(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2022-06-23
(45)【発行日】2022-07-01
(54)【発明の名称】3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの多形形態の生成方法
(51)【国際特許分類】
C07D 231/38 20060101AFI20220624BHJP
A61K 31/415 20060101ALI20220624BHJP
【FI】
C07D231/38 A
A61K31/415
(21)【出願番号】P 2019501463
(86)(22)【出願日】2017-07-13
(86)【国際出願番号】 GB2017052056
(87)【国際公開番号】W WO2018011579
(87)【国際公開日】2018-01-18
【審査請求日】2020-07-03
(32)【優先日】2016-07-14
(33)【優先権主張国・地域又は機関】GB
(73)【特許権者】
【識別番号】516336068
【氏名又は名称】メレオ バイオファーマ 1 リミテッド
(74)【代理人】
【識別番号】100092783
【氏名又は名称】小林 浩
(74)【代理人】
【識別番号】100120134
【氏名又は名称】大森 規雄
(74)【代理人】
【識別番号】100176094
【氏名又は名称】箱田 満
(74)【代理人】
【識別番号】100104282
【氏名又は名称】鈴木 康仁
(72)【発明者】
【氏名】スレイマン,オサマ
(72)【発明者】
【氏名】ペレズ,ルシア ロメロ
(72)【発明者】
【氏名】ハーラチャー,コーネリウス ステファン
(72)【発明者】
【氏名】ジョーンズ,ステワート
【審査官】小路 杏
(56)【参考文献】
【文献】特表2007-521278(JP,A)
【文献】小嶌隆史,医薬品開発における結晶形選択の効率化を目指して,薬剤学,2008年09月01日,Vol.68, No.5,p.344-349
【文献】平山令明編,有機化合物結晶作製ハンドブック -原理とノウハウ-,丸善株式会社,2008年07月25日,p.57-84
(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
C07D 231/38
A61K 31/415
CAplus/REGISTRY(STN)
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの結晶多形の形態Aを調製する方法であって、前記形態Aが、CuKα線を用いて測定した場合に、2θ=約9.3°、約9.7°、約10.2°、約10.5°、約11.7°、約13.0°、約14.5°、約15.0°、約15.5°、約16.0°、約16.4°、約16.9°、約17.8°、約18.0°、約20.0°、約20.5°、約20.9°、約22.0°、約22.3°、約23.4°、約24.2°または約24.5°に少なくとも1つのピークを有するX線粉末回折パターンを有し、
(a)3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドを、少なくとも40℃の温度で非水系溶媒または非水系溶媒の混合物に溶解して溶液を得るステップであって、1種または複数の前記溶媒が、3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミド出発物質に対して約5wt%未満の水を含有し、前記非水系溶媒または非水系溶媒の混合物が
エタノール、n-プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、イソブタノールおよびその組み合わせからなる群から選択され
、3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの前記溶液が、70℃超の温度に24時間を超えて曝露されない、ステップ、
(a’)任意選択で、3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの形態Aの結晶を前記溶液にシーディングするステップ、
(b)前記溶液を冷却し、それにより、3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの多形の形態Aの結晶を形成するステップ、
(c)前記結晶を単離するステップ
を含む、方法。
【請求項2】
3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの結晶多形の形態Aを調製する方法であって、前記形態Aが、CuKα線を用いて測定した場合に、2θ=約9.3°、約9.7°、約10.2°、約10.5°、約11.7°、約13.0°、約14.5°、約15.0°、約15.5°、約16.0°、約16.4°、約16.9°、約17.8°、約18.0°、約20.0°、約20.5°、約20.9°、約22.0°、約22.3°、約23.4°、約24.2°または約24.5°に少なくとも1つのピークを有するX線粉末回折パターンを有し、
(a)3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドを、少なくとも40℃の温度で非水系溶媒または非水系溶媒の混合物に溶解して溶液を得るステップであって、前記非水系溶媒または非水系溶媒の混合物が
エタノール、n-プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、イソブタノールおよびその組み合わせからなる群から選択され
、3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの前記溶液が、70℃超の温度に24時間を超えて曝露されない、ステップ、
(a’)任意選択で、3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの形態Aの結晶を前記溶液にシーディングするステップ、
(b)前記溶液を冷却し、それにより、3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの多形の形態Aの結晶を形成するステップ、
(c)前記結晶を単離するステップ
