(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2022-09-28
(45)【発行日】2022-10-06
(54)【発明の名称】作物の損傷を低減させる方法
(51)【国際特許分類】
A01N 43/80 20060101AFI20220929BHJP
A01N 25/32 20060101ALI20220929BHJP
A01N 43/56 20060101ALI20220929BHJP
A01P 13/02 20060101ALI20220929BHJP
A01N 41/06 20060101ALN20220929BHJP
A01N 43/42 20060101ALN20220929BHJP
【ＦＩ】
A01N43/80 101
A01N25/32
A01N43/56 D
A01P13/02
A01N41/06 B
A01N43/42 101
【請求項の数】
3
(21)【出願番号】P 2019511661
(86)(22)【出願日】2017-08-28
(65)【公表番号】
(43)【公表日】2019-09-05
(86)【国際出願番号】 EP2017071512
(87)【国際公開番号】W WO2018041762
(87)【国際公開日】2018-03-08
【審査請求日】2020-08-25
(31)【優先権主張番号】16186376.6
(32)【優先日】2016-08-30
(33)【優先権主張国・地域又は機関】EP
(31)【優先権主張番号】16205637.8
(32)【優先日】2016-12-21
(33)【優先権主張国・地域又は機関】EP
(73)【特許権者】
【識別番号】391022452
【氏名又は名称】エフ エム シー コーポレーション
【氏名又は名称原語表記】ＦＭＣ ＣＯＲＰＯＲＡＴＩＯＮ
(74)【代理人】
【識別番号】100127926
【弁理士】
【氏名又は名称】結田 純次
(74)【代理人】
【識別番号】100140132
【弁理士】
【氏名又は名称】竹林 則幸
(72)【発明者】
【氏名】アウラー，トマス
(72)【発明者】
【氏名】ディットゲン，ヤン
(72)【発明者】
【氏名】トッセンス，エルベ
【審査官】鳥居 福代
(56)【参考文献】
【文献】特表２０１４－５１２４１２（ＪＰ，Ａ）
【文献】Environ Exp Bot，2013年，Vol.88，p.93-99
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ａ０１Ｎ ４３／８０
Ａ０１Ｎ ２５／３２
Ａ０１Ｎ ４３／５６
Ａ０１Ｐ １３／０２
Ａ０１Ｎ ４１／０６
Ａ０１Ｎ ４３／４２
ＣＡｐｌｕｓ／ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ）
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
作物の損傷を低減させる方法であって、該作物の種子を、播種前に、メフェンピル－ジエチルで処理すること（段階１）、及び、発芽処理において、２－（２，４－ジクロロフェニル）メチル－４，４－ジメチル－３－イソオキサゾリジノン（化合物Ｉ）又はそれを含んでいる組み合わせ／組成物及びメフェンピル－ジエチルを施用すること（段階２）を特徴とする、前記方法。
【請求項2】
段階２における前記組成物が、化合物Ｉに加えて、以下のものからなる群から選択される少なくとも１種類のさらなる除草剤を含んでいる、請求項１に記載の方法：アクロニフェン、ブロモキシニル、ブロモキシニル－ブチレート、ブロモキシニル－カリウム、ブロモキシニル－ヘプタノエート及びブロモキシニル－オクタノエート、ベンゾフェナップ、ブタクロール、２，４－Ｄ、２，４－Ｄ－ブトチル、２，４－Ｄ－ブチル、２，４－Ｄ－ジメチルアンモニウム、２，４－Ｄ－ジオールアミン、２，４－Ｄ－エチル、２，４－Ｄ－２－エチルヘキシル、２，４－Ｄ－イソブチル、２，４－Ｄ－イソオクチル、２，４－Ｄ－イソプロピルアンモニウム、２，４－Ｄ－カリウム、２，４－Ｄ－トリイソプロパノールアンモニウム及び２，４－Ｄ－トロールアミン、ビシクロピロン、シンメチリン、ジフルフェニカン、ジメテナミド、エトキシスルフロン、フェノキサプロップ、フェノキサプロップ－Ｐ、フェノキサプロップ－エチル、フェノキサプロップ－Ｐ－エチル、フェンキノトリオン、フェントラザミド、フロラスラム、フロルピラウキシフェン－ベンジル、フルフェナセット、フルロキシピル、フルロキシピル－メプチル、ホラムスルフロン、ヨードスルフロン、ヨードスルフロン－メチル－ナトリウム、イソプロツロン、イソキサフルトール、ランコトリオン、メフェナセット、メソスルフロン、メソスルフロン－メチル、メトラクロール、Ｓ－メトラクロール、メトリブジン、メトスラム、ニコスルフロン、オキサジアルギル、オキサジアゾン、ペトキサミド、プロスルホカルブ、ピラスルホトール、ピロキサスルホン、ピロキシスラム、テフリルトリオン、テンボトリオン、チエンカルバゾン、チエンカルバゾン－メチル、トルピラレート、及び、トリアファモン、ペンジメタリン、プロポキシカルバゾン、ハラウキシフェン－メチル、２－メチル－４－クロロフェノキシ酢酸（群ＩＩ）。
【請求項3】
前記作物が遺伝子組み換え植物である、請求項１に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、作物の損傷を低減させる方法に関し、ここで、該方法は、その作物の種子を播種の前に薬害軽減剤で処理することによる。これは、発生前処理及び発生後処理における除草剤による損傷から作物を保護するのに極めて適している作物保護組み合わせ／組成物（特に、除草剤／薬害軽減剤の組み合わせ及びそれらを含んでいる組成物）を使用することに加えて、実施することができる。
【背景技術】
【0002】
２－（２，４－ジクロロフェニル）メチル－４，４－ジメチル－３－イソオキサゾリジノン（化合物Ｉ）を包含する特定の３－イソオキサゾリジノン類が、イネ科作物及びアブラナ科作物に対して選択的な除草活性を示すこと（ＷＯ２０１２／１４８６８９）、並びに、困難な雑草又は除草剤抵抗性を示す雑草の防除において特に有効であることは、既に知られている。
【0003】
しかしながら、一部の除草剤又はそれらを組み合わせたものは、多くの種類の重要な作物植物（例えば、さまざまな穀類種（例えば、コムギ、ライコムギ、オオムギ、ライムギ）、サトウキビ、テンサイ、ダイズ、ナタネ、トウモロコシ、イネ、ジャガイモ、野菜類又はワタ）と充分な適合性を示さず、作物の損傷を引き起こす。従って、一部の作物においては、それらは、作物に損傷を引き起こすことなく有害な植物に対して所望される広範な除草活性を保証するような方法で使用することができない。
【0004】
一部の農薬は、除草剤と組み合わせて使用された場合、作物の損傷を低減させることができる。これらの化合物は、薬害軽減剤と称され、そして、作物保護において、特に、作物内で除草剤を施用する間に雑草を防除する分野において、広く使用されている。薬害軽減剤の作用機序は、多くの場合、詳細には知られておらず、そして、それらの効力は、概して、当該作物に依存し、及び、組み合わせる特定の除草剤に左右される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【文献】国際特許出願公開第２０１２／１４８６８９号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
本発明の目的は、除草剤と薬害軽減剤の既知組み合わせ及びそれらを含んでいる組成物を使用して作物の損傷をさらに低減させる方法を提供することであった。
【課題を解決するための手段】
【0007】
驚くべきことに、上記目的は、以下の処理方法／処理体系によって達成される。
【0008】
方法Ａ
段階１： 薬害軽減剤で種子を処理すること；
段階２： ２－（２，４－ジクロロフェニル）メチル－４，４－ジメチル－３－イソオキサゾリジノン（化合物Ｉ）又はそれを含んでいる組み合わせ／組成物を発生後処理において施用すること。
段階１： 薬害軽減剤で種子を処理すること；
段階２： ２－（２，４－ジクロロフェニル）メチル－４，４－ジメチル－３－イソオキサゾリジノン（化合物Ｉ）又はそれを含んでいる組み合わせ／組成物を発生後処理において施用すること。
【0009】
方法Ｂ
段階１： 薬害軽減剤で種子を処理すること；
段階２： ２－（２，４－ジクロロフェニル）メチル－４，４－ジメチル－３－イソオキサゾリジノン（化合物Ｉ）又はそれを含んでいる組み合わせ／組成物を発生前処理において施用すること。
段階１： 薬害軽減剤で種子を処理すること；
段階２： ２－（２，４－ジクロロフェニル）メチル－４，４－ジメチル－３－イソオキサゾリジノン（化合物Ｉ）又はそれを含んでいる組み合わせ／組成物を発生前処理において施用すること。
【0010】
方法Ｃ
段階１： 薬害軽減剤で種子を処理すること；
段階２： ２－（２，４－ジクロロフェニル）メチル－４，４－ジメチル－３－イソオキサゾリジノン（化合物Ｉ）又はそれを含んでいる組み合わせ／組成物及び薬害軽減剤を発生後処理において施用すること。
段階１： 薬害軽減剤で種子を処理すること；
段階２： ２－（２，４－ジクロロフェニル）メチル－４，４－ジメチル－３－イソオキサゾリジノン（化合物Ｉ）又はそれを含んでいる組み合わせ／組成物及び薬害軽減剤を発生後処理において施用すること。
【0011】
方法Ｄ
段階１： 薬害軽減剤で種子を処理すること；
段階２： ２－（２，４－ジクロロフェニル）メチル－４，４－ジメチル－３－イソオキサゾリジノン（化合物Ｉ）又はそれを含んでいる組み合わせ／組成物及び薬害軽減剤を発生前処理において施用すること。
段階１： 薬害軽減剤で種子を処理すること；
段階２： ２－（２，４－ジクロロフェニル）メチル－４，４－ジメチル－３－イソオキサゾリジノン（化合物Ｉ）又はそれを含んでいる組み合わせ／組成物及び薬害軽減剤を発生前処理において施用すること。
【発明を実施するための形態】
【0012】
好ましいのは、以下の方法である。
【0013】
方法Ａ－１
段階１： イソキサジフェン－エチル、シプロスルファミド、メフェンピル－ジエチル及びクロキントセット－メキシル（これは、その水和物及び塩を包含する）からなる群（群Ｉ）から選択される薬害軽減剤で種子を処理すること；
段階２： ２－（２，４－ジクロロフェニル）メチル－４，４－ジメチル－３－イソオキサゾリジノン（化合物Ｉ）を発生後処理で施用すること。
