特許7067927反射減少構造及びその製造方法、ディスプレイ装置及びその製造方法
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2022-05-06
(45)【発行日】2022-05-16
(54)【発明の名称】反射減少構造及びその製造方法、ディスプレイ装置及びその製造方法
(51)【国際特許分類】
G02B 5/30 20060101AFI20220509BHJP
G02B 5/28 20060101ALI20220509BHJP
H05B 33/02 20060101ALI20220509BHJP
H01L 51/50 20060101ALI20220509BHJP
H01L 27/32 20060101ALI20220509BHJP
H05B 33/10 20060101ALI20220509BHJP
G02F 1/1335 20060101ALI20220509BHJP
G02F 1/13363 20060101ALI20220509BHJP
G09F 9/30 20060101ALI20220509BHJP
【ＦＩ】
G02B5/30
G02B5/28
H05B33/02
H05B33/14 A
H01L27/32
H05B33/10
G02F1/1335 510
G02F1/13363
G02F1/1335 500
G09F9/30 338
G09F9/30 349E
G09F9/30 365
【請求項の数】
18
(21)【出願番号】P 2017527603
(86)(22)【出願日】2016-11-01
(65)【公表番号】
(43)【公表日】2019-04-18
(86)【国際出願番号】 CN2016104176
(87)【国際公開番号】W WO2017128794
(87)【国際公開日】2017-08-03
【審査請求日】2019-08-13
(31)【優先権主張番号】201610061301.4
(32)【優先日】2016-01-28
(33)【優先権主張国・地域又は機関】CN
(73)【特許権者】
【識別番号】510280589
【氏名又は名称】京東方科技集團股▲ふん▼有限公司
【氏名又は名称原語表記】ＢＯＥ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ ＧＲＯＵＰ ＣＯ．，ＬＴＤ．
【住所又は居所原語表記】Ｎｏ．１０ Ｊｉｕｘｉａｎｑｉａｏ Ｒｄ．，Ｃｈａｏｙａｎｇ Ｄｉｓｔｒｉｃｔ，Ｂｅｉｊｉｎｇ １０００１５，ＣＨＩＮＡ
(74)【代理人】
【識別番号】100108453
【弁理士】
【氏名又は名称】村山 靖彦
(74)【代理人】
【識別番号】100110364
【弁理士】
【氏名又は名称】実広 信哉
(72)【発明者】
【氏名】▲譚▼ ▲紀▼▲風▼
【審査官】池田 博一
(56)【参考文献】
【文献】特開２０１４－０６３１４３（ＪＰ，Ａ）
【文献】中国特許出願公開第１０４６３７９８４（ＣＮ，Ａ）
【文献】特表２００２－５００３８２（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１０－２３２０４１（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１５－２２５１５４（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１５－０３４８５１（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１５－０６９１５６（ＪＰ，Ａ）
【文献】国際公開第２０１６／０１６１５６（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特表２０１７－５２９６４９（ＪＰ，Ａ）
【文献】欧州特許出願公開第３０６７７２２（ＥＰ，Ａ１）
【文献】米国特許出願公開第２０１８／０２１７３１０（ＵＳ，Ａ１）
【文献】米国特許出願公開第２０１６／０２６６２９６（ＵＳ，Ａ１）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｇ０２Ｂ ５／３０
Ｇ０２Ｂ ５／２８
Ｈ０５Ｂ ３３／０２
Ｈ０１Ｌ ５１／５０
Ｈ０１Ｌ ２７／３２
Ｈ０５Ｂ ３３／１０
Ｇ０２Ｆ １／１３３５
Ｇ０２Ｆ １／１３３６３
Ｇ０９Ｆ ９／３０
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
反射減少構造であって、位相差フィルムと、
前記位相差フィルムの一側に設置される直線偏光板と、
前記位相差フィルム及び前記直線偏光板を配向するように構成される少なくとも一つの配向層と、
前記直線偏光板における前記位相差フィルムとの反対側に設置され且つ６５０ｎｍ～７８０ｎｍの波長範囲の光を遮断するように構成される光遮断層とを備え、
前記位相差フィルムと前記直線偏光板とは液晶を含むことを特徴とする反射減少構造。
【請求項2】
前記少なくとも一つの配向層は、前記位相差フィルムと前記直線偏光板との間に位置し前記位相差フィルム及び前記直線偏光板を配向するように構成される第１配向層を含むことを特徴とする請求項１に記載の反射減少構造。
【請求項3】
前記直線偏光板は二色性染料、重合性液晶及び光開始剤を含み、前記位相差フィルムは重合性液晶と光開始剤を含むことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の反射減少構造。
【請求項4】
前記直線偏光板において、前記二色性染料の質量百分率が１％～２０％、前記重合性液晶の質量百分率が７５％～９５％、前記光開始剤の質量百分率が０．１％～５％であることを特徴とする請求項３に記載の反射減少構造。
【請求項5】
前記光遮断層は波長範囲が７００ｎｍ～７８０ｎｍの光を遮断するように構成されることを特徴とする請求項１に記載の反射減少構造。
【請求項6】
前記少なくとも一つの配向層は、前記位相差フィルムと前記直線偏光板との間に位置し前記直線偏光板を配向するように構成される第１配向層と、
前記位相差フィルムにおける前記直線偏光板との反対側に位置し前記位相差フィルムを配向するように構成される第２配向層とを含むことを特徴とする請求項１に記載の反射減少構造。
【請求項7】
前記少なくとも一つの配向層は、前記位相差フィルムと前記直線偏光板との間に位置し前記位相差フィルムを配向するように構成される第１配向層と、
前記直線偏光板における前記位相差フィルムとの反対側に位置し前記直線偏光板を配向するように構成される第２配向層とを含むことを特徴とする請求項１～５のいずれか１項に記載の反射減少構造。
【請求項8】
前記少なくとも一つの配向層は、前記位相差フィルムと前記直線偏光板との間に位置し前記位相差フィルムを配向するように構成される第１配向層と、
前記直線偏光板と前記光遮断層との間に設置され前記直線偏光板を配向するように構成される第２配向層とを含むことを特徴とする請求項１～５のいずれか１項に記載の反射減少構造。
【請求項9】
前記光遮断層は交互に設置された複数の高屈折率層と複数の低屈折率層とを含むことを特徴とする請求項１～８のいずれか１項に記載の反射減少構造。
【請求項10】
前記複数の高屈折率層のそれぞれは窒化ケイ素層であり、前記複数の低屈折率層のそれぞれは酸化ケイ素層であることを特徴とする請求項９に記載の反射減少構造。
【請求項11】
前記複数の高屈折率層のそれぞれは厚さが同じでも異なってもよく、前記複数の低屈折率層のそれぞれは厚さが同じでも異なってもよいことを特徴とする請求項９又は請求項１０に記載の反射減少構造。
【請求項12】
前記少なくとも一つの配向層は、前記位相差フィルムにおける前記直線偏光板との反対側に設置され前記位相差フィルムを配向するように構成される第１配向層と、
前記直線偏光板における前記位相差フィルムとの反対側に設置され前記直線偏光板を配向するように構成される第２配向層とを含むことを特徴とする請求項１～４のいずれか１項に記載の反射減少構造。
【請求項13】
前記第２配向層における前記直線偏光板との反対側に設置され６５０ｎｍ～７８０ｎｍの波長範囲の光を遮断するように構成される光遮断層をさらに備えることを特徴とする請求項１２に記載の反射減少構造。
【請求項14】
ディスプレイ装置であって、表示パネルと、
請求項１～１３のいずれか１項に記載の反射減少構造と、を備え、
前記表示パネルは、アレイ基板と、前記アレイ基板に対向して設置された対向基板とを含み、
前記反射減少構造は前記アレイ基板と前記対向基板との間に設置され、又は
前記反射減少構造は前記対向基板における前記アレイ基板との反対側に位置することを特徴とするディスプレイ装置。
【請求項15】
前記アレイ基板は、ベース基板と、
前記ベース基板上に形成され且つそれぞれに有機発光ダイオードと薄膜トランジスタとが形成された複数の画素ユニットとを含むことを特徴とする請求項１４に記載のディスプレイ装置。
【請求項16】
前記反射減少構造は前記アレイ基板と前記対向基板との間に設置され、且つ、前記反射減少構造と、前記有機発光ダイオードと前記薄膜トランジスタとが形成された前記ベース基板との間にさらに平坦化層が形成されることを特徴とする請求項１５に記載のディスプレイ装置。
【請求項17】
ディスプレイ装置の製造方法であって、互いに対向したアレイ基板及び対向基板を含む表示パネルを用意するステップと、
反射減少構造を製造するステップと、
直線偏光板における位相差フィルムとの反対側に光遮断層を提供するステップであって、前記光遮断層が６５０ｎｍ～７８０ｎｍの波長範囲の光を遮断するように構成される、光遮断層を提供するステップとを含み、
前記アレイ基板は、ベース基板と、前記ベース基板上に形成され且つそれぞれに有機発光ダイオードと薄膜トランジスタとが形成された複数の画素ユニットとを含み、前記複数の画素ユニットは前記対向基板と前記ベース基板との間に位置し、
反射減少構造を製造するステップは、前記有機発光ダイオードと薄膜トランジスタとが形成されたベース基板、又は前記対向基板上に、位相差フィルム、第１配向層及び直線偏光板を形成するステップを含み、
前記第１配向層は前記位相差フィルムと前記直線偏光板との間に位置し、前記位相差フィルムと前記直線偏光板とは液晶を含むことを特徴とするディスプレイ装置の製造方法。
【請求項18】
反射減少構造の製造方法であって、基板を用意するステップと、
前記基板上に位相差フィルム、第１配向層及び直線偏光板を形成するステップと、
前記直線偏光板における前記位相差フィルムとの反対側に光遮断層を提供するステップであって、前記光遮断層が６５０ｎｍ～７８０ｎｍの波長範囲の光を遮断するように構成される、光遮断層を提供するステップとを含み、
