(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2022-07-08
(45)【発行日】2022-07-19
(54)【発明の名称】光モジュール及びその製造方法
(51)【国際特許分類】
G02B 6/30 20060101AFI20220711BHJP
G02B 6/122 20060101ALI20220711BHJP
【FI】
G02B6/30
G02B6/122
(21)【出願番号】P 2019525114
(86)(22)【出願日】2018-04-02
(86)【国際出願番号】 JP2018014099
(87)【国際公開番号】W WO2018235381
(87)【国際公開日】2018-12-27
【審査請求日】2019-12-03
(31)【優先権主張番号】P 2017119326
(32)【優先日】2017-06-19
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
【前置審査】
(73)【特許権者】
【識別番号】000005186
【氏名又は名称】株式会社フジクラ
(74)【代理人】
【識別番号】110000338
【氏名又は名称】特許業務法人HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK
(72)【発明者】
【氏名】小田 拓弥
【審査官】奥村 政人
(56)【参考文献】
【文献】国際公開第2012/114866(WO,A1)
【文献】特開2003-302545(JP,A)
【文献】特開2004-233982(JP,A)
【文献】特開2004-151391(JP,A)
【文献】特開平02-195309(JP,A)
【文献】特開平06-300939(JP,A)
【文献】国際公開第2014/176175(WO,A1)
(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
G02B 6/12- 6/14
G02B 6/30
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
基板型光導波路と、
上記基板型光導波路に入力する光、又は、上記基板型光導波路から出力された光を導波する光ファイバと、を備え、
上記基板型光導波路と上記光ファイバとの端面間距離z[μm]は、5μm以上20μm以下であり、
上記基板型光導波路のコアを導波される導波モードのスポットサイズw1であって、上記基板型光導波路の端面のうち、上記光ファイバに対向する端面におけるスポットサイズw1、及び、上記光ファイバのコアを導波される導波モードのスポットサイズw2であって、上記光ファイバの端面のうち、上記基板型光導波路に対向する端面におけるスポットサイズw2は、
1<w2/w1<(0.506z-0.867)×w1
(0.0531z-3.7715)
+1を満たすように設定されており、
上記スポットサイズw1は、
0.8μm以上3μm以下である、
ことを特徴とする光モジュール。
【請求項2】
上記スポットサイズw1及び上記スポットサイズw2は、
上記基板型光導波路のコアと上記光ファイバのコアとの軸ずれ量が0のときの上記基板型光導波路と上記光ファイバとの結合効率η(0)が最大値を取るスポットサイズ比w2/w1をβとして、
β<w2/w1<(0.506z-0.867)×w1
(0.0531z-3.7715)
+1を満たすように設定されている、
ことを特徴とする請求項1に記載の光モジュール。
【請求項3】
上記基板型光導波路と上記光ファイバとの端面間距離を5μmとして、
上記スポットサイズw1及び上記スポットサイズw2は、1<w2/w1<1.662×w1
-3.554+1を満たすように設定されている、
ことを特徴とする請求項1に記載の光モジュール。
【請求項4】
上記スポットサイズw1及び上記スポットサイズw2は、0.058w1
4-0.668w1
3+2.829w1
2-5.268w1+4.706<w2/w1<1.662×w1
-3.554+1を満たすように設定されている、
ことを特徴とする請求項3に記載の光モジュール。
【請求項5】
上記基板型光導波路と上記光ファイバとの端面間距離を10μmとして、
上記スポットサイズw1及び上記スポットサイズw2は、1<w2/w1<4.195×w1
-3.168+1を満たすように設定されている、
ことを特徴とする請求項1に記載の光モジュール。
【請求項6】
上記スポットサイズw1及び上記スポットサイズw2は、0.070w1
4-0.827w1
3+3.646w1
2-7.229w1+6.614<w2/w1<4.195×w1
-3.168+1を満たすように設定されている、
ことを特徴とする請求項5に記載の光モジュール。
【請求項7】
上記基板型光導波路と上記光ファイバとの端面間距離を20μmとして、
上記スポットサイズw1及び上記スポットサイズw2は、1<w2/w1<9.253×w1
-2.733+1を満たすように設定されている、
ことを特徴とする請求項1に記載の光モジュール。
【請求項8】
上記スポットサイズw1及び上記スポットサイズw2は、0.093w1
4-1.097w1
3+4.855w1
2-9.872w1+9.217<w2/w1<9.253×w1
-2.733+1を満たすように設定されている、
ことを特徴とする請求項7に記載の光モジュール。
【請求項9】
上記スポットサイズw1及び上記スポットサイズw2は、(0.0023z+0.0465)w1
4-(0.0284z+0.533)w1
