特許 7171997 配向された非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層を作製するアセンブリ及びプロセス

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2022-11-08

(45)【発行日】2022-11-16

(54)【発明の名称】配向された非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層を作製するアセンブリ及びプロセス

(51)【国際特許分類】

   B42D 25/369 20140101AFI20221109BHJP

   B05D 3/00 20060101ALI20221109BHJP

   B05D 3/06 20060101ALI20221109BHJP

   B05D 5/06 20060101ALI20221109BHJP

   B05D 7/24 20060101ALI20221109BHJP

   B41M 3/14 20060101ALI20221109BHJP

   B41F 1/56 20060101ALI20221109BHJP

   G02B 1/04 20060101ALI20221109BHJP

   B42D 25/378 20140101ALI20221109BHJP

【ＦＩ】

B42D25/369

B05D3/00 D

B05D3/06 102Z

B05D5/06 101Z

B05D7/24 301T

B05D7/24 303A

B05D7/24 303B

B05D7/24 303E

B05D7/24 303F

B05D7/24 303J

B41M3/14

B41F1/56

G02B1/04

B42D25/378

【請求項の数】 10

(21)【出願番号】P 2020510577

(86)(22)【出願日】2018-08-23

(65)【公表番号】

(43)【公表日】2020-11-05

(86)【国際出願番号】 EP2018072752

(87)【国際公開番号】W WO2019038370

(87)【国際公開日】2019-02-28

【審査請求日】2021-07-21

(31)【優先権主張番号】17187930.7

(32)【優先日】2017-08-25

(33)【優先権主張国・地域又は機関】EP

(31)【優先権主張番号】17202275.8

(32)【優先日】2017-11-17

(33)【優先権主張国・地域又は機関】EP

(73)【特許権者】

【識別番号】311007051

【氏名又は名称】シクパ ホルディング ソシエテ アノニム

【氏名又は名称原語表記】ＳＩＣＰＡ ＨＯＬＤＩＮＧ ＳＡ

【住所又は居所原語表記】Ａｖｅｎｕｅ ｄｅ Ｆｌｏｒｉｓｓａｎｔ ４１，ＣＨ－１００８ Ｐｒｉｌｌｙ， Ｓｗｉｔｚｅｒｌａｎｄ

(74)【代理人】

【識別番号】100107456

【弁理士】

【氏名又は名称】池田 成人

(74)【代理人】

【識別番号】100128381

【弁理士】

【氏名又は名称】清水 義憲

(74)【代理人】

【識別番号】100162352

【弁理士】

【氏名又は名称】酒巻 順一郎

(72)【発明者】

【氏名】アメラシンゲ， セドリック

(72)【発明者】

【氏名】ミュラー， エドガー

(72)【発明者】

【氏名】ロギノフ， エフゲニー

(72)【発明者】

【氏名】シュミッド， マシュー

(72)【発明者】

【氏名】デスプランド， クロード－アラン

【審査官】小池 俊次

(56)【参考文献】

【文献】特開２０１２－００８５７２（ＪＰ，Ａ）

【文献】特表２０１６－５１１７０３（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｂ４２Ｄ ２５／３６９

Ｂ０５Ｄ １／００－７／２６

Ｂ４１Ｍ ３／１４

Ｂ４１Ｆ １／５６

Ｇ０２Ｂ １／０４

Ｂ４２Ｄ ２５／３７８

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

光学効果層（ＯＥＬ）を基板上に作製する印刷装置であって、
前記光学効果層（ＯＥＬ）が、非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む放射線硬化された被覆組成物を備える光学効果層（ｘ１０、ＯＥＬ）であり、前記非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子が、配向パターンに応じて配向され、
前記配向パターンが、回転中心の周りで円対称であり、
前記ＯＥＬの任意の選択された直径に沿った少なくとも２つの別個の位置ｘ_ｉにおける前記非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子が、│φ’ｓｉｎ（θ）│≧１０°という条件を満たす、位置ｘ_ｉの平均天頂偏向角φ’及び前記同じ位置ｘ_ｉの前記選択された直径に対する平均方位角θを有し、
前記光学効果層が、前記ＯＥＬを傾斜させたとき、少なくとも１つの円形に動くスポット又は少なくとも１つの彗星状スポットが前記回転中心の周りを回転するという光学的印象を提供し、
前記非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子が、前記装置内に含まれる少なくとも１つの旋回磁性アセンブリ（ｘ００）からの磁場によって配向され、前記旋回磁性アセンブリ（ｘ００）が、旋回軸線を有し、前記ＯＥＬを備えた前記基板の表面が、前記磁石アセンブリ（ｘ００）の旋回軸線に対して実質上直角であり、前記旋回磁性アセンブリ（ｘ００）が、
ａ）支持マトリックス（ｘ３２）に少なくとも部分的又は完全に埋め込まれた少なくとも１対の２つの棒状の双極磁石（ｘ３１）を備える第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）であって、前記棒状の双極磁石（ｘ３１）がそれぞれ、旋回軸線に対して実質上平行の南北の磁軸線を有し、少なくとも１対の前記２つの棒状の双極磁石（ｘ３１）が、反対の磁場方向を有し、線（α）に沿って前記旋回軸線の周りに対称構成で配置される、第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）と、
ｂ）第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）であって、
ｂ１）前記旋回軸線に対して実質上直角の南北の磁軸線を有する円板状の双極磁石（ｘ４１）、
ｂ２）前記旋回軸線に対して実質上直角の南北の磁軸線を有するループ状の双極磁石（ｘ４１）、
ｂ３）前記旋回軸線に対して実質上直角の南北の磁軸線を有し、前記旋回軸線上に配置された棒状の双極磁石（ｘ４１）、及び／又は
ｂ４）少なくとも１対の２つの棒状の双極磁石（ｘ４１）であり、前記棒状の双極磁石（ｘ４１）がそれぞれ、前記旋回軸線に対して実質上平行の南北の磁軸線を有し、前記少なくとも１対の前記２つの棒状の双極磁石（ｘ４１）が、反対の磁場方向を有し、線（β）に沿って前記旋回軸線の周りに対称構成で配置される、２つの棒状の双極磁石（ｘ４１）を備える、第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）とを具備し、
前記第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）の前記少なくとも１対の前記棒状の双極磁石（ｘ３１）が配置される前記線（α）の射影及び前記第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）の前記磁軸線の射影が、前記旋回軸線に対して直角の平面へ前記旋回軸線に沿って、約５°～約１７５°の範囲内又は約－５°～約－１７５°の範囲内の角度（Ω）を形成する、印刷装置。

【請求項2】

前記第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）が、前記旋回軸線に対して実質上直角の南北の磁軸線を有する前記円板状の双極磁石（ｘ４１）を備える、請求項１に記載の装置。

【請求項3】

前記第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）が、前記棒状の双極磁石（ｘ４１）を備え、前記棒状の双極磁石（ｘ４１）が前記旋回軸線に対して実質上直角の南北の磁軸線を有し、前記旋回軸線に配置される、請求項１に記載の装置。

【請求項4】

前記第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）が、前記少なくとも１対の２つの棒状の双極磁石（ｘ４１）を備え、前記棒状の双極磁石（ｘ４１）がそれぞれ、前記旋回軸線に対して実質上平行の南北の磁軸線を有し、前記１対の前記２つの棒状の双極磁石（ｘ４１）が、反対の磁場方向を有し、線（β）に沿って前記旋回軸線の周りに対称構成で配置され、前記線（α）に沿った前記旋回軸線と前記第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）の前記棒状の双極磁石（ｘ３１）のそれぞれとの間の距離が、前記旋回軸線と前記第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）の前記棒状の双極磁石（ｘ４１）のそれぞれとの間の距離とは異なる、請求項１に記載の装置。

【請求項5】

回転磁性筒体又は平床式ユニットをさらに備え、前記少なくとも１つの旋回磁性アセンブリ（ｘ００）が、前記回転磁性筒体又は前記平床式ユニット内に含まれる、請求項１～４のいずれか一項に記載の装置。

【請求項6】

前記ループ状の双極磁石（ｘ４１）が、リング状の双極磁石である、請求項１～５のいずれか一項に記載の装置。

【請求項7】

光学効果層（ＯＥＬ）（ｘ１０）を基板（ｘ２０）上に作製するプロセスであって、
前記光学効果層（ＯＥＬ）（ｘ１０）が、非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む放射線硬化された被覆組成物を備え、前記非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子が、配向パターンに応じて配向され、
前記配向パターンが、回転中心の周りで円対称であり、
前記ＯＥＬの任意の選択された直径に沿った少なくとも２つの別個の位置ｘ_ｉにおける前記非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子が、│φ’ｓｉｎ（θ）│≧１０°という条件を満たす、位置ｘ_ｉの平均天頂偏向角φ’及び前記同じ位置ｘ_ｉの前記選択された直径に対する平均方位角θを有し、
前記光学効果層が、前記ＯＥＬを傾斜させたとき、少なくとも１つの円形に動くスポット又は少なくとも１つの彗星状スポットが前記回転中心の周りを回転するという光学的印象を提供し、
前記プロセスが、
ｉ）非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む放射線硬化性の被覆組成物を基板（ｘ２０）の表面に塗布するステップであり、前記放射線硬化性の被覆組成物が第１の状態にある、ステップと、
ｉｉ）請求項１～６のいずれか一項に記載の印刷装置の磁場に前記放射線硬化性の被覆組成物を露出させ、前記非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部分を配向させるステップと、
ｉｉｉ）ステップｉｉ）の前記放射線硬化性の被覆組成物を少なくとも部分的に硬化させて第２の状態にし、前記非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を採用された位置及び配向で固定するステップとを含むプロセス。

【請求項8】

ステップｉｉｉ）が、ＵＶ－Ｖｉｓ光放射線硬化によって実施され、ステップｉｉｉ）が、前記ステップｉｉ）と部分的に同時に実施される、請求項７に記載のプロセス。

【請求項9】

前記非球形で扁円の複数の磁性又は磁化可能顔料粒子のうちの少なくとも一部分が、非球形で扁円の光学的に可変の磁性又は磁化可能顔料粒子によって構成される、請求項７又は８に記載のプロセス。

【請求項10】

前記光学的に可変の磁性又は磁化可能顔料が、磁性薄膜干渉顔料、磁性コレステリック液晶顔料、及びそれらの混合物からなる群から選択される、請求項９に記載のプロセス。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

［発明の分野］
［０１］本発明は、有価文書及び有価又はブランド市販品を偽造及び違法複製から保護する分野に関する。詳細には、本発明は、視野角が動的な外観及び光学効果を示す光学効果層（ＯＥＬ）、前記ＯＥＬを作製する旋回可能な磁性アセンブリ及びプロセス、並びに文書及び物品に対する偽造防止手段としての前記ＯＥＬの使用に関する。

【0002】

［発明の背景］
［０２］セキュリティ要素及びセキュリティ文書の作製のための磁性又は磁化可能顔料粒子、特に非球形で光学的に可変の磁性又は磁化可能顔料粒子を含有するインク、被覆組成物、被覆、又は層の使用は、当技術分野では知られている。

【0003】

［０３］セキュリティ文書及び物品に対するセキュリティ特徴は、「機密」及び「公開」セキュリティ特徴に分類することができる。機密セキュリティ特徴によって提供される保護は、そのような特徴が人間の感覚から隠されるという概念に依拠し、典型的にはそれらの検出には特殊な機器及び知識が必要とされるのに対して、「公開」セキュリティ特徴は、支援なしの人間の感覚によって容易に検出可能である。そのような特徴は、触覚を介して可視及び／又は検出可能とすることができるが、それでもなお作製及び／又は複製するのは困難である。しかし、公開セキュリティ特徴の有効性は、ユーザがその存在及び性質を認識した場合にのみ、そのようなセキュリティ特徴に基づいてセキュリティチェックを実際に実行するため、セキュリティ特徴として容易に認識できるかどうかに大きく依存する。

【0004】

［０４］配向された磁性又は磁化可能顔料粒子を含む被覆又は層は、たとえば米国特許第２，５７０，８５６号、米国特許第３，６７６，２７３号、米国特許第３，７９１，８６４号、米国特許第５，６３０，８７７号、及び米国特許第５，３６４，６８９号に開示されている。被覆内の磁性又は磁化可能顔料粒子は、対応する磁場を印加し、固化されていない被覆内の磁性又は磁化可能顔料粒子の局所的な配向を引き起こし、それに続いて、被覆を固化して粒子をその位置及び配向で固定することによって、磁気的に誘起された画像、デザイン、及び／又はパターンの作成を可能にする。この結果、特有の光学効果が得られ、すなわち固定され磁気的に誘起された画像、デザイン、又はパターンは、耐偽造性が非常に強くなる。配向された磁性又は磁化可能顔料粒子に基づくセキュリティ要素は、磁性若しくは磁化可能顔料粒子又は前記粒子を含む対応するインク若しくは被覆組成物と、前記インク又は被覆組成物を塗布し、塗布されたインク又は被覆組成物内で前記顔料粒子を配向させ、それに続いて前記インク又は組成物を固化するために用いられる特定の技術との両方へのアクセスを有することによってのみ作製することができる。

【0005】

［０５］効率的なセキュリティ要素として、「移動リング」効果が開発されてきた。移動リング効果は、選択された照射又は観測角、すなわち前記光学効果層の傾斜角に応じて被覆の平面内で任意のｘ－ｙ方向に動いているように見える漏斗、円錐、鉢、円、長円、及び半球などの物体の光学的に錯覚を起こさせる画像からなる。移動リング効果をもたらす手段及び方法は、たとえば欧州特許出願公開第１７１０７５６号、米国特許第８３４３６１５号、欧州特許出願公開第２３０６２２２号、欧州特許出願公開第２３２５６７７号、及び米国特許出願公開第２０１３／０８４４１１号に開示されている。

【0006】

［０６］国際公開第２０１１／０９２５０２号は、視野角を変化させることによって見掛け上動いているリングを表示する移動リング画像を作製する装置を開示している。開示されている移動リング画像は、軟磁性シートと、被覆層の平面に対して直角の磁軸線を有し、前記軟磁性シートの下に配置された球形の磁石との組合せによってもたらされる磁場の助けを借りて取得又は作製することができる。

【0007】

［０７］明るい人目を引く光学効果を表示するインク又は被覆組成物内で配向された磁性粒子に基づき、肉眼によって容易に検証され、偽造者にとって入手可能な機器では大規模に作製することが困難であるが、セキュリティ印刷業者では同じ機器を使用して多数の異なる形状及び色を提供することができる、異なるセキュリティ特徴が、依然として必要とされている。

【0008】

［発明の概要］
［０８］したがって、本発明の目的は、視野角に依存する見掛け上の運動及び視野角が動的な外観を呈する光学効果層（ＯＥＬ）を提供することである。改善された容易に検出できる公開セキュリティ特徴として、又は追加若しくは別法として、たとえば文書セキュリティの分野の機密セキュリティ特徴として、そのようなＯＥＬを提供することが特に望ましい。さらなる目的によれば、そのようなＯＥＬはまた、装飾の目的でも好適である。

【0009】

［０９］本発明は、非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層（ｘ１０、ＯＥＬ）を提供し、前記非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子は、配向パターンに応じて配向され、
配向パターンは、回転中心の周りで円対称であり、
ＯＥＬの任意の選択された直径に沿った少なくとも２つ、好ましくは４つの別個の位置ｘ_ｉにおける非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子は、│φ’ｓｉｎ（θ）│≧１０°、好ましくは≧１５°という条件を満たす位置ｘ_ｉの平均天頂偏向角φ’及び同じ位置ｘ_ｉの選択された直径に対する平均方位角θを有し、
前記光学効果層は、前記ＯＥＬを傾斜させたとき、少なくとも１つの円形に動くスポット又は少なくとも１つの彗星状スポットが前記回転中心の周りを回転するという光学的印象を提供する。

【0010】

［０１０］偽造又は不正からのセキュリティ文書若しくは物品の保護又は装飾の適用のための本明細書に記載する光学効果層（ＯＥＬ）の使用もまた、本明細書に記載される。

【0011】

［０１１］本明細書に記載する光学効果層（ＯＥＬ）のうちの１つ又は複数を含むセキュリティ文書又は装飾要素若しくは物体もまた、本明細書に記載される。

【0012】

［０１２］旋回軸線を有する好適な旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）は、旋回軸線に垂直鏡面を含まない。好適な旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）により、ＯＥＬは、前記ＯＥＬを傾斜及び回転させたとき、少なくとも１つの円形に動くスポット又は少なくとも１つの彗星状スポットが本明細書に記載する回転中心の周りを回転するという視覚的印象を提供する。本明細書に記載する旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）は、本明細書に記載する光学効果層（ＯＥＬ）（ｘ１０）を作製する旋回軸線を有し、
ａ）支持マトリックス（ｘ３２）に少なくとも部分的又は完全に埋め込まれた少なくとも１対の２つの棒状の双極磁石（ｘ３１）を備える第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）であって、前記棒状の双極磁石（ｘ３１）がそれぞれ、旋回軸線に対して実質上平行の南北の磁軸線を有し、少なくとも１対の前記２つの棒状の双極磁石（ｘ３１）が、反対の磁場方向を有し、線（α）に沿って旋回軸線の周りに対称構成で配置される、第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）と、
ｂ）第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）であって、
ｂ１）旋回軸線に対して実質上直角の南北の磁軸線を有する円板状の双極磁石（ｘ４１）、
ｂ２）旋回軸線に対して実質上直角の南北の磁軸線を有するループ状、好ましくはリング状の双極磁石（ｘ４１）、
ｂ３）旋回軸線に対して実質上直角の南北の磁軸線を有し、旋回軸線に配置された棒状の双極磁石（ｘ４１）、及び／又は
ｂ４）少なくとも１対の２つの棒状の双極磁石（ｘ４１）であり、前記棒状の双極磁石（ｘ４１）がそれぞれ、旋回軸線に対して実質上平行の南北の磁軸線を有し、少なくとも１対の前記２つの棒状の双極磁石（ｘ４１）が、反対の磁場方向を有し、線（β）に沿って旋回軸線の周りに対称構成で配置される、２つの棒状の双極磁石（ｘ４１）を備える、第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）とを具備し、
第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）の少なくとも１対の棒状の双極磁石（ｘ３１）が配置される線（α）の射影及び第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）の磁軸線の射影が、旋回軸線に対して直角の平面へ旋回軸線に沿って、約５°～約１７５°の範囲内又は約－５°～約－１７５°の範囲内、好ましくは約１５°～約１６５°の範囲内又は約－１５°～約－１６５°の範囲内の角度（Ω）を形成する。

【0013】

［０１３］本明細書に記載する光学効果層（ＯＥＬ）を本明細書に記載するものなどの基板に作製する印刷装置もまた、本明細書に記載され、前記印刷装置は、本明細書に記載する旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）のうちの少なくとも１つを備える。本明細書に記載する印刷装置は、本明細書に記載する旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）のうちの少なくとも１つを備える回転磁性筒体、又は本明細書に記載する旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）のうちの少なくとも１つを備える平床式ユニットを具備する。

【0014】

［０１４］本明細書に記載する旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）の使用、及び本明細書に記載する光学効果層（ＯＥＬ）を本明細書に記載するものなどの基板に作製する印刷装置もまた、本明細書に記載される。

【0015】

［０１５］本明細書に記載する光学効果層（ＯＥＬ）を基板（ｘ２０）に作製するプロセス、及びそのプロセスによって得られる光学効果層（ＯＥＬ）もまた、本明細書に記載され、前記プロセスは、
ｉ）本明細書に記載する非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む放射線硬化性の被覆組成物を基板（ｘ２０）の表面に塗布するステップであって、前記放射線硬化性の被覆組成物が第１の状態にある、塗布するステップと、
ｉｉ）本明細書に記載する旋回磁性アセンブリ（ｘ００）又は本明細書に記載する印刷装置の磁場に放射線硬化性の被覆組成物を露出させ、非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部分を配向させるステップと、
ｉｉｉ）ステップｉｉ）の放射線硬化性の被覆組成物を少なくとも部分的に硬化させて第２の状態にし、非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を採用された位置及び配向で固定するステップとを含む。

【0016】

［０１６］セキュリティ文書又は装飾要素若しくは物体を製造する方法であって、ａ）セキュリティ文書又は装飾要素若しくは物体を用意するステップと、ｂ）セキュリティ文書又は装飾要素若しくは物体によって含まれるように、特に本明細書に記載するプロセスによって得られたものなど、本明細書に記載するものなどの光学効果層を用意するステップとを含むもまた、本明細書に記載される。

【0017】

［０１７］本発明は、セキュリティ文書及び物品をその真正性に関して保護するための確実な手段及び方法を提供する。本明細書に記載するセキュリティ特徴は、美的な外観を有しており、多種多様な実施形態及び形式で作製して設計明細書にしっかりと組み込むことができ、人間の肉眼で容易に認識される。他方では、本明細書に記載するセキュリティ特徴は、容易に作製されるものではなく、その作製には印刷機械に組み込まれて最高作製速度で稼働するセキュリティ印刷業者の専用の機構を必要とする。

【図面の簡単な説明】

【0018】

【図1A】前記ＯＥＬが図１Ｂに示すように４つの照射源によって４つの基本方位（Ｎ、Ｅ、Ｓ、及びＷ）のそれぞれから順次照射されているときに前記ＯＥＬを直交図で見た、本発明による円形に動く彗星状スポットを呈する光学効果層（ＯＥＬ）（１１０）の視覚的外観を概略的に示す図である。

【図1B】前記ＯＥＬが図１Ｂに示すように４つの照射源によって４つの基本方位（Ｎ、Ｅ、Ｓ、及びＷ）のそれぞれから順次照射されているときに前記ＯＥＬを直交図で見た、本発明による円形に動く彗星状スポットを呈する光学効果層（ＯＥＬ）（１１０）の視覚的外観を概略的に示す図である。

【図2A】ＯＥＬの（ｘ，ｙ）平面内の選択された直径（２１２）に沿って原点（２１１）から生じる本発明による粒子配向パターンを概略的に示す図である。

【図2B】前記配向パターンがＯＥＬの選択された直径（２１２）に沿って示されている、本発明による基板（２２０）上のＯＥＬ（２１０）の配向された非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の特徴的な反射特性の概略図である。

【図2C】本発明のＯＥＬ内に含まれる非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の位置及び配向について説明するために使用される座標系（ｘ，ｙ，ｚ，φ，θ）を概略的に示す図である。

【図2D】直交入射における反射ビーム出口角φ’に対する被覆組成物の屈折率ｎの効果について説明し、ここでφはＯＥＬの平面に対する粒子の傾斜角である、図である。

【図3A】ドーム型ＯＥＬを作製する従来技術の旋回可能な磁石アセンブリを概略的に示す図である。

【図3B】従来技術による図３Ａに示す旋回磁石アセンブリによって得られるドーム型効果を呈する円対称ＯＥＬを示す図である。

【図3C】図３Ａに示す旋回磁石アセンブリによって得られたＯＥＬの原点を通って選択された直径に沿っていくつかの位置ｘ_ｉで測定された粒子配向を（φ’，θ）グラフに示す図である。

【図3D】リング型ＯＥＬを作製する従来技術の旋回可能な磁石アセンブリを概略的に示す図である。

【図3E】従来技術による図３Ｄに示す旋回磁石アセンブリによって得られたリング型効果を呈する円対称ＯＥＬを示す図である。

【図3F】図３Ｄに示す旋回磁石アセンブリによって得られたＯＥＬの原点を通って選択された直径に沿っていくつかの位置ｘ_ｉで測定された粒子配向を（φ’，θ）グラフに示す図である。

【図4A】本明細書に示すＯＥＬの反射ビーム方向を測定するために使用されるコノスコープスキャタロメトリの仕事原理を概略的に示す図である。

【図4B】ＯＥＬ内の顔料粒子の配向を判定するために使用される完全反射コノスコープスキャタロメータの機構を概略的に示す。

【図5A1】光学効果層（ＯＥＬ）（５１０）を基板（５２０）の表面に作製する旋回可能な磁性アセンブリ（５００）を概略的に示し、前記旋回可能な磁性アセンブリ（５００）が、ＯＥＬを作製するために使用するときに基板（５２０）の表面に対して実質上直角である旋回軸線（矢印）を有し、旋回可能な磁性アセンブリが、ａ）円板状の支持マトリックス（５３２）に少なくとも部分的に埋め込まれた１対の２つの棒状の双極磁石（５３１）を備える第１の磁場生成デバイス（５３０）と、ｂ）旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（５４０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有し、直径方向に磁化された円板状の双極磁石（５４１）を備える第２の磁場生成デバイス（５４０）とを具備する、図である。第１の磁場生成デバイス（５３０）の２つの棒状の双極磁石（５３１）はそれぞれ、旋回軸線に対して実質上平行であり且つ基板（５２０）の表面に対して実質上直角である南北の磁軸線を有する。２つの棒状の双極磁石（５３１）は、反対の磁場方向を有し、線（α）に沿って旋回軸線の周りに対称構成で配置され、前記線（α）は、円板状の支持マトリックス（５３２）の対称軸線、特に直径からなる。第１の磁場生成デバイス（５３０）は、第２の磁場生成デバイス（５４０）上に同軸に配置される。

【図5A2】旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿った第１の磁場生成デバイス（５３０）の２つの棒状の双極磁石（５３１）が配置される線（α）の射影と、第２の磁場生成デバイス（５４０）の円板状の双極磁石（５４１）の磁軸線の射影との間の角度（Ω）を概略的に示す図である。

【図5B1】光学効果層（ＯＥＬ）（５１０）を基板（５２０）の表面に作製する旋回可能な磁性アセンブリ（５００）を概略的に示し、前記旋回可能な磁性アセンブリ（５００）が、ＯＥＬを作製するために使用するときに基板（５２０）の表面に対して実質上直角である旋回軸線（矢印）を有し、旋回可能な磁性アセンブリが、ａ）円板状の支持マトリックス（５３２）に少なくとも部分的に埋め込まれた１対の２つの棒状の双極磁石（５３１）を備える第１の磁場生成デバイス（５３０）と、ｂ）旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（５４０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有し、直径方向に磁化された円板状の双極磁石（５４１）を備える第２の磁場生成デバイス（５４０）とを具備する、図である。第１の磁場生成デバイス（５３０）の２つの棒状の双極磁石（５３１）はそれぞれ、旋回軸線に対して実質上平行であり且つ基板（５２０）の表面に対して実質上直角である南北の磁軸線を有する。２つの棒状の双極磁石（５３１）は、反対の磁場方向を有し、線（α）に沿って旋回軸線の周りに対称構成で配置され、前記線（α）は、円板状の支持マトリックス（５３２）の対称軸線、特に直径からなる。第１の磁場生成デバイス（５３０）は、第２の磁場生成デバイス（５４０）上に同軸に配置される。

