(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2022-07-04
(45)【発行日】2022-07-12
(54)【発明の名称】プリント回路基板
(51)【国際特許分類】
H05K 3/28 20060101AFI20220705BHJP
H05K 3/34 20060101ALI20220705BHJP
H01L 23/12 20060101ALI20220705BHJP
【FI】
H05K3/28 B
H05K3/34 502E
H05K3/34 501E
H01L23/12 F
(21)【出願番号】P 2017131564
(22)【出願日】2017-07-04
【審査請求日】2020-07-01
(31)【優先権主張番号】10-2016-0096084
(32)【優先日】2016-07-28
(33)【優先権主張国・地域又は機関】KR
【前置審査】
(73)【特許権者】
【識別番号】594023722
【氏名又は名称】サムソン エレクトロ-メカニックス カンパニーリミテッド.
(74)【代理人】
【識別番号】110000877
【氏名又は名称】龍華国際特許業務法人
(72)【発明者】
【氏名】リ、チャン-ボ
【審査官】小林 大介
(56)【参考文献】
【文献】特開2011-054652(JP,A)
【文献】特開2015-088583(JP,A)
【文献】特開2005-209861(JP,A)
【文献】米国特許出願公開第2008/0164605(US,A1)
(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
H05K 3/28
H05K 3/34
H05K 3/46
H01L 21/60
H01L 23/12-23/13
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
絶縁層と、
前記絶縁層の内部に形成され、前記絶縁層の一面から露出する回路パターンと
、
前記回路パターン上に形成され
、平面上において前記絶縁層のセンター領域に配置される接続部と、
前記回路パターン上に形成され、平面上において前記絶縁層のセンター領域を囲むサイド領域に配置される第1金属ポストと、
前記絶縁層上に形成され、前記第1金属ポストまたは前記接続部の一部が露出するように開口部が形成された第1保護層と、
前記第1保護層に形成された開口部から露出する第1金属ポスト上に形成され、前記第1金属ポストの上面と
前記第1金属ポストの側面
の一部とを覆う第2金属ポストと、を含み、
前記第2金属ポストは、前記第1保護層の一部を覆い、
前記第1金属ポストの高さは、前記第1保護層の高さよりも高く形成されるプリント回路基板。
【請求項2】
第1金属ポストの高さと前記接続部の高さは、実質的に同一である請求項1に記載のプリント回路基板。
【請求項3】
第1金属ポストの幅は、第2金属ポストの幅よりも狭い請求項1または請求項2に記載のプリント回路基板。
【請求項4】
前記第1保護層上に、前記接続部の一部及び前記第2金属ポストの一部が露出するように開口部が形成された第2保護層をさらに含む請求項1から請求項
3の何れか一項に記載のプリント回路基板。
【請求項5】
前記第2金属ポスト上に形成される第3金属ポストをさらに含む請求項1から請求項
4の何れか一項に記載のプリント回路基板。
【請求項6】
前記第1金属ポストまたは前記第2金属ポストは、銅(Cu)で形成される請求項1から請求項
5の何れか一項に記載のプリント回路基板。
【請求項7】
前記第1金属ポストまたは前記第2金属ポストが、相互異なる材質で形成される請求項1から請求項
5の何れか一項に記載のプリント回路基板。
【請求項8】
前記第1金属ポストと前記第2金属ポストが、実質的に同一の高さで形成される請求項1から請求項
7の何れか一項に記載のプリント回路基板。
【請求項9】
前記第1金属ポストと前記第2金属ポストの高さが、互いに異なる高さで形成される請求項1から請求項
7の何れか一項に記載のプリント回路基板。
【請求項10】
前記第1金属ポストの高さまたは前記第2金属ポストの高さは、前記回路パターンの高さよりも高く形成される請求項1から請求項
9の何れか一項に記載のプリント回路基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、プリント回路基板に関する。
【背景技術】
【0002】
電子部品の高機能化、軽薄短小化への要求に伴って、電子部品の内部に装着されるプリント回路基板においても高機能化、軽薄短小化が要求されている。プリント回路基板の軽薄短小化のためには、回路パターンを微細に設計し、内部に様々な機能を担う半導体素子を配置して高機能化を実現している。