を含み、全ての方法ステップの温度が100℃を超えない、方法。
【請求項3】
3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの結晶多形の形態Aを調製する方法であって、前記形態Aが、CuKα線を用いて測定した場合に、2θ=約9.3°、約9.7°、約10.2°、約10.5°、約11.7°、約13.0°、約14.5°、約15.0°、約15.5°、約16.0°、約16.4°、約16.9°、約17.8°、約18.0°、約20.0°、約20.5°、約20.9°、約22.0°、約22.3°、約23.4°、約24.2°または約24.5°に少なくとも1つのピークを有するX線粉末回折パターンを有し、
(a)3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドを、少なくとも40℃の温度で非水系溶媒または非水系溶媒の混合物に溶解して溶液を得るステップであって、1種または複数の前記溶媒が、3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミド出発物質に対して約5wt%未満の水を含有し、前記非水系溶媒または非水系溶媒の混合物が
エタノール、n-プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、イソブタノールおよびその組み合わせからなる群から選択され
、3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの前記溶液が、70℃超の温度に24時間を超えて曝露されない、ステップ、
(a’)任意選択で、3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの形態Aの結晶を前記溶液にシーディングするステップ、
(b)前記溶液を冷却し、それにより、3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの多形の形態Aの結晶を形成するステップ、
(c)前記結晶を単離するステップ
を含み、全ての方法ステップの温度が100℃を超えない、方法。
【請求項4】
前記冷却ステップ(b)が、約1~0.01℃/分の速度で冷却される、請求項1から3のいずれかに記載の方法。
【請求項5】
シーディングステップ(a’)が、ステップ(a)で溶解した3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの重量に対して、0.1wt%超の形態Aの3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドをシーディングし、前記形態Aが、CuKα線を用いて測定した場合に、2θ=約9.3°、約9.7°、約10.2°、約10.5°、約11.7°、約13.0°、約14.5°、約15.0°、約15.5°、約16.0°、約16.4°、約16.9°、約17.8°、約18.0°、約20.0°、約20.5°、約20.9°、約22.0°、約22.3°、約23.4°、約24.2°または約24.5°に少なくとも1つのピークを有するX線粉末回折パターンを有する、請求項1から4からのいずれかに記載の方法。
【請求項6】
前記結晶化中に使用される温度が、80℃を超えない、請求項1から5のいずれかに記載の方法。
【請求項7】
ステップ(b)の間、逆溶媒が前記溶液に添加される、請求項1から
6のいずれかに記載の方法。
【請求項8】
ステップ(b)の間、前記溶媒の量が低減される、請求項1から
7のいずれかに記載の方法。
【請求項9】
前記形態Aが、CuKα線を用いて測定した場合に、少なくとも2θ=約11.7°、約15.0°、約20.5°、約22.0°、約22.3°、約23.4°および約24.5°にピークを有するX線粉末回折パターンを有する、請求項1から8のいずれか一項に記載の方法。
【請求項10】
前記形態Aが、CuKα線を用いて測定した場合に、2θ=約9.3°、約9.7°、約10.2°、約10.5°、約11.7°、約13.0°、約14.5°、約15.0°、約15.5°、約16.0°、約16.4°、約16.9°、約17.8°、約18.0°、約20.0°、約20.5°、約20.9°、約22.0°、約22.3°、約23.4°、約24.2°および約24.5°にピークを有するX線粉末回折パターンを有する、請求項1から8のいずれか一項に記載の方法。
【請求項11】
CuKα線を用いて測定した場合に、2θ=約9.3°、約9.7°、約10.2°、約10.5°、約11.7°、約13.0°、約14.5°、約15.0°、約15.5°、約16.0°、約16.4°、約16.9°、約17.8°、約18.0°、約20.0°、約20.5°、約20.9°、約22.0°、約22.3°、約23.4°、約24.2°または約24.5°に少なくとも1つのピークを有するX線粉末回折パターンを有する、形態Aの3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミド。
【請求項12】
前記形態Aが、CuKα線を用いて測定した場合に、少なくとも2θ=約11.7°、約15.0°、約20.5°、約22.0°、約22.3°、約23.4°および約24.5°にピークを有するX線粉末回折パターンを有する
、請求項
11に記載の形態Aの3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミド。
【請求項13】
前記形態Aが、CuKα線を用いて測定した場合に、2θ=約9.3°、約9.7°、約10.2°、約10.5°、約11.7°、約13.0°、約14.5°、約15.0°、約15.5°、約16.0°、約16.4°、約16.9°、約17.8°、約18.0°、約20.0°、約20.5°、約20.9°、約22.0°、約22.3°、約23.4°、約24.2°および約24.5°にピークを有するX線粉末回折パターンを有する
、請求項
11もしくは請求項
12に記載の形態Aの3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミド。
【請求項14】
請求項
11~
