特許7072970位相差板、光学補償層付偏光板、画像表示装置、およびタッチパネル付き画像表示装置
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2022-05-13
(45)【発行日】2022-05-23
(54)【発明の名称】位相差板、光学補償層付偏光板、画像表示装置、およびタッチパネル付き画像表示装置
(51)【国際特許分類】
G02B 5/30 20060101AFI20220516BHJP
H05B 33/02 20060101ALI20220516BHJP
H01L 27/32 20060101ALI20220516BHJP
H01L 51/50 20060101ALI20220516BHJP
H05B 33/28 20060101ALI20220516BHJP
G06F 3/041 20060101ALI20220516BHJP
G06F 3/044 20060101ALI20220516BHJP
G09F 9/30 20060101ALI20220516BHJP
【ＦＩ】
G02B5/30
H05B33/02
H01L27/32
H05B33/14 A
H05B33/28
G06F3/041 412
G06F3/044
G09F9/30 349E
G09F9/30 349Z
【請求項の数】
4
(21)【出願番号】P 2017242483
(22)【出願日】2017-12-19
(65)【公開番号】P2019109378
(43)【公開日】2019-07-04
【審査請求日】2020-09-24
【前置審査】
(73)【特許権者】
【識別番号】000003964
【氏名又は名称】日東電工株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100122471
【弁理士】
【氏名又は名称】籾井 孝文
(72)【発明者】
【氏名】高松 秀行
【審査官】吉川 陽吾
(56)【参考文献】
【文献】国際公開第２０１８／０３０２４４（ＷＯ，Ａ１）
【文献】国際公開第２０１８／１２３７２５（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特開２０１８－１３６４８３（ＪＰ，Ａ）
【文献】国際公開第２０１８／１６４１２６（ＷＯ，Ａ１）
【文献】国際公開第２０１５／１６６９９１（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特開２００４－０５４２６６（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｇ０２Ｂ ５／３０
Ｈ０５Ｂ ３３／０２
Ｈ０１Ｌ ２７／３２
Ｈ０１Ｌ ５１／５０
Ｈ０５Ｂ ３３／２８
Ｇ０６Ｆ ３／０４１
Ｇ０６Ｆ ３／０４４
Ｇ０９Ｆ ９／３０
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
位相差板により構成される光学補償層と、偏光子と、を有する光学補償層付偏光板であって、
該光学補償層の遅相軸と該偏光子の吸収軸とのなす角度が３５°～５５°であり、
該光学補償層と該偏光子とが直接積層されており、
該位相差板の面内位相差Ｒｅが、１００ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１６０ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１、および、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）≧１を満たし、
Ｎｚ係数が、Ｎｚ（５５０）＜１、０≦｜Ｎｚ（４５０）－Ｎｚ（５５０）｜≦０．１、および、０≦｜Ｎｚ（６５０）－Ｎｚ（５５０）｜≦０．１を満たし、
該位相差板が、第１の位相差層と第２の位相差層とが積層された積層構造を有し、
前記第１の位相差層は、面内位相差Ｒｅが、Ｒｅ（４５０）/Ｒｅ（５５０）≦１、および、Ｒｅ（６５０）/Ｒｅ（５５０）≧１を満たし、屈折率特性がｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚを満たし、単層構造を有し、ポリカーボネート樹脂を含み、
前記第２の位相差層は、厚み方向位相差Ｒｔｈが、Ｒｔｈ（４５０）/Ｒｔｈ（５５０）≦１、および、Ｒｔｈ（６５０）/Ｒｔｈ（５５０）≧１を満たし、屈折率特性がｎｚ＞ｎｘ≧ｎｙを満たす、位相差板：
ここで、Ｒｅ（４５０）、Ｒｅ（５５０）、およびＲｅ（６５０）は、それぞれ、２３℃における波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、および６５０ｎｍの光で測定した面内位相差を表し、Ｎｚ（４５０）、Ｎｚ（５５０）、およびＮｚ（６５０）は、それぞれ、２３℃における波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、および６５０ｎｍの光で測定したＮｚ係数を表す。
【請求項2】
前記光学補償層の前記偏光子とは反対側に導電層を有する、請求項１に記載の光学補償層付偏光板。
【請求項3】
請求項１に記載の光学補償層付偏光板を有する、画像表示装置。
【請求項4】
請求項２に記載の光学補償層付偏光板を有し、前記導電層がタッチパネルセンサーとして機能する、タッチパネル付き画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、位相差板、光学補償層付偏光板、画像表示装置、およびタッチパネル付き画像表示装置に関する。
【背景技術】
【0002】
近年、薄型ディスプレイの普及と共に、有機ＥＬパネルを搭載した画像表示装置（有機ＥＬ表示装置）が提案されている。有機ＥＬパネルは反射性の高い金属層を有しており、外光反射や背景の映り込み等の問題を生じやすい。そこで、光学補償層付偏光板（円偏光板）を視認側に設けることにより、これらの問題を防ぐことが知られている。また、液晶表示パネルの視認側に光学補償層付偏光板を設けることで、視野角を改善することが知られている。一般的な光学補償層付偏光板として、位相差フィルムと偏光子とを、その遅相軸と吸収軸とが用途に応じた所定の角度（例えば、４５°）をなすように積層したものが知られている。しかし、従来の位相差フィルムは、光学補償層付偏光板に用いた場合に、斜め方向の色相に所望でない色付きが生じ得るという問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【文献】特開２０１６－４２１８５公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その主たる目的は、斜め方向の色相がニュートラルである画像表示装置を実現し得る位相差板、並びに、そのような位相差板を有する光学補償層付偏光板、画像表示装置、およびタッチパネル装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本発明の位相差板は、面内位相差Ｒｅが、１００ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１６０ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１、および、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）≧１を満たし、Ｎｚ係数が、Ｎｚ（５５０）＜１、０≦｜Ｎｚ（４５０）－Ｎｚ（５５０）｜≦０．１、および、０≦｜Ｎｚ（６５０）－Ｎｚ（５５０）｜≦０．１を満たす。
１つの実施形態においては、第１の位相差層と第２の位相差層とが積層された積層構造を有し、上記第１の位相差層は、面内位相差Ｒｅが、Ｒｅ（４５０）/Ｒｅ（５５０）≦１、および、Ｒｅ（６５０）/Ｒｅ（５５０）≧１を満たし、屈折率特性がｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚを満たし、上記第２の位相差層は、厚み方向位相差Ｒｔｈが、Ｒｔｈ（４５０）/Ｒｔｈ（５５０）≦１、および、Ｒｔｈ（６５０）/Ｒｔｈ（５５０）≧１を満たし、屈折率特性がｎｚ＞ｎｘ≧ｎｙを満たす。
本発明の別の局面によれば、光学補償層付偏光板が提供される。この光学補償層付偏光板は、上記位相差板により構成される光学補償層と、偏光子とを有し、上記光学補償層の遅相軸と前記偏光子の吸収軸とのなす角度が３５°～５５°である。
１つの実施形態においては、上記光学補償層付偏光板は、光学補償層の上記偏光子とは反対側に導電層を有する。
本発明のさらに別の局面によれば、画像表示装置が提供される。この画像表示装置は、上記光学補償層付偏光板を有する。
本発明のさらに別の局面によれば、タッチパネル付き画像表示装置が提供される。このタッチパネル付き画像表示装置は、上記光学補償層付偏光板を有し、上記導電層がタッチパネルセンサーとして機能する。
１つの実施形態においては、第１の位相差層と第２の位相差層とが積層された積層構造を有し、上記第１の位相差層は、面内位相差Ｒｅが、Ｒｅ（４５０）/Ｒｅ（５５０）≦１、および、Ｒｅ（６５０）/Ｒｅ（５５０）≧１を満たし、屈折率特性がｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚを満たし、上記第２の位相差層は、厚み方向位相差Ｒｔｈが、Ｒｔｈ（４５０）/Ｒｔｈ（５５０）≦１、および、Ｒｔｈ（６５０）/Ｒｔｈ（５５０）≧１を満たし、屈折率特性がｎｚ＞ｎｘ≧ｎｙを満たす。
