特許 7129676 電子ビーム描画装置、生産装置、電子ビーム描画方法、生産方法、プログラム

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B1)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2022-08-25

(45)【発行日】2022-09-02

(54)【発明の名称】電子ビーム描画装置、生産装置、電子ビーム描画方法、生産方法、プログラム

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/027 20060101AFI20220826BHJP

   G03F 7/20 20060101ALI20220826BHJP

   H01J 37/305 20060101ALI20220826BHJP

【ＦＩ】

H01L21/30 541E

G03F7/20 504

H01J37/305 B

【請求項の数】 13

(21)【出願番号】P 2021105443

(22)【出願日】2021-06-25

【審査請求日】2022-05-10

【早期審査対象出願】

(73)【特許権者】

【識別番号】594150176

【氏名又は名称】日本コントロールシステム株式会社

(73)【特許権者】

【識別番号】509316578

【氏名又は名称】アイエムエス ナノファブリケーション ゲーエムベーハー

(74)【代理人】

【識別番号】100115749

【弁理士】

【氏名又は名称】谷川 英和

(72)【発明者】

【氏名】濱路 政和

(72)【発明者】

【氏名】益本 一世

(72)【発明者】

【氏名】鈴木 菜月

【審査官】今井 彰

(56)【参考文献】

【文献】特開平１１－０２６３６０（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１２－２４３９３９（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１６－２０１４７２（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１２－２１２７９２（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００７－１１５８９１（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１３－１７１９４６（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１２－２５３３１６（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｈ０１Ｌ ２１／０２７、２１／３０

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

図形情報が特定する図形領域を分割した２以上の各第一小領域の中に、前記図形情報が示す図形が含まれる面積に応じた第一密度情報の集合であり、前記２以上の各第一小領域ごとの第一密度情報の集合である第一密度集合が、１以上の各図形情報ごとに格納される密度集合格納部と、
バイアスの単位量に対する面積の変動を特定する微分情報が、１以上の各図形情報ごと、および２以上の各第一小領域ごとに格納される微分情報格納部と、
１以上の図形情報を受け付ける図形情報受付部と、
バイアス量を受け付けるバイアス量受付部と、
前記図形情報受付部が受け付けた１以上の各図形情報に対応する第一密度集合を前記密度集合格納部から取得する密度集合取得部と、
前記１以上の各図形情報ごとの前記１以上の第一密度集合に応じた補正量であり、２以上の各第二小領域の補正量を取得する補正量取得部と、
前記補正量取得部が取得した２以上の各第二小領域の補正量に応じた強さの電子ビームの照射量を、前記２以上の第二小領域ごとに取得する照射量取得部と、
前記照射量取得部が取得した前記２以上の第二小領域ごとの照射量に従って、前記２以上の各第二小領域に電子ビームを照射する描画部とを具備し、
前記密度集合取得部は、
前記図形情報受付部が受け付けた１以上の各図形情報に対応する第一密度集合を前記密度集合格納部から取得する密度集合読出手段と、
前記２以上の各第一小領域のうちで、第一小領域の図形に関するバイアス条件に合致する第一小領域を検知し、当該第一小領域の中の図形に基づく面積変動情報を取得する面積変動情報取得手段と、
前記密度集合読出手段が取得した第一密度集合が有する１以上の各第一小領域の第一密度情報と、前記面積変動情報取得手段が取得した１以上の各第一小領域の面積変動情報とを用いて、１以上の各第一小領域ごとの第二密度情報の集合である第二密度集合を、前記１以上の各図形情報ごとに取得する密度集合取得手段とを具備し、
前記補正量取得部は、
前記密度集合取得手段が取得した１以上の第二密度集合を用いて、２以上の各第二小領域の補正量を取得し、
前記バイアス条件は、第一小領域の図形が水平線または垂直線を含むことであり、
前記面積変動情報取得手段は、
前記水平線または垂直線に対して、前記バイアス量に比例する大きさの面積変動情報を取得する、電子ビーム描画装置。

【請求項2】

図形情報が特定する図形領域を分割した２以上の各第一小領域の中に、前記図形情報が示す図形が含まれる面積に応じた第一密度情報の集合であり、前記２以上の各第一小領域ごとの第一密度情報の集合である第一密度集合が、１以上の各図形情報ごとに格納される密度集合格納部と、
バイアスの単位量に対する面積の変動を特定する微分情報が、１以上の各図形情報ごと、および２以上の各第一小領域ごとに格納される微分情報格納部と、
１以上の図形情報を受け付ける図形情報受付部と、
バイアス量を受け付けるバイアス量受付部と、
前記図形情報受付部が受け付けた１以上の各図形情報に対応する第一密度集合を前記密度集合格納部から取得する密度集合取得部と、
前記１以上の各図形情報ごとの前記１以上の第一密度集合に応じた補正量であり、２以上の各第二小領域の補正量を取得する補正量取得部と、
前記補正量取得部が取得した２以上の各第二小領域の補正量に応じた強さの電子ビームの照射量を、前記２以上の第二小領域ごとに取得する照射量取得部と、
前記照射量取得部が取得した前記２以上の第二小領域ごとの照射量に従って、前記２以上の各第二小領域に電子ビームを照射する描画部とを具備し、
前記密度集合取得部は、
前記図形情報受付部が受け付けた１以上の各図形情報に対応する第一密度集合を前記密度集合格納部から取得する密度集合読出手段と、
前記２以上の各第一小領域のうちで、第一小領域の図形に関するバイアス条件に合致する第一小領域を検知し、当該第一小領域の中の図形に基づく面積変動情報を取得する面積変動情報取得手段と、
前記密度集合読出手段が取得した第一密度集合が有する１以上の各第一小領域の第一密度情報と、前記面積変動情報取得手段が取得した１以上の各第一小領域の面積変動情報とを用いて、１以上の各第一小領域ごとの第二密度情報の集合である第二密度集合を、前記１以上の各図形情報ごとに取得する密度集合取得手段とを具備し、
前記補正量取得部は、
前記密度集合取得手段が取得した１以上の第二密度集合を用いて、２以上の各第二小領域の補正量を取得し、
前記バイアス条件は、第一小領域の図形が斜線を含むことであり、
前記面積変動情報取得手段は、
前記バイアス量と前記斜線の角度に関する角度情報と前記斜線の前記第一小領域内の長さに関する長さ情報とを取得し、当該バイアス量と当該角度情報と長さ情報とを用いて、前記面積変動情報を算出する、電子ビーム描画装置。

【請求項3】

図形情報が特定する図形領域を分割した２以上の各第一小領域の中に、前記図形情報が示す図形が含まれる面積に応じた第一密度情報の集合であり、前記２以上の各第一小領域ごとの第一密度情報の集合である第一密度集合が、１以上の各図形情報ごとに格納される密度集合格納部と、
バイアスの単位量に対する面積の変動を特定する微分情報が、１以上の各図形情報ごと、および２以上の各第一小領域ごとに格納される微分情報格納部と、
１以上の図形情報を受け付ける図形情報受付部と、
バイアス量を受け付けるバイアス量受付部と、
前記図形情報受付部が受け付けた１以上の各図形情報に対応する第一密度集合を前記密度集合格納部から取得する密度集合取得部と、
前記１以上の各図形情報ごとの前記１以上の第一密度集合に応じた補正量であり、２以上の各第二小領域の補正量を取得する補正量取得部と、
前記補正量取得部が取得した２以上の各第二小領域の補正量に応じた強さの電子ビームの照射量を、前記２以上の第二小領域ごとに取得する照射量取得部と、
前記照射量取得部が取得した前記２以上の第二小領域ごとの照射量に従って、前記２以上の各第二小領域に電子ビームを照射する描画部とを具備し、
前記密度集合取得部は、
前記図形情報受付部が受け付けた１以上の各図形情報に対応する第一密度集合を前記密度集合格納部から取得する密度集合読出手段と、
前記２以上の各第一小領域のうちで、第一小領域の図形に関するバイアス条件に合致する第一小領域を検知し、当該第一小領域の中の図形に基づく面積変動情報を取得する面積変動情報取得手段と、
前記密度集合読出手段が取得した第一密度集合が有する１以上の各第一小領域の第一密度情報と、前記面積変動情報取得手段が取得した１以上の各第一小領域の面積変動情報とを用いて、１以上の各第一小領域ごとの第二密度情報の集合である第二密度集合を、前記１以上の各図形情報ごとに取得する密度集合取得手段とを具備し、
前記補正量取得部は、
前記密度集合取得手段が取得した１以上の第二密度集合を用いて、２以上の各第二小領域の補正量を取得し、
前記バイアス条件は、第一小領域の図形が、２つの直線の交点により構成される角部を含むことであり、
前記面積変動情報取得手段は、
前記２つの直線を前記バイアス量に対応する長さ分を延ばして作成される平行四辺形と２つの三角形の面積を算出し、当該３つの面積を用いて前記面積変動情報を算出する、電子ビーム描画装置。

【請求項4】

前記１以上の各図形情報ごと、および前記２以上の各第一小領域ごとに、バイアスの単位量に対する面積の変動を特定する微分情報を算出し、前記微分情報格納部に蓄積する第二前処理部をさらに具備する請求項１から請求項３いずれか一項に記載の電子ビーム描画装置。

【請求項5】

微分情報を算出する微分情報算出式が１以上の各バイアス条件ごとに格納されており、
前記第二前処理部は、
前記１以上の各図形情報ごと、および前記２以上の各第一小領域ごとに、合致するバイアス条件に対応する微分情報算出式を取得し、当該微分情報算出式を用いて、微分情報を算出し、前記微分情報格納部に蓄積する、請求項４記載の電子ビーム描画装置。

【請求項6】

図形情報が特定する領域である図形領域を分割した２以上の各第一小領域ごとに、前記２以上の各第一小領域の中に、前記図形情報が示す図形が含まれる面積に基づく第一密度情報を取得し、当該第一密度情報の集合である第一密度集合を、前記１以上の図形情報ごとに取得し、前記密度集合格納部に蓄積する第一前処理部をさらに具備する請求項１から請求項５いずれか一項に記載の電子ビーム描画装置。

【請求項7】

前記描画部は、
前記図形情報受付部が受け付けた前記１以上の図形情報に対して、バイアス処理を適用し、バイアス済みの図形の情報を取得し、
前記照射量取得部は、
前記バイアス済みの図形の情報と、前記補正量取得部が取得した２以上の各第二小領域の補正量とを用いて、前記２以上の各第二小領域の電子ビームの照射量を取得し、
前記描画部は、前記照射量取得部が取得した前記２以上の第二小領域ごとの照射量に従って、前記２以上の各第二小領域に電子ビームを照射して、図形の描画を行う、請求項１から請求項６いずれか一項に記載の電子ビーム描画装置。

【請求項8】

図形情報が特定する図形領域を分割した２以上の各第一小領域の中に、前記図形情報が示す図形が含まれる面積に応じた第一密度情報の集合であり、前記２以上の各第一小領域ごとの第一密度情報の集合である第一密度集合が、１以上の各図形情報ごとに格納される密度集合格納部と、バイアスの単位量に対する面積の変動を特定する微分情報が、１以上の各図形情報ごと、および２以上の各第一小領域ごとに格納される微分情報格納部と、図形情報受付部と、バイアス量受付部と、密度集合取得部と、補正量取得部と、照射量取得部と、描画部とにより実現される電子ビーム描画方法であって、
前記図形情報受付部が、１以上の図形情報を受け付ける図形情報受付ステップと、
前記バイアス量受付部が、バイアス量を受け付けるバイアス量受付ステップと、前記密度集合取得部が、前記図形情報受付部が受け付けた１以上の各図形情報に対応する第一密度集合を前記密度集合格納部から取得する密度集合取得ステップと、
前記補正量取得部が、前記１以上の各図形情報ごとの前記１以上の第一密度集合に応じた補正量であり、２以上の各第二小領域の補正量を取得する補正量取得ステップと、
前記照射量取得部が、前記補正量取得部が取得した２以上の各第二小領域の補正量に応じた強さの電子ビームの照射量を、前記２以上の第二小領域ごとに取得する照射量取得ステップと、
前記描画部が、前記照射量取得部が取得した前記２以上の第二小領域ごとの照射量に従って、前記２以上の各第二小領域に電子ビームを照射する描画ステップとを具備し、
前記密度集合取得ステップは、
前記図形情報受付ステップで受け付けられた１以上の各図形情報に対応する第一密度集合を前記密度集合格納部から取得する密度集合読出サブステップと、
前記２以上の各第一小領域のうちで、第一小領域の図形に関するバイアス条件に合致する第一小領域を検知し、当該第一小領域の中の図形に基づく面積変動情報を取得する面積変動情報取得サブステップと、
前記密度集合読出サブステップで取得された第一密度集合が有する１以上の各第一小領域の第一密度情報と、前記面積変動情報取得サブステップで取得された１以上の各第一小領域の面積変動情報とを用いて、１以上の各第一小領域ごとの第二密度情報の集合である第二密度集合を、前記１以上の各図形情報ごとに取得する密度集合取得サブステップとを具備し、
前記補正量取得ステップにおいて、
前記密度集合取得サブステップで取得された１以上の第二密度集合を用いて、２以上の各第二小領域の補正量を取得し、
前記バイアス条件は、第一小領域の図形が水平線または垂直線を含むことであり、
前記面積変動情報取得サブステップにおいて、
前記水平線または垂直線に対して、前記バイアス量に比例する大きさの面積変動情報を取得する、電子ビーム描画方法。

