特許 7178870 めっき処理装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2022-11-17

(45)【発行日】2022-11-28

(54)【発明の名称】めっき処理装置

(51)【国際特許分類】

   C25D 17/00 20060101AFI20221118BHJP

   C25D 21/18 20060101ALI20221118BHJP

【ＦＩ】

C25D17/00 C

C25D21/18 G

【請求項の数】 6

(21)【出願番号】P 2018201891

(22)【出願日】2018-10-26

(65)【公開番号】P2020066790

(43)【公開日】2020-04-30

【審査請求日】2021-08-31

(73)【特許権者】

【識別番号】504136889

【氏名又は名称】株式会社ファルテック

(74)【代理人】

【識別番号】100149548

【弁理士】

【氏名又は名称】松沼 泰史

(74)【代理人】

【識別番号】100169764

【弁理士】

【氏名又は名称】清水 雄一郎

(74)【代理人】

【識別番号】100167553

【弁理士】

【氏名又は名称】高橋 久典

(72)【発明者】

【氏名】竪谷 薫

(72)【発明者】

【氏名】関口 一夫

(72)【発明者】

【氏名】新宮 信之

(72)【発明者】

【氏名】大士 政美

【審査官】松岡 徹

(56)【参考文献】

【文献】特開２００１－１９２８９７（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開昭５２－１１１８４４（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｃ２５Ｄ ５／００－ ７／１２

Ｃ２３Ｃ １８／００－ ２０／０８

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

貯留されためっき液の上澄み液がオーバフローされるオーバフロー壁を有するめっき槽と、
前記めっき液を回収すると共に回収した前記めっき液を前記めっき槽に循環供給する循環供給ユニットと
を備えためっき処理装置であって、
前記循環供給ユニットは、前記オーバフロー壁の内壁面に対向する位置であって前記上澄み液がオーバフローされる領域の下方に配置された吸引ヘッドを有し、
前記吸引ヘッドは、前記めっき槽の底部から前記オーバフロー壁の上端に至る範囲の中央よりも上方に配置されている
ことを特徴とするめっき処理装置。

【請求項2】

前記循環供給ユニットが前記吸引ヘッドを複数備えていることを特徴とする請求項１記載のめっき処理装置。

【請求項3】

前記吸引ヘッドの吸引開口が上方に向けられていることを特徴とする請求項１または２記載のめっき処理装置。

【請求項4】

前記吸引ヘッドの吸引開口が下方に向けられていることを特徴とする請求項１または２記載のめっき処理装置。

【請求項5】

前記吸引開口が前記オーバフロー壁の内壁面に沿って水平に長尺状に設けられていることを特徴とする請求項３または４記載のめっき処理装置。

【請求項6】

前記循環供給ユニットは、前記吸引ヘッドに向けて前記めっき液を吐出する吐出ヘッドを備えることを特徴とする請求項１～５いずれか一項に記載のめっき処理装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、めっき処理装置に関するものである。

【背景技術】

【0002】

従来から、自動車の外装部品等の製造工程においては、樹脂製品に金属光沢を付与する方法として湿式めっき処理が行われている。湿式めっき処理では、周知のようにめっき液が貯留されためっき槽に対して処理対象物を一定時間浸漬することによって、処理対象物の表面に金属層を形成している。このようなめっき槽に貯留されためっき液には、長時間の使用等によって僅かならでもコンタミネーションが混入する。このようにめっき液に混入したコンタミネーションは、一般的にオーバフローによってめっき槽の外部に排出されている。例えば、特許文献１には、めっき槽からオーバフローされためっき液に混入したコンタミネーションをフィルタによって回収し、コンタミネーションが除去されためっき液を再びめっき槽に循環供給するめっき処理装置が開示されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【文献】特開２００７－１００１１３号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

しかしながら、めっき液のオーバフローによって全てのコンタミネーションを除去することはできない。めっき液に含有されたコンタミネーションが処理対象物に付着すると、めっき処理後の処理対象物に対して極小の突起等が発生し、製品要求が満たせずに不良品となる。つまり、めっき液をオーバフローするめっき処理装置においても、コンタミネーションの付着を原因とする一定数の不良品が発生する。

【0005】

本発明は、上述する問題点に鑑みてなされたもので、めっき処理装置において、処理対象物へのコンタミネーションの付着を防止することで不良率の低下を図ることを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本発明は、上記課題を解決するための手段として、以下の構成を採用する。

【0007】

第１の発明は、貯留されためっき液の上澄み液がオーバフローされるオーバフロー壁を有するめっき槽と、上記めっき液を回収すると共に回収した上記めっき液を上記めっき槽に循環供給する循環供給ユニットとを備えためっき処理装置であって、上記循環供給ユニットは、上記オーバフロー壁の内壁面に対向する位置であって上記上澄み液がオーバフローされる領域の下方に配置された吸引ヘッドを有するという構成を採用する。

