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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2022-08-24
(45)【発行日】2022-09-01
(54)【発明の名称】踵の高い履物の底構造物およびこれを備えた踵の高い履物
(51)【国際特許分類】
A43B 13/41 20060101AFI20220825BHJP
A43B 13/16 20060101ALI20220825BHJP
【ＦＩ】
A43B13/41
A43B13/16
【請求項の数】
14
(21)【出願番号】P 2021530937
(86)(22)【出願日】2019-11-12
(65)【公表番号】
(43)【公表日】2022-01-28
(86)【国際出願番号】 KR2019015367
(87)【国際公開番号】W WO2020111587
(87)【国際公開日】2020-06-04
【審査請求日】2021-05-28
(31)【優先権主張番号】10-2018-0150456
(32)【優先日】2018-11-29
(33)【優先権主張国・地域又は機関】KR
(31)【優先権主張番号】10-2019-0138492
(32)【優先日】2019-11-01
(33)【優先権主張国・地域又は機関】KR
(73)【特許権者】
【識別番号】520154645
【氏名又は名称】キム，イル ス
【氏名又は名称原語表記】ＫＩＭ，Ｉｌ Ｓｏｏ
【住所又は居所原語表記】１０３－２０２，８６，Ｓｅｏｎｇｂｏｋ ２－ｒｏ，Ｓｕｊｉ－ｇｕ，Ｙｏｎｇｉｎ－ｓｉ，Ｇｙｅｏｎｇｇｉ－ｄｏ １６８５０，Ｒｅｐｕｂｌｉｃ ｏｆ Ｋｏｒｅａ
(74)【代理人】
【識別番号】100121382
【弁理士】
【氏名又は名称】山下 託嗣
(72)【発明者】
【氏名】キム，イル ス
【審査官】大内 康裕
(56)【参考文献】
【文献】中国特許出願公開第１０５３１０１７８（ＣＮ，Ａ）
【文献】特開平０９－１８７３０６（ＪＰ，Ａ）
【文献】米国特許出願公開第２００９／０１９３６８３（ＵＳ，Ａ１）
【文献】米国特許出願公開第２００９／０００７４５５（ＵＳ，Ａ１）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ａ４３Ｂ １３／００～１３／４２
Ａ４３Ｂ ７／００～ ７／３８
Ａ４３Ｂ １７／００～１７／１８
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
地面を支持するフロント部、前記フロント部から延長されて中足指節関節の後方部に位置し地面とは反対側の方向に曲がるベンディング部、そして
前記ベンディング部から延長されるリア部
を含み、
前記ベンディング部は、歩行周期中における踵離地（ｈｅｅｌ ｏｆｆ）と足趾離地（ｔｏｅ ｏｆｆ）の区間にて地面反対方向に凹状に曲がり、前記歩行周期中の遊脚期にて、地面の側の方向への曲がりが制限される、踵の高い履物の底構造物。
【請求項2】
前記ベンディング部は、地面とは反対側の方向に凹状曲面を成すベンディング曲面部からなる、請求項１に記載の踵の高い履物の底構造物。
【請求項3】
前記ベンディング曲面部は、足の縦軸に沿って引かれるベンディング部縦軸中心線の曲率に比べて、足の横軸と平行であり前記ベンディング部縦軸中心線と交差する線に沿って引かれるベンディング部横軸中心線の曲率が、より大きく形成される、請求項２に記載の踵の高い履物の底構造物。
【請求項4】
前記ベンディング部は、歩行周期中における踵離地（ｈｅｅｌ ｏｆｆ）と足趾離地（ｔｏｅ ｏｆｆ）の区間にて曲がって、前記リア部が足の内反と前記足の内転の方向における足の動きに対応する、請求項１に記載の踵の高い履物の底構造物。
【請求項5】
前記ベンディング部横軸中心線は、内側部（ｍｅｄｉａｌ ｓｉｄｅ ｐｏｒｔｉｏｎ）の曲率よりも、外側部（ｌａｔｅｒａｌ ｓｉｄｅ ｐｏｒｔｉｏｎ）の曲率が、より大きく形成される、請求項３に記載の踵の高い履物の底構造物。
【請求項6】
前記ベンディング部は、内側部（ｍｅｄｉａｌ ｓｉｄｅ ｐｏｒｔｉｏｎ）の厚さよりも、外側部（ｌａｔｅｒａｌ ｓｉｄｅ ｐｏｒｔｉｏｎ）の厚さが、より厚く形成される、請求項１に記載の踵の高い履物の底構造物。
【請求項7】
前記ベンディング部は、内側部（ｍｅｄｉａｌ ｓｉｄｅ ｐｏｒｔｉｏｎ）と外側部（ｌａｔｅｒａｌ ｓｉｄｅ ｐｏｒｔｉｏｎ）との曲がりの程度を異なるようにする、少なくとも一つ以上のベンディング調節ホール部またはベンディング調節凹部を備えた、請求項１に記載の踵の高い履物の底構造物。
【請求項8】
底構造物を備えた踵の高い履物において、前記底構造物は、
地面に支持されるフロント部、
前記フロント部から延長されて中足指節関節の後方部に位置し、地面とは反対の側の方向に曲がるベンディング部、そして
前記ベンディング部から延長されるリア部
を含み、
前記ベンディング部は、歩行周期中における踵離地（ｈｅｅｌ ｏｆｆ）と足趾離地（ｔｏｅ ｏｆｆ）の時期にて、地面とは反対側の方向に凹状に曲がり、前記歩行周期中の遊脚期にて地面の側の方向への曲がりが制限される、踵の高い履物。
【請求項9】
前記ベンディング部は、地面とは反対の側の方向に凹状曲面を成すベンディング曲面部からなる、請求項８に記載の踵の高い履物。
【請求項10】
前記ベンディング曲面部は、足の縦軸に沿って引かれるベンディング部縦軸中心線の曲率に比べて、足の横軸と平行であり前記ベンディング部縦軸中心線と交差する線に沿って引かれるベンディング部横軸中心線の曲率が、より大きく形成される、請求項９に記載の踵の高い履物。
【請求項11】
前記ベンディング部は、歩行周期中における踵離地（ｈｅｅｌ ｏｆｆ）と足趾離地（ｔｏｅ ｏｆｆ）の区間にて曲がって、前記リア部が、足の内反と前記足の内転の方向への足の動きに対応する、請求項８に記載の踵の高い履物。
【請求項12】
前記ベンディング部横軸中心線は、内側部（ｍｅｄｉａｌ ｓｉｄｅ ｐｏｒｔｉｏｎ）の曲率より外側部（ｌａｔｅｒａｌ ｓｉｄｅ ｐｏｒｔｉｏｎ）の曲率が、より大きく形成される、請求項１０に記載の踵の高い履物。
【請求項13】
前記ベンディング部は、内側部（ｍｅｄｉａｌ ｓｉｄｅ ｐｏｒｔｉｏｎ）の厚さよりも、外側部（ｌａｔｅｒａｌ ｓｉｄｅ ｐｏｒｔｉｏｎ）の厚さが、より厚く形成される、請求項８に記載の踵の高い履物。
【請求項14】
前記ベンディング部は、内側部（ｍｅｄｉａｌ ｓｉｄｅ ｐｏｒｔｉｏｎ）と外側部（ｌａｔｅｒａｌ ｓｉｄｅ ｐｏｒｔｉｏｎ）との曲がりの程度を異なるようにする、少なくとも一つ以上のベンディング調節ホール部またはベンディング調節凹部を備えた、請求項８に記載の踵の高い履物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、歩行者が踵の高い履物を着用して歩行する際、人間の歩行の動きと類似の歩行メカニズムを有する、踵(かかと)の高い履物の底構造物およびこれを備えた踵の高い履物に関するものである。
【背景技術】
【0002】
