▶ ダブリュ．エル．ゴア アンド アソシエイツ，インコーポレイティドの特許一覧
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2022-11-01
(45)【発行日】2022-11-10
(54)【発明の名称】防音支持メンブレンアセンブリ
(51)【国際特許分類】
G10K 11/162 20060101AFI20221102BHJP
G10K 11/168 20060101ALI20221102BHJP
B32B 5/24 20060101ALI20221102BHJP
【ＦＩ】
G10K11/162
G10K11/168
B32B5/24 101
【請求項の数】
15
【外国語出願】
(21)【出願番号】P 2021000026
(22)【出願日】2021-01-04
(62)【分割の表示】P 2020107557の分割
【原出願日】2020-06-23
(65)【公開番号】P2021076850
(43)【公開日】2021-05-20
【審査請求日】2021-02-18
(31)【優先権主張番号】16/582,609
(32)【優先日】2019-09-25
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(73)【特許権者】
【識別番号】391028362
【氏名又は名称】ダブリュ．エル．ゴア アンド アソシエイツ，インコーポレイティド
【氏名又は名称原語表記】Ｗ．Ｌ． ＧＯＲＥ ＆ ＡＳＳＯＣＩＡＴＥＳ， ＩＮＣＯＲＰＯＲＡＴＥＤ
(74)【代理人】
【識別番号】100099759
【弁理士】
【氏名又は名称】青木 篤
(74)【代理人】
【識別番号】100123582
【弁理士】
【氏名又は名称】三橋 真二
(74)【代理人】
【識別番号】100128495
【弁理士】
【氏名又は名称】出野 知
(74)【代理人】
【識別番号】100093665
【弁理士】
【氏名又は名称】蛯谷 厚志
(74)【代理人】
【識別番号】100173107
【弁理士】
【氏名又は名称】胡田 尚則
(72)【発明者】
【氏名】ウェイン ギボンズ
(72)【発明者】
【氏名】ザカリー ランパート
(72)【発明者】
【氏名】イーティエン チャン
【審査官】辻 勇貴
(56)【参考文献】
【文献】特開２０１４－１２３９３７（ＪＰ，Ａ）
【文献】特表２００３－５０３９９１（ＪＰ，Ａ）
【文献】特表２０１９－５１１９５０（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開平１０－１６５７８７（ＪＰ，Ａ）
【文献】特表２０１３－５２６１７２（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｇ１０Ｋ ９／１２－９／２２
Ｈ０４Ｂ １／３８－１／５８
Ｈ０４Ｍ １／００－１／８２
９９／００
Ｈ０４Ｒ １／００－１／０８
１／１２－１／１４
１／２０－１／４６
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
１００～５０，０００レイルの空気流抵抗、振動変位試験（「ＶＤＴ」）を使用して測定されたときに、０．０００２Ｐａ/ｎｍ～３，０００Ｐａ/ｎｍの有効剛性、及び、
インピーダンスチューブトランスファーマトリックス試験（「ＩＴＴＭＴ」）によって測定されたときに、５００～２０，０００Ｈｚの周波数範囲で１．５ｄＢ/オクターブを超えて変化しない伝送損失、
を備えるアセンブリ。
【請求項2】
前記アセンブリは、キャピラリーピストン試験（「ＣＰＴ」）に従って測定して１０ｐｓｉ～３５０ｐｓｉ（「ＷＥＰ」）の範囲の水侵入圧力を有する、請求項１記載のアセンブリ。
【請求項3】
前記アセンブリは、５０～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたってインピーダンスチューブトランスファーマトリックス試験（「ＩＴＴＭＴ」）によって測定されたときに、３ｄＢ～４８ｄＢの伝送損失を示す、請求項１記載のアセンブリ。
【請求項4】
前記アセンブリは、０．０２５ミクロン～３００ミクロンの範囲の厚さを有するポリマーメンブレンを含む、請求項１記載のアセンブリ。
【請求項5】
前記アセンブリは、異なる細孔サイズを有する複数の細孔を含むポリマーメンブレンを含む、請求項１記載のアセンブリ。
【請求項6】
前記複数の細孔は０．１～３０ミクロンの範囲の最大細孔サイズを有する、請求項５記載のアセンブリ。
【請求項7】
前記アセンブリは、０．４ｐｓｉ～１２０ｐｓｉの範囲のバブルポイントを有するポリマーメンブレンを含む、請求項１記載のアセンブリ。
【請求項8】
前記アセンブリは、複数の開口部を含む少なくとも１つの支持層を含む、請求項１記載のアセンブリ。
【請求項9】
前記複数の開口部のうちの単一の開口部の最大寸法は１～５００ミクロンである、請求項８記載のアセンブリ。
【請求項10】
前記アセンブリは、１０～１０００ミクロンの厚さを有する少なくとも１つの支持層を含む、請求項１記載のアセンブリ。
【請求項11】
前記アセンブリは、５％～９８％の有効開口面積を有する少なくとも１つの支持層を含む、請求項１記載のアセンブリ。
【請求項12】
前記アセンブリは、延伸ポリテトラフルオロエチレン（ｅＰＴＦＥ）を含むポリマーメンブレンを含む、請求項１記載のアセンブリ。
【請求項13】
前記アセンブリは単一の支持層を含む、請求項１記載のアセンブリ。
【請求項14】
前記アセンブリは少なくとも２つの支持層を含む、請求項１記載のアセンブリ。
【請求項15】
前記アセンブリは第一の支持層及び第二の支持層を含み、そして前記ポリマーメンブレンは前記第一の支持層と前記第二の支持層との間に挟まれる、請求項４記載のアセンブリ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
分野
本開示の分野は音響メンブレンアセンブリに関する。
本開示の分野は音響メンブレンアセンブリに関する。
【背景技術】
【0002】
背景
音響メンブレンアセンブリは、音がメンブレンを通して通過し、デバイスへ及びデバイスから伝播することができる。音響メンブレンは、水、ダスト及びその他の汚染物質の侵入を防止することもできる。当技術分野では、改良された音響メンブレンが継続的に必要とされている。
音響メンブレンアセンブリは、音がメンブレンを通して通過し、デバイスへ及びデバイスから伝播することができる。音響メンブレンは、水、ダスト及びその他の汚染物質の侵入を防止することもできる。当技術分野では、改良された音響メンブレンが継続的に必要とされている。
【発明の概要】
【0003】
要約
網羅される実施形態は、この要約ではなく、特許請求の範囲によって規定される。この要約は、様々な態様の高レベルの概要であり、以下の詳細な説明のセクションでさらに記載される幾つかの概念を紹介する。この要約は、特許請求された主題の主要な又は本質的な特徴を特定することを意図しておらず、特許請求された主題の範囲を決定するために単独で使用されることを意図していない。主題は、明細書全体、任意の又はすべての図面及び各請求項の適切な部分を参照することによって理解されるべきである。
網羅される実施形態は、この要約ではなく、特許請求の範囲によって規定される。この要約は、様々な態様の高レベルの概要であり、以下の詳細な説明のセクションでさらに記載される幾つかの概念を紹介する。この要約は、特許請求された主題の主要な又は本質的な特徴を特定することを意図しておらず、特許請求された主題の範囲を決定するために単独で使用されることを意図していない。主題は、明細書全体、任意の又はすべての図面及び各請求項の適切な部分を参照することによって理解されるべきである。
【0004】
本開示は、ポリマーメンブレンと、複数の開口部を含む少なくとも１つの支持層とを備えるアセンブリに関する。
【0005】
幾つかの実施形態において、アセンブリは、７５～５０，０００レイルの範囲の空気流抵抗を有するポリマーメンブレン、及び、少なくとも１つの支持層を備え、該少なくとも１つの支持層の少なくとも一部は前記ポリマーメンブレンと接触しており、前記少なくとも１つの支持層は、１０～５０００レイルの空気流抵抗を有し、前記アセンブリは、振動変位試験（「ＶＤＴ」）を使用して測定されたときに、有効剛性が０．０００２Ｐａ/ｎｍ～３，０００Ｐａ/ｎｍであり、そして前記アセンブリは、インピーダンスチューブトランスファーマトリックス試験（「ＩＴＴＭＴ」）で測定して５０～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって＋４５度～－４５度の位相角で音響インピーダンスを有する。
【0006】
幾つかの実施形態において、アセンブリは、７５レイル～５０，０００レイルの範囲の空気流抵抗を有するポリマーメンブレン、少なくとも1つの支持層を備え、該少なくとも１つの支持層の少なくとも一部は前記少なくとも１つのポリマーメンブレンと接触しており、前記少なくとも１つの支持層は、１０レイル～５０００レイルの範囲の空気流抵抗を有し、そして、前記少なくとも１つの支持層は、振動変位試験（「ＶＤＴ」）を使用して測定されたときに、有効剛性が０．０５Ｐａ／ｎｍ～２５Ｐａ／ｎｍの範囲であり、そして前記アセンブリは、インピーダンスチューブトランスファーマトリックス試験（「ＩＴＴＭＴ」）で測定して５０～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって＋４５度～－４５度の位相角で音響インピーダンスを有する。
【0007】
幾つかの実施形態において、アセンブリは、１００～５０，０００レイルの空気流抵抗、振動変位試験（「ＶＤＴ」）を使用して測定されたときに、０．０００２Ｐａ/ｎｍ～３，０００Ｐａ/ｎｍの有効剛性、及び、インピーダンスチューブトランスファーマトリックス試験（「ＩＴＴＭＴ」）で測定して５０～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって＋４５度～－４５度の位相角で音響インピーダンスを備える。
【0008】
幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、キャピラリーピストン試験（「ＣＰＴ」）に従って測定して１０ｐｓｉ～３５０ｐｓｉ（「ＷＥＰ」）の範囲の水侵入圧力を有する。
【0009】
幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、５０～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたってインピーダンスチューブトランスファーマトリックス試験（「ＩＴＴＭＴ」）によって測定されたときに、３ｄＢ～４８ｄＢの伝送損失を示す。
【0010】
幾つかの実施形態において、アセンブリは、１００～５０，０００レイルの空気流抵抗、振動変位試験（「ＶＤＴ」）を使用して測定されたときに、０．０００２Ｐａ/ｎｍ～３，０００Ｐａ/ｎｍの有効剛性、及び、インピーダンスチューブトランスファーマトリックス試験（「ＩＴＴＭＴ」）によって測定されたときに、５０～２０，０００Ｈｚの周波数範囲で１．５ｄＢ/オクターブを超えて変化しない伝送損失を備える。
【0011】
幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは、０．０２５ミクロン～３００ミクロンの範囲の厚さを有する。
【0012】
幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは、異なる細孔サイズを有する複数の細孔を含む。
【0013】
幾つかの実施形態において、前記複数の細孔は０．１～３０ミクロンの範囲の最大細孔サイズを有する。
【0014】
幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．４ｐｓｉ～１２０ｐｓｉの範囲のバブルポイントを有する。
【0015】
幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は複数の開口部を含む。
【0016】
幾つかの実施形態において、前記複数の開口部のうちの単一の開口部の最大寸法は１～５００ミクロンである。
【0017】
幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は１０～１０００ミクロンの厚さを有する。
【0018】
幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は５％～９８％の有効開口面積を有する。
【0019】
幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは延伸ポリテトラフルオロエチレン（ｅＰＴＦＥ）を含む。
【0020】
幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは１ＭＰａ～１０００ＭＰａの範囲のヤング率を有する。
【0021】
幾つかの実施形態において、前記アセンブリは単一の支持層を含む。
【0022】
幾つかの実施形態において、前記アセンブリは少なくとも２つの支持層を含む。
【0023】
幾つかの実施形態において、前記アセンブリは第一の支持層及び第二の支持層を含み、そして前記ポリマーメンブレンは前記第一の支持層と前記第二の支持層との間に挟まれる。
【0024】
幾つかの実施形態において、前記第一の支持層及び前記第二の支持層は同一の材料を含む。
【0025】
幾つかの実施形態において、前記第一の支持層及び前記第二の支持層は異なる材料を含む。
【0026】
幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンと前記少なくとも１つの支持層との間に接着剤が存在する。
【0027】
幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層はガラス繊維を含む。
【0028】
幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は金属を含む。
【0029】
幾つかの実施形態において、前記金属は黄銅である。
【0030】
幾つかの実施形態において、１つ又は複数の支持層はメッシュを含む。
【0031】
幾つかの実施形態において、前記メッシュは織られたポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）メッシュである。
【0032】
幾つかの実施形態において、前記メッシュは、押出成形されたプラスチック不織メッシュである。
【図面の簡単な説明】
【0033】
図面の簡単な説明
本開示の幾つかの実施形態は、添付の図面を参照して、例としてのみ本明細書で記載されている。ここで詳細に図面を具体的に参照すると、示されている実施形態は、例としてであり、本開示の実施形態の例示的な議論を目的としている。この点で、図面とともになされる記載は、本開示の実施形態がどのように実施されうるかを当業者に明らかにする。
本開示の幾つかの実施形態は、添付の図面を参照して、例としてのみ本明細書で記載されている。ここで詳細に図面を具体的に参照すると、示されている実施形態は、例としてであり、本開示の実施形態の例示的な議論を目的としている。この点で、図面とともになされる記載は、本開示の実施形態がどのように実施されうるかを当業者に明らかにする。
【0034】
【0035】
【0036】
【0037】
【0038】
【0039】
【0040】
【0041】
【0042】
【0043】
【発明を実施するための形態】
【0044】
詳細な説明
開示されたこれらの利益及び改良の中で、本開示の他の目的及び利点は添付の図面と併せて以下の記載から明らかになるであろう。本開示の詳細な実施形態は本明細書に開示されている。しかしながら、開示された実施形態は、様々な形態で具現化されうる開示の単なる例示である。さらに、本開示の様々な実施形態に関して与えられた例のそれぞれは、例示的であり、限定的ではないことが意図されている。
開示されたこれらの利益及び改良の中で、本開示の他の目的及び利点は添付の図面と併せて以下の記載から明らかになるであろう。本開示の詳細な実施形態は本明細書に開示されている。しかしながら、開示された実施形態は、様々な形態で具現化されうる開示の単なる例示である。さらに、本開示の様々な実施形態に関して与えられた例のそれぞれは、例示的であり、限定的ではないことが意図されている。
【0045】
明細書及び特許請求の範囲の全体を通して、以下の用語は、文脈が明らかに他のことを指示しない限り、本明細書に明示的に関連付けられた意味をとる。本明細書で使用されるときに、「１つの実施形態において」、「実施形態において」及び「幾つかの実施形態において」という語句は、同じ実施形態を指すこともあるが、必ずしも同じ実施形態を指すとは限らない。さらに、本明細書で使用されるときに、「別の実施形態において」及び「幾つかの他の実施形態において」という語句は、異なる実施形態を指すこともあるが、必ずしも異なる実施形態を指すとは限らない。本開示のすべての実施形態は、本開示の範囲又は主旨から逸脱することなく組み合わせることができることが意図されている。
【0046】
本明細書で使用されるときに、「をベースとする（に基づく）」という用語は排他的ではなく、文脈が明確に他のことを指示しない限り、記載されていない追加の要因に基づくことを可能にする。さらに、本明細書全体を通して、「a」、「an」及び「the」の意味は複数の参照を含む。「中（in）」の意味は「中（in）」及び「上（on）」を包含する。
【0047】
本明細書で参照されているすべての先行特許、出版物及び試験方法の全体は参照により取り込まれる。
【0048】
本開示の幾つかの実施形態は、ポリマーメンブレン及び少なくとも１つの支持層を備える、支配的に抵抗性の支持音響メンブレンアセンブリに関する。
【0049】
幾つかの実施形態において、アセンブリ内のポリマーメンブレンは複数の細孔を含む。幾つかの実施形態において、前記複数の細孔は最大細孔サイズを有することができる。本明細書で使用されるときに、「最大細孔サイズ」は、前記複数の細孔のうちの最大細孔のサイズである。
【0050】
