特許 7171609 耐久性のある低放射性窓用フィルム構造体

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2022-11-07

(45)【発行日】2022-11-15

(54)【発明の名称】耐久性のある低放射性窓用フィルム構造体

(51)【国際特許分類】

   B32B 9/00 20060101AFI20221108BHJP

   B32B 15/082 20060101ALI20221108BHJP

   B32B 27/30 20060101ALI20221108BHJP

   C09J 7/28 20180101ALI20221108BHJP

   C09J 7/29 20180101ALI20221108BHJP

   C09J 7/38 20180101ALI20221108BHJP

   C09J 7/50 20180101ALI20221108BHJP

   E06B 9/24 20060101ALI20221108BHJP

   E04B 1/76 20060101ALI20221108BHJP

【ＦＩ】

B32B9/00 A

B32B15/082 Z

B32B27/30 A

C09J7/28

C09J7/29

C09J7/38

C09J7/50

E06B9/24 Z

E04B1/76 100D

【請求項の数】 10

(21)【出願番号】P 2019555772

(86)(22)【出願日】2018-04-12

(65)【公表番号】

(43)【公表日】2020-06-11

(86)【国際出願番号】 IB2018052573

(87)【国際公開番号】W WO2018189714

(87)【国際公開日】2018-10-18

【審査請求日】2021-04-09

(31)【優先権主張番号】62/485,701

(32)【優先日】2017-04-14

(33)【優先権主張国・地域又は機関】US

(73)【特許権者】

【識別番号】505005049

【氏名又は名称】スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー

(74)【代理人】

【識別番号】100130339

【弁理士】

【氏名又は名称】藤井 憲

(74)【代理人】

【識別番号】100110803

【弁理士】

【氏名又は名称】赤澤 太朗

(74)【代理人】

【識別番号】100135909

【弁理士】

【氏名又は名称】野村 和歌子

(74)【代理人】

【識別番号】100133042

【弁理士】

【氏名又は名称】佃 誠玄

(74)【代理人】

【識別番号】100171701

【弁理士】

【氏名又は名称】浅村 敬一

(72)【発明者】

【氏名】パディヤス，ラグナス

(72)【発明者】

【氏名】キング，グレゴリー エフ．

(72)【発明者】

【氏名】マキ，スティーブン ピー．

【審査官】福井 弘子

(56)【参考文献】

【文献】米国特許出願公開第２０１６／０３０６０８４（ＵＳ，Ａ１）

【文献】国際公開第２０１６／１１７４３６（ＷＯ，Ａ１）

【文献】国際公開第２０１６／０２１５３２（ＷＯ，Ａ１）

【文献】特開２００７－２５０４３０（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平０８－２３８７１０（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｂ３２Ｂ １／００－４３／００

Ｃ０９Ｊ ７／２８

Ｃ０９Ｊ ７／２９

Ｃ０９Ｊ ７／３８

Ｃ０９Ｊ ７／５０

Ｅ０６Ｂ ９／２４

Ｅ０４Ｂ １／６２－１／９９

Ｃ２３Ｃ １４／００－１４／５８

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、前記ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、前記ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
前記フィルムが０．２未満のＡＳＴＭ Ｃ１３７１に従って測定される放射率を有し、
前記第１のケイ素化合物含有層の厚さと前記第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
前記第２のケイ素化合物含有層の厚さと前記第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍである、
フィルム。

【請求項2】

前記第１のケイ素化合物含有層の厚さと、前記第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、前記第２のケイ素化合物含有層の厚さと、前記第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～４０ｎｍである、請求項１に記載のフィルム。

【請求項3】

前記第１のケイ素化合物含有層の厚さと前記第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、前記第２のケイ素化合物含有層の厚さと前記第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が５ｎｍより大きい、請求項１に記載のフィルム。

【請求項4】

前記基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に５未満の反射ΔＥ^＊値を有する、請求項１に記載のフィルム。

【請求項5】

前記基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に０．０２未満の放射率の増加を示す、請求項１に記載のフィルム。

【請求項6】

前記第２の放射線硬化アクリレート層が、フルオロアクリレートポリマーを含む、請求項１に記載のフィルム。

【請求項7】

前記金属層が、銀－金合金を含む、請求項１に記載のフィルム。

【請求項8】

前記第１の放射線硬化アクリレート層が、５００ｎｍ～１５００ｎｍの厚さを有する、請求項１に記載のフィルム。

【請求項9】

前記第１の放射線硬化アクリレート層の反対側の基材に直接隣接している感圧接着剤を含む層を更に含み、前記感圧接着剤を含む層に直接隣接しているライナーを更に含む、請求項１に記載のフィルム。

【請求項10】

前記フィルムが窓用フィルムである、請求項１に記載のフィルム。

【発明の詳細な説明】

【背景技術】

【0001】

特定の実施形態において、本開示は、低放射率フィルム及びそれらを含む物品に関する。他の実施形態は、低放射率フィルムの使用を含む、物品における放射率を低減する方法に関する。いくつかの実施形態において、低放射率フィルムは、金属層と一対の層とを含み、一方の層は酸化亜鉛スズなどの金属酸化物を含み、他方の層はケイ素化合物を含み、金属層の２つの側面のそれぞれに隣接している。この種の組立品は、日光制御フィルムとして使用されることを含む、種々の目的を果たし得る。これらの構築物は、例えば、両方向でフィルムを横断する赤外線の透過を低減するための、グレージングユニット上の窓用フィルムとして使用することができる。

【0002】

商業的又は住宅用建物におけるエネルギー消費を低減するために、及び自動車産業において、最小のエネルギー消費により車室内の快適な温度を維持することを助けるために、種々の手法が使用されている。例えば、染色及び真空コーティングされているプラスチックフィルムは、太陽光による熱負荷を低減する目的で窓に適用されている。典型的に、熱負荷の低減は、太陽光スペクトルの可視光部分若しくは赤外線部分又はその両方（すなわち４００ｎｍ～２５００ｎｍ以上の範囲の波長）における日射を遮断することによって達成される。

【0003】

一般に、染色フィルムは、主に吸収を介して可視光の透過を制御することができ、その結果、グレア（ぎらつき）の低減も実現することができる。しかし、染色フィルムは一般に近赤外太陽エネルギーを遮断することがなく、太陽光制御フィルムとして完全に有効という訳ではない。典型的な染色フィルムは、太陽光曝露によって色あせることが多い。これに加え、複数の染料でフィルムを染めた場合、染料が異なる速度で色あせることがあり、フィルムの耐用期間にわたって望ましくない変色が生じることがある。

【0004】

太陽光制御のための他の窓用フィルムとしては、主に反射によって日射を制御する、銀、アルミニウム、及び銅などの特定の金属の真空蒸着層を有するものが挙げられる。可視スペクトルにおいて半透明のままであり、近赤外線を反射し得る、特定の薄い金属フィルムは、太陽光制御グレージング用途で使用される。ほとんどの場合、赤外線領域における銀の高反射率により、銀又は銀合金が選択される金属となる。しかしながら、高レベルの近赤外反射を達成するのに十分な厚さの金属層を有する窓用フィルムはまた、可視領域において著しい反射を呈する場合もあり、これは望ましくない場合がある。

【0005】

窓用フィルム市場において高まっている関心として、寒冷気候におけるエネルギー節約及び温暖気候における熱除去をもたらす断熱特性に対する要望がある。これらの用途において主に関心が持たれている特性は、放射熱エネルギーを吸収し再放射する材料の能力を表す熱放射率である。完全な吸収体は、１．０の放射率を有し、熱エネルギーを伝達する際に非常に効率的であり、したがって絶縁性では不十分である場合がある。熱エネルギーを吸収するのではなく反射する材料は、「低放射率」と形容され、寒冷気候において望ましい絶縁特性を提供する。典型的なガラス又はプラスチック窓用フィルム表面は、０．８４～０．９１の範囲の熱放射率を有するが、アルミニウム箔などの絶縁材料は、０．０２という低い放射率を有し得る。

【0006】

好適な色（例えば、無彩色）を有する、高可視光透過率（例えば、＞７０％）及び低放射率（例えば、０．２未満）のフィルムが継続して必要とされている。本開示は、太陽光制御フィルムとして使用することができ、高い耐久性、低い可視光反射率、及び高い可視光透過率を有する、新規低放射率フィルムを記載する。

【発明の概要】

【0007】

本開示は、一般に、グレージングユニット全体にわたる熱利得及び損失を管理するように設計されたフィルムを対象とする。これらのフィルムの特定の実施形態は、顕著な風化作用の後であっても、高い可視光透過率及び低い可視光反射率を有し、ａ）（例えば、エネルギー源（太陽）が屋外にある夏季中に）太陽光熱利得を低減するために、入射日射の赤外部分及び紫外部分を排除するための手段と、ｂ）（例えば、エネルギー源（建物内の加熱器）が屋内にある冬季中に）熱損失を低減するために、室内に反射させる手段と、を備える。

【0008】

特定の実施形態において、フィルムによる赤外線の反射は、２対の層の間に挟まれた金属層を有することによって部分的に達成され、第１の対は、独立して、金属、金属酸化物、又は金属窒化物（例えば、酸化亜鉛スズなど）を含み、第２の対は、独立して、ケイ素化合物（例えば、酸化ケイ素アルミニウム又は酸窒化ケイ素など）を含み、前述の積層体全体は２つの放射線硬化アクリレート層の間に挟まれている。一般に、２つの金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層のそれぞれの厚さは、可視反射を抑制するために使用される金属層を挟むために通常使用される誘電体層の厚さと比べて著しく小さい。金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層それぞれの厚さは、互いに独立して、３ｎｍ～９ｎｍである。更に、金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層の厚さと金属層の各側のケイ素化合物含有層の厚さとの合計は、当該技術分野における同等の層と比べて著しく小さい。いくつかの実施形態において、金属層を挟む各層の金属、金属酸化物、金属窒化物は、各層ごとに独立して、クロム、ニッケル、銅、クロム及びニッケルを含む合金、酸化亜鉛スズ、窒化ジルコニウム、酸化アルミニウム亜鉛、酸化スズ、及び酸化亜鉛から選択される。いくつかの実施形態では、金属、金属酸化物、及び金属窒化物のうち、金属酸化物が好ましい。いくつかの実施形態において、金属酸化物の中では、酸化亜鉛スズが好ましい。他の実施形態において、追加の「核形成層（nucleation layer）」（「プレコート層」又は「接触層」とも呼ばれる）が存在し、その上に金属層を堆積させることができる。

【0009】

特定の実施形態において、フィルムは、０．２未満の放射率、３０％未満の可視反射率、及び３０％超の可視透過率を有する。他の実施形態において、フィルムは無彩色を有する。

【0010】

本明細書で使用される全ての科学用語及び技術用語は、別途明記しない限り、当該技術分野で通常使用される意味を有する。本明細書に提示される定義は、本出願で頻繁に使用される特定の用語の理解を促すためのものであり、そうした用語の妥当な解釈を本開示の文脈で排除することを意図していない。

【0011】

特に示さない限り、本明細書及び特許請求の範囲に使用される加工寸法（特徴サイズ）、量及び物理的特性を表す、説明及び特許請求の範囲における数字は全て、全ての場合において、「約」という用語によって修飾されているものとして理解されるべきである。したがって、特に反対の指示がない限り、上記明細書及び添付の特許請求の範囲に記載されている数値パラメータは、本明細書で開示される教示を利用して当業者が得ようとする所望の特性に応じて変動し得る近似値である。最低でも、各数値パラメータは少なくとも、報告される有効桁の数に照らして通常の丸め技法を適用することにより解釈されるべきであるが、このことは特許請求の範囲の範囲への均等論の適用を制限しようとするものではない。本発明の広範な範囲を示す数値範囲及びパラメータは近似値であるが、具体例に示した数値は、可能な限り正確に報告されている。しかしながら、どの数値も、それぞれの試験測定値に見られる標準偏差から必然的に生じる一定の誤差を本質的に含んでいる。

【0012】

端点による数値範囲の列挙には、その範囲内に包含される全ての数値（例えば、１～５の範囲は、例えば、１、１．５、２、２．７５、３、３．８０、４及び５を含む）、及びその範囲内の任意の範囲が含まれる。

【0013】

本明細書及び添付の特許請求の範囲で使用する場合、単数形「ａ」、「ａｎ」、及び「ｔｈｅ」は、内容が別途明示しない限り、複数の指示対象を有する実施形態を包含する。本明細書及び添付の特許請求の範囲で使用する場合、用語「又は」は、内容が別途明示しない限り、「及び／又は」を含む意味で通常用いられる。

【0014】

用語「ポリマー」は、ポリマー、コポリマー（例えば、２つ以上の異なるモノマーを使用して形成されるポリマー）、オリゴマー及びこれらの組み合わせ、並びに混和性ブレンド中に形成され得るポリマー、オリゴマー、又はコポリマーを含むと理解される。本発明で言及されるポリマーとしては、モノマーからｉｎ－ｓｉｔｕで重合されたポリマー、及び本明細書でそれらを作製するために使用されるプロセスとは無関係にポリマー形態で存在する材料が挙げられる。

【0015】

用語「隣接している」とは、本明細書で使用する場合、例えば、互いに近接している２つの層などの、２つの要素の相対位置を意味し、これらは、互いに接触していても必ずしも接触していなくてもよく、「隣接している」が用いられている文脈により理解される２つの要素を分離する１つ以上の層を有していてもよい。

【0016】

用語「直接隣接している」は、例えば、互いに隣接し、互いに接触し、２つの要素を分離する中間層を有さない２つの層などの、２つの要素の相対位置を指す。ただし、用語「直接隣接している」は、一方又は両方の要素（例えば、層）がプライマーで処理されている状況、又はそれらの性質に影響を及ぼすように、その表面が改質される状況、例えば、エッチング、エンボス加工等、若しくは粘着力を改善し得る表面処理、例えば、コロナ処理若しくはプラズマ処理等によって、その表面が改質される状況を包含する。

【0017】

用語「最外層」は、フィルムの層のうちの１つとのみ接触し、かつ基材層から最も離れているフィルム内の層を指す。最外層は、グレージングユニットと接触することが意図される接着剤層（典型的には感圧接着剤である）ではなく、接着剤層を保護することができるライナーでもない。例えば、図５の構造体に関しては、層１１４が最外層である。実施例１～１５に関しては、層７が最外層である。比較例１及び２に関しては、層７もまた各場合における最外層である。ただし、比較例３に関しては、層６が最外層である。いくつかの実施形態において、最外層は保護層である。

【0018】

本明細書で使用するとき、用語「光学的に透明」は、３～８０パーセントの視感透過率を有し、１０％未満のヘイズ値を示す物品（例えば、フィルム）を指す。視感透過率及び全ヘイズの両方は、ＡＳＴＭ－Ｄ １００３－１３、手順Ａ（視程計）の方法に従って、例えば、ＢＹＫ Ｇａｒｄｎｅｒ Ｈａｚｅ－ｇａｒｄ Ｐｌｕｓ（カタログ番号４７２５）を使用して、決定することができる。

【0019】

用語「接着剤」とは、本明細書で使用する場合、２つの構成成分（被接着体）を一緒に接着するのに有用なポリマー組成物を指す。接着剤の例としては、熱活性化接着剤及び感圧接着剤が挙げられる。

【0020】

本明細書で使用するとき、用語「ヘイズ」は、材料を通過するときに通常の入射ビームから２．５°超だけ入射ビームから逸脱する透過光の百分率を指す。上述のように、ヘイズは、ＡＳＴＭ－Ｄ １００３－１３の方法を使用して決定することができる。

【0021】

用語「構造体」又は「組立品」は、本出願において、異なる層の共押出し、積層、互いに重ね合わせたコーティング、又はこれらの任意の組み合わせが可能である多層フィルムが言及されるとき、互換的に使用される。

【0022】

用語「フィルム」とは、本明細書で使用する場合、状況に応じて、単一層物品、又は種々の層の積層、押出し、コーティング、若しくはこれらの任意の組み合わせがされていてもよい多層構造体のいずれかを意味する。

【0023】

用語「可視光」又は「可視スペクトル」は、本明細書で使用するとき、本開示において４００ｎｍ～７００ｎｍであると解釈される可視スペクトル内の放射を意味する。

【0024】

本明細書で使用するとき、用語「近赤外スペクトル」又は単に「赤外スペクトル」は、７００ｎｍ～２５００ｎｍの範囲の放射線を指す。

【0025】

本明細書で使用するとき、用語「放射率」は、表面が熱エネルギーを放出する効率の尺度であり、同じ温度で完全な黒色体によって放射された放射線に対する表面から放射される放射線の比として定義される。放射率は０～１の値であり、ＡＳＴＭ Ｃ１３７１に従って測定される。そのような放射率を測定するための１つの計測器は、Ｄｅｖｉｃｅｓ ａｎｄ Ｓｅｒｖｉｃｅｓ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｄａｌｌａｓ，ＴＸから入手可能である（モデルＡＥ１放射計）。

【0026】

ポリマーを硬化させる文脈における「放射線硬化」という用語は、例えば、化学線（光化学反応を生じさせることができる放射線）、例えば、紫外線、真空ＵＶ（ＶＵＶ）、極端ＵＶ（ＥＵＶ又はＸＵＶ）、又は場合によっては、例えばスパッタリングプロセスで使用されるものなどのプラズマから生成された可視光、電子ビーム、若しくは紫外線を含む、任意の種類の電磁放射線の使用によって支援される硬化を指す。

【0027】

本明細書で使用するとき、用語「可視光反射率」は、表面によって反射される可視スペクトルにおける太陽エネルギーの、その表面に到達する可視スペクトルの全エネルギーに対する、百分率を指す。可視光反射率は、０～１００％の値であり、例えばＰｅｒｋｉｎ Ｅｌｍｅｒ Ｌａｍｂｄａ １０５０分光光度計を使用してＡＳＴＭ Ｅ９０３に従って測定される。可視光反射率の計算に関する更なる詳細は、可視光反射率という表題の節に記載されている。

【0028】

見本の色は、色の測定という表題の節に記載される方法に従って測定される。本明細書で使用するとき、用語「反射ΔＬ^＊」は、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度における（又は試験において別様に示される条件下での）、２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度への所与の曝露後の、風化試験の前と後での反射Ｌ^＊の値の差を指す。

【0029】

本明細書で使用するとき、用語「反射Δａ^＊」は、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度における（又は試験において別様に示される条件下での）、２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度への所与の曝露後の、風化試験の前と後での反射ａ^＊の値の差を指す。

【0030】

本明細書で使用するとき、用語「反射Δｂ^＊」は、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度における（又は試験において別様に示される条件下での）、２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度への所与の曝露後の、風化試験の前と後での反射ｂ^＊の値の差を指す。

【0031】

本明細書で使用するとき、用語「反射ΔＥ」は、風化の前後での試験片のＬ^＊ａ^＊ｂ^＊色空間における色の差であり、以下の式に従って計算される。

【数1】

【0032】

典型的に、加速風化条件に曝露されたフィルム試料は、最外層を介してエネルギー源に暴露され、最外層は窓用フィルム（「コーティングされた側面」）の設置後に物理的に曝露される層に対応する。特定の注記がない場合、本出願における加速風化への曝露後の報告されたデルタ値（例えば、反射ΔＬ^＊等）の値は、コーティングされた側面を通した曝露を指す。ただし、特定の例では、報告されたデルタ値は、「基材」側を通した曝露に対応し、屋内に設置され、最初にグレージングを通過する日光に曝露される、窓用フィルム（グレージングの室内表面上）への曝露に対応する。

【0033】

本明細書で使用するとき、用語「可視光透過率」は、表面にわたって透過される可視スペクトルにおける太陽エネルギーの割合を指す。可視光透過率は、０～１００％の値であり、例えばＰｅｒｋｉｎ Ｅｌｍｅｒ Ｌａｍｂｄａ １０５０分光光度計を使用して、ＡＳＴＭ Ｅ９０３に従って測定される。可視光反射率の計算に関する更なる詳細は、可視光反射率という表題の節に記載されている。

【0034】

本明細書で使用するとき、用語「実質的に無彩色である」は、ＡＳＴＭ Ｅ３０８に従って測定された、ＣＩＥ Ｌ^＊ａ^＊ｂ^＊色座標（ａ^＊については－１０～＋１０、ｂ^＊については－１０～＋１０）を有する物品を指す。Ｌ^＊、ａ^＊、及びｂ^＊は、光源Ｄ６５及び１０°観察者を使用して計算される。Ｈｕｎｔｅｒ Ａｓｓｏｃｉａｔｅｓ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｙ，ＶＡから入手可能なＵｌｔｒａｓｃａｎ ＰＲＯなどの比色計装置を使用して、透過色及び反射色の両方を測定する。反射色の場合には、鏡面を含む測定構成が使用される。

【0035】

本明細書で使用するとき、加速風化の文脈において使用するとき、「基材を通して照射を受ける」という用語は、フィルムの基材側が放射線源に対面しており、放射線が、例えば第１の放射線硬化アクリレート層を通過する前に、最初に基材を通過することを指す。

【0036】

「コーティングされた側面を通して照射を受ける」という用語は、本明細書で加速風化の文脈において使用するとき、フィルムの最外層が、放射線源に対面しており、放射線が、例えば基材を通過する前に、最初に最外層を通過することを指す。