人間の歩行周期中の立脚中期（ｍｉｄｓｔａｎｃｅ）以後、踵離地（ｈｅｅｌ ｏｆｆ; take-off of heel）と足趾(足指)離地（ｔｏｅ ｏｆｆ; take-off of toe）の時期に、中足指節関節（ｍｅｔａｔａｒｓｏｐｈａｌａｎｇｅａｌ ｊｏｉｎｔｓ）にて、足の甲の側への屈曲（伸展、ｅｘｔｅｎｓｉｏｎ）が発生し、同時に足の踵（ｈｅｅｌ ｏｆ ｆｏｏｔ）の内反（ｉｎｖｅｒｓｉｏｎ）と内転（ａｄｄｕｃｔｉｏｎ）の動きが発生する。
【0003】
従来の踵の高い履物を履いた歩行者は、起立（ｓｔａｎｄｉｎｇ）や歩行中に、人体の体重が地面に負荷される際、踵が高いことから後足部（ｒｅａｒｆｏｏｔ）の安定性が低下して、足首捻挫（ａｎｋｌｅ ｓｐｒａｉｎ）を経験する。したがって、従来の踵の高い履物の底構造物（ｓｏｌｅ ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ）は、履物が地面と接触して地面に支持される部分である、前面部分の後方境界から後足部末端まで、金属シャンク（ｍｅｔａｌ ｓｈａｎｋ）が挿入された非常に固い材質が使用される。
【0004】
また、従来の、踵の高い履物を履いた状態の足は、足底筋膜（ｐｌａｎｔａｒ ｆａｓｃｉａ）がぴんと引っ張られた状態であるので、足指を底側に屈曲させる受動的動き（ｐａｓｓｉｖｅ ｍｏｖｅｍｅｎｔ）が発生する。したがって、従来の踵の高い履物を履いた状態の足は、踵の高い履物の地面に支持される部分である前面部分も、地面の側へと曲がろうとする力が作用する。したがって、踵の高い履物の前面部分は、人体の体重が地面に負荷されない遊脚期（ｓｗｉｎｇ ｐｈａｓｅ）に、履物の形状を維持するために堅固に製作される。特に、踵の高い履物の地面に支持される前面部分の底に、プラットフォーム（ｐｌａｔｆｏｒｍ）が取り付けられる場合には、前足部（ｆｏｒｅｆｏｏｔ）と後足部（ｒｅａｒｆｏｏｔ）の動きが全く許容されない。
【0005】
また、立脚中期（ｍｉｄｓｔａｎｃｅ）以後の踵離地（ｈｅｅｌ ｏｆｆ）と足趾離地（ｔｏｅ ｏｆｆ）の時期に、中足指節関節（ｍｅｔａｔａｒｓｏｐｈａｌａｎｇｅａｌ ｊｏｉｎｔｓ）から足の甲の側へと伸展（ｅｘｔｅｎｓｉｏｎ）が発生する。しかし、従来のハイヒールの底構造物は、柔軟でないのでこれに対応できず、足の踵が履物から抜け出て、正常な歩行が難しくなるという問題点がある。
【0006】
図２４は、従来の踵の高い履物を履いた状態で、足の骨格と履物の主要構造物を示した側断面図であり、図２５は、従来の踵の高い履物を製作することに使用される木型（ｌａｓｔ、「ラスト」とも言う）と一般的な底構造物を示した図である。
【0007】
一般的な踵の高い履物は、以下のような過程を通じて製作される。
【0008】
まず、踵の高い履物は、一般的な底構造物Ｓ（ｓｏｌｅ ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ）と木型Ｌ（ｌａｓｔ）が結合された状態にて甲革Ｕを覆いかぶせた後に、一般的な底構造物Ｓに甲革Ｕを固く結合させる過程を通じて製作される。そして、踵の高い履物は、一般的な底構造物Ｓに、踵ＨとアウトソールＯを結合して製作される。一般的な底構造物Ｓは、起立（ｓｔａｎｄｉｎｇ）や歩行の安定性（ｓｔａｂｉｌｉｔｙ）のために、地面を支持する部分（図２４のＡ部分）の後方境界ＢＬから後足部末端まで（図２５にてドット（ｄｏｔ）で示されたＢ部分）に、金属シャンクＭＳ（ｍｅｔａｌ ｓｈａｎｋ）が挿入されている。即ち、一般的な底構造物Ｓは、地面を支持する部分の後方境界ＢＬ部分から後足部まで連結される、非常に固い金属シャンクＭＳ（ｍｅｔａｌ ｓｈａｎｋ）が結合される。
【0009】
一方、足における体重が負荷される部位は、足の踵、第１中足骨頭（１ｓｔ ｈｅａｄｓ ｏｆ ｍｅｔａｔａｒｓａｌ ｂｏｎｅｓ）、そして第５中足骨頭（５ｔｈ ｈｅａｄｓ ｏｆ ｍｅｔａｔａｒｓａｌ ｂｏｎｅｓ）である。前述の三地点は、互いにアーチ形態に連結されていて、効率的な体重負荷と歩行を可能にする。
【0010】
踵の高い履物にて中足骨頭ＭＴＢＨ（ｈｅａｄｓ ｏｆ ｍｅｔａｔａｒｓａｌ ｂｏｎｅｓ）は、その後方部が人為的に上がっている。したがって、従来の底構造物Ｓ中における地面に支持されずに空中に浮かんでいる部分Ｂは、非常に堅固な材質が使用される。また、踵の高い履物の踵Ｈは、従来の底構造物Ｓの後方に結合されて、履物の形状を維持する。
【0011】
図２６は、従来の踵の高い履物を履いた状態における、中足指節関節の伸展（ｅｘｔｅｎｓｉｏｎ ｏｆ ｍｅｔａｔａｒｓｏｐｈａｌａｎｇｅａｌ ｊｏｉｎｔｓ）の状態を説明するための図である。
【0012】
一般に、踵の高い履物を履けば、中足指節関節ＭＴＰは、履物の形状に起因して、常に伸展された状態を維持するようになることから、足底筋膜ＰＦ（ｐｌａｎｔａｒ ｆａｓｃｉａ）がぴんと引っ張られるようになる（図２６で仮想線の矢印で表示する）。このように足底筋膜ＰＦが引っ張られれば、中足指節関節ＭＴＰ（ｍｅｔａｔａｒｓｏｐｈａｌａｎｇｅａｌ ｊｏｉｎｔ）を屈曲（ｆｌｅｘｉｏｎ）させる受動的動き（ｐａｓｓｉｖｅ ｍｏｖｅｍｅｎｔ）が発生して、足指が足裏側に曲がろうとする力が発生する（図２６で実線の矢印で表示する）。したがって、踵の高い履物における地面を支持する部分は、履物の形状を維持するために、ある程度堅固に製作される。
【0013】
図２７の（ａ）～（ｃ）は、従来の、踵の高い履物の問題点を説明するための図である。図２７の（ａ）は踵の高い履物を履いた状態における起立（ｓｔａｎｄｉｎｇ）や歩行中の立脚中期（ｍｉｄｓｔａｎｃｅ）を示した図であり、図２７の（ｂ）は歩行中における踵離地（ｈｅｅｌ ｏｆｆ）の時期を示した図であり、図２７の（ｃ）は、歩行中における足趾離地（ｔｏｅ ｏｆｆ）時期を示した図である。
【0014】
従来の底構造物Ｓは、地面を支持する部分が、ある程度柔軟に製作されても踵離地（ｈｅｅｌ ｏｆｆ）の時期には底構造物Ｓが曲がらない。踵離地（ｈｅｅｌ ｏｆｆ）の時期には、中足骨頭ＭＴＢＨを通じて体重が地面に負荷されるので、足の踵が地面から離れても、中足骨頭ＭＴＢＨを含む足の前面部は地面と接触しているようになる。したがって、従来の底構造物Ｓは、地面を支持する部分が、ある程度柔軟でも、踵離地（ｈｅｅｌ ｏｆｆ）時期には、底構造物Ｓが曲がらなくなって、足の踵が履物から抜け出るようになる。
【0015】
足趾離地（ｔｏｅ ｏｆｆ）の時期には、中足骨頭ＭＴＢＨが地面から離れることで足指のみに体重が負荷される。したがって、従来の底構造物Ｓで、地面を支持する部分が、ある程度柔軟に製作される場合、中足指節関節（ｍｅｔａｔａｒｓｏｐｈａｌａｎｇｅａｌ ｊｏｉｎｔ）の下方の部位で、ある程度曲がれるようになる。しかし、この場合にも、足の動きをついて行く程度に十分に曲がらなくなって、図２７の（ｃ）に示したように足の踵は、履物からさらに抜け出るようになる。
【0016】
したがって、従来の底構造物Ｓが適用された踵の高い履物は、歩行による足の動きについて行けず、足を支持（ｓｕｐｐｏｒｔ）することができなくなる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0017】