【請求項9】

図形情報が特定する図形領域を分割した２以上の各第一小領域の中に、前記図形情報が示す図形が含まれる面積に応じた第一密度情報の集合であり、前記２以上の各第一小領域ごとの第一密度情報の集合である第一密度集合が、１以上の各図形情報ごとに格納される密度集合格納部と、バイアスの単位量に対する面積の変動を特定する微分情報が、１以上の各図形情報ごと、および２以上の各第一小領域ごとに格納される微分情報格納部と、図形情報受付部と、バイアス量受付部と、密度集合取得部と、補正量取得部と、照射量取得部と、描画部とにより実現される電子ビーム描画方法であって、
前記図形情報受付部が、１以上の図形情報を受け付ける図形情報受付ステップと、
前記バイアス量受付部が、バイアス量を受け付けるバイアス量受付ステップと、前記密度集合取得部が、前記図形情報受付部が受け付けた１以上の各図形情報に対応する第一密度集合を前記密度集合格納部から取得する密度集合取得ステップと、
前記補正量取得部が、前記１以上の各図形情報ごとの前記１以上の第一密度集合に応じた補正量であり、２以上の各第二小領域の補正量を取得する補正量取得ステップと、
前記照射量取得部が、前記補正量取得部が取得した２以上の各第二小領域の補正量に応じた強さの電子ビームの照射量を、前記２以上の第二小領域ごとに取得する照射量取得ステップと、
前記描画部が、前記照射量取得部が取得した前記２以上の第二小領域ごとの照射量に従って、前記２以上の各第二小領域に電子ビームを照射する描画ステップとを具備し、
前記密度集合取得ステップは、
前記図形情報受付ステップで受け付けられた１以上の各図形情報に対応する第一密度集合を前記密度集合格納部から取得する密度集合読出サブステップと、
前記２以上の各第一小領域のうちで、第一小領域の図形に関するバイアス条件に合致する第一小領域を検知し、当該第一小領域の中の図形に基づく面積変動情報を取得する面積変動情報取得サブステップと、
前記密度集合読出サブステップで取得された第一密度集合が有する１以上の各第一小領域の第一密度情報と、前記面積変動情報取得サブステップで取得された１以上の各第一小領域の面積変動情報とを用いて、１以上の各第一小領域ごとの第二密度情報の集合である第二密度集合を、前記１以上の各図形情報ごとに取得する密度集合取得サブステップとを具備し、
前記補正量取得ステップにおいて、
前記密度集合取得サブステップで取得された１以上の第二密度集合を用いて、２以上の各第二小領域の補正量を取得し、
前記バイアス条件は、第一小領域の図形が斜線を含むことであり、
前記面積変動情報取得サブステップにおいては、
前記バイアス量と前記斜線の角度に関する角度情報と前記斜線の前記第一小領域内の長さに関する長さ情報とを取得し、当該バイアス量と当該角度情報と長さ情報とを用いて、前記面積変動情報を算出する、電子ビーム描画方法。

【請求項10】

図形情報が特定する図形領域を分割した２以上の各第一小領域の中に、前記図形情報が示す図形が含まれる面積に応じた第一密度情報の集合であり、前記２以上の各第一小領域ごとの第一密度情報の集合である第一密度集合が、１以上の各図形情報ごとに格納される密度集合格納部と、バイアスの単位量に対する面積の変動を特定する微分情報が、１以上の各図形情報ごと、および２以上の各第一小領域ごとに格納される微分情報格納部と、図形情報受付部と、バイアス量受付部と、密度集合取得部と、補正量取得部と、照射量取得部と、描画部とにより実現される電子ビーム描画方法であって、
前記図形情報受付部が、１以上の図形情報を受け付ける図形情報受付ステップと、
前記バイアス量受付部が、バイアス量を受け付けるバイアス量受付ステップと、前記密度集合取得部が、前記図形情報受付部が受け付けた１以上の各図形情報に対応する第一密度集合を前記密度集合格納部から取得する密度集合取得ステップと、
前記補正量取得部が、前記１以上の各図形情報ごとの前記１以上の第一密度集合に応じた補正量であり、２以上の各第二小領域の補正量を取得する補正量取得ステップと、
前記照射量取得部が、前記補正量取得部が取得した２以上の各第二小領域の補正量に応じた強さの電子ビームの照射量を、前記２以上の第二小領域ごとに取得する照射量取得ステップと、
前記描画部が、前記照射量取得部が取得した前記２以上の第二小領域ごとの照射量に従って、前記２以上の各第二小領域に電子ビームを照射する描画ステップとを具備し、
前記密度集合取得ステップは、
前記図形情報受付ステップで受け付けられた１以上の各図形情報に対応する第一密度集合を前記密度集合格納部から取得する密度集合読出サブステップと、
前記２以上の各第一小領域のうちで、第一小領域の図形に関するバイアス条件に合致する第一小領域を検知し、当該第一小領域の中の図形に基づく面積変動情報を取得する面積変動情報取得サブステップと、
前記密度集合読出サブステップで取得された第一密度集合が有する１以上の各第一小領域の第一密度情報と、前記面積変動情報取得サブステップで取得された１以上の各第一小領域の面積変動情報とを用いて、１以上の各第一小領域ごとの第二密度情報の集合である第二密度集合を、前記１以上の各図形情報ごとに取得する密度集合取得サブステップとを具備し、
前記補正量取得ステップにおいて、
前記密度集合取得サブステップで取得された１以上の第二密度集合を用いて、２以上の各第二小領域の補正量を取得し、
前記バイアス条件は、第一小領域の図形が、２つの直線の交点により構成される角部を含むことであり、
前記面積変動情報取得サブステップにおいて、
前記２つの直線を前記バイアス量に対応する長さ分を延ばして作成される平行四辺形と２つの三角形の面積を算出し、当該３つの面積を用いて前記面積変動情報を算出する、電子ビーム描画方法。

【請求項11】

図形情報が特定する図形領域を分割した２以上の各第一小領域の中に、前記図形情報が示す図形が含まれる面積に応じた第一密度情報の集合であり、前記２以上の各第一小領域ごとの第一密度情報の集合である第一密度集合が、１以上の各図形情報ごとに格納される密度集合格納部とバイアスの単位量に対する面積の変動を特定する微分情報が、１以上の各図形情報ごと、および２以上の各第一小領域ごとに格納される微分情報格納部とにアクセス可能なコンピュータを、
１以上の図形情報を受け付ける図形情報受付部と、
バイアス量を受け付けるバイアス量受付部と、
前記図形情報受付部が受け付けた１以上の各図形情報に対応する第一密度集合を前記密度集合格納部から取得する密度集合取得部と、
前記１以上の各図形情報ごとの前記１以上の第一密度集合に応じた補正量であり、２以上の各第二小領域の補正量を取得する補正量取得部と、
前記補正量取得部が取得した２以上の各第二小領域の補正量に応じた強さの電子ビームの照射量を、前記２以上の第二小領域ごとに取得する照射量取得部と、
前記照射量取得部が取得した前記２以上の第二小領域ごとの照射量に従って、前記２以上の各第二小領域に電子ビームを照射する描画部として機能させるためのプログラムであって、
前記密度集合取得部は、
前記図形情報受付部が受け付けた１以上の各図形情報に対応する第一密度集合を前記密度集合格納部から取得する密度集合読出手段と、
前記２以上の各第一小領域のうちで、第一小領域の図形に関するバイアス条件に合致する第一小領域を検知し、当該第一小領域の中の図形に基づく面積変動情報を取得する面積変動情報取得手段と、
前記密度集合読出手段が取得した第一密度集合が有する１以上の各第一小領域の第一密度情報と、前記面積変動情報取得手段が取得した１以上の各第一小領域の面積変動情報とを用いて、１以上の各第一小領域ごとの第二密度情報の集合である第二密度集合を、前記１以上の各図形情報ごとに取得する密度集合取得手段とを具備し、
前記補正量取得部は、
前記密度集合取得手段が取得した１以上の第二密度集合を用いて、２以上の各第二小領域の補正量を取得し、
前記バイアス条件は、第一小領域の図形が水平線または垂直線を含むことであり、
前記面積変動情報取得手段は、
前記水平線または垂直線に対して、前記バイアス量に比例する大きさの面積変動情報を取得するものとして、前記コンピュータを機能させるためのプログラム。

【請求項12】

図形情報が特定する図形領域を分割した２以上の各第一小領域の中に、前記図形情報が示す図形が含まれる面積に応じた第一密度情報の集合であり、前記２以上の各第一小領域ごとの第一密度情報の集合である第一密度集合が、１以上の各図形情報ごとに格納される密度集合格納部とバイアスの単位量に対する面積の変動を特定する微分情報が、１以上の各図形情報ごと、および２以上の各第一小領域ごとに格納される微分情報格納部とにアクセス可能なコンピュータを、
１以上の図形情報を受け付ける図形情報受付部と、
バイアス量を受け付けるバイアス量受付部と、
前記図形情報受付部が受け付けた１以上の各図形情報に対応する第一密度集合を前記密度集合格納部から取得する密度集合取得部と、
前記１以上の各図形情報ごとの前記１以上の第一密度集合に応じた補正量であり、２以上の各第二小領域の補正量を取得する補正量取得部と、
前記補正量取得部が取得した２以上の各第二小領域の補正量に応じた強さの電子ビームの照射量を、前記２以上の第二小領域ごとに取得する照射量取得部と、
前記照射量取得部が取得した前記２以上の第二小領域ごとの照射量に従って、前記２以上の各第二小領域に電子ビームを照射する描画部として機能させるためのプログラムであって、
前記密度集合取得部は、
前記図形情報受付部が受け付けた１以上の各図形情報に対応する第一密度集合を前記密度集合格納部から取得する密度集合読出手段と、
前記２以上の各第一小領域のうちで、第一小領域の図形に関するバイアス条件に合致する第一小領域を検知し、当該第一小領域の中の図形に基づく面積変動情報を取得する面積変動情報取得手段と、
前記密度集合読出手段が取得した第一密度集合が有する１以上の各第一小領域の第一密度情報と、前記面積変動情報取得手段が取得した１以上の各第一小領域の面積変動情報とを用いて、１以上の各第一小領域ごとの第二密度情報の集合である第二密度集合を、前記１以上の各図形情報ごとに取得する密度集合取得手段とを具備し、
前記補正量取得部は、
前記密度集合取得手段が取得した１以上の第二密度集合を用いて、２以上の各第二小領域の補正量を取得し、
前記バイアス条件は、第一小領域の図形が斜線を含むことであり、
前記面積変動情報取得手段は、
前記バイアス量と前記斜線の角度に関する角度情報と前記斜線の前記第一小領域内の長さに関する長さ情報とを取得し、当該バイアス量と当該角度情報と長さ情報とを用いて、前記面積変動情報を算出するするものとして、前記コンピュータを機能させるためのプログラム。

