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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2022-07-11
(45)【発行日】2022-07-20
(54)【発明の名称】光減衰部付き光導波路フィルムおよび光学部品
(51)【国際特許分類】
G02B 6/12 20060101AFI20220712BHJP
G02B 6/36 20060101ALI20220712BHJP
G02B 6/30 20060101ALI20220712BHJP
【ＦＩ】
G02B6/12 351
G02B6/36 301
G02B6/30
【請求項の数】
12
(21)【出願番号】P 2017226521
(22)【出願日】2017-11-27
(65)【公開番号】P2019095683
(43)【公開日】2019-06-20
【審査請求日】2020-10-21
(73)【特許権者】
【識別番号】000002141
【氏名又は名称】住友ベークライト株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100110928
【弁理士】
【氏名又は名称】速水 進治
(72)【発明者】
【氏名】兼田 幹也
【審査官】井部 紗代子
(56)【参考文献】
【文献】特開２００５－１８９５２５（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開平１１－１１９０４２（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開平０８－２６２２４５（ＪＰ，Ａ）
【文献】米国特許出願公開第２００８／０２８６５８０（ＵＳ，Ａ１）
【文献】特開２０１６－１０２８８３（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００６－０９１７８５（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００２－００６１６０（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｇ０２Ｂ ６／１２ － ６／１４
Ｇ０２Ｂ ６／２６ － ６／２７
Ｇ０２Ｂ ６／３０ － ６／３４
Ｇ０２Ｂ ６／４２ － ６／４３
ＪＳＴｐｌｕｓ／ＪＳＴＣｈｉｎａ／ＪＳＴ７５８０（ＪＤｒｅａｍＩＩＩ）
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
下部クラッド層と、前記下部クラッド層上に設けられたパターン状の複数のコア部と、
前記コア部上に設けられた上部クラッド層と、を備えており、
前記コア部中に屈折率が異なる光減衰部を備え、前記コア部は、スリット状の前記光減衰部を複数個含む、光減衰部付き光導波路フィルムであって、
下記の測定条件に従って求められる、光の斜め成分が異なる２つの光源に基づく減衰量比を表すＸ／Ｙが、０．５５以上０．７０以下であり、かつ、減衰量Ｘが、１．２ｄＢ以上９．０ｄＢ以下である、光減衰部付き光導波路フィルム。
（測定条件）
社団法人 日本電子回路工業会が規定した「高分子光導波路の試験方法（ＪＰＣＡ－ＰＥ０２－０５－０１Ｓ－２００８）」の４．６．１挿入損失の測定方法に準拠して、第１光源を用いて、８５０ｎｍの光を５０μｍ径のグレーデッドインデックス型光ファイバＡを経由して前記コア部の一端から第１光信号を入力し、前記コア部の他端から前記第１光信号を出力したときの光を５０μｍ径のグレーデッドインデックス型光ファイバＢで受光して光の強度を測定し、出力光パワー／入力光パワーの対数から前記第１光信号の減衰量（Ｘ）を算出する。
続いて、前記第１光信号の減衰量の算出と同様にして、前記第１光源よりも斜め成分が多い第２光源を用いて、前記光ファイバＡを経由して前記コア部の一端から第２光信号を入力し、前記コア部の前記他端から前記第２光信号を出力したときの光を前記光ファイバＢで受光して光の強度を測定し、出力光パワー／入力光パワーの対数から前記第２光信号の減衰量（Ｙ）を算出する。
その後、光の斜め成分が異なる２つの光源に基づく上記減衰量比をＸ／Ｙから算出する。
なお、前記第１光源は、前記光ファイバＡより放射された放射角度が６°の光源とし、前記第２光源は、前記光ファイバＡより放射された放射角度が１３°の光源とする。
かかる光源の放射角度は、ＦＦＰ（Ｆａｒ Ｆｉｅｌｄ Ｐａｔｔｅｒｎ：ファーフィールドパターン）測定装置を用い、ファイバ端面からの出射角度の強度分布を、中心から出射角度拡がり方向（Ｎ．Ａ．）に向かって積分した値（Ｅｎｃｉｒｃｌｅｄ Ａｎｇｕｌａｒ Ｆｌｕｘ）を取得し、強度分布の積算値が１に対応する出射角度とする。
【請求項2】
請求項１に記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、前記光減衰部は、前記コア部が互いに交差しない非交差領域に形成されている、光減衰部付き光導波路フィルム。
【請求項3】
請求項１または２に記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、同一のスリット幅を有するスリット状の前記光減衰部において、スリット幅（Ｄ）、個数（ｉ）、屈折率（Ｎ）としたとき、前記光減衰部における光路長を表すｉ×Ｄ×Ｎが、１．３０ｍｍ以上１６．４０ｍｍ以下である、光減衰部付き光導波路フィルム。
【請求項4】
請求項１から３のいずれか１項に記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、前記コア部の長手方向に対して直交する方向における断面視において、前記コア部はテーパー形状を有しており、前記コア部の上端幅をＷａとし、前記コア部の下端幅をＷｂとしたとき、Ｗａ／Ｗｂが１超え１．１以下である、光減衰部付き光導波路フィルム。
【請求項5】
請求項１から４のいずれか１項に記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、前記光減衰部は、前記コア部の側面に形成された側面クラッド部と同一部材で構成されるか、前記側面クラッド部と同一の屈折率を有する、光減衰部付き光導波路フィルム。
【請求項6】
請求項１から５のいずれか１項に記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、前記コア部の長手方向に対して長尺状である、光減衰部付き光導波路フィルム。
【請求項7】
請求項１から６のいずれか１項に記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、前記下部クラッド層の下面側に設けられた下部基材層と、
前記上部クラッド層の上面側に設けられた上部基材層と、をさらに備えており、
前記下部基材層および前記上部基材層は、ポリイミド層で構成されている、光減衰部付き光導波路フィルム。
【請求項8】
請求項７に記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、前記下部基材層の膜厚は、前記上部基材層の膜厚と同じである、光減衰部付き光導波路フィルム。
【請求項9】
請求項７または８に記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、前記下部基材層の弾性率は、前記上部基材層の弾性率と相違する、光減衰部付き光導波路フィルム。
【請求項10】
請求項１から９のいずれか１項に記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、当該光導波路フィルムの膜厚は、５０μｍ以上３００μｍ以下である、光減衰部付き光導波路フィルム。
【請求項11】
請求項１から１０のいずれか１項に記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、前記上部クラッド層および／又は前記下部クラッド層の膜厚は、１μｍ以上５０μｍ以下である、光減衰部付き光導波路フィルム。
【請求項12】
光コネクタが装着した請求項１から１１のいずれか１項に記載の光減衰部付き光導波路フィルムを備える、光学部品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、光減衰部付き光導波路フィルムおよび光学部品に関する。
【背景技術】
【0002】
これまで減衰器付き光導波路について様々な検討がなされてきた。この種の技術として、例えば、特許文献１に記載の技術が知られている。特許文献１には、シリカ製の導波路コアの近傍のクラッド部に光吸収性金属層を形成することにより、導波路コアを伝播する光信号を減衰する技術が記載されている（段落００１７、図４）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【文献】特表２０１５－５０９６１４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
本発明者が検討した結果、特許文献１に記載の減衰器付き光導波路においては、減衰量の増大と減衰量のバラツキの低減の両立の点で改善の余地があることが判明した。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本発明者は更に検討したところ、光導波路フィルム中のコア部中に屈折率が異なる光減衰部を形成することにより、コア部を通過する光信号の減衰量が増大することを見出した。しかしながら、屈折率が異なる光減衰部を用いた場合、複数のコア部間において減衰量のバラツキが増大することが判明した。