したがって、本発明は前記問題点を解決するために提案されたものであって、本発明の目的は、遊脚期（ｓｗｉｎｇ ｐｈａｓｅ）には中足指節関節（ｍｅｔａｔａｒｓｏｐｈａｌａｎｇｅａｌ ｊｏｉｎｔ）の屈曲（ｆｌｅｘｉｏｎ）を制限して履物の形状を維持し、地面に体重が負荷される立脚期（ｓｔａｎｃｅ ｐｈａｓｅ）や起立（ｓｔａｎｄｉｎｇ）の時には体重を支持して歩行の安定性を向上させる、踵の高い履物の底構造物およびこれを備えた踵の高い履物を提供することにある。
【0018】
本発明の他の目的は、歩行中の踵離地（ｈｅｅｌ ｏｆｆ）および足趾離地（ｔｏｅ－ｏｆｆ）時期に中足指節関節（ｍｅｔａｔａｒｓｏｐｈａｌａｎｇｅａｌ ｊｏｉｎｔ）の伸展（ｅｘｔｅｎｓｉｏｎ）が可能なようにして足の動きに最適化される踵の高い履物の底構造物およびこれを備えた踵の高い履物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0019】
前記のような本発明の目的を達成するために、本発明は、地面を支持するフロント部、前記フロント部から延長されて中足指節関節の後方部に位置し地面とは反対側に曲がるベンディング部、そして前記ベンディング部から延長されるリア部を含む、踵の高い履物の底構造物を提供する。
【0020】
前記ベンディング部は、地面とは反対の側に凹状曲面を成すベンディング曲面部からなるのが好ましい。
【0021】
前記ベンディング曲面部は、足の縦軸に沿って引かれるベンディング部縦軸中心線の曲率に比べて、足の横軸と平行であり前記ベンディング部の縦軸中心線と交差する線に沿って引かれる、ベンディング部の横軸中心線の曲率が、さらに大きく形成されるのが好ましい。
【0022】
前記ベンディング部は、前記歩行周期中における踵離地（ｈｅｅｌ ｏｆｆ）と足趾離地（ｔｏｅ ｏｆｆ）の区間で、地面とは反対の側へと凹状に曲がり、前記歩行周期中の遊脚期で地面方向に曲がりが制限されるのが好ましい。
【0023】
前記ベンディング部は、歩行周期中における踵離地（ｈｅｅｌ ｏｆｆ）と足趾離地（ｔｏｅ ｏｆｆ）の区間で曲がって、前記リア部が、足の内反と前記足の内転を行う方向へと足の動きに対応するのが好ましい。
【0024】
前記ベンディング部横軸中心線は、内側部（ｍｅｄｉａｌ ｓｉｄｅ ｐｏｒｔｉｏｎ）の曲率より外側部（ｌａｔｅｒａｌ ｓｉｄｅ ｐｏｒｔｉｏｎ）の曲率がさらに大きく形成されるのが好ましい。
【0025】
前記ベンディング部は、内側部（ｍｅｄｉａｌ ｓｉｄｅ ｐｏｒｔｉｏｎ）の厚さよりも、外側部（ｌａｔｅｒａｌ ｓｉｄｅ ｐｏｒｔｉｏｎ）の厚さが、より厚く形成されるのが好ましい。
【0026】
前記ベンディング部は、内側部（ｍｅｄｉａｌ ｓｉｄｅ ｐｏｒｔｉｏｎ）と外側部（ｌａｔｅｒａｌ ｓｉｄｅ ｐｏｒｔｉｏｎ）との曲がりの程度を異なるようにする、少なくとも一つ以上のベンディング調節ホール部またはベンディング調節凹部もしくは溝部を備えることができる。
【0027】
また、本発明は、底構造物を備えた踵の高い履物において、前記底構造物は、地面に支持されるフロント部、前記フロント部から延長されて中足指節関節の後方部に位置し地面とは反対の側へと曲がるベンディング部、そして前記ベンディング部から延長されるリア部を含む、踵の高い履物を提供する。
【発明の効果】
【0028】
このような本発明は、中足指節関節の後方またはフロント部の地面支持境界線を基準にして、後方側の底構造物に地面とは反対の方向にのみ曲がる一方向ベンディング部、または地面とは反対の方向に凹状に形成されるベンディング曲面部を形成することで、遊脚期には中足指節関節の屈曲（ｆｌｅｘｉｏｎ）を制限し、立脚期（ｓｔａｎｃｅ ｐｈａｓｅ）や起立（ｓｔａｎｄｉｎｇ）の時には足の安定性を維持することから、踵の高い履物を履いて歩行する際に、歩行の安定性を向上させる効果がある。
【0029】
また、本発明は、歩行中における踵離地（ｈｅｅｌ ｏｆｆ）および足趾離地（ｔｏｅ－ｏｆｆ）の時期に、中足指節関節の後方またはフロント部の地面支持境界線の後方の底構造物に形成されたベンディング部によって、底構造物の動きが中足指節関節（ｍｅｔａｔａｒｓｏｐｈａｌａｎｇｅａｌ ｊｏｉｎｔ）の伸展（ｅｘｔｅｎｓｉｏｎ）動きと足の踵の内転および内反の動きに一致することによって、安定性があって楽な歩行ができる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【0030】
【図1】本発明の実施形態に使用される用語を説明するために足の骨格を示した図である。
【図2】本発明の実施形態に使用される用語を説明するために踵の高い履物を履いた状態で足の骨格と踵の高い履物を示した側面図である。
【図3】足の動きのうちの内反（ｉｎｖｅｒｓｉｏｎ）と外反（ｅｖｅｒｓｉｏｎ）を説明するための図である。
【図4】足の動きのうちの内転（ａｄｄｕｃｔｉｏｎ）と外転（ａｂｄｕｃｔｉｏｎ）を説明するための図である。
【図5】足の動きのうちの足裏側への屈曲(底屈)（ｐｌａｎｔａｒ ｆｌｅｘｉｏｎ）と足の甲の側への屈曲(背屈)（ｄｏｒｓｉｆｌｅｘｉｏｎ）を説明するための図である。
【図6】一般的な人間の歩行周期（ｇａｉｔ ｃｙｃｌｅ）を説明するために５段階に分類した立脚期（ｓｔａｎｃｅ）を示した図である。
【図7】素足歩行中の踵離地（ｈｅｅｌ ｏｆｆ）状態を説明するための図である。
【図8】素足歩行中の足趾(足指)離地（ｔｏｅ ｏｆｆ）状態を説明するための図である。
【図9a】（ａ）～（ｃ）は柔軟性のある板構造物における曲がり（ｂｅｎｄｉｎｇ）の方向性を説明した図である。
【図9b】（ｄ）～（ｆ）は柔軟性のある板構造物における曲がり（ｂｅｎｄｉｎｇ）の方向性を説明した図である。
【図10】本発明の第１実施形態を説明するための、踵の高い履物を示した図である。
【図12】本発明の第１実施形態の底構造物を示した斜視図である。
【図16】本発明の第１実施形態が適用された、踵の高い履物を着用した状態にて、ベンディング部が作用する過程を説明する図である。
【図17】本発明の第１実施形態が適用された踵の高い履物を履いた場合、足を後方から見て足の踵の動きに対応する底構造物の動きを、従来と比較して説明するための図である。
【図18】本発明の第２実施形態の底構造物を示した斜視図である。
【図21】本発明の第２実施形態の補助部材Ｓｂを取り付けられた図である。
【図22】本発明の第３実施形態を説明するための底構造物を示した図である。
【図23】本発明の第４実施形態を説明するための底構造物を示した図である。
【図24】従来の踵の高い履物を履いた状態での足骨格と履物の主要構造物を示した側断面図である。
【図25】従来の踵の高い履物製作に使用される木型と底構造物を示した図である。
【図26】従来の踵の高い履物を履いた状態にて中足指節関節の伸展（ｅｘｔｅｎｓｉｏｎ ｏｆ ｍｅｔａｔａｒｓｏｐｈａｌａｎｇｅａｌ ｊｏｉｎｔｓ）の状態を説明するための図である。
【図27】従来の踵の高い履物で問題点を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【0031】
