特許 7181828 分析装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2022-11-22

(45)【発行日】2022-12-01

(54)【発明の名称】分析装置

(51)【国際特許分類】

   G01N 35/04 20060101AFI20221124BHJP

【ＦＩ】

G01N35/04 A

【請求項の数】 11

(21)【出願番号】P 2019067555

(22)【出願日】2019-03-29

(65)【公開番号】P2020165850

(43)【公開日】2020-10-08

【審査請求日】2021-11-08

(73)【特許権者】

【識別番号】000166247

【氏名又は名称】古野電気株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110000796

【氏名又は名称】弁理士法人三枝国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】冨永 義樹

(72)【発明者】

【氏名】小松 真也

【審査官】岡村 典子

(56)【参考文献】

【文献】特開２００９－１６２７１９（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０００－２５８４３３（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平０６－２５８３２７（ＪＰ，Ａ）

【文献】実開平０４－０７５９６４（ＪＰ，Ｕ）

【文献】特開平０９－０８００５５（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｇ０１Ｎ ３５／００－３５／１０

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

キュベットの列を環状に配置させたキュベットテーブルと、
前記キュベットの列を環状方向に繰り返し間欠回転させる駆動部と、
前記間欠回転の間に測光位置を通過する各キュベットに光を照射して、当該測光位置を通過する各キュベットの被照射領域からの出射光を測光する測光部と、
前記測光された測光データに基づいて、前記キュベットの収容物を分析する分析部と、
前記各キュベットの前記被照射領域の中で、前記キュベットの前記通過に伴う前記出射光の変化量が所定変化量以下である前記キュベットの領域を、前記各キュベットのそれぞれの測定可能領域として検出する測定可能領域検出部と、
前記各キュベットの測定可能領域に含まれる第１基準ポイントが前記測光位置を通過する時点をそれぞれ、前記各キュベットでの前記分析に用いる分析対象領域を特定するための基準タイミングとして設定する基準タイミング設定部と、
前記キュベットテーブルに設けられ、前記各キュベットに対応して配置された個々のスリットからなるスリットドグと、
前記スリットを検知するセンサと、
を備え、
前記センサが前記各スリットの第１端を検知したときに、当該スリットに対応する前記キュベットの前記第１基準ポイントが前記測光位置に位置する、分析装置。

【請求項2】

キュベットの列を環状に配置させたキュベットテーブルと、
前記キュベットの列を環状方向に繰り返し間欠回転させる駆動部と、
前記間欠回転の間に測光位置を通過する各キュベットに光を照射して、当該測光位置を通過する各キュベットの被照射領域からの出射光を測光する測光部と、
前記測光された測光データに基づいて、前記キュベットの収容物を分析する分析部と、
前記各キュベットの前記被照射領域の中で、前記キュベットの前記通過に伴う前記出射光の変化量が所定変化量以下である前記キュベットの領域を、前記各キュベットのそれぞれの測定可能領域として検出する測定可能領域検出部と、
前記各キュベットの測定可能領域に含まれる第１基準ポイントが前記測光位置を通過する時点をそれぞれ、前記各キュベットでの前記分析に用いる分析対象領域を特定するための基準タイミングとして設定する基準タイミング設定部と、
前記キュベットテーブルに設けられ、前記各キュベットに対応して配置された個々のスリットからなるスリットドグと、
前記スリットを検知するセンサと、
を備え、
前記測定可能領域検出部は、前記各キュベットの前記被照射領域の中で、前記キュベットの前記通過に伴う前記出射光の変化量が所定変化量を超え、前記測定可能領域よりも前記キュベットの移動方向の上流側にある前記キュベットの領域を、前記各キュベットのそれぞれの測定可能外領域として検出し、
前記基準タイミング設定部は、前記各キュベットの前記測定可能外領域に含まれる第２基準ポイントが前記測光位置を通過する時点をそれぞれ、前記各キュベットで前記測光データの記憶を開始する記憶開始タイミングとして特定し、当該記憶開始タイミングから所定期間の前記測光データを記憶部に記憶させ、
前記センサが前記各スリットの第２端を検知したときに、当該スリットに対応する前記キュベットの前記第２基準ポイントが前記測光位置に位置する、分析装置。

