特許 7116538 表示装置及びその製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2022-08-02

(45)【発行日】2022-08-10

(54)【発明の名称】表示装置及びその製造方法

(51)【国際特許分類】

   G09F 9/00 20060101AFI20220803BHJP

   G02F 1/1333 20060101ALI20220803BHJP

   G02F 1/1368 20060101ALN20220803BHJP

   G02F 1/1345 20060101ALN20220803BHJP

【ＦＩ】

G09F9/00 313

G09F9/00 302

G09F9/00 350Z

G09F9/00 338

G02F1/1333

G02F1/1333 500

G02F1/1368

G02F1/1345

【請求項の数】 9

(21)【出願番号】P 2017222724

(22)【出願日】2017-11-20

(65)【公開番号】P2019095506

(43)【公開日】2019-06-20

【審査請求日】2020-11-13

(73)【特許権者】

【識別番号】502356528

【氏名又は名称】株式会社ジャパンディスプレイ

(74)【代理人】

【識別番号】110000154

【氏名又は名称】特許業務法人はるか国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】鈴木 隆靖

【審査官】新井 重雄

(56)【参考文献】

【文献】特開２０１６－１０３３０９（ＪＰ，Ａ）

【文献】韓国公開特許第１０－２０１５－００１５９５６（ＫＲ，Ａ）

【文献】特開２００８－０９０１９６（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平１１－２５９００２（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平０８－０８３９８１（ＪＰ，Ａ）

【文献】米国特許第０４７７０９２０（ＵＳ，Ａ）

【文献】特開昭５９－１５０７４５（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開昭５４－０９３０７４（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｇ０９Ｆ ９／００

Ｇ０２Ｆ １／１３３３

Ｇ０２Ｆ １／１３６８

Ｇ０２Ｆ １／１３４５

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

相互に直交する第１方向及び第２方向の少なくとも一方の両端において外形端が一致するように積層された複数層と、
前記複数層のそれぞれに設けられ、前記複数層の積層方向に連通する穴と、
前記複数層の全てにわたって前記穴に連続的に充填された樹脂と、
を有し、
前記複数層は、表示領域を有する表示パネルを含み、
前記複数層の前記穴の輪郭は、前記外形端の一致精度と比べて、ずれていることを特徴とする表示装置。

【請求項2】

相互に直交する第１方向及び第２方向の少なくとも一方の両端において外形端が一致するように積層された複数層と、
前記複数層の一方の最外層に設けられた凹部と、
前記最外層を除く前記複数層に、前記凹部に連通するように設けられ、前記最外層を除く前記複数層の積層方向に連通する穴と、
前記複数層の全てにわたって前記凹部および前記穴に連続的に充填された樹脂と、
を有し、
前記複数層は、表示領域を有する表示パネルを含み、
前記複数層の前記凹部の輪郭および前記穴の輪郭は、前記外形端の一致精度と比べて、ずれていることを特徴とする表示装置。

【請求項3】

請求項２に記載された表示装置において、
前記最外層は、カバーガラス又は筐体であることを特徴とする表示装置。

【請求項4】

請求項１から３のいずれか１項に記載された表示装置において、
前記複数層は、支持フィルム、クッションシート及び均熱シートの少なくとも１つを含むことを特徴とする表示装置。

【請求項5】

請求項１から３のいずれか１項に記載された表示装置において、
前記複数層は、前記第１方向及び前記第２方向の一方のみの前記両端において前記外形端が一致することを特徴とする表示装置。

【請求項6】

請求項１から５のいずれか１項に記載された表示装置において、
前記穴は、中心及び内面の少なくとも一方においてずれていることを特徴とする表示装置。

【請求項7】

相互に直交する第１方向及び第２方向の少なくとも一方の両端において外形端が一致するように、複数層を積層する工程と、
前記複数層のそれぞれに、積層方向に連通する穴を形成する工程と、
前記複数層の全てにわたって前記穴に連続的に樹脂を充填する工程と、
前記樹脂を硬化させる工程と、
を含み、
前記複数層は、表示領域を有する表示パネルを含み、
前記複数層の前記穴の輪郭は、前記外形端の一致精度と比べて、ずれていることを特徴とする表示装置の製造方法。