以下、添付した図面を参照して本発明の実施形態について本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者が容易に実施することができるように詳細に説明する。しかし、本発明は様々な異なる形態に実現でき、ここで説明する実施形態に限定されない。図面で本発明を明確に説明するために説明上不必要な部分は省略し、明細書全体にわたって同一または類似の構成要素については同一な参照符号を付与することにする。
【0032】
【0033】
本発明の実施形態の説明で使用される用語は次のように決めることにする。
【0034】
前方Ａ（ａｎｔｅｒｉｏｒ ｏｒ ｄｉｓｔａｌ）は足指の側への方向を意味し、後方Ｐ（ｐｏｓｔｅｒｉｏｒ ｏｒ ｐｒｏｘｉｍａｌ）は足指とは反対の側への方向、即ち、足の踵の側への方向を意味する。内側Ｍ（ｍｅｄｉａｌ）は体の中心へと向かう方向を意味し、外側Ｌ（ｌａｔｅｒａｌ）は体の中心の側とは反対の方向を意味する。上方Ｓ（ｓｕｐｅｒｉｏｒ ｏｒ ｄｏｒｓａｌ）は足の甲の側への方向を意味し、下方Ｉ（ｉｎｆｅｒｉｏｒ ｏｒ ｐｌａｎｔａｒ）は足の甲とは反対の側への方向、即ち、地面へと向かう方向を意味する。
【0035】
そして、足の縦軸ＬＡは足の長さ方向を意味する。横軸ＴＡは、縦軸ＬＡと交差しながら、第１中足指節関節ＭＴＰ１（１ｓｔ ｍｅｔａｔａｒｓｏｐｈａｌａｎｇｅａｌ ｊｏｉｎｔ）と、第５中足指節関節ＭＴＰ５（５ｔｈ ｍｅｔａｔａｒｓｏｐｈａｌａｎｇｅａｌ ｊｏｉｎｔ）とを連結した線を意味する。
【0036】
中足指節関節ＭＴＰ（ｍｅｔａｔａｒｓｏｐｈａｌａｎｇｅａｌ ｊｏｉｎｔ）は、中足骨ＭＴＢ（ｍｅｔａｔａｒｓａｌ ｂｏｎｅｓ）と、基節骨ＰＰ（ｐｒｏｘｉｍａｌ ｐｈａｌａｎｘ）との間の関節を意味する。
【0037】
前足部ＦＦ（ｆｏｒｅｆｏｏｔ）は、足根中足関節ＴＭＴ（ｔａｒｓｏｍｅｔａｔａｒｓａｌ ｊｏｉｎｔ）を基準にして前方の部分を意味する。中足部ＭＦ（ｍｉｄｆｏｏｔ）は、足根中足関節ＴＭＴ（ｔａｒｓｏｍｅｔａｔａｒｓａｌ ｊｏｉｎｔ）と、横足根関節ＴＴ（ｔｒａｎｓｖｅｒｓｅ ｔａｒｓａｌ ｊｏｉｎｔ）との間を意味する。後足部ＲＦ（ｒｅａｒｆｏｏｔ）は、横足根関節ＴＴ（ｔｒａｎｓｖｅｒｓｅ ｔａｒｓａｌ ｊｏｉｎｔ）の後方の部分を意味する。
【0038】
中足骨頭ＭＴＢＨ（ｈｅａｄｓ ｏｆ ｍｅｔａｔａｒｓａｌ ｂｏｎｅｓ）は、中足骨ＭＴＢ（ｍｅｔａｔａｒｓａｌ ｂｏｎｅ）の頭部を意味する。中足骨頭ＭＴＢＨのうちの第１中足骨頭ＭＴＢＨ１（１ｓｔ ｈｅａｄｓ ｏｆ ｍｅｔａｔａｒｓａｌ ｂｏｎｅｓ）と、第５中足骨頭ＭＴＢＨ５（５ｔｈ ｈｅａｄｓ ｏｆ ｍｅｔａｔａｒｓａｌ ｂｏｎｅｓ）と、足の踵とは、起立や歩行の際に地面へ体重が負荷される部位である。
【0039】
図３は、本発明の実施形態を説明するために足の踵の動きのうちの、内反（ｉｎｖｅｒｓｉｏｎ）と外反（ｅｖｅｒｓｉｏｎ）の動きを示した図である。足の踵の動きのうちの内反（ｉｎｖｅｒｓｉｏｎ）は、身体の中心（ｍｉｄ ｌｉｎｅ）を基準にして足の踵が内側に回転する動き（Ｔｗｉｓｔｉｎｇ ｍｏｖｅｍｅｎｔ ｏｆ ｔｈｅ ｆｏｏｔ ｉｎｗａｒｄ）を意味する（図３の（ａ）における左側への方向の仮想線矢印）。足の踵の動きのうちの外反（ｅｖｅｒｓｉｏｎ）は、身体の中心（ｍｉｄ ｌｉｎｅ）を基準にして、足の踵が外側に回転する動き（Ｔｗｉｓｔｉｎｇ ｍｏｖｅｍｅｎｔ ｏｆ ｔｈｅ ｆｏｏｔ ｏｕｔｗａｒｄ）を意味する（図３の（ｃ）における右側への方向の仮想線矢印）。図３にて、符号ＡＨは、足の踵の軸（ａｘｉｓ ｏｆ ｈｅｅｌ）である。
【0040】
図４は、本発明の実施形態を説明するために足の動きのうちの内転（ａｄｄｕｃｔｉｏｎ）と外転（ａｂｄｕｃｔｉｏｎ）の動きを示した図である。足の動きのうちの内転（ａｄｄｕｃｔｉｏｎ）は、人体の中心を基準にして、足が内側へと近くなる動きを意味する（図４における右側への方向に表示された仮想線矢印）。足の動きのうちの外転（Ａｂｄｕｃｔｉｏｎ）は、人体の中心を基準にして足が外側へと遠くなる動きを意味する（図４における左側への方向に表示された仮想線矢印）。内反と外反は回転運動である反面、内転と外転は直線運動である。
【0041】
図５は、本発明の実施形態を説明するために足の中足指節関節ＭＴＰで発生する動きを示した図である。中足指節関節ＭＴＰの伸展（ｅｘｔｅｎｓｉｏｎ）は、足指が上側に曲がる動きを意味する（図５にて上方へと表示された仮想線矢印）。踵の高い履物を履けば、履物の形状に起因して、中足指節関節ＭＴＰは常に伸展された状態を維持するようになる。中足指節関節ＭＴＰの屈曲（ｆｌｅｘｉｏｎ）は、足指が下方に曲がる動きを意味する（図５にて下方に表示された仮想線矢印）。
【0042】
素足を基準にして、人間の歩行周期による足の動きを、図６を通じて説明する。
【0043】
図６の（ａ）～（ｅ）は、人間の歩行周期を説明するための図である。
【0044】
人間の歩行周期は、片足（図面に斜線で表示した部分）を基準にして立脚期（ｓｔａｎｃｅ ｐｈａｓｅ）と遊脚期（ｓｗｉｎｇ ｐｈａｓｅ）に区分される。
【0045】
立脚期（ｓｔａｎｃｅ ｐｈａｓｅ）は、歩行中に足の一部分が地面に触れている状態である。このような立脚期（ｓｔａｎｃｅ ｐｈａｓｅ）は、踵接地（ｈｅｅｌ ｓｔｒｉｋｅ）、荷重反応期（ｌｏａｄｉｎｇ ｒｅｓｐｏｎｓｅ）、立脚中期（ｍｉｄｓｔａｎｃｅ）、踵離地（ｈｅｅｌ ｏｆｆ）、および足趾離地（ｔｏｅ ｏｆｆ）の５段階に区分することができる。
【0046】
踵接地（ｈｅｅｌ ｓｔｒｉｋｅ）は、足の踵が地面に接触される瞬間を意味する。荷重反応期（ｌｏａｄｉｎｇ ｒｅｓｐｏｎｓｅ）は、踵接地（ｈｅｅｌ ｓｔｒｉｋｅ）の後に、足裏の全体が地面に接触する段階である。
【0047】
踵接地（ｈｅｅｌ ｓｔｒｉｋｅ）と荷重反応期（ｌｏａｄｉｎｇ ｒｅｓｐｏｎｓｅ）は、地面からの衝撃を吸収し体重を分散させる過程である（図６の（ａ）と（ｂ）に示す）。立脚中期（ｍｉｄｓｔａｎｃｅ）は、脚が地面に垂直に置かれている状態にて、足に体重が最大にのせられる段階である（図６の（ｃ）に示す）。踵離地（ｈｅｅｌ ｏｆｆ）は、足の踵が地面から離れる段階である（図６の（ｄ）に示す）。足趾離地（ｔｏｅ ｏｆｆ）は、つま先が地面から離れる（ｔｈｅ ｔｏｅｓ ｌｅａｖｅ ｔｈｅ ｇｒｏｕｎｄ）段階である（図６の（ｅ）に示す）。
【0048】
一方、遊脚期（ｓｗｉｎｇ ｐｈａｓｅ）は、足全体が地面と離れている状態を意味する。遊脚期の間にはトウクリアランス（ｔｏｅ ｃｌｅａｒａｎｃｅ）が充分でなければならない。即ち、つま先が地面に引きずられたり（ｔｏｅ ｄｒａｇ）、引っ掛かったりしなければこそ、倒れて怪我をする危険性が減って安定した歩行が行われる。歩行は、立脚期と遊脚期（ｓｗｉｎｇ ｐｈａｓｅ）が反復的に循環しながら行われる。
【0049】
【0050】
立脚中期（ｍｉｄｓｔａｎｃｅ）以後には、足の踵が地面から離れるので、地面と接触する前面部足（ｆｒｏｎｔ ｆｏｏｔ）を基準にして、足の踵の動きが発生する。踵離地（ｈｅｅｌ ｏｆｆ）段階では、中足骨頭ＭＴＢＨから足指の指先まで地面と接触して体重が地面に負荷される。
【0051】
