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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2022-12-07
(45)【発行日】2022-12-15
(54)【発明の名称】印刷装置及び印刷方法
(51)【国際特許分類】
B41M 7/02 20060101AFI20221208BHJP
B05D 1/36 20060101ALI20221208BHJP
B05D 3/04 20060101ALI20221208BHJP
B05D 7/24 20060101ALI20221208BHJP
B41J 2/01 20060101ALI20221208BHJP
【ＦＩ】
B41M7/02
B05D1/36 Z
B05D3/04 C
B05D7/24 301M
B41J2/01 123
【請求項の数】
4
(21)【出願番号】P 2018238789
(22)【出願日】2018-12-20
(65)【公開番号】P2020100035
(43)【公開日】2020-07-02
【審査請求日】2021-10-19
(73)【特許権者】
【識別番号】000105947
【氏名又は名称】サカタインクス株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100162396
【弁理士】
【氏名又は名称】山田 泰之
(74)【代理人】
【識別番号】100214363
【弁理士】
【氏名又は名称】安藤 達也
(72)【発明者】
【氏名】石塚 崇
(72)【発明者】
【氏名】白武 綾
【審査官】加藤 昌伸
(56)【参考文献】
【文献】特開２０１５－０５７３２７（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１３－１２９１２３（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００３－２７６１７６（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００８－０１２９１９（ＪＰ，Ａ）
【文献】米国特許出願公開第２０１５／００３０８２３（ＵＳ，Ａ１）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｂ４１Ｍ １／００ － ３／１８
Ｂ４１Ｍ ７／００ － ９／０４
Ｂ０５Ｄ １／００ － ７／２６
Ｂ４１Ｊ ２／０１ － ２／２１５
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
基材上に印刷インキを適用して印刷する印刷ユニット、印刷された基材の印刷面に水性オーバープリントニスを塗布するオーバープリントニス塗布ユニット、
前記オーバープリントニス塗布ユニットで形成された水性オーバープリントニス塗膜を処理するオーバープリントニス塗膜処理ユニット、
を少なくとも備える印刷装置であって、
前記オーバープリントニス塗膜処理ユニットが、リモート型大気圧プラズマ照射手段を含むものであり、
前記大気圧プラズマ照射手段におけるプラズマ生成時に用いられる放電ガスが、空気又は酸素から選ばれる１種以上のガスであり、
前記大気圧プラズマ照射手段における基材処理速度が、１ｍｍ／秒～２０００ｍｍ／秒であり、
前記大気圧プラズマ照射手段におけるプラズマ照射距離が、１ｍｍ～２０００ｍｍであり、
放電ガス流量が、５Ｌ／分～１００Ｌ／分である、印刷装置。
【請求項2】
紫外線照射手段、赤外線照射手段及び加熱手段から選ばれる１種以上の手段をさらに含む、請求項１に記載の印刷装置。
【請求項3】
印刷ユニットにおける印刷方式が、オフセット印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、パッド印刷、電子写真印刷及びインクジェット印刷から選ばれる１種又は２種以上の方式である、請求項１又は２に記載の印刷装置。
【請求項4】
基材上に印刷インキを適用して印刷する印刷工程、印刷された基材の印刷面に水性オーバープリントニスを塗布するオーバープリントニス塗布工程、
前記オーバープリントニス塗布工程で形成されたオーバープリントニス塗膜を処理するオーバープリントニス塗膜処理工程、
を少なくとも有する印刷方法であって、
前記オーバープリントニス塗膜処理工程が、リモート型大気圧プラズマを照射する工程を含むものであり、
前記大気圧プラズマを照射する手段におけるプラズマ生成時に用いられる放電ガスが、空気又は酸素から選ばれる１種以上のガスであり、
前記大気圧プラズマを照射する手段における基材処理速度が、１ｍｍ／秒～２０００ｍｍ／秒であり、
前記大気圧プラズマを照射する手段におけるプラズマ照射距離が、１ｍｍ～２０００ｍｍであり、
放電ガス流量が、５Ｌ／分～１００Ｌ／分である、印刷方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、印刷装置及び印刷方法に関する。詳しくは、オーバープリントニスの印刷に用いられる印刷装置及び印刷方法に関する。
【背景技術】
【0002】
商業印刷分野、特に、お菓子や食品等に用いられる包装箱、包装用紙、ラベル等の印刷においては、デザイン、機能、意匠性・美粧性の向上や印刷面の表面保護を目的として、印刷面にオーバープリントニス（以下、ＯＰニスという。）の塗膜を設けることが行われている。
このような、印刷面上のＯＰニス塗膜には、耐摩擦性（印刷面が擦れた際に塗膜が剥離等しない性能）、耐水性（水が印刷面に触れた際に塗膜が侵されない性能）、耐油性（食品や手指の油分が印刷面に触れた際に塗膜が侵されない性能）、耐ブロッキング性（印刷面同士あるいは印刷面と他の表面とが密着した際に接着しない性能）等が求められており、さらに、耐薬品性（手指消毒液や食品中の成分（エタノール、酢酸等）が印刷面に触れた際に塗膜が侵されない性能）が求められている。