【請求項3】

キュベットの列を環状に配置させたキュベットテーブルと、
前記キュベットの列を環状方向に繰り返し間欠回転させる駆動部と、
前記間欠回転の間に測光位置を通過する各キュベットに光を照射して、当該測光位置を通過する各キュベットの被照射領域からの出射光を測光する測光部と、
前記測光された測光データに基づいて、前記キュベットの収容物を分析する分析部と、
前記各キュベットの前記被照射領域の中で、前記キュベットの前記通過に伴う前記出射光の変化量が所定変化量以下である前記キュベットの領域を、前記各キュベットのそれぞれの測定可能領域として検出する測定可能領域検出部と、
前記各キュベットの測定可能領域に含まれる第１基準ポイントが前記測光位置を通過する時点をそれぞれ、前記各キュベットでの前記分析に用いる分析対象領域を特定するための基準タイミングとして設定する基準タイミング設定部と、
を備え、
前記各キュベットの前記第１基準ポイントには、前記出射光の強度または波長を、前記測定可能領域における他の領域と異ならせる部材が設けられている、分析装置。

【請求項4】

前記キュベットは、検体および試薬を収容して反応させるキュベットであり、
前記分析部は、前記間欠回転毎に、前記各キュベットの前記分析対象領域における複数の測光ポイントについて前記検体および前記試薬の反応液を分析する、
請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の分析装置。

【請求項5】

前記第１基準ポイントは、前記キュベットの前記環状方向の中間領域に位置している、
請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の分析装置。

【請求項6】

前記第１基準ポイントは、前記キュベットの前記環状方向の中点に位置している、
請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の分析装置。

【請求項7】

前記測定可能領域検出部は、前記各キュベットの前記被照射領域の中で、前記キュベットの前記通過に伴う前記出射光の変化量が所定変化量を超え、前記測定可能領域よりも前記キュベットの移動方向の上流側にある前記キュベットの領域を、前記各キュベットのそれぞれの測定可能外領域として検出し、
前記基準タイミング設定部は、前記各キュベットの前記測定可能外領域に含まれる第２基準ポイントが前記測光位置を通過する時点をそれぞれ、前記各キュベットで前記測光データの記憶を開始する記憶開始タイミングとして特定し、当該記憶開始タイミングから所定期間の前記測光データを記憶部に記憶させる、
請求項１又は請求項３に記載の分析装置。

【請求項8】

前記分析部は、前記測光データを前記記憶部から読み出して、当該読み出した測光データにおける前記基準タイミングと、前記各キュベットに個別に対応付けられた補正値とに基づいて、前記分析に用いる分析対象領域を特定し、当該分析対象領域に基づき、前記キュベットの収容物を分析する、
請求項２又は請求項７に記載の分析装置。

【請求項9】

前記キュベットテーブルに設けられ、前記各キュベットに対応して配置された個々のスリットからなるスリットドグと、
前記スリットを検知するセンサと、をさらに備え、
前記センサが前記各スリットの第１端を検知したときに、当該スリットに対応する前記キュベットの前記第１基準ポイントが前記測光位置に位置する、
請求項２又は請求項３に記載の分析装置。

【請求項10】

前記キュベットテーブルに設けられ、前記各キュベットに対応して配置された個々のスリットからなるスリットドグと、
前記スリットを検知するセンサと、をさらに備え、
前記センサが前記各スリットの第２端を検知したときに、当該スリットに対応する前記キュベットの前記第２基準ポイントが前記測光位置に位置する、
請求項７に記載の分析装置。

【請求項11】

前記各キュベットの前記第１基準ポイントには、前記出射光の強度または波長を、前記測定可能領域における他の領域と異ならせる部材が設けられている、
請求項１又は請求項２に記載の分析装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、主として、検体と試薬との反応液を分析する分析装置に関する。

【背景技術】

【0002】

従来、検体と試薬とを反応させることによって、当該検体の成分を分析する分析装置が知られている。この種の分析装置では、検体および試薬を収容した複数のキュベットをキュベットテーブルに環状に配置してキュベットテーブルを回転させ、キュベットを挟んで配置された光源と分光検出器との間にある測光位置にキュベットを通過させる。このときにキュベットを透過する光量を測定することにより、検体の成分を分析する。

【0003】

一般的な分析装置において、キュベットテーブルの回転動力にはステッピングモータを採用している。キュベットテーブルは回転軸に取り付けられ、もう一端には従動ギヤが取り付けられている。ステッピングモータに取り付けられた駆動ギヤとキュベットテーブル側の従動ギヤはタイミングベルトで連結され、従動ギヤは駆動ギヤの回転に追従して動作する。

