(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2022-09-13
(45)【発行日】2022-09-22
(54)【発明の名称】ＥＦＥＭ
(51)【国際特許分類】
H01L 21/677 20060101AFI20220914BHJP
【ＦＩ】
H01L21/68 A
【請求項の数】
8
(21)【出願番号】P 2018048470
(22)【出願日】2018-03-15
(65)【公開番号】P2019161120
(43)【公開日】2019-09-19
【審査請求日】2021-01-12
(73)【特許権者】
【識別番号】000002059
【氏名又は名称】シンフォニアテクノロジー株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110001841
【氏名又は名称】弁理士法人ＡＴＥＮ
(72)【発明者】
【氏名】河合 俊宏
(72)【発明者】
【氏名】小倉 源五郎
【審査官】湯川 洋介
(56)【参考文献】
【文献】特開２０１７－０９２２３３（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１５－１１５５１７（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１６－１６２８１８（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開平１０－３１８５７６（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００７－０４５６０６（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１７－１６１１０３（ＪＰ，Ａ）
【文献】実開平０６－０７０２３８（ＪＰ，Ｕ）
【文献】特開平０４－０４１６７３（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００２－２８６２８２（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１８－０３７４７５（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００６－２８６６８２（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開平０４－０６２３４５（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｈ０１Ｌ ２１／６７７
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
隔壁に設けられた開口にロードポートが接続されることで閉鎖され、基板を搬送するための搬送室を内部に構成する筐体と、前記搬送室内に配置され、前記基板の搬送を行う基板搬送装置と、
前記筐体内に設けられ、前記搬送室の上方に上部空間を構成するための仕切り部材と、
前記上部空間に不活性ガスを供給するための不活性ガス供給手段と、
前記仕切り部材に形成され、前記搬送室と前記上部空間とを連通させる複数の連通口と、
前記連通口をそれぞれ覆うように配置され、前記連通口を介して前記上部空間の不活性ガスを前記搬送室に送るための複数の送風器と、
前記搬送室の下部に設けられ、当該搬送室内の不活性ガスを吸引するガス吸引口と、
前記ガス吸引口から吸引された不活性ガスを前記上部空間へ帰還させるガス帰還路と、
前記搬送室内のガスを排出するためのガス排出手段とを備えており、
前記不活性ガス供給手段は、前記上部空間内において分散して配置された、不活性ガスを供給するための複数の供給口を有し、
前記複数の供給口は、上下方向から見たときに、前記複数の送風器を隔てて前記ガス帰還路と反対側にのみ配置されている ことを特徴とするＥＦＥＭ。
【請求項2】
前記供給口は、前記上部空間と外部空間とを仕切るための前記筐体の隔壁及び前記仕切り部材のいずれかにおいて前記供給口までの距離が最も近い領域に向かって不活性ガスが供給されるように構成されていることを特徴とする請求項１に記載のＥＦＥＭ。
【請求項3】
前記ガス吸引口は、前記搬送室の下部に複数設けられており、前記ガス帰還路は、複数の前記ガス吸引口のそれぞれから上方に向かって延在する複数の第１流路と、前記複数の第１流路と接続された第２流路とを有し、
前記第２流路内のガスを前記上部空間に送出するための送出口をさらに有していることを特徴とする請求項１又は２に記載のＥＦＥＭ。
【請求項4】
前記第２流路は、前記複数の第１流路の配列方向に沿って延在しており、前記送出口は、当該配列方向において、隣接する２つの前記第１流路間にそれぞれ配置されていることを特徴とする請求項３に記載のＥＦＥＭ。
【請求項5】
前記送出口は、前記複数の送風器の配列方向と交差する交差方向において、前記供給口との間において前記送風器を挟む位置に配置されていることを特徴とする請求項３又は４に記載のＥＦＥＭ。
【請求項6】
隔壁に設けられた開口にロードポートが接続されることで閉鎖され、基板を搬送するための搬送室を内部に構成する筐体と、前記筐体内に設けられ、前記搬送室の上方に上部空間を構成するための仕切り部材と、
前記仕切り部材に形成され、前記搬送室と前記上部空間とを連通させる複数の連通口と、
前記連通口に設けられ、前記上部空間の気体を前記搬送室に送るための複数のファンフィルタユニットと、
前記搬送室の下部に設けられ、当該搬送室内の気体を吸引する複数のガス吸引口と、
前記ガス吸引口のそれぞれから吸引された気体を前記上部空間に帰還させるガス帰還路と、を備え、
前記ガス帰還路は、前記複数のガス吸引口のそれぞれから延在する複数の第１流路と、前記複数の第１流路に接続されて前記第１流路から前記気体が流入しつつ、前記気体を前記上部空間に送出する第２流路と、前記第２流路内のガスを前記上部空間に送出するための送出口と、を備え、
前記送出口は、前記複数のファンフィルタユニットの上端よりも下側に位置している ことを特徴とするＥＦＥＭ。
【請求項7】
前記第２流路は、前記第１流路の延在方向と交差する方向に延在しており、前記ガス帰還路を流れる前記気体は、前記第１流路から前記第２流路を通過する際にその気流の向きが変更され、且つ、前記第２流路から前記上部空間に流入する際にも当該気流の向きが変更されることを特徴とする請求項６に記載のＥＦＥＭ。
【請求項8】
位置が固定された基台部と、前記基台部の上方に配置され、前記基板を搬送する搬送部と、を有し、前記搬送室内に配置された基板搬送装置をさらに備え、前記搬送室には、前記搬送部によって基板が搬送される搬送領域よりも下方に設置物が配置され、