本発明の別の局面によれば、光学補償層付偏光板が提供される。この光学補償層付偏光板は、上記位相差板により構成される光学補償層と、偏光子とを有し、上記光学補償層の遅相軸と前記偏光子の吸収軸とのなす角度が３５°～５５°である。
１つの実施形態においては、上記光学補償層付偏光板は、光学補償層の上記偏光子とは反対側に導電層を有する。
本発明のさらに別の局面によれば、画像表示装置が提供される。この画像表示装置は、上記光学補償層付偏光板を有する。
本発明のさらに別の局面によれば、タッチパネル付き画像表示装置が提供される。このタッチパネル付き画像表示装置は、上記光学補償層付偏光板を有し、上記導電層がタッチパネルセンサーとして機能する。
【発明の効果】
【0006】
本発明によれば、位相差板の面内位相差Ｒｅが、１００ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１６０ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１、および、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）≧１を満たし、Ｎｚ係数が、Ｎｚ（５５０）＜１、０≦｜Ｎｚ（４５０）－Ｎｚ（５５０）｜≦０．１、および、０≦｜Ｎｚ（６５０）－Ｎｚ（５５０）｜≦０．１を満たすことにより、光学補償層付偏光板に用いた場合に斜め方向の色相がニュートラルである光学補償層付偏光板を実現し得る。
【図面の簡単な説明】
【0007】
【発明を実施するための形態】
【0008】
以下、本発明の実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。
【0009】
（用語および記号の定義）
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである。
（１）屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）
「ｎｘ」は面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、「ｎｙ」は面内で遅相軸と直交する方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率であり、「ｎｚ」は厚み方向の屈折率である。
（２）面内位相差（Ｒｅ）
「Ｒｅ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した面内位相差である。例えば、「Ｒｅ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した面内位相差である。Ｒｅ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｅ＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｄによって求められる。
（３）厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）
「Ｒｔｈ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。例えば、「Ｒｔｈ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。Ｒｔｈ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｔｈ＝（ｎｘ－ｎｚ）×ｄによって求められる。
（４）Ｎｚ係数
Ｎｚ係数は、Ｎｚ＝Ｒｔｈ／Ｒｅによって求められる。
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである。
（１）屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）
「ｎｘ」は面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、「ｎｙ」は面内で遅相軸と直交する方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率であり、「ｎｚ」は厚み方向の屈折率である。
（２）面内位相差（Ｒｅ）
「Ｒｅ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した面内位相差である。例えば、「Ｒｅ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した面内位相差である。Ｒｅ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｅ＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｄによって求められる。
（３）厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）
「Ｒｔｈ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。例えば、「Ｒｔｈ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。Ｒｔｈ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｔｈ＝（ｎｘ－ｎｚ）×ｄによって求められる。
（４）Ｎｚ係数
Ｎｚ係数は、Ｎｚ＝Ｒｔｈ／Ｒｅによって求められる。
【0010】
Ａ．位相差板
本発明の位相差板１０は、面内位相差Ｒｅが、１００ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１６０ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１、および、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）≧１を満たし、Ｎｚ係数が、Ｎｚ（５５０）＜１、０≦｜Ｎｚ（４５０）－Ｎｚ（５５０）｜≦０．１、および、０≦｜Ｎｚ（６５０）－Ｎｚ（５５０）｜≦０．１を満たす。すなわち、上記位相差板は、位相差値が測定光の波長に応じて大きくなる逆分散波長特性を示し、かつ、Ｎｚ係数の波長依存性が小さく、広い波長域の測定光に対して屈折率特性がｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙの関係を示す。これにより、上記位相差板は、光学補償層付偏光板に用いた場合に斜め方向の色相がニュートラルである光学補償層付偏光板を実現し得る。位相差板は、枚葉状であってもよいし、長尺状であってもよい。
本発明の位相差板１０は、面内位相差Ｒｅが、１００ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１６０ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１、および、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）≧１を満たし、Ｎｚ係数が、Ｎｚ（５５０）＜１、０≦｜Ｎｚ（４５０）－Ｎｚ（５５０）｜≦０．１、および、０≦｜Ｎｚ（６５０）－Ｎｚ（５５０）｜≦０．１を満たす。すなわち、上記位相差板は、位相差値が測定光の波長に応じて大きくなる逆分散波長特性を示し、かつ、Ｎｚ係数の波長依存性が小さく、広い波長域の測定光に対して屈折率特性がｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙの関係を示す。これにより、上記位相差板は、光学補償層付偏光板に用いた場合に斜め方向の色相がニュートラルである光学補償層付偏光板を実現し得る。位相差板は、枚葉状であってもよいし、長尺状であってもよい。
【0011】
図１は、本発明の１つの実施形態による位相差板１０の概略断面図である。代表的には、位相差板１０は、第１の位相差層１１と第２の位相差層１２とが積層された積層構造を有する。この場合、第１の位相差層１１は、面内位相差Ｒｅが、Ｒｅ（４５０）/Ｒｅ（５５０）≦１、および、Ｒｅ（６５０）/Ｒｅ（５５０）≧１を満たし、屈折率特性がｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚを満たし、第２の位相差層１２は、厚み方向位相差Ｒｔｈが、Ｒｔｈ（４５０）/Ｒｔｈ（５５０）≦１、および、Ｒｔｈ（６５０）/Ｒｔｈ（５５０）≧１を満たし、屈折率特性がｎｚ＞ｎｘ≧ｎｙを満たす。
【0012】
位相差板の面内位相差Ｒｅ（５５０）は、好ましくは１２０ｎｍ～１５０ｎｍであり、より好ましくは１３０ｎｍ～１４５ｎｍである。位相差板の面内位相差が上記の範囲内であれば、位相差板と偏光子とを、位相差板の遅相軸方向と偏光子の吸収軸方向とのなす角度が約４５°または約１３５°となるように積層して得られる光学補償層付偏光板は、優れた反射防止特性を実現し得る円偏光板として用いられ得る。
【0013】
位相差板の面内位相差に関して、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）の値は、好ましくは０．８０～０．９０であり、より好ましくは０．８０～０．８８であり、さらに好ましくは０．８０～０．８６である。Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）の値は、好ましくは１．０１～１．２０であり、より好ましくは１．０２～１．１５であり、さらに好ましくは１．０３～１．１０である。これにより、位相差板は、より優れた反射色相を達成することができる。