前記第１配向層は前記位相差フィルムと前記直線偏光板との間に位置し、前記位相差フィルムと前記直線偏光板とは液晶を含むことを特徴とする反射減少構造の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明の実施例は反射減少構造及びその製造方法、ディスプレイ装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
フレキシブルディスプレイ装置は薄型化、軽量化、屈曲性さらに可撓性等の複数の利点を有するため、表示技術の主流となり、市場の将来性が期待できる。
フレキシブルディスプレイ装置は、内部の金属配線等による外光の反射を減少させるために、表示パネルの外部に貼り付けた偏光板を反射減少構造として使用するのが一般的であるが、このような反射減少構造は厚さが大きく、例えば、一般的に使用される偏光板の厚さが１００～１５０μｍであり、位相差フィルム（Phase Retardation Film）の厚さが２０～１００μｍであるため、両方で構成された反射減少構造の全厚さが１２０～２５０μｍになっている。明らかなように、当該構造の使用によって、フレキシブルディスプレイ装置の厚さが増大し、それによってフレキシブルディスプレイ装置が重くなってしまい、軽量・薄型の特徴を失い、フレキシブルディスプレイ装置に不適である。
フレキシブルディスプレイ装置は、内部の金属配線等による外光の反射を減少させるために、表示パネルの外部に貼り付けた偏光板を反射減少構造として使用するのが一般的であるが、このような反射減少構造は厚さが大きく、例えば、一般的に使用される偏光板の厚さが１００～１５０μｍであり、位相差フィルム（Phase Retardation Film）の厚さが２０～１００μｍであるため、両方で構成された反射減少構造の全厚さが１２０～２５０μｍになっている。明らかなように、当該構造の使用によって、フレキシブルディスプレイ装置の厚さが増大し、それによってフレキシブルディスプレイ装置が重くなってしまい、軽量・薄型の特徴を失い、フレキシブルディスプレイ装置に不適である。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0003】
従って、厚みが小さく且つフレキシブルディスプレイ装置の軽量化・薄型化を実現できる反射減少構造が求められる。
【課題を解決するための手段】
【0004】
本発明の少なくとも一実施例は、反射減少構造及びその製造方法、ディスプレイ装置及びその製造方法を提供し、当該反射減少構造は厚さが小さく、当該反射減少構造を備えたディスプレイ装置はフレキシブルディスプレイ装置の軽量化・薄型化を実現できるだけでなく、高偏光度を確保できる。
【0005】
本発明の少なくとも一つの実施例は、位相差フィルムと、直線偏光板と、前記位相差フィルム及び前記直線偏光板を配向するように構成される少なくとも一つの配向層とを含む反射減少構造を提供し、前記位相差フィルムと前記直線偏光板とは液晶を含む。
本発明の少なくとも一実施例はさらに、アレイ基板と前記アレイ基板に対向して設置される対向基板を含む表示パネルと、前記アレイ基板と前記対向基板との間に設置され、又は前記対向基板における前記アレイ基板との反対側に位置する前記反射減少構造とを備えたディスプレイ装置を提供する。
本発明の少なくとも一実施例はさらに、互いに対向したアレイ基板及び対向基板を含む表示パネルを用意するステップと、反射減少構造を製造するステップとを含むディスプレイ装置の製造方法を提供する。
本発明の少なくとも一実施例はさらに、アレイ基板と前記アレイ基板に対向して設置される対向基板を含む表示パネルと、前記アレイ基板と前記対向基板との間に設置され、又は前記対向基板における前記アレイ基板との反対側に位置する前記反射減少構造とを備えたディスプレイ装置を提供する。
本発明の少なくとも一実施例はさらに、互いに対向したアレイ基板及び対向基板を含む表示パネルを用意するステップと、反射減少構造を製造するステップとを含むディスプレイ装置の製造方法を提供する。
【0006】
前記アレイ基板は、ベース基板と、及び前記ベース基板上に形成され且つそれぞれに有機発光ダイオードと薄膜トランジスタが形成された複数の画素ユニットとを含み、前記複数の画素ユニットは前記対向基板と前記ベース基板との間に位置する。
反射減少構造を製造するステップは、前記有機発光ダイオードと薄膜トランジスタとが形成されたベース基板、又は前記対向基板上には、位相差フィルム、第１配向層及び直線偏光板を形成するステップを含み、前記第１配向層は前記位相差フィルムと前記直線偏光板との間に位置し、前記位相差フィルムと前記直線偏光板とは液晶を含む。
反射減少構造を製造するステップは、前記有機発光ダイオードと薄膜トランジスタとが形成されたベース基板、又は前記対向基板上には、位相差フィルム、第１配向層及び直線偏光板を形成するステップを含み、前記第１配向層は前記位相差フィルムと前記直線偏光板との間に位置し、前記位相差フィルムと前記直線偏光板とは液晶を含む。
【0007】
本発明の少なくとも一実施例はさらに、
基板を準備するステップと、
前記基板上に位相差フィルム、第１配向層及び直線偏光板を形成するステップとを含み、
前記第１配向層は前記位相差フィルムと前記直線偏光板との間に位置し、前記位相差フィルムと前記直線偏光板は液晶を含む反射減少構造の製造方法を提供する。
基板を準備するステップと、
前記基板上に位相差フィルム、第１配向層及び直線偏光板を形成するステップとを含み、
前記第１配向層は前記位相差フィルムと前記直線偏光板との間に位置し、前記位相差フィルムと前記直線偏光板は液晶を含む反射減少構造の製造方法を提供する。
【0008】
本発明の実施例の技術案をより明瞭に説明するために、以下は実施例の図面を簡単に説明するが、勿論、下記図面は本発明の一部の実施例に関するものに過ぎず、本発明を制限するものではない。
【図面の簡単な説明】
【0009】
【図1a】本発明の実施例に係る反射減少構造の例示的な構造模式図である。
【図1b】本発明の実施例に係る反射減少構造の例示的な構造模式図である。
【図2】本発明の実施例に係る反射減少構造を備えたディスプレイ装置の構造模式図である。
【図3】本発明の実施例に係る反射減少構造を表示パネル内に設置したディスプレイ装置の構造模式図である。
【図4a】本発明の実施例に係る反射減少構造をベース基板上に設置したディスプレイ装置の構造模式図である。
【図4b】本発明の実施例に係る反射減少構造を対向基板上に設置したディスプレイ装置の構造模式図である。
【図4c】本発明の実施例に係る反射減少構造をベース基板上に設置したディスプレイ装置の別の構造模式図である。
【図4d】本発明の実施例に係る反射減少構造を対向基板上に設置したディスプレイ装置の別の構造模式図である。
【図4e】本発明の実施例に係る反射減少構造をベース基板上に設置したディスプレイ装置の別の構造模式図である。
【図5】本発明の実施例に係るディスプレイ装置の断面構造図である。
【図6】反射減少構造の偏光度と入射光波長との関係模式図である。
【図7】本発明の実施例に係る光遮断層の透過率の曲線図である。
【図8a】本発明の実施例に係る製造方法における反射減少構造を製造する各ステップを実施した構造の断面図である。
【図8b】本発明の実施例に係る製造方法における反射減少構造を製造する各ステップを実施した構造の断面図である。
【図8c】本発明の実施例に係る製造方法における反射減少構造を製造する各ステップを実施した構造の断面図である。
【図8d】本発明の実施例に係る製造方法における反射減少構造を製造する各ステップを実施した構造の断面図である。
【図8e】本発明の実施例に係る製造方法における反射減少構造を製造する各ステップを実施した構造の断面図である。
【図9a】本発明の実施例に係る製造方法における対向基板上に反射減少構造を製造する各ステップを実施した構造の断面図である。
【図9b】本発明の実施例に係る製造方法における対向基板上に反射減少構造を製造する各ステップを実施した構造の断面図である。
【図9c】本発明の実施例に係る製造方法における対向基板上に反射減少構造を製造する各ステップを実施した構造の断面図である。
【図9d】本発明の実施例に係る製造方法における対向基板上に反射減少構造を製造する各ステップを実施した構造の断面図である。
【図10】本発明の実施例に係る製造方法におけるベース基板上に反射減少構造を形成するフローチャートである。
【図11】本発明の実施例に係る製造方法における対向基板におけるアレイ基板との反対側に反射減少構造を形成するフローチャートである。
【図12】本発明の実施例に係る製造方法における対向基板とアレイ基板との間に反射減少構造を形成するフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【0010】
本発明の実施例の目的、技術案及び利点をより明瞭にするために、以下は本発明の実施例の図面をもって、本発明の実施例の技術案を明瞭且つ完全に説明する。勿論、下記実施例は本発明の一部の実施例に過ぎず、全部の実施例ではない。下記本発明の実施例に基づいて、当業者が創造的な努力を必要とせずに想到し得るすべてのその他の実施例は、本発明の保護範囲に属する。
特に定義しない限り、使用される技術用語又は科学用語は、当業者が理解する一般的な意味である。本開示に使用される「第１」、「第２」及び類似する用語は順番、数又は重要性を示すのではなく、異なる構成要素を区別するものに過ぎない。同様に、「一つ」、「一」又は「当該」のような用語も数を制限するものではなく、少なくとも一つあることを意味する。「含む」又は「備える」のような用語は当該用語前に現れた素子又はデバイスが当該用語後に現れる素子又はデバイス及びその同等物を意味し、且つほかの素子又はデバイスを排除しない。「接続」又は「連結」のような用語は物理的又は機械的接続に限定されず、直接か間接に関わらず電気的接続を含む。「上方」、「下方」、「左方」、「右方」等は相対位置関係を示すものに過ぎず、説明する対象の絶対位置が変わると、当該相対位置関係も変わる。
本発明の少なくとも一実施例は、反射減少構造及びその製造方法、ディスプレイ装置及び当該ディスプレイ装置の製造方法を提供する。当該反射減少構造は順に、位相差フィルムと、当該位相差フィルムの透過側に設置された第１配向層と、当該第１配向層の透過側に設置された直線偏光板とを含み、前記位相差フィルムと前記直線偏光板は液晶を含む。フレキシブルディスプレイパネルの外部に貼り付けた従来の反射減少構造に比べて、本発明の実施例に係る反射減少構造は、厚さを大幅に減少させ、さらに当該反射減少構造を用いたディスプレイ装置は極薄ディスプレイを実現できる。更に、本発明の実施例では、反射減少構造を薄型化させると同時に、高偏光度を実現するために、本発明の実施例に係る反射減少構造はさらに、偏光度向上に悪影響を与える光を遮断する光遮断層を提供することによって、厚さを減少させる同時に、高偏光度が得られる。
以下、図面をもって本発明の実施例に係る反射減少構造及びその製造方法、ディスプレイ装置及び当該ディスプレイ装置の製造方法を詳細に説明し、本発明の技術案をより明瞭にする。