【0003】
プリント回路基板の内部に半導体素子を配置するためには、基板の内部にキャビティを形成することができ、キャビティの下部にバンプ構造物を形成して、半導体素子と回路パターンとの間の電気的な信号伝逹を可能にすることができる。
【0004】
一方、チップが配置されたプリント回路基板は、上下に積層されることにより積層型パッケージ又はパッケージオンパッケージ(POP、Package On Package)等の半導体パッケージを形成することができる。
なお、積層型パッケージの場合は、チップの厚さにより上下パッケージ間の間隔が一定に維持され積層される構造であって、一定の間隔を維持するために金属ポスト等の構造物を用いることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【文献】韓国公開特許第2010-0043456号公報
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明の一側面に係るプリント回路基板は、金属ポスト上に金属ポストが形成され、電子素子に接続される接続部を含むことができる。ここで、接続部と下部金属ポストの高さを同一に形成することで、接続部及び、金属ポストの一部を露出させる保護層の厚さを容易に調整することができる。
【図面の簡単な説明】
【0007】
【
図1】本発明の第1実施例に係るプリント回路基板を概略的に示す断面図である。
【
図2】本発明の第1実施例に係るプリント回路基板の一部を拡大した拡大図である。
【
図3】本発明の第2実施例に係るプリント回路基板を概略的に示す断面図である。
【
図4】本発明の第2実施例に係るプリント回路基板の一部を拡大した拡大図である。
【
図5】本発明の第3実施例に係るプリント回路基板を概略的に示す断面図である。
【
図6a】本発明の一実施例に係るプリント回路基板の製造工程の一工程を概略的に示す断面図である。
【
図6b】
図6aに示す工程の次の工程を示す図である。
【
図6c】
図6bに示す工程の次の工程を示す図である。
【
図6d】
図6cに示す工程の次の工程を示す図である。
【
図6e】
図6dに示す工程の次の工程を示す図である。
【
図6f】
図6eに示す工程の次の工程を示す図である。
【
図6g】
図6fに示す工程の次の工程を示す図である。
【
図6h】
図6gに示す工程の次の工程を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0008】
本明細書で使用した用語は、ただ特定の実施例を説明するために使用したものであり、本発明を限定するものではない。単数の表現は、文脈上明白に異なる意味ではない限り、複数の表現を含む。
本願において、ある部分がある構成要素を「含む」とする場合、これは特に言及しない限り、他の構成要素を除外することではなく、他の構成要素をさらに含むことができることを意味する。
【0009】
また、明細書の全般において、「上に」とは、対象部分の上または下に位置することを意味し、必ずしも重力方向を基準にして上側に位置することを意味するものではない。
また、「結合」とは、各構成要素の間の接触関係において、各構成要素の間に物理的に直接接触する場合のみを意味するものではなく、他の構成が各構成要素の間に介在され、その他の構成に構成要素がそれぞれ接触している場合まで包括する概念として使用する。
本明細書において、第1、第2等の用語は、多様な構成要素を説明するために使用され、上記構成要素が上記用語により限定されることはない。上記用語は、一つの構成要素を他の構成要素から区別する目的にだけに使用される。
【0010】
図面に示された各構成の大きさ及び厚さは、説明の便宜上、任意で示したものであって、本発明が必ずしもそれらに限定されることはない。
以下に、本発明に係るプリント回路基板及びその製造方法の実施例を添付図面に基づいて詳細に説明し、添付図面に基づいて説明するに当たって、同一または対応する構成要素には同一の図面符号を付し、これについての重複説明を省略する。
【0011】
[実施例]
[第1実施例]
図1は、本発明の第1実施例に係るプリント回路基板1000を概略的に示す断面図であり、
図2は、本発明の第1実施例に係るプリント回路基板1000の一部を拡大した拡大図である。
図1及び
図2を参照すると、第1実施例に係るプリント回路基板1000は、回路パターン1と、絶縁層10と、第1保護層20と、第1金属ポスト100と、第2金属ポスト200と、接続部300と、を含む。
【0012】
