(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2022-05-10
(45)【発行日】2022-05-18
(54)【発明の名称】表示デバイス
(51)【国際特許分類】
B42D 25/324 20140101AFI20220511BHJP
G09F 19/12 20060101ALI20220511BHJP
G02B 3/08 20060101ALI20220511BHJP
G09F 9/00 20060101ALI20220511BHJP
G02B 5/18 20060101ALN20220511BHJP
【FI】
B42D25/324
G09F19/12 Z
G02B3/08
G09F9/00 313
G02B5/18
(21)【出願番号】P 2018009615
(22)【出願日】2018-01-24
【審査請求日】2020-12-21
(73)【特許権者】
【識別番号】000003193
【氏名又は名称】凸版印刷株式会社
(72)【発明者】
【氏名】澤村 力
【審査官】金田 理香
(56)【参考文献】
【文献】国際公開第2011/143015(WO,A1)
【文献】特開平02-010394(JP,A)
【文献】特開2014-071233(JP,A)
【文献】特表2008-547040(JP,A)
【文献】特開2010-158826(JP,A)
【文献】特開2001-330717(JP,A)
(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
B42D 15/02
25/00-25/485
G02B 1/00- 1/08
3/00- 3/14
G09F 9/00
19/12-19/14
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
表面に凹凸構造を有するレリーフ構造形成層と、前記凹凸構造が形成された表面の少なくとも一部を覆うように形成された反射層とを、少なくとも有する表示デバイスであって、
前記凹凸構造が、配列された複数のセルからなり、
前記複数のセルの少なくとも一部が、フレネルレンズ状に設けられた同心円パターンの凹凸構造の一部の構造となる凹凸構造を少なくとも有するセルA群であり、
前記セルA群は、2以上の一群のセルA1からなり、一群のセルA1は、単一の前記フレネルレンズ状に設けられた同心円パターンの凹凸構造を任意の数に分割した凹凸構造を、各セルにそれぞれ少なくとも担持し、
前記一群のセルA1内の各セルが、前記フレネル
レンズ状に設けられた同心円パターンを構成しうる配列位置を維持しながら、各セル内に設けられた凹凸構造の配向方向を、各セル平面視において、左右あるいは上下いずれかの方向に反転させて、再配置させてなることを特徴とする表示デバイス。
【請求項2】
前記一群のセルA1内の各セルの再配置において、少なくとも単一の一群のセルA1内における各セルは、すべて同一の方向に反転させて、再配置させることを特徴とする請求項1に記載の表示デバイス。
【請求項3】
前記2以上の一群のセルA1からなる前記セルA群において、前記一群のセルA1の同心円パターンの中心位置を、それぞれ異なる位置に配置し、
絵柄パターンを表示可能に配置することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の表示デバイス。
【請求項4】
前記フレネルレンズ状に設けられた同心円パターンの凹凸構造を任意の数に分割し、再配置した凹凸構造に対し、光源を用いて任意の方向から光を照射した際に、前記光源と前記同心円パターンの中心とが正対する方向に、高輝度画像点が観察され、かつ表示デバイス平面に対する光の照射方向を回転移動させた際に、前記光源の回転方向とは逆の回転方向に、前記高輝度画像点の移動が観察されることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載の表示デバイス。
【請求項5】
前記複数のセルが、セルB群を更に含み、
前記セルB群が、前記セルA群が担持する凹凸構造とは異なり、平坦面を含む任意の凹凸構造を有することを特徴とする請求項1から請求項4のいずれかに記載の表示デバイス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、偽造防止効果、装飾効果、または美的効果を提供する光学技術に基づく構造体に関する。
【背景技術】
【0002】
有価証券、証明書、ブランド品、電子機器や各種機械類の専用消耗材ないし専用交換部品、更には個人認証媒体などの分野においては、偽造ないし変造などが困難であることが望まれている。