さらに検討を進めた結果、屈折率が互いに異なる光減衰部とコア部との間の境界部の数を適切に制御することにより、減衰量を増大させつつも、コア部間における減衰量のバラツキを低減できることが見出された。
このような知見に基づいてさらに検討した結果、斜め成分の光が少ない第１光源を用いたときの減衰量をＸとし、斜め成分の光が多い第２光源を用いたときの減衰量をＹとし、こられの減衰量比であるＸ／Ｙを指標として採用することにより、入射光の光路に存在する境界部の数に対して安定的に相関関係を示す値が得られることが分かった。そして、Ｘ／Ｙの下限値を所定値以上とすることにより、減衰量を増大させることができ、Ｘ／Ｙの上限値を所定値以下とすることにより、コア部間における減衰量のバラツキを低減できることを見出し、本発明を完成するに至った。
さらに検討を進めた結果、屈折率が互いに異なる光減衰部とコア部との間の境界部の数を適切に制御することにより、減衰量を増大させつつも、コア部間における減衰量のバラツキを低減できることが見出された。
このような知見に基づいてさらに検討した結果、斜め成分の光が少ない第１光源を用いたときの減衰量をＸとし、斜め成分の光が多い第２光源を用いたときの減衰量をＹとし、こられの減衰量比であるＸ／Ｙを指標として採用することにより、入射光の光路に存在する境界部の数に対して安定的に相関関係を示す値が得られることが分かった。そして、Ｘ／Ｙの下限値を所定値以上とすることにより、減衰量を増大させることができ、Ｘ／Ｙの上限値を所定値以下とすることにより、コア部間における減衰量のバラツキを低減できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【0006】
本発明によれば、
下部クラッド層と、
前記下部クラッド層上に設けられたパターン状の複数のコア部と、
前記コア部上に設けられた上部クラッド層と、を備えており、
前記コア部中に屈折率が異なる光減衰部を備え、前記コア部は、スリット状の前記光減衰部を複数個含む、光減衰部付き光導波路フィルムであって、
下記の測定条件に従って求められる、光の斜め成分が異なる２つの光源に基づく減衰量比を表すＸ／Ｙが、０．５５以上０．７０以下であり、かつ、減衰量Ｘが、１．２ｄＢ以上９．０ｄＢ以下である、光減衰部付き光導波路フィルムが提供される。
（測定条件）
社団法人 日本電子回路工業会が規定した「高分子光導波路の試験方法（ＪＰＣＡ－ＰＥ０２－０５－０１Ｓ－２００８）」の４．６．１挿入損失の測定方法に準拠して、第１光源を用いて、８５０ｎｍの光を５０μｍ径のグレーデッドインデックス型光ファイバＡを経由して前記コア部の一端から第１光信号を入力し、前記コア部の他端から前記第１光信号を出力したときの光を５０μｍ径のグレーデッドインデックス型光ファイバＢで受光して光の強度を測定し、出力光パワー／入力光パワーの対数から前記第１光信号の減衰量（Ｘ）を算出する。
続いて、前記第１光信号の減衰量の算出と同様にして、前記第１光源よりも斜め成分が多い第２光源を用いて、前記光ファイバＡを経由して前記コア部の一端から第２光信号を入力し、前記コア部の前記他端から前記第２光信号を出力したときの光を前記光ファイバＢで受光して光の強度を測定し、出力光パワー／入力光パワーの対数から前記第２光信号の減衰量（Ｙ）を算出する。
その後、光の斜め成分が異なる２つの光源に基づく上記減衰量比をＸ／Ｙから算出する。
なお、前記第１光源は、前記光ファイバＡより放射された放射角度が６°の光源とし、前記第２光源は、前記光ファイバＡより放射された放射角度が１３°の光源とする。
かかる光源の放射角度は、ＦＦＰ（Ｆａｒ Ｆｉｅｌｄ Ｐａｔｔｅｒｎ：ファーフィールドパターン）測定装置を用い、ファイバ端面からの出射角度の強度分布を、中心から出射角度拡がり方向（Ｎ．Ａ．）に向かって積分した値（Ｅｎｃｉｒｃｌｅｄ Ａｎｇｕｌａｒ Ｆｌｕｘ）を取得し、強度分布の積算値が１に対応する出射角度とする。
下部クラッド層と、
前記下部クラッド層上に設けられたパターン状の複数のコア部と、
前記コア部上に設けられた上部クラッド層と、を備えており、
前記コア部中に屈折率が異なる光減衰部を備え、前記コア部は、スリット状の前記光減衰部を複数個含む、光減衰部付き光導波路フィルムであって、
下記の測定条件に従って求められる、光の斜め成分が異なる２つの光源に基づく減衰量比を表すＸ／Ｙが、０．５５以上０．７０以下であり、かつ、減衰量Ｘが、１．２ｄＢ以上９．０ｄＢ以下である、光減衰部付き光導波路フィルムが提供される。
（測定条件）
社団法人 日本電子回路工業会が規定した「高分子光導波路の試験方法（ＪＰＣＡ－ＰＥ０２－０５－０１Ｓ－２００８）」の４．６．１挿入損失の測定方法に準拠して、第１光源を用いて、８５０ｎｍの光を５０μｍ径のグレーデッドインデックス型光ファイバＡを経由して前記コア部の一端から第１光信号を入力し、前記コア部の他端から前記第１光信号を出力したときの光を５０μｍ径のグレーデッドインデックス型光ファイバＢで受光して光の強度を測定し、出力光パワー／入力光パワーの対数から前記第１光信号の減衰量（Ｘ）を算出する。
続いて、前記第１光信号の減衰量の算出と同様にして、前記第１光源よりも斜め成分が多い第２光源を用いて、前記光ファイバＡを経由して前記コア部の一端から第２光信号を入力し、前記コア部の前記他端から前記第２光信号を出力したときの光を前記光ファイバＢで受光して光の強度を測定し、出力光パワー／入力光パワーの対数から前記第２光信号の減衰量（Ｙ）を算出する。
その後、光の斜め成分が異なる２つの光源に基づく上記減衰量比をＸ／Ｙから算出する。
なお、前記第１光源は、前記光ファイバＡより放射された放射角度が６°の光源とし、前記第２光源は、前記光ファイバＡより放射された放射角度が１３°の光源とする。
かかる光源の放射角度は、ＦＦＰ（Ｆａｒ Ｆｉｅｌｄ Ｐａｔｔｅｒｎ：ファーフィールドパターン）測定装置を用い、ファイバ端面からの出射角度の強度分布を、中心から出射角度拡がり方向（Ｎ．Ａ．）に向かって積分した値（Ｅｎｃｉｒｃｌｅｄ Ａｎｇｕｌａｒ Ｆｌｕｘ）を取得し、強度分布の積算値が１に対応する出射角度とする。
【0007】
また本発明によれば、光コネクタが装着した上記光減衰部付き光導波路フィルムを備える、光学部品が提供される。
【発明の効果】
【0008】
本発明によれば、減衰量の増大と減衰量のバラツキの低減を実現できる光減衰部付き光導波路フィルムおよびそれを用いた光学部品が提供される。
【図面の簡単な説明】
【0009】
【図1】光減衰部付き光導波路フィルムを模式的に表す断面図である。
【図3】光減衰部付き光導波路フィルムの減衰量を測定する方法を説明するための図である。
【図4】光減衰部の変形例を模式的に示す断面図である。
【図5】光減衰部付き光導波路フィルムの変形例を模式的に示す断面図である。
【図6】フォトマスクを模式的に示す上面図である。
【発明を実施するための形態】
【0010】
以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて説明する。尚、すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。また、図は概略図であり、実際の寸法比率とは一致していない。
【0011】
本実施形態の光減衰部付き光導波路フィルムの概要を説明する。
図１は、光減衰部付き光導波路フィルムを模式的に表す断面図であり、図２は、図１のＡ－Ａ箇所で垂直に切断した断面の模式図である。図３は、光減衰部付き光導波路フィルムの減衰量を測定する方法を説明するための図である。
図１は、光減衰部付き光導波路フィルムを模式的に表す断面図であり、図２は、図１のＡ－Ａ箇所で垂直に切断した断面の模式図である。図３は、光減衰部付き光導波路フィルムの減衰量を測定する方法を説明するための図である。
【0012】
本実施形態の光減衰部付き光導波路フィルム（以下、単に「光導波路フィルム」と呼称する。）は、下部クラッド層１３０と、下部クラッド層１３０上に設けられたパターン状の複数のコア部１１２と、コア部１１２上に設けられた上部クラッド層１２０と、を備えるものである。この光導波路フィルム１００は、コア部１１２中に屈折率が異なる光減衰部２００を備えるものである。この光導波路フィルム１００における、光の斜め成分が異なる２つの光源を用いた測定方法で測定した減衰量比を表すＸ／Ｙは０．５５以上０．７０以下とすることができる。
【0013】
本発明者の知見によれば、光導波路フィルム１００のコア部１１２中に屈折率が異なる光減衰部２００を形成することにより、コア部１１２を通過する光信号の減衰量が増大することができる。
【0014】
コア部１１２は、図３に示すように、屈折率ｎ１を有する領域１と、屈折率ｎ１とは異なる屈折率ｎ２を有する領域２（光減衰部２００）とを備えることができる。つまり、コア部１１２は、屈折率が変化する部分（境界部）を含むことができる（領域１と領域２の境界部が「屈折率が変化する部分」に該当する）。なお、以下の説明において、領域１と領域２の境界部を、単に「境界部」とも記載する。
【0015】
コア部１１２が、屈折率が変化する部分（光減衰部２００）を含むことにより、コア部１１２に入射された光は減衰される。具体的には、コア部１１２の一端１０３に入射された光の一部は、境界部で、反射したり、散乱したりする。つまり、入射光の一部は、直進せずに入射方向とは異なる方向に進む。これにより、コア部１１２の他端１０５から出力される光の強度は減衰することとなる。
【0016】
「境界部での反射」については、光学の理論に基づき、より定量的に説明することができる。
例えば、光線が屈折率ｎ１の物質から屈折率ｎ２の物質に垂直入射する場合、その表面反射率Ｒｒｅｆは、理論上、以下の式で与えられる。
Ｒｒｅｆ＝｛（ｎ１－ｎ２）／（ｎ１＋ｎ２）｝２
この式によれば、入射光のうち、Ｒｒｅｆに対応する割合は、直進せず、入射とは反対方向に反射される。つまり、伝送される光の強度は、Ｒｒｅｆに対応する割合だけ減衰することとなる。
