特許 7092675 マスクプレート及びその準備方法と使用方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2022-06-20

(45)【発行日】2022-06-28

(54)【発明の名称】マスクプレート及びその準備方法と使用方法

(51)【国際特許分類】

   C23C 14/04 20060101AFI20220621BHJP

【ＦＩ】

C23C14/04

【請求項の数】 8

(21)【出願番号】P 2018538726

(86)(22)【出願日】2017-12-18

(65)【公表番号】

(43)【公表日】2020-07-27

(86)【国際出願番号】 CN2017116953

(87)【国際公開番号】W WO2018218935

(87)【国際公開日】2018-12-06

【審査請求日】2020-11-13

(31)【優先権主張番号】201710407553.2

(32)【優先日】2017-06-02

(33)【優先権主張国・地域又は機関】CN

(73)【特許権者】

【識別番号】510280589

【氏名又は名称】京東方科技集團股▲ふん▼有限公司

【氏名又は名称原語表記】ＢＯＥ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ ＧＲＯＵＰ ＣＯ．，ＬＴＤ．

【住所又は居所原語表記】Ｎｏ．１０ Ｊｉｕｘｉａｎｑｉａｏ Ｒｄ．，Ｃｈａｏｙａｎｇ Ｄｉｓｔｒｉｃｔ，Ｂｅｉｊｉｎｇ １０００１５，ＣＨＩＮＡ

(73)【特許権者】

【識別番号】514161567

【氏名又は名称】鄂尓多斯市源盛光▲電▼有限▲責▼任公司

【氏名又は名称原語表記】ＯＲＤＯＳ ＹＵＡＮＳＨＥＮＧ ＯＰＴＯＥＬＥＣＴＲＯＮＩＣＳ ＣＯ．，ＬＴＤ．

【住所又は居所原語表記】Ｏｒｄｏｓ Ｅｑｕｉｐｍｅｎｔ Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ Ｂａｓｅ，Ｄｏｎｇｓｈｅｎｇ Ｄｉｓｔｒｉｃｔ，Ｏｒｄｏｓ，Ｉｎｎｅｒ Ｍｏｎｇｏｌｉａ，０１７０２０，Ｐ．Ｒ．ＣＨＩＮＡ

(74)【代理人】

【識別番号】100108453

【弁理士】

【氏名又は名称】村山 靖彦

(74)【代理人】

【識別番号】100110364

【弁理士】

【氏名又は名称】実広 信哉

(72)【発明者】

【氏名】▲楊▼ 成▲発▼

(72)【発明者】

【氏名】林 治明

【審査官】宮崎 園子

(56)【参考文献】

【文献】中国実用新案第２０４５０９４４６（ＣＮ，Ｕ）

【文献】特開２００５－３３９８５８（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００６－０３７２０３（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００５－３３９８６１（ＪＰ，Ａ）

【文献】国際公開第２００７／０７３０７２（ＷＯ，Ａ１）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｃ２３Ｃ １４／０４

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

サポータと、前記サポータに取り付けられたマスクストライプとを含み、前記マスクストライプは、前記サポータに接続された少なくとも２つの接続部、及び前記接続部の間に配置されたパターン部を含み、前記パターン部は、第１外面を含み、前記接続部は、第２外面を含むマスクプレートであって、
前記第１外面と前記第２外面とは、異なる平面に配置され、
前記サポータは、本体と、前記本体の対向する両側に設置された２つの側部とを含み、前記本体は、第１主面を含み、前記２つの側部のそれぞれは、第３外面を含み、前記第１主面は、前記第３外面に連続しており、
前記第２外面と前記第１外面とのなす角度は、１８０度より大きく２７０度より小さくなり、前記側部の前記第３外面は、２段の階段状とされるとともに、順次接続された第１サブ面、第２サブ面、第３サブ面及び第４サブ面を含み、前記第１サブ面は、前記本体の前記第１主面に接続され、前記第１サブ面と前記本体の前記第１主面とは、互いに交差して第１境界線を形成し、前記第３サブ面と前記第４サブ面とは、互いに交差して第２境界線を形成し、前記第１境界線と前記第２境界線に定められた平面と前記第４サブ面とのなす角度は、前記第３サブ面と前記第４サブ面とのなす角度より大きく、前記第２外面は、前記第３サブ面に固定される、マスクプレート。

【請求項2】

前記パターン部の前記第１外面には、蒸着すべき基板が設置され、前記接続部の前記第２外面は、前記蒸着すべき基板に対して前記パターン部の前記第１外面よりも遠い、請求項１に記載のマスクプレート。

【請求項3】

前記サポータは、前記マスクストライプの前記第１外面から遠い側に設置され、前記本体は、四角形であり、前記マスクプレートの前記パターン部は、前記本体によって支持され、前記マスクストライプにおける前記２つの接続部は、それぞれ前記２つの側部に取り付けられ、前記本体は、前記第１主面に対向する第２主面をさらに含む、請求項１に記載のマスクプレート。

【請求項4】

前記２つの接続部は、第１接続部と第２接続部とを含み、前記第１接続部の前記第２外面と前記パターン部の前記第１外面とのなす角度は、前記第２接続部の前記第２外面と前記パターン部の前記第１外面とのなす角度と同じである、請求項１～３のいずれか一項に記載のマスクプレート。