前記ガス吸引口は、鉛直方向から見たときに、前記基台部及び前記設置物のいずれとも重ならない位置に配置されていることを特徴とする請求項６又は７に記載のＥＦＥＭ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、閉鎖された搬送室に不活性ガスを供給し不活性ガス雰囲気に置換することが可能なＥＦＥＭ（Equipment Front End Module）に関する。
【背景技術】
【0002】
特許文献１には、ウェハ（半導体基板）が収容されるＦＯＵＰ（Front-Opening Unified Pod）が載置されるロードポートと、前面壁に設けられた開口にロードポートが接続されることで閉鎖され、ウェハの搬送が行われる搬送室が形成された筐体とを含み、ウェハに所定の処理を施す処理装置とＦＯＵＰとの間でウェハの受渡しを行う、ＥＦＥＭについて記載されている。
【0003】
従来、ウェハ上で製造される半導体回路に対する搬送室内の酸素や水分等の影響は少なかったが、近年、半導体回路のさらなる微細化に伴い、それらの影響が顕在化してきている。そこで、特許文献１に記載のＥＦＥＭは、不活性ガスである窒素で搬送室内が満たされるように構成されている。具体的には、ＥＦＥＭは、筐体の内部で窒素を循環させるための、搬送室とガス帰還路とで構成された循環流路と、ガス帰還路の上部空間に窒素を供給するガス供給手段と、ガス帰還路の上部空間に配置され不活性ガスを搬送室に送出する複数のファンと、ガス帰還路の下部から窒素を排出するガス排出手段とを有する。窒素は、循環流路内の酸素濃度等の変動に応じて適宜供給及び排出される。これにより、搬送室内を窒素雰囲気に保つことが可能となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【文献】特開２０１５－１４６３４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
しかしながら上記特許文献１に記載のＥＦＥＭにおいては、ガス供給手段がガス帰還路の上部空間に接続され、その接続箇所、すなわち、１箇所の供給口から不活性ガスが供給されるため、上部空間内においてファンの吸入側の圧力がファン毎にばらつき、各ファンから搬送室への供給量にバラツキが生じる。つまり、複数のファンの配列方向の一方側から不活性ガスが供給される場合、一方のファンには十分な量の不活性ガスが供給されるものの、他方のファンへの不活性ガスの供給量が一方に比して少なくなる。つまり、上部空間内において一方のファンの吸入側の圧力が他方のファンよりも大きくなり、各ファンからの搬送室への不活性ガスの供給量にバラツキが生じる。この結果、搬送室における不活性ガスの気流に乱れが生じ、塵埃が舞い上がりやすくなるという問題が生じる。
【0006】
そこで、本発明の目的は、不活性ガスを搬送室内に垂直に流しやすくなり、塵埃が舞い上がりにくくすることが可能なＥＦＥＭを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明のＥＦＥＭは、隔壁に設けられた開口にロードポートが接続されることで閉鎖され、基板を搬送するための搬送室を内部に構成する筐体と、前記搬送室内に配置され、前記基板の搬送を行う基板搬送装置と、前記筐体内に設けられ、前記搬送室の上方に上部空間を構成するための仕切り部材と、前記上部空間に不活性ガスを供給するための不活性ガス供給手段と、前記仕切り部材に形成され、前記搬送室と前記上部空間とを連通させる複数の連通口と、前記連通口をそれぞれ覆うように配置され、前記連通口を介して前記上部空間の不活性ガスを前記搬送室に送るための複数の送風器と、前記搬送室の下部に設けられ、当該搬送室内の不活性ガスを吸引するガス吸引口と、前記ガス吸引口から吸引された不活性ガスを前記上部空間へ帰還させるガス帰還路と、前記搬送室内のガスを排出するためのガス排出手段とを備えている。そして、前記不活性ガス供給手段は、前記上部空間内において分散して配置された、不活性ガスを供給するための複数の供給口を有している。
【0008】
これによると、不活性ガス供給手段から上部空間に供給される不活性ガスを、複数の供給口から分散して供給することが可能となる。このため、上部空間に全体に亘って満遍なく不活性ガスを供給することが可能となり、上部空間における複数の送風器の吸入側の圧力のバラツキが小さくなる。したがって、各送風器から搬送室への不活性ガスの供給量にバラツキが生じにくくなる。この結果、搬送室内において、不活性ガスを垂直に流しやすくなり、塵埃が舞い上がりにくくなる。
【0009】
本発明において、前記供給口は、前記上部空間と外部空間とを仕切るための前記筐体の隔壁及び前記仕切り部材のいずれかにおいて前記供給口までの距離が最も近い領域に向かって不活性ガスが供給されるように構成されていることが好ましい。これにより、供給口から供給された不活性ガスが仕切り部材及び隔壁のいずれかに当たり、その勢いが弱くなるとともに仕切り部材及び隔壁のいずれかに沿って不活性ガスが流れる。このため、ガス帰還路から送風器に流れる上部空間内の気流が乱れにくくなって、上部空間における複数の送風器の吸入側の圧力のバラツキがより小さくなる。したがって、各送風器から搬送室への不活性ガスの供給量のバラツキがより抑制される。
【0010】
また、本発明において、前記ガス吸引口は、前記搬送室の下部に複数設けられており、前記ガス帰還路は、複数の前記ガス吸引口のそれぞれから上方に向かって延在する複数の第１流路と、前記複数の第１流路と接続された第２流路とを有し、前記第２流路内のガスを前記上部空間に送出するための送出口をさらに有していることが好ましい。これにより、搬送室からのガスが複数の第１流路を介して一旦、第２流路に流れてから上部空間に流れる。このように複数の第１流路からのガスを一旦第２流路に流すことで、複数の第１流路間でのガスの流通量のバラツキを吸収することが可能となる。このため、各第１流路から直接、上部空間にガスが送出されるときよりも、送出口からのガスの送出量が安定し、各送風器から搬送室への不活性ガスの供給量のバラツキがより抑制される。
【0011】
また、本発明において、前記第２流路は、前記複数の第１流路の配列方向に沿って延在しており、前記送出口は、当該配列方向において、隣接する２つの前記第１流路間にそれぞれ配置されていることが好ましい。これにより、送出口から上部空間へのガスの送出量がより安定し、各送風器から搬送室への不活性ガスの供給量のバラツキがより一層抑制される。
【0012】
また、本発明において、前記送出口は、前記複数の送風器の配列方向と交差する交差方向において、前記供給口との間において前記送風器を挟む位置に配置されていることが好ましい。これにより、ガス帰還路から送風器に流れる上部空間内の気流が乱れにくくなって、各送風器から搬送室への不活性ガスの供給量のバラツキがより一層抑制される。
【0013】