【0014】
位相差板のＮｚ係数は、上記のとおり、Ｎｚ（５５０）＜１、０≦｜Ｎｚ（４５０）－Ｎｚ（５５０）｜≦０．１、および、０≦｜Ｎｚ（６５０）－Ｎｚ（５５０）｜≦０．１を満たす。Ｎｚ（５５０）は、好ましくは０．３～０．７であり、より好ましくは０．４～０．６であり、さらに好ましくは０．４５～０．５５であり、特に好ましくは約０．５である。Ｎｚ係数がこのような範囲であれば、広い波長域の測定光に対して屈折率特性がｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙの関係を示し、これにより、斜め方向の色相がニュートラルであり、かつ、優れた広視野角特性を有する光学補償層付偏光板を実現し得る。
【0015】
Ａ－１．第１の位相差層
第１の位相差層は、上記のとおり、面内位相差Ｒｅが、Ｒｅ（４５０）/Ｒｅ（５５０）≦１、および、Ｒｅ（６５０）/Ｒｅ（５５０）≧１を満たし、屈折率特性がｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚを満たす。第１の位相差層の面内位相差Ｒｅ（５５０）は、好ましくは１００ｎｍ～１７０ｎｍであり、より好ましくは１１０ｎｍ～１６０ｎｍであり、さらに好ましくは１２０ｎｍ～１５０ｎｍである。
第１の位相差層は、上記のとおり、面内位相差Ｒｅが、Ｒｅ（４５０）/Ｒｅ（５５０）≦１、および、Ｒｅ（６５０）/Ｒｅ（５５０）≧１を満たし、屈折率特性がｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚを満たす。第１の位相差層の面内位相差Ｒｅ（５５０）は、好ましくは１００ｎｍ～１７０ｎｍであり、より好ましくは１１０ｎｍ～１６０ｎｍであり、さらに好ましくは１２０ｎｍ～１５０ｎｍである。
【0016】
第１の位相差層の面内位相差に関して、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）の値は、好ましくは０．８０～０．９０であり、より好ましくは０．８０～０．８８であり、さらに好ましくは０．８０～０．８６である。Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）の値は、好ましくは１．０１～１．２０であり、より好ましくは１．０２～１．１５であり、さらに好ましくは１．０３～１．１０である。
【0017】
第１の位相差層は、代表的には、上記の特性を実現し得る任意の適切な樹脂で形成された位相差フィルムである。上記位相差フィルムは、上記特性を実現し得る任意の適切な樹脂フィルムを任意の適切な延伸条件で延伸することにより得られ得る。上記延伸は、任意の適切な延伸方法、延伸条件（例えば、延伸温度、延伸倍率、延伸方向）が採用され得る。上記延伸方法、延伸条件を適宜選択することにより、上記所望の光学特性（例えば、屈折率特性、面内位相差、Ｎｚ係数）を有する延伸フィルムを得ることができる。
【0018】
位相差フィルムの光弾性係数（の絶対値）は、好ましくは１４×１０－１２Ｐａ－１以下である。位相差フィルムの光弾性係数は、好ましくは１×１０－１２Ｐａ－１～１４×１０－１２Ｐａ－１であり、より好ましくは２×１０－１２Ｐａ－１～１２×１０－１２Ｐａ－１である。光弾性係数の絶対値がこのような範囲であれば、高温高湿環境下においても位相差値の変化を抑制することができ、優れた信頼性を実現することができる。また、小さい厚みでも十分な位相差を確保しつつ画像表示装置（特に、有機ＥＬパネル）の屈曲性を維持することができ、さらに、屈曲時の応力による位相差変化（結果として、有機ＥＬパネルの色変化）をより抑制することができる。
【0019】
位相差フィルムは、その吸水率が好ましくは３％以下であり、より好ましくは２．５％以下、さらに好ましくは２％以下である。このような吸水率を満足することにより、表示特性の経時変化を抑制することができる。なお、吸水率は、ＪＩＳ Ｋ ７２０９に準拠して求めることができる。
【0020】
位相差フィルムは、好ましくは、水分およびガス（例えば酸素）に対するバリア性を有する。延伸フィルムの４０℃、９０％ＲＨ条件下での水蒸気透過率（透湿度）は、好ましくは１．０×１０－１ｇ／ｍ２／２４ｈｒ未満である。バリア性の観点からは、透湿度の下限は低いほど好ましい。延伸フィルムの６０℃、９０％ＲＨ条件下でのガスバリア性は、好ましくは１．０×１０－７ｇ／ｍ２／２４ｈｒ～０．５ｇ／ｍ２／２４ｈｒであり、より好ましくは１．０×１０－７ｇ／ｍ２／２４ｈｒ～０．１ｇ／ｍ２／２４ｈｒである。透湿度およびガスバリア性がこのような範囲であれば、光学補償層付偏光板を有機ＥＬパネルに貼り合わせた場合に、当該有機ＥＬパネルを空気中の水分および酸素から良好に保護し得る。なお、透湿度およびガスバリア性はいずれも、ＪＩＳ Ｋ ７１２６－１に準じて測定され得る。
【0021】
位相差フィルムを構成する樹脂としては、例えば、ポリアリレート、ポリイミド、ポリアミド、ポリエステル、ポリビニルアルコール、ポリフマル酸エステル、ノルボルネン樹脂、ポリカーボネート樹脂、セルロース樹脂、環状オレフィン系樹脂およびポリウレタンが挙げられる。これらの樹脂は、単独で用いてもよく組み合わせて用いてもよい。好ましくは、ポリカーボネート樹脂である。上記樹脂の具体例は、例えば特開２０１５－２１２８２８号公報に熱可塑性樹脂として記載されている。当該公報は、その全体の記載が本明細書に参考として援用される。
【0022】
上記ポリカーボネート樹脂のガラス転移温度は、１１０℃以上１８０℃以下であることが好ましく、より好ましくは１２０℃以上１６５℃以下である。ガラス転移温度が過度に低いと耐熱性が悪くなる傾向にあり、フィルム成形後に寸法変化を起こす可能性があり、又、得られる有機ＥＬパネルの画像品質を下げる場合がある。ガラス転移温度が過度に高いと、フィルム成形時の成形安定性が悪くなる場合があり、又フィルムの透明性を損なう場合がある。なお、ガラス転移温度は、ＪＩＳ Ｋ ７１２１（１９８７）に準じて求められる。
【0023】
延伸方法としては、例えば、横一軸延伸、自由端一軸延伸、固定端二軸延伸、固定端一軸延伸、逐次二軸延伸が挙げられる。好ましくは、固定端一軸延伸である。固定端一軸延伸の具体例としては、樹脂フィルムを長手方向に走行させながら、幅方向（横方向）に延伸する方法が挙げられる。延伸倍率は、好ましくは１．１倍～３．５倍である。延伸温度は、樹脂フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）に対し、Ｔｇ－３０℃～Ｔｇ＋６０℃であることが好ましく、より好ましくはＴｇ－１０℃～Ｔｇ＋５０℃である。他の延伸方法としては、長尺状の樹脂フィルムを長手方向に対して所定の角度の方向に連続的に斜め延伸する方法が挙げられる。斜め延伸の方法としては、例えば、特開昭５０－８３４８２号公報、特開平２－１１３９２０号公報、特開平３－１８２７０１号公報、特開２０００－９９１２号公報、特開２００２－８６５５４号公報、特開２００２－２２９４４号公報等に記載の方法が挙げられる。
【0024】
位相差フィルム（第１の位相差層）の厚みは、好ましくは１０μｍ～１５０μｍであり、より好ましくは１０μｍ～１００μｍであり、さらに好ましくは１０μｍ～７０μｍである。このような厚みであれば、上記所望の面内位相差およびＮｚ係数が得られ得る。
【0025】
Ａ－２．第２の位相差層
第２の位相差層は、上記のとおり、厚み方向位相差Ｒｔｈが、Ｒｔｈ（４５０）/Ｒｔｈ（５５０）≦１、および、Ｒｔｈ（６５０）/Ｒｔｈ（５５０）≧１を満たし、屈折率特性がｎｚ＞ｎｘ≧ｎｙを満たす。第２の位相差層の厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）は、好ましくは－３０ｎｍ～－２００ｎｍであり、より好ましくは－３５ｎｍ～－１８０ｎｍであり、さらに好ましくは－４０ｎｍ～－１６０ｎｍである。
第２の位相差層は、上記のとおり、厚み方向位相差Ｒｔｈが、Ｒｔｈ（４５０）/Ｒｔｈ（５５０）≦１、および、Ｒｔｈ（６５０）/Ｒｔｈ（５５０）≧１を満たし、屈折率特性がｎｚ＞ｎｘ≧ｎｙを満たす。第２の位相差層の厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）は、好ましくは－３０ｎｍ～－２００ｎｍであり、より好ましくは－３５ｎｍ～－１８０ｎｍであり、さらに好ましくは－４０ｎｍ～－１６０ｎｍである。
【0026】
第２の位相差層の厚み方向位相差に関して、Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）の値は、好ましくは０．７０～０．９０であり、より好ましくは０．７２～０．８８であり、さらに好ましくは０．７４～０．８６である。Ｒｔｈ（６５０）／Ｒｔｈ（５５０）の値は、好ましくは１．０１～１．２０であり、より好ましくは１．０２～１．１５であり、さらに好ましくは１．０３～１．１０である。
【0027】
第２の位相差層は、代表的には、上記の特性を実現し得る液晶化合物の配向固化層により構成され得る。本明細書において「配向固化層」とは、液晶化合物が層内で所定の方向に配向し、その配向状態が固定されている層をいう。１つの実施形態においては、第２の位相差層は、好ましくは、ホメオトロピック配向に固定された液晶材料を含み得る。ホメオトロピック配向させることができる液晶材料（液晶化合物）は、液晶モノマーであっても液晶ポリマーであってもよい。当該液晶化合物および当該位相差層の形成方法の具体例としては、例えば、特許第５８２６７５９号公報に記載されている。当該公報は、その全体の記載が本明細書に参考として援用される。また、他の具体例としては、特許第５４０１０３２号公報、特開２０１５－２００８６１号公報、特開２０１５－１６９８７５号公報に記載されており、これらの公報は、その全体の記載が本明細書に参考として援用される。第２の位相差層の厚みは、好ましくは０．５μｍ～５０μｍであり、より好ましくは０．５μｍ～４０μｍであり、さらに好ましくは０．５μｍ～３０μｍである。