特に定義しない限り、使用される技術用語又は科学用語は、当業者が理解する一般的な意味である。本開示に使用される「第１」、「第２」及び類似する用語は順番、数又は重要性を示すのではなく、異なる構成要素を区別するものに過ぎない。同様に、「一つ」、「一」又は「当該」のような用語も数を制限するものではなく、少なくとも一つあることを意味する。「含む」又は「備える」のような用語は当該用語前に現れた素子又はデバイスが当該用語後に現れる素子又はデバイス及びその同等物を意味し、且つほかの素子又はデバイスを排除しない。「接続」又は「連結」のような用語は物理的又は機械的接続に限定されず、直接か間接に関わらず電気的接続を含む。「上方」、「下方」、「左方」、「右方」等は相対位置関係を示すものに過ぎず、説明する対象の絶対位置が変わると、当該相対位置関係も変わる。
本発明の少なくとも一実施例は、反射減少構造及びその製造方法、ディスプレイ装置及び当該ディスプレイ装置の製造方法を提供する。当該反射減少構造は順に、位相差フィルムと、当該位相差フィルムの透過側に設置された第１配向層と、当該第１配向層の透過側に設置された直線偏光板とを含み、前記位相差フィルムと前記直線偏光板は液晶を含む。フレキシブルディスプレイパネルの外部に貼り付けた従来の反射減少構造に比べて、本発明の実施例に係る反射減少構造は、厚さを大幅に減少させ、さらに当該反射減少構造を用いたディスプレイ装置は極薄ディスプレイを実現できる。更に、本発明の実施例では、反射減少構造を薄型化させると同時に、高偏光度を実現するために、本発明の実施例に係る反射減少構造はさらに、偏光度向上に悪影響を与える光を遮断する光遮断層を提供することによって、厚さを減少させる同時に、高偏光度が得られる。
以下、図面をもって本発明の実施例に係る反射減少構造及びその製造方法、ディスプレイ装置及び当該ディスプレイ装置の製造方法を詳細に説明し、本発明の技術案をより明瞭にする。
【実施例1】
【0011】
本実施例は反射減少構造を提供する。図１ａには、反射減少構造の構造模式図が示され、当該反射減少構造１０１は順に位相差フィルム１０２、第１配向層１０３及び直線偏光板１０４を含む。第１配向層１０３は位相差フィルム１０２の透過側に設置され、直線偏光板１０４は第１配向層１０３の透過側に設置され、当該位相差フィルムと当該直線偏光板とは液晶を含む。
なお、透過側は表示光に対応するものであり、表示光の透過方向に位置する側を意味し、それに対して下記の入射側は表示光の入射方向に位置する側を意味し、図１に示すように、Ｌ１は表示光の透過方向をマークする。
なお、透過側は表示光に対応するものであり、表示光の透過方向に位置する側を意味し、それに対して下記の入射側は表示光の入射方向に位置する側を意味し、図１に示すように、Ｌ１は表示光の透過方向をマークする。
【0012】
例えば、当該位相差フィルムと当該直線偏光板とに含まれる液晶は重合性液晶であり、直線偏光板１０４は二色性染料、重合性液晶及び光開始剤を含み、位相差フィルム１０２は重合性液晶と光開始剤とを含む。二色性染料はＸ１１（ＢＡＳＦ）又はＳ－４２８であり、重合性液晶はＬＣ２４２（ｍｅｒｃｋ）等一般のネマチック液晶であり、光開始剤は１８４である。
例えば、直線偏光板１０４は１質量％～２０質量％の二色性染料、７５質量％～９５質量％の重合性液晶７及び０．１質量％～５質量％の光開始剤を含む。予備案として、二色性染料、重合性液晶及び光開始剤のそれぞれの含有量は、１０％、８７．５％及び２．５％である。
例えば、位相差フィルム１０２は７５重量％～９９．５重量％の重合性液晶と０．５重量％～２５重量％の光開始剤とを含む。
例えば、直線偏光板１０４は１質量％～２０質量％の二色性染料、７５質量％～９５質量％の重合性液晶７及び０．１質量％～５質量％の光開始剤を含む。予備案として、二色性染料、重合性液晶及び光開始剤のそれぞれの含有量は、１０％、８７．５％及び２．５％である。
例えば、位相差フィルム１０２は７５重量％～９９．５重量％の重合性液晶と０．５重量％～２５重量％の光開始剤とを含む。
【0013】
例えば、液晶材料を含む直線偏光板１０４が一方向の偏光光を透過させ、これに直交する方向における偏光光を吸収するようにするために、形成過程において配向する必要があり、且つ液晶材料を含む位相差フィルム１０２も形成過程において配向する必要がある。予備案として、直線偏光板１０４と位相差フィルム１０２とは、両者の間における第１配向層１０３を用いて配向し、又は、直線偏光板１０４と位相差フィルム１０２とはそれぞれ異なる配向層を用いて配向してもよい。
例えば、第１配向層１０３は位相差フィルム１０２を配向するように構成される場合は、反射減少構造はさらに、直線偏光板１０４の透過側に設置され直線偏光板１０４を配向するように構成される第２配向層１０９を含む。予備案として、第１配向層１０３も直線偏光板１０４を配向するように構成されてもよく、この場合は、反射減少構造１０１は、位相差フィルム１０２の入射側に設置され位相差フィルム１０２を配向するように構成される第３配向層１３０を含む。
例えば、第１配向層１０３は位相差フィルム１０２を配向するように構成される場合は、反射減少構造はさらに、直線偏光板１０４の透過側に設置され直線偏光板１０４を配向するように構成される第２配向層１０９を含む。予備案として、第１配向層１０３も直線偏光板１０４を配向するように構成されてもよく、この場合は、反射減少構造１０１は、位相差フィルム１０２の入射側に設置され位相差フィルム１０２を配向するように構成される第３配向層１３０を含む。
【0014】
本実施例では、反射減少構造の直線偏光板と位相差フィルムとは液晶材料を用い、例えば塗布方法で形成され、このように、従来のディスプレイ装置用の反射減少構造に比べて、本発明の実施例に係る反射減少構造は厚さを大幅に減少させ、例えば、厚さは約１０μｍ、さらに１０μｍよりはるかに薄いまで、例えば下記例で挙げられた５．２７μｍまで減少できる。ところが、以上の反射減少構造は、偏光度が低く、例えば６０％である。
【0015】
予備案として、本発明の実施例に係る反射減少構造はさらに、直線偏光板の透過側に設置され特定波長範囲の光を遮断するように構成される光遮断層を含む。予備案として、光遮断層１０８は第２配向層１０９の透過側に設置されてもよい。
例えば、第１配向層１０３、第２配向層１０９、第３配向層１３０の厚さはそれぞれ０．０５μｍ～０．１５μｍの厚さ範囲内にあり、例えば、いずれも０．１μｍとしてもよい。
例えば、直線偏光板１０４の厚さは２．５μｍ～３．５μｍ、例えば、３μｍである。
例えば、位相差フィルム１０２の厚さは１．５μｍ～２．５μｍ、例えば、２μｍである。
例えば、光遮断層１０８の厚さは０．０６μｍ～０．０８μｍ、例えば、０．０７μｍである。
例えば、第１配向層１０３、第２配向層１０９、第３配向層１３０の厚さはそれぞれ０．０５μｍ～０．１５μｍの厚さ範囲内にあり、例えば、いずれも０．１μｍとしてもよい。
例えば、直線偏光板１０４の厚さは２．５μｍ～３．５μｍ、例えば、３μｍである。
例えば、位相差フィルム１０２の厚さは１．５μｍ～２．５μｍ、例えば、２μｍである。
例えば、光遮断層１０８の厚さは０．０６μｍ～０．０８μｍ、例えば、０．０７μｍである。
【0016】
例えば、本発明の実施例に係る反射減少構造の一例では、例えば、当該反射減少構造は順に、位相差フィルム、第１配向層、直線偏光板、第２配向層及び光遮断層を含み、光遮断層１０８の厚さが例えば０．０７μｍ、２つの配向層のいずれの厚さが例えば０．１μｍ、直線偏光板１０４の厚さが例えば３μｍ、位相差フィルム１０３の厚さが例えば２μｍである場合は、反射減少構造の全厚さが５．２７μｍとなり、１０μｍ未満である。厚さが約１２０～２５０μｍの従来の反射減少構造に比べて、厚さは大幅に減少し、且つ当該構造を備えた反射減少構造は、偏光度が９９．７％まで向上でき、極薄ディスプレイの実現に役立つ。
【0017】
例えば、光遮断層１０８は特定波長範囲の光、例えば、波長範囲６５０ｎｍ～７８０ｎｍの光を遮断するように構成される。好ましくは、波長範囲７００ｎｍ～７８０ｎｍの光を遮断するように構成される。このように、全ての赤外光ではなく一部の赤外光だけ遮断することによって、表示を損なわずに偏光度を大幅に向上できる。
このように、光遮断層１０８を提供し、そのフィルタ作用により偏光度を大幅に向上させることによって、厚さを減少させると同時に、高偏光度を有する反射減少構造を実現するため、ディスプレイ装置によく適用され、極薄フレキシブルディスプレイを実現できる。
このように、光遮断層１０８を提供し、そのフィルタ作用により偏光度を大幅に向上させることによって、厚さを減少させると同時に、高偏光度を有する反射減少構造を実現するため、ディスプレイ装置によく適用され、極薄フレキシブルディスプレイを実現できる。
【0018】
例えば、本発明の実施例に係る光遮断層１０８は交互に設置された複数の高屈折率層と複数の低屈折率層を含み、当該複数の高屈折率層のそれぞれの厚さが同じでも異なってもよく、当該複数の低屈折率層のそれぞれの厚さが同じでも異なってもよく、高屈折率層の厚さは低屈折率層の厚さと同じでも異なってもよく、本発明の実施例ではそれについて限定されない。
【0019】
例えば、当該高屈折率層は窒化ケイ素層であり、当該低屈折率層は酸化ケイ素層であり、つまり、光遮断層１０８は交互に設置された複数の窒化ケイ素層と複数の酸化ケイ素層を含む。例えば、プラズマ気相堆積（ＰＥＣＶＤ）方法を用いて窒化ケイ素層と酸化ケイ素層を交互に堆積する。ここで、窒化ケイ素層を堆積するための反応ガスをＳｉＨ４、ＮＨ３及びＮ２の混合ガスとしてもよく、例えば、当該混合ガスにおいて、ＳｉＨ４、ＮＨ３及びＮ２の流量比は１６：４：１であり、酸化ケイ素層を堆積する反応ガスをＳｉＨ４、ＮＯ２及びＮ２の混合ガスとしてもよく、例えば、当該混合ガスにおいて、ＳｉＨ４、ＮＨ３及びＮ２の流量比は４０：４：１である。実際に、反応時間を制御することで膜層の厚さを制御し、反応ガスのガス通路の開閉により複数の膜を交互に堆積できる。
なお、本発明の実施例に係る位相差フィルムはλ／４波長板であってもよく、λは可視光波長の平均値を取り、又は当業者が必要に応じて設定すればよく、本発明の実施例ではそれについて限定されない。
なお、本発明の実施例に係る位相差フィルムはλ／４波長板であってもよく、λは可視光波長の平均値を取り、又は当業者が必要に応じて設定すればよく、本発明の実施例ではそれについて限定されない。
【0020】
本発明の実施例に係る反射減少構造では、直線偏光板と位相差フィルムとはいずれも液晶材料を用いて例えば塗布方法により形成されるものであり、このように、従来のディスプレイ装置用の反射減少構造に比べて、反射減少構造は厚さを大幅に減少させ、且つ波長範囲が６５０ｎｍ～７８０ｎｍの光を遮断する光遮断層をさらに備えることにより、反射減少構造の偏光度に悪影響を与える光の全部又は一部を遮断し、反射減少構造の偏光度を大幅に向上させ、例えば、反射減少構造の偏光度は６０％から９９．７％まで向上し、それによって、厚さを大幅に減少させるとともに偏光度を大幅に向上させる反射減少構造が実現され、この反射減少構造が極薄フレキシブルディスプレイに適用できる。