【図5B2】光学効果層（ＯＥＬ）（５１０）を基板（５２０）の表面に作製する旋回可能な磁性アセンブリ（５００）を概略的に示し、前記旋回可能な磁性アセンブリ（５００）が、ＯＥＬを作製するために使用するときに基板（５２０）の表面に対して実質上直角である旋回軸線（矢印）を有し、旋回可能な磁性アセンブリが、ａ）円板状の支持マトリックス（５３２）に少なくとも部分的に埋め込まれた１対の２つの棒状の双極磁石（５３１）を備える第１の磁場生成デバイス（５３０）と、ｂ）旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（５４０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有し、直径方向に磁化された円板状の双極磁石（５４１）を備える第２の磁場生成デバイス（５４０）とを具備する、図である。第１の磁場生成デバイス（５３０）の２つの棒状の双極磁石（５３１）はそれぞれ、旋回軸線に対して実質上平行であり且つ基板（５２０）の表面に対して実質上直角である南北の磁軸線を有する。２つの棒状の双極磁石（５３１）は、反対の磁場方向を有し、線（α）に沿って旋回軸線の周りに対称構成で配置され、前記線（α）は、円板状の支持マトリックス（５３２）の対称軸線、特に直径からなる。第１の磁場生成デバイス（５３０）は、第２の磁場生成デバイス（５４０）上に同軸に配置される。

【図5C】サンプルが－３０°～＋３０°傾斜しているときに固定位置から見た、図５Ａ１に示す磁性アセンブリを使用することによって得られたＯＥＬの写真を示す図である。

【図5D】図５Ａ１に示す旋回磁石アセンブリによって得られたＯＥＬの原点を通って選択された直径に沿っていくつかの位置ｘ_ｉで測定された粒子配向を（φ’，θ）グラフに示す図である。

【図6A1】光学効果層（ＯＥＬ）（６１０）を基板（６２０）の表面に作製する旋回可能な磁性アセンブリ（６００）を概略的に示し、前記旋回可能な磁性アセンブリ（６００）が、ＯＥＬを作製するために使用するときに基板（６２０）の表面に対して実質上直角である旋回軸線（矢印）を有し、旋回可能な磁性アセンブリが、ａ）円板状の支持マトリックス（６３２）に少なくとも部分的に埋め込まれた２対（Ｄ１、Ｄ２）の２つの棒状の双極磁石（６３１）を備える第１の磁場生成デバイス（６３０）と、ｂ）旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（６２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有し、直径方向に磁化された円板状の双極磁石（６４１）を備える第２の磁場生成デバイス（６４０）とを具備する、図である。第１の磁場生成デバイス（６３０）の４つの棒状の双極磁石（６３１）はそれぞれ、旋回軸線に対して実質上平行であり且つ基板（６２０）の表面に対して実質上直角である南北の磁軸線を有する。各対は、反対の磁場方向を有する２つの棒状の双極磁石（６３１）を備え、同じ線（α）に沿って旋回軸線の周りに対称構成で配置され、前記線（α）は、円板状の支持マトリックス（６３２）の対称軸線、特に直径からなる。第１の磁場生成デバイス（６３０）は、第２の磁場生成デバイス（６４０）上に同軸に配置される。

【図6A2】旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿った第１の磁場生成デバイス（６３０）の４つの棒状の双極磁石（６３１）が配置される線（α）の射影と、第２の磁場生成デバイス（６４０）の円板状の双極磁石（６４１）の磁軸線の射影との間の角度（Ω）を概略的に示す図である。

【図6B1】光学効果層（ＯＥＬ）（６１０）を基板（６２０）の表面に作製する旋回可能な磁性アセンブリ（６００）を概略的に示し、前記旋回可能な磁性アセンブリ（６００）が、ＯＥＬを作製するために使用するときに基板（６２０）の表面に対して実質上直角である旋回軸線（矢印）を有し、旋回可能な磁性アセンブリが、ａ）円板状の支持マトリックス（６３２）に少なくとも部分的に埋め込まれた２対（Ｄ１、Ｄ２）の２つの棒状の双極磁石（６３１）を備える第１の磁場生成デバイス（６３０）と、ｂ）旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（６２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有し、直径方向に磁化された円板状の双極磁石（６４１）を備える第２の磁場生成デバイス（６４０）とを具備する、図である。第１の磁場生成デバイス（６３０）の４つの棒状の双極磁石（６３１）はそれぞれ、旋回軸線に対して実質上平行であり且つ基板（６２０）の表面に対して実質上直角である南北の磁軸線を有する。各対は、反対の磁場方向を有する２つの棒状の双極磁石（６３１）を備え、同じ線（α）に沿って旋回軸線の周りに対称構成で配置され、前記線（α）は、円板状の支持マトリックス（６３２）の対称軸線、特に直径からなる。第１の磁場生成デバイス（６３０）は、第２の磁場生成デバイス（６４０）上に同軸に配置される。

【図6B2】光学効果層（ＯＥＬ）（６１０）を基板（６２０）の表面に作製する旋回可能な磁性アセンブリ（６００）を概略的に示し、前記旋回可能な磁性アセンブリ（６００）が、ＯＥＬを作製するために使用するときに基板（６２０）の表面に対して実質上直角である旋回軸線（矢印）を有し、旋回可能な磁性アセンブリが、ａ）円板状の支持マトリックス（６３２）に少なくとも部分的に埋め込まれた２対（Ｄ１、Ｄ２）の２つの棒状の双極磁石（６３１）を備える第１の磁場生成デバイス（６３０）と、ｂ）旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（６２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有し、直径方向に磁化された円板状の双極磁石（６４１）を備える第２の磁場生成デバイス（６４０）とを具備する、図である。第１の磁場生成デバイス（６３０）の４つの棒状の双極磁石（６３１）はそれぞれ、旋回軸線に対して実質上平行であり且つ基板（６２０）の表面に対して実質上直角である南北の磁軸線を有する。各対は、反対の磁場方向を有する２つの棒状の双極磁石（６３１）を備え、同じ線（α）に沿って旋回軸線の周りに対称構成で配置され、前記線（α）は、円板状の支持マトリックス（６３２）の対称軸線、特に直径からなる。第１の磁場生成デバイス（６３０）は、第２の磁場生成デバイス（６４０）上に同軸に配置される。

【図6C】サンプルが－３０°～＋３０°傾斜しているときに固定位置から見た、図６Ａ１に示す磁性アセンブリを使用することによって得られたＯＥＬの写真を示す図である。

【図6D】図６Ａ１に示す旋回磁石アセンブリによって得られたＯＥＬの原点を通って選択された直径に沿っていくつかの位置ｘ_ｉで測定された粒子配向を（φ’，θ）グラフに示す図である。

【図7A1】光学効果層（ＯＥＬ）（７１０）を基板（７２０）の表面に作製する旋回可能な磁性アセンブリ（７００）を概略的に示し、前記旋回可能な磁性アセンブリ（７００）が、ＯＥＬを作製するために使用するときに基板（７２０）の表面に対して実質上直角である旋回軸線（矢印）を有し、旋回可能な磁性アセンブリが、ａ）円板状の支持マトリックス（７４２）に少なくとも部分的に埋め込まれた２対（Ｄ１、Ｄ２）の２つの棒状の双極磁石（７３１）を備える第１の磁場生成デバイス（７３０）と、ｂ）旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（７２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有し、直径方向に磁化された円板状の双極磁石（７４１）を備える第２の磁場生成デバイス（７４０）とを具備する、図である。第１の磁場生成デバイス（７３０）の４つの棒状の双極磁石（７３１）はそれぞれ、旋回軸線に対して実質上平行であり且つ基板（７２０）の表面に対して実質上直角である南北の磁軸線を有する。各対は、反対の磁場方向を有する２つの棒状の双極磁石（７３１）を備え、同じ線（α）に沿って旋回軸線の周りに対称構成で配置され、前記線（α）は、円板状の支持マトリックス（７４２）の対称軸線、特に直径からなる。第１の磁場生成デバイス（７３０）は、第２の磁場生成デバイス（７４０）の下に同軸に配置される。

【図7A2】旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿った第１の磁場生成デバイス（７３０）の４つの棒状の双極磁石（７３１）が配置される線（α）の射影と、第２の磁場生成デバイス（７４０）の円板状の支持マトリックス（７４２）の磁軸線の射影との間の角度（Ω）を概略的に示す図である。

【図7B1】光学効果層（ＯＥＬ）（７１０）を基板（７２０）の表面に作製する旋回可能な磁性アセンブリ（７００）を概略的に示し、前記旋回可能な磁性アセンブリ（７００）が、ＯＥＬを作製するために使用するときに基板（７２０）の表面に対して実質上直角である旋回軸線（矢印）を有し、旋回可能な磁性アセンブリが、ａ）円板状の支持マトリックス（７４２）に少なくとも部分的に埋め込まれた２対（Ｄ１、Ｄ２）の２つの棒状の双極磁石（７３１）を備える第１の磁場生成デバイス（７３０）と、ｂ）旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（７２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有し、直径方向に磁化された円板状の双極磁石（７４１）を備える第２の磁場生成デバイス（７４０）とを具備する、図である。第１の磁場生成デバイス（７３０）の４つの棒状の双極磁石（７３１）はそれぞれ、旋回軸線に対して実質上平行であり且つ基板（７２０）の表面に対して実質上直角である南北の磁軸線を有する。各対は、反対の磁場方向を有する２つの棒状の双極磁石（７３１）を備え、同じ線（α）に沿って旋回軸線の周りに対称構成で配置され、前記線（α）は、円板状の支持マトリックス（７４２）の対称軸線、特に直径からなる。第１の磁場生成デバイス（７３０）は、第２の磁場生成デバイス（７４０）の下に同軸に配置される。

【図7B2】光学効果層（ＯＥＬ）（７１０）を基板（７２０）の表面に作製する旋回可能な磁性アセンブリ（７００）を概略的に示し、前記旋回可能な磁性アセンブリ（７００）が、ＯＥＬを作製するために使用するときに基板（７２０）の表面に対して実質上直角である旋回軸線（矢印）を有し、旋回可能な磁性アセンブリが、ａ）円板状の支持マトリックス（７４２）に少なくとも部分的に埋め込まれた２対（Ｄ１、Ｄ２）の２つの棒状の双極磁石（７３１）を備える第１の磁場生成デバイス（７３０）と、ｂ）旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（７２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有し、直径方向に磁化された円板状の双極磁石（７４１）を備える第２の磁場生成デバイス（７４０）とを具備する、図である。第１の磁場生成デバイス（７３０）の４つの棒状の双極磁石（７３１）はそれぞれ、旋回軸線に対して実質上平行であり且つ基板（７２０）の表面に対して実質上直角である南北の磁軸線を有する。各対は、反対の磁場方向を有する２つの棒状の双極磁石（７３１）を備え、同じ線（α）に沿って旋回軸線の周りに対称構成で配置され、前記線（α）は、円板状の支持マトリックス（７４２）の対称軸線、特に直径からなる。第１の磁場生成デバイス（７３０）は、第２の磁場生成デバイス（７４０）の下に同軸に配置される。

【図7C】サンプルが－３０°～＋３０°傾斜しているときに固定位置から見た、図７Ａ１に示す磁性アセンブリを使用することによって得られたＯＥＬの写真を示す図である。

【図7D】図７Ａ１に示す旋回磁石アセンブリによって得られたＯＥＬの原点を通って選択された直径に沿っていくつかの位置ｘ_ｉで測定された粒子配向を（φ’，θ）グラフに示す図である。

【図8A1】光学効果層（ＯＥＬ）（８１０）を基板（８２０）の表面に作製する旋回可能な磁性アセンブリ（８００）を概略的に示し、前記旋回可能な磁性アセンブリ（８００）が、ＯＥＬを作製するために使用するときに基板（８２０）の表面に対して実質上直角である旋回軸線（矢印）を有し、旋回可能な磁性アセンブリが、ａ）円板状の支持マトリックス（８３２）に少なくとも部分的に埋め込まれた１対の２つの棒状の双極磁石（８３１）を備える第１の磁場生成デバイス（８３０）と、ｂ）旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（８２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有し、同じ円板状の支持マトリックス（８３２）に少なくとも部分的に埋め込まれた棒状の双極磁石（８４１）を備える第２の磁場生成デバイス（８４０）とを具備する、図である。第１の磁場生成デバイス（８３０）の２つの棒状の双極磁石（８３１）はそれぞれ、旋回軸線に対して実質上平行であり且つ基板（８２０）の表面に対して実質上直角である南北の磁軸線を有する。２つの棒状の双極磁石（８３１）は、反対の磁場方向を有し、線（α）に沿って旋回軸線の周りに対称構成で配置され、前記線（α）は、円板状の支持マトリックス（８３２）の対称軸線、特に直径からなる。棒状の双極磁石（８４１）を備える第２の磁場生成デバイス（８４０）は、旋回軸線に配置され、第１の磁場生成デバイス（８３０）の２つの棒状の双極磁石（８３１）と同じ平面に配置される。

【図8A2】旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿った第１の磁場生成デバイス（８３０）の２つの棒状の双極磁石（８３１）が配置される線（α）の射影と、第２の磁場生成デバイス（８４０）の棒状の双極磁石（８４１）の磁軸線の射影との間の角度（Ω）を概略的に示す図である。

【図8B1】光学効果層（ＯＥＬ）（８１０）を基板（８２０）の表面に作製する旋回可能な磁性アセンブリ（８００）を概略的に示し、前記旋回可能な磁性アセンブリ（８００）が、ＯＥＬを作製するために使用するときに基板（８２０）の表面に対して実質上直角である旋回軸線（矢印）を有し、旋回可能な磁性アセンブリが、ａ）円板状の支持マトリックス（８３２）に少なくとも部分的に埋め込まれた１対の２つの棒状の双極磁石（８３１）を備える第１の磁場生成デバイス（８３０）と、ｂ）旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（８２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有し、同じ円板状の支持マトリックス（８３２）に少なくとも部分的に埋め込まれた棒状の双極磁石（８４１）を備える第２の磁場生成デバイス（８４０）とを具備する、図である。第１の磁場生成デバイス（８３０）の２つの棒状の双極磁石（８３１）はそれぞれ、旋回軸線に対して実質上平行であり且つ基板（８２０）の表面に対して実質上直角である南北の磁軸線を有する。２つの棒状の双極磁石（８３１）は、反対の磁場方向を有し、線（α）に沿って旋回軸線の周りに対称構成で配置され、前記線（α）は、円板状の支持マトリックス（８３２）の対称軸線、特に直径からなる。棒状の双極磁石（８４１）を備える第２の磁場生成デバイス（８４０）は、旋回軸線に配置され、第１の磁場生成デバイス（８３０）の２つの棒状の双極磁石（８３１）と同じ平面に配置される。

【図8B2】光学効果層（ＯＥＬ）（８１０）を基板（８２０）の表面に作製する旋回可能な磁性アセンブリ（８００）を概略的に示し、前記旋回可能な磁性アセンブリ（８００）が、ＯＥＬを作製するために使用するときに基板（８２０）の表面に対して実質上直角である旋回軸線（矢印）を有し、旋回可能な磁性アセンブリが、ａ）円板状の支持マトリックス（８３２）に少なくとも部分的に埋め込まれた１対の２つの棒状の双極磁石（８３１）を備える第１の磁場生成デバイス（８３０）と、ｂ）旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（８２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有し、同じ円板状の支持マトリックス（８３２）に少なくとも部分的に埋め込まれた棒状の双極磁石（８４１）を備える第２の磁場生成デバイス（８４０）とを具備する、図である。第１の磁場生成デバイス（８３０）の２つの棒状の双極磁石（８３１）はそれぞれ、旋回軸線に対して実質上平行であり且つ基板（８２０）の表面に対して実質上直角である南北の磁軸線を有する。２つの棒状の双極磁石（８３１）は、反対の磁場方向を有し、線（α）に沿って旋回軸線の周りに対称構成で配置され、前記線（α）は、円板状の支持マトリックス（８３２）の対称軸線、特に直径からなる。棒状の双極磁石（８４１）を備える第２の磁場生成デバイス（８４０）は、旋回軸線に配置され、第１の磁場生成デバイス（８３０）の２つの棒状の双極磁石（８３１）と同じ平面に配置される。

【図8C】サンプルが－３０°～＋３０°傾斜しているときに固定位置から見た、図８Ａ１に示す磁性アセンブリを使用することによって得られたＯＥＬの写真を示す図である。

【図8D】図８Ａ１に示す旋回磁石アセンブリによって得られたＯＥＬの原点を通って選択された直径に沿っていくつかの位置ｘ_ｉで測定された粒子配向を（φ’，θ）グラフに示す図である。

【図9A1】光学効果層（ＯＥＬ）（９１０）を基板（９２０）の表面に作製する旋回可能な磁性アセンブリ（９００）を概略的に示し、前記旋回可能な磁性アセンブリ（９００）が、ＯＥＬを作製するために使用するときに基板（９２０）の表面に対して実質上直角である旋回軸線（矢印）を有し、旋回可能な磁性アセンブリが、ａ）円板状の支持マトリックス（９３２）に少なくとも部分的に埋め込まれた１対の２つの棒状の双極磁石（９３１）を備える第１の磁場生成デバイス（９３０）と、ｂ）旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（９２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有する棒状の双極磁石（９４１－ａ）を備える第２の磁場生成デバイス（９４０）と、ｃ）旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（９２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有し、直径方向に磁化された円板状の双極磁石（９４１－ｂ）を備える第２の磁場生成デバイスとを具備する、図である。第１の磁場生成デバイス（９３０）の２つの棒状の双極磁石（９３１）はそれぞれ、旋回軸線に対して実質上平行であり且つ基板（９２０）の表面に対して実質上直角である南北の磁軸線を有する。２つの棒状の双極磁石（９３１）は、反対の磁場方向を有し、線（α）に沿って旋回軸線の周りに対称構成で配置され、前記線（α）は、円板状の支持マトリックス（９３２）の対称軸線、特に直径からなる。棒状の双極磁石（９４１－ａ）を備える第２の磁場生成デバイス（９４０）は、旋回軸線に配置され、第１の磁場生成デバイス（９３０）の２つの棒状の双極磁石（９３１）と同じ平面に配置され、円板状の双極磁石（９４１－ｂ）は、第１の磁場生成デバイス（９３０）の下に同軸に配置される。

【図9A2】旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿った第１の磁場生成デバイス（９３０）の２つの棒状の双極磁石（９３１）が配置される線（α）の射影と、第２の磁場生成デバイス（９４０）の円板状の双極磁石（９４１－ｂ）の磁軸線の射影との間の角度（Ω）を概略的に示す図である。

【図9B1】光学効果層（ＯＥＬ）（９１０）を基板（９２０）の表面に作製する旋回可能な磁性アセンブリ（９００）を概略的に示し、前記旋回可能な磁性アセンブリ（９００）が、ＯＥＬを作製するために使用するときに基板（９２０）の表面に対して実質上直角である旋回軸線（矢印）を有し、旋回可能な磁性アセンブリが、ａ）円板状の支持マトリックス（９３２）に少なくとも部分的に埋め込まれた１対の２つの棒状の双極磁石（９３１）を備える第１の磁場生成デバイス（９３０）と、ｂ）旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（９２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有する棒状の双極磁石（９４１－ａ）を備える第２の磁場生成デバイス（９４０）と、ｃ）旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（９２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有し、直径方向に磁化された円板状の双極磁石（９４１－ｂ）を備える第２の磁場生成デバイスとを具備する、図である。第１の磁場生成デバイス（９３０）の２つの棒状の双極磁石（９３１）はそれぞれ、旋回軸線に対して実質上平行であり且つ基板（９２０）の表面に対して実質上直角である南北の磁軸線を有する。２つの棒状の双極磁石（９３１）は、反対の磁場方向を有し、線（α）に沿って旋回軸線の周りに対称構成で配置され、前記線（α）は、円板状の支持マトリックス（９３２）の対称軸線、特に直径からなる。棒状の双極磁石（９４１－ａ）を備える第２の磁場生成デバイス（９４０）は、旋回軸線に配置され、第１の磁場生成デバイス（９３０）の２つの棒状の双極磁石（９３１）と同じ平面に配置され、円板状の双極磁石（９４１－ｂ）は、第１の磁場生成デバイス（９３０）の下に同軸に配置される。

【図9B2】光学効果層（ＯＥＬ）（９１０）を基板（９２０）の表面に作製する旋回可能な磁性アセンブリ（９００）を概略的に示し、前記旋回可能な磁性アセンブリ（９００）が、ＯＥＬを作製するために使用するときに基板（９２０）の表面に対して実質上直角である旋回軸線（矢印）を有し、旋回可能な磁性アセンブリが、ａ）円板状の支持マトリックス（９３２）に少なくとも部分的に埋め込まれた１対の２つの棒状の双極磁石（９３１）を備える第１の磁場生成デバイス（９３０）と、ｂ）旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（９２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有する棒状の双極磁石（９４１－ａ）を備える第２の磁場生成デバイス（９４０）と、ｃ）旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（９２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有し、直径方向に磁化された円板状の双極磁石（９４１－ｂ）を備える第２の磁場生成デバイスとを具備する、図である。第１の磁場生成デバイス（９３０）の２つの棒状の双極磁石（９３１）はそれぞれ、旋回軸線に対して実質上平行であり且つ基板（９２０）の表面に対して実質上直角である南北の磁軸線を有する。２つの棒状の双極磁石（９３１）は、反対の磁場方向を有し、線（α）に沿って旋回軸線の周りに対称構成で配置され、前記線（α）は、円板状の支持マトリックス（９３２）の対称軸線、特に直径からなる。棒状の双極磁石（９４１－ａ）を備える第２の磁場生成デバイス（９４０）は、旋回軸線に配置され、第１の磁場生成デバイス（９３０）の２つの棒状の双極磁石（９３１）と同じ平面に配置され、円板状の双極磁石（９４１－ｂ）は、第１の磁場生成デバイス（９３０）の下に同軸に配置される。

【図9C】サンプルが－３０°～＋３０°傾斜しているときに固定位置から見た、図９Ａ１に示す磁性アセンブリを使用することによって得られたＯＥＬの写真を示す図である。

【図9D】図９Ａ１に示す旋回磁石アセンブリによって得られたＯＥＬの原点を通って選択された直径に沿っていくつかの位置ｘ_ｉで測定された粒子配向を（φ’，θ）グラフに示す図である。

【図10A1】光学効果層（ＯＥＬ）（１０１０）を基板（１０２０）の表面に作製する旋回可能な磁性アセンブリ（１０００）を概略的に示し、前記旋回可能な磁性アセンブリ（１０００）が、ＯＥＬを作製するために使用するときに基板（１０２０）の表面に対して実質上直角である旋回軸線（矢印）を有し、旋回可能な磁性アセンブリが、ａ）円板状の支持マトリックス（１０３２）に少なくとも部分的に埋め込まれた１対の２つの棒状の双極磁石（１０３１）を備える第１の磁場生成デバイス（１０３０）と、ｂ）同じ円板状の支持マトリックス（１０３２）に少なくとも部分的に埋め込まれた１対の２つの棒状の双極磁石（１０４１－ａ）を備える棒状の双極磁石（１０４１）を備える第２の磁場生成デバイス（１０４０）とを具備し、第１の磁場生成デバイス（１０３０）の２つの棒状の双極磁石（１０３１）が、線（α）に沿って旋回軸線の周りに対称構成で配置され、前記線（α）が、円板状の支持マトリックス（１０３２）の対称軸線、特に直径からなり、第２の磁場生成デバイス（１０４０）の２つの棒状の双極磁石（１０４１）が、線（β）に沿って旋回軸線の周りに対称構成で配置され、前記線（β）が、線（α）とは異なる円板状の支持マトリックス（１０３２）の対称軸線、特に直径からなる、図である。第１の磁場生成デバイス（１０３０）の２つの棒状の双極磁石（１０３１）はそれぞれ、旋回軸線に対して実質上平行であり且つ基板（１０２０）の表面に対して実質上直角である南北の磁軸線を有する。第２の磁場生成デバイス（１０４０）の２つの棒状の双極磁石（１０４１）はそれぞれ、旋回軸線に対して実質上平行であり且つ基板（１０２０）の表面に対して実質上直角である南北の磁軸線を有し、前記２つの棒状の双極磁石（１０４１）の北極は反対の方向を指している。

【図10A2】旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿った第１の磁場生成デバイス（１０３０）の２つの棒状の双極磁石（１０３１）が配置される線（α）の射影と、第２の磁場生成デバイス（１０４０）の２つの棒状の双極磁石（１０４１）が配置される線（β）の射影との間の角度（Ω）を概略的に示す図である。

【図10B1】光学効果層（ＯＥＬ）（１０１０）を基板（１０２０）の表面に作製する旋回可能な磁性アセンブリ（１０００）を概略的に示し、前記旋回可能な磁性アセンブリ（１０００）が、ＯＥＬを作製するために使用するときに基板（１０２０）の表面に対して実質上直角である旋回軸線（矢印）を有し、旋回可能な磁性アセンブリが、ａ）円板状の支持マトリックス（１０３２）に少なくとも部分的に埋め込まれた１対の２つの棒状の双極磁石（１０３１）を備える第１の磁場生成デバイス（１０３０）と、ｂ）同じ円板状の支持マトリックス（１０３２）に少なくとも部分的に埋め込まれた１対の２つの棒状の双極磁石（１０４１－ａ）を備える棒状の双極磁石（１０４１）を備える第２の磁場生成デバイス（１０４０）とを具備し、第１の磁場生成デバイス（１０３０）の２つの棒状の双極磁石（１０３１）が、線（α）に沿って旋回軸線の周りに対称構成で配置され、前記線（α）が、円板状の支持マトリックス（１０３２）の対称軸線、特に直径からなり、第２の磁場生成デバイス（１０４０）の２つの棒状の双極磁石（１０４１）が、線（β）に沿って旋回軸線の周りに対称構成で配置され、前記線（β）が、線（α）とは異なる円板状の支持マトリックス（１０３２）の対称軸線、特に直径からなる、図である。第１の磁場生成デバイス（１０３０）の２つの棒状の双極磁石（１０３１）はそれぞれ、旋回軸線に対して実質上平行であり且つ基板（１０２０）の表面に対して実質上直角である南北の磁軸線を有する。第２の磁場生成デバイス（１０４０）の２つの棒状の双極磁石（１０４１）はそれぞれ、旋回軸線に対して実質上平行であり且つ基板（１０２０）の表面に対して実質上直角である南北の磁軸線を有し、前記２つの棒状の双極磁石（１０４１）の北極は反対の方向を指している。

【図10B2】光学効果層（ＯＥＬ）（１０１０）を基板（１０２０）の表面に作製する旋回可能な磁性アセンブリ（１０００）を概略的に示し、前記旋回可能な磁性アセンブリ（１０００）が、ＯＥＬを作製するために使用するときに基板（１０２０）の表面に対して実質上直角である旋回軸線（矢印）を有し、旋回可能な磁性アセンブリが、ａ）円板状の支持マトリックス（１０３２）に少なくとも部分的に埋め込まれた１対の２つの棒状の双極磁石（１０３１）を備える第１の磁場生成デバイス（１０３０）と、ｂ）同じ円板状の支持マトリックス（１０３２）に少なくとも部分的に埋め込まれた１対の２つの棒状の双極磁石（１０４１－ａ）を備える棒状の双極磁石（１０４１）を備える第２の磁場生成デバイス（１０４０）とを具備し、第１の磁場生成デバイス（１０３０）の２つの棒状の双極磁石（１０３１）が、線（α）に沿って旋回軸線の周りに対称構成で配置され、前記線（α）が、円板状の支持マトリックス（１０３２）の対称軸線、特に直径からなり、第２の磁場生成デバイス（１０４０）の２つの棒状の双極磁石（１０４１）が、線（β）に沿って旋回軸線の周りに対称構成で配置され、前記線（β）が、線（α）とは異なる円板状の支持マトリックス（１０３２）の対称軸線、特に直径からなる、図である。第１の磁場生成デバイス（１０３０）の２つの棒状の双極磁石（１０３１）はそれぞれ、旋回軸線に対して実質上平行であり且つ基板（１０２０）の表面に対して実質上直角である南北の磁軸線を有する。第２の磁場生成デバイス（１０４０）の２つの棒状の双極磁石（１０４１）はそれぞれ、旋回軸線に対して実質上平行であり且つ基板（１０２０）の表面に対して実質上直角である南北の磁軸線を有し、前記２つの棒状の双極磁石（１０４１）の北極は反対の方向を指している。

