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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2022-11-18
(45)【発行日】2022-11-29
(54)【発明の名称】エラストマー組成物並びにアクチュエータ及びセンサ
(51)【国際特許分類】
C08G 18/40 20060101AFI20221121BHJP
C08G 18/80 20060101ALI20221121BHJP
H01L 41/193 20060101ALI20221121BHJP
H01L 41/45 20130101ALI20221121BHJP
【ＦＩ】
C08G18/40 009
C08G18/80
H01L41/193
H01L41/45
【請求項の数】
9
(21)【出願番号】P 2019116461
(22)【出願日】2019-06-24
(65)【公開番号】P2021001291
(43)【公開日】2021-01-07
【審査請求日】2021-12-28
【国等の委託研究の成果に係る記載事項】（出願人による申告）平成２７年度、国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構、「次世代人工知能・ロボット中核技術開発／革新的ロボット要素技術分野／スライドリングマテリアルを用いた柔軟センサーおよびアクチュエータの研究開発」、産業技術力強化法第１７条の適用を受ける特許出願
(73)【特許権者】
【識別番号】000241463
【氏名又は名称】豊田合成株式会社
(73)【特許権者】
【識別番号】505136963
【氏名又は名称】株式会社ＡＳＭ
(74)【代理人】
【識別番号】100096116
【弁理士】
【氏名又は名称】松原 等
(72)【発明者】
【氏名】中井 孝憲
(72)【発明者】
【氏名】井上 勝成
【審査官】小森 勇
(56)【参考文献】
【文献】国際公開第２０１１／１０８５１４（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特開２０１１－２４１４０１（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１８－１４５３８８（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１６－１９４０２６（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｃ０８Ｇ １８／００－１８／８７
Ｃ０８Ｌ ７１／０２
Ｃ０８Ｌ １０１／０２
Ｃ０８Ｇ ６５／０８
Ｈ０１Ｌ ４１／１９３
Ｈ０１Ｌ ４１／４５
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
下記成分（Ａ）～（Ｄ）を含み、成分（Ｂ）の官能基の少なくとも一部が成分（Ａ）の環状分子と直接又は間接的に結合されてなり、成分（Ｂ）の官能基はイソシアネートであり、成分（Ｃ）及び（Ｄ）の各反応基は水酸基であり、初期弾性率が０．６～２ＭＰａであるエラストマー組成物。（Ａ）第１線状分子と、第１線状分子が貫通している環状分子と、第１線状分子の両末端に配置された封鎖基とからなるポリロタキサン
（Ｂ）分子量１２００～７０００の第２線状分子と、その両末端に配置された官能基とからなる架橋剤
（Ｃ）分子量３００～３０００の第３線状分子と、その両末端に配置された前記官能基と反応可能な反応基とを有する２反応成分
（Ｄ）分子量３００～３０００の第４線状分子と、その片末端のみに配置された前記官能基と反応可能な反応基とを有する１反応成分
【請求項2】
前記第２線状分子の分子量は２６００～６７００である請求項１記載のエラストマー組成物。
【請求項3】
前記エラストマー組成物のヒステリシスロスは５％以下である請求項１又は２記載のエラストマー組成物。
【請求項4】
前記第１～第４の線状分子は、脂肪族ポリエーテル、脂肪族ポリエステル、脂肪族ポリカーボネート又はこれらを含むブロック重合体である請求項１、２又は３記載のエラストマー組成物。
【請求項5】
前記官能基はブロック化イソシアネートである請求項１～４のいずれか一項に記載のエラストマー組成物。
【請求項6】
前記成分（Ａ）１００重量部に対し、前記成分（Ｂ）は１５０～６００重量部である請求項１～５のいずれか一項に記載のエラストマー組成物。
【請求項7】
前記成分（Ａ）１００重量部に対し、前記成分（Ｃ）と前記成分（Ｄ）の合計が３０～２００重量部であり、前記成分（Ｃ）と前記成分（Ｄ）の重量比が１０／９０～９０／１０である請求項１～６のいずれか一項に記載のエラストマー組成物。
【請求項8】
請求項１～７のいずれか一項に記載のエラストマー組成物で成形された膜の両面にエラストマー製電極層が配置された構造を含むアクチュエータ。
【請求項9】
請求項１～７のいずれか一項に記載のエラストマー組成物で成形された膜の両面にエラストマー製電極層が配置された構造を含むセンサ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、エラストマー組成物並びにそれを用いたアクチュエータ及びセンサに関するものである。
【背景技術】
【0002】
ポリロタキサンは、環状分子に直鎖状分子がスライド可能に貫通し、直鎖状分子の両末端に配された封鎖基により環状分子が脱離しない構造の分子集合体であり、スライドリングマテリアルと呼ばれる。ポリロタキサンは、環状分子が直鎖状分子上でスライドすることに由来する粘弾特性により、種々の応用が期待されている。
【0003】
特に、２つのポリロタキサンの環状分子どうしがその間に有する架橋部により架橋された架橋ポリロタキサン（特許文献１）は、粘弾特性により低変形領域における弾性率が低いエラストマーとなり得るため、（誘電エラストマー）アクチュエータや（誘電エラストマー）センサへの応用が期待されている。
【0004】