また、本発明のＥＦＥＭは、別の観点では、隔壁に設けられた開口にロードポートが接続されることで閉鎖され、基板を搬送するための搬送室を内部に構成する筐体と、前記筐体内に設けられ、前記搬送室の上方に上部空間を構成するための仕切り部材と、前記仕切り部材に形成され、前記搬送室と前記上部空間とを連通させる複数の連通口と、前記連通口に設けられ、前記上部空間の気体を前記搬送室に送るための複数の送風器と、前記搬送室の下部に設けられ、当該搬送室内の気体を吸引する複数のガス吸引口と、前記ガス吸引口のそれぞれから吸引された気体を前記上部空間に帰還させるガス帰還路とを備えている。そして、前記ガス帰還路は、前記複数のガス吸引口のそれぞれから延在する複数の第１流路と、前記複数の第１流路に接続されて前記第１流路から前記気体が流入しつつ、前記気体を前記上部空間に送出する第２流路とを備える。
【0014】
これによると、搬送室からのガスが複数の第１流路を介して一旦、第２流路に流れてから上部空間に流れる。このように複数の第１流路からのガスを一旦第２流路に流すことで、複数の第１流路間でのガスの流量のバラツキを吸収することが可能となる。このため、各第１流路から直接、上部空間にガスが送出されるときよりも、送出口からのガスの送出量が安定し、各送風器から搬送室へのガスの供給量のバラツキが抑制される。
【0015】
また、本発明においては、前記第２流路は、前記第１流路の延在方向と交差する方向に延在しており、前記ガス帰還路を流れる前記気体は、前記第１流路から前記第２流路を流れる際にその気流の向きが変更され、且つ、前記第２流路から前記上部空間に流入する際にも当該気流の向きが変更されることが好ましい。これにより、第２流路において、第１流路の延在方向におけるガスの流れを緩やかにすることができる。したがって、第１流路から上部空間まで気流の向きが変更されずにそのままガスが上部空間に流入する場合と比べて、上部空間内の気流を乱れにくくすることができる。
【0016】
また、本発明においては、位置が固定された基台部と、前記基台部の上方に配置され、前記基板を搬送する搬送部と、を有し、前記搬送室内に配置された基板搬送装置をさらに備え、前記搬送室には、前記搬送部によって基板が搬送される搬送領域よりも下方に設置物が配置され、前記ガス吸引口は、鉛直方向から見たときに、前記基台部及び前記設置物のいずれとも重ならない位置に配置されていても良い。
【発明の効果】
【0017】
本発明のＥＦＥＭによると、上部空間に全体に亘って満遍なく不活性ガスを供給することが可能となり、上部空間における複数の送風器の吸入側の圧力のバラツキが小さくなる。したがって、各送風器から搬送室への不活性ガスの供給量にバラツキが生じにくくなる。この結果、搬送室内において、不活性ガスを垂直に流しやすくなり、塵埃が舞い上がりにくくなる。
【図面の簡単な説明】
【0018】
【図1】本発明の一実施形態に係るＥＦＥＭ及びその周辺の概略構成を示す平面図である。
【図7】ドアが閉じられた状態を示すロードポートの側断面図である。
【図8】ドアが開いた状態を示すロードポートの側断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0019】
以下、本発明の一実施形態に係るＥＦＥＭ１について、図１～図８を参照しつつ以下に説明する。なお、説明の便宜上、図１に示す方向を前後左右方向とする。すなわち、本実施形態においては、ＥＦＥＭ（Equipment Front End Module）１と基板処理装置６とが並べられている方向を前後方向とし、ＥＦＥＭ１側を前方、基板処理装置６側を後方とする。また、前後方向と直交する、複数のロードポート４が並べられている方向を左右方向とする。また、前後方向及び左右方向の両方と直交する方向を上下方向とする。
【0020】
（ＥＦＥＭ及びその周辺の概略構成）
まず、ＥＦＥＭ１及びその周辺の概略構成について、図１及び図２を用いて説明する。図１は、本実施形態に係るＥＦＥＭ１及びその周辺の概略構成を示す平面図である。図２は、ＥＦＥＭ１の電気的構成を示す図である。図１に示すように、ＥＦＥＭ１は、筐体２と、搬送ロボット３（基板搬送装置）と、３つのロードポート４と、制御装置５とを含む。ＥＦＥＭ１の後方には、ウェハＷ（基板）に所定の処理を施す基板処理装置６が配置されている。ＥＦＥＭ１は、筐体２内に配置された搬送ロボット３によって、ロードポート４に載置されたＦＯＵＰ（Front-Opening Unified Pod）１００と基板処理装置６との間でウェハＷの受渡しを行う。ＦＯＵＰ１００は、複数のウェハＷを上下方向に並べて収容可能な容器であり、後端部（前後方向における筐体２側の端部）に開閉可能な蓋１０１が設けられている。ＦＯＵＰ１００は、例えば、公知のＯＨＴ（天井走行式無人搬送車：不図示）によって搬送される。ＯＨＴとロードポート４との間で、ＦＯＵＰ１００の受渡しが行われる。
まず、ＥＦＥＭ１及びその周辺の概略構成について、図１及び図２を用いて説明する。図１は、本実施形態に係るＥＦＥＭ１及びその周辺の概略構成を示す平面図である。図２は、ＥＦＥＭ１の電気的構成を示す図である。図１に示すように、ＥＦＥＭ１は、筐体２と、搬送ロボット３（基板搬送装置）と、３つのロードポート４と、制御装置５とを含む。ＥＦＥＭ１の後方には、ウェハＷ（基板）に所定の処理を施す基板処理装置６が配置されている。ＥＦＥＭ１は、筐体２内に配置された搬送ロボット３によって、ロードポート４に載置されたＦＯＵＰ（Front-Opening Unified Pod）１００と基板処理装置６との間でウェハＷの受渡しを行う。ＦＯＵＰ１００は、複数のウェハＷを上下方向に並べて収容可能な容器であり、後端部（前後方向における筐体２側の端部）に開閉可能な蓋１０１が設けられている。ＦＯＵＰ１００は、例えば、公知のＯＨＴ（天井走行式無人搬送車：不図示）によって搬送される。ＯＨＴとロードポート４との間で、ＦＯＵＰ１００の受渡しが行われる。
【0021】
筐体２は、３つのロードポート４と基板処理装置６とを接続するためのものである。筐体２の内部には、外部空間に対して略密閉され、ウェハＷを外気に晒さずに搬送するための搬送室４１が形成されている。ＥＦＥＭ１が稼動しているとき、搬送室４１は、窒素で満たされている。なお、本実施形態においては、搬送室４１は窒素で満たされているが、不活性ガスであれば窒素以外のもの（例えば、アルゴンなど）であってもよい。筐体２は、搬送室４１を含む内部空間において、窒素が循環するように構成されている（詳細については後述する）。また、筐体２の後端部には開閉可能なドア２ａが設けられており、搬送室４１は、ドア２ａを隔てて基板処理装置６と接続されている。
【0022】
搬送ロボット３は、搬送室４１内に配置され、ウェハＷの搬送を行う。搬送ロボット３は、位置が固定された基台部９０（図３参照）と、基台部９０の上方に配置され、ウェハＷを保持して搬送するアーム機構７０（搬送部。図３参照）と、ロボット制御部１１（図２参照）とを有する。搬送ロボット３は、主に、ＦＯＵＰ１００内のウェハＷを取り出して基板処理装置６に渡す動作や、基板処理装置６によって処理されたウェハＷを受け取ってＦＯＵＰ１００に戻す動作を行う。