【請求項13】

図形情報が特定する図形領域を分割した２以上の各第一小領域の中に、前記図形情報が示す図形が含まれる面積に応じた第一密度情報の集合であり、前記２以上の各第一小領域ごとの第一密度情報の集合である第一密度集合が、１以上の各図形情報ごとに格納される密度集合格納部とバイアスの単位量に対する面積の変動を特定する微分情報が、１以上の各図形情報ごと、および２以上の各第一小領域ごとに格納される微分情報格納部とにアクセス可能なコンピュータを、
１以上の図形情報を受け付ける図形情報受付部と、
バイアス量を受け付けるバイアス量受付部と、
前記図形情報受付部が受け付けた１以上の各図形情報に対応する第一密度集合を前記密度集合格納部から取得する密度集合取得部と、
前記１以上の各図形情報ごとの前記１以上の第一密度集合に応じた補正量であり、２以上の各第二小領域の補正量を取得する補正量取得部と、
前記補正量取得部が取得した２以上の各第二小領域の補正量に応じた強さの電子ビームの照射量を、前記２以上の第二小領域ごとに取得する照射量取得部と、
前記照射量取得部が取得した前記２以上の第二小領域ごとの照射量に従って、前記２以上の各第二小領域に電子ビームを照射する描画部として機能させるためのプログラムであって、
前記密度集合取得部は、
前記図形情報受付部が受け付けた１以上の各図形情報に対応する第一密度集合を前記密度集合格納部から取得する密度集合読出手段と、
前記２以上の各第一小領域のうちで、第一小領域の図形に関するバイアス条件に合致する第一小領域を検知し、当該第一小領域の中の図形に基づく面積変動情報を取得する面積変動情報取得手段と、
前記密度集合読出手段が取得した第一密度集合が有する１以上の各第一小領域の第一密度情報と、前記面積変動情報取得手段が取得した１以上の各第一小領域の面積変動情報とを用いて、１以上の各第一小領域ごとの第二密度情報の集合である第二密度集合を、前記１以上の各図形情報ごとに取得する密度集合取得手段とを具備し、
前記補正量取得部は、
前記密度集合取得手段が取得した１以上の第二密度集合を用いて、２以上の各第二小領域の補正量を取得し、
前記バイアス条件は、第一小領域の図形が、２つの直線の交点により構成される角部を含むことであり、
前記面積変動情報取得手段は、
前記２つの直線を前記バイアス量に対応する長さ分を延ばして作成される平行四辺形と２つの三角形の面積を算出し、当該３つの面積を用いて前記面積変動情報を算出するものとして、前記コンピュータを機能させるためのプログラム。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、電子ビームの照射を行う電子ビーム描画装置等に関するものである。

【背景技術】

【0002】

従来、描画装置から照射される荷電粒子ビームの照射量を補正する技術があった（例えば、特許文献１参照）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【文献】特許第６２８３１８０号

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

しかしながら、従来技術においては、電子ビームを用いて図形を描画する際の適切な照射量を高速に決定できなかった。従来技術においては、特に、電子ビームを照射した際の影響範囲など、補正対象となる現象の影響範囲が広い場合であり、図形の数が膨大である場合は、適切な照射量を決定するまでの処理に、多大な時間がかかっていた。

【課題を解決するための手段】

【0005】

本第一の発明の電子ビーム描画装置は、図形情報が特定する図形領域を分割した２以上の各第一小領域の中に、図形情報が示す図形が含まれる面積に応じた第一密度情報の集合であり、２以上の各第一小領域ごとの第一密度情報の集合である第一密度集合が、１以上の各図形情報ごとに格納される密度集合格納部と、１以上の図形情報を受け付ける図形情報受付部と、図形情報受付部が受け付けた１以上の各図形情報に対応する第一密度集合を密度集合格納部から取得する密度集合取得部と、１以上の各図形情報ごとの１以上の第一密度集合に応じた補正量であり、２以上の各第二小領域の補正量を取得する補正量取得部と、補正量取得部が取得した２以上の各第二小領域の補正量に応じた強さの電子ビームの照射量を、２以上の第二小領域ごとに取得する照射量取得部と、照射量取得部が取得した２以上の第二小領域ごとの照射量に従って、２以上の各第二小領域に電子ビームを照射する描画部とを具備する電子ビーム描画装置である。

【0006】

かかる構成により、電子ビームを用いて図形を描画する際の適切な照射量を高速に取得できる。

【0007】

また、本第二の発明の電子ビーム描画装置は、第一の発明に対して、密度集合取得部は、受付部が受け付けた１以上の各図形情報に対応する第一密度集合を密度集合格納部から取得する密度集合読出手段と、２以上の各第一小領域のうちで、第一小領域の図形に関するバイアス条件に合致する第一小領域に対して、第一小領域の中の図形に基づく面積変動情報を取得する面積変動情報取得手段と、密度集合読出手段が取得した第一密度集合が有する１以上の各第一小領域の第一密度情報と、面積変動情報取得手段が取得した１以上の各第一小領域の面積変動情報とを用いて、１以上の各第一小領域ごとの第二密度情報の集合である第二密度集合を、１以上の各図形情報ごとに取得する密度集合取得手段とを具備し、補正量取得部は、密度集合取得手段が取得した１以上の第二密度集合を用いて、２以上の各第二小領域の補正量を取得する、電子ビーム描画装置である。

【0008】

かかる構成により、電子ビームを用いて図形を描画する際のより適切な照射量を高速に取得できる。

【0009】

また、本第三の発明の電子ビーム描画装置は、第二の発明に対して、バイアスの単位量に対する面積の変動を特定する微分情報が、１以上の各図形情報ごと、および２以上の各第一小領域ごとに格納される微分情報格納部と、バイアス量を受け付けるバイアス量受付部とをさらに具備し、面積変動情報取得手段は、バイアス条件に合致する第一小領域に対して、第一小領域に対応付けられた微分情報とバイアス量受付部が受け付けたバイアス量とを用いて、面積変動情報を、１以上の各図形情報ごとに取得する、電子ビーム描画装置である。

【0010】

かかる構成により、電子ビームを用いて図形を描画する際のより適切な照射量を高速に取得できる。

【0011】

また、本第四の発明の電子ビーム描画装置は、第三の発明に対して、１以上の各図形情報ごと、および２以上の各第一小領域ごとに、バイアスの単位量に対する面積の変動を特定する微分情報を算出し、微分情報格納部に蓄積する第二前処理部をさらに具備する電子ビーム描画装置である。

【0012】

かかる構成により、電子ビームを用いて図形を描画する際のより適切な照射量を高速に取得できる。

【0013】

また、本第五の発明の電子ビーム描画装置は、第四の発明に対して、微分情報を算出する微分情報算出式が１以上の各バイアス条件ごとに格納されており、第二前処理部は、１以上の各図形情報ごと、および２以上の各第一小領域ごとに、合致するバイアス条件に対応する微分情報算出式を取得し、微分情報算出式を用いて、微分情報を算出し、微分情報格納部に蓄積する、電子ビーム描画装置である。

【0014】

かかる構成により、電子ビームを用いて図形を描画する際のより適切な照射量を高速に取得できる。

【0015】

また、本第六の発明の電子ビーム描画装置は、第三から第五いずれか１つの発明に対して、バイアス条件は、第一小領域の図形が水平線または垂直線を含むことであり、面積変動情報取得手段は、水平線または垂直線に対して、バイアス量に比例する大きさの面積変動情報を取得する、電子ビーム描画装置である。

【0016】

かかる構成により、電子ビームを用いて図形を描画する際のより適切な照射量を高速に取得できる。

【0017】

また、本第七の発明の電子ビーム描画装置は、第三から第五いずれか１つの発明に対して、バイアス条件は、第一小領域の図形が斜線を含むことであり、面積変動情報取得手段は、バイアス量と斜線の角度に関する角度情報と斜線の第一小領域内の長さに関する長さ情報とを取得し、バイアス量と角度情報と長さ情報とを用いて、Ｘ成分の面積変動情報であるＸ面積変動情報とＹ成分の面積変動情報であるＹ面積変動情報とを算出し、Ｘ面積変動情報とＹ面積変動情報とを用いて面積変動情報を算出する、電子ビーム描画装置である。

【0018】

かかる構成により、電子ビームを用いて図形を描画する際のより適切な照射量を高速に取得できる。

【0019】

また、本第八の発明の電子ビーム描画装置は、第三から第五いずれか１つの発明に対して、バイアス条件は、第一小領域の図形が、２つの直線の交点により構成される角部を含むことであり、面積変動情報取得手段は、２つの直線をバイアス量に対応する長さ分を延ばして作成される平行四辺形と２つの三角形の面積を算出し、３つの面積を用いて面積変動情報を算出する、電子ビーム描画装置である。

【0020】

かかる構成により、電子ビームを用いて図形を描画する際のより適切な照射量を高速に取得できる。

【0021】

また、本第九の発明の電子ビーム描画装置は、第一から第八いずれか１つの発明に対して、図形情報が特定する領域である図形領域を分割した２以上の各第一小領域ごとに、２以上の各第一小領域の中に、図形情報が示す図形が含まれる面積に基づく第一密度情報を取得し、第一密度情報の集合である第一密度集合を、１以上の図形情報ごとに取得し、密度集合格納部に蓄積する第一前処理部をさらに具備する電子ビーム描画装置である。

【0022】

かかる構成により、電子ビームを用いて図形を描画する際のより適切な照射量を高速に取得できる。

【0023】

また、本第十の発明の密度集合の生産装置は、１以上の図形情報を受け付ける図形情報受付部と、図形情報が特定する領域である図形領域を分割した２以上の各第一小領域ごとに、２以上の各第一小領域の中に、図形情報が示す図形が含まれる面積に基づく第一密度情報を取得し、第一密度情報の集合である第一密度集合を、１以上の図形情報ごとに取得し、蓄積する第一前処理部とを具備する密度集合の生産装置である。

【0024】

かかる構成により、密度集合を取得し、蓄積できる。

【0025】

また、本第十一の発明の微分情報集合の生産装置は、１以上の図形情報を受け付ける図形情報受付部と、１以上の各図形情報ごと、および２以上の各第一小領域ごとに、バイアスの単位量に対する面積の変動を特定する微分情報を算出し、蓄積する第二前処理部を具備する微分情報集合の生産装置である。

【0026】

かかる構成により、微分情報集合を取得し、蓄積できる。

【発明の効果】

【0027】

本発明による電子ビーム描画装置によれば、電子ビームを用いて図形を描画する際の適切な照射量を高速に取得できる。

【図面の簡単な説明】

【0028】

【図1】実施の形態１における電子ビーム描画装置Ａのブロック図

【図2】同微分情報算出式の例の導出を説明する図

【図3】同微分情報算出式の例の導出を説明する図

【図4】同微分情報算出式の例の導出を説明する図

【図5】同微分情報算出式の例の導出を説明する図

【図6】同微分情報算出式の例の導出を説明する図

【図7】同電子ビーム描画装置Ａの動作例について説明するフローチャート

【図8】同密度情報取得処理の例について説明するフローチャート

【図9】同微分情報取得処理の例について説明するフローチャート

【図10】同密度集合取得処理の例について説明するフローチャート

【図11】同補正量集合取得の例ついて説明するフローチャート

【図12】同描画処理の例について説明するフローチャート

【図13】同第一前処理部３１の処理を説明する図

【図14】同第一密度マップの例を示す図

【図15】同第二前処理部３２の処理を説明する図

【図16】同微分情報集合の例を示す図

【図17】同密度集合の生産装置Ｂのブロック図

【図18】同微分情報集合の生産装置Ｃのブロック図

【図19】同コンピュータシステムの概観図

【図20】同コンピュータシステムのブロック図

【発明を実施するための形態】

【0029】

以下、電子ビーム描画装置等の実施形態について図面を参照して説明する。なお、実施の形態において同じ符号を付した構成要素は同様の動作を行うので、再度の説明を省略する場合がある。

【0030】

（実施の形態１）
本実施の形態において、１以上の各図形情報を含む領域を分割した２以上の各第一小領域ごとに、図形が含まれる面積に応じた第一密度情報を取得し、事前に第一小領域識別子に対応付けられた第一密度情報の集合を保持しておく。そして、１以上の各図形情報ごとの第一密度情報の集合を用いて、第二小領域ごとの補正量の集合を取得し、第二小領域ごとに、対応する補正量に従った電子ビームの照射量を決定し、当該照射量に従った電子ビームの照射を行う電子ビーム描画装置について説明する。

【0031】

また、本実施の形態において、バイアス処理を行うことにより、より適切な補正量の集合を作成し、当該補正量の集合に従った電子ビームの照射量を決定し、当該照射量に従った電子ビームの照射を行う電子ビーム描画装置について説明する。

【0032】

また、本実施の形態において、単位量のバイアスに対する面積の変化の情報である微分情報を第一小領域ごとに予め保持しておき、当該微分情報を用いて、より適切な補正量の集合を作成し、当該補正量の集合に従った電子ビームの照射量を決定し、当該照射量に従った電子ビームの照射を行う電子ビーム描画装置について説明する。

