特許7190802IP Force 特許公報全文掲載

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技術分野

半導体製造装置向けのセラミック静電チャック等

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

特許文献１に開示の静電チャックでは、電極との接続が遮断されても、コンデンサからの放電によりしばらくの間、ウェハに対する静電チャックの吸着力が維持される。しかし、特許文献１に開示の構成においては、ウェハ吸着用の電極とは別にコンデンサ用の電極が設けられているため、静電チャック内にコンデンサを内蔵させる場合に、静電チャックが大型化してしまうという問題があった。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明の静電チャックは、基板が載置される基板載置面を有するセラミックス焼結体からなるセラミック基体と、前記セラミック基体内に設けられ、第１の電極及び前記第１の電極に電気的に接続されかつ前記セラミック基体から露出している１つの第１の給電部分を含む第１の電極構造と、前記セラミック基体内に設けられ、前記第１の電極と対向する第２の電極及び前記第２の電極に電気的に接続されかつ前記セラミック基体から露出・・・　続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 実施例１の静電チャックの平面図である。
【図2A】 図１の２Ａ－２Ａ線に沿った断面図である。
【図2B】 図１の２Ｂ－２Ｂ線に沿った断面図である。
【図3】 実施例１の静電チャックの電極構成の概略図である。
【図4】 実施例１の静電チャックの電極構成の等価回路図である。
【図5】 実施例１の変形例の静電チャックの電極構成の概略図である。
【図6】 実施例２の静電チャックの平面図である。
【図7】 図６の７－７線に沿った断面図である。
【図8】 実施例２の静電チャックの電極構成の概略図である。
【図9】 実施例２の静電チャックの電極構成の等価回路図である。
【図10】 実施例２の変形例の静電チャックの電極構成の概略図である。
【図11】 実施例３の静電チャックの電極構成の概略図である。
【図12】 実施例３の静電チャックの電極構成の等価回路図である。
【図13】 実施例４の静電チャックの電極構成の概略図である。
【図14】 実施例４の静電チャックの電極構成の等価回路図である。

代表図 図1本件の代表的な図

１０，２０，３０，４０・・・静電チャック、１１・・・基体、１３，２３，３３，４３・・・吸着電極、１５，２５，３５，４５・・・キャパシタ電極、１７・・・接続導体、１９，２９，３９，４９・・・給電端子、ＰＳ・・・電源

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