例えば、光線が屈折率ｎ１の物質から屈折率ｎ２の物質に垂直入射する場合、その表面反射率Ｒｒｅｆは、理論上、以下の式で与えられる。
Ｒｒｅｆ＝｛（ｎ１－ｎ２）／（ｎ１＋ｎ２）｝２
この式によれば、入射光のうち、Ｒｒｅｆに対応する割合は、直進せず、入射とは反対方向に反射される。つまり、伝送される光の強度は、Ｒｒｅｆに対応する割合だけ減衰することとなる。
【0017】
このような光学理論に基づき光路における「境界部」の数を多くすることにより、コア部１１２中の通過する光の減衰量を増大させる試みを実施した。しかしながら、光の減衰量は増加するものの、一方で複数のコア部１１２間における減衰量のバラツキが増大することが判明した。
【0018】
このような事情を踏まえて本発明者が鋭意検討した結果、光路に存在する境界部の数を適切に制御することにより、減衰量を増大させつつも、コア部１１２間における減衰量のバラツキを低減できることが見出された。
【0019】
このような知見に基づいてさらに検討した結果、光の斜め成分が異なる２つの光源の減衰量を比較した減衰量比は、スリット構造やテーパー構造を有する光減衰部２００（領域２）とコア部１１２（領域１）との間の境界部の数に対して安定的に相関関係を示すことが分かった。そして、斜め成分の光が少ない第１光源を用いたときの減衰量をＸとし、斜め成分の光が多い第２光源を用いたときの減衰量をＹとし、こられの減衰量比であるＸ／Ｙを指標にしたとき、Ｘ／Ｙの下限値を指標とすることにより、指標Ｘ／Ｙの下限値を所定値以上とすることにより、コア部１１２中の入射光の減衰量を増大させつつも、指標Ｘ／Ｙの上限値を所定値以下とすることにより、コア部１１２間における減衰量のバラツキを低減できることが見出された。
【0020】
光の斜め成分が異なる２つの光源を用いた測定方法は、次の通りである。
まず、第１光源を用いて、コア部１１２の一端１０３から第１光信号（信号光３００）を入力し、コア部１１２の他端１０５から第１光信号を出力したときの第１光信号の減衰量（Ｘ）を測定する。続いて、当該第１光源よりも斜め成分が多い第２光源を用いて、コア部１１２の一端１０３から第２光信号（信号光３１０）を入力し、コア部１１２の他端１０５から第２光信号を出力したときの第２光信号の減衰量（Ｙ）を算出する。その後、光の斜め成分が異なる２つの光源に基づく上記減衰量比をＸ／Ｙから算出する。
まず、第１光源を用いて、コア部１１２の一端１０３から第１光信号（信号光３００）を入力し、コア部１１２の他端１０５から第１光信号を出力したときの第１光信号の減衰量（Ｘ）を測定する。続いて、当該第１光源よりも斜め成分が多い第２光源を用いて、コア部１１２の一端１０３から第２光信号（信号光３１０）を入力し、コア部１１２の他端１０５から第２光信号を出力したときの第２光信号の減衰量（Ｙ）を算出する。その後、光の斜め成分が異なる２つの光源に基づく上記減衰量比をＸ／Ｙから算出する。
【0021】
具体的な減衰量の測定は、図３に示すように、光源を備える光出力部３２０から信号光３００、３１０（入力光）を出力し、光減衰部２００を有するコア部１１２を通過した後の信号光３００、３１０（出力光）の信号強度を光検出部３３０で検出する。そして、出力光パワー／入力光パワーの対数から「減衰量（ｄＢ）」を算出する。
【0022】
上記の測定方法において、光源として光の斜め成分が異なる２種の光源、すなわち、斜め成分が相対的に少ない第１光源、斜め成分が相対的に多い第２光源を用いる。例えば、所定の放射角を有する第２光源と、第１光源の放射角よりも大きい放射角を有する第２光源を使用できる。それぞれの放射角は適当に選択され得るが、例えば、第２光源の放射角は１３°以下であり、第１光源の放射角は６°以下とする。これらの放射角の比が２程度とすることにより、減衰量比を安定的に取得可能である。
【0023】
光源の放射角は、例えば、ＦＦＰ（Ｆａｒ Ｆｉｅｌｄ Ｐａｔｔｅｒｎ：ファーフィールドパターン）測定装置を用い、ファイバ端面からの出射角度の強度分布を、中心から出射角度拡がり方向（Ｎ．Ａ．）に向かって積分した値（Ｅｎｃｉｒｃｌｅｄ Ａｎｇｕｌａｒ Ｆｌｕｘ）を取得する。強度分布の積算値が１に対応する出射角度を、光源の放射角とした。
【0024】
また、コア部１１２間の減衰量のバラツキの指標として、減衰量（Ｘ）の標準偏差を活用できる。減衰量（Ｘ）の標準偏差は、例えば、光減衰部２００を有する６本のコア部１１２のそれぞれに、第１光源を用いて減衰量（Ｘ）を測定し、その６本の減衰量（Ｘ）の標準偏差とする。
【0025】
本実施形態において、減衰量比Ｘ／Ｙの下限値は、例えば、０．５５以上であり、好ましくは０．５６以上であり、より好ましくは０．５７以上である。これにより、光導波路フィルム１００の減衰量を増大できる。一方、減衰量比Ｘ／Ｙの上限値は、例えば、０．７０以下であり、好ましくは０．６９以下であり、より好ましくは０．６８以下である。これにより、複数のコア部１１２間の減衰量のバラツキを抑制できる。
【0026】
本実施形態では、たとえば光導波路フィルム１００の構成材料、光導波路フィルム１００の作り方等を適切に選択することにより、上記減衰量比Ｘ／Ｙを制御することが可能である。これらの中でも、たとえば、スリット形状などの光減衰部２００の形状、個数、光路長等を調整すること等が、上記減衰量比Ｘ／Ｙを所望の数値範囲とするための要素として挙げられる。
【0027】
また本実施形態において、上記の第１光源を用いて、コア部１１２の一端１０３から光信号（信号光３００）を入力し、コア部１１２の他端１０５から光信号（信号光３００）を出力したときの光信号の減衰量（Ｘ）は、例えば、１．２ｄＢ以上９．０ｄＢ以下であり、好ましくは１．３ｄＢ以上であり、さらに好ましくは１．５ｄＢ以上である。これにより、減衰機能が十分に発揮する光導波路フィルム１００を実現できる。
【0028】
本実施形態によれば、比較的大きな減衰量が得られつつも、その減衰量のバラツキを低減できる光減衰部付き光導波路フィルムを実現することができる。
【0029】
次に、本実施形態の光減衰部付き光導波路フィルム（光導波路フィルム１００）を詳細に説明する。
【0030】
光導波路フィルム１００は、たとえば樹脂製の光導波路フィルムである。光導波路フィルム１００は、複数の樹脂層が積層した構造を有する。たとえば、光導波路フィルム１００は板状、すなわちシート状をしており、光導波路フィルム１００においてクラッド層（下部クラッド層１３０）、コア層（コア層１１０）、クラッド層（上部クラッド層１２０）が厚さ方向にこの順に積層されている。板状の光導波路フィルム１００は、互いに平行な二つの主面（表面１４、裏面１２）を有する。
本明細書では、光導波路フィルム１００の主面以外の周囲の面を「側面」と呼ぶ。光導波路フィルム１００の側面は、たとえば主面に略垂直である。
本明細書では、光導波路フィルム１００の主面以外の周囲の面を「側面」と呼ぶ。光導波路フィルム１００の側面は、たとえば主面に略垂直である。
【0031】
本実施形態の光導波路フィルム１００は、図１に示すように、下部クラッド層１３０と、下部クラッド層１３０上に設けられたコア層１１０、コア層１１０上に設けられた上部クラッド層とを備えるものである。コア層１１０は、短手方向に対して、複数のコア部１１２と、その両側面に設けられたクラッド部１１４を有するものである。
【0032】
コア部１１２中の領域１の屈折率ｎ１は、通常、下部クラッド層１３０、上部クラッド層１２０およびクラッド部１１４（側面クラッド部）の屈折率よりも大きいことが好ましい。これにより、コア部１１２と、下部クラッド層１３０、上部クラッド層１２０およびクラッド部１１４との界面で光が全反射し、光が適切に伝送される。
【0033】
光導波路フィルム１００の平面形状は特に限定されず、用途等に応じて設計され得る。
光導波路フィルム１００は、図２に示すように、光導波路フィルム１００の主面の垂直方向から見たとき、コア層１１０中に複数のコア部１１２がパターン状に形成されており、当該コア部１１２の延在方向、すなわち長手方向に対して長尺状である。長尺状の矩形形状を有する光導波路フィルム１００の、一端１０３および他端１０５のそれぞれに、光が入出力可能な入出射部として入出射側面（導波路端面１０１）が形成される。
光導波路フィルム１００は、図２に示すように、光導波路フィルム１００の主面の垂直方向から見たとき、コア層１１０中に複数のコア部１１２がパターン状に形成されており、当該コア部１１２の延在方向、すなわち長手方向に対して長尺状である。長尺状の矩形形状を有する光導波路フィルム１００の、一端１０３および他端１０５のそれぞれに、光が入出力可能な入出射部として入出射側面（導波路端面１０１）が形成される。
【0034】
光導波路フィルム１００は、図２に示すように、隣接する２つのコア部１１２の間に、１または２以上の複数のダミーコア部１１６を備え得る。このダミーコア部１１６は、図１に示すように、コア部１１２と同じコア層１１０の層内に形成される。ダミーコア部１１６は、コア部１１２と同一材料で構成され、領域１を有し得る。
【0035】
光導波路フィルム１００は、図２、３に示すように、コア部１１２（屈折率ｎ１を有する領域１）中に光減衰部２００（屈折率ｎ２を有する領域２）を有するものである。光減衰部２００は、コア部１１２中に形成され、ダミーコア部１１６中には形成されない。
複数のコア部１１２を有する場合、それぞれの全てに光減衰部２００が形成されることが好ましい。それぞれの光減衰部２００は、互いに同一または異なってもよい。
複数のコア部１１２を有する場合、それぞれの全てに光減衰部２００が形成されることが好ましい。それぞれの光減衰部２００は、互いに同一または異なってもよい。
【0036】