段階１： イソキサジフェン－エチル、シプロスルファミド、メフェンピル－ジエチル及びクロキントセット－メキシル（これは、その水和物及び塩を包含する）からなる群（群Ｉ）から選択される薬害軽減剤で種子を処理すること；
段階２： ２－（２，４－ジクロロフェニル）メチル－４，４－ジメチル－３－イソオキサゾリジノン（化合物Ｉ）を発生後処理で施用すること。
【0014】
方法Ｂ－１
段階１： イソキサジフェン－エチル、シプロスルファミド、メフェンピル－ジエチル及びクロキントセット－メキシル（これは、その水和物及び塩を包含する）からなる群（群Ｉ）から選択される薬害軽減剤で種子を処理すること；
段階２： ２－（２，４－ジクロロフェニル）メチル－４，４－ジメチル－３－イソオキサゾリジノン（化合物Ｉ）を発生前処理で施用すること。
段階１： イソキサジフェン－エチル、シプロスルファミド、メフェンピル－ジエチル及びクロキントセット－メキシル（これは、その水和物及び塩を包含する）からなる群（群Ｉ）から選択される薬害軽減剤で種子を処理すること；
段階２： ２－（２，４－ジクロロフェニル）メチル－４，４－ジメチル－３－イソオキサゾリジノン（化合物Ｉ）を発生前処理で施用すること。
【0015】
方法Ｃ－１
段階１： イソキサジフェン－エチル、シプロスルファミド、メフェンピル－ジエチル及びクロキントセット－メキシル（これは、その水和物及び塩を包含する）からなる群（群Ｉ）から選択される薬害軽減剤で種子を処理すること；
段階２： ２－（２，４－ジクロロフェニル）メチル－４，４－ジメチル－３－イソオキサゾリジノン（化合物Ｉ）並びにイソキサジフェン－エチル、シプロスルファミド、メフェンピル－ジエチル及びクロキントセット－メキシル（これは、その水和物及び塩を包含する）からなる群（群Ｉ）から選択される薬害軽減剤を発生後処理で施用すること。
段階１： イソキサジフェン－エチル、シプロスルファミド、メフェンピル－ジエチル及びクロキントセット－メキシル（これは、その水和物及び塩を包含する）からなる群（群Ｉ）から選択される薬害軽減剤で種子を処理すること；
段階２： ２－（２，４－ジクロロフェニル）メチル－４，４－ジメチル－３－イソオキサゾリジノン（化合物Ｉ）並びにイソキサジフェン－エチル、シプロスルファミド、メフェンピル－ジエチル及びクロキントセット－メキシル（これは、その水和物及び塩を包含する）からなる群（群Ｉ）から選択される薬害軽減剤を発生後処理で施用すること。
【0016】
方法Ｄ－１
段階１： イソキサジフェン－エチル、シプロスルファミド、メフェンピル－ジエチル及びクロキントセット－メキシル（これは、その水和物及び塩を包含する）からなる群（群Ｉ）から選択される薬害軽減剤で種子を処理すること；
段階２： ２－（２，４－ジクロロフェニル）メチル－４，４－ジメチル－３－イソオキサゾリジノン（化合物Ｉ）並びにイソキサジフェン－エチル、シプロスルファミド、メフェンピル－ジエチル及びクロキントセット－メキシル（これは、その水和物及び塩を包含する）からなる群（群Ｉ）から選択される薬害軽減剤を発生前処理で施用すること。
段階１： イソキサジフェン－エチル、シプロスルファミド、メフェンピル－ジエチル及びクロキントセット－メキシル（これは、その水和物及び塩を包含する）からなる群（群Ｉ）から選択される薬害軽減剤で種子を処理すること；
段階２： ２－（２，４－ジクロロフェニル）メチル－４，４－ジメチル－３－イソオキサゾリジノン（化合物Ｉ）並びにイソキサジフェン－エチル、シプロスルファミド、メフェンピル－ジエチル及びクロキントセット－メキシル（これは、その水和物及び塩を包含する）からなる群（群Ｉ）から選択される薬害軽減剤を発生前処理で施用すること。
【0017】
さらに好ましいのは、以下の方法である。
【0018】
方法Ａ－２
段階１： メフェンピル－ジエチルで種子を処理すること；
段階２： ２－（２，４－ジクロロフェニル）メチル－４，４－ジメチル－３－イソオキサゾリジノン（化合物Ｉ）を発生後処理で施用すること。
段階１： メフェンピル－ジエチルで種子を処理すること；
段階２： ２－（２，４－ジクロロフェニル）メチル－４，４－ジメチル－３－イソオキサゾリジノン（化合物Ｉ）を発生後処理で施用すること。
【0019】
方法Ｂ－２
段階１： メフェンピル－ジエチルで種子を処理すること；
段階２： ２－（２，４－ジクロロフェニル）メチル－４，４－ジメチル－３－イソオキサゾリジノン（化合物Ｉ）を発生前処理で施用すること。
段階１： メフェンピル－ジエチルで種子を処理すること；
段階２： ２－（２，４－ジクロロフェニル）メチル－４，４－ジメチル－３－イソオキサゾリジノン（化合物Ｉ）を発生前処理で施用すること。
【0020】
方法Ｃ－２
段階１： メフェンピル－ジエチルで種子を処理すること；
段階２： ２－（２，４－ジクロロフェニル）メチル－４，４－ジメチル－３－イソオキサゾリジノン（化合物Ｉ）及びメフェンピル－ジエチルを発生後処理で施用すること。
段階１： メフェンピル－ジエチルで種子を処理すること；
段階２： ２－（２，４－ジクロロフェニル）メチル－４，４－ジメチル－３－イソオキサゾリジノン（化合物Ｉ）及びメフェンピル－ジエチルを発生後処理で施用すること。
【0021】
方法Ｄ－２
段階１： メフェンピル－ジエチルで種子を処理すること；
段階２： ２－（２，４－ジクロロフェニル）メチル－４，４－ジメチル－３－イソオキサゾリジノン（化合物Ｉ）及びメフェンピル－ジエチルを発生前処理で施用すること。
段階１： メフェンピル－ジエチルで種子を処理すること；
段階２： ２－（２，４－ジクロロフェニル）メチル－４，４－ジメチル－３－イソオキサゾリジノン（化合物Ｉ）及びメフェンピル－ジエチルを発生前処理で施用すること。
【0022】
最も好ましいのは、以下の方法である。
【0023】
方法Ａ－３
段階１： １～０．０１ｇ／ｋｇの量のメフェンピル－ジエチルで種子を処理すること；
段階２： ２－（２，４－ジクロロフェニル）メチル－４，４－ジメチル－３－イソオキサゾリジノン（化合物Ｉ）を発生後処理で施用すること。
段階１： １～０．０１ｇ／ｋｇの量のメフェンピル－ジエチルで種子を処理すること；
段階２： ２－（２，４－ジクロロフェニル）メチル－４，４－ジメチル－３－イソオキサゾリジノン（化合物Ｉ）を発生後処理で施用すること。
【0024】
方法Ｂ－３
段階１： １～０．０１ｇ／ｋｇの量のメフェンピル－ジエチルで種子を処理すること；
段階２： ２－（２，４－ジクロロフェニル）メチル－４，４－ジメチル－３－イソオキサゾリジノン（化合物Ｉ）を発生前処理で施用すること。
段階１： １～０．０１ｇ／ｋｇの量のメフェンピル－ジエチルで種子を処理すること；
段階２： ２－（２，４－ジクロロフェニル）メチル－４，４－ジメチル－３－イソオキサゾリジノン（化合物Ｉ）を発生前処理で施用すること。
【0025】
方法Ｃ－３
段階１： １～０．０１ｇ／ｋｇの量のメフェンピル－ジエチルで種子を処理すること；．
段階２： ２－（２，４－ジクロロフェニル）メチル－４，４－ジメチル－３－イソオキサゾリジノン（化合物Ｉ）及びメフェンピル－ジエチルを発生後処理で施用すること。
段階１： １～０．０１ｇ／ｋｇの量のメフェンピル－ジエチルで種子を処理すること；．
段階２： ２－（２，４－ジクロロフェニル）メチル－４，４－ジメチル－３－イソオキサゾリジノン（化合物Ｉ）及びメフェンピル－ジエチルを発生後処理で施用すること。
【0026】
方法Ｄ－３
段階１： １～０．０１ｇ／ｋｇの量のメフェンピル－ジエチルで種子を処理すること；
段階２： ２－（２，４－ジクロロフェニル）メチル－４，４－ジメチル－３－イソオキサゾリジノン（化合物Ｉ）及びメフェンピル－ジエチルを発生前処理で施用すること。
段階１： １～０．０１ｇ／ｋｇの量のメフェンピル－ジエチルで種子を処理すること；
段階２： ２－（２，４－ジクロロフェニル）メチル－４，４－ジメチル－３－イソオキサゾリジノン（化合物Ｉ）及びメフェンピル－ジエチルを発生前処理で施用すること。
【0027】
定義
薬害軽減剤：
（Ｓ１） ヘテロ環式カルボン酸誘導体の群の化合物：
（Ｓ１ａ） ジクロロフェニルピラゾリン－３－カルボン酸のタイプの化合物（Ｓ１ａ）、好ましくは、以下のような化合物：１－（２，４－ジクロロフェニル）－５－（エトキシカルボニル）－５－メチル－２－ピラゾリン－３－カルボン酸、１－（２，４－ジクロロフェニル）－５－（エトキシカルボニル）－５－メチル－２－ピラゾリン－３－カルボン酸エチル（Ｓ１－１）（「メフェンピル（－ジエチル）」）及び関連化合物（これらは、ＷＯ－Ａ－９１／０７８７４に記載されている）；
（Ｓ１ｂ） ジクロロフェニルピラゾールカルボン酸の誘導体（Ｓ１ｂ）、好ましくは、以下のような化合物：１－（２，４－ジクロロフェニル）－５－メチルピラゾール－３－カルボン酸エチル（Ｓ１－２）、１－（２，４－ジクロロフェニル）－５－イソプロピルピラゾール－３－カルボン酸エチル（Ｓ１－３）、１－（２，４－ジクロロフェニル）－５－（１，１－ジメチルエチル）ピラゾール－３－カルボン酸エチル（Ｓ１－４）及び関連化合物（これらは、ＥＰ－Ａ－３３３１３１及びＥＰ－Ａ－２６９８０６に記載されている）；
（Ｓ１ｃ） １，５－ジフェニルピラゾール－３－カルボン酸の誘導体（Ｓ１ｃ）、好ましくは、以下のような化合物：１－（２，４－ジクロロフェニル）－５－フェニルピラゾール－３－カルボン酸エチル（Ｓ１－５）、１－（２－クロロフェニル）－５－フェニルピラゾール－３－カルボン酸メチル（Ｓ１－６）及び関連化合物（これらは、例えば、ＥＰ－Ａ－２６８５５４に記載されている）；
（Ｓ１ｄ） トリアゾールカルボン酸のタイプの化合物（Ｓ１ｄ）、好ましくは、以下のような化合物：フェンクロラゾール（－エチル）、即ち、１－（２，４－ジクロロフェニル）－５－トリクロロメチル－１Ｈ－１，２，４－トリアゾール－３－カルボン酸エチル（Ｓ１－７）及び関連化合物（これらは、ＥＰ－Ａ－１７４５６２及びＥＰ－Ａ－３４６６２０に記載されている）；