3+(0.133z+2.2245)w1
2-(0.3008z+3.9465)w1+(0.295z+3.4045)<w2/w1<(0.506z-0.867)×w1
(0.0531z-3.7715)+1を満たすように設定されている、
ことを特徴とする請求項
1に記載の光モジュール。
【請求項10】
基板型光導波路と、上記基板型光導波路に入力する光、又は、上記基板型光導波路から出力された光を導波する光ファイバと、を備えた光モジュールを製造する製造方法において、
上記基板型光導波路と上記光ファイバとの端面間距離z[μm]は、5μm以上20μm以下であり、
上記基板型光導波路のコアを導波される導波モードのスポットサイズw1であって、上記基板型光導波路の端面のうち、上記光ファイバに対向する端面におけるスポットサイズw1、及び、上記光ファイバのコアを導波される導波モードのスポットサイズw2であって、上記光ファイバの端面のうち、上記基板型光導波路に対向する端面におけるスポットサイズw2を、
1<w2/w1<(0.506z-0.867)×w1
(0.0531z-3.7715)
+1を満たすように設定する設定工程を含んでおり、
上記スポットサイズw1は、
0.8μm以上3μm以下である、
ことを特徴とする製造方法。
【請求項11】
上記設定工程において、上記スポットサイズw1及び上記スポットサイズw2を、
上記基板型光導波路のコアと上記光ファイバのコアとの軸ずれ量が0のときの上記基板型光導波路と上記光ファイバとの結合効率η(0)が最大値を取るスポットサイズ比w2/w1をβとして、
β<w2/w1<(0.506z-0.867)×w1
(0.0531z-3.7715)
+1を満たすように設定する、
ことを特徴とする請求項
10に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、基板型光導波路と光ファイバとを備えた光モジュールに関する。また、そのような光モジュールを製造する製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
近年、シリコン導波路やリン化インジウム導波路などの基板型光導波路の開発が精力的に進められている。これらの基板型光導波路は、コア-クラッド間の屈折率差が大きく、光の閉じ込め効果が強いため、導波モードのモードフィールド径を1μm以下に抑えることができる。
【0003】
基板型光導波路に対する光の入出力には、通常、光ファイバが用いられる。ところが、光ファイバにおける導波モードのモードフィールド径は、通常、基板型光導波路における導波モードのモードフィールド径よりも大きい。例えば、典型的なシリコン導波路における導波モードのモードフィールド径が約0.2μmであるのに対して、典型的なシングルモードファイバにおける導波モードのモードフィールド径は約10μmである。このため、基板型光導波路と光ファイバとを備えた光モジュールにおいては、基板型光導波路と光ファイバとの間のモードフィールド径の不整合を解消し、基板型光導波路と光ファイバとの結合効率を向上させることが重要になる。
【0004】
基板型光導波路と光ファイバとの間のモードフィールド径の不整合を解消する手法としては、基板型光導波路における導波モードのモードフィールド径を入出射端面近傍において大きくする手法と、光ファイバにおける導波モードのモードフィールド径を出入射端面近傍において小さくする手法とが挙げられる。前者の手法に関しては、例えば、基板型光導波路の入出射端面近傍にスポットサイズ変換器を設けることにより、導波モードのモードフィールド径を3μm~4μm程度に拡大する技術が知られている。また、後者の手法に関しては、例えば、光ファイバの出入射端面をレンズ加工することにより、導波モードのモードフィールド径を縮小する技術が知られている。これらの技術を併用することにより、基板型光導波路と光ファイバとの結合効率を向上させることができる。
【0005】
基板型光導波路と光ファイバとの結合効率が高い光モジュールを実現するためには、もうひとつ重要な点がある。それは、基板型光導波路のコアの中心軸と光ファイバのコアの中心軸とを精度良く一致させることである。なぜなら、基板型光導波路のコアと光ファイバのコアと間に僅かでも軸ずれが生じると、基板型光導波路と光ファイバとの結合効率が著しく低下するからである。光ファイバを基板型光導波路に固定するための樹脂の膨張又は収縮に伴う軸ずれは、使用時の結合効率の低下を招来するため、注意を払う必要がある。
【0006】
光ファイバから出射され基板型光導波路に入射する光が波長λのガウシアンビームであると仮定すると、光ファイバと基板型光導波路の結合効率ηは、下記の式により与えられる。下記の式において、w1は、基板型光導波路の出射端面近傍における導波モードのスポットサイズであり、w2は、光ファイバの入射端面近傍における導波モードのスポットサイズである。また、zは、基板型光導波路の入射端面と光ファイバの出射端面との距離であり、xは、基板型光導波路のコアの中心軸と光ファイバのコアの中心軸との距離(以下、「軸ずれ量」という)である。ここでは、基板型光導波路のコアの中心軸と直交する方向のうち、光ファイバが変位し得る方向と平行にx軸を取り、光ファイバのコアの中心軸が基板型光導波路のコアの中心軸よりもx軸正方向側にあるとき、軸ずれ量xの符号を正とし、光ファイバのコアの中心軸が基板型光導波路のコアの中心軸よりもx軸負方向側にあるとき、軸ずれ量xの符号を負としている。
【数1】
【0007】
λ=1.55μm、w1=w2=1.5μm、z=5μmのとき、上記の式により与えられる軸ずれ量xと結合効率ηとの関係を表すグラフを