【0023】
ロードポート４は、ＦＯＵＰ１００を載置する（図７参照）ためのものである。複数のロードポート４は、図１及び図５に示すように、筐体２の前側の隔壁３３に沿って、左右方向に並べて配置されている。各ロードポート４は、後端にあるベース５１（図７参照）で筐体２の隔壁３３に形成された３つの開口３３ａ１（図４参照）をそれぞれ閉鎖している。これにより、筐体２内に搬送室４１が略密閉空間に構成される。また、ロードポート４は、ＦＯＵＰ１００内の雰囲気を窒素に置換可能に構成されている。ロードポート４の後端部には、後述する開閉機構５４の一部であるドア４ａが設けられている。ドア４ａは、ドア駆動機構５５（開閉機構５４の一部）によって開閉される。ドア４ａは、ＦＯＵＰ１００の蓋１０１のロックを解除可能、且つ、蓋１０１を保持可能に構成されている。ロックが解除された蓋１０１をドア４ａが保持している状態で、ドア駆動機構５５がドア４ａを開けることで、蓋１０１が開けられる。これにより、ＦＯＵＰ１００内のウェハＷが、搬送ロボット３によって取出可能になる。また、搬送ロボット３によってウェハＷをＦＯＵＰ１００内に収納可能となる。
【0024】
図２に示すように、制御装置５は、搬送ロボット３のロボット制御部１１、ロードポート４のロードポート制御部１２、基板処理装置６の制御部（不図示）と電気的に接続されており、これらの制御部との通信を行う。また、制御装置５は、筐体２内に設置された酸素濃度計８５、圧力計８６、湿度計８７等と電気的に接続されており、これらの計測機器の計測結果を受信して、筐体２内の雰囲気に関する情報を把握する。また、制御装置５は、供給バルブ１１２及び排出バルブ１１３（後述）と電気的に接続されており、これらのバルブの開度を調節することで、筐体２内の窒素雰囲気を適宜調節する。
【0025】
図１に示すように、基板処理装置６は、例えば、ロードロック室６ａと、処理室６ｂとを有する。ロードロック室６ａは、筐体２のドア２ａを隔てて搬送室４１と接続された、ウェハＷを一時的に待機させるための部屋である。処理室６ｂは、ドア６ｃを隔ててロードロック室６ａと接続されている。処理室６ｂでは、不図示の処理機構によって、ウェハＷに対して所定の処理が施される。
【0026】
（筐体及びその内部の構成）
次に、筐体２及びその内部の構成について、図３～図６を用いて説明する。図３は、筐体２を前方から見たときの正面図である。図４は、図３に示すＩＶ－ＩＶ線に沿った断面図である。図５は、図３に示すＶ－Ｖ線に沿った断面図である。図６は、図３に示すＶＩ－ＶＩ線に沿った断面図である。なお、図３及び図６においては、隔壁の図示を省略している。また、図５においては、搬送ロボット３等の図示を省略し、ロードポート４については２点鎖線で示している。
次に、筐体２及びその内部の構成について、図３～図６を用いて説明する。図３は、筐体２を前方から見たときの正面図である。図４は、図３に示すＩＶ－ＩＶ線に沿った断面図である。図５は、図３に示すＶ－Ｖ線に沿った断面図である。図６は、図３に示すＶＩ－ＶＩ線に沿った断面図である。なお、図３及び図６においては、隔壁の図示を省略している。また、図５においては、搬送ロボット３等の図示を省略し、ロードポート４については２点鎖線で示している。
【0027】
筐体２は、全体として略直方体形状を有している。図３～図５に示すように、筐体２は、柱２１～２６と、連結管２７と、隔壁３１～３６とを有する。上下方向に延びる柱２１～２６に隔壁３１～３６が取り付けられており、筐体２の内部空間（搬送室４１及びＦＦＵ設置室４２）が外部空間に対して略密閉に構成されている。
【0028】
より具体的には、図４に示すように、筐体２の前端部において、柱２１～２４が左方から右方に向かって互いに離隔しつつ順に配置されている。つまり、４本の柱２１～２４は、左右方向に沿って配列されている。また、柱２１～２４は、図３に示すように、上下方向に沿うように立設されている。柱２１，２４は、下側に配置された第１部分２１ｂ，２４ｂと、上側に配置された第２部分２１ｃ，２４ｃとで構成されている。第１部分２１ｂ，２４ｂは、隔壁３１上に立設され、その上端が連結管２７に接続されている。また、柱２２，２３も、隔壁３１上に立設され、その上端が連結管２７に接続されている。これら第１部分２１ｂ，２４ｂ及び柱２２，２３は、その上下方向の長さがほぼ同じ長さとなっている。第２部分２１ｃ，２４ｃは、連結管２７上であって第１部分２１ｂ，２４ｂと上下方向に沿って重なる位置に立設されている。筐体２の後端部の左右両側には、２本の柱２５、２６が上下方向に沿って立設して配置されている。連結管２７は、左右方向（４本の柱２１～２４の配列方向）に延在し、４本の柱２１～２４と互いに接続されている。
【0029】
図３に示すように、筐体２の底部に隔壁３１が、天井部に隔壁３２が配置されている。図４に示すように、前端部に隔壁３３が、後端部に隔壁３４が、左端部に隔壁３５が、右端部に隔壁３６が、それぞれ配置されている。隔壁３３には、前述の３つの開口３３ａ１が形成されている。これら３つの開口３３ａ１は、左右方向において、４つの柱２１～２４間に配置されており、ロードポート４のベース５１により閉鎖される。筐体２の右端部には、後述するアライナ８４が載置される載置部８３（図３参照）が設けられている。アライナ８４及び載置部８３も、筐体２の内側に収容されている（図４参照）。
【0030】
図５に示すように、筐体２内の上側部分であって連結管２７の後端側には、水平方向に延びる支持板３７（仕切り部材）が配置されている。これにより、筐体２の内部は、前述の搬送室４１と、搬送室４１の上方に形成されたＦＦＵ設置室４２とに分けられている。つまり、支持板３７によって、筐体２の内部空間において、搬送室４１の上方に上部空間としてのＦＦＵ設置室４２が構成される。
【0031】
ＦＦＵ設置室４２内には、後述する３つのＦＦＵ（ファンフィルタユニット）４４が配置されている。支持板３７の前後方向における中央部であってＦＦＵ４４と上下方向に対向する位置には、搬送室４１とＦＦＵ設置室４２とを連通させる３つの連通口３７ａが形成されている。これら３つの連通口３７ａは、図６に示すように、左右方向に沿って並んで配置されている。また、３つの連通口３７ａは、左右方向において、４本の柱２１～２４間に配置されている。なお、筐体２の隔壁３３～３６は、搬送室４１用の下部壁とＦＦＵ設置室４２用の上部壁とに分けられている（例えば、図５における前端部の隔壁３３ａ、３３ｂ及び後端部の隔壁３４ａ、３４ｂを参照）。各ＦＦＵ４４は、後述する搬送領域２００での気流速度が所望の値となるよう予め回転数が決定される。搬送領域２００における気流速度としては、１ｍ／ｓ未満であり、好ましくは０．１ｍ／ｓ～０．７ｍ／ｓであり、より好ましくは０．２ｍ／ｓ～０．６ｍ／ｓであり、目標の値に応じて各ＦＦＵの回転数が決定される。
【0032】