【請求項8】

相互に直交する第１方向及び第２方向の少なくとも一方の両端において外形端が一致するように、複数層を積層する工程と、
前記複数層の一方の最外層に凹部を形成する工程と、
前記最外層を除く前記複数層のそれぞれに、前記凹部に連通するように、積層方向に連通する穴を形成する工程と、
前記複数層の全てにわたって前記凹部及び前記穴に連続的に樹脂を充填する工程と、
前記樹脂を硬化させる工程と、
を含み、
前記複数層は、表示領域を有する表示パネルを含み、
前記複数層の前記凹部及び前記穴の輪郭は、前記外形端の一致精度と比べて、ずれていることを特徴とする表示装置の製造方法。

【請求項9】

請求項７又は８に記載された表示装置の製造方法において、
前記樹脂を充填する工程で、前記樹脂は、液状、ゲル状又はペースト状であることを特徴とする表示装置の製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、表示装置及びその製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

表示パネルには、シート、フィルム又は基板などの別部材が複数層として重ねられることがある。特許文献１～３には、複数の部材をネジやピンによって固定することが開示されている。ネジやピンは、穴に挿入するので、穴の位置がずれていると、複数層の外縁がずれてしまう。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【文献】特開２００９－１６９０３４号公報

【文献】特開２００７－２６４２４２号公報

【文献】特開平０７－１１４０３４号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

スマートフォンなどのモバイル機器では、筐体を小型化するため（相対的には表示領域を大きくするため）、筐体に内蔵される表示パネル及び複数層の外縁の位置決めに高い精度が要求される。しかし、穴の誤差を小さくするには限界があり、他の方法で要求に応える必要があった。

【0005】

本発明は、位置決め精度を高めることを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本発明に係る表示装置は、相互に直交する第１方向及び第２方向の少なくとも一方の両端において外形端が一致するように積層され、積層方向に連通する穴をそれぞれが複数個所に有する複数層と、前記複数層の全てにわたって前記穴に連続的に充填された樹脂と、を有し、前記複数層は、表示領域を有する表示パネルを含み、前記表示パネルは、前記表示領域の外側に、対応する前記穴を有し、前記複数層の前記穴は、前記外形端の一致精度と比べて、ずれていることを特徴とする。

【0007】

本発明によれば、樹脂によって複数層の穴がずれた状態で位置決めされていても、外形端が一致しているので、高い位置決め精度が得られている。

【0008】

本発明に係る表示装置の製造方法は、相互に直交する第１方向及び第２方向の少なくとも一方の両端において外形端が一致し、それぞれが複数個所に有する穴が積層方向に連通するように、複数層を積層する工程と、前記複数層の全てにわたって前記穴に連続的に樹脂を充填する工程と、前記樹脂を硬化させる工程と、を含み、前記複数層は、表示領域を有する表示パネルを含み、前記表示パネルは、前記表示領域の外側に、対応する前記穴を有し、前記複数層の前記穴は、前記外形端の一致精度と比べて、ずれていることを特徴とする。

【0009】

本発明によれば、樹脂を使用するので複数層の穴がずれていても、外形端が一致するように、高い位置決め精度を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【0010】

【図1】本発明の実施形態に係る表示装置の平面図である。

【図2】図１に示す表示装置のII－II線断面を拡大した図である。

【図3】図１に示す表示装置のIII－III線断面を拡大した図である。

【図4】実施形態の変形例１に係る表示装置を示す断面図である。

【図5】実施形態の変形例２に係る表示装置を示す断面図である。

【図6】比較例に係る表示装置を示す断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0011】

以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。但し、本発明は、その要旨を逸脱しない範囲において様々な態様で実施することができ、以下に例示する実施形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。

【0012】

図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。本明細書と各図において、既出の図に関して説明したものと同様の機能を備えた要素には、同一の符号を付して、重複する説明を省略することがある。

【0013】

さらに、本発明の詳細な説明において、ある構成物と他の構成物の位置関係を規定する際、「上に」「下に」とは、ある構成物の直上あるいは直下に位置する場合のみでなく、特に断りの無い限りは、間にさらに他の構成物を介在する場合を含むものとする。

【0014】

図１は、本発明の実施形態に係る表示装置の平面図である。図２は、図１に示す表示装置のII－II線断面を拡大した図である。

【0015】

表示装置は、有機ＥＬ（Electroluminescence）表示装置である。表示装置は、例えば、赤、緑及び青からなる複数色の単位画素（サブピクセル）を組み合わせて、フルカラーの画素を形成し、フルカラーの画像を表示するようになっている。表示装置は、表示領域ＤＡ及び表示領域ＤＡを囲む周辺領域ＰＡを含む。周辺領域ＰＡは表示領域ＤＡの外側にある。周辺領域ＰＡには、フレキシブルプリント基板１２が接続されている。フレキシブルプリント基板１２には、画像を表示するための素子を駆動するための集積回路１３が搭載される。

