(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2022-08-26
(45)【発行日】2022-09-05
(54)【発明の名称】防汚層付き光学フィルム
(51)【国際特許分類】
B32B 7/02 20190101AFI20220829BHJP
G02B 1/115 20150101ALI20220829BHJP
G02B 1/14 20150101ALI20220829BHJP
G02B 1/18 20150101ALI20220829BHJP
B32B 9/00 20060101ALI20220829BHJP
【ＦＩ】
B32B7/02
G02B1/115
G02B1/14
G02B1/18
B32B9/00 A
【請求項の数】
6
(21)【出願番号】P 2022536372
(86)(22)【出願日】2021-07-13
(86)【国際出願番号】 JP2021026246
(87)【国際公開番号】W WO2022014568
(87)【国際公開日】2022-01-20
【審査請求日】2022-06-22
(31)【優先権主張番号】P 2020120131
(32)【優先日】2020-07-13
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(31)【優先権主張番号】P 2020146144
(32)【優先日】2020-08-31
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(31)【優先権主張番号】P 2020166844
(32)【優先日】2020-10-01
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
【早期審査対象出願】
(73)【特許権者】
【識別番号】000003964
【氏名又は名称】日東電工株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100103517
【弁理士】
【氏名又は名称】岡本 寛之
(74)【代理人】
【識別番号】100149607
【弁理士】
【氏名又は名称】宇田 新一
(72)【発明者】
【氏名】宮本 幸大
(72)【発明者】
【氏名】梨木 智剛
【審査官】赤澤 高之
(56)【参考文献】
【文献】国際公開第２０１９／２０８７８６（ＷＯ，Ａ１）
【文献】国際公開第２００４／０８８３７０（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特開２０２０－５２２２１（ＪＰ，Ａ）
【文献】国際公開第２０１８／２０７８１１（ＷＯ，Ａ１）
【文献】国際公開第２０１９／１７７１２０（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特開２０１８－１７３５６４（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｂ３２Ｂ １／００－ ４３／００
Ｇ０２Ｂ １／００－ １／１８
Ｃ２３Ｃ １４／００－ １４／５８
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
基材層と、無機層からなる光学機能層と、防汚層とを厚み方向一方側に向かって順に備え、前記基材層が、基材と、ハードコート層とを厚み方向一方側に向かって順に備え、
前記防汚層の表面粗さＲａが、５．０１ｎｍ以下であり、
前記ハードコート層の厚み方向一方面の表面粗さＲａが、１．２ｎｍ以上５．０ｎｍ以下であり、
前記防汚層の厚み方向一方面の水接触角が、１１０°以上であり、
第１耐久性試験により求められる防汚層の水接触角が、８３°以上である、防汚層付き光学フィルム。
第１耐久性試験：防汚層について、以下の条件に基づき、第１消しゴム摺動試験を実施する。第１消しゴム摺動試験を実施した後、防汚層の純水に対する水接触角を測定する。
＜第１消しゴム摺動試験＞
Ｍｉｎｏａｎ社製の消しゴム（Φ６ｍｍ）
摺動距離：片道１００ｍｍ
摺動速度：１００ｍｍ／秒
荷重：１ｋｇ／６ｍｍΦ
摺動回数：３０００回
【請求項2】
第２耐久性試験により求められる防汚層の水接触角の変化量が、５°以下である、請求項１に記載の防汚層付き光学フィルム。第２耐久性試験：防汚層の純水に対する第１水接触角を測定する。次いで、防汚層について、以下の条件に基づき、第２消しゴム摺動試験を実施する。第２消しゴム摺動試験を実施した後、防汚層の純水に対する第２水接触角を測定する。次いで、下記式（１）に基づき、水接触角の変化量を算出する。
水接触角の変化量＝第１水接触角－第２水接触角 （１）
＜第２消しゴム摺動試験＞
Ｍｉｎｏａｎ社製の消しゴム（Φ６ｍｍ）
摺動距離：片道１００ｍｍ
摺動速度：１００ｍｍ／秒
荷重：１ｋｇ／６ｍｍΦ
摺動回数：１０回
【請求項3】
前記光学機能層が反射防止層である、請求項１または２に記載の防汚層付き光学フィルム。
【請求項4】
前記反射防止層が、相対的に屈折率が大きな高屈折率層と、相対的に屈折率が小さな低屈折率層とを交互に有する、請求項３に記載の防汚層付き光学フィルム。
【請求項5】
前記ハードコート層が、金属酸化物微粒子を含む、請求項４に記載の防汚層付き光学フィルム。
【請求項6】
前記金属酸化物微粒子が、ナノシリカ粒子である、請求項５に記載の防汚層付き光学フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、防汚層付き光学フィルムに関する。
【背景技術】
【0002】
従来、フィルム基材の表面、および、光学部品の表面に、汚れ（手垢および指紋）の付着を防止する観点から、防汚層を形成することが知られている。
【0003】
具体的には、透明フィルムと、反射防止層と、防汚層とを厚み方向一方側に向かって順に備える反射防止フィルムが提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【文献】特開２０１７－２２７８９８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
一方、防汚層に付着した汚れを拭き取ると、防汚層の防汚性が低下するという不具合がある。
【0006】
本発明は、防汚層に付着した汚れを拭き取った後でも、防汚層の防汚性の低下を抑制できる防汚層付き光学フィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明［１］は、基材層と、無機層からなる光学機能層と、防汚層とを厚み方向一方側に向かって順に備え、防汚層の表面粗さＲａが、１０ｎｍ以下であり、前記防汚層の厚み方向一方面の水接触角が、１１０°以上であり、第１耐久性試験により求められる防汚層の水接触角が、８３°以上である、防汚層付き光学フィルムである。
第１耐久性試験：防汚層について、以下の条件に基づき、第１消しゴム摺動試験を実施する。第１消しゴム摺動試験を実施した後、防汚層の純水に対する水接触角を測定する。
第１耐久性試験：防汚層について、以下の条件に基づき、第１消しゴム摺動試験を実施する。第１消しゴム摺動試験を実施した後、防汚層の純水に対する水接触角を測定する。
【0008】
＜第１消しゴム摺動試験＞
Ｍｉｎｏａｎ社製の消しゴム（Φ６ｍｍ）
摺動距離：片道１００ｍｍ
摺動速度：１００ｍｍ／秒
荷重：１ｋｇ／６ｍｍΦ
摺動回数：３０００回
本発明［２］は、第２耐久性試験により求められる防汚層の水接触角の変化量が、５°以下である、上記［１］に記載の防汚層付き光学フィルムを含んでいる。
第２耐久性試験：防汚層の純水に対する第１水接触角を測定する。次いで、防汚層について、以下の条件に基づき、第２消しゴム摺動試験を実施する。第２消しゴム摺動試験を実施した後、防汚層の純水に対する第２水接触角を測定する。次いで、下記式（１）に基づき、水接触角の変化量を算出する。
水接触角の変化量＝第１水接触角－第２水接触角 （１）
＜第２消しゴム摺動試験＞
Ｍｉｎｏａｎ社製の消しゴム（Φ６ｍｍ）
摺動距離：片道１００ｍｍ
摺動速度：１００ｍｍ／秒
荷重：１ｋｇ／６ｍｍΦ
摺動回数：１０回
本発明［３］は、前記光学機能層が反射防止層である、上記［１］または［２］に記載の防汚層付き光学フィルムを含んでいる。
Ｍｉｎｏａｎ社製の消しゴム（Φ６ｍｍ）
摺動距離：片道１００ｍｍ
摺動速度：１００ｍｍ／秒
荷重：１ｋｇ／６ｍｍΦ
摺動回数：３０００回
本発明［２］は、第２耐久性試験により求められる防汚層の水接触角の変化量が、５°以下である、上記［１］に記載の防汚層付き光学フィルムを含んでいる。
第２耐久性試験：防汚層の純水に対する第１水接触角を測定する。次いで、防汚層について、以下の条件に基づき、第２消しゴム摺動試験を実施する。第２消しゴム摺動試験を実施した後、防汚層の純水に対する第２水接触角を測定する。次いで、下記式（１）に基づき、水接触角の変化量を算出する。
水接触角の変化量＝第１水接触角－第２水接触角 （１）
＜第２消しゴム摺動試験＞
Ｍｉｎｏａｎ社製の消しゴム（Φ６ｍｍ）
摺動距離：片道１００ｍｍ
摺動速度：１００ｍｍ／秒
荷重：１ｋｇ／６ｍｍΦ