【実施例2】
【0021】
本実施例は別の反射減少構造を提供する。図１ｂには、反射減少構造の構造模式図が示され、当該反射減少構造１０１は順に、第１配向層１０３、位相差フィルム１０２、直線偏光板１０４及び第２配向層１０９を含む。第１配向層１０３は位相差フィルム１０２の入射側に設置され、直線偏光板１０４は位相差フィルム１０２の透過側に設置され、当該位相差フィルムと当該直線偏光板とは液晶を含む。
なお、透過側は表示光に対応するものであり、表示光の透過方向に位置する側を意味し、それに対して下記入射側は表示光の入射方向に位置する側を意味し、図１に示すように、Ｌ１は表示光の透過方向をマークする。
なお、透過側は表示光に対応するものであり、表示光の透過方向に位置する側を意味し、それに対して下記入射側は表示光の入射方向に位置する側を意味し、図１に示すように、Ｌ１は表示光の透過方向をマークする。
【0022】
例えば、当該位相差フィルムと当該直線偏光板とに含まれる液晶は重合性液晶であり、直線偏光板１０４は二色性染料、重合性液晶及び光開始剤を含み、位相差フィルム１０２は重合性液晶と光開始剤とを含む。二色性染料はＸ１１（ＢＡＳＦ）又はＳ－４２８であり、重合性液晶はＬＣ２４２（ｍｅｒｃｋ）等一般のネマチック液晶であり、光開始剤は１８４である。
例えば、直線偏光板１０４は１質量％～２０質量％の二色性染料、７５質量％～９５質量％の重合性液晶７及び０．１質量％～５質量％の光開始剤を含む。予備案として、二色性染料、重合性液晶及び光開始剤のそれぞれの含有量は、１０％、８７．５％及び２．５％である。
例えば、直線偏光板１０４は１質量％～２０質量％の二色性染料、７５質量％～９５質量％の重合性液晶７及び０．１質量％～５質量％の光開始剤を含む。予備案として、二色性染料、重合性液晶及び光開始剤のそれぞれの含有量は、１０％、８７．５％及び２．５％である。
【0023】
例えば、位相差フィルム１０２は７５重量％～９９．５重量％の重合性液晶と０．５重量％～２５重量％の光開始剤とを含む。
予備案として、本発明の実施例に係る反射減少構造はさらに、直線偏光板の透過側に設置され特定波長範囲の光を遮断するように構成される光遮断層を備える。予備案として、光遮断層１０８は第２配向層１０９の透過側に設置されてもよい。
予備案として、本発明の実施例に係る反射減少構造はさらに、直線偏光板の透過側に設置され特定波長範囲の光を遮断するように構成される光遮断層を備える。予備案として、光遮断層１０８は第２配向層１０９の透過側に設置されてもよい。
【0024】
例えば、第１配向層１０３、第２配向層１０９の厚さはそれぞれ０．０５μｍ～０．１５μｍの厚さ範囲内にあり、例えば、いずれも０．１μｍとしてもよい。
例えば、直線偏光板１０４の厚さは２．５μｍ～３．５μｍ、例えば、３μｍである。
例えば、位相差フィルム１０２の厚さは１．５μｍ～２．５μｍ、例えば、２μｍである。
例えば、光遮断層１０８の厚さは０．０６μｍ～０．０８μｍ、例えば、０．０７μｍである。
例えば、光遮断層１０８は特定波長範囲の光、例えば、波長範囲６５０ｎｍ～７８０ｎｍの光を遮断するように構成され、好ましくは、波長範囲７００ｎｍ～７８０ｎｍの光を遮断するように構成される。このように、全ての赤外光ではなく一部の赤外光を遮光することによって、表示を損なわずに偏光度を大幅に向上できる。
例えば、直線偏光板１０４の厚さは２．５μｍ～３．５μｍ、例えば、３μｍである。
例えば、位相差フィルム１０２の厚さは１．５μｍ～２．５μｍ、例えば、２μｍである。
例えば、光遮断層１０８の厚さは０．０６μｍ～０．０８μｍ、例えば、０．０７μｍである。
例えば、光遮断層１０８は特定波長範囲の光、例えば、波長範囲６５０ｎｍ～７８０ｎｍの光を遮断するように構成され、好ましくは、波長範囲７００ｎｍ～７８０ｎｍの光を遮断するように構成される。このように、全ての赤外光ではなく一部の赤外光を遮光することによって、表示を損なわずに偏光度を大幅に向上できる。
【0025】
このように、光遮断層１０８を提供し、そのフィルタ作用により偏光度を大幅に向上させることによって、厚さを減少させると同時に、高偏光度を有する反射減少構造を実現するため、ディスプレイ装置によく適用され、極薄フレキシブルディスプレイを実現できる。
【0026】
例えば、本発明の実施例に係る光遮断層１０８は交互に設置された複数の高屈折率層と複数の低屈折率層を含み、当該複数の高屈折率層のそれぞれの厚さが同じでも異なってもよく、当該複数の低屈折率層のそれぞれの厚さが同じでも異なってもよく、高屈折率層の厚さは低屈折率層の厚さと同じでも異なってもよく、本発明の実施例ではそれについて限定されない。
例えば、当該高屈折率層は窒化ケイ素層であり、当該低屈折率層は酸化ケイ素層であり、つまり、光遮断層１０８は交互に設置された複数の窒化ケイ素層と複数の酸化ケイ素層を含む。例えば、プラズマ気相堆積（ＰＥＣＶＤ）方法を用いて窒化ケイ素層と酸化ケイ素層を交互に堆積する。ここで、窒化ケイ素層を堆積するための反応ガスをＳｉＨ４、ＮＨ３及びＮ２の混合ガスとしてもよく、例えば、当該混合ガスにおいて、ＳｉＨ４、ＮＨ３及びＮ２の流量比は１６：４：１であり、酸化ケイ素層を堆積する反応ガスをＳｉＨ４、ＮＯ２及びＮ２の混合ガスとしてもよく、例えば、当該混合ガスにおいて、ＳｉＨ４、ＮＨ３及びＮ２の流量比は４０：４：１である。実際に、反応時間を制御することで膜層の厚さを制御し、反応ガスのガス通路の開閉により複数の膜を交互に堆積できる。
例えば、当該高屈折率層は窒化ケイ素層であり、当該低屈折率層は酸化ケイ素層であり、つまり、光遮断層１０８は交互に設置された複数の窒化ケイ素層と複数の酸化ケイ素層を含む。例えば、プラズマ気相堆積（ＰＥＣＶＤ）方法を用いて窒化ケイ素層と酸化ケイ素層を交互に堆積する。ここで、窒化ケイ素層を堆積するための反応ガスをＳｉＨ４、ＮＨ３及びＮ２の混合ガスとしてもよく、例えば、当該混合ガスにおいて、ＳｉＨ４、ＮＨ３及びＮ２の流量比は１６：４：１であり、酸化ケイ素層を堆積する反応ガスをＳｉＨ４、ＮＯ２及びＮ２の混合ガスとしてもよく、例えば、当該混合ガスにおいて、ＳｉＨ４、ＮＨ３及びＮ２の流量比は４０：４：１である。実際に、反応時間を制御することで膜層の厚さを制御し、反応ガスのガス通路の開閉により複数の膜を交互に堆積できる。
【0027】
なお、本発明の実施例に係る位相差フィルムはλ／４波長板であってもよく、λは可視光波長の平均値を取り、又は当業者が必要に応じて設定すればよく、本発明の実施例ではそれについて限定されない。
本発明の実施例に係る反射減少構造では、直線偏光板と位相差フィルムとはいずれも液晶材料を用いて例えば塗布方法により形成されるものであり、このように、従来のディスプレイ装置用の反射減少構造に比べて、反射減少構造は厚さを大幅に減少させ、且つ波長範囲が６５０ｎｍ～７８０ｎｍの光を遮断する光遮断層をさらに備えることにより、反射減少構造の偏光度に悪影響を与える光の全部又は一部を遮断し、反射減少構造の偏光度を大幅に向上させ、例えば、反射減少構造の偏光度は６０％から９９．７％まで向上し、それによって、厚さを大幅に減少させるとともに偏光度を大幅に向上させる反射減少構造が実現され、この反射減少構造が極薄フレキシブルディスプレイに適用できる。
本発明の実施例に係る反射減少構造では、直線偏光板と位相差フィルムとはいずれも液晶材料を用いて例えば塗布方法により形成されるものであり、このように、従来のディスプレイ装置用の反射減少構造に比べて、反射減少構造は厚さを大幅に減少させ、且つ波長範囲が６５０ｎｍ～７８０ｎｍの光を遮断する光遮断層をさらに備えることにより、反射減少構造の偏光度に悪影響を与える光の全部又は一部を遮断し、反射減少構造の偏光度を大幅に向上させ、例えば、反射減少構造の偏光度は６０％から９９．７％まで向上し、それによって、厚さを大幅に減少させるとともに偏光度を大幅に向上させる反射減少構造が実現され、この反射減少構造が極薄フレキシブルディスプレイに適用できる。
【実施例3】
【0028】
本実施例は、実施例１と実施例２とに記載の反射減少構造の製造方法を提供し、以下、実施例１の反射減少構造の製造を例として本発明の実施例に係る反射減少構造の製造方法を説明する。
例えば、本実施例に係る反射減少構造の製造方法は、
基板を準備するステップと、
基板上に位相差フィルム、第１配向層及び直線偏光板を形成するステップとを含み、
第１配向層は位相差フィルムと直線偏光板との間に位置し、位相差フィルムと直線偏光板とは液晶を含む。
例えば、本実施例に係る反射減少構造の製造方法は、
基板を準備するステップと、
基板上に位相差フィルム、第１配向層及び直線偏光板を形成するステップとを含み、
第１配向層は位相差フィルムと直線偏光板との間に位置し、位相差フィルムと直線偏光板とは液晶を含む。
【0029】
予備案として、本実施例に係る反射減少構造の製造方法において、基板上に位相差フィルム、第１配向層及び直線偏光板を形成するステップは、基板上に位相差フィルムを形成するステップと、位相差フィルム上に第１配向層を形成するステップと、第１配向層上に直線偏光板を形成するステップとを含む。
予備案として、本実施例に係る反射減少構造の製造方法において、基板上に位相差フィルム、第１配向層及び直線偏光板を形成するステップは、基板上に直線偏光板を形成するステップと、直線偏光板上に第１配向層を形成するステップと、第１配向層上に位相差フィルムを形成するステップとを含む。
更に、上記の位相差フィルム、配向層、直線偏光板を形成する例示的なステップは下記の実施例５のディスプレイ装置の製造方法を参照すればよく、ここで詳細な説明を省略する。
当業者は、ここで説明した各部材の製造方法は各ステップの実施順番を変更すれば、実施例２の前記反射減少構造の製造にも適用でき、便宜上、詳細な説明を省略する。
予備案として、本実施例に係る反射減少構造の製造方法において、基板上に位相差フィルム、第１配向層及び直線偏光板を形成するステップは、基板上に直線偏光板を形成するステップと、直線偏光板上に第１配向層を形成するステップと、第１配向層上に位相差フィルムを形成するステップとを含む。
更に、上記の位相差フィルム、配向層、直線偏光板を形成する例示的なステップは下記の実施例５のディスプレイ装置の製造方法を参照すればよく、ここで詳細な説明を省略する。
当業者は、ここで説明した各部材の製造方法は各ステップの実施順番を変更すれば、実施例２の前記反射減少構造の製造にも適用でき、便宜上、詳細な説明を省略する。
【実施例4】
【0030】
