7068197 連続トウ処理用のゲートバルブ

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2022-05-06

(45)【発行日】2022-05-16

(54)【発明の名称】連続トウ処理用のゲートバルブ

(51)【国際特許分類】

   F16K 51/02 20060101AFI20220509BHJP

   F16K 7/10 20060101ALI20220509BHJP

   H01L 21/677 20060101ALI20220509BHJP

   H01L 21/02 20060101ALI20220509BHJP

【ＦＩ】

F16K51/02 Z

F16K7/10

H01L21/68 A

H01L21/02 Z

【請求項の数】 13

(21)【出願番号】P 2018563048

(86)(22)【出願日】2017-06-02

(65)【公表番号】

(43)【公表日】2019-09-19

(86)【国際出願番号】 US2017035735

(87)【国際公開番号】W WO2017210590

(87)【国際公開日】2017-12-07

【審査請求日】2020-05-26

(31)【優先権主張番号】62/344,970

(32)【優先日】2016-06-02

(33)【優先権主張国・地域又は機関】US

(73)【特許権者】

【識別番号】390040660

【氏名又は名称】アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド

【氏名又は名称原語表記】ＡＰＰＬＩＥＤ ＭＡＴＥＲＩＡＬＳ，ＩＮＣＯＲＰＯＲＡＴＥＤ

(74)【代理人】

【識別番号】110002077

【氏名又は名称】園田・小林特許業務法人

(72)【発明者】

【氏名】ユドフスキー， ジョゼフ

(72)【発明者】

【氏名】イシカワ， デーヴィッド

(72)【発明者】

【氏名】テッシュ， トラヴィス

【審査官】篠原 将之

(56)【参考文献】

【文献】特開２００５－１９７４８７（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平０９－１９５０５５（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平０９－３０７１２８（ＪＰ，Ａ）

【文献】特表２００９－５３５５１４（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００９－０３０７５４（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０００－０６５２４９（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｆ１６Ｋ ５１／０２

Ｆ１６Ｋ ７／１０

Ｈ０１Ｌ ２１／６７７

Ｈ０１Ｌ ２１／０２

Ｃ２３Ｃ １６／４４ － １６／５６

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

連続基板を処理するためのゲートバルブであって、
本体、
前記本体の内部に配置され、閉位置と開位置との間で動くように構成された複数のシール、
前記複数のシールのうちの隣接するシール同士の間に配置され、前記複数のシール及び前記本体によって画定された複数の空間であって、最内側の空間と、前記最内側の空間の一方の側に配置された第１の他の空間と、前記最内側の空間の他方の側に配置された第２の他の空間とを少なくとも含む、複数の空間、
前記本体の第１の側部を通して配置され、前記最内側の空間に流体連通されたガス注入口、及び
前記第１の側部の反対側の前記本体の第２の側部を通して配置され、前記第１の他の空間ならびに前記第２の他の空間に流体連通されたガス排出口
を備えているゲートバルブ。

【請求項2】

前記複数のシールが、４つのシールである、請求項１に記載のゲートバルブ。

【請求項3】

前記複数のシールが、ゴム製の袋体を含む、請求項１または２に記載のゲートバルブ。

【請求項4】

前記複数のシールが、それぞれ、傾斜した可動密封部材によって選択的に密封され得る開口を有する、傾斜が付けられた壁を備えている、請求項１または２に記載のゲートバルブ。