そのため、このような分野では、偽造防止効果に優れた光学構造体などを支持させることがある。
【0003】
光学構造体の多くは、回折格子、ホログラムや散乱構造またはレンズアレイなどの微細構造を含んでいる。これらの微細構造は、例えば、観察角度の変化に応じて、色や視覚画像の変化を生じる。
【0004】
また、これらの微細構造は解析することが難しく、製造するためには電子線描画装置などの高価な設備を必要とするなどの理由から偽造も困難である。それゆえ、これらの光学構造体は優れた偽造防止効果を発揮しうるものである。
【0005】
この様な構造体に関する技術として、例えば特許文献1では、画素をRGBチャネルとして3分割し、そのチャネル内部の面積階調により写真画質のカラー画像を回折構造体で表現する技術が提案されている。
しかし、現在ではホログラム作製技術が普及してきたこともあり、写真画質化されたホログラム画像などだけでは、全く同じものは作れないとしても、一見すると類似した印象を与え得る偽物も作れる可能性があることから、偽造防止効果が小さくなりつつある。
【0006】
また、特許文献2では、ホログラムなどの光学的可変効果発生構造を2層重ねて設けることにより、より複雑な光学効果を発生させることが提案されている。
【0007】
しかし、この様な手法は、製造工程が煩雑となり、製造コストも高いものとなる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0008】
【文献】特開平8-211821号公報
【文献】特開2015-135519号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0009】
以上のような問題を踏まえ、本発明の主眼は、常に新たな機能が求められる偽造防止の分野で用いることが可能な表示デバイスとして、煩雑な製造工程を必要とせず、比較的安価でありながら、従来にない視覚効果を発揮しうる表示デバイスを提供し、より高い偽造防止効果を実現することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【0010】
本発明はこれらの課題を解決すべくなされたものである。
すなわち、請求項1に記載の発明は、表面に凹凸構造を有するレリーフ構造形成層と、前記凹凸構造が形成された表面の少なくとも一部を覆うように形成された反射層とを、少なくとも有する表示デバイスであって、前記凹凸構造が、配列された複数のセルからなり、前記複数のセルの少なくとも一部が、フレネルレンズ状に設けられた同心円パターンの凹凸構造の一部の構造となる凹凸構造を少なくとも有するセルA群であり、前記セルA群は、2以上の一群のセルA1からなり、一群のセルA1は、単一の前記フレネルレンズ状に設けられた同心円パターンの凹凸構造を任意の数に分割した凹凸構造を、各セルにそれぞれ少なくとも担持し、前記一群のセルA1内の各セルが、前記フレネルレンズ状に設けられた同心円パターンを構成しうる配列位置を維持しながら、各セル内に設けられた凹凸構造の配向方向を、各セル平面視において、左右あるいは上下いずれかの方向に反転させて、再配置させてなることを特徴とする表示デバイスである。
【0011】
請求項2に記載の発明は、前記一群のセルA1内の各セルの再配置において、少なくとも単一の一群のセルA1内における各セルは、すべて同一の方向に反転させて、再配置させることを特徴とする請求項1に記載の表示デバイスである。
【0012】
請求項3に記載の発明は、前記2以上の一群のセルA1からなる前記セルA群において、前記一群のセルA1の同心円パターンの中心位置を、それぞれ異なる位置に配置し、絵柄パターンを表示可能に配置することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の表示デバイスである。
【0013】
請求項4に記載の発明は、前記フレネルレンズ状に設けられた同心円パターンの凹凸構造を任意の数に分割し、再配置した凹凸構造に対し、光源を用いて任意の方向から光を照射した際に、前記光源と前記同心円パターンの中心とが正対する方向に、高輝度画像点が観察され、かつ表示デバイス平面に対する光の照射方向を回転移動させた際に、前記光源の回転方向とは逆の回転方向に、前記高輝度画像点の移動が観察されることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載の表示デバイスである。
【0014】
請求項5に記載の発明は、前記複数のセルが、セルB群を更に含み、前記セルB群が、前記セルA群が担持する凹凸構造とは異なり、平坦面を含む任意の凹凸構造を有することを特徴とする請求項1から請求項4のいずれかに記載の表示デバイス
