(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2022-12-14
(45)【発行日】2022-12-22
(54)【発明の名称】酸化ベリリウム一体抵抗加熱器
(51)【国際特許分類】
H05B 3/26 20060101AFI20221215BHJP
H05B 3/02 20060101ALI20221215BHJP
H05B 3/10 20060101ALI20221215BHJP
H05B 3/12 20060101ALI20221215BHJP
H05B 3/20 20060101ALI20221215BHJP
【FI】
H05B3/26
H05B3/02 B
H05B3/10 C
H05B3/12 A
H05B3/20 393
(21)【出願番号】P 2018552133
(86)(22)【出願日】2017-03-07
(86)【国際出願番号】 US2017021047
(87)【国際公開番号】W WO2017176412
(87)【国際公開日】2017-10-12
【審査請求日】2020-03-06
【審判番号】
【審判請求日】2022-01-14
(32)【優先日】2016-04-07
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(73)【特許権者】
【識別番号】508348680
【氏名又は名称】マテリオン コーポレイション
(74)【代理人】
【識別番号】100118902
【氏名又は名称】山本 修
(74)【代理人】
【識別番号】100106208
【氏名又は名称】宮前 徹
(74)【代理人】
【識別番号】100196508
【氏名又は名称】松尾 淳一
(74)【代理人】
【識別番号】100196597
【氏名又は名称】横田 晃一
(72)【発明者】
【氏名】スミス, ラリー ティー.
(72)【発明者】
【氏名】ヘイズ, サミュエル ジェイ.
【合議体】
【審判長】平城 俊雅
【審判官】西村 泰英
【審判官】白土 博之
(56)【参考文献】
【文献】特開2001-135464(JP,A)
【文献】特開平11-317282(JP,A)
【文献】特開昭57-210588(JP,A)
【文献】特開2004-273227(JP,A)
【文献】特開昭52-123357(JP,A)
【文献】特開昭59-68190(JP,A)
【文献】特開昭57-43382(JP,A)
【文献】特開平8-243991(JP,A)
【文献】特開2007-88484(JP,A)
【文献】特開2014-132560(JP,A)
【文献】米国特許出願公開第2010/0108661(US,A1)
(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
H05B 3/00-3/86
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
第1の表面および
前記第1の表面の反対側の第2の表面を有する、酸化ベリリウム(BeO)セラミック本体と、
耐熱金属化層から形成され、前記酸化ベリリウムセラミック本体の前記第1の表面または前記第2の表面のいずれかに接合される、第1の加熱要素と、
前記耐熱金属化層から形成され、前記酸化ベリリウムセラミック本体の前記第1の表面または前記第2の表面のうちのもう一方に接合される、第2の加熱要素と、
を備え、
前記第1及び第2の加熱要素は、並列で第1及び第2の加熱器端子に接続され、独立して動作され、前記第1及び第2の加熱要素は、第1及び第2のゾーンを提供するように構成される、二重ゾーン一体抵抗加熱器。
【請求項2】
前記耐熱金属化層は、モリブデンまたはタングステンを含有する、請求項1に記載の一体抵抗加熱器。
【請求項3】
前記耐熱金属化層は、MoSi
2またはモリ-マンガンを含有する、請求項2に記載の一体抵抗加熱器。
【請求項4】
酸化ベリリウムセラミック天板と、酸化ベリリウムセラミック基礎板とをさらに備え、前記酸化ベリリウムセラミック本体は、前記天板と前記基礎板との間に配置される、請求項1に記載の一体抵抗加熱器。
【請求項5】
前記第1及び第2の加熱要素を制御するための前記加熱器端子に接続される少なくとも1つの電源をさらに備える、請求項1に記載の一体抵抗加熱器。
【請求項6】
前記第1の加熱要素は、スクリーン印刷、ロールコーティング、またはエアブラシ法を使用して印刷される、請求項1に記載の一体抵抗加熱器。
【請求項7】
前記第1の加熱要素は、前記BeOセラミック本体の前記第1の表面に接合され、前記第2の加熱要素は、前記BeOセラミック本体の前記第2の表面に接合される、請求項1に記載の一体抵抗加熱器。
【請求項8】
前記BeOセラミック本体は、正方形の板、長方形の板、プラテン
または円
盤の形状である、請求項1に記載の一体抵抗加熱器。
【請求項9】
前記第1の加熱要素は、螺旋、一連の実質的に同心の円、またはジグザグの形状でパターン化される、請求項1に記載の一体抵抗加熱器。
【請求項10】
二重ゾーン一体抵抗加熱器を形成する方法であって、
酸化ベリリウムセラミック本体の第1の表面または第2の表面上に耐熱金属化塗料を塗布することにより、第1の加熱要素を形成すること
、ここで、前記第2の表面は前記第1の表面の反対側である、
前記酸化ベリリウムセラミック本体の前記第1の表面または前記第2の表面のうちのもう一方の表面上に前記耐熱金属化塗料を塗布することにより、第2の加熱要素を形成すること、並びに
前記第1及び第2の加熱要素を並列で第1及び第2の加熱器端子に接続し、前記第1及び第2の加熱要素を独立して動作させて第1及び第2のゾーンを提供すること、
を含む、前記方法。
【請求項11】