【請求項5】

前記ガス注入口内に配置された第１のバルブをさらに備えている、請求項１から４のいずれか一項に記載のゲートバルブ。

【請求項6】

前記ガス注入口に連通されたパージガス源をさらに備えている、請求項１から５のいずれか一項に記載のゲートバルブ。

【請求項7】

前記ガス排出口内に配置された第２のバルブをさらに備えている、請求項１から６のいずれか一項に記載のゲートバルブ。

【請求項8】

前記ガス排出口に連通された真空源をさらに備えている、請求項１から７のいずれか一項に記載のゲートバルブ。

【請求項9】

連続基板を処理するための処理システムであって、
連続基板を処理するための第１のチャンバ、
前記連続基板を処理するための第２のチャンバ、及び
前記第１のチャンバを前記第２のチャンバに連通し、前記連続基板が前記第１のチャンバと前記第２のチャンバとの間を通って延びることができる開口を有するゲートバルブであって、請求項１から８のいずれか一項に記載されたゲートバルブ
を備え、前記本体の第２の表面（２１０）が、前記第１のチャンバに連通され、前記本体の第１の表面（２０８）が、前記第２のチャンバに連通されている、処理システム。

【請求項10】

請求項９に記載の処理システムを用いて連続基板を処理する方法であって、
前記第１のチャンバ又は前記第２のチャンバのうちの少なくとも１つにおいて連続基板を処理することであって、前記連続基板が、前記第１のチャンバ、前記ゲートバルブ、及び前記第２のチャンバのそれぞれを通して同時に配置される、連続基板を処理することと、
前記第１のチャンバを前記第２のチャンバから実質的に隔離するために、前記連続基板が前記ゲートバルブを通して配置されている間に、前記ゲートバルブを閉じることと
を含む方法。

【請求項11】

前記第１のチャンバが真空圧力で維持され、
前記第１のチャンバ内で前記真空圧力を実質的に維持している間に、前記第２のチャンバの圧力を上昇させることをさらに含む、請求項１０に記載の方法。

【請求項12】

前記第２のチャンバの前記圧力が、実質的に大気圧である、請求項１１に記載の方法。

【請求項13】

前記第１のチャンバ内で圧力を実質的に維持している間に、前記第２のチャンバに対して点検を行うことをさらに含む、請求項１０に記載の方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

［０００１］本開示の実施形態は、概して、半導体処理機器に関する。

【背景技術】

【0002】

［０００２］基板処理機器内では、隣接空間を選択的に隔離したり、又は、隣接空間に選択的に連通したりするために、マルチチャンバ処理システムにおいてゲートバルブが使用される場合がある。例えば、現在のマルチチャンバ処理装置は、通常、加工部分の搬送の間に或いは１つ又は複数の流体接続された処理領域の修理の間に圧力制御処理空間を隔離するために、半導体処理スリットバルブ及びゲートバルブを含む。しかしながら、発明者らは、特に連続基板などの干渉材が密封界面に存在すると、従来のバルブのシール及び密封面の密封能力に限界があると観察した。各チャンバの処理でそれぞれ異なる圧力が利用される場合、或いは、複数の処理空間のうちの１つだけが点検又は緊急処理停止のために通気且つ冷却される必要がある場合、漏出制御が効果的でないと複数の処理空間において特に問題を孕むことになる。
［０００３］したがって、発明者らは、改善されたゲートバルブを提供した。

【発明の概要】

【0003】

［０００４］ゲートバルブの実施形態、及びゲートバルブを使用する方法が本明細書で提供される。幾つかの実施形態では、ゲートバルブは、本体、本体の内部に配置され、閉位置と開位置との間で動くように構成された複数のシール、複数のシール及び本体によって画定された複数の空間、本体の第１の側部を通して配置され、複数の空間のうちの最内側の空間に流体連通されたガス注入口、及び第１の側部の反対側の本体の第２の側部を通して配置され、複数の空間のうちの他の空間に流体連通されたガス排出口を含む。

【0004】

［０００５］幾つかの実施形態では、連続基板を処理するためのゲートバルブは、第１の壁を有する本体、第１の壁の反対側の第２の壁、第１の表面から本体の反対側の第２の表面へと配置された開口であって、連続基板を保持且つ運搬するように構成された開口、第１の壁と第２の壁との間に移動可能に配置され、開口を密封する閉位置と開口を顕す開位置と間で動くように構成された複数のシール、複数のシールのうちの隣接するシール同士の間に配置され、複数のシール及び本体によって画定された複数の空間、本体の第１の側部を通して配置され、本体の第１の側部上の複数の空間のうちの最内側の空間に流体連通されたガス注入口、及び第１の側部の反対側の本体の第２の側部を通して配置され、複数の空間のうちの最内側の空間の両側に配置された、複数の空間のうちの他の空間に流体連通されたガス排出口を含む。

