IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

知財求人 - 知財ポータルサイト「IP Force」

▶ コーニング インコーポレイテッドの特許一覧

特許7187108塩素ドープコアおよびオフセットトレンチを有する低曲げ損失光ファイバ
<>
  • 特許-塩素ドープコアおよびオフセットトレンチを有する低曲げ損失光ファイバ 図1
  • 特許-塩素ドープコアおよびオフセットトレンチを有する低曲げ損失光ファイバ 図2
  • 特許-塩素ドープコアおよびオフセットトレンチを有する低曲げ損失光ファイバ 図3A
  • 特許-塩素ドープコアおよびオフセットトレンチを有する低曲げ損失光ファイバ 図3B
  • 特許-塩素ドープコアおよびオフセットトレンチを有する低曲げ損失光ファイバ 図4
  • 特許-塩素ドープコアおよびオフセットトレンチを有する低曲げ損失光ファイバ 図5
  • 特許-塩素ドープコアおよびオフセットトレンチを有する低曲げ損失光ファイバ 図6
  • 特許-塩素ドープコアおよびオフセットトレンチを有する低曲げ損失光ファイバ 図7
  • 特許-塩素ドープコアおよびオフセットトレンチを有する低曲げ損失光ファイバ 図8
  • 特許-塩素ドープコアおよびオフセットトレンチを有する低曲げ損失光ファイバ 図9
  • 特許-塩素ドープコアおよびオフセットトレンチを有する低曲げ損失光ファイバ 図10
  • 特許-塩素ドープコアおよびオフセットトレンチを有する低曲げ損失光ファイバ 図11
  • 特許-塩素ドープコアおよびオフセットトレンチを有する低曲げ損失光ファイバ 図12
  • 特許-塩素ドープコアおよびオフセットトレンチを有する低曲げ損失光ファイバ 図13
  • 特許-塩素ドープコアおよびオフセットトレンチを有する低曲げ損失光ファイバ 図14
< >
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2022-12-02
(45)【発行日】2022-12-12
(54)【発明の名称】塩素ドープコアおよびオフセットトレンチを有する低曲げ損失光ファイバ
(51)【国際特許分類】
   G02B 6/036 20060101AFI20221205BHJP
【FI】
G02B6/036
【請求項の数】 11
(21)【出願番号】P 2020506757
(86)(22)【出願日】2018-08-05
(65)【公表番号】
(43)【公表日】2020-10-22
(86)【国際出願番号】 US2018045298
(87)【国際公開番号】W WO2019032408
(87)【国際公開日】2019-02-14
【審査請求日】2021-08-04
(31)【優先権主張番号】62/542,518
(32)【優先日】2017-08-08
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(73)【特許権者】
【識別番号】397068274
【氏名又は名称】コーニング インコーポレイテッド
(74)【代理人】
【識別番号】100073184
【弁理士】
【氏名又は名称】柳田 征史
(74)【代理人】
【識別番号】100123652
【弁理士】
【氏名又は名称】坂野 博行
(74)【代理人】
【識別番号】100175042
【弁理士】
【氏名又は名称】高橋 秀明
(72)【発明者】
【氏名】ブックバインダー,ダナ クレイグ
(72)【発明者】
【氏名】リー,ミン-ジュン
(72)【発明者】
【氏名】ミシュラ,スニグダラジ クマール
(72)【発明者】
【氏名】タンドン,プシュカル
【審査官】奥村 政人
(56)【参考文献】
【文献】特表2015-503122(JP,A)
【文献】米国特許出願公開第2016/0011365(US,A1)
【文献】米国特許出願公開第2014/0248026(US,A1)
【文献】特表2017-526601(JP,A)
(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
G02B 6/02- 6/036
G02B 6/44
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
光ファイバ(10)において、
塩素ドープシリカ系コア(14)であって、半径r、最大屈折率デルタΔ1max、および2.5質量%以上の該コア中の塩素濃度を有する塩素ドープシリカ系コアと;
前記コア(14)を取り囲む第1の内側クラッド(26)であって、前記コア(14)に隣接し、接触し、屈折率デルタΔ、半径r、およびΔ2min<Δ1maxとなるような最小屈折率デルタΔ2minを有する第1の内側クラッドと;
前記コア(14)を取り囲む前記第1の内側クラッド(26)に隣接し、接触する第2の内側クラッド層(30)またはトレンチ層(30a)であって、屈折率Δ、および半径rを有する第2の内側クラッド層(30)またはトレンチ層(30a)と;
を備え、
前記第2の内側クラッド層(30)またはトレンチ層(30a)が、Δ3min<Δとなるような最小屈折率デルタΔ3minを有し、
前記第2の内側クラッド層(30)またはトレンチ層(30a)が、0.4%デルタ・マイクロメートル≦Vトレンチ≦15%デルタ・マイクロメートルであるトレンチ体積Vトレンチを有し、
前記第2の内側クラッド層(30)またはトレンチ層(30a)に隣接し、接触する外側クラッド領域(34)であって、Δ3min<Δ且つΔ2min<Δとなるような、屈折率Δ、および半径rmaxを有する外側クラッド領域(34)をさらに備える 、光ファイバ(10)。
【請求項2】
前記塩素ドープシリカ系コアが、コアアルファ(コアα)≧4を有する、請求項1記載の光ファイバ(10)。
【請求項3】
9マイクロメートル以上の、1310nmでのモードフィールド径MFD、
1260nm以下のケーブルカットオフ、
1300nm≦λ≦1324nmに及ぶゼロ分散波長、および
0.75dB/turn未満の、20mmのマンドレルに関する1550nmでのマクロベンド損失、
を有する、請求項1または2記載の光ファイバ(10)。
【請求項4】
1550nmでのマクロベンド損失が直径20mmのマンドレルで0.5dB/turn以下である、および/または
前記最大屈折率デルタΔ1maxが0.10%≦Δ1max≦0.45%に及ぶ、
請求項1からいずれか1項記載の光ファイバ(10)。
【請求項5】
前記最小屈折率デルタΔ3minが-0.5%≦Δ3min≦0.25%である、請求項1からいずれか1項記載の光ファイバ(10)。
【請求項6】
前記半径rが15.0マイクロメートル≦r≦30.0マイクロメートルである、請求項1からいずれか1項記載の光ファイバ(10)。
【請求項7】
1550nmで前記光ファイバに示されるマクロベンド損失が、直径20mmのマンドレル上で0.70dB/turn以下であり、7.1と8.1の間のMACC数を示す、および/または
単一モード光ファイバである、および/または
1550nmでのマクロベンド損失が直径30mmのマンドレルで0.005dB/turn以下である、および/または
前記塩素ドープシリカコアが、コアアルファ(コアα)≧15を有する、
請求項1から6いずれか1項記載の光ファイバ(10)。
【請求項8】
前記第2の内側クラッド層(30)またはトレンチ層(30a)が最大屈折率デルタΔ3maxを有し、前記最大屈折率デルタΔ3maxが-0.5%≦Δ3max≦0.5%である、請求項1からいずれか1項記載の光ファイバ(10)。
【請求項9】
前記半径rが15.0マイクロメートル≦r≦75.0マイクロメートルである、請求項1からいずれか1項記載の光ファイバ(10)。
【請求項10】
1550nmで前記光ファイバに示されるマクロベンド損失が、直径20mmのマンドレル上で0.70dB/turn以下であり、7.1と8.1の間のMACC数を示す、請求項1からいずれか1項記載の光ファイバ(10)。
【請求項11】
前記光ファイバが、0.1dB/km以下の1550nmでのワイヤメッシュ被覆ドラムマイクロベンド損失(WMCD)を有する、請求項1から10いずれか1項記載の光ファイバ(10)。
【発明の詳細な説明】
【優先権】
【0001】
本出願は、その内容が依拠され、ここに全て引用される、2017年10月27日に出願された蘭国特許出願第2019817号、および2017年8月8日に出願された米国仮特許出願第62/542518号の米国法典第35編第119条の下での優先権の恩恵を主張するものである。
【技術分野】
【0002】
本開示は、広く、低い曲げ損失を有する単一モード光ファイバに関し、詳しくは、塩素ドープコアを有する光ファイバに関し、より詳しくは、塩素ドープコアおよびそのコアを取り囲むオフセットトレンチ領域を有するクラッドを持つ単一モードファイバに関する。
【背景技術】
【0003】
低曲げ損失の光ファイバ、特に、いわゆる「アクセス」ネットワークおよびエフティーティーピー(FTTx)光ネットワークに利用される光ファイバが必要とされている。光ファイバは、その光ファイバを通って送信される光信号の曲げ損失を誘発する様式で、そのようなネットワーク内に敷設することができる。曲げ損失を誘発する、きつい曲げ半径、光ファイバの圧縮などの物理的負荷を与え得るいくつかの用途に、光引込みケーブルアセンブリ、工場設置型終端システム(FITS:Factory Installed Termination Systems)と遊びループを有する配線ケーブル、フィーダケーブルと配線ケーブルを接続するキャビネット内に配置された小曲げ半径のマルチポート、および配線ケーブルと引込みケーブルとの間のネットワークアクセスポイントのジャンパー線における光ファイバの敷設がある。ある光ファイバ設計において、低マクロベンド損失、低マイクロベンド損失、低ケーブルカットオフ波長、1300nmと1324nmの間のゼロ分散波長、8.2から9.6マイクロメートルの1310モードフィールド直径、およびITU G.652/G.657基準の準拠を同時に達成することは、難しい。