13のいずれか一項に記載の形態Aの3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドを含む、医薬組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
化合物3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの特定の結晶多形を選択的に生成する方法が、本明細書で開示される。
【背景技術】
【0002】
固体は非晶質形または結晶形のいずれかで存在する。結晶形の場合、分子は三次元の格子サイトに位置する。例えば、所望の化合物を適量の溶媒または溶媒の混合物に混合し、加熱して溶解させ、冷却して生成物を沈殿させることによって、溶液から固体を結晶化することは、当技術分野で公知である。
【0003】
化合物が溶液またはスラリーから再結晶化する場合、化合物は様々な空間格子の配置で結晶化する可能性があり、この特性は「多形」と呼ばれ、様々な結晶形態はそれぞれ「多形体」と呼ばれる。所与の物質の様々な多形形態はまた、溶解度、真密度、結晶形状、圧密挙動、流動性、および/または固体状態安定性などの、1つまたは複数の物理的特性に関して互いに異なり得る。
【0004】
異なる熱力学的安定性を有する2つ(またはそれを超える)の多形形態で存在する化学物質の場合、より不安定な形態は、通常、十分な時間の後、所与の温度でより熱力学的に安定な形態に変換する。この転換が急速でない場合、熱力学的に不安定な形態は「準安定な」形態と呼ばれる。一般に、安定な形態は、様々な多形形態のうち融点が最も高く、溶解度が最も低く、化学的安定性が最大である。しかし、準安定な形態でも通常の保管条件で十分な化学的および物理的安定性を呈し、市販の形態でそれを使用することが可能となり得る。さらに、準安定な形態は、最も熱力学的に安定な多形形態より安定でないが、より良好な製剤化能力(formulative ability)、改善した水への分散性など、より安定な形態のものより望ましい特性を呈し得る。
【0005】
化合物3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドは、多数の多形形態で存在することが発見されている。これらの形態の多くは、薬学的に許容される組成物の生成の観点から、望ましくない。これには、安定性の欠如、高い吸湿性、低い水溶解度、および取扱いの困難さを含む、様々な理由がある。
【発明の概要】
【0006】
本開示の結晶化の方法により、3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの結晶多形の結晶化を選択的に制御できる。具体的には、本発明は、3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの特定の多形形態(以後、形態Aと記す)の生成の方法を含む。
【0007】
様々な溶媒からの3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの再結晶化により、溶媒和物、水和物、無水物などを含む、異なる多形形態の混合物がもたらされる。再結晶化の過程で得られる3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの他の多形形態が形態Aに変換できない場合は処分しなければならず、収益減で非効率の生成過程となる。
【0008】
形態Aは、薬学的な製剤化および取扱いの点で特に優れている。形態Aは、非吸湿性でであり、本発明の方法は、3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドを含む薬学的な製剤を生成するのに取扱いおよび加工が容易な易流動性粉末を生成する。
【0009】
現在まで、3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの結晶多形の結晶化を制御する簡易な方法は存在しない。ゆえに、3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの結晶多形の結晶化を選択的に制御する効率的な方法に対する、当技術分野で、喫緊で未対処の必要性が存在する。
【0010】
本明細書に開示される実施形態は、3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの結晶多形の結晶化を選択的に制御する方法を提供することに対する、従来対処されていないこの必要性を満足することが見出された。特に特許請求される本方法は、粒径などの粒子の特性の制御を改善でき、具体的な多形体の収率を改善でき、残留溶媒による汚染を低減する。
【0011】
第1の態様において、3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの結晶多形の形態Aを調製する方法であって、
(a)3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドを、少なくとも40℃の温度で非水系溶媒または非水系溶媒の混合物に溶解して溶液を得るステップであって、1種または複数の溶媒が、3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミド出発物質に対して約5wt%未満の水を含有する、ステップ、
(a’)任意選択で、3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの形態Aの結晶を溶液にシーディングするステップ、
(b)溶液を冷却し、それにより、3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの多形の形態Aの結晶を形成するステップ、
(c)結晶を単離するステップ
を含む、方法を提供する。
【0012】
第2の態様において、3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの結晶多形の形態Aを調製する方法であって、
(a)3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドを、少なくとも40℃の温度で非水系溶媒または非水系溶媒の混合物に溶解して溶液を得るステップ、
(a’)任意選択で、3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの形態Aの結晶を溶液にシーディングするステップ、