【請求項5】

前記接続部と前記パターン部とのつながる部分は、前記本体の前記第１主面と前記側部の前記第３外面とが交わるエッジによって支持される、請求項３に記載のマスクプレート。

【請求項6】

前記本体の前記第１主面と前記側部の前記第３外面とが交わるエッジは、丸角または面取り形状とされる、請求項５に記載のマスクプレート。

【請求項7】

サポータを提供するとともに、前記サポータにマスクストライプを取り付けることを含むマスクプレートの準備方法であって、
前記マスクストライプは、前記サポータに接続された少なくとも２つの接続部、及び前記接続部の間に配置されたパターン部を含み、前記パターン部は、第１外面を含み、前記接続部は、第２外面を含み、前記第１外面と前記第２外面とは、異なる平面に配置され、
前記サポータは、本体と、前記本体の対向する両側に設置された２つの側部とを含み、前記本体は、第１主面を含み、前記側部は、第３外面を含み、前記第１主面は、前記第３外面に連続しており、
前記第２外面と前記第１外面とのなす角度は、１８０度より大きく２７０度より小さくなり、前記側部の前記第３外面は、２段の階段状とされるとともに、順次接続された第１サブ面、第２サブ面、第３サブ面及び第４サブ面を含み、前記第１サブ面は、前記本体の前記第１主面に接続され、前記第１サブ面と前記本体の前記第１主面とは、互いに交差して第１境界線を形成し、前記第３サブ面と前記第４サブ面とは、互いに交差して第２境界線を形成し、前記第１境界線と前記第２境界線に定められた平面と前記第４サブ面とのなす角度は、前記第３サブ面と前記第４サブ面とのなす角度より大きく、前記第２外面は、前記第３サブ面に固定される、マスクプレートの準備方法。

【請求項8】

請求項１に記載のマスクプレートの使用方法であって、
基板を前記マスクプレートに放置することを含み、前記基板のメッキすべき面は、前記マスクプレートの第１外面に接触し、前記基板のメッキすべき面と前記マスクプレートの第２外面とは、互いに接触しない、使用方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示の少なくとも１つの実施例は、マスクプレート及びその準備方法と使用方法に関する。

【背景技術】

【0002】

トランジスタ、液晶パネル、ＯＬＥＤ（有機発光ダイオード）パネルなどの種々な電子製品の生産プロセスにおいて、所望のパターンを製造するためにマスクプレートが必要とされる。しかしながら、操作プロセスにおいて、マスクプレートは、蒸着すべき基板に損傷を与え、基板を蒸着する際の良品率に影響する場合がある。

【発明の概要】

【課題を解決するための手段】

【0003】

本開示の少なくとも１つの実施例は、サポータと、前記サポータに取り付けられたマスクストライプとを含み、前記マスクストライプは、前記サポータに接続された少なくとも２つの接続部、及び前記接続部の間に配置されたパターン部を含み、前記パターン部は、第１外面を含み、前記接続部は、第２外面を含むマスクプレートであって、前記第２外面と前記第１外面とは、同じ平面に配置されないマスクプレートを提供する。

【0004】

本開示の少なくとも１つの実施例は、サポータを提供するとともに、前記サポータにマスクストライプを取り付けることを含むマスクプレートの準備方法であって、前記マスクストライプは、前記サポータに接続された少なくとも２つの接続部、及び前記接続部の間に配置されたパターン部を含み、前記マスクストライプは、２つの対向する上面及び下面を含み、前記パターン部は、前記上面に設置された第１外面を含み、前記接続部は、前記上面に設置された第２外面を含み、前記第２外面と前記第１外面とは、同じ平面に配置されないマスクプレートの準備方法を提供する。

【0005】

本開示の少なくとも１つの実施例は、上述した実施例におけるマスクプレートの使用方法であって、基板を前記マスクプレートに放置することを含み、前記基板のメッキすべき面は、前記マスクプレートの第１外面に接触し、前記基板のメッキすべき面と前記マスクプレートの第２外面とは、互いに接触しない方法を提供する。

【0006】

本開示の実施例の技術案をより明確に説明するために、以下、実施例の図面に対し簡単に説明し、もちろん、これから説明する図面は本開示の一部の実施例に過ぎず、本開示を制限するものではない。

【図面の簡単な説明】

【0007】

【図1a】マスクプレートの正面図である。

【図1b】図１ａに示すマスクプレートの一部の平面図である。

【図1c】図１ａに示すマスクプレートの側面図である。

【図2a】本開示の１つの実施例に係るマスクプレートの構造を示す模式図である。

【図2b】図２ａに示すマスクプレートのＭ－Ｎ線に沿う断面図である。

【図2c】図２ｂに示すマスクプレートにおけるマスクストライプの空間上の構造を示す図である。

【図2d】図２ｂに示すマスクプレートにおけるサポータの空間上の構造を示す図である。

【図2e】本開示の１つの実施例に係るマスクストライプの作業面と取付面の空間上の分布を示す模式図である。

【図2f】本開示の１つの実施例に係るマスクプレートと基板との正面図である。

【図2g】本開示の１つの実施例に係るマスクプレートの一部の構造を示す模式図である。

【図2h】本開示の１つの実施例に係る別のマスクプレートの一部の構造を示す模式図である。

【図3】本開示の１つの実施例に係る別のマスクプレートの構造を示す模式図である。

【図4】本開示の１つの実施例に係る別のマスクプレートの構造を示す模式図である。

【図5】本開示の１つの実施例に係る別のマスクプレートの構造を示す模式図である。

【図6】本開示の１つの実施例に係る別のマスクプレートの構造を示す模式図である。

【図7】本開示の１つの実施例に係る別のマスクプレートの構造を示す模式図である。

【図8】本開示の１つの実施例に係る別のマスクプレートの構造を示す模式図である。

【発明を実施するための形態】

【0008】

本開示の実施例の目の、技術案及び利点をより明瞭にするために、以下は本開示の実施例の図面をもって、本開示の実施例の技術案を明瞭かつ完全に説明する。勿論、下記実施例は本開示の一部の実施例に過ぎず、全部の実施例ではない。下記本開示の実施例に基づいて、当業者が創造的な努力を必要とせずに想到し得るすべてのその他の実施例は、本開示の保護範囲に属する。