【0033】

図１は、本実施の形態における電子ビーム描画装置Ａのブロック図である。電子ビーム描画装置Ａは、格納部１、受付部２、処理部３、および出力部４を備える。

【0034】

格納部１は、密度集合格納部１１、および微分情報格納部１２を備える。受付部２は、図形情報受付部２１、およびバイアス量受付部２２を備える。処理部３は、第一前処理部３１、第二前処理部３２、密度集合取得部３３、補正量取得部３４、照射量取得部３５、および描画部３６を備える。密度集合取得部３３は、密度集合読出手段３３１、面積変動情報取得手段３３２、および密度集合取得手段３３３を備える。

【0035】

格納部１には、各種の情報が格納される。各種の情報とは、例えば、後述する密度集合、後述する微分情報、１または２以上の図形情報、１以上のバイアス条件、１以上の微分情報算出式、後述する各種の演算式である。

【0036】

図形情報とは、図形を示す情報である。図形情報は、例えば、図形を構成する２以上の各点の座標情報の集合である。図形情報は、例えば、図形を構成する３以上の線の情報の集合である。図形情報は、例えば、ファイルである。ただし、図形情報の構造は問わない。また、図形情報は、図形識別子に対応付いている。図形識別子は、図形を識別する情報であり、例えば、ＩＤ、ファイル名、図形名である。

【0037】

バイアス条件とは、後述する面積変動情報を取得するための条件である。バイアス条件は、通常、第一小領域の図形に関する条件である。バイアス条件は、例えば、第一小領域の中に図面が存在する領域と図形が存在しない領域とが存在することである。バイアス条件は、例えば、第一小領域の中に図面の線が存在することである。なお、図面の線とは、図面の境界線である。また、バイアス条件は、例えば、第一小領域の中に図面の水平線が存在することである。また、バイアス条件は、例えば、第一小領域の中に図面の垂直線が存在することである。また、バイアス条件は、例えば、第一小領域の中に図面の斜線が存在することである。また、バイアス条件は、例えば、第一小領域の中に図面の角部が存在することである。角部は、２つの直線の交点により構成される角の部分である。

【0038】

また、第一小領域には、図形の一部が含まれていても良いし、１または２以上の図形が含まれていても良い。

【0039】

微分情報算出式とは、微分情報を算出するための演算式である。微分情報算出式は、通常、バイアス条件に対応付いている。微分情報算出式の具体例については、後述する。

【0040】

密度集合格納部１１には、１以上の各図形情報ごとに、第一密度集合が格納される。１以上の各第一密度集合は、例えば、図形情報を識別する図形識別子に対応付いている。

【0041】

第一密度集合は、２以上の第一密度情報を有する。第一密度集合は、２以上の各第一小領域ごとの第一密度情報の集合である。第一密度集合は、例えば、２以上の第一密度組情報からなる。第一密度組情報は、第一小領域を識別する第一小領域識別子と第一密度情報との組である。なお、第一密度集合は、第一密度マップと呼んでも良い。

【0042】

第一密度情報は、例えば、第一小領域識別子に対応付いている。第一密度情報は、例えば、第一小領域を特定する領域情報（例えば、左上座標と右下座標を有する情報）に対応付いている。第一密度情報は、図形情報が示す図形が、第一小領域内に含まれる面積に応じた情報である。第一密度情報は、例えば、第一小領域内の図面の密度に関する情報である。第一密度情報は、例えば、第一小領域内の全面積の中で、図形が占める割合に関する情報である。第一密度情報は、例えば、０～１の間の数値である。第一密度情報は、例えば、第一小領域内で、図形が占める面積に関する情報である。第一密度情報は、第一小領域内で、図形が占める面積でも良い。

【0043】

密度集合格納部１１の１以上の第一密度集合は、第一前処理部３１が取得した情報であることは好適である。密度集合格納部１１の１以上の第一密度集合は、描画の開始指示の受け付けの前に、前処理として行われた第一前処理部３１の処理により、密度集合格納部１１に蓄積された情報であることは好適である。

【0044】

なお、２以上の各第一小領域の大きさや形状は、各々、異なっていても良い。また、図形情報に応じて、分割の方法が異なる結果、図形情報により第一小領域の大きさや形状が異なっていても良い。但し、形状は、矩形であることは好適である。

【0045】

微分情報格納部１２には、第一小領域に対応付けられた微分情報が格納される。微分情報格納部１２には、例えば、１または２以上の各第一小領域に対応付けられた微分情報が格納される。

【0046】

微分情報格納部１２には、１以上の各図形情報ごとに、微分情報集合が格納される。微分情報格納部１２の微分情報集合には、例えば、図形識別子が対応付いている。

【0047】

微分情報集合は、１または２以上の微分情報の集合である。微分情報集合の各微分情報は、第一小領域に対応している。微分情報集合の各微分情報は、例えば、第一小領域識別子に対応付いている。微分情報集合の各微分情報は、例えば、第一小領域の領域情報に対応付いている。

【0048】

微分情報は、バイアスの単位量に対する面積の変動を特定する情報である。単位量は、例えば、１ｎｍであるが、問わない。なお、バイアスとは、描画中まだは描画後の現像、エッチングなどの製造プロセスによって設計通りにパターンが形成されない際に、それを補正するために元の図形を構成する輪郭の一部または全部を移動させることを指す。

【0049】

微分情報格納部１２の１以上の微分情報は、第二前処理部３２が取得した情報であることは好適である。微分情報格納部１２の１以上の微分情報は、描画の開始指示の受け付けの前に、前処理として行われた第二前処理部３２の処理により、微分情報格納部１２に蓄積された情報であることは好適である。

【0050】

受付部２は、各種の情報や指示を受け付ける。各種の情報や指示は、例えば、後述する図形情報、後述するバイアス量、前処理指示、開始指示である。

【0051】

前処理指示とは、１以上の図形情報に対して前処理を行うことの指示である。前処理とは、描画の開始指示の受け付けの前に行う処理である。前処理は、例えば、第一前処理部３１が行う密度集合の取得処理である。前処理は、例えば、第二前処理部３２が行う微分情報の取得処理である。

【0052】

開始指示とは、図形の描画の開始の指示である。開始指示は、１以上の図形情報を含むことは好適である。

【0053】

ここで受け付けとは、例えば、図示しない処理手段が取得した情報を、当該処理手段から取得することである。また、受け付けとは、有線もしくは無線の通信回線を介して送信された情報の受信、光ディスクや磁気ディスク、半導体メモリなどの記録媒体から読み出された情報の受け付け、キーボードやマウス、タッチパネルなどの入力デバイスから入力された情報の受け付けなどを含む概念であっても良い。つまり、受け付けられる情報や指示が、どのような手段により受け付けられるかは問わない。

【0054】

図形情報受付部２１は、１以上の図形情報を受け付ける。図形情報受付部２１は、受付部２が受け付けた開始指示が有する１以上の図形情報を取得しても良い。図形情報受付部２１は、１以上の図形情報を格納部１から取得しても良い。

【0055】

バイアス量受付部２２は、バイアス量を受け付ける。バイアス量受付部２２は、例えば、ユーザからバイアス量を受け付けても良い。ただし、バイアス量を受け付ける方法は問わない。

【0056】

また、バイアス量受付部２２は、図形情報ごとに、異なるバイアス量を受け付けても良い。また、バイアス量受付部２２は、図形情報が有する１または２以上の各図形ごとに、異なるバイアス量を受け付けても良い。また、バイアス量受付部２２は、図形を構成する各部品（例えば、線分）によって、異なるバイアス量を受け付けても良い。さらに、バイアス量受付部２２は、図形を構成する各部品（例えば、線分）の部分によって、異なるバイアス量を受け付けても良い。

【0057】

処理部３は、各種の処理を行う。各種の処理は、例えば、第一前処理部３１、第二前処理部３２、密度集合取得部３３、補正量取得部３４、照射量取得部３５が行う処理である。
処理部３は、バイアス量受付部２２が受け付けたバイアス量に応じて、図形情報を変更する。かかる処理をバイアス処理と言う。

【0058】

第一前処理部３１は、図形情報が特定する領域である図形領域を含む領域を分割した２以上の各第一小領域ごとに、密度情報を取得する。そして、第一前処理部３１は、２以上の各第一小領域ごとの密度情報の集合である密度集合を取得し、当該密度集合を密度集合格納部１１に蓄積する。なお、第一小領域のサイズは問わない。

【0059】

第一前処理部３１は、図形情報受付部２１が受け付け得る１または２以上の各図形情報に対して、密度集合を取得し、当該密度集合を、図形情報に対応付けて密度集合格納部１１に蓄積しておくことは好適である。つまり、描画部３６が処理を行う前に、第一前処理部３１が動作し、１以上の各図形情報に対応付けて、密度集合を密度集合格納部１１に蓄積しておくことは好適である。かかる前処理により、図形情報受付部２１が図形情報を受け付けてから描画部３６が処理を行うまでの処理時間が短縮される。

【0060】

第一前処理部３１は、例えば、各図形情報の第一小領域ごとに、当該第一小領域の中に含まれる図形情報の面積を、図形情報から取得する。そして、第一前処理部３１は、例えば、当該面積をパラメータとする増加関数により、当該第一小領域の密度情報を取得する。なお、第一前処理部３１は、例えば、第一小領域全体の面積を取得し、当該全体の面積に対する図形情報の面積との割合である密度情報を取得する。第一前処理部３１は、例えば、演算式「密度情報＝第一小領域の中の図形の面積／第一小領域全体の面積」により、密度情報を取得する。第一前処理部３１は、第一小領域の中の図形の面積そのものを密度情報として取得しても良い。

【0061】

なお、第一小領域の中に２以上の図形が存在する場合、第一前処理部３１は、当該複数の図形の各々の第一小領域の中の面積を取得し、当該２以上の面積の和を取得する。そして、第一前処理部３１は、２以上の面積の和をパラメータとする増加関数により、当該第一小領域の密度情報を取得する。第一前処理部３１は、例えば、演算式「密度情報＝２以上の面積の和／第一小領域全体の面積」により、密度情報を取得する。第一前処理部３１は、２以上の面積の和を密度情報として取得しても良い。

【0062】

第二前処理部３２は、１以上の各図形情報ごとに、２以上の各第一小領域に対応付けられた微分情報を算出し、微分情報格納部１２に蓄積する。なお、微分情報とは、第一小領域において、バイアスの単位量に対する面積の変動を特定する情報である。

【0063】

第二前処理部３２は、例えば、図形識別子および第一小領域識別子に対応付けて、算出した微分情報を蓄積する。

【0064】

第二前処理部３２は、例えば、１以上の各図形情報ごと、および２以上の各第一小領域ごとに、合致するバイアス条件に対応する微分情報算出式を格納部１から取得し、当該微分情報算出式を用いて、微分情報を算出し、微分情報格納部１２に蓄積する。

【0065】

以下、第二前処理部３２が微分情報を算出する４つの場合について、各場合の微分情報算出式の例を用いて説明する。４つの場合とは、（１）第一小領域の中に水平線を含む場合
（２）第一小領域の中に垂直線を含む場合（３）第一小領域の中に斜線を含む場合（４）第一小領域の中に角部を含む場合である。
（１）第一小領域の中に水平線を含む場合

【0066】

第二前処理部３２は、１以上の各図形情報ごとに、２以上の各第一小領域ごとに、第一小領域の中の図形の水平線の長さ（Ｌ_１）を、第一小領域の領域情報と図形情報とを用いて算出する。次に、第二前処理部３２は、１以上の各図形情報ごとに、２以上の各第一小領域ごとに、格納部１の定数（α_１）を読み出し、以下の数式１にα_１とＬ_１とを代入し、当該数式１を実行し、微分情報を得る。次に、第二前処理部３２は、１以上の各図形情報ごとに、２以上の各第一小領域ごとに、図形識別子と第一小領域識別子に対応付けて、微分情報を微分情報格納部１２に蓄積する。

【0067】

【数1】

【0068】

なお、数式１において、α_１は定数，Ｌ_１は第一小領域の水平線の長さである。

【0069】

また、（１）の場合の微分情報算出式は、数式１に限らない。（１）の場合の微分情報算出式は、水平線の長さ（Ｌ_１）をパラメータとする増加関数であれば良い。

【0070】

また、一の第一小領域に、水平線が複数存在する場合、第二前処理部３２は、各水平線ごとに、微分情報を算出し、当該水平線ごとの微分情報の和を算出する。かかる和が、一の第一小領域の微分情報である。
（２）第一小領域の中に垂直線を含む場合