【0004】

理想的には、ステッピングモータへの指令パルス数をカウントすることで、キュベットテーブルが回転している間のキュベットの位置を把握することができるはずである。しかし、タイミングベルトの伸びなどの影響によって、実際には指令パルスに対してキュベット位置のズレが発生する。

【0005】

これを解消し、回転中の正確なキュベット位置を把握するため、回転軸にロータリーエンコーダを取り付け、エンコーダのパルス数をカウントすることで、従動側の真の回転角度を把握する機種も存在する。しかし、多数のキュベットが配置可能な円環状のキュベットテーブルを備えた分析装置では、キュベットテーブルの回転軸が存在しないため、ロータリーエンコーダを取り付けることができない。

【0006】

これに対し、特許文献１では、ロータリーエンコーダの代わりに、円環状のキュベットテーブル天面にキュベット本数と同数のスリットを開けたスリットドグを搭載し、このスリットをフォトセンサ（検知板検出器）で検知することで、キュベットテーブルの回転位置を把握する方式が提案されている。

【0007】

特許文献１の方式では、検知板検出器パルスの立下りエッジからタイミング調整パルスのパルス幅だけ後のタイミングで測光を開始している（特許文献１の図３参照）。これにより、周速度が普通の場合は、測光位置がキュベット（セル）の中心付近となる。しかし、タイミング調整パルスのパルス幅が固定値であると、周速度が速い場合は、測光位置がキュベットの中心位置からずれることとなる（特許文献１の図４参照）。そこで、周速度が変化しても、測光位置がキュベットの中心位置付近となるように、検知板検出器パルス幅に応じて、タイミング調整パルスのパルス幅を増減させている（特許文献１の図５参照）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0008】

【文献】特許第４９０１７６６号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0009】

特許文献１では、キュベットの速度（周速度）に応じてタイミング調整パルスのパルス幅を常に調整する必要があるため、測光位置を調整するための演算処理が複雑になる。

【0010】

本発明は、上記問題を解決するためになされたものであって、複雑な演算処理をすることなく、キュベットの収容物を正確に分析することができる分析装置を提供することを課題とする。

【課題を解決するための手段】

【0011】

本発明に係る分析装置は、キュベットの列を環状に配置させたキュベットテーブルと、前記キュベットの列を環状方向に繰り返し間欠回転させる駆動部と、前記間欠回転の間に測光位置を通過する各キュベットに光を照射して、当該測光位置を通過する各キュベットの被照射領域からの出射光を測光する測光部と、前記測光された測光データに基づいて、前記キュベットの収容物を分析する分析部と、前記各キュベットの前記被照射領域の中で、前記キュベットの前記通過に伴う前記出射光の変化量が所定変化量以下である前記キュベットの領域を、前記各キュベットのそれぞれの測定可能領域として検出する測定可能領域検出部と、前記各キュベットの測定可能領域に含まれる第１基準ポイントが前記測光位置を通過する時点をそれぞれ、前記各キュベットでの前記分析に用いる分析対象領域を特定するための基準タイミングとして設定する基準タイミング設定部と、を備えたことを特徴とする。

【発明の効果】

【0012】

本発明によれば、複雑な演算処理をすることなく、キュベットの収容物を正確に分析することができる分析装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0013】

【図1】本発明の一実施形態に係る分析装置の構成を示す平面図である。

【図2】本発明の一実施形態に係る分析装置の部分断面図である。

【図3】本発明の一実施形態に係る分析装置の機能ブロック図である。

【図4】光センサの構成を示す側面図である。

【図5】（ａ）および（ｂ）は、キュベットとスリットとの対応関係を説明するための図である。

【図6】測光部の受光素子から出力される電圧信号、および、光センサの受光素子から出力される電圧信号の波形、ならびに、これらの波形とキュベットとの対応関係を示す図である。

【図7】各キュベットに設定された分析対象領域の範囲を示すデータの一例である。

【図8】図７に示す始点および終点の数値を、エンコーダパルス数に変換したデータである。

【発明を実施するための形態】

【0014】

以下、本発明の実施形態について添付図面を参照して説明する。なお、本発明は、下記の実施形態に限定されるものではない。

【0015】

図１は、本発明の一実施形態に係る分析装置１の構成を示す平面図であり、図２は、分析装置１の部分断面図であり、図３は、分析装置１の機能ブロック図である。分析装置１は、検体（例えば、血液、尿等）および試薬の反応液を分析する装置であり、キュベット２の列を環状に配置させたキュベットテーブル３と、駆動部４と、測光部５と、光センサ６と、制御部７と、表示部８と、を主に備えている。

