発明の名称 ナノインプリントリソグラフィプロセスと、それから得られるパターン化基板
出願人 ユニヴェルシテ デクス−マルセイユ (識別番号 511025226)
特許公開件数ランキング 13870 位(0件)(共同出願を含む)
特許取得件数ランキング 11686 位(0件)(共同出願を含む)
出願人 センター ナショナル ド ラ ルシェルシュ サイエンティフィーク (識別番号 506316557)
特許公開件数ランキング 2018 位(15件)(共同出願を含む)
特許取得件数ランキング 800 位(20件)(共同出願を含む)
出願人 ソルボンヌ・ユニヴェルシテ (識別番号 518059934)
特許公開件数ランキング 4781 位(8件)(共同出願を含む)
特許取得件数ランキング 11686 位(3件)(共同出願を含む)
出願人 ユニヴェルシテ パリ−サクレー (識別番号 520179305)
特許公開件数ランキング 13870 位(2件)(共同出願を含む)
特許取得件数ランキング 11686 位(2件)(共同出願を含む)
公報番号 特許-7148535
公報発行日 2022年10月5
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7148535
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