【0005】

［０００６］幾つかの実施形態では、連続基板を処理するための処理システムは、連続基板を処理するための第１のチャンバ、連続基板を処理するための第２のチャンバ、及び第１のチャンバを第２のチャンバに連通し、連続基板が第１のチャンバと第２のチャンバとの間で延びることができる開口を有するゲートバルブであって、本明細書に開示された任意の実施形態に記載されたゲートバルブを含み、本体の第１の側部は、第１のチャンバに連通され、本体の第２の側部は、第２のチャンバに連通されている。

【0006】

［０００７］幾つかの実施形態では、連続基板を処理する方法は、第１の処理チャンバ又はゲートバルブを通して第１の処理チャンバに連通された第２の処理チャンバのうちの少なくとも１つにおいて連続基板を処理することであって、連続基板が、第１の処理チャンバ、ゲートバルブ、及び第２の処理チャンバのそれぞれを通して同時に配置される、連続基板を処理することと、第１の処理チャンバを第２の処理チャンバから実質的に隔離するために、連続基板がゲートバルブを通して配置されている間に、ゲートバルブを閉じることとを含む。

【0007】

［０００８］本開示の他の実施形態及びさらなる実施形態は、以下で説明される。

【図面の簡単な説明】

【0008】

［０００９］上記で簡潔に要約され、以下でより詳細に説明される本開示の実施形態は、添付の図面に示した本開示の例示的な実施形態を参照することにより、理解することができる。しかしながら、本開示は他の等しく有効な実施形態を許容し得ることから、添付の図面は、この開示の典型的な実施形態のみを例示しており、したがって、範囲を限定していると見なすべきではない。

【0009】

【図1】本開示の少なくとも幾つかの実施形態に係る、ゲートバルブを有するマルチチャンバ反応器の概略図を示す。

【図2A】本開示の少なくとも幾つかの実施形態に係る、開位置にあるゲートバルブの概略側面図を示す。

【図2B】本開示の少なくとも幾つかの実施形態に係る、閉位置にある図２Ａのゲートバルブの概略側面図を示す。

【図3A】本開示の少なくとも幾つかの実施形態に係る、開位置にあるゲートバルブの概略側面図を示す。

【図3B】本開示の少なくとも幾つかの実施形態に係る、閉位置にある図３Ａのゲートバルブの概略側面図を示す。 理解を容易にするために、可能な場合には、図面に共通する同一の要素を指し示すのに同一の参照番号を使用した。図面は縮尺どおりではなく、分かり易くするために簡略化されていることがある。ある実施形態の要素及び特徴は、さらなる記述がなくても、他の実施形態に有益に組み込まれてもよい。

【発明を実施するための形態】

【0010】

［００１６］ゲートバルブの実施形態、及びゲートバルブを使用する方法が本明細書で提供される。開示されたゲートバルブ及びゲートバルブを使用する方法は、有利には、連続的なウェブ、膜、シート、リボン状繊維、及びその他の薄い又は平坦な基板の真空処理に有益である。一部の用途では、１つ又は複数の密封界面にわたって、破断又は接合がない状態で、連続基板を維持することが有益である。この１つ又は複数の密封界面は、材料が処理空間に出入りするよう搬送される１つ又は複数の開口に対応する。従来の半導体処理スリットバルブ及びゲートバルブは、圧力制御処理空間内に不連続な加工部分を運ぶように使用される。これらの従来の設計、並びに特にシール及び密封面は、干渉材が密封界面に存在すると、適切な漏出保全を維持する能力に限界がある。セラミック繊維の化学蒸気浸透などの幾つかの用途では、トウの始点（例えば、連続繊維のねじらていない束）が大気圧にあり、中間部が減圧にあり、トウの端部が大気圧にあることができるように、複数の真空中断にわたって、１つ又は複数のトウを運搬することが有利である。上述の構成によって、炉を大気圧までもっていかずに、処理を停止して基板のローディング調節を行うか、又は修理を行うことが可能になる。開示されたゲートバルブは、密封界面における連続基板の物理的統合性を妥協せずに、圧力勾配をつくりだすことが可能である。さらに、処理空間の未使用時に炉を高温に保つことは、システムの利用及び炉の構成要素の信頼性にとって有益である。