【0016】

キュベットテーブル３は、平面視環状に形成されており、環状方向（図１の円弧状の矢印線）に沿って複数のキュベット２が配置されている。キュベット２は、検体および試薬を収容する容器であり、上面が開口した立方体または直方体の形状を呈している。キュベットテーブル３の内側または周囲には、検体容器を収容する検体庫（図示省略）や、試薬容器を収容する試薬庫（図示省略）などが設けられている。キュベット２をキュベットテーブル３に配置した後、ピペット（図示省略）を用いて、検体容器および試薬容器からキュベット２に検体および試薬が供給される。

【0017】

駆動部４は、キュベット２の列を環状方向に繰り返し間欠回転させて、キュベット２が略１回転する毎にキュベット２の列の位置を所定のキュベット数ずつ変位させる部材である。本実施形態では、駆動部４は、駆動ギヤ４１と、キュベットテーブル３に接続された従動ギヤ４２と、を備えている。駆動ギヤ４１はステッピングモータ４３に取り付けられており、ステッピングモータ４３を駆動させて駆動ギヤ４１を回転させることにより、従動ギヤ４２を介してキュベットテーブル３を回転させることができる。ステッピングモータ４３にはエンコーダ４４が搭載されており、エンコーダ４４からのエンコーダパルスによって従動ギヤ４２の位置を監視することができる。なお、ステッピングモータ４３として、サーボ制御付きステッピングモータが用いられてもよい。

【0018】

測光部５は、キュベット２の列の間欠回転の間に測光位置Ｐを通過する各キュベット２に光を照射して、測光位置Ｐを通過する各キュベット２の被照射領域からの出射光を測光する部材である。本実施形態では、測光部５は、キュベットテーブル３の外側に設けられた光源５１と、キュベットテーブル３の内側に設けられた受光素子５２と、を備えている。

【0019】

光源５１は、例えばハロゲンランプで構成され、受光素子５２に向かって光を出射する。キュベットテーブル３が回転している間、キュベット２は、光源５１からの出射光の光路（図１の直線矢印線）を横切る。光源５１からの出射光の光路とキュベット２の経路とが交差する位置が、測光位置Ｐとなる。

【0020】

図２に示すように、キュベット２が測光位置Ｐを通過するときに、光源５１からの出射光は、キュベット２に照射される。キュベット２の被照射領域に入射した光は、内部を通過して、キュベット２の被照射領域（正確には、被照射領域の裏面）から出射し、当該出射光が受光素子５２に入射する。受光素子５２は、キュベット２からの出射光を光電変換し、光量に応じた強さの電圧信号Ｖ１を制御部７に出力する。

【0021】

図１に示すように、キュベットテーブル３には、各キュベット２に対応して配置された個々のスリット９１からなるスリットドグ９が設けられている。スリット９１の個数はキュベット２と同数であり、各スリット９１は、キュベットテーブル３の外周縁部に環状方向に配列されている。

【0022】

光センサ６は、スリット９１を検知する部材である。図４に示すように、光センサ６はコ字形状を呈しており、キュベットテーブル３の外周縁を挟んで対向する光源６１と受光素子６２とを備えている。光源６１と受光素子６２との間をスリット９１が通過している間のみ、光源６１からの出射光が受光素子６２に到達し、受光素子６２によって光電変換された電圧信号Ｖ２は制御部７に出力される。

【0023】

各キュベット２がどのスリット９１と対応しているかは、公知の方法で把握することができる。本実施形態では、初期化動作において、キュベットテーブル３と一緒に回転する原点検出用のドグ（図示省略）を固定側に設置された原点センサ（図示省略）によって検知することで、原点出しが実行される。その後、キュベットテーブル３を再び回転させたときに、光センサ６を通過するスリット９１をカウントすることで、どのキュベット２が測光位置Ｐあるいは測光部５付近を通過しているのかを監視することができる。

【0024】

図５（ａ）および（ｂ）は、キュベット２とスリット９１との対応関係を説明するための図である。具体的には、図５（ａ）および（ｂ）の各図において、上側の図は、光源５１および受光素子５２とキュベット２との位置関係を示す概略平面図であり、下側の図は、上側の図の同時刻における光センサ６とスリット９１との位置関係を示す概略平面図である。キュベット２が測光部５の光源５１と受光素子５２との間を通過する際に、当該キュベット２と対応付けられたスリット９１は、光センサ６を通過する。具体的には、光センサ６がスリット９１の上流側の一端（第２端）９１ｂを検知したときに、当該スリット９１に対応するキュベット２の上流側の一端（後述する第２基準ポイントＰ２）２ａが測光位置Ｐに位置する。図５（ａ）は、キュベット２の上流側の一端が測光位置Ｐに差し掛かる直前の状態を示している。