【発明の概要】
【0004】
別の実施の形態によれば、単一モード光ファイバが提供される。この単一モード光ファイバは、(i)コアアルファ(コアα)>10、半径r、および最大屈折率デルタΔ1max%を有する塩素ドープシリカ系コア、および(ii)そのコアを取り囲むクラッドを備える。そのコアを取り囲むクラッドは、a)コアに隣接し、接触し、屈折率デルタΔ、半径r、およびΔ2min<Δ1maxとなるような最小屈折率デルタΔ2minを有する第1の内側クラッド領域、b)第1の内側クラッド領域と隣接し、接触し、屈折率Δ、半径r、およびΔ3min<Δとなるような最小屈折率デルタΔ3minを有する第2の内側クラッド領域、およびc)第2の内側クラッド領域を取り囲み、Δ3min<Δとなるような、屈折率Δ、および半径rmaxを有する外側クラッド領域を備える。この光ファイバは、9マイクロメートル以上の、1310nmでのモードフィールド径MFD、1260nm以下のケーブルカットオフ、1300nm≦λ≦1324nmに及ぶゼロ分散波長、および0.75dB/turn未満の、20mmのマンドレルに関する1550nmでのマクロベンド損失を有する。
【0005】
別の実施の形態によれば、単一モード光ファイバが提供される。この単一モード光ファイバは、(i)コアアルファ(コアα)≧4、半径r、および最大屈折率デルタΔ1max%を有する塩素ドープシリカ系コア、および(ii)そのコアを取り囲むクラッドを備える。そのコアを取り囲むクラッドは、a)コアに隣接し、接触し、屈折率デルタΔ、半径r、およびΔ2min<Δ1maxとなるような最小屈折率デルタΔ2minを有する第1の内側クラッド領域、b)第1の内側クラッド領域と隣接し、接触し、屈折率Δ、半径r、およびΔ2min<Δ3maxとなるような最大屈折率デルタΔ3maxを有する第2の内側クラッド領域、およびc)第2の内側クラッド領域を取り囲み、Δ<Δ3maxとなるような、屈折率Δ、および半径rmaxを有する外側クラッド領域を備える。この光ファイバは、9マイクロメートル以上の、1310nmでのモードフィールド径MFD、1260nm以下のケーブルカットオフ、1300nm≦λ≦1324nmに及ぶゼロ分散波長、および0.75dB/turn未満の、20mmのマンドレルに関する1550nmでのマクロベンド損失を有する。
【0006】
追加の特徴および利点が、以下の詳細な説明に述べられており、一部は、その説明から当業者に容易に明白となるか、または以下の詳細な説明、特許請求の範囲、並びに添付図面を含む、ここに記載されたような実施の形態を実施することによって、認識されるであろう。
【0007】
先の一般的な説明および以下の詳細な説明の両方とも、例示に過ぎず、請求項の性質および特徴を理解するための概要または骨子を提供する意図があることを理解すべきである。添付図面は、さらなる理解を与えるために含まれ、本明細書に含まれ、その一部を構成する。図面は、1つ以上の実施の形態を示しており、説明と共に、様々な実施の形態の原理および作動を説明する働きをする。
【図面の簡単な説明】
【0008】
添付図面は、さらなる理解を与えるために含まれ、本明細書に含まれ、その一部を構成する。図面は、1つ以上の実施の形態を示しており、説明と共に、様々な実施の形態の原理および作動を説明する働きをする。
図1】本開示の1つの実施の形態による光ファイバの側面斜視図
図2】本開示の1つの実施の形態による、図1の線II-IIでとられた光ファイバの断面図
図3A図2の光ファイバの半径に対して相対屈折率プロファイルΔをプロットしたグラフ
図3B】本開示のいくつかの実施の形態による光ファイバの半径に対して相対屈折率プロファイルΔをプロットしたグラフ
図4】本開示のいくつかの実施の形態による光ファイバの半径に対して相対屈折率プロファイルΔをプロットしたグラフ
図5】本発明の実施の形態による光ファイバの半径に対する相対屈折率プロファイルΔのプロファイル概略プロット
図6】本発明の実施の形態による光ファイバの半径に対する相対屈折率プロファイルΔのプロファイル概略プロット
図7】本発明の実施の形態による光ファイバの半径に対する相対屈折率プロファイルΔのプロファイル概略プロット
図8】本発明の実施の形態による光ファイバの半径に対する相対屈折率プロファイルΔのプロファイル概略プロット
図9】本発明の実施の形態による光ファイバの半径に対する相対屈折率プロファイルΔのプロファイル概略プロット
図10】本発明の実施の形態による光ファイバの半径に対する相対屈折率プロファイルΔのプロファイル概略プロット
図11】本発明の実施の形態による光ファイバの半径に対する相対屈折率プロファイルΔのプロファイル概略プロット
図12】本発明の実施の形態による光ファイバの半径に対する相対屈折率プロファイルΔのプロファイル概略プロット
図13】本発明の実施の形態による光ファイバの半径に対する相対屈折率プロファイルΔのプロファイル概略プロット
図14】本発明の実施の形態による光ファイバの半径に対する相対屈折率プロファイルΔのプロファイル概略プロット
【発明を実施するための形態】
【0009】
追加の特徴および利点が、以下の詳細な説明に述べられており、その説明から当業者に明白となるか、または特許請求の範囲および添付図面と共に以下の詳細な説明に記載されたように実施することによって、認識されるであろう。
【0010】
低減衰は、光ファイバにおいて重大な性質である。ここに開示された光ファイバは、潜水艦および地球長距離システム用の光ファイバケーブルなどにおける低減衰光ファイバとして使用するのに重要である。
【0011】
「屈折率プロファイル」は、屈折率または相対屈折率(ここに屈折率デルタとも称される)と、導波路ファイバの半径との間の関係である。屈折率プロファイルの各セグメントの半径は、略称r、r、r、rなどにより与えられ、小文字と大文字がここでは交換可能に使用される(例えば、rはRと同等である)。
【0012】
特に明記のない限り、「相対屈折率パーセント」は、Δ%=100×(n -n )/2n として定義され、ここに用いられているように、nは、未ドープのシリカガラスの平均屈折率である。ここに用いられているように、相対屈折率は、Δで表され、その値は、特に明記のない限り、「%」の単位で与えられる。以下の用語:相対屈折率パーセント、相対屈折率、屈折率デルタ、屈折率、相対屈折率デルタ、デルタ、Δ、Δ%、%Δ、デルタ%、%デルタおよびパーセントデルタは、ここでは交換可能に使用される。ある領域の屈折率が、未ドープシリカの平均屈折率より小さい場合、相対屈折率パーセントは、負であり、低下領域または低下屈折率を有すると称される。ある領域の屈折率が、クラッド領域の平均屈折率より大きい場合、相対屈折率パーセントは、正である。「アップドーパント」は、ここでは、純粋な未ドープのSiOに対して屈折率を上昇させる傾向を有するドーパントと考えられる。「ダウンドーパント」は、ここでは、純粋な未ドープのSiOに対して屈折率を低下させる傾向を有するドーパントと考えられる。アップドーパントの例としては、GeO(ゲルマニア)、Al、P、TiO、Cl、および/またはBrが挙げられる。ダウンドーパントの例としては、フッ素およびBが挙げられる。ここに記載されているように、nの屈折率が未ドープシリカである場合の、光プロファイルの相対屈折率が計算されているが、同等の光ファイバ特性を得るために、その光ファイバの屈折率プロファイル全体は、線形に上(または下)にシフトされ得る。
【0013】
導波路ファイバの、ここでは特に明記のない限り「分散」と称される「色分散」は、材料分散、導波路分散、および多モード分散の合計である。単一モード導波路ファイバの場合、多モード分散はゼロである。ゼロ分散波長は、分散がゼロの値を有する波長である。分散勾配は、波長に対する分散の変化の割合である。
【0014】
「実効断面積」は、式1に:
【0015】
【数1】
【0016】
として定義され、式中、積分限界は0から∞であり、fは、導波路内で伝搬する光に関連する電場の横成分である。ここに用いられているように、「実効断面積」または「Aeff」は、特に明記のない限り、1550nmの波長での光学的実効断面積を称する。
【0017】
「αコアプロファイル」という用語は、rが半径であり、「%」の単位のΔ(r)によって表される、コアの相対屈折率プロファイルを称し、式(式2)にしたがう:
【0018】
【数2】
【0019】
式中、rは、Δ(r)が最大である点であり、そのαコアプロファイルの初期点であり、rは、コアの外半径であり、コアのαプロファイルの最終点に対応し、コアの屈折率の最大勾配を通って描かれた接線がゼロデルタ線と交差するところ(すなわち、Δ(r)がゼロである点)と定義され、rはr<r<rの範囲にあり、Δは先に定義され、rは、コアのαプロファイルの初期点に対応し、rはαプロファイルの最終点に対応し、コアαおよびαコア(ここで、「コアアルファ」とも称される)は、実数である指数である。いくつかの実施の形態において、コアアルファは、1≦αコア≦100である。他の実施の形態において、コアアルファは、4≦αコア≦30である。下記の議論において、αコアの例示の値が、ここに記載された実施の形態の少なくともいくつかについて与えられている。
【0020】
ここではアルファペデスタルまたはαpedとも称される「内側クラッドのαプロファイル」という用語は、rが半径であり、「%」の単位のΔ(r)によって表される、内側クラッド領域の相対屈折率プロファイルを称し、式(式3)にしたがう:
【0021】
【数3】