（Ｓ１ｅ） ５－ベンジル－２－イソオキサゾリン－３－カルボン酸若しくは５－フェニル－２－イソオキサゾリン－３－カルボン酸のタイプ又は５，５－ジフェニル－２－イソオキサゾリン－３－カルボン酸のタイプの化合物（Ｓ１ｅ）、好ましくは、以下のような化合物：５－（２，４－ジクロロベンジル）－２－イソオキサゾリン－３－カルボン酸エチル（Ｓ１－８）若しくは５－フェニル－２－イソオキサゾリン－３－カルボン酸エチル（Ｓ１－９）及び関連化合物（これらは、ＷＯ－Ａ－９１／０８２０２に記載されている）、又は、５，５－ジフェニル－２－イソオキサゾリンカルボン酸（Ｓ１－１０）若しくは５，５－ジフェニル－２－イソオキサゾリンカルボン酸エチル（Ｓ１－１１）（「イソキサジフェン－エチル」）若しくは５，５－ジフェニル－２－イソオキサゾリンカルボン酸ｎ－プロピル（Ｓ１－１２）若しくは５－（４－フルオロフェニル）－５－フェニル－２－イソオキサゾリン－３－カルボン酸エチル（Ｓ１－１３）（これらは、特許出願ＷＯ－Ａ－９５／０７８９７に記載されている）。
薬害軽減剤：
（Ｓ１） ヘテロ環式カルボン酸誘導体の群の化合物：
（Ｓ１ａ） ジクロロフェニルピラゾリン－３－カルボン酸のタイプの化合物（Ｓ１ａ）、好ましくは、以下のような化合物：１－（２，４－ジクロロフェニル）－５－（エトキシカルボニル）－５－メチル－２－ピラゾリン－３－カルボン酸、１－（２，４－ジクロロフェニル）－５－（エトキシカルボニル）－５－メチル－２－ピラゾリン－３－カルボン酸エチル（Ｓ１－１）（「メフェンピル（－ジエチル）」）及び関連化合物（これらは、ＷＯ－Ａ－９１／０７８７４に記載されている）；
（Ｓ１ｂ） ジクロロフェニルピラゾールカルボン酸の誘導体（Ｓ１ｂ）、好ましくは、以下のような化合物：１－（２，４－ジクロロフェニル）－５－メチルピラゾール－３－カルボン酸エチル（Ｓ１－２）、１－（２，４－ジクロロフェニル）－５－イソプロピルピラゾール－３－カルボン酸エチル（Ｓ１－３）、１－（２，４－ジクロロフェニル）－５－（１，１－ジメチルエチル）ピラゾール－３－カルボン酸エチル（Ｓ１－４）及び関連化合物（これらは、ＥＰ－Ａ－３３３１３１及びＥＰ－Ａ－２６９８０６に記載されている）；
（Ｓ１ｃ） １，５－ジフェニルピラゾール－３－カルボン酸の誘導体（Ｓ１ｃ）、好ましくは、以下のような化合物：１－（２，４－ジクロロフェニル）－５－フェニルピラゾール－３－カルボン酸エチル（Ｓ１－５）、１－（２－クロロフェニル）－５－フェニルピラゾール－３－カルボン酸メチル（Ｓ１－６）及び関連化合物（これらは、例えば、ＥＰ－Ａ－２６８５５４に記載されている）；
（Ｓ１ｄ） トリアゾールカルボン酸のタイプの化合物（Ｓ１ｄ）、好ましくは、以下のような化合物：フェンクロラゾール（－エチル）、即ち、１－（２，４－ジクロロフェニル）－５－トリクロロメチル－１Ｈ－１，２，４－トリアゾール－３－カルボン酸エチル（Ｓ１－７）及び関連化合物（これらは、ＥＰ－Ａ－１７４５６２及びＥＰ－Ａ－３４６６２０に記載されている）；
（Ｓ１ｅ） ５－ベンジル－２－イソオキサゾリン－３－カルボン酸若しくは５－フェニル－２－イソオキサゾリン－３－カルボン酸のタイプ又は５，５－ジフェニル－２－イソオキサゾリン－３－カルボン酸のタイプの化合物（Ｓ１ｅ）、好ましくは、以下のような化合物：５－（２，４－ジクロロベンジル）－２－イソオキサゾリン－３－カルボン酸エチル（Ｓ１－８）若しくは５－フェニル－２－イソオキサゾリン－３－カルボン酸エチル（Ｓ１－９）及び関連化合物（これらは、ＷＯ－Ａ－９１／０８２０２に記載されている）、又は、５，５－ジフェニル－２－イソオキサゾリンカルボン酸（Ｓ１－１０）若しくは５，５－ジフェニル－２－イソオキサゾリンカルボン酸エチル（Ｓ１－１１）（「イソキサジフェン－エチル」）若しくは５，５－ジフェニル－２－イソオキサゾリンカルボン酸ｎ－プロピル（Ｓ１－１２）若しくは５－（４－フルオロフェニル）－５－フェニル－２－イソオキサゾリン－３－カルボン酸エチル（Ｓ１－１３）（これらは、特許出願ＷＯ－Ａ－９５／０７８９７に記載されている）。
【0028】
（Ｓ２） ８－キノリンオキシ誘導体の群の化合物（Ｓ２）：
（Ｓ２ａ） ８－キノリンオキシ酢酸のタイプの化合物（Ｓ２ａ）、好ましくは、（５－クロロ－８－キノリンオキシ）酢酸１－メチルヘキシル（一般名「クロキントセット－メキシル」）（Ｓ２－１）、（５－クロロ－８－キノリンオキシ）酢酸１，３－ジメチル－ブタ－１－イル（Ｓ２－２）、（５－クロロ－８－キノリンオキシ）酢酸４－アリルオキシブチル（Ｓ２－３）、（５－クロロ－８－キノリンオキシ）酢酸１－アリルオキシプロパ－２－イル（Ｓ２－４）、（５－クロロ－８－キノリンオキシ）酢酸エチル（Ｓ２－５）、５－クロロ－８－キノリンオキシ酢酸メチル（Ｓ２－６）、（５－クロロ－８－キノリンオキシ）酢酸アリル（Ｓ２－７）、（５－クロロ－８－キノリンオキシ）酢酸２－（２－プロピリデンイミノオキシ）－１－エチル（Ｓ２－８）、（５－クロロ－８－キノリンオキシ）酢酸２－オキソ－プロパ－１－イル（Ｓ２－９）及び関連化合物（これらは、ＥＰ－Ａ－８６７５０、ＥＰ－Ａ－９４３４９及びＥＰ－Ａ－１９１７３６又はＥＰ－Ａ－０４９２３６６に記載されている）、並びに、さらに、（５－クロロ－８－キノリンオキシ）酢酸（Ｓ２－１０）、その水和物及び塩、例えば、そのリチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩、マグネシウム塩、アルミニウム塩、鉄塩、アンモニウム塩、第４級アンモニウム塩、スルホニウム塩又はホスホニウム塩（これらは、ＷＯ－Ａ－２００２／３４０４８記載されている）；
（Ｓ２ｂ） （５－クロロ－８－キノリンオキシ）マロン酸のタイプの化合物（Ｓ２ｂ）、好ましくは、以下のような化合物：（５－クロロ－８－キノリンオキシ）マロン酸ジエチル、（５－クロロ－８－キノリンオキシ）マロン酸ジアリル、（５－クロロ－８－キノリンオキシ）マロン酸メチルエチル及び関連化合物（これらは、ＥＰ－Ａ－０５８２１９８に記載されている）。
（Ｓ２ａ） ８－キノリンオキシ酢酸のタイプの化合物（Ｓ２ａ）、好ましくは、（５－クロロ－８－キノリンオキシ）酢酸１－メチルヘキシル（一般名「クロキントセット－メキシル」）（Ｓ２－１）、（５－クロロ－８－キノリンオキシ）酢酸１，３－ジメチル－ブタ－１－イル（Ｓ２－２）、（５－クロロ－８－キノリンオキシ）酢酸４－アリルオキシブチル（Ｓ２－３）、（５－クロロ－８－キノリンオキシ）酢酸１－アリルオキシプロパ－２－イル（Ｓ２－４）、（５－クロロ－８－キノリンオキシ）酢酸エチル（Ｓ２－５）、５－クロロ－８－キノリンオキシ酢酸メチル（Ｓ２－６）、（５－クロロ－８－キノリンオキシ）酢酸アリル（Ｓ２－７）、（５－クロロ－８－キノリンオキシ）酢酸２－（２－プロピリデンイミノオキシ）－１－エチル（Ｓ２－８）、（５－クロロ－８－キノリンオキシ）酢酸２－オキソ－プロパ－１－イル（Ｓ２－９）及び関連化合物（これらは、ＥＰ－Ａ－８６７５０、ＥＰ－Ａ－９４３４９及びＥＰ－Ａ－１９１７３６又はＥＰ－Ａ－０４９２３６６に記載されている）、並びに、さらに、（５－クロロ－８－キノリンオキシ）酢酸（Ｓ２－１０）、その水和物及び塩、例えば、そのリチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩、マグネシウム塩、アルミニウム塩、鉄塩、アンモニウム塩、第４級アンモニウム塩、スルホニウム塩又はホスホニウム塩（これらは、ＷＯ－Ａ－２００２／３４０４８記載されている）；
（Ｓ２ｂ） （５－クロロ－８－キノリンオキシ）マロン酸のタイプの化合物（Ｓ２ｂ）、好ましくは、以下のような化合物：（５－クロロ－８－キノリンオキシ）マロン酸ジエチル、（５－クロロ－８－キノリンオキシ）マロン酸ジアリル、（５－クロロ－８－キノリンオキシ）マロン酸メチルエチル及び関連化合物（これらは、ＥＰ－Ａ－０５８２１９８に記載されている）。
【0029】
（Ｓ３） ジクロロアセトアミドのタイプの活性化合物（Ｓ３）（これは、多くの場合、発生前薬害軽減剤（土壌作用性薬害軽減剤）として使用される）、例えば、
「ジクロルミド」（Ｎ，Ｎ－ジアリル－２，２－ジクロロアセトアミド）（Ｓ３－１）、
「Ｒ－２９１４８」（３－ジクロロアセチル－２，２，５－トリメチル－１，３－オキサゾリジン）（Ｓ３－２）、
「Ｒ－２８７２５」（３－ジクロロアセチル－２，２－ジメチル－１，３－オキサゾリジン）（Ｓ３－３）、
「ベノキサコール」（４－ジクロロアセチル－３，４－ジヒドロ－３－メチル－２Ｈ－１，４－ベンゾオキサジン）（Ｓ３－４）、
「ＰＰＧ－１２９２」（Ｎ－アリル－Ｎ－［（１，３－ジオキソラン－２－イル）メチル］ジクロロアセトアミド）（Ｓ３－５）、
「ＤＫＡ－２４」（Ｎ－アリル－Ｎ－［（アリルアミノカルボニル）メチル］ジクロロアセトアミド）（Ｓ３－６）、
「ＡＤ－６７」又は「ＭＯＮ ４６６０」（３－ジクロロアセチル－１－オキサ－３－アザ－スピロ［４，５］デカン）（Ｓ３－７）、
「ＴＩ－３５」（１－ジクロロアセチルアゼパン）（Ｓ３－８）、
「ジクロノン（ｄｉｃｌｏｎｏｎ）」（ジシクロノン）（Ｓ３－９）、
（（ＲＳ）－１－ジクロロアセチル－３，３，８ａ－トリメチルペルヒドロピロロ［１，２－ａ］ピリミジン－６－オン）、
「フリラゾール」又は「ＭＯＮ １３９００」（（ＲＳ）－３－ジクロロアセチル－５－（２－フリル）－２，２－ジメチルオキサゾリジン）（Ｓ３－１０）；及び、その（Ｒ）－異性体（Ｓ３－１１）。
「ジクロルミド」（Ｎ，Ｎ－ジアリル－２，２－ジクロロアセトアミド）（Ｓ３－１）、
「Ｒ－２９１４８」（３－ジクロロアセチル－２，２，５－トリメチル－１，３－オキサゾリジン）（Ｓ３－２）、
「Ｒ－２８７２５」（３－ジクロロアセチル－２，２－ジメチル－１，３－オキサゾリジン）（Ｓ３－３）、
「ベノキサコール」（４－ジクロロアセチル－３，４－ジヒドロ－３－メチル－２Ｈ－１，４－ベンゾオキサジン）（Ｓ３－４）、
「ＰＰＧ－１２９２」（Ｎ－アリル－Ｎ－［（１，３－ジオキソラン－２－イル）メチル］ジクロロアセトアミド）（Ｓ３－５）、
「ＤＫＡ－２４」（Ｎ－アリル－Ｎ－［（アリルアミノカルボニル）メチル］ジクロロアセトアミド）（Ｓ３－６）、
「ＡＤ－６７」又は「ＭＯＮ ４６６０」（３－ジクロロアセチル－１－オキサ－３－アザ－スピロ［４，５］デカン）（Ｓ３－７）、
「ＴＩ－３５」（１－ジクロロアセチルアゼパン）（Ｓ３－８）、
「ジクロノン（ｄｉｃｌｏｎｏｎ）」（ジシクロノン）（Ｓ３－９）、
（（ＲＳ）－１－ジクロロアセチル－３，３，８ａ－トリメチルペルヒドロピロロ［１，２－ａ］ピリミジン－６－オン）、
「フリラゾール」又は「ＭＯＮ １３９００」（（ＲＳ）－３－ジクロロアセチル－５－（２－フリル）－２，２－ジメチルオキサゾリジン）（Ｓ３－１０）；及び、その（Ｒ）－異性体（Ｓ３－１１）。
【0030】
（Ｓ４） アシルスルホンアミド類のクラスの化合物（Ｓ４）：
（Ｓ４ａ） 式（Ｓ４ａ）；