光減衰部２００は、図２に示すように、光導波路フィルム１００の主面に対して垂直方向（積層方向）から見たとき、コア部１１２が互いに交差しない非交差領域に形成される。これにより、コア部１１２間における減衰量のバラツキを低減できる。
【0037】
光減衰部２００は、図３に示すようなスリット構造を備え得る。スリット構造を有する光減衰部２００が形成されたコア部１１２は、スリット状の光減衰部２００ａ～２００ｅを複数個含むものである。スリット状の光減衰部２００の個数を適切に制御することにより、光の減衰量を増加させつつも、そのバラツキを低減できる。
【0038】
スリット状の光減衰部２００は、スリット幅（Ｄ）、個数（ｉ）、屈折率（Ｎ）を有するものであり、これら積値（ｉ×Ｄ×Ｎ）で表される所定の光路長を有するものである。
この光路長（ｉ×Ｄ×Ｎ）の下限値は、例えば、１．３０ｍｍ以上であり、好ましくは１．５ｍｍ以上であり、より好ましくは２．０ｍｍ以上である。これにより、光導波路フィルム１００の減衰量を増加できる。一方、光路長（ｉ×Ｄ×Ｎ）の上限値は、１６．４０ｍｍ以下であり、好ましくは１６．０ｍｍ以下であり、より好ましくは１５．５ｍｍ以下である。これにより、コア部１１２間の減衰量のバラツキを抑制できる。
この光路長（ｉ×Ｄ×Ｎ）の下限値は、例えば、１．３０ｍｍ以上であり、好ましくは１．５ｍｍ以上であり、より好ましくは２．０ｍｍ以上である。これにより、光導波路フィルム１００の減衰量を増加できる。一方、光路長（ｉ×Ｄ×Ｎ）の上限値は、１６．４０ｍｍ以下であり、好ましくは１６．０ｍｍ以下であり、より好ましくは１５．５ｍｍ以下である。これにより、コア部１１２間の減衰量のバラツキを抑制できる。
【0039】
スリット状の光減衰部２００における光路長について図３を用いて説明する。
スリット幅（Ｄ）は、光減衰部２００ａ～２００ｅのぞれぞれの、長手方向の厚みである。スリット幅（Ｄ）は、光路長（ｉ×Ｄ×Ｎ）の上記数値範囲を満たすように選択されるが、例えば、１μｍ～２０μｍ、好ましくは５μｍ～１５μｍとする（以下、「～」は、特に明示しない限り、上限値と下限値を含むことを表す）。
スリット幅（Ｄ）は、複数の光減衰部（光減衰部２００ａ～２００ｅ）の各々において同一でも異なってもよいが、減衰量のバラツキ低減の観点から、同一が好ましい。
スリット幅（Ｄ）は、光減衰部２００ａ～２００ｅのぞれぞれの、長手方向の厚みである。スリット幅（Ｄ）は、光路長（ｉ×Ｄ×Ｎ）の上記数値範囲を満たすように選択されるが、例えば、１μｍ～２０μｍ、好ましくは５μｍ～１５μｍとする（以下、「～」は、特に明示しない限り、上限値と下限値を含むことを表す）。
スリット幅（Ｄ）は、複数の光減衰部（光減衰部２００ａ～２００ｅ）の各々において同一でも異なってもよいが、減衰量のバラツキ低減の観点から、同一が好ましい。
【0040】
個数（ｉ）は、光減衰部２００の個数（領域１で長手方向が分断された領域２の個数）、であり、スリット数である。図３には、光減衰部２００ａ～２００ｅの５個のスリットが示されているが、これは説明のために模式的に示すものであり、これに限定されるものではない。
個数（ｉ）は、光路長（ｉ×Ｄ×Ｎ）の上記数値範囲を満たすように選択されるが、例えば、２０個～２０００個、好ましくは５０個～１５００個、より好ましくは１００個～１０００個である。
個数（ｉ）は、光路長（ｉ×Ｄ×Ｎ）の上記数値範囲を満たすように選択されるが、例えば、２０個～２０００個、好ましくは５０個～１５００個、より好ましくは１００個～１０００個である。
【0041】
屈折率（Ｎ）は、領域２中の屈折率ｎ２を意味する。ここで、「屈折率」とは、光導波路フィルム１００で入力される光の波長８５０ｎｍにおける屈折率のことを意味する。
屈折率（Ｎ）は、光路長（ｉ×Ｄ×Ｎ）の上記数値範囲を満たすように選択されるが、例えば、１．３～１．７、好ましくは１．４～１．６である。
屈折率（Ｎ）は、光路長（ｉ×Ｄ×Ｎ）の上記数値範囲を満たすように選択されるが、例えば、１．３～１．７、好ましくは１．４～１．６である。
【0042】
本実施形態において、コア部１１２の屈折率ｎ１と光減衰部２００の屈折率ｎ２との差の絶対値は、典型的には０．０１～１、好ましくは０．０１～０．５である。これら数値範囲とすることで、十分な光減衰が期待できる。なお、屈折率ｎ１と屈折率ｎ２の大小関係は、通常、ｎ１＞ｎ２である。
【0043】
言い方を変えると、屈折率ｎ１と屈折率ｎ２が「異なる」とは、光導波路フィルム１００で入力される光の波長において、領域１の屈折率と領域２の屈折率が異なることを意味する。本実施形態の光導波路フィルム１００は、典型的には、波長４００～１７００ｎｍの光において、上記の屈折率の値を満たすように設計することができる。
【0044】
光減衰部２００は、図１に示すクラッド部１１４（側面クラッド部）と同一部材で構成されてもよく、そのクラッド部１１４と同一の屈折率を有してもよい。すなわち、光減衰部２００は、クラッド部１１４と同じ工程で形成することができる。これにより、光導波路フィルム１００の製造安定性を高められる。
【0045】
スリット状の光減衰部２００は、図３に示すように、コア部１１２の長手方向に対して直交する方向に形成されていて、図１のＡ－Ａ箇所の断面視における断面形状が直方体形状である。スリット状の光減衰部２００は、コア部１１２を通過する光軸ＯＡに対して、図３に示すように直交する直方形状を有することが好ましい。このスリット状の光減衰部２００の断面形状は、これに限定されず、台形形状でも、平行四辺形形状でもよい。
【0046】
コア部１１２は、図１に示すように、コア部１１２の長手方向に対して直交する方向（短手方向、積層方向）における断面視において、テーパー形状を有し得る。テーパー形状のコア部１１２の上端幅をＷａとし、コア部１１２の下端幅をＷｂとしたとき、Ｗａ／Ｗｂは、例えば、１超え１．１以下とすることができる。
【0047】
スリット状の光減衰部２００の間に形成されるコア部１１２の領域１の幅（スリット間隔Ｗ）は、例えば、スリット幅（Ｄ）に対して２倍～１０倍、好ましくは３倍～８倍、より好ましくは４倍～６倍とできる。また、コア部１１２中のスリット間隔Ｗは、互いに異なってもよいが、全て同一が好ましい。
【0048】
本実施形態において、光減衰部２００は、図３のようなスリット構造の他に、図４（ａ）のようなテーパー構造２０２、図４（ｂ）のようなテーパー構造２０６を有していてもよい。テーパー構造２０２は、光が入射される一端１０３から見て、光軸ＯＡに対して傾斜した傾斜領域と、それに連続して形成された非傾斜領域２０４を有し得る。一方、テーパー構造２０６は、光軸ＯＡに向かって一部が突出した構造を有し得る。
【0049】
光導波路フィルム１００は、長尺状の樹脂フィルムであり、それ自体単独で自立した自立フィルムとなり得る。光導波路フィルム１００は、靱性を有しており、曲げた状態でも曲げていない状態でも使用することができる。
【0050】
光導波路フィルム１００変形例としては、光導波路フィルム１００の主面に垂直な方向から見て、他の部分の横幅よりも幅広な幅広部が他端１０５に形成され得る。この幅広部の主面の少なくとも１つに、入出射部として溝部が形成される。この溝部は、コア部１１２を通過する光信号の光路変換を行うミラーとして機能する。
【0051】
他の変形例の光導波路フィルム１００は、１つの一端１０３から他端１０５に向かって複数に分岐した分岐構造（二叉形状、三つ叉形状等）を有していてもよい。
【0052】
光導波路フィルム１００の変形例としては、単層のコア層を有してもよいが、クラッド層を介在させて複数のコア層が積層した構造を有してもよい。
【0053】
本実施形態のコア層１１０中のコア部１１２は、公知のコア層形成用樹脂組成物で構成されていてもよい。また、上部クラッド層１２０、下部クラッド層１３０は、それぞれ、同種または異種の、公知のクラッド層形成用樹脂組成物で構成されていてもよい。
【0054】
本実施形態の光導波路フィルム１００の変形例は、その表面に基材層が形成され得る。具体的には、図５に示すように、光導波路フィルム１００は、下部クラッド層１３０の下面側に設けられた下部基材層１５０と、上部クラッド層１２０の上面側に設けられた上部基材層１４０と、をさらに備えることができる。
【0055】
基材層（上部基材層１４０、下部基材層１５０）の構成材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエチレン、ポリプロピレンのようなポリオレフィン、ポリイミド、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリカーボネート、またはポリエーテルサルフォン等が挙げられる。基材層としては、これらの構成材料からなるフィルムを用いることができる。
【0056】
上部基材層１４０および下部基材層１５０は、同種の材料で構成されていてもよい。例えば、上部基材層１４０および下部基材層１５０は、ポリイミドを含むポリイミド層で構成されていてもよい。
【0057】
上部基材層１４０および下部基材層１５０の膜厚の下限値は、それぞれ、例えば、５μｍ以上でもよく、好ましくは１０μｍ以上である。一方で、上部基材層１４０および下部基材層１５０の膜厚の上限値は、それぞれ、例えば、５０μｍ以下でもよく、好ましくは３０μｍ以下であり、より好ましくは２５μｍ以下である。
本実施形態において、下部基材層１５０の膜厚は、上部基材層１４０の膜厚と同じであってもよい。
本実施形態において、下部基材層１５０の膜厚は、上部基材層１４０の膜厚と同じであってもよい。
【0058】
上部基材層１４０および下部基材層１５０の弾性率の下限値は、それぞれ、例えば、１ＧＰａ以上でもよく、好ましくは２ＧＰａ以上であり、より好ましくは３ＧＰａ以上である。一方で、上部基材層１４０および下部基材層１５０の弾性率の上限値は、それぞれ、例えば、１２ＧＰａ以下でもよく、好ましくは１１ＧＰａ以下であり、より好ましくは１０ＧＰａ以下である。