【0022】
式中、rは、先のように定義され、典型的に、内側クラッド領域のΔ(r)が最大である点であり、rは、内側クラッド領域の外半径であり、最小屈折率に関連する内側クラッド領域の屈折率プロファイルを通って描かれた(垂直)線がゼロデルタ線と交差する点(すなわち、Δ(r)%がゼロである点)に対応し、rはr<r<rの範囲にあり、Δは先に定義されており、rは、内側クラッド領域のαプロファイルの初期点であり、rは、内側クラッド領域のαプロファイルの最終点であり、αpedは、実数である指数である(ここでは、内側クラッドアルファとも称される)。いくつかの実施の形態において、ペデスタルアルファは1≦αped≦100である。いくつかの実施の形態において、ペデスタルアルファは5≦αped≦20である。
【0023】
ここではアルファトレンチまたはαとも称される「トレンチのαプロファイル」という用語は、rが半径であり、「%」の単位のΔ(r)によって表される、内側クラッド領域の相対屈折率プロファイルを称し、式(式4)にしたがう:
【0024】
【数4】
【0025】
式中、rは、先のように定義され、典型的に、トレンチ領域のΔ(r)が最大である点であり、rは、内側クラッド領域の外半径であり、最小屈折率に関連するトレンチの屈折率プロファイルを通って描かれた(垂直)線がゼロデルタ線と交差する点(すなわち、Δ(r)%がゼロである点)に対応し、rはr<r<rの範囲にあり、Δは先に定義されており、rは、トレンチ領域のαプロファイルの初期点であり、rは、トレンチ領域のαプロファイルの最終点であり、αは、実数である指数である(ここでは、トレンチアルファとも称される)。いくつかの実施の形態において、トレンチアルファは1≦α≦100である。いくつかの実施の形態において、トレンチアルファは5≦α≦20である。
【0026】
ここに用いられている「トレンチ」という用語は、それと接触する隣接するクラッド領域のものより低いΔ3maxでの最小屈折率を有する可変屈折率を有するクラッド領域を称する。トレンチ体積Vは、ここでは式5に
【0027】
【数5】
【0028】
として定義され、式中、Δ5-3(r)は、rおよびrの半径位置の間に位置する所定の半径位置rに関するΔ-Δ(r)であり、rは、中心線から半径方向外側に移動する、トレンチクラッド領域における屈折率が、外側クラッド領域の屈折率と最初に等しくなる半径位置である。トレンチ体積は、%デルタ・マイクロメートルの単位の絶対値で報告される。いくつかの実施の形態において、トレンチ体積は、0.4%デルタ・マイクロメートル≦Vトレンチ≦15%デルタ・マイクロメートルである。他の実施の形態において、トレンチ体積は、0.3%デルタ・マイクロメートル≦Vトレンチ≦5%デルタ・マイクロメートルである。
【0029】
ここに用いられている「ペデスタル」という用語は、それと接触する屈折率Δのクラッド領域のものより高い屈折率Δを有するクラッド領域を称する。リング体積Vペデスタルは、ここでは式6に
【0030】
【数6】
【0031】
として定義され、式中、Δ5-2(r)は、rおよびrの半径位置の間に位置する所定の半径位置rに関するΔ-Δ(r)であり、rは、中心線から半径方向外側に移動する、ペデスタルクラッド領域における屈折率が、外側クラッド領域の屈折率と最初に等しくなる半径位置である。ペデスタル体積は、%デルタ・マイクロメートルの単位の絶対値で報告される。いくつかの実施の形態において、ペデスタル体積は、1%デルタ・マイクロメートル≦Vペデスタル≦15%デルタ・マイクロメートルである。他の実施の形態において、ペデスタル体積は、2%デルタ・マイクロメートル≦Vペデスタル≦6%デルタ・マイクロメートルである。
【0032】
モードフィールド径(MFD)は、ピーターマンII法を使用して測定され、ここで、2w=MFD、w=(2∫frdr/∫[df/dr]rdr)、積分範囲は0から∞である。
【0033】
ここに用いられている「リング」という用語は、それと接触する隣接するクラッド領域のものより高いΔ3maxでの最大屈折率を有する可変屈折率を有するクラッド領域を称する。
【0034】
ここではアルファリング-入口またはαring-entとも称される「リング入口αプロファイル」という用語は、rが半径である、「%」の単位のΔ(r)で表される、内側クラッド領域の相対屈折率プロファイルを称し、式(式7):
【0035】
【数7】
【0036】
にしたがい、式中、rは、先のように定義され、典型的に、内側クラッド領域のΔ(r)が最大である点であり、rは、内側クラッド領域の外半径であり、最小屈折率に関連する内側クラッド領域の屈折率プロファイルを通って描かれた(垂直)線がゼロデルタ線と交差する点(すなわち、Δ(r)%がゼロである点)に対応し、rはr<r<rの範囲にあり、Δは先に定義されており、rは、内側クラッド領域のαプロファイルの初期点であり、rは、内側クラッド領域のαプロファイルの最終点であり、αring-entは、実数である指数である(ここでは、リング入口アルファとも称される)。いくつかの実施の形態において、リング入口アルファは1≦αring-ent≦100である。いくつかの実施の形態において、リング入口アルファは5≦αring-ent≦30である。ここでの他の実施の形態において(例えば、図4および表2)、リング入口アルファは、α3aと称することもできる。
【0037】
ここではアルファリング-出口またはαring-exとも称される「リング出口αプロファイル」という用語は、rが半径である、「%」の単位のΔ(r)で表される、内側クラッド領域の相対屈折率プロファイルを称し、式(式8):
【0038】
【数8】
【0039】
にしたがい、式中、rは、先のように定義され、典型的に、リング領域のΔ(r)が最大である点であり、rは、リング領域の外半径であり、最小屈折率に関連するリング領域の屈折率プロファイルを通って描かれた(垂直)線がゼロデルタ線と交差する点(すなわち、Δ(r)%がゼロである点)に対応し、rはr<r<rの範囲にあり、Δは先に定義されており、rは、リング領域のαプロファイルの初期点であり、rは、リング領域のαプロファイルの最終点であり、αring-exは、実数である指数である(ここでは、リング出口アルファとも称される)。いくつかの実施の形態において、リング出口アルファは1≦αring-exit≦100である。いくつかの実施の形態において、リング出口アルファは5≦αring-ent≦30である。ここでの実施の形態において(例えば、図4および表2)、リング出口アルファは、α3bと称することもできる。
【0040】
「μm」および「マイクロメートル」という用語は、ここでは、交換可能に使用できる。
【0041】
導波路ファイバの曲げ抵抗は、例えば、規定の直径のマンドレルの周りにファイバを敷設しまたは巻き付け、例えば、6mm、10mm、または20mmもしくは同様の直径のいずれかのマンドレルの周りに1回巻き付け(例えば、「1×10mm直径のマクロベンド損失」または「1×20mm直径のマクロベンド損失」)、1巻き当たりの減衰の増加を測定することによって、規定の試験条件下での誘起減衰によって測ることができる。
【0042】
曲げ試験の1つのタイプは、横荷重マイクロベンド試験である。このいわゆる「横荷重」試験(LLWM)において、規定の長さの導波路ファイバが、2つの平板の間に置かれる。それらの平板の一方に、#70のワイヤメッシュが取り付けられる。公知の長さの導波路ファイバが平板の間に挟まれ、平板が30ニュートンの力で互いに押し付けられている間に、基準減衰が測定される。次に、70ニュートンの力が平板に印加され、dB/mの減衰の増加が測定される。この減衰の増加が、所定の波長(典型的に、1200nm~1700nmの範囲内、例えば、1310nmまたは1550nmまたは1625nm)でのdB/mの導波路の横荷重減衰である。
【0043】
曲げ試験の別のタイプは、ワイヤメッシュ被覆ドラムマイクロベンド損失試験(WMCD)である。この試験において、直径400mmのアルミニウム製ドラムにワイヤメッシュが巻き付けられる。このワイヤメッシュは、引き伸ばさずにきつく巻き付けられ、穴、窪み、または損傷を持たないべきである。ワイヤメッシュ材料の仕様:McMaster-Carr Supply Company(オハイオ州、クリーブランド所在)、部品番号85385T106、耐食性304ステンレス鋼織りワイヤメッシュ、メッシュ・パー・リニア・インチ:165×165、ワイヤ径:0.0019インチ(約0.048mm)、開口幅:0.0041インチ(約0.10mm)、開口%:44.0。規定の長さ(750メートル)の導波路ファイバが、80(±1)グラムの張力を印加しながら、0.050センチメートルの巻き取りピッチでワイヤメッシュドラム上に1m/sで巻き付けられる。規定の長さのファイバの端部は、張力を維持するためにテープが貼られ、ファイバの重なりはない。この光ファイバの減衰は、所定の波長(典型的に、1200nm~1700nmの範囲内、例えば、1310nmまたは1550nmまたは1625nm)で測定される;基準減衰は、滑らかなドラム上に巻かれた光ファイバについて測定される。減衰の増加は、所定の波長(典型的に、1200nm~1700nmの範囲内、例えば、1310nmまたは1550nmまたは1625nm)でのdB/kmで表される波長のワイヤメッシュ被覆ドラム減衰である。
【0044】
