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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2023-01-06
(45)【発行日】2023-01-17
(54)【発明の名称】メチルラクタム環化合物及びその医薬用途
(51)【国際特許分類】
C07D 403/12 20060101AFI20230110BHJP
A61K 31/4155 20060101ALI20230110BHJP
A61P 43/00 20060101ALI20230110BHJP
A61P 3/10 20060101ALI20230110BHJP
【ＦＩ】
C07D403/12 CSP
A61K31/4155
A61P43/00 111
A61P3/10
【請求項の数】
6
(21)【出願番号】P 2019035140
(22)【出願日】2019-02-28
(65)【公開番号】P2019151627
(43)【公開日】2019-09-12
【審査請求日】2022-02-25
(31)【優先権主張番号】P 2018036307
(32)【優先日】2018-03-01
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(73)【特許権者】
【識別番号】000004569
【氏名又は名称】日本たばこ産業株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100145403
【弁理士】
【氏名又は名称】山尾 憲人
(74)【代理人】
【識別番号】100126778
【弁理士】
【氏名又は名称】品川 永敏
(74)【代理人】
【識別番号】100162684
【弁理士】
【氏名又は名称】呉 英燦
(72)【発明者】
【氏名】三浦 智也
(72)【発明者】
【氏名】玉谷 義憲
【審査官】谷尾 忍
(56)【参考文献】
【文献】国際公開第２０１３／０３１９２２（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特表２００９－５３４４３９（ＪＰ，Ａ）
【文献】特表２０１０－５２３５８３（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００７－３３２０３４（ＪＰ，Ａ）
【文献】国際公開第２００７／０３４２７９（ＷＯ，Ａ２）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｃ０７Ｄ ４０３／１２
Ａ６１Ｋ ３１／４１５５
ＣＡｐｌｕｓ／ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ）
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
式［Ｉ］の化合物又はその製薬上許容される塩。【化1】
【請求項2】
請求項１に記載の化合物又はその製薬上許容される塩と、製薬上許容される担体とを含む、医薬組成物。
【請求項3】
請求項１に記載の化合物又はその製薬上許容される塩を含む、糖尿病の治療剤又は予防剤。
【請求項4】
糖尿病が２型糖尿病である、請求項３に記載の治療剤又は予防剤。
【請求項5】
糖尿病の治療剤又は予防剤を製造するための請求項１に記載の化合物又はその製薬上許容される塩の使用。
【請求項6】
糖尿病が２型糖尿病である、請求項５に記載の使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、ＳＧＬＴ１阻害活性を有するメチルラクタム環化合物又はその製薬上許容される塩、それを含む医薬組成物、及びそれらの医薬用途に関する。
【背景技術】
【0002】
ＳＧＬＴ１（Ｎａ＋－グルコース共輸送担体１、Ｓｏｄｉｕｍ－Ｇｌｕｃｏｓｅ Ｃｏｔｒａｎｓｐｏｒｔｅｒ １）は小腸におけるグルコース及びガラクトースの吸収の大部分を担っていることが知られており、ヒトＳＧＬＴ１の欠損患者ではグルコース及びガラクトースの吸収が不良となることが報告されている。更に糖尿病患者では小腸ＳＧＬＴ１の発現が増加していることが確認されており、糖尿病患者における糖吸収の亢進は、この小腸ＳＧＬＴ１の高発現に起因するものと考えられる。
【0003】
これらの知見から、ＳＧＬＴ１阻害剤は、小腸からの糖の吸収を阻害することで血糖値を正常化させることが期待され、糖尿病及び高血糖に付随して起こる糖尿病性合併症に効果を示すものと考えられる。また、体内への糖の流入を抑制することで肥満症にも効果を示すものと考えられる（非特許文献１および２）。
【0004】
一般名ボグリボースは、日本国薬事法１４条の規定に基づく医薬品等の製造販売の承認を受けた医薬品である（承認番号：21600AMZ00368等）。ボグリボースは、腸管粘膜に存在する二糖類から単糖類への分解を担う二糖類水解酵素（α－グルコシダーゼ）を阻害し、腸管での糖質の消化及び吸収を阻害あるいは遅延させることにより、食後過血糖を改善する。この薬理効果が耐糖能異常における２型糖尿病の発症抑制に有効であることが知られている。
これらの知見から、ＳＧＬＴ１阻害剤により小腸からの糖の吸収を阻害し、食後過血糖を改善することが、耐糖能異常における２型糖尿病の発症抑制に有効であると考えられる。
これらの知見から、ＳＧＬＴ１阻害剤により小腸からの糖の吸収を阻害し、食後過血糖を改善することが、耐糖能異常における２型糖尿病の発症抑制に有効であると考えられる。
【0005】
ＳＧＬＴ１は心筋細胞での発現が認められる。心筋細胞へのグルコースの取り込みは通常ＧＬＵＴ１（Ｇｌｕｃｏｓｅ Ｔｒａｎｓｐｏｒｔｅｒ Ｔｙｐｅ１）及びＧＬＵＴ４（Ｇｌｕｃｏｓｅ Ｔｒａｎｓｐｏｒｔｅｒ Ｔｙｐｅ４）が担っており、ＳＧＬＴ１の関与は小さいことが知られている。しかし、家族性肥大型心筋症（グリコーゲン蓄積性の心筋症）の原因遺伝子であるＰＲＫＡＧ２（ＡＭＰＫ（ＡＭＰ－Ａｃｔｉｖａｔｅｄ Ｐｒｏｔｅｉｎ Ｋｉｎａｓｅ）のγ（gamma）２サブユニット）の変異遺伝子を導入したマウスや心筋虚血処置を行ったマウスの心筋ではＳＧＬＴ１の発現が誘導されており、これらの病態においてＳＧＬＴ１が心筋細胞へのグルコースの取り込みに寄与していることが報告されている。ＳＧＬＴ１によって取り込まれたグルコースは心筋細胞内で過剰に蓄積若しくは代謝され、細胞に障害を与えると考えられている。実際に前者のモデルでは非選択的なＳＧＬＴ阻害剤であるフロリジンの処置により、心筋におけるグリコーゲンの蓄積が抑制されることが報告されている。
これらの知見から、ＳＧＬＴ１阻害剤は心筋細胞内への過剰なグルコースの取り込みを抑制することで肥大型心筋症及び虚血性心疾患に効果を示すものと考えられる（非特許文献３および４）。
これらの知見から、ＳＧＬＴ１阻害剤は心筋細胞内への過剰なグルコースの取り込みを抑制することで肥大型心筋症及び虚血性心疾患に効果を示すものと考えられる（非特許文献３および４）。
【0006】
癌細胞においてＳＧＬＴ１は上皮増殖因子受容体（Ｅｐｉｄｅｒｍａｌ Ｇｒｏｗｔｈ Ｆａｃｔｏｒ Ｒｅｃｅｐｔｏｒ、多くの癌細胞に見られる表面タンパク質）によって安定化されている。癌細胞への栄養供給にはグルコース、乳酸、アミノ酸などのトランスポーターが関与しており、特にグルコースの輸送に関しては、ＳＧＬＴ１及びＧＬＵＴ１が癌細胞に絶えずグルコースを供給していることが知られている。長期にわたってグルコースが供給されない場合、自食作用を通じて細胞が破壊される。
これらの知見から、ＳＧＬＴ１阻害剤は癌細胞へのグルコースの供給を抑制することで、抗癌作用を示すものと考えられる（非特許文献５および６）。
これらの知見から、ＳＧＬＴ１阻害剤は癌細胞へのグルコースの供給を抑制することで、抗癌作用を示すものと考えられる（非特許文献５および６）。
【0007】
食事中の糖質は消化管内で単糖に分解され、消化管上部で吸収されるため、多くの糖が下部消化管にまで達することはない。しかし、糖吸収を遅延又は阻害する薬剤を服用したり、難消化性の多糖類を大量に摂取した場合には、未消化の糖が下部消化管に滞留することになり、下部消化管に滞留した未消化の糖が浸透圧性の下痢を引き起こす。
ＳＧＬＴ１阻害剤は糖吸収を阻害することにより、下部消化管内の単糖量を増加させる。そのため、ＳＧＬＴ１阻害剤は便秘に効果を示すものと考えられる。
ＳＧＬＴ１阻害剤は糖吸収を阻害することにより、下部消化管内の単糖量を増加させる。そのため、ＳＧＬＴ１阻害剤は便秘に効果を示すものと考えられる。
【0008】
糖尿病とは、インスリンの作用が不足することで、血糖値が高くなる病気であり、持続的な高血糖は、糖尿病性合併症（例えば、細小血管症として知られる網膜症、腎症及び神経障害、並びに大血管症として知られる脳血管障害、虚血性心疾患及び下肢閉塞性動脈硬化症）を引き起こしうる。血糖値が高くなることに伴う他の疾患として、肥満症を挙げることもできる。
糖尿病には、１型及び２型糖尿病が存在し、１型糖尿病はインスリンを分泌する膵β細胞が破壊されることでインスリン作用が不十分となって発症すると考えられており、２型糖尿病はインスリン分泌低下やインスリン抵抗性を含む複数の遺伝因子に過食、運動不足、肥満、ストレスなどの環境因子及び加齢が加わって発症すると考えられている。糖尿病の診断には、血糖値に基づいて分類される３つの型（正常型、境界型、糖尿病型）が用いられる。以下の（１）～（４）：
（１）早朝空腹時血糖値１２６ｍｇ／ｄＬ以上
（２）７５ｇＯＧＴＴ（経口グルコース負荷試験）で２時間値２００ｍｇ／ｄＬ以上
（３）随時血糖値２００ｍｇ／ｄＬ以上
（４）ＨｂＡ１ｃｇ６．５％以上
のいずれかが確認された場合は糖尿病型と判定され、糖尿病又は糖尿病の疑いがある（非特許文献７）。
糖尿病には、１型及び２型糖尿病が存在し、１型糖尿病はインスリンを分泌する膵β細胞が破壊されることでインスリン作用が不十分となって発症すると考えられており、２型糖尿病はインスリン分泌低下やインスリン抵抗性を含む複数の遺伝因子に過食、運動不足、肥満、ストレスなどの環境因子及び加齢が加わって発症すると考えられている。糖尿病の診断には、血糖値に基づいて分類される３つの型（正常型、境界型、糖尿病型）が用いられる。以下の（１）～（４）：
（１）早朝空腹時血糖値１２６ｍｇ／ｄＬ以上
（２）７５ｇＯＧＴＴ（経口グルコース負荷試験）で２時間値２００ｍｇ／ｄＬ以上
（３）随時血糖値２００ｍｇ／ｄＬ以上
（４）ＨｂＡ１ｃｇ６．５％以上
のいずれかが確認された場合は糖尿病型と判定され、糖尿病又は糖尿病の疑いがある（非特許文献７）。
【0009】
上記（２）で用いられるＯＧＴＴは、糖尿病を診断する手法のひとつである。一般に、ヒトにおいては、絶食の後、７５ｇグルコースを含む溶液を服用させ、グルコース服用から一定時間後の血糖値が２００ｍｇ／ｄＬ以上であれば糖尿病と診断される（非特許文献７）。よって、ＯＧＴＴは糖尿病診断の指標であり、ＯＧＴＴにおいてグルコース負荷された被検体の血糖値を低下させることのできる化合物は、糖尿病に効果を示すものと考えられる。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【0010】
【文献】Am J Physiol Gastrointest Liver Physiol. 2002; 282(2):G241-8
【文献】Nature. 1991; 350(6316):354-6
【文献】J Mol Cell Cardiol. 2010; 49(4):683-92
【文献】Cardiovasc Res. 2009; 84(1):111-8
【文献】Cancer Cell. 2008, 13: 385-93
【文献】Pharmacol Ther. 2009, 121: 29-40
【文献】糖尿病治療ガイド2016-2017
【発明の概要】
【0011】
ＳＧＬＴ１阻害活性を有し、医薬として有用なメチルラクタム環化合物又はその製薬上許容される塩及びそれを含有する医薬組成物並びにそれらの医薬用途が提供される。
【0012】
本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果、ある特定のメチルラクタム環化合物を見出し、本発明を完成した。
【0013】
すなわち、ある態様において、式［Ｉ］の化合物又はその製薬上許容される塩及びその医薬用途が提供される。
【化1】
【0014】
式［Ｉ］の化合物又はその製薬上許容される塩は、ＳＧＬＴ１阻害活性を有することから、ＳＧＬＴ１活性の調節により改善が期待され得る各種疾患又は状態の治療及び／又は予防に有用であり得る。式［Ｉ］の化合物又はその製薬上許容される塩はまた、血糖値が高くなることにより引き起こされ得る各種疾患又は状態の治療及び／又は予防にも有用であり得る。
【図面の簡単な説明】
【0015】
【発明を実施するための形態】
【0016】
本発明は、以下に例示する具体的態様を含む。
項１． 式［Ｉ］の化合物又はその製薬上許容される塩。
項２． 項１に記載の化合物又はその製薬上許容される塩と、製薬上許容される担体とを含む、医薬組成物。
項３． 項１に記載の化合物又はその製薬上許容される塩を含む、ＳＧＬＴ１阻害剤。
項４． 項１に記載の化合物又はその製薬上許容される塩を含む、糖尿病の治療剤又は予防剤。
項５． 糖尿病が２型糖尿病である、項４に記載の治療剤又は予防剤。
項６． 治療上有効量の、項１に記載の化合物又はその製薬上許容される塩を哺乳動物に投与することを含む、ＳＧＬＴ１を阻害する方法。