【0028】
Ｂ．光学補償層付偏光板
図２は、本発明の１つの実施形態による光学補償層付偏光板の概略断面図である。本実施形態の光学補償層付偏光板１００は、偏光子２０と光学補償層１０Ａとを備える。光学補償層１０Ａは、上記Ａ項に記載の位相差板からなる。１つの実施形態においては、光学補償層の遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度が３５°～５５°である。実用的には、図示例のように、偏光子２０の光学補償層１０Ａと反対側に保護層３０が設けられ得る。また、光学補償層付偏光板は、偏光子２０と光学補償層１０Ａとの間に別の保護層（内側保護層とも称する）を備えてもよい。図示例においては、内側保護層は省略されている。この場合、光学補償層１０Ａが内側保護層としても機能し得る。このような構成であれば、光学補償層付偏光板のさらなる薄型化が実現され得る。さらに、必要に応じて、光学補償層１０Ａの偏光子２０と反対側（すなわち、光学補償層１０Ａの外側）に導電層および基材をこの順に設けてもよい（いずれも図示せず）。基材は、導電層に密着積層されている。本明細書において「密着積層」とは、２つの層が接着層（例えば、接着剤層、粘着剤層）を介在することなく直接かつ固着して積層されていることをいう。導電層および基材は、代表的には、基材と導電層との積層体として光学補償層付偏光板１００に導入され得る。導電層および基材をさらに設けることにより、光学補償層付偏光板１００は、インナータッチパネル付き画像表示装置に好適に用いられ得る。
図２は、本発明の１つの実施形態による光学補償層付偏光板の概略断面図である。本実施形態の光学補償層付偏光板１００は、偏光子２０と光学補償層１０Ａとを備える。光学補償層１０Ａは、上記Ａ項に記載の位相差板からなる。１つの実施形態においては、光学補償層の遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度が３５°～５５°である。実用的には、図示例のように、偏光子２０の光学補償層１０Ａと反対側に保護層３０が設けられ得る。また、光学補償層付偏光板は、偏光子２０と光学補償層１０Ａとの間に別の保護層（内側保護層とも称する）を備えてもよい。図示例においては、内側保護層は省略されている。この場合、光学補償層１０Ａが内側保護層としても機能し得る。このような構成であれば、光学補償層付偏光板のさらなる薄型化が実現され得る。さらに、必要に応じて、光学補償層１０Ａの偏光子２０と反対側（すなわち、光学補償層１０Ａの外側）に導電層および基材をこの順に設けてもよい（いずれも図示せず）。基材は、導電層に密着積層されている。本明細書において「密着積層」とは、２つの層が接着層（例えば、接着剤層、粘着剤層）を介在することなく直接かつ固着して積層されていることをいう。導電層および基材は、代表的には、基材と導電層との積層体として光学補償層付偏光板１００に導入され得る。導電層および基材をさらに設けることにより、光学補償層付偏光板１００は、インナータッチパネル付き画像表示装置に好適に用いられ得る。
【0029】
Ｂ－１．偏光子
偏光子２０としては、任意の適切な偏光子が採用され得る。例えば、偏光子を形成する樹脂フィルムは、単層の樹脂フィルムであってもよく、二層以上の積層体を用いて作製されてもよい。
偏光子２０としては、任意の適切な偏光子が採用され得る。例えば、偏光子を形成する樹脂フィルムは、単層の樹脂フィルムであってもよく、二層以上の積層体を用いて作製されてもよい。
【0030】
単層の樹脂フィルムから構成される偏光子の具体例としては、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系フィルム、部分ホルマール化ＰＶＡ系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質による染色処理および延伸処理が施されたもの、ＰＶＡの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルム等が挙げられる。好ましくは、光学特性に優れることから、ＰＶＡ系フィルムをヨウ素で染色し一軸延伸して得られた偏光子が用いられる。
【0031】
上記ヨウ素による染色は、例えば、ＰＶＡ系フィルムをヨウ素水溶液に浸漬することにより行われる。上記一軸延伸の延伸倍率は、好ましくは３～７倍である。延伸は、染色処理後に行ってもよいし、染色しながら行ってもよい。また、延伸してから染色してもよい。必要に応じて、ＰＶＡ系フィルムに、膨潤処理、架橋処理、洗浄処理、乾燥処理等が施される。例えば、染色の前にＰＶＡ系フィルムを水に浸漬して水洗することで、ＰＶＡ系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるだけでなく、ＰＶＡ系フィルムを膨潤させて染色ムラなどを防止することができる。
【0032】
積層体を用いて得られる偏光子の具体例としては、樹脂基材と当該樹脂基材に積層されたＰＶＡ系樹脂層（ＰＶＡ系樹脂フィルム）との積層体、あるいは、樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたＰＶＡ系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光子が挙げられる。樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたＰＶＡ系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光子は、例えば、ＰＶＡ系樹脂溶液を樹脂基材に塗布し、乾燥させて樹脂基材上にＰＶＡ系樹脂層を形成して、樹脂基材とＰＶＡ系樹脂層との積層体を得ること；当該積層体を延伸および染色してＰＶＡ系樹脂層を偏光子とすること；により作製され得る。本実施形態においては、延伸は、代表的には積層体をホウ酸水溶液中に浸漬させて延伸することを含む。さらに、延伸は、必要に応じて、ホウ酸水溶液中での延伸の前に積層体を高温（例えば、９５℃以上）で空中延伸することをさらに含み得る。得られた樹脂基材／偏光子の積層体はそのまま用いてもよく（すなわち、樹脂基材を偏光子の保護層としてもよく）、樹脂基材／偏光子の積層体から樹脂基材を剥離し、当該剥離面に目的に応じた任意の適切な保護層を積層して用いてもよい。このような偏光子の製造方法の詳細は、例えば特開２０１２－７３５８０号公報に記載されている。当該公報は、その全体の記載が本明細書に参考として援用される。
【0033】
偏光子の厚みは、好ましくは２５μｍ以下であり、より好ましくは１μｍ～１２μｍであり、さらに好ましくは３μｍ～１２μｍであり、特に好ましくは３μｍ～８μｍである。偏光子の厚みがこのような範囲であれば、加熱時のカールを良好に抑制することができ、および、良好な加熱時の外観耐久性が得られる。
【0034】
偏光子は、好ましくは、波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍのいずれかの波長で吸収二色性を示す。偏光子の単体透過率は、上記のとおり４３．０％～４６．０％であり、好ましくは４４．５％～４６．０％である。偏光子の偏光度は、好ましくは９７．０％以上であり、より好ましくは９９．０％以上であり、さらに好ましくは９９．９％以上である。
【0035】
Ｂ－２．保護層
保護層３０は、偏光子の保護層として使用できる任意の適切なフィルムで形成される。当該フィルムの主成分となる材料の具体例としては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂や、ポリエステル系、ポリビニルアルコール系、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリノルボルネン系、ポリオレフィン系、（メタ）アクリル系、アセテート系等の透明樹脂等が挙げられる。また、（メタ）アクリル系、ウレタン系、（メタ）アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂等も挙げられる。この他にも、例えば、シロキサン系ポリマー等のガラス質系ポリマーも挙げられる。また、特開２００１－３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載のポリマーフィルムも使用できる。このフィルムの材料としては、例えば、側鎖に置換または非置換のイミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換または非置換のフェニル基ならびにニトリル基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物が使用でき、例えば、イソブテンとＮ－メチルマレイミドからなる交互共重合体と、アクリロニトリル・スチレン共重合体とを有する樹脂組成物が挙げられる。当該ポリマーフィルムは、例えば、上記樹脂組成物の押出成形物であり得る。