図8に示す。
図8に示すグラフによれば、基板型光導波路のコアと光ファイバのコアと間に1μm程度の軸ずれが生じると、基板型光導波路と光ファイバとの結合効率ηが2dB程度低下することが分かる。
【0008】
なお、従来の光モジュールにおいては、基板型光導波路側のスポットサイズw1を光ファイバ側のスポットサイズw2よりも大きくする構成(特許文献1参照)を採用するか、又は、基板型光導波路側のスポットサイズw1を光ファイバ側のスポットサイズw2に近づけ(特許文献2参照)、基板型光導波路側のスポットサイズw1を光ファイバ側のスポットサイズw2に一致させる構成を採用することが一般的であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0009】
【文献】日本国公開特許公報「特開平11-218626号公報」
【文献】日本国公開特許公報「特開2001-242337号公報」
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0010】
しかしながら、従来の光モジュールにおいては、基板光導波路と光ファイバとの結合効率を向上させる余地が残されていた。また、基板型光導波路のコアと光ファイバのコアとの軸ずれに起因して大幅の結合効率の低下が生じないよう、結合効率に関して軸ずれに対するトレランス(以下、「軸ずれトレランス」とも記載する)を大きくすることが望まれていた。
【0011】
本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、基板型光導波路と光ファイバとの結合効率が従来よりも高い光モジュールを実現することにある。
【課題を解決するための手段】
【0012】
上記の目的を達成するために、本発明の一態様に係る光モジュールは、基板型光導波路と、上記基板型光導波路に入力する光、又は、上記基板型光導波路から出力された光を導波する光ファイバと、を備え、上記基板型光導波路のコアを導波される導波モードの端面におけるスポットサイズw1、及び、上記光ファイバのコアを導波される導波モードの端面におけるスポットサイズw2は、上記基板型光導波路のコアと上記光ファイバのコアとの軸ずれ量が0のときの上記基板型光導波路と上記光ファイバとの結合効率η(0)がw2/w1=1の場合と同じになるスポットサイズ比w2/w1をαとして、1<w2/w1<αを満たすように設定されている、ことを特徴とする。
【0013】
上記の目的を達成するために、本発明の一態様に係る製造方法は、基板型光導波路と、上記基板型光導波路に入力する光、又は、上記基板型光導波路から出力された光を導波する光ファイバと、を備えた光モジュールを製造する製造方法において、上記基板型光導波路のコアを導波される導波モードのスポットサイズw1、及び、上記光ファイバのコアを導波される導波モードのスポットサイズw2を、上記基板型光導波路のコアと上記光ファイバのコアとの軸ずれ量が0のときの上記基板型光導波路と上記光ファイバとの結合効率η(0)がw2/w1=1の場合と同じになるスポットサイズ比w2/w1をαとして、1<w2/w1<αを満たすように設定する設定工程を含んでいる、ことを特徴とする。
【発明の効果】
【0014】
本発明の一態様によれば、軸ずれ量が0のときの結合効率η(0)が従来よりも大きい基板型光導波路を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【0015】
【
図1】本発明の一実施形態に係る光モジュールの構成を示す図である。(a)は、その光モジュールの平面図であり、(b)は、その光モジュールの断面図である。
【
図2】基板型光導波路のコア及び光ファイバのコアの側面図である。(a)には、それぞれのコアを導波される導波モードのモードプロファイルを併記しており、(b)には、軸ずれ量x及び端面間距離zを表す矢印を併記している。
【
図3】(a)は、スポットサイズ比w2/w1が1,1.2,1.55,2,2.41,2.8の場合について、結合効率η[dB]を軸ずれ量x[μm]の関数として表したグラフである。(b)は、軸ずれ量xが1のときの結合効率η[dB]の変化率dη/dx(1)[dB/μm]をスポットサイズ比w2/w1の関数として表したグラフである。(c)は、軸ずれ量xが0のときの結合効率η(0)[dB]をスポットサイズ比w2/w1の関数として表したグラフである。
【
図4】(a)は、端面間距離zが10μm、スポットサイズw1が0.8,1.0,1.5,2.0,2.5,3.0の場合について、軸ずれ量xが0のときの結合効率η(0)[dB]をスポットサイズ比w2/w1の関数として表したグラフである。(b)は、端面間距離zが10の場合について、軸ずれ量xが0のときの結合効率η(0)がw2/w1=1の場合と同じになるスポットサイズ比α、及び、軸ずれ量xが0のときの結合効率η(0)が最大値を取るスポットサイズ比βをスポットサイズw1の関数として表したグラフである。(c)は、端面間距離zが5,10,20の場合について、軸ずれ量xが0のときの結合効率η(0)がw2/w1=1の場合と同じになるスポットサイズ比α、及び、軸ずれ量xが0のときの結合効率η(0)が最大値を取るスポットサイズ比βをスポットサイズw1の関数として表したグラフである。
【
図5】
図4の(c)に示すスポットサイズ比αのグラフを最良近似する曲線α=a×w1
b+1の係数a,bと端面間距離zとの関係を表したグラフである。
【
図6】
図4の(c)に示すスポットサイズ比βのグラフを最良近似する曲線β=aw1