最近の脱プラスチックの動きから、プラスチックフィルムによるラミネート加工の代替手段として、ＯＰニス塗膜を設けることについても検討されはじめている。
このような、印刷面上のＯＰニス塗膜には、耐摩擦性（印刷面が擦れた際に塗膜が剥離等しない性能）、耐水性（水が印刷面に触れた際に塗膜が侵されない性能）、耐油性（食品や手指の油分が印刷面に触れた際に塗膜が侵されない性能）、耐ブロッキング性（印刷面同士あるいは印刷面と他の表面とが密着した際に接着しない性能）等が求められており、さらに、耐薬品性（手指消毒液や食品中の成分（エタノール、酢酸等）が印刷面に触れた際に塗膜が侵されない性能）が求められている。
最近の脱プラスチックの動きから、プラスチックフィルムによるラミネート加工の代替手段として、ＯＰニス塗膜を設けることについても検討されはじめている。
【0003】
ＯＰニスの種類としては、水性ＯＰニス、油性ＯＰニス及びＵＶ（紫外線）硬化型ＯＰニス（以下、ＵＶ硬化ＯＰニスという。）が広く知られている。
しかしながら、水性ＯＰニスや油性ＯＰニスは、耐水性、耐薬品性、速乾性等の点で改善の余地を有するものであった。また、ＵＶ硬化ＯＰニスは、速乾性、ＶＯＣ（揮発性有機化合物）放出抑制等の点で有利であるが、下地となる印刷部分との相性やコストの点で改善の余地を有するものであった。さらに、ＵＶ硬化ＯＰニスは、ＯＰニス塗膜にモノマーが残存する可能性や、今後厳しくなると考えられる環境・安全規制によるモノマーや光重合開始剤の使用規制等に対する懸念を有するものであった。
しかしながら、水性ＯＰニスや油性ＯＰニスは、耐水性、耐薬品性、速乾性等の点で改善の余地を有するものであった。また、ＵＶ硬化ＯＰニスは、速乾性、ＶＯＣ（揮発性有機化合物）放出抑制等の点で有利であるが、下地となる印刷部分との相性やコストの点で改善の余地を有するものであった。さらに、ＵＶ硬化ＯＰニスは、ＯＰニス塗膜にモノマーが残存する可能性や、今後厳しくなると考えられる環境・安全規制によるモノマーや光重合開始剤の使用規制等に対する懸念を有するものであった。
【0004】
特許文献１～３には、ＯＰニスの組成を検討することで、ＯＰニス塗膜の諸特性の改善を行うことが記載されている。しかしながら、ＯＰニスの印刷装置や印刷方法の面から、ＯＰニス塗膜の諸特性を改善することについては記載されていない。
一方、特許文献４～６には、印刷インキ等の記録剤による画像（印刷インキ面）をプラズマ処理する技術が記載されている。しかしながら、ＯＰニス塗膜にプラズマを照射することは記載されておらず、これにより、ＯＰニス塗膜の耐摩擦性、耐水性、耐油性等の諸特性を低下させずに、耐薬品性及び耐ブロッキング性を向上させることも記載されていない。
一方、特許文献４～６には、印刷インキ等の記録剤による画像（印刷インキ面）をプラズマ処理する技術が記載されている。しかしながら、ＯＰニス塗膜にプラズマを照射することは記載されておらず、これにより、ＯＰニス塗膜の耐摩擦性、耐水性、耐油性等の諸特性を低下させずに、耐薬品性及び耐ブロッキング性を向上させることも記載されていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【文献】特許第６４２１４０１号公報
【文献】特開２００４－２０４０５０号公報
【文献】特開２０１０－２２９３０２号公報
【文献】特開２００８－０１２９１９号公報
【文献】特開２０１５－１４０３９０号公報
【文献】特開２０１６－０６０１５７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
本発明の課題は、耐摩擦性、耐水性、耐油性等の諸特性を低下させることなく、耐薬品性及び耐ブロッキング性に優れるＯＰニス塗膜を形成することができる印刷装置及び印刷方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明者らは、上記の課題を解決するために鋭意検討した結果、汎用のＯＰニスの印刷をプラズマ照射機能を有する印刷装置を用いて行うことで、耐摩擦性、耐水性、耐油性等の諸特性を低下させることなく、耐薬品性及び耐ブロッキング性に優れるＯＰニス塗膜を形成することができることを見出し、以下の本発明を完成するに至った。
すなわち、上記課題を解決する本発明には、以下の構成が主に含まれる。
項１：基材上に印刷インキを適用して印刷する印刷ユニット、印刷された基材の印刷面にオーバープリントニスを塗布するオーバープリントニス塗布ユニット、前記オーバープリントニス塗布ユニットで形成されたオーバープリントニス塗膜を処理するオーバープリントニス塗膜処理ユニット、を少なくとも備える印刷装置であって、前記オーバープリントニス塗膜処理ユニットが、プラズマ照射手段を含むものである、印刷装置。
項２：紫外線照射手段、赤外線照射手段及び加熱手段から選ばれる１種以上の手段をさらに含む、項１に記載の印刷装置。
項３：印刷ユニットにおける印刷方式が、オフセット印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、パッド印刷、電子写真印刷及びインクジェット印刷から選ばれる１種又は２種以上の方式である、項１又は２に記載の印刷装置。
項４：オーバープリントニスが、水性オーバープリントニス又は油性オーバープリントニスである、項１～３のいずれかに記載の印刷装置。
項５：プラズマ照射手段が、大気圧プラズマ照射手段である、項１～４のいずれかに記載の印刷装置。
項６：基材上に印刷インキを適用して印刷する印刷工程、印刷された基材の印刷面にオーバープリントニスを塗布するオーバープリントニス塗布工程、前記オーバープリントニス塗布工程で形成されたオーバープリントニス塗膜を処理するオーバープリントニス塗膜処理工程、を少なくとも有する印刷方法であって、前記オーバープリントニス塗膜処理工程が、プラズマを照射する工程を含むものである、印刷方法。
項７：オーバープリントニスが、水性オーバープリントニス又は油性オーバープリントニスである、項６に記載の印刷方法。