前記塗布は、前記加熱要素をスクリーン印刷、ロールコーティング、またはエアブラッシングすることによって行われる、請求項10に記載の方法。
【請求項12】
前記第1の加熱要素は、螺旋、一連の実質的に同心の円、またはジグザグの形状を有す
るパターンで形成される、請求項10に記載の方法。
【請求項13】
前記金属化塗料は、モリブデンまたはタングステンを含有する、請求項10に記載の方法。
【請求項14】
前記金属化塗料は、MoSi
2またはモリ-マンガンを含有する、請求項13に記載の方法。
【請求項15】
加熱の方法であって、
金属箔または金属化塗料から形成される第1の加熱要素に電流を通過させること、ここで、前記第1の加熱要素は、酸化ベリリウムセラミック本体の第1の表面上に位置する;
前記金属化塗料から形成される第2の加熱要素に電流を通過させること、ここで、前記第2の加熱要素は、前記酸化ベリリウムセラミック本体の第2の表面上に位置
し、前記第2の表面は前記第1の表面の反対側である;
を含み、
前記第1及び第2の加熱要素は、並列で第1及び第2の加熱器端子に接続され、独立して動作されて第1及び第2のゾーンを提供する、前記方法。
【請求項16】
前記セラミック本体は、円盤、正方形、
またはプラテ
ンの形状である、請求項15に記載の方法。
【請求項17】
前記第1の加熱要素は、ニッケル合金、タングステン、モリブデン、もしくは白金および白金の合金のうちの1つを含む金属箔、または、モリブデンもしくはタングステンを含有する金属化塗料から形成される、請求項15に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
(関連出願への相互参照)
本願は、2016年4月7日に出願された米国仮特許出願第62/319,388号の優先権を主張し、これは、参照によって本明細書に完全に援用される。
【0002】
(背景)
本開示は、酸化ベリリウム(BeO)を含むセラミック本体上または内に統合された電気抵抗加熱器に関する。一体抵抗加熱器は、半導体加工および操作の分野内で特定の用途を見出し、特にそれを参照して説明される。しかしながら、本開示はまた、他の同様の用途にも適していることを理解されたい。
【背景技術】
【0003】
一体抵抗加熱器は、ジュールの第1の法則に従って、(対流または放射と比較して)伝導を介してより急速に媒体を通して熱エネルギーを伝達する。しかしながら、媒体は、電気絶縁性でなければならず、そうしなければ加熱器がショートする。殆どの従来の熱伝導性材料は、電気伝導性である金属であり、したがって、直接接触一体加熱器のための媒体として好適ではない。殆どの従来の電気絶縁性材料(セラミックおよびガラス等)は、低い熱伝導率を有し、熱を不十分に伝導する。
【0004】
これらの問題を最小限にする、一体抵抗加熱器を提供することが望ましい。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【0005】
(簡単な説明)
本明細書の種々の実施形態では、加熱要素が、酸化ベリリウム(BeO)セラミック本体と直接接触し、酸化ベリリウム(BeO)セラミック本体に接合される、一体抵抗加熱器が開示される。酸化ベリリウムは、電気絶縁性および高度に熱伝導性の両方であるという特異な性質を有する。
【0006】
本明細書に開示されるいくつかの実施形態では、一体抵抗加熱器は、第1の表面および第2の表面を有する酸化ベリリウム(BeO)セラミック本体を含む。加熱要素は、耐熱金属化層から形成される。加熱要素は、BeOセラミック本体の第1の表面または第2の表面と直接接触し、BeOセラミック本体に接合される。
【0007】
本明細書に開示される他の実施形態では、一体抵抗加熱器を形成する方法は、BeOセラミック本体の第1の表面または第2の表面上に耐熱金属化塗料を塗布することによって、加熱要素を形成することを含む。これらの実施形態では、概して、セラミック本体がセラミック本体の厚さに比べて大きい長さおよび幅を有することが想定される。
【0008】
本明細書に開示されるさらに他の実施形態では、一体抵抗加熱器は、第1の端子と第2の端子との間に延在するBeOセラミック管を含む。加熱要素は、耐熱金属化塗料から形成され、BeOセラミック管の外部表面上に、すなわち、(その上の2つの端面ではなく)管の円周表面/側壁上に直接塗布される。加熱要素の第1の端部は、第1の端子に接続され、加熱要素の第2の端部は、第2の端子に接続される。これらの端子は、はんだ付け、ろう付け、またはタック溶接によって、BeOセラミック管に継合されることができる。
【0009】
他の実施形態では、一体抵抗加熱器が、加熱器パックで使用するために開示される。加熱器パックは、BeOセラミック天板を含む。中間BeOセラミック本体は、第1の表面と、第2の表面と、第1の表面または第2の表面上に印刷される耐熱金属化塗料から形成される加熱要素とを有する。BeOセラミック基礎板も含まれる。天板、中間セラミック本体、および基礎板は、中央に中間セラミック本体を伴う「サンドイッチ」を形成する。加熱器端子は、BeOセラミック基礎板を通って延在し、中間BeOセラミック本体の加熱要素に接続する。これらの端子は、はんだ、またはろう付け、またはタック溶接、または機械的ねじ山のいずれかを用いて、BeOに継合される。最終的に、少なくとも1つの電源は、オームの法則およびその交流電圧(VAC)等価形式P(t)=I(t)V(t)に従って、加熱要素を制御するために加熱器端子に接続されることができる。
【図面の簡単な説明】
【0010】
以下は、本明細書に開示される例示的実施形態を限定する目的ではなく、その実施形態を図示する目的のために提示される図面の簡単な説明である。
【0011】
【
図1】