下部基材層１５０の弾性率は、上部基材層１４０の弾性率と相違してもよい。なお、本実施形態において、上記弾性率は、引張り弾性率とする。
下部基材層１５０の弾性率は、上部基材層１４０の弾性率と相違してもよい。なお、本実施形態において、上記弾性率は、引張り弾性率とする。
【0059】
上部クラッド層１２０および下部クラッド層１３０の膜厚の下限値は、それぞれ、例えば、１μｍ以上でもよく、好ましくは２μｍ以上であり、より好ましくは３μｍ以上である。一方で、上部クラッド層１２０および下部クラッド層１３０の膜厚の上限値は、それぞれ、例えば、５０μｍ以下でもよく、好ましくは３０μｍ以下であり、より好ましくは１５μｍ以下である。なお、上部クラッド層１２０の膜厚としては、例えば、コア部１１２上における上部クラッド層１２０の膜厚としてもよい。
【0060】
光導波路フィルム１００の全体の膜厚の下限値は、例えば、５０μｍ以上でもよく、好ましくは６０μｍ以上であり、より好ましくは７０μｍ以上である。一方、光導波路フィルム１００の全体の膜厚の上限値は、例えば、３００μｍ以下でもよく、好ましくは２００μｍ以下であり、より好ましくは１５０μｍ以下である。
【0061】
本実施形態の光学部品は、光コネクタ、少なくとも片方の端部または全ての端部に装着された光導波路フィルム１００（光減衰部付き光導波路フィルム）を有するものである。このような光学部品を用いることにより、安定した光学特性を実現できる。
【0062】
光コネクタは、例えば、ＭＴコネクタ、ＭＰＯコネクタ、ＭＰＸコネクタ、ＰＭＴコネクタ、ＰＴコネクタ、またはこれらに互換性を有するコネクタ等を用いることができる。光コネクタには、ガイド穴が形成されてもよい。光コネクタが他のコネクタ等と接続される際に、ガイド穴にガイドピンが挿入されることで接続対象との正確な位置あわせがされる。
【0063】
光コネクタは、光導波路フィルム１００に対して公知の手法で固定される。例えば、光コネクタの開口部に光導波路フィルム１００の一端１０３を挿入した状態でこれらを固定する。具体的には、光硬化性接着剤、熱硬化性接着剤および嫌気性接着剤など各種接着剤により化学的手段で接合してもよいし、光コネクタの開口部の内壁で押圧することにより物理的手段で接合してもよい。
【0064】
次に光減衰部付き光導波路フィルム（光導波路フィルム１００）の製造方法について説明する。
光減衰部付き光導波路フィルムは、公知の光導波路フィルムの製造で知られている材料やプロセスを適宜適用または応用する等により製造することができる。
光減衰部付き光導波路フィルムは、公知の光導波路フィルムの製造で知られている材料やプロセスを適宜適用または応用する等により製造することができる。
【0065】
公知の光導波路フィルムの製造方法としては、リアクティブイオンエッチング法、複製法、直接露光法、フォトリソグラフィ法、フォトアドレス法などが知られており、本実施形態の光減衰部付き光導波路フィルム（光導波路フィルム１００）を製造するにあたっては、これらのいずれかの方法を適用または応用してもよいし、また、これら以外の方法を用いてもよい。しかし、これらの方法の中でも、特にフォトアドレス法を適用また応用することが好ましい。
より具体的には、本実施形態の光導波路フィルム１００は、例えば以下の方法で製造することができる。
より具体的には、本実施形態の光導波路フィルム１００は、例えば以下の方法で製造することができる。
【0066】
まず、下部クラッド層１３０の上面に接するように、コア層１１０を形成する。
また、コア層１１０は、コア層１１０を形成するためのワニスを下部クラッド層１３０の上面に塗布し、そのワニスを硬化（固化）することで形成することができる。
コア層１１０や下部クラッド層１３０を構成する材料は、典型的には、ポリマー（例えばポリノルボルネン系のポリマー）、モノマー、当該モノマーの反応（例えば、重合反応または架橋反応）を開始させる触媒前駆体、当該触媒前駆体の活性化温度（モノマーに反応を生じさせる温度）を低下させる助触媒、などを適宜含むものである。
また、コア層１１０は、コア層１１０を形成するためのワニスを下部クラッド層１３０の上面に塗布し、そのワニスを硬化（固化）することで形成することができる。
コア層１１０や下部クラッド層１３０を構成する材料は、典型的には、ポリマー（例えばポリノルボルネン系のポリマー）、モノマー、当該モノマーの反応（例えば、重合反応または架橋反応）を開始させる触媒前駆体、当該触媒前駆体の活性化温度（モノマーに反応を生じさせる温度）を低下させる助触媒、などを適宜含むものである。
【0067】
続いて、露光工程を行う。すなわち、フォトマスクを用い、コア層１１０の特定の部分に選択的に光照射を行う。フォトマスク４００の一例として、図６（模式上面図）に示すものを用いることができる。図６のフォトマスク４００は、コア部パターン４１０、光減衰部パターン４２０、側面クラッド部パターン４３０、ダミーコア部パターン４４０を備える。コア部パターン４１０は、光導波路フィルム１００のコア層１１０中におけるコア部１１２に対応し、光減衰部パターン４２０は、光減衰部２００に対応し、側面クラッド部パターン４３０は、クラッド部１１４に対応し、ダミーコア部パターン４４０は、ダミーコア部１１６に対応する。フォトマスク４００において、コア部パターン４１０およびダミーコア部１１６は照射光を透過しないマスク領域であり、光減衰部パターン４２０および側面クラッド部パターン４３０は照射光を透過する開口領域（開口部）で構成され得る。光減衰部パターン４２０の形状は、光減衰部２００の形状に応じて適宜設計される。
なお、ここでの「光照射」とは、可視光、紫外光、赤外光、Ｘ線、レーザ光等に限らず、電子線などであってもよい。
コア層１１０に含まれる助触媒は、光照射により、反応（結合）または分解して、カチオン（プロトンまたは他の陽イオン）と、弱配位アニオン（ＷＣＡ）と、を遊離（発生）する。これらのカチオンまたは弱配位アニオンは、触媒前駆体の分子構造に変化（分解）を生じさせ、触媒前駆体の活性化温度を低下させる。
なお、ここでの「光照射」とは、可視光、紫外光、赤外光、Ｘ線、レーザ光等に限らず、電子線などであってもよい。
コア層１１０に含まれる助触媒は、光照射により、反応（結合）または分解して、カチオン（プロトンまたは他の陽イオン）と、弱配位アニオン（ＷＣＡ）と、を遊離（発生）する。これらのカチオンまたは弱配位アニオンは、触媒前駆体の分子構造に変化（分解）を生じさせ、触媒前駆体の活性化温度を低下させる。
【0068】
特に、本実施形態の光導波路フィルム１００の製造においては、フォトマスク４００に、領域１および領域２に対応するパターン（コア部パターン４１０、光減衰部パターン４２０、側面クラッド部パターン４３０およびダミーコア部パターン４４０等）を設けておく。こうすることで、比較的簡単に、最終的に領域１および領域２を含むコア部１１２を備えた光導波路フィルム１００を得ることができる。なお、クラッド部１１４は、領域２のみに対応するマスクパターンを介して形成され、ダミーコア部１１６は、領域１のみに対応するマスクパターンを介して形成される。
【0069】
次に、コア層１１０を加熱する。コア層１１０の加熱によって触媒前駆体が活性化してモノマーの反応（例えば、重合反応または架橋反応）を開始させる。モノマーの反応が進行すると、光が照射された領域内のモノマー濃度が徐々に低下するとともに、モノマーとポリマーとの反応物の濃度が徐々に上昇する。この結果、光が照射された領域内の屈折率は小さくなる（当該反応物の寄与が大きくなるため）。一方、光が照射されなかった領域では、当該領域から光が照射された領域にモノマーが拡散することにより、モノマー濃度が徐々に低下する。この結果、光が照射されなかった領域の屈折率は大きくなる（ポリマーの寄与が大きくなるため）。
【0070】
このようにして、光が照射された領域が、クラッド部１１４（側面クラッド部）およびコア部１１２中の領域２（光減衰部２００）となる。一方、光が照射されなかった領域は、コア部１１２中の領域１となる。
このような製造方法（フォトアドレス法の適用また応用）によれば、本実施形態の光導波路フィルム１００は、製造が比較的簡便であるというメリットが期待できる。つまり、コア部１１２中に屈折率が異なる部分を設ける別途のプロセスを設けずとも、コア部１１２の形成と同時に、そのコア部１１２の中に屈折率が異なる部分を設けることができるから、製造が簡便と言える。
このような製造方法（フォトアドレス法の適用また応用）によれば、本実施形態の光導波路フィルム１００は、製造が比較的簡便であるというメリットが期待できる。つまり、コア部１１２中に屈折率が異なる部分を設ける別途のプロセスを設けずとも、コア部１１２の形成と同時に、そのコア部１１２の中に屈折率が異なる部分を設けることができるから、製造が簡便と言える。
【0071】
上記の加熱、そして放冷の後、コア層１１０（光照射および加熱によりコア部１１２およびクラッド部１１４が形成されている）の上に上部クラッド層１２０を形成する。上部クラッド層１２０を構成する材料としては、下部クラッド層１３０と同様のものが挙げられる。
以上のようにして光導波路フィルム１００を製造することができる。
以上のようにして光導波路フィルム１００を製造することができる。
【0072】
上記の製造方法に適用可能な材料、プロセス等については、特開２０１３－２１０５９７号公報の０１９３段落以降の記載なども参考とされたい。
【0073】
なお、上記の方法（フォトアドレス法）で光導波路フィルム１００を製造する場合、領域１と領域２の間で、屈折率は不連続には変化せず、連続的に変化すると考えられる。