項８：プラズマを照射する工程が、大気圧プラズマを照射する工程である、項６又は７に記載の印刷方法。
すなわち、上記課題を解決する本発明には、以下の構成が主に含まれる。
項１：基材上に印刷インキを適用して印刷する印刷ユニット、印刷された基材の印刷面にオーバープリントニスを塗布するオーバープリントニス塗布ユニット、前記オーバープリントニス塗布ユニットで形成されたオーバープリントニス塗膜を処理するオーバープリントニス塗膜処理ユニット、を少なくとも備える印刷装置であって、前記オーバープリントニス塗膜処理ユニットが、プラズマ照射手段を含むものである、印刷装置。
項２：紫外線照射手段、赤外線照射手段及び加熱手段から選ばれる１種以上の手段をさらに含む、項１に記載の印刷装置。
項３：印刷ユニットにおける印刷方式が、オフセット印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、パッド印刷、電子写真印刷及びインクジェット印刷から選ばれる１種又は２種以上の方式である、項１又は２に記載の印刷装置。
項４：オーバープリントニスが、水性オーバープリントニス又は油性オーバープリントニスである、項１～３のいずれかに記載の印刷装置。
項５：プラズマ照射手段が、大気圧プラズマ照射手段である、項１～４のいずれかに記載の印刷装置。
項６：基材上に印刷インキを適用して印刷する印刷工程、印刷された基材の印刷面にオーバープリントニスを塗布するオーバープリントニス塗布工程、前記オーバープリントニス塗布工程で形成されたオーバープリントニス塗膜を処理するオーバープリントニス塗膜処理工程、を少なくとも有する印刷方法であって、前記オーバープリントニス塗膜処理工程が、プラズマを照射する工程を含むものである、印刷方法。
項７：オーバープリントニスが、水性オーバープリントニス又は油性オーバープリントニスである、項６に記載の印刷方法。
項８：プラズマを照射する工程が、大気圧プラズマを照射する工程である、項６又は７に記載の印刷方法。
【発明の効果】
【0008】
本発明の印刷装置及び印刷方法によれば、耐摩擦性、耐水性、耐油性等の諸特性を低下させることなく、耐薬品性及び耐ブロッキング性に優れるＯＰニス塗膜を、ＯＰニス種によらず簡易に形成することができる。
このため、お菓子や食品等の包装箱や包装用紙等のパッケージ印刷や、食品容器のラベル等の印刷等を含む商業印刷分野において非常に有用である。
このため、お菓子や食品等の包装箱や包装用紙等のパッケージ印刷や、食品容器のラベル等の印刷等を含む商業印刷分野において非常に有用である。
【図面の簡単な説明】
【0009】
【図1】本発明の実施態様に係る印刷装置の概要を模式的に示す図
【発明を実施するための形態】
【0010】
［印刷装置］
本発明の印刷装置としては、例えば、図１に示されるような印刷装置１をあげることができ、印刷ユニット２、ＯＰニス塗布ユニット３及びＯＰニス塗膜処理ユニット４を備えている。また、必要に応じて、印刷する基材を供給する基材供給ユニット５及び印刷された基材を排出する基材排出ユニット６等を備えている。以下、詳述する。
本発明の印刷装置としては、例えば、図１に示されるような印刷装置１をあげることができ、印刷ユニット２、ＯＰニス塗布ユニット３及びＯＰニス塗膜処理ユニット４を備えている。また、必要に応じて、印刷する基材を供給する基材供給ユニット５及び印刷された基材を排出する基材排出ユニット６等を備えている。以下、詳述する。
【0011】
＜印刷ユニット＞
印刷ユニット２における印刷方式は、公知の印刷方式の何れも使用することができる。
例えば、水なしオフセット印刷、湿し水ありオフセット印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、樹脂凸版印刷、パッド印刷、電子写真印刷及びインクジェット印刷等の方式があげられる。印刷ユニット２の機構としては、前記印刷方式を行うことができる公知の機構を用いることができる。
また、多色印刷等のために印刷を複数回行うように公知の機構を採用してもよく、両面印刷のための公知の機構を設けてもよい。
印刷ユニット２における印刷方式は、公知の印刷方式の何れも使用することができる。
例えば、水なしオフセット印刷、湿し水ありオフセット印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、樹脂凸版印刷、パッド印刷、電子写真印刷及びインクジェット印刷等の方式があげられる。印刷ユニット２の機構としては、前記印刷方式を行うことができる公知の機構を用いることができる。
また、多色印刷等のために印刷を複数回行うように公知の機構を採用してもよく、両面印刷のための公知の機構を設けてもよい。
【0012】
＜ＯＰニス塗布ユニット＞
（ＯＰニス）
本発明のＯＰニスは、公知のＯＰニスのいずれも使用することができ、例えば、水性ＯＰニス、油性ＯＰニス、ＵＶ硬化ＯＰニス等を用いることができ、これらは、市販のものであってもよい。
本発明においては、環境面等を考慮し水性ＯＰニスを用いることが特に好ましい。
また、例えば、植物油、油変性アルキド樹脂、ロジン等のバイオマス度を高める成分を含むＯＰニスは、そのバイオマス度を任意のものに調整できる。
（ＯＰニス）
本発明のＯＰニスは、公知のＯＰニスのいずれも使用することができ、例えば、水性ＯＰニス、油性ＯＰニス、ＵＶ硬化ＯＰニス等を用いることができ、これらは、市販のものであってもよい。
本発明においては、環境面等を考慮し水性ＯＰニスを用いることが特に好ましい。
また、例えば、植物油、油変性アルキド樹脂、ロジン等のバイオマス度を高める成分を含むＯＰニスは、そのバイオマス度を任意のものに調整できる。
【0013】
（ＯＰニス塗布方式）
ＯＰニスの塗布方式は、公知の印刷又は塗布方式の何れも使用することができる。