図1は、本開示による一体抵抗加熱器の上面図である。
【0012】
【
図2】
図2は、螺旋パターンを有する加熱要素を印刷するためのスクリーンの上面図である。
【0013】
【
図3A】
図3Aは、迷路パターンを有する二重ゾーン加熱要素の第1のゾーンを印刷するための第1のスクリーンの上面図である。
【0014】
【
図3B】
図3Bは、迷路パターンを有する二重ゾーン加熱要素の第2のゾーンを印刷するための第2のスクリーンの上面図である。
【0015】
【
図4A】
図4Aは、管状本体を有する一体抵抗加熱器の斜視図である。
【0016】
【0017】
【
図4C】
図4Cは、加熱要素を形成するための金属化塗料の塗布を図示する、
図4Aに示される管状加熱器の斜視図である。
【0018】
【
図5】
図5は、本開示による一体抵抗加熱器を含む加熱器パックの構成要素の3Dモデルである。
【0019】
【
図6】
図6は、本開示の第2の側面による、一体抵抗加熱器を含む加熱器パックの構成要素の3Dモデルである。
【0020】
【
図7】
図7は、本開示による一体抵抗加熱器に印加される約6VAC~約44VACの電圧に関する実際のワット数対温度を示すチャートである。
【0021】
【
図8】
図8は、本開示による一体抵抗加熱器に印加される60VACの電圧に関する実際のワット数対温度を示すチャートである。
【0022】
【
図9】
図9は、本開示による一体抵抗加熱器に印加される約6VAC~約44VACの電圧に関する抵抗対温度を示すチャートである。
【0023】
【
図10】
図10は、本開示による二重ゾーン一体抵抗加熱器に印加される約40VAC~約108VACの印加された電圧に関する実際のワット数対温度を示すチャートである。
【0024】
【
図11】
図11は、本開示による二重ゾーン一体抵抗加熱器に印加される約21VAC~約57VACの印加された電圧に関する実際のワット数対温度を示すチャートである。
【0025】
【
図12】
図12は、本開示による二重ゾーン一体抵抗加熱器に印加される約13VAC~約121VACの印加された電圧に関する実際のワット数対温度を示すチャートである。
【0026】
【
図13】
図13は、本開示による二重ゾーン一体抵抗加熱器に印加される約7VAC~約63VACの印加された電圧に関する実際のワット数対温度を示すチャートである。
【0027】
【
図14】
図14は、本開示による二重ゾーン一体抵抗加熱器に印加される約17.5VAC~約118VACの印加された電圧に関する抵抗対温度を示すチャートである。
【0028】
【
図15】
図15は、本開示による一体抵抗加熱器のセラミック本体に接合されるモリブデン(Mo)およびKOVAR加熱要素のための箔接着を示すチャートである。
【発明を実施するための形態】
【0029】
(詳細な説明)
本明細書に開示されるプロセスおよびデバイスのより完全な理解は、付随する図面を参照することによって得られることができる。これらの図は、利便性および容易性に基づく概略的表現にすぎず、したがって、アセンブリまたはその構成要素の相対的サイズおよび寸法を示すことを意図していない。
【0030】
本開示は、所望の実施形態およびその中に含まれる実施例の以下の詳細な説明を参照することによって、より容易に理解され得る。以下の明細書およびその後に続く特許請求の範囲では、以下の意味を有するように定義されるものとする、いくつかの用語が参照される。
【0031】
単数形「a」、「an」、および「the」は、文脈が別様に明確に決定付けない限り、複数の指示対象を含む。
【0032】
本願の明細書および特許請求の範囲の中の数値は、同一の有効桁数まで丸められたときに同一である数値と、値を決定するように本願で説明されるタイプの従来の測定技法の実験誤差未満だけ記述された値と異なる数値とを含むと理解されるべきである。
【0033】
本明細書に開示される全ての範囲は、記載される終点を含み、独立して組み合わせ可能である(例えば、「2グラム~10グラム」の範囲は、終点(すなわち、2グラムおよび10グラム)ならびに全中間値を含む)。
【0034】
本明細書で使用される場合、「約」および「実質的に」等の近似用語は、それが関連する基本的機能の変化をもたらすことなく変動し得る、任意の定量的表現を修飾するように適用され得る。修飾語「約」はまた、2つの終点の絶対値によって定義される範囲を開示するものと見なされるべきである。例えば、表現「約2~約4」はまた、「2~4」という範囲も開示する。用語「約」は、示された数の±10%を指し得る。用語「典型的な」および「典型的に」は、標準かつ一般的な実践を指す。
【0035】
用語「室温」は、20℃~25℃の範囲を指す。
【0036】
いくつかの用語は、具体的パターンを指すために本明細書で使用される。本明細書で使用されるような用語「螺旋」は、固定中心点から連続的に増加する距離で当該点の周囲に巻回する平面上の曲線を指す。用語「アルキメデスの螺旋」は、中心点から生じる任意の光線が一定の分離距離を伴う点において螺旋の連続旋回と交差するという性質を有する螺旋を指す。用語「迷路」および「ラビリンス」は、壁の間に一連の異なる経路を形成する壁のセットに類似する回路を形成するようにともに継合される、不連続線および/または曲線のパターンを指す。用語「一筆書可能」は、パターンの中心までの単一の経路を有する「迷路」または「ラビリンス」を指す。用語「複数筆書可能」は、パターンの中心までの複数(すなわち、1つよりも多い)経路を有する「迷路」または「ラビリンス」を指す。用語「ジグザグ」は、単一の線が第1の側面と第2の側面との間で前後に延びるように、単一の線が急な曲がり角を有し、線が第1の端部から始まって第2の端部で終わるパターンを指す。