保護層３０は、偏光子の保護層として使用できる任意の適切なフィルムで形成される。当該フィルムの主成分となる材料の具体例としては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂や、ポリエステル系、ポリビニルアルコール系、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリノルボルネン系、ポリオレフィン系、（メタ）アクリル系、アセテート系等の透明樹脂等が挙げられる。また、（メタ）アクリル系、ウレタン系、（メタ）アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂等も挙げられる。この他にも、例えば、シロキサン系ポリマー等のガラス質系ポリマーも挙げられる。また、特開２００１－３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載のポリマーフィルムも使用できる。このフィルムの材料としては、例えば、側鎖に置換または非置換のイミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換または非置換のフェニル基ならびにニトリル基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物が使用でき、例えば、イソブテンとＮ－メチルマレイミドからなる交互共重合体と、アクリロニトリル・スチレン共重合体とを有する樹脂組成物が挙げられる。当該ポリマーフィルムは、例えば、上記樹脂組成物の押出成形物であり得る。
【0036】
保護層３０には、必要に応じて、ハードコート処理、反射防止処理、スティッキング防止処理、アンチグレア処理等の表面処理が施されていてもよい。さらに／あるいは、保護層３０には、必要に応じて、偏光サングラスを介して視認する場合の視認性を改善する処理（代表的には、（楕）円偏光機能を付与すること、超高位相差を付与すること）が施されていてもよい。このような処理を施すことにより、偏光サングラス等の偏光レンズを介して表示画面を視認した場合でも、優れた視認性を実現することができる。したがって、光学補償層付偏光板は、屋外で用いられ得る画像表示装置にも好適に適用され得る。
【0037】
保護層３０の厚みは、代表的には５ｍｍ以下であり、好ましくは１ｍｍ以下、より好ましくは１μｍ～５００μｍ、さらに好ましくは５μｍ～１５０μｍである。なお、表面処理が施されている場合、保護層の厚みは、表面処理層の厚みを含めた厚みである。
【0038】
偏光子２０と光学補償層１０Ａとの間に内側保護層が設けられる場合、当該内側保護層は、光学的に等方性であることが好ましい。本明細書において「光学的に等方性である」とは、面内位相差Ｒｅ（５５０）が０ｎｍ～１０ｎｍであり、厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）が－１０ｎｍ～＋１０ｎｍであることをいう。内側保護層は、光学的に等方性である限り、任意の適切な材料で構成され得る。当該材料は、例えば、保護層３０に関して上記した材料から適切に選択され得る。
【0039】
内側保護層の厚みは、好ましくは５μｍ～２００μｍ、より好ましくは１０μｍ～１００μｍ、さらに好ましくは１５μｍ～９５μｍである。
【0040】
Ｂ－３．導電層または基材付導電層
導電層は、必要に応じてパターン化され得る。パターン化によって、導通部と絶縁部とが形成され得る。結果として、電極が形成され得る。電極は、タッチパネルへの接触を感知するタッチセンサー電極として機能し得る。パターンの形状はタッチパネル（例えば、静電容量方式タッチパネル）として良好に動作するパターンが好ましい。具体例としては、特表２０１１－５１１３５７号公報、特開２０１０－１６４９３８号公報、特開２００８－３１０５５０号公報、特表２００３－５１１７９９号公報、特表２０１０－５４１１０９号公報に記載のパターンが挙げられる。
導電層は、必要に応じてパターン化され得る。パターン化によって、導通部と絶縁部とが形成され得る。結果として、電極が形成され得る。電極は、タッチパネルへの接触を感知するタッチセンサー電極として機能し得る。パターンの形状はタッチパネル（例えば、静電容量方式タッチパネル）として良好に動作するパターンが好ましい。具体例としては、特表２０１１－５１１３５７号公報、特開２０１０－１６４９３８号公報、特開２００８－３１０５５０号公報、特表２００３－５１１７９９号公報、特表２０１０－５４１１０９号公報に記載のパターンが挙げられる。
【0041】
導電層は、任意の適切な成膜方法（例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、スプレー法等）により、任意の適切な基材上に、金属酸化物膜を成膜して形成され得る。成膜後、必要に応じて加熱処理（例えば、１００℃～２００℃）を行ってもよい。加熱処理を行うことにより、非晶質膜が結晶化し得る。金属酸化物としては、例えば、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、インジウム－スズ複合酸化物、スズ－アンチモン複合酸化物、亜鉛－アルミニウム複合酸化物、インジウム－亜鉛複合酸化物が挙げられる。インジウム酸化物には２価金属イオンまたは４価金属イオンがドープされていてもよい。好ましくはインジウム系複合酸化物であり、より好ましくはインジウム－スズ複合酸化物（ＩＴＯ）である。インジウム系複合酸化物は、可視光領域（３８０ｎｍ～７８０ｎｍ）で高い透過率（例えば、８０％以上）を有し、かつ、単位面積当たりの表面抵抗値が低いという特徴を有している。
【0042】
導電層が金属酸化物を含む場合、該導電層の厚みは、好ましくは５０ｎｍ以下であり、より好ましくは３５ｎｍ以下である。導電層の厚みの下限は、好ましくは１０ｎｍである。
【0043】
導電層の表面抵抗値は、好ましくは３００Ω／□以下であり、より好ましくは１５０Ω／□以下であり、さらに好ましくは１００Ω／□以下である。
【0044】
導電層は、上記基材から光学補償層に転写されて導電層単独で光学補償層付偏光板の構成層とされてもよく、基材との積層体（基材付導電層）として光学補償層に積層されてもよい。代表的には、上記のとおり、導電層および基材は、基材付導電層として光学補償層付偏光板に導入され得る。
【0045】
基材を構成する材料としては、任意の適切な樹脂が挙げられる。好ましくは、透明性に優れた樹脂である。具体例としては、環状オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、セルロース系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂が挙げられる。
【0046】
好ましくは、上記基材は光学的に等方性であり、したがって、導電層は等方性基材付導電層として光学補償層付偏光板に用いられ得る。光学的に等方性の基材（等方性基材）を構成する材料としては、例えば、ノルボルネン系樹脂やオレフィン系樹脂などの共役系を有さない樹脂を主骨格としている材料、ラクトン環やグルタルイミド環などの環状構造をアクリル系樹脂の主鎖中に有する材料などが挙げられる。このような材料を用いると、等方性基材を形成した際に、分子鎖の配向に伴う位相差の発現を小さく抑えることができる。
【0047】
基材の厚みは、好ましくは１０μｍ～２００μｍであり、より好ましくは２０μｍ～６０μｍである。
【0048】
Ｂ－４．その他
本発明の光学補償層付偏光板を構成する各層の積層には、任意の適切な粘着剤層または接着剤層が用いられる。粘着剤層は、代表的にはアクリル系粘着剤で形成される。接着剤層は、代表的にはポリビニルアルコール系接着剤で形成される。
本発明の光学補償層付偏光板を構成する各層の積層には、任意の適切な粘着剤層または接着剤層が用いられる。粘着剤層は、代表的にはアクリル系粘着剤で形成される。接着剤層は、代表的にはポリビニルアルコール系接着剤で形成される。
【0049】
図示しないが、光学補償層付偏光板１００の光学補償層１０Ａ側には、粘着剤層が設けられていてもよい。粘着剤層が予め設けられていることにより、他の光学部材（例えば、有機ＥＬセル）へ容易に貼り合わせることができる。なお、この粘着剤層の表面には、使用に供されるまで、剥離フィルムが貼り合わされていることが好ましい。
【0050】
Ｃ．画像表示装置
本発明の画像表示装置は、表示セルと、該表示セルの視認側に上記Ｂ項に記載の光学補償層付偏光板と、を備える。光学補償層付偏光板は、光学補償層が表示セル側となるように（偏光子が視認側となるように）積層されている。導電層を有する光学補償層付偏光板を備える画像表示装置は、導電層がタッチパネルセンサーとして機能することにより、表示セル（例えば、液晶セル、有機ＥＬセル）と偏光子との間にタッチセンサーが組み込まれた、いわゆるインナータッチパネル付き画像表示装置を構成し得る。
本発明の画像表示装置は、表示セルと、該表示セルの視認側に上記Ｂ項に記載の光学補償層付偏光板と、を備える。光学補償層付偏光板は、光学補償層が表示セル側となるように（偏光子が視認側となるように）積層されている。導電層を有する光学補償層付偏光板を備える画像表示装置は、導電層がタッチパネルセンサーとして機能することにより、表示セル（例えば、液晶セル、有機ＥＬセル）と偏光子との間にタッチセンサーが組み込まれた、いわゆるインナータッチパネル付き画像表示装置を構成し得る。
【実施例】
【0051】
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。各特性の測定方法は以下の通りである。なお、特に明記しない限り、実施例および比較例における「部」および「％」は重量基準である。
