特許7196503IP Force 特許公報全文掲載

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技術分野

圧電素子およびその製造方法、液体吐出ヘッド、ならびにプリンター

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

特許文献１では、圧電体層表面の結晶面方位について考慮しておらず、圧電体層は、膜厚が大きくなると、特許文献１の観察倍率（５００倍）では確認できなかった微細なクラックが発生する可能性がある。このようなクラックが発生した圧電体層は、電圧の印加に伴う変形により亀裂進展する虞れがある。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明に係る圧電素子の一態様は、 基体の上方に設けられる第１電極と、 前記基体に接し、前記第１電極を覆って設けられる第１圧電体層と、 前記第１圧電体層上に設けられる第２圧電体層と、 前記第２圧電体層の上方に設けられる第２電極と、 を含み、 前記第１圧電体層は、カリウムおよびニオブを含み、Ａサイトの主成分がカリウムであるペロブスカイト型構造の複合酸化物を有し、 前記第２・・・　続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 本圧電素子を模式的に示す断面図。
【図2】 二次イオン質量分析法で得られる第１圧電体層および第２圧電体層の深さ方向のプロファイルを模式的に示す図。
【図3】 本圧電素子の製造方法を説明するためのフローチャート。
【図4】 本液体吐出ヘッドを模式的に示す分解斜視図。
【図5】 本液体吐出ヘッドを模式的に示す平面図。
【図6】 本液体吐出ヘッドを模式的に示す断面図。
【図7】 本プリンターを模式的に示す斜視図。
【図8】 実施例１のＸ線回折の測定結果。
【図9】 実施例２のＸ線回折の測定結果。
【図10】 実施例３のＸ線回折の測定結果。
【図11】 実施例６のＸ線回折の測定結果。
【図12】 比較例１のＸ線回折の測定結果。
【図13】 比較例２のＸ線回折の測定結果。
【図14】 実施例６のＸ線回折の測定結果。
【図15】 比較例１のＸ線回折の測定結果。
【図16】 実施例１～６および比較例１，２のＸ線回折パターンの強度の比を示す表。
【図17】 実施例６の二次イオン質量分析法の測定結果。
【図18】 比較例１の二次イオン質量分析法の測定結果。

代表図 図1本件の代表的な図

２…基体、１０…第１電極、２０…第１圧電体層、２０ａ…第１部分、２２…第２圧電体層、２２ａ…第２部分、３０…第２電極、１００…圧電素子、２００…液体吐出ヘッド、２０１…シリコン基板、２０２…リード電極、２０３…接着剤、２０４…接続配線、２１０…流路形成基板、２１１…圧力発生室、２１２…隔壁、２１３…供給路、２１４…連通路、２１５…連通部、２１６…マニホールド、２１７…供給流路、２２０…ノズルプレート、２２２…ノズル孔、２３０…振動板、２３２…酸化シリコン層、２３４…酸化ジルコニウム層、２４０…保護基板、２４２，２４４…貫通孔、２４６…開口部、２５０…回路基板、２６０…コンプライアンス基板、２６２…封止層、２６４…固定板、２６６…貫通孔、３００…プリンター、３１０…ヘッドユニット、３１２，３１４…カートリッジ、３１６…キャリッジ、３２０…装置本体、３２２…キャリッジ軸、３３０…駆動モーター、３３２…タイミングベルト、３４０…搬送ローラー、３５０…プリンターコントローラー

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