（Ｓ４ａ） 式（Ｓ４ａ）；
【化1】
【0031】
〔式中、
ＲＡ １は、（Ｃ１－Ｃ６）－アルキル、（Ｃ３－Ｃ６）－シクロアルキル（ここで、最後に挙げられている２つのラジカルは、ハロゲン、（Ｃ１－Ｃ４）－アルコキシ、ハロ－（Ｃ１－Ｃ６）－アルコキシ及び（Ｃ１－Ｃ４）－アルキルチオからなる群から選択されるｖＡの置換基で置換されており、また、環状ラジカルの場合には、さらに、（Ｃ１－Ｃ４）－アルキル及び（Ｃ１－Ｃ４）－ハロアルキルでも置換されている）であり；
ＲＡ ２は、ハロゲン、（Ｃ１－Ｃ４）－アルキル、（Ｃ１－Ｃ４）－アルコキシ、ＣＦ３であり；
ｍＡは、１又は２であり；
ｖＤは、０、１、２又は３である〕
で表されるＮ－アシルスルホンアミド及びそれらの塩（これらは、ＷＯ－Ａ－９７／４５０１６に記載されている）；
（Ｓ４ｂ） 式（Ｓ４ｂ）：
ＲＡ １は、（Ｃ１－Ｃ６）－アルキル、（Ｃ３－Ｃ６）－シクロアルキル（ここで、最後に挙げられている２つのラジカルは、ハロゲン、（Ｃ１－Ｃ４）－アルコキシ、ハロ－（Ｃ１－Ｃ６）－アルコキシ及び（Ｃ１－Ｃ４）－アルキルチオからなる群から選択されるｖＡの置換基で置換されており、また、環状ラジカルの場合には、さらに、（Ｃ１－Ｃ４）－アルキル及び（Ｃ１－Ｃ４）－ハロアルキルでも置換されている）であり；
ＲＡ ２は、ハロゲン、（Ｃ１－Ｃ４）－アルキル、（Ｃ１－Ｃ４）－アルコキシ、ＣＦ３であり；
ｍＡは、１又は２であり；
ｖＤは、０、１、２又は３である〕
で表されるＮ－アシルスルホンアミド及びそれらの塩（これらは、ＷＯ－Ａ－９７／４５０１６に記載されている）；
（Ｓ４ｂ） 式（Ｓ４ｂ）：
【化2】
【0032】
〔式中、
ＲＢ １、ＲＢ ２は、互いに独立して、水素、（Ｃ１－Ｃ６）－アルキル、（Ｃ３－Ｃ６）－シクロアルキル、（Ｃ３－Ｃ６）－アルケニル、（Ｃ３－Ｃ６）－アルキニルであり；
ＲＢ ３は、ハロゲン、（Ｃ１－Ｃ４）－アルキル、（Ｃ１－Ｃ４）－ハロアルキル又は（Ｃ１－Ｃ４）－アルコキシであり；
ｍＢは、１又は２である〕
で表される４－（ベンゾイルスルファモイル）ベンズアミドのタイプの化合物及びそれらの塩（これらは、ＷＯ－Ａ－９９／１６７４４に記載されている）；
例えば、上記式において、
ＲＢ １＝シクロプロピル、ＲＢ ２＝水素、且つ、（ＲＢ ３）＝２－ＯＭｅ（「シプロスルファミド」、Ｓ４－１）；
ＲＢ １＝シクロプロピル、ＲＢ ２＝水素、且つ、（ＲＢ ３）＝５－Ｃｌ－２－ＯＭｅ（Ｓ４－２）；
ＲＢ １＝エチル、ＲＢ ２＝水素、且つ、（ＲＢ ３）＝２－ＯＭｅ（Ｓ４－３）；
ＲＢ １＝イソプロピル、ＲＢ ２＝水素、且つ、（ＲＢ ３）＝５－Ｃｌ－２－ＯＭｅ（Ｓ４－４）；及び、
ＲＢ １＝イソプロピル、ＲＢ ２＝水素、且つ、（ＲＢ ３）＝２－ＯＭｅ（Ｓ４－５）；
であるもの；
（Ｓ４ｃ） 式（Ｓ４ｃ）：
ＲＢ １、ＲＢ ２は、互いに独立して、水素、（Ｃ１－Ｃ６）－アルキル、（Ｃ３－Ｃ６）－シクロアルキル、（Ｃ３－Ｃ６）－アルケニル、（Ｃ３－Ｃ６）－アルキニルであり；
ＲＢ ３は、ハロゲン、（Ｃ１－Ｃ４）－アルキル、（Ｃ１－Ｃ４）－ハロアルキル又は（Ｃ１－Ｃ４）－アルコキシであり；
ｍＢは、１又は２である〕
で表される４－（ベンゾイルスルファモイル）ベンズアミドのタイプの化合物及びそれらの塩（これらは、ＷＯ－Ａ－９９／１６７４４に記載されている）；
例えば、上記式において、
ＲＢ １＝シクロプロピル、ＲＢ ２＝水素、且つ、（ＲＢ ３）＝２－ＯＭｅ（「シプロスルファミド」、Ｓ４－１）；
ＲＢ １＝シクロプロピル、ＲＢ ２＝水素、且つ、（ＲＢ ３）＝５－Ｃｌ－２－ＯＭｅ（Ｓ４－２）；
ＲＢ １＝エチル、ＲＢ ２＝水素、且つ、（ＲＢ ３）＝２－ＯＭｅ（Ｓ４－３）；
ＲＢ １＝イソプロピル、ＲＢ ２＝水素、且つ、（ＲＢ ３）＝５－Ｃｌ－２－ＯＭｅ（Ｓ４－４）；及び、
ＲＢ １＝イソプロピル、ＲＢ ２＝水素、且つ、（ＲＢ ３）＝２－ＯＭｅ（Ｓ４－５）；
であるもの；
（Ｓ４ｃ） 式（Ｓ４ｃ）：
【化3】
【0033】
〔式中、
ＲＣ １、ＲＣ ２は、互いに独立して、水素、（Ｃ１－Ｃ８）－アルキル、（Ｃ３－Ｃ８）－シクロアルキル、（Ｃ３－Ｃ６）－アルケニル、（Ｃ３－Ｃ６）－アルキニルであり；
ＲＣ ３は、ハロゲン、（Ｃ１－Ｃ４）－アルキル、（Ｃ１－Ｃ４）－アルコキシ、ＣＦ３であり；
ｍＣは、１又は２である〕
で表されるベンゾイルスルファモイルフェニル尿素のクラスの化合物（これらは、ＥＰ－Ａ－３６５４８４に記載されている）；
例えば、
１－［４－（Ｎ－２－メトキシベンゾイルスルファモイル）フェニル］－３－メチル尿素；
１－［４－（Ｎ－２－メトキシベンゾイルスルファモイル）フェニル］－３，３－ジメチル尿素；
１－［４－（Ｎ－４，５－ジメチルベンゾイルスルファモイル）フェニル］－３－メチル尿素；
（Ｓ４ｄ） 式（Ｓ４ｄ）：
ＲＣ １、ＲＣ ２は、互いに独立して、水素、（Ｃ１－Ｃ８）－アルキル、（Ｃ３－Ｃ８）－シクロアルキル、（Ｃ３－Ｃ６）－アルケニル、（Ｃ３－Ｃ６）－アルキニルであり；
ＲＣ ３は、ハロゲン、（Ｃ１－Ｃ４）－アルキル、（Ｃ１－Ｃ４）－アルコキシ、ＣＦ３であり；
ｍＣは、１又は２である〕
で表されるベンゾイルスルファモイルフェニル尿素のクラスの化合物（これらは、ＥＰ－Ａ－３６５４８４に記載されている）；
例えば、
１－［４－（Ｎ－２－メトキシベンゾイルスルファモイル）フェニル］－３－メチル尿素；
１－［４－（Ｎ－２－メトキシベンゾイルスルファモイル）フェニル］－３，３－ジメチル尿素；
１－［４－（Ｎ－４，５－ジメチルベンゾイルスルファモイル）フェニル］－３－メチル尿素；
（Ｓ４ｄ） 式（Ｓ４ｄ）：
【化4】
【0034】
〔式中、
ＲＤ ４は、ハロゲン、（Ｃ１－Ｃ４）－アルキル、（Ｃ１－Ｃ４）－アルコキシ、ＣＦ３であり；
ｍＤは、１又は２であり；
ＲＤ ５は、水素、（Ｃ１－Ｃ６）－アルキル、（Ｃ３－Ｃ６）－シクロアルキル、（Ｃ２－Ｃ６）－アルケニル、（Ｃ２－Ｃ６）－アルキニル、（Ｃ５－Ｃ６）－シクロアルケニルである〕
で表されるＮ－フェニルスルホニルテレフタルアミドのタイプの化合物及びそれらの塩（これらは、例えば、ＣＮ １０１８３８２２７から知られている）。
ＲＤ ４は、ハロゲン、（Ｃ１－Ｃ４）－アルキル、（Ｃ１－Ｃ４）－アルコキシ、ＣＦ３であり；
ｍＤは、１又は２であり；
ＲＤ ５は、水素、（Ｃ１－Ｃ６）－アルキル、（Ｃ３－Ｃ６）－シクロアルキル、（Ｃ２－Ｃ６）－アルケニル、（Ｃ２－Ｃ６）－アルキニル、（Ｃ５－Ｃ６）－シクロアルケニルである〕
で表されるＮ－フェニルスルホニルテレフタルアミドのタイプの化合物及びそれらの塩（これらは、例えば、ＣＮ １０１８３８２２７から知られている）。
【0035】
（Ｓ５） ヒドロキシ芳香族類及び芳香族－脂肪族カルボン酸誘導体のクラスから選択される活性化合物（Ｓ５）、例えば、３，４，５－トリアセトキシ安息香酸エチル、３，５－ジメトキシ－４－ヒドロキシ安息香酸、３，５－ジヒドロキシ安息香酸、４－ヒドロキシサリチル酸、４－フルオロサリチル酸、２－ヒドロキシケイ皮酸、２，４－ジクロロケイ皮酸（これらは、ＷＯ－Ａ－２００４／０８４６３１、ＷＯ－Ａ－２００５／０１５９９４、ＷＯ－Ａ－２００５／０１６００１に記載されている）。
【0036】
（Ｓ６） １，２－ジヒドロキノキサリン－２－オン類のクラスから選択される活性化合物（Ｓ６）、例えば、１－メチル－３－（２－チエニル）－１，２－ジヒドロキノキサリン－２－オン、１－メチル－３－（２－チエニル）－１，２－ジヒドロキノキサリン－２－チオン、１－（２－アミノエチル）－３－（２－チエニル）－１，２－ジヒドロキノキサリン－２－オン塩酸塩、１－（２－メチルスルホニルアミノエチル）－３－（２－チエニル）－１，２－ジヒドロキノキサリン－２－オン（これらは、ＷＯ－Ａ－２００５／１１２６３０に記載されている）。
【0037】
（Ｓ７） ジフェニルメトキシ酢酸誘導体のクラスから選択される化合物（Ｓ７）、例えば、ジフェニルメトキシ酢酸メチル（ＣＡＳ Ｒｅｇ． Ｎｏ．４１８５８－１９－９）（Ｓ７－１）、ジフェニルメトキシ酢酸エチル、又は、ジフェニルメトキシ酢酸（これらは、ＷＯ－Ａ－９８／３８８５６に記載されている）。
【0038】
（Ｓ８） 式（Ｓ８）：
【化5】
【0039】
〔式中、記号及び添え字は、下記意味を有する：
ＲＤ １は、ハロゲン、（Ｃ１－Ｃ４）－アルキル、（Ｃ１－Ｃ４）－ハロアルキル、（Ｃ１－Ｃ４）－アルコキシ、（Ｃ１－Ｃ４）－ハロアルコキシであり；
ＲＤ ２は、水素又は（Ｃ１－Ｃ４）－アルキルであり；
ＲＤ ３は、水素、（Ｃ１－Ｃ８）－アルキル、（Ｃ２－Ｃ４）－アルケニル、（Ｃ２－Ｃ４）－アルキニル又はアリール（ここで、上記炭素含有ラジカルは、それぞれ、置換されていないか、又は、ハロゲン及びアルコキシからなる群から選択される１以上の（好ましくは、最大で３までの）同一であるか又は異なっているラジカルで置換されている）であり；
ｎＤは、０～２の整数である〕
で表される化合物又はそれらの塩（これらは、ＷＯ－Ａ－９８／２７０４９に記載されている）。
ＲＤ １は、ハロゲン、（Ｃ１－Ｃ４）－アルキル、（Ｃ１－Ｃ４）－ハロアルキル、（Ｃ１－Ｃ４）－アルコキシ、（Ｃ１－Ｃ４）－ハロアルコキシであり；
ＲＤ ２は、水素又は（Ｃ１－Ｃ４）－アルキルであり；
ＲＤ ３は、水素、（Ｃ１－Ｃ８）－アルキル、（Ｃ２－Ｃ４）－アルケニル、（Ｃ２－Ｃ４）－アルキニル又はアリール（ここで、上記炭素含有ラジカルは、それぞれ、置換されていないか、又は、ハロゲン及びアルコキシからなる群から選択される１以上の（好ましくは、最大で３までの）同一であるか又は異なっているラジカルで置換されている）であり；
ｎＤは、０～２の整数である〕
で表される化合物又はそれらの塩（これらは、ＷＯ－Ａ－９８／２７０４９に記載されている）。
【0040】
（Ｓ９） ３－（５－テトラゾリルカルボニル）－２－キノロン類のクラスから選択される活性化合物（Ｓ９）、例えば、１，２－ジヒドロ－４－ヒドロキシ－１－エチル－３－（５－テトラゾリルカルボニル）－２－キノロン（ＣＡＳ Ｒｅｇ． Ｎｏ．：２１９４７９－１８－２）、１，２－ジヒドロ－４－ヒドロキシ－１－メチル－３－（５－テトラゾリルカルボニル）－２－キノロン（ＣＡＳ Ｒｅｇ． Ｎｏ．：９５８５５－００－８）（これらは、ＷＯ－Ａ－１９９９／００００２０に記載されている）。
【0041】
（Ｓ１０） 式（Ｓ１０ａ）又は式（Ｓ１０ｂ）：
【化6】
【0042】
〔式中、
ＲＥ １は、ハロゲン、（Ｃ１－Ｃ４）－アルキル、メトキシ、ニトロ、シアノ、ＣＦ３、ＯＣＦ３であり；