【0037】

本明細書で使用するとき、用語「誘電体層」は、誘電材料を含む層を指す。誘電材料とは、金属導体よりも導電性が低い材料を指す。好適な誘電体材料の例としては、半導体材料、絶縁体、及び特定の金属酸化物材料（例えば、酸化アルミニウム亜鉛及び酸化インジウムスズ）が挙げられる。透明赤外線反射器の技術分野において既知である典型的な誘電体層は、約１８ｎｍの最小厚さを有する。より一般的には、誘電体層の組み合わせは、誘電体層の厚さの合計が典型的に約３０～４０ｎｍである銀又は銀合金薄層と共に使用される。透明赤外線反射体を生成するために選択される厚さは、使用される誘電体材料の屈折率の関数である。

【0038】

本明細書で使用するとき、用語「基材」又は「基材層」は、別の材料又は層が堆積され得る材料又は表面を指す。

【0039】

本明細書で使用するとき、用語「凝縮水に対する耐性」は、実施例の節に記載されるように、１００時間の凝縮水への曝露後、曝露されたフィルムのいずれかの領域に、層間剥離、膨れ形成、又は変色がないことを指す。曝露されたフィルムの縁部から約２ｍｍ未満の縁部の変色は、損傷とは考えられない。

【0040】

本明細書で使用するとき、用語「希酢酸に対する耐性」は、実施例の節に記載されるように、希酢酸に曝露されたフィルムの外観の変化を指す。

【0041】

本明細書で使用するとき、用語「スチールウールによる掻き傷に対する耐性」は、実施例の節に記載されているように、フィルムをスチールウールによる引っ掻きに曝露した後に、掻き傷がないことを指す。

【0042】

本明細書で使用するとき、用語「亀裂に対する耐性」は、試験片が、実施例の節に記載されるように、１ｋｇの張力下で１ｍｍの半径で曲げられたときに、亀裂がないことを指す。

【0043】

本明細書で使用するとき、用語「摩擦耐性」は、実施例の節に記載されるように、摩擦試験を実施した後に、試験片の最外層又は層に観察される損傷がないことを指す。

【図面の簡単な説明】

【0044】

【図1】摩擦試験（比較例４）の完了後のコーティングの完全な除去を示す試験片を示す。

【図2】コーティング（中心）の除去を示さない摩擦試験後の試験片を示す。図に示される傷は、摩擦試験下でのコーティングの除去とは考えられない。

【図3】摩擦試験後のコーティングの部分的除去を示す試験片を示す。

【図4】比較例３の断面透過型電子顕微鏡写真である。

【図5】本開示の低放射率フィルムの実施形態を示す。層１００は、基材を指す。層１０２は、放射線硬化アクリレート層を指す（例えば、特定の実施形態において、この層は、特許請求の範囲に記載されている第１の放射線硬化アクリレート層である）。層１０４は、ケイ素化合物含有層を指す（例えば、特定の実施形態では、この層は、請求項に記載の第１のケイ素化合物含有層である）。層１０６は、金属層のための基材層を指す（例えば、特定の実施形態では、この層は、特許請求の範囲に記載されている「第１の金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層」であり、又は他の実施形態では、他の特許請求の範囲に記載されている金属層のための基材層であり、更に他の実施形態では、第１の酸化亜鉛スズ含有層である）。層１０８は、金属層を指す。層１１０は、金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層を指す（例えば、特定の実施形態では、この層は、特許請求の範囲に記載された第２の金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層であるが、他の実施形態では、第２の酸化亜鉛スズ含有層である）。層１１２は、ケイ素化合物含有層を指す（例えば、特定の実施形態では、この層は、特許請求の範囲に記載された第２のケイ素化合物含有層である）。層１１４は、放射線硬化アクリレート層を指す（例えば、特定の実施形態では、この層は、特許請求の範囲に記載された第２の放射線硬化アクリレート層である）。図５に示される実施形態では、層１１４は、構造体の最外層である。いくつかの実施形態において、最外層は、別個の保護層（図５に図示せず）である。図５は、縮尺のとおりに描画されておらず、各層の相対的な厚さは、図中で正確に示されていない。本開示の低放射率フィルムの他の実施形態としては、基材層１００に隣接する（又は直接隣接する）（感圧接着剤層などの）任意の接着剤層（図５には図示せず）、及び感圧接着剤層に隣接する（又は直接隣接する）保護ライナー層（図５には図示せず）が挙げられる。

【0045】

以下の説明では、添付図面を参照する。特定の場合において、各図は、実例として、本開示の１つ以上の具体的実施形態を示す場合がある。本開示の範囲又は趣旨から逸脱することなく、図に明示されるものと異なる他の実施形態も検討され、実施され得ることを理解されたい。したがって、以下の発明を実施するための形態は、限定的な意味では解釈されないものとする。

【発明を実施するための形態】

【0046】

一実施形態では、本開示のフィルムは、低放射率フィルムである。別の実施形態において、本開示は、ａ）第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択され、好ましい実施形態においてケイ素化合物が酸窒化ケイ素である、層と、ｂ）第１のケイ素化合物含有層に直接隣接している、第１の金属（合金を含み得る）、金属酸化物又は金属窒化物含有層であって、以降の金属層のための基材又はシード層として機能し、好ましい実施形態において金属酸化物を含み、最も好ましい実施形態において金属酸化物が酸化亜鉛スズである、層と、ｃ）第１の金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層に直接隣接している、金属層と、ｄ）金属層に直接隣接している、第２の金属（合金を含み得る）、金属酸化物、又は金属窒化物含有層であって、好ましい実施形態において金属酸化物を含み、最も好ましい実施形態において金属酸化物が酸化亜鉛スズである、層と、ｅ）第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択され、好ましい実施形態においてケイ素化合物が酸化ケイ素である、層とを含む、フィルムを対象とする。

【0047】

いくつかの実施形態において、金属層を挟んでいる層のそれぞれにおける金属、金属酸化物、又は金属窒化物は、各層ごとに独立して、クロム、ニッケル、銅、クロム及びニッケルを含む合金、窒化ジルコニウム、酸化アルミニウム亜鉛（ＡＺＯ）、酸化亜鉛スズ、酸化スズ、及び酸化亜鉛から選択され、フィルムは、０．２未満の放射率、２５％未満の可視光反射率、及び６０％を超える可視光透過率を有する。

【0048】

いくつかの実施形態では、フィルムは、第１のケイ素化合物含有層に直接隣接している第１の放射線硬化アクリレート層を更に含む。他の実施形態において、フィルムは、ａ）第２のケイ素化合物含有層に直接隣接している第２の放射線硬化アクリレート層を更に含み、ケイ素化合物は、２つのケイ素含有層の各層ごとに独立して、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される。

【0049】

他の実施形態では、フィルムは、基材に直接隣接している感圧接着剤を含む層を更に含み、更に他の実施形態では、感圧接着剤を含む層に直接隣接しているライナーを更に含む。

【0050】

他の実施形態において、フィルムは、
基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
３ｎｍ～９ｎｍの厚さを有する、第１の金属、合金、金属酸化物、又は金属窒化物含有層と、
金属層と、
３ｎｍ～９ｎｍの厚さを有する、第２の金属、合金、金属酸化物、又は金属窒化物含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含み、
フィルムは０．２未満の放射率を有する。他の実施形態において、フィルムは、２５％未満の可視光反射率を更に有し、６０％超の可視光透過率を有し、透過及び反射の両方において実質的に無彩色である。この種の例示的なフィルムを図５に示す。任意に、フィルムは、（第１の放射線硬化アクリレート層に直接隣接している表面の反対側の基材の表面上で）基材に直接隣接している感圧接着剤を有してもよい。

【0051】

他の実施形態において、フィルムは、
基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
３ｎｍ～９ｎｍの厚さを有する、第１の金属酸化物、好ましくは酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
３ｎｍ～９ｎｍの厚さを有する、第２の金属酸化物、好ましくは酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含み、
フィルムは０．２未満の放射率を有する。他の実施形態において、フィルムは、２５％未満の可視光反射率を更に有し、６０％超の可視光透過率を有し、透過及び反射の両方において実質的に無彩色である。この種の例示的なフィルムを図５に示す。任意に、フィルムは、（第１の放射線硬化アクリレート層に直接隣接している表面の反対側の基材の表面上で）基材に直接隣接している感圧接着剤を有してもよい。

【0052】

驚くべきことに、当業者が期待したであろうこととは対照的に、本発明者らは、第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計に関して比較的薄い厚さを有する、金属層を覆う金属酸化物（例えば、酸化亜鉛スズ）の比較的薄い層を用いて、好適な低放射率を有し、透過及び反射の両方において無彩色を有し、風化耐性を有する窓用フィルムを製造することができることを見出した。

【0053】

したがって、いくつかの実施形態において、第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計は、１５ｎｍ～３０ｎｍ、又は１６ｎｍ～３０ｎｍ、又は２０ｎｍ～３０ｎｍ、又は２５ｎｍ～３０ｎｍ、又は２５ｎｍ～２８ｎｍ、又は２５ｎｍ～２７ｎｍである。

【0054】

他の実施形態において、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計は、９ｎｍ～１５ｎｍ、又は１０ｎｍ～１４ｎｍ、又は１０ｎｍ～１３ｎｍ、又は１１ｎｍ～１３ｎｍ、又は１０ｎｍ～１２ｎｍである。

【0055】

他の実施形態において、本発明者らは、ａ）第１のケイ素化合物含有層の厚さと上記の第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計についての値のいずれかと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと上記の第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計についての値のいずれかの任意の組み合わせを有するフィルムを想定している。

【0056】

他の実施形態において、第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計は、２５ｎｍ～４０ｎｍであり、又は２５ｎｍ～３０ｎｍ、又は２５ｎｍ～３５ｎｍ、又は３５ｎｍ～４０ｎｍ、又は３０ｎｍ～３５ｎｍ、３０ｎｍ～４０ｎｍである。

【0057】

本明細書に記載されたフィルムの一部であり得る異なる層の特性について、以下に詳述する。簡潔さのために、本開示に記載されるフィルムの層は、その層内に存在する構成要素の簡単な記述を使用して命名されている。２つ以上の層が類似の構成要素を有する場合、構造体内に現れる第１の層（基材から始まり、最外層に向かう方向に進む）は、その名称において「第１」という修飾語を含み、その層の記述が後に続く。例えば、放射線硬化アクリレートを含み、基材に最も近い第１の層は、「第１の放射線硬化アクリレート層」と呼ばれる。放射線硬化アクリレートを有する次の層は、「第２の放射線硬化アクリレート層」（すなわち、放射線硬化アクリレートを含む第２の層であり、「第１の」放射線硬化アクリレートは「第２の」放射線硬化アクリレートよりも基材に近い）と呼ばれることになる。混乱を回避するために、層は、他の層のうち１つが存在しない場合であっても、所与の組立品において「第１」又は「第２」という語を付けておく。例えば、フィルムが「第１のケイ素化合物含有層」を有さない場合であっても、「第２のケイ素化合物含有層」を有するフィルムを有することが可能である。上述のように、最外層は、グレージングユニットに（例えば、感圧接着剤を介して）接着され得る表面と反対側にある基材の表面から最も遠い層であると理解される。

【0058】

基材
一実施形態において、基材はポリエステルを含む。他の実施形態において、ポリエステルはポリエチレンテレフタレート（polyethylene terephthalate、ＰＥＴ）である。当業者であれば、本発明の低放射性フィルムの基材として様々な種類のポリエステルを使用できることを理解するであろう。例えば、有用なポリエステルポリマーとしては、テレフタレート又はナフタレートコモノマー単位、例えば、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、並びにこれらのコポリマー及びブレンドを有するポリマーが挙げられる。他の好適なポリエステルコポリマーの例は、例えば、国際公開第９９／３６２６２号パンフレット及び国際公開第９９／３６２４８号パンフレットに記載され、これらの両方は、ポリエステルコポリマーについてのその開示内容を参照することにより本明細書に組み込まれる。他の好適な基材材料としては、ポリカーボネート、ポリアリレート、並びに他のナフタレート及びテレフタレート含有ポリマーが挙げられ、例えば、ポリブチレンナフタレート（polybutylene naphthalate、ＰＢＮ）、ポリプロピレンナフタレート（naphthalate）（polypropylene naphthalate、ＰＰＮ）、並びに上記の物質と相互又は非ポリエステルポリマーとのブレンド及びコポリマーが挙げられる。

【0059】

他の実施形態において、基材は、ポリマー多層光学フィルム（polymeric multilayer optical film、「ＭＯＦ」）であってもよい（又はそれを含み得る）。一般的に、ＭＯＦは、多層光学積層体を含むコア部分を少なくとも含み、多層光学積層体は、一連の２つの交互のポリマー層を含む。多層光学積層体に加えて、ＭＯＦはまた、多層光学積層体の各側面に１つずつ、２つの外側ポリマー層（第１及び第２の外層）を含んでもよい。２つの外層は、それらのポリマー組成が互いに異なっていてもよく、同じポリマー組成を有していてもよい。２つの外層のそれぞれは、１種以上のポリマー又はポリマーのブレンド及びコポリマーを含み得る。特定の実施形態において、外層の一方又は両方は、多層光学積層体の一部であり、多層光学積層体の外層となる。他の実施形態において、２つの外層は多層光学積層体とは別個であり、それらのポリマー組成物は、多層光学積層体における２つの交互のポリマー層のものとは異なる。

【0060】

特定の実施形態では、多層光学積層体及び第１及び第２の外層は共押出される。他の実施形態では、第１及び第２の外層は、多層光学積層体上に積層される。特定の実施形態では、多層光学積層体と共に第１及び第２の外層を共押出しすることにより、更なる処理中に多層光学積層体への保護がもたらされる。

【0061】

一実施形態では、多層光学積層体は、少なくとも１つの複屈折ポリマーと１つの第２ポリマーとの交互に並ぶ層を備える。多層光学積層体は、一般に、複数の交互に並ぶポリマー層であり、特定の帯域幅の電磁放射線の反射を実現するように選択することができる。

【0062】

本開示の多層光学積層体の少なくとも１つの複屈折層を製造するのに好適な材料としては、結晶性、半結晶性又は液晶性ポリマー（例えば、ポリエステル、コポリエステル及び変性コポリエステル）が挙げられる。この文脈において、用語「ポリマー」は、前述のように理解されるであろう。本開示に従って構成されたいくつかの例示的な多層光学積層体における使用に好適なポリエステルは、一般に、カルボン酸とグリコールのサブユニットを含み、カルボン酸モノマー分子とグリコールモノマー分子との反応によって生成され得る。各カルボン酸モノマー分子は、２つ以上のカルボン酸又はエステル官能基を有し、各グリコールモノマー分子は、２つ以上のヒドロキシ官能基を有する。カルボン酸モノマー分子は、全て同一であってもよいし、又は２つ以上の異なるタイプの分子であってもよい。グリコールモノマー分子についても同様である。また、用語「ポリエステル」には、グリコールモノマー分子とカルボン酸のエステルとの反応に由来するポリカーボネートが包含される。

【0063】

ポリエステル層のカルボン酸サブユニットを形成するのに使用する好適なカルボン酸モノマー分子としては、例えば、２，６－ナフタレンジカルボン酸及びその異性体、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、アゼライン酸、アジピン酸、セバシン酸、ノルボルネンジカルボン酸、ビシクロオクタンジカルボン酸、１，４－シクロヘキサンジカルボン酸及びその異性体、ｔ－ブチルイソフタル酸、トリメリット酸、スルホン化イソフタル酸ナトリウム、４，４’－ビフェニルジカルボン酸及びその異性体、並びに、これら酸の低級アルキルエステル、例えば、メチル又はエチルエステルが挙げられる。用語「低級アルキル」は、本明細書の文脈では、Ｃ１～Ｃ１０の直鎖又は分岐アルキル基を指す。

【0064】

ポリエステル層のグリコールサブユニットを形成するのに使用する好適なグリコールモノマー分子としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４－ブタンジオール及びその異性体、１，６－ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、ポリエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリシクロデカンジオール、１，４－シクロヘキサンジメタノール及びその異性体、ノルボルネンジオール、ビシクロオクタンジオール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、１，４－ベンゼンジメタノール及びその異性体、ビスフェノールＡ、１，８－ジヒドロキシビフェニル及びその異性体、並びに、１，３－ビス（２－ヒドロキシエトキシ）ベンゼンが挙げられる。

【0065】

本開示の多層光学積層体における複屈折層として有用な例示的なポリマーは、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）である。別の有用な複屈折ポリマーは、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）である。複屈折ポリマーの分子配向は、材料をより高い延伸比に延伸し、かつ、他の延伸条件を固定して保持することによって、増加させることができる。米国特許第６，３５２，７６１号、及び同第６，４４９，０９３号に記載されたようなＰＥＮのコポリマー（Copolymers of PEN、ｃｏＰＥＮ）は、その低温加工性能のために有用であり、より熱安定性の低い第２ポリマーとの共押出しに対する適合性が高くなる。複屈折ポリマーとして好適な他の半結晶性ポリエステルとしては、例えば、ポリブチレン２，６－ナフタレート（polybutylene 2,6-naphthalate、ＰＢＮ）及びこれらのコポリマー、並びにポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）のコポリマー、例えば、複屈折ポリマー及びポリエステルについての開示内容の参照により本明細書に組み込まれる、米国特許第６，４４９，０９３（Ｂ２）号又は米国特許出願公開第２００６００８４７８０号に記載されているものが挙げられる。あるいは、シンジオタクチックポリスチレン（ｓＰＳ）は、別の有用な複屈折ポリマーである。

【0066】

多層光学積層体の第２のポリマーは、第１の複屈折ポリマーのガラス転移温度と適合性のあるガラス転移温度を有し、かつ、複屈折ポリマーの等方性屈折率に類似の屈折率を有する、各種ポリマーから製造することができる。第２ポリマーとして光学積層体に使用するのに好適な他のポリマーの例としては、ビニルナフタレン、スチレン、無水マレイン酸、アクリレート及びメタクリレートなどのモノマーから製造されたビニルポリマー及びコポリマーが挙げられる。かかるポリマーの例としては、ポリアクリレート、ポリ（メタクリル酸メチル）（ＰＭＭＡ）などのポリメタクリレート、及びアイソタクチック又はシンジオタクチックのポリスチレンが挙げられる。その他のポリマーとしては、ポリスルホン、ポリアミド、ポリウレタン、ポリアミック酸、及びポリイミドなどの縮合ポリマーが挙げられる。更に、第２ポリマーは、ポリエステル、ポリカーボネート、フルオロポリマー、及びポリジメチルシロキサンのホモポリマー及びコポリマー、並びにそれらの混合物から形成することができる。

【0067】

第２のポリマーとして使用される他の好適な例示的ポリマーとしては、ポリメチルメタクリレート（polymethylmethacrylate、ＰＭＭＡ）のホモポリマー、例えば、Ｉｎｅｏｓ Ａｃｒｙｌｉｃｓ，Ｉｎｃ．，Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ，ＤＥから商品名ＣＰ７１及びＣＰ８０として入手可能なもの、又は、ＰＭＭＡより低いガラス転移温度を有する、ポリエチルメタクリレート（polyethyl methacrylate、ＰＥＭＡ）が挙げられる。その他の第２ポリマーとしては、７５重量％メタクリル酸メチル（ＭＭＡ）モノマー及び２５重量％アクリル酸エチル（ＥＡ）モノマーから製造されるｃｏＰＭＭＡ（商品名Ｐｅｒｓｐｅｘ ＣＰ６３としてＩｎｅｏｓ Ａｃｒｙｌｉｃｓ，Ｉｎｃ．から入手可能）、ＭＭＡコモノマー単位及びメタクリル酸ｎ－ブチル（ｎＢＭＡ）コモノマー単位によって形成されたｃｏＰＭＭＡ、又はＰＭＭＡとポリ（フッ化ビニリデン）（ＰＶＤＦ）の混合物、などのＰＭＭＡのコポリマー（ｃｏＰＭＭＡ）が挙げられる。

【0068】

第２ポリマーとして有用な更に他の適切なポリマーとしては、ポリオレフィン（polyolefin）コポリマー、例えば、Ｄｕｐｏｎｔ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ ＥｌａｓｔｏｍｅｒｓからＥｎｇａｇｅ ８２００の商品名で入手可能なポリ（エチレン－ｃｏ－オクテン）（poly(ethylene-co-octene)、ＰＥ－ＰＯ）、Ｆｉｎａ Ｏｉｌ ａｎｄ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．，Ｄａｌｌａｓ，ＴＸからＺ９４７０の商品名で入手可能なポリ（プロピレン－ｃｏ－エチレン）（poly(propylene-co-ethylene)、ＰＰＰＥ）、及びアタクチックポリプロピレン（atactic polypropylene、ａＰＰ）とアイソタクチックポリプロピレン（isotatctic polypropylene、ｉＰＰ）とのコポリマーが挙げられる。多層光学積層体はまた、例えば、第２ポリマー層に、線形低密度ポリエチレン－ｇ－無水マレイン酸（ＬＬＤＰＥ－ｇ－ＭＡ）（Ｅ．Ｉ．ｄｕＰｏｎｔ ｄｅ Ｎｅｍｏｕｒｓ ＆ Ｃｏ．，Ｉｎｃ．（Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ，ＤＥ）からＢｙｎｅｌ ４１０５の商品名で入手可能なものなど）などの官能化ポリオレフィンを含むこともまたできる。