摺動回数：１０回
本発明［３］は、前記光学機能層が反射防止層である、上記［１］または［２］に記載の防汚層付き光学フィルムを含んでいる。
【0009】
本発明［４］は、前記反射防止層が、相対的に屈折率が大きな高屈折率層と、相対的に屈折率が小さな低屈折率層とを交互に有する、上記［３］に記載の防汚層付き光学フィルムを含んでいる。
【0010】
本発明［５］は、基材層が、基材と、ハードコート層とを厚み方向一方側に向かって順に備える、上記［１］～［４］のいずれか一つに記載の防汚層付き光学フィルムを含んでいる。
【0011】
本発明［６］は、前記ハードコート層が、金属酸化物微粒子を含む、上記［５］に記載の防汚層付き光学フィルムを含んでいる。
【0012】
本発明［７］は、前記金属酸化物微粒子が、ナノシリカ粒子である、上記［６］に記載の防汚層付き光学フィルムを含んでいる。
【0013】
本発明［８］は、前記ハードコート層の厚み方向一方面の表面粗さＲａが、０.５ｎｍ以上２０ｎｍ以下である、上記［５］～［７］のいずれか一つに記載の防汚層付き光学フィルムを含んでいる。
【発明の効果】
【0014】
本発明の防汚層付き光学フィルムにおいて、防汚層の、表面粗さＲａが、１０ｎｍ以下である。また、防汚層の厚み方向一方面の水接触角が、１１０°以上である。また、この防汚層付き光学フィルムにおいて、所定の試験により求められる防汚層の水接触角が、８３°以上である。そのため、防汚層に付着した汚れを拭き取った後でも、防汚層の防汚性の低下を抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【0015】
【発明を実施するための形態】
【0016】
図１を参照して、本発明の防汚層付き光学フィルムの一実施形態を説明する。
【0017】
図１において、紙面上下方向は、上下方向（厚み方向）である。また、紙面上側が、上側（厚み方向一方側）である。また、紙面下側が、下側（厚み方向他方側）である。また、紙面左右方向および奥行き方向は、上下方向に直交する面方向である。具体的には、各図の方向矢印に準拠する。
＜防汚層付き光学フィルム＞
防汚層付き光学フィルム１は、所定の厚みを有するフィルム形状（シート形状を含む。）を有する。防汚層付き光学フィルム１は、厚み方向と直交する面方向に延びる。防汚層付き光学フィルム１は、平坦な上面および平坦な下面を有する。
＜防汚層付き光学フィルム＞
防汚層付き光学フィルム１は、所定の厚みを有するフィルム形状（シート形状を含む。）を有する。防汚層付き光学フィルム１は、厚み方向と直交する面方向に延びる。防汚層付き光学フィルム１は、平坦な上面および平坦な下面を有する。
【0018】
図１に示すように、防汚層付き光学フィルム１は、基材層２と、密着層３と、光学機能層４と、防汚層５とを厚み方向一方側に向かって順に備える。防汚層付き光学フィルム１は、より具体的には、基材層２と、基材層２の上面（厚み方向一方面）に直接配置される密着層３と、密着層３の上面（厚み方向一方面）に直接配置される光学機能層４と、光学機能層４の上面（厚み方向一方面）に直接配置される防汚層５とを備える。
【0019】
防汚層付き光学フィルム１の厚みは、例えば、３００μｍ以下、好ましくは、２００μｍ以下、また、例えば、１μｍ以上、好ましくは、５μｍ以上である。
【0020】
＜基材層＞
基材層２は、防汚層５によって、防汚性を付与される被処理体である。
基材層２は、防汚層５によって、防汚性を付与される被処理体である。
【0021】
基材層２の全光線透過率（ＪＩＳ Ｋ ７３７５－２００８）は、例えば、８０％以上、好ましくは、８５％以上である。
【0022】
基材層２は、基材１０と、ハードコート層１１とを厚み方向一方側に向かって順に備える。
【0023】
＜基材＞
基材１０は、フィルム形状を有する。基材１０は、可撓性を有する。基材１０は、ハードコート層１１の下面に接触するように、ハードコート層１１の下面全面に、配置されている。
基材１０は、フィルム形状を有する。基材１０は、可撓性を有する。基材１０は、ハードコート層１１の下面に接触するように、ハードコート層１１の下面全面に、配置されている。
【0024】
基材１０としては、例えば、高分子フィルムが挙げられる。
【0025】
高分子フィルムの材料としては、例えば、ポリエステル樹脂、（メタ）アクリル樹脂、オレフィン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂、ポリアリレート樹脂、メラミン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、セルロース樹脂、および、ポリスチレン樹脂が挙げられる。ポリエステル樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、および、ポリエチレンナフタレートが挙げられる。（メタ）アクリル樹脂としては、例えば、ポリメチルメタクリレートが挙げられる。オレフィン樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、および、シクロオレフィンポリマーが挙げられる。セルロース樹脂としては、例えば、トリアセチルセルロースが挙げられる。
【0026】
高分子フィルムの材料としては、好ましくは、セルロース樹脂、より好ましくは、トリアセチルセルロースが挙げられる。
【0027】
基材１０の厚みは、例えば、１μｍ以上、好ましくは、５μｍ以上、より好ましくは、１０μｍ以上、また、例えば、２００μｍ以下、好ましくは、１５０μｍ以下、より好ましくは、１００μｍ以下である。
【0028】
基材１０の厚みは、ダイヤルゲージ（ＰＥＡＣＯＣＫ社製、「ＤＧ－２０５」）を用いて測定できる。
【0029】
＜ハードコート層＞
ハードコート層１１は、基材１０に傷が発生することを抑制するための保護層である。また、ハードコート層１１は、目的および用途に応じて、基材１０に防眩性を付与するできる層である。
ハードコート層１１は、基材１０に傷が発生することを抑制するための保護層である。また、ハードコート層１１は、目的および用途に応じて、基材１０に防眩性を付与するできる層である。
【0030】
ハードコート層１１は、例えば、ハードコート組成物から形成される。
【0031】
ハードコート組成物は、樹脂および粒子を含む。つまり、ハードコート層１１は、樹脂および粒子を含む。
【0032】
樹脂としては、例えば、熱可塑性樹脂、および、硬化性樹脂が挙げられる。熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリオレフィン樹脂が挙げられる。
【0033】
硬化性樹脂としては、例えば、活性エネルギー線（例えば、紫外線、および、電子線）の照射により硬化する活性エネルギー線硬化性樹脂、および、加熱により硬化する熱硬化性樹脂が挙げられる。硬化性樹脂としては、好ましくは、活性エネルギー線硬化性樹脂が挙げられる。
【0034】
活性エネルギー線硬化性樹脂としては、例えば、（メタ）アクリル系紫外線硬化性樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、シロキサン系ポリマー、および、有機シラン縮合物が挙げられる。活性エネルギー線硬化性樹脂としては、好ましくは、（メタ）アクリル系紫外線硬化性樹脂が挙げられる。
【0035】
また、樹脂は、例えば、特開２００８－８８３０９号公報に記載の反応性希釈剤を含むことができる。具体的には、樹脂は、多官能（メタ）アクリレートを含むことができる。
【0036】
粒子としては、例えば、金属酸化物微粒子および有機系微粒子が挙げられる。金属酸化物微粒子の材料としては、例えば、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化カルシウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化カドミウム、および、酸化アンチモンが挙げられる。金属酸化物微粒子の材料として、好ましくは、シリカが挙げられる。つまり、金属酸化物微粒子として、好ましくは、シリカ粒子、より好ましくは、後述する防汚層５の表面粗さＲａを、後述する所定の範囲に調整する観点から、ナノシリカ粒子が挙げられる。有機系微粒子の材料としては、ポリメチルメタクリレート、シリコーン、ポリスチレン、ポリウレタン、アクリル－スチレン共重合体、ベンゾグアナミン、メラミン、および、ポリカーボネートが挙げられる。有機系微粒子の材料としては、好ましくは、シリコーン、および、ポリメチルメタクリレートが挙げられる。粒子としては、後述する防汚層５の表面粗さＲａを、後述する所定の範囲に調整する観点から、好ましくは、金属酸化物微粒子が挙げられる。
【0037】
粒子は、単独使用または２種以上併用できる。
【0038】
そして、粒子の配合割合および／または粒子の平均粒子径を所定の割合に調整することによって、後述する防汚層５の表面粗さＲａを、後述する所定の範囲に調整できる。
【0039】