【0016】

基板１０（アレイ基板）はポリイミドを用いている。ただし、シートディスプレイ又はフレキシブルディスプレイを構成するために十分な可撓性を有する基材であれば他の樹脂材料を用いても良い。基板１０上に、アンダーコート層１４として、シリコン酸化膜１４ａ、シリコン窒化膜１４ｂ及びシリコン酸化膜１４ｃの三層積層構造が設けられている。最下層のシリコン酸化膜１４ａは、基板１０との密着性向上のため、中層のシリコン窒化膜１４ｂは、外部からの水分及び不純物のブロック膜として、最上層のシリコン酸化膜１４ｃは、シリコン窒化膜１４ｂ中に含有する水素原子が薄膜トランジスタＴＲの半導体層１８側に拡散しないようにするブロック膜として、それぞれ設けられるが、特にこの構造に限定するものではなく、さらに積層があっても良いし、単層あるいは二層積層としても良い。

【0017】

アンダーコート層１４の下には、薄膜トランジスタＴＲを形成する箇所に合わせて付加膜１６を形成しても良い。付加膜１６は、チャネル裏面からの光の侵入等による薄膜トランジスタＴＲの特性の変化を抑制したり、導電材料で形成して所定の電位を与えることで、薄膜トランジスタＴＲにバックゲート効果を与えたりすることができる。ここでは、シリコン酸化膜１４ａを形成した後、薄膜トランジスタＴＲが形成される箇所に合わせて付加膜１６を島状に形成し、その後シリコン窒化膜１４ｂ及びシリコン酸化膜１４ｃを積層することで、アンダーコート層１４に付加膜１６を封入するように形成しているが、この限りではなく、基板１０上にまず付加膜１６を形成し、その後にアンダーコート層１４を形成しても良い。

【0018】

アンダーコート層１４上に薄膜トランジスタＴＲが形成されている。ポリシリコン薄膜トランジスタを例に挙げて、ここではＮｃｈトランジスタのみを示しているが、Ｐｃｈトランジスタを同時に形成しても良い。薄膜トランジスタＴＲの半導体層１８は、チャネル領域とソース・ドレイン領域との間に、低濃度不純物領域を設けた構造を採る。ゲート絶縁膜２０としてはここではシリコン酸化膜を用いる。ゲート電極２２は、ＭｏＷから形成された第１配線層Ｗ１の一部である。第１配線層Ｗ１は、ゲート電極２２に加え、第１保持容量線ＣＬ１を有する。第１保持容量線ＣＬ１と半導体層１８（ソース・ドレイン領域）との間で、ゲート絶縁膜２０を介して、保持容量Ｃｓの一部が形成される。

【0019】

ゲート電極２２の上に、層間絶縁膜２４（シリコン酸化膜又はシリコン窒化膜）が積層されている。基板１０を曲げられるようにする場合、折曲領域ＦＡでは、折り曲げやすくなるように、層間絶縁膜２４の少なくとも一部を除去する。層間絶縁膜２４の除去によって、アンダーコート層１４が露出するので、その少なくとも一部もパターニングを行って除去する。アンダーコート層１４を除去した後には、基板１０を構成するポリイミドが露出する。なお、アンダーコート層１４のエッチングを通じて、ポリイミド表面が一部浸食されて膜減りを生ずる場合が有る。

【0020】

層間絶縁膜２４の上に、ソース・ドレイン電極２６及び引き回し配線２８となる部分を含む第２配線層Ｗ２が形成されている。ここでは、Ｔｉ、Ａｌ及びＴｉの三層積層構造を採用する。層間絶縁膜２４を介して、第１保持容量線ＣＬ１（第１配線層Ｗ１の一部）と第２保持容量線ＣＬ２（第２配線層Ｗ２の一部）とで、保持容量Ｃｓの他の一部が形成される。引き回し配線２８は、基板１０の端部まで延在され、フレキシブルプリント基板１２を接続するための端子３２を有するようになっている。

【0021】

ソース・ドレイン電極２６及び引き回し配線２８（これらの一部を除く）を覆うように平坦化膜３４が設けられている。平坦化膜３４としては、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）等により形成される無機絶縁材料に比べ、表面の平坦性に優れることから、感光性アクリル等の有機材料が多く用いられる。