【0069】

一実施形態において、少なくとも１つの複屈折ポリマーとの交互層における第２のポリマーとして好適なポリマー組成物としては、ＰＭＭＡ、ｃｏＰＭＭＡ、ポリジメチルシロキサンオキサミド系セグメント化コポリマー（polydimethyl siloxane oxamide based segmented copolymer、ＳＰＯＸ）、ＰＶＤＦなどのホモポリマー並びにテトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン及びフッ化ビニリデン（vinylidene fluoride、ＴＨＶ）から誘導されたものなどのコポリマーを含むフルオロポリマー、ＰＶＤＦ／ＰＭＭＡのブレンド、アクリレートコポリマー、スチレン、スチレンコポリマー、シリコーンコポリマー、ポリカーボネート、ポリカーボネートコポリマー、ポリカーボネートブレンド、ポリカーボネートとスチレン無水マレイン酸とのブレンド、及び環状オレフィンコポリマーが挙げられる。

【0070】

多層光学積層体を生成するのに使用されるポリマー組成物の選択は、入射放射線の所定の帯域幅を反射させたいという要望によって左右され得る。複屈折ポリマーと第２ポリマーとの間の屈折率の差が大きいほど、より高い光学的パワー（optical power）を生成し、したがって、反射帯域幅を増加させることができる。あるいは、追加の層を用いて、より高い光学的パワーを提供することができる。複屈折層と第２のポリマー層との組み合わせの例としては、例えば、ＰＥＴ／ｃｏＰＭＭＡ、ＰＥＴ／ＴＨＶ、ＰＥＴ／ＳＰＯＸ、ＰＥＮ／ＴＨＶ、ＰＥＮ／ＳＰＯＸ、ＰＥＮ／ＰＭＭＡ、ＰＥＮ／ｃｏＰＭＭＡ、ｃｏＰＥＮ／ＰＭＭＡ、ｃｏＰＥＮ／ＳＰＯＸ、ｓＰＳ／ＳＰＯＸ、ｓＰＳ／ＴＨＶ、ＣｏＰＥＮ／ＴＨＶ、ＰＥＴ／フルオロエラストマー、ｓＰＳ／フルオロエラストマー、及びｃｏＰＥＮ／フルオロエラストマーが挙げられる。

【0071】

本開示の例示的な多層光学積層体は、例えば、「Ａｐｐａｒａｔｕｓ ｆｏｒ Ｍａｋｉｎｇ Ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｌｍｓ」と題する米国特許第６，７８３，３４９号、「Ｍｅｔｈｏｄ ｆｏｒ Ｍａｋｉｎｇ Ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｌｍｓ」と題する米国特許第６，８２７，８８６号、「Ｓｏｌａｒ Ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｉｎｇ Ｍｉｒｒｏｒ」と題する国際公開第２００９／１４０４９３号パンフレット、及び「Ｍｕｌｔｉ－ｌａｙｅｒ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｌｍｓ」と題する国際公開第２０１１／０６２８３６号パンフレットに開示されている装置及び方法を使用して調製されてもよく、上記文献の全ては、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。本開示の例示的な多層光学積層体に関して使用するのに好適な追加の層又はコーティングの例は、例えば、共に「Ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｆｉｌｍ ｗｉｔｈ Ａｄｄｉｔｉｏｎａｌ Ｃｏａｔｉｎｇｓ ｏｒ Ｌａｙｅｒｓ」と題する米国特許第６，３６８，６９９号及び同第６，４５９，５１４号に記載され、その双方の全体が参照により本明細書に組み込まれる。

【0072】

いくつかの実施形態では、多層光学積層体は、高反射率（＞９０％）のスペクトル領域、及び高透過率（＞９０％）の他のスペクトル領域を有することができる。いくつかの実施形態において、多層光学積層体は、太陽スペクトルの一部にわたって高い光透過率並びに低いヘイズ及び黄変、運搬及び洗浄中の良好な耐候性、良好な摩耗、掻き傷及び亀裂耐性、並びに他の層、例えば小型電子表示装置及び／又は太陽エネルギー用途で基材として使用される場合のフィルムの一方又は両方の主表面に適用される他の（コ）ポリマー層、金属酸化物層及び金属層などへの良好な接着性を実現する。

【0073】

いくつかの実施形態において、多層光学積層体をフィルム構造体に含める工程は、インラインプロセスとして導入することができる。

【0074】

当該技術分野において既知であるように、多層光学フィルムを製造する１つの方法は、多層積層体を二軸延伸することである。特定の実施形態において、高効率反射フィルムの場合、可視スペクトル（３８０～７５０ｎｍ）にわたる垂直入射における各延伸方向に沿った平均透過率は、１０パーセント未満（９０パーセント超の反射率）、又は５パーセント未満（９５パーセント超の反射率）、又は２パーセント未満（９８パーセント超の反射率）である。一実施形態において、可視スペクトル（３８０～７５０ｎｍ）にわたる垂直入射における各延伸方向に沿った平均透過率は、１パーセント未満（９９パーセント超の反射率）である。

【0075】

他の実施形態において、波長領域３８０～１５００ｎｍにわたる垂直入射における各伸張方向に沿った平均透過率は、１０パーセント未満（９０パーセント超の反射率）、又は５パーセント未満（９５パーセント超の反射率）、又は２パーセント未満（９８パーセント超の反射率）、又は１パーセント未満（９９パーセント超の反射率）である。

【0076】

他の実施形態において、３８０～７５０ｎｍでの法線から６０度での平均透過率は、２０パーセント未満（８０パーセント超の反射率）、１０パーセント未満（９０パーセント超の反射率）、５パーセント未満（９５パーセント超の反射率）、２パーセント未満（９８パーセント超の反射率）、又は１パーセント未満（９９パーセント超の反射率）である。

【0077】

特定の実施形態では、本開示のフィルムは、基材に隣接する（又は直接隣接する）感圧接着剤などの接着剤を更に含む。他の実施形態では、基材に隣接する（又は直接隣接する）接着剤を含むフィルムは、好適なライナーを更に含む。

【0078】

第１の放射線硬化アクリレート層
第１の放射線硬化アクリレート層は、１種以上のアクリレートポリマーのブレンドを含む。本明細書で使用される場合、アクリレートポリマーは、アクリレート、メタクリレート、及びそれらのコポリマーを含む。本明細書で使用するとき、アクリレートポリマーはまた、単独で又は他の多官能性若しくは単官能性（メタ）アクリレートと組み合わせて使用することができる、アクリレート、メタクリレート、及びそれらのコポリマーの官能化化合物も含む。好適なアクリレートポリマーの例としては、ホモポリマー又はコポリマーのいずれかとしての、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、例えばポリ（メチルメタクリレート）（ＰＭＭＡ）も挙げられる。

【0079】

官能化アクリレートモノマーの例としては、フェニルチオエチルアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、エトキシエチルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、シアノエチル（モノ）アクリレート、イソボルニルアクリレート、イソボルニルメタクリレート、オクタデシルアクリレート、イソデシルアクリレート、ラウリルアクリレート、カルボキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ジニトリルアクリレート、ペンタフルオロフェニルアクリレート、ニトロフェニルアクリレート、２－フェノキシエチルアクリレート、２－フェノキシエチルメタクリレート、２，２，２－トリフルオロメチル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、プロポキシル化ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ビスフェノールＡエポキシジアクリレート、１，６－ヘキサンジオールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシル化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロピル化トリメチロールプロパントリアクリレート、２－ビフェニルアクリレート、トリス（２－ヒドロキシエチル）－イソシアヌレートトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、フェニルチオエチルアクリレート、ナフチルエチルアクリレート、ＥＢＥＣＲＹＬ １３０環状ジアクリレート（Ｃｙｔｅｃ Ｓｕｒｆａｃｅ Ｓｐｅｃｉａｌｔｉｅｓ，Ｗｅｓｔ Ｐａｔｅｒｓｏｎ，Ｎ．Ｊ．から入手可能）、エポキシアクリレートＲＤＸ８００９５（Ｒａｄ－Ｃｕｒｅ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ，Ｆａｉｒｆｉｅｌｄ，Ｎ．Ｊ．から入手可能）、ＣＮ１２０Ｅ５０及びＣＮ１２０Ｃ６０（両方ともＳａｒｔｏｍｅｒ，Ｅｘｔｏｎ，Ｐａ．から入手可能）、並びにこれらの混合物が挙げられる。

【0080】

特定の実施形態において、アクリレートポリマーは、トリシクロデカンジメタノールジアクリレートと、Ａｒｋｅｍａ，Ｉｎｃ．のＣＮ１４７、ＳＲ８３３、又はＳＲ ９０５１などの酸性アクリルオリゴマーを含むブレンドを含む。他の実施形態において、第１の放射線硬化アクリレート層は、酸変性エポキシアクリレート、例えば、Ｄａｉｃｅｌ ＡｌｌｎｅｘのＫＲＭ ８７６２などの酸官能性モノマーを更に含む。更に他の実施形態において、第１の放射線硬化性アクリレートは、基材への接着を改善するための添加剤を更に含む。そのような一例は、商品名Ｄｙｎａｓｉｌａｎで入手可能な官能性シラン化合物の使用である。

【0081】

いくつかの実施形態において、第１の放射線硬化アクリレート層は、基材上でｉｎ ｓｉｔｕ架橋される。特定の実施形態において、第１の放射線硬化アクリレート層は、アクリレートモノマー又はアクリレートモノマーの混合物のフラッシュ蒸発又は堆積を行い、続いて化学線を介して硬化又は架橋を行うことによって形成することができる。いくつかの実施形態において、第１の放射線硬化アクリレート層は、ロールコーティング（例えばグラビアロールコーティング）、ダイコーティング又はスプレーコーティング（例えば、静電スプレーコーティング）などの他の従来のコーティング方法を使用して適用し、前述の方法を使用して硬化させることができる。

【0082】

いくつかの実施形態において、フィルムは、第１の放射線硬化アクリレート層と第１のケイ素化合物含有層との間に、第１の放射線硬化アクリレート層に直接隣接している１つ以上の追加の放射線硬化アクリレート層を更に含み、１つ以上の追加の放射線硬化アクリレート層のそれぞれは、１．４５～１．６０の屈折率を有する。

【0083】

いくつかの実施形態において、第１の放射線硬化アクリレート層は、フラッシュ蒸発され、基材上で凝縮される。特定の実施形態では、第１の放射線硬化アクリレート層は、５００ｎｍ～３０００ｎｍの厚さを有する。いくつかの実施形態において、厚さは、５００ｎｍ～２０００ｎｍ、又は５００ｎｍ～１５００ｎｍ、又は８００ｎｍ～１４００ｎｍ、又は９００ｎｍ～１２００ｎｍ、又は９００ｎｍ～１１００ｎｍ、又は９００ｎｍ～１０００ｎｍ、又は１０００ｎｍ～１，５００ｎｍ、又は１１００ｎｍ～１４００ｎｍ、又は１２００ｎｍ～１４００ｎｍ、又は約１３００ｎｍ、又は約１１００ｎｍ、又は約１０００ｎｍである。

【0084】

いくつかの実施形態では、第１の放射線硬化アクリレート層は、基材に隣接している。他の実施形態では、第１の放射線硬化アクリレート層は、基材に直接隣接している。特定の実施形態において、第１の放射線硬化アクリレート層は、基材に隣接していることに加えて、第１のケイ素化合物含有層にも隣接している。他の実施形態において、第１の放射線硬化アクリレート層は、基材に直接隣接していることに加えて、第１のケイ素化合物含有層にも直接隣接している。すなわち、特定の好ましい実施形態において、第１の放射線硬化アクリレート層は、基材と第１のケイ素化合物含有層との間にある（これらの層のそれぞれに隣接しているか、又はそれらの層に直接隣接している）。

【0085】

前述したように、放射線硬化層は、例えば、化学線、電子線、及びプラズマ放射線を含む、任意の種類の電磁放射線の使用によって、硬化が促進される層を指す。特定の実施形態では、放射線硬化層は、電子線放射又は紫外線への曝露によって硬化される。

【0086】

灰色金属層
灰色金属層は任意のものであり、フィルム内の任意の場所に配置することができる。特定の実施形態において、灰色金属層は、第１の放射線硬化アクリレート層と、第１のケイ素化合物含有層との間に位置し、好ましくはそれらの層の両方に直接隣接している。他の実施形態において、灰色金属層は、第１のケイ素化合物含有層と、第１の金属、合金、金属酸化物、又は金属窒化物含有層との間に位置し、好ましくは、それらの層の両方に直接隣接している。

【0087】

灰色金属は、典型的に真空蒸着され、灰色金属としては、当該技術分野において既知の金属のうち、ステンレス鋼、ニッケル、インコネル、モネル、クロム、及びニクロム合金が挙げられる。蒸着させた灰色金属層は、典型的に、太陽スペクトルの可視光部分及び赤外部分で、ほぼ同程度の透過率をもたらす。その結果、一般に、灰色金属層の使用によって、染色層を使用したフィルムよりも太陽光制御に関して改善が得られる。灰色金属フィルムは、光、酸素、又は水分に曝露されても比較的安定しており、酸化によってコーティングの透過率が上昇するケースでも、一般に変色は検出されない。透明なガラスに適用されると、ほとんどの灰色金属は、太陽スペクトルの可視光及び近赤外部分の両方においてほぼ等しい量で光透過を遮断する。

【0088】

第１のケイ素化合物含有層
本明細書で使用するとき、第１のケイ素化合物含有層は、減圧プロセス（１ａｔｍ未満）下で堆積されたケイ素を含む層を指し、単にシリカナノ粒子の一部としてケイ素を含む層を指すものではない。特定の実施形態において、この層内のケイ素化合物は、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される。

【0089】

いくつかの実施形態において、この層内のケイ素化合物は、酸窒化ケイ素アルミニウムである。他の実施形態において、ケイ素化合物が酸窒化ケイ素アルミニウムである場合、酸窒化ケイ素中の酸と窒素との比は、０．１～１．２、又は０．８～１．２、又は０．９～１．２、又は０．９～１．１、又は０．３～０．５、又は０．４である。他の実施形態において、第１のケイ素化合物含有層が酸化ケイ素を含む場合、ケイ素対酸素の比は、０．４～１．０、又は０．４～０．８、又は０．５である。本段落中の比は、実施例の項に記載されているように、Ｘ線光電子分光法（x-ray photoelectron spectroscopy、ＸＰＳ、化学分析用電子分光（electron spectroscopy for chemical analysis、ＥＳＣＡ）としても知られている）によって決定した。

【0090】

他の実施形態において、第１のケイ素化合物含有層内のケイ素化合物は、酸化ケイ素アルミニウムである。他の実施形態において、第１のケイ素化合物含有層が、酸化ケイ素アルミニウムを含む場合、ケイ素対アルミニウムの比は８超、又は８～１０、又は９である。いくつかの実施形態において、第１のケイ素化合物含有層中のケイ素化合物が酸化ケイ素アルミニウムである場合、第１のケイ素化合物含有層は、５原子量％以下のアルミニウムを含む。

【0091】

いくつかの実施形態では、第１のケイ素化合物含有層は、第１の放射線硬化アクリレート層上に堆積される。第１のケイ素化合物含有層の堆積は、無機酸化物を堆積させるために当該技術分野において既知の任意の手段によって行うことができる。例えば、いくつかの実施形態において、堆積は、好適なガス雰囲気下でのスパッタリング（例えば、平面又は回転カソードのいずれかからの反応性スパッタリング）、蒸発（例えば、熱、抵抗、又は電子ビーム蒸発）、各種化学気相堆積、イオン補助電子ビーム蒸発、及びこれらの変法によって生じる。

【0092】

特定の実施形態において、ケイ素は、好適な雰囲気下で、ケイ素標的（又は他の実施形態では、ケイ素アルミニウム標的）を使用してスパッタ堆積される。一実施形態において、９０％ケイ素及び１０％アルミニウムからなる標的が使用される。いくつかの実施形態では、酸素雰囲気又は窒素雰囲気が使用されるが、他の実施形態では、酸素と窒素との混合物が使用される。

【0093】

他の実施形態において、第１のケイ素化合物含有層は、３ｎｍ～２０ｎｍ、又は５ｎｍ～２０ｎｍ、又は５ｎｍ～１５ｎｍ、又は５ｎｍ～１０ｎｍ、又は５ｎｍ～９ｎｍ、又は１０ｎｍ～３０ｎｍ、又は２０ｎｍ～３０ｎｍ、又は２５ｎｍの厚さを有する。

【0094】

他の実施形態において、第１のケイ素化合物含有層は、第１の放射線硬化アクリレート層に隣接していてよい（いくつかの実施形態では、直接隣接していてよい）。他の実施形態において、第１のケイ素化合物含有層は、第１の金属、合金、金属酸化物、又は金属窒化物含有層（例えば、第１の酸化亜鉛スズ層）と、第１の放射線硬化アクリレート層との間にある（これらの層のそれぞれに隣接しているか、又はそれらの層に直接隣接している）。

【0095】

第１の金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層
第１の金属（合金を含む）、金属酸化物、又は金属窒化物含有層は、一般に、金属層のための基材層又は「シード」層である。この層は、以下の構成要素、金属（合金を含む）、金属酸化物、又は金属窒化物のうちの１つを含んでもよい。本明細書では、これらの構成要素のいずれかの組み合わせが想定されるが、この層は、１種類の構成要素（金属（若しくは金属合金）、金属酸化物、又は金属窒化物のいずれか）を含むことが好ましい。金属又は金属合金は、クロム、ニッケル、銅、クロム及びニッケルを含む合金、又はこれらの組み合わせから選択されてもよい。金属酸化物は、酸化アルミニウム亜鉛、酸化スズ、酸化亜鉛、及び酸化亜鉛スズから選択されてよい。特定の好ましい実施形態において、金属酸化物は、酸化亜鉛スズである。

【0096】

この層における金属（若しくは合金）、金属酸化物、又は金属窒化物の堆積は、必要に応じた好適なガス雰囲気（窒素、酸素、又はこれらの組み合わせ）下で好適な金属標的を有する各種堆積技術、例えば、スパッタリング（例えば、反応性スパッタリング、例えば、平板又は回転マグネトロンスパッタリング）、蒸発（例えば、熱、抵抗、又は電子ビーム蒸発）、各種化学気相堆積、イオン補助電子ビーム蒸発、及びこれらの変法を使用することによって、達成され得る。金属酸化物層はまた、スパッタリングプロセスにおいて酸化物標的を使用して堆積されてもよい。堆積層の酸素含有量は、標的の酸素含有量とは異なっていてよい。

【0097】

いくつかの実施形態において、第１の金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層は、第１の放射線硬化アクリレート層に隣接している。他の実施形態において、第１の金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層は、第１の放射線硬化アクリレート層に直接隣接している。

【0098】

典型的に、堆積プロセスは、必要に応じて好適な層厚を得るのに十分な持続時間にわたって継続する。第１の金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層の厚さは、３ｎｍ～９ｎｍである。特定の実施形態において、厚さは、３ｎｍ～８ｎｍ、又は３ｎｍ～７ｎｍ、又は３ｎｍ～６ｎｍ、又は３ｎｍ～５ｎｍ、又は３ｎｍ～４ｎｍ、又は４ｎｍ～９ｎｍ、４ｎｍ～８ｎｍ、又は４ｎｍ～７ｎｍ、又は４ｎｍ～６ｎｍであり、又は４ｎｍ～５ｎｍ、又は５ｎｍ～９ｎｍ、５ｎｍ～８ｎｍ、又は５ｎｍ～７ｎｍ、又は５ｎｍ～６ｎｍ、又は６ｎｍ～９ｎｍ、６ｎｍ～８ｎｍ、又は６ｎｍ～７ｎｍ、又は７ｎｍ～９ｎｍ、７ｎｍ～８ｎｍ、又は８ｎｍ～９ｎｍである。

【0099】

他の実施形態において、第１の金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層の厚さは、約３ｎｍ、又は約４ｎｍ、又は約５ｎｍ、又は約６ｎｍ、又は約７ｎｍ、又は約８ｎｍ、又は約９ｎｍである。特定の好ましい実施形態において、第１の金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層の厚さは、５ｎｍ～７ｎｍである。

【0100】

理論に束縛されるものではないが、本発明者らは、本明細書に開示されている低放射率構造体において、第１の金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層の厚さは、金属層を取り囲む典型的な誘電体層に通常関連する厚さと比べて著しく小さいことを発見した。

【0101】

第１の金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層（好ましい実施形態では、第１の酸化亜鉛スズ含有層である）は、第１のケイ素化合物含有層に隣接していることに加えて、金属層にも隣接している。他の実施形態において、第１の金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層（好ましい実施形態では、酸化亜鉛スズを含む層である）は、第１のケイ素化合物含有層に直接隣接していることに加えて、金属層にも直接隣接している。すなわち、特定の好ましい実施形態において、第１の金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層（好ましい実施形態では、第１の酸化亜鉛スズ含有層である）は、金属層と第１のケイ素化合物含有層との間にある（これらの層のそれぞれに隣接しているか、又はそれらの層に直接隣接している）。

