる要因について説明する。図6は光ファイバ振動の周波数応答特性を概略的に示している。ある特定の周波数(光ファイバ振動の共振周波数)でピエゾ素子を駆動した場合、振幅が最大となる。この共振周波数は、温度や湿度など環境変化によってシフトする。図6において、実線が初期状態の周波数応答特性62であり、破線が環境変化時の周波数応答特性63を示している。このため、ピエゾ素子の駆動周波数である光ファイバ駆動機構の制御周波数が一定値64(初期状態での共振周波数)である場合、初期状態の振幅60は初期状態の周波数応答特性62の最大値であるのに対し、環境変化時の振幅61は、環境変化時の周波数応答特性63と一定値周波数64との交わる点となり、環境変化によって振幅が劣化する。これが長期安定性が損なわれる要因である。
【0026】
以下、上記課題を解決するための本実施例について説明する。図7は、本実施例における走査型光出力装置の概略構成を示すブロック図である。図7において、図1と同じ機能については同じ符号を付し、その説明は省略する。図7において図1と異なる点は、光分岐器70と位置検出用受光器71とビーム位置検出回路72を備えた点である。
【0027】
図7において、光ファイバ11から出射された光は光分岐器70に入力され、分岐された一方の光は位置検出用受光器71に入力される。位置検出用受光器71から出力される電気信号は制御装置本体13のビーム位置検出回路72に入力される。ビーム位置検出回路72は、ビームの走査軌跡を検出する走査軌跡検出回路73と、ビームの走査振幅を検出する走査振幅検出回路75と、光ファイバ駆動機構への入力電気信号波形と光ファイバ振動波形との位相遅れを検出するための位相遅れ検出回路74から構成されており、それらが検出した信号が駆動電流制御回路18と、駆動電圧制御回路19と、タイミング制御回路17に入力される。
【0028】
この構成により、位置検出用受光器71で検出した信号をもとにフィードバック制御が可能であり、走査軌跡を最適化することで、印字品質を高めることや、温度や湿度など環境変化が生じた場合においても安定して駆動することが可能である。
【0029】
次に、位置検出用受光器の一例について図8を用いて説明する。図8において、位置検出用受光器80は、高抵抗半導体層81の上面にp型コンタクト層82と、下面にn型コンタクト層83を備えたPSD(Position Sensitive Detector)である。p型コンタクト層82の表面には抵抗層86が形成されており、抵抗層86周辺のそれぞれの辺には4つのアノード電極84が、n型コンタクト層83の裏面にはカソード電極層85が形成されている。抵抗層86の面内において光が入射された位置に依存して、4つのアノード電極84には電位が生じる。この電位を解析することで、入射されたビームの重心位置を検出することが可能である。
【0030】
次に、位置検出用受光器の別形態について図9を用いて説明する。図9において、位置検出用受光器90は受光部が少なくとも2つ、より好ましくは、図9に示すように、4つに分割された分割型受光部91a、b、c、dを有する分割型受光器である。図9には一例として入射ビーム92とビーム走査軌跡93をあわせて示す。ビームの位置により電位が発生する受光部が異なることで、ビームがどの受光部に位置するかを算出することが可能である。また本実施例のようにビームの走査軌跡が直線や、楕円形状のどちらかであり、可変パラメータを用いて定式化できる場合は、それぞれの受光部の電位波形の位相差や、立ち上がり時間の測定と、フィッティングモデルを組み合わせ合わせることで入射されたビームの重心位置やビーム径状を検出することが可能である。4分割型受光器はPSDと比較しより安価で、高精度に位置を検出できる点でより好ましい。
【0031】
次に、図10に、4分割受光器を用いた本実施例における走査型光出力装置の概略構成のブロック図を示す。図10において、図7と同じ機能については同じ符号を付し、その説明は省略する。図10において図7と異なる点は、ビーム位置検出回路72に替えてビーム位置検出回路100を備えた点である。ビーム位置検出回路100は、ビーム位置検出回路72の走査軌跡検出回路73と走査振幅検出回路75と位相遅れ検出回路74に加えて、位相差検出回路101と、立上時間検出回路102を有している。
【0032】
図10において、ビーム位置検出回路100が、分割型受光器のそれぞれの受光部から出力される電気信号波形の位相差から、位相差検出回路101と走査軌跡検出回路73によってビーム走査軌跡を算出し、受光部からの出力される電気信号波形の立ち上がり時間から、立上時間検出回路102と走査振幅検出回路75によって走査振幅を算出し、算出した走査軌跡と走査振幅から光ファイバ振動波形を推定することで、光ファイバ駆動機構の駆動電圧と光ファイバ振動波形との位相遅れを算出することが可能である。