項７． 治療上有効量の、項１に記載の化合物又はその製薬上許容される塩を哺乳動物に投与することを含む、糖尿病を治療又は予防する方法。
項８． 糖尿病が２型糖尿病である、項７に記載の方法。
項９． ＳＧＬＴ１阻害剤を製造するための項１に記載の化合物又はその製薬上許容される塩の使用。
項１０． 糖尿病の治療剤又は予防剤を製造するための項１に記載の化合物又はその製薬上許容される塩の使用。
項１１． 糖尿病が２型糖尿病である、項１０に記載の使用。
項１２． ＳＧＬＴ１の阻害に用いるための項１に記載の化合物又はその製薬上許容される塩。
項１３． 糖尿病の治療又は予防に用いるための項１に記載の化合物又はその製薬上許容される塩。
項１４． 糖尿病が２型糖尿病である、項１３に記載の化合物又はその製薬上許容される塩。
項１５． 項２に記載の医薬組成物と、該医薬組成物を糖尿病の治療及び／又は予防に使用し得るか又は使用すべきであることを記載した該医薬組成物に関する記載物とを含む、商業パッケージ。
項１６． 項２に記載の医薬組成物と、当該医薬組成物を糖尿病の治療及び／又は予防に使用し得るか又は使用すべきであることを記載した当該医薬組成物に関する記載物とを含む、キット。
項１． 式［Ｉ］の化合物又はその製薬上許容される塩。
【化2】
項３． 項１に記載の化合物又はその製薬上許容される塩を含む、ＳＧＬＴ１阻害剤。
項４． 項１に記載の化合物又はその製薬上許容される塩を含む、糖尿病の治療剤又は予防剤。
項５． 糖尿病が２型糖尿病である、項４に記載の治療剤又は予防剤。
項６． 治療上有効量の、項１に記載の化合物又はその製薬上許容される塩を哺乳動物に投与することを含む、ＳＧＬＴ１を阻害する方法。
項７． 治療上有効量の、項１に記載の化合物又はその製薬上許容される塩を哺乳動物に投与することを含む、糖尿病を治療又は予防する方法。
項８． 糖尿病が２型糖尿病である、項７に記載の方法。
項９． ＳＧＬＴ１阻害剤を製造するための項１に記載の化合物又はその製薬上許容される塩の使用。
項１０． 糖尿病の治療剤又は予防剤を製造するための項１に記載の化合物又はその製薬上許容される塩の使用。
項１１． 糖尿病が２型糖尿病である、項１０に記載の使用。
項１２． ＳＧＬＴ１の阻害に用いるための項１に記載の化合物又はその製薬上許容される塩。
項１３． 糖尿病の治療又は予防に用いるための項１に記載の化合物又はその製薬上許容される塩。
項１４． 糖尿病が２型糖尿病である、項１３に記載の化合物又はその製薬上許容される塩。
項１５． 項２に記載の医薬組成物と、該医薬組成物を糖尿病の治療及び／又は予防に使用し得るか又は使用すべきであることを記載した該医薬組成物に関する記載物とを含む、商業パッケージ。
項１６． 項２に記載の医薬組成物と、当該医薬組成物を糖尿病の治療及び／又は予防に使用し得るか又は使用すべきであることを記載した当該医薬組成物に関する記載物とを含む、キット。
【0017】
「製薬上許容される塩」とは、当技術分野で知られている、過度の毒性を伴わない塩であればいかなる塩でもよい。具体的には、無機酸との塩、有機酸との塩、無機塩基との塩、及び有機塩基との塩等が挙げられる。様々な形態の製薬上許容される塩が当分野で周知であり、例えば以下の参考文献に記載されている：
(a) Bergeら, J. Pharm. Sci., 66, p1～19（1977）、
(b) Stahlら, 「Handbook of Pharmaceutical Sait: Properties, Selection, and Use」（Wiley-VCH, Weinheim, Germany, 2002）、
(c) Paulekuhnら, J. Med. Chem., 50, p6665-6672 (2007)。
自体公知の方法に従って、式［Ｉ］の化合物と、無機酸、有機酸、無機塩基又は有機塩基とを反応させることにより、その製薬上許容される塩を各々得ることができる。
(a) Bergeら, J. Pharm. Sci., 66, p1～19（1977）、
(b) Stahlら, 「Handbook of Pharmaceutical Sait: Properties, Selection, and Use」（Wiley-VCH, Weinheim, Germany, 2002）、
(c) Paulekuhnら, J. Med. Chem., 50, p6665-6672 (2007)。
自体公知の方法に従って、式［Ｉ］の化合物と、無機酸、有機酸、無機塩基又は有機塩基とを反応させることにより、その製薬上許容される塩を各々得ることができる。
【0018】
無機酸との塩としては、フッ化水素酸、塩化水素酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硝酸、リン酸又は硫酸との塩が例示される。好ましくは、塩化水素酸、硝酸、硫酸、リン酸又は臭化水素酸との塩が挙げられる。
有機酸との塩としては、酢酸、アジピン酸、アルギン酸、４－アミノサリチル酸、アンヒドロメチレンクエン酸、安息香酸、ベンゼンスルホン酸、エデト酸カルシウム、ショウノウ酸、カンファ－１０－スルホン酸、炭酸、クエン酸、エデト酸、エタン－１，２－ジスルホン酸、ドデシル硫酸、エタンスルホン酸、フマル酸、グルコヘプトン酸、グルコン酸、グルクロン酸、グルコヘプトン酸、グリコリルアルサニル酸、ヘキシルレソルシン酸、ヒドロキシ－ナフトエ酸、２－ヒドロキシ－１－エタンスルホン酸、乳酸、ラクトビオン酸、リンゴ酸、マレイン酸、マンデル酸、メタンスルホン酸、メチル硫酸、メチル硝酸、メチレンビス（サリチル酸）、ガラクタル酸、ナフタレン－２－スルホン酸、２－ナフトエ酸、１，５－ナフタレンジスルホン酸、オレイン酸、シュウ酸、パモ酸、パントテン酸、ペクチン酸、ピクリン酸、プロピオン酸、ポリガラクツロン酸、サリチル酸、ステアリン酸、コハク酸、タンニン酸、酒石酸、テオクル酸、チオシアン酸、トリフルオロ酢酸、ｐ－トルエンスルホン酸、ウンデカン酸、アスパラギン酸又はグルタミン酸との塩が例示される。好ましくは、シュウ酸、マレイン酸、クエン酸、フマル酸、乳酸、リンゴ酸、コハク酸、酒石酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、安息香酸、グルクロン酸、オレイン酸、パモ酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸又は２－ヒドロキシ－１－エタンスルホン酸との塩が挙げられる。
有機酸との塩としては、酢酸、アジピン酸、アルギン酸、４－アミノサリチル酸、アンヒドロメチレンクエン酸、安息香酸、ベンゼンスルホン酸、エデト酸カルシウム、ショウノウ酸、カンファ－１０－スルホン酸、炭酸、クエン酸、エデト酸、エタン－１，２－ジスルホン酸、ドデシル硫酸、エタンスルホン酸、フマル酸、グルコヘプトン酸、グルコン酸、グルクロン酸、グルコヘプトン酸、グリコリルアルサニル酸、ヘキシルレソルシン酸、ヒドロキシ－ナフトエ酸、２－ヒドロキシ－１－エタンスルホン酸、乳酸、ラクトビオン酸、リンゴ酸、マレイン酸、マンデル酸、メタンスルホン酸、メチル硫酸、メチル硝酸、メチレンビス（サリチル酸）、ガラクタル酸、ナフタレン－２－スルホン酸、２－ナフトエ酸、１，５－ナフタレンジスルホン酸、オレイン酸、シュウ酸、パモ酸、パントテン酸、ペクチン酸、ピクリン酸、プロピオン酸、ポリガラクツロン酸、サリチル酸、ステアリン酸、コハク酸、タンニン酸、酒石酸、テオクル酸、チオシアン酸、トリフルオロ酢酸、ｐ－トルエンスルホン酸、ウンデカン酸、アスパラギン酸又はグルタミン酸との塩が例示される。好ましくは、シュウ酸、マレイン酸、クエン酸、フマル酸、乳酸、リンゴ酸、コハク酸、酒石酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、安息香酸、グルクロン酸、オレイン酸、パモ酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸又は２－ヒドロキシ－１－エタンスルホン酸との塩が挙げられる。
【0019】
無機塩基との塩としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、バリウム、アルミニウム、亜鉛、ビスマス又はアンモニウムとの塩が例示される。好ましくは、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム又は亜鉛との塩が挙げられる。
有機塩基との塩としては、アレコリン、ベタイン、コリン、クレミゾール、エチレンジアミン、Ｎ－メチルグルカミン、Ｎ－ベンジルフェネチルアミン、トリス（ヒドロキシメチル）メチルアミン、アルギニン又はリジンとの塩が例示される。好ましくは、トリス（ヒドロキシメチル）メチルアミン、Ｎ－メチルグルカミン又はリジンとの塩が挙げられる。
有機塩基との塩としては、アレコリン、ベタイン、コリン、クレミゾール、エチレンジアミン、Ｎ－メチルグルカミン、Ｎ－ベンジルフェネチルアミン、トリス（ヒドロキシメチル）メチルアミン、アルギニン又はリジンとの塩が例示される。好ましくは、トリス（ヒドロキシメチル）メチルアミン、Ｎ－メチルグルカミン又はリジンとの塩が挙げられる。
【0020】
式［Ｉ］の化合物又はその製薬上許容される塩は溶媒和物として存在する場合がある。「溶媒和物」とは、式［Ｉ］の化合物又はその製薬上許容される塩に、溶媒の分子が配位したものであり、水和物も包含される。溶媒和物は、製薬上許容される溶媒和物が好ましく、式［Ｉ］の化合物又はその製薬上許容される塩の水和物、エタノール和物、及びジメチルスルホキシド和物等が挙げられる。具体的には、式［Ｉ］の化合物の半水和物、１水和物、２水和物又は１エタノール和物、或いは式［Ｉ］の化合物のナトリウム塩の１水和物又は２塩酸塩の２／３エタノール和物等が挙げられる。これらの溶媒和物は、公知の方法に従って得ることができる。
【0021】
式［Ｉ］の化合物は、同位体元素（２Ｈ、３Ｈ、１４Ｃ、３５Ｓ等）で標識されていてもよい。
【0022】
式［Ｉ］の化合物又はその製薬上許容される塩は、実質的に精製された、式［Ｉ］の化合物又はその製薬上許容される塩が好ましい。さらに好ましくは、８０％以上の純度に精製された、式［Ｉ］の化合物又はその製薬上許容される塩である。
【0023】
式［Ｉ］の化合物又はその製薬上許容される塩は、ＳＧＬＴ１阻害活性を有することから、ＳＧＬＴ１活性の調節により改善が期待され得る各種疾患又は状態、例えば、糖尿病（例えば、１型糖尿病及び２型糖尿病）、肥満症、糖尿病性合併症（例えば、細小血管症として知られる網膜症、腎症及び神経障害、並びに大血管症として知られる脳血管障害、虚血性心疾患及び下肢閉塞性動脈硬化症）、肥大型心筋症、虚血性心疾患、癌及び便秘の治療及び／又は予防に有用であり得る。
【0024】
「ＳＧＬＴ１を阻害する」とは、ＳＧＬＴ１の機能を阻害してその活性を消失又は減弱することを意味し、例えば、後述する試験例１の条件に基づいて、ＳＧＬＴ１の機能を阻害することを意味する。「ＳＧＬＴ１を阻害する」とは、好ましくは、「ヒトＳＧＬＴ１を阻害する」である。機能の阻害又は活性の消失若しくは減弱は、好ましくはヒトの臨床的適応で行われる。
【0025】
「ＳＧＬＴ１阻害剤」とは、ＳＧＬＴ１を阻害する物質であれば何でもよく、低分子化合物、核酸、ポリペプチド、タンパク質、抗体、ワクチン等であってよい。「ＳＧＬＴ１阻害」とは、好ましくは「ヒトＳＧＬＴ１阻害剤」である。
【0026】
式［Ｉ］の化合物又はその製薬上許容される塩はまた、血糖値が高くなることにより引き起こされ得る各種疾患又は状態の治療及び／又は予防にも有用であり得る。
「血糖値が高くなることにより引き起こされ得る各種疾患又は状態」としては、例えば、糖尿病（例えば、１型糖尿病及び２型糖尿病）、肥満症、及び糖尿病性合併症（例えば、細小血管症として知られる網膜症、腎症及び神経障害、並びに大血管症として知られる脳血管障害、虚血性心疾患及び下肢閉塞性動脈硬化症）が挙げられる。
「血糖値が高くなることにより引き起こされ得る各種疾患又は状態」としては、例えば、糖尿病（例えば、１型糖尿病及び２型糖尿病）、肥満症、及び糖尿病性合併症（例えば、細小血管症として知られる網膜症、腎症及び神経障害、並びに大血管症として知られる脳血管障害、虚血性心疾患及び下肢閉塞性動脈硬化症）が挙げられる。
【0027】
本明細書において「治療」とは、症状の改善、重症化の防止、寛解の維持、再燃の防止、及び再発の防止を含む。
本明細書において「予防」とは、症状の発症を抑制することを含む。例えば、「糖尿病の予防」とは、耐糖能異常における２型糖尿病の発症の抑制を含む。
本明細書において「予防」とは、症状の発症を抑制することを含む。例えば、「糖尿病の予防」とは、耐糖能異常における２型糖尿病の発症の抑制を含む。
【0028】
本明細書における医薬組成物は、医薬製剤の技術分野において公知の方法に従って、治療上有効量の式［Ｉ］の化合物又はその製薬上許容される塩を、少なくとも１種以上の製薬上許容される担体等と、適宜、混合等することによって製造してもよい。該医薬組成物中の式［Ｉ］の化合物又はその製薬上許容される塩の含量は、剤形、投与量等により異なるが、例えば、組成物全体の０．１から１００重量％である。
【0029】
式［Ｉ］の化合物又はその製薬上許容される塩の剤形としては、錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤、トローチ剤、シロップ剤、乳剤、懸濁剤等の経口剤、及び外用剤、坐剤、注射剤、点眼剤、経鼻剤、経肺剤等の非経口剤が挙げられる。