素足の踵離地（ｈｅｅｌ ｏｆｆ）の状態では、足の踵が地面から離れるに伴い中足指節関節ＭＴＰ（ｍｅｔａｔａｒｓｏｐｈａｌａｎｇｅａｌ ｊｏｉｎｔｓ）の伸展（ｅｘｔｅｎｓｉｏｎ、図７の（ａ）における仮想線矢印の方向の動き）が起こる。そして、これと同時に足の踵が内側に回転する動きである内反（ｉｎｖｅｒｓｉｏｎ、図７の（ｂ）における仮想線曲線矢印（ｉ）の方向の動き）と、内側に近くなる動きである内転（ａｄｄｕｃｔｉｏｎ、図７の（ｂ）における仮想線直線矢印（ａ）の方向の動き）が発生する。
【0052】
【0053】
足趾離地（ｔｏｅ ｏｆｆ）段階では、中足骨頭ＭＴＢＨが地面から離れるに伴い足指を通じてのみ体重が地面に負荷される。
【0054】
図８に示したように、足趾離地（ｔｏｅ ｏｆｆ）時期には、中足指節関節ＭＴＰ（ｍｅｔａｔａｒｓｏｐｈａｌａｎｇｅａｌ ｊｏｉｎｔ）がさらに伸展されるに伴い、足の踵の内反（ｉｎｖｅｒｓｉｏｎ）と内転（ａｄｄｕｃｔｉｏｎ）の動きが最大となる。
【0055】
【0056】
図９ａの（ａ）に示したように、湾曲のない柔軟な平板構造物（ｆｌａｔ ｐｌａｔｅ）は、曲がりに対する方向性がなくて、縦軸面ＬＰ（Ｌｏｎｇｉｔｕｄｉｎａｌ ｐｌａｎｅ）と横軸面ＴＰ（Ｔｒａｎｓｖｅｒｓｅ ｐｌａｎｅ）に沿って、上方と下方に全て容易に曲がる。
【0057】
図９ａの（ｂ）は、一つの軸に沿って湾曲を与えたとき（ｚｅｒｏ ｇａｕｓｓｉａｎ ｃｕｒｖａｔｕｒｅ）、これと交差する軸に沿って曲がり（ｂｅｎｄｉｎｇ）が制限されるのを説明するための図である。図９ａの（ｂ）に示したように、横軸面ＴＰに沿って上方に凹状に湾曲を与えたとき、これと交差する縦軸面ＬＰでの曲がり（ｂｅｎｄｉｎｇ）は制限され、特に下方へと向かった曲がりが、最も多く制限される。
【0058】
【0059】
図９ａの（ｃ）に示したように、横軸面ＴＰに沿った湾曲の方向（上方に凹）と、縦軸面ＬＰに沿った湾曲の方向（下方に凹）が反対である場合（ｎｅｇａｔｉｖｅ ｇａｕｓｓｉａｎ ｃｕｒｖａｔｕｒｅ）には、縦軸面と横軸面に対する上方および下方への曲がり（ｂｅｎｄｉｎｇ）が全て制限される。反面、図９ｂの（ｄ）に示したように、２つの軸に対する湾曲の方向が同一である場合（ｐｏｓｉｔｉｖｅ ｇａｕｓｓｉａｎ ｃｕｒｖａｔｕｒｅ）、例えば縦軸面ＬＰと横軸面ＴＰに沿って上方に全て凹であれば、縦軸面ＬＰと横軸面ＴＰの全てで、下方への曲がり（ｂｅｎｄｉｎｇ）が制限される。
【0060】
図９ｂの（ｅ）は、傾斜が急な湾曲形状であるほど、湾曲軸と交差する軸にて湾曲方向の反対の方向に曲がるのはさらに制限されるのを説明するための図である。図９ｂの（ｅ）に示したように、横軸面ＴＰに沿って上方への凹状湾曲が急であるほど、即ち、曲率が大きいほど、これと交差する縦軸面ＬＰにて下方へと向かった曲がり（ｂｅｎｄｉｎｇ）はさらに制限される。
【0061】
図９ｂの（ｆ）は、図９ｂの（ｅ）と同様に横軸面ＴＰの曲率を縦軸面ＬＰの曲率より大きくし、横軸面ＴＰの曲率について、内側部の曲率（ｒＭ）より外側部の曲率（ｒＬ）をより大きくして、横軸面ＴＰで切断して見た図である。外側部の湾曲が内側部より急なので、縦軸面ＬＰで下方に向かった曲がりは、外側部が内側部よりさらに制限される。
【0062】
曲線の曲率は、曲線上にある点（ｐｏｉｎｔ）での曲率で表現される。したがって、２次元上の平面曲線（ｐｌａｎｅ ｃｕｒｖｅ）の曲率（ｃｕｒｖａｔｕｒｅ）大きさは、それぞれの平面曲線における最大曲率値を有する点の曲率値でもって比較することができる。または、曲線上の全ての点で曲率値を求めて、それに対する平均でも比較することができる。
【0063】
【0064】
本発明の第１実施形態の踵の高い履物は、足固定部１、インソール３（ｉｎｓｏｌｅ）、底構造物５（ｓｏｌｅ ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ）、アウトソール７（ｏｕｔｓｏｌｅ）そして踵９（ｈｅｅｌ）を含む。
【0065】
足固定部１は、足を覆う部分であって、履物の形状を成し皮革などから製作される。そして、インソール３は、足裏に直接接触される部分である。底構造物５は、歩行者の荷重を支持すると同時に履物の形態を維持することができる。そして、インソール３は、底構造物５の上方に結合できる。アウトソール７は、底構造物５の下方に結合されて前方側が地面に直接接触する。踵９は、底構造物５に結合されて足の踵荷重を支持する役割を果たす。
【0066】
本発明の実施形態の底構造物５は、踵の高い履物にて、体重を支持し履物のフレームの役割を果たす靴底（ｓｏｌｅ）であって、中底（ｍｉｄｓｏｌｅ）あるいは中敷（ｉｎｎｅｒ ｓｏｌｅ）などの用語で使用されうる。
【0067】
図１２は、本発明の第１実施形態の底構造物５を示した斜視図であり、図１３は、図１２の側面図である。図１２にて、仮想の線で表示した縦軸線５ａと横軸線５ｂは、底構造物５の湾曲度（曲率）を表現するために底構造物５に格子線（ｇｒｉｄ ｌｉｎｅ）を投影（ｐｒｏｊｅｃｔｉｏｎ）したものである。図１２に示された縦軸線５ａは、地面に向かって垂直方向に底構造物５に投影された線であり、足の縦軸ＬＡと平行な線である。図１２に示された横軸線５ｂは、直線ＡＢ（図１３にて示す）に対して直角方向に底構造物５に投影された線であり、足の横軸ＴＡと平行な線である。図１３に示された直線ＡＢは、底構造物５の後方末端地点ＰＡと、地面を支持するフロント部１１の後方端地点ＰＢを連結した線であって足の縦軸と平行な直線である。このような縦軸線５ａと横軸線５ｂは格子線（ｇｒｉｄ ｌｉｎｅ）を成しこれを投影（ｐｒｏｊｅｃｔｉｏｎ）したものである。
【0068】
【0069】
フロント部１１は、荷重反応期（ｌｏａｄｉｎｇ ｒｅｓｐｏｎｓｅ）に、踵の高い履物の前方側が地面に支持される部分である。
【0070】
本発明の第１実施形態では、フロント部１１が地面を支持する部分のうちの一部分のみをカバーする大きさで形成される例を図示して説明する。本発明の第１実施形態の底構造物５は、フロント部１１が地面を支持する部分のうちの一部分のみカバーする大きさで形成されるとき、図１１に示したように、別途の補助部材Ｓｂ１、Ｓｂ２がフロント部１１に取り付けられうる。
【0071】
フロント部１１は、ベンディング部１３に延長される後方部分が平面図で見る時、前方に向かって凹状のラウンド形態の境界を有する地面支持境界線ＢＬを含むことができる。
【0072】
このようなフロント部１１の地面支持境界線ＢＬは、フロント部１１が地面に堅固に支持されるようにして立脚期に歩行の安定性を向上させる。また、フロント部１１は、地面支持境界線ＢＬの形状によって曲がり（ｂｅｎｄｉｎｇ）が制限されて履物形状を維持することができる。
【0073】
バンディング部１３は、地面と反対方向にのみ曲がる一方向ベンディング部または地面反対方向に凹状曲面を成すベンディング曲面部からなり得る。
【0074】
ベンディング部１３は、フロント部１１の地面支持境界線ＢＬから延長されて、中足指節関節ＭＴＰの後方部に位置するのが好ましい。言い換えれば、ベンディング部１３は、フロント部１１の地面支持境界線ＢＬを基準にして、足の踵側に位置するのが好ましい。即ち、ベンディング部１３は、フロント部１１の地面支持境界線ＢＬと、中足部ＭＦと前足部ＦＦとが成す境界線（図１３と図１５で点線で表わす）との間に配置することができる。
【0075】