【0009】

特に定義しない限り、使用される技術用語又は科学用語は、当業者が理解する一般的な意味である。本開示に使用される「第１」、「第２」及び類似する用語は順番、数又は重要性を示すのではなく、異なる構成要素を区別するものに過ぎない。同様に、「１つ」、「一」又は「当該」のような用語も数を制限するものではなく、少なくとも１つあることを意味する。「含む」又は「備える」のような用語は当該用語前に現れた素子又はデバイスが当該用語後に現れる素子又はデバイス及びその同等物を意味し、かつほかの素子又はデバイスを排除しない。「接続」又は「連結」のような用語は物理の又は機械の接続に限定されず、直接か間接に関わらず電気の接続を含む。「上方」、「下方」、「左方」、「右方」等は相対位置関係を示すものに過ぎず、説明する対象の絶対位置が変わると、当該相対位置関係も変わる。

【0010】

本開示の実施例において、用語「マスクプレートのパターン部」は、マスクプレートにおける遮蔽領域及び／又は非遮蔽領域などのパターン化された構造が含まれる部分を指し、「マスクプレートの接続部」は、サポータに接続され又は固定された部分を指し、「接続部の取り付け領域」は、接続部の、例えばネジ、ピン、溶接スポット、パッドなどの接続子が設置された領域を指す。「第２外面」は、接続子が設置される表面を指し、「第１外面」は、蒸着すべき基板に向かう表面を指す。本開示の実施例において、第２外面及び第１外面は、唯一かつ確定な定義を持つため、第２外面と第１外面とは方向性を持つように理解されるべきである。例えば、第２外面と第１外面とが互いに平行でありかつ同方向になる２つの平面であるとき、両者のなす角度は１８０度（例えば図４）と見なされるべきであり、互いに平行でありかつ逆方向になる２つの平面であるとき、両者のなす角度は３６０度（例えば図５）と見なされるべきである。

【0011】

図１ａはマスクプレートの正面図であり、図１ｂは図１ａに示すマスクプレートの一部の平面図である。図１ａと図１ｂに示すように、マスクプレートは、通常、サポータ１００’とマスクストライプ２００’とを含み、それぞれのマスクストライプ２００’が溶接スポット２４０’によってサポータ１００’に固定される。マスクプレート１００’を用いて基板３００’に対し蒸着するとき、溶接スポット２４０’の高さは、通常、マスクストライプ２００’の表面を超えており、そのとき、溶接スポット２４０’が、基板３００’とマスクストライプ２００’との間に隙間が位置するように、基板３００’に直接に接触する。このように、マスクストライプ２００’と基板３００’との粘着の密接性を影響するだけではなく、その隙間に蒸着材が積み重なりやすくなり、除去することが難しい。また、溶接スポット２４０’と基板３００’とは直接に接触するため、溶接スポット２４０’（接続子）に対応する位置に、基板３００’が受かる一部の圧力が大きく、破片を生じやすくなり、基板３００’に割れが現れる恐れがある。

【0012】

図１ｂに示すように、マスクストライプ２００’は、例えば外力などを受けると、マスクストライプ２００’の角部が（図１ｂに示すＡ領域）が反りやすくなり、マスクストライプ２００’の反りが基板３００’にかすり傷を与えやすい。あるいは、基板３００’の損傷のため、さらにマスクストライプ２００’にかすり傷を与える。そして、マスクストライプ２００’の反り（例えば角部）がマスクストライプ２００’と基板３００’との間の間隔を広げることがある。また、マスクストライプ２００’は、溶接スポット２４０’によって固定され、スポット固定方式であるため、マスクストライプ２００’に皺を生じさせやすく、基板３００’を蒸着する際の良品率を影響する恐れがある。

【0013】

図１ｃは図１ａに示すマスクプレートの側面図である。図１ｃに示すように、マスクストライプ２００’を交換するとき、マスクプレートに対し修復作業を行う必要がある。しかし、元のマスクストライプ２００’の溶接スポット２４０’によって固定された部分は磨きが必要であるため、その磨きは当該領域におけるサポータ１００’に摩損を与えることがある。図１ｃに示すように、サポータ１００’の、Ｂ領域にある部分の摩損度が高く、該領域のマスクストライプ２００’と他のマスクストライプ２００’とが同じ平面に位置しないことになる。複数回の修復作業が行われると、サポータ１００’におけるマスクストライプ２００’固定用の領域の平坦性に影響を与え、ひいてはマスクプレートの蒸着精度を影響する。