曲げに対する導波路ファイバの相対抵抗を比較するために、「ピンアレイ」曲げ試験が使用される。この試験を行うために、誘起曲げ損失が実質的にない導波路ファイバについて、減衰損失が測定される。次に、導波路ファイバがピンアレイの周りに編まれ、再び減衰が測定される。曲げにより誘発された損失は、2つの測定された減衰の間の差である。ピンアレイは、平面上に一行に配列され、固定垂直位置に保持された一組10本の円柱ピンである。ピンの間隔は、中心間で5mmである。ピンの直径は0.67mmである。試験中、導波路ファイバをピンの表面の一部にしたがわせるために、十分な張力が印加される。減衰の増加は、所定の波長(典型的に、1200nm~1700nmの範囲内、例えば、1310nmまたは1550nmまたは1625nm)での導波路のdBで表されたピンアレイ減衰である。
【0045】
所定のモードに関する、理論的ファイバカットオフ波長、または「理論的ファイバカットオフ」、もしくは「理論的カットオフ」は、そのモードで導光がそれより高いと伝搬できない波長である。数学的定義は、Single Mode Fiber Optics、Jeunhomme、39~44頁、Marcel Dekker、ニューヨーク、1990年に見つけられ、ここでは、理論的ファイバカットオフは、モード伝搬定数が外側クラッドにおける平面波伝搬定数と等しくなる波長と記載されている。この理論的波長は、直径の変動がない無限長の完全に真っ直ぐなファイバに適している。
【0046】
ファイバカットオフは、標準2mファイバカットオフ試験、FOTP-80(EIA-TIA-455-80)によって測定されて、「2mファイバカットオフ」または「測定カットオフ」としても知られている「ファイバカットオフ波長」が得られる。このFOTP-80標準試験は、制御された量の曲げを使用してより高次のモードを除去するか、またはファイバのスペクトル感度を多モードファイバのものに正規化するかのいずれかのために行われる。
【0047】
ここに用いられているケーブルカットオフ波長、または「ケーブルカットオフ」により、EIA-445 Fiber Optic Test Proceduresに記載された22mケーブルカットオフ試験を意味し、これは、EIA-TIA Fiber Optics Standards、すなわち、Electronics Industry Alliance-Telecommunications Industry Association Fiber Optics Standardsの一部である。
【0048】
ケーブルカットオフ波長に対する1310nmでのMFDの比(1310nmでのMFD/マイクロメートルで表されたケーブルカットオフ波長)は、ここでMACCと定義される。
【0049】
特に明記のない限り、光学的性質(分散、分散勾配など)は、LP01モードについて報告される。
【0050】
ここで図1を参照すると、単一モード光ファイバ10の側面図が与えられている。光ファイバ10は、中心線ACおよび動径座標rを有する。光ファイバ10は、最大半径rを有するクラッド18により取り囲まれた半径rの塩素ドープシリカ中央コア14を有する。いくつかの実施の形態において、光ファイバ10は、クラッド18を取り囲み最大半径rmaxを有する未ドープシリカ層22を備える。
【0051】
コア14は、1≦コアα≦100のコアアルファプロファイル(コアα)、および最大相対屈折率デルタΔ1maxを有し、いくつかの実施の形態において、このデルタは、以下の範囲にある:0.10%≦Δ1max≦0.45%、0.13%≦Δ1max≦0.39%、0.14%≦Δ1max≦0.37%、0.10%≦Δ1max≦0.40%、または0.13%≦Δ1max≦0.36%。いくつかの実施の形態において、コア14は、3.5マイクロメートル≦r≦5.5マイクロメートル、3.6マイクロメートル≦r≦4.5マイクロメートル、または3.7マイクロメートル≦r≦4.3マイクロメートルの範囲の半径rを有する。
【0052】
コア14は、Cl濃度、[Cl]≧1.5質量%で塩素(Cl)がドープされたシリカから製造することができる。いくつかの実施の形態において、コア中のCl濃度は、2.0質量%以上であることがある。他の実施の形態において、コア中のCl濃度は、2.5質量%以上であることがある。さらに他の実施の形態において、Cl濃度は3.0質量%以上であることがある。いくつかの実施の形態において、コア中のCl濃度は、3.5質量%以上、4.0質量%以上、4.5質量%以上、または5.5質量%以上であることがある。他の実施の形態において、コア中のCl濃度は、1.5質量%≦[Cl]≦8.5質量%であることがある。さらに他の実施の形態において、コア中のCl濃度は、1.5質量%≦[Cl]≦5.5質量%であることがある。また他の実施の形態において、コア中のCl濃度は、2.0質量%≦[Cl]≦5.5質量%であることがある。単一モード光ファイバ10は、塩素ドープシリカ中央コア14の領域を含み、ここで、コアアルファプロファイル(コアα)は、1≦コアα≦100、1≦コアα≦10、4≦コアα≦30、または10≦コアα≦30である。いくつかの実施の形態において、コアアルファプロファイル(コアα)は、10以上、15以上、20以上、または25以上である。
【0053】
いくつかの実施の形態において、光ファイバ10は、9マイクロメートル以上の1310nmでのモードフィールド径(MFD)を有することがあり、それは、他の実施の形態において、9マイクロメートル≦MFD≦9.5マイクロメートルの範囲にあり得る。いくつかの実施の形態において、光ファイバ10は、8.2マイクロメートル≦MFD1310nm≦9.6マイクロメートル、または9.0≦MFD1310nm≦9.6の1310nmでのモードフィールド径を示す。
【0054】
いくつかの実施の形態において、光ファイバ10は、1260nm以下の22mケーブルカットオフ、直径20mmのマンドレル上で0.75dB/turn以下の1550nmでのマクロベンド損失を有することがあり、6.6と8.3の間のMACC数、および1300nm≦λ≦1324nmに及ぶゼロ分散波長λを示すことがある。他の実施の形態において、光ファイバ10は、1260nm以下の22mケーブルカットオフ、直径20mmのマンドレル上で0.70dB/turn以下の1550nmでのマクロベンド損失を有することがあり、7.1と8.1の間のMACC数、および1300nm≦λ≦1324nmに及ぶゼロ分散波長λを示すことがあり、8.2マイクロメートル≦MFD1310nm≦9.6マイクロメートルの1310nmでのモードフィールド径を示すことがある。
【0055】
いくつかの実施の形態において、光ファイバ10は、直径20mmのマンドレル上で0.5dB/turn以下の1550nmでのマクロベンド損失を有する。他の実施の形態において、光ファイバ10は、直径30mmのマンドレル上で0.05dB/turn以下の1550nmでのマクロベンド損失を有する。さらに他の実施の形態において、光ファイバ10は、直径30mmのマンドレル上で0.005dB/turn以下の1550nmでのマクロベンド損失を有する。
【0056】
光ファイバ10は、rmax=約62.5マイクロメートルのクラッド18の外半径を有することがある。いくつかの実施の形態において、光ファイバ10は、rmax=62.5マイクロメートルのクラッド18の外半径を有することがある。
【0057】
ここに示された光ファイバは、ITU G.652およびG.657A光学性能特性を満たし、1310nmおよび1550nmでの非常に低い減衰に加え、非常に低いマクロベンド損失およびマイクロベンド損失を示すまたは生じることができる。
【0058】
光ファイバ10は、下記に論じられる実施の形態に述べられるように、多数の追加の特徴を有することがある。
【0059】
ペデスタルおよびトレンチの実施の形態
ここで図2を参照すると、本開示のいくつかの実施の形態による、光ファイバ10の概略断面図が示されている。単一モード光ファイバ10は、(i)4以上のコアアルファ(コアα)、半径rおよび最大屈折率デルタΔ1max%を有する塩素ドープシリカ系コア14、および(ii)コア14を取り囲むクラッド18を備えることがある。コア14を取り囲むクラッド18は、a)コア14に隣接し、接触し、屈折率デルタΔ、半径r、およびΔ2min<Δ1maxとなるような最小屈折率デルタΔ2minを有するペデスタル層26、b)屈折率Δ、半径r、およびΔ3min<Δとなるような最小屈折率デルタΔ3minを有する、ペデスタル層26と隣接し、接触する内側クラッド層30またはトレンチ層30a、およびc)Δ3min<Δとなるように、屈折率Δ、および半径r(この場合、rmaxである)を有する、内側クラッド層30と隣接し、接触する外側クラッド領域34を備える。光ファイバ10は、9マイクロメートル以上の1310nmでのモードフィールド径MFD、1260nm以下のケーブルカットオフ、1300nm≦λ≦1324nmに及ぶゼロ分散波長、および0.5dB/turn未満の20mmのマンドレルに関する1550nmでのマクロベンド損失を有する。
【0060】
さらに図2を参照すると、本開示の追加の実施の形態による、単一モード光ファイバ10の概略断面図の別の態様が示されている。単一モード光ファイバ10は、(i)4以上のコアアルファ(コアα)、半径rおよび最大屈折率デルタΔ1max%を有する塩素ドープシリカ中央コア14、(ii)コア14を取り囲むクラッド18であって、a)コア14に隣接し、接触し、屈折率デルタΔ、半径r、およびΔ2min<Δ1maxとなるような最小屈折率デルタΔ2minを有するペデスタル層26、b)屈折率Δ、半径r、およびΔ2min<Δ3maxとなるような最大屈折率デルタΔ3maxを有する、ペデスタル層26と隣接し、接触する内側クラッド領域30またはトレンチ層30a、およびc)内側クラッド領域30またはトレンチ層30aと隣接し、接触する、Δ<Δ3maxとなるように、屈折率Δ、および半径r(この場合、rmaxである)を有する、外側クラッド領域34を備える、クラッド18を備えることがあり;この光ファイバは、9マイクロメートル以上の1310nmでのモードフィールド径MFD、1260nm以下のケーブルカットオフ、1300nm≦λ≦1324nmに及ぶゼロ分散波長、および0.75dB/turn未満の20mmのマンドレルに関する1550nmでのマクロベンド損失を有する。