ＹＥ、ＺＥは、互いに独立して、Ｏ又はＳであり；
ｎＥは、０～４の整数であり；
ＲＥ ２は、（Ｃ１－Ｃ１６）－アルキル、（Ｃ２－Ｃ６）－アルケニル、（Ｃ３－Ｃ６）－シクロアルキル、アリール、ベンジル又はハロベンジルであり；
ＲＥ ３は、水素又は（Ｃ１－Ｃ６）－アルキルである〕
で表される化合物（これらは、ＷＯ－Ａ－２００７／０２３７１９及びＷＯ－Ａ－２００７／０２３７６４に記載されている）。
ＲＥ １は、ハロゲン、（Ｃ１－Ｃ４）－アルキル、メトキシ、ニトロ、シアノ、ＣＦ３、ＯＣＦ３であり；
ＹＥ、ＺＥは、互いに独立して、Ｏ又はＳであり；
ｎＥは、０～４の整数であり；
ＲＥ ２は、（Ｃ１－Ｃ１６）－アルキル、（Ｃ２－Ｃ６）－アルケニル、（Ｃ３－Ｃ６）－シクロアルキル、アリール、ベンジル又はハロベンジルであり；
ＲＥ ３は、水素又は（Ｃ１－Ｃ６）－アルキルである〕
で表される化合物（これらは、ＷＯ－Ａ－２００７／０２３７１９及びＷＯ－Ａ－２００７／０２３７６４に記載されている）。
【0043】
（Ｓ１１） オキシイミノ化合物のタイプの活性化合物（Ｓ１１）（これらは、種子粉衣剤として知られている）、例えば、
「オキサベトリニル」（（Ｚ）－１，３－ジオキソラン－２－イルメトキシイミノ（フェニル）アセトニトリル）（Ｓ１１－１）（これは、メトラクロールによる損傷に対するアワ用の種子粉衣薬害軽減剤として知られている）；
「フルキソフェニム」（１－（４－クロロフェニル）－２，２，２－トリフルオロ－１－エタノン Ｏ－（１，３－ジオキソラン－２－イルメチル）オキシム）（Ｓ１１－２）（これは、メトラクロールによる損傷に対するアワ用の種子粉衣薬害軽減剤として知られている）；及び、
「シオメトリニル」又は「ＣＧＡ－４３０８９」（（Ｚ）－シアノメトキシイミノ（フェニル）アセトニトリル）（Ｓ１１－３）（これは、メトラクロールによる損傷に対するアワ用の種子粉衣薬害軽減剤として知られている）。
「オキサベトリニル」（（Ｚ）－１，３－ジオキソラン－２－イルメトキシイミノ（フェニル）アセトニトリル）（Ｓ１１－１）（これは、メトラクロールによる損傷に対するアワ用の種子粉衣薬害軽減剤として知られている）；
「フルキソフェニム」（１－（４－クロロフェニル）－２，２，２－トリフルオロ－１－エタノン Ｏ－（１，３－ジオキソラン－２－イルメチル）オキシム）（Ｓ１１－２）（これは、メトラクロールによる損傷に対するアワ用の種子粉衣薬害軽減剤として知られている）；及び、
「シオメトリニル」又は「ＣＧＡ－４３０８９」（（Ｚ）－シアノメトキシイミノ（フェニル）アセトニトリル）（Ｓ１１－３）（これは、メトラクロールによる損傷に対するアワ用の種子粉衣薬害軽減剤として知られている）。
【0044】
（Ｓ１２） イソチオクロマノン類のクラスから選択される活性化合物（Ｓ１２）、例えば、［（３－オキソ－１Ｈ－２－ベンゾチオピラン－４（３Ｈ）－イリデン）メトキシ］酢酸メチル（ＣＡＳ Ｒｅｇ． Ｎｏ．：２０５１２１－０４－６）（Ｓ１２－１）及び関連化合物（ＷＯ－Ａ－１９９８／１３３６１）。
【0045】
（Ｓ１３） 以下の群から選択される１種類以上の化合物（Ｓ１３）：
「ナフタル酸無水物」（１，８－ナフタレンジカルボン酸無水物）（Ｓ１３－１）（これは、チオカーバメート系除草剤による損傷に対するトウモロコシ用の種子粉衣薬害軽減剤として知られている）；
「フェンクロリム」（４，６－ジクロロ－２－フェニルピリミジン）（Ｓ１３－２）（これは、播種されたイネにおいてプレチラクロールに対する薬害軽減剤として知られている）；
「フルラゾール」（２－クロロ－４－トリフルオロメチル－１，３－チアゾール－５－カルボン酸ベンジル）（Ｓ１３－３）（これは、アラクロール及びメトラクロールによる損傷に対するアワ用の種子粉衣薬害軽減剤として知られている）；
「ＣＬ ３０４４１５」（ＣＡＳ Ｒｅｇ． Ｎｏ．：３１５４１－５７－８）（４－カルボキシ－３，４－ジヒドロ－２Ｈ－１－ベンゾピラン－４－酢酸）（Ｓ１３－４）〔供給元：Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｙａｎａｍｉｄ〕（これは、イミダゾリノンによる損傷に対するトウモロコシ用の薬害軽減剤として知られている）；
「ＭＧ １９１」（ＣＡＳ Ｒｅｇ． Ｎｏ．：９６４２０－７２－３）（２－ジクロロメチル－２－メチル－１，３－ジオキソラン）（Ｓ１３－５）（これは、トウモロコシ用の薬害軽減剤として知られている）；
「ＭＧ ８３８」（ＣＡＳ Ｒｅｇ． Ｎｏ．：１３３９９３－７４－５）（２－プロペニル １－オキサ－４－アザスピロ［４．５］デカン－４－カルボジチオエート）（Ｓ１３－６）；
「ジスルホトン」（Ｏ，Ｏ－ジエチル Ｓ－２－エチルチオエチル ホスホロジチオエート）（Ｓ１３－７）；
「ジエトレート（ｄｉｅｔｈｏｌａｔｅ）」（Ｏ，Ｏ－ジエチル Ｏ－フェニル ホスホロチオエート）（Ｓ１３－８）；
「メフェネート（ｍｅｐｈｅｎａｔｅ）」（メチルカルバミン酸４－クロロフェニル）（Ｓ１３－９）。
「ナフタル酸無水物」（１，８－ナフタレンジカルボン酸無水物）（Ｓ１３－１）（これは、チオカーバメート系除草剤による損傷に対するトウモロコシ用の種子粉衣薬害軽減剤として知られている）；
「フェンクロリム」（４，６－ジクロロ－２－フェニルピリミジン）（Ｓ１３－２）（これは、播種されたイネにおいてプレチラクロールに対する薬害軽減剤として知られている）；
「フルラゾール」（２－クロロ－４－トリフルオロメチル－１，３－チアゾール－５－カルボン酸ベンジル）（Ｓ１３－３）（これは、アラクロール及びメトラクロールによる損傷に対するアワ用の種子粉衣薬害軽減剤として知られている）；
「ＣＬ ３０４４１５」（ＣＡＳ Ｒｅｇ． Ｎｏ．：３１５４１－５７－８）（４－カルボキシ－３，４－ジヒドロ－２Ｈ－１－ベンゾピラン－４－酢酸）（Ｓ１３－４）〔供給元：Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｙａｎａｍｉｄ〕（これは、イミダゾリノンによる損傷に対するトウモロコシ用の薬害軽減剤として知られている）；
「ＭＧ １９１」（ＣＡＳ Ｒｅｇ． Ｎｏ．：９６４２０－７２－３）（２－ジクロロメチル－２－メチル－１，３－ジオキソラン）（Ｓ１３－５）（これは、トウモロコシ用の薬害軽減剤として知られている）；
「ＭＧ ８３８」（ＣＡＳ Ｒｅｇ． Ｎｏ．：１３３９９３－７４－５）（２－プロペニル １－オキサ－４－アザスピロ［４．５］デカン－４－カルボジチオエート）（Ｓ１３－６）；
「ジスルホトン」（Ｏ，Ｏ－ジエチル Ｓ－２－エチルチオエチル ホスホロジチオエート）（Ｓ１３－７）；
「ジエトレート（ｄｉｅｔｈｏｌａｔｅ）」（Ｏ，Ｏ－ジエチル Ｏ－フェニル ホスホロチオエート）（Ｓ１３－８）；
「メフェネート（ｍｅｐｈｅｎａｔｅ）」（メチルカルバミン酸４－クロロフェニル）（Ｓ１３－９）。
【0046】
（Ｓ１４） 有害な植物に対する除草効果に加えてイネなどの作物植物に対する薬害軽減効果も有している活性化合物、例えば、
「ジメピレート」又は「ＭＹ－９３」（Ｓ－１－メチル－１－フェニルエチル ピペリジン－１－カルボチオエート）（これは、除草剤モリネートによる損傷に対するイネ用の薬害軽減剤として知られている）；
「ダイムロン」又は「ＳＫ ２３」（１－（１－メチル－１－フェニルエチル）－３－ｐ－トリル尿素）（これは、イマゾスルフロン除草剤による損傷に対するイネ用の薬害軽減剤として知られている）；
「クミルロン」＝「ＪＣ－９４０」（３－（２－クロロフェニルメチル）－１－（１－メチル－１－フェニルエチル）尿素；ＪＰ－Ａ－６００８７２５４を参照されたい）（これは、数種類の除草剤による損傷に対するイネ用の薬害軽減剤として知られている）；
「メトキシフェノン」又は「ＮＫ ０４９」（３，３’－ジメチル－４－メトキシベンゾフェノン）（これは、数種類の除草剤による損傷に対するイネ用の薬害軽減剤として知られている）；
「ＣＳＢ」（１－ブロモ－４－（クロロメチルスルホニル）ベンゼン）〔供給元：Ｋｕｍｉａｉ〕（ＣＡＳ Ｒｅｇ． Ｎｏ． ５４０９１－０６－４）（これは、イネにおける数種類の除草剤による損傷に対する薬害軽減剤として知られている）。
「ジメピレート」又は「ＭＹ－９３」（Ｓ－１－メチル－１－フェニルエチル ピペリジン－１－カルボチオエート）（これは、除草剤モリネートによる損傷に対するイネ用の薬害軽減剤として知られている）；
「ダイムロン」又は「ＳＫ ２３」（１－（１－メチル－１－フェニルエチル）－３－ｐ－トリル尿素）（これは、イマゾスルフロン除草剤による損傷に対するイネ用の薬害軽減剤として知られている）；
「クミルロン」＝「ＪＣ－９４０」（３－（２－クロロフェニルメチル）－１－（１－メチル－１－フェニルエチル）尿素；ＪＰ－Ａ－６００８７２５４を参照されたい）（これは、数種類の除草剤による損傷に対するイネ用の薬害軽減剤として知られている）；
「メトキシフェノン」又は「ＮＫ ０４９」（３，３’－ジメチル－４－メトキシベンゾフェノン）（これは、数種類の除草剤による損傷に対するイネ用の薬害軽減剤として知られている）；
「ＣＳＢ」（１－ブロモ－４－（クロロメチルスルホニル）ベンゼン）〔供給元：Ｋｕｍｉａｉ〕（ＣＡＳ Ｒｅｇ． Ｎｏ． ５４０９１－０６－４）（これは、イネにおける数種類の除草剤による損傷に対する薬害軽減剤として知られている）。
【0047】
（Ｓ１５） 式（Ｓ１５）：
【化7】
【0048】
〔式中、
ＲＨ １は、（Ｃ１－Ｃ６）－ハロアルキルであり；
ＲＨ ２は、水素又はハロゲンであり；
ＲＨ ３、ＲＨ ４は、互いに独立して、水素、（Ｃ１－Ｃ１６）－アルキル、（Ｃ２－Ｃ１６）－アルケニル又は（Ｃ２－Ｃ１６）－アルキニル（ここで、最後に挙げられている３のラジカルは、それぞれ、置換されていないか、又は、ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、（Ｃ１－Ｃ４）－アルコキシ、（Ｃ１－Ｃ４）－ハロアルコキシ、（Ｃ１－Ｃ４）－アルキルチオ、（Ｃ１－Ｃ４）－アルキルアミノ、ジ－［（Ｃ１－Ｃ４）－アルキル］－アミノ、［（Ｃ１－Ｃ４）－アルコキシ］－カルボニル、［（Ｃ１－Ｃ４）－ハロアルコキシ］－カルボニル、置換されていないか若しくは置換されている（Ｃ３－Ｃ６）－シクロアルキル、置換されていないか若しくは置換されているフェニル及び置換されていないか若しくは置換されているヘテロシクリルからなる群から選択される１以上のラジカルで置換されている）であり；
