特許7141167IP Force 特許公報全文掲載

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主に半導体を製造する際の露光に用いられる露光用光源、露光装置、および露光方法

要約特許出願時に添付された[要約書]

通常はＬＥＤを用いた光源で露光を行い、露光面照度が不足する場合には別の光源を用いてより多くの光量で露光を継続することのできる露光用光源を提供する。
露光用光源１２を、ＬＥＤ３０を有する第１光源２０と、第１光源２０におけるＬＥＤ３０から放射されるＬＥＤ光よりも多くの光量を放射する光源で構成された第２光源２２とで構成する。そして、１回の露光工程中において第１光源２０からの光では不足する場合、第１光源２０からの光に変えて第２光源２２からの光で露光を行う。

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

このように露光装置による生産継続性をさらに追求しようとすると、光源の交換頻度を減らすために、光源の長寿命化が求められる。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明の一局面によれば、 ＬＥＤを有する第１光源、および、前記第１光源における前記ＬＥＤから放射されるＬＥＤ光よりも多くの光量を放射する光源で構成された第２光源を備える露光用光源と、 前記第１光源および前記第２光源からの光を露光面に導く光学系具とを備えており、 前記露光用光源は、１回の露光工程中において前記第１光源か・・・　続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明に係る露光用光源によれば、通常はＬＥＤを用いた光源で露光を行い、露光面照度が不足する場合には別の光源を用いてより多くの光量で露光を継続するようになっているので、ＬＥＤの寿命を不必要に損なうことなく、露光光量が不足するのを回避できた。

この特許の権利範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 本発明が適用された光照射装置１０を示す図である。
【図2】 変形例１に係る光照射装置１０を示す図である。
【図3】 変形例２に係る光照射装置１０を示す図である。
【図4】 変形例３に係る、第１光源２０から放射される光による露光量のイメージを示す図である。
【図5】 変形例３に係る、第１光源２０から放射される光による露光量のイメージを示す図である。
【図6】 光学系具１４にシャッターＳが加えられた光照射装置１０を示す図である。
【図7】 従来技術に係る一般的なコリメーション半角を示す図である。
【図8】 変形例３に係る光照射装置１０におけるコリメーション半角の一例を示す図である。
【図9】 変形例３に係る光照射装置１０におけるコリメーション半角の別の例を示す図である。
１０…光照射装置 １２…露光用光源、１４…光学系具 ２０…第１光源、２２…第２光源 ３０…ＬＥＤ、３２…（第２光源２２用の）光源 ４０…インテグレータレンズ、４２…第１反射鏡、４４…平行化鏡、４６…第２反射鏡、４８…光源移動装置 ５０…アパーチャー、５２…開口 Ｘ…ワーク（露光対象物）、Ａ…露光面、Ｄ…光源、Ｌ…露光用光、Ｃ…コリメーション半角、Ｓ…シャッター

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