ベンディング部１３は、ベンディング曲面部から形成されて、地面の側へと向かう方向への曲がりが制限され、地面とは反対側の方向に柔軟に曲がり得る。即ち、ベンディング部１３は、地面と反対側の方向に向かって一方向に曲がり得る。
【0076】
ベンディング部１３は、地面の反対の方向に凹状曲面を成すベンディング曲面部からなることが好ましい。したがって、ベンディング部１３で、ベンディング部縦軸中心線１３ａｃと平行な縦軸線１３ａ（図１２で長さ方向に表示された仮想の線）と、ベンディング部横軸中心線１３ｂｃと平行な横軸線１３ｂ（図１２で幅方向に表示された仮想の線）は、地面とは反対の方向に凹状に成される曲率を有する。本発明の第１実施形態の説明で、ベンディング部縦軸中心線１３ａｃは、ベンディング部１３にて足の縦軸ＬＡを通過する中心線であり、ベンディング部横軸中心線１３ｂｃは、足の横軸ＴＡと平行でありながらベンディング部１３の中間部分を幅方向に通過する中心線である。
【0077】
ベンディング部横軸中心線１３ｂｃの曲率ｒ２は、ベンディング部縦軸中心線１３ａｃの曲率ｒ１よりも大きく形成されるのが好ましい。曲率とは、一点が一定の速度で曲線に沿って移動する際に発生する接線の傾きの変化を意味するので、平面曲線（ｐｌａｎｅ ｃｕｒｖｅ）の曲率は、曲線上にある点（ｐｏｉｎｔ）での曲率で表現される。従って、本発明の説明で「ベンディング部横軸中心線１３ｂｃの曲率ｒ２がベンディング部縦軸中心線１３ａｃの曲率ｒ１より大きい」というのは、ベンディング部横軸中心線１３ｂｃにて最大曲率値を有する点の曲率値が、ベンディング部縦軸中心線１３ａｃにて最大曲率値を有する点の曲率値よりも大きいことを意味する。または、バンディング部横軸中心線１３ｂｃの曲率値の平均（ａｖｅｒａｇｅ）が、ベンディング部縦軸中心線１３ａｃの曲率値の平均（ａｖｅｒａｇｅ）よりも大きいことを意味する。また、このような曲率値の大きさを比較することにおいて、ベンディング部１３の境界部、特にフロント部１１との境界部や両側終端での曲率値は除外されるのが当然である。
【0078】
このように、バンディング部縦軸中心線１３ａｃの曲率ｒ１よりベンディング部横軸中心線１３ｂｃの曲率ｒ２がさらに大きく形成されれば、図９ｂの（ｅ）で説明したように、縦軸にて下方に向かった曲がり（ｂｅｎｄｉｎｇ）はさらに制限される。ベンディング部１３は立脚中期（ｍｉｄｓｔａｎｃｅ）以後、踵離地（ｈｅｅｌ ｏｆｆ）および足趾離地（ｔｏｅ ｏｆｆ）時期に、地面反対方向へと凹状に曲がり、地面方向への曲がりが制限される。言い換えれば、ベンディング部１３は中足指節関節ＭＴＰ（ｍｅｔａｔａｒｓｏｐｈａｌａｎｇｅａｌ ｊｏｉｎｔ）の伸展（ｅｘｔｅｎｓｉｏｎ）の動きと同じ方向に曲がり、中足指節関節ＭＴＰ（ｍｅｔａｔａｒｓｏｐｈａｌａｎｇｅａｌ ｊｏｉｎｔ）の屈曲（ｆｌｅｘｉｏｎ）の動きと同じ方向に曲がるのが制限される。
【0079】
このようなベンディング部１３は、歩行中の立脚中期（ｍｉｄｓｔａｎｃｅ）以後、踵離地（ｈｅｅｌ ｏｆｆ）と足趾離地（ｔｏｅ ｏｆｆ）時期に、中足指節関節ＭＴＰ（ｍｅｔａｔａｒｓｏｐｈａｌａｎｇｅａｌ ｊｏｉｎｔ）の伸展（ｅｘｔｅｎｓｉｏｎ）の動きと同じ方向に曲がる柔軟性（ｆｌｅｘｉｂｉｌｉｔｙ）を有する。したがって、素足の歩行と同様に、踵の高い履物を履いた状態でも、歩行者は踵離地（ｈｅｅｌ ｏｆｆ）と足趾離地（ｔｏｅ ｏｆｆ）の時期に自然な歩行が可能である。
【0080】
また、ベンディング部１３は、歩行中の踵離地（ｈｅｅｌ ｏｆｆ）と足趾離地（ｔｏｅ ｏｆｆ）時期に、素足の動きと同じ方向に曲がるに伴いリア部１５も上方に動くので、足の踵が、足固定部１から抜け出ることを防止する役割を果たす。
【0081】
着用者が踵の高い履物を履けば、足底筋膜ＰＦ（ｐｌａｎｔａｒ ｆａｓｃｉａ）がぴんと引っ張られて、中足指節関節ＭＴＰ（ｍｅｔａｔａｒｓｏｐｈａｌａｎｇｅａｌ ｊｏｉｎｔ）を屈曲（ｆｌｅｘｉｏｎ）させる力が発生するようになる（図２６で示す）。特に、遊脚期（ｓｗｉｎｇ ｐｈａｓｅ）の間には履物の底が地面から離れているので、中足指節関節ＭＴＰ（ｍｅｔａｔａｒｓｏｐｈａｌａｎｇｅａｌ ｊｏｉｎｔ）の屈曲（ｆｌｅｘｉｏｎ）によって、履物の前方端が地面の側へと曲がり得る。
【0082】
本発明のベンディング部１３は、遊脚期（ｓｗｉｎｇ ｐｈａｓｅ）の間に、地面の側の方向における曲がりが制限されるので、中足指節関節ＭＴＰ（ｍｅｔａｔａｒｓｏｐｈａｌａｎｇｅａｌ ｊｏｉｎｔ）が屈曲（ｆｌｅｘｉｏｎ）される動きも制限するようになる。したがって、遊脚期の間にトウクリアランス（ｔｏｅ ｃｌｅａｒａｎｃｅ）が十分に提供されるので、履物の先端部が地面に引きずられることや引っ掛かることがなく安定した歩行が行われる。
【0083】
一方、ベンディング部１３の内側と外側の縁部分は、フロント部１１と地面支持境界線ＢＬの両側へと、さらに延長される支持補強部１３ｅ、１３ｆを形成することができる。このようなベンディング部１３の支持補強部１３ｅ、１３ｆは、ラウンド（丸い）形態の地面支持境界線ＢＬにおける両側面から上方へと延長されるので、地面とは反対の方向に凹状に曲がるのを許容するが、地面の側への方向に曲がるのをさらに制限することができる。
【0084】
従って、本発明の底構造物５は、足の動きのうち、踵離地（ｈｅｅｌ ｏｆｆ）および足趾離地（ｔｏｅ ｏｆｆ）の時期にあっては、中足指節関節ＭＴＰ（ｍｅｔａｔａｒｓｏｐｈａｌａｎｇｅａｌ ｊｏｉｎｔ）の伸展（ｅｘｔｅｎｓｉｏｎ）の動きをさらに容易に許容する。また、本発明の底構造物５は、遊脚期（ｓｗｉｎｇ ｐｈａｓｅ）にあっては、中足指節関節ＭＴＰ（ｍｅｔａｔａｒｓｏｐｈａｌａｎｇｅａｌ ｊｏｉｎｔ）の屈曲（ｆｌｅｘｉｏｎ）の動きをさらに制限することができる。したがって、踵の高い履物を履いた歩行者は、より安定性を有する歩行が可能である。
【0085】
このような本発明は、底構造物５が簡単な構造から形成されて、生産費用および製造費用を減らすことができる。即ち、本発明の底構造物５は、立脚中期（ｍｉｄｓｔａｎｃｅ）以後、踵離地（ｈｅｅｌ ｏｆｆ）と足趾離地（ｔｏｅ ｏｆｆ）の時期に、中足指節関節ＭＴＰ（ｍｅｔａｔａｒｓｏｐｈａｌａｎｇｅａｌ ｊｏｉｎｔ）の伸展（ｅｘｔｅｎｓｉｏｎ）の動きを最大限確保することができる。これと同時に、本発明の底構造物５は、遊脚期にて、中足指節関節ＭＴＰ（ｍｅｔａｔａｒｓｏｐｈａｌａｎｇｅａｌ ｊｏｉｎｔ）の屈曲（ｆｌｅｘｉｏｎ）の動きを制限する構造を有しながらも簡単な構造から形成されて、踵の高い履物に容易に適用することができ製造費用を減らすことができる。
【0086】
図１４は、第１実施形態でベンディング部１３の横断面を前面から眺めた図であって、ベンディング部横軸中心線１３ｂｃの曲率ｒ２を、外側部分１３ｃの曲率ｒ３と、内側部分１３ｄの曲率ｒ４とに分割して示した。図１５は、第１実施形態で底構造物５の縦軸に沿って切断して見た図である。
【0087】
本発明の第１実施形態で、ベンディング部１３は外側部分１３ｃの曲率ｒ３が内側部分１３ｄの曲率ｒ４に比べてさらに大きく形成されるのが好ましい。このようなベンディング部１３は、内側部分１３ｄが外側部分１３ｃよりさらに柔軟であるのを意味する。
【0088】