【0008】

第２の発明は、上記第１の発明において、上記吸引ヘッドが、上記めっき槽の底部から上記オーバフロー壁の上端に至る範囲の中央よりも上方に配置されているという構成を採用する。

【0009】

第３の発明は、上記第２の発明において、上記循環供給ユニットが上記吸引ヘッドを複数備えているという構成を採用する。

【0010】

第４の発明は、上記第２または第３の発明において、上記吸引ヘッドの吸引開口が上方に向けられているという構成を採用する。

【0011】

第５の発明は、上記第２または第３の発明において、上記吸引ヘッドの吸引開口が下方に向けられているという構成を採用する。

【0012】

第６の発明は、上記第４または第５の発明において、上記吸引開口が上記オーバフロー壁の内壁面に沿って水平に長尺状に設けられているという構成を採用する。

【0013】

第７の発明は、上記第１～第６いずれかの発明において、上記循環供給ユニットが、上記吸引ヘッドに向けて上記めっき液を吐出する吐出ヘッドを備えるという構成を採用する。

【発明の効果】

【0014】

オーバフロー壁の内壁面近傍には、オーバフロー壁を乗り越えずにめっき槽の底部に向かう下降流が形成される。この下降流にめっき液の表層のコンタミネーションが巻き込まれると、巻き込まれたコンタミネーションがオーバフローによってめっき槽の外部に排出されずに滞留し、不良の原因となる。本発明によれば、めっき液を回収すると共に回収しためっき液をめっき槽に循環供給する循環供給ユニットを備え、循環供給ユニットは、オーバフロー壁の内壁面に対向する位置であって上澄み液がオーバフローされる領域の下方に配置された吸引ヘッドを有する。このため、本発明によれば、オーバフローされずに再びめっき槽の底部に向かおうとするコンタミネーションを吸引ヘッドによって捕捉することができる。したがって、本発明によれば、めっき処理装置において、処理対象物へのコンタミネーションの付着を防止することで不良率の低下を図ることが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【0015】

【図1】本発明の第１実施形態におけるめっき処理装置の概略構成を示す平面図である。

【図2】本発明の第１実施形態におけるめっき処理装置の概略構成を示す縦断面図である。

【図3】（ａ）が本発明の第２実施形態におけるめっき処理装置の概略構成を示す平面図であり、（ｂ）が本発明の第２実施形態におけるめっき処理装置が備える上層吸引ヘッドを下方から見た斜視図である。

【図4】本発明の第３実施形態におけるめっき処理装置の概略構成を示す平面図である。

【図5】本発明の第３実施形態におけるめっき処理装置の概略構成を示す縦断面図である。

【図6】（ａ）が本発明の第４実施形態におけるめっき処理装置の概略構成を示す平面図であり、（ｂ）が本発明の第４実施形態におけるめっき処理装置が備える上層吸引ヘッドを上方から見た斜視図である。

【図7】本発明の第５実施形態におけるめっき処理装置の概略構成を示す縦断面図である。

【図8】本発明の第５実施形態におけるめっき処理装置の変形例の概略構成を示す縦断面図である。

【図9】上層吐出ヘッドの変形例の斜視図である。

【発明を実施するための形態】

【0016】

以下、図面を参照して、本発明に係るめっき処理装置の一実施形態について説明する。

【0017】

（第１実施形態）
図１は、本実施形態のめっき処理装置１の概略構成を示す平面図である。また、図２は、本実施形態のめっき処理装置１の概略構成を示す縦断面図である。なお、以下の説明においては、説明の便宜上、水平面における一方向を左右方向（図１における左右方向）とし、水平面において上記左右方向に直交する方向を前後方向と称する。これらの図に示すように、本実施形態のめっき処理装置１は、めっき槽２と、電極板３（図２においては省略）と、エア攪拌ユニット４と、循環供給ユニット５とを備えている。

【0018】

めっき槽２は、めっき液Ｌを貯留する液槽であり、主液槽２ａと、主液槽２ａに隣接配置されたオーバフロー槽２ｂとを備えている。主液槽２ａは、平面視において左右方向が長軸方向とされ、前後方向が短軸方向とされた長方形状の液槽であり、内部に電極板３、エア攪拌ユニット４の後述するエア噴出管４ａ、循環供給ユニット５の後述する吸引ヘッド（上層吸引ヘッド５ａ１及び下層吸引ヘッド５ｂ１）及び吐出ヘッド（上層吐出ヘッド５ｇ１及び下層吐出ヘッド５ｈ１）等が配置されている。図２に示すように、主液槽２ａの底部は、上面（すなわち主液槽２ａの底面２ａ１）がオーバフロー槽２ｂ側から反対側に向かうに連れて下降する傾斜面とされている。また、主液槽２ａのオーバフロー槽２ｂ側の側壁は、オーバフロー壁２ａ２とされている。このオーバフロー壁２ａ２は、主液槽２ａの内部とオーバフロー槽２ｂの内部とを区画するための壁部である。オーバフロー槽２ｂの高さは、主液槽２ａに貯留されためっき液Ｌの上澄み液のみが左側から右側に乗り越えることによってオーバフロー槽２ｂに流れ込むことが可能なように主液槽２ａの他の側壁よりも低く設定されている。