【0102】

金属層
いくつかの実施形態において、金属層は、銀、金、銅、ニッケル、鉄、コバルト、亜鉛、並びに金、銅、ニッケル、鉄、コバルト、及び亜鉛から選択される１種以上の合金から選択される１種以上の金属成分を含む。他の実施形態において、金属層は、８０％以上の銀、例えば、８５％の銀を含む銀合金などの、銀合金を含む。特定の好ましい実施形態では、金属層は銀－金合金を含む。

【0103】

金属層は、第１の金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層について上述したものと同じ技術を使用して堆積させることができる。いくつかの実施形態では、金属層は、物理蒸着（ＰＶＤ）技術を使用して堆積される。典型的には、ＰＶＤ技術では、標的の原子は、高エネルギー粒子衝撃によって放出され、それらは好適な基材（第１の金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層など）に衝突して薄膜を形成することができるようになる。スパッタリング堆積に使用される高エネルギー粒子は、グロー放電、又は、例えば電磁場をアルゴンガスに適用することによって発生する自続プラズマによって生成される。

【0104】

他の実施形態において、金属層は、約８５％の銀及び１５％の金を有する合金標的を伴うマグネトロンスパッタリングプロセスを使用して、第２の窒化ジルコニウム含有層上に堆積される。

【0105】

いくつかの実施形態において、金属層の厚さは、３０ｎｍ未満、又は２０ｎｍ未満、又は１５ｎｍ未満、又は１４ｎｍ未満、又は１３ｎｍ未満、又は１２ｎｍ未満、又は１１ｎｍ未満、又は１０ｎｍ未満、又は９ｎｍ未満、又は８ｎｍ未満、又は７ｎｍ未満であり、その厚さは基材層の効力に依存し得る。他の実施形態において、第１の窒化ジルコニウム含有層の厚さは、１～３０ｎｍ、又は５～２５ｎｍ、又は５～２０ｎｍ、又は５～１５ｎｍ、又は５～１４ｎｍ、又は５～１３ｎｍ、又は５～１２ｎｍ、又は５～１１ｎｍ、又は５～１０ｎｍ、又は８～１５ｎｍ、又は８～１４ｎｍ、又は１０ｎｍ～１２ｎｍである。

【0106】

いくつかの実施形態において、金属層は、第１の金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層（好ましい実施形態において、第１の酸化亜鉛スズ含有層である）に隣接している。

【0107】

特定の実施形態において、金属層は、第１の金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層（好ましい実施形態において、第１の酸化亜鉛スズ含有層である）に隣接していることに加えて、第２の金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層（好ましい実施形態では、第２の酸化亜鉛スズ含有層である）にも隣接している。他の実施形態において、金属層（好ましい実施形態では、第１の酸化亜鉛スズ含有層である）は、第１の金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層に直接隣接していることに加えて、第２の金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層（好ましい実施形態では、第２の酸化亜鉛スズ含有層である）にも直接隣接している。すなわち、特定の好ましい実施形態において、金属層は、第１の金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層（好ましい実施形態では、第１の酸化亜鉛スズ含有層である）と、第２の金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層（好ましい実施形態では、第２の酸化亜鉛スズ含有層である）との間にある（これらの層のそれぞれに隣接しているか、又はそれらの層に直接隣接している）。

【0108】

第２の金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層
第２の金属（合金を含む）、金属酸化物、又は金属窒化物含有層は、一般に、第１の金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層と同様の構成要素及び特性を有する。好ましい実施形態では、この層は、第２の酸化亜鉛スズ含有層である。ただし、第２の金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層の構成要素は、第１の金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層において使用されるものと同じ種類の構成要素から選択されてもよく、第１及び第２の金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層の構成要素及び厚さは、互いに独立して選択される。

【0109】

この層は、以下の構成要素、金属（合金を含む）、金属酸化物、又は金属窒化物のうちの１つを含んでよい。本明細書では、これらの構成要素のいずれかの組み合わせが想定されるが、この層は、１種類の構成要素（金属（若しくは金属合金）、金属酸化物、又は金属窒化物のいずれか）を含むことが好ましい。金属又は金属合金は、クロム、ニッケル、銅、クロム及びニッケルを含む合金、又はこれらの組み合わせから選択されてもよい。金属酸化物は、酸化アルミニウム亜鉛、酸化スズ、酸化亜鉛、及び酸化亜鉛スズから選択されてよい。特定の実施形態において、金属酸化物は、酸化亜鉛スズである。金属窒化物は窒化ジルコニウムであり、窒化ジルコニウムは酸素を更に含み、酸窒化ジルコニウムを形成してよい。好ましい実施形態において、この層は金属酸化物を含み、金属酸化物は酸化亜鉛スズである。

【0110】

この層における金属（若しくは合金）、金属酸化物、又は金属窒化物の堆積は、必要に応じた好適なガス雰囲気（窒素、酸素、又はこれらの組み合わせ）下で好適な金属標的を有する各種堆積技術、例えば、スパッタリング（例えば、反応性スパッタリング、例えば、平板又は回転マグネトロンスパッタリング）、蒸発（例えば、熱、抵抗、又は電子ビーム蒸発）、各種化学気相堆積、イオン補助電子ビーム蒸発、及びこれらの変法を使用することによって、達成され得る。

【0111】

いくつかの実施形態において、第２の金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層は、金属層に隣接しており、好ましくは金属層に直接隣接している。他の実施形態において、第２の金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層は、金属層上に堆積され、このことは金属層に直接隣接していることを意味する。

【0112】

典型的に、堆積プロセスは、必要に応じて好適な層厚を得るのに十分な持続時間にわたって継続する。第２の金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層の厚さは、３ｎｍ～９ｎｍである。特定の実施形態において、厚さは、３ｎｍ～８ｎｍ、又は３ｎｍ～７ｎｍ、又は３ｎｍ～６ｎｍ、又は３ｎｍ～５ｎｍ、又は３ｎｍ～４ｎｍ、又は４ｎｍ～９ｎｍ、４ｎｍ～８ｎｍ、又は４ｎｍ～７ｎｍ、又は４ｎｍ～６ｎｍであり、又は４ｎｍ～５ｎｍ、又は５ｎｍ～９ｎｍ、５ｎｍ～８ｎｍ、又は５ｎｍ～７ｎｍ、又は５ｎｍ～６ｎｍ、又は６ｎｍ～９ｎｍ、６ｎｍ～８ｎｍ、又は６ｎｍ～７ｎｍ、又は７ｎｍ～９ｎｍ、７ｎｍ～８ｎｍ、又は８ｎｍ～９ｎｍである。

【0113】

他の実施形態において、第２の金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層の厚さは、約３ｎｍ、又は約４ｎｍ、又は約５ｎｍ、又は約６ｎｍ、又は約７ｎｍ、又は約８ｎｍ、又は約９ｎｍである。特定の好ましい実施形態において、第２の金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層の厚さは、５ｎｍ～７ｎｍである。

【0114】

理論に束縛されるものではないが、本発明者らは、本明細書に開示されている構築物において、第２の（及び第１の）金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層（好ましくはそれぞれ酸化亜鉛スズ層である）の厚さは、金属層を取り囲む典型的な誘電体層に通常関連する厚さと比べて著しく小さいことを発見した。

【0115】

特定の実施形態において、第１の金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層は、酸化亜鉛スズなどの金属酸化物を含み、第２の金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層は、酸化亜鉛スズなどの金属酸化物を含む。

【0116】

第２の金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層（好ましい実施形態では、第２の酸化亜鉛スズ含有層である）は、金属層に隣接していることに加えて、第２のケイ素化合物含有層にも隣接している。他の実施形態において、第２の金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層（好ましい実施形態では、第２の酸化亜鉛スズ含有層である）は、金属層に直接隣接していることに加えて、第２のケイ素化合物含有層にも直接隣接している。すなわち、特定の好ましい実施形態において、第２の金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層（好ましい実施形態では、第２の酸化亜鉛スズ含有層である）は、金属層と第２のケイ素化合物含有層との間にある（これらの層のそれぞれに隣接しているか、又はそれらの層に直接隣接している）。

【0117】

第２のケイ素化合物含有層
本明細書で使用するとき、第２のケイ素化合物含有層は、減圧プロセス（１ａｔｍ未満）下で堆積されたケイ素を含む層を指し、単にシリカナノ粒子の一部としてケイ素を含む層を指すものではない。特定の実施形態において、この層内のケイ素化合物は、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される。

【0118】

いくつかの好ましい実施形態において、この層内のケイ素化合物は、酸窒化ケイ素アルミニウムである。他の実施形態において、ケイ素化合物が酸窒化ケイ素である場合、酸窒化ケイ素アルミニウム中の酸と窒素との比は、０．１～１．２、又は０８～１．２、又は０．９～１．２、又は０．９～１．１、又は０．３～０．５、又は０．４である。

【0119】

他の実施形態において、第２のケイ素化合物含有層が、酸化ケイ素アルミニウムを含む場合、ケイ素とアルミニウムとの比は８超、又は８～１０、又は９である。

【0120】

いくつかの実施形態において、第２のケイ素化合物含有層は、第２の金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層（好ましい実施形態では、第２の酸化亜鉛スズ含有層である）上に堆積される。ケイ素化合物含有層の堆積は、無機酸化物を堆積させるために当該技術分野において既知の任意の手段によって行うことができる。例えば、いくつかの実施形態において、堆積は、好適なガス雰囲気下での、スパッタリング（例えば、反応性スパッタリング、例えば、平板又は回転マグネトロンスパッタリング）、蒸発（例えば、熱、抵抗、又は電子ビーム蒸発）、各種化学気相堆積、イオン補助電子ビーム蒸発、及びこれらの変法によって生じる。

【0121】

特定の実施形態において、ケイ素は、好適な雰囲気下で、ケイ素標的（又は他の実施形態では、ケイ素アルミニウム標的）を使用してスパッタ堆積される。一実施形態において、９０％ケイ素及び１０％アルミニウムからなる標的が使用される。いくつかの実施形態では、酸素雰囲気又は窒素雰囲気が使用されるが、他の実施形態では、酸素と窒素との混合物が使用される。

【0122】

他の実施形態において、第２のケイ素化合物含有層は、３ｎｍ～２０ｎｍ、又は３ｎｍ～１５ｎｍ、又は３ｎｍ～１２ｎｍ、又は４ｎｍ～１０ｎｍ、又は４ｎｍ～９ｎｍ、又は４ｎｍ～８ｎｍ、又は５ｎｍ～７ｎｍ、又は約４ｎｍ、約５ｎｍ、約６ｎｍ、約７ｎｍの厚さを有する。特定の好ましい実施形態において、第２のケイ素化合物含有層は、４ｎｍ～８ｎｍ、又は５ｎｍ～７ｎｍ、又は約６ｎｍの厚さを有する。

【0123】

特定の好ましい実施形態において、第２のケイ素化合物含有層は、第２の金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層（好ましい実施形態では、第２の酸化亜鉛スズ含有層である）に隣接していてよい（好ましい実施形態では、直接隣接していてよい）。他の実施形態において、第２のケイ素化合物含有層は、第２の放射線硬化アクリレート層と、第２の金属、合金、金属酸化物、又は金属窒化物含有層（好ましい実施形態では、第２の酸化亜鉛スズ含有層）との間にある（これらの層のそれぞれに隣接しているか、又はそれらの層に直接隣接している）。

【0124】

第２の放射線硬化アクリレート層
特定の好ましい実施形態において、第２の放射線硬化アクリレート層は、１種以上のアクリレートポリマーのブレンドを含む。上記のとおり、アクリレートポリマーは、アクリレート、メタクリレート、及びそれらのコポリマーを含む。アクリレートポリマーはまた、単独で又は他の多官能性若しくは単官能性（メタ）アクリレートと組み合わせて使用することができる、アクリレート、メタクリレート、及びそれらのコポリマーの官能化化合物も含む。好適なアクリレートポリマーの例としては、ホモポリマー又はコポリマーのいずれかとしての、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、例えばポリ（メチルメタクリレート）（ＰＭＭＡ）も挙げられる。

【0125】

官能化アクリレートモノマーの例としては、フェニルチオエチルアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、エトキシエチルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、シアノエチル（モノ）アクリレート、イソボルニルアクリレート、イソボルニルメタクリレート、オクタデシルアクリレート、イソデシルアクリレート、ラウリルアクリレート、カルボキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ジニトリルアクリレート、ペンタフルオロフェニルアクリレート、ニトロフェニルアクリレート、２－フェノキシエチルアクリレート、２－フェノキシエチルメタクリレート、２，２，２－トリフルオロメチル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、プロポキシル化ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ビスフェノールＡエポキシジアクリレート、１，６－ヘキサンジオールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシル化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロピル化トリメチロールプロパントリアクリレート、２－ビフェニルアクリレート、トリス（２－ヒドロキシエチル）－イソシアヌレートトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、フェニルチオエチルアクリレート、ナフチルエチルアクリレート、ＥＢＥＣＲＹＬ １３０環状ジアクリレート（Ｃｙｔｅｃ Ｓｕｒｆａｃｅ Ｓｐｅｃｉａｌｔｉｅｓ，Ｗｅｓｔ Ｐａｔｅｒｓｏｎ，Ｎ．Ｊ．から入手可能）、エポキシアクリレートＲＤＸ８００９５（Ｒａｄ－Ｃｕｒｅ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ，Ｆａｉｒｆｉｅｌｄ，Ｎ．Ｊ．から入手可能）、ＣＮ１２０Ｅ５０及びＣＮ１２０Ｃ６０（両方ともＳａｒｔｏｍｅｒ，Ｅｘｔｏｎ，Ｐａ．から入手可能）、並びにこれらの混合物が挙げられる。

【0126】

特定の実施形態において、アクリレートポリマーは、トリシクロデカンジメタノールジアクリレートと、Ａｒｋｅｍａ，Ｉｎｃ．のＣＮ１４７、ＳＲ８３３、又はＳＲ ９０５１などの酸性アクリルオリゴマーを含むブレンドを含む。他の実施形態において、第２の放射線硬化アクリレート層は、例えば、Ｄａｉｃｅｌ ＡｌｌｎｅｘのＫＲＭ ８７６２，などの酸変性エポキシアクリレートなどの酸官能性モノマーを更に含む。

【0127】

いくつかの実施形態において、第２の放射線硬化アクリレート層は、以前に堆積された層（第２の金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層など）の上でｉｎ ｓｉｔｕ架橋される。第１の放射線硬化アクリレート層と同様に、第２の放射線硬化アクリレート層は、フラッシュ蒸発又は堆積を行い、続いて架橋を行うことによって形成することができる。いくつかの実施形態において、第２の放射線硬化アクリレート層は、ロールコーティング（例えば、グラビアロールコーティング）又はスプレーコーティング（例えば、静電スプレーコーティング）などの、他の従来的なコーティング方法を使用して適用することができる。

【0128】

いくつかの実施形態において、フィルムは、第２の放射線硬化アクリレート層と第２のケイ素化合物含有層との間に、第２の放射線硬化アクリレート層に直接隣接している１つ以上の付加放射線硬化アクリレート層を更に含み、１つ以上の追加の放射線硬化アクリレート層のそれぞれは、１．４５～１．６の屈折率を有する。

【0129】

いくつかの実施形態において、第２の放射線硬化アクリレート層は、フラッシュ蒸発され、基材上で凝縮される。特定の実施形態において、第２の放射線硬化アクリレート層は、２０ｎｍ～１２０ｎｍの厚さを有する。他の実施形態において、厚さは、４０ｎｍ～１００ｎｍ、又は４０ｎｍ～９０ｎｍ、又は５０ｎｍ～９０ｎｍ、又は６０ｎｍ～９０ｎｍ、又は７０ｎｍ～９０ｎｍ、又は７５ｎｍ～８５ｎｍ、又は約８０ｎｍである。特定の好ましい実施形態において、第２の放射線硬化アクリレート層の厚さは、７０ｎｍ～９０ｎｍである。

【0130】

特定の実施形態において、第２の放射線硬化層は、電子線放射又は紫外線への曝露によって硬化される。

【0131】

他の実施形態において、第２の放射線硬化アクリレート層は、第２のケイ素化合物含有層上に堆積され、フィルムの最外層となる。いくつかの実施形態において、第２の放射線硬化アクリレート層は、第２のケイ素化合物含有層に隣接している（又は直接隣接している）。

【0132】

フルオロポリマー
任意の好適なアクリレートポリマーに加えて、第２の放射線硬化アクリレート層はまた、フルオロポリマーを含むこともできる。特定の実施形態において、第２の放射線硬化アクリレート層に使用されるフルオロポリマーは、押出し可能な材料である。いくつかの実施形態では、フルオロポリマーは、部分フッ化ポリマーであってもよい。例えば、フルオロポリマーは、フッ化ポリビニリデン（polyvinylidene fluoride、ＰＶＤＦ）、テトラフルオロエチレンとヘキサフルオロプロピレンとフッ化ビニリデン（vinylidene fluoride、ＴＨＶ）のターポリマー、及び他の溶融加工性フッ素樹脂の場合のように、溶融加工性であってもよく、又は、ＴＦＥと低レベルのフッ素化ビニルエーテルとフルオロエラストマーとのコポリマーなどの、変性ＰＴＦＥコポリマーの場合のように、非溶融加工性であってもよい。フルオロエラストマーは、射出若しくは圧縮成形、又は通常の熱可塑性樹脂に関連する他の方法によって硬化する前に加工してもよい。フルオロエラストマーは、硬化又は架橋の後に更に加工することができない場合がある。フルオロエラストマーはまた、それらの未架橋形態で溶媒からコーティングされてもよい。一実施形態では、アクリルポリマーと混合されたフルオロポリマーはＰＶＤＦである。

【0133】

他の実施形態において、フルオロポリマーは、ＶＤＦ及びフルオロエチレンから誘導される共重合化単位を含むフッ素樹脂であり、他のフッ素含有モノマー、非フッ素含有モノマー、又はこれらの組み合わせから誘導される共重合化単位を更に含んでよい。好適なフッ素含有モノマーの例としては、テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）、ヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）、クロロトリフルオロエチレン（ＣＴＦＥ）、３－クロロペンタフルオロプロペン、ペルフルオロ化ビニルエーテル（例えばＣＦ_３ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ＝ＣＦ_２などのペルフルオロアルコキシビニルエーテル、及びＣＦ_３ＯＣＦ＝ＣＦ_２及びＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ＝ＣＦ_２などのペルフルオロアルキルビニルエーテル）、フッ化ビニル、及びペルフルオロジアリルエーテル及びペルフルオロ－１，３－ブタジエンなどの含フッ素ジオレフィンが挙げられる。好適な非フッ素含有モノマーの例には、エチレン、プロピレン、その他、などのオレフィンモノマーが挙げられる。

【0134】

ＶＤＦ含有フッ素樹脂は、例えば、Ｓｕｌｚｂａｃｈら、米国特許第４，３３８，２３７号又はＧｒｏｏｔａｅｒｔ、米国特許第５，２８５，００２号に記載されている乳化重合技術を使用して調製することができ、ＶＤＦ含有フッ素樹脂の開示内容及びＶＤＦ含有フッ素樹脂の調製方法の開示内容に対する参照により本明細書に組み込まれる。有用な市販のＶＤＦ含有フッ素樹脂には、例えばＴＨＶ（商標）２００、ＴＨＶ（商標）４００、ＴＨＶ（商標）５０００、ＴＨＶ（商標）６１０Ｘフルオロポリマー（Ｄｙｎｅｏｎ ＬＬＣ（Ｓｔ．Ｐａｕｌ，ＭＮ）から入手可能）、ＫＹＮＡＲ（商標）７４０フルオロポリマー（Ａｔｏｃｈｅｍ Ｎｏｒｔｈ Ａｍｅｒｉｃａ（Ｐｈｉｌａｄｅｌｐｈｉａ，ＰＡ）から入手可能）、ＨＹＬＡＲ（商標）７００（Ａｕｓｉｍｏｎｔ ＵＳＡ Ｉｎｃ．（Ｍｏｒｒｉｓｔｏｗｎ，ＮＪ）から入手可能）、及びＦＬＵＯＲＥＬ（商標）ＦＣ－２１７８（Ｄｙｎｅｏｎ ＬＬＣから入手可能）が挙げられる。

【0135】

フルオロポリマーの他の例としては、ＴＨＥ（ＣＦ_２＝ＣＦ_２／ＣＦ_３ＣＦ＝ＣＦ_２／ＣＨ_２＝ＣＨ_２のターポリマー）、ＰＶＤＦ－ＨＶ（コポリマーＣＦ_２＝ＣＨ_２（８５重量％）及びＣＦ_３ＣＦ＝ＣＦ_２（１５重量％））、並びにＰＶＤＦ－ＣＶ（ＣＦ_２＝ＣＨ_２（８５重量％）とＣＦ_２＝ＣＦＣｌ（１５重量％）とのコポリマー）が挙げられる。

