技術分野
パルスアーク溶接におけるパルス波形を求める技術に関するものである。
発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋
しかしながら、特許文献1に記載の技術では、多数の実験を行いながら、熟練の作業によって、スパッタ量が低減されるパルス波形が求められている。このため、スパッタ量が低減されるパルス波形を求めるために、非常に大きな労力(工数)が必要となっている。
課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋
本発明の第1態様は、
パルスアーク溶接に用いられるパルス波形を探索する装置であって、
前記パルス波形を表す波形情報を生成する生成処理を実行する生成部と、
生成された前記波形情報により表されるパルス波形を用いて前記パルスアーク溶接が実行されたときに発生したスパッタ量を取得する取得処理を実行する取得部と、
データを保存するための記憶部と、
前記生成部および前記取得部に、前記生・・・ 続きを
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発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋
本発明によれば、スパッタ量が、より低減されるようなパルス波形を探索する工数を低減することができる。
この特許の権利範囲[特許請求の範囲]
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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋
【図1】
本実施形態におけるパルスアーク溶接装置の構成例を概略的に示すブロック図である。
【図2】
パルスアーク溶接装置の外観例を概略的に示す図である。
【図3】
カメラにより撮像された画像の一例を概略的に示す図である。
【図4】
パルス波形を表す波形情報の一例を概略的に示す図である。
【図5】
図4の波形情報によって表されるパルス波形を概略的に示すタイミングチャートである。
【図6】
パルス波形生成部のベイズ最適化を概略的に示し、説明する図である。
【図7】
パルス波形生成部のベイズ最適化を概略的に示し、説明する図である。
【図8】
本実施形態のパルスアーク溶接装置の動作手順例を概略的に示すフローチャートである。
【図9】
パルスアーク溶接装置の異なる動作手順を概略的に示すフローチャートである。
【図10】
パルス波形の探索が進む過程を概略的に示す図である。
10 パルスアーク溶接装置
20 溶接ロボット
100 パルス波形探索装置
140 メモリ
141 溶接履歴情報
151 スパッタ量計測部
152 パルス波形生成部
153 繰返し処理部
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