【図10C】サンプルが－３０°～＋３０°傾斜しているときに固定位置から見た、図１０Ａ１に示す磁性アセンブリを使用することによって得られたＯＥＬの写真を示す図である。

【図10D】図１０Ａ１に示す旋回磁石アセンブリによって得られたＯＥＬの原点を通って選択された直径に沿っていくつかの位置ｘ_ｉで測定された粒子配向を（φ’，θ）グラフに示す図である。

【図11A】│φ’ｓｉｎ（θ）│≧１０°という条件（図１１Ａ）又は│φ’ｓｉｎ（θ）│≧１５°という条件（図１１Ｂ）を満たす天頂偏向角φ’及び方位角θを有する非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子配向の範囲を（φ’，θ）グラフに陰影区域として示す図である。

【図11B】│φ’ｓｉｎ（θ）│≧１０°という条件（図１１Ａ）又は│φ’ｓｉｎ（θ）│≧１５°という条件（図１１Ｂ）を満たす天頂偏向角φ’及び方位角θを有する非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子配向の範囲を（φ’，θ）グラフに陰影区域として示す図である。

【0019】

［詳細な説明］
定義
［０１８］以下の定義は、この説明で用いられる用語及び特許請求の範囲に記載の用語の意味に適用される。

【0020】

［０１９］本明細書では、不定冠詞「ａ」は、１並びに１以上を示し、必ずしもその指示する名詞を単数に限定するものではない。

【0021】

［０２０］本明細書では、「約（ａｂｏｕｔ）」という用語は、当該の量又は値が、指定された特有の値又はその近傍の何らかの他の値となりうることを意味する。概して、特定の値を示す「約」という用語は、その値の±５％の範囲を示すことを意図したものである。一例として、「約１００」という語句は、１００±５の範囲、すなわち９５～１０５の範囲を示す。概して、「約」という用語が使用されるとき、記載の値の±５％の範囲内で本発明による類似の結果又は効果を得ることができると予期することができる。

【0022】

［０２１］「実質上平行」という用語は、平行な位置合わせから１０°を超えて逸脱しないことを指し、「実質上直角」という用語は、直角の位置合わせから１０°を超えて逸脱しないことを指す。

【0023】

［０２２］本明細書では、「及び／又は（ａｎｄ／ｏｒ）」という用語は、この用語によって接続された要素の両方又は一方のみが存在することを指す。たとえば、「Ａ及び／又はＢ（Ａ ａｎｄ／ｏｒ Ｂ）」は、「Ａのみ（ｏｎｌｙ Ａ）、若しくはＢのみ（ｏｎｌｙ Ｂ）、又はＡ及びＢの両方（ｂｏｔｈ Ａ ａｎｄ Ｂ）」を意味するものとする。「Ａのみ」の場合、この用語は、Ｂが不在である可能性、すなわち「Ａのみ、Ｂなし（ｏｎｌｙ Ａ， ｂｕｔ ｎｏｔ Ｂ）」も包含する。

【0024】

［０２３］本明細書では、「備える、含む（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」という用語は、非排他的でオープンエンドであることを意図したものである。したがって、たとえば化合物Ａを含む溶液組成は、Ａ以外に他の化合物を含むこともできる。しかし、「備える、含む」という用語は、その特定の実施形態として、「本質的に～からなる（ｃｏｎｓｉｓｔｉｎｇ ｅｓｓｅｎｔｉａｌｌｙ ｏｆ）」及び「～からなる（ｃｏｎｓｉｓｔｉｎｇ ｏｆ）」というより制限的な意味も包含し、したがってたとえば、「Ａ、Ｂ、及び任意選択でＣを含む組成」は、（本質的に）Ａ及びＢからなり、又は（本質的に）Ａ、Ｂ、及びＣからなることがある。

【0025】

［０２４］組成において、「含有する（ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ）」という用語は、非排他的であると解釈されたい。「Ａを含有する被覆組成物」は、Ａは存在するべきであるが、Ｂ、Ｃなどが存在することも除外しないことを意味する。

【0026】

［０２５］「被覆組成物」という用語は、被覆、特に本発明の光学効果層（ＯＥＬ）を固体基板に形成することが可能であり、好ましいが非排他的に印刷方法によって塗布することができるあらゆる組成物を指す。本発明の被覆組成物は、少なくとも複数の非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子及び接着剤を含む。

【0027】

［０２６］本明細書では、「光学効果層（ＯＥＬ）」という用語は、少なくとも複数の磁気的に配向された非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子及び接着剤を含む層を示し、非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子は、前記接着剤内の位置及び配向で固定又は凍結される（固定／凍結される）。

【0028】

［０２７］本開示の文脈では、「顔料粒子」は、インク又は被覆組成物内で不溶性であり、インク又は被覆組成物に確定的スペクトル透過／反射応答を提供する粒状材料を指す。

【0029】

［０２８］「磁軸線」という用語は、磁石の南北の極面の磁性中心を結んで前記極面を通って伸びる理論上の線を示す。この用語は、いかなる特有の磁場方向も含まない。

【0030】

［０２９］「磁場方向」という用語は、磁石の外部で北極から南極へ向いている磁力線に沿った磁場ベクトルの方向を示す（Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｐｈｙｓｉｃｓ，Ｓｐｒｉｎｇｅｒ ２００２、４６３～４６４頁参照）。

【0031】

［０３０］「硬化」という用語は、刺激への反応として被覆組成物の粘性を増大させ、被覆組成物内に含まれる磁性又は磁化可能顔料粒子がその位置及び配向で固定／凍結され、移動又は回転することができなくなる状態（すなわち、硬化、固化、又は固体状態）に被覆組成物を変換するプロセスを示す。

【0032】

［０３１］本明細書では、「少なくとも（ａｔ ｌｅａｓｔ）」という用語は、確定的な数量又は前記数量より大きい数量を画定し、たとえば「少なくとも１つ」は、１つ、２つ、又は３つなどを意味する。

【0033】

［０３２］「セキュリティ文書」という用語は、少なくとも１つのセキュリティ特徴によって偽造又は不正から保護された文書を指す。セキュリティ文書の例には、非限定的に、通貨、有価文書、身分証明書などが含まれる。

【0034】

［０３３］「セキュリティ特徴」という用語は、そのセキュリティ特徴を保持する文書又は物品の認証に使用することができる公開又は機密の画像、パターン、又はグラフィック要素を示す。

【0035】

［０３４］本説明が「好ましい」実施形態／特徴に言及した場合、これらの「好ましい」実施形態／特徴の組合せもまた、その「好ましい」実施形態／特徴の組合せが技術的に有意である限り、好ましいとして開示されると考えられるものとする。

【0036】

［０３５］本発明は、光学効果層（ＯＥＬ）を提供し、前記ＯＥＬは、複数の非ランダムに配向された非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含み、前記顔料粒子は、固化した接着材料内に分散される。本明細書に記載するように、配向パターンが回転中心の周りで円対称であるため、本明細書に記載する光学効果層（ＯＥＬ）は、ＯＥＬの表面に対する法線が円錐をなぞるように前記ＯＥＬを傾斜及び回転させたとき、少なくとも１つの円形に動くスポットが前記回転中心の周りを回転するという視覚的印象を提供する。別の実施形態によれば、本明細書に記載する光学効果層（ＯＥＬ）は、ＯＥＬの表面に対する法線が円錐をなぞるように前記ＯＥＬを傾斜及び回転させたとき、少なくとも１つの円形に動く彗星状スポットが回転中心の周りを回転するという視覚的印象を提供する。さらに、本明細書に記載するＯＥＬは、前記ＯＥＬを前後に傾斜させたとき、前記動くスポット又は彗星状の動くスポットが、少なくとも左から右又は右から左に動いているように見え、前記ＯＥＬを左右に傾斜させたとき、前記動くスポット又は彗星状の動くスポットが、少なくとも前後に動いているように見えるようになっている。前記ＯＥＬを傾斜させたときに少なくとも１つの円形に動く彗星状スポットが回転中心の周りを回転するという視覚的印象を提供するＯＥＬの例が、図５Ｃ～図１０Ｃに示されている。本明細書に記載するＯＥＬの反射パターンは、その回転中心の周りで円対称であり、すなわち本明細書に記載するＯＥＬに含まれる反射性の非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の配向パターンは、その原点（ｘ１１）の周りで円対称である。本発明は、少なくとも１つの円形に動くスポット又は少なくとも１つの彗星状スポットが回転中心の周りを回転するという視覚的印象を提供し、前記スポット又は彗星状スポットは、上述したように、ＯＥＬが傾斜しているとき、前後（又は上下）に動くだけではなく、左右にも動いている。

【0037】

［０３６］ＯＥＬ（ｘ１０）が円対称であるため、ＯＥＬに含まれる非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の配向パターンは、原点（ｘ１１）から生じる半径に応じて十分に説明することができる。２つの角度値（方位θ、傾斜φ）を使用して、非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の配向を表現することができ、したがって、本発明による配向パターンは、ＯＥＬ（ｘ１０）の原点（ｘ１１）から生じる半径に沿ってこれらの２つの角度値を示すことによって完全に判定される。以下でさらに説明するように、通例どおりＯＥＬ接着剤の屈折率が実質上一定であることを条件として、光学的に測定するのがより容易であるため、粒子の配向を記述するために、φの代わりに天頂偏向角φ’を使用することができる。本明細書に提供される例では、非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の配向は、原点（ｘ１１）を交差する選択された直径に沿って測定される。これは、配向パターンを記述するために必要とされる必要最小限の情報の２倍を生じ、実験誤差の範囲内で、パターンが円対称であることを示す。

【0038】

［０３７］以下、光学効果層内の配向された顔料粒子による空間内の特定の方向への入射光の反射は、ある程度の誘導反射を意味すると理解されるものとし、これは、不純物又は欠陥による不完全な位置合わせ又は散乱のためにある程度の角度的な広がりを入射光ビームに加えることがあるが、ランダムな顔料粒子配置から得られるはずの完全な拡散反射を除外するものとする。

【0039】

［０３８］図１Ａは、前記ＯＥＬが４つの照射源によって４つの基本方位（Ｎ、Ｅ、Ｓ、及びＷ、ここでｙ軸線は北を指し、ｘ軸線は東を指す）のそれぞれから順次照射されているときに直交観察状態で見た、本発明による光学効果層（ＯＥＬ）（１１０）の視覚的外観を、原点０（１１１）並びに平面内軸線ｘ及びｙ（１１２、１１３）によって概略的に示し、前記ＯＥＬを傾斜させたとき、少なくとも１つの円形に動く彗星状スポットが回転するという視覚的印象を提供する。スポット若しくは彗星状又は他の形状の図形（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）（彗星状スポット）が、照射方向に応じて原点（１１１）の周りを見掛け上回転している。図１Ｂは、図１Ａの照射及び観察状態を示す。ＯＥＬは、一度に単一の光源によって照射され、その形状の図形が、Ｎ方向から照射されると位置（Ｉ）に、Ｗ方向から照射されると位置（ＩＩ）に、Ｓ方向から照射されると位置（ＩＩＩ）に、Ｅ方向から照射されると位置（ＩＶ）に見える。

【0040】

［０３９］本説明全体にわたって、「配向パターン」という用語は、被覆層（ｘ１０）内に複製可能に作製することができる１組の２次元の局所的な顔料粒子配向を指す。本発明によるＯＥＬ内の非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の配向パターンは、ＯＥＬ（ｘ１０）の平面に直交する回転軸線に対して円対称である。前記回転軸線とＯＥＬ（ｘ１０）との交差点を、ＯＥＬの原点（ｘ１１）と呼ぶ。図２Ａは、前記ＯＥＬの（ｘ，ｙ）平面内の選択された直径（２１２）に沿って原点（２１１）から生じる本発明によるＯＥＬ内の非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の粒子配向パターンを概略的に示す。ＯＥＬの平面内の選択された直径（ｘ１２、図２Ａ～図２Ｂの２１２）に沿った非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子表面の変動する横方向傾斜は、本発明のＯＥＬの特色となる特徴である。図２Ａに示すように、ＯＥＬ内の非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子配向は、原点（２１１）の周りの回転対称だけでなく、ＯＥＬの平面内の選択された直径（２１２）に沿った顔料粒子の変動する横方向傾斜（すなわち、径方向線の周りの回転）も特徴とする。

【0041】

［０４０］図２Ｂは、基板（２２０）上のＯＥＬ（２１０）を概略的に示し、前記ＯＥＬは、非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む放射線硬化された被覆組成物を含む。非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子は、配向パターンに応じて局所的に配向され、ＯＥＬ内に固定／凍結され、前記顔料粒子の前記配向パターンは、ＯＥＬ（２１０）の平面に直交して原点（２１１）でＯＥＬ（２１０）の平面を交差する回転軸線（２１３）に対して円対称である。本発明によるＯＥＬは、原点（２１１）の外側にある入射点（Ｘ）に直交入射する視準光ビーム（２９５）が、複数の入射点（Ｘ）に対して、回転軸線（２１３）及び前記入射点（Ｘ）によって画定される入射平面（２１４）から実質上外れた方向（２９６）に反射されることを特徴とする。

【0042】

［０４１］図２Ｃは、本発明のＯＥＬに含まれる非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の位置及び配向を記述するために使用される座標系（ｘ，ｙ，ｚ，φ，θ）を概略的に示し、線形の位置座標が（ｘ，ｙ，ｚ）によって与えられ、ＯＥＬは（ｘ，ｙ）平面内にあり、座標系の原点はＯＥＬの原点（２１１）に一致する。ｘ軸線は、非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子配向が測定される選択された直径に一致する。ｘ軸線（２１２）上の点Ａ及びＢは、ｘ軸線の方向を記したＯＥＬ上の２点であり、点Ａは座標ｘＡ＜０に位置し、点Ｂは回転軸線（２１１）の反対側で位置ｘＢ＞０に位置する。見やすいように、Ａ及びＢは、ｘＡ及びｘＢが回転中心（２１２）からほぼ等しい距離をあけて位置するように選択した。図２Ｃで、非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の配向は、顔料粒子の平面に直交するベクトルの方向（φ，θ）によって画定される（図２Ａに矢印によって示す）。ｘ軸線に沿って任意の位置における非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の配向は、球座標（φ，θ）に対する数学的慣習に従って記述され、ここでθは、ｘ軸線の方向から測定された軸線ｚの周りの顔料粒子の方位角であり、φは、顔料表面に直交するベクトルとｚ軸線との間で測定された顔料粒子の傾斜角である。同等に、この同じ傾斜角φはまた、図２Ｄに示すように、顔料表面の平面とＯＥＬの平面との間でも測定することができる。これらの定義によれば、φ＝０の粒子がＯＥＬに平行であり、この粒子に対する方位角θは画定されない。

【0043】

［０４２］被覆組成物層の屈折率（ｎ）は、見掛け上の非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の配向に影響を与える。本説明全体にわたって、座標（φ，θ）が個々の非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の配向を指すのに対して、座標（φ’，θ）が直交入射下の反射ビームの方向を指すという慣習が適用される。角度θは、これらの条件下で被覆組成物層の屈折率によって影響されないことに留意されたい。図２Ｄは、被覆組成物の屈折率ｎが直交入射で反射ビーム出口角φ’に与える作用を記述し、ここでφは、非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の傾斜角である。対応する天頂偏向角φ’は、ＯＥＬによって反射及び屈折した天頂方向からの直交入射ビームの逸脱を表す。天頂偏向角は、等式φ’＝ａｒｃｓｉｎ（ｎ×ｓｉｎ（２φ））によって直交入射で顔料粒子の傾斜角φに関係し、ここでｎは被覆組成物の屈折率である。したがって、上式を適用することによって、測定された天頂偏向角φ’を粒子角φまで低減させることができる。ひいては、傾斜角φで位置する粒子はＯＥＬ内のその天頂偏向角φ’によって特徴付けることができることが、本明細書によって定義される。角度φのみが屈折及びミラーの作用によって影響され、極座標表現における反射ビームの測定された方位角θは、傾斜した顔料粒子の真方位角である。粒子の天頂偏向角φ’及び粒子の方位角θは、どちらもコノスコープスキャタロメータを使用して明瞭に測定することができるので、ＯＥＬを特徴付けるために使用される。

【0044】

［０４３］ＯＥＬの任意の選択された直径に沿った少なくとも２つ、好ましくは４つの別個の位置ｘ_ｉにおける本明細書に記載するＯＥＬの非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子は、│φ’ｓｉｎ（θ）│≧１０°という条件、好ましくは│φ’ｓｉｎ（θ）│≧１５°を満たす位置ｘ_ｉにおける平均天頂偏向角φ’及び同じ位置ｘ_ｉにおける選択された直径に対する平均方位角θを有し、したがって点ｘ_ｉにおける入射光は、前記直径に沿って法線入射平面（ｘ１４、図２Ｂの２１４参照）から離れて、それぞれ１０°以上、１５°以上の角度で反射される。「平均角度」という表現は、位置ｘ_ｉにおける複数の非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の平均値を指す。「位置ｘ_ｉ」という表現は、直径約１ｍｍの局所的な略円形の区域であると理解されたい。

【0045】

［０４４］│φ’ｓｉｎ（θ）│≧１０°という条件は、図１１Ａに陰影区域によって表される入射平面（ｘ１４）から離れて法線入射光を１０°以上反射するすべての配向を表す。│φ’ｓｉｎ（θ）│≧１５°という条件は、図１１Ｂに陰影区域によって表される入射平面（ｘ１４）から離れて法線入射光を１５°以上反射するすべての配向を表す。

【0046】

［０４５］本明細書に開示するＯＥＬの配向された顔料粒子の配向パターンを特徴付けるために、コノスコープスキャタロメータ（Ｅｃｋｈａｒｔｄ Ｏｐｔｉｃｓ ＬＬＣ、５４３０ Ｊｅｆｆｅｒｓｏｎ Ｃｔ、Ｗｈｉｔｅ Ｂｅａｒ Ｌａｋｅ、ＭＮ ５５１１０； ｈｔｔｐ：／／ｅｃｋｏｐ．ｃｏｍから得られる）を使用した。

【0047】

［０４６］図４Ａは、レンズの後焦点面ｆ’におけるスポット（ｘ_１、ｘ_２、ｘ_３）へのレンズの前焦点面ｆにおける入射光線方向（χ_１、χ_２、χ_３）をマッピングするレンズ又はレンズ系による焦点面間（（４７０～４８０）、ここで、（４８０）は、レンズから距離ｆをあけて位置するレンズの前焦点面であり、（４７０）は、レンズから距離ｆ’をあけて位置するレンズの後焦点面である）変換撮像（すなわち、フーリエ変換撮像）に依拠するコノスコープスキャタロメトリの原理を概略的に示す。図４Ｂは、前記焦点面間変換撮像を実行する前端光学系（４６０）と、光源（４９０）と、光学系を通って直交入射下の平行な光ビーム（４８１）によって基板（４２０）上のＯＥＬ（４１０）に小さいスポットを照射する半透明の結合ミラー（４９１）と、前端光学系の後焦点面（４７０）におけるスポットパターンの画像を記録するカメラセンサ（４９３）を備える後端光学系（４９２）とを具備する完全後方反射コノスコープスキャタロメータ機構を概略的に示す。２つの異なる非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子配向（Ｐ１、Ｐ２）が示されており、直交入射ビームを２つの異なる光線方向に後方反射し、これらのビームは前端光学系によってその後焦点面（４７０）で２つの別個のスポットｘ_１及びｘ_３に集束される。これらのスポットの画像位置は、後端光学系（４９２）及びカメラセンサ（４９３）によって記録される。点ｘ_ｉに光を向けることによって得られた画像では、角度（φ’，θ）に対応するセンサの画素強度は、ＯＥＬ上の点ｘ_ｉにおいて前記角度で配向された非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の数に比例し、画像は、ＯＥＬ上の位置ｘ_ｉにおける非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子配向の角分布を表す。

【0048】

［０４７］その反射特性を測定するために、配向された非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含むＯＥＬは、直交入射下の直径１ｍｍの平行な光ビーム（ＬＥＤ、５２０ｎｍ）を使用して、その原点０（ｘ１１）を通過するＯＥＬの選択された直径（ｘ軸線として得た）に沿って、点Ａから点Ｂまで０．５ｍｍごとに又は０．２５ｍｍごとに評価され、各点で後方反射光の画像が得られた。これらの画像から、コノスコープスキャタロメータの後焦点面で収集された画像データに２次元のガウス分布適合を適用することによって、後方反射光スポットの対応する天頂偏向角及び方位角（φ’，θ）が得られ、（φ’，θ）値はガウス分布の中心に対応した。

【0049】

［０４８］図３Ｃ、図３Ｆ、及び図５Ｄ～図１０Ｄは、本明細書に記載し図４Ａ～図４Ｂに示すコノスコープスキャタロメータによる特徴付け測定の結果を示す。特に、図３Ｃ、図３Ｆ、及び図５Ｄ～図１０Ｄは、非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子配向に関係する、それぞれの図に示す旋回磁石アセンブリによって得られたＯＥＬの原点を通って選択された直径に沿っていくつかの位置ｘ_ｉで測定された光反射方向を（φ’，θ）グラフに示す。曲線の支点は、円対称ＯＥＬの原点を通って前記選択された直径に沿ってサンプリングされた位置に対応する。データは、以下でさらに説明するように、コノスコープスキャタロメータ上の直径１ｍｍの５２０ｎｍのＬＥＤサンプリングビームを使用して、ｘ軸線方向（これらの図の１８０°～０°の方向に対応する）として得られたＯＥＬの原点を通って前記選択された直径に沿って０．５ｍｍごとに点をサンプリングすることによって、垂直入射下で測定された。図３Ｃ、図３Ｆ、及び図５Ｄ～図１０Ｄの測定結果は、直交入射下で出ていくビームの測定された角度（φ’，θ）の分布の中心である。

【0050】

［０４９］図３Ａ及び図３Ｄは、従来技術の旋回可能な磁石アセンブリを概略的に示し、図５～図１０は、本発明による旋回可能な磁石アセンブリを概略的に示す。図３Ａは、ドーム型ＯＥＬ（図３Ｂ参照）を作製するのに好適な旋回可能な磁石アセンブリ（３００Ａ）を概略的に示し、前記旋回可能な磁石（３００Ａ）は、基板（３２０Ａ）の表面に対して実質上直角の旋回軸線（矢印参照）を有し、円板状の双極磁石であり、直径（Ａ１）、厚さ（Ａ２）を有し、その磁軸線は、その直径の１つに対して実質上平行であり且つ基板（３２０Ａ）の表面に対して実質上平行である。図３Ｄは、リング型ＯＥＬ（図３Ｅ参照）を作製するのに好適な旋回可能な磁石アセンブリ（３００Ｄ）を概略的に示し、前記旋回可能な磁石アセンブリ（３００Ｄ）は、基板（３２０Ｄ）の表面に対して実質上直角の旋回軸線（矢印参照）を有し、支持マトリックス（３５０Ｄ）に埋め込まれた３つの同一線上の棒状の双極磁石（３３１Ｄ）の中心に位置合わせされた配置を備え、その南北の磁軸線は、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（３２０Ｄ）表面に対して実質上平行であり、磁軸線は同じ方向を指す。従来技術による円対称ＯＥＬが、図３Ａ～図３Ｆに示されている。図３Ｂに示すドーム型ＯＥＬの原点を通って選択された直径にわたって測定された対応する光反射特性が、図３Ｃに示されている。従来技術によるドーム型ＯＥＬの場合、直交入射下の反射ビーム方向は、ＯＥＬの回転軸線及び直交サンプリングビームの入射点によって画定される平面内に実質上制限され、図３Ｃには、実質的な横方向の偏向は存在しない。図３Ｅに示すリング型ＯＥＬの原点を通って選択された直径にわたって測定された対応する光反射特性が図３Ｆに示されており、直交入射下の反射ビーム方向は、ＯＥＬの回転軸線及び直交サンプリングビームの入射点によって画定される平面内に実質上制限される。反射は前記平面内で前後に小刻みに動いているが、実質的な横方向の偏向はない。

【0051】

［０５０］本発明は、本明細書に記載する光学効果層（ＯＥＬ）を基板に作製する方法、及びその方法によって得られた光学効果層（ＯＥＬ）も同様に提供する。前記方法は、本明細書に記載する非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む放射線硬化性の被覆組成物を基板表面に塗布するステップｉ）を含み、前記放射線硬化性の被覆組成物は、放射線硬化性の被覆組成物内に分散させた非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子が磁場に露出されると自由に可動、回転可能、及び／又は配向可能になるように、放射線硬化性の被覆組成物が濡れている又は十分に柔らかい、第１の状態、すなわち液体又はペースト状の状態である。

【0052】

［０５１］本明細書に記載するステップｉ）は、たとえばローラ及び噴霧被覆プロセスなどの被覆プロセス、又は印刷プロセスによって実施することができる。本明細書に記載するステップｉ）は、好ましくはスクリーン印刷、輪転式グラビア印刷、フレキソグラフ印刷、インクジェット印刷、及び凹版印刷（当技術分野で、銅板刷印刷及び凹刻印刷とも呼ばれる）からなる群から選択され、より好ましくはスクリーン印刷、輪転式グラビア印刷、及びフレキソグラフ印刷からなる群から選択される印刷プロセスによって実施されることが好ましい。

【0053】

［０５２］本明細書に記載する基板表面への本明細書に記載する放射線硬化性の被覆組成物の塗布（ステップｉ））の後、部分的に同時、又は同時に、放射線硬化性の被覆組成物を本明細書に記載する旋回磁性アセンブリ（ｘ００）の磁場に露出させることによって、旋回アセンブリによって生成される磁力線に沿って非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を位置合わせするように、非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部分が配向される（ステップｉｉ））。

【0054】

［０５３］本明細書に記載する磁場を印加することによって非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部分を配向／位置合わせするステップの後、又は部分的に同時に、非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の配向が固定又は凍結される。したがって、放射線硬化性の被覆組成物は、放射線硬化性の被覆組成物内に分散させた非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子が磁場に露出されると自由に可動、回転可能、及び／又は配向可能になるように、放射線硬化性の被覆組成物が濡れている又は十分に柔らかい、第１の状態、すなわち液体又はペースト状の状態と、非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子がそれぞれの位置及び配向で固定又は凍結される第２の硬化（たとえば固体）状態とを有するはずであることに注目すべきである。