【発明の効果】
【0015】
第1、第2の発明によると、表示デバイスに対して照射した照明と観察者の位置関係から観察される高輝度な画像点の見え方が、従来と異なり、照明などの位置を変化させることにより、新たな視覚効果を提供することができる。
【0016】
第3、第4の発明によると、高輝度な画像点により形成された画像全体が、照明などの位置を変化させることにより、従来にない動きを与え、新たな視覚効果を提供することができる。
【0017】
第5の発明によると、フレネルレンズ状に設けられた同心円パターンの凹凸構造を再配置した構造から生まれる新たな視覚効果を有する部分と、ホログラムなどの画像とを組み合わせることにより、より高い装飾性と、偽造防止効果の向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【0018】
【
図1】フレネルレンズ状の凹凸構造の例を示す平面図である。
【
図2】
図1のA-A’切断面の例を示す断面図である。
【
図3】再配置前の1群のセルA1の例を示す平面図である。
【
図4】各セルを左右方向に反転させた1群のセルA1の例を示す平面図である。
【
図5】各セルを上下方向に反転させた1群のセルA1の例を示す平面図である。
【
図6】複数の再配置後の1群のセルA1によるセルA群の概念図である。
【
図7】複数の再配置後の1群のセルA1の重なり部におけるセルの例である。
【
図9】複数の高輝度画像点による画像形成の例を示す概念図である。
【
図11】表示デバイスを備えた物品の例を示す平面図である。
【
図12】従来のフレネルレンズ応用による画像形成の例を示す概念図である。
【発明を実施するための形態】
【0019】
以下に、本発明の実施の形態について詳細に説明する。以下の説明において適宜図面を参照するが、図面に記載された態様は本発明の例示であり、本発明はこれらの図面に記載された態様に制限されない。
【0020】
尚、同様又は類似した機能を発揮する構成要素には全て図面を通じて同一の参照符号を附し、重複する説明は省略する。
【0021】
図1は、本発明におけるフレネルレンズ状に設けられた同心円パターンの凹凸構造の例を示す平面図であり、
図2は、
図1におけるA-A’切断面の例を示す断面図である。
【0022】
フレネルレンズ状に設けられた同心円パターンの凹凸構造は、同心円の中心部分からその外縁に向けて、各同心円のピッチが変化して設けられている。
【0023】
図2では、フレネルレンズ状に設けられた同心円パターンの凹凸構造(10)の断面構造の例を示しており、基材(11)上にレリーフ構造形成層(12)を設け、レリーフ構造形成層(12)の表面に、凹凸構造が設けられ、凹凸構造が設けられた面上には、反射層(13)が設けられている。
【0024】
基材(11)は、必ずしも設けられている必要はなく、レリーフ構造形成層(12)と反射層(13)のみから構成されてあっても良いし、反射層(13)の上に、さらに保護層や、中間層、あるいは接着層などが設けられてあっても良い。これら各層の材料などの詳細な説明については、後述する。
【0025】
ここで、レリーフ構造形成層(12)の表面に設けられた凹凸構造の断面形状は、ブレーズド形状であっても良いが、必ずしもそのような形状に限定されるものではなく、三角形を始め、矩形、多角形、サインカーブ状の曲線、お碗型、紡錘型、半円形など任意の形状に設けられてあって良い。
【0026】
(表示デバイス用凹凸構造の作成方法ならびに効果)
本発明の表示デバイス用凹凸構造の作成方法ならびに効果について、
図3から
図9を用いて説明する。
【0027】
図3は、フレネルレンズ状に配列された再配置前の1群のセルA1(20)を示す平面図である。
【0028】
再配置前の1群のセルA1(20)は、任意の数のセル(CE)に分割され、各セル(CE)はフレネルレンズ状に設けられた同心円パターンの凹凸構造の一部の構造をそれぞれ担持している。
【0029】
ここで、各セル(CE)内に担持されている凹凸構造は、
図3に示されるように曲線状に設けられてあっても良いが、再配置前の同心円の円周に対して、十分に小さいサイズのセル(CE)に分割されている場合には、実質的に直線状に設けられてあって良い。
【0030】
また
図3では、各セル(CE)の境界線が示されているが、実際にはこの様な境界線は存在せず、各セル(CE)として分割された領域があるのみである。
【0031】