4+bw1
3+cw1
2+dw+eの係数a,b,c,d,eと端面間距離zとの関係を表したグラフである。
【
図7】結合効率上昇量をスポットサイズw1の関数として表したグラフである。(a)は、z=5μmの場合のグラフであり、(b)は、z=10μmの場合のグラフであり、(c)は、z=20の場合のグラフである。
【
図8】従来の光モジュールにおける軸ずれ量xと結合効率ηとの関係を表すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【0016】
〔光モジュールの構成〕
本発明の一実施形態に係る光モジュール1の構成について、
図1を参照して説明する。
図1において、(a)は、光モジュール1の平面図であり、(b)は、AA’断面における光モジュール1の断面図である。なお、以下の説明においては、図示した座標系においてX軸正方向を「上」、X軸負方向を「下」、Y軸正方向を「右」、Y軸負方向を「左」、Z軸正方向を「前」、Z軸負方向を「後」と記載する。ただし、「上」「下」「右」「左」「前」「後」の記載は、光モジュール1の構造を簡潔に説明するために便宜的に用いているに過ぎず、光モジュール1の配置に何ら制約を加えるものではない。
【0017】
光モジュール1は、
図1に示すように、基板型光導波路11と、光ファイバ12とを備えている。光ファイバ12は、基板型光導波路11に入力される入力光を導波するための、又は、基板型光導波路11から出力される出力光を導波するための光ファイバである。
【0018】
基板型光導波路11は、基板にコア111及び凹部112を形成したものである。本実施形態においては、SOI(Silicon on Insulator)基板にコア111及び凹部112を形成したシリコン導波路を基板型光導波路11とて用いる。基板型光導波路11は、図示した座標系において、2つの主面(上面及び下面)がX軸正方向及びX軸負方向を向くように、かつ、4つの側面がY軸正方向及びY軸負方向並びにZ軸正方向及びZ軸負方向を向くように配置される。
【0019】
凹部112は、基板型光導波路11の上面11Uの後端に形成された、光ファイバ12の先端部を配置するための空間である。凹部112は、上方及び後方が開放され、下方、前方、右方、及び左方が基板型光導波路11の端面により囲まれた直方体状の凹部であり、基板型光導波路11の上面11Uと後側面11Bとが交わる角に形成されている。
【0020】
コア111は、基板型光導波路11の内部に形成された、光を導波するための領域であり、基板型光導波路11の他の部分(例えば、クラッドとして機能するシリカ膜)よりも屈折率の高い材料(例えば、シリコン)により構成されている。コア111は、凹部112の前方に位置する基板型光導波路11の端面11Sにおいて露出している。この端面11Sの近傍におけるコア111の中心軸は、この端面11Sに直交している。
【0021】
なお、基板型光導波路11においては、コア111を導波される導波モードのスポットサイズを拡大するスポットサイズ変換器が設けられていてもよい。スポットサイズ変換器を設けた場合、コア111を導波される導波モードの端面11Sにおけるスポットサイズを、例えば、3μm又は1.5μm程度にまで拡大することができる。また、基板型光導波路11の内部におけるコア111の経路は、基板型光導波路11の
図1に示されていない部分において任意である。基板型光導波路11には、コア111を伝播する光に作用する不図示の機能部が形成されていてもよい。例えば、コア111を伝播する光を変調する変調する変調部が設けられていてもよい。
【0022】
光ファイバ12は、円柱状のコア121と、コア121の側面を覆う円筒状のクラッド122とを備えている。本実施形態においては、シリカガラス製のコア121及びクラッド122を備えたシングルモードファイバを光ファイバ12として用いる。なお、コア121又はクラッド122には、クラッド122の屈折率をコア121の屈折率よりも低くするためのドーパントが添加されており、光ファイバ12に導波される入力光は、この屈折率差によりコア121に閉じ込められる。コア121は、光ファイバ12の端面12Sにおいて露出している。
【0023】
光ファイバ12の先端部は、光ファイバ12の端面12Sにおけるコア121と基板型光導波路11の端面11Sにおけるコア111とが対向するように、基板型光導波路11の凹部112に配置される。そして、光ファイバ12の先端部は、基板型光導波路11の凹部112に注入された樹脂材13によって基板型光導波路11に固定される。このとき、光ファイバ12の端面12Sの近傍におけるコア121の中心軸は、基板型光導波路11の端面11Sの近傍におけるコア111の中心軸と平行になる。なお、樹脂材13は、光ファイバ12の端面12Sと基板型光導波路11の端面11Sとの間に進入しないよう、凹部112の後方に偏って注入されている。
【0024】