本実施例はディスプレイ装置を提供する。図２には、反射減少構造を有するディスプレイ装置の構造模式図が示され、当該ディスプレイ装置は、表示パネル１００と、位相差フィルム１０２、第１配向層１０３及び直線偏光板１０４を順に含む反射減少構造１０１とを含む。第１配向層１０３は位相差フィルム１０２の透過側に設置され、直線偏光板１０４は第１配向層１０３の透過側に設置される。図２に示される例では、反射減少構造１０１は当該表示パネル１００の透過側に設置されるが、図２に示される例以外に、当該反射減少構造１０１は表示パネル１００の内部に設置されてもよい。
なお、透過側は表示光に対応するものであり、表示光の透過方向に位置する側を意味し、それに対して下記の入射側は表示光の入射方向に位置する側を意味し、図２に示すように、Ｌ１は表示光の透過方向をマークする。
なお、透過側は表示光に対応するものであり、表示光の透過方向に位置する側を意味し、それに対して下記の入射側は表示光の入射方向に位置する側を意味し、図２に示すように、Ｌ１は表示光の透過方向をマークする。
【0031】
例えば、図３には、本発明の実施例に係る反射減少構造を表示パネル内に設置したディスプレイ装置が示され、当該ディスプレイ装置の表示パネル１００は、ベース基板１０５と複数の画素ユニット１０６とを含むアレイ基板１１１と、対向基板１０７とを含む。複数の画素ユニット１０６は当該ベース基板１０５上に形成され且つそれぞれの画素ユニット１０６に有機発光ダイオードと薄膜トランジスタが形成される。対向基板１０７は、当該複数の画素ユニット１０６の透過側でアレイ基板１１１と組み合わせられ、当該反射減少構造１０１は当該アレイ基板１１１と当該対向基板１０７との間に設置される。図３中、当該反射減少構造１０１は対向基板１０７とアレイ基板１１１との間に設置され、予備案として、当該反射減少構造１０１は対向基板におけるアレイ基板との反対側に設置される。
【0032】
例えば、図４ａに示すように、反射減少構造１０１は対向基板１０７とアレイ基板１１１との間に設置され、複数の画素ユニット１０６はベース基板１０５に形成され、且つ複数の画素ユニット１０６のそれぞれに有機発光ダイオードと薄膜トランジスタとが形成され、複数の画素ユニット１０６が形成されたベース基板に反射減少構造１０１が形成される。予備案として、反射減少構造１０１と、機発光ダイオード及び薄膜トランジスタが形成されたベース基板１０５との間に平坦化層１１０がさらに形成されてもよく、当該平坦化層１１０は発明者の公知する材料を用いてリバースエッチング法、ガラス還流法、スピン・オン・ガラス法、化学的機械的平坦化法等により形成できる。
【0033】
例えば、図４ｂに示すように、反射減少構造１０１は対向基板１０７におけるアレイ基板１１１との反対側に設置されてもよく、この場合、複数の画素ユニット１０６はベース基板１０５上に形成され、且つ当該複数の画素ユニット１０６のそれぞれに有機発光ダイオードと薄膜トランジスタが形成され、当該反射減少構造１０１はさらに直線偏光板１０４の透過側に位置して反射減少構造１０１を保護するように構成される保護層１２０を含み、例えば、保護層１２０は透光絶縁材料で形成される。
【0034】
例えば、直線偏光板１０４は二色性染料、重合性液晶及び光開始剤を含み、位相差フィルム１０２は重合性液晶と光開始剤とを含む。二色性染料はＸ１１（ＢＡＳＦ）又はＳ－４２８であり、重合性液晶はＬＣ２４２（ｍｅｒｃｋ）等一般のネマチック液晶であり、光開始剤は１８４である。
例えば、直線偏光板１０４は１質量％～２０質量％の二色性染料、７５質量％～９５質量％の重合性液晶７及び０．１質量％～５質量％の光開始剤を含む。予備案として、二色性染料、重合性液晶及び光開始剤のそれぞれの含有量は、１０％、８７．５％及び２．５％である。
例えば、直線偏光板１０４は１質量％～２０質量％の二色性染料、７５質量％～９５質量％の重合性液晶７及び０．１質量％～５質量％の光開始剤を含む。予備案として、二色性染料、重合性液晶及び光開始剤のそれぞれの含有量は、１０％、８７．５％及び２．５％である。
【0035】
例えば、位相差フィルム１０２は７５重量％～９９．５重量％の重合性液晶と０．５重量％～２５重量％の光開始剤とを含む。
例えば、液晶材料を含む直線偏光板１０４が一方向の偏光光を透過させ、これに直交する方向における偏光光を吸収するようにするために、形成過程において配向する必要があり、且つ液晶材料を含む位相差フィルム１０２も形成過程において配向する必要がある。予備案として、直線偏光板１０４と位相差フィルム１０２とは、両者の間における第１配向層１０３を用いて配向し、又は、直線偏光板１０４と位相差フィルム１０２とはそれぞれ異なる配向層を用いて配向してもよい。
例えば、液晶材料を含む直線偏光板１０４が一方向の偏光光を透過させ、これに直交する方向における偏光光を吸収するようにするために、形成過程において配向する必要があり、且つ液晶材料を含む位相差フィルム１０２も形成過程において配向する必要がある。予備案として、直線偏光板１０４と位相差フィルム１０２とは、両者の間における第１配向層１０３を用いて配向し、又は、直線偏光板１０４と位相差フィルム１０２とはそれぞれ異なる配向層を用いて配向してもよい。
【0036】
例えば、第１配向層１０３は位相差フィルム１０２を配向するように構成される場合は、反射減少構造はさらに、直線偏光板１０４の透過側に設置され直線偏光板１０４を配向するように構成される第２配向層１０９を含む。図４ｃに示すように、図４ａに示されるディスプレイ装置の構造に対応して、第２配向層１０９は対向基板１０７と直線偏光板１０４との間に設置されてもよく、予備案として、図４ｄに示すように、図４ｂに示されるディスプレイ装置に対応して、第２配向層１０９は保護層１２０と直線偏光板１０４との間に設置されてもよい。
【0037】
予備案として、第１配向層１０３は直線偏光板１０４を配向するように構造され、この場合、反射減少構造１０１は位相差フィルム１０２の入射側に設置され位相差フィルム１０２を配向するように構造される第３配向層１３０を含む。例えば、図４ｅに示すように、反射減少構造１０１が対向基板とアレイ基板との間に形成された実施形態に対応して、第３配向層１３０は有機発光ダイオードと薄膜トランジスタとが形成されたベース基板上における平坦層１１０と位相差フィルム１０２との間に設置される。予備案として、反射減少構造１０１が対向基板におけるアレイ基板との反対側に設置された実施形態に対応して、第３配向層は対向基板と位相差フィルム１０２との間に形成される。
【0038】
本実施例では、反射減少構造の直線偏光板と位相差フィルムとは液晶材料を用い、例えば塗布方法で形成され、このように、従来のディスプレイ装置用の反射減少構造に比べて、本発明の実施例に係る反射減少構造は厚さを大幅に減少させ、例えば、厚さは約１０μｍ、さらに１０μｍよりはるかに薄いまで、例えば下記例で挙げられた５．２７μｍまで減少できる。ところが、以上の反射減少構造は、偏光度が低い場合がある、例えば６０％である。
【0039】
予備案として、上記のディスプレイ装置の偏光度を向上させるために、本発明の実施例に係る反射減少構造はさらに、直線偏光板の透過側に設置され特定波長範囲の光を遮断するように構成される光遮断層を含む。例えば、図５に示すように、図４ａに示されるディスプレイ装置に対応して、平坦化層１１０上には、位相差フィルム１０２、第１配向層１０３及び直線偏光板１０４が順に設置され、直線偏光板１０４の透過側に光遮断層１０８が形成される。予備案として、図４ｃと図４ｄとに示されるディスプレイ装置構造に対応して、光遮断層１０８は第２配向層１０９の透過側に設置されてもよい。
【0040】
例えば、第１配向層１０３、第２配向層１０９、第３配向層１３０の厚さはそれぞれ０．０５μｍ～０．１５μｍの厚さ範囲内にあり、例えば、いずれも０．１μｍである。
例えば、直線偏光板１０４の厚さは２．５μｍ～３．５μｍ、例えば、３μｍである。
例えば、位相差フィルム１０２の厚さは１．５μｍ～２．５μｍ、例えば、２μｍである。
例えば、光遮断層１０８の厚さは０．０６μｍ～０．０８μｍ、例えば、０．０７μｍである。
例えば、本発明の実施例に係る反射減少構造の一例では、例えば、当該反射減少構造は順に、位相差フィルム、第１配向層、直線偏光板、第２配向層及び光遮断層を含み、光遮断層１０８の厚さが例えば０．０７μｍ、２つの配向層のいずれの厚さが例えば０．１μｍ、直線偏光板１０４の厚さが例えば３μｍ、位相差フィルム１０３の厚さが例えば２μｍである場合は、反射減少構造の全厚さが５．２７μｍとなり、１０μｍ未満である。厚さが約１２０～２５０μｍの従来の反射減少構造に比べて、厚さは大幅に減少し、且つ当該構造を備えた反射減少構造は、偏光度が９９．７％まで向上でき、極薄ディスプレイの実現に役立つ。
例えば、直線偏光板１０４の厚さは２．５μｍ～３．５μｍ、例えば、３μｍである。
例えば、位相差フィルム１０２の厚さは１．５μｍ～２．５μｍ、例えば、２μｍである。
例えば、光遮断層１０８の厚さは０．０６μｍ～０．０８μｍ、例えば、０．０７μｍである。
例えば、本発明の実施例に係る反射減少構造の一例では、例えば、当該反射減少構造は順に、位相差フィルム、第１配向層、直線偏光板、第２配向層及び光遮断層を含み、光遮断層１０８の厚さが例えば０．０７μｍ、２つの配向層のいずれの厚さが例えば０．１μｍ、直線偏光板１０４の厚さが例えば３μｍ、位相差フィルム１０３の厚さが例えば２μｍである場合は、反射減少構造の全厚さが５．２７μｍとなり、１０μｍ未満である。厚さが約１２０～２５０μｍの従来の反射減少構造に比べて、厚さは大幅に減少し、且つ当該構造を備えた反射減少構造は、偏光度が９９．７％まで向上でき、極薄ディスプレイの実現に役立つ。
【0041】
以下、図６をもって光遮断層１０８の光遮断特性を例示的に説明する。
図６には、反射減少構造の偏光度と入射光波長との関係が示され、図面において、横座標が入射光波長を示し、縦座標が偏光度（ＤＯＰ）を示し、ラインＬｉｎｅ１が測定された従来の表示パネルの外部に貼り付けた量産反射減少構造の偏光度と入射光波長との関係を示し、ラインＬｉｎｅ２が測定された発明の実施例に係る光遮断層を備えていない反射減少構造の偏光度と入射光波長との関係を示す。図６から明なように、本発明の実施例に係る光遮断層を備えていない反射減少構造は、入射光の波長範囲が３８０ｎｍ～７８０ｎｍである時、平均偏光度が僅か６０％となり、３８０ｎｍ～６５０ｎｍ２５である場合は、平均偏光度が１に近づき、約９９．７５％となり、入射光の波長が６５０ｎｍより大きい場合は、偏光度が急激に降下する。以上から明らかなように、波長が６５０ｎｍ～７８０ｎｍの光は反射減少構造の偏光度を大きく損ない、従って、本発明の実施例に係る光遮断層１０８は６５０ｎｍ～７８０ｎｍ範囲の光を遮断するように構成されることにより、偏光度を向上させる。