【0030】
「製薬上許容される担体」としては、製剤素材として慣用の各種有機又は無機担体物質が挙げられ、固形製剤における賦形剤、崩壊剤、結合剤、流動化剤、滑沢剤等、及び液状製剤における溶剤、溶解補助剤、懸濁化剤、等張化剤、緩衝剤、無痛化剤等及び半固形製剤における基剤、乳化剤、湿潤剤、安定剤、安定化剤、分散剤、可塑剤、ｐＨ調節剤、吸収促進剤、ゲル化剤、防腐剤、充填剤、溶解剤、溶解補助剤、懸濁化剤等が挙げられる。更に必要に応じて、保存剤、抗酸化剤、着色剤、甘味剤等の添加物を追加してもよい。
【0031】
「賦形剤」としては、乳糖、白糖、Ｄ－マンニトール、Ｄ－ソルビトール、トウモロコシデンプン、デキストリン、微結晶セルロース、結晶セルロース、カルメロース、カルメロースカルシウム、カルボキシメチルスターチナトリウム、低置換度ヒドロキシプロピルセルロース、及びアラビアゴム等が挙げられる。
「崩壊剤」としては、カルメロース、カルメロースカルシウム、カルメロースナトリウム、カルボキシメチルスターチナトリウム、クロスカルメロースナトリウム、クロスポビドン、低置換度ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、及び結晶セルロース等が挙げられる。
「結合剤」としては、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ポビドン、結晶セルロース、白糖、デキストリン、デンプン、ゼラチン、カルメロースナトリウム、及びアラビアゴム等が挙げられる。
「流動化剤」としては、軽質無水ケイ酸、及びステアリン酸マグネシウム等が挙げられる。
「滑沢剤」としては、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム、及びタルク等が挙げられる。
「溶剤」としては、精製水、エタノール、プロピレングリコール、マクロゴール、ゴマ油、トウモロコシ油、及びオリーブ油等が挙げられる。
「溶解補助剤」としては、プロピレングリコール、Ｄ－マンニトール、安息香酸ベンジル、エタノール、トリエタノールアミン、炭酸ナトリウム、及びクエン酸ナトリウム等が挙げられる。
「懸濁化剤」としては、塩化ベンザルコニウム、カルメロース、ヒドロキシプロピルセルロース、プロピレングリコール、ポビドン、メチルセルロース、及びモノステアリン酸グリセリン等が挙げられる。
「等張化剤」としては、ブドウ糖、Ｄ－ソルビトール、塩化ナトリウム、及びＤ－マンニトール等が挙げられる。
「緩衝剤」としては、リン酸水素ナトリウム、酢酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、及びクエン酸ナトリウム等が挙げられる。
「無痛化剤」としては、ベンジルアルコール等が挙げられる。
「基剤」としては、水、動植物油（オリーブ油、トウモロコシ油、ラッカセイ油、ゴマ油、ヒマシ油等）、低級アルコール類（エタノール、プロパノール、プロピレングリコール、１，３－ブチレングリコール、フェノール等）、高級脂肪酸及びそのエステル、ロウ類、高級アルコール、多価アルコール、炭化水素類（白色ワセリン、流動パラフィン、パラフィン等）、親水ワセリン、精製ラノリン、吸水軟膏、加水ラノリン、親水軟膏、デンプン、プルラン、アラビアガム、トラガカントガム、ゼラチン、デキストラン、セルロース誘導体（メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等）、合成高分子（カルボキシビニルポリマー、ポリアクリル酸ナトリウム、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等）、プロピレングリコール、マクロゴール（マクロゴール２００～６００等）、及びそれらの２種以上の組合せが挙げられる。
「保存剤」としては、パラオキシ安息香酸エチル、クロロブタノール、ベンジルアルコール、デヒドロ酢酸ナトリウム、及びソルビン酸等が挙げられる。
「抗酸化剤」としては、亜硫酸ナトリウム、及びアスコルビン酸等が挙げられる。
「着色剤」としては、食用色素（食用赤色２号又は３号、食用黄色４号又は５号等）、及びβ－カロテン等が挙げられる。
「甘味剤」としては、サッカリンナトリウム、グリチルリチン酸二カリウム、及びアスパルテーム等が挙げられる。
「崩壊剤」としては、カルメロース、カルメロースカルシウム、カルメロースナトリウム、カルボキシメチルスターチナトリウム、クロスカルメロースナトリウム、クロスポビドン、低置換度ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、及び結晶セルロース等が挙げられる。
「結合剤」としては、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ポビドン、結晶セルロース、白糖、デキストリン、デンプン、ゼラチン、カルメロースナトリウム、及びアラビアゴム等が挙げられる。
「流動化剤」としては、軽質無水ケイ酸、及びステアリン酸マグネシウム等が挙げられる。
「滑沢剤」としては、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム、及びタルク等が挙げられる。
「溶剤」としては、精製水、エタノール、プロピレングリコール、マクロゴール、ゴマ油、トウモロコシ油、及びオリーブ油等が挙げられる。
「溶解補助剤」としては、プロピレングリコール、Ｄ－マンニトール、安息香酸ベンジル、エタノール、トリエタノールアミン、炭酸ナトリウム、及びクエン酸ナトリウム等が挙げられる。
「懸濁化剤」としては、塩化ベンザルコニウム、カルメロース、ヒドロキシプロピルセルロース、プロピレングリコール、ポビドン、メチルセルロース、及びモノステアリン酸グリセリン等が挙げられる。
「等張化剤」としては、ブドウ糖、Ｄ－ソルビトール、塩化ナトリウム、及びＤ－マンニトール等が挙げられる。
「緩衝剤」としては、リン酸水素ナトリウム、酢酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、及びクエン酸ナトリウム等が挙げられる。
「無痛化剤」としては、ベンジルアルコール等が挙げられる。
「基剤」としては、水、動植物油（オリーブ油、トウモロコシ油、ラッカセイ油、ゴマ油、ヒマシ油等）、低級アルコール類（エタノール、プロパノール、プロピレングリコール、１，３－ブチレングリコール、フェノール等）、高級脂肪酸及びそのエステル、ロウ類、高級アルコール、多価アルコール、炭化水素類（白色ワセリン、流動パラフィン、パラフィン等）、親水ワセリン、精製ラノリン、吸水軟膏、加水ラノリン、親水軟膏、デンプン、プルラン、アラビアガム、トラガカントガム、ゼラチン、デキストラン、セルロース誘導体（メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等）、合成高分子（カルボキシビニルポリマー、ポリアクリル酸ナトリウム、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等）、プロピレングリコール、マクロゴール（マクロゴール２００～６００等）、及びそれらの２種以上の組合せが挙げられる。
「保存剤」としては、パラオキシ安息香酸エチル、クロロブタノール、ベンジルアルコール、デヒドロ酢酸ナトリウム、及びソルビン酸等が挙げられる。
「抗酸化剤」としては、亜硫酸ナトリウム、及びアスコルビン酸等が挙げられる。
「着色剤」としては、食用色素（食用赤色２号又は３号、食用黄色４号又は５号等）、及びβ－カロテン等が挙げられる。
「甘味剤」としては、サッカリンナトリウム、グリチルリチン酸二カリウム、及びアスパルテーム等が挙げられる。
【0032】
本明細書における医薬組成物は、ヒト以外の哺乳動物（マウス、ラット、ハムスター、モルモット、ウサギ、ネコ、イヌ、ブタ、ウシ、ウマ、ヒツジ、サル等）及びヒトに対して、経口的又は非経口的（局所、直腸、静脈投与、筋肉内、皮下等）に投与することができる。投与量は、投与対象、疾患、症状、剤形、投与ルート等により異なるが、例えば、成人患者に経口投与する場合の投与量は、有効成分である式［Ｉ］の化合物として、１日あたり、通常約０．０１ｍｇ～約１ｇの範囲である。これらの量を１回から数回に分けて投与することができる。
【0033】
式［Ｉ］の化合物又はその製薬上許容される塩を有効成分又は活性剤として含有する医薬組成物と、該医薬組成物を治療及び／又は予防に使用し得るか又は使用すべきであることを記載した該医薬組成物に関する記載物とを含む、キット（投与、治療及び／又は予防キット等）、パッケージ（包装物等）及び薬剤セット（及び／又は容器）もまた有用である。このようなキット、パッケージ及び薬剤セットは、上記医薬組成物又は上記医薬組成物に用いるための１以上の有効成分及び他の薬剤又は薬物（又は成分）が充填された１以上の容器を備えていてもよい。このようなキット、パッケージ及び薬剤セットの例としては、対象疾患の治療及び／又は予防に適切に向けられた商業用キット、商業用パッケージ及び商業用薬剤セットが挙げられる。このようなキット、パッケージ及び薬剤セットに含まれる記載物としては、医薬又は生物学的製品の製造、使用又は販売を規制する政府機関により指示された形態の注意書又は添付文書であって、ヒトへの投与に関連した製品の製造、使用又は販売に関する該政府機関の承認を示す注意書又は添付文書が挙げられる。上記キット、パッケージ及び薬剤セットには、包装された製品も包含され、また、適切な投与工程（ステップ）のために構成された構造物を包含してもよいし、対象疾患の治療及び／又は予防などを含む、より好ましい医学上の治療及び／又は予防を達成できるようにして構成された構造物を包含してもよい。
【0034】
式［Ｉ］の化合物又はその製薬上許容される塩の製造方法を以下に説明する。しかしながら、式［Ｉ］の化合物又はその製薬上許容される塩の製造方法は、これらの製造方法に限定されるものではない。
各工程で得られる化合物は、必要に応じて、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィー等の公知の方法で単離及び／又は精製することができるが、場合によっては、単離及び／又は精製せず次の工程に進むことができる。
本明細書において、室温とは温度を制御していない状態の温度を指し、一つの態様として１℃から４０℃が挙げられる。
各工程で得られる化合物は、必要に応じて、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィー等の公知の方法で単離及び／又は精製することができるが、場合によっては、単離及び／又は精製せず次の工程に進むことができる。
本明細書において、室温とは温度を制御していない状態の温度を指し、一つの態様として１℃から４０℃が挙げられる。
【0035】
［製造方法Ａ］
式［Ｉ］の化合物は、以下のスキームで示される製造方法Ａ１又はＡ２により製造することができる。
製造方法Ａ１
式［Ｉ］の化合物は、以下のスキームで示される製造方法Ａ１又はＡ２により製造することができる。
製造方法Ａ１
【化3】
【0036】
（工程Ａ１－１）
式［Ｉ］の化合物は、式［１］の化合物又はその塩と式［２］の化合物又はその塩を、溶媒中、縮合剤及び添加剤存在下、反応させることにより製造することができる。
縮合剤としては、例えばジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、１－エチル－３－（３－ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＷＳＣ・ＨＣｌ）、ジイソプロピルカルボジイミド、１，１’－カルボニルジイミダゾール（ＣＤＩ）、Ｏ－（７－アザベンゾトリアゾール－１－イル）－Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルウロニウムヘキサフルオロフォスフェート（ＨＡＴＵ）、｛｛［（１－シアノ－２－エトキシ－２－オキソエチリデン）アミノ］オキシ｝－４－モルホリノメチレン｝ジメチルアンモニウムヘキサフルオロリン酸塩（ＣＯＭＵ）、塩化４－（４，６－ジメトキシ－１，３，５－トリアジン－２－イル）－４－メチルモルホリニウム・ｎ水和物（ＤＭＴ－ＭＭ）、ヘキサフルオロリン酸（ベンゾトリアゾール－１－イルオキシ）トリピロリジノホスホニウム（ＰｙＢＯＰ）、ジフェニルホスホリルアジド、及び無水プロピルホスホン酸が例示される。
添加剤としては、例えば１－ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢｔ）、１－ヒドロキシ－７－アザベンゾトリアゾール（ＨＯＡｔ）、Ｎ－ヒドロキシコハク酸イミド（ＨＯＳｕ）、４－ジメチルアミノピリジン、及び１－メチルイミダゾールが例示される。
溶媒としては、例えばクロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒；テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒；ピリジン、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド等の極性溶媒；及びこれらの混合溶媒が例示される。
反応温度は、例えば０℃から１００℃である。