（１）厚み
ダイヤルゲージ（ＰＥＡＣＯＣＫ社製、製品名「ＤＧ－２０５ ｔｙｐｅ ｐｄｓ－２」）を用いて測定した。
（２）位相差
各位相差板から５０ｍｍ×５０ｍｍのサンプルを切り出して測定サンプルとし、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製のＡｘｏｓｃａｎを用いて測定した。測定波長は４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍ、測定温度は２３℃であった。
また、アタゴ社製のアッベ屈折率計を用いて平均屈折率を測定し、得られた位相差値から屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ、およびＮｚ係数を算出した。
（１）厚み
ダイヤルゲージ（ＰＥＡＣＯＣＫ社製、製品名「ＤＧ－２０５ ｔｙｐｅ ｐｄｓ－２」）を用いて測定した。
（２）位相差
各位相差板から５０ｍｍ×５０ｍｍのサンプルを切り出して測定サンプルとし、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製のＡｘｏｓｃａｎを用いて測定した。測定波長は４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍ、測定温度は２３℃であった。
また、アタゴ社製のアッベ屈折率計を用いて平均屈折率を測定し、得られた位相差値から屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ、およびＮｚ係数を算出した。
【0052】
［実施例１］
１．ポリカーボネート樹脂の作製
撹拌翼および１００℃に制御された還流冷却器を具備した縦型反応器２器からなるバッチ重合装置を用いて重合を行った。ビス［９－（２－フェノキシカルボニルエチル）フルオレン－９－イル］メタン（化合物３）２９．６０質量部（０．０４６ｍｏｌ）、ＩＳＢ ２９．２１質量部（０．２００ｍｏｌ）、ＳＰＧ ４２．２８質量部（０．１３９ｍｏｌ）、ＤＰＣ ６３．７７質量部（０．２９８ｍｏｌ）、酢酸カルシウム１水和物１．１９×１０－２質量部（６．７８×１０－５ｍｏｌ）を仕込んだ。反応器内を減圧窒素置換した後、熱媒で加温を行い、内温が１００℃になった時点で撹拌を開始した。昇温開始４０分後に内温を２２０℃に到達させ、この温度を保持するように制御すると同時に減圧を開始し、２２０℃に到達してから９０分で１３．３ｋＰａにした。重合反応とともに副生するフェノール蒸気を１００℃の還流冷却器に導き、フェノール蒸気中に若干量含まれるモノマー成分を反応器に戻し、凝縮しないフェノール蒸気は４５℃の凝縮器に導いて回収した。第１反応器に窒素を導入して一旦大気圧まで復圧させた後、第１反応器内のオリゴマー化された反応液を第２反応器に移した。次いで、第２反応器内の昇温および減圧を開始して、５０分で内温２４０℃、圧力０．２ｋＰａにした。その後、所定の攪拌動力となるまで重合を進行させた。所定動力に到達した時点で反応器に窒素を導入して復圧し、生成したポリエステルカーボネートを水中に押し出し、ストランドをカッティングしてペレットを得た。
得られたポリカーボネート樹脂のガラス転移温度は１３０℃であった。
２．位相差板の作製
（１）第１の位相差層として用いる位相差フィルムの作製
得られたポリカーボネート樹脂を単軸押出機（いすず化工機社製、スクリュー径２５ｍｍ、シリンダー設定温度：２２０℃）、Ｔダイ（幅３００ｍｍ、設定温度：２２０℃）、チルロール（設定温度：１２０～１３０℃）および巻取機を備えたフィルム製膜装置を用いて、長さ３ｍ、幅３００ｍｍ、厚み１２０μｍのポリカーボネート樹脂フィルムを作製した。得られたポリカーボネートフィルムを、長さ１５０ｍｍ、幅１２０ｍｍに切り出し、ラボストレッチャーＫＡＲＯ ＩＶ（Ｂｒｕｃｋｎｅｒ社製）を用いて、温度１３４℃、倍率２.８倍で固定端一軸延伸を行い、位相差フィルム（厚み：４７μｍ）を得た。
得られた位相差フィルムは、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの屈折率特性を示し、Ｒｅ（４５０）は１１９ｎｍ、Ｒｅ（５５０）は１３９ｎｍ、Ｒｅ（６５０）は１４７ｎｍであり、Ｎｚ（４５０）は１．０８、Ｎｚ（５５０）は１．１３、Ｎｚ（６５０）は１．１５であった。
また、得られた位相差フィルムのＲｅ（４５０）/Ｒｅ（５５０）は０．８６、Ｒｅ（６５０）/Ｒｅ（５５０）は１．０６であった。
（２）第２の位相差層として用いる液晶固化層の作製
特許５４０１０３２号公報の実施例２に従って液晶塗工液を調製し、基材上に液晶固化層（厚み：０．９μｍ）を形成した。
得られた液晶固化層のＲｅ（５５０）は０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は－４５ｎｍであり、ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの屈折率特性を示した。また液晶固化層のＲｔｈ（４５０）/Ｒｔｈ（５５０）は０．７９、Ｒｔｈ（６５０）/Ｒｔｈ（５５０）は１．０７であった。
（３）位相差板の作製
上記位相差フィルムに、アクリル系粘着剤を介して上記液晶固化層を貼り合わせた後、上記基材フィルムを除去して、位相差フィルムに液晶固化層が転写されてなる位相差板（厚み：４８μｍ）を得た。
得られた位相差板のＲｅ（４５０）は１２０ｎｍ、Ｒｅ（５５０）は１４１ｎｍ、Ｒｅ（６５０）は１５０ｎｍであり、Ｎｚ（４５０）は０．７６、Ｎｚ（５５０）は０．７９、Ｎｚ（６５０）は０．８１であった。
３．導電層の作製
上記位相差板の液晶固化層側の表面に、インジウム－スズ複合酸化物からなる透明導電層（厚み２０ｎｍ）をスパッタリングにより形成し、位相差フィルム／液晶固化層／導電層の積層体を作製した。具体的な手順は以下のとおりである：ＡｒおよびＯ２（流量比はＡｒ：Ｏ２＝９９．９：０．１）を導入した真空雰囲気下（０．４０Ｐａ）で、１０重量％の酸化スズと９０重量％の酸化インジウムとの焼結体をターゲットとして用いて、フィルム温度を１３０℃とし、水平磁場を１００ｍＴとするＲＦ重畳ＤＣマグネトロンスパッタリング法（放電電圧１５０Ｖ、ＲＦ周波数１３．５６ＭＨｚ、ＤＣ電力に対するＲＦ電力の比（ＲＦ電力／ＤＣ電力）は０．８）を用いた。得られた透明導電層を１５０℃温風オーブンにて加熱して結晶転化処理を行った。
４．偏光子の作製
厚み３０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系樹脂フィルム（クラレ製、製品名「ＰＥ３０００」）の長尺ロールを、ロール延伸機により長手方向に５．９倍になるように長手方向に一軸延伸しながら同時に膨潤、染色、架橋、洗浄処理を施し、最後に乾燥処理を施すことにより厚み１２μｍの偏光子を作製した。
具体的には、膨潤処理は２０℃の純水で処理しながら２．２倍に延伸した。次いで、染色処理は得られる偏光子の単体透過率が４５．０％になるようにヨウ素濃度が調整されたヨウ素とヨウ化カリウムの重量比が１：７である３０℃の水溶液中において処理しながら１．４倍に延伸した。更に、架橋処理は、２段階の架橋処理を採用し、１段階目の架橋処理は４０℃のホウ酸とヨウ化カリウムを溶解した水溶液において処理しながら１．２倍に延伸した。１段階目の架橋処理の水溶液のホウ酸含有量は５．０重量％で、ヨウ化カリウム含有量は３．０重量％とした。２段階目の架橋処理は６５℃のホウ酸とヨウ化カリウムを溶解した水溶液において処理しながら１．６倍に延伸した。２段階目の架橋処理の水溶液のホウ酸含有量は４．３重量％で、ヨウ化カリウム含有量は５．０重量％とした。また、洗浄処理は、２０℃のヨウ化カリウム水溶液で処理した。洗浄処理の水溶液のヨウ化カリウム含有量は２．６重量％とした。最後に、乾燥処理は７０℃で５分間乾燥させて偏光子を得た。
５．光学補償層付偏光板の作製
上記偏光子の片側に、ポリビニルアルコール系接着剤を介してトリアセチルセルロースフィルム（厚み４０μｍ、コニカミノルタ社製、商品名「ＫＣ４ＵＹＷ」）を貼り合わせた。偏光子のもう片側に、ポリビニルアルコール系接着剤を介して上記位相差板の位相差フィルム側を貼り合わせた。ここで、位相差フィルムの遅相軸が偏光子の吸収軸に対して反時計回りに４５°となるように貼り合わせた。
このようにして、保護層／偏光子／位相差フィルム／液晶固化層／導電層の積層構造を有する光学補償層付偏光板を得た。
６．画像表示装置代替品の作製
有機ＥＬ表示装置の代替品を以下のようにして作製した。ガラス板に、アルミ蒸着フィルム（東レフィルム加工社製、商品名「ＤＭＳ蒸着Ｘ－４２」、厚み５０μｍ）を粘着剤で貼り合せ、有機ＥＬ表示装置の代替品とした。得られた光学補償層付偏光板の導電層側にアクリル系粘着剤で粘着剤層を形成し、寸法５０ｍｍ×５０ｍｍに切り出し、有機ＥＬ表示装置代替品に実装した。
１．ポリカーボネート樹脂の作製