【0136】

保護層
フィルムはまた、１つ以上の保護層を有してもよい。保護層は任意のものである。特定の実施形態において、多層光学フィルムを保護するために、フィルムの曝露表面を、最外層上にコーティング、共押出し、又は積層し得る追加の層で保護することができる。いくつかの実施形態において、存在する場合、保護層は最外層になる。一実施形態において、保護層は、コーティングされ得、掻き傷耐性及び摩耗耐性ハードコートを含むことができる。保護層は、加工中及び最終製品の使用中のフィルムの耐久性及び耐候性を改善することができる。ハードコート層としては、アクリルハードコート、シリカ系ハードコート、シロキサンハードコート、メラミンハードコート等の、任意の有用な材料を挙げることができる。アクリルハードコートの場合、保護層は１種以上のアクリルポリマーを含有し得る。ハードコートは、例えば、１～２００ｎｍ、又は１～１００ｎｍ、又は１～５０ｎｍ、又は５～１０ｎｍなどの、フィルムの低放射率を維持し得る任意の有用な厚さであってよい。

【0137】

他の実施形態において、保護層は、疎水性材料を含み、第３の放射線硬化アクリレート層に隣接し、好ましくは直接隣接している。特定の好ましい実施形態において、存在する場合、疎水性材料を含むそのような層は、構造体の最外層を構成する。特定の好ましい実施形態において、疎水性保護層は、フルオロアクリレート、フルオロシラン、フルオロシランアクリレート、フルオロシリコーン、及びフルオロシリコーンアクリレートから選択されるフルオロポリマーを含む。疎水性保護層は、好適なフルオロ材料を堆積させる蒸気又は溶媒によって調製され得るフルオロポリマーを含む。疎水性保護層を有するフィルムはまた、最外疎水性保護層と第３の放射線硬化アクリレート層との間に追加の保護層を有してもよい。

【0138】

他の実施形態において、保護層の表面は、例えばフルオロシランコーティングの使用によって、疎水性を付与するように改質することができる。そのような組成物の１つは、ＳＯＬＶＡＹ ＳＯＬＥＸＩＳ Ｓ．ｐ．Ａ．，Ｉｔａｌｙから入手可能なＦｌｕｏｒｏｌｉｎｋ（登録商標）Ｓ１０シラン官能化ペルフルオロポリエーテル（perfluoro polyether、ＰＦＰＥ）の使用によって得ることができる。他の実施形態において、保護層の表面は、例えば酸官能化コーティングの使用によって、親水性を付与するように改質することができる。本発明者らは、低放射率フィルム又はコーティングで覆われた窓の過度な曇りを克服するために、低放射率フィルムにおいて親水性が望ましいことを見出した。１つの好適な組成物は、親水性を付与するためのプロセスの開示内容及び結果として得られる表面改質材料の開示内容に対する参照により本明細書に組み込まれる米国特許第８，８５３，３０１号に記載されている。

【0139】

添加剤
いくつかの実施形態では、最外層はスリップ粒子を含む。別の実施形態において、スリップ粒子は、ＳｉＯ_２、ＣａＣＯ_３及び有機スリップ粒子から選択される。一実施形態では、外層は、染料及び／又は微粒子顔料を含まない。

【0140】

いくつかの実施形態において、フィルム中の任意の層は、互いに独立して、ＵＶ吸収剤（UV absorber、ＵＶＡ）又はヒンダードアミン光安定剤（hindered amine light stabilizer、ＨＡＬＳ）などの安定剤を含んでよい。

【0141】

紫外線吸収剤は、紫外線を優先的に吸収し、熱エネルギーとして消散させることによって機能する。好適なＵＶＡとしては、ベンゾフェノン（ヒドロキシベンゾフェノン、例えば、Ｃｙａｓｏｒｂ ５３１（Ｃｙｔｅｃ））、ベンゾトリアゾール（ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール、例えば、Ｃｙａｓｏｒｂ ５４１１、Ｔｉｎｕｖｉｎ ３２９（Ｃｉｂａ Ｇｅｉｇｙ））、トリアジン（ヒドロキシフェニルトリアジン、例えばＣｙａｓｏｒｂ １１６４）、オキサニリド（例えば、Ｓａｎｕｖｏｒ ＶＳＵ（Ｃｌａｒｉａｎｔ））、シアノアクリル酸（例えば、Ｕｖｉｎｏｌ ３０３９（ＢＡＳＦ））、又はベンゾオキサジノンが挙げられる。好適なベンゾフェノンとしては、ＣＹＡＳＯＲＢ ＵＶ－９（２－ヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン、ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ ８１（又はＣＹＡＳＯＲＢ ＵＶ５３１）（２ヒロキシ－４－オクチルオキシベンゾフェノン）が挙げられる。好適なベンゾトリアゾールＵＶＡとしては、ＴＩＮＵＶＩＮ Ｐ、２１３、２３４、３２６、３２７、３２８、４０５、及び５７１、並びにＣＹＡＳＯＲＢ ＵＶ ５４１１及びＣＹＡＳＯＲＢ ＵＶ ２３７としてＣｉｂａ（Ｔａｒｒｙｔｏｗｎ，Ｎ．Ｙ．）から入手可能な化合物が挙げられる。他の好適なＵＶＡとしては、ＣＹＡＳＯＲＢ ＵＶ １１６４（２－［４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン－２－イル］－５－（オキシクチルオキシ（ｏｘｃｔｙｌｏｘｙ））フェノール（例示的なトリアジン）及びＣＹＡＳＯＲＢ３６３８（例示的なベンゾキシアジン）が挙げられる。

【0142】

ヒンダードアミン系光安定剤（ＨＡＬＳ）は、ほとんどのポリマーの光誘導性の劣化に対して効果的な安定剤である。ＨＡＬＳは一般には紫外線は吸収しないが、ポリマーの劣化を抑制するように作用する。ＨＡＬＳとしては、典型的には、２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジンアミン及び２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジノールなどのテトラアルキルピペリジンが挙げられる。他の好適なＨＡＬＳとしては、Ｃｉｂａ（Ｔａｒｒｙｔｏｗｎ，Ｎ．Ｙ．）からＴＩＮＵＶＩＮ１２３、１４４及び２９２として入手可能な化合物が挙げられる。

【0143】

本明細書に明示的に開示したＵＶＡ及びＨＡＬＳは、これら２つの添加剤カテゴリーのそれぞれに対応する材料の例として意図されている。本発明者らは、本明細書に開示されていないが、ＵＶ吸収剤又はヒンダードアミン系光安定剤としてのそれらの特性について当業者に公知である他の材料を本開示のフィルムに使用できることを想定している。

【0144】

接着剤
窓用フィルムと共に又は窓用フィルム中で使用するのに好適な接着剤組成物は、当業者にとって周知である。特定の実施形態において、本開示のフィルムに使用される接着剤は、熱活性化接着剤及び感圧接着剤（pressure sensitive adhesive、ＰＳＡ）を含む。熱活性化接着剤は、室温で非粘着性であるが、高温で粘着性になり、基材に結合できるようになる。これらの接着剤は、通常、室温よりも高いガラス転移温度（Ｔｇ）又は融点（Ｔｍ）を有する。温度がＴｇ又はＴｍより高くなったとき、貯蔵弾性率は通常、低下し、接着剤は粘着性になる。

【0145】

インスタントフィルムにおいて使用するのに適した感圧接着剤は、室温において、以下の特性：（１）強く永続的な粘着力、（２）指圧以下の圧力による接着力、（３）被着体上に保持するために十分な能力、及び（４）被着体からきれいに剥がすのに十分な結合力を含む特性を有する。感圧接着剤として十分に機能することが判明している材料は、所望のバランスの粘着力、剥離接着力、及び剪断保持力をもたらすのに必要な粘弾性特性を呈するように設計かつ配合されたポリマーである。

【0146】

感圧接着剤は、（メタ）アクリレート系感圧接着剤であってもよい。有用なアルキル（メタ）アクリレート（すなわち、アクリル酸アルキルエステルモノマー）としては、非三級アルキルアルコールの直鎖又は分枝鎖一官能性不飽和アクリレート又はメタクリレートが挙げられ、これらのアクリレートにおけるアルキル基は、４～１４個、特に４～１２個の炭素原子を有する。ポリ（メタ）アクリル感圧接着剤は、例えば、少なくとも１種のアルキル（メタ）アクリレートエステルモノマー、例えば、イソオクチルアクリレート、イソノニルアクリレート、２－メチル－ブチルアクリレート、２－エチル－ｎ－ヘキシルアクリレート及びｎ－ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ヘキシルアクリレート、ｎ－オクチルアクリレート、ｎ－オクチルメタクリレート、ｎ－ノニルアクリレート、イソアミルアクリレート、ｎ－デシルアクリレート、イソデシルアクリレート、イソデシルメタクリレート、イソボルニルアクリレート、４－メチル－２－ペンチルアクリレート及びドデシルアクリレート；並びに、少なくとも１つの任意選択のコモノマー成分、例えば、（メタ）アクリル酸、酢酸ビニル、Ｎ－ビニルピロリドン、（メタ）アクリルアミド、ビニルエステル、フマレート、スチレンマクロマー、アルキルマレエート及びアルキルフマレート（それぞれマレイン酸及びフマル酸を基礎とする）、又はこれらの組み合わせから誘導される。

【0147】

窓及びグレージング物品
いくつかの実施形態において、本開示のフィルムは、低放射率特性を有する窓又はグレージング物品などの物品を提供するためにグレージング基材に取り付けられてよい窓用フィルムである。例又は好適なグレージング基材は、例えば、多様な種類のガラス、又はポリオレフィン、ポリイミド、ポリカーボネート、若しくはポリメチルメタクリレートなどのポリマー材料を含む、多様な材料から調製することができる。いくつかの実施形態では、ガラス基材はまた、追加の層又は処理を含んでもよい。更なる層の例としては、例えば、グレア（ぎらつき）の低減、色付け、耐破砕性等を提供するように設計された追加のフィルム層が挙げられる。グレージング基材上に存在し得る追加の処理の例としては、例えば、コーティング、又はハードコートなどの様々な種類、及び装飾エッチングなどのエッチングが挙げられる。

【0148】

前述したように、いくつかの実施形態において、フィルムは、フィルムを第１のグレージング基材に積層するために、光学フィルムの好適な表面上に接着剤層を含有する。接着剤層は剥離ライナーで保護されてよい。

【0149】

上述のように、接着剤はまた、再剥離可能であってもよく、これは、比較的低い初期接着力を有する接着剤を意味し、基材上での一時的な再剥離性及び再配置可能性を可能にし、経時的な接着力の増加を伴い、十分に強い接着を形成することができる。これは、基材の大きな領域が積層される場合に特に有用であり得る。

【0150】

特定の実施形態において、大きな表面の基材へのフィルムの積層は、「湿式」適用プロセスと呼ばれることがあるプロセスによって行われてきた。湿式適用プロセスは、液体、典型的には水／界面活性剤溶液を、大型判型物品の接着剤側に、及び任意に基材表面上に、噴霧することを含む。この液体は接着剤を一時的に「非粘着化（detackify）」し、その結果、設置者は、大型判型物品を手で扱い、ずらして、基材表面上の所望の位置に再配置することができる。液体はまた、大型判型物品がそれ自体に付着するか、又は早すぎる段階で基材の表面に付着した場合に、設置者が大型判型物品を引き離すことを可能にする。接着剤に液体を適用することはまた、基材の表面上に築かれた良好な接着力と共に、気泡を含まない滑らかな外観をもたらすことによって、設置された大型判型フィルムの外観を改善することができる。

【0151】

湿式適用プロセスは、多くの場合に有効に使用されてきたが、時間がかかり、困難なプロセスである。したがって、特定の実施形態において、「乾式」適用プロセスが、一般に、大型判型フィルムを設置するために望ましい場合がある。自己湿潤性及び再剥離可能な接着剤は、乾式設置プロセスで適用されてもよい。したがって、物品は、自己湿潤性であるため、大型基材に容易に付着するが、必要に応じて容易に再剥離して再配置することができる。

【0152】

例示的な実施形態
以下の実施形態は、本質的に例示的なものであり、本明細書に記載されている本発明の範囲を限定することを意図するものではない。本開示の実施形態の他の必然的な変形例は、当業者には明らかであろう。

【0153】

１．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含み、
０．２未満の放射率を有する、フィルム。

【0154】

２．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満である、フィルム。

【0155】

３．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍである、フィルム。

【0156】

４．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍである、フィルム。

【0157】

５．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１０ｎｍ～２０ｎｍである、フィルム。

【0158】

６．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１０ｎｍ～２０ｎｍである、フィルム。

【0159】

７．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～４０ｎｍである、フィルム。

【0160】

８．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～４０ｎｍである、フィルム。

【0161】

９．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射ΔＬ^＊値を有する、フィルム。

【0162】

１０．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射Δａ^＊値を有する、フィルム。

【0163】

１１．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に５未満の反射Δｂ^＊値を有する、フィルム。

【0164】

１２．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に５未満の反射ΔＥ^＊値を有する、フィルム。

【0165】

１３．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に０．０２未満の放射率の増加を示す、フィルム。

【0166】

１４．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0167】

１５．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に、２未満の反射ΔＬ^＊値、２未満の反射Δａ^＊値、５未満の反射Δｂ^＊値、５未満の反射ΔＥ^＊値、０．０２未満の放射率の増加、及び２％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0168】

１６．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射ΔＬ^＊値を有する、フィルム。

【0169】

１７．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射Δａ^＊値を有する、フィルム。

【0170】

１８．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
コーティングされた側を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射Δｂ^＊値を有する、フィルム。

【0171】

１９．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
コーティングされた側を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射ΔＥ^＊値を有する、フィルム。

【0172】

２０．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に０．０２未満の放射率の増加を示す、フィルム。

【0173】

２１．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
コーティングされ側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0174】

２２．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に、２未満の反射ΔＬ^＊値、２未満の反射Δａ^＊値、２未満の反射Δｂ^＊値、２未満の反射ΔＥ^＊値、０．０２未満の放射率の増加、及び２％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0175】

２３．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射ΔＬ^＊値を有する、フィルム。

【0176】

２４．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射Δａ^＊値を有する、フィルム。

【0177】

２５．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に３未満の反射Δｂ^＊値を有する、フィルム。

【0178】

２６．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射ΔＥ^＊値を有する、フィルム。

【0179】

２７．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に０．０２未満の放射率の増加を示す、フィルム。

【0180】

２８．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
コーティングされ側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に３％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0181】

２９．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に、３未満の反射ΔＬ^＊値、２未満の反射Δａ^＊値、２未満の反射Δｂ^＊値、２未満の反射ΔＥ^＊値、０．０２未満の放射率の増加、及び２％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0182】

３０．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射ΔＬ^＊値を有する、フィルム。

【0183】

３１．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射Δａ^＊値を有する、フィルム。

【0184】

３２．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢ ａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に５未満の反射Δｂ^＊値を有する、フィルム。

【0185】

３３．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に５未満の反射ΔＥ^＊値を有する、フィルム。

【0186】

３４．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１０～３、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に０．０２未満の放射率の増加を示す、フィルム。

【0187】

３５．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0188】

３６．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に、２未満の反射ΔＬ^＊値、２未満の反射Δａ^＊値、５未満の反射Δｂ^＊値、５未満の反射ΔＥ^＊値、０．０２未満の放射率の増加、及び２％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0189】

３７．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射ΔＬ^＊値を有する、フィルム。

【0190】

３８．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射Δａ^＊値を有する、フィルム。

【0191】

３９．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
コーティングされた側を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射Δｂ^＊値を有する、フィルム。

【0192】

４０．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
コーティングされた側を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射ΔＥ^＊値を有する、フィルム。

【0193】

４１．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に０．０２未満の放射率の増加を示す、フィルム。

【0194】

４２．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
コーティングされ側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0195】

４３．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に、２未満の反射ΔＬ^＊値、２未満の反射Δａ^＊値、２未満の反射Δｂ^＊値、２未満の反射ΔＥ^＊値、０．０２未満の放射率の増加、及び２％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0196】

４４．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射ΔＬ^＊値を有する、フィルム。

【0197】

４５．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射Δａ^＊値を有する、フィルム。

【0198】

４６．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に３未満の反射Δｂ^＊値を有する、フィルム。

【0199】

４７．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射ΔＥ^＊値を有する、フィルム。

【0200】

４８．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に０．０２未満の放射率の増加を示す、フィルム。

【0201】

４９．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
コーティングされ側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に３％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0202】

５０．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に、３未満の反射ΔＬ^＊値、２未満の反射Δａ^＊値、２未満の反射Δｂ^＊値、２未満の反射ΔＥ^＊値、０．０２未満の放射率の増加、及び２％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0203】

５１．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射ΔＬ^＊値を有する、フィルム。

【0204】

５２．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射Δａ^＊値を有する、フィルム。

【0205】

５３．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に５未満の反射Δｂ^＊値を有する、フィルム。

【0206】

５４．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に５未満の反射ΔＥ^＊値を有する、フィルム。

【0207】

５５．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に０．０２未満の放射率の増加を示す、フィルム。

【0208】

５６．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0209】

５７．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に、２未満の反射ΔＬ^＊値、２未満の反射Δａ^＊値、５未満の反射Δｂ^＊値、５未満の反射ΔＥ^＊値、０．０２未満の放射率の増加、及び２％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0210】

５８．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射ΔＬ^＊値を有する、フィルム。

【0211】

５９．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射Δａ^＊値を有する、フィルム。

【0212】

６０．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
コーティングされた側を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射Δｂ^＊値を有する、フィルム。

【0213】

６１．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
コーティングされた側を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射ΔＥ^＊値を有する、フィルム。

【0214】

６２．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に０．０２未満の放射率の増加を示す、フィルム。

【0215】

６３．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
コーティングされ側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0216】

６４．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に、２未満の反射ΔＬ^＊値、２未満の反射Δａ^＊値、２未満の反射Δｂ^＊値、２未満の反射ΔＥ^＊値、０．０２未満の放射率の増加、及び２％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0217】

６５．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射ΔＬ^＊値を有する、フィルム。

【0218】

６６．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射Δａ^＊値を有する、フィルム。

【0219】

６７．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に３未満の反射Δｂ^＊値を有する、フィルム。

【0220】

６８．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射ΔＥ^＊値を有する、フィルム。

【0221】

６９．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に０．０２未満の放射率の増加を示す、フィルム。

【0222】

７０．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
コーティングされ側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に３％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0223】

７１．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に、３未満の反射ΔＬ^＊値、２未満の反射Δａ^＊値、２未満の反射Δｂ^＊値、２未満の反射ΔＥ^＊値、０．０２未満の放射率の増加、及び２％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0224】

７２．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射ΔＬ^＊値を有する、フィルム。

【0225】

７３．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射Δａ^＊値を有する、フィルム。

【0226】

７４．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に５未満の反射Δｂ^＊値を有する、フィルム。

【0227】

７５．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に５未満の反射ΔＥ^＊値を有する、フィルム。

【0228】

７６．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に０．０２未満の放射率の増加を示す、フィルム。

【0229】

７７．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0230】

７８．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に、２未満の反射ΔＬ^＊値、２未満の反射Δａ^＊値、５未満の反射Δｂ^＊値、５未満の反射ΔＥ^＊値、０．０２未満の放射率の増加、及び２％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0231】

７９．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射ΔＬ^＊値を有する、フィルム。

【0232】

８０．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射Δａ^＊値を有する、フィルム。

【0233】

８１．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
コーティングされた側を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射Δｂ^＊値を有する、フィルム。

【0234】

８２．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
コーティングされた側を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射ΔＥ^＊値を有する、フィルム。

【0235】

８３．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に０．０２未満の放射率の増加を示す、フィルム。

【0236】

８４．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
コーティングされ側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0237】

８５．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に、２未満の反射ΔＬ^＊値、２未満の反射Δａ^＊値、２未満の反射Δｂ^＊値、２未満の反射ΔＥ^＊値、０．０２未満の放射率の増加、及び２％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0238】

８６．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射ΔＬ^＊値を有する、フィルム。

【0239】

８７．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射Δａ^＊値を有する、フィルム。

【0240】

８８．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に３未満の反射Δｂ^＊値を有する、フィルム。

【0241】

８９．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射ΔＥ^＊値を有する、フィルム。

【0242】

９０．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に０．０２未満の放射率の増加を示す、フィルム。

【0243】

９１．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
コーティングされ側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に３％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0244】

９２．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に、３未満の反射ΔＬ^＊値、２未満の反射Δａ^＊値、２未満の反射Δｂ^＊値、２未満の反射ΔＥ^＊値、０．０２未満の放射率の増加、及び２％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0245】

９３．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１０ｎｍ～２０ｎｍであり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射ΔＬ^＊値を有する、フィルム。

【0246】

９４．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１０ｎｍ～２０ｎｍであり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射Δａ^＊値を有する、フィルム。

【0247】

９５．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１０ｎｍ～２０ｎｍであり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に５未満の反射Δｂ^＊値を有する、フィルム。

【0248】

９６．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１０ｎｍ～２０ｎｍであり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に５未満の反射ΔＥ^＊値を有する、フィルム。

【0249】

９７．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１０ｎｍ～２０ｎｍであり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に０．０２未満の放射率の増加を示す、フィルム。