【0037】
用語「上部」および「基部」が、本明細書で使用される。これらの用語は、絶対的向きではなく、相対的向きを示す。
【0038】
一体抵抗加熱器を形成するための方法およびそれから形成される加熱器が、開示される。本明細書に開示される一体抵抗加熱器は、例えば、半導体加工中に、シリコンウエハ産業において有用な加熱器パックで使用されることができる。一体抵抗加熱器は、酸化ベリリウム(BeO)セラミック本体と、BeOセラミック本体と直接接触し、BeOセラミック本体に接合される電気加熱要素とを含む。加熱要素は、概して、セラミック本体への塗布に応じて微粉化した耐熱金属の厚いフィルムを形成する金属化塗料で形成されてもよい。BeOセラミック本体は、高度に熱伝導性および電気絶縁性であるという特異な組み合わせを有する。これは、その電気短絡を引き起こすことなく、加熱要素との密接な接触を可能にする。BeO加熱器はまた、高い熱伝導率に起因して、高速で循環(上昇、冷却)されることができる。BeOはまた、高温耐熱材料である。BeOはまた、電気絶縁性であり、腐食性雰囲気および腐食性液体中で耐エッチング性である。
【0039】
ここで
図1を参照すると、一体抵抗加熱器100は、概して、酸化ベリリウム(BeO)から作製されたセラミック本体102を含む。加熱要素108は、セラミック本体の表面上に形成される。例えば、加熱要素は、セラミック本体の第1の表面104上、または第1の表面104の反対側に位置するセラミック本体の第2の表面106(
図5)上に印刷されることができる。また、ここでは、電源に接続される、加熱要素108の2つの端部123、125も可視である。また、2つのパススルー127も可視であり、
図5に関してさらに解説されるように、2つのパススルー127を通して、セラミック本体の反対表面上の加熱要素への電気接続を可能にする。
【0040】
BeOセラミック本体102は、円盤形を有するものとして
図1に示されている。本円盤形では、本体の第1の表面および第2の表面は、概して、本体の厚さを上回る半径を有する。しかしながら、BeOセラミック本体は、一体抵抗加熱器として使用するために好適な任意の形状を有し得ることを理解されたい。例えば、本体は、長方形の第1の表面を有することができる、またはセラミック本体は、本体の厚さがその半径を上回る管であることができる。
【0041】
BeOセラミック本体の加熱要素は、電気伝導性である耐熱金属を含有する塗料(すなわち、金属化塗料)から形成される。金属化塗料は、モリブデン(Mo)またはタングステン(W)のいずれかを含有することができ、かつ他の原料も含有することができる。いくつかの実施形態では、金属化塗料は、モリブデン、マンガン、およびガラス粉末の混合物である、「モリ-マンガン」を含有する。いくつかの特定の実施形態では、金属化塗料は、二珪化モリブデン(MoSi2)を含有する。二珪化モリブデンはまた、高度に耐熱性(m.p.2,030℃)であり、最大約1800℃まで作用することができる。
【0042】
金属化塗料は、BeOセラミック本体の形状およびサイズに応じて、いくつかの技法のうちの1つを使用して、塗布されてもよい。これらの技法は、スクリーン印刷、ピンストライピングホイールを用いたロールコーティング、手動塗装、エアブラシ噴霧、浸漬、遠心コーティング、およびシリンジを用いた針塗装を含む。いくつかの特定の実施形態では、金属化塗料の1つまたは複数の層は、スクリーン印刷、ロールコーティング、またはエアブラシ法によって塗布される。金属化塗料は、BeOセラミック本体の表面上で加熱要素として作用する厚いフィルムを形成することができる。所望の厚さは、電力供給源によって提供される電流から熱を生成するために要求される抵抗ならびに他の要因に依存する。しかしながら、厚さだけが、電気抵抗を駆動する唯一の要因ではなく、金属化塗料レシピ(すなわち、金属対ガラス比)および焼結の量(すなわち、収縮、ガラスの毛管作用、および酸化還元反応)もまた、電気抵抗率を変化させる。いくつかの実施形態では、厚いフィルムの厚さは、典型的には、約300~900マイクロインチ(7.62μm~22.86μm)であることができるが、熱のジュールの第1の法則に従うために要求される所望の電気抵抗を達成するために、金属化塗料の複数の塗布によって減少または増加されることができる。金属化塗料はまた、
図1に図示される迷路パターン112等の加熱要素のより複雑な設計のためのパターンで塗布されることができる。
【0043】
いくつかの特定の実施形態では、金属化塗料は、加熱要素を形成するように、スクリーン印刷プロセスを使用して塗布される。
図2は、スクリーン印刷に使用されるスクリーン110を図示する。金属化塗料は、螺旋パターン114を有する加熱要素を形成するために使用される。いくつかの実施形態では、螺旋は、アルキメデスの螺旋である。スクリーンは、概して、フレーム118にわたって伸張される一片のメッシュ120を備える。所望のパターンは、パターンのネガ像においてスクリーンの部分のマスクを取ることによって、形成される。別の言い方をすれば、螺旋パターン114は、金属化塗料がBeOセラミック本体上に出現する場所を示す。
【0044】
スクリーン印刷は、概して、所望のパターンの原不透明像が透明オーバーレイ上に作成される、印刷が起こる前の事前プレスプロセスを含むことができる。適切な網目数を有するスクリーンが、次いで、選択される。スクリーンは、影付きの区域130によって示されるUV硬化性エマルションでコーティングされる。オーバーレイは、スクリーンにわたって設置され、エマルションを硬化させるようにUV光源に暴露される。スクリーンは、次いで、船上され、メッシュ上に所望のパターンのネガステンシルを残す。BeOセラミック本体の第1の表面は、BeOセラミック本体を染色し得る、スクリーンを通した不要な漏出から保護するように、幅が広いパレットテープでコーティングされることができる。最終的に、エマルション内の任意の不要なピンホールは、テープ、特殊エマルション、または遮断ペンを用いて、遮断されることができる。これは、金属化塗料がピンホールを通って続き、BeOセラミック本体上に不要な跡を残すことを防止する。