【0061】
ここで図3Aを参照すると、図2に示された光ファイバ10に関する半径rに対する相対屈折率プロファイル(「屈折率プロファイル」)Δのプロットが示されている。光ファイバ10のペデスタルおよびトレンチの実施の形態のクラッド18は、以下の順序でコア14から外側に進む2つの領域を備えることがある:半径rおよび屈折率Δを有する、コア14を取り囲むペデスタル層26;半径rおよび屈折率Δを有する、内側クラッド層30またはトレンチ層30a;および半径r(この場合、rmaxと等しい)を有し、屈折率Δを有する外側クラッド層34。コア14およびクラッド18のそれぞれの屈折率は、Δ1max≧Δ≧Δ≧Δ3minである。
【0062】
ここで図3Bを参照すると、光ファイバ10のいくつかの実施の形態に関する半径rに対する屈折率プロファイルΔが示されている。光ファイバ10のペデスタルの実施の形態のクラッド18は、以下の順序で、半径r、屈折率Δ、および屈折率Δ1maxを有するコア14から外側に進む2つの領域を備えることがある:半径r、屈折率Δ、およびアルファペデスタルαペデスタルを有する、コア14を取り囲むペデスタル層26;および半径r(この場合、rmaxと等しい)を有し、屈折率Δを有する外側クラッド層34。コア14およびクラッド18のそれぞれの屈折率は、Δ1max≧Δ≧Δである。
【0063】
ここで図4を参照すると、光ファイバ10のいくつかの実施の形態に関する半径rに対する屈折率プロファイルΔが示されている。光ファイバ10のペデスタルの実施の形態のクラッド18は、以下の順序で、半径r、屈折率Δ、および屈折率Δ1maxを有するコア14から外側に進む2つの領域を備えることがある:半径rおよび屈折率Δを有する、コア14を取り囲むペデスタル層26;半径r、リング入口アルファα3a、リング出口アルファα3b、および屈折率Δ3maxを有する内側クラッド層30またはリング層30b;および半径r(この場合、rmaxと等しい)を有し、屈折率Δを有する外側クラッド層34。コア14およびクラッド18のそれぞれの屈折率は、Δ1max≧Δ3max≧Δ≧Δである。
【0064】
いくつかの実施の形態において、ペデスタル層26は、Cl濃度、[Cl]≧0.2質量%で塩素(Cl)がドープされたシリカから製造することができる。いくつかの実施の形態において、ペデスタル層中のCl濃度は、0.4質量%以上であることがある。他の実施の形態において、ペデスタル層中のCl濃度は、0.5質量%以上であることがある。さらに他の実施の形態において、ペデスタル層中のCl濃度は、0.7質量%以上であることがある。またさらなる実施の形態において、ペデスタル層中のCl濃度は、1.0質量%以上であることがある。他の実施の形態において、ペデスタル層中のCl濃度は、0.2質量%≦[Cl]≦1.5質量%であることがある。いくつかの実施の形態において、ペデスタル層中のCl濃度は、0.5質量%≦[Cl]≦1.5質量%であることがある。他の実施の形態において、ペデスタル層26は、F濃度、[F]≧0.2質量%で、フッ素(F)がドープされたシリカから製造することができる。いくつかの実施の形態において、ペデスタル層中のF濃度は、0.5質量%以上、0.7質量%以上、または1質量%以上であることがある。
【0065】
隣接するクラッド領域は互いに結合され、一方で、ペデスタル層26はコア14と接触し、結合される。内側クラッドまたはトレンチ層30aは、ペデスタル層26の外側に位置付けられ、それと接触し得る。外側クラッド層34は、内側クラッドまたはトレンチ層30aの外側に位置付けられ、それと接触し得る。いくつかの実施の形態において、外側クラッド層34は、未ドープシリカの最も外側の層22に隣接し、それと接触し得る。
【0066】
いくつかの実施の形態において、内側クラッドまたはトレンチ層30aは、未ドープシリカまたはCl濃度、[Cl]≧0.1質量%で塩素(Cl)がドープされたシリカから製造することができる。他の実施の形態において、内側クラッドまたはトレンチ層30a中のCl濃度は、0.4質量%以上であることがある。さらに他の実施の形態において、内側クラッドまたはトレンチ層中のCl濃度は、0質量%≦[Cl]≦1.5質量%であることがある。いくつかの実施の形態において、内側クラッドまたはトレンチ層30aは、F濃度、[F]≧0.2質量%でフッ素(F)がドープされたシリカから製造することができる。他の実施の形態において、ペデスタル層中のF濃度は、0.5質量%以上、0.7質量%以上、または1質量%以上であることがある。さらに他の実施の形態において、内側クラッドまたはトレンチ層30a中のF濃度は、0質量%≦[F]≦1.5質量%であることがある。
【0067】
いくつかの実施の形態において、外側クラッド層34は、未ドープシリカまたはCl濃度、[Cl]≧0.1質量%で塩素(Cl)がドープされたシリカから製造することができる。他の実施の形態において、外側クラッド層34中のCl濃度は、0.4質量%以上であることがある。さらに他の実施の形態において、外側クラッド層34中のCl濃度は、0質量%≦[Cl]≦1.5質量%であることがある。いくつかの実施の形態において、外側クラッド層34は、F濃度、[F]≧0.2質量%でフッ素(F)がドープされたシリカから製造することができる。他の実施の形態において、ペデスタル層中のF濃度は、0.5質量%以上、0.7質量%以上、または1質量%以上であることがある。いくつかの実施の形態において、外側クラッド層34中のF濃度は、0質量%≦[F]≦1.5質量%であることがある。
【0068】
いくつかの実施の形態において、質量%のペデスタル層中のフッ素濃度[F]ペデスタルに対する質量%のコア14中の塩素濃度[Cl]コアは、1以上である、すなわち、([Cl]コア/[F]ペデスタル)≧1。いくつかの実施の形態において、([Cl]コア/[F]ペデスタル)≧2。他の実施の形態において、([Cl]コア/[F]ペデスタル)≧10。
【0069】
いくつかの実施の形態において、質量%のトレンチ層中のフッ素濃度[F]トレンチに対する質量%のコア14中の塩素濃度[Cl]コアは、1以上である、すなわち、([Cl]コア/[F]トレンチ)≧1。いくつかの実施の形態において、([Cl]コア/[F]トレンチ)≧2。他の実施の形態において、([Cl]コア/[F]トレンチ)≧10。
【0070】
下記の表1は、コアドーパントが塩素であり、ペデスタルドーパントが塩素またはフッ素の少なくとも一方である、光ファイバ10に使用されるペデスタルおよびトレンチの実施の形態の8つの実施例(Ex.1.1からEx.1.8)を示している。いくつかの実施の形態において、外側クラッドドーパント(表1にΔと称される)は塩素である。「na」という用語は「該当なし」を示す。「Att」という用語は減衰を示す。
【0071】
【表1】
【0072】
表1におけるモデル化光ファイバからの結果は、ITU G.652およびG.657A光学性能特性を満たし、1310nmおよび1550nmでの非常に低いマクロベンド損失およびマイクロベンド損失並びに非常に低い減衰を有する光ファイバを示す。これらの実施例において、質量%[Cl]コア/質量%[F]ペデスタルは、([Cl]コア/[F]ペデスタル)≧1である。これらの実施例において、質量%[Cl]コア/質量%[F]トレンチは、([Cl]コア/[F]トレンチ)≧1である。
【0073】
ここで図5または実施例1.1を参照すると、光ファイバ10のいくつかの実施の形態に関する半径rに対する屈折率プロファイルΔが示されている。光ファイバ10のペデスタルの実施の形態のクラッド18は、以下の順序で、半径r、屈折率Δ、および屈折率Δ1maxを有するコア14から外側に進む2つの領域を備えることがある:半径r、アルファペデスタルαペデスタル、および屈折率Δを有する、コア14を取り囲むペデスタル層26;半径r、アルファトレンチαトレンチ、屈折率Δを有する内側クラッド層30またはトレンチ層30a;および半径r(この場合、rmaxと等しい)を有し、屈折率Δを有する外側クラッド層34。コア14およびクラッド18のそれぞれの屈折率は、Δ1max≧Δ≧Δ≧Δである。
【0074】
ここで図6または実施例1.2を参照すると、光ファイバ10のいくつかの実施の形態に関する半径rに対する屈折率プロファイルΔが示されている。光ファイバ10のペデスタルの実施の形態のクラッド18は、以下の順序で、半径r、屈折率Δ、および屈折率Δ1maxを有するコア14から外側に進む2つの領域を備えることがある:半径r、アルファペデスタルαペデスタル、および屈折率Δを有する、コア14を取り囲むペデスタル層26;半径r、アルファトレンチαトレンチ、屈折率Δを有する内側クラッド層30またはトレンチ層30a;および半径r(この場合、rmaxと等しい)を有し、屈折率Δを有する外側クラッド層34。コア14およびクラッド18のそれぞれの屈折率は、Δ1max≧Δ≧Δ≧Δである。
【0075】
ここで図7~10または実施例1.3~1.6を参照すると、光ファイバ10のいくつかの実施の形態に関する半径rに対する屈折率プロファイルΔが示されている。光ファイバ10のペデスタルの実施の形態のクラッド18は、以下の順序で、半径r、屈折率Δ、および屈折率Δ1maxを有するコア14から外側に進む2つの領域を備えることがある:半径r、アルファペデスタルαペデスタル、および屈折率Δを有する、コア14を取り囲むペデスタル層26;および半径r(この場合、rmaxと等しい)および屈折率Δを有する内側クラッド層30またはトレンチ層30a。コア14およびクラッド18のそれぞれの屈折率は、Δ1max≧Δ≧Δである。