例えば、オフセット印刷、グラビア印刷、スクリーン印刷、フレキソ印刷、樹脂凸版印刷、インクジェット印刷等の印刷方式、バーコート、ロールコート、スリットコート、ブレードコート、ドクターナイフコート、ワイヤーバーコート、スピンコート、スプレーコート、ディスペンサーコート（ノズルコート）等の塗布方式があげられる。
油性ＯＰニスや高粘度のＵＶ硬化ＯＰニスは、オフセット印刷等の塗布方式を用いることができ、水性ＯＰニスや低粘度のＵＶ硬化ＯＰニスは、ロールコーターやチャンバーコーターによる塗布方式を用いることができる。
本発明においては、作業性等を考慮して、オフセット印刷、インクジェット印刷、各種ニスコーターを用いたコート、スプレーコート等の塗布方式が好適である。
ＯＰニスの塗布方式は、公知の印刷又は塗布方式の何れも使用することができる。
例えば、オフセット印刷、グラビア印刷、スクリーン印刷、フレキソ印刷、樹脂凸版印刷、インクジェット印刷等の印刷方式、バーコート、ロールコート、スリットコート、ブレードコート、ドクターナイフコート、ワイヤーバーコート、スピンコート、スプレーコート、ディスペンサーコート（ノズルコート）等の塗布方式があげられる。
油性ＯＰニスや高粘度のＵＶ硬化ＯＰニスは、オフセット印刷等の塗布方式を用いることができ、水性ＯＰニスや低粘度のＵＶ硬化ＯＰニスは、ロールコーターやチャンバーコーターによる塗布方式を用いることができる。
本発明においては、作業性等を考慮して、オフセット印刷、インクジェット印刷、各種ニスコーターを用いたコート、スプレーコート等の塗布方式が好適である。
【0014】
＜ＯＰニス塗膜処理ユニット＞
本発明のＯＰニス塗膜処理ユニット４は、プラズマ照射手段を含むものである。
プラズマは、種々の方法で生成された科学的定義に合致するプラズマであり、例えば、互いに離間した電極間に電流を流す放電で生じたものがあげられる。また、電離によって生じた荷電粒子を含む気体であってイオンと電子の数が同数又はほぼ同数であり電気的に中性又はほぼ中性である状態のものでもよい。本発明のプラズマ照射手段で照射されるプラズマ生成空間の圧力は特に限定されないが、好ましくは大気圧プラズマが用いられる。
大気圧プラズマは、実質的な大気圧下（極端な加圧又は減圧下でない状態で、実用的には０．１～１０気圧、好ましくは０．７～１．５気圧の範囲を指す。）で発生させたプラズマである。大気圧プラズマは、発生時に減圧する（真空系とする）必要がないため、設備コストや処理コストを抑えることができ、常温で処理を行うことが可能であるため、被処理材料の形状や特性を損なうことがほとんどない。
大気圧プラズマの温度は、ＯＰニス塗膜処理の効率、取扱性、基材へのダメージ等を考慮して、高温から低温まで公知の手段により任意の温度とすることができ、約１００℃以下が好ましく、０℃～１００℃が特に好ましいが、特に限定されない。
本発明のＯＰニス塗膜処理ユニット４は、プラズマ照射手段を含むものである。
プラズマは、種々の方法で生成された科学的定義に合致するプラズマであり、例えば、互いに離間した電極間に電流を流す放電で生じたものがあげられる。また、電離によって生じた荷電粒子を含む気体であってイオンと電子の数が同数又はほぼ同数であり電気的に中性又はほぼ中性である状態のものでもよい。本発明のプラズマ照射手段で照射されるプラズマ生成空間の圧力は特に限定されないが、好ましくは大気圧プラズマが用いられる。
大気圧プラズマは、実質的な大気圧下（極端な加圧又は減圧下でない状態で、実用的には０．１～１０気圧、好ましくは０．７～１．５気圧の範囲を指す。）で発生させたプラズマである。大気圧プラズマは、発生時に減圧する（真空系とする）必要がないため、設備コストや処理コストを抑えることができ、常温で処理を行うことが可能であるため、被処理材料の形状や特性を損なうことがほとんどない。
大気圧プラズマの温度は、ＯＰニス塗膜処理の効率、取扱性、基材へのダメージ等を考慮して、高温から低温まで公知の手段により任意の温度とすることができ、約１００℃以下が好ましく、０℃～１００℃が特に好ましいが、特に限定されない。
【0015】
プラズマ生成時に用いられる放電ガスとしては、空気、酸素、二酸化炭素、窒素、希ガス（アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン等）、水素、ハロゲン（フッ素、塩素）及び水蒸気等のガスから選ばれる１種以上のガスが用いられるが特に限定されない。好ましくは、空気、酸素、窒素及び二酸化炭素から選ばれる１種以上のガスを用いることができる。なお、プラズマ照射と紫外線照射とを組み合わせる際には、放電ガスとして、アルゴン、クリプトン、キセノン等のプラズマ生成時に紫外線を発しやすいガスを放電ガスに少量混合して用いることもできる。
【0016】
プラズマ照射手段としては、プラズマを生成し照射できるものであれば放電方式等は特に限定されない。例えば、高周波電源に接続され互いに離間した電極に電流を流すことで放電状態とし、前記放電ガスを電極間に導入して通過（電極間に積極的に流入）させてプラズマ化し、照射対象に向けて放出される機構のものを用いることができ、プラズマの照射形態に応じて、ダイレクト型、リモート型及び両者の併用型があげられる。
ダイレクト型は、プラズマ処理する基材を電圧の印加された電極間（すなわち放電空間内）を通過させることでプラズマ照射するものであり、生成直後の高い反応性を有するプラズマによる処理を行うことができる。
リモート型は、処理対象とは別の場所で生成させたプラズマをプラズマガスの気流に乗せて処理対象まで輸送することでプラズマ照射を行うものであり、基材にダメージを与えることなくプラズマ照射を行うことができる。
ダイレクト型は、プラズマ処理する基材を電圧の印加された電極間（すなわち放電空間内）を通過させることでプラズマ照射するものであり、生成直後の高い反応性を有するプラズマによる処理を行うことができる。
リモート型は、処理対象とは別の場所で生成させたプラズマをプラズマガスの気流に乗せて処理対象まで輸送することでプラズマ照射を行うものであり、基材にダメージを与えることなくプラズマ照射を行うことができる。