(b)溶液を冷却し、それにより、3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの多形の形態Aの結晶を形成するステップ、
(c)結晶を単離するステップ
を含み、全ての方法ステップの温度が100℃を超えない、方法を提供する。
【0013】
第3の態様において、3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの結晶多形の形態Aを調製する方法であって、
(a)3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドを、少なくとも40℃の温度で非水系溶媒または非水系溶媒の混合物に溶解して溶液を得るステップであって、1種または複数の溶媒が、3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミド出発物質に対して約5wt%未満の水を含有する、ステップ、
(a’)任意選択で、3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの形態Aの結晶を溶液にシーディングするステップ、
(b)溶液を冷却し、それにより、3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの多形の形態Aの結晶を形成するステップ、
(c)結晶を単離するステップ
を含み、全ての方法ステップの温度が100℃を超えない、方法を提供する。
【0014】
製造の過程の間、3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドが非水溶液中で再結晶化される場合、形態Aは許容される収率で生成される。再結晶化の対象となる3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの重量に対する約5%超の水の存在において、3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの水和物は、許容できない量で形成され、これは形態Aに対する異なる多形形態を有し、それにより不純物を構成する。
【0015】
製造の過程の間、3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドが100℃を超えない温度で再結晶化される場合、形態Aは許容される収率で生成される。この温度を超える場合、3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの異なる多形形態(形態Bと記す)は、許容できない量で形成され、それにより不純物を構成する。
【0016】
本明細書に記載される実施形態のある特定の態様は、限定されないが本発明を説明することを意図する図面を参照することでより明確に理解され得る。
【図面の簡単な説明】
【0017】
【
図1】3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの形態Aの多形体のXRPDスペクトルである。
【
図2】3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの形態Aの多形体のラマンスペクトルである。
【
図3】3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの形態Aの多形体のFT-IRスペクトルである。
【
図4】
図4aおよび4bは、本発明の方法により再結晶化された易流動形態Aの3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドのSEM画像である。
【
図5】形態Bへの転換を示す形態Aの3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの、様々な温度におけるXRPD試験である。
【
図6】形態Aに様々な加熱率で実施されたDSC実験を示す(10℃/分)。
【発明を実施するための形態】
【0018】
本発明の任意の態様での出発物質は、3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの任意の供給源であり得る。例えば、本発明による形態Aを生成する方法用の出発物質は、粗製の3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミド、非晶質の3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミド、多形の3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミド(純粋な形態Aを除く)、3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの多形体の混合物、およびそれらの混合物からなる群から選択され得る。例えば、国際公開第2005/009973号パンフレット(その実施例161など)に開示される方法にしたがって形態Aを調製するために使用される、3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミド出発物質。
【0019】
本発明の任意の態様の方法により、純粋な形態Aの3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドが生成される。
【0020】
本明細書で使用する場合、「純粋な形態A」は、10重量%未満の3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの任意の他の多形形態、好ましくは5重量%未満、好ましくは2重量%未満、好ましくは1重量%未満、好ましくは0.5重量%未満、好ましくは0.1重量%未満の3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの他の多形形態を含む、結晶多形の形態Aを意味する。
【0021】