特許文献２には、架橋ポリロタキサンが開示されている。環状分子は活性基を有し、架橋部は重合体部の両端に反応基を有し、活性基と反応基が反応して架橋される。環状分子に、活性基の他、ヒドロキシプロピル基、ポリカプロラクトン基等の基を設けることにより、相溶性、機能性等を付与することができる。重合体部は、分子量１０００以上、好ましくは２０００以上、より好ましくは３０００以上であるのがよいとしている。この環状分子の基や重合体部の違いにより多くの実施例が記載されているが、そのうちの実施例１２は、ヒドロキシプロピル基及びポリカプロラクトン基を導入したポリロタキサンと、ポリエチレングリコールジオール（Ｍｎ＝１０００）と、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル（Ｍｎ＝１１００）をジメチルホルムアミドに溶解させた後、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体を加えて混合し、６０℃で静置し、溶媒フリーの架橋体を得たものである。しかし、初期弾性率は本発明の適度な範囲にない。
【0005】
特許文献３にも、架橋ポリロタキサンが開示されている。そのうちの実施例２は、ヒドロキシプロピル基及びポリカプロラクトン基を導入したポリロタキサンをジメチルホルムアミドに溶解させた後、両末端イソシアネート変性したポリプロピレングリコール及び片末端イソシアネート変性したポリプロピレングリコールモノブチルエーテルを有する架橋剤とジラウリン酸ジブチルすずを加えて攪拌し、５０℃で静置し、該ポリロタキサン間に、Ｍｎが３０００であるポリプロピレングリコール、及び／又はＭｎが２５００であるポリプロピレングリコールモノブチルエーテルを有する溶媒フリーの架橋体を得たものである。しかし、初期弾性率は本発明の適度な範囲にない。
【0006】
特許文献４には、ポリロタキサンを含み得るウレタン系樹脂硬化体が開示されている。そのうちの実施例２，９は、側鎖にヒドロキシル基を有するポリロタキサンとポリプロピレングリコールモノメチルエーテル（Ｍｗ=４３９）とを予め混合した所定のポリ（チ）オール化合物と、所定の第１リン酸エステル化合物と、Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルエチルアミンとを混合し、これを所定のポリイソ（チオ）シアネート化合物と混合し、徐々に昇温し、硬化体を得たものである。これらの硬化体の機械的特性については（Ｌスケ－ルロックウエル硬度以外）記載がない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0007】
【文献】特開２０１１－２４１４０１号公報
【文献】国際公開第２０１０／０２４４３１号
【文献】国際公開第２０１１／１０８５１４号
【文献】特開２０１８－２１１６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0008】
そこで、本発明の目的は、アクチュエータやセンサへ応用するのに好適な、低変形領域における初期弾性率が適度に小さいエラストマーを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0009】
本発明者らは、ポリロタキサンの架橋剤として、従来はＭｎ＝７００程度の架橋剤を用いることが多かったところ、架橋剤をさらに高分子化すると架橋密度を低減できること、さらに、両末端に反応基を有するジオール等と片末端に反応基を有するモノオール等とを用いるとさらに架橋密度を低減できることを見出し、さらに検討を加えて本発明に至った。
【0010】
［１］エラストマー組成物
下記成分（Ａ）～（Ｄ）を含み、成分（Ｂ）の官能基の少なくとも一部が成分（Ａ）の環状分子と直接又は間接的に結合されてなり、成分（Ｂ）の官能基はイソシアネートであり、成分（Ｃ）及び（Ｄ）の各反応基は水酸基であり、初期弾性率が０．６～２ＭＰａであるエラストマー組成物。
（Ａ）第１線状分子と、第１線状分子が貫通している環状分子と、第１線状分子の両末端に配置された封鎖基とからなるポリロタキサン
（Ｂ）分子量１２００～７０００の第２線状分子と、その両末端に配置された官能基とからなる架橋剤
（Ｃ）分子量３００～３０００の第３線状分子と、その両末端に配置された前記官能基と反応可能な反応基とを有する２反応成分
（Ｄ）分子量３００～３０００の第４線状分子と、その片末端のみに配置された前記官能基と反応可能な反応基とを有する１反応成分
下記成分（Ａ）～（Ｄ）を含み、成分（Ｂ）の官能基の少なくとも一部が成分（Ａ）の環状分子と直接又は間接的に結合されてなり、成分（Ｂ）の官能基はイソシアネートであり、成分（Ｃ）及び（Ｄ）の各反応基は水酸基であり、初期弾性率が０．６～２ＭＰａであるエラストマー組成物。
（Ａ）第１線状分子と、第１線状分子が貫通している環状分子と、第１線状分子の両末端に配置された封鎖基とからなるポリロタキサン
（Ｂ）分子量１２００～７０００の第２線状分子と、その両末端に配置された官能基とからなる架橋剤
（Ｃ）分子量３００～３０００の第３線状分子と、その両末端に配置された前記官能基と反応可能な反応基とを有する２反応成分
（Ｄ）分子量３００～３０００の第４線状分子と、その片末端のみに配置された前記官能基と反応可能な反応基とを有する１反応成分
【0011】
（作用）
ポリロタキサンの架橋に従来よりも高分子化した架橋剤（Ｂ）を用い、両末端に反応基を有する２反応成分（Ｃ）と、片末端のみに反応基を有する１反応成分（Ｄ）とを加えることにより、図１に模式的に示すような構造のエラストマー組成物が得られ、架橋密度が低減して、初期弾性率０．６～２ＭＰａが得られる。
ポリロタキサンの架橋に従来よりも高分子化した架橋剤（Ｂ）を用い、両末端に反応基を有する２反応成分（Ｃ）と、片末端のみに反応基を有する１反応成分（Ｄ）とを加えることにより、図１に模式的に示すような構造のエラストマー組成物が得られ、架橋密度が低減して、初期弾性率０．６～２ＭＰａが得られる。
【0012】
