特許 7197988出願番号 特願 2018-47829
塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
公報発行日 2022年12月28
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7197988 ログイン済みの方はこのURLへ
［この特許公報を共有したい場合］あなたがログインしてこの特許公報を表示すれば、他の人はログインしなくてもこのURLで見ることができるようになります。
※ 共同出願を含む
知財ポータルサイト IP Force にログインすれば、この公報の全文を閲覧できます。 ログインはこちら ログイン・ユーザー登録
技術分野
半導体の微細加工に用いられる酸発生剤用の塩、該塩を含む酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋
のレジスト組成物によって形成されたレジストパターンでは、ＣＤ均一性（ＣＤＵ）が満足できない場合があった。
課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋
本発明は、以下の発明を含む。
［１］式（Ｉ）で表される塩。
TIFF
0007197988000004.tif
21
127
［式（Ｉ）中、
Ｑ１及びＱ２は、それぞれ独立に、・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る
発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋
本発明の塩及び／又は該塩を含む酸発生剤を含有するレジスト組成物によれば、良好なＣＤ均一性（ＣＤＵ）でレジストパターンを製造することができる。
この特許の権利範囲[特許請求の範囲]
知財ポータルサイト IP Force にログインして確認する (無料)
全ての図面はログインすると無料で閲覧できます。ログイン・ユーザー登録
［広告欄］
ログインすれば広告は減ります
ログインすれば広告は減ります