【0076】
ここで図11または実施例1.7を参照すると、光ファイバ10のいくつかの実施の形態に関する半径rに対する屈折率プロファイルΔが示されている。光ファイバ10のペデスタルの実施の形態のクラッド18は、以下の順序で、半径r、屈折率Δ、および屈折率Δ1maxを有するコア14から外側に進む2つの領域を備えることがある:半径r、アルファペデスタルαペデスタル、および屈折率Δを有する、コア14を取り囲むペデスタル層26;半径r、アルファトレンチαトレンチ、屈折率Δを有する内側クラッド層30またはトレンチ層30a;および半径r(この場合、rmaxと等しい)を有し、屈折率Δを有する外側クラッド層34。コア14およびクラッド18のそれぞれの屈折率は、Δ1max≧Δ≧Δ≧Δである。
【0077】
ここで図12または実施例1.8を参照すると、光ファイバ10のいくつかの実施の形態に関する半径rに対する屈折率プロファイルΔが示されている。光ファイバ10のペデスタルの実施の形態のクラッド18は、以下の順序で、半径r、屈折率Δ、および屈折率Δ1maxを有するコア14から外側に進む2つの領域を備えることがある:半径r、アルファペデスタルαペデスタル、および屈折率Δを有する、コア14を取り囲むペデスタル層26;および半径r(この場合、rmaxと等しい)および屈折率Δを有する内側クラッド層30またはトレンチ層30a。コア14およびクラッド18のそれぞれの屈折率は、Δ1max≧Δ≧Δである。
【0078】
下記の表2は、コアおよびリング(Δ)ドーパントが塩素であり、ΔおよびΔドーパントが塩素である、光ファイバ10に使用されるリングの実施の形態の2つの実施例(Ex.2.1およびEx.2.2)を示している。
【0079】
【表2】
【0080】
表2におけるモデル化光ファイバからの結果は、ITU G.652およびG.657A光学性能特性を満たし、1310nmおよび1550nmでの非常に低いマクロベンド損失およびマイクロベンド損失並びに非常に低い減衰を有する光ファイバを示す。
【0081】
ここで図13または実施例2.1を参照すると、光ファイバ10のいくつかの実施の形態に関する半径rに対する屈折率プロファイルΔが示されている。光ファイバ10のペデスタルの実施の形態のクラッド18は、以下の順序で、半径r、屈折率Δ、および屈折率Δ1maxを有するコア14から外側に進む2つの領域を備えることがある:半径rおよび屈折率Δを有する、コア14を取り囲むペデスタル層26;半径r、リング入口アルファα3a、リング出口アルファα3b、および屈折率Δ3maxを有する内側クラッド層30またはリング層30b;および半径r(この場合、rmaxと等しい)を有し、屈折率Δを有する外側クラッド層34。コア14およびクラッド18のそれぞれの屈折率は、Δ1max≧Δ3maxおよびΔ=Δである。
【0082】
ここで図14または実施例2.2を参照すると、光ファイバ10のいくつかの実施の形態に関する半径rに対する屈折率プロファイルΔが示されている。光ファイバ10のペデスタルの実施の形態のクラッド18は、以下の順序で、半径r、屈折率Δ、および屈折率Δ1maxを有するコア14から外側に進む2つの領域を備えることがある:半径rおよび屈折率Δを有する、コア14を取り囲むペデスタル層26;半径r、リング入口アルファα3a、リング出口アルファα3b、および屈折率Δ3maxを有する内側クラッド層30またはリング層30b;および半径r(この場合、rmaxと等しい)を有し、屈折率Δを有する外側クラッド層34。コア14およびクラッド18のそれぞれの屈折率は、Δ1max≧Δ3max≧Δ≧Δである。
【0083】
いくつかの実施の形態において、Δ1maxは、0.10%≦Δ1max≦0.45%、0.13%≦Δ1max≦0.39%、0.14%≦Δ1max≦0.37%、0.10%≦Δ1max≦0.40%、または0.13%≦Δ1max≦0.36%に及ぶ。他の実施の形態において、Δ1maxは、0.12%、0.13%、0.14%、0.15%、0.16%、0.17%、0.18%、0.33%、0.34%、0.35%、0.36%、0.37%、0.38%、または0.39%であり得る。
【0084】
いくつかの実施の形態において、ペデスタルの半径rは、4.5マイクロメートル≦r≦20.5マイクロメートル、4.5マイクロメートル≦r≦7.5マイクロメートル、5.3マイクロメートル≦r≦17.5マイクロメートル、5.3マイクロメートル≦r≦8.0マイクロメートル、5.5マイクロメートル≦r≦20.5マイクロメートル、7.5マイクロメートル≦r≦17.5マイクロメートル、6.0マイクロメートル≦r≦17.5マイクロメートル、または9.0マイクロメートル≦r≦16.0マイクロメートルに及ぶ。他の実施の形態において、rは、約6.0マイクロメートル、6.3マイクロメートル、6.5マイクロメートル、6.8マイクロメートル、7.0マイクロメートル、7.3マイクロメートル、10.0マイクロメートル、12.5マイクロメートル、15.0マイクロメートル、17.5マイクロメートル、または20.5マイクロメートルであり得る。
【0085】
いくつかの実施の形態において、屈折率Δは、0%≦Δ≦1.0%、0%≦Δ≦0.5%、または0%≦Δ≦0.1%に及ぶ。他の実施の形態において、Δは、約0.01%、0.03%、0.05%、0.07%、または0.09%であり得る。
【0086】
ペデスタル体積は、%デルタ・マイクロメートルの単位の絶対値で報告される。いくつかの実施の形態において、ペデスタル体積は、0.5%デルタ・マイクロメートル≦Vペデスタル≦15%デルタ・マイクロメートル、他の実施の形態において、0.5%デルタ・マイクロメートル≦Vペデスタル≦6%デルタ・マイクロメートルである。トレンチ体積は、%デルタ・マイクロメートルの単位の絶対値で報告される。いくつかの実施の形態において、トレンチ体積は、1%デルタ・マイクロメートル≦Vトレンチ≦15%デルタ・マイクロメートル、他の実施の形態において、2%デルタ・マイクロメートル≦Vトレンチ≦6%デルタ・マイクロメートルである。
【0087】
いくつかの実施の形態において、内側クラッドまたはトレンチの半径rは、15.0マイクロメートル≦r≦75.0マイクロメートル、15.0マイクロメートル≦r≦65.0マイクロメートル、15.0マイクロメートル≦r≦30.0マイクロメートル、または50.0マイクロメートル≦r≦70.0マイクロメートルに及ぶ。他の実施の形態において、rは、約15.0マイクロメートル、20.0マイクロメートル、25.0マイクロメートル、30.0マイクロメートル、35.0マイクロメートル、40.0マイクロメートル、45.0マイクロメートル、50.0マイクロメートル、55.0マイクロメートル、60.0マイクロメートル、65.0マイクロメートル、7.3マイクロメートル、10.0マイクロメートル、12.5マイクロメートル、15.0マイクロメートル、17.5マイクロメートル、または20.5マイクロメートルであり得る。
【0088】
Δは、Δ3maxおよびΔ3minの両方を含むことがある。いくつかの実施の形態において、屈折率Δ3maxは、-1.5%≦Δ3max≦1.5%、-0.5%≦Δ3max≦0.5%、0%≦Δ3max≦1.0%、0%≦Δ3max≦0.5%、または0%≦Δ3max≦0.05%に及ぶ。他の実施の形態において、Δ3maxは、約0%、0.01%、0.03%、0.05%、0.07%、0.09%、-0.01%、-0.03%、-0.05%、-0.07%、または-0.09%であり得る。いくつかの実施の形態において、屈折率Δ3minは、-1.5%≦Δ3min≦1.5%、-0.5%≦Δ3min≦0.5%、0%≦Δ3min≦1.0%、0%≦Δ3min≦0.5%、または0%≦Δ3min≦0.05%に及ぶ。他の実施の形態において、Δ3minは、約0%、0.01%、0.03%、0.05%、0.07%、0.09%、-0.01%、-0.03%、-0.05%、-0.07%、または-0.09%であり得る。
【0089】
他の実施の形態において、rmaxは、約62.5マイクロメートルであり得る。いくつかの実施の形態において、屈折率Δは、-1.5%≦Δ≦1.5%、-0.5%≦Δ≦0.5%、0%≦Δ≦1.0%、0%≦Δ≦0.5%、または0%≦Δ≦0.05%に及ぶ。他の実施の形態において、Δは、約0%、0.01%、0.03%、0.05%、0.07%、0.09%、0.10%、0.15%、0.20%、0.25%、-0.01%、-0.03%、-0.05%、-0.07%、-0.09%、-0.10%、-0.15%、-0.20%、または-0.25%であり得る。
【0090】
いくつかの実施の形態において、光ファイバ10は、直径20mmのマンドレル上で0.75dB/turn以下の1550nmでのマクロベンド損失を有する。他の実施の形態において、光ファイバ10は、直径20mmのマンドレル上で0.5dB/turnの1550nmでのマクロベンド損失を有する。さらに他の実施の形態において、光ファイバ10は、直径30mmのマンドレル上で0.05dB/turn以下の1550nmでのマクロベンド損失を有する。追加の実施の形態において、光ファイバ10は、直径30mmのマンドレル上で0.005dB/turn以下の1550nmでのマクロベンド損失を有する。
【0091】
いくつかの実施の形態において、光ファイバ10は、0.1dB/km以下の、1550nmでのワイヤメッシュ被覆ドラムマイクロベンド損失WMCDを示すことがある。他の実施の形態において、ワイヤメッシュ被覆ドラムマイクロベンド損失WMCDは、0.05dB/km以下である。
【0092】