立脚中期（ｍｉｄｓｔａｎｃｅ）以後には履物の踵９が地面と離れるようになるので、底構造物５のフロント部１１のみが地面と接触して体重が負荷されるようになる。したがって、踵離地（ｈｅｅｌ ｏｆｆ）と足趾離地（ｔｏｅ ｏｆｆ）時期にはフロント部１１が地面に固定された状態で底構造物５の残り後方部位で動きが発生する。即ち、ベンディング部１３における内側部分１３ｄと外側部分１３ｃの柔軟性の差によってリア部１５の動きの方向が決定される。
【0089】
従って、本発明の底構造物５は、歩行周期のうちの踵離地（ｈｅｅｌ ｏｆｆ）と足趾離地（ｔｏｅ ｏｆｆ）区間でベンディング部１３から後方に延長されたリア部１５がフロント部１１を基準にして上方に上がる（図１５で仮想線矢印方向）と同時に内側Ｍ方向に回転（ｔｗｉｓｔｉｎｇ ｍｏｖｅｍｅｎｔ、図１４で仮想線曲線矢印）および移動（図１４で仮想線直線矢印）するようになる。したがって、歩行周期中の踵離地（ｈｅｅｌ ｏｆｆ）と足趾離地（ｔｏｅ ｏｆｆ）区間でリア部１５は足の踵の内反（ｉｎｖｅｒｓｉｏｎ）と内転（ａｄｄｕｃｔｉｏｎ）方向と同一の方向に動くようになる。即ち、このようにベンディング部１３が外側部分１３ｃの曲率ｒ３が内側部分１３ｄの曲率ｒ４に比べてさらに大きい構造は歩行者が踵の高い履物を履いた場合にも足の踵の動きと同じ方向に底構造物５のリア部１５が動き得る。従って、本発明の底構造物５が適用された踵の高い履物を履いた歩行者はさらに安定性のある歩行が可能である。
【0090】
リア部１５は、ベンディング部１３から後方に延長されて足の踵部分を支持することができる部分である。図１５で示したように、リア部１５は縦軸に沿って地面方向に凹状曲面を成し、横軸に沿って地面反対方向に凹状曲面に成されることが好ましい。このような本発明のリア部１５は横軸と縦軸で湾曲方向を別にして全ての方向で曲がり（ｂｅｎｄｉｎｇ）が制限される。また、リア部１６は、その厚さを増やすか堅固な材質のシャンク（ｓｈａｎｋ）を挿入あるいは取付けて曲がり（ｂｅｎｄｉｎｇ）を制限することもできる。
【0091】
このようなフロント部１１、ベンディング部１３、そしてリア部１５は踵の高い履物を履いた状態の歩行で底構造物５が足裏の３次元動きに対応して曲がるので、安定した歩行が可能である。また、本発明の底構造物は同一な材質の合成樹脂材から加工できて製造費用を減らすことができる。
【0092】
図１６は、本発明の第１実施形態を説明するために踵の高い履物を着用した状態で歩行する時にベンディング部１３が作用する過程を説明するための図である。
【0093】
図１６の（ａ）は、歩行周期中の踵接地（ｈｅｅｌ ｓｔｒｉｋｅ）状態を示した図である。図１６（ａ）は、中足指節関節ＭＴＰ（ｍｅｔａｔａｒｓｏｐｈａｌａｎｇｅａｌ ｊｏｉｎｔ）の後方または地面を支持するフロント部１１の後方にあるベンディング部１３が地面方向に曲がらない状態を示す。もちろん、ベンディング部１３は遊脚期（ｓｗｉｎｇ ｐｈａｓｅ）でも地面方向に曲がらない。即ち、本発明の底構造物５はベンディング部縦軸中心線１３ａｃの曲率ｒ１よりベンディング部横軸中心線１３ｂｃの曲率ｒ２がさらに大きく成されるので踵接地（ｈｅｅｌ ｓｔｒｉｋｅ）および遊脚期（ｓｗｉｎｇ ｐｈａｓｅ）に地面方向に曲がらない。また、本発明の底構造物５はベンディング部１３の支持補強部１３ｅ、１３ｆによって踵接地（ｈｅｅｌ ｓｔｒｉｋｅ）および遊脚期（ｓｗｉｎｇ ｐｈａｓｅ）にベンディング部１３とフロント部１１が地面方向に曲がることがさらに制限される。言い換えれば、本発明の底構造物５が適用された踵の高い履物を履いて歩行する際、足底筋膜が引っ張られながら足指が地面方向に屈曲（ｆｌｅｘｉｏｎ）される力が発生するが、ベンディング部１３の作用でベンディング部１３とフロント部１１が地面の側の方向に曲がることを防止する。
【0094】
従って、本発明の第１実施形態の底構造物５は遊脚期（ｓｗｉｎｇ ｐｈａｓｅ）および踵接地（ｈｅｅｌ ｓｔｒｉｋｅ）の時期に、中足指節関節（ｍｅｔａｔａｒｓｏｐｈａｌａｎｇｅａｌ ｊｏｉｎｔ）の伸展（ｅｘｔｅｎｓｉｏｎ）の状態を維持するようにして安定性のある歩行を可能にする。
【0095】
そして、ベンディング部１３は踵接地（ｈｅｅｌ ｓｔｒｉｋｅ）の直後の荷重反応期（ｌｏａｄｉｎｇ ｒｅｓｐｏｎｓｅ）にフロント部１１が地面を支持するようになり、この際にも曲がりが制限される。
【0096】
図１６の（ｂ）は、歩行周期中の立脚中期（ｍｉｄｓｔａｎｃｅ）状態を示した図である。図１６の（ｂ）は、フロント部１１が地面を支持している状態である。ベンディング部１３は、立脚中期（ｍｉｄｓｔａｎｃｅ）に遊脚期（ｓｗｉｎｇ ｐｈａｓｅ）および踵接地（ｈｅｅｌ ｓｔｒｉｋｅ）の時期と同様に曲がらない。
【0097】
図１６の（ｃ）は、歩行周期中の踵離地（ｈｅｅｌ ｏｆｆ）状態を示した図である。図１６の（ｃ）は、中足指節関節ＭＴＰ（ｍｅｔａｔａｒｓｏｐｈａｌａｎｇｅａｌ ｊｏｉｎｔ）の後方または地面を支持するフロント部１１の後方にあるベンディング部１３が、地面とは反対の方向に曲がる状態を示す。踵離地（ｈｅｅｌ ｏｆｆ）の時期には、足の踵が地面から離れるが、中足骨頭ＭＴＢＨを通じて地面に体重が継続して負荷される。したがって、地面支持境界線ＢＬの前方に位置するフロント部１１は、地面と接触しているようになって曲がらず、地面支持境界線ＢＬの後方に位置するベンディング部１３が曲がるようになる。
【0098】
本発明のベンディング部１３は、縦軸と横軸に対する湾曲方向が同一であるので、踵離地（ｈｅｅｌ ｏｆｆ）の時期に、上方へと凹状の曲面を形成しながら曲がる。また、ベンディング部１３は、踵離地（ｈｅｅｌ ｏｆｆ）の時期に、ベンディング部縦軸中心線１３ａｃの曲率ｒ１よりもベンディング部横軸中心線１３ｂｃの曲率ｒ２が、より大きい構造によって、横軸と交差する縦軸に沿って地面の側への方向の曲がり（ｂｅｎｄｉｎｇ）は、さらに制限される。
【0099】
また、リア部１５がベンディング部横軸中心線１３ｂｃで外側部分１３ｃの曲率ｒ３が内側部分１３ｄの曲率ｒ４に比べてさらに大きい構造によって足の踵の内反（ｉｎｖｅｒｓｉｏｎ）と内転（ａｄｄｕｃｔｉｏｎ）の動きに対応して動く。従って、本発明の第１実施形態の底構造物５は素足での歩行と同様に中足指節関節ＭＴＰ（ｍｅｔａｔａｒｓｏｐｈａｌａｎｇｅａｌ ｊｏｉｎｔ）の伸展（ｅｘｔｅｎｓｉｏｎ）の動きと同じ方向に曲がり、同時に足の内反（ｉｎｖｅｒｓｉｏｎ）と内転（ａｄｄｕｃｔｉｏｎ）動きと同じ方向に曲がる。したがって、本発明の第１実施形態であると、踵の高い履物を着用して歩行しても、安定性がある歩行が行われる。
【0100】
また、このような本発明の第１実施形態の底構造物５は、ベンディング部１３が地面とは反対の方向に容易に曲がるに伴い、リア部１５が素足の歩行と同じ方向に足の踵が移動して、足の踵から履物が離脱するのを防止することができる。
【0101】
図１７は、従来の踵の高い履物と、本発明の第１実施形態の踵の高い履物を履いた場合、足の後方から見て、足の踵の動きに対応する底構造物５の動きを比較して説明する図である。
【0102】