前記第２線状分子の分子量は２６００～６７００であることが好ましい。
【0013】
前記エラストマー組成物のヒステリシスロスは５％以下であることが好ましい。
【0014】
前記第１～第４の線状分子は、脂肪族ポリエーテル、脂肪族ポリエステル、脂肪族ポリカーボネート又はこれらを含むブロック重合体であることが好ましい。
【0015】
前記官能基はブロック化イソシアネートであることが好ましい。
【0017】
前記成分（Ａ）１００重量部に対し、前記成分（Ｂ）は１５０～６００重量部であることが好ましい。
【0018】
前記成分（Ａ）１００重量部に対し、前記成分（Ｃ）と前記成分（Ｄ）の合計が３０～２００重量部であり、前記成分（Ｃ）と前記成分（Ｄ）の重量比が１０／９０～９０／１０であることが好ましい。
【0019】
［２］（誘電エラストマー）アクチュエータ
前記［１］又はその好ましい態様のエラストマー組成物で成形された膜の両面にエラストマー製電極層が配置された構造を含むアクチュエータ。
エラストマー製電極層としては、特に限定されないが、白金、カーボン、銀等の導電性粒子を含む、シリコーン、天然ゴム、ウレタンゴム、架橋されたポリロタキサン等のエラストマーよりなる電極層を例示できる。
前記［１］又はその好ましい態様のエラストマー組成物で成形された膜の両面にエラストマー製電極層が配置された構造を含むアクチュエータ。
エラストマー製電極層としては、特に限定されないが、白金、カーボン、銀等の導電性粒子を含む、シリコーン、天然ゴム、ウレタンゴム、架橋されたポリロタキサン等のエラストマーよりなる電極層を例示できる。
【0020】
［３］（誘電エラストマー）センサ
前記［１］又はその好ましい態様のエラストマー組成物で成形された膜の両面にエラストマー製電極層が配置された構造を含むセンサ。
エラストマー製電極層としては、特に限定されないが、白金、カーボン、銀等の導電性粒子を含む、シリコーン、天然ゴム、ウレタンゴム、架橋されたポリロタキサン等のエラストマーよりなる電極層を例示できる。
前記［１］又はその好ましい態様のエラストマー組成物で成形された膜の両面にエラストマー製電極層が配置された構造を含むセンサ。
エラストマー製電極層としては、特に限定されないが、白金、カーボン、銀等の導電性粒子を含む、シリコーン、天然ゴム、ウレタンゴム、架橋されたポリロタキサン等のエラストマーよりなる電極層を例示できる。
【発明の効果】
【0021】
本発明によれば、アクチュエータやセンサへ応用するのに好適な、低変形領域における初期弾性率が適度に小さいエラストマーを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0022】
【発明を実施するための形態】
【0023】
１．ポリロタキサン（Ａ）
環状分子としては、特に限定されないが、シクロデキストリン、クラウンエーテル、シクロファン、カリックスアレーン、ククルビットウリル、環状アミド等を例示できる。環状分子は、シクロデキストリンが好ましく、中でもα‐シクロデキストリン、β‐シクロデキストリン、γ-シクロデキストリンから選択されるのがよい。シクロデキストリンとともに他の環状分子が含有されていてもよい。シクロデキストリンは、その水酸基の一部を、他の基、例えば－ＳＨ、－ＮＨ2、－ＣＯＯＨ、－ＳＯ3Ｈ、－ＰＯ4Ｈ等で置換したものでもよいし、種々の有機溶媒に溶化できるよう、グラフト鎖（例えばラクトンモノマーの開環重合からなるグラフト鎖）を有する置換基で置換したものでもよい。最も好ましい環状分子として、鎖数２０以上のグラフト鎖としてのポリカプロラクトンを有するシクロデキストリンを挙げることができる。
環状分子としては、特に限定されないが、シクロデキストリン、クラウンエーテル、シクロファン、カリックスアレーン、ククルビットウリル、環状アミド等を例示できる。環状分子は、シクロデキストリンが好ましく、中でもα‐シクロデキストリン、β‐シクロデキストリン、γ-シクロデキストリンから選択されるのがよい。シクロデキストリンとともに他の環状分子が含有されていてもよい。シクロデキストリンは、その水酸基の一部を、他の基、例えば－ＳＨ、－ＮＨ2、－ＣＯＯＨ、－ＳＯ3Ｈ、－ＰＯ4Ｈ等で置換したものでもよいし、種々の有機溶媒に溶化できるよう、グラフト鎖（例えばラクトンモノマーの開環重合からなるグラフト鎖）を有する置換基で置換したものでもよい。最も好ましい環状分子として、鎖数２０以上のグラフト鎖としてのポリカプロラクトンを有するシクロデキストリンを挙げることができる。
【0024】
第１線状分子（直鎖状分子）としては、特に限定されないが、ポリエチレングリコール、ポリ乳酸、ポリイソプレン、ポリイソブチレン、ポリブタジエン、ポリプロピレングリコール、ポリテトラヒドロフラン、ポリジメチルシロキサン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリビニルアルコール及びポリビニルメチルエーテル等を例示できる。直鎖状分子は、ポリエチレングリコールが好ましく、ポリエチレングリコールとともに他の直鎖状分子が含有されていてもよい。
【0025】
封鎖基としては、特に限定されないが、ジニトロフェニル基類、シクロデキストリン類、アダマンタン基類、トリチル基類、フルオレセイン類、ピレン類、置換ベンゼン類（置換基として、アルキル、アルキルオキシ、ヒドロキシ、ハロゲン、シアノ、スルホニル、カルボキシル、アミノ、フェニルなどを例示できる。置換基は１つ又は複数存在してもよい。）、置換されていてもよい多核芳香族類（置換基として、上記と同じものを例示できる。置換基は１つ又は複数存在してもよい。）、及びステロイド類等を例示できる。ジニトロフェニル基類、シクロデキストリン類、アダマンタン基類、トリチル基類、フルオレセイン類、及びピレン類からなる群から選ばれるのが好ましく、より好ましくはアダマンタン基類又はトリチル基類である。
【0026】
２．架橋剤（Ｂ）
第２線状分子は、特に限定されないが、前記のとおり脂肪族ポリエーテル、脂肪族ポリエステル、脂肪族ポリカーボネート又はこれらを含むブロック重合体であることが好ましい。