多形形態Aに対する粉末XRDパターンおよびデータは、明白に3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの他の多形形態と異なる。形態Aは、1つまたは複数の以下の位置での特徴的なピーク(度2θ(+/-0.2°θで表される)を有する、表1に実質的に示される通りのX線粉末回折パターンを呈する。
【0022】
【0023】
形態Aを含有する組成物の有用な製剤は、従来の方法で調製できる。これらは、粉剤、ペレット剤、溶液剤、縣濁剤、乳剤、水和剤などとしての調製剤を含む。
【0024】
一実施形態において、形態Aの3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドは、非水系溶媒中または溶媒の混合物から、3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドを結晶化することにより調製できる。
【0025】
本発明の上記の態様のいずれかによる好ましい実施形態において、方法は、1種または複数の前述の非水系溶媒中または溶媒の混合物中、溶解が完了するまで熱を適用するが100℃の温度を超えないことにより、3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの非水溶液を調製し、次いで、好ましくは約1~0.01℃/分、好ましくは0.5~0.05℃/分、好ましくは0.2~0.08℃/分、好ましくは約0.1℃/分の冷却速度で穏やかに水溶液を冷却することを含む。この冷却速度を選択することで、結晶生成物中の形態Aの収率および形態Aの純度を改善する助けとなる。
【0026】
特に、本発明の上記の番号付けた態様のいずれも、最終結晶性物質の80wt%超の純度、最終結晶性物質の、通常は90wt%超、好ましくは95wt%、例えば98wt%超で、形態Aの結晶を生成することができる。
【0027】
本発明の上記の番号付けた態様のいずれかにおける任意選択のシーディングステップ(a’)は、好ましくは、ステップ(a)で溶解した3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの重量に対して、0.1wt%超、好ましくは1wt%超、好ましくは3wt%超、好ましくは4wt%超の形態Aの3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドをシーディングする。
【0028】
シーディングを使用する場合、通常、物質の大規模な生成(5kg超)用である。形態Aの種は、好ましくは、本明細書に記載される方法により生成されるか、または、従来技術の方法にしたがって生成された結晶の混合物から形態Aの結晶を分離することにより得られる。形態Aの結晶は、そのXRPDスペクトルにより容易に特徴付けられ、同定される。
【0029】
本発明の上記の態様のいずれかによる好ましい実施形態において、好ましくは、結晶化中に使用される温度は、80℃を超えず、好ましくは70℃を超えず、好ましくは60℃を超えず、好ましくは50℃を超えない。好ましくは、結晶化中に使用される温度は、40℃超である。温度が70℃に向かって上昇し、70℃を超えると、形態Bの多形体の量が増加し、特により高い温度で費やされる時間が長くなる。
【0030】
ゆえに、好ましくは、3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの溶液を、24時間超、好ましくは12時間超、好ましくは6時間超、70℃超の温度に曝露しない。これは以下の表において示されており、ここでは異なる溶媒を異なる温度で試験する。
【0031】
【0032】
ゆえに、70℃および80℃のより高い温度で、特により長期間にわたって、形態Bへの変換が引き起こされるか、または形態Aおよび形態Bの混合物が生成されることが分かる。また、溶媒中に水を含む場合、水和物が形成されることが分かる。
【0033】
本明細書で使用する場合、用語「非水系溶媒または非水系溶媒の混合物」は、好ましくは水が実質的に存在しない状態で、C1~6アルコール、C4~10環状エーテル、C1~6ニトリル、C1~6ハロアルカン、C1~6ケトン、ジアルキルホルムアミド、ジアルキルスルホキシド、C3~10アリール、C5~10アルカン、石油エーテル、酢酸C1~6アルキル、C1~6エーテルからなる群から選択される1種または複数の溶媒を意味する。
【0034】
好ましい非水系溶媒は、好ましくは水が実質的に存在しない状態で、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、塩化メチレン、イソプロピルアルコール、アセトン、N,N-ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、トルエン、ベンゼン、n-ヘキサン、石油エーテル、酢酸エチル、エーテル、ジクロロメタン、クロロホルムおよび四塩化炭素からなる群から選択される。
【0035】
特に好ましい非水系溶媒は、好ましくは水が実質的に存在しない状態で、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、およびイソブタノールからなる群から選択される。
【0036】
本発明の上記の番号付けた態様のいずれかのステップ(b)の間、逆溶媒を添加して、所望の結晶の沈殿を促進し得る。好ましい逆溶媒として、t-ブチルメチルエーテルおよびニトロメタンなどの、C1~6エーテルおよびC1~6ニトロアルカンが挙げられる。しかし、当業者は、どの溶媒を本方法で使用するかに応じて逆溶媒を容易に選択することができる。
【0037】
逆溶媒:溶媒の比は、好ましくは0.1:1~1:0.1の範囲にある。
【0038】
本明細書で使用する場合、用語「水が実質的に存在しない」は、方法で使用される3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドに対して、5wt%未満、好ましくは1wt%未満、好ましくは0.5wt%未満、好ましくは0.1wt%未満、好ましくは0.05wt%未満、好ましくは0.001wt%未満を意味する。形態Aの収率は、水が約1wt%超になると直線的に減少するので、水の濃度を1wt%未満で維持することが特に有利である。
【0039】
本発明の方法により、好都合なことに、400μm未満、好ましくは300μm未満、好ましくは200μm未満のD50粒径を有する形態Aの3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドが生成される。