次に、筐体２の内部の構成について説明する。具体的には、筐体２内で窒素を循環させるための構成及びその周辺構成、並びに、搬送室４１内に配置された機器等について説明する。
【0033】
筐体２内で窒素を循環させるための構成及びその周辺構成について、図３～図６を用いて説明する。図５に示すように、筐体２の内部には、窒素を循環させるための循環路４０が形成されている。循環路４０は、搬送室４１と、ＦＦＵ設置室４２と、帰還路４３（ガス帰還路）とによって構成されている。循環路４０においては、ＦＦＵ設置室４２から清浄な窒素が各連通口３７ａを通して下方へ送り出され、搬送室４１の下端部まで到達した後、帰還路４３を通って上昇し、ＦＦＵ設置室４２に戻るようになっている（図５の矢印参照）。以下、詳細に説明する。
【0034】
ＦＦＵ設置室４２には、図５及び図６に示すように、支持板３７上に配置された３つのＦＦＵ４４と、ＦＦＵ４４上に配置された３つのケミカルフィルタ４５とが設けられている。各ＦＦＵ４４は、図５に示すように、ファン４４ａ（送風器）とフィルタ４４ｂとを有し、連通口３７ａを覆うようにして支持板３７上に配置されている。ＦＦＵ４４は、図６中矢印で示すように、ファン４４ａによってＦＦＵ設置室４２内の窒素をＦＦＵ４４の周囲から吸い込んで下方に送出しつつ、窒素に含まれるパーティクル（不図示）をフィルタ４４ｂによって除去する。ケミカルフィルタ４５は、例えば基板処理装置６から循環路４０内に持ち込まれた活性ガス等を除去するためのものである。ＦＦＵ４４及びケミカルフィルタ４５によって清浄化された窒素は、ＦＦＵ設置室４２から、支持板３７に形成された連通口３７ａを介して搬送室４１に送り出される。搬送室４１に送り出された窒素は、層流を形成し、下方へ流れる。
【0035】
帰還路４３は、筐体２の前端部に配置された柱２１～２４（図５においては柱２３）、及び、連結管２７に形成されている。柱２１，２４の第１部分２１ｂ，２４ｂ、柱２２，２３、及び、連結管２７の内部は中空になっており、互いに窒素が流通可能な空間２１ａ～２４ａ，２７ａがそれぞれ形成されている（図４参照）。柱２１，２４の第１部分２１ｂ，２４ｂは、図４に示すように、左右方向の幅が柱２２，２３よりも大きくなっている。つまり、空間２１ａ，２４ａ（第１流路）の平面サイズ（すなわち、第１部分２１ｂ，２４ｂの開口面積）が、空間２２ａ，２３ａ（柱２２，２３の開口面積）よりも大きくなっている。また、空間２１ａ～２４ａ（第１流路）は、上下方向に延在して形成されており、いずれも柱２１～２４の下端から連結管２７の位置まで延在している。
【0036】
連結管２７は、筐体２の前端部に配置されている。連結管２７の空間２７ａ（第２流路）は、左右方向に延在している。また、連結管２７の下面には、図５及び図６に示すように、空間２１ａ～２４ａと空間２７ａとを互いに連通させるための連通口２７ｂ～２７ｅが形成されている。また、連結管２７の上面には、図６に示すように、ＦＦＵ設置室４２に向かって（すなわち、上方に向かって）開口した３つの送出口２７ｆ～２７ｈが形成されている。これら３つの送出口２７ｆ～２７ｈは、左右方向において、４本の柱２１～２４間に配置されており、互いに左右方向に長尺な矩形平面形状を有している。また、３つの送出口２７ｆ～２７ｈは、筐体２の前端部に配置されている。このように連結管２７は、４つの空間２１ａ～２４ａから流れ込んできた窒素を一旦合流させた後、３つの送出口２７ｆ～２７ｈからＦＦＵ設置室４２に送り出すことが可能に構成されている。窒素が空間２１ａ～２４ａから空間２７ａに流れる際に、その気流の向きが上方から左右方向に変更され、且つ、空間２７ａから送出口２７ｆ～２７ｈを介してＦＦＵ設置室４２に流入する際に、その気流の向きが左右方向から上方へと変更される。このような空間２１ａ～２４ａ，２７ａによって帰還路４３が構成されている。また、３つの送出口２７ｆ～２７ｈは、ＦＦＵ４４と前後方向に沿って重なる位置に配置されている。つまり、前後方向に隣接する送出口２７ｆ～２７ｈとＦＦＵ４４とがそれぞれ対応する。そして、３つの送出口２７ｆ～２７ｈは左右方向に長尺に形成され、比較的大きな開口面積を有している。このため、各送出口２７ｆ～２７ｈからＦＦＵ設置室４２に送出されるガスの流れが緩やかになり、３つのＦＦＵ４４の吸入側（上方側）の圧力のバラツキが小さくなる。なお、送出口２７ｆ～２７ｈからＦＦＵ設置室４２に送出されるガスは、図５に示すように、隔壁３３とＦＦＵ４４との間を通って上方に流れる。
【0037】
帰還路４３について、図５を参照しつつ、さらに具体的に説明する。なお、図５には柱２３が示されているが、他の柱２１，２４の第１部分２１ｂ，２４ｂ及び柱２２についても同様である。柱２３の下端部には、搬送室４１内の窒素を帰還路４３（空間２３ａ）に流入させやすくするための導入ダクト２８が取り付けられている。導入ダクト２８は、他の柱２１，２２，２４にも同様に取り付けられている。なお、柱２１，２４は、柱２３よりも左右方向に幅広に形成されているため、取り付けられる導入ダクト２８においても幅広に形成されているが、これ以外は、同様の構成である。導入ダクト２８には開口２８ａが形成され、搬送室４１の下端部に到達した窒素が帰還路４３に流入可能となっている。つまり、開口２８ａは、搬送室４１内の窒素を帰還路４３に吸引するガス吸引口である。また、開口２８ａは下方を向いて構成されている。このため、上方から隔壁３１に達した気体を、上方からの気体の流れを乱すことなくスムーズに吸い込むことが可能となる。さらには開口２８ａで吸い込んだ気体を、上方へと気流方向を変えずに流すことが可能となる。
【0038】
導入ダクト２８の上部には、下方へ向かうほど後方に広がる拡大部２８ｂが形成されている。導入ダクト２８内であって拡大部２８ｂの下方には、ファン４６が配置されている。ファン４６は、不図示のモータによって駆動され、搬送室４１の下端部に到達した窒素を帰還路４３（図５においては空間２３ａ）に吸い込んで上方に送り出し、窒素をＦＦＵ設置室４２に戻す。ＦＦＵ設置室４２に戻された窒素は、ケミカルフィルタ４５の上面からＦＦＵ４４側に吸い込まれて、これらＦＦＵ４４やケミカルフィルタ４５によって清浄化され、再び連通口３７ａを介して搬送室４１へ送り出される。以上のようにして、窒素が循環路４０内を循環可能になっている。
【0039】
また、図３に示すように、ＦＦＵ設置室４２の後端上部（すなわち、筐体２の後端部）には、ＦＦＵ設置室４２（循環路４０）内に窒素を供給するための供給管４７が配置されている。供給管４７は、窒素の供給源１１１に接続された外部配管４８と接続されている。外部配管４８の途中部位には、窒素の単位時間当たりの供給量を変更可能な供給バルブ１１２が設けられている。これら供給管４７、外部配管４８、供給バルブ１１２及び供給源１１１により、不活性ガス供給手段が構成されている。なお、不活性ガス供給ラインが工場などに設置されている場合は、当該供給ラインと供給管４７とを接続すればよい。このため、不活性ガス供給手段は、供給管４７だけから構成されていてもよい。