幾つかの実施形態において、前記複数の細孔は０．１～３０ミクロンの最大細孔サイズを有することができる。幾つかの実施形態において、前記複数の細孔は０．３～３０ミクロンの最大細孔サイズを有することができる。幾つかの実施形態において、前記複数の細孔は０．５～３０ミクロンの最大細孔サイズを有することができる。幾つかの実施形態において、前記複数の細孔は１０～３０ミクロンの最大細孔サイズを有することができる。幾つかの実施形態において、前記複数の細孔は２０～３０ミクロンの最大細孔サイズを有することができる。幾つかの実施形態において、前記複数の細孔は２５～３０ミクロンの最大細孔サイズを有することができる。
【0051】
幾つかの実施形態において、前記複数の細孔は０．２～８ミクロンの最大細孔サイズを有することができる。幾つかの実施形態において、前記複数の細孔は０．４～４ミクロンの最大細孔サイズを有することができる。幾つかの実施形態において、前記複数の細孔は０．８～２ミクロンの最大細孔サイズを有することができる。幾つかの実施形態において、前記複数の細孔は１～１．６ミクロンの最大細孔サイズを有することができる。
【0052】
幾つかの実施形態において、前記複数の細孔は０．２～４ミクロンの最大細孔サイズを有することができる。幾つかの実施形態において、複数の細孔は０．２～２ミクロンの最大細孔サイズを有することができる。幾つかの実施形態において、前記複数の細孔は０．２～１．６ミクロンの最大細孔サイズを有することができる。幾つかの実施形態において、前記複数の細孔は０．２～１ミクロンの最大細孔サイズを有することができる。幾つかの実施形態において、前記複数の細孔は０．２～０．８ミクロンの最大細孔サイズを有することができる。幾つかの実施形態において、前記複数の細孔は０．２～０．４ミクロンの最大細孔サイズを有することができる。
【0053】
幾つかの実施形態において、前記複数の細孔は０．４～８ミクロンの最大細孔サイズを有することができる。幾つかの実施形態において、前記複数の細孔は０．８～８ミクロンの最大細孔サイズを有することができる。幾つかの実施形態において、前記複数の細孔は１～８ミクロンの最大細孔サイズを有することができる。幾つかの実施形態において、前記複数の細孔は１．６～８ミクロンの最大細孔サイズを有することができる。幾つかの実施形態において、前記複数の細孔は２～８ミクロンの最大細孔サイズを有することができる。幾つかの実施形態において、前記複数の細孔は４～８ミクロンの最大細孔サイズを有することができる。
【0054】
幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．０６ミクロン～１３０ミクロンの範囲の厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．１２ミクロン～６５ミクロンの範囲の厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．２４ミクロン～３０ミクロンの範囲の厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．５ミクロン～１５ミクロンの範囲の厚さを有する。幾つかの実施形態において、ポリマーメンブレンは１ミクロン～８ミクロンの範囲の厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは２ミクロン～４ミクロンの範囲の厚さを有する。
【0055】
幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．０２５ミクロン～３００ミクロンの範囲の厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．０６１ミクロン～１２６ミクロンの範囲の厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．０２５ミクロン～１５０ミクロンの範囲の厚さを有する。
【0056】
幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．０２５ミクロン～１５０ミクロンの範囲の厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．０２５ミクロン～１００ミクロンの範囲の厚さを有する。幾つかの実施形態において、、前記ポリマーメンブレンは０．０２５ミクロン～５０ミクロンの範囲の厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．０２５ミクロン～２５ミクロンの範囲の厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．０２５ミクロン～１０ミクロンの範囲の厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．０２５ミクロン～５ミクロンの範囲の厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．０２５ミクロン～２．５ミクロンの範囲の厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．０２５ミクロン～１ミクロンの範囲の厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．０２５ミクロン～０．３ミクロンの範囲の厚さを有する。
【0057】
幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．０６ミクロン～６５ミクロンの範囲の厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．０６ミクロン～３０ミクロンの範囲の厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．０６ミクロン～１５ミクロンの範囲の厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．０６ミクロン～８ミクロンの範囲の厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．０６ミクロン～４ミクロンの範囲の厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．０６ミクロン～２ミクロンの範囲の厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．０６ミクロン～１ミクロンの範囲の厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．０６ミクロン～０．５ミクロンの範囲の厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．０６ミクロン～０．２４ミクロンの範囲の厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．０６ミクロン～０．１２ミクロンの範囲の厚さを有する。
【0058】
幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．１２ミクロン～１３０ミクロンの範囲の厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．２４ミクロン～１３０ミクロンの範囲の厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．５ミクロン～１３０ミクロンの範囲の厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは１ミクロン～１３０ミクロンの範囲の厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは２ミクロン～１３０ミクロンの範囲の厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは４ミクロン～１３０ミクロンの範囲の厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは８ミクロン～１３０ミクロンの範囲の厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは１５ミクロン～１３０ミクロンの範囲の厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは３０ミクロン～１３０ミクロンの範囲の厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは６５ミクロン～１３０ミクロンの範囲の厚さを有する。
【0059】
幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは、ポリオレフィン、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミド、ポリケトン、ポリスルホン又はポリカーボネートのうちの少なくとも１つを含む。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンはフルオロポリマーを含むことができる。幾つかの実施形態において、前記フルオロポリマーは、ＰＶＤＦ、ポリビニリデンジフルオリド、ポリ（テトラフルオロエチレン-コ-ヘキサフルオロプロピレン（ＦＥＰ）、ポリ（エチレン-alt-テトラフルオロエチレン）（ＥＴＦＥ）、ポリクロロトリフルオロエチレン（ＰＣＴＦＥ）、ポリ（テトラフルオロエチレン-コ-ペルフルオロプロピルビニルエーテル）（ＰＦＡ）、ポリ（フッ化ビニリデン-コ-ヘキサフルオロプロピレン（ＰＶＤＦ-コ-ＨＦＰ）、ポリフッ化ビニル（ＰＶＦ）又はそれらの任意の組み合わせのうちの１つ以上を含む。
【0060】
幾つかの実施形態において、前記フルオロポリマーはポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）である。幾つかの実施形態において、ＰＴＦＥは延伸ポリテトラフルオロエチレン（ｅＰＴＦＥ）である。幾つかの実施形態において、ｅＰＴＦＥは、Ｇｏｒｅの米国特許第３，９５３，５６６号明細書又はＢａｃｉｎｏの米国特許第４，９０２，４２３号明細書に開示されているｅＰＴＦＥ組成物の１つと同一の、フィブリルによって相互接続されたノードを特徴とする微細構造を含む。
【0061】
非限定的な例において、前記ポリマーは、Ｇｏｒｅの米国特許第３，９５３，５６６号明細書に記載されている一般方法に従って調製された、高い固有強度を有する軽量ｅＰＴＦＥメンブレンである。非限定的な例示的なポリマーメンブレンは、高度に結晶性（すなわち、少なくとも９４％の結晶化度を有する）であり、少なくとも６００ＭＰａの長手方向及び横断方向の両方でのマトリックス引張強度を有する二軸配向メンブレンであることができる。非限定的な例のポリマーメンブレンは、各層の面積あたりの質量が０．１ｇ／ｍ2未満である積層された複数のｅＰＴＦＥ層を含むことができる。
【0062】
幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは７５～５０，０００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは１００～５０，０００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは２００～２５，０００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは８００～１２，５００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは１６００～６０００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは３０００～４０００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。
【0063】
幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは２００～２５，０００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、ポリマーメンブレンは、２００～１２，５００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは２００～６０００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは２００～４０００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは２００～３０００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは２００～１６００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは２００～８００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、ポリマーメンブレンは４００～８００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。
【0064】
幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは４００～５０，０００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは８００～５０，０００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは１６００～５０，０００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは３０００～５０，０００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは６０００～５０，０００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは１２，５００～５０，０００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは２５，０００～５０，０００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。
【0065】
幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは１ＭＰａ～１０００ＭＰａの範囲のヤング率を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは２ＭＰａ～１０００ＭＰａの範囲のヤング率を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは５ＭＰａ～１０００ＭＰａの範囲のヤング率を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは１０ＭＰａ～１０００ＭＰａの範囲のヤング率を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは２５ＭＰａ～１０００ＭＰａの範囲のヤング率を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは５０ＭＰａ～１０００ＭＰａの範囲のヤング率を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは１００ＭＰａ～１０００ＭＰａの範囲のヤング率を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは２５０ＭＰａ～１０００ＭＰａの範囲のヤング率を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは５００ＭＰａ～１０００ＭＰａの範囲のヤング率を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは７５０ＭＰａ～１０００ＭＰａの範囲のヤング率を有する。
【0066】
幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは４ＭＰａ～３６０ＭＰａの範囲のヤング率を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは８ＭＰａ～１８０ＭＰａの範囲のヤング率を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは１６ＭＰａ～９０ＭＰａの範囲のヤング率を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは３２ＭＰａ～４５ＭＰａの範囲のヤング率を有する。
【0067】
幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは４ＭＰａ～３６０ＭＰａの範囲のヤング率を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは４ＭＰａ～１８０ＭＰａの範囲のヤング率を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは４ＭＰａ～９０ＭＰａの範囲のヤング率を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは４ＭＰａ～４５ＭＰａの範囲のヤング率を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは４ＭＰａ～３２ＭＰａの範囲のヤング率を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは４ＭＰａ～１６ＭＰａの範囲のヤング率を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは４ＭＰａ～８ＭＰａの範囲のヤング率を有する。
【0068】
幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは８ＭＰａ～３６０ＭＰａの範囲のヤング率を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは１６ＭＰａ～３６０ＭＰａの範囲のヤング率を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは３２ＭＰａ～３６０ＭＰａの範囲のヤング率を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは４５ＭＰａ～３６０ＭＰａの範囲のヤング率を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは９０ＭＰａ～３６０ＭＰａの範囲のヤング率を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは１８０ＭＰａ～３６０ＭＰａの範囲のヤング率を有する。
【0069】
幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．４～１２０ｐｓｉの範囲のバブルポイントを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．４～１００ｐｓｉの範囲のバブルポイントを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．４～８０ｐｓｉの範囲のバブルポイントを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．４～６０ｐｓｉの範囲のバブルポイントを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．４～４０ｐｓｉの範囲のバブルポイントを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．４～２０ｐｓｉの範囲のバブルポイントを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．４～１０ｐｓｉの範囲のバブルポイントを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．４～５ｐｓｉの範囲のバブルポイントを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．４～２ｐｓｉの範囲のバブルポイントを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．４～１ｐｓｉの範囲のバブルポイントを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．４～０．５ｐｓｉの範囲のバブルポイントを有する。
【0070】
幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは１．５～５６ｐｓｉの範囲のバブルポイントを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは１．５～６０ｐｓｉの範囲のバブルポイントを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは３～２８ｐｓｉの範囲のバブルポイントを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは６～１６ｐｓｉの範囲のバブルポイントを有する。
【0071】
幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは１．５～２８ｐｓｉの範囲のバブルポイントを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは１．５～１４ｐｓｉの範囲のバブルポイントを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは１．５～７ｐｓｉの範囲のバブルポイントを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは１．５～３．５ｐｓｉの範囲のバブルポイントを有する。
【0072】
幾つかの実施形態において、ポリマーメンブレンは３～５６ｐｓｉの範囲のバブルポイントを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは３～２８ｐｓｉの範囲のバブルポイントを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは３～１４ｐｓｉの範囲のバブルポイントを有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは３～７ｐｓｉの範囲のバブルポイントを有する。
【0073】
幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは、均一な細孔サイズ分布を有することができる。均一な細孔サイズ分布は、細孔サイズ分布がメンブレン内の厚さの関数として同一であることを維持するものである。不均一な細孔サイズ分布は、細孔径分布がメンブレン内の厚さの関数として変化するものである。幾つかの実施形態において、細孔サイズ分布は均一である。他の実施形態において、細孔サイズ分布は不均一である。
【0074】
幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．０１～７．５ｇ／ｍ2の範囲の単位面積当たりの質量を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは、０．０５～５ｇ/ｍ2の範囲の単位面積当たりの質量を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．１～２ｇ／ｍ2の範囲の単位面積当たりの質量を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．２～１ｇ／ｍ2の範囲の単位面積当たりの質量を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．４～１ｇ／ｍ2の範囲の単位面積当たりの質量を有する。
【0075】
幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．０１～５ｇ／ｍ2の範囲の単位面積当たりの質量を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．０１～２ｇ／ｍ2の範囲の単位面積当たりの質量を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．０１～１ｇ／ｍ2の範囲の単位面積当たりの質量を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．０１～０．５ｇ／ｍ2の範囲の単位面積当たりの質量を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．０１～０．４ｇ／ｍ2の範囲の単位面積当たりの質量を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．０１～０．２ｇ／ｍ2の範囲の単位面積当たりの質量を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．０１～０．０５ｇ／ｍ2の範囲の単位面積当たりの質量を有する。
【0076】
幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．０５～７．５ｇ／ｍ2の範囲の単位面積当たりの質量を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．１～７．５ｇ／ｍ2の範囲の単位面積当たりの質量を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．２～７．５ｇ／ｍ2の範囲の単位面積当たりの質量を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．４～７．５ｇ／ｍ2の範囲の単位面積当たりの質量を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．５～７．５ｇ／ｍ2の範囲の単位面積あたりの質量を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは１～７．５ｇ／ｍ2の範囲の単位面積当たりの質量を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは２～７．５ｇ／ｍ2の範囲の単位面積当たりの質量を有する。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは５～７．５ｇ／ｍ2の範囲の単位面積当たりの質量を有する。
【0077】
幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．５～４５０ｐｓｉの水侵入圧（「ＷＥＰ」）を示す。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．５ｐｓｉ～２００ｐｓｉのＷＥＰを示す。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは１ｐｓｉ～１５０ｐｓｉのＷＥＰを示す。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは１．０ｐｓｉ～１００ｐｓｉのＷＥＰを示す。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは１ｐｓｉ～５０ｐｓｉのＷＥＰを示す。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは２５ｐｓｉ～１５０．０ｐｓｉのＷＥＰを示す。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは５０．０ｐｓｉ～１５０．０ｐｓｉのＷＥＰを示す。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは１．０ｐｓｉ～１１０．８ｐｓｉのＷＥＰを示す。
【0078】
幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは１．４～４３２ｐｓｉの水侵入圧（「ＷＥＰ」）を示す。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．９５～４３２ｐｓｉの水侵入圧（「ＷＥＰ」）を示す。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは０．９５～１１１ｐｓｉの水侵入圧（「ＷＥＰ」）を示す。
【0079】
幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層の少なくとも一部はポリマーメンブレンと接触している部分を含む。「接触」としては、限定するわけではないが、直接的な物理的接触、及び、接着剤、ラミネート化及び静電気による結合が挙げられる。接触は、ここで、試験手順のセクションで規定される手順を使用して測定される。
【0080】
ポリマーメンブレンと支持層との間の％接触は、試験手順のセクションに記載されている方法を使用して決定することができる。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層の０．１％～９９．６％が前記ポリマーメンブレンと接触している。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層の１％～５０％が前記ポリマーメンブレンと接触している。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層の２％～２５％が前記ポリマーメンブレンと接触している。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層の４％～１２％が前記ポリマーメンブレンと接触している。
【0081】
幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層の０．５％～８０％が前記ポリマーメンブレンと接触している。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層の１％～４０％が前記ポリマーメンブレンと接触している。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層の２％～２０％が前記ポリマーメンブレンと接触している。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層の５％～１０％が前記ポリマーメンブレンと接触している。
【0082】
幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層の１２％～９１％が前記ポリマーメンブレンと接触している。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層の２４％～７６％が前記ポリマーメンブレンと接触している。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層の３６％～４８％が前記ポリマーメンブレンと接触している。
【0083】
「開口面積％」はポリマーメンブレンと接触しない少なくとも１つの支持層の部分である。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層の開口面積％は５％～９８％の範囲である。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層の開口面積％は１０％～４９％の範囲である。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層の開口面積％は２０％～２４％の範囲である。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層の開口面積％は１２％～４０％の範囲である。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層の開口面積％は２４％～８０％の範囲である。
【0084】
幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層の複数の開口部のうちの単一の開口部の最大寸法は１～５００ミクロンの範囲である。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層の複数の開口部のうちの単一の開口部の最大寸法は５～５００ミクロンの範囲である。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層の複数の開口部のうちの単一の開口部の最大寸法は２～２５０ミクロンの範囲である。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層の複数の開口部のうちの単一の開口部の最大寸法は４～１２５ミクロンの範囲である。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層の複数の開口部のうちの単一の開口部の最大寸法は８～７５ミクロンの範囲である。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層の複数の開口部のうちの単一の開口部の最大寸法は１６～５０ミクロンの範囲である。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層の複数の開口部のうちの単一の開口部の最大寸法は２５～３２ミクロンの範囲である。
【0085】
幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層の複数の開口部のうちの単一の開口部の最大寸法は１０～３５０ミクロンの範囲である。幾つかの実施形態において、、前記少なくとも１つの支持層の複数の開口部のうちの単一の開口部の最大寸法は２０～１８０ミクロンの範囲である。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層の複数の開口部のうちの単一の開口部の最大寸法は４０～９０ミクロンの範囲である。
【0086】
幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層の複数の開口部のうちの単一の開口部の最大寸法は２０～４０ミクロンの範囲である。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層の複数の開口部のうちの単一の開口部の最大寸法は２０～８０ミクロンの範囲である。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層の複数の開口部のうちの単一の開口部の最大寸法は２０～９０ミクロンの範囲である。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層の複数の開口部のうちの単一の開口部の最大寸法は２０～１８０ミクロンの範囲である。
【0087】
幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層の複数の開口部のうちの単一の開口部の最大寸法は４０～３５０ミクロンの範囲である。幾つかの実施形態において、少なくとも１つの支持層の複数の開口部のうちの単一の開口部の最大寸法は８０～３５０ミクロンの範囲である。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層の複数の開口部のうちの単一の開口部の最大寸法は９０～３５０ミクロンの範囲である。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層の複数の開口部のうちの単一の開口部の最大寸法は１８０～３５０ミクロンの範囲である。
【0088】
幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は１～１０００ミクロンの厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は２～５００ミクロンの厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は４～２５０ミクロンの厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は８～１２５ミクロンの厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は１６～７５ミクロンの厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は３２～５０ミクロンの厚さを有する。
【0089】
幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は１０～１０００ミクロンの厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は３０～６００ミクロンの厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は６０～３００ミクロンの厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は８０～２００ミクロンの厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は９０～１００ミクロンの厚さを有する。
【0090】
幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は４０～２００ミクロンの厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は４０～３００ミクロンの厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は４０～１００ミクロンの厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は４０～９０ミクロンの厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は４０～８０ミクロンの厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は４０～６０ミクロンの厚さを有する。
【0091】
幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は４０～４１０ミクロンの厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は６０～４１０ミクロンの厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は８０～４１０ミクロンの厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は９０～４１０ミクロンの厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は１００～４１０ミクロンの厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は２００～４１０ミクロンの厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は３００～４１０ミクロンの厚さを有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は２０～７５０ミクロンの厚さを有する。
【0092】
幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は１０～５０００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は２０～４０００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は２０～３０００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は４０～３０００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は８０～２５００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は１６０～２０００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は３００～１８００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は６００～１６００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、少なくとも１つの支持層は８００～１２００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は９００～１０００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。
【0093】
幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は１０～１５００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は２０～７５０レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は４０～４００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は８０～２００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は９０～１００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。
【0094】
幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は４０～１５００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は４３～１４５８レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は８０～７５０レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は１６０～５００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は２５０～３２０レイルの範囲の空気流抵抗を有する。
【0095】
幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は４０～７５０レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は４０～５００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は４０～３２０レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は４０～２５０レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は４０～１６０レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は４０～８０レイルの範囲の空気流抵抗を有する。
【0096】
幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は８０～１５００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は１６０～１５００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は２５０～１５００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は３２０～１５００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は７５０～１５００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。
【0097】
本明細書で使用されるときに、「有効剛性」は、加えられた力と、該加えられた力から生じる変位との間の比として定義される。本明細書では、有効剛性は振動変位試験（「ＶＤＴ」）を使用して測定される。
【0098】
幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は０．０１Ｐａ／ｎｍ～１５Ｐａ／ｎｍの有効剛性を有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は、ＶＤＴを使用して測定したときに、０．５Ｐａ／ｎｍ～５Ｐａ／ｎｍの有効剛性を有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は、ＶＤＴを使用して測定したときに、１Ｐａ／ｎｍ～２Ｐａ／ｎｍの有効剛性を有する。
【0099】
幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は、ＶＤＴを使用して測定したときに、０．０５Ｐａ／ｎｍ～０．１Ｐａ／ｎｍの有効剛性を有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は、ＶＤＴを使用して測定したときに、０．０５Ｐａ／ｎｍ～０．５Ｐａ／ｎｍの有効剛性を有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は、ＶＤＴを使用して測定したときに、０．０５Ｐａ／ｎｍ～１Ｐａ／ｎｍの有効剛性を有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は、ＶＤＴを使用して測定したときに、０．０５Ｐａ／ｎｍ～２Ｐａ／ｎｍの有効剛性を有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は、ＶＤＴを使用して測定したときに、０．０５Ｐａ／ｎｍ～５Ｐａ／ｎｍの有効剛性を有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は、ＶＤＴを使用して測定したときに、０．０５Ｐａ/ｎｍ～１５Ｐａ/ｎｍの有効剛性を有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は、ＶＤＴを使用して測定したときに、０．０５Ｐａ／ｎｍ～２５Ｐａ／ｎｍの有効剛性を有する。
【0100】
幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は、ＶＤＴを使用して測定したときに、０．１Ｐａ／ｎｍ～２５Ｐａ／ｎｍの有効剛性を有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は、ＶＤＴを使用して測定したときに、０．５Ｐａ／ｎｍ～２５Ｐａ／ｎｍの有効剛性を有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は、ＶＤＴを使用して測定したときに、１Ｐａ／ｎｍ～２５Ｐａ／ｎｍの有効剛性を有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は、ＶＤＴを使用して測定したときに、２Ｐａ／ｎｍ～２５Ｐａ／ｎｍの有効剛性を有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は、ＶＤＴを使用して測定したときに、５Ｐａ／ｎｍ～２５Ｐａ／ｎｍの有効剛性を有する。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は、ＶＤＴを使用して測定したときに、１５Ｐａ／ｎｍ～２５Ｐａ／ｎｍの有効剛性を有する。
【0101】
幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は少なくとも１つの金属を含む。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は少なくとも１つのポリマーを含む。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層はガラス繊維を含む。幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は少なくとも１つ以上の金属、１つ以上のポリマー、又は、ガラス繊維を含む。幾つかの実施形態において、単一の支持層が存在する。幾つかの実施形態において、少なくとも２つの支持層が存在する。幾つかの実施形態において、各支持層は同じ材料である。幾つかの実施形態において、各支持層は異なる材料である。幾つかの実施形態において、第一の支持層タイプは第一の金属であり、第二の支持層タイプは第二の金属である。幾つかの実施形態において、第一の支持層タイプは金属であり、第二の支持層タイプはポリマー又はガラス繊維である。幾つかの実施形態において、第一の支持層タイプは第一のポリマーであり、第二の支持層タイプは第二のポリマーである。幾つかの実施形態において、第一の支持層及び第二の支持層は両方ともガラス繊維である。
【0102】
幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの金属は、亜鉛、ニッケル、クロム、バナジウム、モリブデン、マンガン、銅、鉄、アルミニウム、チタンならびにそれらの組み合わせ及び合金のうちの１つ以上を含む。幾つかの実施形態において、金属は、炭素鋼、ステンレス鋼、青銅、黄銅、それらの組み合わせ又はそれらの複合合金などの合金を含む。
【0103】
幾つかの実施形態において、前記支持層の少なくとも１つのポリマーは織物又は不織材料の形態である。幾つかの実施形態において、前記支持層の少なくとも１つのポリマーは、押出プラスチック、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリフタルアミド（ＰＰＡ）、アセタールホモポリマー、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、１つ以上の熱硬化エポキシ又は１つ以上の熱硬化エラストマーの１つ以上を含む。幾つかの実施形態において、前記支持層は融解温度が異なる複数の構成要素を含むことができる。
【0104】
幾つかの実施形態において、前記少なくとも１つの支持層は、１つ以上の接着剤によってポリマーメンブレンに接着される。幾つかの実施形態において、接着剤は１つ以上の高融点熱可塑性材料を含む。１つの実施形態において、高溶融熱可塑性材料は、ポリ（エチレン－コ－テトラフルオロエチレン－コ－ヘキサフルオロプロピレン（ＥＦＥＰ）、テトラフルオロエチレンヘキサフルオロプロピレンビニリデンフルオリド（ＴＨＶ）、ポリ（テトラフルオロエチレン－コ－ヘキサフルオロプロピレン）（ＦＥＰ）、ペルフルオロアルコキシ（ＰＦＡ）、エチレンテトラフルオロエチレン（ＥＴＦＥ）、ＰＶＣ樹脂、ニトリルゴム又はそれらの組み合わせを含むことができる。
【0105】
幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは少なくとも１つの支持層にラミネート化される。幾つかの実施形態において、ラミネート化はレーザラミネート化である。幾つかの実施形態において、ラミネート化はサーマルラミネーションである。幾つかの実施形態において、前記ポリマーメンブレンは、第一の支持層の１つの表面と第二の支持層の１つの表面との間に挟まれる。
【0106】
幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＶＤＴを使用して測定したときに、０．０００２Ｐａ／ｎｍ～３０００Ｐａ／ｎｍの有効剛性を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＶＤＴを使用して測定したときに、０．０００２Ｐａ／ｎｍ～１０００Ｐａ／ｎｍの有効剛性を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＶＤＴを使用して測定したときに、０．０００２Ｐａ／ｎｍ～１００Ｐａ／ｎｍの有効剛性を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＶＤＴを使用して測定したときに、０．１９８Ｐａ／ｎｍ～２９．８Ｐａ／ｎｍの有効剛性を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＶＤＴを使用して測定したときに、０．００１Ｐａ／ｎｍ～５００Ｐａ／ｎｍの有効剛性を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＶＤＴを使用して測定したときに、０．０１Ｐａ／ｎｍ～２５０Ｐａ／ｎｍの有効剛性を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＶＤＴを使用して測定したときに、０．０５Ｐａ／ｎｍ～１００Ｐａ／ｎｍの有効剛性を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＶＤＴを使用して測定したときに、０．１Ｐａ／ｎｍ～５０Ｐａ／ｎｍの有効剛性を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＶＤＴを使用して測定したときに、１Ｐａ／ｎｍ～２５Ｐａ／ｎｍの有効剛性を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＶＤＴを使用して測定したときに、５Ｐａ／ｎｍ～１０Ｐａ／ｎｍの有効剛性を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＶＤＴを使用して測定したときに、０．０００２Ｐａ／ｎｍ～１００Ｐａ／ｎｍの有効剛性を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＶＤＴを使用して測定したときに、０．０００６Ｐａ／ｎｍ～２９．８Ｐａ／ｎｍの有効剛性を有する。
【0107】
幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＶＤＴを使用して測定したときに、０．０００５Ｐａ／ｎｍ～３０Ｐａ／ｎｍの有効剛性を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＶＤＴを使用して測定したときに、０．００５Ｐａ／ｎｍ～２５Ｐａ／ｎｍの有効剛性を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＶＤＴを使用して測定したときに、０．０５Ｐａ／ｎｍ～２０Ｐａ／ｎｍの有効剛性を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＶＤＴを使用して測定したときに、０．１Ｐａ／ｎｍ～１５Ｐａ／ｎｍの有効剛性を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＶＤＴを使用して測定したときに、１Ｐａ／ｎｍ～１０Ｐａ／ｎｍの有効剛性を有する。
【0108】
幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＶＤＴを使用して測定したときに、０．１５Ｐａ／ｎｍ～３２Ｐａ／ｎｍの有効剛性を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、０．３Ｐａ／ｎｍ～１６Ｐａ／ｎｍの有効剛性を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＶＤＴを使用して測定したときに、０．６Ｐａ／ｎｍ～８Ｐａ／ｎｍの有効剛性を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＶＤＴを使用して測定したときに、１Ｐａ／ｎｍ～４Ｐａ／ｎｍの有効剛性を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＶＤＴを使用して測定したときに、２Ｐａ／ｎｍ～３Ｐａ／ｎｍの有効剛性を有する。
【0109】
幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＶＤＴを使用して測定したときに、０．１５Ｐａ／ｎｍ～１６Ｐａ／ｎｍの有効剛性を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＶＤＴを使用して測定したときに、０．１５Ｐａ／ｎｍ～８Ｐａ／ｎｍの有効剛性を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＶＤＴを使用して測定したときに、０．１５Ｐａ／ｎｍ～４Ｐａ／ｎｍの有効剛性を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＶＤＴを使用して測定したときに、０．１５Ｐａ／ｎｍ～３Ｐａ／ｎｍの有効剛性を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＶＤＴを使用して測定したときに、０．１５Ｐａ／ｎｍ～２Ｐａ／ｎｍの有効剛性を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＶＤＴを使用して測定したときに、０．１５Ｐａ／ｎｍ～１Ｐａ／ｎｍの有効剛性を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＶＤＴを使用して測定したときに、０．１５Ｐａ／ｎｍ～０．６Ｐａ／ｎｍの有効剛性を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＶＤＴを使用して測定したときに、０．１５Ｐａ／ｎｍ～０．３Ｐａ／ｎｍの有効剛性を有する。
【0110】
幾つかの実施形態において、前記アセンブリは１００～８００，０００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは２００～４００，０００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは４００～２００，０００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは８００～１００，０００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは１６００～５０，０００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは３２００～２５，０００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは６４００～１０，０００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは８０００～９０００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。
【0111】
幾つかの実施形態において、前記アセンブリは１００～５０，０００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは２００～２０，０００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは４００～１０，０００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは８００～５０００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは１６００～２５００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。
【0112】
幾つかの実施形態において、前記アセンブリは１００～２０，０００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは１００～１０，０００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは１００～５０００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは１００～２５００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは１００～１６００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは１００～８００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは１００～４００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは１００～２００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。
【0113】
幾つかの実施形態において、前記アセンブリは１０，０００～８００，０００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは２０，０００～４００，０００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは４０，０００～２００，０００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは８０，０００～１００，０００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。
【0114】
幾つかの実施形態において、前記アセンブリは５０，０００～８００，０００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは１００，０００～８００，０００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは２００，０００～８００，０００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは４００，０００～８００，０００レイルの範囲の空気流抵抗を有する。
【0115】
幾つかの実施形態において、支配的に抵抗性の音響挙動は、アセンブリの少なくとも１つの支持層の有効剛性（本明細書で記載されるとおり）の結果である。アセンブリの音響インピーダンスの位相角は、試験手順のセクションで記載されているインピーダンスチューブトランスファーマトリックス試験（「ＩＴＴＭＴ」）によってここで測定される。
【0116】
本明細書で使用されるときに、「支配的に抵抗性」という用語は、ＩＴＴＭＴによって測定して５０～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって＋４５度～－４５度の位相角を提供するようにアセンブリが構成されることを意味する。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＩＴＴＭＴによって測定して５００～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって＋３０度～－３０度の位相角を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＩＴＴＭＴによって測定して５０～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって＋１５度～－１５度の位相角を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＩＴＴＭＴによって測定して５００～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって＋５度～－５度の位相角を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＩＴＴＭＴによって測定して５０～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって＋１度～－１度の位相角を提供するように構成される。
【0117】
幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＩＴＴＭＴによって測定して１００～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって＋４５度～－４５度の位相角を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＩＴＴＭＴによって測定して２００～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって＋４５度～－４５度の位相角を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＩＴＴＭＴによって測定して３００～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって＋４５度～－４５度の位相角を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＩＴＴＭＴによって測定して４００～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって＋４５度～－４５度の位相角を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＩＴＴＭＴによって測定して５００～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって＋４５度～－４５度の位相角を提供するように構成される。
【0118】
幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＩＴＴＭＴによって測定して１０００～１０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって＋４５度～－４５度の位相角を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＩＴＴＭＴによって測定して２０００～８０００Ｈｚの周波数範囲にわたって＋４５度～－４５度の位相角を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＩＴＴＭＴによって測定して４０００～５０００Ｈｚの周波数範囲にわたって＋４５度～－４５度の位相角を提供するように構成される。
【0119】
幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＩＴＴＭＴによって測定して５００～１０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって＋４５度～－４５度の位相角を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＩＴＴＭＴによって測定して５００～８０００Ｈｚの周波数範囲にわたって＋４５度～－４５度の位相角を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＩＴＴＭＴによって測定して５００～４０００Ｈｚの周波数範囲にわたって＋４５度～－４５度の位相角を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＩＴＴＭＴによって測定して５００～４０００Ｈの周波数範囲にわたって＋４５度～－４５度の位相角を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは５００～２０００Ｈｚの周波数範囲にわたって＋４５度～－４５度の位相角を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＩＴＴＭＴによって測定して５００～１０００Ｈｚの周波数範囲にわたって＋４５度～－４５度の位相角を提供するように構成される。
【0120】
幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＩＴＴＭＴによって測定して１０００～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって＋４５度～－４５度の位相角を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＩＴＴＭＴによって測定して２０００～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって＋４５度～－４５度の位相角を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＩＴＴＭＴによって測定して４０００～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって＋４５度～－４５度の位相角を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＩＴＴＭＴによって測定して８０００～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって＋４５度～－４５度の位相角を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＩＴＴＭＴによって測定して１０，０００～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって＋４５度～－４５度の位相角を提供するように構成される。
【0121】
幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、キャピラリーピストン試験（「ＣＰＴ」）に従って測定して特定の水侵入圧力（「ＷＥＰ」）を提供するように構成される。ＣＰＴは、「試験手順」というタイトルのセクションで本明細書に記載されている。幾つかの実施形態において、本明細書で記載されるＷＥＰは、少なくとも１つの支持層又はアセンブリの有効剛性（本明細書で記載されるとおり）の結果である。
【0122】
幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＣＰＴに従って測定されたときに、１ｐｓｉ～４５０ｐｓｉの範囲の水侵入圧力を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＣＰＴに従って測定されたときに、２ｐｓｉ～２００ｐｓｉの範囲の水侵入圧力を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＣＰＴに従って測定されたときに、５ｐｓｉ～１００ｐｓｉの範囲の水侵入圧力を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＣＰＴに従って測定されたときに、１０ｐｓｉ～５０ｐｓｉの範囲の水侵入圧力を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＣＰＴに従って測定されたときに、２０ｐｓｉ～２５ｐｓｉの範囲の水侵入圧力を提供するように構成される。
【0123】
幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＣＰＴに従って測定されたときに、１０ｐｓｉ～３５０ｐｓｉの範囲の水侵入圧力を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＣＰＴに従って測定されたときに、２０ｐｓｉ～２００ｐｓｉの範囲の水侵入圧力を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＣＰＴに従って測定されたときに、４０ｐｓｉ～１００ｐｓｉの範囲の水侵入圧力を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＣＰＴに従って測定されたときに、５０ｐｓｉ～８０ｐｓｉの範囲の水侵入圧力を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＣＰＴに従って測定されたときに、６０ｐｓｉ～７０ｐｓｉの範囲の水侵入圧力を提供するように構成される。