【0019】

オーバフロー槽２ｂは、主液槽２ａのオーバフロー壁２ａ２に隣接して配置されており、オーバフロー壁２ａ２を乗り越えてオーバフローされるめっき液Ｌの上澄み液を受け止める液槽である。このようなオーバフロー槽２ｂは、図１に示すように、平面視にて矩形状とされた主液槽２ａの一辺の全域（オーバフロー壁２ａ２の上端縁の全域）に亘るように設けられている。

【0020】

電極板３は、主液槽２ａの側壁の内壁面に沿って複数配置されており、本実施形態においては左右方向に等間隔で複数配列されている。これらの電極板３は、主液槽２ａに貯留されためっき液Ｌに浸漬された状態とされている。これらの電極板３は、不図示の電源装置等と接続されており、電源装置から所定の電圧が印加される。

【0021】

エア攪拌ユニット４は、エア噴出管４ａと、エアヘッダ管４ｂと、エア供給部４ｃとを備えている。エア噴出管４ａは、図１に示すように、左右方向に沿って伸びる直線状の配管であり、内部を流れる空気を外部に噴出するための不図示の噴出口を複数備えている。図２に示すように、エア噴出管４ａは、主液槽２ａの底面２ａ１の近傍に底面２ａ１から一定の隙間を空けた状態で水平に配設されている。また、エア噴出管４ａは、図１に示すように、前後方向に離間して互いに平行に複数（本実施形態においては４つ）設けられており、左側の端部がエアヘッダ管４ｂに接続されている。

【0022】

エアヘッダ管４ｂは、複数のエア噴出管４ａの端部同士を接続する配管であり、エア供給部４ｃから供給される空気を複数のエア噴出管４ａに分配する。エア供給部４ｃは、エアヘッダ管４ｂに対して空気を供給する装置である。

【0023】

このようなエア攪拌ユニット４では、エア供給部４ｃからエアヘッダ管４ｂに空気が供給されると、空気がエアヘッダ管４ｂから各々のエア噴出管４ａに供給される。エア噴出管４ａに供給された空気は、各々のエア噴出管４ａからめっき槽２の内部に噴出され、めっき液Ｌ内に気泡となって噴出される。このように噴出された気泡によって、めっき液Ｌに浸漬された処理対象物の周囲が攪拌され、処理対象物に表面に付着したガス泡が処理対象物から剥離される。

【0024】

循環供給ユニット５は、めっき槽２に貯留されためっき液Ｌを回収すると共に、回収しためっき液Ｌに含まれたコンタミネーションを除去して、再びめっき槽２に供給するユニットである。つまり、循環供給ユニット５は、めっき液Ｌを回収すると共に回収しためっき液Ｌをめっき槽２に循環供給する。この循環供給ユニット５は、図１及び図２に示すように、上層回収ユニット５ａと、下層回収ユニット５ｂと、第１フィルタ５ｃと、第２フィルタ５ｄと、第３フィルタ５ｅと、ポンプ５ｆと、上層供給ユニット５ｇと、下層供給ユニット５ｈと、外部配管５ｉとを備えている。

【0025】

上層回収ユニット５ａは、平面視にてめっき槽２の右端側に配置されており、複数の上層吸引ヘッド５ａ１（吸引ヘッド）と、上層吸引ヘッダ管５ａ２とを備えている。上層吸引ヘッド５ａ１は、図２に示すように、下端に向けて拡径する筒状のヘッドであり、めっき液Ｌをめっき槽２の内部から吸引するための部位である。図１に示すように、上層吸引ヘッド５ａ１は、めっき槽２のオーバフロー壁２ａ２の内壁面に対向する位置であって、めっき液Ｌの上澄み液がオーバフロー槽２ｂに向けてオーバフローされる領域（図２に示すオーバフロー領域Ｒ）の下方に配置されている。また、上層吸引ヘッド５ａ１は、めっき槽２の底部からオーバフロー壁２ａ２の上端に至る範囲の中央よりも上方に配置されている。つまり、上層吸引ヘッド５ａ１は、めっき槽２の上層であってオーバフロー壁２ａ２に近接して配置されている。

【0026】

また、上層吸引ヘッド５ａ１は、図１に示すように、複数（本実施形態においては３つ）設けられており、前後方向に配列されている。これらの上層吸引ヘッド５ａ１は、ポンプ５ｆから供給される負圧によって、オーバフロー領域Ｒの下方にてめっき槽２に貯留されためっき液Ｌの一部を上端開口縁と比較して拡径された下端開口縁（吸引開口）から上方に向けて吸引する。