又は、
ＲＨ ３、ＲＨ ４は、互いに独立して、（Ｃ３－Ｃ６）－シクロアルキル、（Ｃ４－Ｃ６）－シクロアルケニル、（Ｃ３－Ｃ６）－シクロアルキル（ここで、該シクロアルキルは、当該環の１辺において４～６員の飽和又は不飽和の炭素環式環に縮合している）又は（Ｃ４－Ｃ６）－シクロアルケニル（ここで、該シクロアルケニルは、当該環の１辺において４～６員の飽和又は不飽和の炭素環式環に縮合している）（ここで、最後に挙げられている４のラジカルは、それぞれ、置換されていないか、又は、ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、（Ｃ１－Ｃ４）－アルキル、（Ｃ１－Ｃ４）－ハロアルキル、（Ｃ１－Ｃ４）－アルコキシ、（Ｃ１－Ｃ４）－ハロアルコキシ、（Ｃ１－Ｃ４）－アルキルチオ、（Ｃ１－Ｃ４）－アルキルアミノ、ジ－［（Ｃ１－Ｃ４）－アルキル］－アミノ、［（Ｃ１－Ｃ４）－アルコキシ］－カルボニル、［（Ｃ１－Ｃ４）－ハロアルコキシ］－カルボニル、置換されていないか若しくは置換されている（Ｃ３－Ｃ６）シクロアルキル、置換されていないか若しくは置換されているフェニル及び置換されていないか若しくは置換されているヘテロシクリルからなる群から選択される１以上のラジカルで置換されている）であり；
又は、
ＲＨ ３は、（Ｃ１－Ｃ４）－アルコキシ、（Ｃ２－Ｃ４）－アルケニルオキシ、（Ｃ２－Ｃ６）－アルキニルオキシ又は（Ｃ２－Ｃ４）－ハロアルコキシであり；及び、
ＲＨ ４は、水素又は（Ｃ１－Ｃ４）－アルキルであり；又は、
ＲＨ ３とＲＨ ４は、直接結合しているＮ原子と一緒に、４～８員のヘテロ環式環（ここで、該ヘテロ環式環は、当該Ｎ原子に加えて、さらなる環ヘテロ原子（好ましくは、Ｎ、Ｏ及びＳからなる群から選択される最大で２個までのさらなる環ヘテロ原子）も含むことができ、また、該ヘテロ環式環は、置換されていないか、又は、ハロゲン、シアノ、ニトロ、（Ｃ１－Ｃ４）－アルキル、（Ｃ１－Ｃ４）－ハロアルキル、（Ｃ１－Ｃ４）－アルコキシ、（Ｃ１－Ｃ４）－ハロアルコキシ及び（Ｃ１－Ｃ４）－アルキルチオからなる群から選択される１以上のラジカルで置換されている）である〕
で表される化合物又はその互変異性体（これらは、ＷＯ－Ａ－２００８／１３１８６１及びＷＯ－Ａ－２００８／１３１８６０に記載されている）。
ＲＨ １は、（Ｃ１－Ｃ６）－ハロアルキルであり；
ＲＨ ２は、水素又はハロゲンであり；
ＲＨ ３、ＲＨ ４は、互いに独立して、水素、（Ｃ１－Ｃ１６）－アルキル、（Ｃ２－Ｃ１６）－アルケニル又は（Ｃ２－Ｃ１６）－アルキニル（ここで、最後に挙げられている３のラジカルは、それぞれ、置換されていないか、又は、ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、（Ｃ１－Ｃ４）－アルコキシ、（Ｃ１－Ｃ４）－ハロアルコキシ、（Ｃ１－Ｃ４）－アルキルチオ、（Ｃ１－Ｃ４）－アルキルアミノ、ジ－［（Ｃ１－Ｃ４）－アルキル］－アミノ、［（Ｃ１－Ｃ４）－アルコキシ］－カルボニル、［（Ｃ１－Ｃ４）－ハロアルコキシ］－カルボニル、置換されていないか若しくは置換されている（Ｃ３－Ｃ６）－シクロアルキル、置換されていないか若しくは置換されているフェニル及び置換されていないか若しくは置換されているヘテロシクリルからなる群から選択される１以上のラジカルで置換されている）であり；
又は、
ＲＨ ３、ＲＨ ４は、互いに独立して、（Ｃ３－Ｃ６）－シクロアルキル、（Ｃ４－Ｃ６）－シクロアルケニル、（Ｃ３－Ｃ６）－シクロアルキル（ここで、該シクロアルキルは、当該環の１辺において４～６員の飽和又は不飽和の炭素環式環に縮合している）又は（Ｃ４－Ｃ６）－シクロアルケニル（ここで、該シクロアルケニルは、当該環の１辺において４～６員の飽和又は不飽和の炭素環式環に縮合している）（ここで、最後に挙げられている４のラジカルは、それぞれ、置換されていないか、又は、ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、（Ｃ１－Ｃ４）－アルキル、（Ｃ１－Ｃ４）－ハロアルキル、（Ｃ１－Ｃ４）－アルコキシ、（Ｃ１－Ｃ４）－ハロアルコキシ、（Ｃ１－Ｃ４）－アルキルチオ、（Ｃ１－Ｃ４）－アルキルアミノ、ジ－［（Ｃ１－Ｃ４）－アルキル］－アミノ、［（Ｃ１－Ｃ４）－アルコキシ］－カルボニル、［（Ｃ１－Ｃ４）－ハロアルコキシ］－カルボニル、置換されていないか若しくは置換されている（Ｃ３－Ｃ６）シクロアルキル、置換されていないか若しくは置換されているフェニル及び置換されていないか若しくは置換されているヘテロシクリルからなる群から選択される１以上のラジカルで置換されている）であり；
又は、
ＲＨ ３は、（Ｃ１－Ｃ４）－アルコキシ、（Ｃ２－Ｃ４）－アルケニルオキシ、（Ｃ２－Ｃ６）－アルキニルオキシ又は（Ｃ２－Ｃ４）－ハロアルコキシであり；及び、
ＲＨ ４は、水素又は（Ｃ１－Ｃ４）－アルキルであり；又は、
ＲＨ ３とＲＨ ４は、直接結合しているＮ原子と一緒に、４～８員のヘテロ環式環（ここで、該ヘテロ環式環は、当該Ｎ原子に加えて、さらなる環ヘテロ原子（好ましくは、Ｎ、Ｏ及びＳからなる群から選択される最大で２個までのさらなる環ヘテロ原子）も含むことができ、また、該ヘテロ環式環は、置換されていないか、又は、ハロゲン、シアノ、ニトロ、（Ｃ１－Ｃ４）－アルキル、（Ｃ１－Ｃ４）－ハロアルキル、（Ｃ１－Ｃ４）－アルコキシ、（Ｃ１－Ｃ４）－ハロアルコキシ及び（Ｃ１－Ｃ４）－アルキルチオからなる群から選択される１以上のラジカルで置換されている）である〕
で表される化合物又はその互変異性体（これらは、ＷＯ－Ａ－２００８／１３１８６１及びＷＯ－Ａ－２００８／１３１８６０に記載されている）。
【0049】
好ましい薬害軽減剤は、以下のものである：
イソキサジフェン－エチル、シプロスルファミド、メフェンピル－ジエチル及びクロキントセット－メキシル（これは、その水和物及び塩、例えば、そのリチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩、マグネシウム塩、アルミニウム塩、鉄塩、アンモニウム塩、第４級アンモニウム塩、スルホニウム塩又はホスホニウム塩を包含する）（群Ｉ）。
イソキサジフェン－エチル、シプロスルファミド、メフェンピル－ジエチル及びクロキントセット－メキシル（これは、その水和物及び塩、例えば、そのリチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩、マグネシウム塩、アルミニウム塩、鉄塩、アンモニウム塩、第４級アンモニウム塩、スルホニウム塩又はホスホニウム塩を包含する）（群Ｉ）。
【0050】
種子：
作物植物の種子、例えば、さまざまな穀類種（例えば、コムギ、ライコムギ、オオムギ、ライムギ）、サトウキビ、テンサイ、ダイズ、ナタネ、トウモロコシ、ジャガイモ、野菜類、イネ又はワタなどの種子。
作物植物の種子、例えば、さまざまな穀類種（例えば、コムギ、ライコムギ、オオムギ、ライムギ）、サトウキビ、テンサイ、ダイズ、ナタネ、トウモロコシ、ジャガイモ、野菜類、イネ又はワタなどの種子。
【0051】
好ましいのは、以下の作物植物の種子である：コムギ、ライコムギ、オオムギ、ライムギ、トウモロコシ、イネ。
【0052】
組み合わせ：
本発明による組み合わせは、以下のとおりである：２－（２，４－ジクロロフェニル）メチル－４，４－ジメチル－３－イソオキサゾリジノン（化合物Ｉ）と、以下のものからなる群から選択される少なくとも１種類以上の除草剤：アクロニフェン、ブロモキシニル、ブロモキシニル－ブチレート、－カリウム、－ヘプタノエート及び－オクタノエート、ベンゾフェナップ、ブタクロール、２，４－Ｄ、２，４－Ｄ－ブトチル、－ブチル、－ジメチルアンモニウム、－ジオールアミン（ｄｉｏｌａｍｉｎ）、－エチル、２－エチルヘキシル、－イソブチル、－イソオクチル、－イソプロピルアンモニウム、－カリウム、－トリイソプロパノールアンモニウム及び－トロールアミン（ｔｒｏｌａｍｉｎｅ）、ビシクロピロン、シンメチリン、ジフルフェニカン、ジメテナミド、エトキシスルフロン、フェノキサプロップ、フェノキサプロップ－Ｐ、フェノキサプロップ－エチル、フェノキサプロップ－Ｐ－エチル、フェンキノトリオン、フェントラザミド、フロラスラム、フロルピラウキシフェン－ベンジル、フルフェナセット、フルロキシピル、フルロキシピル－メプチル、ホラムスルフロン、ヨードスルフロン、ヨードスルフロン－メチル－ナトリウム、イソプロツロン、イソキサフルトール、ランコトリオン、メフェナセット、メソスルフロン、メソスルフロン－メチル、メトラクロール、Ｓ－メトラクロール、メトリブジン、メトスラム、ニコスルフロン、オキサジアルギル、オキサジアゾン、ペトキサミド、プロスルホカルブ、ピラスルホトール、ピロキサスルホン、ピロキシスラム、テフリルトリオン、テンボトリオン、チエンカルバゾン、チエンカルバゾン－メチル、トルピラレート、及び、トリアファモン、ペンジメタリン、プロポキシカルバゾン、ハラウキシフェン－メチル、２－メチル－４－クロロフェノキシ酢酸（群ＩＩ）。
本発明による組み合わせは、以下のとおりである：２－（２，４－ジクロロフェニル）メチル－４，４－ジメチル－３－イソオキサゾリジノン（化合物Ｉ）と、以下のものからなる群から選択される少なくとも１種類以上の除草剤：アクロニフェン、ブロモキシニル、ブロモキシニル－ブチレート、－カリウム、－ヘプタノエート及び－オクタノエート、ベンゾフェナップ、ブタクロール、２，４－Ｄ、２，４－Ｄ－ブトチル、－ブチル、－ジメチルアンモニウム、－ジオールアミン（ｄｉｏｌａｍｉｎ）、－エチル、２－エチルヘキシル、－イソブチル、－イソオクチル、－イソプロピルアンモニウム、－カリウム、－トリイソプロパノールアンモニウム及び－トロールアミン（ｔｒｏｌａｍｉｎｅ）、ビシクロピロン、シンメチリン、ジフルフェニカン、ジメテナミド、エトキシスルフロン、フェノキサプロップ、フェノキサプロップ－Ｐ、フェノキサプロップ－エチル、フェノキサプロップ－Ｐ－エチル、フェンキノトリオン、フェントラザミド、フロラスラム、フロルピラウキシフェン－ベンジル、フルフェナセット、フルロキシピル、フルロキシピル－メプチル、ホラムスルフロン、ヨードスルフロン、ヨードスルフロン－メチル－ナトリウム、イソプロツロン、イソキサフルトール、ランコトリオン、メフェナセット、メソスルフロン、メソスルフロン－メチル、メトラクロール、Ｓ－メトラクロール、メトリブジン、メトスラム、ニコスルフロン、オキサジアルギル、オキサジアゾン、ペトキサミド、プロスルホカルブ、ピラスルホトール、ピロキサスルホン、ピロキシスラム、テフリルトリオン、テンボトリオン、チエンカルバゾン、チエンカルバゾン－メチル、トルピラレート、及び、トリアファモン、ペンジメタリン、プロポキシカルバゾン、ハラウキシフェン－メチル、２－メチル－４－クロロフェノキシ酢酸（群ＩＩ）。