具体的には、粒子の配合割合は、樹脂１００質量部に対して、例えば、１質量部以上、好ましくは、３質量部以上、また、例えば、３０質量部以上、また、例えば、２０質量部以下である。
【0040】
粒子の配合割合が、上記上限以下であれば、後述する防汚層５の表面粗さＲａを、後述する所定の範囲に調整できる。
【0041】
粒子の平均粒子径は、例えば、１０μｍ以下、好ましくは、８μｍ以下、また、例えば、１ｎｍ以上である。粒子としてナノ粒子を用いる場合、粒子の平均粒子径は、例えば、１００ｎｍ以下、好ましくは、７０ｎｍ以下、また、例えば、１ｎｍ以上である。粒子の平均粒子径は、例えば、レーザー散乱法における粒度分布測定法によって求められた粒度分布に基づいて、Ｄ５０値（累積５０％メジアン径）として求められる。
【0042】
粒子の平均粒子径が、上記範囲内であれば、後述する防汚層５の表面粗さＲａを、後述する所定の範囲に調整できる。
【0043】
また、ハードコート組成物には、必要により、チキソトロピー付与剤、光重合開始剤、充填剤（例えば、有機粘土）、および、レベリング剤を適宜の割合で配合することができる。また、ハードコート組成物は、公知の溶剤で希釈することができる。
【0044】
また、ハードコート層１１を形成するには、詳しくは後述するが、ハードコート組成物の希釈液を基材１０の厚み方向一方面に塗布し、乾燥させる。乾燥後、例えば、活性エネルギー線照射により、ハードコート組成物を硬化させる。
【0045】
これにより、ハードコート層１１を形成する。
【0046】
ハードコート層１１の表面粗さＲａ（詳しくは、ハードコート層１１の厚み方向一方面の表面粗さＲａ）は、例えば、０．５ｎｍ以上、また、例えば、２０ｎｍ以下である。
【0047】
ハードコート層１１の表面粗さＲａが、上記した範囲内であれば、後述する防汚層５の表面粗さＲａを、後述する所定の範囲に調整できる。
【0048】
なお、表面粗さＲａは、例えば、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）による１μｍ四方の観察像から求められる（以下同様。）。
【0049】
ハードコート層１１の厚みは、耐擦傷性の観点から、例えば、０．１μｍ以上、好ましくは、０．５μｍ以上、より好ましくは、３μｍ以上、また、例えば、５０μｍ以下である。ハードコート層１１の厚みは、例えば、透過型電子顕微鏡を用いて、断面観察により測定できる。
【0050】
＜密着層＞
密着層３は、基材層２と、光学機能層４との間の密着力を確保するための層である。
密着層３は、基材層２と、光学機能層４との間の密着力を確保するための層である。
【0051】
密着層３は、フィルム形状を有する。密着層３は、基材層２（ハードコート層１１）の上面全面に、基材層２（ハードコート層１１）の上面に接触するように、配置されている。
【0052】
密着層３の材料としては、例えば、金属が挙げられる。金属としては、例えば、シリコン、インジウム、ニッケル、クロム、アルミニウム、錫、金、銀、白金、亜鉛、チタン、タングステン、ジルコニウム、および、パラジウムが挙げられる。また、密着層３の材料としては、上記金属の２種類以上の合金、および、上記金属の酸化物も挙げられる。
【0053】
密着層３の材料として、密着性および透明性の観点から、好ましくは、酸化シリコン（ＳｉＯｘ）、および、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）が挙げられる。密着層３の材料として酸化シリコンが用いられる場合、好ましくは、化学量論組成よりも酸素量の少ないＳｉＯｘが用いられ、より好ましくは、ｘが１.２以上１.９以下のＳｉＯｘが用いられる。
【0054】
密着層３の厚みは、基材層２と、光学機能層４との間の密着力の確保、および、密着層３の透明性の両立の観点から、例えば、１ｎｍ以上、また、例えば、１０ｎｍ以下である。
【0055】
＜光学機能層＞
一実施形態では、光学機能層４は、外光の反射強度を抑制するための反射防止層である。すなわち、防汚層付き光学フィルム１は、防汚層付き反射防止フィルムである。
一実施形態では、光学機能層４は、外光の反射強度を抑制するための反射防止層である。すなわち、防汚層付き光学フィルム１は、防汚層付き反射防止フィルムである。
【0056】
光学機能層４（反射防止層）は、無機層からなり、相対的に屈折率が大きな高屈折率層と、相対的に屈折率が小さな低屈折率層とを、厚み方向に交互に有する。反射防止層では、それに含まれる複数の薄層（高屈折率層、低屈折率層）における複数の界面での反射光間の干渉作用により、正味の反射光強度が減衰される。また、反射防止層では、各薄層の光学膜厚（屈折率と厚みとの積）の調整により、反射光強度を減衰させる干渉作用を発現させることができる。このような反射防止層としての光学機能層４は、本実施形態において具体的には、第１高屈折率層２１と、第１低屈折率層２２と、第２高屈折率層２３と、第２低屈折率層２４とを、厚み方向一方側に向かって順に備える。
【0057】
第１高屈折率層２１および第２高屈折率層２３は、それぞれ、波長５５０ｎｍにおける屈折率が好ましくは１.９以上の高屈折率材料からなる。高屈折率と可視光の低吸収性との両立の観点から、高屈折率材料としては、例えば、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、酸化チタン、酸化ジルコニウム、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、および、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）が挙げられ、好ましくは、酸化ニオブが挙げられる。つまり、好ましくは、第１低屈折率層２２の材料および第２低屈折率層２４の材料が、ともに酸化ニオブである。
【0058】
第１高屈折率層２１の光学膜厚（屈折率と厚みとの積）は、例えば、２０ｎｍ以上、また、例えば、５５ｎｍ以下である。第２高屈折率層２３の光学膜厚は、例えば、６０ｎｍ以上、また、例えば、３３０ｎｍ以下である。
【0059】
第１低屈折率層２２および第２低屈折率層２４は、それぞれ、波長５５０ｎｍにおける屈折率が好ましくは１.６以下の低屈折率材料からなる。低屈折率と可視光の低吸収性との両立の観点から、低屈折率材料としては、例えば、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、および、フッ化マグネシウム、好ましくは、二酸化ケイ素が挙げられる。つまり、好ましくは、第１低屈折率層２２の材料および第２低屈折率層２４の材料が、ともに二酸化ケイ素である。
【0060】
とりわけ、第２低屈折率層２４の材料が、二酸化ケイ素であれば、第２低屈折率層２４と、防汚層５との間の密着性に優れる。
【0061】
第１低屈折率層２２の光学膜厚は、例えば、１５ｎｍ以上、また、例えば、７０ｎｍ以下である。第２低屈折率層２４の光学膜厚は、例えば、１００ｎｍ以上、また、例えば、１６０ｎｍ以下である。
【0062】
また、光学機能層４において、第１高屈折率層２１の厚みは、例えば、１ｎｍ以上、好ましくは、５ｎｍ以上、また、例えば、３０ｎｍ以下、好ましくは、２０ｎｍ以下である。第１低屈折率層２２の厚みは、例えば、１０ｎｍ以上、好ましくは２０ｎｍ以上、また、例えば、５０ｎｍ以下、好ましくは、３０ｎｍ以下である。第２高屈折率層２３の厚みは、例えば、５０ｎｍ以上、好ましくは、８０ｎｍ以上、また、例えば、２００ｎｍ以下、好ましくは、１５０ｎｍ以下である。第２低屈折率層２４の厚みは、例えば、６０ｎｍ以上、好ましくは、８０ｎｍ以上、また、例えば、１５０ｎｍ以下、好ましくは、１００ｎｍ以下である。
【0063】
＜防汚層＞
防汚層５は、基材層２の厚み方向一方側に対して、汚れ（例えば、垢および指紋）の付着を防止するための層である。
防汚層５は、基材層２の厚み方向一方側に対して、汚れ（例えば、垢および指紋）の付着を防止するための層である。
【0064】
防汚層５は、フィルム形状を有する。防汚層５は光学機能層４の上面全面に、光学機能層４の上面に接触するように、配置されている。
【0065】
防汚層５を形成する材料としては、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物が挙げられる。換言すれば、防汚層５は、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物を含む。防汚層５は、好ましくは、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物からなる。
【0066】
防汚層５がパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物を含むと、防汚層５の防汚性が向上する。
【0067】
パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物としては、例えば、下記一般式（１）に示される化合物が挙げられる。
Ｒ１－Ｒ２－Ｘ－（ＣＨ２）ｌ－Ｓｉ（ＯＲ３）３ （１）