【0124】
幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＣＰＴに従って測定されたときに、１０ｐｓｉ～２００ｐｓｉの範囲の水侵入圧力を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＣＰＴに従って測定されたときに、１０ｐｓｉ～１００ｐｓｉの範囲の水侵入圧力を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＣＰＴに従って測定されたときに、１０ｐｓｉ～８０ｐｓｉの範囲の水侵入圧力を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＣＰＴに従って測定されたときに、１０ｐｓｉ～７０ｐｓｉの範囲の水侵入圧力を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＣＰＴに従って測定されたときに、１０ｐｓｉ～６０ｐｓｉの範囲の水侵入圧力を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＣＰＴに従って測定されたときに、１０ｐｓｉ～５０ｐｓｉの範囲の水侵入圧力を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＣＰＴに従って測定されたときに、１０ｐｓｉ～４０ｐｓｉの範囲の水侵入圧力を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＣＰＴに従って測定されたときに、１０ｐｓｉ～２０ｐｓｉの範囲の水侵入圧力を提供するように構成される。
【0125】
幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＣＰＴに従って測定されたときに、２０ｐｓｉ～３５０ｐｓｉの範囲の水侵入圧力を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＣＰＴに従って測定されたときに、４０ｐｓｉ～３５０ｐｓｉの範囲の水侵入圧力を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＣＰＴに従って測定されたときに、５０ｐｓｉ～３５０ｐｓｉの範囲の水侵入圧を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＣＰＴに従って測定されたときに、６０ｐｓｉ～３５０ｐｓｉの範囲の水侵入圧力を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＣＰＴに従って測定されたときに、７０ｐｓｉ～３５０ｐｓｉの範囲の水侵入圧を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＣＰＴに従って測定されたときに、８０ｐｓｉ～３５０ｐｓｉの範囲の水侵入圧力を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＣＰＴに従って測定されたときに、１００ｐｓｉ～３５０ｐｓｉの範囲の水侵入圧力を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＣＰＴに従って測定されたときに、１．４ｐｓｉ～４３２ｐｓｉの範囲の水侵入圧力を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＣＰＴに従って測定されたときに、２．５ｐｓｉ～３３６ｐｓｉの範囲の水侵入圧力を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＣＰＴに従って測定されたときに、０．９５ｐｓｉ～１４２ｐｓｉの範囲の水侵入圧力を提供するように構成される。
【0126】
幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＣＰＴに従って測定されたときに、２００ｐｓｉ～３５０ｐｓｉの範囲の水侵入圧力を提供するように構成される。
【0127】
幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＩＴＴＭＴによって測定して５０～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって３ｄＢ～５０ｄＢの伝送損失を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＩＴＴＭＴによって測定して１００～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって３ｄＢ～５０ｄＢの伝送損失を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＩＴＴＭＴによって測定して２００～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって３ｄＢ～５０ｄＢの伝送損失を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＩＴＴＭＴによって測定して５００～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって３ｄＢ～５０ｄＢの伝送損失を提供するように構成される。
【0128】
幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＩＴＴＭＴによって測定して５０～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって６ｄＢ～２４ｄＢの伝送損失を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＩＴＴＭＴによって測定して５０～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって１１ｄＢ～１３ｄＢの伝送損失を提供するように構成される。
【0129】
幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＩＴＴＭＴによって測定して５０～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって３ｄＢ～６ｄＢの伝送損失を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＩＴＴＭＴによって測定して５０～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって３ｄＢ～１１ｄＢの伝送損失を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＩＴＴＭＴによって測定して５０～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって３ｄＢ～１３ｄＢの伝送損失を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＩＴＴＭＴによって測定して５０～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって３ｄＢ～２４ｄＢの伝送損失を提供するように構成される。
【0130】
幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＩＴＴＭＴによって測定して５０～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって６ｄＢ～４８ｄＢの伝送損失を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＩＴＴＭＴによって測定して５０～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって１１ｄＢ～４８ｄＢの伝送損失を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＩＴＴＭＴによって測定して５０～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって１３ｄＢ～４８ｄＢの伝送損失を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＩＴＴＭＴによって測定して５０～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって１３ｄＢ～４８ｄＢの伝送損失を提供するように構成される。幾つかの実施形態において、前記アセンブリは、ＩＴＴＭＴによって測定して５０～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって２４ｄＢ～４８ｄＢの伝送損失を提供するように構成される。
【0131】
幾つかの実施形態において、前記アセンブリの伝送損失は、周波数の関数として実質的に一定である。本明細書で使用されるときに、「周波数の関数として実質的に一定」とは、伝送損失が５０～２０，０００Ｈｚの周波数範囲で１．５ｄＢ/オクターブを超えて変化しないことを意味する。周波数の関数としての伝送損失の変化は、周波数の関数としての伝送損失をプロットすることによって決定できる。伝送損失対周波数のプロットのx軸の周波数は、対数スケーリングを使用してオクターブにスケーリングできる。本開示によるスケーリング手順の例は、本明細書で「試験手順」セクションに記載されている。
【0132】
幾つかの実施形態において、前記アセンブリの伝送損失は、周波数の関数として実質的に一定であり、その結果、伝送損失は、インピーダンスチューブトランスファーマトリックス試験（「ＩＴＴＭＴ」）によって測定したときに、５０～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって１．５ｄＢ／オクターブを超えて変化しない。幾つかの実施形態において、前記アセンブリの伝送損失は、周波数の関数として実質的に一定であり、その結果、伝送損失は、インピーダンスチューブトランスファーマトリックス試験（「ＩＴＴＭＴ」）により測定したときに、１００～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって１．５ｄＢ／オクターブを超えて変化しない。幾つかの実施形態において、前記アセンブリの伝送損失は、周波数の関数として実質的に一定であり、その結果、伝送損失は、インピーダンスチューブトランスファーマトリックス試験（「ＩＴＴＭＴ」）によって測定したときに、３００～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって１．５ｄＢ/オクターブを超えて変化しない。幾つかの実施形態において、前記アセンブリの伝送損失は、周波数の関数として実質的に一定であり、その結果、伝送損失は、インピーダンスチューブトランスファーマトリックス試験（「ＩＴＴＭＴ」）損失によって測定したときに、４００～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって１．５ｄＢ／オクターブを超えて変化しない。幾つかの実施形態において、前記アセンブリの伝送損失は、周波数の関数として実質的に一定であり、その結果、伝送損失は、インピーダンスチューブトランスファーマトリックス試験（「ＩＴＴＭＴ」）によって測定したときに、５００～２０，０００Ｈｚの周波数範囲わたって１．５ｄＢ/オクターブを超えて変化しない。
【0133】
幾つかの実施形態において、前記伝送損失は、インピーダンスチューブトランスファーマトリックス試験（「ＩＴＴＭＴ」）によって測定したときに、５０～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって１．２５ｄＢ／オクターブを超えて変化しない。幾つかの実施形態において、前記伝送損失は、インピーダンスチューブトランスファーマトリックス試験（「ＩＴＴＭＴ」）によって測定したときに、５０～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって１ｄＢ／オクターブを超えて変化しない。幾つかの実施形態において、前記伝送損失は、インピーダンスチューブトランスファーマトリックス試験（「ＩＴＴＭＴ」）によって測定したときに、５０～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって０．７５ｄＢ／オクターブを超えて変化しない。幾つかの実施形態において、前記伝送損失は、インピーダンスチューブトランスファーマトリックス試験（「ＩＴＴＭＴ」）によって測定したときに、５０～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって０．５ｄＢ／オクターブを超えて変化しない。幾つかの実施形態において、前記伝送損失は、インピーダンスチューブトランスファーマトリックス試験（「ＩＴＴＭＴ」）によって測定したときに、５０～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって０．２５ｄＢ／オクターブを超えて変化しない。
【0134】
幾つかの実施形態において、前記伝送損失は、インピーダンスチューブトランスファーマトリックス試験（「ＩＴＴＭＴ」）によって測定したときに、５０～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって０．２５ｄＢ／オクターブ～１．５ｄＢ／オクターブで変化する。幾つかの実施形態において、前記伝送損失は、インピーダンスチューブトランスファーマトリックス試験（「ＩＴＴＭＴ」）によって測定したときに、５０～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって０．２５ｄＢ／オクターブ～１．２５ｄＢ/オクターブで変化する。幾つかの実施形態において、前記伝送損失は、インピーダンスチューブトランスファーマトリックス試験（「ＩＴＴＭＴ」）によって測定したときに、５０～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって０．２５ｄＢ／オクターブ～１ｄＢ／オクターブで変化する。幾つかの実施形態において、前記伝送損失は、インピーダンスチューブトランスファーマトリックス試験（「ＩＴＴＭＴ」）によって測定したときに、５０～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって０．２５ｄＢ／オクターブ～０．７５ｄＢ／オクターブで変化する。幾つかの実施形態において、前記伝送損失は、インピーダンスチューブトランスファーマトリックス試験（「ＩＴＴＭＴ」）によって測定したときに、５０～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって０．２５ｄＢ／オクターブ～０．５ｄＢ／オクターブで変化する。
【0135】
図１は、本開示の例示的な実施形態を示す。示されるように、アセンブリ１００は、支持層１０２と接触した多孔質ポリマーメンブレン１０４を含む。前記支持層１０２は複数の開口部１０６を含み、前記多孔質ポリマーメンブレン１０４は複数の細孔（図示せず）を含む。
【0136】
図２はまた、本開示の例示的な実施形態を示す。示されるように、アセンブリ２００は、支持層２０２と直接接触した多孔質ポリマーメンブレン２０４を含む。前記支持層２０２は複数の開口部２０６を含み、前記多孔質ポリマーメンブレン２０４は、複数の細孔（図示せず）を含む。示されるように、多孔質ポリマーメンブレン２０４は支持層２０２の間に挟まれている。アセンブリ２００は、ポリマーメンブレン２０４が支持層２０２と接触している部分（例えば、部分２０８）を含むことができる。幾つかの実施形態において、複数の開口部２０６は均一である。幾つかの実施形態において、前記支持層２０２の厚さ（図示せず）は均一である。幾つかの実施形態において、複数の開口部２０６は不均一である。幾つかの実施形態において、前記支持層２０２の厚さ（図示せず）は不均一である。
【0137】
試験手順
次の試験手順を使用して、実施例のセクションのデータを生成した。本明細書に記載されている試験手順は限定を意図したものではない。このセクションで記載されるアセンブリ、メンブレン及び支持層の番号は、以下の「実施例」セクションのアセンブリ、メンブレン及び支持層の番号を示す。
次の試験手順を使用して、実施例のセクションのデータを生成した。本明細書に記載されている試験手順は限定を意図したものではない。このセクションで記載されるアセンブリ、メンブレン及び支持層の番号は、以下の「実施例」セクションのアセンブリ、メンブレン及び支持層の番号を示す。
【0138】
厚さ：
ポリマーメンブレンの厚さを、市販のKeyence LS-7010 Mを使用してここで測定した。幾つかのメンブレンは１μｍ未満の厚さで、Keyence LS-7010 Mを使用して直接測定できなかった。代わりに、メンブレンを層状化して測定システムの検出下限である１μｍを超える厚さを実現した。次に、Keyence LS-7010Mを使用して、層状化メンブレンの合計厚を測定した。単層の厚さは、層状化サンプルの総厚を層の数で割ることによって決定した。
ポリマーメンブレンの厚さを、市販のKeyence LS-7010 Mを使用してここで測定した。幾つかのメンブレンは１μｍ未満の厚さで、Keyence LS-7010 Mを使用して直接測定できなかった。代わりに、メンブレンを層状化して測定システムの検出下限である１μｍを超える厚さを実現した。次に、Keyence LS-7010Mを使用して、層状化メンブレンの合計厚を測定した。単層の厚さは、層状化サンプルの総厚を層の数で割ることによって決定した。
【0139】
流れ抵抗：
ＡＴＥＱ Ｄ５２０空気流テスターを使用して空気流を測定した。サンプルの積み重ねを各例について記載した。すべての構成で、活性領域は１．７７ｅ－６ｍ-2と想定された。各アセンブリが試験されたときの圧力と、結果として得られた空気流を、本明細書の実施例のセクションで記載した。空気流はＬ/ｈｒ単位で測定した。測定した空気流を、以下の式に従って流れ抵抗（Ｐａ＊ｓ/ｍ）に変換した。