【0071】

第二前処理部３２は、１以上の各図形情報ごとに、２以上の各第一小領域ごとに、第一小領域の中の図形の垂直線の長さ（Ｌ_２）を、第一小領域の領域情報と図形情報とを用いて算出する。次に、第二前処理部３２は、１以上の各図形情報ごとに、２以上の各第一小領域ごとに、格納部１の定数（α_２）を読み出し、以下の数式２にα_２とＬ_２とを代入し、当該数式１を実行し、微分情報を得る。次に、第二前処理部３２は、１以上の各図形情報ごとに、２以上の各第一小領域ごとに、図形識別子と第一小領域識別子に対応付けて、微分情報を微分情報格納部１２に蓄積する。

【0072】

【数2】

【0073】

なお、数式２において、α_２は定数，Ｌ_２は第一小領域の垂直線の長さである。

【0074】

また、（２）の場合の微分情報算出式は、数式２に限らない。（２）の場合の微分情報算出式は、垂直線の長さ（Ｌ_２）をパラメータとする増加関数であれば良い。

【0075】

また、一の第一小領域に、垂直線が複数存在する場合、第二前処理部３２は、各垂直線ごとに、微分情報を算出し、当該垂直線ごとの微分情報の和を算出する。かかる和が、一の第一小領域の微分情報である。
（３）第一小領域の中に斜線をｎ個含む場合

【0076】

第二前処理部３２は、１以上の各図形情報ごと、および２以上の各第一小領域ごとに、第一小領域の中の各斜線の長さ（Ｌ_ｉ）を、第一小領域の領域情報と図形情報とを用いて算出する。次に、第二前処理部３２は、１以上の各図形情報ごと、および２以上の各第一小領域ごとに、各斜線の法線の角度（α_ｉ）を取得する。次に、第二前処理部３２は、以下の数式３に、斜線ごとのＬ_ｉとα_ｉとを代入し、当該数式３を実行し、微分情報を得る。次に、第二前処理部３２は、１以上の各図形情報ごと、および２以上の各第一小領域ごとに、微分情報を微分情報格納部１２に蓄積する。第二前処理部３２は、例えば、図形識別子と第一小領域識別子に対応付けて、微分情報を微分情報格納部１２に蓄積する。

【0077】

【数3】

【0078】

なお、数式３において、Ｄ_ｘは、Ｘ成分の面積増加量の情報である。Ｄ_ｙは、Ｙ成分の面積増加量の情報である。Ｌ_ｉは、斜線の長さである。α_ｉは、斜線の法線の角度である。

【0079】

また、（３）の場合の微分情報算出式は、数式３に限らない。（３）の場合の微分情報算出式は、斜線の長さ（Ｌ_ｉ）をパラメータとする増加関数であれば良い。

【0080】

また、上記の数式３の導出過程を、以下に説明する。

【0081】

異方性のサイジングが必要なケースでも、通常、バイアス量は連続した変化になる。つまり、似た角度の線分は似たバイアス量を適用したい場合が殆どである。そのため、線分の角度に対応したバイアス量を、図２に示すように、楕円によって定義する。Ｘ方向(水平線)、Ｙ方向(垂直線) のバイアス量(Ｂ_ｘ，Ｂ_ｙ)を与える、とする。すると、バイアス量（ＢＩＡＳ）は、数式４により算出される。なお、αは、斜線２０１に対する法線の角度である（図２参照）。

【0082】

【数4】

【0083】

数式４によれば、バイアスベクトルの向きは法線方向からずれることになる。しかし、実際のバイアス方向を法線方向にすると、以下のように面積の変動をＸ成分とＹ成分に分解することができる（数式５参照）。これはユーザがＢ_ｘ，Ｂ_ｙのみを指定する方法にマッチする。

【0084】

【数5】

【0085】

なお、数式５において、ΔＡｒｅａ_ｘは、面積変動のＸ成分である。ΔＡｒｅａ_ｙは、面積変動のＹ成分である。Ｌ_edgeは、図３の３０１の斜線の長さである。図３のθは、斜線の水平線に対する角度である。

【0086】

以上より、楕円式によって与えられるバイアスベクトルを法線方向に射影したものをバイアスベクトルとすると、バイアス量は以下の数式６になる。

【0087】

【数6】

【0088】

このとき長さＬの直線がもたらす面積変動は以下の数式７で表現できる。

【0089】

【数7】

【0090】

ここで、Ｌ、αは、線分固有のデータなので対象のi番目の斜線の線分の長さ、法線の角度をそれぞれＬ_i, α_iとすると、線分群に対する面積変動は以下の数式８で表せる（図４参照）。なお、図４において、Ｂ_ｘ＝Ａ，Ｂ_ｙ＝１である。

【0091】

【数8】

【0092】

従って、線分群に対する合計の面積変動の微分値（微分情報）を上記の数式３のように定義できる。
（４）第一小領域の中にＮ個の角部を含む場合

【0093】

第二前処理部３２は、１以上の各図形情報ごと、２以上の各第一小領域ごと、および角部ごとに、数式９に使用されている全てのパラメータを取得する。次に、第二前処理部３２は、１以上の各図形情報ごと、２以上の各第一小領域ごと、および角部ごとに、数式９に全てのパラメータを代入し、当該数式９を実行し、微分情報を得る。次に、第二前処理部３２は、１以上の各図形情報ごと、２以上の各第一小領域ごと、および角部ごとに、微分情報を算出し、当該微分情報を微分情報格納部１２に蓄積する。

【0094】

なお、第二前処理部３２は、例えば、１以上の各図形情報ごと、２以上の各第一小領域ごとに、算出した１以上の微分情報の和を算出し、当該１以上の微分情報の和を、図形識別子と第一小領域識別子に対応付けて、微分情報格納部１２に蓄積する。かかる和が、１以上の各図形情報ごと、２以上の各第一小領域ごと、および角部ごとの微分情報である。

【0095】

【数9】

【0096】

なお、数式９の右辺の第１項は、三角形Ｔ２１の面積である。第２項は、平行四辺形Ｐの面積である。第３項は、三角形Ｔ１２の面積である。また、数式９の・・・

【0097】

また、上記の数式９の導出過程を、以下に説明する。

【0098】

ここでは、図５に示すような二本の単位ベクトルで表される線分Ｌ_１,Ｌ_２で構成される角に、Ｌ_１,Ｌ_２にそれぞれバイアスベクトルＢ_１，Ｂ_２で表されるバイアスを適用した結果の角の部分の図形(網掛け部，図５の５０１、５０２、５０３)を考える。

【0099】

また、Ｕ_１は、Ｌ_１による頂点から、Ｌ_１ベクトルの向きでＬ_２’までのベクトルを表す。また、Ｕ_２はＬ_２による頂点から、Ｌ_２ベクトルの向きにＬ_１’までのベクトルを表す。

【0100】

ここでＬ_１とＢ_２がなす角度をθ_１２ とすると、Ｕ_１は以下の数式１０のように表される (Ｌ_１は単位ベクトル) 。

【0101】

【数10】

【0102】

同様に、Ｕ_２は以下の数式１１のように表される (Ｌ_２は単位ベクトル) 。

【0103】

【数11】

【0104】

Ｕ_１,Ｕ_２が確定したので、角部分の面積の増加分をＵ_１,Ｕ_２で構成される平行四辺形Ｐと、Ｕ_１,Ｂ_２で構成される三角形Ｔ１２と、Ｕ_２, Ｂ_１で構成される三角形Ｔ２１に分けて算出する（図６参照）。

【0105】

ＰはＵ_１,Ｕ_２を使用して、以下の数式１２により算出される。

【0106】

【数12】

【0107】

Ｔ１２、Ｔ２１も、各々、外積を利用して、数式１３、数式１４により算出される。

【0108】

【数13】

【0109】

【数14】

【0110】

ここでバイアスＢ１，Ｂ２に依存しない成分をそれぞれ、数式１５のように置くと、角の部分の面積は以下の数式１６のようになる。

【0111】

【数15】

【0112】

【数16】

【0113】

ここでバイアスベクトルの大きさＢ_１，Ｂ_２は、Ｌ_１,Ｌ_２の法線方向の角度をΦ_１, Φ_２としたとき、数式１７のようになる。

【0114】

【数17】

【0115】

数式１７を変形すると、数式１８となる。

【0116】

【数18】

【0117】

【数19】

【0118】

ここで、数式１９のように、ｄ_ｘｘ,ｄ_ｙｙ,ｄ_ｘｙを定義すると、角部の面積は以下の数式２０のようになる。

【0119】

【数20】

【0120】

数式２０において、ｄ_ｘｘ,ｄ_ｙｙ,ｄ_ｘｙはバイアスに依存しない、図形情報のみから計算できる情報なため、頂点をＮ個含むある図形群全体の角部の面積の合計は、上述した数式９となる。

【0121】

一の第一小領域に、複数の種類の図形が含まれる場合、第二前処理部３２は、図形の種類ごとの微分情報を算出し、当該種類ごとの微分情報の和を算出する。そして、第二前処理部３２は、かかる微分情報の和を、当該一の第一小領域の微分情報として、微分情報格納部１２に蓄積する。
なお、第二前処理部３２は、上記した方法に限らない。

【0122】

密度集合取得部３３は、例えば、図形情報受付部２１が受け付けた図形情報に対応する第一密度集合を密度集合格納部１１から取得する。密度集合取得部３３は、例えば、図形情報受付部２１が受け付けた２以上の各図形情報に対応する第一密度集合を密度集合格納部１１から取得する。なお、かかる密度集合を後述する第二密度集合としても良い。かかる場合、バイアス量を用いた補正を行わないこととなる。

【0123】

密度集合取得部３３は、例えば、図形情報受付部２１が受け付けた図形情報に対応する密度集合である第一密度集合を密度集合格納部１１から取得し、当該第一密度集合を用いて、第二密度集合を取得する。

【0124】

密度集合取得部３３を構成する密度集合読出手段３３１は、受付部２が受け付けた図形情報に対応する密度集合である第一密度集合を密度集合格納部１１から取得する。密度集合読出手段３３１は、受付部２が受け付けた２以上の各図形情報に対応する第一密度集合を密度集合格納部１１から取得する。

【0125】

面積変動情報取得手段３３２は、受付部２が受け付けた図形情報に対応する２以上の各第一小領域のうちで、バイアス条件に合致する第一小領域に対して、第一小領域の図形に基づく面積変動情報を取得する。なお、バイアス条件は、格納部１に格納されている。

【0126】

面積変動情報取得手段３３２は、例えば、バイアス条件に合致する第一小領域に対して、当該第一小領域に対応付けられた微分情報とバイアス量受付部２２が受け付けたバイアス量とを用いて、面積変動情報を取得する。面積変動情報取得手段３３２は、例えば、バイアス条件に合致する第一小領域に対して、当該第一小領域に対応付けられた微分情報を微分情報格納部１２から取得し、当該微分情報とバイアス量受付部２２が受け付けたバイアス量との積である面積変動情報を算出する。

【0127】

面積変動情報取得手段３３２は、例えば、第一小領域の中の図形の水平線または垂直線に対して、バイアス量に比例する大きさの面積変動情報を取得する。

【0128】

面積変動情報取得手段３３２は、バイアス量と斜線の角度に関する角度情報と斜線の第一小領域内の長さに関する長さ情報とを取得し、バイアス量と角度情報と長さ情報とを用いて、Ｘ成分の面積変動情報であるＸ面積変動情報とＹ成分の面積変動情報であるＹ面積変動情報とを算出し、Ｘ面積変動情報とＹ面積変動情報とを用いて面積変動情報を算出する。面積変動情報取得手段３３２は、例えば、Ｘ面積変動情報とＹ面積変動情報とをパラメータとする増加関数により、面積変動情報を算出する。なお、増加関数は、例えば、和である。

【0129】

面積変動情報取得手段３３２は、２つの直線をバイアス量に対応する長さ分を延ばして作成される平行四辺形と２つの三角形の面積を算出し、３つの面積を用いて面積変動情報を算出する。面積変動情報取得手段３３２は、３つの各面積をパラメータとする増加関数により、面積変動情報を算出する。なお、増加関数は、例えば、和である。

【0130】

密度集合取得手段３３３は、密度集合読出手段３３１が取得した第一密度集合と、面積変動情報取得手段３３２が取得した１以上の第一小領域の面積変動情報とを用いて、１以上の各図形情報に対応する第二密度集合を取得する。

【0131】

密度集合取得手段３３３は、例えば、１以上の各図形情報ごと、および２以上の各小領域ごとに、第一密度情報と面積変動情報とを取得し、図形情報ごとおよび小領域ごとに、第一密度集合と面積変動情報とをパラメータとする増加関数により第二密度情報を取得する。そして、密度集合取得手段３３３は、例えば、各図形情報ごとに、２以上の各小領域に対応する第二密度情報の集合である第二密度集合を取得する。なお、増加関数は、例えば、和である。