この理由はいくつか考えられる。例えば、前述のように、屈折率変化は、光が照射されなかった領域から光が照射された領域へのモノマーの「拡散」が関係しているところ、拡散には「勾配」があるため、コア層１１０中でのモノマー量は連続的に変化することが理由として考えられる。また、光の回折現象により、フォトマスク１００で遮光されている部分にも若干の光が照射されることも、屈折率が連続的に変化する理由の１つと考えられる。
この理由はいくつか考えられる。例えば、前述のように、屈折率変化は、光が照射されなかった領域から光が照射された領域へのモノマーの「拡散」が関係しているところ、拡散には「勾配」があるため、コア層１１０中でのモノマー量は連続的に変化することが理由として考えられる。また、光の回折現象により、フォトマスク１００で遮光されている部分にも若干の光が照射されることも、屈折率が連続的に変化する理由の１つと考えられる。
【0074】
領域１と領域２の間で、屈折率が連続的に変化する場合、屈折率ｎ１およびｎ２は、領域１と領域２それぞれにおいて、他の領域から十分離れており、屈折率が略一定となっている部分の屈折率と定義することができる。また、領域１と領域２の境界部は、屈折率が（ｎ１＋ｎ２）／２となる部分と定義することができる。
【0075】
一方、フォトアドレス法以外の製造方法、例えば、リアクティブイオンエッチング法、複製法、直接露光法、フォトリソグラフィ法などで、本実施形態の光導波路フィルム１００を製造した場合には、通常、領域１と領域２の間で、屈折率は不連続に変化するものと考えられる。
【0076】
以上、図面を参照して本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することもできる。
以下、参考形態の例を付記する。
１． 下部クラッド層と、
前記下部クラッド層上に設けられたパターン状の複数のコア部と、
前記コア部上に設けられた上部クラッド層と、を備えており、
前記コア部中に屈折率が異なる光減衰部を備える、光減衰部付き光導波路フィルムであって、
光の斜め成分が異なる２つの光源に基づいて下記の条件で測定した減衰量比を表すＸ／Ｙが、０．５５以上０．７０以下である、光減衰部付き光導波路フィルム。
（測定条件）
第１光源を用いて、前記コア部の一端から第１光信号を入力し、前記コア部の他端から前記第１光信号を出力したときの前記第１光信号の減衰量（Ｘ）を測定する。
続いて、前記第１光源よりも斜め成分が多い第２光源を用いて、前記コア部の一端から第２光信号を入力し、前記コア部の前記他端から前記第２光信号を出力したときの前記第２光信号の減衰量（Ｙ）を算出する。
その後、光の斜め成分が異なる２つの光源に基づく上記減衰量比をＸ／Ｙから算出する。
２． １．に記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、
前記光減衰部は、前記コア部が互いに交差しない非交差領域に形成されている、光減衰部付き光導波路フィルム。
３． １．または２．に記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、
前記コア部は、スリット状の前記光減衰部を複数個含む、光減衰部付き光導波路フィルム。
４． ３．に記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、
同一のスリット幅を有するスリット状の前記光減衰部において、スリット幅（Ｄ）、個数（ｉ）、屈折率（Ｎ）としたとき、前記光減衰部における光路長を表すｉ×Ｄ×Ｎが、１．３０ｍｍ以上１６．４０ｍｍ以下である、光減衰部付き光導波路フィルム。
５． １．から４．のいずれか１つに記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、
前記コア部の長手方向に対して直交する方向における断面視において、前記コア部はテーパー形状を有しており、前記コア部の上端幅をＷａとし、前記コア部の下端幅をＷｂとしたとき、Ｗａ／Ｗｂが１超え１．１以下である、光減衰部付き光導波路フィルム。
６． １．から５．のいずれか１つに記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、
前記光減衰部は、前記コア部の側面に形成された側面クラッド部と同一部材で構成されるか、前記側面クラッド部と同一の屈折率を有する、光減衰部付き光導波路フィルム。
７． １．から６．のいずれか１つに記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、
前記第１光源を用いて、前記コア部の一端から前記第１光信号を入力し、前記コア部の他端から前記第１光信号を出力したときの前記光信号の前記減衰量を表すＸが、１．２ｄＢ以上９．０ｄＢ以下である、光減衰部付き光導波路フィルム。
８． １．から７．のいずれか１つに記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、
前記コア部の長手方向に対して長尺状である、光減衰部付き光導波路フィルム。
９． １．から８．のいずれか１つに記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、
前記下部クラッド層の下面側に設けられた下部基材層と、
前記上部クラッド層の上面側に設けられた上部基材層と、をさらに備えており、
前記下部基材層および前記上部基材層は、ポリイミド層で構成されている、光減衰部付き光導波路フィルム。
１０． ９．に記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、
前記下部基材層の膜厚は、前記上部基材層の膜厚と同じである、光減衰部付き光導波路フィルム。
１１． ９．または１０．に記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、
前記下部基材層の弾性率は、前記上部基材層の弾性率と相違する、光減衰部付き光導波路フィルム。
１２． １．から１１．のいずれか１つに記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、
当該光導波路フィルムの膜厚は、５０μｍ以上３００μｍ以下である、光減衰部付き光導波路フィルム。
１３． １．から１２．のいずれか１つに記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、
前記上部クラッド層および／又は前記下部クラッド層の膜厚は、１μｍ以上５０μｍ以下である、光減衰部付き光導波路フィルム。
１４． 光コネクタが装着した１．から１３．のいずれか１つに記載の光減衰部付き光導波路フィルムを備える、光学部品。
以下、参考形態の例を付記する。
１． 下部クラッド層と、
前記下部クラッド層上に設けられたパターン状の複数のコア部と、
前記コア部上に設けられた上部クラッド層と、を備えており、
前記コア部中に屈折率が異なる光減衰部を備える、光減衰部付き光導波路フィルムであって、
光の斜め成分が異なる２つの光源に基づいて下記の条件で測定した減衰量比を表すＸ／Ｙが、０．５５以上０．７０以下である、光減衰部付き光導波路フィルム。
（測定条件）
第１光源を用いて、前記コア部の一端から第１光信号を入力し、前記コア部の他端から前記第１光信号を出力したときの前記第１光信号の減衰量（Ｘ）を測定する。
続いて、前記第１光源よりも斜め成分が多い第２光源を用いて、前記コア部の一端から第２光信号を入力し、前記コア部の前記他端から前記第２光信号を出力したときの前記第２光信号の減衰量（Ｙ）を算出する。
その後、光の斜め成分が異なる２つの光源に基づく上記減衰量比をＸ／Ｙから算出する。
２． １．に記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、
前記光減衰部は、前記コア部が互いに交差しない非交差領域に形成されている、光減衰部付き光導波路フィルム。
３． １．または２．に記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、
前記コア部は、スリット状の前記光減衰部を複数個含む、光減衰部付き光導波路フィルム。
４． ３．に記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、
同一のスリット幅を有するスリット状の前記光減衰部において、スリット幅（Ｄ）、個数（ｉ）、屈折率（Ｎ）としたとき、前記光減衰部における光路長を表すｉ×Ｄ×Ｎが、１．３０ｍｍ以上１６．４０ｍｍ以下である、光減衰部付き光導波路フィルム。
５． １．から４．のいずれか１つに記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、
前記コア部の長手方向に対して直交する方向における断面視において、前記コア部はテーパー形状を有しており、前記コア部の上端幅をＷａとし、前記コア部の下端幅をＷｂとしたとき、Ｗａ／Ｗｂが１超え１．１以下である、光減衰部付き光導波路フィルム。
６． １．から５．のいずれか１つに記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、
前記光減衰部は、前記コア部の側面に形成された側面クラッド部と同一部材で構成されるか、前記側面クラッド部と同一の屈折率を有する、光減衰部付き光導波路フィルム。
７． １．から６．のいずれか１つに記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、
前記第１光源を用いて、前記コア部の一端から前記第１光信号を入力し、前記コア部の他端から前記第１光信号を出力したときの前記光信号の前記減衰量を表すＸが、１．２ｄＢ以上９．０ｄＢ以下である、光減衰部付き光導波路フィルム。