（上記式（１）において、Ｒ１は、１つ以上の水素原子がフッ素原子によって置換されたフッ化アルキル基を示す。Ｒ２は、パーフルオロポリエーテル基の繰り返し構造を少なくとも１つ含む構造を示す。Ｒ３は、炭素数１以上４以下アルキル基を示す。ｌは、１以上の整数を示す。）
Ｒ１－Ｒ２－Ｘ－（ＣＨ２）ｌ－Ｓｉ（ＯＲ３）３ （１）
（上記式（１）において、Ｒ１は、１つ以上の水素原子がフッ素原子によって置換されたフッ化アルキル基を示す。Ｒ２は、パーフルオロポリエーテル基の繰り返し構造を少なくとも１つ含む構造を示す。Ｒ３は、炭素数１以上４以下アルキル基を示す。ｌは、１以上の整数を示す。）
【0068】
Ｒ１は、１つ以上の水素がフッ素原子によって置換された、直鎖状又は分岐状のフッ化アルキル基（炭素数１以上２０以下）を示す。Ｒ１は、好ましくは、アルキル基の水素原子のすべてをフッ素原子に置換したパーフルオロアルキル基を示す。
【0069】
Ｒ２は、パーフルオロポリエーテル基の繰り返し構造を少なくとも１つ含む構造を示す。Ｒ２は、好ましくは、パーフルオロポリエーテル基の繰り返し構造を２つ含む構造を示す。
【0070】
パーフルオロポリエーテル基の繰り返し構造としては、例えば、直鎖状のパーフルオロポリエーテル基の繰り返し構造、および、分岐状のパーフルオロポリエーテル基の繰り返し構造が挙げられる。直鎖状のパーフルオロポリエーテル基の繰り返し構造としては、例えば、－（ＯＣｎＦ２ｎ）ｍ－（ｍは１以上５０以下の整数を示す。ｎは、１以上２０以下の整数を示す。以下同様。）が挙げられる。分岐状のパーフルオロポリエーテル基の繰り返し構造としては、例えば、－（ＯＣ（ＣＦ３）２）ｍ－、および、－(ＯＣＦ２ＣＦ(ＣＦ３)ＣＦ２)ｍ－が挙げられる。
【0071】
パーフルオロポリエーテル基の繰り返し構造としては、好ましくは、直鎖状のパーフルオロポリエーテル基の繰り返し構造、より好ましくは、－（ＯＣＦ２）ｍ－、および、－（ＯＣ２Ｆ４）ｍ－が挙げられる。
【0072】
Ｒ３は、炭素数１以上４以下アルキル基を示す。Ｒ３は、好ましくは、メチル基を示す。
【0073】
Ｘは、エーテル基、カルボニル基、アミノ基、またはアミド基を表し、好ましくはエーテル基を表す。
【0074】
ｌは、１以上、また、２０以下、好ましくは、１０以下、より好ましくは、５以下の整数を示す。ｌは、さらに好ましくは、３を示す。
【0075】
このようなパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物のうち、好ましくは、下記一般式（２）に示される化合物が挙げられる。
ＣＦ３－（ＯＣＦ２）Ｐ－（ＯＣ２Ｆ４）Ｑ－Ｏ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＯＣＨ３）３ （２）
（上記式（２）において、Ｐは、１以上５０以下の整数を示す。Ｑは、１以上５０以下の整数を示す。）
パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物は、市販品を用いることもできる。市販品として、具体的には、オプツールＵＤ５０９（上記一般式（２）で示されるパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物、ダイキン工業社製）、オプツールＵＤ１２０（パーフルオロポリエーテル基含有のアルコキシシラン化合物）が挙げられる。
ＣＦ３－（ＯＣＦ２）Ｐ－（ＯＣ２Ｆ４）Ｑ－Ｏ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＯＣＨ３）３ （２）
（上記式（２）において、Ｐは、１以上５０以下の整数を示す。Ｑは、１以上５０以下の整数を示す。）
パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物は、市販品を用いることもできる。市販品として、具体的には、オプツールＵＤ５０９（上記一般式（２）で示されるパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物、ダイキン工業社製）、オプツールＵＤ１２０（パーフルオロポリエーテル基含有のアルコキシシラン化合物）が挙げられる。
【0076】
また、防汚層５を形成する材料を変更することによって、後述する防汚層５の表面粗さＲａを、後述する所定の範囲に調整できる。
【0077】
パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物は、単独使用または２種以上併用できる。
【0078】
防汚層５は、後述する方法により形成される。
【0079】
防汚層５の厚みは、例えば、１ｎｍ以上、好ましくは、５ｎｍ以上、また、例えば、３０ｎｍ以下、好ましくは、２０ｎｍ以下、より好ましくは、１５ｎｍ以下である。
【0080】
防汚層５の厚みが、上記下限以上であれば、防汚層５の防汚性を向上できる。
【0081】
防汚層５の厚みが、上記上限以下であれば、防汚層５を製造する際に、ムラを抑制できる。その結果、防汚層５の意匠性が向上する。
【0082】
なお、防汚層５の厚みは、蛍光Ｘ線（リガク製 ＺＸＳ ＰｒｉｍｕｓＩＩ）で測定できる。
【0083】
また、防汚層５の水接触角（後述する第１水接触角と同義）は、１１０°以上、好ましくは、１１４°以上、より好ましくは、１１７°以上、さらに好ましくは、１１９°以上、また、例えば、１３０°以下である。
【0084】
防汚層５の水接触角が、上記下限以上であれば、防汚層５の防汚性を向上できる。
【0085】
なお、防汚層５の水接触角の測定方法については、後述する実施例で詳述する。
【0086】
そして、このような防汚層５において、表面粗さＲａ、および、第１耐久性試験により求められる水接触角（摺動後の水接触角と称する場合がある。）が所定の範囲である。
【0087】
具体的には、防汚層５の表面粗さＲａは、１０ｎｍ以下、好ましくは、７ｎｍ以下、より好ましくは、５ｎｍ以下である。
【0088】
防汚層５の表面粗さＲａを、上記の所定の範囲に調整するには、例えば、ハードコート層１１（ハードコート組成物）における、粒子の種類および／または粒子の配合割合および／または粒子の平均粒子径を所定の割合に調整するか、および／または、ハードコート層１１の表面粗さＲａを調製するか、および／または、防汚層５を形成する材料を所定の材料に変更するか、および／または、光学機能層４に防汚層５を配置する方法を、所定の方法に変更する。
【0089】
また、防汚層５の摺動後の水接触角は、８３°以上、好ましくは、９０°以上、より好ましくは、９５°以上、さらに好ましくは、１００°以上である。
【0090】
摺動後の水接触角は、第１耐久性試験により求められる。第１耐久性試験では、防汚層５について、所定の条件に基づき、第１消しゴム摺動試験を実施する。第１消しゴム摺動試験を実施した後、防汚層５の純水に対する摺動後の水接触角を測定する。なお、第１耐久性試験については、より詳しくは、後述する実施例で説明する。
【0091】
表面粗さＲａ、および、摺動後の水接触角が、上記した所定の範囲であれば、防汚層５に付着した汚れを拭き取った後でも、防汚層５の防汚性の低下を抑制できる（防汚耐久性に優れる。）。
【0092】
一方、防汚層５に汚れが付着した場合には、その汚れを拭き取る場合がある。そのため、防汚層５には、拭き取り（摺動）に対する耐久性が要求される。具体的には、数十回程度の拭き取り（摺動）に対して、防汚性の低下を抑制できる品質、および、数千回程度の拭き取り（摺動）に対して、実用レベルの防汚性を維持できる実用性が求められる。
【0093】
上記のように、防汚層付き光学フィルム１では、表面粗さＲａ、および、摺動後の水接触角が、上記した所定の範囲であれば、防汚層５に付着した汚れを拭き取った後でも、防汚層５の防汚性の低下を抑制できる。詳しくは、上記品質の維持および上記実用性を図ることができる。
【0094】
なお、上記の品質の程度は、後述する第２耐久性試験により調べることができる。また、上記の実用性の程度は、後述する第１耐久性試験により調べることができる。
【0095】
とりわけ、表面粗さＲａを上記した所定の範囲にすることにより、防汚層５の品質を維持することができる。
【0096】
詳しくは、防汚層５の表面粗さＲａが高くなると、防汚層５の表面に凹凸が増えるため、摺動の影響を受けやすくなり、摺動による水接触角の低下量が大きくなる傾向がある。
つまり、このような防汚層５は、品質を維持できない。
つまり、このような防汚層５は、品質を維持できない。
【0097】
一方、防汚層付き光学フィルム１では、防汚層５の表面粗さＲａが、上記上限以下であるため、防汚層５の表面に凹凸が少なくなる。そのため、摺動による水接触角の低下量を抑制できる。その結果、防汚層５に付着した汚れを拭き取った後でも、防汚層５の防汚性の低下を抑制できる（防汚耐久性に優れる。）。これにより、防汚層５は、品質を維持できる。
【0098】
また、防汚層５の摺動後の水接触角を上記した所定の範囲にすることにより、防汚層５の実用性を確保することができる。
【0099】