回路パターン1は、絶縁層10の内部に形成され、絶縁層10から一面が露出するように形成されることができる。
第1金属ポスト100は、回路パターン1上に形成可能であり、絶縁層10から露出された一面に形成されることができる。
第1金属ポスト100は、一定の高さで形成され、パッケージ上にパッケージを積層するに使用されることができる。
【0013】
接続部300は、絶縁層10から一面が露出された回路パターン1の一面に形成されることができ、電子素子が配置され、電子素子との電気的な信号伝逹を必要とする回路パターン1上に形成されることができる。
接続部300は、プリント回路基板1000に配置される電子素子との電気的な接続のために、絶縁層10から突出して形成されることができる。
一方、接続部300の高さh1は、第1金属ポスト100の高さh2と実質的に同一の高さで形成されることができる。
【0014】
第1保護層20は、絶縁層10上に形成され、第1金属ポスト100の一部または接続部300の一部が露出するように、開口部を形成することができる。
第1保護層20から第1金属ポスト100の一部または接続部300の一部が露出するように、第1保護層20の一部をエッチングして除去することができる。
したがって、第1金属ポスト100の高さは、上記第1保護層20の高さよりも高く形成されることができる。
第1保護層20は、ソルダーレジスト層を含む概念である。
【0015】
第2金属ポスト200は、第1金属ポスト100上に形成可能であり、例えば、第1保護層20の開口部から一部が露出した第1金属ポスト100上に形成されることができる。
第1金属ポスト100を形成した後に第2金属ポスト200が形成され、第1金属ポスト100の幅W1と第2金属ポスト200の幅W2とは互いに異なってもよい。
本発明の第1実施例に係るプリント回路基板において、第1金属ポスト100の幅W1は、第2金属ポスト200の幅W2よりも狭く形成されることができる。
第1金属ポスト100と第2金属ポスト200は、同一の材質で形成されてもよく、または相互異なる材質で形成されてもよい。
【0016】
第1金属ポスト100と第2金属ポスト200は、実質的に同一の高さで形成されることができる。第1金属ポスト100の高さまたは第2金属ポスト200の高さは、上記回路パターン1の高さよりも高く形成されることができる。第1金属ポスト100または第2金属ポスト200は、銅(Cu)で形成されることができ、その材質に制限はない。
【0017】
第2保護層30は、第1保護層20上に形成可能であり、接続部300の側面及び第2金属ポスト200の一部が露出するように、開口部が形成されることができる。
【0018】
本発明の実施例によれば、金属ポストと接続部との高さの差による保護層の高さを異なるように形成することが容易である。
【0019】
金属ポストの高さが接続部の高さよりも高く形成される場合、金属ポストの周辺に形成される保護層は接続部の周辺よりも厚く形成される必要がある。
【0020】
従来技術によれば、位置に応じて保護層のエッチングの程度を異なるようにして、金属ポストの周辺に形成される保護層を接続部の周辺よりも厚く形成している。
上記のように、エッチングの程度を位置に応じて異なるようにすることは、保護層の厚さが均一に形成されないという問題点を有する。
本発明の実施例によれば、接続部300を第1金属ポスト100と同一の高さで形成し、接続部と金属ポストとの高さの差による第1保護層のエッチングの深さの制御問題を解決することができる。
[第2実施例]
【0021】
図3は、本発明の第2実施例に係るプリント回路基板2000を概略的に示す断面図であり、
図4は、本発明の第2実施例に係るプリント回路基板2000の一部を拡大した拡大図である。
図3及び
図4を参照すると、第2実施例に係るプリント回路基板2000において、第1金属ポスト100の幅W1は、第2金属ポスト200の幅W2よりも広く形成されることができる。
第2金属ポスト200は、第1金属ポスト100が形成された後に形成され、その幅が異なる。
[第3実施例]
【0022】
図5は、本発明の第3実施例に係るプリント回路基板3000を概略的に示す断面図である。
図5を参照すると、第3実施例に係るプリント回路基板3000は、第2金属ポスト200上に形成される第3金属ポスト400をさらに含むことができる。
一方、本発明の一実施例に係るプリント回路基板に形成される金属ポストは、その積層数を制限せずに形成することができる。
【0023】
<プリント回路基板の製造方法>
図6aから
図6hは、本発明の一実施例に係るプリント回路基板の製造工程を概略的に示す断面図である。
以下では、
図6aから