【0017】
プラズマ照射手段を用いる場合の各条件は特に限定されず、放電ガス種、処理電圧、処理電流、処理周波数、電極間距離、基材処理速度、照射距離、放電ガス流量等に基づき任意に設定できる。
処理電圧は、例えば１０～１０００Ｖ、好ましくは２０～６００Ｖ、より好ましくは１００～５００Ｖとされるが特に限定されない。
処理電流は、例えば０．００１～１０００Ａ、好ましくは０．０１～５００Ａ、より好ましくは０．１～１００Ａとされるが特に限定されない。
処理周波数は、例えば０．００１～１０００ｋＨｚ、好ましくは０．０１～５００ｋＨｚ、より好ましくは０．０５～１００ｋＨｚとされるが特に限定されない。
電極間距離は、例えば０．１～５０ｍｍ、好ましくは０．５～２５ｍｍ、より好ましくは０．５～１０ｍｍとされるが、特に限定されない。
基材処理速度（基材通過速度）は、例えば０．０１～７０００ｍｍ／秒、好ましくは０．１～３０００ｍｍ／秒、より好ましくは１～２０００ｍｍ／秒とされるが特に限定されない。
照射距離（基材と照射口との間隔）は、例えば０．１～１００００ｍｍ、好ましくは０．３～５０００ｍｍ、より好ましくは１～２０００ｍｍとされるが特に限定されない。
放電ガス流量は、ダイレクト型の場合には、例えば０．０１～１００Ｌ／分、好ましくは０．１～３０Ｌ／分、より好ましくは０．１～２０Ｌ／分とされ、リモート型の場合には、例えば０．０１～１０００Ｌ／分、好ましくは５～３００Ｌ／分、より好ましくは、５～１００Ｌ／分とされるが、特に限定されない。
処理電圧は、例えば１０～１０００Ｖ、好ましくは２０～６００Ｖ、より好ましくは１００～５００Ｖとされるが特に限定されない。
処理電流は、例えば０．００１～１０００Ａ、好ましくは０．０１～５００Ａ、より好ましくは０．１～１００Ａとされるが特に限定されない。
処理周波数は、例えば０．００１～１０００ｋＨｚ、好ましくは０．０１～５００ｋＨｚ、より好ましくは０．０５～１００ｋＨｚとされるが特に限定されない。
電極間距離は、例えば０．１～５０ｍｍ、好ましくは０．５～２５ｍｍ、より好ましくは０．５～１０ｍｍとされるが、特に限定されない。
基材処理速度（基材通過速度）は、例えば０．０１～７０００ｍｍ／秒、好ましくは０．１～３０００ｍｍ／秒、より好ましくは１～２０００ｍｍ／秒とされるが特に限定されない。
照射距離（基材と照射口との間隔）は、例えば０．１～１００００ｍｍ、好ましくは０．３～５０００ｍｍ、より好ましくは１～２０００ｍｍとされるが特に限定されない。
放電ガス流量は、ダイレクト型の場合には、例えば０．０１～１００Ｌ／分、好ましくは０．１～３０Ｌ／分、より好ましくは０．１～２０Ｌ／分とされ、リモート型の場合には、例えば０．０１～１０００Ｌ／分、好ましくは５～３００Ｌ／分、より好ましくは、５～１００Ｌ／分とされるが、特に限定されない。
【0018】
プラズマ処理を行う場合において、照射距離（基材と照射口との間隔）が短い場合（各条件にもよるが、通常１００ｍｍ未満）には、主としてプラズマ照射口から噴出されるプラズマ変性されたガスの発光部（励起光部）がＯＰニス塗膜に作用すると推察される。ここで、発光部は、光を遮蔽した条件下において、照射口から炎状の発光部として目視し得る部分であり、比較的活性が高いラジカル等を含む部分である。
プラズマ処理を行う場合において、照射距離が長い場合（各条件にもよるが、通常、１００ｍｍ以上）には、主としてプラズマ照射口から噴出されるプラズマ変性されたガスの消光部がＯＰニス塗膜に作用するものと推察される。ここで、消光部は、プラズマ変性されたガス気流のうち、前記発光部よりも下流領域を指し、プラズマ変性時に発生した比較的活性が低いラジカル等や、前記発光部で再変性されたガスに含まれるラジカル等、あるいは前記発光部及び／又は前記消光部により活性化された周囲の雰囲気ガス（空気等）等に含まれるラジカル等を含む部分である。照射距離が長い場合、プラズマ照射手段の所望の位置に、筒状部材や板状部材等の所望の形状の部品を設けることでプラズマ変性されたガスを収束・濃縮・捕集して、基材にプラズマ変性されたガスを噴射（プラズマ照射）することができる。
プラズマ処理を行う場合において、照射距離が長い場合（各条件にもよるが、通常、１００ｍｍ以上）には、主としてプラズマ照射口から噴出されるプラズマ変性されたガスの消光部がＯＰニス塗膜に作用するものと推察される。ここで、消光部は、プラズマ変性されたガス気流のうち、前記発光部よりも下流領域を指し、プラズマ変性時に発生した比較的活性が低いラジカル等や、前記発光部で再変性されたガスに含まれるラジカル等、あるいは前記発光部及び／又は前記消光部により活性化された周囲の雰囲気ガス（空気等）等に含まれるラジカル等を含む部分である。照射距離が長い場合、プラズマ照射手段の所望の位置に、筒状部材や板状部材等の所望の形状の部品を設けることでプラズマ変性されたガスを収束・濃縮・捕集して、基材にプラズマ変性されたガスを噴射（プラズマ照射）することができる。
【0019】
プラズマの照射口形状は、ＯＰニス塗膜を効果的に処理できる形状であればよく、例えば、円型、スリット型、複数の円型照射口を任意の配置で有するシャワー型及び面型等の任意の形状とすることができる。作業性や照射効率等の点から、スリット型又はシャワー型形状とすることが好ましい。
プラズマは、電場に存在する放電ガスが電離して生じるもので、化学反応を生じさせ得る高いエネルギーを有しており、ＯＰニス塗膜に何らかの化学的変性を生起させる機能を有していると考えられる。
プラズマは、電場に存在する放電ガスが電離して生じるもので、化学反応を生じさせ得る高いエネルギーを有しており、ＯＰニス塗膜に何らかの化学的変性を生起させる機能を有していると考えられる。
【0020】
＜その他＞
本発明の印刷装置において、ＯＰニス塗膜処理ユニットは、ＯＰニス塗布ユニットに続いて連続的に処理が行われるようにインラインに配置される。なお、必要であれば、ＯＰニス塗布処理ユニットと物理的に非接続関係にあるオフラインに配置できる。