式［１］の化合物の塩を用いる場合、塩基存在下、本反応を実施すればよい。塩基としては、例えばトリエチルアミン等の有機塩基、及び炭酸ナトリウム等のアルカリ金属塩が例示される。
式［Ｉ］の化合物は、式［１］の化合物又はその塩と式［２］の化合物又はその塩を、溶媒中、縮合剤及び添加剤存在下、反応させることにより製造することができる。
縮合剤としては、例えばジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、１－エチル－３－（３－ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＷＳＣ・ＨＣｌ）、ジイソプロピルカルボジイミド、１，１’－カルボニルジイミダゾール（ＣＤＩ）、Ｏ－（７－アザベンゾトリアゾール－１－イル）－Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルウロニウムヘキサフルオロフォスフェート（ＨＡＴＵ）、｛｛［（１－シアノ－２－エトキシ－２－オキソエチリデン）アミノ］オキシ｝－４－モルホリノメチレン｝ジメチルアンモニウムヘキサフルオロリン酸塩（ＣＯＭＵ）、塩化４－（４，６－ジメトキシ－１，３，５－トリアジン－２－イル）－４－メチルモルホリニウム・ｎ水和物（ＤＭＴ－ＭＭ）、ヘキサフルオロリン酸（ベンゾトリアゾール－１－イルオキシ）トリピロリジノホスホニウム（ＰｙＢＯＰ）、ジフェニルホスホリルアジド、及び無水プロピルホスホン酸が例示される。
添加剤としては、例えば１－ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢｔ）、１－ヒドロキシ－７－アザベンゾトリアゾール（ＨＯＡｔ）、Ｎ－ヒドロキシコハク酸イミド（ＨＯＳｕ）、４－ジメチルアミノピリジン、及び１－メチルイミダゾールが例示される。
溶媒としては、例えばクロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒；テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒；ピリジン、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド等の極性溶媒；及びこれらの混合溶媒が例示される。
反応温度は、例えば０℃から１００℃である。
式［１］の化合物の塩を用いる場合、塩基存在下、本反応を実施すればよい。塩基としては、例えばトリエチルアミン等の有機塩基、及び炭酸ナトリウム等のアルカリ金属塩が例示される。
【0037】
式［Ｉ］の化合物はまた、溶媒中、ハロゲン化剤を用いて式［２］の化合物をカルボン酸ハロゲン化物に変換した後、塩基存在下、式［１］の化合物と反応させる方法によっても製造することができる。
反応に用いるハロゲン化剤としては、例えば塩化オキサリル、及び塩化チオニルが例示される。好ましいハロゲン化剤は、塩化オキサリルである。
反応に用いる塩基としては、例えばピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基；及び炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム等のアルカリ金属塩が例示される。好ましい塩基は、ピリジンである。
溶媒としては、例えばクロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒；シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒；トルエン等の炭化水素系溶媒；及びこれらと水との混合溶媒が例示される。好ましい溶媒は、クロロホルムである。
反応温度は、例えば０℃から８０℃であり、好ましくは０℃から６０℃である。
カルボン酸ハロゲン化物の製造においては、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミドを添加剤として加えてもよい。
反応に用いるハロゲン化剤としては、例えば塩化オキサリル、及び塩化チオニルが例示される。好ましいハロゲン化剤は、塩化オキサリルである。
反応に用いる塩基としては、例えばピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基；及び炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム等のアルカリ金属塩が例示される。好ましい塩基は、ピリジンである。
溶媒としては、例えばクロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒；シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒；トルエン等の炭化水素系溶媒；及びこれらと水との混合溶媒が例示される。好ましい溶媒は、クロロホルムである。
反応温度は、例えば０℃から８０℃であり、好ましくは０℃から６０℃である。
カルボン酸ハロゲン化物の製造においては、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミドを添加剤として加えてもよい。
【0038】
製造方法Ａ２
［式中、ＰＮ１はアミノ基の保護基である。好ましいＰＮ１は、２，４－ジメトキシベンジル基である。］
【化4】
【0039】
（工程Ａ２－１）
式［４］の化合物は、製造方法Ａ１工程Ａ１－１に従って、式［１］の化合物又はその塩及び式［３］の化合物又はその塩から製造することができる。
式［４］の化合物は、製造方法Ａ１工程Ａ１－１に従って、式［１］の化合物又はその塩及び式［３］の化合物又はその塩から製造することができる。
【0040】
（工程Ａ２－２）
式［Ｉ］の化合物又はその塩は、式［４］の化合物のＰＮ１を脱保護反応で除去することにより製造することができる。脱保護反応は、ＰＮ１の種類に応じて適した条件で実施すればよい。
例えば、ＰＮ１が２，４－ジメトキシベンジル基である場合は、式［Ｉ］の化合物又はその塩は、溶媒中、添加剤存在下、酸と反応させることにより、製造することができる。
酸としては、例えばメタンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸及びトリフルオロ酢酸が例示される。好ましい酸は、トリフルオロ酢酸である。
添加剤としては、例えばアニソール及びトリエチルシランが例示される。好ましい添加剤は、アニソールである。
溶媒としては、例えばジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、トルエン等の炭化水素系溶媒、水、及びこれらの混合溶媒が例示される。トリフルオロ酢酸等の有機酸を溶媒として用いてもよい。
反応温度は、例えば０℃から１３０℃であり、好ましくは２５℃から８０℃である。
本工程において、酸を用いる場合、式［５］の化合物
又はその塩が得られる。式［Ｉ］の化合物又はその塩は、公知の方法によって、式［５］の化合物又はその塩の水酸基をｔｅｒｔ－ブトキシ基に変換することにより製造することができる。
例えば、式［Ｉ］の化合物又はその塩は、過塩素酸マグネシウムの存在下、式［５］の化合物又はその塩と二炭酸ジ－ｔｅｒｔ－ブチルと反応させることにより、製造することができる。
溶媒としては、例えばクロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒、及びテトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒が例示される。好ましい溶媒は、クロロホルムである。
反応温度は、例えば０℃から１００℃であり、好ましくは室温から７０℃である。
式［Ｉ］の化合物又はその塩は、式［４］の化合物のＰＮ１を脱保護反応で除去することにより製造することができる。脱保護反応は、ＰＮ１の種類に応じて適した条件で実施すればよい。
例えば、ＰＮ１が２，４－ジメトキシベンジル基である場合は、式［Ｉ］の化合物又はその塩は、溶媒中、添加剤存在下、酸と反応させることにより、製造することができる。
酸としては、例えばメタンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸及びトリフルオロ酢酸が例示される。好ましい酸は、トリフルオロ酢酸である。
添加剤としては、例えばアニソール及びトリエチルシランが例示される。好ましい添加剤は、アニソールである。
溶媒としては、例えばジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、トルエン等の炭化水素系溶媒、水、及びこれらの混合溶媒が例示される。トリフルオロ酢酸等の有機酸を溶媒として用いてもよい。
反応温度は、例えば０℃から１３０℃であり、好ましくは２５℃から８０℃である。
本工程において、酸を用いる場合、式［５］の化合物
【化5】
例えば、式［Ｉ］の化合物又はその塩は、過塩素酸マグネシウムの存在下、式［５］の化合物又はその塩と二炭酸ジ－ｔｅｒｔ－ブチルと反応させることにより、製造することができる。
溶媒としては、例えばクロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒、及びテトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒が例示される。好ましい溶媒は、クロロホルムである。
反応温度は、例えば０℃から１００℃であり、好ましくは室温から７０℃である。
【0041】
［製造方法Ｂ］
式［１］の化合物は、以下のスキームで示される製造方法Ｂ１により製造することができる。
製造方法Ｂ１
［式中、Ｌ１は脱離基である。好ましいＬ１は塩素、臭素、又はヨウ素である。ＰＮ２はそれぞれ独立してアミンの保護基である。好ましくは、２つのＰＮ２がそれらの結合する窒素と一緒になって２，５－ジメチルピロールを形成する。］
式［１］の化合物は、以下のスキームで示される製造方法Ｂ１により製造することができる。
製造方法Ｂ１
【化6】
【0042】
（工程Ｂ１－１）
式［７］の化合物は、公知の方法によって、式［６］の化合物又はその塩のアミノ基にＰＮ２を導入することにより製造することができる。保護基の導入は、ＰＮ２の種類に応じて適した条件で実施すればよい。例えば、２つのＰＮ２がそれらの結合する窒素と一緒になって２，５－ジメチルピロールを形成する場合は、式［７］の化合物は、式［６］の化合物を、溶媒中、酸性条件下、２，５－ヘキサンジオンと反応させることにより、製造することができる。
反応に用いる酸としては、例えば濃塩酸、濃硫酸、アミド硫酸、ｐ－トルエンスルホン酸、及び酢酸が例示される。好ましい酸は、酢酸である。
溶媒としては、例えばエタノール等のアルコール系溶媒、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、トルエン等の炭化水素系溶媒、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド等の極性溶媒、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、及びこれらの混合溶媒が例示される。酢酸等の有機酸を溶媒として用いてもよい。
反応温度は、例えば室温から１５０℃であり、好ましくは８０℃から１４０℃である。
式［７］の化合物は、公知の方法によって、式［６］の化合物又はその塩のアミノ基にＰＮ２を導入することにより製造することができる。保護基の導入は、ＰＮ２の種類に応じて適した条件で実施すればよい。例えば、２つのＰＮ２がそれらの結合する窒素と一緒になって２，５－ジメチルピロールを形成する場合は、式［７］の化合物は、式［６］の化合物を、溶媒中、酸性条件下、２，５－ヘキサンジオンと反応させることにより、製造することができる。
反応に用いる酸としては、例えば濃塩酸、濃硫酸、アミド硫酸、ｐ－トルエンスルホン酸、及び酢酸が例示される。好ましい酸は、酢酸である。
溶媒としては、例えばエタノール等のアルコール系溶媒、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、トルエン等の炭化水素系溶媒、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド等の極性溶媒、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、及びこれらの混合溶媒が例示される。酢酸等の有機酸を溶媒として用いてもよい。
反応温度は、例えば室温から１５０℃であり、好ましくは８０℃から１４０℃である。
【0043】
（工程Ｂ１－２）
式［８］の化合物は、例えば溶媒中、塩基及び触媒の存在下、式［７］の化合物とジブロモジフルオロメタンを反応させる工程（ａ）、及び、溶媒中、テトラメチルアンモニウムフルオリド又はテトラフルオロホウ酸銀（Ｉ）存在下、フッ素化する工程（ｂ）、を含む方法により製造することができる。
工程（ａ）で用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、及びカリウムｔｅｒｔ－ブトキシドが例示される。好ましい塩基は、水素化ナトリウムである。
工程（ａ）で用いられる触媒としては、例えばテトラブチルアンモニウムブロミド、及び亜鉛が例示される。好ましい触媒は、テトラブチルアンモニウムブロミドである。