再配置前の1群のセルA1(20)内における各セル(CE)は、その配置位置を保持したまま、各セル内に設けられた凹凸構造の向きを、各セルの平面視において左右または上下に反転させて、再配置を実施する。
【0032】
図4は、各セル内に設けられた凹凸構造の向きを、各セルの平面視において、左右方向に反転させて、再配置を実施した例を示すものである。
【0033】
すなわち、
図3における各セル(CE)の配置位置はそのままに保持され、セル内に設けられた凹凸構造の向きのみが、左右方向に反転された状態となっている。
【0034】
同様に、
図5では、各セル内に設けられた凹凸構造の向きを上下方向に反転させて、再配置を実施した例を示すものである。
【0035】
このように再配置を実施することにより、フレネルレンズ構造を有する凹凸面に沿って反射層を設けた場合に生じる光の集光効果は発現することはできないものの、光の回折などによる高輝度画像点の観察が可能となり、従来のフレネルレンズ構造を応用した画像表現とは異なる光学効果を発生させることを見出した。
【0036】
具体的には、例えば、
図6に示すように、各セルを左右方向に反転させて再配置した1群のセルA1(30)を、複数配置してセルA群(60)を構成する。
【0037】
この時、複数の1群のセルA1(30a、30b、30c)は、表現しようとする数字、文字、記号、模様などの絵柄となるように配列される。
【0038】
これにより、セルA群(60)を構成する複数の1群のセルA1(30a、30b、30cなど)に由来する複数の高輝度画像点によって、数字、文字、記号、模様などを含む任意の絵柄を表現することが可能となる。
【0039】
この様にして得られた絵柄は、光源(51)の移動に応じて、移動させることが可能な絵柄として表現される。
【0040】
すなわち、観察者(52)の位置と、表示デバイス(50)の位置を固定した場合において、光源(51)の位置を移動させることにより、観察可能な回折光を射出するセル(CE)が別のセル(CE)へと変化し、高輝度画像点の動きとして観察することが可能となる。
【0041】
例えば、光源(51)を再配置後の1群のセルA1(30または40)の中心に対して、左右に動かすと、高輝度画像点も左右に動き、また中心に対して放射方向すなわち外側に動かすと、高輝度画像点も外側に動くこととなる。
【0042】
この時、各セル(CE)の再配置の際に、同心円の中心から外縁に向けての各セル(CE)の配列順を保持されていることにより、光源(51)を移動させながら観察した時の高輝度画像点の移動を違和感の無いスムーズな移動とさせることが可能となる。
【0043】
ここで、
図6に示す様に、セルA群(60)内の各1群のセルA1(30a、30b、30c)が、互いに重なりあい、重なり部(62)を形成する場合がある。
【0044】
図7では、重なり部(62)におけるセル(CE)の様子の例を示している。各セル(CE30a、CE30b、CE30c)は、それぞれ1群のセルA1(30a、30b、30c)を構成する凹凸構造を担持しており、各セルの配置は、各1群のセルA1(30a、30b、30c)における再配置後のセルの配置を維持しつつ、再再配置がなされる。
【0045】
この時、状況に応じて、各1群のセルA1(30a、30b、30c)内のセルを任意に間引きし、組み合わせることがなされても良いし、また状況に応じて、単一のセル内に、各1群のセルA1(30a、30b、30c)に対応する凹凸構造を多重合成するなどして混在されてあっても良い。
【0046】
また、各セル(CE)の大きさは、一辺が10μm以上100μm以下程度のものを好適に用いることができるが、必ずしもこれに限定されるものではない。
【0047】
セルA群(60)内に設けられる各1群のセルA1(例えば、30a、30b、30c)は、それぞれが、±1次回折光に起因する2方向への高輝度画像点を形成し得るものであり、例えば、+1次回折光によって形成される高輝度画像点によって、表現しようとする数字、文字、記号、模様などの絵柄となるように、各1群のセルA1(30a、30b、30c)の回転中心を配置する。
【0048】
この様にして得られたセルA群(60)を設けた表示デバイス(50)に対して、
図8に示すように、光源(51)を用いて、特定方向から光を照射し、観察者(52)が観察すると、+1次回折光からなる高輝度画像点によって形成される絵柄と、-1次回折光からなる高輝度画像点によって形成される絵柄の2つの画像が観察される。
【0049】
図9は、表示デバイス(50)に対して、光を照射した際に観察される絵柄パターンの例を示している。
【0050】