【0027】

上層吸引ヘッダ管５ａ２は、各々の上層吸引ヘッド５ａ１の上端と接続されており、またポンプ５ｆと外部配管５ｉを通じて接続されている。この上層吸引ヘッダ管５ａ２は、各々の上層吸引ヘッド５ａ１によって吸引されためっき液Ｌを合流してめっき槽２の外部まで案内する。

【0028】

下層回収ユニット５ｂは、平面視にてめっき槽２の左端側に配置されており、複数の下層吸引ヘッド５ｂ１と、下層吸引ヘッダ管５ｂ２とを備えている。下層吸引ヘッド５ｂ１は、図２に示すように、下端に向けて拡径する筒状のヘッドであり、めっき液Ｌをめっき槽２の内部から吸引するための部位である。図２に示すように、下層吸引ヘッド５ｂ１は、めっき槽２の底面２ａ１と僅かな隙間を空けて対向配置されている。つまり、下層吸引ヘッド５ｂ１は、図２に示すように、めっき槽２の左下の隅部に配置されている。

【0029】

また、下層吸引ヘッド５ｂ１は、図１に示すように、複数（本実施形態においては２つ）設けられており、前後方向に配列されている。これらの下層吸引ヘッド５ｂ１は、ポンプ５ｆから供給される負圧によって、めっき槽２の底部にてめっき液Ｌの一部を上端開口と比較して拡径された下端開口縁（吸引開口）から上方に向けて吸引する。これらの下層吸引ヘッド５ｂ１の吸引開口の直径寸法は、上層吸引ヘッド５ａ１の吸引開口よりも大きく設定されている。

【0030】

下層吸引ヘッダ管５ｂ２は、各々の下層吸引ヘッド５ｂ１の上端と接続されており、またポンプ５ｆと外部配管５ｉを通じて接続されている。この下層吸引ヘッダ管５ｂ２は、各々の下層吸引ヘッダ管５ｂ２によって吸引されためっき液Ｌを合流してめっき槽２の外部まで案内する。

【0031】

第１フィルタ５ｃは、外部配管５ｉの途中部位であって、オーバフロー槽２ｂとポンプ５ｆとの間に配置されたフィルタである。第２フィルタ５ｄは、外部配管５ｉの途中部位であって、上層回収ユニット５ａの上層吸引ヘッダ管５ａ２とポンプ５ｆとの間に配置されたフィルタである。第３フィルタ５ｅは、外部配管５ｉの途中部位であって、下層回収ユニット５ｂの下層吸引ヘッダ管５ｂ２とポンプ５ｆとの間に配置されたフィルタである。

【0032】

これらの第１フィルタ５ｃ、第２フィルタ５ｄ及び第３フィルタ５ｅは、めっき液Ｌに含まれたコンタミネーションをめっき液Ｌ中から除去する。つまり、第１フィルタ５ｃは、オーバフロー槽２ｂから回収しためっき液Ｌに含まれるコンタミネーションを捕捉する。第２フィルタ５ｄは、上層回収ユニット５ａで回収されためっき液Ｌに含まれるコンタミネーションを捕捉する。第３フィルタ５ｅは、下層回収ユニット５ｂで回収されためっき液Ｌに含まれるコンタミネーションを捕捉する。なお、めっき液Ｌの回収箇所によってめっき液Ｌに含まれるコンタミネーションの粒径が異なることから、第１フィルタ５ｃ、第２フィルタ５ｄ及び第３フィルタ５ｅのメッシュ数はめっき液Ｌに含まれるコンタミネーションの粒径に応じて選択される。なお、回収しためっき液Ｌをフィルタ通過前に合流させ、第１フィルタ５ｃ、第２フィルタ５ｄ及び第３フィルタ５ｅのいずれかあるいは複数を省略する構成を採用することも可能である。

【0033】

ポンプ５ｆは、外部配管５ｉの途中部位であって、上層回収ユニット５ａ及び下層回収ユニット５ｂと、上層供給ユニット５ｇ及び下層供給ユニット５ｈとの間に配置されている。このポンプ５ｆは、上層回収ユニット５ａ及び下層回収ユニット５ｂから回収されためっき液Ｌを昇圧して上層供給ユニット５ｇ及び下層供給ユニット５ｈに供給する。

【0034】

上層供給ユニット５ｇは、平面視にてめっき槽２の左端側に配置されており、複数の上層吐出ヘッド５ｇ１（吐出ヘッド）と、上層供給ヘッダ管５ｇ２とを備えている。上層吐出ヘッド５ｇ１は、めっき槽２の右端側に向けてポンプ５ｆから圧送されためっき液Ｌを吐出するヘッドであり、上層吸引ヘッド５ａ１が配置されためっき槽２の右端側に向けてめっき液Ｌを水平に吐出する。つまり、本実施形態において上層吐出ヘッド５ｇ１は、上層吸引ヘッド５ａ１に向けてめっき液Ｌを吐出する。上層吐出ヘッド５ｇ１は、図２に示すように、めっき液Ｌの表層部に配置されている。本実施形態においては、上層吐出ヘッド５ｇ１は、上下方向にて、上層吸引ヘッド５ａ１よりも上部に配置されている。