ＡＴＥＱ Ｄ５２０空気流テスターを使用して空気流を測定した。サンプルの積み重ねを各例について記載した。すべての構成で、活性領域は１．７７ｅ－６ｍ-2と想定された。各アセンブリが試験されたときの圧力と、結果として得られた空気流を、本明細書の実施例のセクションで記載した。空気流はＬ/ｈｒ単位で測定した。測定した空気流を、以下の式に従って流れ抵抗（Ｐａ＊ｓ/ｍ）に変換した。
【数1】
【0140】
上式中、ｘ（ｐｓｉ）はＡＴＥＱ測定中に使用される空気圧を表し、ｙ（Ｌ/ｈｒ）はＡＴＥＱテスターで直接測定された体積流量であった。
【0141】
ヤング率：
ここで、ポリマーメンブレンのヤング率はＩＳＯ ５２７－１：２０１２に従って測定した。
ここで、ポリマーメンブレンのヤング率はＩＳＯ ５２７－１：２０１２に従って測定した。
【0142】
バブルポイント：
ここで、バブルポイントは、ＡＳＴＭ Ｆ３１６．９５９９－１法を使用して測定した。
ここで、バブルポイントは、ＡＳＴＭ Ｆ３１６．９５９９－１法を使用して測定した。
【0143】
単位面積当たりの質量：
ここで、単位面積当たりの質量は、ＡＳＴＭ Ｄ３７７６/Ｄ３７７６Ｍ-０９ａに従って測定した。
ここで、単位面積当たりの質量は、ＡＳＴＭ Ｄ３７７６/Ｄ３７７６Ｍ-０９ａに従って測定した。
【0144】
水の入口圧力試験（キャピラリーピストン試験（「ＣＰＴ」））：
水の入口圧力（「ＷＥＰ」）は、Ｐｏｒｏｕｓ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｉｎｃ．から商業的に購入されたキャピラリーフローポロメータ、モデル番号ＣＦＰ－１５００－ＡＥを使用して測定した。試験されたサンプルはテスターにおいて下方ピストンにて２つのポリカーボネート板によりクランプされた。天板は中央に８ｍｍの穴があり、防水のために穴を囲むＯリングを有する。底板は中央に１．５ｍｍの穴がある。特定のサンプルアセンブリ（例えば、１２、１３、１５、１６、１７、３１、３２、３３及び３４など）では、サンプルは各例で記載したように調製した。サンプルは上部と下部のポリカーボネートプレートでクランプ締めされる。他のサンプルアセンブリでは、材料又は異なる材料の層は、上部のポリカーボネートプレート上のＯリング全体を覆うのに十分な大きさの片に切断され、上部及び下部のポリカーボネートプレートによってクランプ締めされた。試験の前に、脱イオン水を添加して上部プレートの８ｍｍの穴を満たした。試験プログラムでは、圧縮圧力を３００ｐｓｉに設定した。圧力の上昇率は０．１６ｐｓｉ/秒であった。水がサンプルに入るときに、テスターは自動的かつ瞬時に圧力（ＷＥＰ）を検出する。
水の入口圧力（「ＷＥＰ」）は、Ｐｏｒｏｕｓ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｉｎｃ．から商業的に購入されたキャピラリーフローポロメータ、モデル番号ＣＦＰ－１５００－ＡＥを使用して測定した。試験されたサンプルはテスターにおいて下方ピストンにて２つのポリカーボネート板によりクランプされた。天板は中央に８ｍｍの穴があり、防水のために穴を囲むＯリングを有する。底板は中央に１．５ｍｍの穴がある。特定のサンプルアセンブリ（例えば、１２、１３、１５、１６、１７、３１、３２、３３及び３４など）では、サンプルは各例で記載したように調製した。サンプルは上部と下部のポリカーボネートプレートでクランプ締めされる。他のサンプルアセンブリでは、材料又は異なる材料の層は、上部のポリカーボネートプレート上のＯリング全体を覆うのに十分な大きさの片に切断され、上部及び下部のポリカーボネートプレートによってクランプ締めされた。試験の前に、脱イオン水を添加して上部プレートの８ｍｍの穴を満たした。試験プログラムでは、圧縮圧力を３００ｐｓｉに設定した。圧力の上昇率は０．１６ｐｓｉ/秒であった。水がサンプルに入るときに、テスターは自動的かつ瞬時に圧力（ＷＥＰ）を検出する。
【0145】
有効剛性の測定：
有効剛性、ｋｅｆｆ（Ｐａ/ｎｍ）は、振動変位試験（「ＶＤＴ」）を使用して測定した。ＶＤＴは以下のことを含む。サンプルを４つの異なる音圧で音響的に励起し、サンプルの中央での振動変位を測定した。励起音圧を、２つのマイクロホン間の音圧の差として取った。結果のデータ（つまり、音響メンブレンアセンブリの前と後の音圧の差ｖｓ変位）をプロットし、線形回帰を行った。有効剛性は、測定されたデータポイントを通過する線の傾きとして取られた。支持されている又は支持されていないサンプルアセンブリが、課された音響平面波に応答して振動変形に抵抗する程度を表す。振動変位を、Polytec Inc.から市販入手されたMSA-500マイクロシステムアナライザーを使用して測定した。音響励起は、200 Hzを中心とし、JBLモデル2426H圧縮ドライバーによって生成された正弦波であった。圧縮ドライバーからの出力は、サンプルの直径に合わせるために、アルミニウムコーンを使用して２５．４ｍｍから１．５ｍｍに狭められた。波の音圧は、２つのプローブマイクロホン（PCB Piezotronics Inc.から市販入手されたモデル482Cシリーズセンサーシグナルコンディショナーに接続されたモデル377B26マイクロホン）を使用して、試験するサンプルの表面の真下及び真上で測定した。Polytec PSV 9.3ソフトウェアを使用して振動変位データを取得した。
有効剛性、ｋｅｆｆ（Ｐａ/ｎｍ）は、振動変位試験（「ＶＤＴ」）を使用して測定した。ＶＤＴは以下のことを含む。サンプルを４つの異なる音圧で音響的に励起し、サンプルの中央での振動変位を測定した。励起音圧を、２つのマイクロホン間の音圧の差として取った。結果のデータ（つまり、音響メンブレンアセンブリの前と後の音圧の差ｖｓ変位）をプロットし、線形回帰を行った。有効剛性は、測定されたデータポイントを通過する線の傾きとして取られた。支持されている又は支持されていないサンプルアセンブリが、課された音響平面波に応答して振動変形に抵抗する程度を表す。振動変位を、Polytec Inc.から市販入手されたMSA-500マイクロシステムアナライザーを使用して測定した。音響励起は、200 Hzを中心とし、JBLモデル2426H圧縮ドライバーによって生成された正弦波であった。圧縮ドライバーからの出力は、サンプルの直径に合わせるために、アルミニウムコーンを使用して２５．４ｍｍから１．５ｍｍに狭められた。波の音圧は、２つのプローブマイクロホン（PCB Piezotronics Inc.から市販入手されたモデル482Cシリーズセンサーシグナルコンディショナーに接続されたモデル377B26マイクロホン）を使用して、試験するサンプルの表面の真下及び真上で測定した。Polytec PSV 9.3ソフトウェアを使用して振動変位データを取得した。
【0146】
伝送損失及び位相試験：
伝送損失及び位相角試験は、ＡＳＴＭ－Ｅ２６１１－０９の修正バージョンであるインピーダンスチューブトランスファーマトリックス試験（「ＩＴＴＭＴ」）によって行われた。これは４マイクロホントランスファーマトリックス法に基づく法線入射音響伝送損失及び位相を測定するための標準的な試験方法である。ＡＳＴＭ－Ｅ２６１１－０９へのすべての変更を本明細書に示す。例示的な試験設定を図３に示す。アセンブリのトランスファーマトリックスを測定し、実施例に記載されるすべてのアセンブリの音響インピーダンス値としてトランスファーマトリックスのＴ１２要素を使用する。
伝送損失及び位相角試験は、ＡＳＴＭ－Ｅ２６１１－０９の修正バージョンであるインピーダンスチューブトランスファーマトリックス試験（「ＩＴＴＭＴ」）によって行われた。これは４マイクロホントランスファーマトリックス法に基づく法線入射音響伝送損失及び位相を測定するための標準的な試験方法である。ＡＳＴＭ－Ｅ２６１１－０９へのすべての変更を本明細書に示す。例示的な試験設定を図３に示す。アセンブリのトランスファーマトリックスを測定し、実施例に記載されるすべてのアセンブリの音響インピーダンス値としてトランスファーマトリックスのＴ１２要素を使用する。
【0147】
インピーダンスチューブを使用して、５００Ｈｚ～２０，０００Ｈｚの周波数範囲にわたって測定を行った。チューブの内径は８ｍｍであった。インピーダンスチューブは、ＡＳＴＭ Ｅ１０５０－１２及びＡＳＴＭ Ｅ２６１１－０９に従って設計した。ＪＢＬ２４２６Ｈ圧縮ドライバーをチューブの一端に取り付け、３１バンドのＡＲＴ ３５１グラフィックイコライザに接続されたブリュエルアンドケーエルタイプ２７３５アンプから給電した。測定システムでは、ジェネレータ出力を含む４チャネルのブリュールアンドケーエルタイプ３１６０－Ａ－０４２ ＬＡＮ－ＸＩフロントエンドに接続した４つのブエルアンドケーエルタイプ４１３８マイクロホンを使用した。タイプ７７５８音響材料試験ソフトウェア、バージョン２１と一緒にブリュエルアンドケーエルパルスラボショップを使用してデータを取得しそして処理した。
【0148】
試験されたサンプルアセンブリは内径が１．５ｍｍであり、インピーダンスチューブの内径よりも小さかった。したがって、サンプルアセンブリを取り付けるために１組のコニカルアダプタが必要であった。先細コーンの入口直径は８ｍｍであり、出口直径は１．５ｍｍであった。末広コーンの入口直径は１．５ｍｍであり、出口直径は８ｍｍであった。
【0149】
コニカルアダプタを使用するときに、コーンの収束幾何形状を考慮するために、データの追加処理を必要とした。理論式は、コニカルアダプタのトランスファーマトリックスを計算するために導き出され、それは文献(Hua, X. and Herrin, D., “Practical Considerations when using the Two-Load Method to Determine the Transmission Loss of Mufflers and Silencers,” SAE Int. J. Passeng. Cars - Mech. Syst. 6(2):1094-1101, 2013 & Mechel, F. P. (2008)、Formulas of Acoustics. New York, NY: Springer)で見出だすことができる。
【0150】
圧力試験前後の伝送損失試験：
幾つかのサンプルアセンブリは以下の空気圧試験手順に供された。この試験の目的は、所与の水深に所与の時間沈められたデバイスにおけるメンブレンアセンブリにかかる圧力を再現することであった。伝送損失スペクトルは、圧力試験の前に測定し、圧力試験の直後に再測定した。圧力試験による伝送損失の変化ΔＴＬ（ｄＢ）は、試験後の伝送損失から当初の試験前の伝送損失を差し引くことにより計算した。
幾つかのサンプルアセンブリは以下の空気圧試験手順に供された。この試験の目的は、所与の水深に所与の時間沈められたデバイスにおけるメンブレンアセンブリにかかる圧力を再現することであった。伝送損失スペクトルは、圧力試験の前に測定し、圧力試験の直後に再測定した。圧力試験による伝送損失の変化ΔＴＬ（ｄＢ）は、試験後の伝送損失から当初の試験前の伝送損失を差し引くことにより計算した。
【0151】
空気圧試験：
サンプルアセンブリをベースプレート上に置くことにより圧力試験を実施した。次に、上部プレートを追加してボルト締めし、サンプルアセンブリを所定の位置にしっかりと固定した。試験条件（傾斜速度、圧力、保持時間）はすべて、社内で構築された校正済みのプログラム可能な圧力ボックスを使用して制御した。圧力ボックスは、０．５ｐｓｉの増分で１ｐｓｉ～１４５ｐｓｉの範囲の圧力を生成することができた。メンブレンの底面で圧力試験が行われるように、加圧空気ラインをベースプレートに接続した。特に明記しない限り、メンブレンが試験固定具のベースプレートとサンプルアセンブリの支持層の間に配置されるように各サンプルアセンブリを向けた。圧力試験は、圧力を０ｐｓｉから目標圧力まで２．５ｐｓｉ/秒の傾斜速度で増加させることによって行った。目標圧力に達した後に、圧力を１０分間保持して一定に保った。試験が完了したら、サンプルアセンブリを固定具から取り外し、伝送損失を再測定した。
サンプルアセンブリをベースプレート上に置くことにより圧力試験を実施した。次に、上部プレートを追加してボルト締めし、サンプルアセンブリを所定の位置にしっかりと固定した。試験条件（傾斜速度、圧力、保持時間）はすべて、社内で構築された校正済みのプログラム可能な圧力ボックスを使用して制御した。圧力ボックスは、０．５ｐｓｉの増分で１ｐｓｉ～１４５ｐｓｉの範囲の圧力を生成することができた。メンブレンの底面で圧力試験が行われるように、加圧空気ラインをベースプレートに接続した。特に明記しない限り、メンブレンが試験固定具のベースプレートとサンプルアセンブリの支持層の間に配置されるように各サンプルアセンブリを向けた。圧力試験は、圧力を０ｐｓｉから目標圧力まで２．５ｐｓｉ/秒の傾斜速度で増加させることによって行った。目標圧力に達した後に、圧力を１０分間保持して一定に保った。試験が完了したら、サンプルアセンブリを固定具から取り外し、伝送損失を再測定した。
【0152】
圧縮による伝送損失試験：
【0153】
幾つかの伝送損失（「ＴＬ」）測定は、サンプルアセンブリに加えられる圧縮力の関数として実行した。
【0154】
圧縮試験は、経済的な荷重及び力（ＥＬＦ）測定システム（Ｔｅｋｓｃａｎから市販購入）を使用して、０～１１１ニュートンの測定範囲で検量されたFlexiForce A201力センサを使用して行った。固定具は、伝送損失及び位相試験中に制御された圧縮力をサンプルに加えるように設計した。この固定具の概略図を図４に示す。力センサは、４９８３両面感圧接着剤（Tesa Tape Inc.から市販購入）を使用してフロントプレートに取り付けた。
【0155】
試験するサンプルアセンブリをインピーダンスチューブアセンブリの圧縮固定具の左右のプレートの間に取り付けたら、フロントプレートを４～４０本の平頭ネジのセットで取り付けた。圧縮力は、これらの平頭ネジを締め又は緩めることでそれぞれ増加又は減少される。目標の圧縮力に達したら、伝送損失の測定を行った。測定後に、ネジを緩めて圧縮力を０ニュートンに戻し、プロセスを次第に高い圧縮レベルにて繰り返した。
【0156】
％接触の計算手順：
支持層１～６、１３及び１４では、支持構造の周期性又はランダム性のために、接触百分率は、総活性領域よりも小さい代表的な領域から決定されうる。支持体の一部のトポグラフィースキャンは、メンブレン接触面から、光学プロフィロメーター（Polytec TopMap uLab）を使用して行うことができる。上から２０μｍの深さ範囲でスキャンされたトポグラフィーを、支持体に平行な平面に投影した。投影面積は、メンブレンと支持体との間の物理的接触面積以上となる。投影面積とトポグラフィースキャンの視野範囲の面積との比率はImageJソフトウェアを使用して計算された。それは接触百分率の上限と考えることができる。
支持層７～１２については、活性領域内において、メンブレンと支持体との間の物理的接触の面積は、総活性面積から穿孔面積を差し引いた面積以下である。
接触百分率の上限は、
（上式中、ｎは穿孔の数であり、ｄは各穿孔の直径であり、Ｄは活性領域の直径であり、すべてのサンプルアセンブリで１．５ｍｍである）として計算できる。各穿孔の直径は、光学顕微鏡（モデルVHX-5000、Keyence Corporationから市販購入）を使用して測定した。
支持層１～６、１３及び１４では、支持構造の周期性又はランダム性のために、接触百分率は、総活性領域よりも小さい代表的な領域から決定されうる。支持体の一部のトポグラフィースキャンは、メンブレン接触面から、光学プロフィロメーター（Polytec TopMap uLab）を使用して行うことができる。上から２０μｍの深さ範囲でスキャンされたトポグラフィーを、支持体に平行な平面に投影した。投影面積は、メンブレンと支持体との間の物理的接触面積以上となる。投影面積とトポグラフィースキャンの視野範囲の面積との比率はImageJソフトウェアを使用して計算された。それは接触百分率の上限と考えることができる。
支持層７～１２については、活性領域内において、メンブレンと支持体との間の物理的接触の面積は、総活性面積から穿孔面積を差し引いた面積以下である。
接触百分率の上限は、
【数2】
【0157】
図５は、支持層１の最上部２０μｍを示す顕微鏡写真を示している。画像中の暗い領域は織物メッシュの繊維に対応し、メンブレンと接触する支持層の領域を表す。画像中の白い領域は開放領域に対応する。
【0158】
図６は、支持層５の最上部の２０μｍを示す光学顕微鏡写真を示す。暗い領域は不織繊維に対応する。画像中の暗い領域は不織支持体の繊維に対応し、メンブレンと接触する支持層の領域を表す。画像中の白い領域は開放領域に対応する。
【0159】
％開放面積の計算手順：
【0160】
％開放面積は次のように計算できる。
開口面積％＝１００－接触面積％
開口面積％＝１００－接触面積％
【実施例】
【0161】
例
サンプルアセンブリの調製
以下の表は上記の例で使用されている例示的なメンブレンの特性を概説している。これらの特性は単なる例示であり、限定を意図するものではない。
サンプルアセンブリの調製
以下の表は上記の例で使用されている例示的なメンブレンの特性を概説している。これらの特性は単なる例示であり、限定を意図するものではない。
【0162】
【表1】
【0163】
上記のポリマーメンブレン番号１～９は、以下の方法に従って調製した。
【0164】
【表2】
【0165】
以下の表は、上述の例で使用される例示的な支持層の特性を概説している。これらの特性は単なる例示であり、限定を意図するものではない。
【0166】
【表3】
【0167】
本明細書に記載及び試験される特定の非限定的なサンプルアセンブリ及び比較サンプルアセンブリを以下のように調製した。
【0168】
すべてのサンプルアセンブリの例（サンプルアセンブリ１２及び１３を除く）及び比較サンプルアセンブリは、少なくとも1つの接着剤付きガラス繊維サンプルキャリアを含み、今後、単に、ガラス繊維サンプルキャリアと呼ぶ。ガラス繊維サンプルキャリアは、ガラス繊維シート（McMaster-Carrから市販購入、製品番号1331T37）の片面に両面感圧接着剤を適用することにより調製した。次に、ガラス繊維/接着剤シートをレーザ切断してクーポンにした。次に、直径１．５ｍｍの孔はインピーダンスチューブの内部ボアと位置合わせされた中央に作製され、測定されるサンプルの活性領域に対応する。
【0169】
比較サンプルアセンブリ：