【0025】

その後、図５（ｂ）に示すように、光センサ６がスリット９１の下流側の一端（第１端）９１ａを検知したときに、キュベット２の環状方向の中点（後述する第１基準ポイントＰ１）が測光位置Ｐに位置する。

【0026】

図６は、測光部５の受光素子５２から出力される電圧信号Ｖ１、および、光センサ６の受光素子６２から出力される電圧信号Ｖ２の波形、ならびに、これらの波形とキュベット２との対応関係を示す図である。なお、図６では便宜上、キュベット２を細長の形状に描いている。キュベット２が測光部５の光源５１と受光素子５２との間に位置していない時は、光源５１からの出射光がそのまま受光素子５２に到達するため、電圧信号Ｖ１は比較的大きく、かつ変化量が小さい。

【0027】

その後、時点ｔ１において、キュベット２の上流側の一端２ａが、光源５１と受光素子５２との間の測光位置Ｐに差し掛かると、光源５１からの出射光はキュベット２の内部を通過して受光素子５２に到達するため、電圧信号Ｖ１が急激に変化する。また、このときスリット９１の上流側の一端（第２端）９１ｂが光センサ６の光源６１の直下に差し掛かるため、電圧信号Ｖ２が立上がる。

【0028】

その後、時点ｔ２において、キュベット２の検体および試薬の収容領域が測光位置Ｐを通過すると、電圧信号Ｖ１は変化量が小さくなり安定する。さらに、時点ｔ３において、キュベット２の環状方向の中点である第１基準ポイントＰ１が測光位置Ｐを通過すると、スリット９１の下流側の一端（第１端）９１ａが光センサ６の光源６１の直下から離脱するため、電圧信号Ｖ２が立下がる。

【0029】

その後、時点ｔ４において、キュベット２の検体および試薬の収容領域の終端が測光位置Ｐを通過すると、電圧信号Ｖ１が急激に変化する。その後、時点ｔ５において、キュベット２の下流側の一端２ｂが測光位置Ｐを通過すると、光源５１からの出射光がそのまま受光素子５２に到達するようになるため、電圧信号Ｖ１は変化量が小さくなる。

【0030】

図３に示す制御部７は、分析装置１の各種動作を制御する情報処理装置である。制御部７は、記憶部７１と、測定可能領域検出部７２と、基準タイミング設定部７３と、測定対象領域設定部７４と、分析部７５と、を備えている。

【0031】

記憶部７１は、制御部７に用いる各種データを記憶する部材であり、ＤＲＡＭなどの揮発性メモリ、フラッシュメモリなどの不揮発性メモリ、または、それらの両方によって構成することができる。

【0032】

測定可能領域検出部７２は、図６に示す各キュベット２の被照射領域Ｒ１の中で、キュベット２の通過に伴う被照射領域Ｒ１からの出射光の変化量が所定変化量以下であるキュベット２の領域を、各キュベット２のそれぞれの測定可能領域Ｒ２として検出する。図６に示すように、キュベット２の検体および試薬の収容領域が測光位置Ｐを通過している間は、電圧信号Ｖ１（キュベット２からの出射光）の変化量は小さい。測定可能領域検出部７２は、この変化量が小さい領域を測定可能領域Ｒ２として検出する。

【0033】

また、測定可能領域検出部７２は、各キュベット２の被照射領域Ｒ１の中で、キュベット２の通過に伴うキュベット２からの出射光の変化量が所定変化量を超え、測定可能領域Ｒ２よりもキュベット２の移動方向の上流側にあるキュベット２の領域を、各キュベット２のそれぞれの測定可能外領域Ｒ３として検出する。図６に示す例では、時点ｔ１と時点ｔ２との間で、電圧信号Ｖ１は変化量が大きくなっている。測定可能領域検出部７２は、この変化量が大きい領域を測定可能外領域Ｒ３として検出する。