【0035】

また、上層吐出ヘッド５ｇ１は、図１に示すように、複数（本実施形態においては２つ）設けられており、前後方向に配列されている。

【0036】

上層供給ヘッダ管５ｇ２は、各々の上層吐出ヘッド５ｇ１に接続されており、またポンプ５ｆと外部配管５ｉを通じて接続されている。この上層供給ヘッダ管５ｇ２は、各々の上層吐出ヘッド５ｇ１にポンプ５ｆから供給されためっき液Ｌを分配して供給する。

【0037】

下層供給ユニット５ｈは、平面視にてめっき槽２の右端側に配置されており、複数の下層吐出ヘッド５ｈ１と、下層供給ヘッダ管５ｈ２とを備えている。下層吐出ヘッド５ｈ１は、めっき槽２の左側に向けてポンプ５ｆから圧送されためっき液Ｌを吐出するヘッドであり、下層吸引ヘッド５ｂ１が配置されためっき槽２の左端側に向けてめっき液Ｌを底面２ａ１に沿って吐出する。つまり、本実施形態において下層吐出ヘッド５ｈ１は、下層吸引ヘッド５ｂ１に向けてめっき液Ｌを吐出する。

【0038】

また、下層吐出ヘッド５ｈ１は、図１に示すように、複数（本実施形態においては４つ）設けられており、前後方向に配列されている。前後方向に配列された４つの下層吐出ヘッド５ｈ１のうち、前後方向の端部に配置された下層吐出ヘッド５ｈ１は、図１に示すように、エア攪拌ユニット４のエア噴出管４ａよりも主液槽２ａの前後方向に対向された側壁に近接して配置されている。つまり、前後方向に配列された４つの下層吐出ヘッド５ｈ１のうち、前後方向の端部に配置された下層吐出ヘッド５ｈ１は、エア噴出管４ａよりも主液槽２ａの側壁との間にめっき液Ｌを吐出する。

【0039】

また、前後方向に配列された４つの下層吐出ヘッド５ｈ１のうち、前後方向の端部を除く中央部に配置された２つの下層吐出ヘッド５ｈ１は、前後方向の端部に配置された下層吐出ヘッド５ｈ１よりも開口端縁（吐出開口）が下層吸引ヘッド５ｂ１に近接して配置されている。

【0040】

下層供給ヘッダ管５ｈ２は、各々の下層吐出ヘッド５ｈ１に接続されており、またポンプ５ｆと外部配管５ｉを通じて接続されている。この下層供給ヘッダ管５ｈ２は、各々の下層吐出ヘッド５ｈ１にポンプ５ｆから供給されためっき液Ｌを分配して供給する。

【0041】

外部配管５ｉは、めっき槽２の外部にてめっき液Ｌを案内する分岐配管であり、上層回収ユニット５ａ及び下層回収ユニット５ｂと、上層供給ユニット５ｇ及び下層供給ユニット５ｈとを接続している。この外部配管５ｉは、オーバフロー槽２ｂの底部と、上層回収ユニット５ａの上層吸引ヘッダ管５ａ２と、下層回収ユニット５ｂの下層吸引ヘッダ管５ｂ２とに接続されており、オーバフロー槽２ｂ、上層回収ユニット５ａ及び下層回収ユニット５ｂで回収されためっき液Ｌをポンプ５ｆに向けて案内する。また、外部配管５ｉは、上層供給ユニット５ｇの上層供給ヘッダ管５ｇ２と、下層供給ユニット５ｈの下層供給ヘッダ管５ｈ２とに接続されており、ポンプ５ｆから吐出されためっき液Ｌを上層供給ユニット５ｇ及び下層供給ユニット５ｈに向けて案内する。

【0042】

このような循環供給ユニット５は、上層回収ユニット５ａ及び下層回収ユニット５ｂによってめっき液Ｌをめっき槽２から回収し、回収しためっき槽２をオーバフロー槽２ｂで回収されためっき液Ｌと共にポンプ５ｆで昇圧して、上層供給ユニット５ｇ及び下層供給ユニット５ｈによってめっき槽２に再度供給する。

【0043】

以上のような構成の本実施形態のめっき処理装置１では、ハンガに装着された複数の処理対象物がめっき槽２にてめっき液Ｌに浸漬され、処理対象物と電極板３とに不図示の電源装置によって通電が行われることによって、処理対象物の表面にめっき処理が施される。