詳しくは、防汚層５の摺動後の水接触角が、上記下限未満であれば、防汚性が著しく低下し、実用性を確保することができない。一方、防汚層付き光学フィルム１では、防汚層５の摺動後の水接触角が、上記下限以上であるため、実用性を有する防汚性を確保することができる。また、好ましくは、防汚層５において、第２耐久性試験により求められる防汚層５の水接触角の変化量が、例えば、５°以下、好ましくは、４°以下、より好ましくは、３°以下、さらに好ましくは、２°以下である。
【0100】
水接触角の変化量は、第２耐久性試験により求められる。第２耐久性試験では、まず、防汚層５の純水に対する第１水接触角を測定する。次いで、防汚層５について、所定の条件に基づき、第２消しゴム摺動試験を実施する。第２消しゴム摺動試験を実施した後、防汚層５の純水に対する第２水接触角を測定する。次いで、下記式（１）に基づき、水接触角の変化量を算出する。
水接触角の変化量＝第１水接触角－第２水接触角 （１）
なお、第２耐久性試験について、より詳しくは、後述する実施例で説明する。
水接触角の変化量＝第１水接触角－第２水接触角 （１）
なお、第２耐久性試験について、より詳しくは、後述する実施例で説明する。
【0101】
第２耐久性試験において、第１水接触角は、１１０°以上、好ましくは、１１４°以上、また、例えば、１３０°以下である。また、第２水接触角は、例えば、１０５°以上、好ましくは、１１０°以上、また、例えば、１２０°以下である。
【0102】
水接触角の変化量が、上記上限以下であれば、防汚層５に付着した汚れを拭き取った後でも、防汚層５の防汚性の低下をより一層抑制できる。
【0103】
【0104】
防汚層付き光学フィルム１の製造方法の製造方法は、基材層２を準備する第１工程と、基材層２、密着層３および光学機能層４を順に配置する第２工程と、光学機能層４に防汚層５を配置する第３工程とを備える。
【0105】
（第１工程）
第１工程では、基材層２を準備する。
第１工程では、基材層２を準備する。
【0106】
基材層２を準備するには、まず、図２Ａに示すように、基材１０を準備する。
【0107】
次いで、図２Ｂに示すように、基材１０に、ハードコート層１１を配置する。具体的には、基材１０の厚み方向一方面に、ハードコート層１１を配置する。
【0108】
具体的には、基材１０の厚み方向一方面に、ハードコート組成物の希釈液を塗布し、乾燥させる。乾燥後、紫外線照射により、ハードコート組成物を硬化させる。これにより、基材１０の厚み方向一方面に、ハードコート層１１を形成する。
【0109】
（第２工程）
第２工程では、図２Ｃに示すように、基材層２（ハードコート層１１）に、密着層３および光学機能層４を順に配置する。具体的には、基材層２（ハードコート層１１）の厚み方向一方面に、密着層３を配置し、次いで、密着層３の厚み方向一方面に、光学機能層４に配置する。より具体的には、基材層２（ハードコート層１１）の厚み方向一方面に、密着層３を配置し、密着層３の厚み方向一方面に、第１高屈折率層２１を配置し、第１高屈折率層２１の厚み方向一方面に、第１低屈折率層２２を配置し、第１低屈折率層２２の厚み方向一方面に、第２高屈折率層２３を配置し、第２高屈折率層２３の厚み方向一方面に、第２低屈折率層２４を配置する。
第２工程では、図２Ｃに示すように、基材層２（ハードコート層１１）に、密着層３および光学機能層４を順に配置する。具体的には、基材層２（ハードコート層１１）の厚み方向一方面に、密着層３を配置し、次いで、密着層３の厚み方向一方面に、光学機能層４に配置する。より具体的には、基材層２（ハードコート層１１）の厚み方向一方面に、密着層３を配置し、密着層３の厚み方向一方面に、第１高屈折率層２１を配置し、第１高屈折率層２１の厚み方向一方面に、第１低屈折率層２２を配置し、第１低屈折率層２２の厚み方向一方面に、第２高屈折率層２３を配置し、第２高屈折率層２３の厚み方向一方面に、第２低屈折率層２４を配置する。
【0110】
基材層２に密着層３および光学機能層４を順に配置するには、基材層２および密着層３の間の密着性の向上の観点から、まず、基材層２の表面に、表面処理を施す。
【0111】
表面処理としては、例えば、コロナ処理、プラズマ処理、フレーム処理、オゾン処理、プライマー処理、グロー処理、および、ケン化処理が挙げられる。表面処理としては、好ましくは、プラズマ処理が挙げられる。
【0112】
そして、基材層２に密着層３および光学機能層４を順に配置する方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、ラミネート法、めっき法、および、イオンプレーティング法が挙げられる。各層を順に配置する方法として、好ましくは、スパッタリング法が挙げられる。
【0113】
スパッタリング法では、真空チャンバー内にターゲット（各層（密着層３、第１高屈折率層２１、第１低屈折率層２２、第２高屈折率層２３、および、第２低屈折率層２４）の材料）および基材層２を対向配置する。次いで、ガスを供給するとともに電源から電圧を印加することによりガスイオンを加速しターゲットに照射させて、ターゲット表面からターゲット材料をはじき出す。そして、そのターゲット材料を基材層２の表面に各層を順に堆積させる。
【0114】
ガスとしては、例えば、不活性ガスが挙げられる。不活性ガスとしては、例えば、アルゴンガスが挙げられる。また、必要に応じて、例えば、反応性ガス（例えば、酸素ガス）を併用できる。反応性ガスを併用する場合において、反応性ガスの流量比（ｓｃｃｍ）は特に限定しない。具体的には、反応性ガスの流量比は、スパッタガスおよび反応性ガスの合計流量比に対して、例えば、０．１流量％以上１００流量％以下である。
【0115】
スパッタリング時の気圧は、例えば、０．１Ｐａ以上、また、例えば、１．０Ｐａ以下、好ましくは、０．７Ｐａ以下である。
【0116】
電源は、例えば、ＤＣ電源、ＡＣ電源、ＭＦ電源、および、ＲＦ電源のいずれであってもよい。また、これらの組み合わせであってもよい。
【0117】
これにより、基材層２の厚み方向一方面に、密着層３および光学機能層４を順に配置する。
【0118】
（第３工程）
第３工程では、図２Ｄに示すように、光学機能層４に防汚層５を配置する。具体的には、光学機能層４の厚み方向一方面に、防汚層５を配置する。
第３工程では、図２Ｄに示すように、光学機能層４に防汚層５を配置する。具体的には、光学機能層４の厚み方向一方面に、防汚層５を配置する。
【0119】
光学機能層４に防汚層５を配置する方法としては、例えば、ドライコーティング法が挙げられる。ドライコーティング法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、およびＣＶＤ、好ましくは、防汚層５の表面粗さＲａを、上記の所定の範囲に調整する観点から、真空蒸着法が挙げられる。
【0120】
これにより、光学機能層４に防汚層５を配置する。そして、基材層２と、密着層３と、光学機能層４と、防汚層５とを厚み方向一方側に向かって順に備える防汚層付き光学フィルム１が製造される。
【0121】
そして、この防汚層付き光学フィルム１において防汚層５の表面粗さＲａ、防汚層５の厚み方向一方面の水接触角（第１水接触角）、および、防汚層５の摺動後の水接触角が所定の範囲である。そのため、防汚層５に付着した汚れを拭き取った後でも、防汚層５の防汚性の低下を抑制できる（防汚耐久性に優れる。）。
【0122】
＜変形例＞
変形例において、一実施形態と同様の部材および工程については、同一の参照符号を付し、その詳細な説明を省略する。また、変形例は、特記する以外、第一実施形態と同様の作用効果を奏することができる。さらに、一実施形態およびその変形例を適宜組み合わせることができる。
変形例において、一実施形態と同様の部材および工程については、同一の参照符号を付し、その詳細な説明を省略する。また、変形例は、特記する以外、第一実施形態と同様の作用効果を奏することができる。さらに、一実施形態およびその変形例を適宜組み合わせることができる。
【0123】
一実施形態では、基材層２は、基材１０と、ハードコート層１１とを厚み方向一方側に向かって順に備える。しかし、基材層２は、ハードコート層１１を備えず、基材１０からなることもできる。
【0124】
一実施形態では、防汚層付き光学フィルム１は、密着層３を備える。しかし、防汚層付き光学フィルム１は、密着層３を備えなくてもよい。このような場合には、防汚層付き光学フィルム１は、基材層２と、光学機能層４と、防汚層５とを厚み方向一方側に向かって順に備える。
【0125】
一実施形態では、光学機能層４は、相対的に屈折率の高い高屈折率層を２層備えるとともに、相対的に屈折率の低い低屈折率層を２層備える。しかし、高屈折率層および低屈折率層の数は、特に限定されない。
【0126】
一実施形態では、光学機能層４は、反射防止層であるが、これに限定されない。光学機能層４として、例えば、透明電極膜（ＩＴＯ膜）、電磁波遮蔽層（電磁波反射能を有する金属薄膜）が挙げられる。
【実施例】
【0127】