【0250】

９８．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１０ｎｍ～２０ｎｍであり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0251】

９９．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１０ｎｍ～２０ｎｍであり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に、２未満の反射ΔＬ^＊値、２未満の反射Δａ^＊値、５未満の反射Δｂ^＊値、５未満の反射ΔＥ^＊値、０．０２未満の放射率の増加、及び２％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0252】

１００．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１０ｎｍ～２０ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射ΔＬ^＊値を有する、フィルム。

【0253】

１０１．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１０ｎｍ～２０ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射Δａ^＊値を有する、フィルム。

【0254】

１０２．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１０ｎｍ～２０ｎｍであり、
コーティングされた側を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射Δｂ^＊値を有する、フィルム。

【0255】

１０３．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１０ｎｍ～２０ｎｍであり、
コーティングされた側を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射ΔＥ^＊値を有する、フィルム。

【0256】

１０４．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１０ｎｍ～２０ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に０．０２未満の放射率の増加を示す、フィルム。

【0257】

１０５．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１０ｎｍ～２０ｎｍであり、
コーティングされ側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0258】

１０６．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１０ｎｍ～２０ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に、２未満の反射ΔＬ^＊値、２未満の反射Δａ^＊値、２未満の反射Δｂ^＊値、２未満の反射ΔＥ^＊値、０．０２未満の放射率の増加、及び２％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0259】

１０７．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１０ｎｍ～２０ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射ΔＬ^＊値を有する、フィルム。

【0260】

１０８．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１０ｎｍ～２０ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射Δａ^＊値を有する、フィルム。

【0261】

１０９．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１０ｎｍ～２０ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に３未満の反射Δｂ^＊値を有する、フィルム。

【0262】

１１０．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１０ｎｍ～２０ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射ΔＥ^＊値を有する、フィルム。

【0263】

１１１．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１０ｎｍ～２０ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に０．０２未満の放射率の増加を示す、フィルム。

【0264】

１１２．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１０ｎｍ～２０ｎｍであり、
コーティングされ側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に３％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0265】

１１３．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１０ｎｍ～２０ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に、３未満の反射ΔＬ^＊値、２未満の反射Δａ^＊値、２未満の反射Δｂ^＊値、２未満の反射ΔＥ^＊値、０．０２未満の放射率の増加、及び２％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0266】

１１４．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１０ｎｍ～２０ｎｍであり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射ΔＬ^＊値を有する、フィルム。

【0267】

１１５．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１０ｎｍ～２０ｎｍであり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射Δａ^＊値を有する、フィルム。

【0268】

１１６．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１０ｎｍ～２０ｎｍであり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に５未満の反射Δｂ^＊値を有する、フィルム。

【0269】

１１７．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１０ｎｍ～２０ｎｍであり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に５未満の反射ΔＥ^＊値を有する、フィルム。

【0270】

１１８．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１０ｎｍ～２０ｎｍであり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に０．０２未満の放射率の増加を示す、フィルム。

【0271】

１１９．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１０ｎｍ～２０ｎｍであり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0272】

１２０．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１０ｎｍ～２０ｎｍであり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に、２未満の反射ΔＬ^＊値、２未満の反射Δａ^＊値、５未満の反射Δｂ^＊値、５未満の反射ΔＥ^＊値、０．０２未満の放射率の増加、及び２％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0273】

１２１．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１０ｎｍ～２０ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射ΔＬ^＊値を有する、フィルム。

【0274】

１２２．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
４８ｖ未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１０ｎｍ～２０ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射Δａ^＊値を有する、フィルム。

【0275】

１２３．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１０ｎｍ～２０ｎｍであり、
コーティングされた側を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射Δｂ^＊値を有する、フィルム。

【0276】

１２４．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１０ｎｍ～２０ｎｍであり、
コーティングされた側を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射ΔＥ^＊値を有する、フィルム。

【0277】

１２５．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１０ｎｍ～２０ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に０．０２未満の放射率の増加を示す、フィルム。

【0278】

１２６．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１０ｎｍ～２０ｎｍであり、
コーティングされ側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0279】

１２７．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１０ｎｍ～２０ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に、２未満の反射ΔＬ^＊値、２未満の反射Δａ^＊値、２未満の反射Δｂ^＊値、２未満の反射ΔＥ^＊値、０．０２未満の放射率の増加、及び２％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0280】

１２８．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１０ｎｍ～２０ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射ΔＬ^＊値を有する、フィルム。

【0281】

１２９．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１０ｎｍ～２０ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射Δａ^＊値を有する、フィルム。

【0282】

１３０．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１０ｎｍ～２０ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に３未満の反射Δｂ^＊値を有する、フィルム。

【0283】

１３１．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１０ｎｍ～２０ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射ΔＥ^＊値を有する、フィルム。

【0284】

１３２．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１０ｎｍ～２０ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に０．０２未満の放射率の増加を示す、フィルム。

【0285】

１３３．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１０ｎｍ～２０ｎｍであり、
コーティングされ側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に３％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0286】

１３４．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１０ｎｍ～２０ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に、３未満の反射ΔＬ^＊値、２未満の反射Δａ^＊値、２未満の反射Δｂ^＊値、２未満の反射ΔＥ^＊値、０．０２未満の放射率の増加、及び２％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0287】

１３５．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～４０ｎｍであり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射ΔＬ^＊値を有する、フィルム。

【0288】

１３６．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～４０ｎｍであり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射Δａ^＊値を有する、フィルム。

【0289】

１３７．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～４０ｎｍであり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に５未満の反射Δｂ^＊値を有する、フィルム。

【0290】

１３８．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～４０ｎｍであり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に５未満の反射ΔＥ^＊値を有する、フィルム。

【0291】

１３９．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～４０ｎｍであり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に０．０２未満の放射率の増加を示す、フィルム。

【0292】

１４０．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～４０ｎｍであり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0293】

１４１．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～４０ｎｍであり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に、２未満の反射ΔＬ^＊値、２未満の反射Δａ^＊値、５未満の反射Δｂ^＊値、５未満の反射ΔＥ^＊値、０．０２未満の放射率の増加、及び２％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0294】

１４２．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～４０ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射ΔＬ^＊値を有する、フィルム。

【0295】

１４３．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～４０ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射Δａ^＊値を有する、フィルム。

【0296】

１４４．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～４０ｎｍであり、
コーティングされた側を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射Δｂ^＊値を有する、フィルム。

【0297】

１４５．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～４０ｎｍであり、
コーティングされた側を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射ΔＥ^＊値を有する、フィルム。

【0298】

１４６．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～４０ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に０．０２未満の放射率の増加を示す、フィルム。

【0299】

１４７．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～４０ｎｍであり、
コーティングされ側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0300】

１４８．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～４０ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に、２未満の反射ΔＬ^＊値、２未満の反射Δａ^＊値、２未満の反射Δｂ^＊値、２未満の反射ΔＥ^＊値、０．０２未満の放射率の増加、及び２％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0301】

１４９．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～４０ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射ΔＬ^＊値を有する、フィルム。

【0302】

１５０．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～４０ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射Δａ^＊値を有する、フィルム。

【0303】

１５１．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～４０ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に３未満の反射Δｂ^＊値を有する、フィルム。

【0304】

１５２．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～４０ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射ΔＥ^＊値を有する、フィルム。

【0305】

１５３．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～４０ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に０．０２未満の放射率の増加を示す、フィルム。

【0306】

１５４．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～４０ｎｍであり、
コーティングされ側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に３％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0307】

１５５．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～４０ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に、３未満の反射ΔＬ^＊値、２未満の反射Δａ^＊値、２未満の反射Δｂ^＊値、２未満の反射ΔＥ^＊値、０．０２未満の放射率の増加、及び２％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0308】

１５６．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～４０ｎｍであり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射ΔＬ^＊値を有する、フィルム。

【0309】

１５７．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～４０ｎｍであり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射Δａ^＊値を有する、フィルム。

【0310】

１５８．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～４０ｎｍであり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に５未満の反射Δｂ^＊値を有する、フィルム。

【0311】

１５９．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～４０ｎｍであり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に５未満の反射ΔＥ^＊値を有する、フィルム。

【0312】

１６０．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～４０ｎｍであり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に０．０２未満の放射率の増加を示す、フィルム。

【0313】

１６１．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～４０ｎｍであり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0314】

１６２．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～４０ｎｍであり、
基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に、２未満の反射ΔＬ^＊値、２未満の反射Δａ^＊値、５未満の反射Δｂ^＊値、５未満の反射ΔＥ^＊値、０．０２未満の放射率の増加、及び２％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0315】

１６３．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～４０ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射ΔＬ^＊値を有する、フィルム。

【0316】

１６４．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～４０ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射Δａ^＊値を有する、フィルム。

【0317】

１６５．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～４０ｎｍであり、
コーティングされた側を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射Δｂ^＊値を有する、フィルム。

【0318】

１６６．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～４０ｎｍであり、
コーティングされた側を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射ΔＥ^＊値を有する、フィルム。

【0319】

１６７．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～４０ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に０．０２未満の放射率の増加を示す、フィルム。

【0320】

１６８．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～４０ｎｍであり、
コーティングされ側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0321】

１６９．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～４０ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に、２未満の反射ΔＬ^＊値、２未満の反射Δａ^＊値、２未満の反射Δｂ^＊値、２未満の反射ΔＥ^＊値、０．０２未満の放射率の増加、及び２％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0322】

１７０．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～４０ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射ΔＬ^＊値を有する、フィルム。

【0323】

１７１．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～４０ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射Δａ^＊値を有する、フィルム。

【0324】

１７２．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～４０ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に３未満の反射Δｂ^＊値を有する、フィルム。

【0325】

１７３．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～４０ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射ΔＥ^＊値を有する、フィルム。

【0326】

１７４．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～４０ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に０．０２未満の放射率の増加を示す、フィルム。

【0327】

１７５．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～４０ｎｍであり、
コーティングされ側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に３％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0328】

１７６．基材と、
第１の放射線硬化アクリレート層と、
第１のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第１の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
４ｎｍ～８ｎｍの厚さを有する、第２の酸化亜鉛スズ含有層と、
第２のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第２の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが０．２未満の放射率を有し、
風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満であり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、
第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、
第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～４０ｎｍであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に、３未満の反射ΔＬ^＊値、２未満の反射Δａ^＊値、２未満の反射Δｂ^＊値、２未満の反射ΔＥ^＊値、０．０２未満の放射率の増加、及び２％未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。

【0329】

１７７．第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍである、実施形態１～１７６のいずれか１つに記載のフィルム。

【0330】

１７８．第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１６ｎｍ～３０ｎｍである、実施形態１～１７７のいずれか１つに記載のフィルム。

【0331】

１７９．第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が２０ｎｍ～３０ｎｍである、実施形態１～１７８のいずれか１つに記載のフィルム。

【0332】

１８０．第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が２５ｎｍ～３０ｎｍである、実施形態１～１７９のいずれか１つに記載のフィルム。

【0333】

１８１．第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が２５ｎｍ～２８ｎｍである、実施形態１～１８０のいずれか１つに記載のフィルム。

【0334】

１８２．第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が２５ｎｍ～２７ｎｍである、実施形態１～１８１のいずれか１つに記載のフィルム。

【0335】

１８３．第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍである、実施形態１～１８２のいずれか１つに記載のフィルム。

【0336】

１８４．第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１０ｎｍ～１４ｎｍである、実施形態１～１８３のいずれか１つに記載のフィルム。

【0337】

１８５．第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１０ｎｍ～１３ｎｍである、実施形態１～１８４のいずれか１つに記載のフィルム。

【0338】

１８６．第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１１ｎｍ～１３ｎｍである、実施形態１～１８５のいずれか１つに記載のフィルム。

【0339】

１８７．第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１０ｎｍ～１２ｎｍである、実施形態１～１８６のいずれか１つに記載のフィルム。

【0340】

１８８．第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～４０ｎｍである、実施形態１～１８７のいずれか１つに記載のフィルム。

【0341】

１８９．第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～３０ｎｍである、実施形態１～１８８のいずれか１つに記載のフィルム。

【0342】

１９０．第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～３５ｎｍである、実施形態１～１８９のいずれか１つに記載のフィルム。

【0343】

１９１．第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、３５ｎｍ～４０ｎｍである、実施形態１～１９０のいずれか１つに記載のフィルム。

【0344】

１９２．第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、３０ｎｍ～３５ｎｍである、実施形態１～１９１のいずれか１つに記載のフィルム。

【0345】

１９３．第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、３０ｎｍ～４０ｎｍである、実施形態１～１９２のいずれか１つに記載のフィルム。

【0346】

１９４．第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍである、実施形態１～１９３のいずれか１つに記載のフィルム。

【0347】

１９５．第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１はＴ２と異なる、実施形態１～１９４のいずれか１つに記載のフィルム。

【0348】

１９６．第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が５ｎｍより大きい、実施形態１～１９５のいずれか１つに記載のフィルム。

【0349】

１９７．第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１０ｎｍより大きい、実施形態１～１９６のいずれか１つに記載のフィルム。

【0350】

１９８．第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１ｎｍ～２０ｎｍである、実施形態１～１９７のいずれか１つに記載のフィルム。

【0351】

１９９．第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１ｎｍ～１５ｎｍである、実施形態１～１９８のいずれか１つに記載のフィルム。

【0352】

２００．第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が５ｎｍ～１５ｎｍである、実施形態１～１９９のいずれか１つに記載のフィルム。

【0353】

２０１．第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１０ｎｍ～１５ｎｍである、実施形態１～２００のいずれか１つに記載のフィルム。

【0354】

２０２．第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ１であり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がＴ２であり、Ｔ１－Ｔ２が１０ｎｍ～２０ｎｍである、実施形態１～２０１のいずれか１つに記載のフィルム。

【0355】

２０３．第１のケイ素化合物含有層の厚さと第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が１５ｎｍ～３０ｎｍであり、第２のケイ素化合物含有層の厚さと第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が９ｎｍ～１５ｎｍであり、第１のケイ素化合物含有層の厚さと、第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第２のケイ素化合物含有層の厚さと、第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、２５ｎｍ～４０ｎｍである、実施形態１～２０２のいずれか１つに記載のフィルム。

【0356】

２０４．基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射ΔＬ^＊値を有する、実施形態１～２０３のいずれか１つに記載のフィルム。

【0357】

２０５．基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射Δａ^＊値を有する、実施形態１～２０４のいずれか１つに記載のフィルム。

【0358】

２０６．基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に５未満の反射Δｂ^＊値を有する、実施形態１～２０５のいずれか１つに記載のフィルム。

【0359】

２０７．基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に５未満の反射ΔＥ^＊値を有する、実施形態１～２０６のいずれか１つに記載のフィルム。

【0360】

２０８．基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に０．０２未満の放射率の増加を示す、実施形態１～２０７のいずれか１つに記載のフィルム。

【0361】

２０９．基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の可視光透過率の変化を示す、実施形態１～２０８のいずれか１つに記載のフィルム。

【0362】

２１０．基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７２０ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射ΔＬ^＊値、２未満の反射Δａ^＊値、５未満の反射Δｂ^＊値、５未満の反射ΔＥ^＊値、０．０２未満の放射率の増加、及び２％未満の可視光透過率の変化を示す、実施形態１～２０９のいずれか１つに記載のフィルム。

【0363】

２１１．コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射ΔＬ^＊値を有する、実施形態１～２１０のいずれか１つに記載のフィルム。

【0364】

２１２．コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射Δａ^＊値を有する、実施形態１～２１１のいずれか１つに記載のフィルム。

【0365】

２１３．コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射Δｂ^＊値を有する、実施形態１～２１２のいずれか１つに記載のフィルム。

【0366】

２１４．コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射ΔＥ^＊値を有する、実施形態１～２１３のいずれか１つに記載のフィルム。

【0367】

２１５．基材を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に０．０２未満の放射率の増加を示す、実施形態１～２１４のいずれか１つに記載のフィルム。

【0368】

２１６．コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の可視光透過率の変化を示す、実施形態１～２１５のいずれか１つに記載のフィルム。

【0369】

２１７．コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度３．６ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射ΔＬ^＊値、２未満の反射Δａ^＊値、２未満の反射Δｂ^＊値、２未満の反射ΔＥ^＊値、０．０２未満の放射率の増加、及び２％未満の可視光透過率の変化を示す、実施形態１～２１６のいずれか１つに記載のフィルム。

【0370】

２１８．コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射ΔＬ^＊値を有する、実施形態１～２１７のいずれか１つに記載のフィルム。

【0371】

２１９．コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射Δａ^＊値を有する、実施形態１～２１８のいずれか１つに記載のフィルム。

【0372】

２２０．コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に３未満の反射Δｂ^＊値を有する、実施形態１～２１９のいずれか１つに記載のフィルム。

【0373】

２２１．コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に２未満の反射ΔＥ^＊値を有する、実施形態１～２２０のいずれか１つに記載のフィルム。

【0374】

２２２．コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に０．０２未満の放射率の増加を示す、実施形態１～２２１のいずれか１つに記載のフィルム。

【0375】

２２３．コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に３未満の可視光透過率の変化を示す、実施形態１～２２２のいずれか１つに記載のフィルム。

【0376】

２２４．コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、７０℃のブラックパネル温度かつ３０％の湿度において２９５ｎｍ～３８５ｎｍの帯域及び時間にわたる全積算放射照度７．２ＭＪ／ｍ２に曝露した後に３未満の反射ΔＬ^＊値、２未満の反射Δａ^＊値、２未満の反射Δｂ^＊値、２未満の反射ΔＥ^＊値、０．０２未満の放射率の増加、及び２％未満の可視光透過率の変化を示す、実施形態１～２２３のいずれか１つに記載のフィルム。

【0377】

２２５．第１の放射線硬化アクリレート層が、５ｎｍ～７５ｎｍの直径を有するシリカナノ粒子を含む、実施形態１～２２４のいずれか１つに記載のフィルム。

【0378】

２２６．第１の放射線硬化アクリレート層が、シリカナノ粒子を含まない、実施形態１～２２５のいずれか１つに記載のフィルム。

【0379】

２２７．第２の放射線硬化アクリレート層が、５ｎｍ～７５ｎｍの直径を有するシリカナノ粒子を含む、実施形態１～２２６のいずれか１つに記載のフィルム。

【0380】

２２８．第２の放射線硬化アクリレート層が、シリカナノ粒子を含まない、実施形態１～２２７のいずれか１つに記載のフィルム。

【0381】

２２９．第２の放射線硬化アクリレート層がフルオロアクリレートポリマーを含む、実施形態１～２２８のいずれか１つに記載のフィルム。

【0382】

２３０．風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－２～５、ｂ^＊が－２～５であり、Ｌ^＊が５０未満である、実施形態１～２２９のいずれか１つに記載のフィルム。

【0383】

２３１．風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満である、実施形態１～２３０のいずれか１つに記載のフィルム。

【0384】

２３２．風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４８未満である、実施形態１～２３１のいずれか１つに記載のフィルム。

【0385】

２３３．風化前に反射ＣＩＥＬＡＢパラメータａ^＊が－１～４、ｂ^＊が０～３であり、Ｌ^＊が４３未満である、実施形態１～２３２のいずれか１つに記載のフィルム。

【0386】

２３４．ＣＩＥＬＡＢ色値によって定義される透過及び反射の両方において実質的に無彩色である、実施形態１～２３３のいずれか１つに記載のフィルム。

【0387】

２３５．０．１７未満の放射率を有する、実施形態１～２３４のいずれか１つに記載のフィルム。

【0388】

２３６．０．１５未満の放射率を有する、実施形態１～２３５のいずれか１つに記載のフィルム。

【0389】

２３７．０．１２未満の放射率を有する、実施形態１～２３６のいずれか１つに記載のフィルム。

【0390】

２３８．６０％未満の可視光反射率を有する、実施形態１～２３７のいずれか１つに記載のフィルム。

【0391】

２３９．５０％未満の可視光反射率を有する、実施形態１～２３８のいずれか１つに記載のフィルム。

【0392】

２４０．４０％未満の可視光反射率を有する、実施形態１～２３９のいずれか１つに記載のフィルム。

【0393】

２４１．３０％未満の可視光反射率を有する、実施形態１～２４０のいずれか１つに記載のフィルム。

【0394】

２４２．２０％未満の可視光反射率を有する、実施形態１～２４１のいずれか１つに記載のフィルム。

【0395】

２４３．１５％未満の可視光反射率を有する、実施形態１～２４２のいずれか１つに記載のフィルム。

【0396】

２４４．１０％より高い可視光透過率を有する、実施形態１～２４３のいずれか１つに記載のフィルム。

【0397】

２４５．１５％より高い可視光透過率を有する、実施形態１～２４４のいずれか１つに記載のフィルム。

【0398】

２４６．２０％より高い可視光透過率を有する、実施形態１～２４５のいずれか１つに記載のフィルム。

【0399】

２４７．２５％より高い可視光透過率を有する、実施形態１～２４６のいずれか１つに記載のフィルム。

【0400】

２４８．３０％より高い可視光透過率を有する、実施形態１～２４７のいずれか１つに記載のフィルム。

【0401】

２４９．３５％より高い可視光透過率を有する、実施形態１～２４８のいずれか１つに記載のフィルム。

【0402】

２５０．４０％より高い可視光透過率を有する、実施形態１～２４９のいずれか１つに記載のフィルム。

【0403】

２５１．４５％より高い可視光透過率を有する、実施形態１～２５０のいずれか１つに記載のフィルム。

【0404】

２５２．５０％より高い可視光透過率を有する、実施形態１～２５１のいずれか１つに記載のフィルム。

【0405】

２５３．５５％より高い可視光透過率を有する、実施形態１～２５２のいずれか１つに記載のフィルム。

【0406】

２５４．６０％より高い可視光透過率を有する、実施形態１～２５３のいずれか１つに記載のフィルム。

【0407】

２５５．６５％より高い可視光透過率を有する、実施形態１～２５４のいずれか１つに記載のフィルム。

【0408】

２５６．７０％より高い可視光透過率を有する、実施形態１～２５５のいずれか１つに記載のフィルム。

【0409】

２５７．７５％より高い可視光透過率を有する、実施形態１～２５６のいずれか１つに記載のフィルム。

【0410】

２５８．８０％より高い可視光透過率を有する、実施形態１～２５７のいずれか１つに記載のフィルム。

【0411】

２５９．７５～８５％の可視光透過率を有する、実施形態１～２５８のいずれか１つに記載のフィルム。

【0412】

２６０．灰色金属層を更に含む、実施形態１～２５９のいずれか１つに記載のフィルム。

【0413】

２６１．第１のケイ素化合物含有層と、第２のケイ素化合物含有層との間に、灰色金属層を更に含む、実施形態１～２６０のいずれか１つに記載のフィルム。

【0414】

２６２．ステンレス鋼、ニッケル、インコネル、モネル、クロム、ニクロム合金、及びこれらの組み合わせから選択される灰色金属層を更に含む、実施形態１～２６１のいずれか１つに記載のフィルム。