【0040】
供給管４７は、図３及び図６に示すように、左右方向に沿って延在しており、３つの供給口４７ａが形成されている。３つの供給口４７ａは、左右方向に沿って互いに離隔して配置されており、供給管４７からＦＦＵ設置室４２内に窒素を供給する。これら３つの供給口４７ａは、図５及び図６に示すように、供給管４７の下端に形成されており、支持板３７の供給管４７と上下方向に対向する領域３７ｂ（すなわち、支持板３７の供給口４７ａまでの距離が最も近い領域）に向かって窒素が供給されるように構成されている。また、３つの供給口４７ａは、左右方向において、ＦＦＵ４４の中心と同じ位置関係に配置されている。これにより、３つの供給口４７ａは、前後方向において、送出口２７ｆ～２７ｈとの間においてファン４４ａを挟む位置に配置されている。
【0041】
このような供給管４７の３つの供給口４７ａからＦＦＵ設置室４２に窒素が供給されると、３つの供給口４７ａがＦＦＵ設置室４２内において分散して配置されているため、窒素がＦＦＵ設置室４２全体に満遍なく供給される。例えば、筐体２の右端部に接続された外部配管４８の１つの供給口からＦＦＵ設置室４２内に直接的に窒素が供給された場合、ＦＦＵ設置室４２の右方部分の圧力が上昇する。すなわち、最も右方に配置されたＦＦＵ４４の吸入側の圧力が他の２つのＦＦＵ４４よりも大きくなる。このようにＦＦＵ４４の吸入側の圧力に大きなバラツキが生じると、３つのＦＦＵ４４から搬送室４１への窒素の供給量にバラツキが生じやすくなる。しかしながら、本実施形態においては、左右方向に互いに離隔して配置された３つの供給口４７ａから窒素が供給されるため、３つのＦＦＵ４４の吸入側の圧力のバラツキが小さくなる。したがって、３つのＦＦＵ４４から搬送室４１への窒素の供給量が安定し、搬送室４１に送り出された窒素が層流を形成し、下方へと流れる。
【0042】
また、図５に示すように、ロードポート４の下端には、循環路４０内の気体を排出するための排出管４９が接続されている。なお、ロードポート４は、後述するようにドア駆動機構５５が収容された収容室６０がベース５１に形成されたスリット５１ｂを介して連通している（図７参照）。そして、排出管４９が収容室６０に接続されている。排出管４９は、例えば図示しない排気ポートにつながっており、その途中部位には、循環路４０内の気体の単位時間当たりの排出量を変更可能な排出バルブ１１３が設けられている。これら排出管４９及び排出バルブ１１３により、ガス排出手段が構成されている。
【0043】
供給バルブ１１２及び排出バルブ１１３は、制御装置５と電気的に接続されている（図２参照）。これにより、循環路４０に窒素を適宜供給及び排出することが可能となっている。例えば、ＥＦＥＭ１を始動するとき（例えば、ＥＦＭＥ１をメンテナンスした後に始動するときなど含む）、循環路４０内の酸素濃度が上昇している場合、供給源１１１から外部配管４８及び供給管４７を介して循環路４０に窒素を供給し、排出管４９を介して循環路４０及び収容室６０内の気体（ガス：窒素及び酸素などを含む）を排出することで、酸素濃度を下げることができる。つまり、循環路４０及び収容室６０内を窒素雰囲気に置換することができる。なお、ＥＦＥＭ１を稼働させているときに、循環路４０内の酸素濃度が上昇した場合も、循環路４０に窒素を一時的に多く供給し、排出管４９を介して窒素と共に酸素を排出することで、酸素濃度を下げることができる。例えば、窒素を循環させるタイプのＥＦＥＭ１においては、循環路４０から外部への窒素の漏出を抑制しつつ、外部から循環路４０への大気の侵入を確実に抑制するために、循環路４０内の圧力を外部の圧力よりもわずかに高く保つ必要がある。具体的には、１Ｐａ（Ｇ）～３０００Ｐａ（Ｇ）の範囲内であり、好ましくは、３Ｐａ（Ｇ）～５００Ｐａ（Ｇ）、より好ましくは、５Ｐａ（Ｇ）～１００Ｐａ（Ｇ）である。このため、制御装置５は、循環路４０内の圧力が所定の範囲から外れると、排出バルブ１１３の開度を変更することで窒素の排出流量を変更し、圧力が所定の目標圧力になるように調節する。このように、酸素濃度に基づいて窒素の供給流量が調節され、圧力に基づいて窒素の排出流量が調節されることで、酸素濃度及び圧力が制御される。本実施形態では、１０Ｐａ（Ｇ）の差圧となるよう調整している。
【0044】
次に、搬送室４１内に配置された機器等について、図３及び図４を用いて説明する。図３及び図４に示すように、搬送室４１内には、上述した搬送ロボット３と、制御部収容箱８１と、計測機器収容箱８２と、アライナ８４とが配置されている。制御部収容箱８１は、例えば搬送ロボット３の基台部９０（図３参照）の左方に設置され、アーム機構７０（図３参照）によってウェハＷが搬送される搬送領域２００よりも下方に配置されている。制御部収容箱８１には、上述したロボット制御部１１やロードポート制御部１２が収容されている。計測機器収容箱８２は、例えば基台部９０の右方に設置され、アーム機構７０の搬送領域２００よりも下方に配置されている。計測機器収容箱８２には、上述した酸素濃度計８５、圧力計８６、湿度計８７等の計測機器（図２参照）が収容可能となっている。制御部収容箱８１及び計測機器収容箱８２が、本発明の設置物に相当する。上述した導入ダクト２８（図４参照）は、基台部９０、制御部収容箱８１、及び計測機器収容箱８２の前方に配置されている。つまり、開口２８ａは、上下方向（鉛直方向）から見たときに、基台部９０、制御部収容箱８１、及び計測機器収容箱８２のいずれとも重ならない位置に配置されている（図４、図５参照）。
【0045】
アライナ８４は、搬送ロボット３のアーム機構７０（図３参照）に保持されているウェハＷの保持位置が、目標保持位置からどれだけずれているか検出するためのものである。例えば、上述したＯＨＴ（不図示）によって搬送されるＦＯＵＰ１００（図１参照）の内部では、ウェハＷが微妙に動くおそれがある。そこで、搬送ロボット３は、ＦＯＵＰ１００から取り出した処理前のウェハＷを、いったんアライナ８４に載置する。アライナ８４は、ウェハＷが搬送ロボット３によって目標保持位置からどれだけずれた位置で保持されていたか計測し、計測結果をロボット制御部１１に送信する。ロボット制御部１１は、上記計測結果に基づいて、アーム機構７０による保持位置を補正し、アーム機構７０を制御して目標保持位置でウェハＷを保持させ、基板処理装置６のロードロック室６ａまで搬送させる。これにより、基板処理装置６によるウェハＷの処理を正常に行うことができる。
【0046】
（ロードポートの構成）
次に、ロードポートの構成について、図７及び図８を参照しつつ以下に説明する。図７は、ドアが閉じられた状態を示すロードポートの側断面図である。図８は、ドアが開いた状態を示すロードポートの側断面図である。なお、図７及び図８は、載置台５３の下方に位置する外部カバー４ｂ（図５参照）を取り外した状態で描かれている。