官能基は、前記のとおりイソシアネートであり、前記のとおりブロック化イソシアネートであることが好ましい。
第２線状分子は、特に限定されないが、前記のとおり脂肪族ポリエーテル、脂肪族ポリエステル、脂肪族ポリカーボネート又はこれらを含むブロック重合体であることが好ましい。
官能基は、前記のとおりイソシアネートであり、前記のとおりブロック化イソシアネートであることが好ましい。
【0027】
３．２反応成分（Ｃ）
第３線状分子は、特に限定されないが、前記のとおり脂肪族ポリエーテル、脂肪族ポリエステル、脂肪族ポリカーボネート又はこれらを含むブロック重合体であることが好ましい。
反応基は、前記のとおり水酸基である。
第３線状分子は、特に限定されないが、前記のとおり脂肪族ポリエーテル、脂肪族ポリエステル、脂肪族ポリカーボネート又はこれらを含むブロック重合体であることが好ましい。
反応基は、前記のとおり水酸基である。
【0028】
４．１反応成分
第４線状分子は、特に限定されないが、前記のとおり脂肪族ポリエーテル、脂肪族ポリエステル、脂肪族ポリカーボネート又はこれらを含むブロック重合体であることが好ましい。
反応基は、前記のとおり水酸基である。
第４線状分子は、特に限定されないが、前記のとおり脂肪族ポリエーテル、脂肪族ポリエステル、脂肪族ポリカーボネート又はこれらを含むブロック重合体であることが好ましい。
反応基は、前記のとおり水酸基である。
【実施例】
【0029】
以下、本発明を具体化したエラストマー組成物の実施例について、次の順に説明する。なお、本発明は本実施例に限定されるものではない。
＜１＞ポリロタキサン（Ａ）の作製
＜２＞架橋剤（Ｂ）の作製
＜３＞２反応成分（Ｃ）
＜４＞１反応成分（Ｄ）
＜５＞エラストマー組成物溶液の作製
＜６＞エラストマー組成物成形体（架橋ポリロタキサン）の作製
＜７＞エラストマー組成物成形体の物性の測定
＜８＞アクチュエータ（又はセンサ）の作製
＜１＞ポリロタキサン（Ａ）の作製
＜２＞架橋剤（Ｂ）の作製
＜３＞２反応成分（Ｃ）
＜４＞１反応成分（Ｄ）
＜５＞エラストマー組成物溶液の作製
＜６＞エラストマー組成物成形体（架橋ポリロタキサン）の作製
＜７＞エラストマー組成物成形体の物性の測定
＜８＞アクチュエータ（又はセンサ）の作製
【0030】
＜１＞ポリロタキサン（Ａ）の作製
まず、環状分子にシクロデキストリンを含有し、直鎖状分子にポリエチレングリコールを含有し、直鎖状分子の両末端に封鎖基を配置してなるポリロタキサンとして、国際公開第２００５／０８０４６９号（特許文献１で引用されている）に開示された、ヒドロキシプロピル基で修飾されたポリロタキサン（以下「ＨＡＰＲ」と略記することがある。）を調製した。
まず、環状分子にシクロデキストリンを含有し、直鎖状分子にポリエチレングリコールを含有し、直鎖状分子の両末端に封鎖基を配置してなるポリロタキサンとして、国際公開第２００５／０８０４６９号（特許文献１で引用されている）に開示された、ヒドロキシプロピル基で修飾されたポリロタキサン（以下「ＨＡＰＲ」と略記することがある。）を調製した。
【0031】
次に、溶化性や相溶性を得るため、以下の方法で、カプロラクトン基を有するポリロタキサンを作製した。上記ＨＡＰＲ １０ｇを三口フラスコに入れ、窒素をゆっくり流しながら、ε－カプロラクトン４５ｇを導入した。１００℃、３０分間メカニカル撹拌機によって均一に撹拌した後、反応温度を１３０℃まで上げ、予めトルエンで薄めた２－エチルヘキサン酸スズ（５０ｗｔ％溶液）１．６ｇを添加し、５時間反応させ、溶媒を除去し、カプロラクトン基を有するポリロタキサン（Ａ）（以下「ＨＡＰＲ－ｇ－ＰＣＬ」と略記することがある。）５５ｇを得た。環状分子はグラフト鎖としてポリカプロラクトン（鎖数：約３５）を有する。また、ＧＰＣにより、重量平均分子量Ｍｗ：５８０，０００、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎ＝１．５を確認した。また、水酸基価は、ＪＩＳ Ｋ００７０－１９９２に準ずる方法で測定した結果、７２ｍｇＫＯＨ／ｇだった。
【0032】
＜２＞架橋剤（Ｂ）の作製
次の５種類の架橋剤Ｂ’、Ｂ１～Ｂ４（溶液）を作製した。
次の５種類の架橋剤Ｂ’、Ｂ１～Ｂ４（溶液）を作製した。
【0033】
＜２－１＞架橋剤（Ｂ’）：１．０量体
三口ナスフラスコにタケネート６００（９１．５７ｇ、三井化学）を加えた後、８０℃のオイルバス中で窒素気流下撹拌した。この溶液にポリプロピレングリコール７００、ジオール型（１１０ｇ）を２時間かけてゆっくりと滴下した後、更に２時間撹拌した。反応後、４０℃まで液温を低下させた後、２－ブタノンオキシム（７６．５８ｇ、東京化成製）を液温が６０℃以上にならないようにゆっくりと滴下した。滴下後、４０℃で５時間撹拌して末端ブロックイソシアネート基を有するポリプロピレングリコールからなる架橋剤（Ｂ’）（Ｍｎ＝９５０）が含有された溶液を得た。
三口ナスフラスコにタケネート６００（９１．５７ｇ、三井化学）を加えた後、８０℃のオイルバス中で窒素気流下撹拌した。この溶液にポリプロピレングリコール７００、ジオール型（１１０ｇ）を２時間かけてゆっくりと滴下した後、更に２時間撹拌した。反応後、４０℃まで液温を低下させた後、２－ブタノンオキシム（７６．５８ｇ、東京化成製）を液温が６０℃以上にならないようにゆっくりと滴下した。滴下後、４０℃で５時間撹拌して末端ブロックイソシアネート基を有するポリプロピレングリコールからなる架橋剤（Ｂ’）（Ｍｎ＝９５０）が含有された溶液を得た。
【0034】
＜２－２＞架橋剤（Ｂ１）：１．０量体（修飾）
三口ナスフラスコにポリプロピレングリコール７００、ジオール型（５００ｇ、富士フィルム和光純薬社製）、ε－カプロラクトンのモノマーであるプラクセルＭ（４３０ｇ、ダイセル社製）を加えた後、１１０℃のオイルバス中で窒素気流下、２時間撹拌した。オイルバスを１３０℃に昇温した後、２－エチルヘキサン酸スズ（０．５ｇ、アルドリッチ社製）を加えて１０時間撹拌し、両末端にポリカプロラクトンがグラフトされたポリプロピレングリコール（以下「オリゴマー１」という。）（Ｍｎ＝１７１０）を得た。