【0055】

［０５４］したがって、光学効果層（ＯＥＬ）を本明細書に記載する基板に作製する方法は、ステップｉｉ）の放射線硬化性の被覆組成物を少なくとも部分的に硬化させる第２の状態にし、非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を採用された位置及び配向で固定するステップｉｉｉ）を含む。放射線硬化性の被覆組成物を少なくとも部分的に硬化させるステップｉｉｉ）は、本明細書に記載する磁場を印加することによって非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部分を配向／位置合わせするステップ（ステップｉｉ））の後又は部分的に同時に実施することができる。放射線硬化性の被覆組成物を少なくとも部分的に硬化させるステップｉｉｉ）は、本明細書に記載する磁場を印加することによって非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部分を配向／位置合わせするステップ（ステップｉｉ））と部分的に同時に実施されることが好ましい。「部分的に同時」とは、両方のステップが部分的に同時に実行されること、すなわちステップのそれぞれを実行する時間が部分的に重複することを意味する。本明細書に記載する文脈で、配向ステップｉｉ）と部分的に同時に硬化が実行されるとき、ＯＥＬの完全又は部分的な硬化又は固化前に顔料粒子が配向されるように、硬化は配向後に有効になることを理解されたい。

【0056】

［０５５］そのように得られた光学効果層（ＯＥＬ）は、光学効果層を備える基板の周りで傾斜したとき、少なくとも１つの円形に動くスポット又は少なくとも１つの動く彗星状スポットが前記ＯＥＬの原点の周りを回転するという印象を観察者に提供する。

【0057】

［０５６］放射線硬化性の被覆組成物の第１及び第２の状態は、特定のタイプの放射線硬化性の被覆組成物を使用することによって提供される。たとえば、非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子以外の放射線硬化性の被覆組成物の成分は、セキュリティの応用例で、たとえば銀行券の印刷に使用されるものなどのインク又は放射線硬化性の被覆組成物の形をとることができる。上述した第１及び第２の状態は、電磁放射への露出に反応して粘性の増大を示す材料を使用することによって提供される。すなわち、流体接着材料が硬化又は凝固されるとき、前記接着材料は第２の状態に変換され、非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子は現在の位置及び配向で固定され、接着材料内で移動又は回転することができなくなる。

【0058】

［０５７］当業者には知られているように、基板などの表面へ塗布される放射線硬化性の被覆組成物に含まれる成分、及び前記放射線硬化性の被覆組成物の物性は、放射線硬化性の被覆組成物を基板表面へ伝達するために使用されるプロセスの要件を満たさなければならない。したがって、本明細書に記載する放射線硬化性の被覆組成物に含まれる接着材料は、典型的には、当技術分野では知られているものの中から選択され、放射線硬化性の被覆組成物を塗布するために使用される被覆又は印刷プロセス及び選択された放射線硬化プロセスに依存する。

【0059】

［０５８］本明細書に記載する光学効果層（ＯＥＬ）では、本明細書に記載する非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子は、磁性又は磁化可能顔料粒子の配向を固定／凍結する硬化接着材料を含む固化された放射線硬化性の被覆組成物内で分散させられる。硬化接着材料は、２００ｎｍ～２５００ｎｍに含まれる波長範囲の電磁放射に対して少なくとも部分的に透明である。したがって、接着材料は、少なくとも硬化又は固体状態（本明細書では第２の状態とも呼ぶ）にあり、２００ｎｍ～２５００ｎｍに含まれる波長範囲、すなわち典型的に「光スペクトル」と呼ばれる電磁スペクトルの赤外、可視、及び紫外部分を含む波長範囲内の電磁放射に対して少なくとも部分的に透明であり、したがってその硬化又は固体状態及び配向依存反射性で接着材料内に含有される粒子は、接着材料を通して知覚することができる。硬化接着材料は、好ましくは２００ｎｍ～８００ｎｍに含まれる、より好ましくは４００ｎｍ～７００ｎｍに含まれる波長範囲の電磁放射に対して少なくとも部分的に透明である。本明細書では、「透明」という用語は、ＯＥＬに存在する硬化接着材料（そのような成分が存在する場合、小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を含まないが、ＯＥＬの他のすべての任意選択的な成分を含む）の２０μｍの層を通した電磁放射の透過が、関連する波長（複数可）で、少なくとも５０％、より好ましくは少なくとも６０％、さらにより好ましくは少なくとも７０％であることを示す。これはたとえば、十分に確立された試験方法、たとえばＤＩＮ５０３６－３（１９７９－１１）に従って、硬化接着材料（非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含まない）の試験片の透過率を測定することによって判定することができる。ＯＥＬが機密セキュリティ特徴として働く場合、典型的に、選択された非可視波長を含むそれぞれの照射条件下でＯＥＬによって生成される（完全）光学効果を検出するために、技術的手段が必要であり、前記検出は、入射放射の波長が可視範囲外、たとえば近紫外範囲内から選択されることを必要とする。電磁スペクトルの赤外、可視、及び紫外部分は、それぞれ７００～２５００ｎｍ、４００～７００ｎｍ、及び２００～４００ｎｍの波長範囲にほぼ対応する。

【0060】

［０５９］上述したように、本明細書に記載する放射線硬化性の被覆組成物は、前記放射線硬化性の被覆組成物を塗布するために使用される被覆又は印刷プロセス及び選択された硬化プロセスに依存する。放射線硬化性の被覆組成物の硬化は、本明細書に記載するＯＥＬを備える物品の典型的な使用中に生じうる簡単な温度上昇（たとえば、最高８０℃）によって逆にされることのない化学反応を伴うことが好ましい。「硬化」又は「硬化性」という用語は、出発物質より大きい分子量を有する高分子材料にするような、塗布される放射線硬化性の被覆組成物内の少なくとも１つの成分の化学反応、架橋、又は重合を含むプロセスを指す。放射線硬化は、硬化照射への露出後に放射線硬化性の被覆組成物の粘性の瞬時増大をもたらし、したがって顔料粒子のさらなる動きを防止し、その結果、磁性配向ステップ後の情報の損失を防止することが有利である。硬化ステップ（ステップｉｉｉ））は、好ましくは紫外－可視光の放射線硬化を含む放射線硬化又は電子ビーム放射線硬化によって、より好ましくはＵＶ－Ｖｉｓ光の放射線硬化によって実施される。

【0061】

［０６０］したがって、本発明にとって好適な放射線硬化性の被覆組成物は、紫外－可視光放射（以下、ＵＶ－Ｖｉｓ光放射と呼ぶ）又は電子ビーム放射（以下、ＥＢ放射と呼ぶ）によって硬化させることができる放射線硬化性組成物を含む。放射線硬化性組成物は、当技術分野で知られており、「Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ＆ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ｏｆ ＵＶ ＆ ＥＢ Ｆｏｒｍｕｌａｔｉｏｎ ｆｏｒ Ｃｏａｔｉｎｇｓ， Ｉｎｋｓ ＆ Ｐａｉｎｔｓ」シリーズ、Ｖｏｌｕｍｅ ＩＶ、 Ｆｏｒｍｕｌａｔｉｏｎ、Ｃ．Ｌｏｗｅ、Ｇ．Ｗｅｂｓｔｅｒ、Ｓ．Ｋｅｓｓｅｌ、及びＩ．ＭｃＤｏｎａｌｄ著、１９９６年、Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ出版、ＳＩＴＡ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｌｉｍｉｔｅｄ共同などの標準的な教科書に見ることができる。本発明の１つの特に好ましい実施形態によれば、本明細書に記載する放射線硬化性の被覆組成物は、ＵＶ－Ｖｉｓ放射線硬化性の被覆組成物である。したがって、本明細書に記載する非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む放射線硬化性の被覆組成物は、紫外－可視光放射によって、好ましくはＵＶ－Ａ（３１５～４００ｎｍ）又は青色（４００～５００ｎｍ）スペクトル領域内の狭帯域ＬＥＤ光によって、最も好ましくは３５０ｎｍ～４５０ｎｍのスペクトル領域内で放出し、２０ｎｍ～５０ｎｍ範囲の典型的な放出帯域幅を有する高出力ＬＥＤ源によって、好ましくは少なくとも部分的に硬化される。放射線硬化性の被覆組成物の硬化率を増大させるために、水銀蒸気ランプ又はドープ水銀ランプからの紫外放射を使用することもできる。

【0062】

［０６１］ＵＶ－Ｖｉｓ放射線硬化性の被覆組成物は、ラジカル硬化性化合物及びカチオン硬化性化合物からなる群から選択される１つ又は複数の化合物を含むことが好ましい。本明細書に記載するＵＶ－Ｖｉｓ放射線硬化性の被覆組成物は、複合システムとすることができ、１つ又は複数のカチオン硬化性化合物及び１つ又は複数のラジカル硬化性化合物の混合物を含むことができる。カチオン硬化性化合物は、典型的には酸などのカチオン種を遊離させる１つ又は複数の光開始剤の放射による活性化を含むカチオン機構によって硬化され、カチオン種は、硬化を開始してモノマー及び／又はオリゴマーを反応及び／又は架橋させ、以て放射線硬化性の被覆組成物を硬化させる。ラジカル硬化性化合物は、典型的には１つ又は複数の光開始剤の放射による活性化を含むフリーラジカル機構によって硬化され、以てラジカルを生成し、ラジカルは、重合を開始して放射線硬化性の被覆組成物を硬化させる。本明細書に記載するＵＶ－Ｖｉｓ放射線硬化性の被覆組成物に含まれる接着剤を準備するために使用されるモノマー、オリゴマー、又はプレポリマーに応じて、異なる光開始剤を使用することができる。フリーラジカル光開始剤の好適な例は、当業者には知られており、非限定的に、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ベンジルジメチルケタール、α－アミノケトン、α－ヒドロキシケトン、酸化ホスフィン及び酸化ホスフィン誘導体、並びにこれら２つ以上の混合物が含まれる。カチオン光開始剤の好適な例は、当業者には知られており、非限定的に、有機ヨードニウム塩（たとえば、ジアリールヨードニウム塩）、オキソニウム（たとえば、トリアリールオニウム塩）、及びスルホニウム塩（たとえば、トリアリールスルホニウム塩）、並びにこれら２つ以上の混合物などのオニウム塩が含まれる。有用な光開始剤の他の例は、「Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ＆ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ｏｆ ＵＶ ＆ ＥＢ Ｆｏｒｍｕｌａｔｉｏｎ ｆｏｒ Ｃｏａｔｉｎｇｓ， Ｉｎｋｓ ＆ Ｐａｉｎｔｓ」、Ｖｏｌｕｍｅ ＩＩＩ、「Ｐｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒｓ ｆｏｒ Ｆｒｅｅ Ｒａｄｉｃａｌ Ｃａｔｉｏｎｉｃ ａｎｄ Ａｎｉｏｎｉｃ Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ」、第２版、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ及びＫ．Ｄｉｅｔｌｉｋｅｒ著、Ｇ．Ｂｒａｄｌｅｙ編、１９９８年、Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ出版、ＳＩＴＡ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｌｉｍｉｔｅｄ共同などの標準的な教科書に見ることができる。また、効率的な硬化を実現するために、１つ又は複数の光開始剤とともに増感剤を含むことが有利になりうる。好適な光増感剤の典型的な例には、非限定的に、イソプロピル－チオキサントン（ＩＴＸ）、１－クロロ－２－プロポキシ－チオキサントン（ＣＰＴＸ）、２－クロロ－チオキサントン（ＣＴＸ）、及び２，４－ジエチル－チオキサントン（ＤＥＴＸ）、並びにこれら２つ以上の混合物が含まれる。ＵＶ－Ｖｉｓ放射線硬化性の被覆組成物に含まれる１つ又は複数の光開始剤は、好ましくは約０．１重量％～約２０重量％、より好ましくは約１重量％～約１５重量％の総量で存在し、重量パーセントは、ＵＶ－Ｖｉｓ放射線硬化性の被覆組成物の総重量に基づく。

【0063】

［０６２］本明細書に記載する放射線硬化性の被覆組成物は、１つ若しくは複数のマーカ物質若しくはタガント、並びに／又は磁性材料（本明細書に記載する小板状の磁性若しくは磁化可能顔料粒子とは異なる）、発光性材料、導電性材料、及び赤外線吸収性材料からなる群から選択される１つ若しくは複数の機械可読材料をさらに含むことができる。本明細書では、「機械可読材料」という用語は、肉眼では知覚することができない少なくとも１つの独特な特性を呈し、その認証のための特定の機器の使用によって層又は層を備える物品を認証する方法を示すように層に含むことができる材料を指す。

【0064】

［０６３］本明細書に記載する放射線硬化性の被覆組成物は、有機顔料粒子、無機顔料粒子、及び有機染料からなる群から選択される１つ若しくは複数の着色成分、並びに／又は１つ若しくは複数の添加物をさらに含むことができる。添加物には、非限定的に、粘性（たとえば、溶剤、増粘剤、及び界面活性剤）、粘稠性（たとえば、沈降防止剤、充填剤、及び可塑剤）、発泡特性（たとえば、消泡剤）、潤滑特性（ワックス、油）、紫外線安定性（光安定剤）、接着特性、帯電防止特性、貯蔵寿命（重合抑制剤）、グロスなどの放射線硬化性の被覆組成物の物理的、流動学的、及び化学的なパラメータを調整するために使用される化合物及び材料が含まれる。本明細書に記載する添加物は、添加物の寸法のうちの少なくとも１つが１～１０００ｎｍの範囲内であるいわゆるナノ材料を含む、当技術分野では知られている量及び形で放射線硬化性の被覆組成物内に存在することができる。

【0065】

［０６４］本明細書に記載する放射線硬化性の被覆組成物は、本明細書に記載する非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む。非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子は、好ましくは約２重量％～約４０重量％、より好ましくは約４重量％～約３０重量％の量で存在し、重量パーセントは、接着材料、非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子、及び放射線硬化性の被覆組成物の他の任意選択的な成分を含む放射線硬化性の被覆組成物の総重量に基づく。

【0066】

［０６５］本明細書に記載する非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子は、非球形で扁円の形状のため、硬化又は固化接着材料が少なくとも部分的に透明である入射電磁放射に対して非等方性反射を有すると定義される。本明細書では、「非等方性反射」という用語は、粒子によって反射される第１の角度から特定の（視野）方向（第２の角度）への入射放射の割合が、粒子の配向に応じること、すなわち第１の角度に対する粒子の配向の変化が、視野方向に対して異なる大きさの反射をもたらす可能性があることを示す。本明細書に記載する非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子は、好ましくは約２００～約２５００ｎｍ、より好ましくは約４００～約７００ｎｍのいくつかの部分又は完全な波長範囲内の入射電磁放射に対して非等方性反射を有し、したがって粒子の配向が変化する結果、その粒子による特定の方向への反射も変化する。当業者には知られているように、本明細書に記載する磁性又は磁化可能顔料粒子は、従来の顔料とは異なり、前記従来の顔料粒子は、すべての視野角に対して同じ色を表示し、本明細書に記載する磁性又は磁化可能顔料粒子は、上述した非等方性反射を呈する。

【0067】

［０６６］本明細書に記載する非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子は、好ましくは小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子である。

【0068】

［０６７］本明細書に記載する非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の好適な例には、非限定的に、コバルト（Ｃｏ）、鉄（Ｆｅ）、ガドリニウム（Ｇｄ）、及びニッケル（Ｎｉ）からなる群から選択される磁性金属、鉄、マンガン、コバルト、ニッケル、及びこれら２つ以上の混合物の磁性合金、クロム、マンガン、コバルト、鉄、ニッケル、及びこれら２つ以上の混合物の磁性酸化物、並びにこれら２つ以上の混合物を含む顔料粒子が含まれる。金属、合金、及び酸化物を参照する「磁性」という用語は、強磁性又はフェリ磁性金属、合金、及び酸化物を対象とする。クロム、マンガン、コバルト、鉄、ニッケル、又はこれら２つ以上の混合物の磁性酸化物は、純粋又は混合酸化物とすることができる。磁性酸化物の例には、非限定的に、赤鉄鉱（Ｆｅ_２Ｏ_３）、磁鉄鉱（Ｆｅ_３Ｏ_４）、二酸化クロム（ＣｒＯ_２）、磁性フェライト（ＭＦｅ_２Ｏ_４）、磁性スピネル（ＭＲ_２Ｏ_４）、磁性ヘキサフェライト（ＭＦｅ_１２Ｏ_１９）、磁性オルトフェライト（ＲＦｅＯ_３）、磁性ガーネットＭ_３Ｒ_２（ＡＯ_４）_３などの酸化鉄が含まれ、ここでＭは２価金属を表し、Ｒは３価金属を表し、Ａは４価金属を表す。

【0069】

［０６８］本明細書に記載する非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の例には、非限定的に、コバルト（Ｃｏ）、鉄（Ｆｅ）、ガドリニウム（Ｇｄ）、又はニッケル（Ｎｉ）などの磁性金属、及び鉄、コバルト、又はニッケルの磁性合金のうちの１つ又は複数から作られた磁性体層Ｍを含む顔料粒子が含まれ、前記小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子は、１つ又は複数の追加の層を含む多層構造とすることができる。１つ又は複数の追加の層は、好ましくはフッ化マグネシウム（ＭｇＦ_２）などの金属フッ化物、酸化ケイ素（ＳｉＯ）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）、酸化チタン（ＴｉＯ_２）、硫化亜鉛（ＺｎＳ）、及び酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）からなる群から選択され、より好ましくは二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）である１つ若しくは複数の材料から独立して作られた層Ａ、又は金属及び金属合金からなる群から選択され、好ましくは反射性金属及び反射性金属合金からなる群から選択され、より好ましくはアルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、及びニッケル（Ｎｉ）からなる群から選択され、さらにより好ましくはアルミニウム（Ａｌ）である１つ若しくは複数の材料から独立して作られた層Ｂ、又は上述したものなどの１つ若しくは複数の層Ａ及び上述したものなどの１つ若しくは複数の層Ｂの組合せである。上述した多層構造である小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子の典型的な例には、非限定的に、Ａ／Ｍ多層構造、Ａ／Ｍ／Ａ多層構造、Ａ／Ｍ／Ｂ多層構造、Ａ／Ｂ／Ｍ／Ａ多層構造、Ａ／Ｂ／Ｍ／Ｂ多層構造、Ａ／Ｂ／Ｍ／Ｂ／Ａ多層構造、Ｂ／Ｍ多層構造、Ｂ／Ｍ／Ｂ多層構造、Ｂ／Ａ／Ｍ／Ａ多層構造、Ｂ／Ａ／Ｍ／Ｂ多層構造、Ｂ／Ａ／Ｍ／Ｂ／Ａ多層構造が含まれ、層Ａ、磁性体層Ｍ、及び層Ｂは、上述したものから選択される。

【0070】

［０６９］本明細書に記載する非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部は、非球形で扁円の光学的に可変の磁性又は磁化可能顔料粒子及び／又は光学的に可変でない特性を有する非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子によって構成することができる。本明細書に記載する非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部分は、非球形で扁円の光学的に可変の磁性又は磁化可能顔料粒子によって構成されることが好ましい。支援なしの人間の感覚を使用して、本明細書に記載する非球形で扁円の光学的に可変の磁性又は磁化可能顔料粒子を含むインク、放射線硬化性の被覆組成物、被覆、又は層を保持する物品又はセキュリティ文書を、起こりうる偽造から容易に検出、認識、及び／又は区別することを可能にする、非球形で扁円の光学的に可変の磁性又は磁化可能顔料粒子の変色特性によって提供される公開セキュリティに加えて、小板状の光学的に可変の磁性又は磁化可能顔料粒子の光学特性は、ＯＥＬの認識のために機械可読ツールとして使用することもできる。したがって、非球形で扁円の光学的に可変の磁性又は磁化可能顔料粒子の光学特性は、顔料粒子の光学（たとえばスペクトル）特性が分析される認証プロセスにおいて、機密又は半機密セキュリティ特徴として同時に使用することができる。放射線硬化性の被覆組成物において非球形で扁円の光学的に可変の磁性又は磁化可能顔料粒子を使用してＯＥＬを作製すると、そのような材料（すなわち、非球形で扁円の光学的に可変の磁性又は磁化可能顔料粒子）は、一般に市販されるのではなく、セキュリティ文書印刷業界のために保留されるため、セキュリティ文書の応用例におけるセキュリティ特徴としてのＯＥＬの重大性が高まる。

【0071】

［０７０］さらに、その磁気特性のため、本明細書に記載する非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子は機械可読であり、したがってたとえば特有の磁気検出器によって、それらの顔料粒子を含む放射線硬化性の被覆組成物を検出することができる。したがって、本明細書に記載する非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む放射線硬化性の被覆組成物は、セキュリティ文書に対する機密又は半機密セキュリティ要素（認証ツール）として使用することができる。

【0072】

［０７１］上述したように、非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部分は、非球形で扁円の光学的に可変の磁性又は磁化可能顔料粒子によって構成されることが好ましい。これらは、非球形で扁円の磁性薄膜干渉顔料粒子、非球形で扁円の磁性コレステリック液晶顔料粒子、磁性材料を含む非球形で扁円の干渉被覆顔料粒子、及びこれら２つ以上の混合物からなる群から選択することができることがより好ましい。

【0073】

［０７２］磁性薄膜干渉顔料粒子は、当業者には知られており、たとえば米国特許第４，８３８，６４８号、国際公開第２００２／０７３２５０号、欧州特許第０６８６６７５号、国際公開第２００３／０００８０１号、米国特許第６，８３８，１６６号、国際公開第２００７／１３１８３３号、欧州特許出願公開第２４０２４０１号、及び本明細書に引用した文献に開示されている。磁性薄膜干渉顔料粒子は、５層のファブリ－ペロー多層構造を有する顔料粒子、及び／又は６層のファブリ－ペロー多層構造を有する顔料粒子、及び／又は７層のファブリ－ペロー多層構造を有する顔料粒子を含むことが好ましい。

【0074】

［０７３］５層のファブリ－ペロー多層構造は、吸収体／誘電体／反射体／誘電体／吸収体の多層構造からなることが好ましく、反射体及び／又は吸収体は磁性体層でもあり、反射体及び／又は吸収体は、ニッケル、鉄、及び／若しくはコバルトを含む磁性体層、並びに／又はニッケル、鉄、及び／若しくはコバルトを含む磁性合金、並びに／又はニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）を含む磁性酸化物であることが好ましい。

【0075】

［０７４］６層のファブリ－ペロー多層構造は、吸収体／誘電体／反射体／磁性体／誘電体／吸収体の多層構造からなることが好ましい。

【0076】

［０７５］７層のファブリ－ペロー多層構造は、米国特許第４，８３８，６４８号に開示されているものなど、吸収体／誘電体／反射体／磁性体／反射体／誘電体／吸収体の多層構造からなることが好ましい。

【0077】

［０７６］本明細書に記載する反射体層は、金属及び金属合金からなる群から選択され、好ましくは反射性金属及び反射性金属合金からなる群から選択され、より好ましくはアルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、金（Ａｕ）、白金（Ｐｔ）、スズ（Ｓｎ）、チタン（Ｔｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、ロジウム（Ｒｈ）、ニオブ（Ｎｂ）、クロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、及びこれらの合金からなる群から選択され、さらにより好ましくはアルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、及びこれらの合金からなる群から選択され、さらにより好ましくはアルミニウム（Ａｌ）である１つ又は複数の材料から独立して作られることが好ましい。誘電体層は、好ましくはフッ化マグネシウム（ＭｇＦ_２）、フッ化アルミニウム（ＡｌＦ_３）、フッ化セリウム（ＣｅＦ_３）、フッ化ランタン（ＬａＦ_３）、フッ化アルミニウムナトリウム（たとえば、Ｎａ_３ＡｌＦ_６）、フッ化ネオジム（ＮｄＦ_３）、フッ化サマリウム（ＳｍＦ_３）、フッ化バリウム（ＢａＦ_２）、フッ化カルシウム（ＣａＦ_２）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）などの金属フッ化物、及び酸化ケイ素（ＳｉＯ）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）、酸化チタン（ＴｉＯ_２）、酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）などの金属酸化物からなる群から選択され、より好ましくはフッ化マグネシウム（ＭｇＦ_２）及び二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）からなる群から選択され、さらにより好ましくはフッ化マグネシウム（ＭｇＦ_２）である１つ又は複数の材料から独立して作られる。吸収体層は、好ましくはアルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、パラジウム（Ｐｄ）、白金（Ｐｔ）、チタン（Ｔｉ）、バナジウム（Ｖ）、鉄（Ｆｅ）、スズ（Ｓｎ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）、ロジウム（Ｒｈ）、ニオブ（Ｎｂ）、クロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、これらの金属酸化物、これらの金属硫化物、これらの金属炭化物、及びこれらの金属合金からなる群から選択され、より好ましくはクロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、これらの金属酸化物、及びこれらの金属合金からなる群から選択され、さらにより好ましくはクロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、及びこれらの金属合金からなる群から選択される１つ又は複数の材料から独立して作られる。磁性体層は、ニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／又はコバルト（Ｃｏ）、並びに／又はニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／又はコバルト（Ｃｏ）を含む磁性合金、並びに／又はニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／又はコバルト（Ｃｏ）を含む磁性酸化物を含むことが好ましい。７層のファブリ－ペロー構造を含む磁性薄膜干渉顔料粒子が好ましいとき、磁性薄膜干渉顔料粒子は、Ｃｒ／ＭｇＦ_２／Ａｌ／Ｍ／Ａｌ／ＭｇＦ_２／Ｃｒの多層構造からなる７層のファブリ－ペローの吸収体／誘電体／反射体／磁性体／反射体／誘電体／吸収体の多層構造を含むことが特に好ましく、Ｍはニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）、並びに／又はニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）を含む磁性合金、並びに／又はニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）を含む磁性酸化物を含む磁性体層である。

【0078】

［０７７］本明細書に記載する磁性薄膜干渉顔料粒子は、人間の健康及び環境にとって安全であると考えられ、たとえば５層のファブリ－ペロー多層構造、６層のファブリ－ペロー多層構造、及び７層のファブリ－ペロー多層構造に基づく多層顔料粒子とすることができ、前記顔料粒子は、約４０重量％～約９０重量％の鉄、約１０重量％～約５０重量％のクロム、及び約０重量％～約３０重量％のアルミニウムを含む実質上ニッケルのない組成物を有する磁性合金を含む１つ又は複数の磁性体層を含む。人間の健康及び環境にとって安全であると考えられる多層顔料粒子の典型的な例は、全体として参照により本明細書に組み込まれている欧州特許出願公開第２４０２４０１号に見ることができる。

【0079】

［０７８］本明細書に記載する磁性薄膜干渉顔料粒子は、典型的に、必要とされる異なる層をウェブへ堆積する確立された技法によって製造される。たとえば物理気相成長（ＰＶＤ）、化学気相成長（ＣＶＤ）、又は電解堆積による所望の数の層の堆積後、好適な溶剤内の解放層を溶解することによって、又はウェブから材料をはがすことによって、これらの層のスタックはウェブから除去される。そのように得られた材料は次いで、小板状の顔料粒子に分解され、これらの小板状の顔料粒子は、必要とされるサイズの顔料粒子を得るために、切削、ミリング（たとえば、ジェットミリングプロセスなど）、又は任意の好適な方法によってさらに処理しなければならない。その結果得られる生成物は、壊れた縁部、不規則な形状、及び異なる縦横比を有する平坦な小板状の顔料粒子からなる。好適な小板状の磁性薄膜干渉顔料粒子の準備に関するさらなる情報は、たとえば、参照により本明細書に組み込まれている欧州特許出願公開第１７１０７５６号及び欧州特許出願公開第１６６６５４６号に見ることができる。