【0014】

本開示の少なくとも１つの実施例は、マスクプレート及びその準備方法と使用方法を提供する。当該マスクプレートは、サポータと、サポータに取り付けられたマスクストライプとを含み、マスクストライプは、サポータに接続された少なくとも２つの接続部と、接続部の間に配置されたパターン部とを含み、パターン部は、第１外面を含み、接続部は、第２外面を含み、第１外面と第２外面とは、異なる平面に配置される。当該マスクプレートを用いて基板に対し蒸着するとき、蒸着すべき基板は第１外面に設置されており、マスクストライプの第２外面と第１外面とが同じ平面に配置されないので、第２外面が基板から離れるため、マスクストライプの反った角部と第２外面における接続子とが基板に接触しない。このように、マスクストライプの第１外面を基板に密接に粘着させることができ、基板を蒸着する際の良品率を向上させることができる。

【0015】

以下、本開示の少なくとも１つの実施例に係るマスクプレート及びその準備方法と使用方法について、図面を参照しながら詳細的に説明する。

【0016】

図２ａは本開示の１つの実施例に係るマスクプレートの構造を示す模式図であり、図２ｂは図２ａに示すマスクプレートのＭ－Ｎ線に沿う断面図であり、図２ｃは図２ｂに示すマスクプレートにおけるマスクストライプの空間上の構造を示す図であり、図２ｄは図２ｂに示すマスクプレートにおけるサポータの空間上の構造を示す図である。

【0017】

図２ａ～図２ｄに示すように、本開示の少なくとも１つの実施例に係るマスクプレートは、サポータ１００とサポータ１００に取り付けられたマスクストライプ２００とを含み、マスクストライプ２００は、サポータ１００に接続された少なくとも２つの接続部２２０、及び接続部２２０の間に配置されたパターン部２１０を含む。例えば、接続部２２０は、取り付け領域２３０を含み、マスクストライプ２００は、取り付け領域２３０における接続子２４０によってサポータ１００に取り付けられる。マスクストライプ２００は、２つの対向する上面２０１及び下面２０２を含み、パターン部２１０は、上面２０１に設置された第１外面２１０１を含み、取り付け領域２３０のサポータ１００から離反された表面は、第２外面２３０１であり、第２外面２３０１と第１外面２１０１とは、同じ平面に設置されない。このように、蒸着を行うとき、マスクストライプ２００における第２外面２３０１は基板に接触せず、接続子２４０も基板に接触しない。図１ａの場合に比べると、上述のように構成されたマスクプレートは、マスクストライプ２００’と基板３００’との隙間を埋め、マスクストライプの第１外面と基板のメッキすべき面との密接な粘着を実現するため、基板を蒸着する際の良品率が向上する。

【0018】

なお、本開示の少なくとも１つの実施例において、マスクストライプ２００は、２つの接続部２２０を含むものに限らず、２つ以上の接続部２２０を含んでもよく、マスクストライプ２００に含まれる接続部２２０の数は、実際の需要に応じて決められれば良く、本開示はこれに対し限定をしない。本開示の実施例に係る技術案を説明しやすくさせるために、マスクストライプ２００が２つの接続部２２０を含み、パターン部２１０が当該２つの接続部２２０の間に設置されるものを例として、本開示の以下の実施例に係る技術案を説明する。

【0019】

例えば、本開示の少なくとも１つの実施例において、図２ａ～図２ｄに示すように、サポータ１００は、本体（図２ｄにおけるサポータ１００の１１０領域に配置された部分）と、本体の対向する両側に設置される２つの側部（図２ｄにおけるサポータ１００の１２０領域に配置された部分）。本体１１０は、例えば四角形でもよく、その中央部に長方形又は正方形の開口部を有し、当該開口部は、蒸着の時にマスクストライプ２００を露出させるためのものである。開口部の形状と大きさは、マスクストライプ２００の数、分布に応じて設計される。例えば、開口部は、円形、楕円形、多角形など規則な形状を有してもよく、不規則な形状を有しても良い。例えば、本開示の少なくとも１つの実施例において、本体と側部は一体に構成されてもよい。マスクストライプ２００のパターン部２１０は、本体１１０によって支持され、マスクストライプ２００の２つの接続部２２０は、それぞれサポータ１００の２つの側部１２０に取り付けられる。本体１１０は、対向する第１主面１１１及び第２主面１１２を含み、側部１２０は、第３外面１２１を含む。例えば、第１主面１１１は第３外面１２１に連続しており、マスクストライプ２００は、第２外面２３０１に接続子２４０を設置することで、サポータ１００に固定される。マスクストライプ２００をサポータ１００に固定する方式は複数あり、例えば、ネジ、ピンなどのかしめ方式が採用されてもよく、アーク溶接などの溶接方式が採用されてもよく、本開示の実施例はこれを制限しない。マスクストライプ２００のパターン部２１０は、パターン化された構造を有し、パターン部２１０は、例えば、複数の遮蔽領域と非遮蔽領域とを含んでおり、遮蔽領域と非遮蔽領域とは、例えば、交互に設置されてもよい。マスクプレートで基板を蒸着する際に、蒸発材（蒸着用材料）は、非遮蔽領域を透過できるものの、遮蔽領域を透過できない。そのため、蒸発材が基板上に蒸着された後、基板上にはマスクストライプ２００の非遮蔽領域に対応するパターン構造が形成される。

【0020】

例えば、本開示の少なくとも１つの実施例において、図２ａに示すように、サポータ１００の本体は、開口部を有するフレーム構造であってもよく、側部がフレーム構造のＳ１、Ｓ２側から延出された部分であり、当該側部が溶接ワイヤ２００の固定に利用可能である。なお、溶接ワイヤの固定が必要としないＳ３、Ｓ４側において、サポータ１００に側部が設置されなくてもよい。本開示の少なくとも１つの実施例において、サポータと側部との構造は、マスクストライプ２００における第２外面と第１外面との相対位置関係によって決められる。以下の実施例において詳しく説明する。