図６には、反射減少構造の偏光度と入射光波長との関係が示され、図面において、横座標が入射光波長を示し、縦座標が偏光度（ＤＯＰ）を示し、ラインＬｉｎｅ１が測定された従来の表示パネルの外部に貼り付けた量産反射減少構造の偏光度と入射光波長との関係を示し、ラインＬｉｎｅ２が測定された発明の実施例に係る光遮断層を備えていない反射減少構造の偏光度と入射光波長との関係を示す。図６から明なように、本発明の実施例に係る光遮断層を備えていない反射減少構造は、入射光の波長範囲が３８０ｎｍ～７８０ｎｍである時、平均偏光度が僅か６０％となり、３８０ｎｍ～６５０ｎｍ２５である場合は、平均偏光度が１に近づき、約９９．７５％となり、入射光の波長が６５０ｎｍより大きい場合は、偏光度が急激に降下する。以上から明らかなように、波長が６５０ｎｍ～７８０ｎｍの光は反射減少構造の偏光度を大きく損ない、従って、本発明の実施例に係る光遮断層１０８は６５０ｎｍ～７８０ｎｍ範囲の光を遮断するように構成されることにより、偏光度を向上させる。
【0042】
例えば、光遮断層１０８は特定波長範囲の光、例えば、波長範囲６５０ｎｍ～７８０ｎｍの光、好ましくは、波長範囲７００ｎｍ～７８０ｎｍの光を遮断する。このように、全ての赤外光ではなく一部の赤外光だけを遮断することによって、表示を損なわずに偏光度を大幅に向上できる。
このように、光遮断層１０８を提供し、そのフィルタ作用により偏光度を大幅に向上させることによって、厚さを減少させると同時に、高偏光度を有する反射減少構造を実現するため、ディスプレイ装置によく適用され、極薄フレキシブルディスプレイを実現できる。
このように、光遮断層１０８を提供し、そのフィルタ作用により偏光度を大幅に向上させることによって、厚さを減少させると同時に、高偏光度を有する反射減少構造を実現するため、ディスプレイ装置によく適用され、極薄フレキシブルディスプレイを実現できる。
【0043】
例えば、本発明の実施例に係る光遮断層１０８は交互に設置された複数の高屈折率層と複数の低屈折率層を含み、当該複数の高屈折率層のそれぞれの厚さが同じでも異なってもよく、当該複数の低屈折率層のそれぞれの厚さが同じでも異なってもよく、高屈折率層の厚さは低屈折率層の厚さと同じでも異なってもよく、本発明の実施例ではそれについて限定されない。
例えば、当該高屈折率層は窒化ケイ素層であり、当該低屈折率層は酸化ケイ素層であり、つまり、光遮断層１０８は交互に設置された複数の窒化ケイ素層と複数の酸化ケイ素層を含む。例えば、プラズマ気相堆積（ＰＥＣＶＤ）方法を用いて窒化ケイ素層と酸化ケイ素層を交互に堆積する。ここで、窒化ケイ素層を堆積するための反応ガスをＳｉＨ４、ＮＨ３及びＮ２の混合ガスとしてもよく、例えば、当該混合ガスにおいて、ＳｉＨ４、ＮＨ３及びＮ２の流量比は１６：４：１であり、酸化ケイ素層を堆積する反応ガスをＳｉＨ４、ＮＯ２及びＮ２の混合ガスとしてもよく、例えば、当該混合ガスにおいて、ＳｉＨ４、ＮＨ３及びＮ２の流量比は４０：４：１である。実際に、反応時間を制御することで膜層の厚さを制御し、反応ガスのガス通路の開閉により複数の膜を交互に堆積できる。
例えば、当該高屈折率層は窒化ケイ素層であり、当該低屈折率層は酸化ケイ素層であり、つまり、光遮断層１０８は交互に設置された複数の窒化ケイ素層と複数の酸化ケイ素層を含む。例えば、プラズマ気相堆積（ＰＥＣＶＤ）方法を用いて窒化ケイ素層と酸化ケイ素層を交互に堆積する。ここで、窒化ケイ素層を堆積するための反応ガスをＳｉＨ４、ＮＨ３及びＮ２の混合ガスとしてもよく、例えば、当該混合ガスにおいて、ＳｉＨ４、ＮＨ３及びＮ２の流量比は１６：４：１であり、酸化ケイ素層を堆積する反応ガスをＳｉＨ４、ＮＯ２及びＮ２の混合ガスとしてもよく、例えば、当該混合ガスにおいて、ＳｉＨ４、ＮＨ３及びＮ２の流量比は４０：４：１である。実際に、反応時間を制御することで膜層の厚さを制御し、反応ガスのガス通路の開閉により複数の膜を交互に堆積できる。
【0044】
以下は光遮断層の具体例を示す。ここで、窒化ケイ素層と酸化ケイ素層とを交互に堆積することで光遮断層を形成し、例えば、形成された光遮断層は０．６６Ｈ｜（１Ｌ１Ｈ）４｜１Ｌを有する構造として形成され、但し、Ｈは窒化ケイ素層、Ｌは酸化ケイ素層、係数の０．６６と１は各層の厚さを示し、窒化ケイ素層に対し、係数１が３６ｎｍを示すと、０．６６Ｈは厚さ３６×０．６６ｎｍ＝２３．７６ｎｍの窒化ケイ素層を示し、酸化ケイ素層に対し、係数１が５２ｎｍを示すと、１Ｌは厚さ５２ｎｍの酸化ケイ素層を示す。例えば、（１Ｌ１Ｈ）４は酸化ケイ素を５２ｎｍの厚さ、窒化ケイ素を３６ｎｍの厚さで順に交互に４回堆積することを示し、例えば、交互に積層する回数は８回、１６回、３２回などとしてもよい。
【0045】
図７はシミュレーションで得た例示的な光遮断層の透過率曲線図を示し、図７に示すように、当該光遮断層は、窒化ケイ素層と酸化ケイ素層とが交互に８回積層される１６層の膜層を有し、具体的な構造としては、１．１５Ｈ、１．０７Ｌ、１．１０Ｈ、１．１４Ｌ、０．９９Ｈ、１．０９Ｌ、１．１１Ｈ、１．１１Ｌ、１．１７Ｈ、０．５８Ｌ、１．２６Ｈ、１．１５Ｌ、０．９９Ｈ、１．１４Ｌ、０．９８Ｈ、０．４６Ｌであり、全厚さ７１７ｎｍの光遮断層を構成する。図から明らかなように、波長３８０ｎｍ～７００ｎｍの光、例えば、３８０ｎｍ～６５０ｎｍの光に対しては、このような構造を有する光遮断層の透過率は９５％より大きい。
なお、本発明の実施例に係る位相差フィルムはλ／４波長板であってもよく、λは可視光波長の平均値を取り、又は当業者が必要に応じて設定すればよく、本発明の実施例ではそれについて限定されない。
なお、本発明の実施例に係る位相差フィルムはλ／４波長板であってもよく、λは可視光波長の平均値を取り、又は当業者が必要に応じて設定すればよく、本発明の実施例ではそれについて限定されない。
【0046】
本発明の実施例に係る反射減少構造では、直線偏光板と位相差フィルムとはいずれも液晶材料を用いて例えば塗布方法により形成されるものであり、このように、従来のディスプレイ装置用の反射減少構造に比べて、反射減少構造は厚さを大幅に減少させ、且つ波長範囲が６５０ｎｍ～７８０ｎｍの光を遮断する光遮断層をさらに備えることにより、反射減少構造の偏光度に悪影響を与える光の全部又は一部を遮断し、反射減少構造の偏光度を大幅に向上させ、例えば、反射減少構造の偏光度は６０％から９９．７％まで向上し、それによって、厚さを大幅に減少させるとともに偏光度を大幅に向上させる反射減少構造が実現され、この反射減少構造が極薄フレキシブルディスプレイに適用できる。
【実施例5】
【0047】
本実施例はディスプレイ装置の製造方法を提供する。当該製造方法は、互いに組み合わせられたアレイ基板及び対向基板を含む表示パネルを用意するステップと、反射減少構造を製造するステップとを含む。当該アレイ基板は、ベース基板、及び当該ベース基板上に形成され且つそれぞれに有機発光ダイオードと薄膜トランジスタとが形成された複数の画素ユニットを含み、当該対向基板は当該複数の画素ユニットの透過側に設置される。反射減少構造を製造するステップは、有機発光ダイオードと薄膜トランジスタとが形成されたベース基板、又は対向基板上には、位相差フィルム、第１配向層及び直線偏光板を形成するステップを含み、第１配向層は位相差フィルムと直線偏光板の間に位置する。
【0048】
例えば、反射減少構造を製造するステップは、
有機発光ダイオードと薄膜トランジスタとが形成されたベース基板、又は対向基板上には、位相差フィルムを形成するステップと、
位相差フィルム上に第１配向層を形成するステップと、
第１配向層上に直線偏光板を形成するステップとを含む。
更に、反射減少構造を製造するステップはさらに、直線偏光板上に光遮断層を形成するステップを含む。
有機発光ダイオードと薄膜トランジスタとが形成されたベース基板、又は対向基板上には、位相差フィルムを形成するステップと、
位相差フィルム上に第１配向層を形成するステップと、
第１配向層上に直線偏光板を形成するステップとを含む。
更に、反射減少構造を製造するステップはさらに、直線偏光板上に光遮断層を形成するステップを含む。
【0049】
例えば、有機発光ダイオードと薄膜トランジスタとが形成されたベース基板、又は対向基板上に、位相差フィルムを形成する前に、本発明の実施例に係るディスプレイ装置の製造方法において、反射減少構造を製造するステップはさらに、有機発光ダイオードと薄膜トランジスタとが形成されたベース基板、又は対向基板上に、第２配向層を形成するステップと、及び第２配向層に対し摩擦配向を行うステップとを含む。
予備案として、有機発光ダイオードと薄膜トランジスタとが形成されたベース基板、又は対向基板上に、位相差フィルムを形成するステップは、
第２配向層上に重合性液晶と光開始剤とを含む第２材料層を塗布するステップと、
第２材料層を配向して硬化させるステップとを含む。
予備案として、有機発光ダイオードと薄膜トランジスタとが形成されたベース基板、又は対向基板上に、位相差フィルムを形成するステップは、
第２配向層上に重合性液晶と光開始剤とを含む第２材料層を塗布するステップと、
第２材料層を配向して硬化させるステップとを含む。
【0050】
予備案として、反射減少構造の製造過程において、位相差フィルム上に第１配向層を形成した後、さらに、第１配向層に対し摩擦配向を行うステップを含む。
本発明の実施例によれば、反射減少構造を製造する際、第１配向層上に直線偏光板を形成するステップは、第１配向層上に二色性染料、重合性液晶及び光開始剤を含む第１材料層を塗布するステップと、第１材料層を配向して硬化させるステップとを含む。
更に、有機発光ダイオードと薄膜トランジスタとが形成されたベース基板に反射減少構造を形成する際に、反射減少構造を製造する前に、本発明の実施例に係るディスプレイ装置の製造方法はさらに、前記有機発光ダイオードと前記薄膜トランジスタが形成されたベース基板上に平坦化層を形成し、続いて形成される反射減少構造を平坦化層に形成するステップを含んでもよい。
本発明の実施例によれば、反射減少構造を製造する際、第１配向層上に直線偏光板を形成するステップは、第１配向層上に二色性染料、重合性液晶及び光開始剤を含む第１材料層を塗布するステップと、第１材料層を配向して硬化させるステップとを含む。
更に、有機発光ダイオードと薄膜トランジスタとが形成されたベース基板に反射減少構造を形成する際に、反射減少構造を製造する前に、本発明の実施例に係るディスプレイ装置の製造方法はさらに、前記有機発光ダイオードと前記薄膜トランジスタが形成されたベース基板上に平坦化層を形成し、続いて形成される反射減少構造を平坦化層に形成するステップを含んでもよい。
【0051】
本実施例では、反射減少構造が対向基板に形成されることは、反射減少構造が対向基板における前記アレイ基板との反対側に形成されることを意味する。更に、このように形成される反射減少構造が表示パネルの外部に位置するため、これを保護するために、反射減少構造を対向基板における前記アレイ基板との反対側に形成した後、当該ディスプレイ装置の製造方法はさらに、直線偏光板上に保護層を形成するステップを含む。予備案として、光遮断層上に保護層が形成されてもよい。