【0053】
組成物
本発明に関連して、組成物は、本発明による組み合わせに加えて、製剤助剤、作物保護において慣習的な添加剤及びさらなる農薬活性化合物からなる群から選択される１種類以上のさらなる成分を含んでいる。
本発明に関連して、組成物は、本発明による組み合わせに加えて、製剤助剤、作物保護において慣習的な添加剤及びさらなる農薬活性化合物からなる群から選択される１種類以上のさらなる成分を含んでいる。
【0054】
添加剤
添加剤は、例えば、肥料及び着色剤である。
添加剤は、例えば、肥料及び着色剤である。
【0055】
農薬活性化合物
農薬活性化合物は、例えば、殺菌剤及び殺虫剤である。
農薬活性化合物は、例えば、殺菌剤及び殺虫剤である。
【0056】
該農薬活性化合物の中で好ましいのは、プロチオコナゾール、テブコナゾール、フルオキサストロビン、ジフェノコナゾール、ペンフルフェン、フルオピコリド、フルジオキソニル、チオジカルブ、トリチコナゾール、プロクロラズ、フルキサピロキサド、チオジカルブ、イミダクロプリド、クロチアニジン、フルピラジフロン、ピカルブトラゾクス、メフェノキサム、フロニカミド、イプコナゾール、ジニコナゾール、メトコナゾール、シチオファム（ｓｉｔｈｉｏｆａｍ）、ピラクロストロビン、カルボキシン、セダキサン、チアメトキサム、テフルトリン、シペルメトリン、メタラキシル、Ｎ－（５－クロロ－２－イソプロピルベンジル）－Ｎ－シクロプロピル－３－（ジフルオロメチル）－５－フルオロ－１－メチル－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボキサミド、バシルス・スブチリス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ ｓｕｂｔｉｌｉｓ）及びバシルス・フィルムス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ ｆｉｒｍｕｓ）である。
【0057】
該農薬活性化合物の中で特に好ましいのは、プロチオコナゾール、テブコナゾール、ジフェノコナゾール、フルジオキソニル、トリチコナゾール、イミダクロプリド、クロチアニジン、イプコナゾール、シチオファム（ｓｉｔｈｉｏｆａｍ）、セダキサン、チアメトキサム、メタラキシル及びＮ－（５－クロロ－２－イソプロピルベンジル）－Ｎ－シクロプロピル－３－（ジフルオロメチル）－５－フルオロ－１－メチル－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボキサミドである。
【0058】
化合物Ｉを使用するか、又は、本発明による組み合わせ／組成物を使用することによって、広範囲の経済的に重要な単子葉植物及び双子葉植物の１年生雑草及び多年生雑草に対する優れた除草効力がもたらされる。
【0059】
従って、本発明は、望ましくない植物を防除する方法又は植物の成長を調節する方法、好ましくは、作物植物の中で望ましくない植物を防除する方法又は植物の成長を調節する方法を提供し、ここで、該方法においては、化合物Ｉ又は本発明による組み合わせ／組成物を当該植物（例えば、単子葉植物又は双子葉植物の雑草又は望ましくない作物植物）又は当該植物がそこで生育している領域に施用する。化合物Ｉ又は本発明による組み合わせ／組成物は、当該植物の種々の生育段階（ＧＳ）において施用することが可能であり、このことによって、化合物Ｉ又は本発明による組み合わせ／組成物の適用性が拡大され、そして、種々の生育段階にある望ましくない雑草又は植物を防除するための効率的な方法が提供される。化合物Ｉ又は本発明による組み合わせ／組成物によって防除することが可能な単子葉植物及び双子葉植物の雑草植物相の例は以下のとおりであるが、名称を挙げることによって特定の種に限定されることを意図するものではない：
以下の属の単子葉植物雑草： アエギロプス属（Ａｅｇｉｌｏｐｓ）、カモジグサ属（Ａｇｒｏｐｙｒｏｎ）、ヌカボ属（Ａｇｒｏｓｔｉｓ）、スズメノテッポウ属（Ａｌｏｐｅｃｕｒｕｓ）、セイヨウヌカボ属（Ａｐｅｒａ）、カラスムギ属（Ａｖｅｎａ）、ビロードキビ属（Ｂｒａｃｈｉａｒｉａ）、スズメノチャヒキ属（Ｂｒｏｍｕｓ）、クリノイガ属（Ｃｅｎｃｈｒｕｓ）、ツユクサ属（Ｃｏｍｍｅｌｉｎａ）、ギョウギシバ属（Ｃｙｎｏｄｏｎ）、カヤツリグサ属（Ｃｙｐｅｒｕｓ）、タツノツメガヤ属（Ｄａｃｔｙｌｏｃｔｅｎｉｕｍ）、メヒシバ属（Ｄｉｇｉｔａｒｉａ）、ヒエ属（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ）、ハリイ属（Ｅｌｅｏｃｈａｒｉｓ）、オヒシバ属（Ｅｌｅｕｓｉｎｅ）、スズメガヤ属（Ｅｒａｇｒｏｓｔｉｓ）、ナルコビエ属（Ｅｒｉｏｃｈｌｏａ）、ウシノケグサ属（Ｆｅｓｔｕｃａ）、テンツキ属（Ｆｉｍｂｒｉｓｔｙｌｉｓ）、アメリカコナギ属（Ｈｅｔｅｒａｎｔｈｅｒａ）、チガヤ属（Ｉｍｐｅｒａｔａ）、カモノハシ属（Ｉｓｃｈａｅｍｕｍ）、アゼガヤ属（Ｌｅｐｔｏｃｈｌｏａ）、ドクムギ属（Ｌｏｌｉｕｍ）、ミズアオイ属（Ｍｏｎｏｃｈｏｒｉａ）、キビ属（Ｐａｎｉｃｕｍ）、スズメノヒエ属（Ｐａｓｐａｌｕｍ）、クサヨシ属（Ｐｈａｌａｒｉｓ）、アワガエリ属（Ｐｈｌｅｕｍ）、イチゴツナギ属（Ｐｏａ）、ツノアイアシ属（Ｒｏｔｔｂｏｅｌｌｉａ）、オモダカ属（Ｓａｇｉｔｔａｒｉａ）、ホタルイ属（Ｓｃｉｒｐｕｓ）、エノコログサ属（Ｓｅｔａｒｉａ）、及び、モロコシ属（Ｓｏｒｇｈｕｍ）。
以下の属の単子葉植物雑草： アエギロプス属（Ａｅｇｉｌｏｐｓ）、カモジグサ属（Ａｇｒｏｐｙｒｏｎ）、ヌカボ属（Ａｇｒｏｓｔｉｓ）、スズメノテッポウ属（Ａｌｏｐｅｃｕｒｕｓ）、セイヨウヌカボ属（Ａｐｅｒａ）、カラスムギ属（Ａｖｅｎａ）、ビロードキビ属（Ｂｒａｃｈｉａｒｉａ）、スズメノチャヒキ属（Ｂｒｏｍｕｓ）、クリノイガ属（Ｃｅｎｃｈｒｕｓ）、ツユクサ属（Ｃｏｍｍｅｌｉｎａ）、ギョウギシバ属（Ｃｙｎｏｄｏｎ）、カヤツリグサ属（Ｃｙｐｅｒｕｓ）、タツノツメガヤ属（Ｄａｃｔｙｌｏｃｔｅｎｉｕｍ）、メヒシバ属（Ｄｉｇｉｔａｒｉａ）、ヒエ属（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ）、ハリイ属（Ｅｌｅｏｃｈａｒｉｓ）、オヒシバ属（Ｅｌｅｕｓｉｎｅ）、スズメガヤ属（Ｅｒａｇｒｏｓｔｉｓ）、ナルコビエ属（Ｅｒｉｏｃｈｌｏａ）、ウシノケグサ属（Ｆｅｓｔｕｃａ）、テンツキ属（Ｆｉｍｂｒｉｓｔｙｌｉｓ）、アメリカコナギ属（Ｈｅｔｅｒａｎｔｈｅｒａ）、チガヤ属（Ｉｍｐｅｒａｔａ）、カモノハシ属（Ｉｓｃｈａｅｍｕｍ）、アゼガヤ属（Ｌｅｐｔｏｃｈｌｏａ）、ドクムギ属（Ｌｏｌｉｕｍ）、ミズアオイ属（Ｍｏｎｏｃｈｏｒｉａ）、キビ属（Ｐａｎｉｃｕｍ）、スズメノヒエ属（Ｐａｓｐａｌｕｍ）、クサヨシ属（Ｐｈａｌａｒｉｓ）、アワガエリ属（Ｐｈｌｅｕｍ）、イチゴツナギ属（Ｐｏａ）、ツノアイアシ属（Ｒｏｔｔｂｏｅｌｌｉａ）、オモダカ属（Ｓａｇｉｔｔａｒｉａ）、ホタルイ属（Ｓｃｉｒｐｕｓ）、エノコログサ属（Ｓｅｔａｒｉａ）、及び、モロコシ属（Ｓｏｒｇｈｕｍ）。
【0060】
以下の属の双子葉植物雑草： イチビ属（Ａｂｕｔｉｌｏｎ）、ヒユ属（Ａｍａｒａｎｔｈｕｓ）、ブタクサ属（Ａｍｂｒｏｓｉａ）、アノダ属（Ａｎｏｄａ）、カミツレ属（Ａｎｔｈｅｍｉｓ）、アファネス属（Ａｐｈａｎｅｓ）、ヨモギ属（Ａｒｔｅｍｉｓｉａ）、ハマアカザ属（Ａｔｒｉｐｌｅｘ）、ヒナギク属（Ｂｅｌｌｉｓ）、センダングサ属（Ｂｉｄｅｎｓ）、ナズナ属（Ｃａｐｓｅｌｌａ）、ヒレアザミ属（Ｃａｒｄｕｕｓ）、カワラケツメイ属（Ｃａｓｓｉａ）、ヤグルマギク属（Ｃｅｎｔａｕｒｅａ）、アカザ属（Ｃｈｅｎｏｐｏｄｉｕｍ）、アザミ属（Ｃｉｒｓｉｕｍ）、セイヨウヒルガオ属（Ｃｏｎｖｏｌｖｕｌｕｓ）、チョウセンアサガオ属（Ｄａｔｕｒａ）、ヌスビトハギ属（Ｄｅｓｍｏｄｉｕｍ）、エメキス属（Ｅｍｅｘ）、エゾスズシロ属（Ｅｒｙｓｉｍｕｍ）、トウダイグサ属（Ｅｕｐｈｏｒｂｉａ）、チシマオドリコソウ属（Ｇａｌｅｏｐｓｉｓ）、コゴメギク属（Ｇａｌｉｎｓｏｇａ）、ヤエムグラ属（Ｇａｌｉｕｍ）、フヨウ属（Ｈｉｂｉｓｃｕｓ）、サツマイモ属（Ｉｐｏｍｏｅａ）、ホウキギ属（Ｋｏｃｈｉａ）、オドリコソウ属（Ｌａｍｉｕｍ）、マメグンバイナズナ属（Ｌｅｐｉｄｉｕｍ）、アゼトウガラシ属（Ｌｉｎｄｅｒｎｉａ）、シカギク属（Ｍａｔｒｉｃａｒｉａ）、ハッカ属（Ｍｅｎｔｈａ）、ヤマアイ属（Ｍｅｒｃｕｒｉａｌｉｓ）、ザクロソウ属（Ｍｕｌｌｕｇｏ）、ワスレナグサ属（Ｍｙｏｓｏｔｉｓ）、ケシ属（Ｐａｐａｖｅｒ）、アサガオ属（Ｐｈａｒｂｉｔｉｓ）、オオバコ属（Ｐｌａｎｔａｇｏ）、タデ属（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍ）、スベリヒユ属（Ｐｏｒｔｕｌａｃａ）、キンポウゲ属（Ｒａｎｕｎｃｕｌｕｓ）、ダイコン属（Ｒａｐｈａｎｕｓ）、イヌガラシ属（Ｒｏｒｉｐｐａ）、キカシグサ属（Ｒｏｔａｌａ）、ギシギシ属（Ｒｕｍｅｘ）、オカヒジキ属（Ｓａｌｓｏｌａ）、キオン属（Ｓｅｎｅｃｉｏ）、セスバニア属（Ｓｅｓｂａｎｉａ）、キンゴジカ属（Ｓｉｄａ）、シロガラシ属（Ｓｉｎａｐｉｓ）、ナス属（Ｓｏｌａｎｕｍ）、ノゲシ属（Ｓｏｎｃｈｕｓ）、ナガボノウルシ属（Ｓｐｈｅｎｏｃｌｅａ）、ハコベ属（Ｓｔｅｌｌａｒｉａ）、タンポポ属（Ｔａｒａｘａｃｕｍ）、グンバイナズナ属（Ｔｈｌａｓｐｉ）、シャジクソウ属（Ｔｒｉｆｏｌｉｕｍ）、イラクサ属（Ｕｒｔｉｃａ）、クワガタソウ属（Ｖｅｒｏｎｉｃａ）、スミレ属（Ｖｉｏｌａ）、及び、オナモミ属（Ｘａｎｔｈｉｕｍ）。
【0061】
発生前処理： 化合物Ｉ又は本発明による組み合わせ／組成物が雑草が発生する前に土壌表面に施用される場合、雑草の実生の出芽が完全に防止されるか、又は、それら雑草は、実生段階まで成長するが、その後成長を停止し、そして最終的には、３～４週間経過した後、完全に枯死する。
【0062】
化合物Ｉ又は本発明による組み合わせ／組成物が植物の緑色の部分に対する発生後施用として使用される場合は、雑草の成長は処理の後で同様に阻害されるか、又は、それら雑草は、一定期間の後、完全に枯死し、その結果、このようにして、作物植物にとって有害である雑草との競合が、極めて早期に、そして、持続的に排除される。