【0044】

ここで、本実施形態のめっき処理装置１においては、ポンプ５ｆが稼働されることによって、上層供給ユニット５ｇの上層吐出ヘッド５ｇ１と、下層供給ユニット５ｈの下層吐出ヘッド５ｈ１とからめっき液Ｌが主液槽２ａの内部に供給される。これによって、主液槽２ａの内部には、めっき液Ｌの循環流が形成される。また、めっき液Ｌに供給されためっき液Ｌの上澄み液は、主液槽２ａのオーバフロー壁２ａ２を乗り越えてオーバフロー槽２ｂにオーバフローされる。さらに、主液槽２ａに貯留されためっき液Ｌは、上層吸引ヘッド５ａ１及び下層吸引ヘッド５ｂ１によって吸引される。

【0045】

オーバフロー槽２ｂに流れ込んだめっき液Ｌと、上層吸引ヘッド５ａ１及び下層吸引ヘッド５ｂ１によって吸引されめっき液Ｌとは、第１フィルタ５ｃ、第２フィルタ５ｄあるいは第３フィルタ５ｅでコンタミネーションが捕捉された後、ポンプ５ｆで昇圧されて、再び、上層吐出ヘッド５ｇ１及び下層吐出ヘッド５ｈ１から主液槽２ａの内部に供給される。

【0046】

このような本実施形態のめっき処理装置１では、オーバフロー壁２ａ２の内壁面近傍には、オーバフロー壁２ａ２を乗り越えずにめっき槽２の底部に向かう下降流が形成される。この下降流にめっき液Ｌの表層のコンタミネーションが巻き込まれると、巻き込まれたコンタミネーションがオーバフローによってめっき槽２の外部に排出されずに滞留し、不良の原因となる。本実施形態のめっき処理装置１によれば、めっき液Ｌを回収すると共に回収しためっき液Ｌをめっき槽２に循環供給する循環供給ユニット５を備えている。また、循環供給ユニット５は、オーバフロー壁２ａ２の内壁面に対向する位置であって上澄み液がオーバフローされる領域（オーバフロー領域Ｒ）の下方に配置された上層吸引ヘッド５ａ１を有する。このため、本実施形態のめっき処理装置１によれば、オーバフローされずに再びめっき槽２の底部に向かおうとするコンタミネーションを上層吸引ヘッド５ａ１によって捕捉することができる。したがって、本実施形態のめっき処理装置１によれば、処理対象物へのコンタミネーションの付着を防止することで不良率の低下を図ることが可能となる。

【0047】

また、本実施形態のめっき処理装置１においては、上層吸引ヘッド５ａ１は、めっき槽２の底部からオーバフロー壁２ａ２の上端に至る範囲の中央よりも上方に配置されている。上述の下降流によってオーバフロー領域Ｒの近傍（めっき槽２の上部かつ右側）には、渦流が形成され、コンタミネーションの密度が高くなる可能性がある。このため、本実施形態のめっき処理装置１のように、上層吸引ヘッド５ａ１を上部に配置することによって、より効率的にコンタミネーションを回収することが可能となる。

【0048】

また、本実施形態のめっき処理装置１においては、循環供給ユニット５が上層吸引ヘッド５ａ１を複数備えている。このため、オーバフロー領域Ｒの下方の複数の箇所にてめっき液Ｌを吸引することができ、より多くのコンタミネーションを回収することが可能となる。

【0049】

また、本実施形態のめっき処理装置１においては、上層吸引ヘッド５ａ１の吸引開口が下方に向けられている。このため、オーバフロー壁２ａ２の内壁面に沿う下降流によってめっき槽２の底部まで到達したコンタミネーションを吸い上げて回収することが可能となる。

【0050】

また、本実施形態のめっき処理装置１においては、循環供給ユニット５が、上層吸引ヘッド５ａ１に向けてめっき液Ｌを吐出する上層吐出ヘッド５ｇ１を備えている。このため、めっき槽２の内部にて上層吸引ヘッド５ａ１に向かうめっき液Ｌの流れを形成することができ、この流れに乗せてコンタミネーションをより多く上層吸引ヘッド５ａ１に集めることができる。したがって、本実施形態のめっき処理装置１によれば、コンタミネーションの回収率をさらに向上させることが可能となる。

【0051】

（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態について、図３を参照して説明する。なお、本実施形態の説明において、上記第１実施形態と同様の部分については、その説明を省略あるいは簡略化する。

【0052】

図３（ａ）は、本実施形態のめっき処理装置１Ａの概略構成を示す平面図である。また、図３（ｂ）は、本実施形態のめっき処理装置１Ａが備える上層吸引ヘッド５ａ３を下方から見た斜視図である。これらの図に示すように、本実施形態の上層吸引ヘッド５ａ３は、吸引開口が平面視にて長方形状とされており、長軸方向がオーバフロー壁２ａ２の壁面と平行となるように設けられている。つまり、本実施形態における上層吸引ヘッド５ａ３は、オーバフロー壁２ａ２の内壁面に沿って水平に長尺状に設けられている。上層吸引ヘッド５ａ３の吸引開口の前後方向の幅寸法は、上記第１実施形態における３つの上層吸引ヘッド５ａ１の吸引開口を全て含むように設定されている。