【0040】
本発明の方法により、好都合なことに、10μm超のD10粒径を有する形態Aの3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドが生成される。
【0041】
形態Aの結晶は、当技術分野で公知の従来の任意の方法、例えば、ろ過、遠心分離などにより単離する。それらは、オーブン内で、および/または真空乾燥機で乾燥され得る。
【0042】
本発明の上記の番号付けた態様のいずれかによる任意の冷却ステップの前またはその間、例えば蒸留により、溶媒の量を減少させて、3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの溶液を濃縮してもよい。
【0043】
これから、以下の実施例を参照して本発明をさらに記載するが、これは添付の特許請求の範囲を例示することを意図するものであり、制限するものではない。
【0044】
[実施例1]
形態Aのプロセスの記載
3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドを、75℃でエタノールに溶解した。得られた溶液を、粒子フィルターを通して第2の反応器へとろ過する。IT(内部温度)=40℃に冷却後、エタノール中に3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの種懸濁液を添加する。反応混合物をIT=40℃でさらに2時間保持した後、IT=-10℃へと緩やかな冷却勾配(0.1K/分)を開始する。IT=-10℃で少なくとも5時間、懸濁液を保持する。生成物をろ過乾燥機で分離する。ろ過ケークは反応器で、エタノールを3回に分けて使用して撹拌せずに洗浄する。湿ったろ過ケークの乾燥を、2つの操作ステップで実施する。JT(ジャケット温度)=50℃、圧力=10~20mbarで5時間、第1のステップを行う。このステップの間、撹拌器は使用しない。JT=60℃、圧力=10~20mbarで5時間、第2のステップを行う。このステップの間、撹拌器を1分間作動し、14分間そのままにする。この期間後、0.5%m/m以下のエタノール含有量が達成される。バッチ間の反応容器の清浄は必要なかった。
【0045】
本ステップで得られた粒子は、
図4で示されるSEM画像で示される通り、比較的滑らかな面の結晶の良好な流動凝集体(平均直径250μm)である。それらをそのまま使用できるか、または容易に粉砕して所望の原薬の粒径に調節し得る。
【0046】
1.原材料の利用可能性
方法では種結晶を使用し得るが、これは必ずしも必要ではない。本発明における種結晶は、得られた形態Aの結晶の粒径を制御するのに役立つ。種結晶を使用する場合は、粉砕する(より高い粒子表面積にするため)。
【0047】
2.器具および方法の詳細
2.1 X線粉末回折(XRPD)
2.1.1 Bruker AXS社のC2 GADDS
CuKα線(40kV、40mA)、自動化XYZステージ、自動サンプル位置決め用のレーザビデオマイクロスコープ、およびHiStar2次元領域検出器を使用して、X線粉末回折パターンをBruker AXS社のC2 GADDS回折装置で収集した。X線光学系は、0.3mmのピンホールコリメータに連結された、1つのGobel多層膜ミラーからなる。認証標準NIST1976コランダム(平板)を使用して、性能チェックを週1回行う。
【0048】
サンプルのビーム発散、すなわち、X線ビームの効果的なサイズは、およそ4mmであった。θ-θ連続走査モードを、3.2°~29.7°の効果的な2θ範囲を提供する、サンプル-検出器の距離20cmで利用した。典型的には、120秒間、サンプルをX線ビームに曝露した。データ収集に使用したソフトウェアはXP/2000 4.1.43用のGADDSであり、Diffrac Plus EVA v15.0.0.0を使用してデータを解析し、提示した。
【0049】
入手したままの粉末を摩砕することなく使用して、周囲条件下で処理されたサンプルを平板の検体として調製した。およそ1~2mgのサンプルを、スライドガラス上で軽く押して、平らな表面を得た。
【0050】
2.1.1 Bruker AXS社のD8 Advance
CuKα線(40kV、40mA)、θ-2θゴニオメーター、ならびにV4の発散および受光スリット、Geモノクロメーター、ならびにLynxeye検出器を使用して、X線粉末回折パターンをBruker社のD8回折装置で収集した。認証コランダム標準(NIST1976)を使用して、器具を性能チェックする。データ収集に使用したソフトウェアはDiffrac Plus XRD Commander v2.6.1であり、Diffrac Plus EVA v15.0.0.0を使用してデータを解析し、提示した。
【0051】
入手したままの粉末を使用して、平板の検体としてサンプルを周囲条件下で処理した。研磨したゼロバックグラウンド(510)シリコンウエハに切断した空洞に、サンプルを穏やかに充填した。解析の間、サンプルはそれ自身の面で回転した。データ収集の詳細は以下の通りである。
・角度の範囲:2~42°2θ
・ステップサイズ:0.05°2θ
・収集時間:0.5秒/ステップ
【0052】
サンプルのスクリーニングのために簡潔な方法を使用した。データ収集の詳細は以下の通りである。
・角度の範囲:2~31°2θ
・ステップサイズ:0.05°2θ
・収集時間:0.5秒/ステップ
【0053】
非周囲条件
25℃でAnton-Paar社のTTK450チャンバーにサンプルを設置した。測定ファイルを通して温度をその場で制御した:p2853-vt、LRP-1301-39-01.dql、LRP-1301-42-01.dql、LRP-1301-42-02.dql。サンプルを1℃/分で25℃から200℃まで加熱した。XRPDデータを30℃から200℃まで10℃ごとに収集した。およそ40mgのサンプルを、周囲条件下で、Niコーティングされたサンプルホルダーに設置した。25℃でサンプルをのせた。
【0054】
3.単結晶X線回折(SCXRD)