三口ナスフラスコにタケネート６００（３５．８ｇ、三井化学社製）を加えた後、９０℃のオイルバス中で窒素気流下撹拌した。この溶液に上記両末端にポリカプロラクトンをグラフト化したポリプロピレングリコール（８０ｇ）をトルエン（８０ｇ）に溶解させた溶液を２時間かけてゆっくりと滴下した後、更に２時間撹拌した。反応後、４０℃まで液温を低下させた後、２－ブタノンオキシム（２３．５５ｇ、東京化成社製）を液温が６０℃以上にならないようにゆっくりと滴下した。滴下後、４０℃で５時間撹拌して、末端ブロックイソシアネート基を有するポリプロピレングリコールからなる架橋剤（Ｂ１）（Ｍｎ＝２７１９）が含有された溶液を得た。
三口ナスフラスコにポリプロピレングリコール７００、ジオール型（５００ｇ、富士フィルム和光純薬社製）、ε－カプロラクトンのモノマーであるプラクセルＭ（４３０ｇ、ダイセル社製）を加えた後、１１０℃のオイルバス中で窒素気流下、２時間撹拌した。オイルバスを１３０℃に昇温した後、２－エチルヘキサン酸スズ（０．５ｇ、アルドリッチ社製）を加えて１０時間撹拌し、両末端にポリカプロラクトンがグラフトされたポリプロピレングリコール（以下「オリゴマー１」という。）（Ｍｎ＝１７１０）を得た。
三口ナスフラスコにタケネート６００（３５．８ｇ、三井化学社製）を加えた後、９０℃のオイルバス中で窒素気流下撹拌した。この溶液に上記両末端にポリカプロラクトンをグラフト化したポリプロピレングリコール（８０ｇ）をトルエン（８０ｇ）に溶解させた溶液を２時間かけてゆっくりと滴下した後、更に２時間撹拌した。反応後、４０℃まで液温を低下させた後、２－ブタノンオキシム（２３．５５ｇ、東京化成社製）を液温が６０℃以上にならないようにゆっくりと滴下した。滴下後、４０℃で５時間撹拌して、末端ブロックイソシアネート基を有するポリプロピレングリコールからなる架橋剤（Ｂ１）（Ｍｎ＝２７１９）が含有された溶液を得た。
【0035】
＜２－３＞架橋剤（Ｂ２）：２．０量体（修飾）
三口ナスフラスコに上記オリゴマー１（１００ｇ）を加えた後、９０℃のオイルバス中で窒素気流下撹拌した。この溶液にタケネート６００（７．４５ｇ）を１時間かけてゆっくりと滴下した後、更に２時間撹拌して、オリゴマー２（Ｍｎ＝３９８２）を得た。
三口ナスフラスコにタケネート６００（１６．６６ｇ、三井化学社製）を加えた後、９０℃のオイルバス中で窒素気流下撹拌した。この溶液に上記オリゴマー２（８０ｇ）をトルエン（８０ｇ）に溶解させた溶液を２時間かけてゆっくりと滴下した後、更に２時間撹拌した。反応後、４０℃まで液温を低下させた後、２－ブタノンオキシム（１０．９５ｇ、東京化成社製）を液温が６０℃以上にならないようにゆっくりと滴下した。滴下後、４０℃で５時間撹拌して、末端ブロックイソシアネート基を有するポリプロピレングリコールからなる架橋剤（Ｂ２）（Ｍｎ＝５４２２）が含有された溶液を得た。
三口ナスフラスコに上記オリゴマー１（１００ｇ）を加えた後、９０℃のオイルバス中で窒素気流下撹拌した。この溶液にタケネート６００（７．４５ｇ）を１時間かけてゆっくりと滴下した後、更に２時間撹拌して、オリゴマー２（Ｍｎ＝３９８２）を得た。
三口ナスフラスコにタケネート６００（１６．６６ｇ、三井化学社製）を加えた後、９０℃のオイルバス中で窒素気流下撹拌した。この溶液に上記オリゴマー２（８０ｇ）をトルエン（８０ｇ）に溶解させた溶液を２時間かけてゆっくりと滴下した後、更に２時間撹拌した。反応後、４０℃まで液温を低下させた後、２－ブタノンオキシム（１０．９５ｇ、東京化成社製）を液温が６０℃以上にならないようにゆっくりと滴下した。滴下後、４０℃で５時間撹拌して、末端ブロックイソシアネート基を有するポリプロピレングリコールからなる架橋剤（Ｂ２）（Ｍｎ＝５４２２）が含有された溶液を得た。
【0036】
＜２－４＞架橋剤（Ｂ３）：２．３量体（修飾）
三口ナスフラスコに上記オリゴマー１（１００ｇ）を加えた後、９０℃のオイルバス中で窒素気流下撹拌した。この溶液にタケネート６００（８．４３ｇ）を１時間かけてゆっくりと滴下した後、更に２時間撹拌して、オリゴマー３（Ｍｎ＝４５３７）を得た。
三口ナスフラスコにタケネート６００（１４．３６ｇ、三井化学社製）を加えた後、９０℃のオイルバス中で窒素気流下撹拌した。この溶液に上記オリゴマー３（８０ｇ）をトルエン（８０ｇ）に溶解させた溶液を２時間かけてゆっくりと滴下した後、更に２時間撹拌した。反応後、４０℃まで液温を低下させた後、２－ブタノンオキシム（９．４４ｇ、東京化成社製）を液温が６０℃以上にならないようにゆっくりと滴下した。滴下後、４０℃で５時間撹拌して、末端ブロックイソシアネート基を有するポリプロピレングリコールからなる架橋剤（Ｂ３）（Ｍｎ＝５９７７）が含有された溶液を得た。
三口ナスフラスコに上記オリゴマー１（１００ｇ）を加えた後、９０℃のオイルバス中で窒素気流下撹拌した。この溶液にタケネート６００（８．４３ｇ）を１時間かけてゆっくりと滴下した後、更に２時間撹拌して、オリゴマー３（Ｍｎ＝４５３７）を得た。
三口ナスフラスコにタケネート６００（１４．３６ｇ、三井化学社製）を加えた後、９０℃のオイルバス中で窒素気流下撹拌した。この溶液に上記オリゴマー３（８０ｇ）をトルエン（８０ｇ）に溶解させた溶液を２時間かけてゆっくりと滴下した後、更に２時間撹拌した。反応後、４０℃まで液温を低下させた後、２－ブタノンオキシム（９．４４ｇ、東京化成社製）を液温が６０℃以上にならないようにゆっくりと滴下した。滴下後、４０℃で５時間撹拌して、末端ブロックイソシアネート基を有するポリプロピレングリコールからなる架橋剤（Ｂ３）（Ｍｎ＝５９７７）が含有された溶液を得た。
【0037】
＜２－５＞架橋剤（Ｂ４）：２．５量体（修飾）
三口ナスフラスコに上記オリゴマー１（１００ｇ）を加えた後、９０℃のオイルバス中で窒素気流下撹拌した。この溶液にタケネート６００（８．９５ｇ）を１時間かけてゆっくりと滴下した後、更に２時間撹拌して、オリゴマー４（Ｍｎ＝４９３９）を得た。