【0022】

平坦化膜３４は、画素コンタクト部３６及び周辺領域ＰＡでは除去されて、その上に酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）膜３５が形成されている。酸化インジウムスズ膜３５は、相互に分離された第１透明導電膜３８及び第２透明導電膜４０を含む。

【0023】

平坦化膜３４の除去により表面が露出した第２配線層Ｗ２は、第１透明導電膜３８にて被覆される。第１透明導電膜３８を被覆するように、平坦化膜３４の上にシリコン窒化膜４２が設けられている。シリコン窒化膜４２は、画素コンタクト部３６に開口を有し、この開口を介してソース・ドレイン電極２６に導通するように画素電極４４が積層されている。画素電極４４は反射電極として形成され、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）膜、銀（Ａｇ）膜、酸化インジウム亜鉛膜の三層積層構造としている。ここで、酸化インジウム亜鉛膜に代わって酸化インジウムスズ膜３５を用いても良い。画素電極４４は、画素コンタクト部３６から側方に拡がり、薄膜トランジスタＴＲの上方に至る。

【0024】

第２透明導電膜４０は、画素コンタクト部３６に隣接して、画素電極４４の下方（さらにシリコン窒化膜４２の下方）に設けられている。第２透明導電膜４０、シリコン窒化膜４２及び画素電極４４は重なっており、これらによって付加容量Ｃadが形成される。

【0025】

端子３２の表面には、酸化インジウムスズ膜３５の他の一部である第３透明導電膜４６が形成されている。第３透明導電膜４６は、第１透明導電膜３８及び第２透明導電膜４０と同時に形成される。端子３２上の第３透明導電膜４６は、以後の工程で端子３２の露出部がダメージを負わないようにバリア膜として設けることを目的の一としている。画素電極４４のパターニング時、第３透明導電膜４６はエッチング環境にさらされるが、酸化インジウムスズ膜３５の形成から画素電極４４の形成までの間に行われるアニール処理によって、酸化インジウムスズ膜３５は画素電極４４のエッチングに対し十分な耐性を有する。

【0026】

平坦化膜３４の上であって例えば画素コンタクト部３６の上方に、バンク（リブ）と呼ばれて隣同士の画素領域の隔壁となる絶縁層４８が形成されている。絶縁層４８としては平坦化膜３４と同じく感光性アクリル等が用いられる。絶縁層４８は、画素電極４４の表面を発光領域として露出するように開口され、その開口端はなだらかなテーパー形状となるのが好ましい。開口端が急峻な形状になっていると、その上に形成される有機ＥＬ（Electro Luminescence）層５０のカバレッジ不良を生ずる。

【0027】

平坦化膜３４と絶縁層４８は、両者間にあるシリコン窒化膜４２に設けた開口を通じて接触している。これにより、絶縁層４８の形成後の熱処理等を通じて、平坦化膜３４から脱離する水分や脱ガスを、絶縁層４８を通じて引き抜くことができる。

【0028】

画素電極４４の上に、有機材料からなる有機ＥＬ層５０が積層されている。有機ＥＬ層５０は、単層であってもよいが、画素電極４４側から順に、正孔輸送層、発光層及び電子輸送層が積層された構造であってもよい。これらの層は、蒸着によって形成しても良いし、溶媒分散の上での塗布によって形成しても良く、画素電極４４（各サブ画素）に対して選択的に形成しても良いし、表示領域ＤＡを覆う全面にベタ形成されても良い。ベタ形成の場合は、全サブ画素において白色光を得て、カラーフィルタ（図示せず）によって所望の色波長部分を取り出す構成とすることができる。

【0029】

有機ＥＬ層５０の上に、対向電極５２が設けられている。ここでは、トップエミッション構造としているため、対向電極５２は透明である。例えば、Ｍｇ層及びＡｇ層を、有機ＥＬ層５０からの出射光が透過する程度の薄膜として形成する。前述の有機ＥＬ層５０の形成順序に従うと、画素電極４４が陽極となり、対向電極５２が陰極となる。対向電極５２は、表示領域ＤＡ上と、表示領域ＤＡ近傍に設けられた陰極コンタクト部５４に亘って形成され、陰極コンタクト部５４で下層の引き回し配線２８と接続されて、端子３２に電気的に接続される。