表示デバイス(50)に対して、光源(51a)の方向から光を照射した際には、光源と表示デバイスが正対する方向に沿って、±1次回折光からなる2つの星型の絵柄パターン(55a)が観察される。
【0051】
その後、光の照射方向を回転移動させて、光源(51b)の方向から照射した場合には、同様に2つの星型の絵柄パターン(55b)が観察されるが、光源の移動に伴って星型の絵柄パターンが移動するように観察される際に、光源の移動方向(53)と、絵柄パターンの移動方向(54)とが、逆方向となるように観察される。
【0052】
すなわち、光源(51)を表示デバイス(50)に対して、反時計回りに移動させた場合には、観察される絵柄パターンは、時計回りに移動することとなる。
【0053】
これは、
図12に示すような、従来のフレネルレンズを応用して類似の絵柄を表現した場合に、光源の回転移動方向(53)と、絵柄パターンの移動方向(57)とが、同じ方向となるのとは、明らかに異なる視覚効果を提供するものであり、真贋判定等を実施する場合にも、有効な手段を提供することが可能となる。
【0054】
ここで、±1次回折により観察される像(55a、あるいは55b)は、実線で描かれているが、実際には、例えば、星型の輪郭部を、高輝度画像点で繋いだ点描図として観察することが可能となる。
【0055】
この様にして観察される高輝度画像点からなる絵柄は、光源(51)の動きに応じて、相対的な形状を維持しつつ、上述のように動かすことが可能となり、例えば、光源(51)を表示デバイス(50)から遠ざけたり、近付けたりすることにより、観察される絵柄を大きくしたり、小さくしたりすることができ、奥行きの変化などを付与することも可能となる。
【0056】
また、先に述べたように、セル内に設けられる凹凸構造の断面形状は、ブレーズド形状、三角形を始め、矩形、多角形、サインカーブ状の曲線、お碗型、紡錘型、半円形など任意の形状に設けられてあって良く、特にブレーズド形状とした場合には、回折光の+次数、-次数の回折光強度に差を設けることができるため、例えば、主に+1次回折光だけを射出させることができ、回折光による表現の幅を広げることが可能となる。
【0057】
従って、表示したい絵柄パターンに応じて、各1群のセルA1(30または40)において、異なる断面形状の凹凸構造を設けるなどの手法が用いられてあっても良い。
【0058】
また、セルA群(60)を有する表示デバイス(50)は、複数のセルA群が並置されてあっても良く、更には、セルA群(60)に隣接あるいは分離された位置にセルB群が設けられてあっても良い。
【0059】
セルB群は、セルA群(60)とは異なる凹凸構造を有するセル(CE)からなり、平坦面や、ホログラムなどを含む任意の凹凸構造が設けられてあって良い。
【0060】
任意の凹凸構造としては、平坦面やホログラムなどの他に、例えば、複数の凹部又は凸部からなり、凹部または凸部の形状が円錐状、角錐状、楕円錐状、円柱状もしくは円筒状、角柱状もしくは角筒状、截頭円錐状、截頭角錐状、截頭楕円錐状、円柱もしくは円筒に円錐を接合した形状、角柱もしくは角筒に角錐を接合した形状、半球、半楕円体、弾丸型、おわん型をした形状等からなる凹凸構造や、方向の揃った複数の直線状の凹部または凸部からなる凹凸構造、複数の凸部の高さまたは複数の凹部の深さが一定である凹凸構造を有するユニットからなる凹凸構造などを例示することができるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。
【0061】
(表示デバイスの作製方法)
上述のようにして得られる画像構成要素からなる表示デバイス用凹凸構造データに基づいて、表示デバイスを作製するための作製方法の一例を説明する。
【0062】
まず、凹凸構造を形成するための型版として、フォトリソグラフィを用いて以下のように金属製のスタンパを作製する。
【0063】
最初に、平滑な基板(ガラス基板が一般的に用いられる)に感光性レジスト材料を塗布し、均一な膜厚のレジスト材料層を形成する。感光性レジスト材料としては、公知のポジ型材料またはネガ型材料を用いることができる。次いで、荷電粒子ビームにより、表示デバイス用凹凸構造データに基づく所望のパターンをレジスト材料層に描画する。
【0064】
その後、このレジスト材料層を現像処理することにより、所望の凹凸構造を有する構造体を得る。
【0065】
次に、この構造体を原版として用いて、この原版から、電鋳等の方法により金属製のスタンパを作製する。なお、電鋳とは、電鋳の対象物を所定の水溶液中に浸し、通電することで電子の還元力により、この対象物上に金属膜を形成する表面処理技術の一種である。
【0066】