図１７の（ａ）は、従来の踵の高い履物を履いた状態で、踵離地（ｈｅｅｌ ｏｆｆ）時期に、足の踵の内反（ｉｎｖｅｒｓｉｏｎ）と内転（ａｄｄｕｃｔｉｏｎ）の動きが発生する際、履物の底構造物と、足の踵とが互いに離れる状態を示す。踵離地（ｈｅｅｌ ｏｆｆ）の時期には、踵９が地面から離れるので、地面Ｇを基準にして足の踵と底構造物のリア部１５とが互いに別々に動く。従来の底構造物は、柔軟性が不足であり曲がっても上方にのみ曲がるので、足の踵の動きと底構造物の動きとは一致しなくなる。即ち、図１７の（ａ）で示したように、足の踵の軸ＡＨは靴の踵９の軸ＡＨＳと一致しなくなる。
【0103】
反面、図１７の（ｂ）は、本発明の第１実施形態の踵の高い履物を履いた状態で、踵離地（ｈｅｅｌ ｏｆｆ）の時期に、底構造物５のリア部１５が足の踵の動きと同一の方向に動く状態を示す。本発明の第１実施形態のリア部１５は、前述の第１実施形態のベンディング部１３の作用で上方に動くことが容易であり、同時に、足の踵の内反（図１７の（ｂ）における仮想線曲線の矢印（ｉ））と、内転（図１７の（ｂ）における仮想線直線の矢印（ａ））の動きに対応して、内側方向に回転および移動する。したがって、足の踵の軸ＡＨと、靴の踵９の軸ＡＨＳとは互いに一致するようになって、歩行の安定性を向上させることができる。
【0104】
図１８は、本発明の第２実施形態を説明するために示した図である。図１９は、図１８の底構造物５のベンディング部１３を横軸中心線に沿って切断して見た断面図である。図２０は、図１８の底構造物５を縦軸中心線に沿って切断して見た断面図である。図２１は、第２実施形態で補助部材Ｓｂを取付けた図である。本発明の第２実施形態は第１実施形態と比較して異なる点のみを説明し、同一の部分はその説明で代替することにする。
【0105】
本発明の第２実施形態の底構造物５は、ベンディング部１３の一方向柔軟性をさらに強化し、内側部１３ｈ（ｍｅｄｉａｌ ｓｉｄｅ ｐｏｒｔｉｏｎ）と外側部１３ｉ（ｌａｔｅｒａｌ ｓｉｄｅ ｐｏｒｔｉｏｎ）との曲がりの程度を異なるようにするために、ベンディング部１３に少なくとも一つ以上のベンディング調節凹部１３ｇを備えることができる。
【0106】
本発明の第２実施形態では、一つのベンディング調節凹部１３ｇを備える例を図示して説明する。
【0107】
本発明の第２実施形態の底構造物５は、ベンディング部１３の中心部にベンディング調節凹部１３ｇを備えて厚さを減らすことによってベンディング部１３の一方向柔軟性をさらに強化することができる。言い換えれば、ベンディング部１３は、縁の厚さＴ２、Ｔ３より中心部の厚さＴ１をより薄く構成することができる。また、ベンディング部１３は内側縁の厚さＴ２を外側縁の厚さＴ３より薄くして、踵離地（ｈｅｅｌ ｏｆｆ）および足趾離地（ｔｏｅ ｏｆｆ）の時期に、足の踵の内反（ｉｎｖｅｒｓｉｏｎ）と内転（ａｄｄｕｃｔｉｏｎ）動きに、さらに円滑に対応するようにすることができる。前述の本発明の第１実施形態では、フロント部１１とベンディング部１３との境界部ＢＬがラウンド（湾曲）形態の線からなった例を説明したが、本発明の第２実施形態のフロント部１１とベンディング部１３の境界部は、フロント部１１とベンディング部１３がなめらかな曲面でもって連結されるのでありうる。
【0108】
そして、図２０に示したように、フロント部１１は、前方側に行くほどその厚さを次第に薄く構成することができる。このような場合、図２１に示したように、フロント部１１の下側に補助部材Ｓｂを取り付けても、フロント部１１と補助部材Ｓｂとの境界部で発生する段差を最少化することができる。したがって、別途の補助部材を省略して、踵の高い履物の製造工程を減らすことができる。また、補助部材Ｓｂは従来の底構造物にて地面を支持する部分に使用される材質を使用することができ、歩行者の足の大きさや形状に合わせて、多様なデザインでもって実現することができる。
【0109】
図２２は、本発明の第３実施形態を説明するための底構造物５を示した図である。本発明の第３実施形態は第１実施形態の底構造物５と比較して異なる点のみを説明し、同一の部分はその説明で代替する。
【0110】
本発明の第３実施形態では、フロント部１１が、足指の側への方向、即ち、前方に延長されれば、支持部分の全体をカバーすることができる。即ち、このような本発明の第３実施形態では、第１実施形態と比較してみるとき、フロント部１１と補助部材Ｓｂを一体に構成したものである。即ち、このような本発明の第３実施形態は、補助部材Ｓｂを省略し一つの工程で底構造物５を製作して部品の数を減らすことができる。
【0111】
図２３は本発明の第４実施形態を説明するために示した図であって、底構造物５を示している。本発明の第４実施形態は前述の実施形態と比較して異なる点のみを説明し同一の部分はその説明で代替することにする。
【0112】
本発明の第４実施形態の底構造物５は、ベンディング部１３の一方向柔軟性をさらに強化し、内側部（ｍｅｄｉａｌ ｓｉｄｅ ｐｏｒｔｉｏｎ）と外側部（ｌａｔｅｒａｌ ｓｉｄｅ ｐｏｒｔｉｏｎ）との曲がりの程度を異なるようにするために、ベンディング部１３に少なくとも一つ以上のベンディング調節ホール部１３ｊ、１３ｋを備えうる。
【0113】
本発明の第４実施形態のベンディング調節ホール部１３ｊ、１３ｋおよび第２実施形態のベンディング調節凹部１３ｇを備える場合のように、ベンディング調節ホール部１３ｊ、１３ｋまたはベンディング調節凹部１３ｇの境界の部位で、非常に大きい曲率値が発生しうる。したがって、ベンディング部横軸中心線１３ｂｃとベンディング部縦軸中心線１３ａｃの曲率の大きさを比較することにおいて、このような境界部位での曲率値は除外されるのが当然である。
【0114】
本発明の第４実施形態はベンディング部１３にベンディング調節ホール部１３ｊ、１３ｋを形成してベンディング部１３の一方向曲がりをさらに容易にすることができる。
【0115】
また、本発明の第４実施形態では、内側部（ｍｅｄｉａｌ ｓｉｄｅ ｐｏｒｔｉｏｎ）に形成されるベンディング調節ホール部１３ｊの大きさを、外側部（ｌａｔｅｒａｌ ｓｉｄｅ ｐｏｒｔｉｏｎ）に形成されるベンディング調節ホール部１３ｋの大きさより大きくすることもできる。このような本発明の第４実施形態では、踵離地（ｈｅｅｌ ｏｆｆ）および足趾離地（ｔｏｅ ｏｆｆ）の時期に、リア部１５が、足の踵の内反（ｉｎｖｅｒｓｉｏｎ）と内転（ａｄｄｕｃｔｉｏｎ）の動きに対応して動くようにすることができる。また、ベンディング調節ホール部１３ｊ、１３ｋは、より小さい大きさの孔を多数形成することで形成することもでき、孔の大きさや間隔およびその数を異にして形成することで、曲がりの程度を異なるようにすることができる。このような本発明の第５実施形態も、本発明の目的を達成するために、多様に構成することができることを示す。
【0116】
以上を通じて本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれに限定されるのではなく、特許請求の範囲と発明の詳細な説明および添付した図面の範囲内で、多様に変形して実施することが可能であり、これも本発明の範囲に属するのは当然のことである。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9a】
【図9b】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】
【図24】
【図25】
【図26】
【図27】