本発明の印刷装置は、基材供給ユニット５や印刷された基材を排出する基材排出ユニット６を有していてもよい。また、紫外線照射手段、赤外線照射手段及び加熱手段等から選ばれる１種以上の手段を備えていてもよく、さらに、印刷装置において公知のユニット又は手段を備えていてもよい。
本発明の印刷装置において、ＯＰニス塗膜処理ユニットは、ＯＰニス塗布ユニットに続いて連続的に処理が行われるようにインラインに配置される。なお、必要であれば、ＯＰニス塗布処理ユニットと物理的に非接続関係にあるオフラインに配置できる。
本発明の印刷装置は、基材供給ユニット５や印刷された基材を排出する基材排出ユニット６を有していてもよい。また、紫外線照射手段、赤外線照射手段及び加熱手段等から選ばれる１種以上の手段を備えていてもよく、さらに、印刷装置において公知のユニット又は手段を備えていてもよい。
【0021】
＜基材供給ユニット＞
印刷装置は、印刷する基材を供給する基材供給ユニット５を備えていてもよい。基材供給ユニット５は、基材の形態に応じたものを用いることができ、枚葉シートに印刷を行う場合の公知の基材供給装置及び巻取シートに印刷を行う場合の公知の基材供給装置のいずれも用いることができる。
本発明における基材は、印刷において用いられる各種のものを用いることができ、例えば、紙、木材、布、不織布等の吸収性のもの、プラスチック、金属、ガラス等の非吸収性のもの等を用いることができる。これらの基材は、所定の形状にそろえられた枚葉シートであってもよく、ロール等に巻き取られた巻取シート（ウエブロール）であってもよい。
基材が枚葉シートである場合には、例えば、多数の枚葉シートを積載する複数の積載台を設け、積載台上の枚葉シートを順に一枚ずつ取り上げて印刷ユニットに送り出すように構成することができ、枚葉シートを位置決めできる構成のものを用いることができる。
基材が巻取シート（ウエブロール）である場合には、例えば、ウエブロールからロール状のウエブを引き出し印刷ユニットに供給するように構成することができ、また、複数のウエブロールが装着されるリールスタンドを有し、前のウエブロールの終端と次のウエブロールの始端とを接続し連続的に印刷ユニットにウエブを供給可能とするウエブ継装置を有していてもよい。
印刷装置は、印刷する基材を供給する基材供給ユニット５を備えていてもよい。基材供給ユニット５は、基材の形態に応じたものを用いることができ、枚葉シートに印刷を行う場合の公知の基材供給装置及び巻取シートに印刷を行う場合の公知の基材供給装置のいずれも用いることができる。
本発明における基材は、印刷において用いられる各種のものを用いることができ、例えば、紙、木材、布、不織布等の吸収性のもの、プラスチック、金属、ガラス等の非吸収性のもの等を用いることができる。これらの基材は、所定の形状にそろえられた枚葉シートであってもよく、ロール等に巻き取られた巻取シート（ウエブロール）であってもよい。
基材が枚葉シートである場合には、例えば、多数の枚葉シートを積載する複数の積載台を設け、積載台上の枚葉シートを順に一枚ずつ取り上げて印刷ユニットに送り出すように構成することができ、枚葉シートを位置決めできる構成のものを用いることができる。
基材が巻取シート（ウエブロール）である場合には、例えば、ウエブロールからロール状のウエブを引き出し印刷ユニットに供給するように構成することができ、また、複数のウエブロールが装着されるリールスタンドを有し、前のウエブロールの終端と次のウエブロールの始端とを接続し連続的に印刷ユニットにウエブを供給可能とするウエブ継装置を有していてもよい。
【0022】
＜基材排出ユニット＞
印刷装置は、印刷された基材を排出する基材排出ユニット６を備えていてもよい。基材排出ユニット６は、基材の形態に応じたものを用いることができ、枚葉シートに印刷を行う場合の公知の基材排出装置及び巻取シートに印刷を行う場合の公知の基材排出装置のいずれも用いることができる。
基材が枚葉シートである場合には、例えば、搬送される印刷後の枚葉シートをガイドしつつ集積部に整列した状態で積み重ねるように構成することができ、印刷不良の枚葉シートを除去する構成を付加することもできる。
基材が巻取シート（ウエブロール）である場合には、例えば、巻取シートから引き出され印刷され搬送された連続ウエブを折りたたんで排出するように構成することができ、また、印刷され搬送された連続ウエブを所定の長さで裁断し積み重ねて排出するように構成することができる。
印刷装置は、印刷された基材を排出する基材排出ユニット６を備えていてもよい。基材排出ユニット６は、基材の形態に応じたものを用いることができ、枚葉シートに印刷を行う場合の公知の基材排出装置及び巻取シートに印刷を行う場合の公知の基材排出装置のいずれも用いることができる。
基材が枚葉シートである場合には、例えば、搬送される印刷後の枚葉シートをガイドしつつ集積部に整列した状態で積み重ねるように構成することができ、印刷不良の枚葉シートを除去する構成を付加することもできる。
基材が巻取シート（ウエブロール）である場合には、例えば、巻取シートから引き出され印刷され搬送された連続ウエブを折りたたんで排出するように構成することができ、また、印刷され搬送された連続ウエブを所定の長さで裁断し積み重ねて排出するように構成することができる。
【0023】
＜紫外線照射手段、赤外線照射手段、加熱手段＞
印刷装置は、印刷インキ又はＯＰニスの乾燥・硬化等のために、紫外線照射手段、赤外線照射手段及び加熱手段から選ばれる１種以上の手段を備えていてもよい。これらは、印刷装置における任意の位置に任意の手段を備えることができる。例えば、印刷ユニットとＯＰニス塗布ユニットの間、ＯＰニス塗布ユニットとＯＰニス塗膜処理ユニットの間、ＯＰニス塗膜処理ユニット内、ＯＰニス塗膜処理ユニットの後等に備えることができる。
ＯＰニス塗膜処理ユニット内に、紫外線照射手段、赤外線照射手段又は加熱手段のいずれか１つ以上を備えている場合、ＯＰニス塗膜処理をより効果的に行うことができる。