撹拌翼および１００℃に制御された還流冷却器を具備した縦型反応器２器からなるバッチ重合装置を用いて重合を行った。ビス［９－（２－フェノキシカルボニルエチル）フルオレン－９－イル］メタン（化合物３）２９．６０質量部（０．０４６ｍｏｌ）、ＩＳＢ ２９．２１質量部（０．２００ｍｏｌ）、ＳＰＧ ４２．２８質量部（０．１３９ｍｏｌ）、ＤＰＣ ６３．７７質量部（０．２９８ｍｏｌ）、酢酸カルシウム１水和物１．１９×１０－２質量部（６．７８×１０－５ｍｏｌ）を仕込んだ。反応器内を減圧窒素置換した後、熱媒で加温を行い、内温が１００℃になった時点で撹拌を開始した。昇温開始４０分後に内温を２２０℃に到達させ、この温度を保持するように制御すると同時に減圧を開始し、２２０℃に到達してから９０分で１３．３ｋＰａにした。重合反応とともに副生するフェノール蒸気を１００℃の還流冷却器に導き、フェノール蒸気中に若干量含まれるモノマー成分を反応器に戻し、凝縮しないフェノール蒸気は４５℃の凝縮器に導いて回収した。第１反応器に窒素を導入して一旦大気圧まで復圧させた後、第１反応器内のオリゴマー化された反応液を第２反応器に移した。次いで、第２反応器内の昇温および減圧を開始して、５０分で内温２４０℃、圧力０．２ｋＰａにした。その後、所定の攪拌動力となるまで重合を進行させた。所定動力に到達した時点で反応器に窒素を導入して復圧し、生成したポリエステルカーボネートを水中に押し出し、ストランドをカッティングしてペレットを得た。
得られたポリカーボネート樹脂のガラス転移温度は１３０℃であった。
２．位相差板の作製
（１）第１の位相差層として用いる位相差フィルムの作製
得られたポリカーボネート樹脂を単軸押出機（いすず化工機社製、スクリュー径２５ｍｍ、シリンダー設定温度：２２０℃）、Ｔダイ（幅３００ｍｍ、設定温度：２２０℃）、チルロール（設定温度：１２０～１３０℃）および巻取機を備えたフィルム製膜装置を用いて、長さ３ｍ、幅３００ｍｍ、厚み１２０μｍのポリカーボネート樹脂フィルムを作製した。得られたポリカーボネートフィルムを、長さ１５０ｍｍ、幅１２０ｍｍに切り出し、ラボストレッチャーＫＡＲＯ ＩＶ（Ｂｒｕｃｋｎｅｒ社製）を用いて、温度１３４℃、倍率２.８倍で固定端一軸延伸を行い、位相差フィルム（厚み：４７μｍ）を得た。
得られた位相差フィルムは、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの屈折率特性を示し、Ｒｅ（４５０）は１１９ｎｍ、Ｒｅ（５５０）は１３９ｎｍ、Ｒｅ（６５０）は１４７ｎｍであり、Ｎｚ（４５０）は１．０８、Ｎｚ（５５０）は１．１３、Ｎｚ（６５０）は１．１５であった。
また、得られた位相差フィルムのＲｅ（４５０）/Ｒｅ（５５０）は０．８６、Ｒｅ（６５０）/Ｒｅ（５５０）は１．０６であった。
（２）第２の位相差層として用いる液晶固化層の作製
特許５４０１０３２号公報の実施例２に従って液晶塗工液を調製し、基材上に液晶固化層（厚み：０．９μｍ）を形成した。
得られた液晶固化層のＲｅ（５５０）は０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は－４５ｎｍであり、ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの屈折率特性を示した。また液晶固化層のＲｔｈ（４５０）/Ｒｔｈ（５５０）は０．７９、Ｒｔｈ（６５０）/Ｒｔｈ（５５０）は１．０７であった。
（３）位相差板の作製
上記位相差フィルムに、アクリル系粘着剤を介して上記液晶固化層を貼り合わせた後、上記基材フィルムを除去して、位相差フィルムに液晶固化層が転写されてなる位相差板（厚み：４８μｍ）を得た。
得られた位相差板のＲｅ（４５０）は１２０ｎｍ、Ｒｅ（５５０）は１４１ｎｍ、Ｒｅ（６５０）は１５０ｎｍであり、Ｎｚ（４５０）は０．７６、Ｎｚ（５５０）は０．７９、Ｎｚ（６５０）は０．８１であった。
３．導電層の作製
上記位相差板の液晶固化層側の表面に、インジウム－スズ複合酸化物からなる透明導電層（厚み２０ｎｍ）をスパッタリングにより形成し、位相差フィルム／液晶固化層／導電層の積層体を作製した。具体的な手順は以下のとおりである：ＡｒおよびＯ２（流量比はＡｒ：Ｏ２＝９９．９：０．１）を導入した真空雰囲気下（０．４０Ｐａ）で、１０重量％の酸化スズと９０重量％の酸化インジウムとの焼結体をターゲットとして用いて、フィルム温度を１３０℃とし、水平磁場を１００ｍＴとするＲＦ重畳ＤＣマグネトロンスパッタリング法（放電電圧１５０Ｖ、ＲＦ周波数１３．５６ＭＨｚ、ＤＣ電力に対するＲＦ電力の比（ＲＦ電力／ＤＣ電力）は０．８）を用いた。得られた透明導電層を１５０℃温風オーブンにて加熱して結晶転化処理を行った。
４．偏光子の作製
厚み３０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系樹脂フィルム（クラレ製、製品名「ＰＥ３０００」）の長尺ロールを、ロール延伸機により長手方向に５．９倍になるように長手方向に一軸延伸しながら同時に膨潤、染色、架橋、洗浄処理を施し、最後に乾燥処理を施すことにより厚み１２μｍの偏光子を作製した。
具体的には、膨潤処理は２０℃の純水で処理しながら２．２倍に延伸した。次いで、染色処理は得られる偏光子の単体透過率が４５．０％になるようにヨウ素濃度が調整されたヨウ素とヨウ化カリウムの重量比が１：７である３０℃の水溶液中において処理しながら１．４倍に延伸した。更に、架橋処理は、２段階の架橋処理を採用し、１段階目の架橋処理は４０℃のホウ酸とヨウ化カリウムを溶解した水溶液において処理しながら１．２倍に延伸した。１段階目の架橋処理の水溶液のホウ酸含有量は５．０重量％で、ヨウ化カリウム含有量は３．０重量％とした。２段階目の架橋処理は６５℃のホウ酸とヨウ化カリウムを溶解した水溶液において処理しながら１．６倍に延伸した。２段階目の架橋処理の水溶液のホウ酸含有量は４．３重量％で、ヨウ化カリウム含有量は５．０重量％とした。また、洗浄処理は、２０℃のヨウ化カリウム水溶液で処理した。洗浄処理の水溶液のヨウ化カリウム含有量は２．６重量％とした。最後に、乾燥処理は７０℃で５分間乾燥させて偏光子を得た。
５．光学補償層付偏光板の作製
上記偏光子の片側に、ポリビニルアルコール系接着剤を介してトリアセチルセルロースフィルム（厚み４０μｍ、コニカミノルタ社製、商品名「ＫＣ４ＵＹＷ」）を貼り合わせた。偏光子のもう片側に、ポリビニルアルコール系接着剤を介して上記位相差板の位相差フィルム側を貼り合わせた。ここで、位相差フィルムの遅相軸が偏光子の吸収軸に対して反時計回りに４５°となるように貼り合わせた。
このようにして、保護層／偏光子／位相差フィルム／液晶固化層／導電層の積層構造を有する光学補償層付偏光板を得た。
６．画像表示装置代替品の作製
有機ＥＬ表示装置の代替品を以下のようにして作製した。ガラス板に、アルミ蒸着フィルム（東レフィルム加工社製、商品名「ＤＭＳ蒸着Ｘ－４２」、厚み５０μｍ）を粘着剤で貼り合せ、有機ＥＬ表示装置の代替品とした。得られた光学補償層付偏光板の導電層側にアクリル系粘着剤で粘着剤層を形成し、寸法５０ｍｍ×５０ｍｍに切り出し、有機ＥＬ表示装置代替品に実装した。
【0053】
［実施例２］
位相差板の作製工程において、液晶固化層の厚みを１．１μｍとすることにより形成した液晶固化層を用いたこと以外は実施例１と同様にして位相差板を得た。
上記液晶固化層のＲｅ（５５０）は０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は－５５ｎｍであり、Ｒｔｈ（４５０）/Ｒｔｈ（５５０）は０．８０、Ｒｔｈ（６５０）/Ｒｔｈ（５５０）は１．０３であった。
得られた位相差板のＲｅ（４５０）は１２０ｎｍ、Ｒｅ（５５０）は１４１ｎｍ、Ｒｅ（６５０）は１５０ｎｍであり、Ｎｚ（４５０）は０．７１、Ｎｚ（５５０）は０．７４、Ｎｚ（６５０）は０．７６であった。
上記位相差板を用いたこと以外は実施例１と同様にして光学補償層付偏光板および有機ＥＬ表示装置代替品を得た。
位相差板の作製工程において、液晶固化層の厚みを１．１μｍとすることにより形成した液晶固化層を用いたこと以外は実施例１と同様にして位相差板を得た。
上記液晶固化層のＲｅ（５５０）は０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は－５５ｎｍであり、Ｒｔｈ（４５０）/Ｒｔｈ（５５０）は０．８０、Ｒｔｈ（６５０）/Ｒｔｈ（５５０）は１．０３であった。
得られた位相差板のＲｅ（４５０）は１２０ｎｍ、Ｒｅ（５５０）は１４１ｎｍ、Ｒｅ（６５０）は１５０ｎｍであり、Ｎｚ（４５０）は０．７１、Ｎｚ（５５０）は０．７４、Ｎｚ（６５０）は０．７６であった。
上記位相差板を用いたこと以外は実施例１と同様にして光学補償層付偏光板および有機ＥＬ表示装置代替品を得た。
【0054】
［実施例３］
位相差板の作製工程において、液晶固化層の厚みを１．３μｍとすることにより形成した液晶固化層を用いたこと以外は実施例１と同様にして位相差板を得た。
上記液晶固化層のＲｅ（５５０）は０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は－６５ｎｍであり、Ｒｔｈ（４５０）/Ｒｔｈ（５５０）は０．８０、Ｒｔｈ（６５０）/Ｒｔｈ（５５０）は１．０３であった。
得られた位相差板のＲｅ（４５０）は１２０ｎｍ、Ｒｅ（５５０）は１４１ｎｍ、Ｒｅ（６５０）は１５０ｎｍであり、Ｎｚ（４５０）は０．６６、Ｎｚ（５５０）は０．６７、Ｎｚ（６５０）は０．７０であった。
上記位相差板を用いたこと以外は実施例１と同様にして光学補償層付偏光板および有機ＥＬ表示装置代替品を得た。
位相差板の作製工程において、液晶固化層の厚みを１．３μｍとすることにより形成した液晶固化層を用いたこと以外は実施例１と同様にして位相差板を得た。
上記液晶固化層のＲｅ（５５０）は０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は－６５ｎｍであり、Ｒｔｈ（４５０）/Ｒｔｈ（５５０）は０．８０、Ｒｔｈ（６５０）/Ｒｔｈ（５５０）は１．０３であった。
得られた位相差板のＲｅ（４５０）は１２０ｎｍ、Ｒｅ（５５０）は１４１ｎｍ、Ｒｅ（６５０）は１５０ｎｍであり、Ｎｚ（４５０）は０．６６、Ｎｚ（５５０）は０．６７、Ｎｚ（６５０）は０．７０であった。