【0033】
次に、算出した走査軌跡から光ファイバ駆動機構の駆動電圧を制御し、走査軌跡を理想的な直線化する、駆動電圧制御回路19の制御について、図11を用いて説明する。図11において、上段の3つの図は光ファイバ駆動機構の駆動電圧の時間変化を示しており、実線は光ファイバをy方向に変位させるための電圧、破線はx方向に変位させるための電圧である。下段の3つの図はそれぞれ上段の駆動電圧波形電圧を印加したときの走査軌跡を示す。理想的には、図11(a)に示すように、y方向に変位させるための電圧のみを印加したときは、y方向のみに変位する。また、図11(b)に示すように、x方向とy方向に変位させるための電圧の大きさを制御したときは、走査軌跡の傾きが変化する。また、図11(c)に示すように、x方向とy方向に変位させるための電圧の大きさと位相差を制御したときは、走査軌跡が楕円軌跡となる。このように、電圧波形を制御することで、走査軌跡を任意に調整することが可能である。逆に言えば、製造誤差や実装ばらつきにより無制御状態において楕円軌跡ならば、電圧の大きさと位相差を適切に制御することで走査軌跡を直線化することも可能である。
【0034】
次に、位相遅れ検出回路74の機能について、図12を用いてより詳しく説明する。図12において、実線は、光ファイバ駆動機構の駆動電圧の時間変化を示す。また、破線は、走査軌跡検出回路73で検出したビームの走査軌跡と、走査振幅検出回路75で検出したビームの走査振幅とから得られるビーム位置の時間変化を示す。位相遅れ検出回路74によって、光ファイバ駆動機構の駆動電圧と、光ファイバから出射される光のビーム位置との位相差120を検出する。この検出した位相差をもとに、発光素子の駆動電流と光ファイバ駆動機構の駆動電圧を制御する。
【0035】
次に、立上時間検出回路102と走査振幅検出回路75の機能について、図13を用いてより詳しく説明する。図13には振幅が3通りであるときのシミュレーション結果を示す。図13に示すように、振幅が大きいほど立ち上がり時間が短いことが分かる。このように振幅と立ち上がり時間には1対1の対応関係があるため、立ち上がり時間を測定することで振幅を推定することが可能である。振幅を推定するには、立ち上がり時間と振幅との関係式を予め走査振幅検出回路75に入力しておくか、立ち上がり時間と振幅の対応関係が記述されたルックアップテーブルを予め用意し、走査振幅検出回路75が内容を読み出すことで実現できる。
【0036】
次に、駆動電流制御回路18による発光素子の駆動電流制御について図14を用いて説明する。図14において、横軸は光ファイバ振動の半周期分の時間を示しており、縦軸は発光素子の駆動電流の相対値を示している。濃い実線が初期状態の駆動電流波形を示し、初期状態の光照射間隔Tを142で示し、初期状態の光照射時間領域を140で示す。また、薄い実線が環境変化時の駆動電流波形であり、環境変化時の光照射間隔T‘を143で示し、環境変化時の光照射時間領域を141で示す。環境変化により走査振幅が小さくなった場合においても、図14に示すように、光照射間隔を大きくすれば、印字対象物の同一の位置に、歪なく同一のサイズで印字することができる。さらに、図14に示すように、環境変化時に、光照射時間を長くすると同時に駆動電流のピーク値を抑制し、発光素子から出射される光のエネルギー量が常に一定となるように制御すれば、環境変化前と同一の品質で印字することができる。
【0037】
次に、光走査ヘッド部15の詳細について説明する。図15は、光走査ヘッド部15の斜視図である。図15において、151は光ファイバ用筐体、152は光入力部、153は光分岐器用筐体、154は走査レンズ用筐体、155は光出力部、156は位置検出用受光器用筐体である。
【0038】
図16は、図15の内部構成であり、光走査ヘッド部15の第1の例を示す断面図である。図16おいて、161は光ファイバ駆動機構、162は光ファイバ、163はコリメートレンズ、164はビームスプリッタ、165は分岐光、166は位置検出用受光器、167は受光器位置調整機構、168は透過光、169が光走査レンズである。ここで、光走査レンズ169は、出射される主光線が光軸に対して略平行であるテレセントリックレンズである。また、図16においては、ビームスプリッタ164が図7の光分岐器70に対応し、位置検出用受光器166が図7の位置検出用受光器71に対応する。
【0039】