【0132】

補正量取得部３４は、１または２以上の各図形情報ごとの１以上の第一密度集合に応じた補正量であり、２以上の各第二小領域の補正量を取得する。２以上の各第二小領域の補正量の集合を補正量集合、または補正マップと言う。補正量取得部３４は、２以上の補正マップを取得しても良い。補正量取得部３４は、例えば、２以上の各補正の種類ごとに補正マップを取得しても良い。補正の種類とは、例えば、・・・・

【0133】

補正量取得部３４は、例えば、１または２以上の第二密度集合を用いて、２以上の各第二小領域の補正量を取得する。なお、各第二小領域は、いずれかの第一小領域と同じでも良いし、２以上の第一小領域を含んでいても良いし、いずれかの第一小領域の一部でも良いし、２以上の第一小領域の一部等でも良い。つまり、第二小領域と第一小領域との関係は問わない。第二小領域は、第一小領域とは異なる大きさの領域でも良い。

【0134】

補正量取得部３４は、２以上の各図形情報の密度集合を用いて、２以上の各第二小領域の補正量を取得しても良い。なお、ここでの密度集合は、第一密度集合でも、第二密度集合でも良い。

【0135】

補正量取得部３４は、例えば、第二小領域ごとに、当該第二小領域に対応する１以上の第一小領域の第一密度情報をパラメータとする増加関数により補正量を算出する。なお、増加関数は、例えば、加算である。なお、第二小領域に対応する第一小領域とは、第二小領域の範囲に一部でも含まれる第一小領域である。

【0136】

補正量取得部３４は、密度集合取得手段３３３が取得した１以上の第二密度集合を用いて、２以上の各第二小領域の補正量を取得することは好適である。

【0137】

補正量取得部３４は、例えば、第二小領域ごとに、当該第二小領域に対応する１以上の第一小領域の第二密度情報をパラメータとする増加関数により補正量を算出する。なお、増加関数は、例えば、加算である。

【0138】

補正量取得部３４は、第一密度集合または第二密度集合以外の情報をも用いて、第二小領域の補正量を取得しても良い。例えば、補正量取得部３４は、事前に計算された図形の位置や図形の種別や図形の大きさごとの補正量のテーブルや、ビームの照射量や、現像やエッチングのような密度に依存して発生する現象ではガウシアンカーネルなどの現象を表現するモデルのパラメータと、第二密度集合や描画ビームのクーロン散乱や試料中での散乱などのプロセスの特性情報とを組み合わせて用いることにより補正量を算出する。
例えば、補正量取得部３４は、取得されたバイアス量を用いて、補正量を取得することは好適である。なお、バイアス量は、例えば、予め格納部１に格納されていても良いし、受付部２が受け付けても良い。

【0139】

照射量取得部３５は、補正量取得部３４が取得した２以上の各第二小領域の補正量に応じた強さの電子ビームの照射量を、２以上の第二小領域ごとに取得する。

【0140】

照射量取得部３５は、例えば、補正量取得部３４が取得した２以上の各第二小領域の補正量をパラメータとする増加関数により、第二小領域ごとの照射量を算出する。

【0141】

照射量取得部３５は、各第二小領域の補正量以外の情報を用いて、照射量を決定しても良い。例えば、照射量取得部３５は、第二小領域と同等か、より小さい影響範囲の現象の補正量や図形ごとに事前に割り当てられた補正量と第二小領域の補正量とを組み合わせて照射量を決定してもよい。この現象は例えば電子ビームの照射による近接効果である。

【0142】

描画部３６は、照射量取得部３５が取得した２以上の第二小領域ごとの照射量に従って、２以上の各第二小領域に電子ビームを照射する。なお、第二小領域ごとの照射量は、照射量取得部３５が取得した照射量である。また、描画の対象は、例えば、フォトマスクや、ウェハーなどである。また、描画部３６は、通常、電界放出型、ショットキー型、熱電子型などの電子銃や、電子レンズ、高さ検出器などから実現され得る。また、描画部３６が発する電子線の断面の形状は、例えば、矩形や円である。描画部３６は、複数のビームを同時に使用して、図形を描画しても良い。
なお、描画部３６は、図形情報受付部２１が受け付けた１以上の図形情報に対して、バイアス処理を適用し、バイアス済みの図形の情報を得ることは好適である。そして、照射量取得部３５は、バイアス済みの図形の情報と、補正量取得部３４が取得した２以上の各第二小領域の補正量とを用いて、２以上の各第二小領域の電子ビームの照射量を取得する。具体的には、主に、電子ビームのより狭い範囲での散乱を考慮した補正が行われる。第二小領域の密度情報を使って計算されるのは、通常、影響範囲がｍｍオーダーのものであるが、描画中にリアルタイムに計算するのは、影響範囲が数十μｍや数百ｎｍ(場合によっては、１０ｎｍ程度)の影響範囲である。照射量取得部３５は、この現象に対応する予め格納されている演算式に第二小領域の「補正量」を入力し、当該演算式を実行することにより照射量を取得する。次に、描画部３６は、照射量取得部３５が取得した２以上の第二小領域ごとの照射量に従って、２以上の各第二小領域に電子ビームを照射して、図形の描画を行う。

【0143】

出力部４は、各種の情報を出力する。各種の情報は、例えば、図形の描画が完了した旨の情報である。ここで、出力とは、ディスプレイへの表示、プロジェクターを用いた投影、プリンタでの印字、音出力、外部の装置への送信、記録媒体への蓄積、他の処理装置や他のプログラムなどへの処理結果の引渡しなどを含む概念である。

【0144】

格納部１、密度集合格納部１１、微分情報格納部１２は、不揮発性の記録媒体が好適であるが、揮発性の記録媒体でも実現可能である。

【0145】

格納部１等に情報が記憶される過程は問わない。例えば、記録媒体を介して情報が格納部１等で記憶されるようになってもよく、通信回線等を介して送信された情報が格納部１等で記憶されるようになってもよく、あるいは、入力デバイスを介して入力された情報が格納部１等で記憶されるようになってもよい。

【0146】

受付部２、図形情報受付部２１は、タッチパネルやキーボード等の入力手段のデバイスドライバーや、メニュー画面の制御ソフトウェア等で実現され得る。

【0147】

バイアス量受付部２２、処理部３、第一前処理部３１、第二前処理部３２、密度集合取得部３３、補正量取得部３４、照射量取得部３５、密度集合読出手段３３１、面積変動情報取得手段３３２、密度集合取得手段３３３は、通常、プロセッサやメモリ等から実現され得る。処理部３等の処理手順は、通常、ソフトウェアで実現され、当該ソフトウェアはＲＯＭ等の記録媒体に記録されている。但し、ハードウェア（専用回路）で実現しても良い。なお、プロセッサは、例えば、ＣＰＵ、ＭＰＵ、ＧＰＵ等であり、その種類は問わない。

【0148】

出力部４は、ディスプレイやスピーカー等の出力デバイスを含むと考えても含まないと考えても良い。出力部４は、出力デバイスのドライバーソフトまたは、出力デバイスのドライバーソフトと出力デバイス等で実現され得る。

【0149】

描画部３６の処理手順は、通常、ソフトウェアで実現され、当該ソフトウェアはＲＯＭ等の記録媒体に記録されている。

【0150】

次に、電子ビーム描画装置Ａの動作例について、図７のフローチャートを用いて説明する。

【0151】

（ステップＳ７０１）受付部２は、前処理指示を受け付けたか否かを判断する。前処理指示を受け付けた場合はステップＳ７０２に行き、前処理指示を受け付けなかった場合はステップＳ７１６に行く。

【0152】

（ステップＳ７０２）処理部３は、カウンタｉに１を代入する。

【0153】

（ステップＳ７０３）第一前処理部３１は、前処理対象のｉ番目の図形情報が存在するか否かを判断する。ｉ番目の図形情報が存在する場合はステップＳ７０４に行き、ｉ番目の図形情報が存在しない場合はステップＳ７０１に戻る。なお、前処理対象の図形情報は、例えば、図形識別子に対応付けられて、格納部１に格納されている。

【0154】

（ステップＳ７０４）第一前処理部３１は、ｉ番目の図形情報と図形識別子とを、例えば、格納部１から取得する。

【0155】

（ステップＳ７０５）第一前処理部３１は、ｉ番目の図形情報が含まれる領域を２以上の小領域に分割する。なお、各小領域を第一小領域と言う。また、２以上の小領域に分割する処理とは、領域識別子と対にして、２以上の各第一小領域の領域情報を取得する処理である。なお、領域識別子とは、領域（ここでは、第一小領域）を識別する情報であり、例えば、ＩＤである。領域情報は、例えば、矩形の領域を特定する情報であり、例えば、２つの座標情報（例えば、（ｘ_１，ｙ_１）（ｘ_２，ｙ_２））である。２つの座標情報は、例えば、矩形の左上座標、右下座標である。ただし、領域情報は、例えば、矩形の左上座標と幅と高さの情報等でも良く、構造は問わない。

【0156】

（ステップＳ７０６）第一前処理部３１は、カウンタｊに１を代入する。

【0157】

（ステップＳ７０７）第一前処理部３１は、ｉ番目の図形情報の中に、ｊ番目の第一小領域が存在するか否かを判断する。ｊ番目の第一小領域が存在する場合はステップＳ７０８に行き、ｊ番目の第一小領域が存在しない場合はステップＳ７１５に行く。

【0158】

（ステップＳ７０８）第一前処理部３１は、ｉ番目の図形情報の中のｊ番目の第一小領域の識別子である第一小領域識別子を取得する。

【0159】

（ステップＳ７０９）第一前処理部３１は、ｉ番目の図形情報の中のｊ番目の第一小領域の領域情報を取得する。

【0160】

（ステップＳ７１０）第一前処理部３１は、ｉ番目の図形情報の中のｊ番目の第一小領域の第一密度情報を取得する。かかる密度情報取得処理の例について、図８のフローチャートを用いて説明する。

【0161】

（ステップＳ７１１）第一前処理部３１は、ｉ番目の図形情報の図形識別子とｊ番目の第一小領域の第一小領域識別子とに対応付けて、ステップＳ７１０で取得した密度情報を蓄積する。なお、密度情報の蓄積先は、格納部１でも良いし、図示しない外部の装置等でも良い。

【0162】

（ステップＳ７１２）第二前処理部３２は、微分情報を取得する。かかる微分情報取得処理の例について、図９のフローチャートを用いて説明する。

【0163】

（ステップＳ７１３）第二前処理部３２は、ｉ番目の図形情報の図形識別子とｊ番目の第一小領域の第一小領域識別子とに対応付けて、ステップＳ７１２で取得した微分情報を蓄積する。なお、微分情報の蓄積先は、格納部１でも良いし、図示しない外部の装置等でも良い。

【0164】

（ステップＳ７１４）第一前処理部３１は、カウンタｊを１、インクリメントする。ステップＳ７０７に戻る。

【0165】

（ステップＳ７１５）処理部３は、カウンタｉを１、インクリメントする。ステップＳ７０３に戻る。

【0166】

（ステップＳ７１６）受付部２は、開始指示を受け付けたか否かを判断する。開始指示を受け付けた場合はステップＳ７１７に行き、開始指示を受け付けなかった場合はステップＳ７０１に戻る。

【0167】

（ステップＳ７１７）処理部３は、カウンタｉに１を代入する。

【0168】

（ステップＳ７１８）密度集合取得部３３は、描画処理対象のｉ番目の図形情報が存在するか否かを判断する。ｉ番目の図形情報が存在する場合はステップＳ７０４に行き、ｉ番目の図形情報が存在しない場合はステップＳ７０１に戻る。なお、描画対象の図形情報は、例えば、図形識別子に対応付けられて、格納部１に格納されている。また、描画対象の図形情報は、例えば、開始指示が有する。

【0169】

（ステップＳ７１９）バイアス量受付部２２は、バイアス量を取得する。なお、ここでは、図形情報に応じて、バイアス量は異なっていても良い。また、バイアス量は、図形情報の中の図形に応じて、異なっていても良い。

【0170】

（ステップＳ７２０）密度集合取得部３３は、第二密度集合を取得する。かかる密度集合取得処理の例について、図１０のフローチャートを用いて説明する。

【0171】

（ステップＳ７２１）処理部３は、カウンタｉを１、インクリメントする。ステップＳ７１８に戻る。

【0172】

（ステップＳ７２２）補正量取得部３４は、補正量集合を取得する。かかる補正量集合取得の例ついて、図１１のフローチャートを用いて説明する。

【0173】

（ステップＳ７２３）描画部３６は、ステップＳ７２２で取得された補正量集合を用いて、描画処理を行う。ステップＳ７０１に戻る。描画処理の例について、図１２のフローチャートを用いて説明する。