三口ナスフラスコにタケネート６００（１３．１４ｇ、三井化学社製）を加えた後、９０℃のオイルバス中で窒素気流下撹拌した。この溶液に上記オリゴマー４（８０ｇ）をトルエン（８０ｇ）に溶解させた溶液を２時間かけてゆっくりと滴下した後、更に２時間撹拌した。反応後、４０℃まで液温を低下させた後、２－ブタノンオキシム（８．６５ｇ、東京化成社製）を液温が６０℃以上にならないようにゆっくりと滴下した。滴下後、４０℃で５時間撹拌して、末端ブロックイソシアネート基を有するポリプロピレングリコールからなる架橋剤（Ｂ４）（Ｍｎ＝６４９６）が含有された溶液を得た。
三口ナスフラスコに上記オリゴマー１（１００ｇ）を加えた後、９０℃のオイルバス中で窒素気流下撹拌した。この溶液にタケネート６００（８．９５ｇ）を１時間かけてゆっくりと滴下した後、更に２時間撹拌して、オリゴマー４（Ｍｎ＝４９３９）を得た。
三口ナスフラスコにタケネート６００（１３．１４ｇ、三井化学社製）を加えた後、９０℃のオイルバス中で窒素気流下撹拌した。この溶液に上記オリゴマー４（８０ｇ）をトルエン（８０ｇ）に溶解させた溶液を２時間かけてゆっくりと滴下した後、更に２時間撹拌した。反応後、４０℃まで液温を低下させた後、２－ブタノンオキシム（８．６５ｇ、東京化成社製）を液温が６０℃以上にならないようにゆっくりと滴下した。滴下後、４０℃で５時間撹拌して、末端ブロックイソシアネート基を有するポリプロピレングリコールからなる架橋剤（Ｂ４）（Ｍｎ＝６４９６）が含有された溶液を得た。
【0038】
＜３＞２反応成分（Ｃ）
次の２種類の２反応成分を使用した。
＜３－１＞２反応成分（Ｃ１）
和光純薬社製ポリプロピレングリコール７００、ジオール型をそのまま使用した。
＜３－２＞２反応成分（Ｃ２）
上記＜２－３＞で作製したオリゴマー２を使用した。
次の２種類の２反応成分を使用した。
＜３－１＞２反応成分（Ｃ１）
和光純薬社製ポリプロピレングリコール７００、ジオール型をそのまま使用した。
＜３－２＞２反応成分（Ｃ２）
上記＜２－３＞で作製したオリゴマー２を使用した。
【0039】
＜４＞１反応成分（Ｄ）
次の２種類の１反応成分を使用した。
＜４－１＞１反応成分（Ｄ１）
和光純薬社製ポリプロピレングリコール１Ｋ、モノオール型をそのまま使用した。
＜４－２＞１反応成分（Ｄ２）
和光純薬社製ポリプロピレングリコール３４０、モノオール型をそのまま使用した。
次の２種類の１反応成分を使用した。
＜４－１＞１反応成分（Ｄ１）
和光純薬社製ポリプロピレングリコール１Ｋ、モノオール型をそのまま使用した。
＜４－２＞１反応成分（Ｄ２）
和光純薬社製ポリプロピレングリコール３４０、モノオール型をそのまま使用した。
【0040】
＜５＞エラストマー組成物溶液の作製
上記（Ａ）、（Ｂｘ）、（Ｃｘ）、（Ｄｘ）の作製物を選択的に用い、次の表１に示す配合（配合数値は質量（ｇ））で、実施例及び比較例のエラストマー組成物溶液を作製した。なお、水酸基量とイソシアネート量は、いずれの例においても等量となっている。
上記（Ａ）、（Ｂｘ）、（Ｃｘ）、（Ｄｘ）の作製物を選択的に用い、次の表１に示す配合（配合数値は質量（ｇ））で、実施例及び比較例のエラストマー組成物溶液を作製した。なお、水酸基量とイソシアネート量は、いずれの例においても等量となっている。
【0041】
【表1】
【0042】
・溶媒として、トルエンを用いた。
・酸化防止剤として、Ｒｉａｎｌｏｎ Ｃｏｒｐ．製「Ｔｈａｎｏｘ１７２６」を用いた。
・触媒（脱保護用）として、ジラウリル酸ジブチルスズ（溶液）を用いた。
・シリコーン添加剤として、ＧＥＬＥＳＴ社製「ＤＢＬ－Ｃ３１」（両末端アルコール変性シリコーン：カプロラクトン-ジメチルシロキサン-カプロラクトンブロックコポリマー）（溶液であり、固形分３０質量％）を用いた。
・加水分解抑制剤として、日清紡ケミカル社製「カルボジライトＶ－０９ＧＢ」（溶液であり、固形分３０質量％）を用いた。
・酸化防止剤として、Ｒｉａｎｌｏｎ Ｃｏｒｐ．製「Ｔｈａｎｏｘ１７２６」を用いた。
・触媒（脱保護用）として、ジラウリル酸ジブチルスズ（溶液）を用いた。
・シリコーン添加剤として、ＧＥＬＥＳＴ社製「ＤＢＬ－Ｃ３１」（両末端アルコール変性シリコーン：カプロラクトン-ジメチルシロキサン-カプロラクトンブロックコポリマー）（溶液であり、固形分３０質量％）を用いた。
・加水分解抑制剤として、日清紡ケミカル社製「カルボジライトＶ－０９ＧＢ」（溶液であり、固形分３０質量％）を用いた。
【0043】
＜５－１＞比較例１の調製
ポリロタキサン（Ａ）１８．１ｇと架橋剤（Ｂ’）溶液２７．２ｇと２反応成分（Ｃ１）１０．７ｇを、溶媒６１ｇに溶解させ、攪拌して均一溶液とした。この溶液に触媒０．８ｇ、シリコーン添加剤０．８ｇを加え、攪拌し、均一溶液とした。
ポリロタキサン（Ａ）１８．１ｇと架橋剤（Ｂ’）溶液２７．２ｇと２反応成分（Ｃ１）１０．７ｇを、溶媒６１ｇに溶解させ、攪拌して均一溶液とした。この溶液に触媒０．８ｇ、シリコーン添加剤０．８ｇを加え、攪拌し、均一溶液とした。
【0044】
＜５－２＞比較例２の調製
ポリロタキサン（Ａ）１６．１ｇと架橋剤（Ｂ１）溶液３８．３ｇと２反応成分（Ｃ１）７．５ｇを、攪拌して均一溶液とした。この溶液に酸化防止剤１．０ｇ、触媒０．８ｇ、シリコーン添加剤０．９ｇ、加水分解抑制剤１．６ｇを加え、攪拌し、均一溶液とした。
ポリロタキサン（Ａ）１６．１ｇと架橋剤（Ｂ１）溶液３８．３ｇと２反応成分（Ｃ１）７．５ｇを、攪拌して均一溶液とした。この溶液に酸化防止剤１．０ｇ、触媒０．８ｇ、シリコーン添加剤０．９ｇ、加水分解抑制剤１．６ｇを加え、攪拌し、均一溶液とした。
【0045】
＜５－３＞比較例３の調製
ポリロタキサン（Ａ）８．９ｇと架橋剤（Ｂ２）溶液２５．５ｇと２反応成分（Ｃ２）１８．８ｇを、溶媒５５ｇに溶解させ、攪拌して均一溶液とした。この溶液に触媒０．８ｇ、シリコーン添加剤０．８ｇ、を加え、攪拌し、均一溶液とした。