次に、ロードポートの構成について、図７及び図８を参照しつつ以下に説明する。図７は、ドアが閉じられた状態を示すロードポートの側断面図である。図８は、ドアが開いた状態を示すロードポートの側断面図である。なお、図７及び図８は、載置台５３の下方に位置する外部カバー４ｂ（図５参照）を取り外した状態で描かれている。
【0047】
図７に示すように、ロードポート４は、上下方向に沿って立設された板状のベース５１と、このベース５１の上下方向の中央部分から前方に向かって突出して形成された水平基部５２とを有している。水平基部５２の上部には、ＦＯＵＰ１００を載置するための載置台５３が設けられている。載置台５３はＦＯＵＰ１００を載置した状態で、載置台駆動部（図示せず）により前後方向に移動することが可能となっている。
【0048】
ベース５１は、搬送室４１を外部空間から隔離する隔壁３３の一部を構成する。ベース５１は、前方から見て、上下方向に長尺な略矩形平面形状を有している。また、ベース５１は、載置されたＦＯＵＰ１００と前後方向に対向可能な位置に窓部５１ａが形成されている。また、ベース５１は、上下方向において、水平基部５２よりも下方位置に後述の支持フレーム５６が移動可能な上下方向に延在したスリット５１ｂが形成されている。スリット５１ｂは、支持フレーム５６がベース５１を貫通した状態で上下に移動可能範囲にのみ形成されており、左右方向の開口幅が小さくなっている。このため、スリット５１ｂから収容室６０のパーティクルが搬送室４１に侵入しにくくなっている。
【0049】
ロードポート４は、ＦＯＵＰ１００の蓋１０１を開閉可能な開閉機構５４を有している。開閉機構５４は、窓部５１ａを閉鎖することが可能なドア４ａと、ドア４ａを駆動させるためのドア駆動機構５５とを有している。ドア４ａは、窓部５１ａを閉鎖可能に構成されている。また、ドア４ａは、ＦＯＵＰ１００の蓋１０１のロックを解除可能、且つ、蓋１０１を保持可能に構成されている。ドア駆動機構５５は、ドア４ａを支持するための支持フレーム５６と、スライド支持手段５７を介して支持フレーム５６を前後方向に移動可能に支持する可動ブロック５８と、この可動ブロック５８をベース５１に対して上下方向に移動可能に支持するスライドレール５９とを含む。
【0050】
支持フレーム５６は、ドア４ａの後部下方を支持するものであり、下方に向かって延在した後に、ベース５１に設けられたスリット５１ｂを通過してベース５１の前方に向かって張り出した略クランク状の板状部材である。そして、この支持フレーム５６を支持するためのスライド支持手段５７、可動ブロック５８及びスライドレール５９はベース５１の前方に設けられている。すなわち、ドア４ａを移動させるための駆動箇所が筐体２の外側であって、水平基部５２の下方に設けられた収容室６０に収容されている。収容室６０は、水平基部５２と、水平基部５２から下方に向かって延在する略箱状のカバー６１とベース５１とで囲まれて構成され、略密閉状態とされている。
【0051】
カバー６１の底壁６１ａには、上述の排出管４９が接続されている。つまり、収容室６０と排出管４９とが接続されている。本実施形態においては、３つのロードポート４のいずれにおいても、収容室６０と排出管４９とが接続されている。これにより、収容室６０を介して循環路４０の気体を排出管４９から排出することが可能となる。排出管４９から気体を排出する際、収容室６０内に存在するパーティクルも気体と共に排出することが可能となる。また、収容室６０内であって底壁６１ａ上には、排出管４９と対向するファン６２が設けられている。このようにファン６２が収容室６０内に設けられていることで、パーティクルの舞上げを抑制しつつ、収容室６０から排出管４９に気体を排出しやすくなる。仮に搬送室４１内の気体を収容室６０に向けて送出するファンが設けられている場合、搬送室４１内の気流に乱れが生じやすくなり、搬送室４１内のパーティクルが舞上げられやすくなるが、本実施形態においては収容室６０内にファン６２が配置されているため、搬送室４１内のパーティクルを舞上げるのを抑制することが可能となる。
【0052】
続いて、ＦＯＵＰ１００の蓋１０１及びドア４ａの開閉動作について、以下に説明する。先ず、図７に示すように、ベース５１より離隔した状態で載置台５３上に載置されたＦＯＵＰ１００を、載置台５３を後方に向かって移動させて、蓋１０１とドア４ａとを当接させる。このとき、開閉機構５４のドア４ａでＦＯＵＰ１００の蓋１０１のロックを解除し、且つ、蓋１０１を保持させる。
【0053】
次に、図８に示すように、支持フレーム５６を後方に向かって移動させる。これにより、ドア４ａ及び蓋１０１が後方に移動する。こうすることで、ＦＯＵＰ１００の蓋１０１が開くと共にドア４ａが開いて、筐体２の搬送室４１とＦＯＵＰ１００とが連通する。
【0054】
次に、図８に示すように、支持フレーム５６を下方に移動させる。これにより、ドア４ａ及び蓋１０１が下方に移動する。こうすることで、ＦＯＵＰ１００が搬出入口として大きく開放され、ＦＯＵＰ１００とＥＦＥＭ１との間でウェハＷの移動を行うことが可能となる。なお、蓋１０１及びドア４ａを閉じる場合は、上述と逆の動作を行えばよい。また、ロードポート４の一連の動作は、ロードポート制御部１２によって制御される。
【0055】
以上に述べたように、本実施形態のＥＦＥＭ１によると、３つの供給口４７ａがＦＦＵ設置室４２内において分散して配置されているため、ＦＦＵ設置室４２全体に亘って満遍なく窒素を供給することが可能となる。このため、ＦＦＵ設置室４２における３つのＦＦＵ４４のファン４４ａ（送風器）の吸入側の圧力のバラツキが小さくなる。したがって、各ファン４４ａから搬送室４１への窒素の供給量が安定し、搬送室４１内において、窒素を垂直に流しやすくなり（窒素が層流を形成する）、塵埃が舞い上がりにくくなる。
【0056】
また、排出管４９が各ロードポート４の収容室６０と接続されており、循環路４０の外部への気体の排出が、複数の排出管４９及び複数の収容室６０を介して行われる。このため、排出管４９が１つのみ設けられている場合と比べて、搬送室４１内を下方へ流れた気体を万遍なく排出することができる。これにより、搬送室４１において窒素が形成する層流への影響が小さくなる。また、搬送室４１において窒素が形成する層流は、少なくともウェハＷの搬送領域２００及びその上方で形成されていればよい。
【0057】
また、搬送室４１には、搬送領域２００よりも下方に制御部収容箱８１及び計測機器収容箱８２（設置物）が配置され、開口２８ａは、鉛直方向から見たときに、基台部９０及び設置物のいずれとも重ならない位置に設けられていても良い。
【0058】