印刷装置は、印刷インキ又はＯＰニスの乾燥・硬化等のために、紫外線照射手段、赤外線照射手段及び加熱手段から選ばれる１種以上の手段を備えていてもよい。これらは、印刷装置における任意の位置に任意の手段を備えることができる。例えば、印刷ユニットとＯＰニス塗布ユニットの間、ＯＰニス塗布ユニットとＯＰニス塗膜処理ユニットの間、ＯＰニス塗膜処理ユニット内、ＯＰニス塗膜処理ユニットの後等に備えることができる。
ＯＰニス塗膜処理ユニット内に、紫外線照射手段、赤外線照射手段又は加熱手段のいずれか１つ以上を備えている場合、ＯＰニス塗膜処理をより効果的に行うことができる。
【0024】
［印刷方法］
本発明の印刷方法は、基材上に印刷インキを適用して印刷する印刷工程、印刷された基材の印刷面にＯＰニスを塗布するＯＰニス塗布工程、前記ＯＰニス塗布工程で形成されたＯＰニス塗膜を処理するＯＰニス塗膜処理工程、を少なくとも有する印刷方法であって、前記ＯＰニス塗膜処理工程が、プラズマを照射する工程を含む前記印刷装置を用いた印刷方法である。
基材やＯＰニスについては、前記印刷装置において記載したのと同様のものを用いることができる。
印刷インキについては、前記印刷装置において記載した印刷方式に用いられる印刷インキであればどのようなものでもよく、水性インキ、油性インキ、ＵＶ硬化型インキ等の公知のインキを用いることができる。
また、印刷工程、ＯＰニス塗布工程、ＯＰニス塗膜処理工程及びプラズマを照射する工程は、前記印刷装置において記載した印刷ユニット、ＯＰニス塗布ユニット、ＯＰニス塗膜処理ユニット及びプラズマ照射手段における各工程と同様のものとすることができる。
ＯＰニス塗膜処理工程は、ＯＰニス塗布工程に続いてインラインで行われてもよく、ＯＰニス塗布工程終了後にオフラインで行われてもよい。
また、印刷する基材を供給する基材供給工程及び印刷された基材を排出する基材排出工程を備えていてもよい。さらに、紫外線照射工程、赤外線照射工程又は加熱工程等を任意の工程の前または後に備えていてもよく、さらに、印刷において公知の工程を備えていてもよい。
本発明の印刷方法は、基材上に印刷インキを適用して印刷する印刷工程、印刷された基材の印刷面にＯＰニスを塗布するＯＰニス塗布工程、前記ＯＰニス塗布工程で形成されたＯＰニス塗膜を処理するＯＰニス塗膜処理工程、を少なくとも有する印刷方法であって、前記ＯＰニス塗膜処理工程が、プラズマを照射する工程を含む前記印刷装置を用いた印刷方法である。
基材やＯＰニスについては、前記印刷装置において記載したのと同様のものを用いることができる。
印刷インキについては、前記印刷装置において記載した印刷方式に用いられる印刷インキであればどのようなものでもよく、水性インキ、油性インキ、ＵＶ硬化型インキ等の公知のインキを用いることができる。
また、印刷工程、ＯＰニス塗布工程、ＯＰニス塗膜処理工程及びプラズマを照射する工程は、前記印刷装置において記載した印刷ユニット、ＯＰニス塗布ユニット、ＯＰニス塗膜処理ユニット及びプラズマ照射手段における各工程と同様のものとすることができる。
ＯＰニス塗膜処理工程は、ＯＰニス塗布工程に続いてインラインで行われてもよく、ＯＰニス塗布工程終了後にオフラインで行われてもよい。
また、印刷する基材を供給する基材供給工程及び印刷された基材を排出する基材排出工程を備えていてもよい。さらに、紫外線照射工程、赤外線照射工程又は加熱工程等を任意の工程の前または後に備えていてもよく、さらに、印刷において公知の工程を備えていてもよい。
【実施例】
【0025】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「％」は「質量％」を、「部」は質量部を意味する。
【0026】
（実施例１～８及び比較例１～４）
紙基材（王子マテリア社製ＵＦコートＥＭ）に赤色の油性インキ（サカタインクス社製Ｔ ＥＣＯＰＵＲＥ ＨＰ（赤））をＲＩ展色機で展色し、その直後に表１のＯＰニスを、ハンドプルーファーにて５～８ｇ／ｍ２（実施例１～３、５～７及び比較例１～３）又はＲＩ展色機にて２～４ｇ／ｍ２（実施例４、８及び比較例４）となる量で塗布後乾燥し、試験片を得た。得られた試験片のＯＰニス塗膜面に、下記のプラズマ処理条件１によるプラズマ照射を行った例（実施例１～４）、プラズマ処理条件２によるプラズマ照射を行った例（実施例５～８）及びプラズマ照射を行わなかった例（比較例１～４）のそれぞれについて、耐薬品試験、耐ブロッキング試験、耐摩擦試験、耐水試験、耐油試験、密着試験を行った。結果を表１に示す。
紙基材（王子マテリア社製ＵＦコートＥＭ）に赤色の油性インキ（サカタインクス社製Ｔ ＥＣＯＰＵＲＥ ＨＰ（赤））をＲＩ展色機で展色し、その直後に表１のＯＰニスを、ハンドプルーファーにて５～８ｇ／ｍ２（実施例１～３、５～７及び比較例１～３）又はＲＩ展色機にて２～４ｇ／ｍ２（実施例４、８及び比較例４）となる量で塗布後乾燥し、試験片を得た。得られた試験片のＯＰニス塗膜面に、下記のプラズマ処理条件１によるプラズマ照射を行った例（実施例１～４）、プラズマ処理条件２によるプラズマ照射を行った例（実施例５～８）及びプラズマ照射を行わなかった例（比較例１～４）のそれぞれについて、耐薬品試験、耐ブロッキング試験、耐摩擦試験、耐水試験、耐油試験、密着試験を行った。結果を表１に示す。
【0027】
（ＯＰニス）
ＯＰニス１：水性ＯＰニス（サカタインクス社製ＡＣコート Ｖ－１８１ ＳＰ２）
ＯＰニス２：水性ＯＰニス（サカタインクス社製ＡＣコート ＰＶ－５０６ Ｈ．）
ＯＰニス３：水性ＯＰニス（市販品）
ＯＰニス４：油性ＯＰニス（サカタインクス社製ＤＴ エコピュア 耐摩ＯＰニス）
ＯＰニス１：水性ＯＰニス（サカタインクス社製ＡＣコート Ｖ－１８１ ＳＰ２）
ＯＰニス２：水性ＯＰニス（サカタインクス社製ＡＣコート ＰＶ－５０６ Ｈ．）
ＯＰニス３：水性ＯＰニス（市販品）
ＯＰニス４：油性ＯＰニス（サカタインクス社製ＤＴ エコピュア 耐摩ＯＰニス）