以下に実施例および比較例を示し、本発明をさらに具体的に説明する。なお、本発明は、何ら実施例および比較例に限定されない。また、以下の記載において用いられる配合割合（含有割合）、物性値、パラメータなどの具体的数値は、上記の「発明を実施するための形態」において記載されている、それらに対応する配合割合（含有割合）、物性値、パラメータなど該当記載の上限値（「以下」、「未満」として定義されている数値）または下限値（「以上」、「超過」として定義されている数値）に代替できる。
【0128】
１．防汚層付き光学フィルムの製造
比較例１
（第１工程）
透明な樹脂フィルムとしてのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（厚さ８０μｍ）の片面に、防眩性のハードコート層を形成した。本工程では、まず、紫外線硬化型のウレタンアクリレート（商品名「ＵＶ１７００ＴＬ」、日本合成化学工業社製）５０質量部と、紫外線硬化型の多官能アクリレート（商品名「ビスコート＃３００」、主成分はペンタエリストールトリアクリレート、大阪有機化学工業社製）５０質量部と、粒子としてのポリメチルメタクリレート粒子（商品名「テクポリマー」、平均粒子径３μｍ、屈折率１.５２５、積水化成品工業社製）３質量部と、粒子としてのシリコーン粒子（商品名「トスパール１３０」、平均粒子径３μｍ、屈折率１.４２、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン社製）１.５質量部と、チキソトロピー付与剤（商品名「ルーセンタイトＳＡＮ」、有機粘土である合成スメクタイト、コープケミカル社製）１.５質量部と、光重合開始剤（商品名「ＯＭＮＩＲＡＤ９０７」、ＢＡＳＦ社製）３質量部と、レベリング剤（商品名「ＬＥ３０３」、共栄社化学社製）０.１５質量部と、トルエン・酢酸エチル・シクロペンタノン混合溶媒（質量比３５：４１：２４）とを混合し、固形分濃度５５質量％の組成物（ワニス）を調製した。混合には、超音波分散機を使用した。
比較例１
（第１工程）
透明な樹脂フィルムとしてのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（厚さ８０μｍ）の片面に、防眩性のハードコート層を形成した。本工程では、まず、紫外線硬化型のウレタンアクリレート（商品名「ＵＶ１７００ＴＬ」、日本合成化学工業社製）５０質量部と、紫外線硬化型の多官能アクリレート（商品名「ビスコート＃３００」、主成分はペンタエリストールトリアクリレート、大阪有機化学工業社製）５０質量部と、粒子としてのポリメチルメタクリレート粒子（商品名「テクポリマー」、平均粒子径３μｍ、屈折率１.５２５、積水化成品工業社製）３質量部と、粒子としてのシリコーン粒子（商品名「トスパール１３０」、平均粒子径３μｍ、屈折率１.４２、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン社製）１.５質量部と、チキソトロピー付与剤（商品名「ルーセンタイトＳＡＮ」、有機粘土である合成スメクタイト、コープケミカル社製）１.５質量部と、光重合開始剤（商品名「ＯＭＮＩＲＡＤ９０７」、ＢＡＳＦ社製）３質量部と、レベリング剤（商品名「ＬＥ３０３」、共栄社化学社製）０.１５質量部と、トルエン・酢酸エチル・シクロペンタノン混合溶媒（質量比３５：４１：２４）とを混合し、固形分濃度５５質量％の組成物（ワニス）を調製した。混合には、超音波分散機を使用した。
【0129】
次に、上記ＴＡＣフィルムの片面に組成物を塗布して塗膜を形成した。次に、この塗膜を、紫外線照射により硬化させた後、加熱により乾燥させた。紫外線照射では、光源として高圧水銀ランプを使用し、波長３６５ｎｍの紫外線を用い、積算照射光量を３００ｍＪ／ｃｍ２とした。また、加熱の温度は８０℃とし、加熱の時間は６０秒間とした。これにより、ＴＡＣフィルム上に厚さ８μｍの防眩性のハードコート層（第１のＨＣ層）を形成した。これにより、基材層（ＨＣ層付きＴＡＣフィルム）を得た。
【0130】
（第２工程）
次に、ロールトゥロール方式のプラズマ処理装置により、ＨＣ層付きＴＡＣフィルムのＨＣ層表面を、１.０Ｐａの真空雰囲気下でプラズマ処理した。このプラズマ処理では、不活性ガスとしてアルゴンガスを用い、放電電力を２４００Ｗとした。
次に、ロールトゥロール方式のプラズマ処理装置により、ＨＣ層付きＴＡＣフィルムのＨＣ層表面を、１.０Ｐａの真空雰囲気下でプラズマ処理した。このプラズマ処理では、不活性ガスとしてアルゴンガスを用い、放電電力を２４００Ｗとした。
【0131】
次に、プラズマ処理後のＨＣ層付きＴＡＣフィルムのＨＣ層上に、密着層と反射防止層とを順次に形成した。具体的には、ロールトゥロール方式のスパッタ成膜装置により、プラズマ処理後のＨＣ層付きＴＡＣフィルムのＨＣ層上に、密着層としての厚さ３.５ｎｍのＳｉＯｘ層（ｘ＜２）と、第１高屈折率層としての厚さ１２ｎｍのＮｂ２Ｏ５層と、第１低屈折率層としての厚さ２８ｎｍのＳｉＯ２層と、第２高屈折率層としての厚さ１００ｎｍのＮｂ２Ｏ５層と、第２低屈折率層としての厚さ８５ｎｍのＳｉＯ２層とを、順次に形成した。密着層の形成では、Ｓｉターゲットを用い、不活性ガスとしてのアルゴンガスと、アルゴンガス１００体積部に対して３体積部の反応性ガスとしての酸素ガスとを用い、放電電圧を５２０Ｖとし、成膜室内の気圧（成膜気圧）を０.２７Ｐａとし、ＭＦＡＣスパッタリングによってＳｉＯｘ層（ｘ＜２）を成膜した。第１高屈折率層の形成では、Ｎｂターゲットを用い、１００体積部のアルゴンガスおよび５体積部の酸素ガスを用い、放電電圧を４１５Ｖとし、成膜気圧を０.４２Ｐａとし、ＭＦＡＣスパッタリングによってＮｂ２Ｏ５層を成膜した。第１低屈折率層の形成では、Ｓｉターゲットを用い、１００体積部のアルゴンガスおよび３０体積部の酸素ガスを用い、放電電圧を３５０Ｖとし、成膜気圧を０．３Ｐａとし、ＭＦＡＣスパッタリングによってＳｉＯ２層を成膜した。第２高屈折率層の形成では、Ｎｂターゲットを用い、１００体積部のアルゴンガスおよび１３体積部の酸素ガスを用い、放電電圧を４６０Ｖとし、成膜気圧を０.５Ｐａとし、ＭＦＡＣスパッタリングによってＮｂ２Ｏ５層を成膜した。第２低屈折率層の形成では、Ｓｉターゲットを用い、１００体積部のアルゴンガスおよび３０体積部の酸素ガスを用い、放電電圧を３４０Ｖとし、成膜気圧を０.２５Ｐａとし、ＭＦＡＣスパッタリングによってＳｉＯ２層を成膜した。以上のようにして、ＨＣ層付きＴＡＣフィルムのＨＣ層上に、密着層を介して反射防止層（第１高屈折率層、第１低屈折率層、第２高屈折率層、第２低屈折率層）を積層形成した。
【0132】
（第３工程）
次に、形成された反射防止層上に防汚層を形成した。具体的には、パーフルオロポリエーテル基含有のアルコキシシラン化合物を蒸着源として用いた真空蒸着法により、厚さ７ｎｍの防汚層を反射防止層上に形成した。蒸着源は、ダイキン工業社製の「オプツール ＵＤ５０９」（上記一般式（２）で表されるパーフルオロポリエーテル基含有アルコキシシラン化合物、固形分濃度２０質量％）を乾燥して得た固形分である。また、真空蒸着法における蒸着源の加熱温度は２６０℃とした。
次に、形成された反射防止層上に防汚層を形成した。具体的には、パーフルオロポリエーテル基含有のアルコキシシラン化合物を蒸着源として用いた真空蒸着法により、厚さ７ｎｍの防汚層を反射防止層上に形成した。蒸着源は、ダイキン工業社製の「オプツール ＵＤ５０９」（上記一般式（２）で表されるパーフルオロポリエーテル基含有アルコキシシラン化合物、固形分濃度２０質量％）を乾燥して得た固形分である。また、真空蒸着法における蒸着源の加熱温度は２６０℃とした。
【0133】
これにより、防汚層付き光学フィルムを製造した。
【0134】
実施例１
比較例１と同様にして、防汚層付き光学フィルムを製造した。
比較例１と同様にして、防汚層付き光学フィルムを製造した。
【0135】
但し、第３工程での蒸着源として、ダイキン工業社製の「オプツール ＵＤ１２０」（パーフルオロポリエーテル基含有のアルコキシシラン化合物）を乾燥して得た固形分を用いた。
【0136】
比較例３
（第１工程）
透明な樹脂フィルムとしてのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（厚さ８０μｍ）の片面に、ハードコート層を形成した。本工程では、まず、紫外線硬化型のアクリルモノマー（商品名「ＧＲＡＮＤＩＣ ＰＣ－１０７０」、ＤＩＣ社製）１００質量部と、粒子としてのナノシリカ粒子を含有するオルガノシリカゾル（商品名「ＭＥＫ－ＳＴ－Ｌ」、ナノシリカ粒子の平均一次粒子径は５０ｎｍ、固形分濃度３０質量％、日産化学社製）２５質量部（ナノシリカ粒子換算量）と、チキソトロピー付与剤（商品名「ルーセンタイトＳＡＮ」、有機粘土である合成スメクタイト、コープケミカル社製）１.５質量部と、光重合開始剤（商品名「ＯＭＮＩＲＡＤ９０７」、ＢＡＳＦ社製）３質量部と、レベリング剤（商品名「ＬＥ３０３」、共栄社化学社製）０.１５質量部とを混合して、固形分濃度５５質量％の組成物（ワニス）を調製した。混合には、超音波分散機を使用した。次に、上記ＴＡＣフィルムの片面に組成物を塗布して塗膜を形成した。次に、この塗膜を、紫外線照射により硬化させた後、加熱により乾燥させた。紫外線照射では、光源として高圧水銀ランプを使用し、波長３６５ｎｍの紫外線を用い、積算照射光量を２００ｍＪ／ｃｍ２とした。また、加熱の時間は８０℃とし、加熱の温度は３分間とした。これにより、ＴＡＣフィルム上に厚さ６μｍのハードコート層（第２のＨＣ層）を形成した。これにより、基材層（ＨＣ層付きＴＡＣフィルム）を得た。