いくつかの実施の形態において、1550nmでの減衰は、ペデスタルの実施の形態について、0.19dB/km以下であり得る。他の実施の形態において、1550nmでの減衰は、ペデスタルの実施の形態について、0.18dB/km以下であり得る。さらに他の実施の形態において、1550nmでの減衰は、ペデスタルの実施の形態について、0.17dB/km以下であり得る。
【0093】
いくつかの実施の形態において、1310nmでの減衰は、ペデスタルの実施の形態について、0.33dB/km以下であり得る。他の実施の形態において、1310nmでの減衰は、ペデスタルの実施の形態について、0.32dB/km以下であり得る。さらに他の実施の形態において、1310nmでの減衰は、ペデスタルの実施の形態について、0.31dB/km以下であり得る。
【0094】
いくつかの実施の形態において、1550nmでの減衰は、リングの実施の形態について、0.19dB/km以下であり得る。他の実施の形態において、1550nmでの減衰は、リングの実施の形態について、0.18dB/km以下であり得る。さらに他の実施の形態において、1550nmでの減衰は、リングの実施の形態について、0.17dB/km以下であり得る。
【0095】
いくつかの実施の形態において、1310nmでの減衰は、リングの実施の形態について、0.33dB/km以下であり得る。他の実施の形態において、1310nmでの減衰は、リングの実施の形態について、0.32dB/km以下であり得る。さらに他の実施の形態において、1310nmでの減衰は、リングの実施の形態について、0.31dB/km以下であり得る。
【0096】
いくつかの実施の形態において、光ファイバ10は、1300nm≦λ≦1324nmのゼロ分散波長λを有する。
【0097】
いくつかの実施の形態において、光ファイバ10は、8.2マイクロメートル≦MDF1310nm≦9.6マイクロメートルの1310nmでのモードフィールド径(MDF1310nm)を示す。他の実施の形態において、光ファイバ10は、9.0マイクロメートル≦MDF1310nm≦9.5マイクロメートルの1310nmでのモードフィールド径を示す。
【0098】
ここで図4を参照すると、図2に示された光ファイバ10のいくつかの態様に関する半径rに対する相対屈折率プロファイル(「屈折率プロファイル」)のプロットまたはプロファイル図が示されている。図4に示された光ファイバ10は、ΔとΔの間で屈折率が段階的に変化している、塩素ドープコア14を備える。いくつかの実施の形態において、コア14およびクラッド18のそれぞれの屈折率は、Δ1max≧Δ≧Δ≧Δ3minである。
【0099】
この被覆ファイバのコアとクラッドは、当該技術分野で周知の方法によって、一段階操作または多段階操作で製造することができる。適切な方法としては、二重坩堝法、ロッド・イン・チューブ手順、および化学的気相成長法(「CVD」)または気相酸化法とも一般に称されるドープ堆積シリカ法が挙げられる。様々なCVD法が公知であり、ここに開示された被覆光ファイバに使用されるコアおよびクラッド層の製造に適している。それらの方法としては、外部CVD法、軸付け気相成長法、改良CVD(MCVD)、内付け気相成長法、およびプラズマCVD(PECVD)が挙げられる。
【0100】
被覆ファイバのガラス部分は、ガラスを軟化させるのに十分な温度、例えば、シリカガラスでは約2000℃の温度に局所的かつ対称的に加熱された、特別に調製された円柱プリフォームから線引きされることがある。プリフォームを炉に供給し、その中に通すことなどによって、プリフォームが加熱されたときに、その溶融材料からガラスファイバが線引きされる。例えば、ファイバ製造過程についてのさらなる詳細について、その開示がここに引用される、米国特許第7565820号、同第5410567号、同第7832675号、および同第6027062号の各明細書を参照のこと。
【0101】
本発明のペデスタルおよびトレンチの塩素の実施の形態に記載された光ファイバ10は、塩素ドープシリカ中央コア14と、クラッド18の1つ以上の層との間に位置付けられた1つ以上のコーティングを備えることがある。いくつかの実施の形態において、塩素ドープシリカ中央コア14の外径と接触した一次被覆およびその一次被覆の外径と接触した二次被覆がある。
【0102】
前記一次被覆は、オリゴマーおよびモノマーを含む硬化性組成物から形成されることがある。そのオリゴマーは、ウレタンアクリレートまたはアクリレートが置換されたウレタンアクリレートであることがある。アクリレートが置換されたウレタンアクリレートは、ウレタンメタクリレートであることがある。そのオリゴマーは、ウレタン基を含むことがある。そのオリゴマーは、1つ以上のウレタン基を含むウレタンアクリレートであることがある。そのオリゴマーは、1つ以上のウレタン基を含む、アクリレートが置換されたウレタンアクリレートあることがある。ウレタン基は、イソシアネート基とアルコール基の反応生成物として形成されることがある。
【0103】
前記一次被覆は、1MPa以下、0.50MPa以下、0.25MPa以下、0.20MPa以下、0.19MPa以下、0.18MPa以下、0.17MPa以下、0.16MPa以下、または0.15MPa以下のその場(in situ)弾性率を有することがある。その一次被覆のガラス転移温度は、-15℃以下、-25℃以下、-30℃以下、または-40℃以下であることがある。
【0104】
前記二次被覆は、1つ以上のモノマーを含む硬化性二次組成物から形成されることがある。その1つ以上のモノマーとしては、ビスフェノールAジアクリレート、または置換ビスフェノールAジアクリレート、またはアルコキシル化ビスフェノールAジアクリレートが挙げられる。そのアルコキシル化ビスフェノールAジアクリレートは、エトキシル化ビスフェノールAジアクリレートであることがある。その硬化性二次組成物は、オリゴマーをさらに含むことがある。そのオリゴマーは、ウレタンアクリレートまたはアクリレートが置換されたウレタンアクリレートであることがある。その二次組成物は、ウレタン基、ウレタンアクリレート化合物、ウレタンオリゴマー、またはウレタンアクリレートオリゴマーを含まないことがある。
【0105】
その二次被覆は、弾性率およびガラス転移温度が一次被覆よりも高い材料であることがある。その二次被覆のその場弾性率は、1200MPa以上、1500MPa以上、1800MPa以上、2100MPa以上、2400MPa以上、または2700MPa以上であることがある。その二次被覆は、約1500MPaと10,000MPaの間、または1500Paと5000MPaの間のその場弾性率を有することがある。二次被覆のその場ガラス転移温度は、少なくとも50℃、少なくとも55℃、少なくとも60℃、または55℃と65℃の間であることがある。
【0106】
その被覆ファイバの半径は、二次被覆の外径と一致する。その被覆ファイバの半径は、125μm以下、110μm以下、105μm以下、または100μm以下であることがある。いくつかの実施の形態において、被覆光ファイバの直径は、150マイクロメートル≦被覆光ファイバの直径≦210マイクロメートルである。被覆ファイバ内において、ガラスの半径(クラッドの外径と一致する)は、少なくとも50μm、少なくとも55μm、少なくとも60μm、または少なくとも62.5μmであることがある。塩素ドープシリカ中央コア14領域は、一次被覆に囲まれることがある。その一次被覆の外半径は、85μm以下、82.5μm以下、80μm以下、77.5μm以下、または75μm以下であることがある。被覆ファイバの直径の残りは、二次被覆により与えられる。
【0107】
請求項の精神および範囲から逸脱せずに、様々な改変および変更を行えることが、当業者に明白である。
【0108】
非限定的実施の形態の列挙
実施の形態Aは、単一モード光ファイバにおいて、(i)コアアルファ(コアα)≧4、半径r、および最大屈折率デルタΔ1maxを有する塩素ドープシリカ系コアと;(ii)そのコアを取り囲むクラッドであって、a)コアに隣接し、接触し、屈折率デルタΔ、半径r、およびΔ2min<Δ1maxとなるような最小屈折率デルタΔ2minを有する第1の内側クラッド領域、およびb)第1の内側クラッド領域を取り囲み、Δ2min≧Δとなるような、屈折率Δ、および半径rmaxを有する外側クラッド領域を含むクラッドとを備える単一モード光ファイバである。この光ファイバは、9マイクロメートル以上の、1310nmでのモードフィールド径MFD、1260nm以下のケーブルカットオフ、1300nm≦λ≦1324nmに及ぶゼロ分散波長、および0.75dB/turn未満の、20mmのマンドレルに関する1550nmでのマクロベンド損失を有する。
【0109】
第1の内側クラッド領域に隣接し、接触し、屈折率Δ、半径r、およびΔ3min<Δとなるような最小屈折率デルタΔ3minを有する第2の内側クラッド領域を備える、実施の形態Aの単一モード光ファイバ。
【0110】
第2の内側クラッド領域を取り囲む外側クラッド領域が、Δ3min<Δとなるような屈折率Δおよび半径rmaxを有する、実施の形態Aまたは介在する特徴のいずれかを有する実施の形態Aの単一モード光ファイバ。
【0111】
1.5質量%以上のコア中の塩素濃度をさらに有する、実施の形態Aまたは介在する特徴のいずれかを有する実施の形態Aの単一モード光ファイバ。
【0112】
1550nmでのマクロベンド損失が直径20mmのマンドレルで0.5dB/turn以下である、実施の形態Aまたは介在する特徴のいずれかを有する実施の形態Aの単一モード光ファイバ。
【0113】
最大屈折率Δ1maxが0.10%≦Δ1max≦0.45%に及ぶ、実施の形態Aまたは介在する特徴のいずれかを有する実施の形態Aの単一モード光ファイバ。
【0114】