【0052】
例えば、当該保護層は透明絶縁材料、例えば透明樹脂で形成されてもよい。
以下、図８ａ～８ｅを参照して本実施例に係るディスプレイ装置の製造方法を例示的に説明し、ここで、有機発光ダイオードと薄膜トランジスタとが形成されたベース基板上に反射減少構造が形成されることを例とし、図８ａ～８ｅには、有機発光ダイオードと薄膜トランジスタとが形成されたベース基板上に、反射減少構造を製造する各ステップを実施した断面図が示される。
図８ａに示すように、反射減少構造が形成される予定のベース基板１０５上に、有機発光ダイオードと薄膜トランジスタとを含む複数の画素ユニット１０６を形成する。
以下、図８ａ～８ｅを参照して本実施例に係るディスプレイ装置の製造方法を例示的に説明し、ここで、有機発光ダイオードと薄膜トランジスタとが形成されたベース基板上に反射減少構造が形成されることを例とし、図８ａ～８ｅには、有機発光ダイオードと薄膜トランジスタとが形成されたベース基板上に、反射減少構造を製造する各ステップを実施した断面図が示される。
図８ａに示すように、反射減少構造が形成される予定のベース基板１０５上に、有機発光ダイオードと薄膜トランジスタとを含む複数の画素ユニット１０６を形成する。
【0053】
次に、本発明の実施例に係るディスプレイ装置の製造方法は、
図８ｂに示すように、有機発光ダイオードと薄膜トランジスタとが形成されたベース基板１０５上に平坦化層１１０を形成するステップと、
続いて、図８ｃに示すように、平坦化層１１０上に、例えばポリイミド材料を用いて第２配向層１０９を形成し、当該第２配向層１０９に対し摩擦配向を行うステップと、
続いて、第２配向層１０９上に位相差フィルム１０２を形成するステップとを含んでもよい。
例えば、位相差フィルム１０２を形成するステップは、第２配向層１０９上に重合性液晶と光開始剤とを含む第２材料層を塗布し、当該第２材料層を配向して硬化させ、例えば、紫外線（ＵＶ光）で前記第２材料層を配向して硬化させるステップと、
図８ｂに示すように、有機発光ダイオードと薄膜トランジスタとが形成されたベース基板１０５上に平坦化層１１０を形成するステップと、
続いて、図８ｃに示すように、平坦化層１１０上に、例えばポリイミド材料を用いて第２配向層１０９を形成し、当該第２配向層１０９に対し摩擦配向を行うステップと、
続いて、第２配向層１０９上に位相差フィルム１０２を形成するステップとを含んでもよい。
例えば、位相差フィルム１０２を形成するステップは、第２配向層１０９上に重合性液晶と光開始剤とを含む第２材料層を塗布し、当該第２材料層を配向して硬化させ、例えば、紫外線（ＵＶ光）で前記第２材料層を配向して硬化させるステップと、
【0054】
続いて、位相差フィルム１０２上に、例えばポリイミド材料を用いて第１配向層１０３を形成し、第１配向層１０３に対し摩擦配向を行うステップと、
次に、図８ｄに示すように、第１配向層１０３上に直線偏光板１０４を形成するステップとを含んでもよい。
例えば、直線偏光板１０４を形成するステップは、第１配向層１０３上に二色性染料、重合性液晶及び光開始剤を含む第１材料層を塗布し、当該第２材料層を配向して硬化させ、例えば、紫外線（ＵＶ光）で前記第２材料層を配向して硬化させるステップと、
次に、図８ｄに示すように、第１配向層１０３上に直線偏光板１０４を形成するステップとを含んでもよい。
例えば、直線偏光板１０４を形成するステップは、第１配向層１０３上に二色性染料、重合性液晶及び光開始剤を含む第１材料層を塗布し、当該第２材料層を配向して硬化させ、例えば、紫外線（ＵＶ光）で前記第２材料層を配向して硬化させるステップと、
【0055】
次に、図８ｅに示すように、直線偏光板１０４上に光遮断層１０８を形成するステップとを含んでもよい。
例えば、第１材料層は、１質量％～２０質量％の二色性染料、７５質量％～９５質量％の重合性液晶及び０．１質量％～５質量％の光開始剤を含む。予備案として、二色性染料、重合性液晶及び光開始剤の含有量はそれぞれ１０％、８７．５％、２．５％である。
例えば、直線偏光板１０４上に光遮断層１０８を形成するステップは、プラズマ気相堆積（ＰＥＣＶＤ）を用いて複数の高屈折率層と複数の低屈折率層とを交互に堆積するステップを含んでもよく、例えば、当該高屈折率層は窒化ケイ素層であり、窒化ケイ素層を堆積するための反応ガスはＳｉＨ４、ＮＨ３及びＮ２の混合ガスであり、当該低屈折率層は酸化ケイ素層であり、酸化ケイ素層を堆積するための反応ガスはＳｉＨ４、ＮＯ２及びＮ２の混合ガスである。
例えば、第１材料層は、１質量％～２０質量％の二色性染料、７５質量％～９５質量％の重合性液晶及び０．１質量％～５質量％の光開始剤を含む。予備案として、二色性染料、重合性液晶及び光開始剤の含有量はそれぞれ１０％、８７．５％、２．５％である。
例えば、直線偏光板１０４上に光遮断層１０８を形成するステップは、プラズマ気相堆積（ＰＥＣＶＤ）を用いて複数の高屈折率層と複数の低屈折率層とを交互に堆積するステップを含んでもよく、例えば、当該高屈折率層は窒化ケイ素層であり、窒化ケイ素層を堆積するための反応ガスはＳｉＨ４、ＮＨ３及びＮ２の混合ガスであり、当該低屈折率層は酸化ケイ素層であり、酸化ケイ素層を堆積するための反応ガスはＳｉＨ４、ＮＯ２及びＮ２の混合ガスである。
【0056】
図８ａ～８ｅに示される具体例に対応して、図１０はベース基板上に反射減少構造を形成するフローチャートを示す。例えば、ベース基板上に反射減少構造を形成する際に、下記のステップを含む。
ステップＳ７１、有機発光ダイオードと薄膜トランジスタとが形成されたベース基板上に平坦化層を形成する。
ステップＳ７２、平坦化層が形成されたベース基板上に第２配向層を形成し、第２配向層に対し摩擦配向を行う。
ステップＳ７３、第２配向層上に重合性液晶と光開始剤とを含む第２材料層を塗布して、第２材料層を配向して硬化させ、位相差フィルムを得る。
ステップＳ７４、位相差フィルム上に第１配向層を形成して、第１配向層に対し摩擦配向を行う。
ステップＳ７５、第１配向層上に二色性染料、重合性液晶及び光開始剤を含む第１材料層を塗布し、第１材料層を配向して硬化させて直線偏光板を形成する。
ステップＳ７６、直線偏光板上に光遮断層を形成する。
なお、以上の例では、反射減少構造を前記ベース基板上に形成した後に、有機発光ダイオード、薄膜トランジスタ及び反射減少構造が形成されたベース基板と、その他の必要な部材が形成された対向基板とを組み合わせて、反射減少構造がアレイ基板と対向基板との間に位置する表示パネルを得る。
ステップＳ７１、有機発光ダイオードと薄膜トランジスタとが形成されたベース基板上に平坦化層を形成する。
ステップＳ７２、平坦化層が形成されたベース基板上に第２配向層を形成し、第２配向層に対し摩擦配向を行う。
ステップＳ７３、第２配向層上に重合性液晶と光開始剤とを含む第２材料層を塗布して、第２材料層を配向して硬化させ、位相差フィルムを得る。
ステップＳ７４、位相差フィルム上に第１配向層を形成して、第１配向層に対し摩擦配向を行う。
ステップＳ７５、第１配向層上に二色性染料、重合性液晶及び光開始剤を含む第１材料層を塗布し、第１材料層を配向して硬化させて直線偏光板を形成する。
ステップＳ７６、直線偏光板上に光遮断層を形成する。
なお、以上の例では、反射減少構造を前記ベース基板上に形成した後に、有機発光ダイオード、薄膜トランジスタ及び反射減少構造が形成されたベース基板と、その他の必要な部材が形成された対向基板とを組み合わせて、反射減少構造がアレイ基板と対向基板との間に位置する表示パネルを得る。
【0057】
例えば、当該反射減少構造は対向基板上に形成され、つまり、対向基板におけるアレイ基板との反対側に形成される。以下は具体例を示す。
図１１には、対向基板におけるアレイ基板との反対側に反射減少構造を形成するフローチャートが示され、下記のステップを含む。
ステップＳ８１、対向基板上に第２配向層を形成し、第２配向層に対し摩擦配向を行う。
ステップＳ８２、第２配向層上に重合性液晶と光開始剤とを含む第２材料層を塗布し、第２材料層を配向して硬化させて、位相差フィルムを得る。
ステップＳ８３、位相差フィルム上に第１配向層を形成して、第１配向層に対し摩擦配向を行う。
ステップＳ８４、第１配向層上に二色性染料、重合性液晶及び光開始剤を含む第１材料層を塗布し、第１材料層を配向して硬化させて直線偏光板を形成する。
ステップＳ８５、直線偏光板上に光遮断層を形成する。当該光遮断層の形成過程は上記の例を参照すればよいため、ここで詳細な説明を省略する。
ステップＳ８６、光遮断層上に保護層を形成する。
例えば、第１配向層１０３、位相差フィルム１０２、第２配向層１０９、光遮断層１０８、直線偏光板１０４の厚さ範囲、光遮断層１０８の具体的な形成方法は実施例２を参照すればよく、ここで詳細な説明を省略する。
図１１には、対向基板におけるアレイ基板との反対側に反射減少構造を形成するフローチャートが示され、下記のステップを含む。
ステップＳ８１、対向基板上に第２配向層を形成し、第２配向層に対し摩擦配向を行う。
ステップＳ８２、第２配向層上に重合性液晶と光開始剤とを含む第２材料層を塗布し、第２材料層を配向して硬化させて、位相差フィルムを得る。
ステップＳ８３、位相差フィルム上に第１配向層を形成して、第１配向層に対し摩擦配向を行う。
ステップＳ８４、第１配向層上に二色性染料、重合性液晶及び光開始剤を含む第１材料層を塗布し、第１材料層を配向して硬化させて直線偏光板を形成する。
ステップＳ８５、直線偏光板上に光遮断層を形成する。当該光遮断層の形成過程は上記の例を参照すればよいため、ここで詳細な説明を省略する。
ステップＳ８６、光遮断層上に保護層を形成する。
例えば、第１配向層１０３、位相差フィルム１０２、第２配向層１０９、光遮断層１０８、直線偏光板１０４の厚さ範囲、光遮断層１０８の具体的な形成方法は実施例２を参照すればよく、ここで詳細な説明を省略する。
【実施例6】
【0058】
本実施例はさらにディスプレイ装置の製造方法を提供する。実施例５の製造方法との区別点は以下となる。反射減少構造が対向基板におけるアレイ基板との対向側に形成されるため、反射減少構造を製造した後に、対向基板を反転して、有機発光ダイオードと薄膜トランジスタとが形成されたベース基板と組み合わせてディスプレイ装置を得る。当該反射減少構造がアレイ基板と対向基板との間に位置するため、ほかの保護層で反射減少構造を保護する必要がなく、反射減少構造をベース基板上に直接形成する場合に比べて、平坦層も不要になる。上記の区別点以外は、特に断らない限り、本実施例の製造方法のステップは実施例５の説明を参照すればよく、便宜上、詳細な説明を省略する。
【0059】
例えば、本実施例では、反射減少構造の製造は、
対向基板上に直線偏光板を形成するステップと、
直線偏光板上に第１配向層を形成するステップと、
第１配向層上に位相差フィルムを形成するステップとを含む。