（第１工程）
透明な樹脂フィルムとしてのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（厚さ８０μｍ）の片面に、ハードコート層を形成した。本工程では、まず、紫外線硬化型のアクリルモノマー（商品名「ＧＲＡＮＤＩＣ ＰＣ－１０７０」、ＤＩＣ社製）１００質量部と、粒子としてのナノシリカ粒子を含有するオルガノシリカゾル（商品名「ＭＥＫ－ＳＴ－Ｌ」、ナノシリカ粒子の平均一次粒子径は５０ｎｍ、固形分濃度３０質量％、日産化学社製）２５質量部（ナノシリカ粒子換算量）と、チキソトロピー付与剤（商品名「ルーセンタイトＳＡＮ」、有機粘土である合成スメクタイト、コープケミカル社製）１.５質量部と、光重合開始剤（商品名「ＯＭＮＩＲＡＤ９０７」、ＢＡＳＦ社製）３質量部と、レベリング剤（商品名「ＬＥ３０３」、共栄社化学社製）０.１５質量部とを混合して、固形分濃度５５質量％の組成物（ワニス）を調製した。混合には、超音波分散機を使用した。次に、上記ＴＡＣフィルムの片面に組成物を塗布して塗膜を形成した。次に、この塗膜を、紫外線照射により硬化させた後、加熱により乾燥させた。紫外線照射では、光源として高圧水銀ランプを使用し、波長３６５ｎｍの紫外線を用い、積算照射光量を２００ｍＪ／ｃｍ２とした。また、加熱の時間は８０℃とし、加熱の温度は３分間とした。これにより、ＴＡＣフィルム上に厚さ６μｍのハードコート層（第２のＨＣ層）を形成した。これにより、基材層（ＨＣ層付きＴＡＣフィルム）を得た。
【0137】
（第２工程）
次に、ロールトゥロール方式のプラズマ処理装置により、ＨＣ層付きＴＡＣフィルムのＨＣ層表面を、１.０Ｐａの真空雰囲気下でプラズマ処理した。このプラズマ処理では、不活性ガスとしてアルゴンガスを用い、放電電力を１５０Ｗとした。
次に、ロールトゥロール方式のプラズマ処理装置により、ＨＣ層付きＴＡＣフィルムのＨＣ層表面を、１.０Ｐａの真空雰囲気下でプラズマ処理した。このプラズマ処理では、不活性ガスとしてアルゴンガスを用い、放電電力を１５０Ｗとした。
【0138】
次に、プラズマ処理後のＨＣ層付きＴＡＣフィルムのＨＣ層上に、密着層と反射防止層とを順次に形成した。具体的には、ロールトゥロール方式のスパッタ成膜装置により、プラズマ処理後のＨＣ層付きＴＡＣフィルムのＨＣ層上に、密着層としての厚さ１.５ｎｍのインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）層と、第１高屈折率層としての厚さ１２ｎｍのＮｂ２Ｏ５層と、第１低屈折率層としての厚さ２８ｎｍのＳｉＯ２層と、第２高屈折率層としての厚さ１００ｎｍのＮｂ２Ｏ５層と、第２低屈折率層としての厚さ８５ｎｍのＳｉＯ２層とを、順次に形成した。密着層の形成では、ＩＴＯターゲットを用い、不活性ガスとしてのアルゴンガスと、アルゴンガス１００体積部に対して１０体積部の反応性ガスとしての酸素ガスとを用い、放電電圧を４００Ｖとし、成膜室内の気圧（成膜気圧）を０.２Ｐａとし、ＭＦＡＣスパッタリングによってＩＴＯ層を成膜した。比較例３における第１高屈折率層、第１低屈折率層、第２高屈折率層、および第２低屈折率層の形成条件は、比較例１における第１高屈折率層、第１低屈折率層、第２高屈折率層、および第２低屈折率層の上記の形成条件と同じである。
【0139】
（第３工程）
次に、形成された反射防止層上に防汚層を形成した。具体的には、比較例１における第３工程と同じである（蒸着源としては、ダイキン工業社製の「オプツール ＵＤ５０９」を乾燥して得た固形分を用いた）。これにより、防汚層付き光学フィルムを製造した。
次に、形成された反射防止層上に防汚層を形成した。具体的には、比較例１における第３工程と同じである（蒸着源としては、ダイキン工業社製の「オプツール ＵＤ５０９」を乾燥して得た固形分を用いた）。これにより、防汚層付き光学フィルムを製造した。
【0140】
実施例３
比較例３と同様にして、防汚層付き光学フィルムを製造した。
比較例３と同様にして、防汚層付き光学フィルムを製造した。
【0141】
但し、第３工程での蒸着源として、ダイキン工業社製の「オプツール ＵＤ１２０」（パーフルオロポリエーテル基含有のアルコキシシラン化合物）を乾燥して得た固形分を用いた。
【0142】
比較例４
比較例３と同様にして、防汚層付き光学フィルムを製造した。
比較例３と同様にして、防汚層付き光学フィルムを製造した。
【0143】
但し、第１工程および第３工程を以下の通りに変更した。
【0144】
（第１工程）
ナノシリカ粒子含有のアクリルモノマー組成物（商品名「ＮＣ０３５」、ナノシリカ粒子の平均一次粒子径は４０ｎｍ、固形分濃度５０％、固形分中のナノシリカ粒子の割合は６０質量％、荒川化学工業社製）６７質量部と、紫外線硬化型の多官能アクリレート（商品名「バインダーＡ」、固形分濃度１００％、荒川化学工業社製）３３質量部と、粒子としてのポリメチルメタクリレート粒子（商品名「テクポリマー」、平均粒子径３μｍ、屈折率１.５２５、積水化成品工業社製）３質量部と、粒子としてのシリコーン粒子（商品名「トスパール１３０」、平均粒子径３μｍ、屈折率１.４２、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン社製）１.５質量部と、チキソトロピー付与剤（商品名「ルーセンタイトＳＡＮ」、有機粘土である合成スメクタイト、コープケミカル社製）１.５質量部と、光重合開始剤（商品名「ＯＭＮＩＲＡＤ９０７」、ＢＡＳＦ社製）３質量部と、レベリング剤（商品名「ＬＥ３０３」、共栄社化学社製）０.１５質量部と、トルエンとを混合し、固形分濃度４５質量％の組成物（ワニス）を調製した。混合には、超音波分散機を使用した。次に、上記ＴＡＣフィルムの片面に組成物を塗布して塗膜を形成した。次に、この塗膜を、紫外線照射により硬化させた後、加熱により乾燥させた。紫外線照射では、光源として高圧水銀ランプを使用し、波長３６５ｎｍの紫外線を用い、積算照射光量を２００ｍＪ／ｃｍ２とした。また、加熱の時間は６０℃とし、加熱の温度は６０秒間とした。これにより、ＴＡＣフィルム上に厚さ７μｍの防眩性のハードコート層（第３のＨＣ層）を形成した。これにより、基材層（ＨＣ層付きＴＡＣフィルム）を得た。
ナノシリカ粒子含有のアクリルモノマー組成物（商品名「ＮＣ０３５」、ナノシリカ粒子の平均一次粒子径は４０ｎｍ、固形分濃度５０％、固形分中のナノシリカ粒子の割合は６０質量％、荒川化学工業社製）６７質量部と、紫外線硬化型の多官能アクリレート（商品名「バインダーＡ」、固形分濃度１００％、荒川化学工業社製）３３質量部と、粒子としてのポリメチルメタクリレート粒子（商品名「テクポリマー」、平均粒子径３μｍ、屈折率１.５２５、積水化成品工業社製）３質量部と、粒子としてのシリコーン粒子（商品名「トスパール１３０」、平均粒子径３μｍ、屈折率１.４２、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン社製）１.５質量部と、チキソトロピー付与剤（商品名「ルーセンタイトＳＡＮ」、有機粘土である合成スメクタイト、コープケミカル社製）１.５質量部と、光重合開始剤（商品名「ＯＭＮＩＲＡＤ９０７」、ＢＡＳＦ社製）３質量部と、レベリング剤（商品名「ＬＥ３０３」、共栄社化学社製）０.１５質量部と、トルエンとを混合し、固形分濃度４５質量％の組成物（ワニス）を調製した。混合には、超音波分散機を使用した。次に、上記ＴＡＣフィルムの片面に組成物を塗布して塗膜を形成した。次に、この塗膜を、紫外線照射により硬化させた後、加熱により乾燥させた。紫外線照射では、光源として高圧水銀ランプを使用し、波長３６５ｎｍの紫外線を用い、積算照射光量を２００ｍＪ／ｃｍ２とした。また、加熱の時間は６０℃とし、加熱の温度は６０秒間とした。これにより、ＴＡＣフィルム上に厚さ７μｍの防眩性のハードコート層（第３のＨＣ層）を形成した。これにより、基材層（ＨＣ層付きＴＡＣフィルム）を得た。
【0145】
（第３工程）
蒸着源として、ダイキン工業社製の「オプツールＵＤ１２０」（パーフルオロポリエーテル基含有のアルコキシシラン化合物）を乾燥して得た固形分を用いた。
蒸着源として、ダイキン工業社製の「オプツールＵＤ１２０」（パーフルオロポリエーテル基含有のアルコキシシラン化合物）を乾燥して得た固形分を用いた。
【0146】
比較例２
比較例３と同様にして、防汚層付き光学フィルムを製造した。
比較例３と同様にして、防汚層付き光学フィルムを製造した。
【0147】
但し、第３工程を以下の通りに変更した。
【0148】
（第３工程）
コーティング剤としての「オプツール ＵＤ５０９」（ダイキン工業社製）を、希釈溶媒（商品名「フロリナート」、３Ｍ社製）で希釈して、固形分濃度０.１質量％のコーティング液を調製した。次に、第２工程で形成された反射防止層の上に、コーティング液をグラビアコーティングによって塗布して塗膜を形成した。次に、この塗膜を、６０℃で２分間の加熱によって乾燥させた。これにより、反射防止層上に厚さ７ｎｍの防汚層を形成した。