Rigaku Oxford DiffractionのSupernovaデュアルソース、0でのCu、Oxford Cryosystems社のCobra冷却装置を搭載したAtlas CCD回折装置で、データを収集した。CuKα線を使用してデータを収集した。典型的には、SHELXSプログラムまたはSHELXDプログラムのいずれかを使用して構造を解析し、Bruker社のAXS SHELXTL suite(V6.10)の一部としてSHELXLプログラムでリファインした。別段の記載がない限り、炭素に結合する水素原子を幾何学的に配置し、ライディング等方性変位パラメーターでリファインさせた。ヘテロ原子に結合した水素原子を差フーリエ合成に置き、等方性変位パラメーターで自由にリファインさせた。
【0055】
4.プロトン核磁気共鳴(1H-NMR)
NMRスペクトルを、自動サンプラーを搭載したBruker社の400MHzの器具で収集し、DRX400コンソールで制御した。標準Brukerロード実験(Bruker loaded experiment)を使用してTopspin v1.3で処理するICON NMR v4.0.7を使用して、自動化された実験を行った。非定型分光法のために、Topspinを単独で使用してデータを取得した。
【0056】
別段の記載がない限り、DMSO-d6中でサンプルを調製した。ACD Spectrus Processor 2014を使用してオフライン解析を行った。
【0057】
5.示差走査熱量測定(DSC)
5.1 TA Instruments社のQ2000
50ポジション自動サンプラーを搭載したTA Instruments社のQ2000で、DSCデータを収集した。サファイアを使用して熱容量の較正を行い、認証インジウムを使用してエネルギーおよび温度の較正を行った。典型的には、ピンホールの開いたアルミニウムパンにおいて0.5 3mgの各サンプルを10℃/分で25℃から300℃まで加熱した。サンプル上で、50ml/分で乾燥窒素のパージを維持した。
【0058】
2℃/分の基礎加熱速度および60秒(期間)ごとに±0.318℃(振幅)の温度変調パラメーターを使用して温度変調DSC法を行った。
【0059】
器具制御ソフトウェアは、Advantage for Q Series v2.8.0.394およびThermal Advantage v5.5.3であり、データは、Universal Analysis v4.5Aを使用して解析した。
【0060】
5.2 TA Instruments社のDiscovery DSC
50ポジション自動サンプラーを搭載したTA Instruments社のDiscovery DSCで、DSCデータを収集した。サファイアを使用して熱容量の較正を行い、認証インジウムを使用してエネルギーおよび温度の較正を行った。典型的には、ピンホールの開いたアルミニウムパンにおいて0.5 3mgの各サンプルを10℃/分で25℃から300℃まで加熱した。サンプル上で、50ml/分で乾燥窒素のパージを維持した。
【0061】
器具制御およびデータ解析のソフトウェアは、TRIOS v3.2.0.3877であった。
【0062】
6.熱重量分析(TGA)
6.1 TA Instruments社のQ500
16ポジション自動サンプラーを搭載したTA Instruments社のQ500 TGAで、TGAデータを収集した。認証アルメルおよびニッケルを使用して器具を温度較正した。典型的には、5~10mgの各サンプルを、事前に風袋計量した(pre-tared)アルミニウムDSCパンにのせ、10℃/分で周囲温度から350℃まで加熱した。サンプル上で、60ml/分で窒素パージを維持した。
【0063】
器具制御ソフトウェアは、Advantage for Q Series v2.5.0.256およびThermal Advantage v5.5.3であり、データは、Universal Analysis v4.5Aを使用して解析した。
【0064】
6.2 TA Instruments社のDiscovery TGA
25ポジション自動サンプラーを搭載したTA Instruments社のDiscovery TGAで、TGAデータを収集した。認証アルメルおよびニッケルを使用して器具を温度較正した。典型的には、5~10mgの各サンプルを、事前に風袋計量したアルミニウムDSCパンにのせ、10℃/分で周囲温度から350℃まで加熱した。サンプル上で、25ml/分で窒素パージを維持した。
【0065】
器具制御およびデータ解析のソフトウェアは、TRIOS v3.2.0.3877であった。
【0066】
7.走査電子顕微鏡法(SEM)
Phenom Pro走査電子顕微鏡でデータを収集した。導電性両面粘着テープを使用して少量のサンプルをアルミニウムスタブ上に固定した。スパッタコーター(20mA、120秒)を使用して金の薄層を適用する。
【0067】
8.カールフィッシャー滴定(KF)による水分測定
ハイドラナール-クーロマットAGオーブン試薬および窒素パージを使用して、851 Titrano Coulometerを有するMetrohm社の874 Oven Sample Processorを用いて、150℃で各サンプルの含水量を測定した。計量された固体サンプルを密閉されたサンプルバイアルに導入した。およそ10mgのサンプルを滴定ごとに使用し、二重反復測定とした。データ収集および解析にはTiamo v2.2を使用した。
【0068】
9.HPLCによる化学的純度測定
ダイオードアレイ検出器を搭載したAgilent社のHP1100シリーズシステムを用いて、以下に詳述する方法を使用するChemStationソフトウェアvB.04.03を使用して、純度解析を実施した。
【0069】
【0070】
様々な温度におけるXRPD(
図5を参照)により、形態Aが100℃超に加熱すると形態Bに変換することが示された。200℃で、高い2θ領域でのピーク位置での変化(シフト)を観察した。これは、熱膨張効果に起因し得る。しかし、この熱効果は可逆的であり、形態Bは室温に冷却した後、XRPDにより変化しないままであった。
【0071】
【0072】
異なる加熱速度で形態AのDSC実験を実施して、バッチ特性決定の段階で観察された2つの吸熱の性質を決定した(
図6に示す)。ピンホールの開いたアルミニウムパンまたは封止アルミニウムパンにおける実験を実施した場合、著しい差を観察しなかった。異なる加熱速度で、可能な動態事象を示す第1の吸熱の開始(転移事象)に対して著しい差を観察した。