８． １．から７．のいずれか１つに記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、
前記コア部の長手方向に対して長尺状である、光減衰部付き光導波路フィルム。
９． １．から８．のいずれか１つに記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、
前記下部クラッド層の下面側に設けられた下部基材層と、
前記上部クラッド層の上面側に設けられた上部基材層と、をさらに備えており、
前記下部基材層および前記上部基材層は、ポリイミド層で構成されている、光減衰部付き光導波路フィルム。
１０． ９．に記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、
前記下部基材層の膜厚は、前記上部基材層の膜厚と同じである、光減衰部付き光導波路フィルム。
１１． ９．または１０．に記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、
前記下部基材層の弾性率は、前記上部基材層の弾性率と相違する、光減衰部付き光導波路フィルム。
１２． １．から１１．のいずれか１つに記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、
当該光導波路フィルムの膜厚は、５０μｍ以上３００μｍ以下である、光減衰部付き光導波路フィルム。
１３． １．から１２．のいずれか１つに記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、
前記上部クラッド層および／又は前記下部クラッド層の膜厚は、１μｍ以上５０μｍ以下である、光減衰部付き光導波路フィルム。
１４． 光コネクタが装着した１．から１３．のいずれか１つに記載の光減衰部付き光導波路フィルムを備える、光学部品。
【実施例】
【0077】
以下、本発明について実施例を参照して詳細に説明するが、本発明は、これらの実施例の記載に何ら限定されるものではない。
【0078】
＜光減衰部付き光導波路フィルムの作成＞
（１）離脱性基を有するポリオレフィン系樹脂の合成
水分及び酸素濃度がいずれも１ｐｐｍ以下に制御され、乾燥窒素で満たされたグローブボックス中において、ヘキシルノルボルネン（ＨｘＮＢ）７．２ｇ（４０．１ｍｍｏｌ）、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン１２．９ｇ（４０．１ｍｍｏｌ）を５００ｍＬバイアル瓶に計量し、脱水トルエン６０ｇと酢酸エチル１１ｇを加え、シリコン製のシーラーを被せて上部を密栓した。
（１）離脱性基を有するポリオレフィン系樹脂の合成
水分及び酸素濃度がいずれも１ｐｐｍ以下に制御され、乾燥窒素で満たされたグローブボックス中において、ヘキシルノルボルネン（ＨｘＮＢ）７．２ｇ（４０．１ｍｍｏｌ）、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン１２．９ｇ（４０．１ｍｍｏｌ）を５００ｍＬバイアル瓶に計量し、脱水トルエン６０ｇと酢酸エチル１１ｇを加え、シリコン製のシーラーを被せて上部を密栓した。
【0079】
次に、１００ｍＬバイアルビン中にＮｉ触媒１．５６ｇ（３．２ｍｍｏｌ）と脱水トルエン１０ｍＬを計量し、スターラーチップを入れて密栓し、触媒を十分に撹拌して完全に溶解させた。このＮｉ触媒溶液１ｍＬをシリンジで正確に計量し、上記２種のノルボルネンを溶解させたバイアル瓶中に定量的に注入して室温で１時間撹拌したところ、著しい粘度上昇が確認された。この時点で栓を抜き、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）６０ｇを加えて撹拌を行い、反応溶液を得た。
【0080】
１００ｍＬビーカーに無水酢酸９．５ｇ、過酸化水素水１８ｇ（濃度３０％）、イオン交換水３０ｇを加えて撹拌し、その場で過酢酸水溶液を調製した。次に、この水溶液全量を上記反応溶液に加えて１２時間撹拌してＮｉの還元処理を行った。
【0081】
次に、処理の完了した反応溶液を分液ロートに移し替え、下部の水層を除去した後、イソプロピルアルコールの３０％水溶液を１００ｍＬ加えて激しく撹拌を行った。静置して完全に二層分離が行われた後に水層を除去した。この水洗プロセスを合計で３回繰り返した後、油層を大過剰のアセトン中に滴下して生成したポリマーを再沈殿させ、ろ過によりろ液と分別した後、６０℃に設定した真空乾燥機中で１２時間加熱乾燥を行うことにより、ポリマー＃１を得た。
【0082】
ポリマー＃１の分子量分布は、ＧＰＣ測定した結果、Ｍｗ＝１０万、Ｍｎ＝４万であった。また、ポリマー＃１中の各構造単位のモル比は、ＮＭＲ測定による同定の結果、ヘキシルノルボルネン構造単位が５０ｍｏｌ％、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン構造単位が５０ｍｏｌ％であった。
【0083】
（２）コア層形成用組成物の製造
精製した上記ポリマー＃１の１０ｇを１００ｍＬのガラス容器に秤量し、これにメシチレン４０ｇ、酸化防止剤Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６（ＢＡＳＦ社製）０．０１ｇ、シクロヘキシルオキセタンモノマー（東亜合成製 ＣＨＯＸ、ＣＡＳ＃４８３３０３－２５－９、分子量１８６、沸点１２５℃／１．３３ｋＰａ）２ｇ、重合開始剤（光酸発生剤）「ＲｈｏｄｏｒｓｉｌＰｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒ ２０７４」（Ｒｈｏｄｉａ社製、ＣＡＳ＃ １７８２３３－７２－２）（０．０１２５ｇ、酢酸エチル０．１ｍＬ中）を加えて均一に溶解させた後、０．２μｍのＰＴＦＥフィルターによりろ過を行い、清浄なコア層形成用組成物を得た。
精製した上記ポリマー＃１の１０ｇを１００ｍＬのガラス容器に秤量し、これにメシチレン４０ｇ、酸化防止剤Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６（ＢＡＳＦ社製）０．０１ｇ、シクロヘキシルオキセタンモノマー（東亜合成製 ＣＨＯＸ、ＣＡＳ＃４８３３０３－２５－９、分子量１８６、沸点１２５℃／１．３３ｋＰａ）２ｇ、重合開始剤（光酸発生剤）「ＲｈｏｄｏｒｓｉｌＰｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒ ２０７４」（Ｒｈｏｄｉａ社製、ＣＡＳ＃ １７８２３３－７２－２）（０．０１２５ｇ、酢酸エチル０．１ｍＬ中）を加えて均一に溶解させた後、０．２μｍのＰＴＦＥフィルターによりろ過を行い、清浄なコア層形成用組成物を得た。
【0084】
（３）クラッド層の作製
環状オレフィン系樹脂を含むノルボルネン系樹脂組成物（プロメラス社製Ａｖａｔｒｅｌ２５９０の２０重量％２－ヘプタノン溶液、１０ｇ）に、２－ウンデシルメチルイミダゾール（四国化成工業株式会社製、品番Ｃ１１Ｚ）（０．０６ｇ）を添加して混合し、クラッド層形成用塗布液を得た。このクラッド層形成用塗布液を、２枚のポリイミドフィルムの上にドクターブレードでそれぞれ均一に塗布した後、４５℃の乾燥機において１５分間乾燥させた。溶剤を完全に除去した後、乾燥機中１６０℃で２時間加熱して塗膜を硬化させ、光導波路形成用フィルム（クラッド層および基材層）を２枚形成した。
環状オレフィン系樹脂を含むノルボルネン系樹脂組成物（プロメラス社製Ａｖａｔｒｅｌ２５９０の２０重量％２－ヘプタノン溶液、１０ｇ）に、２－ウンデシルメチルイミダゾール（四国化成工業株式会社製、品番Ｃ１１Ｚ）（０．０６ｇ）を添加して混合し、クラッド層形成用塗布液を得た。このクラッド層形成用塗布液を、２枚のポリイミドフィルムの上にドクターブレードでそれぞれ均一に塗布した後、４５℃の乾燥機において１５分間乾燥させた。溶剤を完全に除去した後、乾燥機中１６０℃で２時間加熱して塗膜を硬化させ、光導波路形成用フィルム（クラッド層および基材層）を２枚形成した。
【0085】
（４）コア層の作製
離型処理ＰＥＴフィルム上にコア層形成用組成物を、ドクターブレードにより均一に塗布した後、４０℃の乾燥機に５分間投入した。溶媒を完全に除去して被膜とした後、得られた被膜上に、図６に示すようなフォトマスク４００を圧着した。本実施例で使用したフォトマスク４００では、図６に示す通りコア部パターン４１０の本数が３本ではなく６本とした。具体的には、本実施例のフォトマスク４００には、光減衰部パターン４２０を有する直線状の減衰コアパターン（コア部パターン４１０）がＰｔ１：２５０μｍピッチで６本形成されており、減衰コアパターン（コア部パターン４１０）以外は減衰部を有さない直線コアパターン（ダミーコア部パターン４４０）がＰｔ２：６２．５μｍで側面クラッド部パターン４３０を介して３本形成されている（光減衰部パターン４２０、側面クラッド部パターン４３０が開口部であり、その他は照射光を透過しないマスク領域である）。光減衰部パターン４２０はスリット構造を有しており、各スリットの、スリット幅Ｄ、スリット間隔Ｗは同一の厚みであり、スリット形状はすべて同一とした。各実施例・各比較例のスリット数を下記表１に示す。
そして、フォトマスク４００上から平行露光機により紫外線を照射した。なお、紫外線の積算光量は１３００ｍＪ／ｃｍ２とした。