ポリロタキサン（Ａ）８．９ｇと架橋剤（Ｂ２）溶液２５．５ｇと２反応成分（Ｃ２）１８．８ｇを、溶媒５５ｇに溶解させ、攪拌して均一溶液とした。この溶液に触媒０．８ｇ、シリコーン添加剤０．８ｇ、を加え、攪拌し、均一溶液とした。
【0046】
＜５－４＞実施例１の調製
ポリロタキサン（Ａ）１５．３ｇと架橋剤（Ｂ１）溶液３６．３ｇと２反応成分（Ｃ１）３．６ｇと１反応成分（Ｄ１）１０．２ｇを溶媒に溶解させ、攪拌して均一溶液とした。この溶液に酸化防止剤１．１ｇ、触媒０．９ｇ、シリコーン添加剤０．９ｇ、加水分解抑制剤１．７ｇを加え、攪拌し、均一溶液とした。
ポリロタキサン（Ａ）１５．３ｇと架橋剤（Ｂ１）溶液３６．３ｇと２反応成分（Ｃ１）３．６ｇと１反応成分（Ｄ１）１０．２ｇを溶媒に溶解させ、攪拌して均一溶液とした。この溶液に酸化防止剤１．１ｇ、触媒０．９ｇ、シリコーン添加剤０．９ｇ、加水分解抑制剤１．７ｇを加え、攪拌し、均一溶液とした。
【0047】
＜５－５＞実施例２の調製
ポリロタキサン（Ａ）１０．９ｇと架橋剤（Ｂ２）溶液２７．３ｇと２反応成分（Ｃ１）２．５ｇと１反応成分（Ｄ１）７．２ｇを溶媒に溶解させ、攪拌して均一溶液とした。この溶液に酸化防止剤１．０ｇ、触媒０．８ｇ、シリコーン添加剤０．８ｇ、加水分解抑制剤１．６ｇを加え、攪拌し、均一溶液とした。
ポリロタキサン（Ａ）１０．９ｇと架橋剤（Ｂ２）溶液２７．３ｇと２反応成分（Ｃ１）２．５ｇと１反応成分（Ｄ１）７．２ｇを溶媒に溶解させ、攪拌して均一溶液とした。この溶液に酸化防止剤１．０ｇ、触媒０．８ｇ、シリコーン添加剤０．８ｇ、加水分解抑制剤１．６ｇを加え、攪拌し、均一溶液とした。
【0048】
＜５－６＞実施例３の調製
ポリロタキサン（Ａ）１０．９ｇと架橋剤（Ｂ３）溶液５４ｇと２反応成分（Ｃ１）２．５ｇと１反応成分（Ｄ１）７．２ｇを溶媒に溶解させ、攪拌して均一溶液とした。
この溶液に酸化防止剤１．０ｇ、触媒０．９ｇ、シリコーン添加剤０．９ｇ、加水分解抑制剤１．６ｇを加え、攪拌し、均一溶液とした。
ポリロタキサン（Ａ）１０．９ｇと架橋剤（Ｂ３）溶液５４ｇと２反応成分（Ｃ１）２．５ｇと１反応成分（Ｄ１）７．２ｇを溶媒に溶解させ、攪拌して均一溶液とした。
この溶液に酸化防止剤１．０ｇ、触媒０．９ｇ、シリコーン添加剤０．９ｇ、加水分解抑制剤１．６ｇを加え、攪拌し、均一溶液とした。
【0049】
＜５－７＞実施例４の調製
ポリロタキサン（Ａ）１２ｇと架橋剤（Ｂ３）溶液５４．７ｇと２反応成分（Ｃ１）２．８ｇと１反応成分（Ｄ２）２．７ｇを溶媒に溶解させ、攪拌して均一溶液とした。
この溶液に酸化防止剤１．１ｇ、触媒０．９ｇ、シリコーン添加剤０．９ｇ、加水分解抑制剤１．８ｇを加え、攪拌し、均一溶液とした。
ポリロタキサン（Ａ）１２ｇと架橋剤（Ｂ３）溶液５４．７ｇと２反応成分（Ｃ１）２．８ｇと１反応成分（Ｄ２）２．７ｇを溶媒に溶解させ、攪拌して均一溶液とした。
この溶液に酸化防止剤１．１ｇ、触媒０．９ｇ、シリコーン添加剤０．９ｇ、加水分解抑制剤１．８ｇを加え、攪拌し、均一溶液とした。
【0050】
＜５－８＞実施例５の調製
ポリロタキサン（Ａ）１０．４ｇと架橋剤（Ｂ４）溶液５５．９ｇと２反応成分（Ｃ１）２．４ｇと１反応成分（Ｄ１）７．０ｇを溶媒に溶解させ、攪拌して均一溶液とした。この溶液に酸化防止剤０．９ｇ、触媒０．８ｇ、シリコーン添加剤０．８ｇ、加水分解抑制剤１．５ｇを加え、攪拌し、均一溶液とした。
ポリロタキサン（Ａ）１０．４ｇと架橋剤（Ｂ４）溶液５５．９ｇと２反応成分（Ｃ１）２．４ｇと１反応成分（Ｄ１）７．０ｇを溶媒に溶解させ、攪拌して均一溶液とした。この溶液に酸化防止剤０．９ｇ、触媒０．８ｇ、シリコーン添加剤０．８ｇ、加水分解抑制剤１．５ｇを加え、攪拌し、均一溶液とした。
【0051】
＜５－９＞実施例６の調製
ポリロタキサン（Ａ）１１．５ｇと架橋剤（Ｂ４）溶液６１．５ｇと２反応成分（Ｃ１）２．７ｇと１反応成分（Ｄ２）２．６ｇを溶媒に溶解させ、攪拌して均一溶液とした。この溶液に酸化防止剤１．０ｇ、触媒０．８ｇ、シリコーン添加剤０．８ｇ、加水分解抑制剤１．７ｇを加え、攪拌し、均一溶液とした。
ポリロタキサン（Ａ）１１．５ｇと架橋剤（Ｂ４）溶液６１．５ｇと２反応成分（Ｃ１）２．７ｇと１反応成分（Ｄ２）２．６ｇを溶媒に溶解させ、攪拌して均一溶液とした。この溶液に酸化防止剤１．０ｇ、触媒０．８ｇ、シリコーン添加剤０．８ｇ、加水分解抑制剤１．７ｇを加え、攪拌し、均一溶液とした。
【0052】
＜６＞エラストマー組成物成形体（架橋ポリロタキサン）の作製
上記＜５＞で作製した実施例及び比較例のエラストマー組成物溶液を、よく脱泡してから、ＰＥＴシートにスリットダイコータ法により塗布した後、１３０℃のオーブン内に減圧条件下で５時間おいて硬化させ、ＰＥＴシートより剥離し、膜状のエラストマー組成物成形体（架橋ポリロタキサン）を作製した。エラストマー組成物成形体は、弾性変形する伸縮性を備えていた。
上記＜５＞で作製した実施例及び比較例のエラストマー組成物溶液を、よく脱泡してから、ＰＥＴシートにスリットダイコータ法により塗布した後、１３０℃のオーブン内に減圧条件下で５時間おいて硬化させ、ＰＥＴシートより剥離し、膜状のエラストマー組成物成形体（架橋ポリロタキサン）を作製した。エラストマー組成物成形体は、弾性変形する伸縮性を備えていた。
【0053】
＜７＞エラストマー組成物成形体の物性の測定
実施例及び比較例の各エラストマー組成物成形体の次の物性を測定した。結果を表１に示す。
実施例及び比較例の各エラストマー組成物成形体の次の物性を測定した。結果を表１に示す。
【0054】
＜７－１＞比誘電率
各試料にオートファインコータ（ＪＥＣ－３０００ＦＣ 日本電子社製）を用いて白金をφ内径５ｍｍに蒸着し、誘電率測定用プローブを用いてＰｅｃｉｓｉｏｎ Ｉｍｐｅｄａｎｃｅ Ａｎａｌｙｓｅｒ（４２９４Ａ Ａｇｉｌｅｎｔ社製）で静電容量を測定し、算出した。
各試料にオートファインコータ（ＪＥＣ－３０００ＦＣ 日本電子社製）を用いて白金をφ内径５ｍｍに蒸着し、誘電率測定用プローブを用いてＰｅｃｉｓｉｏｎ Ｉｍｐｅｄａｎｃｅ Ａｎａｌｙｓｅｒ（４２９４Ａ Ａｇｉｌｅｎｔ社製）で静電容量を測定し、算出した。