【0045】
印刷は、BeOセラミック本体の第1の表面または第2の表面上にスクリーン110を設置することによって進む。金属化塗料は、スクリーン上に設置され、フラッドバーが、メッシュ120内の孔を通して金属化塗料を押動するために使用される。フラッドバーは、最初にスクリーンの背面および金属化塗料のリザーバの背後に設置される。スクリーンは、BeOセラミック本体との接触を防止するように持ち上げられる。フラッドバーは、次いで、わずかな量の下向きの力でスクリーンの正面に引動され、効果的にメッシュ開口部を金属化塗料で充填し、リザーバをスクリーンの正面まで移動させる。ゴムブレードまたはスキージは、メッシュをBeOセラミック本体まで下方に移動させるために使用され、スキージは、スクリーンの背面に押動される。メッシュ開口部の中にある金属化塗料は、制御および処方された量でBeOセラミック本体上に液圧作用によって送出または圧搾される。換言すると、湿潤金属化塗料は、メッシュおよび/またはステンシルの厚さに比例して堆積される。「スナップオフ」プロセス中に、スキージは、スクリーンの背面に向かって移動し、張力は、メッシュをBeOセラミック本体の表面から離れるように引き上げさせる。スナップオフ後、金属化塗料は、加熱要素のための所望のパターンでBeOセラミック本体の表面上に残される。
【0046】
次に、スクリーンは、所望される場合、金属化塗料の別の層で再コーティングされることができる。代替として、スクリーンは、エマルションを除去した後にスクリーンに残された曇りまたは「ゴースト像」を除去するように、さらなる曇り除去ステップを受けてもよい。
【0047】
金属化塗料が堆積された後、焼結が、BeOセラミック本体への金属化塗料の強力な密封接合を促進するように実施されることができる。金属化基質の中の非金属成分は、BeOセラミック本体の粒界の中へ拡散し、その強度を補う。焼結の量(すなわち、時間および温度)は、電子のための伝導性経路の体積組成に影響を及ぼす。焼結中の雰囲気は、金属および半金属亜酸化物の酸化および還元反応に影響を及ぼす。焼結層は、電気伝導性になり、加熱のために必要ではないが所望される場合、金属化層の後続のめっきを可能にする。めっきは、電解(ラックもしくはバレル)または無電解プロセスによって実施されることができる。ニッケル(Ni)、金(Au)、銀(Ag)、および銅(Cu)を含む、種々の材料が、めっきに使用されることができるが、動作温度および雰囲気が考慮されるべきである。
【0048】
図2に図示される実施形態は、概して、形状が正方形であるものとしてスクリーンのフレーム118を示す。いくつかの実施形態では、正方形フレームは、約5インチ×5インチの長さおよび幅を有することができる。メッシュ120は、ステンレス鋼から作製された325メッシュであることができる。メッシュのワイヤは、フレームに対して30度バイアスを有する。エマルション130は、約0.5ミル(0.0127mm)の厚さを有する。本開示から、そのような寸法は、例示的にすぎず、任意の好適なスクリーン形状およびサイズが、所望に応じて選定され得ることを理解されたい。
【0049】
図3A(正確な縮尺ではない)および
図3B(正確な縮尺ではない)は、第1の加熱要素126を印刷するために第1のスクリーン122を使用するスクリーン印刷の方法を図示する。第2のスクリーン124が、次いで、第2の加熱要素128を印刷するために使用される。いくつかの実施形態では、第1の加熱要素は、
図1に示されるBeOセラミック本体102の第1の表面104上に印刷されることができ、第2の加熱要素は、BeOセラミック本体の第2の表面106上に印刷されることができる(
図5)。両方の加熱要素は、同一の端子または異なる端子に接続されることができ、ともに動作させられる、または独立してバイアスをかけられることができる。
【0050】
第1および第2の加熱要素は、円形迷路またはラビリンスパターンを形成する、一連の略同心円を有するものとして
図3Aおよび
図3Bに示されている。ここで図示されるように、第1の加熱要素126は、一筆書可能なラビリンスのパターンであり、第2の加熱要素128もまた、一筆書可能なラビリンスのパターンである。しかしながら、複数筆書可能なラビリンスのパターンもまた、使用され得ることが想定される。
図3Aでは、端子123、125およびパススルー127も可視である。
【0051】
図3Aおよび
図3Bに図示される実施形態では、フレーム132は、約10インチ×10インチの長さおよび幅を有する正方形であることができる。メッシュ120は、ステンレス鋼から作製された325メッシュであることができる。メッシュのワイヤは、フレームに対して30度バイアスを有する。エマルション134は、約1ミル(0.0254mm)の厚さを有する。
【0052】
図4Aおよび