【0080】

［０７９］光学的に可変の特徴を呈する好適な磁性コレステリック液晶顔料粒子には、非限定的に、磁性単層コレステリック液晶顔料粒子及び磁性多層コレステリック液晶顔料粒子が含まれる。そのような顔料粒子は、たとえば国際公開第２００６／０６３９２６号、米国特許第６，５８２，７８１号、及び米国特許第６，５３１，２２１号に開示されている。国際公開第２００６／０６３９２６号は、高い輝度及び変色特性を有し、磁化性などの追加の特定の特性を有する単層、並びにそこから得られる顔料粒子を開示している。開示されている単層、及び前記単層を砕くことによってそこから得られる顔料粒子は、３次元で架橋されたコレステリック液晶混合物及び磁性ナノ粒子を含む。米国特許第６，５８２，７８１号及び米国特許第６，４１０，１３０号は、Ａ^１／Ｂ／Ａ^２のシーケンスを含むコレステリック多層顔料粒子を開示しており、Ａ^１及びＡ^２は、同一又は異なるものとすることができ、それぞれ少なくとも１つのコレステリック層を含み、Ｂは、層Ａ^１及びＡ^２によって透過される光のすべて又は一部を吸収する中間層であり、この光は前記中間層に磁気特性を与える。米国特許第６，５３１，２２１号は、Ａ／Ｂ及び任意選択でＣのシーケンスを含む小板状のコレステリック多層顔料粒子を開示しており、Ａ及びＣは、磁気特性を与える顔料粒子を含む吸収層であり、Ｂはコレステリック層である。

【0081】

［０８０］１つ又は複数の磁性材料を含む好適な干渉被覆顔料には、非限定的に、１つ又は複数の層で被覆されたコアからなる群から選択される基板からなる構造が含まれ、コア又は１つ若しくは複数の層のうちの少なくとも１つは、磁気特性を有する。たとえば、好適な干渉被覆顔料は、上述したものなどの磁性材料から作られたコアを含み、前記コアは、１つ若しくは複数の金属酸化物から作られた１つ若しくは複数の層で被覆され、又は好適な干渉被覆顔料は、合成若しくは天然雲母、積層ケイ酸塩（たとえば、タルク、カオリン、及びセリサイト）、ガラス（たとえば、ホウケイ酸塩）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）、酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）、酸化チタン（ＴｉＯ_２）、グラファイト、並びにこれら２つ以上の混合物から作られたコアからなる構造を有する。さらに、着色層などの１つ又は複数の追加の層が存在することができる。

【0082】

［０８１］本明細書に記載する非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子は、放射線硬化性の被覆組成物内で生じうるあらゆる劣化からの保護及び／又は放射線硬化性の被覆組成物内の組込みの促進のために表面処理することができ、典型的には腐食抑制材料及び／又は湿潤剤を使用することができる。

【0083】

［０８２］本明細書に記載する基板は、好ましくは、紙、又はセルロース、紙含有材料、ガラス、金属、セラミック、プラスチック、及びポリマー、金属化プラスチック若しくはポリマー、複合材料、並びにこれらの混合物若しくは組合せなどの他の繊維性材料からなる群から選択される。典型的な紙、紙状、又は他の繊維性材料は、非限定的にマニア麻、綿、リネン、木材パルプ、及びこれらの混紡物を含む様々な繊維から作られる。当業者にはよく知られているように、綿及び綿／リネンの混紡物は銀行券に好ましく、木材パルプは銀行券以外のセキュリティ文書で一般に使用される。プラスチック及びポリマーの典型的な例には、ポリエチレン（ＰＥ）及びポリプロピレン（ＰＰ）などのポリオレフィン、ポリアミド、ポリ（エチレンテレフタレート）（ＰＥＴ）、ポリ（１，４－ブチレンテレフタレート）（ＰＢＴ）、ポリ（エチレン２，６－ナフトエート）（ＰＥＮ）などのポリエステル、並びにポリビニル塩化物（ＰＶＣ）が含まれる。また、タイベック（Ｔｙｖｅｋ）（登録商標）の商標で販売されているものなどのスパンボンドオレフィン繊維を基板として使用することもできる。金属化プラスチック又はポリマーの典型的な例には、表面に金属が連続的又は断続的に配置された上述したプラスチック又はポリマー材料が含まれる。金属の典型的な例には、非限定的に、アルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、銅（Ｃｕ）、金（Ａｕ）、鉄（Ｆｅ）、ニッケル（Ｎｉ）、銀（Ａｇ）、これらの組合せ、又は上述した金属のうちの２つ以上の合金が含まれる。上述したプラスチック又はポリマー材料の金属化は、電着プロセス、高真空被覆プロセス、又はスパッタリングプロセスによって行うことができる。複合材料の典型的な例には、非限定的に、上述したものなどの紙及び少なくとも１つのプラスチック又はポリマー材料、並びに上述したものなどの紙状又は繊維性材料に組み込まれたプラスチック及び／又はポリマー繊維の多層構造又は積層体が含まれる。当然ながら、基板は、のり剤、漂白剤、加工助剤、補強又は湿潤増強剤などの当業者には知られているさらなる添加物を含むことができる。本明細書に記載する基板は、ウェブ（たとえば、上述した材料の連続シート）又はシートの形で提供することができる。本発明によって作製されるＯＥＬがセキュリティ文書である場合、セキュリティレベル並びに前記セキュリティ文書の偽造及び違法複製に対する抵抗をさらに増大させる目的で、基板は、印刷、被覆、又はレーザマーク若しくはレーザ穿孔された印、透かし、セキュリティスレッド、繊維、プランセット、発光性化合物、窓、箔、図案、及びこれら２つ以上の組合せを含むことができる。セキュリティレベル並びにセキュリティ文書の偽造及び違法複製に対する抵抗をさらに増大させるという同じ目的で、基板は、１つ又は複数のマーカ物質若しくはタガント及び／又は機械可読物質（たとえば、発光性物質、紫外／可視／赤外吸収物質、磁性物質、及びこれらの組合せ）を含むことができる。

【0084】

［０８３］旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）、及び本明細書に記載する旋回磁性アセンブリ（ｘ００）を使用して本明細書に記載するものなどのＯＥＬ（ｘ１０）を本明細書に記載する基板（ｘ２０）に作製する処理もまた、本明細書に記載され、非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む前記ＯＥＬは、本明細書に記載するものなどの硬化された放射線硬化性の被覆組成物内に配向される。本明細書に記載する旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）は、ＯＥＬ（ｘ１０）の作製により、前記ＯＥＬを傾斜させたときに少なくとも１つの円形に動くスポット又は少なくとも１つの円形に動く彗星状スポットが回転するという光学的印象を提供することを可能にし、前記旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）は、非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を配向して本明細書に記載するＯＥＬを作製するように旋回する。本明細書に記載する旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）は、少なくともａ）本明細書に記載する第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）及びｂ）本明細書に記載する第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）の相互作用に基づいている。典型的には、本明細書に記載する旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）は、アセンブリ（ｘ００）を旋回させるときにＯＥＬの平面に実質上直交するように配向された旋回軸線を有する支持体に固定される。本発明に対する好適な旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）は、旋回軸線に垂直鏡面を含まず、したがってＯＥＬは、前記ＯＥＬを傾斜及び回転させたとき、少なくとも１つの円形に動くスポットが前記回転中心の周りを回転するという視覚的印象を提供する。

【0085】

［０８４］旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）は、本明細書に記載する第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）及び本明細書に記載する第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）を備え、本明細書に記載する前記第１及び第２の磁場生成デバイスは、ともに随伴して旋回することが可能である。本明細書に記載する旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）の旋回軸線は、ＯＥＬ及び基板（ｘ２０）の表面に対して実質上直角である。本明細書に記載する旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）の旋回軸線は、本明細書に記載するＯＥＬの円対称配向パターンの中心に対応する。動作中、磁性アセンブリ（ｘ００）は、必要とされる周波数で旋回している。本明細書に記載する磁性アセンブリ（ｘ００）及び方法の一実施形態では、磁性アセンブリ（ｘ００）の中心旋回軸線は、露出中に基板の一部分を直交して通過する。

【0086】

［０８５］本明細書に記載する旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）は、本明細書に記載する第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）及び本明細書に記載する第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）を随伴して旋回させる電気モータを備えることが好ましい。好ましい電気モータは、国際公開第２０１６／０２６８９６号に開示されている。

【0087】

［０８６］本明細書に記載する旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）の第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）は、本明細書に記載する支持マトリックス（ｘ３２）に少なくとも部分的又は完全に埋め込まれた少なくとも１対の２つの棒状の双極磁石（ｘ３１）を備え、前記棒状の双極磁石（ｘ３１）はそれぞれ、旋回軸線に対して実質上平行（すなわち、基板（ｘ２０）の表面に対して実質上直角）の南北の磁軸線を有し、少なくとも１対の前記２つの棒状の双極磁石（ｘ３１）は、反対の磁場方向を有し、線（α）に沿って旋回軸線の周りに対称構成で配置される。

【0088】

［０８７］本明細書に記載する支持マトリックス（ｘ３２）は、１つ又は複数の非磁性材料から作られる。非磁性材料は、たとえばエンジニアリングプラスチック及びポリマー、アルミニウム、アルミニウム合金、チタン、チタン合金、及びオーステナイト鋼（すなわち、非磁性鋼）などの低導電性材料、非導電性材料、及びこれらの混合物からなる群から選択されることが好ましい。エンジニアリングプラスチック及びポリマーには、非限定的に、ポリアリールエーテルケトン（ＰＡＥＫ）及びその誘導体、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルケトンケトン（ＰＥＫＫ）、ポリエーテルエーテルケトンケトン（ＰＥＥＫＫ）、並びにポリエーテルケトンエーテルケトンケトン（ＰＥＫＥＫＫ）、ポリアセタール、ポリアミド、ポリエステル、ポリエーテル、コポリエーテルエステル、ポリイミド、ポリエーテルイミド、高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、超高分子量ポリエチレン（ＵＨＭＷＰＥ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリプロピレン、アクリロニトリルブタジエンスチレン（ＡＢＳ）共重合体、フッ化及びペルフッ化ポリエチレン、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）、並びに液晶ポリマーが含まれる。好ましい材料としては、ＰＥＥＫ（ポリエーテルエーテルケトン）、ＰＯＭ（ポリオキシメチレン）、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）、ナイロン（登録商標）（ポリアミド）、及びＰＰＳが挙げられる。

【0089】

［０８８］本明細書に記載する支持マトリックス（ｘ３２）は、本明細書に記載する第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）の棒状の双極磁石（ｘ３１）をそれぞれ保持する２つ以上の凹部、空隙、くぼみ、及び／又は空間を含む。本明細書に記載する支持マトリックス（ｘ３２）は、本明細書に記載する第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）の構成要素（複数可）をそれぞれ保持し、特に本明細書に記載する第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）の棒状の双極磁石（ｘ４１）及び／若しくは少なくとも１対の２つの棒状の双極磁石（ｘ４１）、並びに／又は任意の他の部分を保持する１つ又は複数の追加の凹部、空隙、くぼみ、及び／又は空間をさらに含むことができる。

【0090】

［０８９］一実施形態によれば、図５Ａ１、図８Ａ１～図１０Ａ１に示すように、第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）は、１対の２つの棒状の双極磁石（ｘ３１）を備え、前記２つの棒状の双極磁石（ｘ３１）はそれぞれ、旋回軸線に対して実質上平行（すなわち、基板（ｘ２０）の表面に対して実質上直角）の南北の磁軸線を有し、少なくとも１対の２つの棒状の双極磁石（ｘ３１）は、反対の磁場方向を有し、本明細書に記載する支持マトリックス（ｘ３２）に少なくとも部分的又は完全に埋め込まれ、本明細書に記載する線（α）に沿って旋回軸線の周りに対称構成で配置される。

【0091】

［０９０］別の実施形態によれば、図６Ａ１及び図７Ａ１に示すように、第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）は、２対以上、特に２対の（Ｄ１、Ｄ２）の２つの棒状の双極磁石（ｘ３１）を備え、前記棒状の双極磁石（ｘ３１）はそれぞれ、旋回軸線に対して実質上平行（すなわち、基板（ｘ２０）の表面に対して実質上直角）の南北の磁軸線を有し、前記２対以上の２つの棒状の双極磁石（ｘ３１）の各対は、２つの棒状の双極磁石（ｘ３１）を備え、前記棒状の双極磁石（ｘ３１）は、反対の磁場方向を有し、本明細書に記載する対称の支持マトリックス（ｘ３２）に少なくとも部分的又は完全に埋め込まれ、本明細書に記載する同じ対称軸線（α）に沿って同軸に配置される。

【0092】

［０９１］本明細書に記載する旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）の第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）は、
ｂ１）本明細書に記載する旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（ｘ２０）の表面に対して実質上平行）の南北の磁軸線を有する円板状の双極磁石（ｘ４１）、
ｂ２）本明細書に記載する旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（ｘ２０）の表面に対して実質上平行）の南北の磁軸線を有するループ状、好ましくはリング状の双極磁石（ｘ４１）、
ｂ３）旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（ｘ２０）の表面に対して実質上平行）の南北の磁軸線を有し、旋回軸線に配置された本明細書に記載する棒状の双極磁石（ｘ４１）、及び／又は
ｂ４）本明細書に記載する少なくとも１対の２つの棒状の双極磁石（ｘ４１）であり、前記棒状の双極磁石（ｘ４１）がそれぞれ、旋回軸線に対して、旋回軸線に対して実質上平行（すなわち、基板（ｘ２０）の表面に対して実質上直角）の南北の磁軸線を有し、少なくとも１対の前記２つの棒状の双極磁石（ｘ４１）が、反対の磁場方向を有し、線（β）に沿って旋回軸線の周りに対称構成で配置され、前記線（β）が線（α）とは異なる、棒状の双極磁石（ｘ４１）を備える。

【0093】

［０９２］本明細書に記載する第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）及び第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）は積み重ねられており、第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）の少なくとも１対の棒状の双極磁石（ｘ３１）及び第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）の磁軸線は、旋回軸線に対して直角、すなわちＯＥＬ／基板（ｘ２０）の表面の平面に対して実質上平行の平面へ旋回軸線に沿って射影されたとき、第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）の少なくとも１対の棒状の双極磁石（ｘ３１）が配置される線（α）の射影及び第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）の磁軸線の射影が、約５°～約１７５°又は約－５°～約－１７５°の範囲内、好ましくは約１５°～約１６５°の範囲内又は約－１５°～約－１６５°の範囲内の角度（Ω）に及ぶように配置される。

【0094】

［０９３］一実施形態によれば、図５Ａ１～図７Ａ１及び図９Ａ１に示すように、第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）は、旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（ｘ２０）の表面に対して実質上平行）の南北の磁軸線を有し、直径方向に磁化された円板状の双極磁石（ｘ４１）を備える。旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）は、本明細書に記載する第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）と、本明細書に記載する円板状の双極磁石（ｘ４１）である第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）とを具備し、円板状の双極磁石（ｘ４１）である前記第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）は、第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）の下又は上に同軸に配置することができる。本明細書に記載する旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）は、本明細書に記載する第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）と、本明細書に記載する円板状の双極磁石（ｘ４１）である第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）とを具備し、第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）の棒状の双極磁石（ｘ３１）が配置される線（α）の射影及び円板状の双極磁石（ｘ４１）である第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）の磁軸線の射影は、旋回軸線に対して直角の平面へ旋回軸線に沿って、約５°～約１７５°の範囲内又は約－５°～約－１７５°の範囲内、好ましくは約１５°～約１６５°の範囲内又は約－１５°～約－１６５°の範囲内の角度（Ω）を形成する。

【0095】

［０９４］別の実施形態によれば、第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）は、旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（ｘ２０）の表面に対して実質上平行）の南北の磁軸線を有するループ状、好ましくはリング状の双極磁石（ｘ４１）を備える。旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）は、本明細書に記載する第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）と、本明細書に記載するループ状、好ましくはリング状の双極磁石（ｘ４１）である第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）とを具備し、ループ状、好ましくはリング状の双極磁石（ｘ４１）である前記第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）は、第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）の下又は上に同軸に配置することができる。本明細書に記載する旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）は、本明細書に記載する第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）と、本明細書に記載するループ状、好ましくはリング状の双極磁石（ｘ４１）である第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）とを具備し、第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）の棒状の双極磁石（ｘ３１）が配置される線（α）の射影及び本明細書に記載するループ状、好ましくはリング状の双極磁石（ｘ４１）である第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）の磁軸線の射影は、旋回軸線に対して直角の平面へ旋回軸線に沿って、約５°～約１７５°の範囲内又は約－５°～約－１７５°の範囲内、好ましくは約１５°～約１６５°の範囲内又は約－１５°～約－１６５°の範囲内の角度（Ω）を形成する。

【0096】

［０９５］別の実施形態によれば、図８Ａ１に示すように、第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）は、旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（ｘ２０）の表面に対して実質上平行）の南北の磁軸線を有する棒状の双極磁石（ｘ４１）を備え、前記棒状の双極磁石（ｘ４１）は、旋回軸線に配置される。一実施形態によれば、第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）は、本明細書に記載する棒状の双極磁石（ｘ４１）を備え、前記棒状の双極磁石（ｘ４１）は、第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）の２つの棒状の双極磁石（ｘ３１）と同じ平面に配置され、第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）の支持マトリックス（ｘ３２）に少なくとも部分的に埋め込まれる。別の実施形態によれば、第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）は、旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（ｘ２０）の表面に対して実質上平行）の南北の磁軸線を有する棒状の双極磁石（ｘ４１）を備え、前記棒状の双極磁石（ｘ４１）は、旋回軸線に配置され、第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）の下又は上に配置され、第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）の支持マトリックス（ｘ４２）に少なくとも部分的に埋め込まれる。第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）の支持マトリックス（ｘ４２）は、第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）の支持マトリックス（ｘ３２）に関して説明したものなどの１つ又は複数の非磁性材料から作られる。本明細書に記載する支持マトリックス（ｘ４２）は、第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）の棒状の双極磁石（ｘ４１）をそれぞれ保持する１つ又は複数の凹部、空隙、くぼみ、及び／又は空間を含む。本明細書に記載する旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）は、本明細書に記載する第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）と、本明細書に記載する棒状の双極磁石（ｘ４１）である第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）とを具備し、第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）の棒状の双極磁石（ｘ３１）が配置される線（α）の射影及び本明細書に記載する棒状の双極磁石（ｘ４１）である第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）の磁軸線の射影は、旋回軸線に対して直角の平面へ旋回軸線に沿って、約５°～約１７５°の範囲内又は約－５°～約－１７５°の範囲内、好ましくは約１５°～約１６５°の範囲内又は約－１５°～約－１６５°の範囲内の角度（Ω）を形成する。

【0097】

［０９６］別の実施形態によれば、図９Ａ１に示すように、旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）は、上述した棒状の双極磁石（ｘ４１－ａ）を備え、円板状の双極磁石（ｘ４１－ｂ）である追加の第２の磁場生成デバイスをさらに具備し、追加の第２の磁場生成デバイスは、旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（ｘ２０）の表面に対して実質上平行）の南北の磁軸線を有し、本明細書に記載するように直径方向に磁化される。本明細書に記載するように、一実施形態によれば、棒状の双極磁石（ｘ４１－ａ）は旋回軸線に配置される。さらに棒状の双極磁石（ｘ４１－ａ）は、第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）の２つの棒状の双極磁石（ｘ３１）と同じ平面に配置され、第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）の支持マトリックス（ｘ３２）に少なくとも部分的に埋め込まれる。旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）は、本明細書に記載する第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）と、本明細書に記載する棒状の双極磁石（ｘ４１－ａ）である第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）と、本明細書に記載する円板状の双極磁石（ｘ４１－ｂ）である追加の第２の磁場生成デバイスとを具備し、円板状の双極磁石（ｘ４１－ｂ）である前記追加の第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）は、第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）の下又は上に同軸に配置することができる。本明細書に記載する旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）は、本明細書に記載する第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）と、棒状の双極磁石（ｘ４１－ａ）である第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）と、本明細書に記載する円板状の双極磁石（ｘ４１－ｂ）である追加の第２の磁場生成デバイスとを具備し、第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）の棒状の双極磁石（ｘ３１）が配置される線（α）の射影及び円板状の双極磁石（ｘ４１－ｂ）である追加の第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）の磁軸線の射影は、旋回軸線に対して直角の平面へ旋回軸線に沿って、約５°～約１７５°の範囲内又は約－５°～約－１７５°の範囲内、好ましくは約１５°～約１６５°の範囲内又は約－１５°～約－１６５°の範囲内の角度（Ω）を形成する。

【0098】

［０９７］別の実施形態によれば、旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）は、上述した棒状の双極磁石（ｘ４１－ａ）を備え、ループ状、好ましくはリング状の双極磁石（ｘ４１－ｂ）である追加の第２の磁場生成デバイスをさらに具備し、追加の第２の磁場生成デバイスは、本明細書に記載する旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（ｘ２０）の表面に対して実質上平行）の南北の磁軸線を有する。本明細書に記載するように、一実施形態によれば、棒状の双極磁石（ｘ４１－ａ）は旋回軸線に配置される。さらに棒状の双極磁石（ｘ４１－ａ）は、第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）の２つの棒状の双極磁石（ｘ３１）と同じ平面に配置され、第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）の支持マトリックス（ｘ３２）に少なくとも部分的に埋め込まれる。旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）は、本明細書に記載する第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）と、本明細書に記載する棒状の双極磁石（ｘ４１－ａ）である第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）と、本明細書に記載するループ状、好ましくはリング状の双極磁石（ｘ４１－ｂ）である追加の第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）とを具備し、ループ状、好ましくはリング状の双極磁石（ｘ４１－ｂ）である前記追加の第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）は、第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）の下又は上に同軸に配置することができる。本明細書に記載する旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）は、本明細書に記載する第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）と、本明細書に記載するループ状、好ましくはリング状の双極磁石（ｘ４１－ｂ）である追加の第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）とを具備し、第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）の棒状の双極磁石（ｘ３１）が配置される線（α）の射影及び本明細書に記載するループ状、好ましくはリング状の双極磁石（ｘ４１－ｂ）である追加の第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）の磁軸線の射影は、旋回軸線に対して直角の平面へ旋回軸線に沿って、約５°～約１７５°の範囲内又は約－５°～約－１７５°の範囲内、好ましくは約１５°～約１６５°の範囲内又は約－１５°～約－１６５°の範囲内の角度（Ω）を形成する。

【0099】

［０９８］別の実施形態によれば、図１０Ａ１に示すように、第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）は、少なくとも１対の２つの棒状の双極磁石（ｘ４１）を備え、前記棒状の双極磁石（ｘ４１）はそれぞれ、旋回軸線に対して実質上平行（すなわち、基板（ｘ２０）の表面に対して実質上直角）の南北の磁軸線を有し、この対の前記２つの棒状の双極磁石（ｘ４１）は、反対の磁場方向を有し、線（β）に沿って旋回軸線の周りに対称構成で配置され、前記線（β）は線（α）とは異なる。本明細書に記載する旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）が旋回軸線に垂直鏡面を含まないことを確実にする目的で、線（α）に沿った旋回軸線と第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）の棒状の双極磁石（ｘ３１）のそれぞれとの間の距離は、旋回軸線と第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）の棒状の双極磁石（ｘ４１）のそれぞれとの間の距離とは異なる。本明細書に記載する旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）は、本明細書に記載する第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）及び本明細書に記載する第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）を具備し、第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）の棒状の双極磁石（ｘ３１）が配置される線（α）の射影及び第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）の棒状の双極磁石（ｘ４１）が配置される線（β）の射影は、旋回軸線に対して直角の平面へ旋回軸線に沿って、約５°～約１７５°の範囲内又は約－５°～約－１７５°の範囲内、好ましくは約１５°～約１６５°の範囲内又は約－１５°～約－１６５°の範囲内の角度（Ω）を形成する。本明細書に記載する第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）のこの対の２つの棒状の双極磁石（ｘ４１）は、互いに隣り合うことができ（図１０Ａ参照）、又は線（β）に沿って隔置することができる。

【0100】

［０９９］磁場生成デバイス（ｘ３０、ｘ４０）が上に互いに同軸に配置されたとき、本明細書に記載する本明細書に記載する第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）と第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）との間の距離（ｄ）は、好ましくは約０～約１０ｍｍ、より好ましくは約０ｍｍ～約５ｍｍ、さらにより好ましくは０である。

【0101】

［０１００］第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）の円板状の双極磁石（ｘ４１）、第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）のループ状、好ましくはリング状の双極磁石（複数可）（ｘ４１）、第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）の棒状の双極磁石（複数可）、及び第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）の棒状の双極磁石（ｘ３１）は、高保磁力材料（強磁性材料とも呼ばれる）から独立して作られることが好ましい。好適な高保磁力材料は、たとえばアルニコ５（Ｒ１－１－１）、アルニコ５ＤＧ（Ｒ１－１－２）、アルニコ５－７（Ｒ１－１－３）、アルニコ６（Ｒ１－１－４）、アルニコ８（Ｒ１－１－５）、アルニコ８ＨＣ（Ｒ１－１－７）、及びアルニコ９（Ｒ１－１－６）などのアルニコからなる群から選択される１つ又は複数の焼結又はポリマー結合磁性材料、式ＭＦｅ_１２０_１９のヘキサフェライト（たとえば、ストロンチウムヘキサフェライト（ＳｒＯ＊６Ｆｅ_２０_３）又はバリウムヘキサフェライト（ＢａＯ＊６Ｆｅ_２０_３））、式ＭＦｅ_２０_４の硬質フェライト（たとえば、コバルトフェライト（ＣｏＦｅ_２０_４）又は磁鉄鉱（Ｆｅ_３Ｏ_４）、Ｍは２価金属イオンである）、セラミック８（ＳＩ－１－５）、ＲＥＣｏ_５（ＲＥ＝Ｓｍ又はＰｒ）、ＲＥ_２ＴＭ_１７（ＲＥ＝Ｓｍ、ＴＭ＝Ｆｅ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｚｒ、Ｈｆ）、ＲＥ_２ＴＭ_１４Ｂ（ＲＥ＝Ｎｄ、Ｐｒ、Ｄｙ、ＴＭ＝Ｆｅ、Ｃｏ）を含む群から選択される希土類磁性材料、ＦｅＣｒＣｏの異方性合金、ＰｔＣｏ、ＭｎＡｌＣ、ＲＥコバルト５／１６、ＲＥコバルト１４の群から選択される材料から作られることが好ましい。棒磁石の高保磁力材料は、好ましくは希土類磁性材料からなる群から、より好ましくはＮｄ_２Ｆｅ_１４Ｂ及びＳｍＣｏ_５からなる群から選択される。プラスチック又はゴム型のマトリックスにストロンチウム－ヘキサフェライト（ＳｒＦｅ_１２Ｏ_１９）又はネオジム－鉄－ホウ素（Ｎｄ_２Ｆｅ_１４Ｂ）の粉末などの永久磁性充填剤を含む容易に実行可能な永久磁性複合材料が、特に好ましい。

【0102】

［０１０１］本明細書に記載する第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）又は第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）の最上面と、第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）又は第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）に面している基板（ｘ２０）の下面との間の距離（ｈ）は、好ましくは約０．５ｍｍ～約１０ｍｍ、より好ましくは約０．５ｍｍ～約７ｍｍ、さらにより好ましくは約１ｍｍ～７ｍｍである。

