発明の名称 フォトレジスト用フェノール樹脂組成物及びフォトレジスト組成物
出願人 宇部興産株式会社 (識別番号 206)
特許公開件数ランキング 1151 位(7件)(共同出願を含む)
特許取得件数ランキング 456 位(17件)(共同出願を含む)
公報番号 特許-7147768
公報発行日 2022年10月5
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7147768
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