図6hを参照して、本発明の一実施例に係るプリント回路基板の製造工程を説明する。
【0024】
図6aを参照すると、本発明の一実施例に係るプリント回路基板の製造工程は、回路パターン1が形成された絶縁層10の一面にシード層7を形成するステップを含むことができる。
一方、絶縁層10に回路パターン1を形成する方法は、アディティブ法(additive process)、セミアディティブ法(SAP、semi additive process)、モディファイドセミアディティブ法(MSAP、modified semi additive process)、サブトラックティブ法(Subtractive Process)等を用いて形成することができ、その方法に制限はない。
シード層7を形成するステップにおいてシード層7は、デタッチコア基板が除去された絶縁層10の一面に形成されることができる。
【0025】
図6bを参照すると、本発明の一実施例に係るプリント回路基板の製造工程は、シード層7上に第1金属ポスト100、接続部300を形成するステップを含むことができる。
第1金属ポスト100、接続部300を形成するステップにおいて、第1金属ポスト100と接続部300は、回路パターンを形成する方式と同一のメッキ工程により行われることができる。
第1金属ポスト100、接続部300は、同一のメッキ工程により形成され、その高さが実質的に同一に形成されることができる。
【0026】
図6cを参照すると、本発明の一実施例に係るプリント回路基板の製造工程は、シード層7を除去するステップを含むことができる。
シード層7は、エッチング液を用いて除去することができ、エッチング液は、シード層7のみを選択的に除去することができる。
【0027】
図6dを参照すると、本発明の一実施例に係るプリント回路基板の製造工程は、シード層7が除去された絶縁層10の一面に第1保護層20を形成するステップを含むことができる。
第1保護層20は、第1金属ポスト100及び接続部300の高さよりも高い高さS1で絶縁層10上に積層されることができる。
【0028】
図6eを参照すると、本発明の一実施例に係るプリント回路基板の製造工程は、接続部300の一部と第1金属ポスト100の一部とが第1保護層20から露出するように、第1保護層20をエッチングするステップを含むことができる。
第1金属ポスト100の高さと接続部300の高さとは、実質的に同一であるので、接続部300の周辺に形成される第1保護層20の高さと第1金属ポスト100の周辺に形成される第1保護層20の高さを異なるように形成する必要がない。
【0029】
図6fを参照すると、本発明の一実施例に係るプリント回路基板の製造工程は、第1金属ポスト100上に第2金属ポスト200を形成するステップを含むことができる。
第2金属ポスト200は、第1金属ポスト100上に形成され、一定の高さ以上の金属ポストを形成することができる。
【0030】
図6gを参照すると、本発明の一実施例に係るプリント回路基板の製造工程は、第1保護層20上に第2保護層30を形成するステップを含むことができる。
第2保護層30は、電子素子を配置するための空間を確保して形成することができる。このため、第2保護層30は、第2金属ポスト200上に形成され、接続部300上の電子素子が配置される部分を除いて形成されることが好ましい。
【0031】
図6hを参照すると、本発明の一実施例に係るプリント回路基板の製造工程は、第2保護層30の一部をエッチングして第2金属ポスト200の一部が露出するように開口部35を形成するステップを含むことができる。
第2金属ポスト200の一部が露出されて、電気的な接続が可能となるようにできる。
【0032】
本発明の実施例に係るプリント回路基板の製造工程は、金属ポストと接続部との高さの差による周辺の保護層の厚さの制御問題をより容易に解決することができる。
本発明の実施例に係るプリント回路基板は、金属ポストが多重積層される構造を有することができ、金属ポストが単一の構造物で形成される構造に比べてプリント回路基板の積層をより安定に行うことができる。
【0033】
以上、本発明の一実施例について説明したが、当該技術分野で通常の知識を有する者であれば特許請求の範囲に記載の本発明の思想から逸脱しない範囲内で、構成要素の付加、変更、削除または追加等により本発明を様々に修正及び変更することができ、これも本発明の権利範囲内に含まれるものといえよう。
【符号の説明】
【0034】
1 回路パターン
10 絶縁層
20 第1保護層
30 第2保護層
35 開口部
100 第1金属ポスト
200 第2金属ポスト
300 接続部
1000、2000、3000 プリント回路基板