図4Bは、形状が管状であるBeOセラミック本体202を有する、例示的一体抵抗加熱器200を図示する。管状とは、中実であるロッドとは対照的に、セラミック本体を通る中空通路があることを意味し、または別の言い方をすれば、管状本体は、第1または外部表面および第2または内部表面を有する円筒側壁として表されることができる。管状本体は、管状本体の両端上に位置する第1の端子204および第2の端子206の間に延在する。いくつかの実施形態では、第1および第2の端子は、KOVAR金属またはモリブデン(Mo)金属から作製される。これらの端子は、はんだ付け、ろう付け、またはタック溶接によって、BeOセラミック管に継合されることができる。加熱要素208は、BeOセラミック本体の外部表面214上に存在する。加熱要素は、管状BeOセラミック本体の長さに延在する螺旋形を有することができる。加熱要素は、第1の端部210における第1の端子204に、および第2の端部212における第2の端子206に接続される。
【0053】
図4Aの一体抵抗加熱器のいくつかの側面は、
図4Bに図示される断面図でより明確に見られることができる。具体的には、BeOセラミック本体202は、側壁を形成するが、端子204、206は、抵抗加熱器の端部を形成する。別の言い方をすれば、KOVAR金属またはモリブデン金属のキャップは、BeOセラミック本体の端部上に設置され、はんだ付け、ろう付け、またはタック溶接によって継合される。加えて、BeOセラミック本体の外部表面214は、加熱要素208が形成されるチャネルを含む。
図4Cに示されるように、加熱要素208を形成する金属化塗料は、ピンストライピングアプリケータ216を介してロールコーティングによって塗布される。アプリケータ216は、BeO表面214と直接接触するリザーバを装填されたホイール218を有する。BeOセラミック本体202は、表面張力を介してピンストライピングアプリケータホイールから塗料を引き出すように、スピンドル(図示せず)上で回転されることができる。
【0054】
図5は、前述で説明される一体抵抗加熱器を組み込む加熱器パックを示す。加熱器パックは、概して、天板150と、中間BeOセラミック本体102と、第1の加熱要素108と、基礎板152とを含む。BeOセラミック本体102は、天板と基礎板との間に配置され、第1の表面104と、第2の表面106とを有する。第1の加熱要素108は、BeOセラミック本体の第1の表面上に印刷されるものとしてここで示されている。第1の表面104は、基礎板152に隣接し、第2の表面106は、天板150に隣接する。BeOセラミック本体の第2の表面もまた、その上に加熱要素を有する(可視ではない)。加熱器端子156は、基礎板152を通って延在し、中間BeOセラミック本体の第1の表面上の第1の加熱要素108に接続する。存在する場合、同一の加熱器端子もまた、中間セラミック本体を通って延在し、第2の表面上の第2の加熱要素に接続され得ることに留意されたい。しかしながら、ここでは、加熱器端子154は、はんだ、ろう付け、タック溶接、または機械的ねじ山によって、第2の加熱要素に接続する。いったん組み立てられると、加熱要素は、加熱器パックの天板と基礎板との間に埋め込まれる。少なくとも1つの電源158は、加熱要素を制御するために、いずれかの端子154、156に接続される、または直列もしくは並列で両方に配線されることができる。
【0055】
いくつかの実施形態では、加熱要素は、BeOセラミック本体の第1の表面上に印刷され、第2の加熱要素(可視ではない)は、二重ゾーン一体抵抗加熱器を形成するように第2の表面上に印刷される。この点に関して、第1の加熱要素は、
図3Aに示される第1のスクリーン122を使用して印刷されることができる。随意の第2の加熱要素は、
図3Bに示される第2のスクリーン124を使用して印刷されることができる。
【0056】
ここで、第2の加熱器端子154は、加熱器パックが二重ゾーン一体抵抗加熱器を組み込むときに、含まれる。第2の加熱器端子は、基礎板を通って延在し、中間本体自体も通って延在し、はんだ、ろう付け、タック溶接、または機械的ねじ山等の任意の好適な手段によって、中間BeOセラミック本体の第2の表面106上の第2の加熱要素に接続する。電源158はまた、第2の加熱器端子を介して第2の加熱要素を制御するために使用されることができる。随意に、第2の電源(図示せず)は、第2の加熱端子を介して第2の加熱要素を制御するために使用されることができる。電源は、独立して、または協働して、電圧を加熱器要素(単数または複数)に提供してもよい。
【0057】
コントローラ(図示せず)はまた、電源によって提供される電圧信号を変調させるように含まれてもよく、さらに、表示手段(図示せず)上で読み出すためにアナログ信号をデジタル信号に変換してもよい。表示手段は、LCD、コンピュータモニタ、タブレットまたはモバイルリーダデバイス、および当業者によって公知であるような他の表示手段を含んでもよい。単一、複数、または冗長な熱電対が、デバイス上の所望の場所において直接表面接触し、閉ループフィードバック信号をコントローラに提供する。
【0058】
いくつかの実施形態では、天板150は、セラミック半導体材料の層、電極層、およびセラミックBeO層から構成される。セラミック半導体材料は、二酸化チタンまたはチタニア(TiO2)でドープされる酸化ベリリウム(BeO)を含んでもよい。セラミック半導体材料の層はまた、焼結中に接着剤および/または気密封止カプセル化としての役割を果たす、少量のガラス共晶物を含んでもよい。
【0059】
さらなる実施形態では、基礎板152は、中間BeOセラミック本体102と同様に、酸化ベリリウムBeOセラミック層から構成され得る。基礎板は、第1の加熱端子を介した第1の加熱要素への接続のための孔162と、第2の加熱端子を介した第2の加熱要素への接続のための孔160とを含むことができる。
【0060】
図6を参照すると、加熱器パック300が、本開示の第2の側面による一体抵抗加熱器を組み込んで示されている。加熱器パックは、概して、天板350と、加熱要素308と、基礎板352とを含む。加熱要素はまた、加熱器端子が接続される2つの端部354も含む。天板は、セラミック半導体材料の層と、電極層と、