【0174】

なお、図７のフローチャートにおいて、電源オフや処理終了の割り込みにより処理は終了する。

【0175】

次に、ステップＳ７１０の密度情報取得処理の例について、図８のフローチャートを用いて説明する。

【0176】

（ステップＳ８０１）第一前処理部３１は、ｉ番目の図形情報の中のｊ番目の小領域の面積（例えば、第一面積と言う。）を取得する。なお、かかる面積は、例えば、格納部１に格納されている。また、かかる面積は、ｊ番目の小領域の領域情報から取得できる。

【0177】

（ステップＳ８０２）第一前処理部３１は、ｉ番目の図形情報の中のｊ番目の小領域の中の図形の占める面積（例えば、第二面積と言う。）を取得する。なお、第一前処理部３１は、通常、ｊ番目の小領域の領域情報と図形情報とを用いて、ｊ番目の小領域の中の図形の占める面積を算出する。かかる技術は公知技術である。

【0178】

（ステップＳ８０３）第一前処理部３１は、ステップＳ８０１で取得した第一面積と、ステップＳ８０２で取得した第二面積とを用いて、第一密度情報を算出する。上位処理にリターンする。

【0179】

なお、第一前処理部３１は、例えば、演算式「密度情報＝第二面積／第一面積」により、密度情報を算出する。また、第一前処理部３１は、第二面積を密度情報としても良い。密度情報は、ｊ番目の小領域の中に、図形がどの程度入っているかを特定する情報であれば良い。

【0180】

次に、ステップＳ７１２の微分情報取得処理の例について、図９のフローチャートを用いて説明する。

【0181】

（ステップＳ９０１）第二前処理部３２は、カウンタｉに１を代入する。

【0182】

（ステップＳ９０２）第二前処理部３２は、ｉ番目のバイアス条件が格納部１に存在するか否かを判断する。ｉ番目のバイアス条件が存在する場合はステップＳ９０３に行き、存在しない場合はステップＳ９１３に行く。

【0183】

（ステップＳ９０３）第二前処理部３２は、ｉ番目のバイアス条件を格納部１から取得する。

【0184】

（ステップＳ９０４）第二前処理部３２は、対象となる図形情報における、対象となる小領域内の図形情報を取得する。

【0185】

（ステップＳ９０５）第二前処理部３２は、小領域内の図形情報を用いて、ｉ番目のバイアス条件に合致する小領域内の図形を検知する。

【0186】

（ステップＳ９０６）第二前処理部３２は、ｉ番目のバイアス条件に対応する微分情報算出式を格納部１から取得する。

【0187】

（ステップＳ９０７）第二前処理部３２は、カウンタｊに１を代入する。

【0188】

（ステップＳ９０８）第二前処理部３２は、ステップＳ９０５で検知した図形の中で、ｊ番目の図形が存在するか否かを判断する。ｊ番目の図形が存在する場合はステップＳ９０９に行き、存在しない場合はステップＳ９１２に行く。

【0189】

（ステップＳ９０９）第二前処理部３２は、ステップＳ９０６で取得した微分情報算出式に代入する１以上のパラメータを、処理対象の小領域の図形情報のｊ番目の図形の情報を用いて取得する。なお、１以上のパラメータは、例えば、小領域内の斜線の長さ、小領域内の斜線の角度、小領域内の角部の角度である。

【0190】

（ステップＳ９１０）第二前処理部３２は、ステップＳ９０９で取得した１以上のパラメータをステップＳ９０６で取得した微分情報算出式に代入し、当該微分情報算出式を実行し、微分情報を取得し、図示しないバッファに蓄積する。

【0191】

（ステップＳ９１１）第二前処理部３２は、カウンタｊを１、インクリメントする。ステップＳ９０８に戻る。

【0192】

（ステップＳ９１２）第二前処理部３２は、カウンタｉを１、インクリメントする。ステップＳ９０２に戻る。

【0193】

（ステップＳ９１３）第二前処理部３２は、ステップＳ９１０でバッファに蓄積した微分情報の和を算出する。なお、かかる微分情報の和が、着目する第一小領域の微分情報である。また、ステップＳ９１０でバッファに蓄積した微分情報が存在しない場合は、微分情報は「０」である。

【0194】

次に、ステップＳ７２０の密度集合取得処理の例について、図１０のフローチャートを用いて説明する。

【0195】

（ステップＳ１００１）密度集合取得部３３は、カウンタｉに１を代入する。

【0196】

（ステップＳ１００２）密度集合読出手段３３１は、処理対象の図形情報の中に、ｉ番目の第一小領域が存在するか否かを判断する。ｉ番目の第一小領域が存在する場合はステップＳ１００３に行き、ｉ番目の第一小領域が存在しない場合は上位処理にリターンする。

【0197】

（ステップＳ１００３）密度集合読出手段３３１は、処理対象の図形情報の図形識別子およびｉ番目の第一小領域の第一小領域識別子と対になる第一密度情報を密度集合格納部１１から取得する。

【0198】

（ステップＳ１００４）面積変動情報取得手段３３２は、処理対象の図形情報の図形識別子およびｉ番目の第一小領域の第一小領域識別子と対になる微分情報を微分情報格納部１２から取得する。

【0199】

（ステップＳ１００５）面積変動情報取得手段３３２は、バイアス量受付部２２により取得されているバイアス量とステップＳ１００４で取得した微分情報とを用いて、面積変動情報を取得する。なお、面積変動情報取得手段３３２は、例えば、演算式「面積変動情報＝バイアス量×微分情報」により、面積変動情報を算出する。

【0200】

（ステップＳ１００６）密度集合取得部３３は、ステップＳ１００３で取得された第一密度情報とステップＳ１００５で取得された面積変動情報とを用いて、処理対象の図形情報のｉ番目の第一小領域の第二密度情報を取得する。なお、密度集合取得部３３は、例えば、演算式「第二密度情報＝第一密度情報＋面積変動情報」により、第二密度情報を算出する。

【0201】

（ステップＳ１００７）密度集合取得部３３は、処理対象の図形情報の図形識別子およびｉ番目の第一小領域の第一小領域識別子に対応付けて、ステップＳ１００６で取得した第二密度情報を蓄積する。なお、第二密度情報の蓄積先は、例えば、格納部１であるが、問わない。

【0202】

（ステップＳ１００８）密度集合取得部３３は、カウンタｉを１、インクリメントする。ステップＳ１００２に戻る。

【0203】

次に、ステップＳ７２２の補正量集合取得の例ついて、図１１のフローチャートを用いて説明する。

【0204】

（ステップＳ１１０１）補正量取得部３４は、カウンタｉに１を代入する。

【0205】

（ステップＳ１１０２）補正量取得部３４は、ｉ番目の第二小領域が存在するか否かを判断する。ｉ番目の第二小領域が存在する場合はステップＳ１１０３に行き、ｉ番目の第二小領域が存在しない場合は上位処理にリターンする。

【0206】

（ステップＳ１１０３）補正量取得部３４は、カウンタｊに１を代入する。

【0207】

（ステップＳ１１０４）補正量取得部３４は、描画対象のｊ番目の図形情報が存在するか否かを判断する。ｊ番目の図形情報が存在する場合はステップＳ１１０５に行き、ｊ番目の図形情報が存在しない場合はステップＳ１１１３に行く。

【0208】

（ステップＳ１１０５）補正量取得部３４は、カウンタｋ１を代入する。

【0209】

（ステップＳ１１０６）補正量取得部３４は、ｉ番目の第二小領域に対応するｋ番目の第一領域が存在するか否かを判断する。ｋ番目の第一領域が存在する場合はステップＳ１１０７に行き、ｋ番目の第一領域が存在しない場合はステップＳ１１１１に行く。

【0210】

（ステップＳ１１０７）補正量取得部３４は、ｋ番目の第一領域の第二密度情報を取得する。

【0211】

（ステップＳ１１０８）補正量取得部３４は、ｉ番目の第二小領域内に含まれるｋ番目の第一領域の割合を取得する。

【0212】

（ステップＳ１１０９）補正量取得部３４は、ステップＳ１１０７で取得した第二密度情報とステップＳ１１０８で取得した割合とを用いて、寄与度を算出する。なお、寄与度とは、ｉ番目の第二小領域におけるｋ番目の第一領域の補正量の寄与の度合いを示す情報である。補正量取得部３４は、例えば、演算式「寄与度＝第二密度情報×割合」により、寄与度を算出する。

【0213】

（ステップＳ１１１０）補正量取得部３４は、カウンタｋを１、インクリメントする。ステップＳ１１０６に戻る。

【0214】

（ステップＳ１１１１）補正量取得部３４は、ステップＳ１１０９で算出した１以上の寄与度を用いて、ｉ番目の第二小領域におけるｊ番目の図形の補正量元情報を算出する。なお、補正量元情報は、１以上の各寄与度をパラメータとする増加関数により算出される。補正量元情報は、例えば、１以上の寄与度の和である。

【0215】

（ステップＳ１１１２）補正量取得部３４は、カウンタｊを１、インクリメントする。ステップＳ１１０４に戻る。

【0216】

（ステップＳ１１１３）補正量取得部３４は、ステップＳ１１１１で算出した１以上の補正量元情報を用いて、ｉ番目の第二小領域の補正量を算出する。なお、補正量取得部３４は、１以上の各補正量元情報をパラメータとする増加関数により補正量を算出する。補正量取得部３４は、例えば、演算式「補正量＝１以上の補正量元情報の和」により、補正量を算出する。

【0217】

（ステップＳ１１１４）補正量取得部３４は、ステップＳ１１１３で算出した補正量を、ｉ番目の第二小領域の第二小領域識別子に対応付けて蓄積する。なお、補正量の蓄積先は、例えば、格納部１であるが、問わない。

【0218】

（ステップＳ１１１５）補正量取得部３４は、カウンタｉを１、インクリメントする。ステップＳ１１０２に戻る。

【0219】

次に、ステップＳ７２３の描画処理の例について、図１２のフローチャートを用いて説明する。

【0220】

（ステップＳ１２０１）描画部３６は、カウンタｉに１を代入する。

【0221】

（ステップＳ１２０２）描画部３６は、図形を描画するｉ番目の第二小領域が存在するか否かを判断する。ｉ番目の第二小領域が存在する場合はステップＳ１２０３に行き、ｉ番目の第二小領域が存在しない場合は上位処理にリターンする。

【0222】

（ステップＳ１２０３）描画部３６は、ｉ番目の第二小領域の第二小領域識別子と対になる補正量を取得する。なお、描画部３６は、例えば、ｉ番目の第二小領域の第二小領域識別子と対になる補正量を格納部１から読み出す。

【0223】

（ステップＳ１２０４）描画部３６は、ステップＳ１２０３で取得した補正量を用いて、照射量を算出する。なお、描画部３６は、例えば、補正量をパラメータとする増加関数により、照射量を算出する。

【0224】

（ステップＳ１２０５）描画部３６は、ステップＳ１２０４で算出した照射量に従って、ｉ番目の第二小領域に対して、電子ビームを照射する。

【0225】

（ステップＳ１２０６）描画部３６は、カウンタｉを１、インクリメントする。ステップＳ１２０２に戻る。

【0226】

以下、本実施の形態における電子ビーム描画装置Ａの具体的な動作例について説明する。以下、２つの具体例について説明する。

【0227】

（具体例１）
具体例１は、電子ビーム描画装置Ａの前処理の第一の例であり、密度集合（密度マップ）を取得する処理の例である。

【0228】

今、図１３（ａ）に示す３つの矩形の図形を特定する図形情報が、電子ビーム描画装置Ａの格納部１に格納されている、とする。図１３（ａ）の図形情報は、例えば、図形１３０１の図形情報（ｘ１，ｙ１）（ｘ２，ｙ２）、図形１３０２の図形情報（ｘ３，ｙ３）（ｘ４，ｙ４）、および図形１３０３の図形情報（ｘ５，ｙ５）（ｘ６，ｙ６）である、とする。

【0229】

そして、ユーザは、電子ビーム描画装置Ａに前処理指示を入力した、とする。次に、受付部２は、前処理指示を受け付ける。

【0230】

次に、第一前処理部３１は、図１３（ａ）の図形情報が含まれる領域を２以上の小領域に分割する（図１３（ｂ）参照）。なお、各小領域を第一小領域と言う。そして、第一前処理部３１は、図１３（ｂ）の各第一小領域の小領域情報（矩形の左上座標、右下座標）を得る、とする。なお、第一小領域の例は、図１３の１３０４、１３０５である。