特定の非限定的な比較サンプルアセンブリを以下のように調製した：メンブレンが平らでしわがないように、メンブレン片を滑らかで水平な表面に配置した。接着剤剥離ライナーを、予め切断されたガラス繊維サンプルキャリアから取り外して、接着剤を露出させた。接着剤層が露出した状態で、サンプルキャリアをメンブレンの上に静かに置き、余分なメンブレンをサンプルキャリアの周囲から切り取った。次に、サンプルキャリアを、メンブレン側を上に向けて位置合わせジグの上に配置した。剥離ライナーを第二のガラス繊維サンプルキャリアから取り外し、接着面を下にして、メンブレンに向かって位置合わせジグの上に配置した。低圧（手動で適用され、測定されない）を適用し、下部と上部のサンプルキャリアをまとめて、ガラス繊維サンプルキャリア/接着剤/メンブレン/接着剤/ガラス繊維サンプルキャリアのスタックを備えたアセンブリを形成した。比較サンプルアセンブリのスタックを表４に示す。
特定の非限定的な比較サンプルアセンブリを以下のように調製した：メンブレンが平らでしわがないように、メンブレン片を滑らかで水平な表面に配置した。接着剤剥離ライナーを、予め切断されたガラス繊維サンプルキャリアから取り外して、接着剤を露出させた。接着剤層が露出した状態で、サンプルキャリアをメンブレンの上に静かに置き、余分なメンブレンをサンプルキャリアの周囲から切り取った。次に、サンプルキャリアを、メンブレン側を上に向けて位置合わせジグの上に配置した。剥離ライナーを第二のガラス繊維サンプルキャリアから取り外し、接着面を下にして、メンブレンに向かって位置合わせジグの上に配置した。低圧（手動で適用され、測定されない）を適用し、下部と上部のサンプルキャリアをまとめて、ガラス繊維サンプルキャリア/接着剤/メンブレン/接着剤/ガラス繊維サンプルキャリアのスタックを備えたアセンブリを形成した。比較サンプルアセンブリのスタックを表４に示す。
【0170】
サンプルアセンブリ
穿孔付き接着剤付きガラス繊維支持層を有する特定の非限定的なサンプルアセンブリ（例えば、アセンブリ１５～１７、３３、３４）を以下の手順に従って調製した。穿孔付き接着剤付きガラス繊維支持層は、接着剤付きガラス繊維サンプルキャリア（上記）と同様の方法で作製したが、直径が１．５ｍｍの単一の大きな孔の代わりに、複数の小さな直径の穿孔（開口部）を作製した。穿孔の数及びその直径を表３に示す。次に、ガラス繊維のサンプルキャリアの1つを、あらかじめ切断された接着剤付きの穿孔付きガラス繊維支持体に置き換えた以外は、本明細書に記載されるようにサンプルアセンブリを調製した。以後、穿孔付きガラス繊維支持層とも呼ぶ。これらのアセンブリのスタックを表３に示す。
穿孔付き接着剤付きガラス繊維支持層を有する特定の非限定的なサンプルアセンブリ（例えば、アセンブリ１５～１７、３３、３４）を以下の手順に従って調製した。穿孔付き接着剤付きガラス繊維支持層は、接着剤付きガラス繊維サンプルキャリア（上記）と同様の方法で作製したが、直径が１．５ｍｍの単一の大きな孔の代わりに、複数の小さな直径の穿孔（開口部）を作製した。穿孔の数及びその直径を表３に示す。次に、ガラス繊維のサンプルキャリアの1つを、あらかじめ切断された接着剤付きの穿孔付きガラス繊維支持体に置き換えた以外は、本明細書に記載されるようにサンプルアセンブリを調製した。以後、穿孔付きガラス繊維支持層とも呼ぶ。これらのアセンブリのスタックを表３に示す。
【0171】
織物及び／又は不織支持層を有する特定の非限定的なサンプルアセンブリ（例えば、アセンブリ１～１１、１４、１８～３０）を以下のように調製した。織物及び不織支持材をロールから小さな（６ｍｍx６ｍｍ）正方形の断片に切り取り、脇に置いた。接着剤剥離ライナーを、予め切断されたガラス繊維サンプルキャリアから取り外し、支持体がガラス繊維サンプルキャリアの中心にある直径１．５ｍｍの孔を覆うように、予め切断された正方形の支持体材料に接着した。次いで、接着剤の大部分がなおも露出している状態で、ポリマーメンブレンをサンプルキャリアに取り付けた。次に、支持層及びメンブレンが取り付けられたガラス繊維サンプルキャリアを、メンブレン側を上にして位置合わせジグの上に配置した。第二のガラス繊維サンプルキャリアからの接着剤剥離ライナーを取り外し、接着剤側を下にして位置合わせジグの上に置いた。軽い圧力を加えて、下部サンプルキャリアと上部サンプルキャリアを合わせて、以下のスタック：ガラス繊維キャリア/接着剤/支持体/メンブレン/接着剤/ガラス繊維キャリアを有するアセンブリを形成した。幾つかのサンプルアセンブリ（例えば、アセンブリ１～８、１０、１１、１４、１８、２０、２２、２３、２５～２８）において、支持層を含む第二のガラス繊維サンプルキャリアを使用して、以下のスタック：ガラス繊維キャリア/接着剤/支持体/メンブレン/支持体/接着剤/ガラス繊維キャリアを有するアセンブリを形成した。サンプルアセンブリ２９は、試験手順のセクションで記載したものと同じ手順を使用して１７ｐｓｉで１０分間加圧し、ポリマーメンブレンと支持層の間の付着性を改善した。少なくとも1つの織物又は不織支持体を備えたアセンブリの追加のスタック情報については、表３を参照されたい。
【0172】
穿孔されたＰＥＴ支持層を備えた特定の非限定的なアセンブリ（例えば、アセンブリ３１、３２）を以下のように調製した。最初に、両面感圧接着剤を厚さ１２７～１３０μｍのＰＥＴシートの片面に適用した。次に、ＰＥＴ／接着剤シートをレーザ切断してクーポンにした。クーポンの中央にある直径１．５ｍｍの円形領域に穿孔（開口部）を形成した。穿孔の数及びそれらの直径を表３に示す。接着剤層が露出した状態で、穿孔付きクーポンをポリマーメンブレンに取り付け、支持層として機能させることができる。次に、ガラス繊維サンプルキャリアをメンブレンの反対側に取り付けて、以下のスタック：ガラス繊維サンプルキャリア/接着剤/メンブレン/接着剤/ＰＥＴ支持体を有するアセンブリを形成した。
【0173】
黄銅支持層を有する特定のアセンブリ（例えば、アセンブリ１２、１３）を以下のように調製した。黄銅クーポンはシート材料から調製した。クーポンの中央に直径１．５ｍｍの円形領域に穿孔（開口部）を形成した。穿孔の数及びその直径を表３に示す。メンブレンを２つの黄銅製支持体プレートの間にクランプして、以下のスタック：黄銅製支持体/メンブレン/黄銅製支持体を備えた、接着剤なしのアセンブリを形成した。この手順では、両方のクーポン上の穿孔は正確に位置合わせされている。
【0174】
例示的なラミネート化手順：
【0175】
幾つかの実施形態において、ポリマーメンブレンは少なくとも１つの支持層にラミネート化されている。ラミネート化は任意の方法を使用して行うことができるが、幾つかの実施形態において、ポリマーメンブレンは、ミニホットロールラミネータ（モデルＨＬ-２００、ＣｈｅｍＩｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ Ｉｎｃ.から市販購入）を使用して少なくとも１つの支持層にラミネート化される。扱いやすさを改良するために、支持体及びメンブレンを３インチx６インチのストリップに切断し、メンブレン及び支持層よりも少し大きいストリップに切断された厚い２５．４μｍのカプトン（ＤｕＰｏｎｔから市販購入）の２つのピースの間に配置することができる。次に、サンプルアセンブリを２つのローラ（ホットロール及びニップロール）の間に挿入し、ラミネート化することができる。スタックは、以下のとおり：カプトン/ｅＰＴＦＥ/支持層/カプトンであることができる。織メッシュ（例えば、製品番号３４－３３及び６－１０５、Ｓｅｆａｒ Ｉｎｃ. Ｈｏｌｄｉｎｇ ＡＧ）を支持層として使用するときに、ラミネート化は温度２６５℃、ホットロールとニップロールとの間の圧力４０ｐｓｉ及びライン速度４５ｃｍ/分で行うことができる。二成分メッシュ（例えば、製品番号２８Ｔ１、Ｕｎｉｔｉｋａ Ｌｔｄ.）を支持層として使用するときに、ラミネート化は温度１８５℃、ホットロールとニップロールとの間の圧力４０ｐｓｉ及びライン速度４５ｃｍ/分で行うことができる。不織材料（製品番号１３３、ＨＤＫ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ）を支持層として使用したときに、ラミネート化は温度１８０℃、ホットロールとニップロールとの間の圧力２５ｐｓｉ及びライン速度４００ｃｍ/分で行った。
【0176】
配向は、ポリマーメンブレンがホットロールに最も近く、支持体がニップロールに最も近くなるようにすることができる。幾つかの実施形態において、メッシュ支持層（製品番号２８Ｔ１、Ｕｎｉｔｉｋａ）をメンブレンの上面及び底面にラミネート化することができる。これらのサンプルアセンブリのスタックは以下のとおりであることができる：カプトン/メッシュ支持層/ｅＰＴＦＥ/メッシュ支持層/カプトン。最初にサンプルアセンブリをローラの間に挿入して、メッシュ支持層をメンブレンの上面にラミネート化した。次に、サンプルアセンブリを裏返し、二回目に挿入して、メッシュ支持層をメンブレンの底面にラミネート化した。ラミネート化後に、上部カプトン層と下部カプトン層を取り除くことができる。
【0177】
表４：サンプルアセンブリの構成例：
以下の表は、上述の実施例で使用されたアセンブリの構成を示している。本明細書で指定される「メンブレン番号」及び「支持層番号」については、それぞれ表１及び２を参照する。
以下の表は、上述の実施例で使用されたアセンブリの構成を示している。本明細書で指定される「メンブレン番号」及び「支持層番号」については、それぞれ表１及び２を参照する。
【0178】
【表4-1】
【表4-2】
【0179】
【表5】
【0180】
サンプルアセンブリ及び比較サンプルアセンブリの特性
以下の表は、特定のサンプル及び比較サンプルアセンブリの例示的な特性を示している。すべての特性は本明細書に記載されているように測定される。
以下の表は、特定のサンプル及び比較サンプルアセンブリの例示的な特性を示している。すべての特性は本明細書に記載されているように測定される。
【0181】
【表6】
【0182】
【表7】
【0183】
例１－一定の音響伝送及び抵抗挙動を示す非限定的な実施形態
比較サンプルアセンブリを含むすべてのサンプルアセンブリについて、試験手順のセクションで記載されているように、伝送損失及び位相角の試験を行った。
比較サンプルアセンブリを含むすべてのサンプルアセンブリについて、試験手順のセクションで記載されているように、伝送損失及び位相角の試験を行った。
【0184】
サンプルアセンブリ及び比較サンプルアセンブリの伝送損失データを、６つの区別される周波数（５００Ｈｚ、１，０００Ｈｚ、２，０００Ｈｚ、５，０００Ｈｚ、１０，０００Ｈｚ、２０，０００Ｈｚ）で表８に示す。伝送損失ｖｓ周波数スペクトルを図７～１８に示す。
【0185】
【表8】
【0186】
サンプルアセンブリの位相角データを、６つの区別される周波数（５００Ｈｚ、１，０００Ｈｚ、２，０００Ｈｚ、５，０００Ｈｚ、１０，０００Ｈｚ、２０，０００Ｈｚ）で表１０に示す。試験されたサンプルアセンブリの生の位相角ｖｓ周波数スペクトルを図１～１８に示す。
【0187】
【表9】
【0188】
示されているように、サンプルアセンブリは、試験された周波数で＋４５度～－４５度の範囲内にある位相角を示すが、比較サンプルアセンブリは、試験された周波数の幾つかで＋４５度～－４５度の範囲外にある位相角を示す。
【0189】
各サンプルアセンブリ及び各比較サンプルアセンブリの伝送損失の勾配（ｄＢ/オクターブ単位）は、区別される周波数（５００Ｈｚ、１，０００Ｈｚ、２，０００Ｈｚ、５，０００Ｈｚ、１０，０００Ｈｚ、２０，０００Ｈｚ）の線形回帰によって測定された。
【0190】
以下の手順を使用して、周波数をオクターブにスケーリングした。
【0191】
５００Ｈｚと５００Ｈｚの間のオクターブ数は
である。
【数3】
【0192】
５００Ｈｚと１０００Ｈｚとの間のオクターブ数は
【数4】
【0193】
５００Ｈｚと２０００Ｈｚとの間のオクターブ数は
【数5】
【0194】
５００Ｈｚと５０００Ｈｚとの間のオクターブ数は
【数6】
【0195】
５００Ｈｚと１０，０００Ｈｚとの間のオクターブ数は
【数7】
【0196】
５００Ｈｚと２０，０００Ｈｚとの間のオクターブ数は
【数8】
【0197】
次に、上記で計算されたオクターブにわたって伝送損失データに対して線形回帰を実行することにより、伝送損失スペクトルの勾配を決定することができる。
【0198】
比較サンプルアセンブリについて、伝送損失値は、低周波数範囲における周波数で減少し、次いで、高周波数範囲における周波数で増加する。線形回帰は、比較サンプルアセンブリについての低周波数範囲で行われる。以下の表１０～１１に示すように、所与のメンブレンについて、サンプルアセンブリの伝送損失の傾きは、比較サンプルアセンブリの伝送損失の傾きよりもゼロに近かった。これはサンプルアセンブリの方がより支配的に一定した音響伝送プロファイルを提供したことを示す。具体的には、以下の非限定的な例によって示されるように、本開示の幾つかの実施形態において、伝送損失の傾きの絶対値は、５００Ｈｚ～２０，０００Ｈｚの範囲で１．５ｄＢ/オクターブ以下である（すなわち、伝送損失の範囲は－１．５ｄＢ/オクターブ～１．５ｄＢ/オクターブである）。言い換えると、表１０の非限定的な例において、伝送損失は５００～２０，０００Ｈｚの周波数範囲で１．５ｄＢ/オクターブを超えて変化しない。
【0199】
【表10】
【0200】
例２-改善された負荷耐圧を示す非限定的な実施形態
比較サンプルアセンブリを含むすべてのサンプルアセンブリについて、「試験手順」セクションで記載れているように、伝送損失及び位相角試験を行った。サンプルアセンブリを、以下の表１１に記載されている圧力試験に１０分の保持時間かけた。
比較サンプルアセンブリを含むすべてのサンプルアセンブリについて、「試験手順」セクションで記載れているように、伝送損失及び位相角試験を行った。サンプルアセンブリを、以下の表１１に記載されている圧力試験に１０分の保持時間かけた。
【0201】
【表11】
【0202】
試験手順セクションの記載に従って、試験前ｖｓ試験後の伝送損失及び位相データを測定した。サンプルアセンブリ及び比較サンプルアセンブリについて、圧力試験の前後の伝送損失及び伝送損失の相対的な変化を、以下の表１２～１４に、６つの区別される周波数（５００Ｈｚ、１，０００Ｈｚ、２，０００Ｈｚ、５，０００Ｈｚ、１０，０００Ｈｚ及び２０，０００ Ｈｚ）で示している。生の伝送損失及び位相角ｖｓ周波数スペクトルを図１９～２９に示す。示されているように、特定のメンブレンについて、圧力試験の前後の伝送損失の変化は比較サンプルアセンブリのそれよりも小さく、サンプルアセンブリは、より堅牢な音響性能を提供し、圧力負荷に対する破裂強度を改善した。
【0203】
【表12】
【0204】
【表13】
【0205】
【表14】
【0206】
例３-改善された耐圧縮性を示す非限定的な実施形態
圧縮下のアセンブリに対する伝送損失及び位相角試験は、「試験手順」セクションに記載されるように行った。３つの異なる力（５Ｎ、１０Ｎ、２０Ｎ）は、サンプルアセンブリ１４及び比較アセンブリ１１ｃに適用され、伝送損失及び位相角は、圧縮下のアセンブリで測定する。圧縮力なしの伝送損失も測定する。
圧縮下のアセンブリに対する伝送損失及び位相角試験は、「試験手順」セクションに記載されるように行った。３つの異なる力（５Ｎ、１０Ｎ、２０Ｎ）は、サンプルアセンブリ１４及び比較アセンブリ１１ｃに適用され、伝送損失及び位相角は、圧縮下のアセンブリで測定する。圧縮力なしの伝送損失も測定する。
【0207】
圧縮力の関数としての生の伝送損失及び位相角ｖｓ周波数スペクトルを図３０に示す。伝送損失及び位相のデータを、６つの区別される周波数（５００Ｈｚ、１，０００Ｈｚ、 ２，０００Ｈｚ、５，０００Ｈｚ、１０，０００Ｈｚ及び２０,０００Ｈｚ）で表１５及び１６に示す。
【0208】
【表15】
【0209】
【表16】
【0210】
【表17】
【0211】
【表18】
【0212】
例４-改善された音響の一貫性を示す非限定的な実施形態
サンプルアセンブリ２５及び比較サンプルアセンブリ１３ｃについて、５つのサンプルを製造し、伝送損失及び位相角を試験する。部品間のばらつきは、各周波数（５００Ｈｚ、１，０００Ｈｚ、２，０００Ｈｚ、５，０００Ｈｚ、１０，０００Ｈｚ及び２０，０００Ｈｚ）でのサンプル間の伝送損失の標準偏差によって評価される。５つのサンプルの平均伝送損失及び位相角を表１９及び表２０に示す。伝送損失の標準偏差を表２１に示し、図３２に示す。生の伝送損失及び位相角を図３１に示し、これらの図のエラーバーは測定値の分布である。示されているように、サンプルアセンブリは比較サンプルアセンブリよりも低い標準偏差を示し、サンプルアセンブリが部品間でより良い一貫性を提供したことを示す。
サンプルアセンブリ２５及び比較サンプルアセンブリ１３ｃについて、５つのサンプルを製造し、伝送損失及び位相角を試験する。部品間のばらつきは、各周波数（５００Ｈｚ、１，０００Ｈｚ、２，０００Ｈｚ、５，０００Ｈｚ、１０，０００Ｈｚ及び２０，０００Ｈｚ）でのサンプル間の伝送損失の標準偏差によって評価される。５つのサンプルの平均伝送損失及び位相角を表１９及び表２０に示す。伝送損失の標準偏差を表２１に示し、図３２に示す。生の伝送損失及び位相角を図３１に示し、これらの図のエラーバーは測定値の分布である。示されているように、サンプルアセンブリは比較サンプルアセンブリよりも低い標準偏差を示し、サンプルアセンブリが部品間でより良い一貫性を提供したことを示す。
【0213】
【表19】
【0214】
【表20】
【0215】
【表21】
【0216】
例５：調整可能な伝送損失
所与のメンブレンについて、支持層を介して伝送損失を調整できる。より高い空気流の支持層を使用してＴＬを減らすことができ、その逆も可能である。
本開示の幾つかの実施形態を記載してきたが、これらの実施形態は、限定ではなく単なる例示であり、多くの修正は当業者に明らかになり得る。例えば、本明細書で論じられるすべての寸法は、例としてのみ提供されており、例示的であり限定的ではないことが意図される。
所与のメンブレンについて、支持層を介して伝送損失を調整できる。より高い空気流の支持層を使用してＴＬを減らすことができ、その逆も可能である。
【表22】
【表23】
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】
【図24】
【図25】
【図26】
【図27】
【図28】
【図29】
【図30】
【図31】
【図32】
【図33】