工程（ａ）で用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、及びＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド等の極性溶媒が例示される。好ましい溶媒は、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミドである。
工程（ａ）における反応温度としては、例えば０℃から４０℃であり、好ましくは０℃から室温である。
工程（ｂ）で用いられる溶媒としては、テトラメチルアンモニウムフルオリドを用いる場合、例えば１，４－ジオキサン等のエーテル系溶媒、及びスルホラン等の極性溶媒が例示される。好ましい溶媒は、スルホランである。テトラフルオロホウ酸銀（Ｉ）を用いる場合、例えばジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒が例示される。好ましい溶媒は、ジクロロメタンである。
工程（ｂ）の反応温度としては、テトラメチルアンモニウムフルオリドを用いる場合、例えば８０℃から１８０℃であり、好ましくは１００℃から１４０℃である。テトラフルオロホウ酸銀（Ｉ）を用いる場合、例えば－７８℃から５０℃であり、好ましくは－７８℃から室温である。
式［８］の化合物は、例えば溶媒中、塩基及び触媒の存在下、式［７］の化合物とジブロモジフルオロメタンを反応させる工程（ａ）、及び、溶媒中、テトラメチルアンモニウムフルオリド又はテトラフルオロホウ酸銀（Ｉ）存在下、フッ素化する工程（ｂ）、を含む方法により製造することができる。
工程（ａ）で用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、及びカリウムｔｅｒｔ－ブトキシドが例示される。好ましい塩基は、水素化ナトリウムである。
工程（ａ）で用いられる触媒としては、例えばテトラブチルアンモニウムブロミド、及び亜鉛が例示される。好ましい触媒は、テトラブチルアンモニウムブロミドである。
工程（ａ）で用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、及びＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド等の極性溶媒が例示される。好ましい溶媒は、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミドである。
工程（ａ）における反応温度としては、例えば０℃から４０℃であり、好ましくは０℃から室温である。
工程（ｂ）で用いられる溶媒としては、テトラメチルアンモニウムフルオリドを用いる場合、例えば１，４－ジオキサン等のエーテル系溶媒、及びスルホラン等の極性溶媒が例示される。好ましい溶媒は、スルホランである。テトラフルオロホウ酸銀（Ｉ）を用いる場合、例えばジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒が例示される。好ましい溶媒は、ジクロロメタンである。
工程（ｂ）の反応温度としては、テトラメチルアンモニウムフルオリドを用いる場合、例えば８０℃から１８０℃であり、好ましくは１００℃から１４０℃である。テトラフルオロホウ酸銀（Ｉ）を用いる場合、例えば－７８℃から５０℃であり、好ましくは－７８℃から室温である。
【0044】
（工程Ｂ１－３）
式［９］の化合物は、溶媒中、塩基存在下、式［８］の化合物にＬ１を導入することにより製造することができる。例えばＬ１がヨウ素である場合は、式［９］の化合物は、溶媒中、塩基存在下、式［８］の化合物をヨウ素化することにより製造することができる。
反応に用いる塩基としては、例えばｎ－ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムヘキサメチルジシラジド、及びリチウムテトラメチルピペリジドが例示される。好ましい塩基はｎ－ブチルリチウムである。
ヨウ素化剤としては、例えばヨウ素、一塩化ヨウ素、Ｎ－ヨードスクシンイミド、及び１－クロロ－２－ヨードエタンが例示される。好ましいヨウ素化剤はヨウ素である。
溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、トルエン等の炭化水素系溶媒、及びこれらの混合溶媒が例示される。好ましい溶媒は、テトラヒドロフランである。
反応温度は、例えば－１００℃から４０℃であり、好ましくは－７８℃から２０℃である。
式［９］の化合物は、溶媒中、塩基存在下、式［８］の化合物にＬ１を導入することにより製造することができる。例えばＬ１がヨウ素である場合は、式［９］の化合物は、溶媒中、塩基存在下、式［８］の化合物をヨウ素化することにより製造することができる。
反応に用いる塩基としては、例えばｎ－ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムヘキサメチルジシラジド、及びリチウムテトラメチルピペリジドが例示される。好ましい塩基はｎ－ブチルリチウムである。
ヨウ素化剤としては、例えばヨウ素、一塩化ヨウ素、Ｎ－ヨードスクシンイミド、及び１－クロロ－２－ヨードエタンが例示される。好ましいヨウ素化剤はヨウ素である。
溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、トルエン等の炭化水素系溶媒、及びこれらの混合溶媒が例示される。好ましい溶媒は、テトラヒドロフランである。
反応温度は、例えば－１００℃から４０℃であり、好ましくは－７８℃から２０℃である。
【0045】
（工程Ｂ１－４）
式［１０］の化合物又はその塩は、式［９］の化合物のＰＮ２を脱保護反応で除去することにより製造することができる。脱保護反応は、ＰＮ２の種類に応じて適した条件で実施すればよい。例えば、２つのＰＮ２がそれらの結合する窒素と一緒になって２，５－ジメチルピロールを形成する場合は、式［１０］の化合物又はその塩は、式［９］の化合物を、溶媒中、ヒドロキシルアミンと反応させることにより、製造することができる。
溶媒としては、例えばエタノール等のアルコール系溶媒、水、及びこれらの混合溶媒が例示される。好ましい溶媒は、アルコール系溶媒と水との混合溶媒である。
反応温度は、例えば４０℃から１５０℃であり、好ましくは８０℃から１３０℃である。
ヒドロキシルアミンに換えてヒドロキシルアミン塩酸塩を用いてもよく、その場合は、塩基存在下、本反応を実施すればよい。塩基としては、例えばトリエチルアミン等の有機塩基、及び炭酸ナトリウム等のアルカリ金属塩が例示される。好ましい塩基はトリエチルアミンである。
式［１０］の化合物又はその塩は、式［９］の化合物のＰＮ２を脱保護反応で除去することにより製造することができる。脱保護反応は、ＰＮ２の種類に応じて適した条件で実施すればよい。例えば、２つのＰＮ２がそれらの結合する窒素と一緒になって２，５－ジメチルピロールを形成する場合は、式［１０］の化合物又はその塩は、式［９］の化合物を、溶媒中、ヒドロキシルアミンと反応させることにより、製造することができる。
溶媒としては、例えばエタノール等のアルコール系溶媒、水、及びこれらの混合溶媒が例示される。好ましい溶媒は、アルコール系溶媒と水との混合溶媒である。
反応温度は、例えば４０℃から１５０℃であり、好ましくは８０℃から１３０℃である。
ヒドロキシルアミンに換えてヒドロキシルアミン塩酸塩を用いてもよく、その場合は、塩基存在下、本反応を実施すればよい。塩基としては、例えばトリエチルアミン等の有機塩基、及び炭酸ナトリウム等のアルカリ金属塩が例示される。好ましい塩基はトリエチルアミンである。
【0046】
（工程Ｂ１－５）
式［１］の化合物又はその塩は、式［１０］の化合物又はその塩と式［１１］の化合物を、鈴木カップリング反応に付すことにより製造することができる。例えば、式［１］の化合物又はその塩は、式［１０］の化合物又はその塩と式［１１］の化合物を、溶媒中、塩基及びパラジウム触媒の存在下、反応させることにより製造することができる。
反応に用いるパラジウム触媒としては、例えばテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、［１，１’－ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］ジクロロパラジウム（ＩＩ）－ジクロロメタン付加体、［１，１’－ビス（ジ－ｔｅｒｔ－ブチルホスフィノ）フェロセン］ジクロロパラジウム（ＩＩ）、及び酢酸パラジウム（ＩＩ）とトリシクロへキシルホスフィン、２－ジシクロヘキシルホスフィノ－２’，６’－ジメトキシビフェニル又は２－ジシクロヘキシルホスフィノ－２’，４’，６’－トリイソプロピルビフェニルとの混合物が例示される。好ましいパラジウム触媒は［１，１’－ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］ジクロロパラジウム（ＩＩ）－ジクロロメタン付加体である。
反応に用いる塩基としては、例えばリン酸三カリウム、炭酸セシウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、及びトリエチルアミンが例示される。好ましい塩基はリン酸三カリウム、炭酸セシウム又は炭酸ナトリウムである。
溶媒としては、例えば１，４－ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、及び１，２－ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒；メタノール、エタノール、１－プロパノール、及び２－プロパノール等のアルコール系溶媒；トルエン、ｎ－ヘキサン、及びキシレン等の炭化水素系溶媒；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、及びアセトニトリル等の極性溶媒；及びこれらと水との混合溶媒が例示される。好ましい溶媒は、１，２－ジメトキシエタン、トルエン、ジメチルスルホキシド、又はこれらと水との混合溶媒である。
反応温度は、例えば２０℃から１５０℃であり、好ましくは８０℃から１３０℃である。
式［１］の化合物又はその塩は、式［１０］の化合物又はその塩と式［１１］の化合物を、鈴木カップリング反応に付すことにより製造することができる。例えば、式［１］の化合物又はその塩は、式［１０］の化合物又はその塩と式［１１］の化合物を、溶媒中、塩基及びパラジウム触媒の存在下、反応させることにより製造することができる。
反応に用いるパラジウム触媒としては、例えばテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、［１，１’－ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］ジクロロパラジウム（ＩＩ）－ジクロロメタン付加体、［１，１’－ビス（ジ－ｔｅｒｔ－ブチルホスフィノ）フェロセン］ジクロロパラジウム（ＩＩ）、及び酢酸パラジウム（ＩＩ）とトリシクロへキシルホスフィン、２－ジシクロヘキシルホスフィノ－２’，６’－ジメトキシビフェニル又は２－ジシクロヘキシルホスフィノ－２’，４’，６’－トリイソプロピルビフェニルとの混合物が例示される。好ましいパラジウム触媒は［１，１’－ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］ジクロロパラジウム（ＩＩ）－ジクロロメタン付加体である。
反応に用いる塩基としては、例えばリン酸三カリウム、炭酸セシウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、及びトリエチルアミンが例示される。好ましい塩基はリン酸三カリウム、炭酸セシウム又は炭酸ナトリウムである。
溶媒としては、例えば１，４－ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、及び１，２－ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒；メタノール、エタノール、１－プロパノール、及び２－プロパノール等のアルコール系溶媒；トルエン、ｎ－ヘキサン、及びキシレン等の炭化水素系溶媒；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、及びアセトニトリル等の極性溶媒；及びこれらと水との混合溶媒が例示される。好ましい溶媒は、１，２－ジメトキシエタン、トルエン、ジメチルスルホキシド、又はこれらと水との混合溶媒である。
反応温度は、例えば２０℃から１５０℃であり、好ましくは８０℃から１３０℃である。
【0047】
式［１１］の化合物は公知の方法に従って製造することができる。式［１１］の化合物に換えて、対応するボロン酸エステルを用いて工程Ｂ１－５の反応を行ってもよい。例えば、ボロン酸エステルは、以下のスキームで示される製造方法Ｂ２により製造することができる。
製造方法Ｂ２
［式中、Ｒ１はフッ素又は水酸基である。Ｌ２は脱離基である。好ましいＬ２は塩素、臭素、ヨウ素、ｐ－トルエンスルホニルオキシ、メタンスルホニルオキシ、又はトリフルオロメタンスルホニルオキシである。Ｂ（ＯＲ２）２はボロン酸エステルである。Ｒ２は例えばそれぞれ独立してメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、ｓｅｃ－ブチル、又はｔｅｒｔ－ブチルであるか、あるいはＯＲ２がそれらの結合するホウ素と一緒になって環状ボロン酸エステルを形成してもよい。好ましいＢ（ＯＲ２）２はボロン酸ピナコールエステルである。］