図5の天板150に類似するセラミックBeO層とを含むことができる。基礎板は、
図5の基礎板152に類似する酸化ベリリウムBeOセラミック層であることができる。加熱器端子(図示せず)は、基礎板を通って延在し、加熱要素端部354に接続することができる。加熱器パックはまた、オームの法則およびその交流電圧(VAC)等価形式P(t)=I(t)V(t)を適用して、加熱器端子を介して加熱要素を制御するための電源(図示せず)を含むこともできる。
【0061】
ここでは、加熱要素308は、エッチング、ダイカッティング、水ジェット、またはレーザカッティング等の任意の好適な方法によって形成される一般的ジグザグパターンを有する、箔もしくは薄いフィルム層である。いくつかの実施形態では、加熱要素308は、ニッケル・コバルト鉄合金(例えば、KOVAR)、モリブデン(Mo)、タングステン(W)、白金(Pt)、または白金・ロジウム(PtRh)合金のうちの1つから作製される箔であってもよい。加熱要素308は、一過性の液相を生成するように、精密に制御された温度を使用して、ガス/金属共晶接合を介してBeOの表面に直接接合される。他の実施形態では、加熱要素は、モリブデンを含有し、物理蒸着(PVD)プロセス(例えば、スパッタ堆積、真空蒸発等)を使用して堆積される、薄いフィルムである。
【実施例】
【0062】
(実施例1)
約4.5オームの抵抗を有し、金属化塗料から形成された加熱要素が、2インチ×2インチBeOセラミック正方形板の表面の0.040インチ下方に埋め込まれた。約6.5vdcの電圧が、加熱要素に印加された。加熱要素は、約1.44アンペアの電流を引き込み、約9Wの電力を出力した。BeOセラミック板は、触れると暖かく感じた。
【0063】
(実施例2)
金属化塗料から形成された二重ゾーン加熱要素が、約200mm(7.5インチ)の直径を有するBeO円盤の内側に埋め込まれた。第1のゾーンは、表面の約0.068インチ下方に位置し、第2のゾーンは、表面の約0.136インチ下方に位置する。第1のゾーン加熱要素が、給電され、約282℃で約501Wの電力の出力に到達した。第2のゾーン加熱要素が、次いで、給電され、第1のゾーン加熱要素が、約418Wの電力まで降下された。第2のゾーン加熱要素は、約458℃で約354Wの電力の出力に到達した。加熱要素は、高い温度抵抗係数を呈した。
【0064】
(実施例3)
約6VAC~60VACの電圧範囲が、上記の実施例1からの加熱要素に印加された。加熱要素は、4.2オームの始動抵抗を有し、室温は、76°Fであった。約60VACにおいて、加熱要素は、約592℃の最大温度および約228Wの電力出力にそれぞれ到達した。結果は、表1の中で以下に示される。
【表1-1】
【表1-2】
【0065】
図7-9では、実際のワット数(W)、抵抗(オーム、Ω)、および温度(℃)が、約6VAC~約60VACの印加された電圧に関して表1からプロットされた。
図7に見られるように、約6VAC、12VAC、18VAC、24VAC、32VAC、38VAC、および44VACの入力電圧が、プロットされた。これらの入力電圧における最大温度は、それぞれ、約60℃、105℃、160℃、205℃、250℃、375℃、および415℃であった。これらの入力電圧における最大電力出力は、それぞれ、約8W、24W、47W、67W、106W、125W、および158Wであった。
図8では、熱電対が、異なる区域に移動され、実際のワット数(W)および温度(℃)が、60VACの印加された電圧に関してプロットされた。最大温度は、約592℃であり、最大電力出力は、約276Wであった。
図9では、抵抗(オームΩ)および温度(℃)の係数が、印加された電圧に関して表1、
図7、および
図8からプロットされた。6VAC、12VAC、18VAC、24VAC、32VAC、38VAC、44VAC、および60VACの入力電圧における最高抵抗は、それぞれ、約4Ω、7Ω、8Ω、10Ω、11Ω、13Ω、13Ω、および16Ωであった。
【0066】
(実施例4)
電力が、上記の実施例2に従って説明される二重ゾーン加熱要素に供給された。約7VAC~121VACの電圧範囲が、第1および第2のゾーンにおいて2つの試験で印加された。ゾーン1、試験1のための始動抵抗は、約17.8Ωであった。ゾーン2、試験1のための始動抵抗は、約5.9Ωであった。ゾーン1、試験2において、始動抵抗は、約20.9Ωであった。最後に、ゾーン2、試験2のための始動抵抗は、約7.4Ωであった。第1および第2のゾーンにおける2つの試験の結果は、表2~表5の中で以下に示される。
【表2-1】
【表2-2】
【表2-3】
【表2-4】
【表3-1】
【表3-2】
【表3-3】
【表3-4】
【表4-1】
【表4-2】
【表4-3】
【表4-4】
【表5-1】
【表5-2】
【表5-3】
【表5-4】
【0067】
図10-14では、実際のワット数(W)、抵抗(オーム、Ω)、および温度(℃)が、約7V~121Vの印加された電圧に関して上記の表2~表5からプロットされた。
図10に見られるように、約40VAC~108VACのゾーン1、試験1のための入力電圧は、約60℃~310℃の最大温度および約87W~382Wの最大電力出力をもたらした。
図11では、約21VAC~57VACのゾーン2、試験1のための入力電圧は、約60℃~310℃の最大温度および約74W~320Wの最大電力出力をもたらした。
図12では、約13V~121Vのゾーン1、試験2のための入力電圧は、約70℃~416℃の最大温度および約7W~394Wの最大電力をもたらした。
図13では、約7V~63Vのゾーン2、試験2のための入力電圧は、約70℃~416℃の最大温度および約7W~330Wの最大電力をもたらした。