【0053】

このような本実施形態のめっき処理装置１Ａによれば、上層吸引ヘッド５ａ３の吸引開口をより広く確保することが可能となり、コンタミネーションの回収率をさらに向上させることが可能となる。

【0054】

（第３実施形態）
次に、本発明の第３実施形態について、図４及び図５を参照して説明する。なお、本実施形態の説明においても、上記第１実施形態と同様の部分については、その説明を省略あるいは簡略化する。

【0055】

図４は、本実施形態のめっき処理装置１Ｂの概略構成を示す平面図である。また、図５は、本実施形態のめっき処理装置１Ｂの概略構成を示す縦断面図である。これらの図に示すように、本実施形態のめっき処理装置１Ｂにおいては、吸引開口が上方に向けて配置された上層吸引ヘッド５ａ４を備えている。

【0056】

このような上層吸引ヘッド５ａ４によれば、吸引開口が上方に向けて配置されているため、オーバフロー壁２ａ２の内壁面に沿って下降する下降流に乗って流れるコンタミネーションを上層吸引ヘッド５ａ４の内部に取り込みやすくなる。特に、本実施形態の上層吸引ヘッド５ａ４は、上方に向かうに連れて拡径されているため、吸引開口を広く確保することができ、よりコンタミネーションを上層吸引ヘッド５ａ４の内部に取り込みやすくなっている。

【0057】

（第４実施形態）
次に、本発明の第４実施形態について、図６を参照して説明する。なお、本実施形態の説明において、上記第１あるいは第３実施形態と同様の部分については、その説明を省略あるいは簡略化する。

【0058】

図６（ａ）は、本実施形態のめっき処理装置１Ｃの概略構成を示す平面図である。また、図６（ｂ）は、本実施形態のめっき処理装置１Ｃが備える上層吸引ヘッド５ａ５を上方から見た斜視図である。これらの図に示すように、本実施形態の上層吸引ヘッド５ａ５は、吸引開口が平面視にて長方形状とされており、長軸方向がオーバフロー壁２ａ２の壁面と平行となるように設けられている。つまり、本実施形態における上層吸引ヘッド５ａ５は、オーバフロー壁２ａ２の内壁面に沿って水平に長尺状に設けられている。上層吸引ヘッド５ａ５の吸引開口の前後方向の幅寸法は、上記第３実施形態における３つの上層吸引ヘッド５ａ４の吸引開口を全て含むように設定されている。

【0059】

このような本実施形態のめっき処理装置１Ｃによれば、上層吸引ヘッド５ａ５の吸引開口をより広く確保することが可能となり、コンタミネーションの回収率をさらに向上させることが可能となる。

【0060】

（第５実施形態）
次に、本発明の第５実施形態について、図７を参照して説明する。なお、本実施形態の説明において、上記第１実施形態と同様の部分については、その説明を省略あるいは簡略化する。

【0061】

図７は、本実施形態のめっき処理装置１Ｄの概略構成を示す縦断面図である。この図に示すように、本実施形態のめっき処理装置１Ｄは、主液槽２ａの底面２ａ１が水平面とされている。

【0062】

このように主液槽２ａの底面２ａ１が水平面とされることによって、上記第１実施形態におけるめっき槽２に対して高さ寸法を変更することなく、主液槽２ａの容量を増加させることが可能となる。このため、本実施形態のめっき処理装置１Ｄによれば、より多くの対象物をめっき処理することが可能となる。

【0063】

また、例えば、図８に示すように、主液槽２ａの底部の隅部において、側壁の内壁面から底面２ａ１に向かうに連れて下降する接続面２ａ３を有するようにしても良い。この接続面２ａ３は、図８に示す湾曲面であっても良いし、また水平面に対して傾斜した平面状の傾斜面であっても良い。

【0064】

このような接続面２ａ３を備えることによって、主液槽２ａの底部の隅部にて、主液槽２ａの内部に形成された循環流の流れ方向を緩やかに変更することができ、循環流が壁面に衝突してめっき液Ｌの流れが阻害されることを抑止することができる。

【0065】

さらに、下層回収ユニット５ｂの下層吸引ヘッド５ｂ１が近くに配置された主液槽２ａの左側の隅部では、上昇しようとする循環流から重力の影響によって離脱された粒径の大きなコンタミネーションが接続面２ａ３によって下層吸引ヘッド５ｂ１に向けて案内される。このため、より確実にコンタミネーションを下層吸引ヘッド５ｂ１によって回収することが可能となる。