【0231】

次に、第一前処理部３１は、各第一小領域の領域情報および図形情報を用いて、各第一小領域の中における図形が占める面積を算出する。また、第一前処理部３１は、各第一小領域の面積を第一小領域の領域情報から取得する。なお、第一前処理部３１は、格納部１から各第一小領域の面積を読み出しても良い。

【0232】

次に、第一前処理部３１は、各第一小領域の図形が占める面積と各第一小領域の面積とを用いて、各第一小領域の密度情報を算出する。第一前処理部３１は、例えば、演算式「密度情報＝第一小領域の図形が占める面積／第一小領域の面積」により、密度情報を算出する。

【0233】

そして、第一前処理部３１は、図形情報を特定する図形識別子と各第一小領域の第一小領域識別子とに対応付けて、第一密度情報を密度集合格納部１１に蓄積する。かかる第一密度情報の集合である第一密度マップの例は、図１４である。図１４において、「ＩＤ」「図形識別子」「第一小領域識別子」「第一小領域情報」「第一密度情報」を有するレコードを、多数有する。なお、図１４の第一密度マップを図的に示したものが、図１３（ｃ）である。

【0234】

なお、図１４の第一密度マップは、図７のフローチャートを用いて説明したように、図形を描画する際に作成される補正量集合（補正マップ）の作成に使用される。また、補正マップのイメージは、図１３（ｄ）である。さらに、図７のフローチャートを用いて説明したように、補正マップを用いて、各第二小領域の照射量が決定され、当該照射量に従って、電子ビームが照射される。

【0235】

以上、密度マップを事前に用意しておくことにより、電子ビームによる図形の描画が非常に速くなる。

【0236】

（具体例２）
具体例２は、電子ビーム描画装置Ａの前処理の第一の例であり、各第一小領域の微分情報を取得し、当該微分情報を用いて、密度集合（密度マップ）を取得する処理の例である。

【0237】

今、図１５（ａ）に示す３つの矩形の図形を有する図形情報が、電子ビーム描画装置Ａの格納部１に格納されている、とする。図１５（ａ）の図形情報は、例えば、図形１５０１の図形情報（ｘ１，ｙ１）（ｘ２，ｙ２）、図形１５０２の図形情報（ｘ３，ｙ３）（ｘ４，ｙ４）、および図形１５０３の図形情報（ｘ５，ｙ５）（ｘ６，ｙ６）である、とする。

【0238】

そして、ユーザは、電子ビーム描画装置Ａに前処理指示を入力した、とする。次に、受付部２は、前処理指示を受け付ける。

【0239】

次に、第一前処理部３１は、具体例１で述べた処理により、２以上の各第一小領域に対する第一密度情報を有する第一密度マップ１５０４取得する。

【0240】

次に、第二前処理部３２は、図９のフローチャートを用いて説明したように、２以上の各第一小領域の中の図形情報が合致するバイアス条件に対応する微分情報演算式を取得し、当該微分情報演算式に代入する１以上のパラメータを図形情報から取得し、１以上のパラメータを微分情報演算式に代入し、当該微分情報演算式を実行することにより、微分情報を算出する。そして、第二前処理部３２は、図形情報ごと、および第一小領域ごとの微分情報を微分情報格納部１２に蓄積する。

【0241】

かかる微分情報集合の例は、図１６に示す。図１６において、「ＩＤ」「図形識別子」「第一小領域識別子」「第一小領域情報」「微分情報」を有するレコードを、多数有する。なお、図１６の微分情報「ｄ_１」「ｄ_２」「ｄ_３」「ｄ_４」等は、数値である。

【0242】

なお、図１６の微分情報集合は、図７のフローチャートを用いて説明したように、図形を描画する際に作成される補正量集合（補正マップ）の作成に使用される。つまり、図１０のフローチャートを用いて説明したように、第一前処理部３１により作成された第一密度マップ１５０４と、第二前処理部３２が取得した第一小領域ごとの微分情報とを用いて（図１５（ｃ）参照）、図１５（ｄ）に示す第一小領域ごと第二密度情報を取得する。なお、２以上の第一小領域ごと第二密度情報の集合は、第二密度マップである。

【0243】

そして、図７のフローチャートを用いて説明したように、図１５（ｄ）に示す第一小領域ごと第二密度情報（第二密度マップ）を用いて、図形を描画する際に作成される補正量集合（補正マップ）が作成される。また、補正マップのイメージは、図１５（ｅ）である。さらに、図７のフローチャートを用いて説明したように、補正マップを用いて、各第二小領域の照射量が決定され、当該照射量に従って、電子ビームが照射される。

【0244】

以上、微分情報集合を事前に用意しておくことにより、電子ビームによる図形の描画が非常に速くなる。

【0245】

以上、本実施の形態によれば、電子ビームを用いて図形を描画する際の適切な照射量を高速に取得できる。

【0246】

なお、本実施の形態において、第一密度マップを作成する装置を電子ビーム描画装置とは異なる装置として構成しても良い。かかる場合の装置である密度集合の生産装置Ｂのブロック図を図１７に示す。

【0247】

密度集合の生産装置Ｂは、１以上の図形情報を受け付ける図形情報受付部２１と、図形情報が特定する領域である図形領域を分割した２以上の各第一小領域ごとに、２以上の各第一小領域の中に、図形情報が示す図形が含まれる面積に基づく第一密度情報を取得し、第一密度情報の集合である第一密度集合を、１以上の図形情報ごとに取得し、蓄積する第一前処理部３１とを具備する。

【0248】

また、本実施の形態において、微分情報集合を作成する装置を電子ビーム描画装置とは異なる装置として構成しても良い。かかる場合の装置である微分情報集合の生産装置Ｃのブロック図を図１８に示す。

【0249】

微分情報集合の生産装置Ｃは、１以上の図形情報を受け付ける図形情報受付部２１と、１以上の各図形情報ごと、および２以上の各第一小領域ごとに、バイアスの単位量に対する面積の変動を特定する微分情報を算出し、蓄積する第二前処理部３２を具備する。

【0250】

さらに、本実施の形態における処理は、ソフトウェアで実現しても良い。そして、このソフトウェアをソフトウェアダウンロード等により配布しても良い。また、このソフトウェアをＣＤ－ＲＯＭなどの記録媒体に記録して流布しても良い。なお、このことは、本明細書における他の実施の形態においても該当する。なお、本実施の形態における電子ビーム描画装置Ａを実現するソフトウェアは、以下のようなプログラムである。つまり、このプログラムは、図形情報が特定する図形領域を分割した２以上の各第一小領域の中に、前記図形情報が示す図形が含まれる面積に応じた第一密度情報の集合であり、前記２以上の各第一小領域ごとの第一密度情報の集合である第一密度集合が、１以上の各図形情報ごとに格納される密度集合格納部にアクセス可能なコンピュータを、１以上の図形情報を受け付ける図形情報受付部と、前記図形情報受付部が受け付けた１以上の各図形情報に対応する第一密度集合を前記密度集合格納部から取得する密度集合取得部と、前記１以上の各図形情報ごとの前記１以上の第一密度集合に応じた補正量であり、２以上の各第二小領域の補正量を取得する補正量取得部と、前記補正量取得部が取得した２以上の各第二小領域の補正量に応じた強さの電子ビームの照射量を、前記２以上の第二小領域ごとに取得する照射量取得部と、前記照射量取得部が取得した前記２以上の第二小領域ごとの照射量に従って、前記２以上の各第二小領域に電子ビームを照射する描画部として機能させるためのプログラムである。

【0251】

また、図１９は、本明細書で述べたプログラムを実行して、上述した種々の実施の形態の電子ビーム描画装置Ａを実現するコンピュータの外観を示す。上述の実施の形態は、コンピュータハードウェア及びその上で実行されるコンピュータプログラムで実現され得る。図１９は、このコンピュータシステム３００の概観図であり、図２０は、システム３００のブロック図である。

【0252】

図１９において、コンピュータシステム３００は、ＣＤ－ＲＯＭドライブを含むコンピュータ３０１と、キーボード３０２と、マウス３０３と、モニタ３０４とを含む。

【0253】

図２０において、コンピュータ３０１は、ＣＤ－ＲＯＭドライブ３０１２に加えて、ＭＰＵ３０１３と、ＣＤ－ＲＯＭドライブ３０１２等に接続されたバス３０１４と、ブートアッププログラム等のプログラムを記憶するためのＲＯＭ３０１５と、ＭＰＵ３０１３に接続され、アプリケーションプログラムの命令を一時的に記憶するとともに一時記憶空間を提供するためのＲＡＭ３０１６と、アプリケーションプログラム、システムプログラム、及びデータを記憶するためのハードディスク３０１７とを含む。ここでは、図示しないが、コンピュータ３０１は、さらに、ＬＡＮへの接続を提供するネットワークカードを含んでも良い。

【0254】

コンピュータシステム３００に、上述した実施の形態の電子ビーム描画装置Ａの機能を実行させるプログラムは、ＣＤ－ＲＯＭ３１０１に記憶されて、ＣＤ－ＲＯＭドライブ３０１２に挿入され、さらにハードディスク３０１７に転送されても良い。これに代えて、プログラムは、図示しないネットワークを介してコンピュータ３０１に送信され、ハードディスク３０１７に記憶されても良い。プログラムは実行の際にＲＡＭ３０１６にロードされる。プログラムは、ＣＤ－ＲＯＭ３１０１またはネットワークから直接、ロードされても良い。

【0255】

プログラムは、コンピュータ３０１に、上述した実施の形態の電子ビーム描画装置Ａの機能を実行させるオペレーティングシステム（ＯＳ）、またはサードパーティープログラム等は、必ずしも含まなくても良い。プログラムは、制御された態様で適切な機能（モジュール）を呼び出し、所望の結果が得られるようにする命令の部分のみを含んでいれば良い。コンピュータシステム３００がどのように動作するかは周知であり、詳細な説明は省略する。

【0256】

なお、上記プログラムにおいて、情報を送信するステップや、情報を受信するステップなどでは、ハードウェアによって行われる処理、例えば、送信ステップにおけるモデムやインターフェースカードなどで行われる処理（ハードウェアでしか行われない処理）は含まれない。

【0257】

また、上記プログラムを実行するコンピュータは、単数であってもよく、複数であってもよい。すなわち、集中処理を行ってもよく、あるいは分散処理を行ってもよい。

【0258】

また、上記各実施の形態において、一の装置に存在する２以上の通信手段は、物理的に一の媒体で実現されても良いことは言うまでもない。

【0259】

また、上記各実施の形態において、各処理は、単一の装置によって集中処理されることによって実現されてもよく、あるいは、複数の装置によって分散処理されることによって実現されてもよい。

【0260】

本発明は、以上の実施の形態に限定されることなく、種々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含されるものであることは言うまでもない。

【産業上の利用可能性】

【0261】

以上のように、本発明にかかる電子ビーム描画装置は、電子ビームを用いて図形を描画する際の適切な照射量を高速に取得できるという効果を有し、電子ビーム描画装置等として有用である。

【符号の説明】

【0262】

１ 格納部
１１ 密度集合格納部
２ 受付部
３ 処理部
４ 出力部
１１ 密度集合格納部
１２ 微分情報格納部
２１ 図形情報受付部
２２ バイアス量受付部
３１ 第一前処理部
３２ 第二前処理部
３３ 密度集合取得部
３４ 補正量取得部
３５ 照射量取得部
３６ 描画部
３３１ 密度集合読出手段
３３２ 面積変動情報取得手段

【要約】

【課題】従来、電子ビームを用いて図形を描画する際の適切な照射量を高速に取得できなかった。
【解決手段】図形情報が特定する図形領域を分割した２以上の各第一小領域の中に、図形が含まれる面積に応じた第一密度情報の集合が、１以上の各図形情報ごとに格納される密度集合格納部と、１以上の各図形情報に対応する第一密度集合を密度集合格納部から取得する密度集合取得部３３と、１以上の各図形情報ごとの１以上の第一密度集合に応じた補正量であり、２以上の各第二小領域の補正量を取得する補正量取得部と、当該２以上の各第二小領域の補正量に応じた強さの電子ビームの照射量を、２以上の第二小領域ごとに取得する照射量取得部と、当該２以上の第二小領域ごとの照射量に従って、２以上の各第二小領域に電子ビームを照射する描画部とを具備する電子ビーム描画装置により、電子ビームを用いて図形を描画する際の適切な照射量を高速に取得できる。
【選択図】図１

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】

【図17】

【図18】

【図19】

【図20】