【0011】

［００１７］本開示のゲートバルブは、従来のゲートバルブが用いられ得る任意の用途において使用されてもよく、例えば、２つの隣接する空間同士の間でガスの流れを絞ることが望ましい又は有利である用途において用いられる。非限定用途では、開示されたゲートバルブは、２処理チャンバシステムにおいて、又は、ゲートバルブを必要とする他の適切な処理チャンバにおいて、チャンバ間に配置され得る。例えば、図１は、本明細書で論じているような本開示の実施形態を実行するために使用され得る種類の２チャンバシステムの概略図を示す。

【0012】

［００１８］例示的な２つの処理チャンバシステム１００は、第１のチャンバ本体（壁１２０）内に第１のチャンバ空間１１４を有する第１のチャンバ１１０（例えば、処理チャンバ）を含む。幾つかの実施形態では、基板フィードスルー（送り孔）１５０は、第１のチャンバ空間１１４と第１のチャンバ１１０の外に配置された空間（例えば、隣接する処理チャンバ、基板ハンドラ等）との間で連続基板を運搬するために設けられ得る。システム１００は、第２のチャンバ本体（壁１４０）内に第２のチャンバ空間１３４を有する第２のチャンバ１３０（例えば、処理チャンバ）をさらに含む。幾つかの実施形態では、基板フィードスルー１７０は、第２のチャンバ空間１３４と第２のチャンバ１３０の外に配置された空間（例えば、隣接する処理チャンバ、基板ハンドラ等）との間で連続基板を運搬するために設けられ得る。第１のチャンバ１１０及び第２のチャンバ１３０は、ゲートバルブ１０２を介して、互いに選択的に流体連通されている。

【0013】

［００１９］作動中、連続基板１５４は、
ゲートバルブの開口１０６を介して、基板フィードスルー１５０及び１７０を通して運搬される。連続基板１５４は、第１のチャンバ圧力で第１のチャンバ空間１１４において処理され、ゲートバルブ１０２を通して第２のチャンバ空間１３４に運搬され、第２のチャンバ圧力で第２のチャンバ空間１３４において処理され得る。幾つかの実施形態では、第１のチャンバ圧力及び第２のチャンバ圧力は同一である。他の実施形態では、第１のチャンバ圧力及び第２のチャンバ圧力は異なる。

【0014】

［００２０］ゲートバルブ１０２は、第１のチャンバ空間１１４と第２のチャンバ空間１３４との間で選択的隔離を設けるように構成されている。例えば、影響を受けたチャンバを修理するために、チャンバのうちの１つにおいて基板のローディング調節を行うために、又は緊急停止を行うために、チャンバ空間のうちの１つが大気の圧力及び温度でなければならない場合、第１のチャンバ空間と第２のチャンバ空間との間の隔離が望ましい場合がある。ゲートバルブ１０２は、複数の密封部材（図１では４つの密封部材１０４）を含む。幾つかの実施形態では、密封部材は、柔軟な袋体（ブラダー）であり、密封部を形成するために膨張し、開くために収縮し得る。連続基板１５４がゲートバルブを通して配置されている間、連続基板１５４を損傷せずに、密封部材１０４を閉じることができる。幾つかの実施形態では、不活性ガス（例えば、窒素（Ｎ_２）ガス）などのパージガスが、２つの密封部材１０４の間の空間１０８に供給され得る。幾つかの実施形態では、例えば、真空源１１６からの真空は、２つの密封部材１０４の間の１つ又は複数の空間に供給され得る。幾つかの実施形態では、真空源１１６は、空間１０８の両側に配置された空間１１２及び１１４に連通され、空間１０８に供給されたパージガスの両側のそれぞれの空間に真空をもたらす。