対向基板上に直線偏光板を形成するステップと、
直線偏光板上に第１配向層を形成するステップと、
第１配向層上に位相差フィルムを形成するステップとを含む。
【0060】
例えば、対向基板上に直線偏光板を形成する前に、本実施例に係るディスプレイ装置の製造方法はさらに、対向基板上に第２配向層を形成するステップと、第２配向層に対し摩擦配向を行うステップとを含んでもよい。
さらに、対向基板上に直線偏光板を形成するステップは、第２配向層上に二色性染料、重合性液晶及び光開始剤を含む第２材料層を塗布するステップと、第２材料層を配向して硬化させるステップとを含んでもよい。
さらに、対向基板上に直線偏光板を形成するステップは、第２配向層上に二色性染料、重合性液晶及び光開始剤を含む第２材料層を塗布するステップと、第２材料層を配向して硬化させるステップとを含んでもよい。
【0061】
さらに、直線偏光板上に第１配向層を形成した後に、本実施例に係るディスプレイ装置の製造方法はさらに、第１配向層に対し摩擦配向を行うステップを含んでもよい。
さらに、第１配向層上に位相差フィルムを形成するステップは、第１配向層上に重合性液晶と光開始剤とを含む第１材料層を塗布するステップと、第１材料層に対し配向硬化を行うステップとを含んでもよい。
更に、対向基板上に直線偏光板を形成する前に、反射減少構造を製造するステップはさらに、対向基板上に光遮断層を形成するステップを含んでもよい。
例えば、当該光遮断層は第２配向層と対向基板との間又は直線偏光板と対向基板との間に位置する。
さらに、第１配向層上に位相差フィルムを形成するステップは、第１配向層上に重合性液晶と光開始剤とを含む第１材料層を塗布するステップと、第１材料層に対し配向硬化を行うステップとを含んでもよい。
更に、対向基板上に直線偏光板を形成する前に、反射減少構造を製造するステップはさらに、対向基板上に光遮断層を形成するステップを含んでもよい。
例えば、当該光遮断層は第２配向層と対向基板との間又は直線偏光板と対向基板との間に位置する。
【0062】
以下、図９ａ～９ｄを参照して本実施例に係るディスプレイ装置の製造方法を例示的に説明し、ここで、反射減少構造を対向基板上に形成する場合を例にし、図９ａ～９ｄは対向基板上に反射減少構造を製造する各ステップを実施した断面図を示し、図面において、当該反射減少構造は当該対向基板とアレイ基板との間に設置される。
【0063】
図９ａに示すように、対向基板１０７を提供し、図９ｂに示すように、対向基板１０７上に光遮断層１０８を形成する。
例えば、当該光遮断層１０８はプラズマ気相堆積法を用いて複数の高屈折率層と複数の低屈折率層を交互に堆積して形成される。例えば、当該高屈折率層は窒化ケイ素層であり、当該窒化ケイ素層を堆積するための反応ガスはＳｉＨ４、ＮＨ３及びＮ２の混合ガスであり、例えば、当該混合ガスにおいて、ＳｉＨ４、ＮＨ３及びＮ２の流量比は１６：４：１であり、当該低屈折率層は酸化ケイ素層であり、当該酸化ケイ素層を堆積するための反応ガスはＳｉＨ４、ＮＯ２及びＮ２の混合ガスであり、例えば、当該混合ガスにおいて、ＳｉＨ４、ＮＨ３及びＮ２の流量比は４０：４：１である。
例えば、当該光遮断層１０８はプラズマ気相堆積法を用いて複数の高屈折率層と複数の低屈折率層を交互に堆積して形成される。例えば、当該高屈折率層は窒化ケイ素層であり、当該窒化ケイ素層を堆積するための反応ガスはＳｉＨ４、ＮＨ３及びＮ２の混合ガスであり、例えば、当該混合ガスにおいて、ＳｉＨ４、ＮＨ３及びＮ２の流量比は１６：４：１であり、当該低屈折率層は酸化ケイ素層であり、当該酸化ケイ素層を堆積するための反応ガスはＳｉＨ４、ＮＯ２及びＮ２の混合ガスであり、例えば、当該混合ガスにおいて、ＳｉＨ４、ＮＨ３及びＮ２の流量比は４０：４：１である。
【0064】
図９ｃに示すように、光遮断層１０８上に第２配向層１０９を形成し、当該第２配向層１０９に対し摩擦配向を行い、図９ｄに示すように、光遮断層１０８と第２配向層１０９とが形成された対向基板１０７上に順に直線偏光板１０４、第１配向層１０３及び位相差フィルム１０２を形成する。
なお、直線偏光板１０４を形成するステップの例、第１配向層１０３を形成するステップの例、位相差フィルム１０２を形成するステップの例は実施例２での対応する説明を参照すればよく、便宜上、詳細な説明を省略する。
なお、直線偏光板１０４を形成するステップの例、第１配向層１０３を形成するステップの例、位相差フィルム１０２を形成するステップの例は実施例２での対応する説明を参照すればよく、便宜上、詳細な説明を省略する。
【0065】
図９ａ～９ｄに対応して、図１２は対向基板上に反射減少構造を形成するフローチャートを示す。図１２に示すように、反射減少構造の製造は下記のステップを含む。
ステップＳ９１、対向基板上に光遮断層を形成する。
ステップＳ９２、光遮断層が形成された対向基板上に第２配向層を形成し、第２配向層に対し摩擦配向を行う。
ステップＳ９３、第２配向層上に二色性染料、重合性液晶及び光開始剤を含む第２材料層を塗布して、第２材料層を配向して硬化させて直線偏光板を形成する。
ステップＳ９４、直線偏光板上に第１配向層を形成し、第１配向層に対し摩擦配向を行う。
ステップＳ９５、第１配向層上に重合性液晶と光開始剤とを含む第１材料層を塗布し、第１材料層を配向して硬化させ、位相差フィルムを得る。
なお、反射減少構造を形成する前に、対向基板上にＯＥＬＤ表示パネルの一部の部材を形成してもよく、例えば、ＯＬＥＤ表示パネルがＷＯＬＥＤ～ＣＯＡ（ホワイトＯＬＥＤ及びカラーフィルタアレイ）方式であれば、対向基板上に赤色と緑色と青色の三種類の色のカラーフィルタを形成し、予備案として、まずカラーフィルタを形成し、次に反射減少構造を形成し、又はまず反射減少構造を形成し、次にカラーフィルタ等を形成してもよく、本発明の実施例ではこれについて限定されない。
ステップＳ９１、対向基板上に光遮断層を形成する。
ステップＳ９２、光遮断層が形成された対向基板上に第２配向層を形成し、第２配向層に対し摩擦配向を行う。
ステップＳ９３、第２配向層上に二色性染料、重合性液晶及び光開始剤を含む第２材料層を塗布して、第２材料層を配向して硬化させて直線偏光板を形成する。
ステップＳ９４、直線偏光板上に第１配向層を形成し、第１配向層に対し摩擦配向を行う。
ステップＳ９５、第１配向層上に重合性液晶と光開始剤とを含む第１材料層を塗布し、第１材料層を配向して硬化させ、位相差フィルムを得る。
なお、反射減少構造を形成する前に、対向基板上にＯＥＬＤ表示パネルの一部の部材を形成してもよく、例えば、ＯＬＥＤ表示パネルがＷＯＬＥＤ～ＣＯＡ（ホワイトＯＬＥＤ及びカラーフィルタアレイ）方式であれば、対向基板上に赤色と緑色と青色の三種類の色のカラーフィルタを形成し、予備案として、まずカラーフィルタを形成し、次に反射減少構造を形成し、又はまず反射減少構造を形成し、次にカラーフィルタ等を形成してもよく、本発明の実施例ではこれについて限定されない。
【0066】
なお、以上は、表示パネルが有機電界発光パネルを例として説明したが、本発明の実施例に係る表示パネルはバックライト光源を含む液晶表示パネルであってもよく、本発明の実施例ではこれについて限定されない。
本発明の実施例に係る反射減少構造、ディスプレイ装置及びその製造方法によれば、本発明の実施例に係る外光反射軽減用の反射減少構造において、当該反射減少構造は液晶材料で製造された位相差フィルムと直線偏光板とを含み、このように塗布等の方法によって位相差フィルム、直線偏光板及び配向層を形成することができ、従って、従来の例えば貼り付けにより表示パネルの外部に設置された反射減少構造に比べて、本発明の実施例に係る反射減少構造は厚さを大幅に減少させ、さらに当該反射減少構造を用いたディスプレイ装置は極薄ディスプレイを実現できる。更に、本発明の実施例では、反射減少構造を薄型化させると同時に、高偏光度が得られ、さらに、偏光度向上に悪影響を及ぼす光を遮断する光遮断層を提供することにより、厚さを減少させると同時に、高偏光度を得る。従って、当該反射減少構造を用いたディスプレイ装置は、内部部材による外光の反射を効果的に減少させることによって、画像表示のコントラストを大幅に向上させ、且つ厚さを大幅に減少させると同時に、偏光度を向上させる。
本発明の実施例に係る反射減少構造、ディスプレイ装置及びその製造方法によれば、本発明の実施例に係る外光反射軽減用の反射減少構造において、当該反射減少構造は液晶材料で製造された位相差フィルムと直線偏光板とを含み、このように塗布等の方法によって位相差フィルム、直線偏光板及び配向層を形成することができ、従って、従来の例えば貼り付けにより表示パネルの外部に設置された反射減少構造に比べて、本発明の実施例に係る反射減少構造は厚さを大幅に減少させ、さらに当該反射減少構造を用いたディスプレイ装置は極薄ディスプレイを実現できる。更に、本発明の実施例では、反射減少構造を薄型化させると同時に、高偏光度が得られ、さらに、偏光度向上に悪影響を及ぼす光を遮断する光遮断層を提供することにより、厚さを減少させると同時に、高偏光度を得る。従って、当該反射減少構造を用いたディスプレイ装置は、内部部材による外光の反射を効果的に減少させることによって、画像表示のコントラストを大幅に向上させ、且つ厚さを大幅に減少させると同時に、偏光度を向上させる。
【0067】
以上は、本発明の好ましい実施形態に過ぎず、本発明の実施例の保護範囲を制限するものではなく、当業者であれば、本発明の実施例の技術的範囲を脱逸せずに容易に想到し得る変更や置換は全て本発明の実施例の保護範囲に属する。
本願は２０１６年１月２８日に提出した中国特許出願第２０１６１００６１３０１．４号に基づき優先権を主張し、ここで、当該中国特許出願の全内容を援用して本願の一部として組み込まれる。
本願は２０１６年１月２８日に提出した中国特許出願第２０１６１００６１３０１．４号に基づき優先権を主張し、ここで、当該中国特許出願の全内容を援用して本願の一部として組み込まれる。
【符号の説明】
【0068】
１０１ 反射減少構造
１０２ 位相差フィルム
１０３ 第１配向層
１０４ 直線偏光板
１０５ ベース基板
１０６ 画素ユニット
１０７ 対向基板
１０８ 光遮断層
１０９ 第２配向層
１１０ 平坦化層
１１１ アレイ基板
１２０ 保護層
１３０ 第３配向層
１０２ 位相差フィルム
１０３ 第１配向層
１０４ 直線偏光板
１０５ ベース基板
１０６ 画素ユニット
１０７ 対向基板
１０８ 光遮断層
１０９ 第２配向層
１１０ 平坦化層
１１１ アレイ基板
１２０ 保護層
１３０ 第３配向層
【図1a】
【図1b】
【図2】
【図3】
【図4a】
【図4b】
【図4c】
【図4d】
【図4e】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8a】
【図8b】
【図8c】
【図8d】
【図8e】
【図9a】
【図9b】
【図9c】
【図9d】
【図10】
【図11】
【図12】