【0103】

［０１０２］第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）の円板状の双極磁石（ｘ４１）、第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）のループ状、好ましくはリング状の双極磁石（複数可）（ｘ４１）、第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）の棒状の双極磁石（複数可）、及び第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）の棒状の双極磁石（ｘ３１）の材料、並びに距離（ｄ）、（ｈ）は、旋回磁性アセンブリ（ｘ００）の第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）及び第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）によってもたらされる磁場の相互作用に起因する磁場が、本明細書に記載する光学効果層（ＯＥＬ）を作製するのに好適になるように選択される。旋回磁性アセンブリ（ｘ００）の第１及び第２の磁場生成デバイス（ｘ３０及びｘ４０）によってもたらされる磁場は相互作用し、その結果生じる装置の磁場は、装置の磁場内に配置された基板のまだ硬化していない放射線硬化性の被覆組成物内に位置する非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を配向させて、前記ＯＥＬを傾斜させたときに少なくとも１つの円形に動くスポット又は少なくとも１つの円形に動く彗星状スポットが回転するという光学的印象をもたらすことが可能である。

【0104】

［０１０３］図５Ａ１～図１０Ａ１に示す上述した特有の実施形態では、第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）の円板状の双極磁石（ｘ４１）、第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）のループ状、好ましくはリング状の双極磁石（複数可）（ｘ４１）、第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）の棒状の双極磁石（複数可）、第１の磁場生成デバイス（ｘ３１）の棒状の双極磁石（ｘ３１）、及び本明細書に記載する支持マトリックス（ｘ３２）を組み合わせることができる。

【0105】

［０１０４］図５Ａ１は、本発明によって非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）（５１０）を基板（５２０）に作製するのに好適な旋回可能な磁性アセンブリ（５００）の一例を示す。旋回可能な磁性アセンブリ（５００）は、支持マトリックス（５３２）、特に円板状の支持マトリックス（５３２）に少なくとも部分的に、特に完全に埋め込まれた１対の２つの棒状の双極磁石（５３１）を備える第１の磁場生成デバイス（５３０）と、円板状の双極磁石（５４１）を備える第２の磁場生成デバイス（５４０）とを具備し、第１の磁場生成デバイス（５３０）は、第２の磁場生成デバイス（５４０）上に同軸に配置され、すなわち第１の磁場生成デバイス（５３０）は、第２の磁場生成デバイス（５４０）と基板（５２０）との間に配置される。第１の磁場生成デバイス（５３０）及び第２の磁場生成デバイス（５４０）を具備する旋回可能な磁性アセンブリ（５００）は、基板（５２０）の表面に対して実質上直角の旋回軸線の周りを旋回することが可能である。

【0106】

［０１０５］第１の磁場生成デバイス（５３０）の２つの棒状の双極磁石（５３１）は、旋回軸線に対して実質上平行（すなわち、基板（５２０）の表面に対して実質上直角）の磁軸線を有し、反対の磁場方向を有し、線（α）に沿って旋回軸線の周りに対称構成で配置され、前記線（α）は、円板状の支持マトリックス（５３２）の対称軸線、特に直径からなる。

【0107】

［０１０６］支持マトリックス（５３２）、特に円板状の支持マトリックス（５３２）は、棒状の双極磁石（５３１）と同じ形状を有する２つの空隙を含む。第１の磁場生成デバイス（５３０）の棒状の双極磁石（５３１）の頂面及び下面は、対称の支持マトリックス（５３２）の頂面及び下面とそれぞれ同一平面である。

【0108】

［０１０７］第２の磁場生成デバイス（５４０）の円板状の双極磁石（５４１）は、旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（５２０）の表面に対して実質上平行）の磁軸線を有し、直径方向に磁化される。

【0109】

［０１０８］図５Ａ２に示すように、第１の磁場生成デバイス（５３０）の２つの棒状の双極磁石（５３１）が配置される線（α）の射影及び第２の磁場生成デバイス（５４０）の円板状の双極磁石（５４１）の磁軸線の射影は、旋回軸線に対して直角の平面へ旋回軸線に沿って、約５°～約１７５°の範囲内又は約－５°～約－１７５°の範囲内、好ましくは約１５°～約１６５°の範囲内又は約－１５°～約－１６５°の範囲内、特に－４５°の値の角度（Ω）を形成する。

【0110】

［０１０９］第１の磁場生成デバイス（５３０）の２つの棒状の双極磁石（５３１）の下面（支持マトリックス（５３２）、特に円板状の支持マトリックス（５３２）の下面にも対応する）と、第２の磁場生成デバイス（５４０）の円板状の双極磁石（５４１）の上面との間の距離（ｄ）は、好ましくは約０～約１０ｍｍ、より好ましくは約０～約５ｍｍであり、さらにより好ましくは約０であり、すなわち第１の磁場生成デバイス（５３０）及び第２の磁場生成デバイス（５４０）は直接接触している。

【0111】

［０１１０］２つの棒状の双極磁石（５３１）の上面（支持マトリックス（５３２）、特に円板状の支持マトリックス（５３２）の上面にも対応する）と、旋回可能な磁性アセンブリ（５００）に面している基板（５２０）の表面との間の距離（ｈ）は、好ましくは約０．５ｍｍ～約１０ｍｍ、より好ましくは約０．５ｍｍ～約７ｍｍ、さらにより好ましくは約１ｍｍ～７ｍｍである。

【0112】

［０１１１］その結果、図５Ａ１に示す旋回磁性アセンブリ（５００）によって作製されたＯＥＬは、基板（５２０）を－３０°～＋３０°傾斜させることによって、異なる視野角で図５Ｃに示されている。そのように得られたＯＥＬは、前記ＯＥＬを傾斜させたときに円形に動く彗星状スポットが反時計回りに回転するという光学的印象を提供する。図５Ｄは、図５Ｃに示すＯＥＬの直径に沿って法線入射で基板（５２０）の表面に当たるコノスコープスキャタロメータの光ビームの球面極座標における偏向角を表す。

【0113】

［０１１２］図６Ａ１は、本発明によって非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）（６１０）を基板（６２０）に作製するのに好適な旋回可能な磁性アセンブリ（６００）の一例を示す。旋回可能な磁性アセンブリ（６００）は、支持マトリックス（６３２）、特に円板状の支持マトリックス（６３２）に少なくとも部分的に、特に完全に埋め込まれた２対（Ｄ１、Ｄ２）の２つの棒状の双極磁石（６３１）を備える第１の磁場生成デバイス（６３０）と、円板状の双極磁石（６４１）を備える第２の磁場生成デバイス（６４０）とを具備し、第１の磁場生成デバイス（６３０）は、第２の磁場生成デバイス（６４０）上に同軸に配置され、すなわち第１の磁場生成デバイス（６３０）は、第２の磁場生成デバイス（６４０）と基板（６２０）との間に配置される。第１の磁場生成デバイス（６３０）及び第２の磁場生成デバイス（６４０）を具備する旋回可能な磁性アセンブリ（６００）は、基板（６２０）の表面に対して実質上直角の旋回軸線の周りを旋回することが可能である。

【0114】

［０１１３］第１の磁場生成デバイス（６３０）の４つの棒状の双極磁石（６３１）は、旋回軸線に対して実質上平行（すなわち、基板（６２０）の表面に対して実質上直角）の磁軸線を有し、線（α）に沿って旋回軸線の周りに対称構成で配置され、前記線（α）は、円板状の支持マトリックス（６３２）の対称軸線、特に直径からなる。第１の磁場生成デバイス（６３０）の前記２対（Ｄ１、Ｄ２）の各対は、反対の磁場方向を有する２つの棒状の双極磁石（６３１）を備える。

【0115】

［０１１４］支持マトリックス（６３２）、特に円板状の支持マトリックス（６３２）は、４つの棒状の双極磁石（６３１）と同じ形状を有する４つの空隙を含む。第１の磁場生成デバイス（６３０）の棒状の双極磁石（６３１）の頂面及び下面は、対称の支持マトリックス（６３２）の頂面及び下面とそれぞれ同一平面である。

【0116】

［０１１５］第２の磁場生成デバイス（６４０）の円板状の双極磁石（６４１）は、旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（６２０）の表面に対して実質上平行）の磁軸線を有し、直径方向に磁化される。

【0117】

［０１１６］図６Ａ２に示すように、第１の磁場生成デバイス（６３０）の４つの棒状の双極磁石（６３１）が配置される線（α）の射影及び第２の磁場生成デバイス（６４０）の円板状の双極磁石（６４１）の磁軸線の射影は、旋回軸線に対して直角の平面へ旋回軸線に沿って、約５°～約１７５°の範囲内又は約－５°～約－１７５°の範囲内、好ましくは約１５°～約１６５°の範囲内又は約－１５°～約－１６５°の範囲内、特に約－１２０°の値の角度（Ω）を形成する。

【0118】

［０１１７］第１の磁場生成デバイス（６３０）の４つの棒状の双極磁石（６３１）の下面（支持マトリックス（６３２）、特に円板状の支持マトリックス（６３２）の下面にも対応する）と、第２の磁場生成デバイス（６４０）の円板状の双極磁石（６４１）の上面との間の距離（ｄ）は、好ましくは約０～約１０ｍｍ、より好ましくは約０～約５ｍｍであり、さらにより好ましくは約０であり、すなわち第１の磁場生成デバイス（６３０）及び第２の磁場生成デバイス（６４０）は直接接触している。

【0119】

［０１１８］第１の磁場生成デバイス（６３０）の４つの棒状の双極磁石（６３１）の上面（支持マトリックス（６３２）、特に円板状の支持マトリックス（６３２）の上面にも対応する）と、旋回可能な磁性アセンブリ（６００）に面している基板（６２０）の表面との間の距離（ｈ）は、好ましくは約０．５ｍｍ～約１０ｍｍ、より好ましくは約０．５ｍｍ～約７ｍｍ、さらにより好ましくは約１ｍｍ～７ｍｍである。

【0120】

［０１１９］その結果、図６Ａ１に示す旋回磁性アセンブリ（６００）によって作製されたＯＥＬは、基板（６２０）を－３０°～＋３０°傾斜させることによって、異なる視野角で図６Ｃに示されている。そのように得られたＯＥＬは、前記ＯＥＬを傾斜させたときに円形に動く彗星状スポットが反時計回りに回転するという光学的印象を提供する。図６Ｄは、図６Ｃに示すＯＥＬの直径に沿って法線入射で基板（６２０）の表面に当たるコノスコープスキャタロメータの光ビームの球面極座標における偏向角を表す。

【0121】

［０１２０］図７Ａ１は、本発明によって非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）（７１０）を基板（７２０）に作製するのに好適な旋回可能な磁性アセンブリ（７００）の一例を示す。旋回可能な磁性アセンブリ（７００）は、支持マトリックス（７３２）、特に円板状の支持マトリックス（７３２）に少なくとも部分的に、特に完全に埋め込まれた２対（Ｄ１、Ｄ２）の２つの棒状の双極磁石（７３１）を備える第１の磁場生成デバイス（７３０）と、円板状の双極磁石（７４１）を備える第２の磁場生成デバイス（７４０）とを具備し、第１の磁場生成デバイス（７３０）は、第２の磁場生成デバイス（７４０）の下に同軸に配置され、すなわち第２の磁場生成デバイス（７４０）は、第１の磁場生成デバイス（７３０）と基板（７２０）との間に配置される。第１の磁場生成デバイス（７３０）及び第２の磁場生成デバイス（７４０）を備える旋回可能な磁性アセンブリ（７００）は、基板（７２０）の表面に対して実質上直角の旋回軸線の周りを旋回することが可能である。

【0122】

［０１２１］第１の磁場生成デバイス（７３０）の４つの棒状の双極磁石（７３１）は、旋回軸線に対して実質上平行（すなわち、基板（７２０）の表面に対して実質上直角）の磁軸線を有し、線（α）に沿って旋回軸線の周りに対称構成で配置され、前記線（α）は、円板状の支持マトリックス（７３２）の対称軸線、特に直径からなる。第１の磁場生成デバイス（７３０）の前記２対（Ｄ１、Ｄ２）の各対は、反対の磁場方向を有する２つの棒状の双極磁石（７３１）を備える。

【0123】

［０１２２］支持マトリックス（７３２）、特に円板状の支持マトリックス（７３２）は、棒状の双極磁石（７３１）と同じ形状を有する４つの空隙を含む。第１の磁場生成デバイス（７３０）の棒状の双極磁石（７３１）の頂面及び下面は、対称の支持マトリックス（７３２）の頂面及び下面とそれぞれ同一平面である。

【0124】

［０１２３］第２の磁場生成デバイス（７４０）の円板状の双極磁石（７４１）は、旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（７２０）の表面に対して実質上平行）の磁軸線を有し、直径方向に磁化される。

【0125】

［０１２４］図７Ａ２に示すように、第１の磁場生成デバイス（７３０）の４つの棒状の双極磁石（７３１）が配置される線（α）の射影及び第２の磁場生成デバイス（７４０）の円板状の双極磁石（７４１）の磁軸線の射影は、旋回軸線に対して直角の平面へ旋回軸線に沿って、約５°～約１７５°の範囲内又は約－５°～約－１７５°の範囲内、好ましくは約１５°～約１６５°の範囲内又は約－１５°～約－１６５°の範囲内、特に約９０°の値の角度（Ω）を形成する。

【0126】

［０１２５］第１の磁場生成デバイス（７３０）の４つの棒状の双極磁石（７３１）の上面（支持マトリックス（７３２）、特に円板状の支持マトリックス（７３２）の上面にも対応する）と、第２の磁場生成デバイス（７４０）の円板状の双極磁石（７４１）の下面との間の距離（ｄ）は、好ましくは約０～約１０ｍｍ、より好ましくは約０～約５ｍｍであり、さらにより好ましくは約０であり、すなわち第１の磁場生成デバイス（７３０）及び第２の磁場生成デバイス（７４０）は直接接触している。

【0127】

［０１２６］図７Ｄは、図７Ｃに示すＯＥＬの直径に沿って法線入射で基板（７２０）の表面に当たるコノスコープスキャタロメータの光ビームの球面極座標における偏向角を表す。

【0128】

［０１２７］第２の磁場生成デバイス（７４０）の円板状の双極磁石（７４１）の上面と、旋回可能な磁性アセンブリ（７００）に面している基板（７２０）の表面との間の距離（ｈ）は、好ましくは約０．５ｍｍ～約１０ｍｍ、より好ましくは約０．５ｍｍ～約７ｍｍ、さらにより好ましくは約１ｍｍ～７ｍｍである。

【0129】

［０１２８］その結果、図７Ａ１に示す旋回磁性アセンブリ（７００）によって作製されたＯＥＬは、基板（７２０）を－３０°～＋３０°傾斜させることによって、異なる視野角で図７Ｃに示されている。そのように得られたＯＥＬは、前記ＯＥＬを傾斜させたときに円形に動く彗星状スポットが反時計回りに回転するという光学的印象を提供する。図７Ｄは、図７Ｃに示すＯＥＬの直径に沿って法線入射で基板（７２０）の表面に当たるコノスコープスキャタロメータの光ビームの球面極座標における偏向角を表す。

【0130】

［０１２９］図８Ａ１は、本発明によって非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）（８１０）を基板（８２０）に作製するのに好適な旋回可能な磁性アセンブリ（８００）の一例を示す。旋回可能な磁性アセンブリ（８００）は、１対の２つの棒状の双極磁石（８３１）を備える第１の磁場生成デバイス（８３０）と、棒状の双極磁石（８４１）を備える第２の磁場生成デバイス（８４０）とを具備し、２つの棒状の双極磁石（８３１）及び棒状の双極磁石（８４１）は、支持マトリックス（８３２）、特に円板状の支持マトリックス（８３２）に少なくとも部分的に、特に完全に埋め込まれており、第１の磁場生成デバイス（８３０）及び第２の磁場生成デバイス（８４０）は、同じ平面に配置される。第１の磁場生成デバイス（８３０）及び第２の磁場生成デバイス（８４０）を具備する旋回可能な磁性アセンブリ（８００）は、基板（８２０）の表面に対して実質上直角の旋回軸線の周りを旋回することが可能である。

【0131】

［０１３０］第１の磁場生成デバイス（８３０）の２つの棒状の双極磁石（８３１）は、旋回軸線に対して実質上平行（すなわち、基板（８２０）の表面に対して実質上直角）の磁軸線を有し、反対の磁場方向を有し、線（α）に沿って旋回軸線の周りに対称構成で配置され、前記線（α）は、円板状の支持マトリックス（８３２）の対称軸線、特に直径からなる。

【0132】

［０１３１］支持マトリックス（８３２）、特に円板状の支持マトリックス（８３２）は、２つの棒状の双極磁石（８３１）及び棒状の双極磁石（８４１）と同じ形状を有する３つの空隙を含む。第１の磁場生成デバイス（８３０）の２つの棒状の双極磁石（８３１）及び第２の磁場生成デバイス（８４０）の棒状の双極磁石（８４１）の頂面及び下面は、対称の支持マトリックス（８３２）の頂面及び下面とそれぞれ同一平面である。

【0133】

［０１３２］第２の磁場生成デバイス（８４０）の棒状の双極磁石（８４１）は、旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（８２０）の表面に対して実質上平行）の磁軸線を有し、旋回軸線に配置される。

【0134】

［０１３３］図８Ａ２に示すように、第１の磁場生成デバイス（８３０）の２つの棒状の双極磁石（８３１）が配置される線（α）の射影及び第２の磁場生成デバイス（８４０）の棒状の双極磁石（８４１）の磁軸線の射影は、旋回軸線に対して直角の平面へ旋回軸線に沿って、約５°～約１７５°の範囲内又は約－５°～約－１７５°の範囲内、好ましくは約１５°～約１６５°の範囲内又は約－１５°～約－１６５°の範囲内、特に約－１２０°の値の角度（Ω）を形成する。

【0135】

［０１３４］２つの棒状の双極磁石（８３１）の上面（第２の磁場生成デバイス（８４０）の棒状の双極磁石（８４１）の上面及び支持マトリックス（８３２）、特に円板状の支持マトリックス（８３２）の上面にも対応する）と、旋回可能な磁性アセンブリ（８００）に面している基板（８２０）の表面との間の距離（ｈ）は、好ましくは約０．５ｍｍ～約１０ｍｍ、より好ましくは約０．５ｍｍ～約７ｍｍ、さらにより好ましくは約１ｍｍ～７ｍｍである。

【0136】

［０１３５］その結果、図８Ａ１に示す旋回磁性アセンブリ（８００）によって作製されたＯＥＬは、基板（８２０）を－３０°～＋３０°傾斜させることによって、異なる視野角で図８Ｃに示されている。そのように得られたＯＥＬは、前記ＯＥＬを傾斜させたときに円形に動く彗星状スポットが反時計回りに回転するという光学的印象を提供する。図８Ｄは、図８Ｃに示すＯＥＬの直径に沿って法線入射で基板（８２０）の表面に当たるコノスコープスキャタロメータの光ビームの球面極座標における偏向角を表す。

【0137】

［０１３６］図９Ａ１は、本発明によって非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）（９１０）を基板（９２０）に作製するのに好適な旋回可能な磁性アセンブリ（９００）の一例を示す。旋回可能な磁性アセンブリ（９００）は、１対の２つの棒状の双極磁石（９３１）を備える第１の磁場生成デバイス（９３０）と、棒状の双極磁石（９４１－ａ）を備える第２の磁場生成デバイス（９４０）とを具備し、２つの棒状の双極磁石（９３１）及び棒状の双極磁石（９４１－ａ）は、支持マトリックス（９３２）、特に円板状の支持マトリックス（９３２）に少なくとも部分的に、特に完全に埋め込まれており、第１の磁場生成デバイス（９３０）及び第２の磁場生成デバイス（９４０）の棒状の双極磁石（９４１－ａ）は、同じ平面に配置される。旋回可能な磁性アセンブリ（９００）は、円板状の双極磁石（９４１－ｂ）を備える追加の第２の磁場生成デバイスをさらに具備し、追加の第２の磁場生成デバイスは、旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（９２０）の表面に対して実質上平行）の南北の磁軸線を有し、第１の磁場生成デバイス（９３０）の下に同軸に配置される。第１の磁場生成デバイス（９３０）及び第２の磁場生成デバイス（９４０）を具備する旋回可能な磁性アセンブリ（９００）は、基板（９２０）の表面に対して実質上直角の旋回軸線の周りを旋回することが可能である。

【0138】

［０１３７］第１の磁場生成デバイス（９３０）の２つの棒状の双極磁石（９３１）は、旋回軸線に対して実質上平行（すなわち、基板（９２０）の表面に対して実質上直角）の磁軸線を有し、反対の磁場方向を有し、線（α）に沿って旋回軸線の周りに対称構成で配置され、前記線（α）は、円板状の支持マトリックス（９３２）の対称軸線、特に直径からなる。

【0139】

［０１３８］支持マトリックス（９３２）、特に円板状の支持マトリックス（９３２）は、２つの棒状の双極磁石（９３１）及び棒状の双極磁石（９４１－ａ）と同じ形状を有する３つの空隙を含む。第１の磁場生成デバイス（９３０）の２つの棒状の双極磁石（９３１）及び第２の磁場生成デバイス（９４０）の棒状の双極磁石（９４１－ａ）の頂面及び下面は、対称の支持マトリックス（９３２）の頂面及び下面とそれぞれ同一平面である。

【0140】

［０１３９］第２の磁場生成デバイスの棒状の双極磁石（９４１－ａ）は、旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（９２０）の表面に対して実質上平行）の磁軸線を有し、旋回軸線に配置される。

【0141】

［０１４０］追加の第２の磁場生成デバイスの円板状の双極磁石（９４１－ｂ）は、旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（９２０）の表面に対して実質上平行）の磁軸線を有し、直径方向に磁化される。

【0142】

［０１４１］図９Ａ２に示すように、第１の磁場生成デバイス（９３０）の２つの棒状の双極磁石（９３１）が配置される線（α）の射影及び追加の第２の磁場生成デバイス（９４０）の円板状の双極磁石（９４１－ｂ）の磁軸線の射影は、旋回軸線に対して直角の平面へ旋回軸線に沿って、約５°～約１７５°の範囲内又は約－５°～約－１７５°の範囲内、好ましくは約１５°～約１６５°の範囲内又は約－１５°～約－１６５°の範囲内、特に約－１３５°の値の角度（Ω）を形成する。

【0143】

［０１４２］第１の磁場生成デバイス（９３０）の棒状の双極磁石（９３１）の下面（支持マトリックス（９３２）、特に円板状の支持マトリックス（９３２）の下面及び第２の磁場生成デバイス（９４０）の棒状の双極磁石（９４１－ｂ）の下面にも対応する）と、追加の第２の磁場生成デバイス（９４０）の円板状の双極磁石（９４ａ－１ｂ）の上面との間の距離（ｄ）は、好ましくは約０～約１０ｍｍ、より好ましくは約０～約５ｍｍであり、さらにより好ましくは約０であり、すなわち第１の磁場生成デバイス（９３０）及び第２の磁場生成デバイス（９４０）は直接接触している。

【0144】

［０１４３］第１の磁場生成デバイス（９３０）の棒状の双極磁石（９３１）の上面（支持マトリックス（９３２）、特に円板状の支持マトリックス（９３２）の上面及び第２の磁場生成デバイス（９４０）の棒状の双極磁石（９４１－ａ）の上面にも対応する）と、旋回可能な磁性アセンブリ（９００）に面している基板（９２０）の表面との間の距離（ｈ）は、好ましくは約０．５ｍｍ～約１０ｍｍ、より好ましくは約０．５ｍｍ～約７ｍｍ、さらにより好ましくは約１ｍｍ～７ｍｍである。

【0145】

［０１４４］その結果、図９Ａ１に示す旋回磁性アセンブリ（９００）によって作製されたＯＥＬは、基板（９２０）を－３０°～＋３０°傾斜させることによって、異なる視野角で図９Ｃに示されている。そのように得られたＯＥＬは、前記ＯＥＬを傾斜させたときに円形に動く彗星状スポットが反時計回りに回転するという光学的印象を提供する。図９Ｄは、図９Ｃに示すＯＥＬの直径に沿って法線入射で基板（９２０）の表面に当たるコノスコープスキャタロメータの光ビームの球面極座標における偏向角を表す。

【0146】

［０１４５］図１０Ａ１は、本発明によって非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）（１０１０）を基板（１０２０）に作製するのに好適な旋回可能な磁性アセンブリ（１０００）の一例を示す。旋回可能な磁性アセンブリ（１０００）は、支持マトリックス（１０３２）、特に円板状の支持マトリックス（１０３２）に少なくとも部分的に、特に完全に埋め込まれた１対の２つの棒状の双極磁石（１０３１）を備える第１の磁場生成デバイス（１０３０）と、同じ支持マトリックス（１０３２）、特に同じ円板状の支持マトリックス（１０３２）に少なくとも部分的に、特に完全に埋め込まれた１対の２つの棒状の双極磁石（１０４１）を備える第２の磁場生成デバイス（１０４０）とを具備する。第１の磁場生成デバイス（１０３０）及び第２の磁場生成デバイス（１０４０）を具備する旋回可能な磁性アセンブリ（１０００）は、基板（１０２０）の表面に対して実質上直角の旋回軸線の周りを旋回することが可能である。

【0147】

［０１４６］第１の磁場生成デバイス（１０３０）の２つの棒状の双極磁石（１０３１）は、旋回軸線に対して実質上平行（すなわち、基板（１０２０）の表面に対して実質上直角）の磁軸線を有し、反対の磁場方向を有し、線（α）に沿って旋回軸線の周りに対称構成で配置され、前記線（α）は、円板状の支持マトリックス（１０３２）の対称軸線、特に直径からなる。

【0148】

［０１４７］第２の磁場生成デバイス（１０４０）の２つの棒状の双極磁石（１０４１）は、旋回軸線に対して実質上平行（すなわち、基板（１０２０）の表面に対して実質上直角）の磁軸線を有し、反対の磁場方向を有し、線（β）に沿って旋回軸線の周りに対称構成で配置され、前記線（β）は、円板状の支持マトリックス（１０３２）の対称軸線、特に直径からなり、前記線（β）は線（α）とは異なる。

【0149】

［０１４８］旋回可能な磁性アセンブリ（１０００）は、旋回軸線に垂直鏡面を含まないため、線（α）に沿った旋回軸線と第１の磁場生成デバイス（１０３０）の棒状の双極磁石（１０３１）との間の距離は、線（β）に沿った旋回軸線と第２の磁場生成デバイス（１０４０）の棒状の双極磁石（１０４１）との間の距離とは異なる。

【0150】

［０１４９］支持マトリックス（１０３２）、特に円板状の支持マトリックス（１０３２）は、４つの棒状の双極磁石（１０３１及び１０４１）と同じ形状を有する４つの空隙を含む。第１の磁場生成デバイス（１０３０）及び第２の磁場生成デバイス（１０４０）の棒状の双極磁石（１０３１及び１０４１）の頂面及び下面は、対称の支持マトリックス（１０３２）の頂面及び下面とそれぞれ同一平面である。