また、図17に、光走査ヘッド部15の第2の例である断面図を示す。図17おいて図16と異なる点は、ビームスプリッタ164に替えて、平板型ビームスプリッタ171を設けた点である。平板型ビームスプリッタ171は、透過する光量と反射する光量の分岐比率が光の入射角度に依存する可変式光分岐器である。
【0040】
図16図17の相違の特徴としては、例えば、分岐比率を1対1000等の大きな値とする場合は、図16のビームスプリッタ164では難しく、図17の平板型ビームスプリッタ171が有利である。ただし、図16の構成では、光軸がずれないというメリットがあるが、図17の構成では、光軸がずれるため、その補正のためには補正部品が必要となる。
【0041】
図18は、本実施例における走査型光出力装置の制御フローである。図18においては、大きく3つの処理ステップからなり、ビーム位置原点補正フロー180、初期のキャリブレーションである光ファイバ駆動機構の制御周波数設定とビーム走査軌跡補正フロー181、発光素子制御フロー182からなる。
【0042】
まず、ビーム位置原点補正フロー180では、図16で示す受光器位置調整機構167によりステージ上のx、y方向で位置検出受光器166の位置の微調整を行ない、ビーム位置が位置検出受光器の中心となるように調整を行なう。
【0043】
次に、初期のキャリブレーションであるステップ181では、光ファイバ駆動機構の制御周波数設定として、光ファイバ振動の共振周波数を抽出し、光ファイバ駆動機構の制御周波数を共振周波数近傍に設定する。そして、光ファイバ駆動機構の印加電圧の振幅、位相差を調整し、所望の走査軌跡となるように調整を行なう。そして、図12に示した光ファイバ駆動機構の印加電圧と光ファイバ振動の位相差を検出する。
【0044】
そして、発光素子制御フロー182として、光源の駆動電流、発光タイミングを調整して、光ファイバ振動の振幅が許容範囲内でない場合は、再度、ステップ181に戻り、初期のキャリブレーションを行う。
【0045】
以上のように、本実施例によれば、より高品質な印字が可能であり、さらに長期安定化が高い走査型光出力装置を実現できる。
【実施例3】
【0046】
本実施例は、より長期に安定して動作することができる走査型光出力装置について説明する。
【0047】
図19は本実施例における走査型光出力装置の制御フローである。図19において、実施例2の図18と異なる点は、発光素子制御フロー182が発光素子制御フロー192となった点であり、その他は同じであるので、異なる部分についてのみ説明し、他は省略する。
【0048】
図19において、発光素子制御フロー192は、光ファイバ振動の振幅が許容範囲内でない場合は、光ファイバ駆動機構制御周波数を微調整することを特徴としている。共振周波数シフトが極わずかな場合は、図18のようにキャリブレーションをやり直す必要性が無いためより長時間にわたって安定して動作することが可能となる。具体的には、例えば、図6において、光ファイバ駆動機構の制御周波数64を移動させて周波数を微調整することに対応している。
【0049】
これにより、より長期に安定して動作することができる走査型光出力装置を提供できる。
【実施例4】
【0050】
本実施例は、光分岐器の分岐比率を調整するための機構を設けた走査型光出力装置について説明する。
【0051】
図20は、本実施例における走査型光出力装置の光走査ヘッド部15の断面図である。図20において、図17と同じ機能については同じ符号を付し、その説明は省略する。図20において図17と異なる点は、平板型ビームスプリッタ171が反射面の角度と位置を調整するためのビームスプリッタ位置調整機構201を備える点である。ビームスプリッタ位置調整機構201により、分岐比率を調整できるため、例えば、キャリブレーション時は受光器に入力される光量を大きくすることでキャリブレーション精度を上げ、実際に印字する時は透過光量を大きくすることで装置の省電力化を図ることが可能となる。
【実施例5】
【0052】
本実施例は、ビーム位置検出のための原点補正するための別形態について説明する。
【0053】
図21は、本実施例における走査型光出力装置の光走査ヘッド部15の断面図である。図21において、図17と同じ機能については同じ符号を付し、その説明は省略する。図21において図17と異なる点は、受光器位置調整機構167の代わりに、光ファイバ駆動機構161に光ファイバ光軸調整用駆動機構211を設けた点である。
【0054】
本実施例によれば、ビーム位置検出のための原点補正と同時に、コリメートレンズ163と、光走査レンズ169に入力するビームの位置も調整することが可能であるため、より高精度に印字することが可能となる。