【0066】

なお、下層吸引ヘッド５ｂ１の吸引力を下層吸引ヘッド５ｂ１の周方向の全域において高く確保するためには、下層吸引ヘッド５ｂ１の下端縁と主液槽２ａの底面２ａ１との距離が下層吸引ヘッド５ｂ１の周方向において一定であることが好ましい。下層吸引ヘッド５ｂ１の下端縁の形状を接続面２ａ３に沿った形に合わせることによって、上記距離を一定とすることも考えられるが、下層吸引ヘッド５ｂ１の形状が複雑となる。このため、接続面２ａ３は、平面視において、下層吸引ヘッド５ｂ１と重ならない位置に設けることが好ましい。

【0067】

以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されないことは言うまでもない。上述した実施形態において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の趣旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。

【0068】

上記実施形態においては、めっき槽２の内部に電極板３が配置されるめっき処理装置に対して本発明を適用した例について説明した。このため、上記実施形態のめっき処理装置は、湿式の電気めっき処理（例えば、硫酸銅めっき処理、半光沢ニッケルめっき処理、光沢ニッケルめっき処理、クロムめっき処理）を行うめっき処理装置に好適に用いることができる。しかしながら、本発明はこれに限定されるものではない。本発明を、湿式の無電解めっき処理を行うめっき処理装置に適用することも可能である。

【0069】

また、上記実施形態における上層吸引ヘッド５ａ１、下層吸引ヘッド５ｂ１、上層吐出ヘッド５ｇ１及び下層吐出ヘッド５ｈ１の数は一例であり、変更可能である。例えば、エア攪拌ユニット４のエア噴出管４ａに、下層吐出ヘッド５ｈ１から吐出しためっき液Ｌの流れが干渉しないように、上記第１実施形態における４つの下層吐出ヘッド５ｈ１のうち、前後方向における両端部の２つのみを設置する構成を採用することも可能である。

【0070】

また、例えば、上層吐出ヘッド５ｇ１の吐出開口を狭くして、上層吸引ヘッド５ａ１に向かう流速を高め、より上層吸引ヘッド５ａ１に多くのコンタミネーションが案内されるようにしても良い。このような場合、例えば、図９（ａ）に示すように、上層吐出ヘッド５ｇ１の先端形状を円形状に窄む形状とすることが考えられる。また、図９（ｂ）に示すように、上層吐出ヘッド５ｇ１の先端形状を矩形状に窄む形状とすることも考えられる。また、図９（ｃ）に示すように、上層吐出ヘッド５ｇ１の先端部に円形の開口を有する絞りを設ける構成とすることも考えられる。また、図９（ｄ）に示すように、上層吐出ヘッド５ｇ１の先端部に半円状の開口を有する絞りを設ける構成とすることもできる。図９（ｄ）に示す構成を採用する場合には、水圧が高くなる主液槽２ａの底部側、すなわち上層吐出ヘッド５ｇ１の下部側に対して開口が設けられるようにすることが好ましい。なお、下層吐出ヘッド５ｈ１についても、同様に吐出開口を狭くして下層吸引ヘッド５ｂ１に向かう流速を高めるようにしても良い。

【0071】

また、例えば、上記実施形態においては、循環供給ユニット５が下層回収ユニット５ｂ及び下層供給ユニット５ｈを備える構成について説明した。しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、下層回収ユニット５ｂ及び下層供給ユニット５ｈのいずれかあるいは両方を設置しない構成を採用することも可能である。また、循環供給ユニット５が、上記実施形態に加えて、主液槽２ａの中間層にめっき液Ｌを吐出する吐出ヘッドを備える構成を採用することも可能である。

【符号の説明】

【0072】

１……めっき処理装置、１Ａ……めっき処理装置、１Ｂ……めっき処理装置、１Ｃ……めっき処理装置、１Ｄ……めっき処理装置、２……めっき槽、２ａ……主液槽、２ａ１……底面、２ａ２……オーバフロー壁、２ａ３……接続面、２ｂ……オーバフロー槽、５……循環供給ユニット、５ａ……上層回収ユニット、５ａ１……上層吸引ヘッド（吸引ヘッド）、５ａ２……上層吸引ヘッダ管、５ａ３……上層吸引ヘッド（吸引ヘッド）、５ａ４……上層吸引ヘッド（吸引ヘッド）、５ａ５……上層吸引ヘッド（吸引ヘッド）、５ｂ……下層回収ユニット、５ｂ１……下層吸引ヘッド、５ｂ２……下層吸引ヘッダ管、５ｇ……上層供給ユニット、５ｇ１……上層吐出ヘッド（吐出ヘッド）、５ｇ２……上層供給ヘッダ管、５ｈ……下層供給ユニット、５ｈ１……下層吐出ヘッド、５ｈ２……下層供給ヘッダ管、Ｌ……めっき液、Ｒ……オーバフロー領域

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】