【0030】

対向電極５２の上に、封止膜５６が形成されている。封止膜５６は、先に形成した有機ＥＬ層５０を、外部からの水分侵入を防止することを機能の一としており、高いガスバリア性が要求される。ここでは、シリコン窒化膜を含む積層構造として、シリコン窒化膜５６ａ、有機樹脂層５６ｂ及びシリコン窒化膜５６ｃの積層構造とした。シリコン窒化膜５６ａ，５６ｃと有機樹脂層５６ｂとの間には、密着性向上を目的の一として、シリコン酸化膜やアモルファスシリコン層を設けても良い。

【0031】

封止膜５６に、接着層５８を介して、タッチパネル基板６０が積層されている。タッチパネル基板６０には図示しないタッチセンシング電極の少なくとも一部が形成されている。タッチセンシング電極の一部を、対向電極５２が兼用してもよい。タッチパネル基板６０には円偏光板６２が貼り付けられている。円偏光板６２に、接着層６４を介して、カバーガラス６６が積層されている。一方、基板１０には、接着層６８を介して、支持フィルム７０が積層されている。支持フィルム７０には、グラファイトなどからなる均熱シート７２、クッションシート７４及び筐体７６が積層している。

【0032】

図３は、図１に示す表示装置のIII－III線断面を拡大した図である。表示装置は、複数層Ｌを有する。複数層Ｌは、表示領域ＤＡを有する表示パネル７８に対応する層Ｌ１を含む。層Ｌ１は、図２に示す基板１０から封止膜５６までの層を含む。複数層Ｌは、表示パネル７８の下に、支持フィルム７０、均熱シート７２、クッションシート７４及び筐体７６にそれぞれ対応する層Ｌ２，Ｌ３，Ｌ４，Ｌ５を含む。複数層Ｌは、表示パネル７８の上に、タッチパネル基板６０、円偏光板６２及びカバーガラス６６にそれぞれ対応する層Ｌ６，Ｌ７，Ｌ８を含む。最外の層Ｌ８，Ｌ５は、それぞれ、カバーガラス６６及び筐体７６である。

【0033】

複数層Ｌは、相互に直交する第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２の少なくとも一方（例えば一方のみ）の両端において、外形端が一致するように積層されている。例えば、図１に示すように、表示パネル７８とフレキシブルプリント基板１２との接続方向を第１方向Ｄ１とし、これに直交する方向を第２方向Ｄ２とする。図１及び図３に示すように、複数層Ｌは、第２方向Ｄ２の両端において外形端が一致する。これに対して、図２に示すように、第１方向Ｄ１の右側の端部では、複数層Ｌの全ての外形端が一致するわけではないが、複数層Ｌのいくつかの外形端が一致してもよい。また、図２に示す側とは反対側（図示せず）の端部では、複数層Ｌの全ての外形端が一致してもよい。

【0034】

複数層Ｌ（Ｌ１～Ｌ８）は、積層方向に連通する穴Ｈ（Ｈ１～Ｈ８）をそれぞれが複数個所に有する。表示パネル７８を含む層Ｌ１は、表示領域ＤＡの外側に穴Ｈ１を有する（図１参照）。一方に最外の層Ｌ８（カバーガラス６６）を除く層Ｌ１～Ｌ７は、穴Ｈ１～Ｈ７として貫通穴を有する。カバーガラス６６（層Ｌ８）は、穴Ｈ８として凹部を有する。凹部は、他の層Ｌ７に向けて開口する。

【0035】

穴Ｈは、レーザーなどで形成するため、位置ずれや大きさの不均一が生じる。一方、複数層Ｌは外形端で揃えられている。そのため、複数層Ｌの穴Ｈは、外形端の一致精度と比べてずれている。例えば、複数層Ｌの穴Ｈは、中心及び内面の少なくとも一方においてずれている。

【0036】

複数層Ｌの全てにわたって、穴Ｈに連続的に、樹脂８０が充填されている。樹脂８０が硬化していることで、複数層Ｌが相互に連結される。本実施形態によれば、樹脂８０によって複数層Ｌの穴Ｈがずれた状態で位置決めされていても、外形端が一致しているので、高い位置決め精度が得られている。

【0037】

次に、図１～図３を参照して、本実施形態に係る表示装置の製造方法を説明する。本実施形態では複数層Ｌを用意する。複数層Ｌは、表示領域ＤＡを有する表示パネル７８を含む。複数層Ｌは、それぞれ、穴Ｈを有する。表示パネル７８は、表示領域ＤＡの外側に穴Ｈを有する。