このような方法を用いることで、原版の表面に設けられた微細な凹凸構造を精度良く複製することができる。なお、電鋳の対象物の表面は、通電可能である必要があるが、一般に感光性レジストは電気を通さないので、電鋳を行なう前に、上記構造体の表面にスパッタリング、真空蒸着等の気相堆積法などにより、金属薄膜が予め設けられている。
【0067】
次いで、このスタンパを用いて、レリーフ構造形成層12の表面に、凹凸構造を複製する。まず、例えばポリカーボネートまたはポリエステルなどからなる光透過性の基材11上に熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂または放射線硬化性樹脂などを塗布する。次に、塗膜に金属製スタンパを密着させ、この状態で熱圧の付与や、光や電子線などの照射を実施した後に、金属製のスタンパを樹脂層から剥がすことで、凹凸構造を備えるレリーフ構造形成層12を得る。
【0068】
上記において、原版の作製方法として、フォトリソグラフィを用いたが、その他の方法として、切削加工やエッチング加工等により金属等の表面を加工する手法などを採用することができる。このような方法を用いると、直接金属板の表面を加工することが可能であり、この場合、電鋳等の方法により金属製スタンパを作製することなく、直接金属製スタンパを作製することができる。
【0069】
次に、レリーフ構造形成層(12)上に、例えば、真空蒸着法やスパッタリング法などの気相堆積法等によりアルミニウム等の金属または誘電体などを単層あるいは多層に堆積させ、反射層(13)を形成する。
【0070】
なお、レリーフ構造形成層(12)の一部のみを反射層(13)で被覆する場合には、例えば、気相堆積法などにより連続膜として反射層(13)を形成した後、薬品などによりその一部を除去するなどの方法によって得ることができる。このような方法により、表示デバイスを製造することができる。
【0071】
上述のようにして得られた表示デバイスには、適宜、中間層、印刷層、保護層、接着層あるいは粘着層などの各種公知機能層が設けられてあっても良く、表示デバイスは単独で用いられても良いし、何らかの物品に貼着されて用いられても良い。
【0072】
物品に表示デバイスを貼着する方法としては、粘着剤などを介してラベルとして貼着しても良いし、
図10に例示されるような転写箔(70)の構成として表示デバイスを作製し、物品に貼着される方法が取れられても良い。
【0073】
図10に例示される転写箔(70)の構成は、支持体(71)上に剥離性保護層(72)、レリーフ構造形成層(73)、反射層(74)、接着層(75)からなっている。
【0074】
基材(11)または支持体(71)に用いられる材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース、ポリビニルアルコール、アクリル、塩化ビニル、ポリプロピレン、ポリシクロオレフィン、ポリイミドなどの各種プラスチックフィルムを好適に用いることができる。
【0075】
剥離性保護層(72)は、転写箔(70)を被転写体に転写する際の支持体(71)の剥離を容易にすると共に、転写後の表示デバイス転写層(76)の耐久性を確保する役割を担っている。剥離層性保護層(72)の材料としては、例えば、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、メラミン系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ビニル系樹脂などを単独あるいは混合物、ないし積層物として使用するができる。
【0076】
また剥離性保護層(72)は、パラフィンワックス、カルナバワックス、ポリエチレン
ワックスおよびシリコーンなどの添加剤を更に含んでいてもよい。
【0077】
レリーフ構造形成層(74、12)は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、放射線硬化性樹脂などを好適に用いることができる。
【0078】
レリーフ構造形成層(74、12)として、熱可塑性樹脂を用いる場合には、例えばアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、セルロース系樹脂、ビニル系樹脂などや、これらの混合物、またはこれらの共重合体などを使用することができる。
【0079】
また、熱硬化性樹脂を用いる場合には、例えば、アクリル系ポリオール樹脂やポリエステル系ポリオール樹脂などのポリオール系樹脂とイソシアネート化合物との架橋反応によって形成されるウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂などや、これらの混合物、またはこれらの共重合物を使用することができる。