【0151】

［０１５０］図１０Ａ２に示すように、第１の磁場生成デバイス（１０３０）の棒状の双極磁石（１０３１）が配置される線（α）の射影及び第２の磁場生成デバイス（１０４０）の棒状の双極磁石（１０４１）が配置される線（β）の射影は、旋回軸線に対して直角の平面へ旋回軸線に沿って、約５°～約１７５°の範囲内又は約－５°～約－１７５°の範囲内、好ましくは約１５°～約１６５°の範囲内又は約－１５°～約－１６５°の範囲内、特に約－１２０°の値の角度（Ω）を形成する。

【0152】

［０１５１］第１の磁場生成デバイス（１０３０）の２つの棒状の双極磁石（１０３１）の上面（支持マトリックス（１０３２）の上面及び第２の磁場生成デバイス（１０４０）の２つの棒状の双極磁石（１０４１）の上面にも対応する）と、旋回可能な磁性アセンブリ（１０００）に面している基板（１０２０）の表面との間の距離（ｈ）は、好ましくは約０．５ｍｍ～約１０ｍｍ、より好ましくは約０．５ｍｍ～約７ｍｍ、さらにより好ましくは約１ｍｍ～７ｍｍである。

【0153】

［０１５２］その結果、図１０Ａ１に示す旋回磁性アセンブリ（１０００）によって作製されたＯＥＬは、基板（１０２０）を－３０°～＋３０°傾斜させることによって、異なる視野角で図１０Ｃに示されている。そのように得られたＯＥＬは、前記ＯＥＬを傾斜させたときに円形に動く彗星状スポットが反時計回りに回転するという光学的印象を提供する。図１０Ｄは、図１０Ｃに示すＯＥＬの直径に沿って法線入射で基板（１０２０）の表面に当たるコノスコープスキャタロメータの光ビームの球面極座標における偏向角を表す。

【0154】

［０１５３］本発明は、回転磁性筒体、及び回転磁性筒体の円周方向、軸線方向、又は横方向の溝に取り付けられた本明細書に記載する１つ又は複数の旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）と、平床式ユニット、及び平床式ユニットの凹部に取り付けられた本明細書に記載する旋回可能な磁性アセンブリの１つ又は複数を備える印刷アセンブリとを備える印刷装置をさらに提供する。

【0155】

［０１５４］回転磁性筒体とは、印刷若しくは被覆機器内で使用され、又は印刷若しくは被覆機器とともに使用され、又は印刷若しくは被覆機器の一部であり、本明細書に記載する１つ又は複数の旋回可能な磁性アセンブリを保持することを意味する。一実施形態では、回転磁性筒体は、速い印刷速度で連続して動作する回転式、シート供給式、又はウェブ供給式の産業用印刷プレスの一部である。

【0156】

［０１５５］平床式ユニットとは、印刷若しくは被覆機器内で使用され、又は印刷若しくは被覆機器とともに使用される、又は印刷若しくは被覆機器の一部であり、本明細書に記載する旋回可能な磁性アセンブリの１つ又は複数を保持することを意味する。一実施形態では、平床式ユニットは、断続的に動作するシート供給式の産業用印刷プレスの一部である。

【0157】

［０１５６］本明細書に記載する回転磁性筒体又は本明細書に記載する平床式ユニットを備える印刷装置は、本明細書に記載する非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の層を有する本明細書に記載するものなどの基板を供給する基板フィーダを含むことができ、したがって磁性アセンブリは、光学効果層（ＯＥＬ）を形成するように顔料粒子に作用して配向させる磁場を生成する。本明細書に記載する回転磁性筒体を備える印刷装置の一実施形態では、基板は、シート又はウェブの形で基板フィーダによって供給される。本明細書に記載する平床式ユニットを備える印刷装置の一実施形態では、基板は、シートの形で供給される。

【0158】

［０１５７］本明細書に記載する回転磁性筒体又は本明細書に記載する平床式ユニットを備える印刷装置は、本明細書に記載する非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む放射線硬化性の被覆組成物を本明細書に記載する基板に塗布する被覆又は印刷ユニットを含むことができ、放射線硬化性の被覆組成物は、光学効果層（ＯＥＬ）を形成するように本明細書に記載する旋回可能な磁性アセンブリによって生成される磁場によって配向される非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む。本明細書に記載する回転磁性筒体を備える印刷装置の一実施形態では、被覆又は印刷ユニットは、連続的な回転プロセスに応じて動作する。本明細書に記載する平床式ユニットを備える印刷装置の一実施形態では、被覆又は印刷ユニットは、断続的な線形プロセスに応じて動作する。

【0159】

［０１５８］本明細書に記載する回転磁性筒体又は本明細書に記載する平床式ユニットを備える印刷装置は、本明細書に記載する旋回可能な磁性アセンブリによって磁気的に配向された非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む放射線硬化性の被覆組成物を少なくとも部分的に硬化させ、以て非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の配向及び位置を固定して光学効果層（ＯＥＬ）を作製する硬化ユニットを含むことができる。

【0160】

［０１５９］本明細書に記載するＯＥＬは、基板に直接設けることができ、基板に恒久的に残るものとする（銀行券の応用例など）。別法として、ＯＥＬは、作製の目的で一時基板に設けることもでき、ＯＥＬはその後除去される。これはたとえば、特に接着材料がまだその流体状態にあるときでも、ＯＥＬの作製を容易にすることができる。その後、ＯＥＬの作製のために被覆組成物を少なくとも部分的に硬化させた後、一時基板をＯＥＬから除去することができる。

【0161】

［０１６０］別法として、接着剤層がＯＥＬに存在することができ、又は光学効果層（ＯＥＬ）を備える基板に存在することができ、前記接着剤層は、ＯＥＬが設けられる側とは基板の反対側又はＯＥＬと同じ側でＯＥＬ上にある。したがって、光学効果層（ＯＥＬ）又は基板に接着剤層を塗布することができる。そのような物品は、機械及びさらに高い労力を伴う印刷又は他のプロセスなしに、あらゆる種類の文書又は他の物品若しくは品目に取り付けることができる。別法として、本明細書に記載するＯＥＬを備える本明細書に記載する基板は、別個の転写ステップで文書又は物品に取り付けることができる転写箔の形態とすることができる。この目的で、基板は剥離被覆を含み、その上にＯＥＬが本明細書に記載するように作製される。１つ又は複数の接着剤層は、そのように作製されたＯＥＬの上に塗布することができる。

【0162】

［０１６１］本明細書に記載するプロセスによって得られる２つ以上、すなわち２つ、３つ、４つなどの光学効果層（ＯＥＬ）を備える本明細書に記載するものなどの基板もまた、本明細書に記載される。

【0163】

［０１６２］本発明によって作製された光学効果層（ＯＥＬ）を備える物品、特にセキュリティ文書、装飾要素又は物体もまた、本明細書に記載される。物品、特にセキュリティ文書、装飾要素又は物体は、本発明によって作製された２つ以上（たとえば、２つ、３つなど）のＯＥＬを備えることができる。

【0164】

［０１６３］本明細書に記載したように、本発明によって作製された光学効果層（ＯＥＬ）は、装飾の目的で、並びにセキュリティ文書を保護及び認証するために使用することができる。装飾要素又は物体の典型的な例には、非限定的に、贅沢品、化粧品の包装、自動車部品、電子／電気機器、家具、及びマニキュアが含まれる。

【0165】

［０１６４］セキュリティ文書には、非限定的に、有価文書及び有価市販品が含まれる。有価文書の典型的な例には、非限定的に、銀行券、捺印証書、伝票、小切手、証明書、収入印紙、及び税標識、合意書など、パスポートなどの身分証明書、ＩＤカード、ビザ、運転免許証、バンクカード、クレジットカード、トランザクションカード、アクセス文書又はカード、入場チケット、公共交通切符又はタイトルなど、好ましくは銀行券、身分証明書、権利付与文書、運転免許証、及びクレジットカードが含まれる。「有価市販品」という用語は、特に化粧品、機能性食品、医薬品、アルコール、タバコ物品、飲料又は食品、電気／電子物品、衣料品又は宝石類、すなわちたとえば本物の薬剤のような包装の中身を保証するために偽造及び／又は違法複製から保護されるべき物品に対する包装材料を指す。これらの包装材料の例には、非限定的に、認証ブランドラベル、改ざん証拠ラベル、及びシールなどのラベルが含まれる。開示された基板、有価文書、及び有価市販品は、例示のみを目的として与えられたものであり、本発明の範囲を制限しないことが指摘される。

【0166】

［０１６５］別法として、光学効果層（ＯＥＬ）は、たとえばセキュリティスレッド、セキュリティストリップ、箔、図案、窓、又はラベルなどの補助基板に作製することができ、したがって別個のステップでセキュリティ文書へ伝達することができる。

【0167】

［実施例］
［０１６６］図５Ａ１～図１０Ａ１に示す旋回可能な磁性アセンブリを使用して、表１に記載の紫外線硬化性スクリーン印刷インクの印刷層において非球形で扁円の光学的に可変の磁性顔料粒子を配向し、図５Ｃ～図１０Ｃに示す光学効果層（ＯＥＬ）を作製した。紫外線硬化性スクリーン印刷インクを黒色の市販の用紙（Ｇａｓｃｏｇｎｅ Ｌａｍｉｎａｔｅｓ Ｍ－ｃｏｔｅ１２０）に塗布し、前記塗布は、Ｔ９０スクリーンを使用して手動スクリーン印刷によって実施し、約２０μｍの厚さを有する被覆層を形成した。紫外線硬化性スクリーン印刷インクの塗布層を保持する基板を、旋回磁石アセンブリに配置した。実施例Ｅ１～Ｅ６及びＣ１～Ｃ２の旋回可能な磁性アセンブリは、国際公開第２０１６／０２６８９６号の図２に記載されているモータを使用することによって、３０Ｈｚの周波数で約５秒間旋回した。小板状の光学的に可変の顔料粒子のそのように得られた磁性配向パターンは、次いで、配向ステップと部分的に同時に（すなわち、紫外線硬化性スクリーン印刷インクの塗布層を保持する基板がまだ磁性アセンブリの旋回磁場内に位置する間に）、Ｐｈｏｓｅｏｎからの紫外ＬＥＤランプ（Ｔｙｐｅ ＦｉｒｅＦｌｅｘ ５０×７５ｍｍ、３９５ｎｍ、８Ｗ／ｃｍ^２）を使用して、顔料粒子を含む塗布層を紫外線硬化させる約０．５秒間の露出によって固定された。

【0168】

【表1】

顔料粒子配向の測定（図４）
［０１６７］Ｅｃｋｈａｒｄｔ Ｏｐｔｉｃｓ ＬＬＣ（Ｅｃｋｈａｒｄｔ Ｏｐｔｉｃｓ ＬＬＣ、５４３０ Ｊｅｆｆｅｒｓｏｎ Ｃｔ、Ｗｈｉｔｅ Ｂｅａｒ Ｌａｋｅ、ＭＮ ５５１１０、ｈｔｔｐ：／／ｅｃｋｏｐ．ｃｏｍ）からのコノスコープスキャタロメータ上で、ＯＥＬの直径に沿った非球形で小板状の光学的に可変の磁性顔料粒子の配向パターンの測定を実施した。

【0169】

［０１６８］コノスコープスキャタロメータの前焦点面内の手動ｘｙテーブルに、被覆層（ｘ１０）を保持する基板（ｘ２０）を平坦に独立して連続的に配置した。ｘｙテーブルは、両軸線において０～２６ｍｍで調整可能であった。光学系の下で、ＯＥＬの中心（ＯＥＬの円対称及び配向パターンの円対称の結果としてゼロの天頂角を有する顔料粒子の配向によって特定可能）が光学系の中心に面するように、ＯＥＬを有する基板を保持するｘｙテーブルを手動で調整した。ｘ軸線の原点は、ｘｙテーブルの両軸線に沿って１３ｍｍに任意に設定した（走査範囲の中央）。

【0170】

［０１６９］直径１ｍｍの平行な緑色光ビーム（５２０ｎｍ）によって、配向された非球形で小板状の光学的に可変の磁性顔料粒子を含む被覆層を、光学系を介して直交入射で照射した。サンプルによって反射される光ビーム偏向角の測定をＯＥＬの直径に沿って０．５ｍｍごと（Ｅ１～Ｅ３、Ｅ５、及びＣ１～Ｃ２）又は０．２５ｍｍごと（Ｅ４及びＥ６）に行い、図３Ｃ、図３Ｆ、及び図５Ｄ～図１０Ｄの球面極座標で報告した。したがって、図３Ｃ、図３Ｆ、及び図５Ｄ～図１０Ｄは、ｘ方向に沿ってＯＥＬの直径に沿った方位角θ及び天頂偏向角φ’の変動を示す。直径に沿った走査方向が、グラフの一端（Ａ）の負のｘ値及び他端（Ｂ）の正のｘ値から０．５ｍｍ又は０．２５ｍｍ刻みで関連グラフに示されている。

【0171】

比較例Ｃ１（図３Ａ～図３Ｃ）
［０１７０］国際公開第２０１６／０２６８９６号、図１及び図１３の実施例Ｅ１に従って、比較例Ｃ１（図３Ａ～図３Ｃ）を準備した。

【0172】

［０１７１］Ｃ１を準備するために使用された磁性アセンブリ（３００Ａ）は、円板状の双極磁石（３００Ａ）を備えた。円板状の双極磁石（３００Ａ）は、直径方向に磁化され、約３０ｍｍの直径（Ａ１）及び約３ｍｍの厚さ（Ａ２）を有した。円板状の双極磁石（３００Ａ）の磁軸線は、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（３２０Ａ）の表面に対して実質上平行であった。円板状の双極磁石は、ＮｄＦｅＢ Ｎ４０から作られた。

【0173】

［０１７２］円板状の双極磁石（３００Ａ）の上面と双極磁石に面している基板（３２０Ａ）の表面との間の距離（ｈ）は、約５ｍｍであった。

【0174】

［０１７３］磁性アセンブリ（３００Ａ）は、基板（３２０Ａ）の表面に対して直角の旋回軸線の周りを約３０Ｈｚの速度で旋回した。

【0175】

［０１７４］その結果、図３Ａに示す磁性アセンブリ（３００Ａ）によって作製されたＯＥＬが図３Ｂに示されている。そのように得られたＯＥＬは、ドームの光学的印象を提供する。

【0176】

［０１７５］図３Ｂに示すＯＥＬのコノスコープスキャタロメトリは、非球形で小板状の光学的に可変の磁性顔料粒子の配向パターンの測定を可能にし、その結果得られたグラフが図３Ｃに示されている。ｘ方向に沿って－９．７ｍｍ（Ａ）～＋９．３ｍｍ（Ｂ）の範囲の距離にわたって、天頂偏向角φ’は、０°～約５５°の値に及び、方位角θは、負のｘ分枝において約１８０°で、対称的にｘが正の位置において約３６０°で、実質上一定のままである。

【0177】

比較例Ｃ２（図３Ｄ～図３Ｆ）
［０１７６］国際公開第２０１６／０２６８９６号の実施例Ｅ２に類似している磁性デバイスによって、比較例Ｃ２（図３Ｄ～図３Ｆ）を準備した。

【0178】

［０１７７］Ｃ２を準備するために使用された磁性アセンブリ（３００Ｄ）は、支持マトリックス（３５０Ｄ）に埋め込まれた３つの同一線上の棒状の双極磁石（３３１Ｄ）の中心に位置合わせされた配置からなった。

【0179】

［０１７８］３つの棒状の双極磁石（３３１Ｄ）はそれぞれ、約５ｍｍの長さ（Ａ３）を有する立方体ブロックであった。３つの棒状の双極磁石（３３１Ｄ）は、支持マトリックス（３５０Ｄ）の中心の周りに、支持マトリックス（３５０Ｄ）の直径に沿って互いから約５ｍｍの距離（Ａ４）をあけて対称に配置された。３つの棒状の双極磁石（３３１Ｄ）の磁軸線は、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（３２０Ｄ）の表面に対して実質上平行であり、前記３つの棒状の双極磁石（３３１Ｄ）の北極は同じ方向を指した。３つの棒状の双極磁石（３３１Ｄ）は、ＮｄＦｅＢ Ｎ４５から作られた。

【0180】

［０１７９］３つの棒状の双極磁石（３３１Ｄ）は、棒状の双極磁石（３３１Ｄ）と同じ形状を有する３つの空隙を含む支持マトリックス（３５０Ｄ）に埋め込まれた。支持マトリックス（３５０Ｄ）は、約３０ｍｍの直径（Ａ１）及び約５ｍｍの厚さ（Ａ２）を有した。支持マトリックス（３５０Ｄ）は、ＰＯＭ（ポリオキシメチレン）から作られた。３つの棒状の双極磁石（３３１Ｄ）の頂面及び下面は、支持マトリックス（３５０Ｄ）の頂面及び下面とそれぞれ同一平面であった。

【0181】

［０１８０］支持マトリックス（３５０Ｄ）に埋め込まれた３つの棒状の双極磁石（３３１Ｄ）の上面と３つの棒状の双極磁石（３３１Ｄ）に面している基板（３２０Ｄ）の表面との間の距離（ｈ）は、約５ｍｍであった。

【0182】

［０１８１］磁性アセンブリ（３００Ｄ）は、基板（３２０Ｄ）の表面に対して実質上直角の旋回軸線の周りを約３０Ｈｚの速度で旋回した。

【0183】

［０１８２］その結果、図３Ｄに示す磁性アセンブリによって作製されたＯＥＬが図３Ｅに示されている。そのように得られたＯＥＬは、複数のリングの中心に入れ子にされた突起の光学的印象を提供する。

【0184】

［０１８３］図３Ｅに示すＯＥＬのコノスコープスキャタロメトリは、非球形で小板状の光学的に可変の磁性顔料粒子の配向パターンの測定を可能にし、その結果得られたグラフが図３Ｆに示されている。ｘ方向に沿ってある距離にわたって、天頂偏向角φ’及び方位角θは大幅に変動したが、０°－１８０°軸線に近接した角位置に拘束されたままであった。この文脈で、０°－１８０°軸線に近接とは、偏向角が入射平面（ｘ１４、図２Ｂの２１４）の１０°～１５°の範囲内に留まることを意味する。

【0185】

実施例１、Ｅ１（図５）
［０１８４］実施例１の光学効果層（５１０）を基板（５２０）に準備するために使用された旋回可能な磁性アセンブリ（５００）が、図５Ａ１及び図５Ｂに示されている。

【0186】

［０１８５］磁性アセンブリ（５００）は、旋回軸線（矢印）を有し、対称軸線（α）（円板状の支持マトリックス（５３２）の直径に対応する）を有する円板状の支持マトリックス（５３２）に埋め込まれた１対の２つの棒状の双極磁石（５３１）を備える第１の磁場生成デバイス（５３０）と、円板状の双極磁石（５４１）を備える第２の磁場生成デバイス（５４０）とを具備し、第１の磁場生成デバイス（５３０）は、第２の磁場生成デバイス（５４０）上に配置された。

【0187】

［０１８６］第１の磁場生成デバイス（５３０）の２つの棒状の双極磁石（５３１）はそれぞれ、約３ｍｍの長さ及び幅（Ａ３）並びに約３ｍｍの厚さ（Ａ２）を有した。２つの棒状の双極磁石（５３１）は、旋回軸線の周りで、円板状の支持マトリックス（５３２）の対称軸線／直径（α）に、円板状の支持マトリックス（５３２）の対称軸線／直径（α）に沿って互いから約３．５ｍｍの距離（Ａ４）をあけて対称的に配置された。２つの棒状の双極磁石（５３１）のそれぞれの磁軸線は、旋回軸線に対して実質上平行であり且つ基板（５２０）の表面に対して実質上直角であり、前記２つの棒状の双極磁石（５３１）のそれぞれの北極は反対の方向を指した。２つの棒状の双極磁石（５３１）は、ＮｄＦｅＢ Ｎ４５から作られた。

【0188】

［０１８７］２つの棒状の双極磁石（５３１）は、棒状の双極磁石（５３１）と同じ形状を有する２つの空隙を含む円板状の支持マトリックス（５３２）に埋め込まれた。円板状の支持マトリックス（５３２）は、約２５ｍｍの直径（Ａ１）及び約３ｍｍの厚さ（Ａ２）を有した。円板状の支持マトリックス（５３２）は、ＰＯＭ（ポリオキシメチレン）から作られた。第１の磁場生成デバイス（５３０）の棒状の双極磁石（５３１）の頂面及び下面は、円板状の支持マトリックス（５３２）の頂面及び下面とそれぞれ同一平面であった。

【0189】

［０１８８］第２の磁場生成デバイス（５４０）の円板状の双極磁石（５４１）は、約２５ｍｍの直径（Ａ５）及び約３ｍｍの厚さ（Ａ６）を有した。円板状の双極磁石（５４１）の磁軸線は、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（５２０）の表面に対して実質上平行であった。円板状の双極磁石（５４１）は、ＮｄＦｅＢ Ｎ４０から作られた。

【0190】

［０１８９］図５Ａ２に示すように、第１の磁場生成デバイス（５３０）の２つの棒状の双極磁石（５３１）が配置された対称軸線／直径（α）の射影及び第２の磁場生成デバイス（５４０）の円板状の双極磁石（５４１）の磁軸線の射影は、旋回軸線に対して直角の平面へ旋回軸線に沿って、約－４５°の角度（Ω）を形成した。

【0191】

［０１９０］第１の磁場生成デバイス（５３０）の円板状の支持マトリックス（５３２）の下面と、第２の磁場生成デバイス（５４０）の円板状の双極磁石（５４１）の上面との間の距離（ｄ）は０ｍｍであり、すなわち円板状の支持マトリックス（５３２）（並びに２つの棒状の双極磁石（５３１））及び円板状の双極磁石（５４１）は直接接触していた。第１の磁場生成デバイス（５３０）の円板状の支持マトリックス（５３２）（並びに２つの棒状の双極磁石（５３１））の上面と、円板状の支持マトリックス（５３２）に面している基板（５２０）の表面との間の距離（ｈ）は、約６ｍｍであった。

【0192】

［０１９１］第１の磁場生成デバイス（５３０）及び第２の磁場生成デバイス（５４０）を備える磁性アセンブリ（５００）は、基板（５２０）の表面に対して実質上直角の旋回軸線の周りを旋回した。

【0193】

［０１９２］その結果、図５Ａ１に示す磁性アセンブリによって作製されたＯＥＬは、基板（５２０）を－３０°～＋３０°傾斜させることによって、異なる視野角で図５Ｃに示されている。そのように得られたＯＥＬは、前記ＯＥＬを傾斜させたときに円形に動く彗星状スポットが反時計回りに回転するという光学的印象を提供する。

【0194】

［０１９３］図５Ｃに示すＯＥＬのコノスコープスキャタロメトリは、非球形で小板状の光学的に可変の磁性顔料粒子の配向パターン（図５Ｄ参照）の測定を可能にした。ｘ方向に沿って－１．９ｍｍ（Ａ）～＋２．６ｍｍ（Ｂ）の範囲の距離にわたって、天頂偏向角φ’は、０°～約３０°の値の範囲に及び、方位角θは、負のｘ分枝において約２０８°～約２１２°、対称的にｘが正の位置において約２８°～約３２°の値の範囲に及ぶ。

【0195】

実施例２、Ｅ２（図６）
［０１９４］実施例２の光学効果層（６１０）を基板（６２０）に準備するために使用された旋回可能な磁性アセンブリ（６００）が、図６Ａ１及び図６Ｂに示されている。

【0196】

［０１９５］磁性アセンブリ（６００）は、旋回軸線（矢印）を有し、対称軸線（α）（円板状の支持マトリックス（６３２）の直径に対応する）を有する円板状の支持マトリックス（６３２）に埋め込まれた２対（Ｄ１、Ｄ２）の２つ、すなわち４つの棒状の双極磁石（６３１）を備える第１の磁場生成デバイス（６３０）と、円板状の双極磁石（６４１）を備える第２の磁場生成デバイス（６４０）とを具備し、第１の磁場生成デバイス（６３０）は、第２の磁場生成デバイス（６４０）上に配置された。

【0197】

［０１９６］第１の磁場生成デバイス（６３０）の４つの棒状の双極磁石（６３１）はそれぞれ、約３ｍｍの長さ及び幅（Ａ３）並びに約３ｍｍの厚さ（Ａ２）を有した。４つの棒状の双極磁石（６３１）は、旋回軸線の周りで、円板状の支持マトリックス（６３２）の対称軸線／直径（α）に、円板状の支持マトリックス（６３２）の対称軸線／直径（α）に沿って互いから約３．５ｍｍの距離（Ａ４）をあけて対称的に配置された。４つの棒状の双極磁石（６３１）のそれぞれの磁軸線は、旋回軸線に対して実質上平行であり且つ基板（６２０）の表面に対して実質上直角であった。２つの棒状の双極磁石（６３１）の各対に対して、前記２つの棒状の双極磁石（６３１）の北極は反対の方向を指した。４つの棒状の双極磁石（６３１）は、ＮｄＦｅＢ Ｎ４５から作られた。

【0198】

［０１９７］４つの棒状の双極磁石（６３１）は、４つの棒状の双極磁石（６３１）と同じ形状を有する４つの空隙を含む円板状の支持マトリックス（６３２）に埋め込まれた。円板状の支持マトリックス（６３２）は、約２５ｍｍの直径（Ａ１）及び約３ｍｍの厚さ（Ａ２）を有した。円板状の支持マトリックス（６３２）は、ＰＯＭ（ポリオキシメチレン）から作られた。第１の磁場生成デバイス（６３０）の棒状の双極磁石（６３１）の頂面及び下面は、円板状の支持マトリックス（６３２）の頂面及び下面とそれぞれ同一平面であった。

【0199】

［０１９８］第２の磁場生成デバイス（６４０）の円板状の双極磁石（６４１）は、約２５ｍｍの外径（Ａ５）及び約２ｍｍの厚さ（Ａ６）を有した。円板状の双極磁石（６４１）の磁軸線は、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（６２０）の表面に対して実質上平行であった。円板状の双極磁石（６４１）は、ＮｄＦｅＢ Ｎ４０から作られた。

【0200】

［０１９９］図６Ａ２に示すように、第１の磁場生成デバイス（６３０）の２つの棒状の双極磁石（６３１）が配置された対称軸線／直径（α）の射影及び第２の磁場生成デバイス（６４０）の円板状の双極磁石（６４１）の磁軸線の射影は、旋回軸線に対して直角の平面へ旋回軸線に沿って、約－１２０°の角度（Ω）を形成した。

【0201】

［０２００］第１の磁場生成デバイス（６４０）の円板状の支持マトリックス（６３２）の下面と、第２の磁場生成デバイス（６４０）の円板状の双極磁石（６４１）の上面との間の距離（ｄ）は０ｍｍであり、すなわち円板状の支持マトリックス（６４２）（並びに４つの棒状の双極磁石（６３１））及び円板状の双極磁石（６４１）は直接接触していた。第１の磁場生成デバイス（６３０）の円板状の支持マトリックス（６３２）（並びに４つの棒状の双極磁石（６３１））の上面と、円板状の支持マトリックス（６３２）に面している基板（６２０）の表面との間の距離（ｈ）は、約２．５ｍｍであった。

【0202】

［０２０１］第１の磁場生成デバイス（６３０）及び第２の磁場生成デバイス（６４０）を備える磁性アセンブリ（６００）は、基板（６２０）の表面に対して実質上直角の旋回軸線の周りを旋回した。