【0021】

例えば、本開示の少なくとも１つの実施例において、接続部の第２外面は、蒸着すべき基板に対してパターン部の第１外面よりも遠くなる。例えば、第２外面は第１外面のある平面の下面に向かう側にある。マスクストライプ２００における第２外面２３０１と第１外面２１０１とを異なる平面に設置するとともに、第２外面２３０１を基板の蒸着すべき面からより遠くすることで、マスクストライプ２００における第２外面２３０１と基板との接触を避けられるようになる。

【0022】

図２ｅは本開示の１つの実施例に係るマスクプレートにおけるマスクストライプの第１外面と第２外面との空間分布を示す模式図である（理解しやすくするため、図２ｅにおいて、マスクストライプ２００全体ではなく、マスクストライプ２００におけるパターン部２１０と取り付け領域２３０のみ示されている）。例えば、図２ｅに示すように、マスクストライプ２００の第１外面２１０１は、例えば平面Ｐ（第１外面２１０１のある平面）内にあり、平面Ｐは例えば水平面で、そのＮ１側に蒸着すべき基板が設置されており、第２外面２３０１は、平面ＰのＮ２側（即ち、平面Ｐの下面２０２に向かう側）にあり、平面Ｐは、マスクストライプ２００と蒸着すべき基板との境界面となり得る。従って、第２外面２３０１と第１外面２１０１とは同じ平面に位置しなく、この場合、第２外面２３０１にある接続子２４が基板に接触せず、マスクストライプ２００の反った角部も基板に影響せず、それによって、基板を蒸着する際のマスクプレートによる良品率が向上する。

【0023】

以下、図２ｅに示すように、マスクストライプ２００における第１外面２１０１と第２外面２３０１とのなす角度Ｑが１８０度以上かつ３６０度以下の場合を例として、本開示の以下の少なくとも１つの実施例における技術案を説明する。

【0024】

図２ｆは本開示の１つの実施例に係るマスクプレートと基板の正面図である。例えば、本開示の少なくとも１つの実施例において、図２ｆに示すように、サポータ１００は、ぞれぞれの側部１２０の第３外面１２１が傾斜した平面とされてもよく、マスクストライプ２００の２つの接続部２２０が接続子２４０によって当該傾斜した平面（第３外面１２１）に取り付けられ、マスクストライプ２００における第２外面２３０１と第１外面２１０１とのなす角度Ｑが１８０度より大きく２７０度より小さい。この場合、マスクストライプ２００の第２外面２３０１が蒸着すべき基板３００に接触せず、接続子２４０も蒸着すべき基板３００に接触せず、マスクストライプ２００の第１外面２１０１と基板３００との密接な粘着を実現し、基板３００を蒸着する際の良品率を向上させることができる。

【0025】

例えば、本開示の少なくとも１つの実施例において、２つの接続部２２０の傾きが同じでも同じなくてもよい、本開示の実施例はこれを制限しない。例えば、それぞれのマスクストライプ２００は、第１接続部と第２接続部とを含んでもよく、第１接続部の第２外面と第１外面２１０１とのなす角度は、第２接続部の第２外面と第１外面２１０１とのなす角度と同じでも同じなくてもよい。以下、第１接続部の第２外面と第１外面２１０１とのなす角度が第２接続部の第２外面と第１外面２１０１とのなす角度と同じ場合を例として、本開示の下記実施例における技術案を説明する。

【0026】

図２ｇは本開示の１つの実施例に係るマスクプレートの一部の構造を示す模式図である。例えば、本開示の少なくとも１つの実施例において、マスクストライプ２００は、第２外面２３０１における接続子２４０によってサポータ１００に固定され、接続子２４０が通常、一定の高さを持つため、本開示の少なくとも１つの実施例において、図２ｇに示すようなマスクプレートは、第２外面２３０１と第１外面２１０１とのなす角度Ｑが接続子２４０の高さに応じてさらに設置されてもよい。図２ｇに示すように、第２外面２３０１の位置する面に垂直な方向において、接続子２４０の高さがＨとなり、第２外面２３０１の位置する面に平行な方向において、接続子２４０から角度θの頂点までの距離がＬ（接続子２４０によってＬの数値が異なってもよい）となると、θ＞ａｒｃｔａｎ（Ｈ／Ｌ）を満たせばよく、θ=Ｑ－１８０度であるため、角度Ｑ＞ａｒｃｔａｎ（Ｈ／Ｌ）＋１８０度になる。

【0027】

例えば、本開示の少なくとも１つの実施例において、図２ｇに示すように、接続部２２０が接続子２４０によってサポータ１００の側部１２０に固定され、マスクストライプ２００が引っ張られ接続子２４０によって緊張状態になるため、マスクストライプ２００の、接続部２２０とパターン部２１０とのつながる部分が、サポータ１００の本体１１０と側部１２０とが交わるエッジ１４０によって支持可能である。即ち、サポータ１００のエッジ１４０は、マスクストライプ２００の、接続部２２０とパターン部２１０とがつながる部分を支持できることで、マスクストライプ２００のパターン部２１０の平坦度を確保する。図１ｂに示すマスクプレートの構造に比べると、本開示の実施例におけるマスクストライプ２００の固定方式は、スポット固定の代わりに線固定（マスクストライプ２００のパターン部２１０の延出形態が溶接スポット２４０’による限定からエッジ１４０による限定に変わる）になり、このように、図１ｂにおける皺２５０’が現れることを避けられる。たとえ第２外面２３０１に皺２５０’が現れても、上述した構造（エッジ１４０によってパターン部２１０の延出形態を限定するもの）が皺のパターン部２１０への延出を軽減又は消去することができる。