【0028】
（プラズマ処理条件１）
プラズマ種：リモート式大気圧プラズマ
照射口形状：スリット型（１ｍｍ×１２５ｍｍ）
ガス種 ：酸素
ガス流量 ：２０Ｌ／ｍｉｎ
照射距離 ：１ｍｍ
処理速度 ：３ｍ／ｍｉｎ
（プラズマ処理条件２）
プラズマ種：リモート式大気圧プラズマ
照射口形状：スリット型（１ｍｍ×１２５ｍｍ）
ガス種 ：窒素
ガス流量 ：２０Ｌ／ｍｉｎ
照射距離 ：１ｍｍ
処理速度 ：３ｍ／ｍｉｎ
プラズマ種：リモート式大気圧プラズマ
照射口形状：スリット型（１ｍｍ×１２５ｍｍ）
ガス種 ：酸素
ガス流量 ：２０Ｌ／ｍｉｎ
照射距離 ：１ｍｍ
処理速度 ：３ｍ／ｍｉｎ
（プラズマ処理条件２）
プラズマ種：リモート式大気圧プラズマ
照射口形状：スリット型（１ｍｍ×１２５ｍｍ）
ガス種 ：窒素
ガス流量 ：２０Ｌ／ｍｉｎ
照射距離 ：１ｍｍ
処理速度 ：３ｍ／ｍｉｎ
【0029】
（耐薬品試験）
各ＯＰニス塗膜面を、温度２５℃、湿度８０％の条件で、エタノール５０μｌを染み込ませたあて紙（カナキン布）により、２００ｇの荷重下で５回、学振型摩擦試験機を用いて摩擦し、ＯＰニス塗膜面の状態から耐薬品性を評価した。
Ａ：基材面が露出しない
Ｂ：ＯＰニス塗膜が部分的に削れる
Ｃ：ＯＰニス塗膜の大部分が削れ基材面が露出する
各ＯＰニス塗膜面を、温度２５℃、湿度８０％の条件で、エタノール５０μｌを染み込ませたあて紙（カナキン布）により、２００ｇの荷重下で５回、学振型摩擦試験機を用いて摩擦し、ＯＰニス塗膜面の状態から耐薬品性を評価した。
Ａ：基材面が露出しない
Ｂ：ＯＰニス塗膜が部分的に削れる
Ｃ：ＯＰニス塗膜の大部分が削れ基材面が露出する
【0030】
（耐ブロッキング試験）
各ＯＰニス塗膜面同士を重ね合わせ、温度５０℃、湿度８０％、加重圧１Ｋｇ／ｃｍ２の条件で２４時間保管した後に手で剥がし、ＯＰニス塗膜面の状態から耐ブロッキング性を評価した。
Ａ：ＯＰニス塗膜の剥離が発生しない
Ｂ：ＯＰニス塗膜の剥離が発生する
各ＯＰニス塗膜面同士を重ね合わせ、温度５０℃、湿度８０％、加重圧１Ｋｇ／ｃｍ２の条件で２４時間保管した後に手で剥がし、ＯＰニス塗膜面の状態から耐ブロッキング性を評価した。
Ａ：ＯＰニス塗膜の剥離が発生しない
Ｂ：ＯＰニス塗膜の剥離が発生する
【0031】
（耐摩擦試験）
各ＯＰニス塗膜面を、温度２５℃、湿度８０％の条件で、あて紙（王子マテリア社製ＵＰコートＢＭ）により、５００ｇの荷重下で５００回、学振型摩擦試験機を用いて摩擦し、ＯＰニス塗膜面の状態から耐摩擦性を評価した。
Ａ：基材面が露出しない
Ｂ：ＯＰニス塗膜が削れ基材面が露出する
各ＯＰニス塗膜面を、温度２５℃、湿度８０％の条件で、あて紙（王子マテリア社製ＵＰコートＢＭ）により、５００ｇの荷重下で５００回、学振型摩擦試験機を用いて摩擦し、ＯＰニス塗膜面の状態から耐摩擦性を評価した。
Ａ：基材面が露出しない
Ｂ：ＯＰニス塗膜が削れ基材面が露出する
【0032】
（耐水試験）
各ＯＰニス塗膜面を、温度２５℃、湿度８０％の条件で、水５０μｌを染み込ませたあて紙（カナキン布）により、２００ｇの荷重下で５回、学振型摩擦試験機を用いて摩擦し、ＯＰニス塗膜面の状態から耐水性を評価した。
Ａ：基材面が露出しない
Ｂ：ＯＰニス塗膜が部分的に削れる
Ｃ：ＯＰニス塗膜の大部分が削れ基材面が露出する
各ＯＰニス塗膜面を、温度２５℃、湿度８０％の条件で、水５０μｌを染み込ませたあて紙（カナキン布）により、２００ｇの荷重下で５回、学振型摩擦試験機を用いて摩擦し、ＯＰニス塗膜面の状態から耐水性を評価した。
Ａ：基材面が露出しない
Ｂ：ＯＰニス塗膜が部分的に削れる
Ｃ：ＯＰニス塗膜の大部分が削れ基材面が露出する
【0033】
（耐油試験）
各ＯＰニス塗膜面を、温度２５℃、湿度８０％の条件で、サラダ油５０μｌを染み込ませたあて紙（カナキン布）により、２００ｇの荷重下で５回、学振型摩擦試験機を用いて摩擦し、ＯＰニス塗膜面の状態から耐油性を評価した。
Ａ：基材面が露出しない
Ｂ：ＯＰニス塗膜が部分的に削れる
Ｃ：ＯＰニス塗膜の大部分が削れ基材面が露出する
各ＯＰニス塗膜面を、温度２５℃、湿度８０％の条件で、サラダ油５０μｌを染み込ませたあて紙（カナキン布）により、２００ｇの荷重下で５回、学振型摩擦試験機を用いて摩擦し、ＯＰニス塗膜面の状態から耐油性を評価した。
Ａ：基材面が露出しない
Ｂ：ＯＰニス塗膜が部分的に削れる
Ｃ：ＯＰニス塗膜の大部分が削れ基材面が露出する
【0034】
（密着試験）
各ＯＰニス塗膜面を、温度２５℃、湿度８０％の条件で、セロテープ（登録商標）を貼付し、指で５往復加圧した後に急速に剥がした時の、ＯＰニス塗膜面の状態から密着性（接着性）を評価した。
Ａ：ＯＰニス塗膜がセロテープに付着していない
Ｂ：ＯＰニス塗膜がセロテープに付着する
各ＯＰニス塗膜面を、温度２５℃、湿度８０％の条件で、セロテープ（登録商標）を貼付し、指で５往復加圧した後に急速に剥がした時の、ＯＰニス塗膜面の状態から密着性（接着性）を評価した。
Ａ：ＯＰニス塗膜がセロテープに付着していない
Ｂ：ＯＰニス塗膜がセロテープに付着する
【0035】
【表1】
【0036】
本発明に沿った例である実施例１～８によると、ＯＰニスの種類によらず、耐摩擦性、耐水性、耐油性及び密着性に優れたＯＰニス塗膜を形成することができる。
これに対して、プラズマ処理を行わない比較例１～４によると、耐薬品性及び耐ブロッキング性の点で改善が不十分であることがわかる。
これに対して、プラズマ処理を行わない比較例１～４によると、耐薬品性及び耐ブロッキング性の点で改善が不十分であることがわかる。
【符号の説明】
【0037】
１・・・印刷装置
２・・・印刷ユニット
３・・・ＯＰニス塗布ユニット
４・・・ＯＰニス塗膜処理ユニット
５・・・基材供給ユニット
６・・・基材排出ユニット
２・・・印刷ユニット
３・・・ＯＰニス塗布ユニット
４・・・ＯＰニス塗膜処理ユニット
５・・・基材供給ユニット
６・・・基材排出ユニット
【図1】