製造方法Ｂ２
【化7】
【0048】
（工程Ｂ２－１）
式［１３］の化合物は、式［１２］の化合物のＲ１をｔｅｒｔ－ブトキシ基に変換することにより製造することができる。本反応は公知の方法に従って実施すればよい。
Ｒ１がフッ素の場合、式［１３］の化合物は、例えば、溶媒中、式［１２］の化合物とナトリウムｔｅｒｔ－ブトキシド又はカリウムｔｅｒｔ－ブトキシドを反応させることにより製造することができる。溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒；及びＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の極性溶媒が例示される。好ましい溶媒は、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミドである。反応温度は、例えば０℃から１００℃であり、好ましくは室温から８５℃である。
Ｒ１が水酸基の場合、式［１３］の化合物は、例えば、製造方法Ａ２工程Ａ２－２に記載の、式［５］の化合物又はその塩から式［Ｉ］の化合物又はその塩を製造する方法に従って製造することができる。
式［１３］の化合物は、式［１２］の化合物のＲ１をｔｅｒｔ－ブトキシ基に変換することにより製造することができる。本反応は公知の方法に従って実施すればよい。
Ｒ１がフッ素の場合、式［１３］の化合物は、例えば、溶媒中、式［１２］の化合物とナトリウムｔｅｒｔ－ブトキシド又はカリウムｔｅｒｔ－ブトキシドを反応させることにより製造することができる。溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒；及びＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の極性溶媒が例示される。好ましい溶媒は、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミドである。反応温度は、例えば０℃から１００℃であり、好ましくは室温から８５℃である。
Ｒ１が水酸基の場合、式［１３］の化合物は、例えば、製造方法Ａ２工程Ａ２－２に記載の、式［５］の化合物又はその塩から式［Ｉ］の化合物又はその塩を製造する方法に従って製造することができる。
【0049】
（工程Ｂ２－２）
式［１４］の化合物は、式［１３］の化合物とホウ素化合物を、溶媒中、パラジウム触媒、有機リン化合物及び塩基の存在下、反応させることにより製造することができる。
パラジウム触媒としては、例えば酢酸パラジウム（ＩＩ）、塩化パラジウム（ＩＩ）、及びトリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）が例示される。
有機リン化合物としては、例えばトリフェニルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、１，１’－ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン、２－ジシクロヘキシルホスフィノ－２’，６’－ジメトキシビフェニル、２－ジシクロヘキシルホスフィノ－２’，４’，６’－トリイソプロピルビフェニル、及び２－ジシクロヘキシルホスフィノ－２’－（Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノ）ビフェニルが例示される。
パラジウム触媒及び有機リン化合物に換えて、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、［１，１’－ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］ジクロロパラジウム（ＩＩ）－ジクロロメタン付加体、又は［１，１’－ビス（ジ－ｔｅｒｔ－ブチルホスフィノ）フェロセン］ジクロロパラジウム（ＩＩ）を用いてもよい。
塩基としては、例えば酢酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム、及び炭酸カリウムが例示される。好ましい塩基は、酢酸カリウムである。
ホウ素化合物としては、例えばビス（ピナコラート）ジボロンが例示される。
溶媒としては、例えば１，４－ジオキサン、テトラヒドロフラン、１，２－ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒；トルエン等の炭化水素系溶媒；及びＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の極性溶媒が例示される。好ましい溶媒は、ジメチルスルホキシドである。
反応温度は、例えば室温から１５０℃であり、好ましくは７０℃から１１０℃である。
式［１４］の化合物は、式［１３］の化合物とホウ素化合物を、溶媒中、パラジウム触媒、有機リン化合物及び塩基の存在下、反応させることにより製造することができる。
パラジウム触媒としては、例えば酢酸パラジウム（ＩＩ）、塩化パラジウム（ＩＩ）、及びトリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）が例示される。
有機リン化合物としては、例えばトリフェニルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、１，１’－ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン、２－ジシクロヘキシルホスフィノ－２’，６’－ジメトキシビフェニル、２－ジシクロヘキシルホスフィノ－２’，４’，６’－トリイソプロピルビフェニル、及び２－ジシクロヘキシルホスフィノ－２’－（Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノ）ビフェニルが例示される。
パラジウム触媒及び有機リン化合物に換えて、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、［１，１’－ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］ジクロロパラジウム（ＩＩ）－ジクロロメタン付加体、又は［１，１’－ビス（ジ－ｔｅｒｔ－ブチルホスフィノ）フェロセン］ジクロロパラジウム（ＩＩ）を用いてもよい。
塩基としては、例えば酢酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム、及び炭酸カリウムが例示される。好ましい塩基は、酢酸カリウムである。
ホウ素化合物としては、例えばビス（ピナコラート）ジボロンが例示される。
溶媒としては、例えば１，４－ジオキサン、テトラヒドロフラン、１，２－ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒；トルエン等の炭化水素系溶媒；及びＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の極性溶媒が例示される。好ましい溶媒は、ジメチルスルホキシドである。
反応温度は、例えば室温から１５０℃であり、好ましくは７０℃から１１０℃である。
【0050】
［製造方法Ｃ］
式［２］の化合物又はその塩及び式［３］の化合物又はその塩は、以下のスキームで示される製造方法Ｃ１により製造することができる。
製造方法Ｃ１
［式中、ＰＣ１及びＰＣ２はそれぞれ独立してカルボキシの保護基である。好ましいＰＣ１及びＰＣ２は、それぞれ独立して、メチル、エチル、ｔｅｒｔ－ブチル、又はベンジルである。Ｒ３はそれぞれ独立してメトキシ又はエトキシである。Ｌ３は脱離基である。好ましいＬ３は臭素又は塩素である。その他各記号は前記と同義である。］
式［２］の化合物又はその塩及び式［３］の化合物又はその塩は、以下のスキームで示される製造方法Ｃ１により製造することができる。
製造方法Ｃ１
【化8】
【0051】
（工程Ｃ１－１）
式［１７］の化合物は、溶媒中、塩基存在下、式［１５］の化合物と式［１６］の化合物を反応させることにより製造することができる。
反応に用いる塩基としては、例えばカリウムｔｅｒｔ－ブトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、リチウムジイソプロピルアミド、カリウムヘキサメチルジシラザン、炭酸カリウム、炭酸セシウム、及び水素化ナトリウムが例示される。好ましい塩基は、カリウムｔｅｒｔ－ブトキシドである。
溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒；メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒；及びＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の極性溶媒が例示される。好ましい溶媒は、テトラヒドロフランである。
反応温度は、例えば－７８℃から１００℃であり、好ましくは０℃から７０℃である。
式［１７］の化合物は、溶媒中、塩基存在下、式［１５］の化合物と式［１６］の化合物を反応させることにより製造することができる。
反応に用いる塩基としては、例えばカリウムｔｅｒｔ－ブトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、リチウムジイソプロピルアミド、カリウムヘキサメチルジシラザン、炭酸カリウム、炭酸セシウム、及び水素化ナトリウムが例示される。好ましい塩基は、カリウムｔｅｒｔ－ブトキシドである。
溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒；メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒；及びＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の極性溶媒が例示される。好ましい溶媒は、テトラヒドロフランである。
反応温度は、例えば－７８℃から１００℃であり、好ましくは０℃から７０℃である。
【0052】
（工程Ｃ１－２）
式［１８］の化合物は、溶媒中、塩基存在下、式［１７］の化合物とホルムアルデヒド（好ましくはホルムアルデヒド水溶液）を反応させることにより製造することができる。
反応に用いる塩基としては、例えばカリウムｔｅｒｔ－ブトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、リチウムジイソプロピルアミド、カリウムヘキサメチルジシラザン、炭酸カリウム、炭酸セシウム及び水素化ナトリウムが例示される。好ましい塩基は、炭酸カリウムである。
溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒；メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒；及びＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の極性溶媒が例示される。好ましい溶媒は、テトラヒドロフランである。
反応温度は、例えば－７８℃から１００℃であり、好ましくは０℃から７０℃である。
式［１８］の化合物は、溶媒中、塩基存在下、式［１７］の化合物とホルムアルデヒド（好ましくはホルムアルデヒド水溶液）を反応させることにより製造することができる。
反応に用いる塩基としては、例えばカリウムｔｅｒｔ－ブトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、リチウムジイソプロピルアミド、カリウムヘキサメチルジシラザン、炭酸カリウム、炭酸セシウム及び水素化ナトリウムが例示される。好ましい塩基は、炭酸カリウムである。
溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒；メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒；及びＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の極性溶媒が例示される。好ましい溶媒は、テトラヒドロフランである。
反応温度は、例えば－７８℃から１００℃であり、好ましくは０℃から７０℃である。
【0053】
（工程Ｃ１－３）
式［２０］の化合物は、溶媒中、化合物［１８］と化合物［１９］を反応させることにより製造することができる。
溶媒としては、例えばトルエン等の炭化水素系溶媒；メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒；及びこれらの混合溶媒が例示される。好ましい溶媒は、トルエンである。
反応温度は、例えば２０℃から１５０℃であり、好ましくは８０℃から１３０℃である。
式［２０］の化合物は、溶媒中、化合物［１８］と化合物［１９］を反応させることにより製造することができる。
溶媒としては、例えばトルエン等の炭化水素系溶媒；メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒；及びこれらの混合溶媒が例示される。好ましい溶媒は、トルエンである。