【0055】
＜７－２＞初期弾性率と破断強度
エラストマー組成物成形体を架橋体をダンベル型（幅２．０４ｍｍ、初期試料長１０ｍｍ）に加工し、測定試料とした。
各試料について、ｓｈｉｍａｚｕ社製「ＡＧＳ－Ｘ １０Ｎ」を用いて、引張速度０．２ｍｍ／秒で引張試験を行い、応力－歪曲線を記録して１％～５％伸長時までの応力－歪曲線を線形近似した傾きから初期弾性率を算出するとともに、破断強度を測定した。
エラストマー組成物成形体を架橋体をダンベル型（幅２．０４ｍｍ、初期試料長１０ｍｍ）に加工し、測定試料とした。
各試料について、ｓｈｉｍａｚｕ社製「ＡＧＳ－Ｘ １０Ｎ」を用いて、引張速度０．２ｍｍ／秒で引張試験を行い、応力－歪曲線を記録して１％～５％伸長時までの応力－歪曲線を線形近似した傾きから初期弾性率を算出するとともに、破断強度を測定した。
【0056】
＜７－３＞ヒステリシスロス
特許文献１と同様に、ヒステリシスロスとは、ＪＩＳ Ｋ６４００に準拠した、変形及び回復の１サイクルにおける機械的エネルギー損失率（ヒステリシスロス）において、材料の変形の代わりに材料の引張試験による歪を用いたものをいう。
具体的には、ダンベル７号形（ダンベル７号形は、ＪＩＳ Ｋ－６２５１に準拠する）のサンプルを引張試験にかけ、応力－歪曲線を測定する。伸長が有効長さの１００％まで伸長した後、伸長と同じ速度で０％まで収縮する。このサイクルを１０回行い、特許文献１に記載された面積を測定し計算する方法で１から１０回までの平均値をヒステリシスロスとして算出した。
特許文献１と同様に、ヒステリシスロスとは、ＪＩＳ Ｋ６４００に準拠した、変形及び回復の１サイクルにおける機械的エネルギー損失率（ヒステリシスロス）において、材料の変形の代わりに材料の引張試験による歪を用いたものをいう。
具体的には、ダンベル７号形（ダンベル７号形は、ＪＩＳ Ｋ－６２５１に準拠する）のサンプルを引張試験にかけ、応力－歪曲線を測定する。伸長が有効長さの１００％まで伸長した後、伸長と同じ速度で０％まで収縮する。このサイクルを１０回行い、特許文献１に記載された面積を測定し計算する方法で１から１０回までの平均値をヒステリシスロスとして算出した。
【0057】
＜７－４＞絶縁破壊電界強度
まず、エラストマー組成物成形体１の膜厚を測定した。次に、図２に示すように、設置側の円板電極２１にエラストマー組成物成形体１を貼り付け、エラストマー組成物成形体１に円柱電極２２を載せ、この際にエラストマー組成物成形体１と各電極２１，２２との間に空気泡が極力残らないように留意し、さらに真空装置により脱気処理した。これを常温常湿下で絶縁破壊測定器にセットし、電源装置２３により電極２１，２２間に昇圧速度１０Ｖ／０．１秒で上昇するよう電圧を印加した。そして、電流が実質的に流れない絶縁状態を経て、電流が１．２μＡ以上となった時点の電圧から絶縁破壊電界強度（Ｖ／μｍ）を求めた。常温とは２０±１５℃であり、常湿とは６５±２０％である（ＪＩＳ－８７０３）。
まず、エラストマー組成物成形体１の膜厚を測定した。次に、図２に示すように、設置側の円板電極２１にエラストマー組成物成形体１を貼り付け、エラストマー組成物成形体１に円柱電極２２を載せ、この際にエラストマー組成物成形体１と各電極２１，２２との間に空気泡が極力残らないように留意し、さらに真空装置により脱気処理した。これを常温常湿下で絶縁破壊測定器にセットし、電源装置２３により電極２１，２２間に昇圧速度１０Ｖ／０．１秒で上昇するよう電圧を印加した。そして、電流が実質的に流れない絶縁状態を経て、電流が１．２μＡ以上となった時点の電圧から絶縁破壊電界強度（Ｖ／μｍ）を求めた。常温とは２０±１５℃であり、常湿とは６５±２０％である（ＪＩＳ－８７０３）。
【0058】
表１に示すように、比較例１～３は初期弾性率が２．２～３．６ＭＰａであったのに対し、実施例１～６は初期弾性率が０．７～１．９ＭＰａであった。また、比較例３はヒステリシスロスが５．７％であったのに対し、実施例１～６はヒステリシスロスが５％以下であった。
【0059】
＜８＞アクチュエータ（又はセンサ）の作製
例えば図３に示すように、実施例のエラストマー組成物成形体１と、エラストマー製電極層２とを、交互にそれぞれ複数積層してから、圧着して接合してなるアクチュエータ１０を作製することができる。エラストマー製電極層２は、１つおきに左右方向の一方にずらして配したグループと、１つおきに左右方向の他方にずらした配したグループとからなる。一方のグループを正極、他方のグループを負極として、直流電圧を印加すると、エラストマー組成物成形体１は膜厚方向に収縮し、該収縮によるアクチュエータ１０の全高の変化を駆動用変位として利用することができる。
同様に、エラストマー組成物成形体１とエラストマー製電極層２とを、交互に積層することにより、センサを作製することもできる。
例えば図３に示すように、実施例のエラストマー組成物成形体１と、エラストマー製電極層２とを、交互にそれぞれ複数積層してから、圧着して接合してなるアクチュエータ１０を作製することができる。エラストマー製電極層２は、１つおきに左右方向の一方にずらして配したグループと、１つおきに左右方向の他方にずらした配したグループとからなる。一方のグループを正極、他方のグループを負極として、直流電圧を印加すると、エラストマー組成物成形体１は膜厚方向に収縮し、該収縮によるアクチュエータ１０の全高の変化を駆動用変位として利用することができる。
同様に、エラストマー組成物成形体１とエラストマー製電極層２とを、交互に積層することにより、センサを作製することもできる。
【0060】
なお、本発明は前記実施例に限定されるものではなく、発明の趣旨から逸脱しない範囲で適宜変更して具体化することができる。
【符号の説明】
【0061】
１ エラストマー組成物成形体
２ エラストマー製電極層
１０ アクチュエータ
２１ 円板電極
２２ 円柱電極
２３ 電源装置
２ エラストマー製電極層
１０ アクチュエータ
２１ 円板電極
２２ 円柱電極
２３ 電源装置
【図1】
【図2】
【図3】