【0015】

［００２１］図２Ａ及び２Ｂは、ゲートバルブ１０２として使用するのに適したゲートバルブ２００をさらに詳細に示し、ゲートバルブ２００を開位置（図２Ａ）と閉位置（図２Ｂ）の両方で示す。例示を分かり易くするためにのみ、図２Ａで示されているパージガス源、バルブ、及び導管などの特定の要素は、図面を乱雑にしないよう図２Ｂで省かれている。

【0016】

［００２２］図２Ａは、本開示の幾つかの実施形態に係る、ゲートバルブ２００の概略側面図を示す。ゲートバルブ２００は、本体２０２を含み、本体２０２は、本体２０２を通して（例えば、本体２０２の第１の表面２０８から本体２０２の反対側の第２の表面２１０へと）配置された開口２０６を有する。ゲートバルブ２００は、（開口２０６の一方の側にある）第１のチャンバ１１０、及び（開口２０６の他方の側にある）第２のチャンバ１３０に連通される。本体は、第１の側部２１８、及び第１の側部２１８の反対側の第２の側部２２０を含み得、これらは、第１の表面２０８及び第２の表面２１０と共に本体の形状を形成する。本体２０２は、特定の用途に必要とされる任意の適切な形状を有してもよく、例えば、本体２０２は、ゲートバルブ２００を、状況に応じて、第１のチャンバ１１０及び第２のチャンバ１３０、又は別のチャンバに連通するのに適切な形状を有し得る。本体２０２は、ステンレス鋼又はアルミニウムなどの非限定的実施例を含む、１つ又は複数の処理適合材料から製造され得る。

【0017】

［００２３］ゲートバルブ２００は、開口２０６に近接する本体２０２の第１の表面２０８と第２の表面２１０との間に配置された複数のシール２１２をさらに含み得る。幾つかの実施形態では、例えば、図２Ａ及び図２Ｂで示されているように、複数のシールは、本体２０２の第１の表面２０８及び第２の表面２１０に対して平行に配置されている。複数のシール２１２は、例えば、本体２０２の一部であってもよく、又は、本体２０２に溶接、ボルト止め、又はさもなければ付着されてもよい。複数のシール２１２は、ゴム製袋体などの弾性材料又は伸張可能材料から製造され得る。複数のシール２１２は、本体内に配置され、閉位置と開位置との間で移動するように構成されている。複数の空間２３８が複数のシール２１２及び本体２０２によって画定される。それぞれの空間２３８は、隣接するシール２１２同士の間に配置されている。例えば、図２Ａ及び図２Ｂで示されているように、４つのシール２１２があり、それにしたがって、３つの空間２３８がある。

【0018】

［００２４］ゲートバルブは、ガス注入口２３２をさらに含み得る。ガス注入口２３２は、本体の第１の側部２１８を通して配置され且つ複数の空間２３８のうちの最内側の空間（例えば、中央の空間２３８）に流体連通されたバルブを有する。ゲートバルブは、ガス排出口２３４をさらに含み得る。ガス排出口２３４は、本体の第２の側部２２０を通して配置され且つ中央空間２３８の反対側に配置された複数の空間２３８のうちの他の空間に流体連通されたバルブを有する。パージガス源２４２（図２Ｂで図示）は、ガス注入口２３２に連通され、パージガスを複数の空間２３８のうちの最内側に供給する。パージガスは、窒素（Ｎ_２）であってもよいが、非限定的な例として、ヘリウム（Ｈｅ）、アルゴン（Ａｒ）、又は同等物、或いは不活性ガスの混合物を含む他の適切な処理不活性ガスがパージガスとして使用されてもよい。真空ポンプ２４４（例えば、ターボポンプ等）は、ガス排出口２３４に流体連通される。