本発明は、以下の態様を含む。
[1]
3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの結晶多形の形態Aを調製する方法であって、(a)3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドを、少なくとも40℃の温度で非水系溶媒または非水系溶媒の混合物に溶解して溶液を得るステップであって、1種または複数の前記溶媒が、3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミド出発物質に対して約5wt%未満の水を含有する、ステップ、
(a’)任意選択で、3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの形態Aの結晶を前記溶液にシーディングするステップ、
(b)前記溶液を冷却し、それにより、3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの多形の形態Aの結晶を形成するステップ、
(c)前記結晶を単離するステップ
を含む、方法。
[2]
3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの結晶多形の形態Aを調製する方法であって、(a)3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドを、少なくとも40℃の温度で非水系溶媒または非水系溶媒の混合物に溶解して溶液を得るステップ、
(a’)任意選択で、3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの形態Aの結晶を前記溶液にシーディングするステップ、
(b)前記溶液を冷却し、それにより、3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの多形の形態Aの結晶を形成するステップ、
(c)前記結晶を単離するステップ
を含み、全ての方法ステップの温度が100℃を超えない、方法。
[3]
3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの結晶多形の形態Aを調製する方法であって、(a)3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドを、少なくとも40℃の温度で非水系溶媒または非水系溶媒の混合物に溶解して溶液を得るステップであって、1種または複数の前記溶媒が、3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミド出発物質に対して約5wt%未満の水を含有する、ステップ、
(a’)任意選択で、3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの形態Aの結晶を前記溶液にシーディングするステップ、
(b)前記溶液を冷却し、それにより、3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの多形の形態Aの結晶を形成するステップ、
(c)前記結晶を単離するステップ
を含み、全ての方法ステップの温度が100℃を超えない、方法。
[4]
前記冷却ステップ(b)が、約1~0.01℃/分、好ましくは0.5~0.05℃/分、好ましくは0.2~0.08℃/分、好ましくは約0.1℃/分の速度で冷却される、[1]から[3]のいずれかに記載の方法。
[5]
シーディングステップ(a’)が、ステップ(a)で溶解した3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの重量に対して、0.1wt%超、好ましくは0.5wt%超、好ましくは1wt%超の形態Bの3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドをシーディングする、[1]から[4]からのいずれかに記載の方法。
[6]
前記結晶化中に使用される温度が、80℃を超えず、好ましくは70℃を超えず、好ましくは60℃を超えず、好ましくは50℃を超えず、好ましくは40℃を超えない、[1]から[5]のいずれかに記載の方法。
[7]
3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドの前記溶液が、24時間超、好ましくは12時間超、好ましくは6時間超、70℃超の温度に曝露されない、[1]から[6]のいずれかに記載の方法。
[8]
前記非水系溶媒または非水系溶媒の混合物が、好ましくは水が実質的に存在しない状態で、C
1~6
アルコール、C
4~10
環状エーテル、C
1~6
ニトリル、C
1~6
ハロアルカン、C
1~6
ケトン、ジアルキルホルムアミド、ジアルキルスルホキシド、C
3~10
アリール、C
5~10
アルカン、石油エーテル、酢酸C
1~6
アルキル、C
1~6
エーテルからなる群から選択される、[1]から[7]のいずれかに記載の方法。
[9]
前記非水系溶媒が、好ましくは水が実質的に存在しない状態で、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、塩化メチレン、イソプロピルアルコール、アセトン、N,N-ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、トルエン、ベンゼン、n-ヘキサン、石油エーテル、酢酸エチル、エーテル、ジクロロメタン、クロロホルムおよび四塩化炭素からなる群から選択される、[8]に記載の方法。
[10]
ステップ(b)の間、逆溶媒が前記溶液に添加され得る、[1]から[9]のいずれかに記載の方法。
[11]
ステップ(b)の間、前記溶媒の量が、好ましくは蒸留により、低減される、[1]から[10]のいずれかに記載の方法。
[12]
[1]から[11]のいずれかに記載の方法により得ることができる、形態Aの3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミド。
[13]
[12]に記載の形態Aの3-[5-アミノ-4-(3-シアノベンゾイル)-ピラゾール-1-イル]-N-シクロプロピル-4-メチルベンズアミドを含む、医薬組成物。