【0034】

図３に示す基準タイミング設定部７３は、各キュベット２の測定可能領域Ｒ２に含まれる第１基準ポイントＰ１が測光位置Ｐを通過する時点ｔ３をそれぞれ、各キュベット２での収容物の分析に用いる分析対象領域Ｒ４を特定するための基準タイミングとして設定する。本実施形態では、第１基準ポイントＰ１は、キュベット２の中点に位置しており、図５（ｂ）に示すように、第１基準ポイントＰ１が測光位置Ｐに位置するときに、光センサ６がスリット９１の下流側の一端９１ａを検知するため、図６に示すように、光センサ６の受光素子６２から出力される電圧信号Ｖ２が立下がる。基準タイミング設定部７３は、電圧信号Ｖ２が立下がる時点ｔ３を、基準タイミングとして特定する。

【0035】

なお、第１基準ポイントＰ１は、測定可能領域Ｒ２に含まれるポイントであれば特に限定されないが、キュベット２の中間領域（例えば、測定可能領域Ｒ２を１：２に区分する点から２：１に区分する点までの領域）に位置していることが好ましく、本実施形態のように、キュベット２の中点に位置していることが特に好ましい。

【0036】

さらに、基準タイミング設定部７３は、各キュベット２の測定可能外領域Ｒ３に含まれる第２基準ポイントＰ２が測光位置Ｐを通過する時点をそれぞれ、各キュベット２で測光データＤ１の記憶を開始する記憶開始タイミングとして特定し、当該記憶開始タイミングから所定期間の測光データＤ１を記憶部７１に記憶させる。本実施形態では、第２基準ポイントＰ２は、キュベット２の上流側の一端２ａに位置しており、第２基準ポイントＰ２が測光位置Ｐに位置するときに、光センサ６がスリット９１の上流側の一端９１ｂを検知するため、図６に示すように、時点ｔ１において、光センサ６の受光素子６２から出力される電圧信号Ｖ２が立上がる。基準タイミング設定部７３は、電圧信号Ｖ２の立上がりをトリガーにして、記憶開始タイミングとして特定する。

【0037】

また、前記所定期間は、記憶部７１に記憶させる測光データＤ１が測定可能領域Ｒ２を含むのであれば特に限定されないが、本実施形態では、電圧信号Ｖ２のパルス幅の２倍の期間である。そのため、基準タイミング設定部７３は、時点ｔ１から時点ｔ３までの期間の２倍の時点ｔ１から時点ｔ５までの期間の電圧信号Ｖ１を、測光データＤ１として切り出し、記憶部７１に記憶させる。

【0038】

第２基準ポイントＰ２は、測定可能外領域Ｒ３に含まれるポイントであれば特に限定されない。基準タイミングｔ３に基づいて分析対象領域Ｒ４を特定する方法は、後述する。なお、基準タイミング設定部７３は、第２基準ポイントＰ２を特定せずに、測光部５からの電圧信号Ｖ１をそのまま測光データＤ１として記憶部７１に記憶させてもよい。

【0039】

図６に示すように、測定可能領域Ｒ２における電圧信号Ｖ１の変化量は小さいが、キュベット２の成型加工における製造誤差などにより、当該変化量を０にすることは非常に難しい。そのため、分析精度を高めるためには、測定可能領域Ｒ２の中でも特に変化量の小さい領域を分析対象領域Ｒ４とする必要がある。

【0040】

本実施形態では、キュベット２に検体および試薬を収容する前に、あらかじめ補正データ準備工程を実施し、各キュベット２に分析対象領域Ｒ４を設定しておく。具体的には、補正データ準備工程では、キュベット２に純水等の液体を収容させた状態にして、測光部５の光源から光を出射させながらキュベットテーブル３を回転させ、測光部５において各キュベット２からの出射光（ここでは、透過光）を測光する。測定対象領域設定部７４は、このときのデータを補正用測光データＤ２として記憶部７１に記憶させる。

【0041】

さらに測定対象領域設定部７４は補正用測光データＤ２を解析し、各キュベット２において、透過光の変化量が非常に小さい一定範囲（例えば２ｍｍ）の領域を検出し、その領域を分析対象領域Ｒ４として設定する。

【0042】

図７は、各キュベット２に設定された分析対象領域Ｒ４の範囲を示すデータの一例である。始点および終点の数値は、キュベット２の第１基準ポイントＰ１からの距離で表されており、正の値は第１基準ポイントＰ１の下流側、負の値は第１基準ポイントＰ１の上流側であることを意味する。