【0203】

［０２０２］その結果、図６Ａ１に示す磁性アセンブリによって作製されたＯＥＬは、基板（６２０）を－３０°～＋３０°傾斜させることによって、異なる視野角で図６Ｃに示されている。そのように得られたＯＥＬは、前記ＯＥＬを傾斜させたときに円形に動く彗星状スポットが反時計回りに回転するという光学的印象を提供する。

【0204】

［０２０３］図６Ｃに示すＯＥＬのコノスコープスキャタロメトリは、非球形で小板状の光学的に可変の磁性顔料粒子の配向パターン（図６Ｄ参照）の測定を可能にした。ｘ方向に沿って－４．２ｍｍ（Ａ）～＋３．８ｍｍ（Ｂ）の範囲の距離にわたって、天頂偏向角φ’は、０°～約４５°の値の範囲に及び、方位角θは、負のｘ分枝において約１３０°～約１５０°、対称的にｘが正の位置において約３３０°～約３１５°の値の範囲に及ぶ。

【0205】

実施例３、Ｅ３（図７）
［０２０４］実施例３の光学効果層（７１０）を基板（７２０）に準備するために使用された旋回可能な磁性アセンブリ（７００）が、図７Ａ１及び図７Ｂに示されている。

【0206】

［０２０５］磁性アセンブリ（７００）は、旋回軸線（矢印）を有し、対称軸線（α）（円板状の支持マトリックス（７３２）の直径に対応する）を有する円板状の支持マトリックス（７３２）に埋め込まれた２対（Ｄ１、Ｄ２）の２つ、すなわち４つの棒状の双極磁石（７３１）を備える第１の磁場生成デバイス（７３０）と、円板状の双極磁石（７４１）を備える第２の磁場生成デバイス（７４０）とを具備し、第２の磁場生成デバイス（７４０）は、第１の磁場生成デバイス（７３０）上に配置された。

【0207】

［０２０６］第１の磁場生成デバイス（７３０）の４つの棒状の双極磁石（７３１）はそれぞれ、約３ｍｍ長さ及び幅（Ａ３）並びに約３ｍｍの厚さ（Ａ２）を有した。４つの棒状の双極磁石（７３１）は、旋回軸線の周りで、円板状の支持マトリックス（７３２）の対称軸線／直径（α）に、円板状の支持マトリックス（７３２）の対称軸線／直径（α）に沿って互いから約３．５ｍｍの距離（Ａ４）をあけて対称的に配置された。４つの棒状の双極磁石（７３１）のそれぞれの磁軸線は、旋回軸線に対して実質上平行であり且つ基板（７２０）の表面に対して実質上直角であった。２つの棒状の双極磁石（７３１）の各対に対して、前記２つの棒状の双極磁石（７３１）の北極は反対の方向を指した。４つの棒状の双極磁石（７３１）は、ＮｄＦｅＢ Ｎ４５から作られた。

【0208】

［０２０７］４つの棒状の双極磁石（７３１）は、４つの棒状の双極磁石（７３１）と同じ形状を有する４つの空隙を含む円板状の支持マトリックス（７３２）に埋め込まれた。円板状の支持マトリックス（７３２）は、約２５ｍｍの直径（Ａ１）及び約３ｍｍの厚さ（Ａ２）を有した。円板状の支持マトリックス（７３２）は、ＰＯＭ（ポリオキシメチレン）から作られた。第１の磁場生成デバイス（７３０）の棒状の双極磁石（７３１）の頂面及び下面は、円板状の支持マトリックス（７３２）の頂面及び下面とそれぞれ同一平面であった。

【0209】

［０２０８］第２の磁場生成デバイス（７３０）の円板状の双極磁石（７４１）は、約２５ｍｍの外径（Ａ５）及び約２ｍｍの厚さ（Ａ６）を有した。円板状の双極磁石（７４１）の磁軸線は、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（７２０）の表面に対して実質上平行であった。円板状の双極磁石（７４１）は、ＮｄＦｅＢ Ｎ４０から作られた。

【0210】

［０２０９］図７Ａ２に示すように、第１の磁場生成デバイス（７３０）の４つの棒状の双極磁石（７３１）が配置された対称軸線／直径（α）の射影及び第２の磁場生成デバイス（７４０）の円板状の双極磁石（７４１）の磁軸線の射影は、旋回軸線に対して直角の平面へ旋回軸線に沿って、約９０°の角度（Ω）を形成した。

【0211】

［０２１０］第１の磁場生成デバイス（７３０）の円板状の支持マトリックス（７３２）の上面と、第２の磁場生成デバイス（７４０）の円板状の双極磁石（７４１）の下面との間の距離（ｄ）は０ｍｍであり、すなわち円板状の支持マトリックス（７３２）（並びに４つの棒状の双極磁石（７３１））及び円板状の双極磁石（７４１）は直接接触していた。第２の磁場生成デバイス（７４０）の円板状の双極磁石（７４１）の上面と、円板状の支持マトリックス（７３２）に面している基板（７２０）の表面との間の距離（ｈ）は、約３．０ｍｍであった。

【0212】

［０２１１］第１の磁場生成デバイス（７３０）及び第２の磁場生成デバイス（７４０）を備える磁性アセンブリ（７００）は、基板（７２０）の表面に対して実質上直角の旋回軸線の周りを旋回した。

【0213】

［０２１２］その結果、図７Ａ１に示す磁性アセンブリによって作製されたＯＥＬは、基板（７２０）を－３０°～＋３０°傾斜させることによって、異なる視野角で図７Ｃに示されている。そのように得られたＯＥＬは、前記ＯＥＬを傾斜させたときに円形に動く彗星状スポットが反時計回りに回転するという光学的印象を提供する。

【0214】

［０２１３］図７Ｃに示すＯＥＬのコノスコープスキャタロメトリは、非球形で小板状の光学的に可変の磁性顔料粒子の配向パターン（図７Ｄ参照）の測定を可能にした。ｘ方向に沿って－４．２ｍｍ（Ａ）～＋３．８ｍｍ（Ｂ）の範囲の距離にわたって、天頂偏向角φ’は、０°～約４０°の値の範囲に及び、方位角θは、負のｘ分枝において約１２０°～約１３５°、対称的にｘが正の位置において約３１５°～約３１０°の値の範囲に及ぶ。

【0215】

実施例４、Ｅ４（図８）
［０２１４］実施例４の光学効果層（８１０）を基板（８２０）に準備するために使用された旋回可能な磁性アセンブリ（８００）が、図８Ａ１及び図８Ｂに示されている。

【0216】

［０２１５］磁性アセンブリ（８００）は、旋回軸線（矢印）を有し、対称軸線（α）（円板状の支持マトリックス（８３２）の直径に対応する）を有する円板状の支持マトリックス（８３２）に埋め込まれた１対の２つの棒状の双極磁石（８３１）を備える第１の磁場生成デバイス（８３０）と、棒状の双極磁石（８４１）を備える第２の磁場生成デバイス（８４０）とを具備し、第１の磁場生成デバイス（８３０）及び第２の磁場生成デバイス（８４０）は、同じ平面に配置され、２つの棒状の双極磁石（８３１）及び棒状の双極磁石（８４１）は、対称軸線／直径（α）に同一線上に配置された。

【0217】

［０２１６］第１の磁場生成デバイス（８３０）の棒状の双極磁石（８３１）及び第２の磁場生成デバイス（８４０）の棒状の双極磁石（８４１）はそれぞれ、約３ｍｍの長さ及び幅（Ａ３）並びに約３ｍｍの厚さ（Ａ２）を有し、ＮｄＦｅＢ Ｎ４５から作られた。棒状の双極磁石（８３１）の中心は、旋回軸線の周りで、円板状の支持マトリックス（８３２）の対称軸線／直径（α）に対称的に配置された。２つの棒状の双極磁石（８３１）のそれぞれの磁軸線は、旋回軸線に対して実質上平行であり且つ基板（８２０）の表面に対して実質上直角であり、前記２つの棒状の双極磁石（８３１）の北極は反対の方向を指した。

【0218】

［０２１７］棒状の双極磁石（８４１）の中心は、円板状の支持マトリックス（８３２）の対称軸線／直径（α）に沿って旋回軸線に（すなわち、円板状の支持マトリックス（８３２）の中心に）配置された。２つの棒状の双極磁石（８３１）及び棒状の双極磁石（８４１）は、対称軸線／直径（α）において、前記対称軸線／直径（α）が２つの棒状の双極磁石（８３１）及び棒状の双極磁石（８４１）の頂面の対角線に沿って及ぶように配置された。２つの棒状の双極磁石（８３１）のそれぞれの頂面の中心と、棒状の双極磁石（８４１）の頂面の中心との間の距離（Ａ４）は、約６ｍｍであった。

【0219】

［０２１８］２つの棒状の双極磁石（８３１）及び棒状の双極磁石（８４１）は、棒状の双極磁石（８３１及び８４１）と同じ形状を有する３つの空隙を含む円板状の支持マトリックス（８３２）に埋め込まれた。円板状の支持マトリックス（８３２）は、約２５ｍｍの直径（Ａ１）及び約３ｍｍの厚さ（Ａ２）を有した。円板状の支持マトリックス（８３２）は、ＰＯＭ（ポリオキシメチレン）から作られた。第１の磁場生成デバイス（８３０）の棒状の双極磁石（８３１）の頂面及び下面並びに第２の磁場生成デバイス（８４０）の棒状の双極磁石（８４１）の頂面及び下面は、円板状の支持マトリックス（８３２）の頂面及び下面とそれぞれ同一平面であった。

【0220】

［０２１９］図８Ａ２に示すように、第１の磁場生成デバイス（８３０）の２つの棒状の双極磁石（８３１）が配置された対称軸線／直径（α）の射影及び第２の磁場生成デバイスの棒状の双極磁石（８４１）の磁軸線の射影は、旋回軸線に対して直角の平面へ旋回軸線に沿って、約－１３５°の角度（Ω）を形成した。

【0221】

［０２２０］円板状の支持マトリックス（８３２）（並びに２つの棒状の双極磁石（８３１）及び棒状の双極磁石（８４１））の上面と、円板状の支持マトリックス（８３２）に面している基板（８２０）の表面との間の距離（ｈ）は、約３．５ｍｍであった。

【0222】

［０２２１］第１の磁場生成デバイス（８３０）及び第２の磁場生成デバイス（８４０）を備える磁性アセンブリ（８００）は、基板（８２０）の表面に対して実質上直角の旋回軸線の周りを旋回した。

【0223】

［０２２２］その結果、図８Ａ１に示す磁性アセンブリによって作製されたＯＥＬは、基板（８２０）を－３０°～＋３０°傾斜させることによって、異なる視野角で図８Ｃに示されている。そのように得られたＯＥＬは、前記ＯＥＬを傾斜させたときに円形に動く彗星状スポットが反時計回りに回転するという光学的印象を提供する。

【0224】

［０２２３］図８Ｃに示すＯＥＬのコノスコープスキャタロメトリは、非球形で小板状の光学的に可変の磁性顔料粒子の配向パターン（図８Ｄ参照）の測定を可能にした。ｘ方向に沿って－２．３ｍｍ（Ａ）～＋２．７ｍｍ（Ｂ）の範囲の距離にわたって、天頂偏向角φ’は、０°～約５８°の値の範囲に及び、方位角θは、負のｘ分枝において約１３５°～約１４８°、対称的にｘが正の位置において約３１５°～約３３０°の値の範囲に及ぶ。

【0225】

実施例５、Ｅ５（図９）
［０２２４］実施例５の光学効果層（９１０）を基板（９２０）に準備するために使用された旋回可能な磁性アセンブリ（９００）が、図９Ａ１及び図９Ｂに示されている。

【0226】

［０２２５］磁性アセンブリ（９００）は、旋回軸線（矢印）を有し、対称軸線（α）（円板状の支持マトリックス（９３２）の直径に対応する）を有する円板状の支持マトリックス（９３２）に埋め込まれた１対の２つの棒状の双極磁石（９３１）を備える第１の磁場生成デバイス（９３０）と、棒状の双極磁石（９４１－ａ）を備える第２の磁場生成デバイス（９４０）と、円板状の双極磁石（９４１－ｂ）を備える追加の第２の磁場生成デバイスとを具備し、第１の磁場生成デバイス（９３０）は、追加の第２の磁場生成デバイス（９４０）の円板状の双極磁石（９４１－ｂ）上に配置され、第２の磁場生成デバイス（９４０）の棒状の双極磁石（９４１－ａ）及び第１の磁場生成デバイス（９３０）の２つの棒状の双極磁石（９３１）は、同じ平面に配置され、２つの棒状の双極磁石（９３１）及び棒状の双極磁石（９４１－ａ）は、対称軸線／直径（α）に同一線上に配置された。

【0227】

［０２２６］第１の磁場生成デバイス（９３０）の棒状の双極磁石（９３１）及び第２の磁場生成デバイス（９４０）の棒状の双極磁石（９４１－ａ）はそれぞれ、約３ｍｍの長さ及び幅（Ａ３）並びに約３ｍｍの厚さ（Ａ２）を有し、ＮｄＦｅＢ Ｎ４５から作られた。２つの棒状の双極磁石（９３１）は、旋回軸線の周りで、円板状の支持マトリックス（９３２）の対称軸線／直径（α）に対称的に配置された。２つの棒状の双極磁石（９３１）のそれぞれの磁軸線は、旋回軸線に対して実質上平行であり且つ基板（９２０）の表面に対して実質上直角であり、前記２つの棒状の双極磁石（９３１）の北極は反対の方向を指した。

【0228】

［０２２７］棒状の双極磁石（９４１－ａ）の中心は、円板状の支持マトリックス（９３２）の対称軸線／直径（α）に沿って旋回軸線に（すなわち、円板状の支持マトリックス（９３２）の中心に）配置された。２つの棒状の双極磁石（９３１）のそれぞれと棒状の双極磁石（９４１－ａ）との間の距離（Ａ４）は、約３ｍｍであった。

【0229】

［０２２８］２つの棒状の双極磁石（９３１）及び棒状の双極磁石（９４１－ａ）は、棒状の双極磁石（９３１及び９４１－ａ）と同じ形状を有する３つの空隙を含む円板状の支持マトリックス（９３２）に埋め込まれた。円板状の支持マトリックス（９３２）は、約２５ｍｍの直径（Ａ１）及び約３ｍｍの厚さ（Ａ２）を有した。円板状の支持マトリックス（９３２）は、ＰＯＭ（ポリオキシメチレン）から作られた。第１の磁場生成デバイス（９３０）の２つの棒状の双極磁石（９３１）の頂面及び下面並びに第２の磁場生成デバイス（９４０）の棒状の双極磁石（９４１－ａ）の頂面及び下面は、円板状の支持マトリックス（９３２）の頂面及び下面とそれぞれ同一平面であった。

【0230】

［０２２９］第２の磁場生成デバイスの円板状の双極磁石（９４１－ｂ）は、約２５ｍｍの直径（Ａ５）及び約３ｍｍの厚さ（Ａ６）を有した。円板状の双極磁石（９４１－ｂ）の磁軸線は、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（９２０）の表面に対して実質上平行であった。円板状の双極磁石（９４１－ｂ）は、ＮｄＦｅＢ Ｎ４０から作られた。

【0231】

［０２３０］図９Ａ２に示すように、第１の磁場生成デバイス（９３０）の２つの棒状の双極磁石（９３１）が配置された対称軸線／直径（α）の射影及び追加の第２の磁場生成デバイス（９４０）の円板状の双極磁石（９４１－ｂ）の磁軸線の射影は、旋回軸線に対して直角の平面へ旋回軸線に沿って、約－１３５°の角度（Ω）を形成した。

【0232】

［０２３１］第１の磁場生成デバイス（９３０）の円板状の支持マトリックス（９３２）の下面と、追加の第２の磁場生成デバイス（９４０）の円板状の双極磁石（９４１－ｂ）の上面との間の距離（ｄ）は０ｍｍであり、すなわち円板状の支持マトリックス（９３２）（並びに２つの棒状の双極磁石（９３１）及び棒状の双極磁石（９４１－ａ））及び円板状の双極磁石（９４１－ｂ）は直接接触していた。第１の磁場生成デバイス（９３０）（並びに２つの棒状の双極磁石（９３１）及び棒状の双極磁石（９４１－ａ））の円板状の支持マトリックス（９３２）の上面と、円板状の支持マトリックス（９３２）に面している基板（９２０）の表面との間の距離（ｈ）は、約３．５ｍｍであった。

【0233】

［０２３２］第１の磁場生成（９３０）及び第２の磁場生成（９４０）を備える磁性アセンブリ（９００）は、基板（９２０）の表面に対して実質上直角の旋回軸線の周りを旋回した。

【0234】

［０２３３］その結果、図９Ａ１に示す磁性アセンブリによって作製されたＯＥＬは、基板（９２０）を－３０°～＋３０°傾斜させることによって、異なる視野角で図９Ｃに示されている。そのように得られたＯＥＬは、前記ＯＥＬを傾斜させたときに円形に動く彗星状スポットが反時計回りに回転するという光学的印象を提供する。

【0235】

［０２３４］図９Ｃに示すＯＥＬのコノスコープスキャタロメトリは、非球形で小板状の光学的に可変の磁性顔料粒子の配向パターン（図９Ｄ参照）の測定を可能にした。ｘ方向に沿って－７．６ｍｍ（Ａ）～＋６．９ｍｍ（Ｂ）の範囲の距離にわたって、天頂偏向角φ’は、０°～約６５°の値の範囲に及び、方位角θは、負のｘ分枝において約１２０°～約３００°、対称的にｘが正の位置において約１２０°～約３００°の値の範囲に及ぶ。

【0236】

実施例６、Ｅ６（図１０）
［０２３５］実施例６の光学効果層（１０１０）を基板（１０２０）に準備するために使用された旋回可能な磁性アセンブリ（１０００）が、図１０Ａ１及び図１０Ｂに示されている。

【0237】

［０２３６］磁性アセンブリ（１０００）は、旋回軸線（矢印）を有し、対称軸線（α）（円板状の支持マトリックス（１０３２）の直径に対応する）及び別の対称軸線（β）（円板状の支持マトリックス（１０３２）の別の直径に対応する）を有する円板状の支持マトリックス（１０３２）に埋め込まれた１対の２つの棒状の双極磁石（１０３１）を備える第１の磁場生成デバイス（１０３０）と、同じ円板状の支持マトリックス（１０３２）に埋め込まれた１対の２つの棒状の双極磁石（１０４１）を備える第２の磁場生成デバイス（１０４０）とを具備した。第２の磁場生成デバイス（１０４０）の棒状の双極磁石（１０４１）及び第１の磁場生成デバイス（１０３０）の棒状の双極磁石（１０３１）は、同じ平面に配置された。

【0238】

［０２３７］第１の磁場生成デバイス（１０３０）及び第２の磁場生成デバイス（１０４０）の棒状の双極磁石（１０３１及び１０４１）はそれぞれ、約３ｍｍの長さ及び幅（Ａ３）並びに約３ｍｍの厚さ（Ａ２）を有し、ＮｄＦｅＢ Ｎ４５から作られた。第１の磁場生成デバイス（１０３０）の棒状の双極磁石（１０３１）の中心はそれぞれ、旋回軸線の周りで、円板状の支持マトリックス（１０３２）の対称軸線／直径（α）に対称的に配置された。２つの棒状の双極磁石（１０３１）のそれぞれの中心は、円板状の支持マトリックス（１０３２）の中心から約６ｍｍ、すなわち旋回軸線から約６ｍｍの距離（Ａ４）をあけて位置した。２つの棒状の双極磁石（１０３１）のそれぞれの磁軸線は、旋回軸線に対して実質上平行であり且つ基板（１０２０）の表面に対して実質上直角であり、前記２つの棒状の双極磁石（１０３１）の北極は反対の方向を指した。

【0239】

［０２３８］第２の磁場生成デバイス（１０４０）の２つの棒状の双極磁石（１０４１）は、旋回軸線の周りで、円板状の支持マトリックス（１０３２）の対称軸線／直径（β）に、互いから０ｍｍの距離をあけて対称的に配置され、すなわち第２の磁場生成デバイス（１０４０）の２つの棒状の双極磁石（１０４１）は、表面の１つに沿って隣り合う位置に配置された。２つの棒状の双極磁石（１０４１）のそれぞれの中心は、円板状の支持マトリックス（１０３２）の中心から約１．５ｍｍ、すなわち旋回軸線から約１．５ｍｍの距離（Ａ３の１／２）をあけて位置した。２つの棒状の双極磁石（１０４１）のそれぞれの磁軸線は、旋回軸線に対して実質上平行であり且つ基板（１０２０）の表面に対して実質上直角であり、前記２つの棒状の双極磁石（１０４１）の北極は反対の方向を指した。

【0240】

［０２３９］２つの棒状の双極磁石（１０３１）及び２つの棒状の双極磁石（１０４１）は、４つの棒状の双極磁石（１０３１及び１０４１）と同じ形状を有する４つの空隙を含む円板状の支持マトリックス（１０３２）に埋め込まれた。円板状の支持マトリックス（１０３２）は、約２５ｍｍの直径（Ａ１）及び約３ｍｍの厚さ（Ａ２）を有した。円板状の支持マトリックス（１０３２）は、ＰＯＭ（ポリオキシメチレン）から作られた。第１の磁場生成デバイス（１０３０）の棒状の双極磁石（１０３１）の頂面及び下面並びに第２の磁場生成デバイス（１０４０）の棒状の双極磁石（１０４１）の頂面及び下面は、円板状の支持マトリックス（１０３２）の頂面及び下面とそれぞれ同一平面であった。

【0241】

［０２４０］図１０Ａ２に示すように、第１の磁場生成デバイス（１０３０）の２つの棒状の双極磁石（１０３１）が配置された対称軸線／直径（α）の射影及び第２の磁場生成デバイス（１０４０）の２つの棒状の双極磁石（１０４１）の線（β）の射影は、旋回軸線に対して直角の平面へ旋回軸線に沿って、約－１２０°の角度（Ω）を形成した。

【0242】

［０２４１］円板状の支持マトリックス（１０３２）（並びに２つの棒状の双極磁石（１０３１）及び２つの棒状の双極磁石（１０４１））の上面と、円板状の支持マトリックス（１０３２）に面している基板（１０２０）の表面との間の距離（ｈ）は、約５．５ｍｍであった。

【0243】

［０２４２］第１の磁場生成（１０３０）及び第２の磁場生成（１０４０）を備える磁性アセンブリ（１０００）は、基板（１０２０）の表面に対して実質上直角の旋回軸線の周りを旋回した。

【0244】

［０２４３］その結果、図１０Ａ１に示す磁性アセンブリによって作製されたＯＥＬは、基板（１０２０）を－３０°～＋３０°傾斜させることによって、異なる視野角で図１０Ｃに示されている。そのように得られたＯＥＬは、前記ＯＥＬを傾斜させたときに円形に動く彗星状スポットが反時計回りに回転するという光学的印象を提供する。

【0245】

［０２４４］図１０Ｃに示すＯＥＬのコノスコープスキャタロメトリは、非球形で小板状の光学的に可変の磁性顔料粒子の配向パターン（図１０Ｄ参照）の測定を可能にした。ｘ方向に沿って－３．９ｍｍ（Ａ）～＋３．９ｍｍ（Ｂ）の範囲の距離にわたって、天頂偏向角φ’は、０°～約５０°の値の範囲に及び、方位角θは、負のｘ分枝において約２１０°～約２４０°、対称的にｘが正の位置において約３０°～約６０°の値の範囲に及ぶ。

【0246】

［０２４５］図３Ｃ及び図３Ｆは、従来技術の円対称ＯＥＬの非球形で小板状の光学的に可変の磁性顔料粒子配向特性を示し、配向された粒子は、ＯＥＬの選択された直径（ｘ１２、図２Ａ～図２Ｂの２１２）に沿って本質的にすべての位置ｘ_ｉにおいて、実質上入射平面（ｘ１４、図２Ｂの２１４）内で入射光を偏向させた。

【0247】

［０２４６］図５Ｄ～図１０Ｄは、本発明のＯＥＬの特徴付け特性を示し、対応するＯＥＬ内の配向された非球形で小板状の光学的に可変の磁性顔料粒子は、円対称パターンに応じて配向され、実質上入射平面（ｘ１４、図２Ｂの２１４）から離れる方へ入射光を偏向させる。ＯＥＬの選択された直径（ｘ１２、図２Ａ～図２Ｂの２１２）に沿って複数の位置ｘ_ｉで、位置ｘ_ｉにおける複数の粒子は、以下の条件を満たすｘ_ｉによって、選択された直径（ｘ１２、図２Ａ～図２Ｂの２１２）に対して平均天頂偏向角φ’及び平均方位角θを有する。
│φ’・ｓｉｎ（θ）│≧１０°、好ましくは│φ’・ｓｉｎ（θ）│≧１５°
したがって点ｘ_ｉにおける入射光は、それぞれ１０°以上、好ましくは１５°以上の角度だけ、入射法平面（ｘ１４）から離れる方へ反射される。

【0248】

［０２４７］図５Ｄ～図１０Ｄの連続データ点は、直径に沿って０．５ｍｍ（Ｅ１～Ｅ３及びＥ５）又は０．２５ｍｍ（Ｅ４及びＥ６）ごとに分離されたＯＥＬ内の連続位置ｘ_ｉに対応するため、グラフの一連のｎ個の連続点は、ＯＥＬ上の対応する位置間の（ｎ＋１）／２ミリメートルの距離に対応する。

【0249】

［０２４８］したがって、ＯＥＬが│φ’・ｓｉｎ（θ）│≧１０°、好ましくは│φ’・ｓｉｎ（θ）│≧１５°という前記特徴付け条件を満たす直径に沿った距離は、それぞれ図１１Ａ及び図１１Ｂに示す陰影区域に入るグラフ上の点の数を数えることによって判定することができる。

【0250】

［０２４９］本明細書に記載するすべての例示的な実施形態では、非球形で小板状の光学的に可変の磁性顔料粒子は、選択された直径の各辺に沿って１．５ｍｍの距離（図５Ｄ～図１０Ｄの３つ以上の点）にわたって、│φ’・ｓｉｎ（θ）│≧１５°という条件を満たす。

【0251】

［０２５０］本明細書に記載する例示的な実施形態では、非球形で小板状の光学的に可変の磁性顔料粒子は、選択された直径の各辺に沿って少なくとも３ｍｍの距離（図５Ｄ及び図１０Ｄの６つ以上の点）にわたって、│φ’・ｓｉｎ（θ）│≧１５°という条件を満たす。

【図1A】

【図1B】

【図2A】

【図2B】

【図2C】

【図2D】

【図3A】

【図3B】

【図3C】

【図3D】

【図3E】

【図3F】

【図4A】

【図4B】

【図5A1】

【図5A2】

【図5B1】

【図5B2】

【図5C】

【図5D】

【図6A1】

【図6A2】

【図6B1】

【図6B2】

【図6C】

【図6D】

【図7A1】

【図7A2】

【図7B1】

【図7B2】

【図7C】

【図7D】

【図8A1】

【図8A2】

【図8B1】

【図8B2】

【図8C】

【図8D】

【図9A1】

【図9A2】

【図9B1】

【図9B2】

【図9C】

【図9D】

【図10A1】

【図10A2】

【図10B1】

【図10B2】

【図10C】

【図10D】

【図11A】

【図11B】