なお、本願発明者は、層流可視化の実験により、搬送ロボット３の上方、制御部収容箱８１の上方、及び、計測機器収容箱８２の上方の三箇所（図３の点２０１、２０２、２０３参照）において、気流速度を測定し、層流の形成状態を確認した。本実施形態では、搬送領域における気流速度が０．３ｍ／ｓとなるよう各ＦＦＵの回転数を予め決定した。その結果、ガスが搬送ロボット３等に衝突することによる搬送領域２００へのガスの逆流は起こらないことが確認された。また、供給源１１１（図３参照）からの窒素の供給量やファン４６（図５参照）の回転数を変化させても、上述した三箇所の間で、気体の流量差が３０％未満となることが確認された。つまり、搬送領域２００内に設置物が設けられていても、少なくとも搬送領域２００及びその上方では、安定した層流が形成されていることが確認された。
【0059】
また、供給口４７ａは、支持板３７の供給口４７ａまでの距離が最も近い領域３７ｂに向かって窒素が供給されるように構成されている。これにより、供給口４７ａから供給された窒素が先ずは支持板３７の領域３７ｂに当たり、その勢いが弱くなるとともに、支持板３７に沿って流れる。このため、送出口２７ｆ～２７ｈからＦＦＵ４４に流れるＦＦＵ設置室４２内の気流が乱れにくくなって、ＦＦＵ設置室４２におけるＦＦＵ４４の吸入側の圧力のバラツキが小さくなる。したがって、各ＦＦＵ４４のファン４４ａから搬送室４１への窒素の供給量のバラツキがより抑制される。
【0060】
変形例として、供給口４７ａは、筐体２の天井部の隔壁３２又は後端部の隔壁３４に向かって窒素が供給されるように構成されていてもよい。これにおいても、前述と同様に、供給口４７ａから供給された窒素の勢いが弱くなって流れ、各ＦＦＵ４４のファン４４ａから搬送室４１への窒素の供給量のバラツキがより抑制される。
【0061】
帰還路４３が、４つの空間２１ａ～２４ａ（第１流路）と接続される空間２７ａ（第２流路）を有し、空間２７ａを有する連結管２７に送出口２７ｆ～２７ｈが形成されていることで、搬送室４１からのガスが４つの空間２１ａ～２４ａを介して一旦、空間２７ａに流れてからＦＦＵ設置室４２に流れる。より詳細には、図６に示すように、空間２１ａからのガスが空間２７ａを通って送出口２７ｆに向かい、空間２２ａからのガスが空間２７ａを通って左右の送出口２７ｆ，２７ｇに向かい、空間２３ａからのガスが空間２７ａを通って左右の送出口２７ｇ，２７ｈに向かい、空間２４ａからのガスが空間２７ａを通って送出口２７ｈに向かって流れる。このように４つの空間２１ａ～２４ａからのガスを一旦空間２７ａに流すことで、４つの空間２１ａ～２４ａ間でのガスの流通量のバラツキを吸収することが可能となる。本実施形態においては、空間２１ａ，２４ａの開口面積が空間２２ａ，２３ａよりも大きくなっており、空間２１ａ，２４ａの方がガスの流通量が多くなるが、空間２７ａで各空間２１ａ～２４ａからのガスが合流し、各送出口２７ｆ～２７ｈからＦＦＵ設置室４２に送出される。このため、各空間２１ａ～２４ａから直接、ＦＦＵ設置室４２にガスが送出されるときよりも、送出口２７ｆ～２７ｈからのガスの送出量が安定し、各ファン４４ａの吸入側の圧力のばらつきも抑制され、各ファン４４ａから搬送室４１への窒素の供給量のバラツキがより抑制される。
【0062】
各送出口２７ｆ～２７ｈは、左右方向において、隣接する２つの空間２１ａ～２４ａ間にそれぞれ配置されているため、当該隣接する２つの空間２１ａ～２４ａからのガスの流通量にバラツキがあっても送出口２７ｆ～２７ｈからのガスの送出量がより安定する。このため、ファン４４ａから搬送室４１への窒素の供給量のバラツキがより一層抑制される。
【0063】
また、各送出口２７ｆ～２７ｈは、前後方向において、供給口４７ａとの間でファン４４ａを挟む位置に配置されている。これにより、帰還路４３からファン４４ａに流れるＦＦＵ設置室４２内の気流が乱れにくくなって、各ファン４４ａから搬送室４１への窒素の供給量のバラツキがより一層抑制される。
【0064】
以上、本発明の好適な実施の形態について説明したが、本発明は上述の実施の形態に限られるものではなく、特許請求の範囲に記載した限りにおいて様々な変更が可能なものである。前述の実施形態においては、供給管４７に形成された３つの供給口４７ａがＦＦＵ設置室４２において、分散して配置されていたが、供給管４７に２又は４以上の供給口４７ａがＦＦＵ設置室４２において、分散して配置されていてもよい。また、供給管４７に代えて、多孔質管（例えば、エアストーンなど）がＦＦＵ設置室４２に配置されていてもよい。これにおいても多孔質管の複数の供給口がＦＦＵ設置室４２において分散して配置され、前述の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【0065】
また、複数の供給口４７ａは、ＦＦＵ設置室４２のどこに配置されていてもよい。つまり、筐体２の前端部側に配置されていてもよい。また、ガス吸引口としての開口２８ａは、搬送室４１の下部よりも上方に配置されていてもよい。また、帰還路４３は、第１流路としての空間２１ａ～２４ａだけから構成され、各空間２１ａ～２４ａからＦＦＵ設置室４２に直接、ガスが送出されてもよい。この場合、第１流路としての空間が１～３又は５以上であってもよい。また、帰還路４３が、第２流路としての空間２７ａを有する場合、第１流路としての空間が、２、３又は５以上であってもよい。
【0066】
また、各送出口２７ｆ～２７ｈが、左右方向において、隣接する２つの空間２１ａ～２４ａ間に配置されていなくてもよい。ファン４４ａ（ＦＦＵ４４）は、２又は４以上設けられていてもよい。この場合、連通口３７ａもファン４４ａと対応して支持板３７に形成されておればよい。
【0067】
また、送出口２７ｆ～２７ｈの代わりに、例えば、多数の孔が形成されたパンチングメタル（不図示）を連結管２７の上面全体に設けるなどして、気体の流れを変えても良い。
【0068】
また、柱２１～２４及び連結管２７の内部に形成された空間２１ａ～２４ａ，２７ａが帰還路４３であるものとしたが、これには限られない。すなわち、帰還路４３は他の部材によって形成されていてもよい。
【符号の説明】
【0069】
１ ＥＦＥＭ
２ 筐体
３ 搬送ロボット（基板搬送装置）
４ ロードポート
２１ａ～２４ａ 空間（第１流路）
２７ａ 空間（第２流路）
２７ｆ～２７ｈ 送出口
２８ａ 開口（ガス吸引口）
３３ 隔壁
３３ａ１ 開口
３７ 支持板
３７ａ 連通口
３７ｂ 領域
４１ 搬送室
４２ ＦＦＵ設置室（上部空間）
４３ 帰還路（ガス帰還路）
４４ａ ファン（送風器）
４７ 供給管（不活性ガス供給手段）
４７ａ 供給口
４９ 排出管（ガス排出手段）
Ｗ ウェハ（基板）
２ 筐体
３ 搬送ロボット（基板搬送装置）
４ ロードポート
２１ａ～２４ａ 空間（第１流路）
２７ａ 空間（第２流路）
２７ｆ～２７ｈ 送出口
２８ａ 開口（ガス吸引口）
３３ 隔壁
３３ａ１ 開口
３７ 支持板
３７ａ 連通口
３７ｂ 領域
４１ 搬送室
４２ ＦＦＵ設置室（上部空間）
４３ 帰還路（ガス帰還路）
４４ａ ファン（送風器）
４７ 供給管（不活性ガス供給手段）
４７ａ 供給口
４９ 排出管（ガス排出手段）
Ｗ ウェハ（基板）
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】