【0415】

２６３．基材が染色ＰＥＴを含む、実施形態１～２６２のいずれか１つに記載のフィルム。

【0416】

２６４．染色ＰＥＴ層を更に含む、実施形態１～２６３のいずれか１つに記載のフィルム。

【0417】

２６５．第１の放射線硬化アクリレート層の反対側の基材に隣接している染色ＰＥＴ層を更に含む、実施形態１～２６４のいずれか１つに記載のフィルム。

【0418】

２６６．第１の放射線硬化アクリレート層の反対側の基材に直接隣接している染色ＰＥＴ層を更に含む、実施形態１～２６５のいずれか１つに記載のフィルム。

【0419】

２６７．染色ＰＥＴ層を更に含み、染色ＰＥＴ層が５０％未満の可視光透過率を有する、実施形態１～２６６のいずれか１つに記載のフィルム。

【0420】

２６８．染色ＰＥＴ層を更に含み、染色ＰＥＴ層が４０％未満の可視光透過率を有する、実施形態１～２６７のいずれか１つに記載のフィルム。

【0421】

２６９．染色ＰＥＴ層を更に含み、染色ＰＥＴ層が３０％未満の可視光透過率を有する、実施形態１～２６８のいずれか１つに記載のフィルム。

【0422】

２７０．染色ＰＥＴ層を更に含み、染色ＰＥＴ層が２０％未満の可視光透過率を有する、実施形態１～２６９のいずれか１つに記載のフィルム。

【0423】

２７１．金属層が、銀、金、銅、ニッケル、鉄、コバルト、亜鉛、並びに金、銅、ニッケル、鉄、コバルト、及び亜鉛から選択される１種以上の合金から選択される１種以上の金属成分を含む、実施形態１～２７０のいずれか１つに記載のフィルム。

【0424】

２７２．金属層が銀－金合金を含む、実施形態１～２７１のいずれか１つに記載のフィルム。

【0425】

２７３．金属層が、少なくとも８０％の銀を含む銀合金を含む、実施形態１～２７２のいずれか１つに記載のフィルム。

【0426】

２７４．第１の放射線硬化アクリレート層が、０．０１％～１０％を構成する酸官能性モノマーを含む、実施形態１～２７３のいずれか１つに記載のフィルム。

【0427】

２７５．第２の放射線硬化アクリレート層が、０．０１％～１０％を構成する酸官能性モノマーを含む、実施形態１～２７４のいずれか１つに記載のフィルム。

【0428】

２７６．第１の放射線硬化アクリレート層と第１のケイ素化合物含有層との間において、第１の放射線硬化アクリレート層に直接隣接している１つ以上の追加の放射線硬化アクリレート層を更に含み、第１の放射線硬化アクリレート層に直接隣接している１つ以上の追加の放射線硬化アクリレート層のそれぞれは、１．４５～１．６の屈折率を有する、実施形態１～２７５のいずれか１つに記載のフィルム。

【0429】

２７７．第２の放射線硬化アクリレート層と第２のケイ素化合物含有層との間において、第２の放射線硬化アクリレート層に直接隣接している１つ以上の追加の放射線硬化アクリレート層を更に含み、第２の放射線硬化アクリレート層に直接隣接している１つ以上の追加の放射線硬化アクリレート層のそれぞれは、１．４５～１．６の屈折率を有する、実施形態１～２７６のいずれか１つに記載のフィルム。

【0430】

２７８．第１の放射線硬化アクリレート層が、層間接着を改善するための添加剤を含む、実施形態１～２７７のいずれか１つに記載のフィルム。

【0431】

２７９．第１の放射線硬化アクリレート層が、１種以上のシラン化合物を含む、層間接着を改善するための添加剤を含む、実施形態１～２７８のいずれか１つに記載のフィルム。

【0432】

２８０．第１の放射線硬化アクリレート層が、アクリレート官能基を有する１種以上のシラン化合物を含む、層間接着を改善するための添加剤を含む、実施形態１～２７９のいずれか１つに記載のフィルム。

【0433】

２８１．第２の放射線硬化アクリレート層が、層間接着を改善するための添加剤を含む、実施形態１～２８０のいずれか１つに記載のフィルム。

【0434】

２８２．第２の放射線硬化アクリレート層が、１種以上のシラン化合物を含む、層間接着を改善するための添加剤を含む、実施形態１～２８１のいずれか１つに記載のフィルム。

【0435】

２８３．第２の放射線硬化アクリレート層が、アクリレート官能基を有する１種以上のシラン化合物を含む、層間接着を改善するための添加剤を含む、実施形態１～２８２のいずれか１つに記載のフィルム。

【0436】

２８４．第１の放射線硬化アクリレート層が、５００ｎｍ～３０００ｎｍの厚さを有する、実施形態１～２８３のいずれか１つに記載のフィルム。

【0437】

２８５．第１の放射線硬化アクリレート層が、５００ｎｍ～２０００ｎｍの厚さを有する、実施形態１～２８４のいずれか１つに記載のフィルム。

【0438】

２８６．第１の放射線硬化アクリレート層が、５００ｎｍ～１５００ｎｍの厚さを有する、実施形態１～２８５のいずれか１つに記載のフィルム。

【0439】

２８７．第１の放射線硬化アクリレート層が、８００ｎｍ～１４００ｎｍの厚さを有する、実施形態１～２８６のいずれか１つに記載のフィルム。

【0440】

２８８．第１の放射線硬化アクリレート層が、９００ｎｍ～１２００ｎｍの厚さを有する、実施形態１～２８７のいずれか１つに記載のフィルム。

【0441】

２８９．第１の放射線硬化アクリレート層が、９００ｎｍ～１１００ｎｍの厚さを有する、実施形態１～２８８のいずれか１つに記載のフィルム。

【0442】

２９０．第１の放射線硬化アクリレート層が、９００ｎｍ～１０００ｎｍの厚さを有する、実施形態１～２８９のいずれか１つに記載のフィルム。

【0443】

２９１．第２の放射線硬化アクリレート層が、２０ｎｍ～１２０ｎｍの厚さを有する、実施形態１～２９０のいずれか１つに記載のフィルム。

【0444】

２９２．第２の放射線硬化アクリレート層が、４０ｎｍ～１１０ｎｍの厚さを有する、実施形態１～２９１のいずれか１つに記載のフィルム。

【0445】

２９３．第２の放射線硬化アクリレート層が、５０ｎｍ～１１０ｎｍの厚さを有する、実施形態１～２９２のいずれか１つに記載のフィルム。

【0446】

２９４．第２の放射線硬化アクリレート層が、６０ｎｍ～１００ｎｍの厚さを有する、実施形態１～２９３のいずれか１つに記載のフィルム。

【0447】

２９５．第２の放射線硬化アクリレート層が、７０ｎｍ～９０ｎｍの厚さを有する、実施形態１～２９４のいずれか１つに記載のフィルム。

【0448】

２９６．第２の放射線硬化アクリレート層が、７５ｎｍ～８５ｎｍの厚さを有する、実施形態１～２９５のいずれか１つに記載のフィルム。

【0449】

２９７．第２の放射線硬化アクリレート層が、１５ｎｍ～４０ｎｍの厚さを有する、実施形態１～２９６のいずれか１つに記載のフィルム。

【0450】

２９８．第１の放射線硬化アクリレート層が、可視スペクトル内の電磁放射線を吸収するナノ粒子を更に含む、実施形態１～２９７のいずれか１つに記載のフィルム。

【0451】

２９９．第１の放射線硬化アクリレート層がナノ粒子を更に含み、ナノ粒子が、炭素、酸化アンチモンスズ、酸化インジウムスズ、酸化タングステンスズ、及びこれらの組み合わせから選択されるナノ粒子を含む、実施形態１～２９８のいずれか１つに記載のフィルム。

【0452】

３００．第１の放射線硬化アクリレート層が、炭素ナノ粒子を更に含む、実施形態１～２９９のいずれか１つに記載のフィルム。

【0453】

３０１．第１の放射線硬化アクリレート層が、近赤外スペクトル内の放射線を吸収するナノ粒子を更に含む、実施形態１～３００のいずれか１つに記載のフィルム。

【0454】

３０２．第１の放射線硬化アクリレート層が、化学線硬化アクリレート層である、実施形態１～３０１のいずれか１つに記載のフィルム。

【0455】

３０３．第２の放射線硬化アクリレート層が、化学線硬化アクリレート層である、実施形態１～３０２のいずれか１つに記載のフィルム。

【0456】

３０４．第１のケイ素化合物含有層中のケイ素化合物が酸窒化ケイ素アルミニウムであり、酸窒化ケイ素中の酸素対窒素の比が０～１．２である、実施形態１～３０３のいずれか１つに記載のフィルム。

【0457】

３０５．第１のケイ素化合物含有層中のケイ素化合物が酸窒化ケイ素アルミニウムであり、酸窒化ケイ素中の酸素対窒素の比が０．８～１．２である、実施形態１～３０４のいずれか１つに記載のフィルム。

【0458】

３０６．第１のケイ素化合物含有層中のケイ素化合物が酸窒化ケイ素アルミニウムであり、酸窒化ケイ素中の酸素対窒素の比が０．９～１．１である、実施形態１～３０５のいずれか１つに記載のフィルム。

【0459】

３０７．第１のケイ素化合物含有層中のケイ素化合物が、酸窒化ケイ素アルミニウムである、実施形態１～３０６のいずれか１つに記載のフィルム。

【0460】

３０８．第１のケイ素化合物含有層内のケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウムである、実施形態１～３０７のいずれか１つに記載のフィルム。

【0461】

３０９．第１のケイ素化合物含有層中のケイ素化合物が酸化ケイ素アルミニウムであり、第１のケイ素化合物含有層が、５原子量％以下のアルミニウムを含む、実施形態１～３０８のいずれか１つに記載のフィルム。

【0462】

３１０．第１のケイ素化合物含有層が酸化ケイ素を含み、ケイ素対酸素比が０．５～１．０である、実施形態１～３０９のいずれか１つに記載のフィルム。

【0463】

３１１．第１のケイ素化合物含有層が酸化ケイ素を含み、ケイ素対酸素比が０．４～０．８である、実施形態１～３１０のいずれか１つに記載のフィルム。

【0464】

３１２．第１のケイ素化合物含有層が酸化ケイ素を含み、ケイ素対酸素比が０．５である、実施形態１～３１１のいずれか１つに記載のフィルム。

【0465】

３１３．第１のケイ素化合物含有層が酸窒化ケイ素を含み、酸窒化ケイ素中の酸素と窒素との比が０．２５～０．１である、実施形態１～３１２のいずれか１つに記載のフィルム。

【0466】

３１４．第１のケイ素化合物含有層が酸窒化ケイ素を含み、酸窒化ケイ素中の酸素と窒素との比が０．３～０．５である、実施形態１～３１３のいずれか１つに記載のフィルム。

【0467】

３１５．第１のケイ素化合物含有層が３ｎｍ～２０ｎｍの厚さを有する、実施形態１～３１４のいずれか１つに記載のフィルム。

【0468】

３１６．第１のケイ素化合物含有層が５ｎｍ～２０ｎｍの厚さを有する、実施形態１～３１５のいずれか１つに記載のフィルム。

【0469】

３１７．第１のケイ素化合物含有層が５ｎｍ～１５ｎｍの厚さを有する、実施形態１～３１６のいずれか１つに記載のフィルム。

【0470】

３１８．第１のケイ素化合物含有層が５ｎｍ～１０ｎｍの厚さを有する、実施形態１～３１７のいずれか１つに記載のフィルム。

【0471】

３１９．第１のケイ素化合物含有層が５ｎｍ～９ｎｍの厚さを有する、実施形態１～３１８のいずれか１つに記載のフィルム。

【0472】

３２０．第２のケイ素化合物含有層中のケイ素化合物が、酸窒化ケイ素アルミニウムであり、酸窒化ケイ素アルミニウム中の酸素と窒素との比が０～１．０である、実施形態１～３１９のいずれか１つに記載のフィルム。

【0473】

３２１．第２のケイ素化合物含有層中のケイ素化合物が、酸窒化ケイ素アルミニウムであり、酸窒化ケイ素アルミニウム中の酸素と窒素との比が０．３～１．２である、実施形態１～３２０のいずれか１つに記載のフィルム。

【0474】

３２２．第２のケイ素化合物含有層中のケイ素化合物が、酸窒化ケイ素アルミニウムであり、酸窒化ケイ素アルミニウム中の酸素と窒素との比が０．６～１．１である、実施形態１～３２１のいずれか１つに記載のフィルム。

【0475】

３２３．第２のケイ素化合物含有層中のケイ素化合物が、酸窒化ケイ素アルミニウムである、実施形態１～３２２のいずれか１つに記載のフィルム。

【0476】

３２４．第２のケイ素化合物含有層中のケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウムである、実施形態１～３２３のいずれか１つに記載のフィルム。

【0477】

３２５．第２のケイ素化合物含有層中のケイ素化合物が酸化ケイ素アルミニウムであり、第２のケイ素化合物含有層が、５原子量％以下のアルミニウムを含む、実施形態１～３２４のいずれか１つに記載のフィルム。

【0478】

３２６．第２のケイ素化合物含有層が酸化ケイ素を含み、ケイ素対酸素比が０．３～１．０である、実施形態１～３２５のいずれか１つに記載のフィルム。

【0479】

３２７．第２のケイ素化合物含有層が酸化ケイ素を含み、ケイ素対酸素比が０．４～０．８である、実施形態１～３２６のいずれか１つに記載のフィルム。

【0480】

３２８．第２のケイ素化合物含有層が酸化ケイ素を含み、ケイ素対酸素比が０．４～０．５である、実施形態１～３２７のいずれか１つに記載のフィルム。

【0481】

３２９．第２のケイ素化合物含有層が３ｎｍ～２０ｎｍの厚さを有する、実施形態１～３２８のいずれか１つに記載のフィルム。

【0482】

３３０．第２のケイ素化合物含有層が５ｎｍ～２０ｎｍの厚さを有する、実施形態１～３２９のいずれか１つに記載のフィルム。

【0483】

３３１．第２のケイ素化合物含有層が５ｎｍ～１５ｎｍの厚さを有する、実施形態１～３３０のいずれか１つに記載のフィルム。

【0484】

３３２．第２のケイ素化合物含有層が５ｎｍ～１０ｎｍの厚さを有する、実施形態１～３３１のいずれか１つに記載のフィルム。

【0485】

３３３．第２のケイ素化合物含有層が５ｎｍ～９ｎｍの厚さを有する、実施形態１～３３２のいずれか１つに記載のフィルム。

【0486】

３３４．第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さが５ｎｍ～７ｎｍである、実施形態１～３３３のいずれか１つに記載のフィルム。

【0487】

３３５．第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さが５ｎｍ～６ｎｍである、実施形態１～３３４のいずれか１つに記載のフィルム。

【0488】

３３６．第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さが６ｎｍ～７ｎｍである、実施形態１～３３５のいずれか１つに記載のフィルム。

【0489】

３３７．第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さが約５ｎｍである、実施形態１～３３６のいずれか１つに記載のフィルム。

【0490】

３３８．第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さが約６ｎｍである、実施形態１～３３７のいずれか１つに記載のフィルム。

【0491】

３３９．第１の酸化亜鉛スズ含有層の厚さが約７ｎｍである、実施形態１～３３８のいずれか１つに記載のフィルム。

【0492】

３４０．第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さが５ｎｍ～７ｎｍである、実施形態１～３３９のいずれか１つに記載のフィルム。

【0493】

３４１．第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さが５ｎｍ～６ｎｍである、実施形態１～３４０のいずれか１つに記載のフィルム。

【0494】

３４２．第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さが６ｎｍ～７ｎｍである、実施形態１～３４１のいずれか１つに記載のフィルム。

【0495】

３４３．第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さが約５ｎｍである、実施形態１～３４２のいずれか１つに記載のフィルム。

【0496】

３４４．第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さが約６ｎｍである、実施形態１～３４３のいずれか１つに記載のフィルム。

【0497】

３４５．第２の酸化亜鉛スズ含有層の厚さが約７ｎｍである、実施形態１～３４４のいずれか１つに記載のフィルム。

【0498】

３４６．基材がポリエステルを含む、実施形態１～３４５のいずれか１つに記載のフィルム。

【0499】

３４７．基材がポリエチレンテレフタレートポリエステルを含む、実施形態１～３４６のいずれか１つに記載のフィルム。

【0500】

３４８．基材が、プライマーでコーティングされたポリエチレンテレフタレートポリエステルを含む、実施形態１～３４７のいずれか１つに記載のフィルム。

【0501】

３４９．基材が多層光学フィルムを含む、実施形態１～３４８のいずれか１つに記載のフィルム。

【0502】

３５０．第１の放射線硬化アクリレート層の反対側の基材に直接隣接している感圧接着剤を含む層を更に含み、感圧接着剤を含む層に直接隣接しているライナーを更に含む、実施形態１～３４９のいずれか１つに記載のフィルム。

【0503】

３５１．第１の放射線硬化アクリレート層の反対側の基材に直接隣接している感圧接着剤を含む層を更に含み、感圧接着剤を含む層に直接隣接しているライナーを更に含み、感圧接着剤を含む層は１種以上の紫外線吸収剤を更に含む、実施形態１～３５０のいずれか１つに記載のフィルム。

【0504】

３５２．１つ以上の層に１種以上の添加剤を更に含み、添加剤は紫外線吸収剤、染料、酸化防止剤、及び加水分解安定剤から選択される、実施形態１～３５１のいずれか１つに記載のフィルム。

【0505】

３５３．凝縮水に対する耐性を有する、実施形態１～３５２のいずれか１つに記載のフィルム。

【0506】

３５４．希酢酸に対する耐性を有する、実施形態１～３５３のいずれか１つに記載のフィルム。

【0507】

３５５．スチールウールによる掻き傷に対する耐性を有する、実施形態１～３５４のいずれか１つに記載のフィルム。

【0508】

３５６．亀裂に対する耐性を有する、実施形態１～３５５のいずれか１つに記載のフィルム。

【0509】

３５７．摩擦耐性を有する、実施形態１～３５６のいずれか１つに記載のフィルム。

【0510】

３５８．最外層として疎水性層を更に含む、実施形態１～３５７のいずれか１つに記載のフィルム。

【0511】

３５９．最外層として疎水性層を更に含み、疎水性層がフルオロポリマーを含む、実施形態１～３５８のいずれか１つに記載のフィルム。

【0512】

３６０．最外層として疎水性層を更に含み、疎水性層が、フルオロアクリレート、フルオロシラン、フルオロシランアクリレート、フルオロシリコーン、及びフルオロシリコーンアクリレートから選択されるフルオロポリマーを含む、実施形態１～３５９のいずれか１つに記載のフィルム。