反応温度は、例えば２０℃から１５０℃であり、好ましくは８０℃から１３０℃である。
【0054】
（工程Ｃ１－４）
化合物［２１］又はその塩は、化合物［２０］のＰＣ１を脱保護反応で除去することにより製造することができる。脱保護反応は、ＰＣ１の種類に応じて、それぞれに適した条件で実施すればよい。例えば、ＰＣ１がエチルである場合は、化合物［２１］又はその塩は、溶媒中、塩基存在下、化合物［２０］を加水分解することにより、製造することができる。
反応に用いる塩基としては、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、及びナトリウムエトキシドが例示される。好ましい塩基は、ナトリウムエトキシドである。
溶媒としては、例えばエタノール等のアルコール系溶媒、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、水、及びこれらの混合溶媒が例示される。好ましい溶媒は、エタノールと水の混合溶媒である。
反応温度は、例えば０℃から１００℃であり、好ましくは０℃から４０℃である。
化合物［２１］又はその塩は、化合物［２０］のＰＣ１を脱保護反応で除去することにより製造することができる。脱保護反応は、ＰＣ１の種類に応じて、それぞれに適した条件で実施すればよい。例えば、ＰＣ１がエチルである場合は、化合物［２１］又はその塩は、溶媒中、塩基存在下、化合物［２０］を加水分解することにより、製造することができる。
反応に用いる塩基としては、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、及びナトリウムエトキシドが例示される。好ましい塩基は、ナトリウムエトキシドである。
溶媒としては、例えばエタノール等のアルコール系溶媒、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、水、及びこれらの混合溶媒が例示される。好ましい溶媒は、エタノールと水の混合溶媒である。
反応温度は、例えば０℃から１００℃であり、好ましくは０℃から４０℃である。
【0055】
（工程Ｃ１－５）
式［３］の化合物又はその塩は、式［２１］の化合物又はその塩から分離することにより得ることができる。式［３］の化合物又はその塩の分離は、当分野で良く知られた方法により、その分離に適した条件で実施すればよい。例えば、式［３］の化合物又はその塩は、塩基性光学分割剤とのジアステレオマー塩として分離した後、この塩を酸で分解することにより得ることができる。
塩基性光学分割剤としては、例えば（１Ｒ，２Ｒ）－（－）－２－アミノ－１－（４－ニトロフェニル）－１，３－プロパンジオールが例示される。
ジアステレオマー塩への誘導に用いられる溶媒としては、例えば２－プロパノール等のアルコール系溶媒、１，２－ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、アセトニトリル等の極性溶媒、及びこれらと水との混合溶媒が例示される。好ましい溶媒は、アセトニトリル、１，２－ジメトキシエタン又はこれらと水との混合溶媒である。
このジアステレオマー塩は、再結晶によりその光学純度を高めることができる。再結晶に用いられる溶媒としては、例えば１，２－ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、アセトニトリル等の極性溶媒、及びこれらと水との混合溶媒が例示される。好ましい溶媒は、アセトニトリルと水との混合溶媒である。
ジアステレオマー塩の分解に用いられる酸としては、例えば塩酸、硫酸、及び硫酸水素カリウムが例示される。好ましい酸は塩酸である。
ジアステレオマー塩の分解に用いられる溶媒としては、例えば酢酸エチル等のエステル系溶媒、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、水、及びこれらの混合溶媒が例示される。好ましい溶媒は、酢酸エチルと水との混合溶媒である。
式［３］の化合物又はその塩は、式［２１］の化合物又はその塩から分離することにより得ることができる。式［３］の化合物又はその塩の分離は、当分野で良く知られた方法により、その分離に適した条件で実施すればよい。例えば、式［３］の化合物又はその塩は、塩基性光学分割剤とのジアステレオマー塩として分離した後、この塩を酸で分解することにより得ることができる。
塩基性光学分割剤としては、例えば（１Ｒ，２Ｒ）－（－）－２－アミノ－１－（４－ニトロフェニル）－１，３－プロパンジオールが例示される。
ジアステレオマー塩への誘導に用いられる溶媒としては、例えば２－プロパノール等のアルコール系溶媒、１，２－ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、アセトニトリル等の極性溶媒、及びこれらと水との混合溶媒が例示される。好ましい溶媒は、アセトニトリル、１，２－ジメトキシエタン又はこれらと水との混合溶媒である。
このジアステレオマー塩は、再結晶によりその光学純度を高めることができる。再結晶に用いられる溶媒としては、例えば１，２－ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、アセトニトリル等の極性溶媒、及びこれらと水との混合溶媒が例示される。好ましい溶媒は、アセトニトリルと水との混合溶媒である。
ジアステレオマー塩の分解に用いられる酸としては、例えば塩酸、硫酸、及び硫酸水素カリウムが例示される。好ましい酸は塩酸である。
ジアステレオマー塩の分解に用いられる溶媒としては、例えば酢酸エチル等のエステル系溶媒、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、水、及びこれらの混合溶媒が例示される。好ましい溶媒は、酢酸エチルと水との混合溶媒である。
【0056】
（工程Ｃ１－６）
式［２］の化合物又はその塩は、式［３］の化合物又はその塩のＰＮ１を脱保護反応で除去することにより製造することができる。脱保護反応は、ＰＮ１の種類に応じて適した条件で実施すればよい。例えば、ＰＮ１が２，４－ジメトキシベンジル基である場合は、式［２］の化合物又はその塩は、製造方法Ａ２工程Ａ２－２に従って製造することができる。
式［２］の化合物又はその塩は、式［３］の化合物又はその塩のＰＮ１を脱保護反応で除去することにより製造することができる。脱保護反応は、ＰＮ１の種類に応じて適した条件で実施すればよい。例えば、ＰＮ１が２，４－ジメトキシベンジル基である場合は、式［２］の化合物又はその塩は、製造方法Ａ２工程Ａ２－２に従って製造することができる。
【実施例】
【0057】
以下に、製造例、実施例、参考例、試験例及び製剤例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。
【0058】
ここで、本明細書で用いられる略号の意味を以下に示す。
ＤＭＦ：Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド
ＤＭＳＯ：ジメチルスルホキシド
ＴＨＦ：テトラヒドロフラン
ＣＰＭＥ：シクロペンチルメチルエーテル
ＤＭＦ：Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド
ＤＭＳＯ：ジメチルスルホキシド
ＴＨＦ：テトラヒドロフラン
ＣＰＭＥ：シクロペンチルメチルエーテル
【0059】
１Ｈ－ＮＭＲスペクトルはＣＤＣｌ３又はＤＭＳＯ－ｄ６中、テトラメチルシランを内部標準として測定し、全δ値をｐｐｍで示す。なお、特に記述のない限り、４００ＭＨｚのＮＭＲ装置で測定した。
実施例中の記号は次のような意味である。
ｓ：シングレット（ｓｉｎｇｌｅｔ）
ｄ：ダブレット（ｄｏｕｂｌｅｔ）
ｔ：トリプレット（ｔｒｉｐｌｅｔ）
ｑ：カルテット（ｑｕａｒｔｅｔ）
ｄｄ：ダブルダブレット（ｄｏｕｂｌｅ ｄｏｕｂｌｅｔ）
ｄｄｄ：ダブルダブルダブレット（ｄｏｕｂｌｅ ｄｏｕｂｌｅ ｄｏｕｂｌｅｔ）
ｂｒｓ：ブロードシングレット（ｂｒｏａｄ ｓｉｎｇｌｅｔ）
ｍ：マルチプレット（ｍｕｌｔｉｐｌｅｔ）
Ｊ：カップリング定数（ｃｏｕｐｌｉｎｇ ｃｏｎｓｔａｎｔ）
実施例中の記号は次のような意味である。
ｓ：シングレット（ｓｉｎｇｌｅｔ）
ｄ：ダブレット（ｄｏｕｂｌｅｔ）
ｔ：トリプレット（ｔｒｉｐｌｅｔ）
ｑ：カルテット（ｑｕａｒｔｅｔ）
ｄｄ：ダブルダブレット（ｄｏｕｂｌｅ ｄｏｕｂｌｅｔ）
ｄｄｄ：ダブルダブルダブレット（ｄｏｕｂｌｅ ｄｏｕｂｌｅ ｄｏｕｂｌｅｔ）
ｂｒｓ：ブロードシングレット（ｂｒｏａｄ ｓｉｎｇｌｅｔ）
ｍ：マルチプレット（ｍｕｌｔｉｐｌｅｔ）
Ｊ：カップリング定数（ｃｏｕｐｌｉｎｇ ｃｏｎｓｔａｎｔ）
【0060】
［製造例１］２－（３－（ｔｅｒｔ－ブトキシ）－５－フルオロフェニル）－４，４，５，５－テトラメチル－１，３，２－ジオキサボロランの製造
【化9】
【0061】
（工程１）１－ブロモ－３－（ｔｅｒｔ－ブトキシ）－５－フルオロベンゼンの製造
アルゴン気流下、３－ブロモ－５－フルオロフェノール（５００ｍｇ）に室温で二炭酸ジ－ｔｅｒｔ－ブチル（１．１４ｇ）、過塩素酸マグネシウム（５８ｍｇ）を順次加えた。この反応混合物を５０℃で１時間２０分撹拌した。この反応混合液に５０℃で二炭酸ジ－ｔｅｒｔ－ブチルを加えた。この反応混合液を５０℃で１時間撹拌し、さらに６５℃で１時間撹拌し、室温に冷却した。この反応混合液に室温で二炭酸ジ－ｔｅｒｔ－ブチルを加えた。この反応混合液を６５℃で３時間撹拌した。この反応混合液を室温に冷却し、ｎ－ヘキサン／酢酸エチル（１／１）混合液を加えた。この反応混合液を３Ｎ塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮した。この残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ－ヘキサン／酢酸エチル＝１／０から２０／１）で精製することにより、表題化合物（４３７ｍｇ）を収率６８％で得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.35 (s, 9H), 6.62-6.66 (m, 1H), 6.92-6.98 (m, 2H).
【化10】
アルゴン気流下、３－ブロモ－５－フルオロフェノール（５００ｍｇ）に室温で二炭酸ジ－ｔｅｒｔ－ブチル（１．１４ｇ）、過塩素酸マグネシウム（５８ｍｇ）を順次加えた。この反応混合物を５０℃で１時間２０分撹拌した。この反応混合液に５０℃で二炭酸ジ－ｔｅｒｔ－ブチルを加えた。この反応混合液を５０℃で１時間撹拌し、さらに６５℃で１時間撹拌し、室温に冷却した。この反応混合液に室温で二炭酸ジ－ｔｅｒｔ－ブチルを加えた。この反応混合液を６５℃で３時間撹拌した。この反応混合液を室温に冷却し、ｎ－ヘキサン／酢酸エチル（１／１）混合液を加えた。この反応混合液を３Ｎ塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮した。この残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ－ヘキサン／酢酸エチル＝１／０から２０／１）で精製することにより、表題化合物（４３７ｍｇ）を収率６８％で得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.35 (s, 9H), 6.62-6.66 (m, 1H), 6.92-6.98 (m, 2H).
【0062】
（工程２）２－（３－（ｔｅｒｔ－ブトキシ）－５－フルオロフェニル）－４，４，５，５－テトラメチル－１，３，２－ジオキサボロランの製造
工程１で得られた１－ブロモ－３－（ｔｅｒｔ－ブトキシ）－５－フルオロベンゼン（４３７ｍｇ）のＤＭＳＯ（５ｍＬ）溶液に、アルゴン雰囲気下、室温で酢酸カリウム（４３４ｍｇ）、ビス（ピナコラート）ジボロン（８９８ｍｇ）、［１，１’－ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］ジクロロパラジウム（ＩＩ）・ジクロロメタン付加体（１４４ｍｇ）を順次加えた。この反応混合液を９０℃で２．５時間撹拌した。この反応混合液を室温に冷却した。この反応混合液に、ｎ－ヘキサン／酢酸エチル（１／１）混合液、水を順次加えた。この反応混合液を室温で５０分間撹拌し、終夜静置した。この反応混合液に、ｎ－ヘキサン／酢酸エチル（１／１）混合液、水、シリカゲル及びセライトを順次加えた。この反応混合液を撹拌した後、不溶物をろ去し、この不溶物をｎ－ヘキサン／酢酸エチル（１／１）混合液で洗浄した。このろ液をｎ－ヘキサン／酢酸エチル（１／１）混合液で抽出した。この有機層を水で２回、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮した。この残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ－ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１）で精製することにより、表題化合物（４４３ｍｇ）を収率８５％で得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.33 (s, 12H), 1.36 (s, 9H), 6.77-6.82 (m, 1H), 7.18-7.23 (m, 2H).