図14では、抵抗(オーム、Ω)および温度(℃)の係数が、ゾーン1からの印加された電圧(
図10、12)に関してプロットされた。抵抗は、約18Ω~37Ωであった。
【0068】
(実施例5)
2つの加熱要素タイプが、
図6に図示される実施形態に従って構築された。第1の加熱要素は、加熱要素材料としてモリブデン(Mo)箔を使用し、第2の加熱要素は、加熱要素材料としてKOVARを使用した。モリブデン(Mo)加熱要素の3つのサンプルが調製され、BeOセラミック本体への箔接着が、ポンド剪断単位で測定された。KOVAR加熱要素の6つのサンプルが調製され、BeOセラミック本体への箔接着が、ポンド剪断単位で測定された。BeO基板と接触する箔の表面積は、モリブデン(Mo)およびKOVARタイプ加熱要素サンプルの両方に関して、各側面上で約0.17in
2であった。較正されたロードセルが、室温で200kpsi/minの負荷率において圧縮力を測定するために使用された。サンプルは、剪断力をシミュレートするように、第1の板の底縁および第2の板の上縁上に装填された。異なるモリブデン(Mo)およびKOVAR加熱要素の箔接着結果は、以下の表6に示される。
【表6】
【0069】
図15では、サンプル毎の最大達成接着がプロットされた。モリブデン(Mo)加熱要素のサンプル2は、約300ポンド剪断の最大接着を達成した。KOVAR加熱要素のサンプル3-5は全て、ロードセルが測定を停止する上限である、約1,088ポンド剪断を上回る最大接着を達成した。
【0070】
本開示は、例示的実施形態を参照して説明されている。明白なこととして、修正および改変が、上述した詳細な説明を熟読および理解することに応じて、他者に想起される。本開示は、添付の特許請求の範囲またはそれらの均等物の範囲内である限りにおいて、全てのそのような修正および改変を含むものとして解釈されることが意図される。
本発明の具体的態様は以下のとおりである。
[態様1]
第1の表面および第2の表面を有する、酸化ベリリウム(BeO)セラミック本体と、
耐熱金属化層から形成され、前記酸化ベリリウムセラミック本体の前記第1の表面または前記第2の表面のいずれかに接合される、第1の加熱要素と
を備える、一体抵抗加熱器。
[態様2]
前記耐熱金属化層は、モリブデンまたはタングステンを含有する、態様1に記載の一体抵抗加熱器。
[態様3]
前記耐熱金属化層は、MoSi
2
またはモリ-マンガンを含有する、態様2に記載の一体抵抗加熱器。
[態様4]
酸化ベリリウムセラミック天板と、酸化ベリリウムセラミック基礎板とをさらに備え、前記酸化ベリリウムセラミック本体は、前記天板と前記基礎板との間に配置される、態様1に記載の一体抵抗加熱器。
[態様5]
前記BeOセラミック本体の前記第1の加熱要素に接続される加熱器端子をさらに備える、態様1に記載の一体抵抗加熱器。
[態様6]
前記第1の加熱要素を制御するための前記加熱器端子に接続される電源をさらに備える、態様5に記載の一体抵抗加熱器。
[態様7]
前記第1の加熱要素は、スクリーン印刷、ロールコーティング、またはエアブラシ法を使用して印刷される、態様1に記載の一体抵抗加熱器。
[態様8]
前記第1の加熱要素は、前記BeOセラミック本体の前記第1の表面に接合され、第2の加熱要素は、前記BeOセラミック本体の前記第2の表面に接合される、態様1に記載の一体抵抗加熱器。
[態様9]
前記BeOセラミック本体は、正方形の板、長方形の板、プラテンもしくは円盤、または管、または、中実ロッドもしくはバーの形状である、態様1に記載の一体抵抗加熱器。
[態様10]
前記第1の加熱要素は、螺旋、一連の実質的に同心の円、またはジグザグの形状でパターン化される、態様1に記載の一体抵抗加熱器。
[態様11]
前記BeOセラミック本体は、管の形態であり、第1の端子は、前記管の第1の端部上に存在し、第2の端子は、前記管の第2の端部上に存在し、前記加熱要素は、前記第1の端子に接続される第1の端部を有し、かつ前記第2の端子に接続される第2の端部を有し、前記第1の表面は、前記管の外部表面である、態様1に記載の一体抵抗加熱器。
[態様12]
酸化ベリリウムセラミック本体の第1の表面または第2の表面上に耐熱金属化塗料を塗布することにより、第1の加熱要素を形成することを含む、一体抵抗加熱器を形成する方法。
[態様13]
前記印刷は、前記加熱要素をスクリーン印刷、ロールコーティング、またはエアブラッシングすることによって行われる、態様12に記載の方法。
[態様14]
前記第1の加熱要素は、螺旋、一連の実質的に同心の円、またはジグザグの形状を有す
るパターンで形成される、態様12に記載の方法。
[態様15]
前記金属化塗料は、モリブデンまたはタングステンを含有する、態様12に記載の一体抵抗加熱器。
[態様16]
前記金属化塗料は、MoSi
2
またはモリ-マンガンを含有する、態様15に記載の一体抵抗加熱器。
[態様17]
金属箔または金属化塗料から形成される加熱要素に電流を通過させることを含み、前記加熱要素は、酸化ベリリウムセラミック本体上に位置する、加熱の方法。
[態様18]
前記セラミック本体は、円盤、正方形、プラテン、もしくは管、または中実ロッドもしくはバーの形状である、態様17に記載の方法。
[態様19]
前記加熱要素は、ニッケル合金、タングステン、モリブデン、もしくは白金および白金の合金のうちの1つを含む金属箔、または、モリブデンもしくはタングステンを含有する金属化塗料から形成される、態様17に記載の方法。
[態様20]
酸化ベリリウムを備える天板と、
酸化ベリリウムを備える基礎板と、
前記天板と前記基礎板との間に位置する加熱要素と
を備える一体抵抗加熱器。