【0043】

さらに、測定対象領域設定部７４は、分析対象領域Ｒ４の範囲を表す距離を、分析工程時のキュベット２の通常の回転速度（測光部５を通過する速度）におけるエンコーダ４４からのエンコーダパルス数に換算する。分析工程時のキュベット２の通常の通過速度が、例えば１０００ｍｍ／ｓであり、エンコーダパルスの周波数が５０ｋＨｚである場合、キュベット２は０．１ｍｍを１０μｓ（５パルス）で通過するため、図７に示すデータは図８に示す補正データＤ３に変換される。補正データＤ３では、各キュベット２について、分析対象領域Ｒ４の始点および終点の基準タイミングｔ３からのパルス数が補正値として対応付けられている。測定対象領域設定部７４は、補正データＤ３を記憶部７１に記憶させる。以上により、補正データ準備工程は終了する。

【0044】

分析工程では、キュベット２に検体および試薬を分注し、反応液を攪拌した後、キュベットテーブル３を回転させ、測光部５によって各キュベット２からの出射光を測光し、基準タイミング設定部７３が測光データＤ１を記憶部７１に記憶させる。その後、分析部７５が、測光データＤ１および補正データＤ３を記憶部７１から読み出して、当該読み出した測光データＤ１および補正データＤ３に基づき、キュベット２の収容物を分析する。具体的には、分析部７５は、測光データＤ１において各キュベット２に設定された基準タイミングｔ３と、補正データＤ３において各キュベット２に個別に対応付けられた補正値とに基づいて、分析に用いる分析対象領域Ｒ４を特定し、当該分析対象領域Ｒ４に基づき、キュベット２の収容物を分析する。分析部７５による分析結果は、表示部８に表示される。

【0045】

図６に示すように、各キュベット２の分析対象領域Ｒ４の範囲は、基準タイミングｔ３を基準として、始点が時点ｔ３＋Δｐ１として示され、終点が時点ｔ３＋Δｐ２として示されている。分析部７５は、記憶部７１から補正データＤ３を読み出し、各キュベット２について、基準タイミング設定部７３によって設定された基準タイミングｔ３に、Δｐ１およびΔｐ２を加えることで、分析対象領域Ｒ４を特定する。例えば、Ｎｏ．１のキュベット２の場合、Δｐ１＝２５パルス、Δｐ２＝１２５パルスであるため、分析部７５は、時点ｔ３＋２５パルス（５０μｓ）～ｔ３＋１２５パルス（２５０μｓ）の範囲を分析対象領域Ｒ４として特定し、当該範囲に対応する電圧信号Ｖ１に基づき、キュベット２に収容された検体および試薬の反応液を分析する。具体的には、分析部７５は、分析対象領域Ｒ４に対応する電圧信号Ｖ１の中で、エンコーダ４４から入力されるエンコーダパルスに対応する複数（１００）の測光ポイントにおける電圧の平均値を算出し、当該平均値に基づいて分析を行う。

【0046】

（総括）
以上のように、本実施形態では、キュベット２からの出射光の変化量が少ない測定可能領域Ｒ２に含まれる第１基準ポイントＰ１が測光位置Ｐを通過する基準タイミングｔ３に基づいて、前記変化量が特に少ない分析対象領域Ｒ４を特定している。仮に、分析工程時のキュベット２の速度が、補正データＤ３を生成するために想定された通常の速度と等しければ、分析部７５によって特定された分析対象領域Ｒ４は、測定対象領域設定部７４によって設定された理想的な分析対象領域Ｒ４と等しくなる。一方、分析工程時では、ステッピングモータ４３が高速で駆動するため、キュベットテーブル３の回転速度に若干ゆらぎが生じる。そのため、キュベット２の速度が通常の速度よりも速いまたは遅い場合、分析部７５によって特定された分析対象領域Ｒ４と、測定対象領域設定部７４によって設定された理想的な分析対象領域Ｒ４との間にずれが生じることとなる。

【0047】

しかし、実際の分析対象領域Ｒ４は、キュベット２の中間領域付近に位置することが多い。そこで、本実施形態では、第１基準ポイントＰ１をキュベット２の測定可能領域Ｒ２内、特に、キュベット２の中間領域（例えば中点）に設定し、この第１基準ポイントＰ１を基準として、分析対象領域Ｒ４を特定するための補正データＤ３を生成している。そのため、補正データＤ３における補正値は、キュベット２の中間領域から大きく離れたポイント（例えば測定可能外領域Ｒ３内のポイント）を基準とする場合に比べ、大幅に小さくすることができる。よって、キュベット２の速度が通常の速度と異なった場合であっても、分析部７５によって特定された分析対象領域Ｒ４と、測定対象領域設定部７４によって設定された理想的な分析対象領域Ｒ４とのずれが、分析精度に影響を与えるほど大きくなることはない。