【0038】

複数層Ｌを、相互に直交する第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２の少なくとも一方の両端において外形端が一致するように積層する。このとき、それぞれが複数個所に有する穴Ｈを積層方向に連通させる。複数層Ｌの穴Ｈは、外形端の一致精度と比べて、ずれることになる。

【0039】

複数層Ｌの全てにわたって穴Ｈに連続的に樹脂８０を充填する。樹脂８０は、液状、ゲル状又はペースト状で充填する。そして、樹脂８０を硬化させる。本実施形態によれば、樹脂８０を使用するので複数層Ｌの穴Ｈがずれていても、外形端が一致するように、高い位置決め精度を得ることができる。

【0040】

図４は、実施形態の変形例１に係る表示装置を示す断面図である。この例では、図３の例とは逆に、カバーガラス１６６（層Ｌ８）に形成される穴Ｈ８が貫通穴であり、筐体１７６（層Ｌ５）に形成される穴Ｈ５が凹部である。製造工程では、カバーガラス１６６（層Ｌ８）の穴Ｈ８から樹脂１８０を充填する。カバーガラス１６６（層Ｌ８）の穴Ｈ８は、その上に化粧パネルを設けたり、塗装したりして隠すことが好ましい。

【0041】

図５は、実施形態の変形例２に係る表示装置を示す断面図である。この例は、複数層Ｌは、それぞれ、穴Ｈとして貫通穴を有する。つまり、カバーガラス２６６及び筐体２７６に形成される穴Ｈも貫通穴である。

【0042】

図６は、図３の比較例として、複数層Ｌの各層Ｌ１～Ｌ８に設けられた穴Ｈ１～Ｈ８に対し、金属ピン３８０等を通すことによって支持固定した例を示している。この場合、金属ピン３８０によって穴Ｈ１～Ｈ８が揃えられるため、相対的に各層Ｌ１～Ｌ８の端部にズレが生ずることになる。ズレの方向は、各層Ｌ１～Ｌ８における穴Ｈ１～Ｈ８の加工精度によるものであるから決して一方向ではなく、結果として各層Ｌ１～Ｌ８のズレは様々な方向に生ずることとなり、アッセンブル後の外形誤差拡大の要因となる。

【0043】

なお、表示装置は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置には限定されず、量子ドット発光素子（ＱＬＥＤ：Quantum‐Dot Light Emitting Diode）のような発光素子を各画素に備えた表示装置であってもよいし、液晶表示装置であってもよい。

【0044】

本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく種々の変形が可能である。例えば、実施形態で説明した構成は、実質的に同一の構成、同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成で置き換えることができる。

【符号の説明】

【0045】

１０ 基板、１２ フレキシブルプリント基板、１３ 集積回路、１４ アンダーコート層、１４ａ シリコン酸化膜、１４ｂ シリコン窒化膜、１４ｃ シリコン酸化膜、１６ 付加膜、１８ 半導体層、２０ ゲート絶縁膜、２２ ゲート電極、２４ 層間絶縁膜、２６ ドレイン電極、２８ 引き回し配線、３２ 端子、３４ 平坦化膜、３５ 酸化インジウムスズ膜、３６ 画素コンタクト部、３８ 第１透明導電膜、４０ 第２透明導電膜、４２ シリコン窒化膜、４４ 画素電極、４６ 第３透明導電膜、４８ 絶縁層、５０ 有機ＥＬ層、５２ 対向電極、５４ 陰極コンタクト部、５６ 封止膜、５６ａ シリコン窒化膜、５６ｂ 有機樹脂層、５６ｃ シリコン窒化膜、５８ 接着層、６０ タッチパネル基板、６２ 円偏光板、６４ 接着層、６６ カバーガラス、６８ 接着層、７０ 支持フィルム、７２ 均熱シート、７４ クッションシート、７６ 筐体、７８ 表示パネル、８０ 樹脂、１６６ カバーガラス、１７６ 筐体、１８０ 樹脂、２６６ カバーガラス、２７６ 筐体、Ｃad 付加容量、ＣＬ１ 第１保持容量線、ＣＬ２ 第２保持容量線、Ｃｓ 保持容量、Ｄ１ 第１方向、Ｄ２ 第２方向、ＤＡ 表示領域、ＦＡ 折曲領域、Ｈ 穴、Ｌ 複数層、ＰＡ 周辺領域、ＴＲ 薄膜トランジスタ、Ｗ１ 第１配線層、Ｗ２ 第２配線層。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】