【0028】

修復作業のマスクストライプ２００の固定位置（例えばエッジ１４０）に対する影響を避けるために、第２外面２３０１がサポータ１００のエッジ１４０からもっと離れる位置に設置されてもよい。例えば、本開示の少なくとも１つの実施例において、第２外面２３０１と第１外面２１０１とのなす角度Ｑが１８０度より大きく２７０度より小さい場合は、サポータ１００の側部１２０の第３外面１２１が階段状に設置されてもよい。このように、マスクプレートを修復する際に、例えば磨き操作のような修復作業は、エッジ１４０に影響をせず、マスクプレートの精度を確保できる。

【0029】

図２ｈは本開示の１つの実施例に係る別のマスクプレートの一部の構造を示す模式図である。図２ｈに示すように、マスクストライプ２００の第２外面２３０１と第１外面２１０１とのなす角度Ｑが１８０度より大きく２７０度より小さい場合、サポータ１００の側部１２０の第３外面１２１は、２段の階段状に設置されるとともに、順次接続された第１サブ面１２１１、第２サブ面１２１２、第３サブ面１２１３、第４サブ面１２１４を含み、第１サブ面１２１１が本体１１０の第１主面１１１に接続される。例えば、第２外面２３０１が第２サブ面１２１２、第３サブ面１２１３又は第４サブ面１２１４に設置されてもよい。このように、マスクプレートに対し修復作業を行うとき、第２外面２３０１に対する磨きがサポータ１００のエッジ１４０に影響を与えない。

【0030】

例えば、第１サブ面１２１１と本体１１０の第１主面１１１とは、互いに交差して第１境界線を形成しており、第３サブ面１２１３と第４サブ面１２１４とは、互いに交差して第２境界線を形成しており、第１境界線と第２境界線とによって定められた平面と第４サブ面１２１４とのなす角度ｃは、第３サブ面１２１３と第４サブ面１２１４とのなす角度ｂより大きい。角度ｃが角度ｂより大きい場合、第２外面２３０１を第４サブ面１２１４上に固定されると、マスクストライプ２００の接続部（パターン部２１０と接続部２２０とがつながる部分）は、サポータ１００のエッジ１４０と、第２サブ面１２１２と第３サブ面１２１３とが交わるエッジとの両方によって支持され、マスクストライプ２００に対する固定及び緊張效果をより一層実現し、皺を減少又は消去することができる。

【0031】

なお、本開示の少なくとも１つの実施例において、サポータ１００の側部１２０の第３外面１２１が階段状とされる場合の階段数に対し制限しなく、サポータ１００の側部１２０の第３外面１２１が１段の階段又は複数段の階段などとされてもよい。

【0032】

例えば、本開示の少なくとも１つの実施例において、サポータ１００の本体１１０の第１主面１１１と第３外面１２１とが交わるエッジ１４０は、丸角又は面取り形状（図３ｈにおける点線ブロック１４０による領域）とされてもよい。図２ｈに示すように、サポータ１００のエッジ１４０は、一定の弧度（例えば０度より大きく４５度より小さい）を持つ弧面とされてもよい。サポータ１００のエッジ１４０は、マスクストライプ２００におけるパターン部２１０の延出状態を限定可能であり、マスクストライプ２００の一部の領域（例えばパターン部２１０と接続部２２０とがつながる部分）はエッジ１４０によって支持されると大きな力を受けるため、エッジ１４０を丸角の構造にすることで、円弧面を形成し、エッジ１４０の鋭さ（受ける力が局所に集中）がマスクストライプ２００に傷をつけることを避けられる。

【0033】

本開示の少なくとも１つの実施例において、サポータ１００の側部１２０の第３外面１２１の形状を制限しない。例えば、第２外面２３０１と第１外面２１０１とのなす角度が１８０度より大きく２７０度より小さい場合、サポータ１００の側部１２０の第３外面１２１と第２外面２３０１とが同じ形になり、例えば、共に円弧面又は他の曲線形状になる。図３は本開示の１つの実施例に係る別のマスクプレートの構造を示す模式図である。図３に示すように、サポータ１００の側部１２０の第３外面１２１が円弧面となり、それに応じて第３外面１２１に設置される第２外面２３０１も円弧面とさせる。円弧面を有する第２外面２３０１の接線と第１外面２１０１とのなす角度Ｑが１８０度より大きく２７０度より小さいであれば、第２外面２３０１が第１外面２１０１と同じ平面に位置しなく、かつ第２外面２３０１が基板３００に接触しなくなる。

【0034】

例えば、本開示の少なくとも１つの実施例において、図３に示すように、第３外面１２１の第１主面１１１に近い端部には、第３外面１２１の接線と第１主面１１１とがほぼ平行になる。このように、第３外面１２１と第１主面１１１との間はほぼ滑らかに連続しているので、エッジ１４０の鋭さ（受ける力が局所に集中）がマスクストライプ２００に傷をつけることを避けることだけではなく、接続部２２０のパターン部２１０と第２外面２３０１とにある部分がともに第３外面１２１によって支持され、第２外面２３０１に皺が現れても、皺がパターン部２１０への延出をより一層止めることができる。