上記位相差板を用いたこと以外は実施例１と同様にして光学補償層付偏光板および有機ＥＬ表示装置代替品を得た。
【0055】
［実施例４］
位相差板の作製工程において、液晶固化層の厚みを１．７μｍとすることにより形成した液晶固化層を用いたこと以外は実施例１と同様にして位相差板を得た。
上記液晶固化層のＲｅ（５５０）は０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は-８０ｎｍであり、Ｒｔｈ（４５０）/Ｒｔｈ（５５０）は０．８０、Ｒｔｈ（６５０）/Ｒｔｈ（５５０）は１．０３であった。
得られた位相差板のＲｅ（４５０）は１２１ｎｍ、Ｒｅ（５５０）は１４２ｍ、Ｒｅ（６５０）は１５０ｎｍであり、Ｎｚ（４５０）は０．５９、Ｎｚ（５５０）は０．６０、Ｎｚ（６５０）は０．６２であった。
上記位相差板を用いたこと以外は実施例１と同様にして光学補償層付偏光板および有機ＥＬ表示装置代替品を得た。
位相差板の作製工程において、液晶固化層の厚みを１．７μｍとすることにより形成した液晶固化層を用いたこと以外は実施例１と同様にして位相差板を得た。
上記液晶固化層のＲｅ（５５０）は０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は-８０ｎｍであり、Ｒｔｈ（４５０）/Ｒｔｈ（５５０）は０．８０、Ｒｔｈ（６５０）/Ｒｔｈ（５５０）は１．０３であった。
得られた位相差板のＲｅ（４５０）は１２１ｎｍ、Ｒｅ（５５０）は１４２ｍ、Ｒｅ（６５０）は１５０ｎｍであり、Ｎｚ（４５０）は０．５９、Ｎｚ（５５０）は０．６０、Ｎｚ（６５０）は０．６２であった。
上記位相差板を用いたこと以外は実施例１と同様にして光学補償層付偏光板および有機ＥＬ表示装置代替品を得た。
【0056】
［実施例５］
位相差板の作製工程において、液晶固化層の厚みを１．９μｍとすることにより形成した液晶固化層を用いたこと以外は実施例１と同様にして位相差板を得た。
上記液晶固化層のＲｅ（５５０）は０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は－９０ｎｍであり、Ｒｔｈ（４５０）/Ｒｔｈ（５５０）は０．８０、Ｒｔｈ（６５０）/Ｒｔｈ（５５０）は１．０３であった。
得られた位相差板のＲｅ（４５０）は１２０ｎｍ、Ｒｅ（５５０）は１４１ｍ、Ｒｅ（６５０）は１４９ｎｍであり、Ｎｚ（４５０）は０．４７、Ｎｚ（５５０）は０．４８、Ｎｚ（６５０）は０．５０であった。
上記位相差板を用いたこと以外は実施例１と同様にして光学補償層付偏光板および有機ＥＬ表示装置代替品を得た。
位相差板の作製工程において、液晶固化層の厚みを１．９μｍとすることにより形成した液晶固化層を用いたこと以外は実施例１と同様にして位相差板を得た。
上記液晶固化層のＲｅ（５５０）は０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は－９０ｎｍであり、Ｒｔｈ（４５０）/Ｒｔｈ（５５０）は０．８０、Ｒｔｈ（６５０）/Ｒｔｈ（５５０）は１．０３であった。
得られた位相差板のＲｅ（４５０）は１２０ｎｍ、Ｒｅ（５５０）は１４１ｍ、Ｒｅ（６５０）は１４９ｎｍであり、Ｎｚ（４５０）は０．４７、Ｎｚ（５５０）は０．４８、Ｎｚ（６５０）は０．５０であった。
上記位相差板を用いたこと以外は実施例１と同様にして光学補償層付偏光板および有機ＥＬ表示装置代替品を得た。
【0057】
［比較例１］
下記化学式（Ｉ）（式中の数字６５および３５はモノマーユニットのモル％を示し、便宜的にブロックポリマー体で表している：重量平均分子量５０００）で示される側鎖型液晶ポリマー２０重量部、ネマチック液晶相を示す重合性液晶（ＢＡＳＦ社製：商品名ＰａｌｉｏｃｏｌｏｒＬＣ２４２）８０重量部および光重合開始剤（チバスペシャリティーケミカルズ社製：商品名イルガキュア９０７）５重量部をシクロペンタノン２００重量部に溶解して液晶塗工液を調製した。そして、基材フィルム（ノルボルネン系樹脂フィルム：日本ゼオン（株）製、商品名「ゼオネックス」）に当該塗工液をバーコーターにより塗工した後、８０℃で４分間加熱乾燥することによって液晶を配向させた。この液晶層に紫外線を照射し、液晶層を硬化させることにより、基材上に第２の位相差層となる液晶固化層（厚み：１μｍ）を形成した。この層のＲｅ（５５０）は０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は－１００ｎｍであり（ｎｘ：１．５３２６、ｎｙ：１．５３２６、ｎｚ：１．６５５０）、ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの屈折率特性を示した。
上記液晶固化層を用いたこと以外は実施例１と同様にして位相差板を得た。
得られた位相差板のＲｅ（４５０）は１１９ｎｍ、Ｒｅ（５５０）は１３９ｎｍ、Ｒｅ（６５０）は１４７ｎｍであり、Ｎｚ（４５０）は０．３１、Ｎｚ（５５０）は０．５２、Ｎｚ（６５０）は０．６０であった。
上記位相差板を用いたこと以外は実施例１と同様にして光学補償層付偏光板および有機ＥＬ表示装置代替品を得た。
下記化学式（Ｉ）（式中の数字６５および３５はモノマーユニットのモル％を示し、便宜的にブロックポリマー体で表している：重量平均分子量５０００）で示される側鎖型液晶ポリマー２０重量部、ネマチック液晶相を示す重合性液晶（ＢＡＳＦ社製：商品名ＰａｌｉｏｃｏｌｏｒＬＣ２４２）８０重量部および光重合開始剤（チバスペシャリティーケミカルズ社製：商品名イルガキュア９０７）５重量部をシクロペンタノン２００重量部に溶解して液晶塗工液を調製した。そして、基材フィルム（ノルボルネン系樹脂フィルム：日本ゼオン（株）製、商品名「ゼオネックス」）に当該塗工液をバーコーターにより塗工した後、８０℃で４分間加熱乾燥することによって液晶を配向させた。この液晶層に紫外線を照射し、液晶層を硬化させることにより、基材上に第２の位相差層となる液晶固化層（厚み：１μｍ）を形成した。この層のＲｅ（５５０）は０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は－１００ｎｍであり（ｎｘ：１．５３２６、ｎｙ：１．５３２６、ｎｚ：１．６５５０）、ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの屈折率特性を示した。
【化1】
得られた位相差板のＲｅ（４５０）は１１９ｎｍ、Ｒｅ（５５０）は１３９ｎｍ、Ｒｅ（６５０）は１４７ｎｍであり、Ｎｚ（４５０）は０．３１、Ｎｚ（５５０）は０．５２、Ｎｚ（６５０）は０．６０であった。
上記位相差板を用いたこと以外は実施例１と同様にして光学補償層付偏光板および有機ＥＬ表示装置代替品を得た。
【0058】
［比較例２］
実施例１と同様にして作製した位相差フィルムを位相差板として用いたこと以外は実施例１と同様にして光学補償層付偏光板および有機ＥＬ表示装置代替品を得た。
実施例１と同様にして作製した位相差フィルムを位相差板として用いたこと以外は実施例１と同様にして光学補償層付偏光板および有機ＥＬ表示装置代替品を得た。
【0059】
＜評価＞
実施例および比較例の有機ＥＬ表示装置代替品について、下記の評価を行った。評価結果を表１に示す。
（１）反射率及び反射色相
有機ＥＬ表示装置代替品を試料とし、コニカミノルタ（株）製分光測色計ＣＭ－２６００ｄを用いて正面反射率と正面反射色相とを測定した。正面反射率はＳＣＩ方式で測定。正面反射色相は、ａ＊ｂ＊色度図上における無彩色からの距離Δａ＊ｂ＊を評価した。
（２）斜め方向の反射率及び反射色相
有機ＥＬ表示装置代替品を試料とし、コニカミノルタ（株）製ＤＭＳ ５０５を用いて斜め方向の反射率と反射色相を測定した。斜め方向の反射率は極角６０°、方位角０°、４５°、９０°および１３５°の４点の視感反射率Ｙの平均値を評価した。斜め方向の反射色相は、ａ＊ｂ＊色度図上における、進相軸を基準に６０°傾けて測定したときの斜め方向の反射色相と遅相軸を基準に６０°傾けて測定したときの反射色相の２点間距離Δａ＊ｂ＊を評価した。
実施例および比較例の有機ＥＬ表示装置代替品について、下記の評価を行った。評価結果を表１に示す。
（１）反射率及び反射色相
有機ＥＬ表示装置代替品を試料とし、コニカミノルタ（株）製分光測色計ＣＭ－２６００ｄを用いて正面反射率と正面反射色相とを測定した。正面反射率はＳＣＩ方式で測定。正面反射色相は、ａ＊ｂ＊色度図上における無彩色からの距離Δａ＊ｂ＊を評価した。
（２）斜め方向の反射率及び反射色相
有機ＥＬ表示装置代替品を試料とし、コニカミノルタ（株）製ＤＭＳ ５０５を用いて斜め方向の反射率と反射色相を測定した。斜め方向の反射率は極角６０°、方位角０°、４５°、９０°および１３５°の４点の視感反射率Ｙの平均値を評価した。斜め方向の反射色相は、ａ＊ｂ＊色度図上における、進相軸を基準に６０°傾けて測定したときの斜め方向の反射色相と遅相軸を基準に６０°傾けて測定したときの反射色相の２点間距離Δａ＊ｂ＊を評価した。
【0060】
【表1】
【0061】
実施例の有機ＥＬ表示装置代替品は、比較例の有機ＥＬ表示装置代替品よりも、斜め反射強度および反射色相が低く、良好であった。
【産業上の利用可能性】
【0062】
本発明の位相差板を有する光学補償層付偏光板は、有機ＥＬパネルなどの画像表示装置に好適に用いられる。
【符号の説明】
【0063】
１０ 位相差板
１１ 第１の位相差層
１２ 第２の位相差層
２０ 偏光子
３０ 保護層
１００ 光学補償層付偏光板
１１ 第１の位相差層
１２ 第２の位相差層
２０ 偏光子
３０ 保護層
１００ 光学補償層付偏光板
【図1】
【図2】