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特許7165754半導体ウェハの洗浄装置及び洗浄方法
発明の名称 半導体ウェハの洗浄装置及び洗浄方法
出願人 エーシーエム リサーチ （シャンハイ） インコーポレーテッド （識別番号 510005650）
特許公開件数ランキング 1151 位（6件）（共同出願を含む）
特許取得件数ランキング 2323 位（2件）（共同出願を含む）
公報番号 特許-7165754
公報発行日 2022年11月4
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7165754
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