【0035】

図４は本開示の１つの実施例に係る別のマスクプレートの構造を示す模式図である。図４に示すように、第２外面２３０１と第１外面２１０１とのなす角度Ｑは、１８０度となり、例えば第１外面２１０１と第２外面２３０１とが互いに平行であり異なる水平面に設置される。サポータ１００の具体的な形状は、第１外面２１０１と第２外面２３０１とのの位置関係に応じて設置可能である。例えば、本開示の少なくとも１つの実施例において、図４に示すように、サポータ１００の側部１２０は溝を有する。例えば、サポータ１００の第１主面１１１には溝Ｄが設置され、マスクストライプ２００の第２外面２３０１が溝Ｄに設置されてもよい。なお、第２外面２３０１のある面に垂直な方向において、溝Ｄの深さは、実情に応じて決められ、第２外面２３０１の接続子２４０を蒸着すべき基板に接触させなければよい。例えば、溝Ｄの深さが接続子２４０の高度より大きい。例として、溝Ｄの深さは約１０ミクロンより大きく、例えば約１０ミクロン～２０ミクロンである。このように、マスクストライプ２００の第２外面２３０１が蒸着すべき基板３００に接触せず、マスクストライプ２００の第１外面２１０１を基板３００に密接に粘着させ、基板３００を蒸着する際の良品率を向上させることができる。

【0036】

図５は本開示の１つの実施例に係る別のマスクプレートの構造を示す模式図である。例えば、在本開示の少なくとも１つの実施例に係るマスクプレートにおいて、図５に示すように、第２外面２３０１と第１外面２１０１とのなす角度Ｑは、３６０度となり、例えば、第１外面２１０１と第２外面２３０１とは互いに平行でありかつ異なる水平面に設置される。サポータ１００の具体的な形状は、第１外面２１０１と第２外面２３０１との位置関係に応じて設置される。例えば、本開示の少なくとも１つの実施例において、サポータ１００の側部１２０は長條形となり得る。例えば、マスクストライプ２００の第２外面２３０１は、サポータ１００の側部１２０の下面（側部１２０のパターン部２１０から遠い側の表面）に設置されてもよい。この場合は、マスクストライプ２００の第２外面２３０１は蒸着すべき基板３００に接触せず、第２外面２３０１の接続子２４０も基板に接触せず、基板３００を蒸着する際の良品率を向上させることができる。

【0037】

図６は本開示の１つの実施例に係る別のマスクプレートの構造を示す模式図である。例えば、本開示の少なくとも１つの実施例に係るマスクプレートにおいて、図６に示すように、マスクストライプ２００における第２外面２３０１と第１外面２１０１とのなす角度Ｑは、２７０度となる。例えば、サポータ１００の側部１２０の第３外面１２１は、鉛直面であってもよく、即ち、第３外面１２１のある平面とサポータ１００の第１主面１１１とは互いに垂直する。この場合は、マスクストライプ２００の第２外面２３０１が蒸着すべき基板３００に接触せず、第２外面２３０１の接続子２４０も基板３００に接触せず、基板３００を蒸着する際の良品率を向上させることができる。

【0038】

図７は本開示の１つの実施例に係る別のマスクプレートの構造を示す模式図である。例えば、本開示の少なくとも１つの実施例に係るマスクプレートにおいて、図７に示すように、マスクストライプ２００における第２外面２３０１と第１外面２１０１とのなす角度Ｑが２７０度より大きく３６０度より小さい。例えば、サポータ１００の側部１２０の第３外面１２１が裏に傾斜する（例えば本体１１０の縁部から本体１１０の内部へ傾斜する）平面であり、当該平面とサポータ１００の第１主面１１１とのなす角度が２７０度～３６０度であり、マスクストライプ２００の第２外面２３０１が当該平面に設置されてもよい。この場合、マスクストライプ２００の第２外面２３０１が蒸着すべき基板３００に接触せず、第２外面２３０１の接続子２４０も基板３００に接触せず、基板３００を蒸着する際の良品率を向上させることができる。

【0039】

なお、上述した実施例では、マスクストライプ２００における第２外面２３０１と第１外面２１０１とのなす角度が１８０度となり、あるいは２７０度より大きく３６０度以下となる場合、サポータ１００の、第２外面２３０１を固定するための面が平面に限らず、円弧面などの形状であってもよく、その具体的な構造が図２ｈに示す実施例に係るものに参照すればよいため、ここで本開示が贅言しない。

【0040】

なお、本開示の少なくとも１つの実施例に係るマスクプレートにおいて、マスクストライプ２００の第１外面２１０１と第２外面２３０１とのなす角度を制限せず、両者のなす角度が１８０度～３６０度に限らず、第２外面２３０１が第１外面２１０１と異なる平面にあり、かつ第２外面２３０１が第１外面２１０１の基板３００の蒸着すべき面から遠い側にあればよい。それによって、蒸着の際に、第２外面を蒸着すべき基板に接触させず、基板を蒸着する際の良品率を向上させることができる。

【0041】

図８は本開示の１つの実施例に係る別のマスクプレートの構造を示す模式図である。例えば、本開示の少なくとも１つの実施例に係るマスクプレートにおいて、図８に示すように、サポータ１００の第１主面１１１に溝Ｅが設置され、溝Ｅに斜面が設置され、当該斜面にマスクストライプ２００の第２外面２３０１が設置される。図８に示すマスクプレートの構造では、第２外面２３０１と第１外面２１０１とのなす角度Ｑは、０度～１８０度となり得る。