【0019】

［００２５］作動中、連続基板１５４は、上述のように、第１のチャンバ空間１１４及び第２のチャンバ空間１３４内で処理されてもよい。図２Ａで示されているように、ゲートバルブ２００の開位置では、パージガス源２４２に連通されたガス注入口２３２、及び真空ポンプ２４４に連通されたガス排出口２３４は閉じられ、連続基板が処理される間、第１のチャンバ圧力は第２のチャンバ圧力と同じである。例えば、基板のローディング調節又は修理のために、第１のチャンバ圧力が第２のチャンバ圧力と異なる場合、ゲートバルブ２００は、閉位置に移動し、第１のチャンバと第２のチャンバとの間の圧力差の確立が促進される。パージガス源２４２及び真空ポンプ２４４は、明確性のために、図２Ａでは示されていない。

【0020】

［００２６］図２Ｂで示すように、閉位置では、複数のシール２１２が開口２０６を部分的に密封し、開口２０６に沿って、対応する複数の小さな漏れ口２１６が生じる。図２Ｂで示すように、ゲートバルブ２００の閉位置では、複数の空間２３８の最内側の圧力が、複数の空間２３８のうちの他の空間の圧力（例えば、Ｐ２及びＰ３）と異なる圧力Ｐ１に留まるように、パージガス源２４２に連通されたガス注入口２３２、及び真空ポンプ２４４に連通されたガス排出口２３４が開かれてもよい。例えば、パージガス源２４２からのパージガスの流れに起因して、複数の空間２３８のうちの最内側の空間は、複数の空間２３８のうちの他の空間より高い圧力で維持され得る。漏れ口２１６を通って逃げる任意のパージガスは、真空ポンプ２４４を介して運ばれ得る。これにより、例えば、あるチャンバで修理が行われており、それが大気圧で行われている場合、その影響を受けていないチャンバは、大気条件の圧力とは異なる処理圧力（例えば、大気圧より低い圧力）に留まり得る。したがって、圧力差が維持又は実質的に維持され、システム全体を大気圧にもっていかずに１つのチャンバの修理が完成する。さらに、開示されたゲートバルブが存在しているとき、密封界面における連続基板の物理的統合性が妥協されずに所望の圧力勾配がつくりだされる。

【0021】

［００２７］図３Ａ‐図３Ｂは、それぞれ、本開示の少なくとも幾つかの実施形態に係る、開位置及び閉位置のゲートバルブの概略側面図を示す。図３Ａ及び図３Ｂで示すように、幾つかの実施形態では、複数のシールは、複数の傾斜（角度）が付けられた壁３１２によって設けられ得る。複数の傾斜が付けられた壁３１２は、可動密封部材３０５を介して、選択的に密封され得るそれぞれの開口３０６を有する。例えば、密封部材３０５は、それぞれの複数の傾斜が付けられた壁３１２の下方に配置されたスリットバルブと同じように動作し、第１の位置（例えば、図３Ａに示す開位置）と第２の位置（例えば、図３Ｂに示す閉位置）との間で移動するように構成され得る。

【0022】

［００２８］各密封部材３０５は、複数の空間２３８のうちの他の各空間に個々の流量条件をもたらすために、個別に制御（例えば、質量流量、体積流量、圧力等の個別制御）され得る。したがって、幾つかの実施形態では、質量流量コントローラ、体積流量コントローラ、又は圧力調整器が、傾斜が付けられた壁３１２間に配置された空間に連通され得る。