なお、光ファイバ12においては、コア121を導波される光のスポットサイズを縮小するスポットサイズ変換器が設けられていてもよい。利用可能なスポットサイズ変換器としては、レンズドファイバ、グリンレンズファイバ、高NAファイバなどが挙げられる。スポットサイズ変換器を設けた場合、コア121を導波される導波モードの端面12Sにおけるスポットサイズを、基板型光導波路11のコア111を導波される導波モードの端面11Sにおけるスポットサイズと同程度にまで縮小することができる。また、本実施形態においては、光ファイバ12を基板型光導波路11に固定するための固定材として樹脂材13を用いているが、本発明は、これに限定されない。すなわち、光ファイバ12を基板型光導波路11に固定するための固定材として、樹脂以外の固定材、例えば半田を用いてもよい。また、本実施形態においては、基板型光導波路11の凹部112に樹脂材13を注入するが、本発明は、これに限定されない。すなわち、凹部に代えて例えばV字状の溝を基板型光導波路に形成し、V字状の溝に樹脂材13を注入してもよい。また、本実施形態においては、光ファイバ12を固定材によって基板型光導波路11に固定しているが、本発明は、これに限定されない。すなわち、固定材による固定以外の固定方法で光ファイバを基板型光導波路に固定してもよい。
【0025】
〔スポットサイズの設定〕
以下、基板型光導波路11のコア111を導波される導波モード(例えば、基本モード)のスポットサイズw1、及び、光ファイバ12のコア121を導波される導波モード(例えば、基本モード)スポットサイズw2について検討する。ここで、基板型光導波路11のコア111を導波される導波モードのスポットサイズw1とは、
図2の(a)に示すように、基板型光導波路11の端面11Sにおいて当該導波モードの強度がピーク強度の1/e
2以上となる領域の半径のことを指し、当該導波モードのモードフィールド径の1/2に相当する。同様に、光ファイバ12のコア121を導波される導波モードのスポットサイズw2とは、
図2の(a)に示すように、光ファイバ12の端面12Sにおいて当該導波モードの強度がピーク強度の1/e
2以上となる領域の半径のことを指し、当該導波モードのモードフィールド径の1/2に相当する。スポットサイズw1に対するスポットサイズw2の比w2/w1のことを、「スポットサイズ比」と記載する。
【0026】
なお、
図2の(b)に示すように、基板型光導波路11のコア111の中心軸から光ファイバ12のコア121の中心軸までの距離を「軸ずれ量」と記載し、記号xで表す。また、
図2の(b)に示すように、基板型光導波路11の端面11Sから光ファイバ12の端面12Sまでの距離を「端面間距離」と記載し、記号zで表す。なお、軸ずれ量xの符号は、以下のように定める。すなわち、光ファイバ12のコア121の中心軸と直交する方向のうち、光ファイバ12が変位し得る方向と平行にx軸を取り、(1)光ファイバ12のコア121の中心軸が基板型光導波路11のコア111の中心軸よりもx軸正方向側にあるとき、軸ずれ量xの符号を正とし、(2)光ファイバ12のコア121の中心軸が基板型光導波路11のコア111の中心軸よりもx軸負方向側にあるとき、軸ずれ量xの符号を負とする。端面間距離zの符号は、常に正である。
【0027】
図3の(a)は、スポットサイズ比w2/w1が1,1.2,1.55,2,2.41,2.8の場合について、基板型光導波路11のコア111と光ファイバ12のコア121との結合効率η[dB]を軸ずれ量x[μm]の関数として表したグラフである。ここでは、スポットサイズw1を1.5μmとし、端面間距離zを10μmとし、波長λを1.55μmとしている。
図3の(a)に示すグラフからは、いずれの場合においても、軸ずれ量xが0のとき結合効率ηが最大となり、軸ずれ量xの絶対値|x|が大きくなるほど、結合効率ηが減少することが見て取れる。この傾向は、スポットサイズw1及び端面間距離zに依らず成り立つ。
【0028】
図3の(b)は、軸ずれ量xが1のときの結合効率η[dB]の変化率dη/dx(1)[dB/μm]をスポットサイズ比w2/w1の関数として表したグラフである。ここでも、スポットサイズw1を1.5μmとし、端面間距離zを10μmとし、波長λを1.55μmとしている。
図3の(b)に示すグラフからは、w2/w1が大きくなるほど、dη/dx(1)の絶対値|dη/dx(1)|が減少することが見て取れる。これは、w2/w1を大きくなるほど、軸ずれトレランス(結合効率ηに関する軸ずれ量xのトレランス)が大きくなることを意味する。
【0029】
図3の(c)は、軸ずれ量xが0のときの結合効率η(0)[dB]をスポットサイズ比w2/w1の関数として表したグラフである。
図3の(c)に示すグラフにおいては、各スポットサイズ比w2/w1における結合効率η(0)からw2/w1=1における結合効率η(0)を減じた差分値(結合効率上昇量)を縦軸としている。ここでも、スポットサイズw1を1.5μmとし、端面間距離zを10μmとし、波長λを1.55μmとしている。
図3の(c)に示すグラフからは、w2/w1=2.41のとき、η(0)がw2/w1=1のときと同じになり、1<w2/w1<2.41のとき、η(0)がw2/w1=1のときよりも大きくなることが見て取れる。そして、w2/w1=1.55のとき、η(0)が最大値を取り、η(0)がw2/w1=1のときよりも大きくなるスポットサイズ比w2/w1の範囲「1<w2/w1<2.41」は、軸ずれトレランスが相対的に小さい第1の範囲「1<w2/w1<1.55」と、軸ずれトレランスが相対的に大きい第2の範囲「1.55<w2/w1<2.41」とに二分されることが見て取れる。
【0030】
図3の(c)から得られた上記の知見は、以下のように一般化することができる。すなわち、第1に、軸ずれ量xが0のときの結合効率η(0)がw2/w1=1の場合と同じになるスポットサイズ比αが存在する。そして、1<w2/w1<αであるとき、軸ずれ量xが0のときの結合効率η(0)がw2/w1=1のときよりも大きくなる。第2に、軸ずれ量xが0のときの結合効率η(0)が最大値を取るスポットサイズ比βが存在する。そして、軸ずれ量xが0のときの結合効率η(0)がw2/w1=1のときよりも大きくなるスポットサイズ比w2/w1の範囲「1<w2/w1<α」は、(1)軸ずれトレランスが相対的に小さい第1の範囲「1<w2/w1<β」と、(2)軸ずれトレランスが相対的に大きい第2の範囲「β<w2/w1<α」とに二分される。