【0042】

本開示の少なくとも１つの実施例において、マスクプレートにおけるサポータ１００及びマスクストライプ２００を準備するための材料を制限しない。例えば、本開示の少なくとも１つの実施例において、マスクストライプ２００を例えば溶接によってサポータ１００に固定するように、サポータ１００及びマスクストライプ２００を準備するための材料が金属材料を含めることで、加工難易度が低く、操作が簡単である。

【0043】

本開示の少なくとも１つの実施例は、マスクプレートの準備方法を提供しており、当該準備方法は、サポータを提供するとともに、前記サポータにマスクストライプを取り付けることを含み、マスクストライプが、サポータに接続された少なくとも２つの接続部、及び前記接続部の間に配置されたパターン部を含み、マスクストライプが２つの対向する上面及び下面を含み、パターン部が上面に設置された第１外面を含み、接続部が上面に設置された第２外面を含んでおり、第１外面と第２外面とは、異なる平面に配置されるとともに、第２外面が第１外面の下面に近い側に配置される。当該マスクプレートの具体的な構造が前記実施例に参照すればよく、ここで贅言しない。

【0044】

本開示の少なくとも１つの実施例の準備方法によって準備されたマスクプレートは、基板に対し蒸着をするとき、マスクストライプの第２外面が基板に接触しないので、マスクストライプの反り及び第２外面における接続子（マスクストライプの固定に用いられる）などがマスクストライプと基板との間の粘着の密接度を影響せず、基板を蒸着する際のマスクプレートによる良品率を向上させることができる。

【0045】

本開示の少なくとも１つの実施例はマスクプレートの使用方法を提供しており、当該方法は、基板をマスクプレートに放置することを含んでおり、基板のメッキすべき面は、マスクプレートの第１外面に接触するとともに、マスクプレートの第２外面と互いに接触しない。マスクプレートの具体的な構造については、上述した実施例（マスクプレートに関する実施例）における関連のある説明に参照すればよく、本開示はマスクプレートの具体的な構造を限定しない。

【0046】

前記実施例におけるマスクプレートは、マスクストライプと蒸着すべき基板とを密接に粘着させることを可能にするため、基板のメッキすべき面とマスクストライプのパターン部における第１外面とが同じ平面に配置されたと考えられる。マスクプレートにおけるマスクストライプの第２外面と第１外面とが同じ平面に位置しなく、かつ第２外面が第１外面のマスクストライプの下面に近い側に配置されるため、マスクストライプの第２外面が蒸着すべき基板のメッキすべき面に接触せず、基板を蒸着する際のマスクプレートによる良品率を向上させることができる。

【0047】

例えば、本開示の少なくとも１つの実施例において、基板のメッキすべき面とマスクプレートの第２外面とが同じ平面に位置せず、かつ両者のなす角度が１８０度以上３６０度以下となる。例えば、基板のメッキすべき面とマスクプレートの第２外面とのなす角度は、１８０度、１８０度より大きく２７０度より小さい角度、２７０度、２７０度より大きく３６０度より小さい角度、３６０度などを含む。上記異なる角度範囲内にあるマスクプレートの構造は、上述した実施例に係るものに参照すればよく、ここで贅言しない。

【0048】

本開示の実施例は、マスクプレート及びその準備方法と使用方法を提供し、以下の少なくとも１つの效果を有する。即ち、
（１）本開示の少なくとも１つの実施例は、マスクプレートを提供しており、当該マスクプレートでは、マスクストライプの第２外面は、第１外面とが同じ平面に位置しないとともに、第１外面の位置する平面と同じ側に位置することで、第２外面が蒸着すべき基板に接触せず、基板を蒸着する際の良品率を向上させることができる。
（２）在本開示の少なくとも１つの実施例に係るマスクプレートにおいて、従来の構造に比べると、本開示実施例におけるマスクプレートのマスクストライプはスポット固定から線固定に変更され、マスクストライプに皺が生じるという問題を軽減又は消去することができ、基板の蒸着精度をさらに向上させる。
（３）本開示の少なくとも１つの実施例に係るマスクプレートにおいて、サポータでは、マスクストライプの蒸着領域の延出状態を支持するエッジが丸角又は面取りに設計されことで、マスクストライプがカットされることを避けられる。サポータの側部の第３外面は、階段状に設計されることで、マスクプレートを修復する際に、磨き操作によるサポータのエッジに対する摩損を防止でき、マスクプレートの精度を確保できる。

【0049】

なお、本開示について、
（１）本開示における実施例の図面は本開示の実施例の構造のみに関し、他の構造については慣用の設計事項に参照すればよい。
（２）明瞭に見えるように、本開示の実施例を説明するための図面において、層又は領域の厚さが拡大され又は縮小され、即ち、これらの図面は実際の割合によって描いたものではない。
（３）矛盾しない限り、本開示の実施例及び実施例における特徴は、互いに組み合わせて新しい実施例を得ることができる。

【0050】

以上、本開示の具体的な実施方式に過ぎず、本開示の保護範囲はこれに限らず、請求項の保護範囲に準ずる。

【0051】

本願は２０１７年６月２日に出願された中国専利申請第２０１７１０４０７５５３.２号に基づく優先権を主張し、前記中国特許申請に開示された内容は、全体として本願の一部に組み込まれる。

【図1a】

【図1b】

【図1c】

【図2a】

【図2b】

【図2c】

【図2d】

【図2e】

【図2f】

【図2g】

【図2h】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】