【0048】

これに対し、特許文献１の方式では、検知板検出器パルスの立下りエッジ、すなわち、キュベットのからの出射光の変化量が少ない領域（測定可能領域）よりも外側の位置を基準に、測光位置（分析対象領域）を特定している（特許文献１の図３～図５）。そのため、タイミング調整パルスのパルス幅を、キュベットの速度にかかわらず固定とした場合、測光位置が理想的な位置から大きくずれる可能性がある。

【0049】

一方、本実施形態では、補正データＤ３における補正値をキュベット２の速度にかかわらず固定しても、分析部７５によって特定された分析対象領域Ｒ４は理想的な分析対象領域Ｒ４からさほどずれることはないため、特許文献１のように、タイミング調整パルスのパルス幅をキュベットの速度に応じて調整する必要が無い。よって、複雑な演算処理をすることなく、キュベットの収容物を正確に分析することができる。

【0050】

（付記事項）
本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、実施形態に開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる形態も本発明の技術的範囲に含まれる。

【0051】

例えば、上記実施形態では、分析部７５は、分析対象領域Ｒ４を特定した後、分析対象領域Ｒ４に対応する電圧信号Ｖ１の中でエンコーダパルスに対応する複数の測光ポイントにおける電圧の平均値に基づいて分析を行っているが、本発明はこれに限定されない。分析部７５は、例えば分析対象領域Ｒ４に対応する電圧信号Ｖ１の積分値に基づいて分析を行ってもよい。

【0052】

また、上記実施形態では、分析対象領域Ｒ４の範囲はエンコーダパルス数に基づいて規定されているが、エンコーダパルス数の代わりに、モータ指令パルス数に基づいて規定してもよい。また、図７に示す分析対象領域Ｒ４の範囲を表す距離を時間に換算して補正データＤ３を生成してもよい。

【0053】

また、上記実施形態では、キュベット２の第１基準ポイントＰ１が測光位置Ｐに通過する基準タイミングを設定するために、キュベット２と同数のスリット９１を設け、光センサ６によってスリット９１の端部を検出した時点を基準タイミングとしていたが、基準タイミングを設定する態様は特に限定されない。例えば、キュベット２の第１基準ポイントＰ１に、キュベット２からの出射光の強度または波長を、測定可能領域Ｒ２における他の領域と異ならせる部材（例えば、キュベット２の表面に形成された凸部または凹部、あるいは、カラーの目印）を設けてもよい。出射光の強度を異ならせた場合、電圧信号Ｖ１の強度が急激に変化した時点を、基準タイミングとして設定する。出射光の波長を異ならせた場合、測光部５の受光素子５２をカラーセンサで構成し、電圧信号Ｖ１の波長が急激に変化した時点を、基準タイミングとして設定する。

【0054】

また、上記実施形態では、測光部５は、キュベット２を透過した光を測光しているが、本発明はこれに限定されない。測光部５は、例えば、キュベット２に光を照射して、キュベット２から散乱または反射した光を測光してもよい。

【符号の説明】

【0055】

１ 分析装置
２ キュベット
２ａ 一端
２ｂ 一端
３ キュベットテーブル
４ 駆動部
５ 測光部
６ 光センサ（センサ）
７ 制御部
８ 表示部
９ スリットドグ
４１ 駆動ギヤ
４２ 従動ギヤ
４３ ステッピングモータ
４４ エンコーダ
５１ 光源
５２ 受光素子
６１ 光源
６２ 受光素子
７１ 記憶部
７２ 測定可能領域検出部
７３ 基準タイミング設定部
７４ 測定対象領域設定部
７５ 分析部
９１ スリット
９１ａ 一端（第１端）
９１ｂ 一端（第２端）
Ｄ１ 測光データ
Ｄ２ 補正用測光データ
Ｄ３ 補正データ
Ｐ 測光位置
Ｐ１ 第１基準ポイント
Ｐ２ 第２基準ポイント
Ｒ１ 被照射領域
Ｒ２ 測定可能領域
Ｒ３ 測定可能外領域
Ｒ４ 分析対象領域
Ｖ１ 電圧信号
Ｖ２ 電圧信号
ｔ１ 時点
ｔ２ 時点
ｔ３ 時点（基準タイミング）
ｔ４ 時点
ｔ５ 時点

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】