【0031】
したがって、本実施形態に係る光モジュール1においては、第1の条件「1<W2/W1<α」を満たすようにスポットサイズw1,w2を設定することが好ましい。ここで、αは、軸ずれ量xが0のときの結合効率η(0)がw2/w1=1の場合と同じになるスポットサイズ比w2/w1である。これにより、軸ずれ量xが0のときの結合効率η(0)がw2/w1=1のときよりも大きい光モジュール1を実現することができる。
【0032】
また、本実施形態に係る光モジュール1においては、第2の条件「β<W2/W1<α」を満たすようにスポットサイズw1,w2を設定することが更に好ましい。ここで、βは、軸ずれ量xが0のときの結合効率η(0)が最大値を取るスポットサイズ比である。これにより、軸ずれ量xが0のときの結合効率η(0)がw2/w1=1のときよりも大きく、かつ、軸ずれトレランスが大きい係る光モジュール1を実現することができる。
【0033】
これらの条件に現れるスポットサイズ比α,βは、スポットサイズw1及び端面間距離zの関数として表すことができる。以下、この点について説明する。
【0034】
図4の(a)は、z=10、w1=0.8,1.0,1.5,2.0,2.5,3.0の場合について、軸ずれ量xが0のときの結合効率η(0)[dB]をスポットサイズ比w2/w1の関数として表したグラフである。
図4の(a)に示すグラフにおいては、各スポットサイズ比w2/w1における結合効率η(0)からw2/w1=1における結合効率η(0)を減じた差分値(結合効率上昇量)を縦軸としている。ここでは、端面間距離zを10μmとし、波長λを1.55μmとしている。
図4の(a)からは、スポットサイズw1が大きくなるほど、軸ずれ量xが0のときの結合効率η(0)がw2/w1=1の場合と同じになるスポットサイズ比αが次第に小さくなることが見て取れる。また、スポットサイズw1が大きくなるほど、軸ずれ量xが0のときの結合効率η(0)が最大値を取るスポットサイズ比βが次第に小さくなることが見て取れる。なお、
図4の(a)において、黒塗りの円形マークは、スポットサイズαを示し、白塗りの菱形マークは、スポットサイズβを示す。
【0035】
図4の(b)は、z=10の場合について、軸ずれ量xが0のときの結合効率η(0)がw2/w1=1の場合と同じになるスポットサイズ比α、及び、軸ずれ量xが0のときの結合効率η(0)が最大値を取るスポットサイズ比βをw1の関数として表したグラフである。ここでも、波長λを1.55μmとしている。
図4の(b)に示すグラフにおいて、スポットサイズ比αを表すグラフの下側の領域が上述した第1の条件を満たす領域であり、スポットサイズ比αを表すグラフとスポットサイズ比βを表すグラフとに挟まれた領域が上述した第2の条件を満たす領域である。
【0036】
図4の(c)は、z=5,10,20の場合について、軸ずれ量xが0のときの結合効率η(0)がw2/w1=1の場合と同じになるスポットサイズ比α、及び、軸ずれ量xが0のときの結合効率η(0)が最大値を取るスポットサイズ比βをw1の関数として表したグラフである。ここでも、波長λを1.55μmとしている。何れの場合についても、スポットサイズ比αを表すグラフの下側の領域が上述した第1の条件を満たす領域であり、スポットサイズ比αを表すグラフとスポットサイズ比βを表すグラフとに挟まれた領域が上述した第2の条件を満たす領域である。
【0037】
図4の(c)に示すスポットサイズ比αのグラフは、曲線α=a×w1
b+1を用いて良く近似することができる。z=5,10,20の場合について、二乗誤差を最小にする係数a,bを求めると、下記の表1のようになる。
【0038】
【0039】
そして、zの関数として見た係数aは、
図5の(a)に示すように、線形近似することができる。二乗誤差を最小にする近似直線は、a=0.506z-0.867である。また、zの関数として見た係数bは、
図5の(b)に示すように、線形近似することができる。二乗誤差を最小にする近似直線は、b=0.0531z-3.7715である。
【0040】
したがって、軸ずれ量xが0のときの結合効率η(0)がw2/w1=1の場合と同じになるスポットサイズ比αは、近似的に以下のように表せる。
【0041】
z=5の場合:
α=1.662×w1-3.554+1。
【0042】
z=10の場合:
α=4.195×w1-3.168+1。
【0043】
z=20の場合:
α=9.253×w1-2.733+1。
【0044】
一般の場合:
α=(0.506z-0.867)×w1(0.0531z-3.7715)+1。
【0045】
同様に、
図4の(c)に示すスポットサイズ比βのグラフは、曲線β=aw1
4+bw1
3+cw1
2+dw1+eを用いて良く近似することができる。z=5,10,20の場合について、二乗誤差を最小にする係数a,b,c,d,eを求めると、下記の表2に示す結果が得られる。
【0046】
【0047】
そして、zの関数として見た係数aは、
図6の(a)に示すように、線形近似することができる。二乗誤差を最小にする近似直線は、a=0.0023z+0.0465である。また、zの関数として見た係数bは、
図6の(b)に示すように、線形近似することができる。二乗誤差を最小にする近似直線は、b=-0.0284z+0.533である。また、zの関数として見た係数cは、