コーティング剤としての「オプツール ＵＤ５０９」（ダイキン工業社製）を、希釈溶媒（商品名「フロリナート」、３Ｍ社製）で希釈して、固形分濃度０.１質量％のコーティング液を調製した。次に、第２工程で形成された反射防止層の上に、コーティング液をグラビアコーティングによって塗布して塗膜を形成した。次に、この塗膜を、６０℃で２分間の加熱によって乾燥させた。これにより、反射防止層上に厚さ７ｎｍの防汚層を形成した。
【0149】
実施例５
比較例３と同様にして、防汚層付き光学フィルムを製造した。
比較例３と同様にして、防汚層付き光学フィルムを製造した。
【0150】
但し、第１工程を以下の通りに変更した。
【0151】
（第１工程）
透明な樹脂フィルムとしてのＰＥＴフィルム(商品名「５０Ｕ４８」、東レ株式会社製)の片面に、ハードコート層を形成した。本工程では、まず、紫外線硬化型多官能アクリレート樹脂（アイカ工業株式会社製 Ｚ－８５０－５０Ｈ－Ｄ （固形分４４％））を１００質量部準備した。次いで、この樹脂に、光重合開始剤（商品名「ＯＭＮＩＲＡＤ２９５９」、ＢＡＳＦ社製）４質量部と、レベリング剤（商品名「ＬＥ３０３」、共栄社化学社製）０．０５質量部と、メチルイソブチルケトンとを混合し、固形分濃度４０質量％の組成物（ワニス）を調製した。混合には、超音波分散機を使用した。
透明な樹脂フィルムとしてのＰＥＴフィルム(商品名「５０Ｕ４８」、東レ株式会社製)の片面に、ハードコート層を形成した。本工程では、まず、紫外線硬化型多官能アクリレート樹脂（アイカ工業株式会社製 Ｚ－８５０－５０Ｈ－Ｄ （固形分４４％））を１００質量部準備した。次いで、この樹脂に、光重合開始剤（商品名「ＯＭＮＩＲＡＤ２９５９」、ＢＡＳＦ社製）４質量部と、レベリング剤（商品名「ＬＥ３０３」、共栄社化学社製）０．０５質量部と、メチルイソブチルケトンとを混合し、固形分濃度４０質量％の組成物（ワニス）を調製した。混合には、超音波分散機を使用した。
【0152】
次に、上記ＰＥＴフィルムの片面に組成物を塗布した後に乾燥して塗膜を形成した。次に、この塗膜を、紫外線照射により硬化させた。加熱の温度は、８０℃とし、加熱の時間は６０秒間とした。紫外線照射では、光源として高圧水銀ランプを使用し、波長３６５ｎｍの紫外線を用い、積算照射光量を３００ｍＪ／ｃｍ２とした。これにより、ＰＥＴフィルム上に厚さ５μｍのハードコート層（第４のＨＣ層）を形成した。これにより、基材層（ＨＣ層付きＰＥＴフィルム）を得た。
【0153】
また、第２工程において、成膜室内の気圧（成膜気圧）を０.５Ｐａに変更した。
【0154】
２．評価
（表面粗さＲａ）
各実施例および各比較例の防汚層付き光学フィルムの防汚層およびハードコート層について、防汚層の表面粗さＲａを調べた。具体的には、各防汚層付き光学フィルムの防汚層表面を、原子間力顕微鏡（商品名「ＳＰＩ３８００」、セイコーインスツルメンツ社製）によって観察し、１μｍ四方の観察像において、表面粗さＲａ（算術平均粗さ）を求めた。その結果を表１に示す。
（表面粗さＲａ）
各実施例および各比較例の防汚層付き光学フィルムの防汚層およびハードコート層について、防汚層の表面粗さＲａを調べた。具体的には、各防汚層付き光学フィルムの防汚層表面を、原子間力顕微鏡（商品名「ＳＰＩ３８００」、セイコーインスツルメンツ社製）によって観察し、１μｍ四方の観察像において、表面粗さＲａ（算術平均粗さ）を求めた。その結果を表１に示す。
【0155】
（第１耐久性試験）
各実施例および各比較例の防汚層付き光学フィルムの防汚層について、以下の条件に基づき、第１消しゴム摺動試験を実施した。
各実施例および各比較例の防汚層付き光学フィルムの防汚層について、以下の条件に基づき、第１消しゴム摺動試験を実施した。
【0156】
＜第１消しゴム摺動試験＞
Ｍｉｎｏａｎ社製の消しゴム（Φ６ｍｍ）
摺動距離：片道１００ｍｍ
摺動速度：１００ｍｍ／秒
荷重：１ｋｇ／６ｍｍΦ
摺動回数：３０００回
第１消しゴム摺動試験を実施した後、協和界面科学社製ＤＭｏ－５０１を用いて、以下の条件に基づき、防汚層の純水に対する水接触角を測定した。その結果を表１に示す。
Ｍｉｎｏａｎ社製の消しゴム（Φ６ｍｍ）
摺動距離：片道１００ｍｍ
摺動速度：１００ｍｍ／秒
荷重：１ｋｇ／６ｍｍΦ
摺動回数：３０００回
第１消しゴム摺動試験を実施した後、協和界面科学社製ＤＭｏ－５０１を用いて、以下の条件に基づき、防汚層の純水に対する水接触角を測定した。その結果を表１に示す。
【0157】
＜測定条件＞
液滴量：２μｌ
温度：２５℃
湿度：４０％
液滴量：２μｌ
温度：２５℃
湿度：４０％
【0158】
（防汚性試験）
第１消しゴム摺動試験後の防汚層について、指紋ふき取り性を確認した。
第１消しゴム摺動試験後の防汚層について、指紋ふき取り性を確認した。
【0159】
具体的には、防汚層において、消しゴム摺動部に直接指で触れることにより指紋を付け、その直後にウエスにより３回ふき取りを実施し、ふき取れるか否かを、下記基準により評価した。その結果を表１に示す。
○：完全に拭き取れる。
×：一部指紋が残る。
○：完全に拭き取れる。
×：一部指紋が残る。
【0160】
（第２耐久性試験）
各実施例および各比較例の防汚層付き光学フィルムの防汚層について、上記した方法と同様の手順で、第１接触角を測定した。
各実施例および各比較例の防汚層付き光学フィルムの防汚層について、上記した方法と同様の手順で、第１接触角を測定した。
【0161】
次いで、各実施例および各比較例の防汚層付き光学フィルムの防汚層について、以下の条件に基づき、第２消しゴム摺動試験を実施した後、上記した方法と同様の手順で、第２水接触角を測定した。その結果を表１に示す。
【0162】
＜第２消しゴム摺動試験＞
Ｍｉｎｏａｎ社製の消しゴム（Φ６ｍｍ）
摺動距離：片道１００ｍｍ
摺動速度：１００ｍｍ／秒
荷重：１ｋｇ／６ｍｍΦ
摺動回数：１０回
そして、下記式（１）に基づき、水接触角の変化量を算出した。その結果を表１に示す。水接触角の変化量が小さいほど、品質に優れると評価した。
水接触角の変化量＝第１接触角－第２水接触角 （１）
Ｍｉｎｏａｎ社製の消しゴム（Φ６ｍｍ）
摺動距離：片道１００ｍｍ
摺動速度：１００ｍｍ／秒
荷重：１ｋｇ／６ｍｍΦ
摺動回数：１０回
そして、下記式（１）に基づき、水接触角の変化量を算出した。その結果を表１に示す。水接触角の変化量が小さいほど、品質に優れると評価した。
水接触角の変化量＝第１接触角－第２水接触角 （１）
【0163】
３．考察
防汚層の表面粗さＲａが、１０ｎｍ以下である実施例１、比較例３、実施例３、比較例４および実施例５は、防汚層の表面粗さＲａが、１７．７ｎｍである比較例１に比べて、水接触角の変化量が小さい。このことから、防汚層の表面粗さＲａが、１０ｎｍ以下であれば、防汚層に付着した汚れを拭き取った後でも、防汚層の防汚性の低下を抑制できるとわかる。具体的には、数十回程度の拭き取り（摺動）に対して、防汚性の低下を抑制できる品質を有しているとわかる。
防汚層の表面粗さＲａが、１０ｎｍ以下である実施例１、比較例３、実施例３、比較例４および実施例５は、防汚層の表面粗さＲａが、１７．７ｎｍである比較例１に比べて、水接触角の変化量が小さい。このことから、防汚層の表面粗さＲａが、１０ｎｍ以下であれば、防汚層に付着した汚れを拭き取った後でも、防汚層の防汚性の低下を抑制できるとわかる。具体的には、数十回程度の拭き取り（摺動）に対して、防汚性の低下を抑制できる品質を有しているとわかる。
【0164】
摺動後の水接触角が、８３°以上であり、防汚層の厚み方向一方面の水接触角（第１接触角）が、１１０°以上である実施例１、比較例３、実施例３、比較例４および実施例５は、摺動後の水接触角が、８０°であり、防汚層の厚み方向一方面の水接触角（第１接触角）が、１０９．４°である比較例２に比べて、防汚性に優れる。このことから、防汚層の摺動後の水接触角が、８３°以上、かつ、防汚層の厚み方向一方面の水接触角（第１接触角）が、１１０°以上であれば、防汚層に付着した汚れを拭き取った後でも、防汚層の防汚性の低下を抑制できるとわかる。具体的には、数千回程度の拭き取り（摺動）に対して、実用レベルの防汚性を維持できる実用性を確保することができるとわかる。
【0165】
【表1】
【0166】
なお、上記発明は、本発明の例示の実施形態として提供したが、これは単なる例示にすぎず、限定的に解釈してはならない。当該技術分野の当業者によって明らかな本発明の変形例は、後記請求の範囲に含まれるものである。
【産業上の利用可能性】
【0167】
本発明の防汚層付き光学フィルムは、例えば、例えば、防汚層付き反射防止フィルム、防汚層付き透明導電性フィルム、および、防汚層付き電磁波遮蔽フィルムにおいて、好適に用いられる。
【符号の説明】
【0168】
１ 防汚層付き光学フィルム
２ 基材層
４ 光学機能層
５ 防汚層
１０ 基材
１１ ハードコート層
２ 基材層
４ 光学機能層
５ 防汚層
１０ 基材
１１ ハードコート層
【図1】
【図2】