離型処理ＰＥＴフィルム上にコア層形成用組成物を、ドクターブレードにより均一に塗布した後、４０℃の乾燥機に５分間投入した。溶媒を完全に除去して被膜とした後、得られた被膜上に、図６に示すようなフォトマスク４００を圧着した。本実施例で使用したフォトマスク４００では、図６に示す通りコア部パターン４１０の本数が３本ではなく６本とした。具体的には、本実施例のフォトマスク４００には、光減衰部パターン４２０を有する直線状の減衰コアパターン（コア部パターン４１０）がＰｔ１：２５０μｍピッチで６本形成されており、減衰コアパターン（コア部パターン４１０）以外は減衰部を有さない直線コアパターン（ダミーコア部パターン４４０）がＰｔ２：６２．５μｍで側面クラッド部パターン４３０を介して３本形成されている（光減衰部パターン４２０、側面クラッド部パターン４３０が開口部であり、その他は照射光を透過しないマスク領域である）。光減衰部パターン４２０はスリット構造を有しており、各スリットの、スリット幅Ｄ、スリット間隔Ｗは同一の厚みであり、スリット形状はすべて同一とした。各実施例・各比較例のスリット数を下記表１に示す。
そして、フォトマスク４００上から平行露光機により紫外線を照射した。なお、紫外線の積算光量は１３００ｍＪ／ｃｍ２とした。
【0086】
次いで、フォトマスク４００を取り去り、１５０℃のオーブンに３０分間投入した。オーブンから取り出すと、被膜には断面が矩形状をなす鮮明な導波路パターン（複数のコア部）が現れているのが確認された。得られたコア層の厚さは４０μｍであった。
【0087】
（５）光導波路フィルムの作製
ステンレス製の板上にて、基材層、クラッド層、コア層、クラッド層、基材層の順にラミネータで積層し、積層体を得た。得られた積層体を１６０℃、２時間の条件で熱処理し、光導波路シートを得た。得られた積層体の厚さは１００μｍであった。
ステンレス製の板上にて、基材層、クラッド層、コア層、クラッド層、基材層の順にラミネータで積層し、積層体を得た。得られた積層体を１６０℃、２時間の条件で熱処理し、光導波路シートを得た。得られた積層体の厚さは１００μｍであった。
【0088】
（６）光導波路試験片の作製
ダイシングテープＵＨＰ－１１０ＡＴ（デンカ社製）に光導波路シートを貼りつけ、ダイサーを用いて光導波路シートをカットした。その後ダイシングテープから光導波路フィルムを剥離するために積算光量は５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線照射を実施し、光導波路フィルムをダイシングテープから剥離し、長さ４０ｍｍの光導波路試験片（光導波路フィルム）を得た。得られた光導波路フィルムは、端から順番に、Ｎｏ．１～Ｎｏ．６の光減衰部を有するコア部を６本、隣接コア部の間に側面クラッド部を介して形成されたダミーコア部を３本、備えるものである。
ダイシングテープＵＨＰ－１１０ＡＴ（デンカ社製）に光導波路シートを貼りつけ、ダイサーを用いて光導波路シートをカットした。その後ダイシングテープから光導波路フィルムを剥離するために積算光量は５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線照射を実施し、光導波路フィルムをダイシングテープから剥離し、長さ４０ｍｍの光導波路試験片（光導波路フィルム）を得た。得られた光導波路フィルムは、端から順番に、Ｎｏ．１～Ｎｏ．６の光減衰部を有するコア部を６本、隣接コア部の間に側面クラッド部を介して形成されたダミーコア部を３本、備えるものである。
【0089】
【表1】
【0090】
得られた光減衰部付き光導波路フィルムについて次のような評価項目に基づいて評価を実施した。評価結果を表１に示す。
【0091】
（光減衰部における光路長）
測長顕微鏡を用いて、光減衰部のスリット幅（Ｄ）を測定し、個数（ｉ）をカウントした。
コア層の露光部および未露光部の光導波路フィルムの屈折率を、波長８５０ｎｍの光を照射し、プリズムカプラで測定した。得られた露光部の屈折率を光減衰部の屈折率（Ｎ）とした。スリット幅（Ｄ）は、０．０１ｍｍ、個数（ｉ）は表１に示すスリット数と同じであり、屈折率（Ｎ）は１．５２４であった。そして、光減衰部における光路長（ｍｍ）を、式：個数（ｉ）×スリット幅（Ｄ）×屈折率（Ｎ）から算出した。
測長顕微鏡を用いて、光減衰部のスリット幅（Ｄ）を測定し、個数（ｉ）をカウントした。
コア層の露光部および未露光部の光導波路フィルムの屈折率を、波長８５０ｎｍの光を照射し、プリズムカプラで測定した。得られた露光部の屈折率を光減衰部の屈折率（Ｎ）とした。スリット幅（Ｄ）は、０．０１ｍｍ、個数（ｉ）は表１に示すスリット数と同じであり、屈折率（Ｎ）は１．５２４であった。そして、光減衰部における光路長（ｍｍ）を、式：個数（ｉ）×スリット幅（Ｄ）×屈折率（Ｎ）から算出した。
【0092】
（減衰量）
社団法人 日本電子回路工業会が規定した「高分子光導波路の試験方法（ＪＰＣＡ－ＰＥ０２－０５－０１Ｓ－２００８）」の４．６．１挿入損失の測定方法に準拠し、８５０ｎｍの光を５０μｍ径のグレーデッドインデックス型光ファイバＡを経由し、各実施例および各比較例で得られた光導波路フィルムにおけるコア部に導入し、５０μｍ径のグレーデッドインデックス型光ファイバＢで受光して光の強度を測定し、光導波路フィルムにおけるコア部の挿入損失を算出した。
測定に使用した２つの光源は、以下のものを使用した。
・第１の光源：光ファイバＡより放射された放射角度が６°（最大５．７１）以下の光源、
・第２の光源：光ファイバＡより放射された放射角度が１３°（最大１２．１７）以下の光源
第１の光源および第２の光源の放射角度は、ＦＦＰ（Ｆａｒ Ｆｉｅｌｄ Ｐａｔｔｅｒｎ：ファーフィールドパターン）測定装置を使用して測定した。
減衰量は、（中央部における）Ｎｏ．３の減衰部を有するコア部における挿入損失Ａ３とし、Ｎｏ．３のコア部の両側に３本ずつ形成された合計６本の減衰部を有さないダミーコア部における平均挿入損失Ｂとしたとき、これらの差分「平均挿入損失Ｂ－挿入損失Ａ３」（ｄＢ）とした。
そして、第１の光源を用いて測定された減衰量を「減衰量Ｘ」とし、第２の光源を用いて測定された減衰量を「減衰量Ｙ」とした。
社団法人 日本電子回路工業会が規定した「高分子光導波路の試験方法（ＪＰＣＡ－ＰＥ０２－０５－０１Ｓ－２００８）」の４．６．１挿入損失の測定方法に準拠し、８５０ｎｍの光を５０μｍ径のグレーデッドインデックス型光ファイバＡを経由し、各実施例および各比較例で得られた光導波路フィルムにおけるコア部に導入し、５０μｍ径のグレーデッドインデックス型光ファイバＢで受光して光の強度を測定し、光導波路フィルムにおけるコア部の挿入損失を算出した。
測定に使用した２つの光源は、以下のものを使用した。
・第１の光源：光ファイバＡより放射された放射角度が６°（最大５．７１）以下の光源、
・第２の光源：光ファイバＡより放射された放射角度が１３°（最大１２．１７）以下の光源
第１の光源および第２の光源の放射角度は、ＦＦＰ（Ｆａｒ Ｆｉｅｌｄ Ｐａｔｔｅｒｎ：ファーフィールドパターン）測定装置を使用して測定した。
減衰量は、（中央部における）Ｎｏ．３の減衰部を有するコア部における挿入損失Ａ３とし、Ｎｏ．３のコア部の両側に３本ずつ形成された合計６本の減衰部を有さないダミーコア部における平均挿入損失Ｂとしたとき、これらの差分「平均挿入損失Ｂ－挿入損失Ａ３」（ｄＢ）とした。
そして、第１の光源を用いて測定された減衰量を「減衰量Ｘ」とし、第２の光源を用いて測定された減衰量を「減衰量Ｙ」とした。
【0093】
（減衰性）
得られた「減衰量Ｘ」について、以下の基準に従い、減衰性を評価した。評価結果を表１に示す。
○：減衰量Ｘが１．２０ｄＢ以上
×：減衰量Ｘが１．２０ｄＢ未満
得られた「減衰量Ｘ」について、以下の基準に従い、減衰性を評価した。評価結果を表１に示す。
○：減衰量Ｘが１．２０ｄＢ以上
×：減衰量Ｘが１．２０ｄＢ未満
【0094】
（減衰量のバラツキ）
Ｎｏ．１～６の光減衰部を有するコア部（６本）のそれぞれに、１本ずつ第１光源を用いて光を照射し、上記の減衰量の測定方法と同様にして「減衰量Ｘ」を測定した。得られた６本のコア部における減衰量Ｘにおいて標準偏差σを算出した。
得られた「減衰量Ｘの標準偏差σ」について、以下の基準に従い、減衰量のバラツキを評価した。評価結果を表１に示す。
○：標準偏差σが０．３５以下
×：標準偏差σが０．３５超え
Ｎｏ．１～６の光減衰部を有するコア部（６本）のそれぞれに、１本ずつ第１光源を用いて光を照射し、上記の減衰量の測定方法と同様にして「減衰量Ｘ」を測定した。得られた６本のコア部における減衰量Ｘにおいて標準偏差σを算出した。
得られた「減衰量Ｘの標準偏差σ」について、以下の基準に従い、減衰量のバラツキを評価した。評価結果を表１に示す。
○：標準偏差σが０．３５以下
×：標準偏差σが０．３５超え
【符号の説明】
【0095】
１ 領域
２ 領域
１２ 裏面
１４ 表面
１００ 光導波路フィルム
１０１ 導波路端面
１０３ 一端
１０５ 他端
１１０ コア層
１１２ コア部
１１４ クラッド部
１１６ ダミーコア部
１２０ 上部クラッド層
１３０ 下部クラッド層
１４０ 上部基材層
１５０ 下部基材層
２００、２００ａ～ｅ 光減衰部
２０２ テーパー構造
２０４ 非傾斜領域
２０６ テーパー構造
３００ 信号光
３１０ 信号光
３２０ 光出力部
３３０ 光検出部
４００ フォトマスク
４１０ コア部パターン
４２０ 光減衰部パターン
４３０ 側面クラッド部パターン
４４０ ダミーコア部パターン
２ 領域
１２ 裏面
１４ 表面
１００ 光導波路フィルム
１０１ 導波路端面
１０３ 一端
１０５ 他端
１１０ コア層
１１２ コア部
１１４ クラッド部
１１６ ダミーコア部
１２０ 上部クラッド層
１３０ 下部クラッド層
１４０ 上部基材層
１５０ 下部基材層
２００、２００ａ～ｅ 光減衰部
２０２ テーパー構造
２０４ 非傾斜領域
２０６ テーパー構造
３００ 信号光
３１０ 信号光
３２０ 光出力部
３３０ 光検出部
４００ フォトマスク
４１０ コア部パターン
４２０ 光減衰部パターン
４３０ 側面クラッド部パターン
４４０ ダミーコア部パターン
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】