最小屈折率Δ3minが-0.5%≦Δ3min≦0.25%である、実施の形態Aまたは介在する特徴のいずれかを有する実施の形態Aの単一モード光ファイバ。
【0115】
最小屈折率Δ3minが-0.25%≦Δ3min≦0.15%である、実施の形態Aまたは介在する特徴のいずれかを有する実施の形態Aの単一モード光ファイバ。
【0116】
半径rが12.0マイクロメートル≦r≦25.0マイクロメートルである、実施の形態Aまたは介在する特徴のいずれかを有する実施の形態Aの単一モード光ファイバ。
【0117】
1550nmで光ファイバに示されるマクロベンド損失が、直径20mmのマンドレル上で0.70dB/turn以下であり、7.1と8.1の間のMACC数を示す、実施の形態Aまたは介在する特徴のいずれかを有する実施の形態Aの単一モード光ファイバ。
【0118】
実施の形態Bは、単一モード光ファイバにおいて、(i)コアアルファ(コアα)≧4、半径r、および最大屈折率デルタΔ1maxを有する塩素ドープシリカ系コアと;(ii)そのコアを取り囲むクラッドであって、a)コアに隣接し、接触し、屈折率デルタΔ、半径r、およびΔ2min<Δ1maxとなるような最小屈折率デルタΔ2minを有する第1の内側クラッド領域、b)第1の内側クラッド領域と隣接し、接触し、屈折率Δ、半径r、およびΔ2min<Δ3maxとなるような最大屈折率デルタΔ3maxを有する第2の内側クラッド領域、およびc)第2の内側クラッド領域を取り囲み、Δ<Δ3maxとなるような、屈折率Δ、および半径rmaxを有する外側クラッド領域を含むクラッドとを備える単一モード光ファイバである。この光ファイバは、9マイクロメートル以上の、1310nmでのモードフィールド径MFD、1260nm以下のケーブルカットオフ、1300nm≦λ≦1324nmに及ぶゼロ分散波長、および0.75dB/turn未満の、20mmのマンドレルに関する1550nmでのマクロベンド損失を有する。
【0119】
1.5質量%以上のコア中の塩素濃度をさらに有する、実施の形態Bの単一モード光ファイバ。
【0120】
1550nmでのマクロベンド損失が直径20mmのマンドレルで0.5dB/turn以下である、実施の形態Bまたは介在する特徴のいずれかを有する実施の形態Bの単一モード光ファイバ。
【0121】
1550nmでのマクロベンド損失が直径30mmのマンドレルで0.005dB/turn以下である、実施の形態Bまたは介在する特徴のいずれかを有する実施の形態Bの単一モード光ファイバ。
【0122】
最大屈折率Δ1maxが0.10%≦Δ1max≦0.45%に及ぶ、実施の形態Bまたは介在する特徴のいずれかを有する実施の形態Bの単一モード光ファイバ。
【0123】
コアα≧15である、実施の形態Bまたは介在する特徴のいずれかを有する実施の形態Bの単一モード光ファイバ。
【0124】
最大屈折率Δ3maxが-0.5%≦Δ3max≦0.25%である、実施の形態Bまたは介在する特徴のいずれかを有する実施の形態Bの単一モード光ファイバ。
【0125】
半径rが15.0マイクロメートル≦r≦15.0マイクロメートルである、実施の形態Bまたは介在する特徴のいずれかを有する実施の形態Bの単一モード光ファイバ。
【0126】
1550nmで光ファイバに示されるマクロベンド損失が、直径20mmのマンドレル上で0.70dB/turn以下であり、7.1と8.1の間のMACC数を示す、実施の形態Bまたは介在する特徴のいずれかを有する実施の形態Bの単一モード光ファイバ。
【0127】
光ファイバが、0.1dB/km以下の1550nmでのワイヤメッシュ被覆ドラムマイクロベンド損失(WMCD)を有する、実施の形態Bまたは介在する特徴のいずれかを有する実施の形態Bの単一モード光ファイバ。
【0128】
以下、本発明の好ましい実施形態を項分け記載する。
【0129】
実施形態1
単一モード光ファイバにおいて、
(i)コアアルファ(コアα)≧4、半径r、および最大屈折率デルタΔ1maxを有する塩素ドープシリカ系コアと;
(ii)前記コアを取り囲むクラッドであって、
a)前記コアに隣接し、接触し、屈折率デルタΔ、半径r、およびΔ2min<Δ1maxとなるような最小屈折率デルタΔ2minを有する第1の内側クラッド領域、および
b)前記第1の内側クラッド領域を取り囲み、Δ2min≧Δとなるような、屈折率Δ、および半径rmaxを有する外側クラッド領域、
を含むクラッドと;
を備え、
9マイクロメートル以上の、1310nmでのモードフィールド径MFD、1260nm以下のケーブルカットオフ、1300nm≦λ≦1324nmに及ぶゼロ分散波長、および0.75dB/turn未満の、20mmのマンドレルに関する1550nmでのマクロベンド損失を有する、単一モード光ファイバ。
【0130】
実施形態2
前記第1の内側クラッド領域に隣接し、接触し、屈折率Δ、半径r、およびΔ3min<Δとなるような最小屈折率デルタΔ3minを有する第2の内側クラッド領域を備える、実施形態1に記載の単一モード光ファイバ。
【0131】
実施形態3
前記第2の内側クラッド領域を取り囲む前記外側クラッド領域が、Δ3min<Δとなるような屈折率Δおよび半径rmaxを有する、実施形態2に記載の単一モード光ファイバ。
【0132】
実施形態4
1.5質量%以上の前記コア中の塩素濃度をさらに有する、実施形態1から3のいずれか1つに記載の単一モード光ファイバ。
【0133】
実施形態5
1550nmでのマクロベンド損失が直径20mmのマンドレルで0.5dB/turn以下である、実施形態1から4のいずれか1つに記載の単一モード光ファイバ。
【0134】
実施形態6
前記最大屈折率Δ1maxが0.10%≦Δ1max≦0.45%に及ぶ、実施形態1から5のいずれか1つに記載の単一モード光ファイバ。
【0135】
実施形態7
前記最小屈折率Δ3minが-0.5%≦Δ3min≦0.25%である、実施形態1から6のいずれか1つに記載の単一モード光ファイバ。
【0136】
実施形態8
前記最小屈折率Δ3minが-0.25%≦Δ3min≦0.15%である、実施形態1から7のいずれか1つに記載の単一モード光ファイバ。
【0137】
実施形態9
前記半径rが12.0マイクロメートル≦r≦25.0マイクロメートルである、実施形態1から8のいずれか1つに記載の単一モード光ファイバ。
【0138】
実施形態10
1550nmで前記光ファイバに示されるマクロベンド損失が、直径20mmのマンドレル上で0.70dB/turn以下であり、7.1と8.1の間のMACC数を示す、実施形態1から9のいずれか1つに記載の単一モード光ファイバ。
【0139】
実施形態11
単一モード光ファイバにおいて、
(i)コアアルファ(コアα)≧4、半径r、および最大屈折率デルタΔ1maxを有する塩素ドープシリカ系コアと;
(ii)前記コアを取り囲むクラッドであって、
a)前記コアに隣接し、接触し、屈折率デルタΔ、半径r、およびΔ2min<Δ1maxとなるような最小屈折率デルタΔ2minを有する第1の内側クラッド領域、
b)前記第1の内側クラッド領域と隣接し、接触し、屈折率Δ、半径r、およびΔ2min<Δ3maxとなるような最大屈折率デルタΔ3maxを有する第2の内側クラッド領域、および
c)前記第2の内側クラッド領域を取り囲み、Δ<Δ3maxとなるような、屈折率Δ、および半径rmaxを有する外側クラッド領域、
を含むクラッドと;
を備え、
9マイクロメートル以上の、1310nmでのモードフィールド径MFD、1260nm以下のケーブルカットオフ、1300nm≦λ≦1324nmに及ぶゼロ分散波長、および0.75dB/turn未満の、20mmのマンドレルに関する1550nmでのマクロベンド損失を有する、単一モード光ファイバ。
【0140】
実施形態12
1.5質量%以上の前記コア中の塩素濃度をさらに有する、実施形態11に記載の単一モード光ファイバ。
【0141】
実施形態13
1550nmでのマクロベンド損失が直径20mmのマンドレルで0.5dB/turn以下である、実施形態11または12に記載の単一モード光ファイバ。
【0142】
実施形態14
1550nmでのマクロベンド損失が直径30mmのマンドレルで0.005dB/turn以下である、実施形態11から13のいずれか1つに記載の単一モード光ファイバ。
【0143】
実施形態15
前記最大屈折率Δ1maxが0.10%≦Δ1max≦0.45%に及ぶ、実施形態11から14のいずれか1つに記載の単一モード光ファイバ。
【0144】
実施形態16
コアα≧15である、実施形態11から15のいずれか1つに記載の単一モード光ファイバ。
【0145】
実施形態17
前記最大屈折率Δ3maxが-0.5%≦Δ3max≦0.25%である、実施形態11から16のいずれか1つに記載の単一モード光ファイバ。
【0146】
実施形態18
前記半径rが15.0マイクロメートル≦r≦15.0マイクロメートルである、実施形態11から17のいずれか1つに記載の単一モード光ファイバ。
【0147】
実施形態19
1550nmで前記光ファイバに示されるマクロベンド損失が、直径20mmのマンドレル上で0.70dB/turn以下であり、7.1と8.1の間のMACC数を示す、実施形態11から18のいずれか1つに記載の単一モード光ファイバ。
【0148】
実施形態20
前記光ファイバが、0.1dB/km以下の1550nmでのワイヤメッシュ被覆ドラムマイクロベンド損失(WMCD)を有する、実施形態11から19のいずれか1つに記載の単一モード光ファイバ。
【符号の説明】
【0149】
10 単一モード光ファイバ
14 塩素ドープシリカ中央コア
18 クラッド
22 未ドープシリカ層
26 ペデスタル層
30 内側クラッド層
34 外側クラッド領域
図1
図2
図3A
図3B
図4
図5
図6
図7
図8
図9
図10
図11
図12
図13
図14