【実施例6】
【0055】
本実施例は、ビーム径を調整するための機構を設けた走査型光出力装置について説明する。
【0056】
図22は、本実施例における走査型光出力装置の光走査ヘッド部15の断面図である。図22において、図17と同じ機能については同じ符号を付し、その説明は省略する。図22において図17と異なる点は、コリメートレンズ163の光軸方向の位置を調整するためのコリメートレンズ位置調整機構221を設けた点である。
【0057】
また、図23は、本実施例における走査型光出力装置の概略構成のブロック図である。図23において、図10と同じ機能については同じ符号を付し、その説明は省略する。図23において図10と異なる点は、コリメートレンズ位置調整機構221と、ビーム径検出回路230と、コリメートレンズ位置調整機構221の駆動電圧制御回路231を備えた点である。
【0058】
図22図23に示すように、コリメートレンズ163が、光軸方向の位置を調整するためのコリメートレンズ位置調整機構221と、コリメートレンズ位置調整機構221の駆動電圧制御回路231と、ビーム径検出回路230を備えており、フィードバック制御によりビーム径の最適化が可能である。これにより印字内容により解像度を柔軟に変更することが可能となる。
【実施例7】
【0059】
図24を用いて本実施例における走査型光出力装置について説明する。
【0060】
図24は、本実施例における走査型光出力装置の光走査ヘッド部15の断面図である。図24において、図16や17と同じ機能については同じ符号を付し、その説明は省略する。図24において図16や17と異なる点は、光分岐器であるビームスプリッタ164や平板型ビームスプリッタ171の代わりに、反射鏡242を設けた点である。
【0061】
図24に示すように、光ファイバ162から出力された印字用ビーム243とは別の位置検出用ビーム241が反射鏡242で反射され、反射された光は位置検出用受光器166で検出され、ビーム位置検出回路が、走査振幅と、光ファイバ駆動機構の駆動電圧波形と光ファイバ振動波形との位相遅れの少なくとも1つを算出し、算出された信号が発光素子の駆動電流制御回路と、光ファイバ駆動機構の駆動電圧制御回路と、タイミング制御回路に入力される。
【0062】
実施例1から6の構成では、走査領域に対し印字領域が極端に小さく、一回の走査に対しレーザ光が出射される時間が極端に短い場合においては、位置検出用受光器で検出光として検出されない可能性がある。しかし、本実施例においては、キャリブレーション用の位置検出用ビームを一回の走査で必ず一回照射するので、必ず位置検出用受光器で検出可能となる特徴がある。このように、本実施例によれば、通常の印字中にも印字用ビームとは別のフィードバック制御用の特定の位置検出用ビームを照射することで、印字内容に依存せず、より確実に安定してより高品質な印字が可能となる。
【0063】
以上実施例について説明したが、本発明は上記した実施例に限定されるものではなく、様々な変形例が含まれる。また、上記した実施例は本発明を分かりやすく説明するために詳細に説明したものであり、必ずしも説明した全ての構成を備えるものに限定されるものではない。また、実施例の構成の一部を他の構成に置き換えることも可能である。
【符号の説明】
【0064】
10:光源、11:光ファイバ、12:光ファイバ駆動機構、13:制御装置本体、14:配線ケーブル、15:光走査ヘッド部、16:データ入力インターフェース、17:タイミング制御回路、18:駆動電流制御回路、19:駆動電圧制御回路、21a、21b、22a、22b:ピエゾ素子電極、23:ピエゾ素子、24:光ファイバ、70:光分岐器、71,166:位置検出用受光器、72、100:ビーム位置検出回路、73:走査軌跡検出回路、74:位相遅れ検出回路、75:走査振幅検出回路、101:位相差検出回路、102:立上時間検出回路、164:ビームスプリッタ、171:平板型ビームスプリッタ、201:ビームスプリッタ位置調整機構、211:光ファイバ光軸調整用駆動機構、221:コリメートレンズ位置調整機構、230:ビーム径検出回路、231:コリメートレンズ位置調整機構の駆動電圧制御回路、241:位置検出用ビーム、242:反射鏡、243:印字用ビーム
図1
図2
図3
図4
図5
図6
図7
図8
図9
図10
図11
図12
図13
図14
図15
図16
図17
図18
図19
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図24