【0023】

［００２９］幾つかの実施形態では、密封部材３０５は、少なくともバルブが完全に開いている第１の位置とバルブが完全に閉じている第２の位置との間でガス圧を用いて制御される。幾つかの実施形態では、密封部材３０５は、他の機構（例えば、サーボモータ）によって制御され得る。図３Ａに示す例示的な開位置では、密封部材３０５は、第１の位置にあり、ゲートバルブは、（図１に示すように）第１のチャンバ１１０と第２のチャンバ１３０との間で共通圧力を維持するように完全に開いている。パージガス源２４２及び真空ポンプ２４４は、明確性のために、図３Ｂのみで示されている。

【0024】

［００３０］図３Ｂで示す例示的な閉位置では、密封部材３０５は、開口２０６を部分的に密封し、開口２０６に沿って、対応する複数の漏れ口２１６を生じさせる。ガス流を強化し、所望の圧力勾配を維持するためには、複数のシール２１２及び密封部材３０５を傾斜させることが有利である。傾斜の程度は、ガス注入口２３２とガス排出口２３４との間の垂直オフセットに依存する。図３Ａ及び図３Ｂで示されているように、ガス排出口２３４は、ガス注入口２３２の下方に位置する高さに配置されている。

【0025】

［００３１］図３Ｂに示す例示的な閉位置では、複数の密封部材３０５が、傾斜角度と反対の方向で第１の位置から第２に位置に移動し、複数のシール２１２に係合して、開口２０６を密封する。図２Ｂの例示的な実施形態と同じように、開口２０６に沿って、対応する複数の漏れ口２１６が生じる。図２Ｂの例示的な実施形態と同じように、複数の空間２３８の最内側の圧力を複数の空間２３８のうちの他の空間の圧力と異なる圧力に維持することができるように、パージガス源２４２に連通されたガス注入口２３２、及び真空ポンプ２４４に連通されたガス排出口２３４が開かれる。例えば、パージガス源２４２からのパージガスの流れに起因して、複数の空間２３８のうちの最内側の空間は、複数の空間２３８のうちの他の空間より高い圧力で維持され得る。同様に、密封部材３０５を含む本発明のゲートバルブは、有利には、密封界面における連続基板の物理的統合性を妥協せずに、圧力勾配をつくりだす。

【0026】

［００３２］作動中、上述の開示された装置を使用して、連続基板を処理する方法は、第１の処理チャンバ又はゲートバルブを通して第１の処理チャンバに連通された第２の処理チャンバのうちの少なくとも１つにおいて連続基板を処理することを含む。連続基板は、第１の処理チャンバ、ゲートバルブ、及び第２の処理チャンバのそれぞれを通して同時に配置される。連続基板がゲートバルブを通して配置されている間、ゲートバルブを閉じて、第１の処理チャンバを第２の処理チャンバから実質的に隔離することができる。幾つかの実施形態では、第１の処理チャンバは、真空圧力で保持され、第１の処理チャンバ内の圧力を実質的に維持しながら、第２の処理チャンバの圧力を上昇させることができる。幾つかの実施形態では、第１の処理チャンバ内の圧力を実質的に維持しながら、第２の処理チャンバの圧力を実質的な大気圧に上昇させることができる。幾つかの実施形態では、第１の処理チャンバ内の圧力を実質的に維持しながら、第２の処理チャンバに対して点検を行うことができる。

【0027】

［００３３］したがって、改善されたゲートバルブの実施形態、及びゲートバルブを使用する方法が本明細書で提供された。本発明のゲートバルブ、及び使用の方法は、有利には、チャンバシステムの影響を受けていないチャンバが、例えば、影響を受けたチャンバに必要とされる大気条件とは異なる処理圧力に留まることを確実なものとすることができる。

【0028】

［００３４］上記は本開示の実施形態を対象とするが、本開示の基本的な範囲から逸脱することなく、本開示の他の実施形態及びさらなる実施形態を考案してもよい。

【図1】

【図2A】

【図2B】

【図3A】

【図3B】