ホーム > 特許ランキング > ライカ インストゥルメンツ （シンガポール） プライヴェット リミテッド > 特許7101740
特許 7101740出願番号 特願 2020-185805
光学システムならびに対応する装置、方法およびコンピュータプログラム
出願人 ライカ インストゥルメンツ （シンガポール） プライヴェット リミテッド（識別番号 516114695）
2026年 特許公開件数ランキング 1448位 11件（※）
2026年 特許取得件数ランキング 4788位 2件（※）
公報発行日 2022年7月15
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7101740 ログイン済みの方はこのURLへ
［この特許公報を共有したい場合］あなたがログインしてこの特許公報を表示すれば、他の人はログインしなくてもこのURLで見ることができるようになります。
※ 共同出願を含む
知財ポータルサイト IP Force にログインすれば、この公報の全文を閲覧できます。 ログインはこちら ログイン・ユーザー登録
技術分野
本例は、光学システムならびに対応する装置、方法およびコンピュータプログラム
発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋
拡張または統合現実環境の構想を改善したいとの要望があるかもしれない。
課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋
この要望は、独立請求項の対象によって対処される。
この特許の権利範囲[特許請求の範囲]
知財ポータルサイト IP Force にログインして確認する (無料)
この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋
【図1a】
光学システムおよび光学システムのための装置の一実施形態のブロック図
【図1b】
光学システムおよび光学システムのための装置の一実施形態のブロック図
【図1c】
光学システムおよび光学システムのための装置の一実施形態のブロック図
【図2】
光学システムのための方法の一実施形態のフローチャート
【図3】
ＡＲ／ＭＲ環境内でのオブジェクトの知覚の概略図
１００ａ 光学システム
１００ｂ 光学システム
１００ｃ 光学システム
１１０ 装置
１１２ インターフェース
１１４ 処理モジュール
１２０ ディスプレイモジュール
１３０ 照明源
１４０ 半透明ミラー
１５０ 減衰モジュール
１５５ 減衰モジュール
１６０ センサ
１７０ オブジェクト
２１０ 少なくとも１つの光学特性を決定するステップ
２２０ 視覚的コントラストを決定するステップ
２３０ 照明または光学的減衰を選択的に調整するステップ
３１０ 視覚的オーバーレイ
３２０ ユーザーの知覚
全ての図面はログインすると無料で閲覧できます。ログイン・ユーザー登録
［広告欄］
ログインすれば広告は減ります
ログインすれば広告は減ります