図6の(c)に示すように、線形近似することができる。二乗誤差を最小にする近似直線は、c=0.133z+2.2245である。また、zの関数として見た係数dは、
図6の(d)に示すように、線形近似することができる。二乗誤差を最小にする近似直線は、d=-0.3008z-3.9465である。また、zの関数として見た係数eは、
図6の(e)に示すように、線形近似することができる。二乗誤差を最小にする近似直線は、e=0.295z+3.4045である。
【0048】
したがって、軸ずれ量xが0のときの結合効率η(0)が最大値を取るスポットサイズ比βは、近似的に以下のように表せる。
【0049】
z=5の場合:
β=0.058w14-0.668w13+2.829w12-5.268w1+4.706。
【0050】
z=10の場合:
β=0.070w14-0.827w13+3.646w12-7.229w1+6.614。
【0051】
z=20の場合:
β=0.093w14-1.097w13+4.855w12-9.872w1+9.217。
【0052】
一般の場合:
β=(0.0023z+0.0465)w14
-(0.0284z+0.533)w13
+(0.133z+2.2245)w12
-(0.3008z+3.9465)w1
+(0.295z+3.4045)。
【0053】
最後に、結合効率上昇量の最大値とスポットサイズw1との関係について、
図7を参照して説明する。
図7は、結合効率上昇量の最大値をスポットサイズw1の関数として表したグラフである。
図7において、(a)は、z=5μmの場合のグラフであり、(b)は、z=10μmの場合のグラフであり、(c)は、z=20の場合のグラフである。
【0054】
スポットサイズw1は、3μm以下であることが好ましく、2μm以下であることが更に好ましい。z=5μmの場合、スポットサイズw1が3μm以下であれば、結合効率上昇量
の最大値を0.001dB以上にでき、スポットサイズw1が2μm以下であれば、結合効率上昇量
の最大値を0.01dB以上にできることが、
図7の(a)から分かる。また、z=10μmの場合、スポットサイズw1が3μm以下であれば、結合効率上昇量
の最大値を0.01dB以上にでき、スポットサイズw1が2μm以下であれば、結合効率上昇量
の最大値を0.1dB以上にできることが、
図7の(b)から分かる。また、z=20μmの場合、スポットサイズw1が3μm以下であれば、結合効率上昇量
の最大値を0.1dB以上にでき、スポットサイズw1が2μm以下であれば、結合効率上昇量
の最大値を1dB以上にできることが、
図7の(c)から分かる。
【0055】
〔まとめ〕
本実施形態に係る光モジュール(1)は、基板型光導波路(11)と、上記基板型光導波路(11)に入力する光、又は、上記基板型光導波路(11)から出力された光を導波する光ファイバ(12)と、を備え、上記基板型光導波路(11)のコア(111)を導波される導波モードの端面(11S)におけるスポットサイズw1、及び、上記光ファイバ(12)のコア(121)を導波される導波モードの端面(12S)におけるスポットサイズw2は、上記基板型光導波路(11)のコア(111)と上記光ファイバ(12)のコア(121)との軸ずれ量が0のときの上記基板型光導波路(11)と上記光ファイバ(12)との結合効率η(0)がw2/w1=1の場合と同じになるスポットサイズ比w2/w1をαとして、1<w2/w1<αを満たすように設定されている、ことを特徴とする。
【0056】
上記の構成によれば、軸ずれ量が0のときの結合効率η(0)が従来(スポットサイズ比w2/w1が1以下である場合)よりも大きい光モジュールを実現することができる。
【0057】
本実施形態に係る光モジュール(1)において、上記スポットサイズw1及び上記スポットサイズw2は、上記結合効率η(0)が最大値を取るスポットサイズ比w2/w1をβとして、β<w2/w1<αを満たすように設定されている、ことが好ましい。
【0058】
上記の構成によれば、軸ずれ量が0のときの結合効率η(0)が従来よりも大きく、かつ、軸ずれトレランスが大きい光モジュールを実現することができる。
【0059】
本実施形態に係る光モジュール(1)において、上記スポットサイズw1及び上記スポットサイズw2は、1<w2/w1<1.662×w1-3.554+1を満たすように設定されている、ことが好ましい。
【0060】
上記の構成によれば、基板型光導波路と光ファイバとの端面間距離が5μm程度である場合に、軸ずれ量が0のときの結合効率η(0)が従来よりも大きい光モジュールを実現することができる。
【0061】
本実施形態に係る光モジュール(1)において、上記スポットサイズw1及び上記スポットサイズw2は、0.058w14-0.668w13+2.829w12-5.268w1+4.706<w2/w1<1.662×w1-3.554+1を満たすように設定されている、ことが好ましい。
【0062】
上記の構成によれば、基板型光導波路と光ファイバとの端面間距離が5μm程度である場合に、軸ずれ量が0のときの結合効率η(0)が従来よりも大きく、かつ、軸ずれトレランスが大きい光モジュールを実現することができる。
【0063】
本実施形態に係る光モジュール(1)において、上記スポットサイズw1及び上記スポットサイズw2は、1<w2/w1<4.195×w1-3.168+1を満たすように設定されている、ことが好ましい。
【0064】