【0080】
あるいは、放射線硬化性樹脂を用いる場合には、放射線硬化性樹脂は、典型的には、重合性化合物と開始剤とを含んでいる。
【0081】
重合性化合物としては、例えば、光ラジカル重合が可能な化合物を使用する。具体的には、エチレン性不飽和結合またはエチレン性不飽和基を有したモノマー、オリゴマーまたはポリマーを使用することができる。あるいは光ラジカル重合が可能な化合物として、1,6-ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコールジアクリラート、トリメチロールプロパントリアクリラート、ペンタエリスリトールアクリラート、ペンタエリスリトールテトラアクリラート、ペンタエイスリトールペンタアクリラートおよびジペンタエリスリトールヘキサアクリラート等のモノマー、エポキシアクリラート、ウレタンアクリラートおよびポリエステルアクリラート等のオリゴマー、またはウレタン変性アクリル樹脂およびエポキシ変性アクリル樹脂等のポリマーなどを使用してもよい。
【0082】
重合性化合物として光ラジカル重合が可能な化合物を使用する場合、開始剤としては、光ラジカル重合開始剤を使用することができる。
【0083】
この光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテルおよびベンゾインエチルエーテル等のベンゾイン系化合物、アントラキノンおよびメチルアントラキノン等のアントラキノン系化合物、アセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシアセトフェノン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α-アミノアセトフェノンおよび2-メチル-1-(4-メチルチオフェニル)-2-モリホリノプロパン-1-オン等のフェニルケトン系化合物、ベンジルジメチルケタール、チオキサントン、アシルホスフィンオキサイド、または、ミヒラーズケトンなどを使用することができる。
【0084】
あるいは、重合性化合物として、光カチオン重合が可能な化合物を使用してもよい。光カチオン重合が可能な化合物としては、例えば、エポキシ基を備えたモノマー、オリゴマーもしくはポリマー、キセタン骨格含有化合物、または、ビニルエーテル類を使用する。
【0085】
重合性化合物として光カチオン重合が可能な化合物を使用する場合、開始剤としては、光カチオン重合開始剤を使用する。この光カチオン重合開始剤としては、例えば、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ホスホニウム塩または混合配位子金属塩を使用する。
【0086】
あるいは、重合性化合物として、光ラジカル重合が可能な化合物と光カチオン重合が可能な化合物との混合物を使用してもよい。
【0087】
この場合、開始剤としては、例えば、光ラジカル重合開始剤と光カチオン重合開始剤との混合物を使用する。あるいは、この場合、光ラジカル重合および光カチオン重合の双方の開始剤として機能しうる重合開始剤を使用してもよい。
【0088】
このような開始剤としては、例えば、芳香族ヨードニウム塩または芳香族スルホニウム塩を使用する。
【0089】
尚、放射性硬化樹脂に占める開始剤の割合は、例えば、0.1から15重量%の範囲内とする。
【0090】
また、重合開始剤を使用しない例として、電子線照射により重合性化合物の重合反応を引き起こす方法を用いてもよい。
【0091】
前記放射線硬化樹脂は、増感色素、染料、顔料、重合禁止剤、レベリング剤、消泡剤、タレ止め剤、付着向上剤、塗面改質剤、可塑剤、含窒素化合物、エポキシ樹脂等の添加剤、離型剤またはこれらの組合せを更に含んでいてもよい。
【0092】
また、放射線硬化樹脂には、その成形性を向上させるべく、非反応性の樹脂を更に含有させてもよい。この非反応性の樹脂としては、例えば、前記熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂などを単独または混合物として用いることができる。
【0093】
反射層(74、13)としては、Al、Sn、Cu、Au、Ag、Coなどの金属薄膜を真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などによって形成する方法や、これらの金属薄膜に対しエッチング法などを駆使して、パターン状に形成する方法などが用いられてあってもよい。
【0094】