【0063】
かくして、化合物Ｉ又は本発明による組み合わせ／組成物は、望ましくない雑草植物の成長を制御するために、好ましくは、作物（例えば、穀類、トウモロコシ及びイネ）の中で望ましくない雑草植物の成長を制御するために、発生前施用又は発生後施用として効果的に施用することができる。薬害軽減剤イソキサジフェン－エチルを含んでいる本発明による組み合わせ／組成物は、好ましくは、トウモロコシ及びイネにおける発生後施用として施用することが可能であり；薬害軽減剤メフェンピル－ジエチルを含んでいる本発明による組み合わせ／組成物は、好ましくは、穀類（限定するものではないが、コムギ、ライムギ、ライコムギ、オオムギなどが挙げられる）において発生後施用として施用することが可能であり；及び、薬害軽減剤シプロスルファミド又はイソキサジフェン－エチルを含んでいる本発明による組み合わせ／組成物は、好ましくは、トウモロコシにおいて発生後施用として施用することが可能である。
【0064】
本発明による方法は、遺伝子組換え植物の作物又は慣習的な突然変異誘発によって改質された植物の作物の中の有害な雑草を防除するために用いることもできる。一般に、トランスジェニック植物は、特定の有利な特性によって、例えば、特定の殺有害生物剤（主に、特定の除草剤）に対する抵抗性、植物病害／病原体又は昆虫類又は微生物類（例えば、菌類、細菌類又はウイルス類）に対する抵抗性などによって、特徴付けられる。別の特別な特性は、例えば、収穫物の、量、質、貯蔵性、組成及び特定の成分などに関する。
【0065】
本発明による組み合わせ又は組成物は、既知方法で、例えば、場合によりさらなる活性成分、アジュバント及び／又は慣習的な製剤助剤を含んでいてもよい、個々の成分の混合製剤として製造することができる。
【0066】
本発明による組み合わせ又は組成物において、化合物Ｉの施用量は、慣習的に、１ヘクタール当たり１０～１０００ｇの活性成分（ａ．ｉ．）であり、好ましくは、５０～６００ｇ ａ．ｉ．／ｈａ、特に好ましくは、１００～４００ｇ ａ．ｉ．／ｈａである。群ＩＩのさらなる活性成分の施用量は、慣習的に、１ヘクタール当たり１～３０００ｇの活性成分であり、好ましくは、２，５～２５００ｇ ａ．ｉ．／ｈａ、特に好ましくは、４～１０００ｇ ａ．ｉ．／ｈａである。しかしながら、個々の成分の重量比は、比較的広い範囲内で変えることができる。一般的に言えば、１：２４０～２００：１の重量部、好ましくは、１：４０～５０：１の重量部、特に好ましくは、１：１０～４０：１の群ＩＩの成分の１重量部当たりの成分Ｉである。
【0067】
段階１において、当該種子を薬害軽減剤で処理する。その量は、１～０．０１ｇ／ｋｇの範囲内であり、好ましくは、１～０．１ｇ／ｋｇ、最も好ましくは、０．７５～０．２５ｇ／ｋｇの範囲内である。その播種密度は、７５～１５０ｋｇ種子／ｈａの範囲内でさまざまである（品種及び播種日に応じて）。
【0068】
７５ｋｇ／ｈａの最も低い播種密度を考慮すれば、段階１で調製した種子を播種する場合、１ｈａ当たり０．７５～７５ｇの薬害軽減剤が圃場に施用される。
【0069】
１５０ｋｇ／ｈａの最も高い播種密度を考慮すれば、段階１で調製した種子を播種する場合、１ｈａ当たり、１．５～１５０ｇの薬害軽減剤が圃場に施用される。
【0070】
段階２における方法Ｃ／Ｃ－１／Ｃ－２／Ｃ－３及び方法Ｄ／Ｄ－１／Ｄ－２／Ｄ－３に関しては、薬害軽減剤の施用量は、１ｈａ当たり１～１０００ｇの薬害軽減剤であり、好ましくは、１ｈａ当たり５～５００ｇの薬害軽減剤、最も好ましくは、１ｈａ当たり５０～３５０ｇの薬害軽減剤である。
【実施例】
【0071】
実施例
１． 従来技術で使用されている方法
コムギ種子（冬コムギ、ＴＲＺＡＷ）を直径７ｃｍのポットの中の砂壌土に配置し、土壌で被覆し、良好な生育条件下、温室内で栽培した。
１． 従来技術で使用されている方法
コムギ種子（冬コムギ、ＴＲＺＡＷ）を直径７ｃｍのポットの中の砂壌土に配置し、土壌で被覆し、良好な生育条件下、温室内で栽培した。
【0072】
当該植物が生育段階ＢＢＣＨ１１（ＢＢＣＨは、作物及び雑草の生育段階に関する国際コーディングシステムである）に達したとき、発生後施用を実施した。
【0073】
当該除草剤（化合物Ｉ）は、懸濁濃縮液（ｓｕｓｐｅｎｓｉｏｎ ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｅ（ＳＣ））として製剤した。
【0074】
当該薬害軽減剤（メフェンピル－ジエチル）は、水和剤（ＷＰ）として製剤した。
【0075】
当該化合物は、０．２％の水和剤（Ａｇｒｏｔｉｎ）を添加した３００Ｌ／ｈａに相当する散布水量の水性懸濁液として、植物の緑色の部分に散布した。
【0076】
除草剤と薬害軽減剤の組み合わせは、タンクミックスとして施用した。
【0077】
施用後、当該被験植物を、良好な生育条件下、温室内に維持した。施用の２０日後、処理された植物において観察された生育抑制（％）及びクロロシス（％）について、未処理対照と比較して視覚的に評価した。
【0078】
下記表の中の値は、少なくとも３反復の平均値である。
【表1】
【0079】
２． 方法Ａ
コムギ種子（冬コムギ、ＴＲＺＡＷ）を直径７ｃｍのポットの中の砂壌土に配置し、土壌で被覆し、良好な生育条件下、温室内で栽培した。
コムギ種子（冬コムギ、ＴＲＺＡＷ）を直径７ｃｍのポットの中の砂壌土に配置し、土壌で被覆し、良好な生育条件下、温室内で栽培した。
【0080】
薬害軽減剤で種子処理するために、充分な量の種子を秤量して、その種子の体積の約２倍の容積を有するねじ蓋付きガラス瓶の中に入れた。
【0081】
薬害軽減剤（メフェンピル－ジエチル、水和剤（ＷＰ）として製剤されたもの）を必要とされる薬量（ｇ ａ．ｉ．／ｋｇ種子）が得られるように秤量し、水に溶解させ（種子１０ｇ当たり水１ｍＬ）、そして、上記種子に添加してスラリーとした。
【0082】
該瓶に蓋をし、次いで、その瓶を、種子が上記スラリーで均一に覆われるように、オーバーヘッドシェーカー（最大で１時間、中速に設定）の中に配置した。瓶の蓋を外し、種子を上記で記載したように播種した。
【0083】
当該植物が生育段階ＢＢＣＨ１１に達したとき、発生後施用を実施した。
【0084】
当該除草剤（化合物Ｉ）は、懸濁濃縮液（ＳＣ）として製剤し、０．２％の水和剤（Ａｇｒｏｔｉｎ）を添加した３００Ｌ／ｈａに相当する散布水量の水性懸濁液として、植物の緑色の部分に散布した。
【0085】
施用後、当該被験植物を、良好な生育条件下、温室内に維持した。施用の２０日後、処理された植物において観察された生育抑制（％）及びクロロシス（％）について、未処理対照と比較して視覚的に評価した。
【0086】
下記表の中の値は、少なくとも３反復の平均値である。
【表2】
【0087】
３． 方法Ｃ
コムギ種子（冬コムギ、ＴＲＺＡＷ）を直径７ｃｍのポットの中の砂壌土に配置し、土壌で被覆し、良好な生育条件下、温室内で栽培した。
コムギ種子（冬コムギ、ＴＲＺＡＷ）を直径７ｃｍのポットの中の砂壌土に配置し、土壌で被覆し、良好な生育条件下、温室内で栽培した。
【0088】
薬害軽減剤で種子処理するために、充分な量の種子を秤量して、その種子の体積の約２倍の容積を有するねじ蓋付きガラス瓶の中に入れた。
【0089】
薬害軽減剤（メフェンピル－ジエチル、水和剤（ＷＰ）として製剤されたもの）を必要とされる薬量（ｇ ａ．ｉ．／ｋｇ種子）が得られるように秤量し、水に溶解させ（種子１０ｇ当たり水１ｍＬ）、そして、上記種子に添加してスラリーとした。
【0090】
該瓶に蓋をし、次いで、その瓶を、種子が上記スラリーで均一に覆われるように、オーバーヘッドシェーカー（最大で１時間、中速に設定）の中に配置した。瓶の蓋を外し、種子を上記で記載したように播種した。
【0091】
当該植物が生育段階ＢＢＣＨ１１に達したとき、発生後施用を実施した。
【0092】
当該除草剤（化合物Ｉ）は、懸濁濃縮液（ＳＣ）として製剤した。
【0093】
当該薬害軽減剤（メフェンピル－ジエチル）は、水和剤（ＷＰ）として製剤した。
【0094】
当該化合物は、０．２％の水和剤（Ａｇｒｏｔｉｎ）を添加した３００Ｌ／ｈａに相当する散布水量の水性懸濁液として、植物の緑色の部分に散布した。
【0095】
除草剤と薬害軽減剤の組み合わせは、タンクミックスとして施用した。
【0096】
施用後、当該被験植物を、良好な生育条件下、温室内に維持した。施用の２０日後、処理された植物において観察された生育抑制（％）及びクロロシス（％）について、未処理対照と比較して視覚的に評価した。
【0097】
下記表の中の値は、少なくとも３反復の平均値である。
【表3】
【0098】
４． 方法Ｄ
コムギ種子（冬コムギ、ＴＲＺＡＷ）を直径７ｃｍのポットの中の砂壌土に配置し、土壌で被覆し、良好な生育条件下、温室内で栽培した。
コムギ種子（冬コムギ、ＴＲＺＡＷ）を直径７ｃｍのポットの中の砂壌土に配置し、土壌で被覆し、良好な生育条件下、温室内で栽培した。
【0099】
薬害軽減剤で種子処理するために、充分な量の種子を秤量して、その種子の体積の約２倍の容積を有するねじ蓋付きガラス瓶の中に入れた。
【0100】
薬害軽減剤（メフェンピル－ジエチル、水和剤（ＷＰ）として製剤されたもの）を必要とされる薬量（ｇ ａ．ｉ．／ｋｇ種子）が得られるように秤量し、水に溶解させ（種子１０ｇ当たり水１ｍＬ）、そして、上記種子に添加してスラリーとした。
【0101】
該瓶に蓋をし、次いで、その瓶を、種子が上記スラリーで均一に覆われるように、オーバーヘッドシェーカー（最大で１時間、中速に設定）の中に配置した。瓶の蓋を外し、種子を上記で記載したように播種した。
【0102】
発生前施用のために、当該除草剤（化合物Ｉ）は、懸濁濃縮液（ＳＣ）として製剤し、当該薬害軽減剤（メフェンピル－ジエチル）は、水和剤（ＷＰ）として製剤した。
【0103】
当該化合物は、０．２％の水和剤（Ａｇｒｏｔｉｎ）を添加した３００Ｌ／ｈａに相当する散布水量の水性懸濁液として、土壌の表面に散布した。
【0104】
除草剤と薬害軽減剤の組み合わせは、タンクミックスとして施用した。
【0105】
施用後、当該被験植物を、良好な生育条件下、温室内に維持した。施用の２１日後、処理された植物において観察された生育抑制（％）及びクロロシス（％）について、未処理対照と比較して視覚的に評価した。
【0106】
下記表の中の値は、少なくとも３反復の平均値である。
【表4】