上記の構成によれば、基板型光導波路と光ファイバとの端面間距離が10μm程度である場合に、軸ずれ量が0のときの結合効率η(0)が従来よりも大きい光モジュールを実現することができる。
【0065】
本実施形態に係る光モジュール(1)において、上記スポットサイズw1及び上記スポットサイズw2は、0.070w14-0.827w13+3.646w12-7.229w1+6.614<w2/w1<4.195×w1-3.168+1を満たすように設定されている、ことが好ましい。
【0066】
上記の構成によれば、基板型光導波路と光ファイバとの端面間距離が10μm程度である場合に、軸ずれ量が0のときの結合効率η(0)が従来よりも大きく、かつ、軸ずれトレランスが大きい光モジュールを実現することができる。
【0067】
本実施形態に係る光モジュール(1)において、上記スポットサイズw1及び上記スポットサイズw2は、1<w2/w1<9.253×w1-2.733+1を満たすように設定されている、ことが好ましい。
【0068】
上記の構成によれば、基板型光導波路と光ファイバとの端面間距離が20μm程度である場合に、軸ずれ量が0のときの結合効率η(0)が従来よりも大きい光モジュールを実現することができる。
【0069】
本実施形態に係る光モジュール(1)において、上記スポットサイズw1及び上記スポットサイズw2は、0.093w14-1.097w13+4.855w12-9.872w1+9.217<w2/w1<9.253×w1-2.733+1を満たすように設定されている、ことが好ましい。
【0070】
上記の構成によれば、基板型光導波路と光ファイバとの端面間距離が20μm程度である場合に、軸ずれ量が0のときの結合効率η(0)が従来よりも大きく、かつ、軸ずれトレランスが大きい光モジュールを実現することができる。
【0071】
本実施形態に係る光モジュール(1)においては、上記基板型光導波路(11)と上記光ファイバ(12)との端面間距離をzとして、上記スポットサイズw1及び上記スポットサイズw2は、1<w2/w1<(0.506z-0.867)×w1(0.0531z-3.7715)+1を満たすように設定されている、ことが好ましい。
【0072】
上記の構成によれば、軸ずれ量が0のときの結合効率η(0)が従来(スポットサイズ比w2/w1が1以下である場合)よりも大きい光モジュールを実現することができる。
【0073】
本実施形態に係る光モジュール(1)においては、上記スポットサイズw1及び上記スポットサイズw2は、(0.0023z+0.0465)w14-(0.0284z+0.533)w13+(0.133z+2.2245)w12-(0.3008z+3.9465)w1+(0.295z+3.4045)<w2/w1<(0.506z-0.867)×w1(0.0531z-3.7715)+1を満たすように設定されている、ことが好ましい。
【0074】
上記の構成によれば、軸ずれ量が0のときの結合効率η(0)が従来よりも大きく、かつ、軸ずれトレランスが大きい光モジュールを実現することができる。
【0075】
本実施形態に係る光モジュール(1)において、上記スポットサイズw1は、3μm以下である、ことが好ましい。
【0076】
上記の構成によれば、結合効率上昇量を十分に大きくすることができる。
【0077】
本実施形態に係る製造方法は、基板型光導波路(11)と、上記基板型光導波路(11)に入力する光、又は、上記基板型光導波路(11)から出力された光を導波する光ファイバ(12)と、を備えた光モジュール(1)を製造する製造方法において、上記基板型光導波路(11)のコア(111)を導波される導波モードのスポットサイズw1、及び、上記光ファイバ(12)のコア(121)を導波される導波モードのスポットサイズw2を、上記基板型光導波路(11)のコア(111)と上記光ファイバ(12)のコア(121)との軸ずれ量が0のときの上記基板型光導波路(11)と上記光ファイバ(12)との結合効率η(0)がw2/w1=1の場合と同じになるスポットサイズ比w2/w1をαとして、1<w2/w1<αを満たすように設定する設定工程を含んでいる、ことを特徴とする。
【0078】
上記の製造方法によれば、軸ずれ量が0のときの結合効率η(0)が従来(スポットサイズ比w2/w1が1以下である場合)よりも大きい光モジュールを製造することができる。
【0079】
本実施形態に係る製造方法においては、上記設定工程において、上記スポットサイズw1及び上記スポットサイズw2を、上記結合効率η(0)が最大値を取るスポットサイズ比w2/w1をβとして、β<w2/w1<αを満たすように設定する、ことが好ましい。
【0080】
上記の製造方法によれば、軸ずれ量が0のときの結合効率η(0)が従来よりも大きく、かつ、軸ずれトレランスが大きい光モジュールを製造することができる。
【0081】
〔付記事項〕
本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能である。すなわち、請求項に示した範囲で適宜変更した技術的手段を組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。また、上述した実施形態に示した設定方法に従ってスポットサイズw1,w2を設定する設定工程を含む光モジュールの製造方法についても、本発明の範疇に含まれる。
【符号の説明】
【0082】
1 光モジュール
11 基板型光導波路
111 コア
112 凹部
12 光ファイバ
121 コア
122 クラッド
x 軸ずれ量
z 端面間距離
w1 スポットサイズ(基板型光導波路)
w2 スポットサイズ(光ファイバ)