または、透明な反射層として、例えば、Sb2S3、Fe2O3、TiO2、CdS、CeO2、ZnS、PbCl2、CdO、Sb2O3、WO3、SiO、Si2O3、In2O3、PbO、Ta2O3、ZnO、ZrO2、Cd2O3、Al2O3などの金属化合物からなる誘電体を真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などの従来公知の方法により、薄膜形成したものなどを用いることができる。
【0095】
接着層75は、一般的な感熱接着剤や感圧接着剤などを用いて形成することができる。
【0096】
感熱接着剤としては例えば、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体樹脂、エチレン-アクリル酸エステル共重合体樹脂、エチレン-メタクリル酸エステル共重合体樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、塩素化ポリオレフィン系樹脂、エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂などの各種樹脂の単独または2種以上の混合物として用いることができる。
【0097】
また、感圧接着剤としては例えば、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体、ポリエステル系ポリアミド、アクリル系、ブチルゴム系、天然ゴム系、シリコン系、ポリイソブチル系の粘着剤を単独、もしくはアルキルメタクリレート、ビニルエステル、アクリロニトリル、スチレン、ビニルモノマーなどの凝集成分、不飽和カルボン酸、ヒドロキシ基含有モノマー、アクリロニトリルなどに代表される改質成分や接着性付与材、充填剤、軟化剤、熱安定剤、酸化防止剤、重合開始剤、硬化剤、硬化促進剤などの添加剤を、必要に応じて添加したものなどを用いることができる。
【0098】
接着性付与剤としては、ロジン系樹脂、テルペンフェノール樹脂、テルペン樹脂、芳香
族炭化水素変性テルペン樹脂、石油樹脂、クマロン・インデン樹脂、スチレン系樹脂、フェノール系樹脂、キシレン樹脂などが挙げられる。
【0099】
充填剤としては、亜鉛華、酸化チタン、シリカ、炭酸カルシウム、硫酸バリウムなどが挙げられる。
【0100】
軟化剤としては、プロセスオイル、液状ゴム、可塑剤などが挙げられる。熱安定剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ヒンダードアミン系などが挙げられ、酸化防止剤としては、アニリド系、フェノール系、ホスファイト系、チオエステル系などが挙げられる。
【0101】
図11には、上述のようにして得られた転写箔(70)を用いた表示デバイス付き物品(80)の例として、商品券などの被転写体(81)上に、表示デバイス転写層(76)を設けたものを例示した。
【0102】
表示デバイス転写層(76)には、セルA群(60)からなる光源(51)の動きに応じた光学効果を有する部分と、ホログラム画像を有するセルB群(82)とをあわせ持っている。
【0103】
これにより、既存の回折格子構造を有する偽造防止媒体と同様の製造工程を用いながら、従来にない光学効果を有し、高い装飾性と高い偽造防止性を有する表示デバイス付き物品(80)を得ることができる。
【符号の説明】
【0104】
10 … フレネルレンズ状の凹凸構造物
11 … 基材
12 … レリーフ構造形成層
13 … 反射層
20 … 再配置前の1群のセルA1
30 … 各セルを左右に反転させた1群のセルA1
30a… 再配置後の1群のセルA1a
30b… 再配置後の1群のセルA1b
30c… 再配置後の1群のセルA1c
40 … 各セルを上下に反転させた1群のセルA1
50 … 表示デバイス
51、51a、51b … 光源
52 … 観察者
53 … 光源の移動方向
54 … 高輝度画像点の移動方向(光源の移動方向とは逆方向)
55a、55b … 高輝度画像点による形成画像
56 … 従来のフレネルレンズを応用した表示デバイス
57 … 高輝度画像点の移動方向(光源の移動方向と同方向)
60 … セルA群
62 … 重なり部
70 … 転写箔
71 … 支持体
72 … 剥離性保護層
73 … レリーフ構造形成層
74 … 反射層
75 … 接着層
76 … 表示デバイス転写層
80 … 表示デバイス付き物品
81 … 被転写体
82 … セルB群
CE … セル
CE30a…再配置後の1群のセルA1aの1つのセル
CE30b…再配置後の1群のセルA1bの1つのセル
CE30c…再配置後の1群のセルA1cの1つのセル