【0513】

３６１．最外層として疎水性層を更に含み、疎水性層が第２の放射線硬化アクリレート層に隣接している、実施形態１～３６０のいずれか１つに記載のフィルム。

【0514】

３６２．最外層として疎水性層を更に含み、疎水性層が第２の放射線硬化アクリレート層に直接隣接している、実施形態１～３６１のいずれか１つに記載のフィルム。

【0515】

３６３．フィルムが窓用フィルムである、実施形態１～３６２のいずれか１つに記載のフィルム。

【0516】

３６４．フィルムを対象とする実施形態１～３６３のいずれか１つに記載のフィルムを含む、物品。

【0517】

３６５．フィルムを対象とする実施形態１～３６４のいずれか１つに記載のフィルムを含む物品であって、グレージングユニットである、物品。

【0518】

３６６．実施形態１～３６５のいずれか１つに記載のフィルムを物品に適用することを含む、物品の放射率を低減する方法。

【0519】

３６７．実施形態１～３６６のいずれか１つに記載のフィルムを物品に適用することを含む、物品の放射率を低減する方法であって、物品がグレージングユニットである、方法。

【実施例】

【0520】

本発明について、単なる例示を目的とする以下の実施例でより詳細に記述するが、それは、本発明の範囲内の多数の変更及び変形が、当業者に明らかにされるからである。特に明記しない限り、以下の実施例において報告される全ての部、百分率、及び比は、重量に基づく。試薬は、特に明記しない限り、Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ，Ｓｔ．Ｌｏｕｉｓ，ＭＯから購入した。

【0521】

材料

【0522】

【表1】

【0523】

放射率
放射率は、モデルＡＥ１放射率計を使用して、ＡＳＴＭ Ｃ１３７１に従って測定し、モデルＲＤ１スケーリングデジタル電圧計から直接読み取った（両モデルともＤｅｖｉｃｅｓ ａｎｄ Ｓｅｒｖｉｃｅｓ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｄａｌｌａｓ，ＴＸから入手可能である）。

【0524】

可視光透過率
Ｐｅｒｋｉｎ Ｅｌｍｅｒ Ｌａｍｂｄａ １０５０分光光度計において、ＡＳＴＭ Ｅ９０３に従って、フィルムのスペクトル特性を測定した。透過率及び反射率スペクトルを、ソフトウェア互換性のためにフォーマットし、Ｌａｗｒｅｎｃｅ Ｂｅｒｋｅｌｅｙ Ｎａｔｉｏｎａｌ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ，Ｂｅｒｋｅｌｅｙ，ＣＡ（ｈｔｔｐ：／／ｗｉｎｄｏｗｓ．ｌｂｌ．ｇｏｖ／ｓｏｆｔｗａｒｅ／Ｏｐｔｉｃｓ／ｏｐｔｉｃｓ．ｈｔｍｌ、最終アクセス：２０１７年４月１４日）から一般に入手可能であるグレージング分析ソフトウェア、Ｏｐｔｉｃｓ ６に、データをインポートした。ＮＦＲＣ＿３００＿２００３を、可視光透過率の計算のための標準として選択した。

【0525】

可視光反射
Ｐｅｒｋｉｎ Ｅｌｍｅｒ Ｌａｍｂｄａ １０５０分光光度計において、ＡＳＴＭ Ｅ９０３に従って、フィルムのスペクトル特性を測定した。透過率及び反射率スペクトルを、ソフトウェア互換性のためにフォーマットし、Ｌａｗｒｅｎｃｅ Ｂｅｒｋｅｌｅｙ Ｎａｔｉｏｎａｌ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ，Ｂｅｒｋｅｌｅｙ，ＣＡ（ｈｔｔｐ：／／ｗｉｎｄｏｗｓ．ｌｂｌ．ｇｏｖ／ｓｏｆｔｗａｒｅ／Ｏｐｔｉｃｓ／ｏｐｔｉｃｓ．ｈｔｍｌ、最終アクセス：２０１７年２月２日）から一般に入手可能であるグレージング分析ソフトウェア、Ｏｐｔｉｃｓ ６に、データをインポートした。ＮＦＲＣ＿３００＿２００３を、可視光反射の計算のための標準として選択した。

【0526】

元素組成
アルゴンイオンスパッタエッチングと併せて、Ｘ線光電子分光法（X-ray photoelectron spectroscopy、ＸＰＳ）を介して、組成深度プロファイルを得た。単色アルミニウムＫ－α Ｘ線及び２ｋｅＶのＡｒ^＋イオンビーム（Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ，Ｉｎｃ．，Ｃｈａｎｈａｓｓｅｎ，ＭＮ）を利用して、Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ Ｑｕａｎｔｅｒａ ＩＩ計器によりデータを得た。測定した光電子ピークの強度を積分し、計器製造者のソフトウェア（Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ Ｍｕｌｔｉｐａｋ）に提供されている相対感度係数を使用して原子濃度に変換した。分析条件は以下のとおりであった。

【0527】

【表2】

【0528】

本明細書で使用するとき、参照する層中の元素の原子比を、それぞれのピーク強度で計算する。例えば、実施例１の酸窒化ケイ素を含む第１のケイ素化合物におけるＯ：Ｎ比は、３３．５分のスパッタ時間における表７の原子深度プロファイルから計算すると、１３．７／４２．３＝０．３２である。同様に、同じ本発明の実施例において、２３．５分のスパッタ深度における、酸化ケイ素を含む第２のケイ素化合物中のＳｉ：Ｏ比は、１６．６／４３．７＝０．３８である。表面のすぐ下の元素は、信号に影響を及ぼすことがあり、異なる分析技術は、参照する元素比のための異なる値をもたらすことがあると理解される。

【0529】

層厚さ
層厚は全般に、電子顕微鏡を使用して測定した。走査型電子顕微鏡（scanning electron microscopy、ＳＥＭ）又は透過電子顕微鏡（transmission electron microscopy、ＴＥＭ）を適宜使用した。ＴＥＭ研究用試料を、凍結超薄切片法によって調製した。最初にフィルム試料をウェブから切り出した（およそ１”×１”）。対象側をＡｕ－Ｐｄ薄層でスパッタコーティングして表面に印を付け、次いで、「家形」（標準的Ｌｅｉｃａ ＵＣ７超ミクロトームに最適なサイズ及び形状）をメス刃で切り出し、Ｓｃｏｔｃｈｃａｓｔ Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌ Ｒｅｓｉｎ ＃５に埋め込んだ。埋め込んだ試料を室温で一晩硬化させた後、組織切片作製法により薄切りにした。－３５℃～－５０℃で凍結超薄切片法を実施し、ＤＭＳＯ：Ｈ_２Ｏ（６０：４０）溶液上又は乾燥状態のいずれかで切断を行った。凍結チャンバー内で、標準的な炭素／ホルムバール２００メッシュＣｕ ＴＥＭグリッド上に薄片を収集した。乾燥Ｎ_２パージ下で試料を室温まで加温させた。

【0530】

ＦＥＩ Ｏｓｉｒｉｓ電界放出ＴＥＭ（２００ｋＶ）で透過型電子顕微鏡の３つのモード：標準明視野（Bright Field、ＢＦ）撮像、走査透過型電子顕微鏡（scanning transmission electron microscopy、ＳＴＥＭ）撮像、及び高角度環状暗野（high angle annular dark field、ＨＡＡＤＦ）撮像を使用した。

【0531】

Ｂｒｕｋｅｒ Ｅｓｐｉｒｉｔ Ｓｕｐｅｒ －Ｘ ｑｕａｄ Ｘ線ＳＤＤ（ケイ素ドリフト検出器）及び付属分析ソフトウェアシステムを使用して、Ｘ線マイクロ分析を実施した。ＨＡＡＤＦモードでＴＥＭを用いてデータを収集した（スポットサイズ１０、カメラ長さ２２０ｎｍ）。Ｅｓｐｉｒｉｔ分析ソフトウェアにおいてＣｌｉｆｆ－Ｌｏｒｉｍｅｒ法を使用して、背景減算解析ライン強度から、定量的元素濃度を計算した。全ての定量的データについて３σ誤差の標準偏差も決定した。適切な計数統計を行うために、各Ｘ線走査を１４，０００～２８，０００秒行った。

【0532】

色の測定
Ｕｌｔｒａｓｃａｎ ＰＲＯ色測定装置（Ｈｕｎｔｅｒ Ａｓｓｏｃｉａｔｅｓ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｙ，Ｒｅｓｔｏｎ，ＶＡ，ＵＳＡから入手可能）を使用して、色測定を行った。ＡＳＴＭ Ｅ３０８に記載の標準的実施に続いて、ＣＩＥＬＡＢ空間内の色を計算した。Ｄ６５光源及び１０°観察者を使用して、色を計算した。反射率の場合、正反射含有構成（specular included configuration）を使用した。

【0533】

湿潤摩擦に対する耐性の試験方法
試験する試料を、幅約３インチ×長さ５インチのシートに切り出した。次いで、３Ｍポリエステルテープ８４０６を使用して、リニア摩耗試験機（Ｔａｂｅｒ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ ２０ Ｍｏｄｅｌ ５７５０ Ｌｉｎｅａｒ Ａｂｒａｓｅｒ，Ｔｏｎａｗａｎｄａ，ＮＹ）の試験アームの下に貼り付けた６ｍｍ厚のガラス板に、試料を貼り付けた。８”正方形のニットポリエステル布（Ｃｏｎｔｅｃ，Ｉｎｃ．，Ｓｐａｒｔａｎｂｕｒｇ，ＳＣから入手可能なＰＮ－９９ Ｐｏｌｙｎｉｔ Ｗｉｐｅ）を水中に浸漬し、次いで、手絞りして過剰な水を除去し、布は湿っていても滴下しないようにした。湿潤布を４分の１に折り畳み、次いで、ホースクランプを使用して、直径１２ｍｍ ｊｕｍｂｏ ｗｅａｒａｓｅｒ円形コレット（Ｔａｂｅｒ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ部品番号１３１８６２）を取り付けた試験アームの底部に取り付けた。試験アームの頂部に２ｋｇの重りを置き、試験される試料表面と布が接触するようにアームを下げた。次いで、試験機を、毎分３０サイクルの速度、ストローク長さ２．５インチで５０サイクルにわたり運転した。試料をガラス板から除去し、任意の過剰な水滴を乾燥布で穏やかに拭い、層損傷／層間剥離の証拠についてサンプルを検査した。白色の背景及び黒色の背景の両方に対して、目視により検査を行った。除去の３つのレベルを、なし、部分及び完全として記録した。試験領域内の掻き傷の存在については、摩耗によるコーティングの除去とは区別し、材料の除去とは考えなかった。完全除去、部分的除去、及び除去なし（ただし、掻き傷は存在する）の代表的な画像を、それぞれ図１、図３及び図２に示す。

【0534】

耐候性の試験方法
試験される試料を、幅約２．７５インチ×長さ５．５インチに切断した。風化させる試料を、鋼製試料保持器に取り付け、風化チャンバー（Ａｔｌａｓ Ｍａｔｅｒｉａｌ Ｔｅｓｔｉｎｇ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，Ｍｏｕｎｔ Ｐｒｏｓｐｅｃｔ，ＩＬから入手可能なモデルＣｉ５０００）内に置いた。ＡＳＴＭ Ｇ１５１及びＡＳＴＭ Ｇ１５５に概説される標準的実施要領に従って、風化チャンバーを操作した。試験に使用した曝露条件を表５Ａ及び５Ｂに列挙した。試験するフィルムを３ｍｍ透明ガラスに接着し、金属フレームに固定し、７２０ＭＪ／ｍ^２（２９５ｎｍ～３８５ｎｍのＴＵＶ）の全積算ＵＶ線量に関して表５Ａに列挙した条件に従って、風化させた。ガラス表面を光源の方向に向けた。風化前後のフィルムの特性を表８に列挙した。フィルムはまた、金属フレームにクリップで留め、３．６ＭＪ／ｍ^２の全積算ＵＶ線量に関して表５Ａに列挙した条件に従って風化させた。フィルムの低放射率表面（コーティングされた側面）を、光源及び水噴霧の方向に向けた。風化前後のフィルムの特性を表９に示す。加えて、フィルムを金属フレームにクリップで留め、３．６ＭＪ／ｍ^２の全積算ＵＶ線量について表５Ｂに列挙した条件に従って風化させた。フィルムの低放射率表面（コーティングされた側面）を、光源及び水噴霧の方向に向けた。風化前後のフィルムの特性を表１０に示す。

【0535】

【表3】

【0536】

【表4】

【0537】

調製例１
オーバーヘッド撹拌機を備えた５００ｍＬ丸底フラスコに、１４０．５２ｇの３－トリメトキシシリルプロピルイソシアネート及び０．２２ｇのＤＢＴＤＬを充填し、５５℃に加熱した。添加漏斗を使用して、７９．４８ｇの２－ヒドロキシエチルアクリレートを約１時間かけて添加した。合計約４時間の時点で、以下に示す生成物を単離し、瓶詰めした。

【化1】

【0538】

比較例１
比較例１の低放射率フィルムは、市販の低放射率窓用フィルムであった。上記のように、Ｘ線光電子分光法、走査電子顕微鏡、及び透過電子顕微鏡を使用して、フィルムを分析した。層組成を表１に示す。元素深度プロファイルから推定した層構造を表２に示す。

【0539】

比較例２
比較例２の低放射率フィルムは、市販の低放射率窓用フィルムであった。上記のように、Ｘ線光電子分光法、走査電子顕微鏡、及び／又は透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）を使用して、フィルムを分析した。層を示す断面ＴＥＭ像を図４に示す。層組成を表１に示す。元素深度プロファイルから推定した層構造を表３に示す。

【0540】

比較例３
比較例３の低放射率フィルムは、市販の低放射率窓用フィルムであった。上記のように、Ｘ線光電子分光法、走査電子顕微鏡、及び透過電子顕微鏡を使用して、フィルムを分析した。層組成を表１に示す。元素深度プロファイルから推定した層構造を表４に示す。

【0541】

比較例４
ＰＥＴ基材（ＤｕＰｏｎｔ Ｔｅｉｊｉｎ ＦｉｌｍｓからのＭｅｌｉｎｅｘ ４５４という名称の０．０７５ｍｍ厚フィルム）を、実施例１の真空コーティング装置に充填し、１×１０^－４ｔｏｒｒ未満の底面圧までポンプダウンした。以下の層を順次堆積させて、多層光学積層体を作製した。

【0542】

層１：９４％のＳＲ８３３及び６％のＣＮ１４７からなる混合物をフラッシュ蒸発させ、この混合物を、冷却されたドラムと接触させてＰＥＴ基材上で凝縮することによって、第１のアクリル層（厚さ約１．２５ミクロン）を得た。７ｋＶ及び７ｍＡで動作する電子ビームガンを使用して、凝縮アクリレート層を硬化させた。ウェブ速度を調整して、約１．０ミクロンの硬化コーティング厚さを得た。

【0543】

層２：反応性スパッタリングプロセスを使用して、組成物５０：５０（重量）の金属亜鉛スズターゲットから層１上に酸化亜鉛スズ層を堆積させた。酸素の不在下でスパッタリングを開始した。ＡＣスパッタリングプロセスを二重マグネトロン構成で使用した。酸素を徐々に添加して、酸化亜鉛スズ堆積物を得た。電力及びウェブ速度を調整して、厚さ約６ｎｍのＺＴＯコーティングを得た。

【0544】

層３：マグネトロンスパッタリングプロセスを使用して、銀８５％及び金１５％の組成物による厚さ１２ｎｍの金銀合金層をＺＴＯ層上に堆積させた。

【0545】

層４：層２に使用するものと同じプロセス及び材料を使用して、第２の酸化亜鉛スズ層を層３上に堆積させた。電力及びウェブ速度を調整して、厚さ約６ｎｍのＺＴＯコーティングを得た。

【0546】

層５：８８％のＳＲ８３３Ｓ、６％のＣＮ１４７及び６％のシランカップリング剤の組成物（調製例１）のアクリレート混合物を、フラッシュ蒸発させ、層５上で凝縮させ、７ｋＶ及び７ｍＡで動作する電子ビームガンを使用して硬化させた。モノマー及びライン速度の流量を調整して、厚さ約２５ｎｍの硬化層を得た。

【0547】

層６：酸化ケイ素アルミニウム層を、９０％のケイ素及び１０％のアルミニウムからなるケイ素アルミニウムターゲットを使用して、層５上にスパッタ堆積させた。堆積プロセス中に酸素雰囲気を維持した。スパッタリングプロセスをＡＣ二重マグネトロン構成で実施し、酸素の十分な流れを維持して、堆積コーティング中で約０．５のＳｉ対Ｏ原子比を得た。プロセス条件及び選択したウェブ速度で得たコーティング厚さは、厚さ約６ｎｍのコーティングをもたらした。

【0548】

層７：９４％のＳＲ８３３Ｓ及び６％のシランカップリング剤の組成物（調製例１）のアクリレート混合物を、フラッシュ蒸発させ、層６上で凝縮させ、７ｋＶ及び７ｍＡで動作する電子ビームガンを使用して硬化させた。モノマー及びライン速度の流量を調整して、厚さ約２５ｎｍの硬化層を得た。

【0549】

実施例１
酸化亜鉛スズ、銀合金、酸化ケイ素又は酸窒化ケイ素、及び放射線硬化アクリレート層を含む多層光学積層体をＰＥＴフィルム基材上に堆積させた。真空を遮断することなく、国際公開第２００９０８５７４１号パンフレットの図３に記載のものと同様の真空コーティング装置を使用して、全ての個々の層を形成した。ＤｕＰｏｎｔ Ｔｅｉｊｉｎ Ｆｉｌｍｓから商品名Ｍｅｌｉｎｅｘ（商標）４５４で入手可能な厚さ０．０７５ｍｍのＰＥＴフィルムを基材に使用した。コーティングされる基材の側面に関する区別はなされなかった。堆積された層の配列は、以下のとおりである。

【0550】

層１：基材ロールを真空コーターに装填し、チャンバを１×１０^－４Ｔｏｒｒ未満の底面圧までポンプダウンした。２００Ｗで運転するチタンターゲットを使用してＮ_２プラズマ前処理プロセスにフィルムを曝露した。ＳＲ８３３Ｓ（Ａｒｋｅｍａ）及びＣＮ１４７（Ａｒｋｅｍａ）を９４：６の比でそれぞれ含むアクリレートモノマー混合物を、フラッシュ蒸発させ、ＰＥＴフィルム基材上で凝縮させ、電子ビーム源で硬化させた。７ｋＶの加速電圧及び７ｍＡのビーム電流で電子ビーム源を動作させた。約１．０μｍの硬化ポリマー層厚さをもたらすように、モノマー流量及びウェブ速度を選択した。

【0551】

層２：層１上で反応性マグネトロンスパッタリングプロセスを使用して、厚さ約２０ｎｍの酸窒化ケイ素アルミニウム層を堆積させた。この層の堆積に、９０％のＳｉ及び１０％のＡｌからなるケイ素－アルミニウムターゲットを使用した。堆積プロセスにおいて、８５％の窒素（残分酸素）からなるガス流を使用した。スパッタリングゾーン内の圧力を約３ｍＴｏｒｒ未満に維持した。得られたコーティングの組成は、約３８％のＳｉ、４２％のＮ、１５％のＯ、及び５％のＡｌであった。

【0552】

層３：反応性マグネトロンスパッタリングプロセスを使用して、酸化亜鉛スズ層を層２上に堆積させた。スパッタリング電力設定、酸素流量及び選択したライン速度は、６ｎｍ未満のコーティング厚さをもたらした。

【0553】

層４：マグネトロンスパッタリングプロセスを使用して、厚さ約１２ｎｍの金銀合金層を酸化亜鉛スズ層上に堆積させた。合金ターゲットは約８５％の銀及び１５％の金からなっていた。堆積直後のフィルムのシート抵抗は、約１２オーム／ｓｑであった。

【0554】

層５：層３と同じプロセス条件を使用して、第２の酸化亜鉛スズ層を金－銀合金層上に堆積させた。

【0555】

層６：９０％のケイ素及び１０％のアルミニウムからなるケイ素アルミニウムターゲットを使用して、酸化ケイ素アルミニウム層を層６上にスパッタ堆積させた。堆積プロセス中に酸素雰囲気を維持した。このプロセス条件で得たコーティング厚さは約６ｎｍであり、ＸＰＳ分析により決定したＳｉ：Ｏ原子比は約０．４５であった。

【0556】

層７：ＳＲ８３３Ｓ（Ａｒｋｅｍａ）、ＣＮ１４７（Ａｒｋｅｍａ）、及び調製例１に記載のシランカップリング剤をそれぞれ８７：３：１０の比で含むアクリレートモノマー混合物を、フラッシュ蒸発させ、ＰＥＴフィルム基材上で凝縮させ、電子ビーム源で硬化させた。７ｋＶの加速電圧及び７ｍＡのビーム電流で電子ビーム源を動作させた。約０．０８μｍの硬化ポリマー層厚さをもたらすように、モノマー流量及びウェブ速度を選択した。

【0557】

実施例２～１４
実施例１に記載の条件に従って、複数の低放射率フィルムを調製した。堆積条件（スパッタリング電力若しくはウェブ速度又はその両方）を選択して、表１１に示すコーティング厚さを得た。

【0558】

実施例１５
第１のケイ素化合物を省略し、その結果、層６が最外層となったことを除いて、実施例１に記載の低放射率フィルムを調製した。

【0559】

【表5】

【0560】

【表6】

【0561】

【表7-1】

【0562】

【表7-2】

【0563】

【表8-1】

【0564】

【表8-2】

【0565】

【表9-1】

【0566】

【表9-2】

【0567】

【表10-1】

【0568】

【表10-2】

【0569】

【表11】

【0570】

【表12】

【0571】

【表13】

【0572】

【表14】

【0573】

【表15】

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】