【化11】
工程１で得られた１－ブロモ－３－（ｔｅｒｔ－ブトキシ）－５－フルオロベンゼン（４３７ｍｇ）のＤＭＳＯ（５ｍＬ）溶液に、アルゴン雰囲気下、室温で酢酸カリウム（４３４ｍｇ）、ビス（ピナコラート）ジボロン（８９８ｍｇ）、［１，１’－ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］ジクロロパラジウム（ＩＩ）・ジクロロメタン付加体（１４４ｍｇ）を順次加えた。この反応混合液を９０℃で２．５時間撹拌した。この反応混合液を室温に冷却した。この反応混合液に、ｎ－ヘキサン／酢酸エチル（１／１）混合液、水を順次加えた。この反応混合液を室温で５０分間撹拌し、終夜静置した。この反応混合液に、ｎ－ヘキサン／酢酸エチル（１／１）混合液、水、シリカゲル及びセライトを順次加えた。この反応混合液を撹拌した後、不溶物をろ去し、この不溶物をｎ－ヘキサン／酢酸エチル（１／１）混合液で洗浄した。このろ液をｎ－ヘキサン／酢酸エチル（１／１）混合液で抽出した。この有機層を水で２回、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮した。この残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ－ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１）で精製することにより、表題化合物（４４３ｍｇ）を収率８５％で得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.33 (s, 12H), 1.36 (s, 9H), 6.77-6.82 (m, 1H), 7.18-7.23 (m, 2H).
【0063】
［製造例２］（３Ｒ，４Ｒ）－１－（２，４－ジメトキシベンジル）－４－メチル－５－オキソピロリジン－３－カルボン酸の製造
【化12】
【0064】
（工程１）２－メチル－３－メチレンコハク酸 ジエチルエステルの製造
窒素気流下、カリウムｔｅｒｔ－ブトキシド（１８０ｇ）に室温でＴＨＦ（２．５５Ｌ）を加えた。この混合液に氷冷下、ホスホノ酢酸トリエチル（３１４ｇ）を１３分間かけて滴下した。使用した滴下ロートをＴＨＦ（５１１ｍＬ）で洗浄し、洗浄液を反応混合液に加えた。この反応混合液を氷冷下、２時間９分撹拌した。この反応混合液に氷冷下、２－ブロモプロピオン酸エチル（２４７ｇ）を２０分間かけて滴下した。使用した滴下ロートをＴＨＦ（７９ｍＬ）で洗浄し、洗浄液を反応混合液に加えた。この反応混合液を室温で２２時間４５分撹拌した。この反応混合液に氷冷下、炭酸カリウム（１８８ｇ）を１分間かけて加えた。この反応混合液に氷冷下、３７重量％ホルムアルデヒド水溶液（１５２ｍＬ）を１０分間かけて滴下した。この反応混合液を室温で１９時間４４分撹拌した。この反応混合液に室温で水（１．５７Ｌ）を１分間かけて加えた。この反応混合液を室温で１時間４８分撹拌した。この反応混合液を分層した。この水層をＴＨＦ（２００ｍＬ）で２回抽出した。得られた有機層を合わせて濃縮した。この残渣にトルエン（４７１ｍＬ）と飽和食塩水（４７１ｍＬ）を加えた。この反応混合液を撹拌し、分層した。この有機層を硫酸ナトリウム（６３ｇ）で乾燥した。この硫酸ナトリウムをろ去した。別途、ホスホノ酢酸トリエチル（３００ｇ）を用いて同様に反応を行って得られたろ液を、上記で得られたろ液と合わせることにより、表題化合物（２．６６ｍｏｌ相当）のトルエン溶液（約９２１ｍＬ）を得た。得られた表題化合物のトルエン溶液を収率１００％として次工程に用いた。表題化合物の生成はＨＰＬＣ分析により確認した。
ＨＰＬＣの測定機器及び条件を以下に示す。
測定機器：ＨＰＬＣシステム 島津製作所 高速液体クロマトグラフ Ｐｒｏｍｉｎｅｎｃｅ
測定条件：
カラム：Ｋｉｎｅｔｅｘ Ｃ１８：２．６μｍ，５０ｍｍ×２．１ｍｍ（Ｐｈｅｎｏｍｅｎｅｘ）
カラム温度：４０℃
流速：０．４ｍＬ／ｍｉｎ．
分析時間：１０ｍｉｎ．
検出波長：ＵＶ（２２０ｎｍ）
移動相：（Ａ液）水、（Ｂ液）アセトニトリル
移動相の送液：Ａ液及びＢ液の混合比（Ａ液／Ｂ液（体積％））は、注入後０分から０．０１分は８０／２０を保持し、０．０１分から７分にかけて８０／２０から１０／９０まで直線的に変化させ、７分から８分は１０／９０を保持し、８分から９分にかけて１０／９０から８０／２０まで直線的に変化させ、９分から１０分は８０／２０を保持した。
上記ＨＰＬＣ測定条件における表題化合物の保持時間は、約３．７分であった。
【化13】
ＨＰＬＣの測定機器及び条件を以下に示す。
測定機器：ＨＰＬＣシステム 島津製作所 高速液体クロマトグラフ Ｐｒｏｍｉｎｅｎｃｅ
測定条件：
カラム：Ｋｉｎｅｔｅｘ Ｃ１８：２．６μｍ，５０ｍｍ×２．１ｍｍ（Ｐｈｅｎｏｍｅｎｅｘ）
カラム温度：４０℃
流速：０．４ｍＬ／ｍｉｎ．
分析時間：１０ｍｉｎ．
検出波長：ＵＶ（２２０ｎｍ）
移動相：（Ａ液）水、（Ｂ液）アセトニトリル
移動相の送液：Ａ液及びＢ液の混合比（Ａ液／Ｂ液（体積％））は、注入後０分から０．０１分は８０／２０を保持し、０．０１分から７分にかけて８０／２０から１０／９０まで直線的に変化させ、７分から８分は１０／９０を保持し、８分から９分にかけて１０／９０から８０／２０まで直線的に変化させ、９分から１０分は８０／２０を保持した。
上記ＨＰＬＣ測定条件における表題化合物の保持時間は、約３．７分であった。
【0065】
（工程２）（シス）－１－（２，４－ジメトキシベンジル）－４－メチル－５－オキソピロリジン－３－カルボン酸 エチルエステル及び（トランス）－１－（２，４－ジメトキシベンジル）－４－メチル－５－オキソピロリジン－３－カルボン酸 エチルエステルの混合物の製造
工程１で得られた２－メチル－３－メチレンコハク酸 ジエチルエステル（２．６６ｍｏｌ相当）のトルエン溶液（約９２１ｍＬ）に、窒素気流下、室温で２，４－ジメトキシベンジルアミン（４６８ｇ）を２分間かけて滴下した。この反応混合液を１２０℃で５時間４５分撹拌した。この反応混合液を室温で週末静置した。この反応混合液を氷冷し、内温約１５℃にした。この反応混合液に２Ｎ塩酸（１．３３Ｌ）を滴下し、撹拌した。この反応混合液を分層した。この水層をトルエン（１５０ｍＬ）で抽出した。得られた有機層を合わせ、飽和食塩水と水の混合液（６００ｍＬ、飽和食塩水／水＝１／１）で洗浄し、硫酸ナトリウム（１２０ｇ）で乾燥し、濃縮し、室温で終夜減圧乾燥することで、表題化合物の粗生成物（７９０ｇ；シス／トランス＝約１／１、５．５重量％のトルエン含む）を得た。表題化合物の生成はＨＰＬＣ分析により確認した。
ＨＰＬＣの測定機器及び条件を以下に示す。
測定機器：ＨＰＬＣシステム 島津製作所 高速液体クロマトグラフ Ｐｒｏｍｉｎｅｎｃｅ
測定条件：
カラム：Ａｔｌａｎｔｉｓ Ｔ３：５μｍ，１５０ｍｍ×４．６ｍｍ（Ｗａｔｅｒｓ）
カラム温度：４０℃
流速：１．１５ｍＬ／ｍｉｎ．
分析時間：１８ｍｉｎ．
検出波長：ＵＶ（２２０ｎｍ）
移動相：（Ａ液）１０ｍＭ リン酸（ナトリウム）バッファー（ｐＨ＝２．６）、（Ｂ液）アセトニトリル
移動相の送液：Ａ液及びＢ液の混合比（Ａ液／Ｂ液（体積％））は、注入後０分から０．５分は６０／４０を保持し、０．５分から８分にかけて６０／４０から１０／９０まで直線的に変化させ、８分から１２．５分は１０／９０を保持し、１２．５分から１３．５分にかけて１０／９０から６０／４０まで直線的に変化させ、１３．５分から１８分は６０／４０を保持した。
上記ＨＰＬＣ測定条件における、（シス）－１－（２，４－ジメトキシベンジル)－４－メチル－５－オキソピロリジン－３－カルボン酸 エチルエステルの保持時間は約６．６分、（トランス）－１－（２，４－ジメトキシベンジル)－４－メチル－５－オキソピロリジン－３－カルボン酸 エチルエステルの保持時間は約６．９分であった。
【化14】
ＨＰＬＣの測定機器及び条件を以下に示す。
測定機器：ＨＰＬＣシステム 島津製作所 高速液体クロマトグラフ Ｐｒｏｍｉｎｅｎｃｅ
測定条件：
カラム：Ａｔｌａｎｔｉｓ Ｔ３：５μｍ，１５０ｍｍ×４．６ｍｍ（Ｗａｔｅｒｓ）
カラム温度：４０℃
流速：１．１５ｍＬ／ｍｉｎ．
分析時間：１８ｍｉｎ．
検出波長：ＵＶ（２２０ｎｍ）
移動相：（Ａ液）１０ｍＭ リン酸（ナトリウム）バッファー（ｐＨ＝２．６）、（Ｂ液）アセトニトリル
移動相の送液：Ａ液及びＢ液の混合比（Ａ液／Ｂ液（体積％））は、注入後０分から０．５分は６０／４０を保持し、０．５分から８分にかけて６０／４０から１０／９０まで直線的に変化させ、８分から１２．５分は１０／９０を保持し、１２．５分から１３．５分にかけて１０／９０から６０／４０まで直線的に変化させ、１３．５分から１８分は６０／４０を保持した。
上記ＨＰＬＣ測定条件における、（シス）－１－（２，４－ジメトキシベンジル)－４－メチル－５－オキソピロリジン－３－カルボン酸 エチルエステルの保持時間は約６．６分、（トランス）－１－（２，４－ジメトキシベンジル)－４－メチル－５－オキソピロリジン－３－カルボン酸 エチルエステルの保持時間は約６．９分であった。
【0066】
（工程３）（トランス）－１－（２，４－ジメトキシベンジル）－４－メチル－５－オキソピロリジン－３－カルボン酸の製造
工程２で得られた（シス）－１－（２，４－ジメトキシベンジル）－４－メチル－５－オキソピロリジン－３－カルボン酸 エチルエステル及び（トランス）－１－（２，４－ジメトキシベンジル）－４－メチル－５－オキソピロリジン－３－カルボン酸 エチルエステルの混合物の粗生成物（７９０ｇ、５．５重量％のトルエン含む）に、窒素気流下、室温でエタノール（１．１５Ｌ）を加えた。この反応混合液に室温でナトリウムエトキシド（２０重量％エタノール溶液、１．１５Ｌ）を３１分間かけて滴下した。この反応混合液を室温で２時間５７分撹拌した。この反応混合液を氷冷し、水（１．８４Ｌ）を３３分間かけて滴下した。この反応混合液に室温でＣＰＭＥ（１．８Ｌ）及びトルエン（１．８Ｌ）を加え、分層した（有機層１）。この水層にＣＰＭＥ（１．８Ｌ）を加え、分層した（有機層２）。この水層より溶媒を１．８Ｌ留去した。この水層に氷冷下、６Ｎ塩酸（１１０ｍＬ）を滴下し、酢酸エチル（１．８Ｌ）を加えた。この混合液に氷冷下、６Ｎ塩酸（３００ｍＬ）を滴下し、約１０分間撹拌した。この混合液に氷冷下、水（２．２Ｌ）、６Ｎ塩酸（５０ｍＬ）、水（１．０Ｌ）、１０重量％硫酸水素ナトリウム水溶液（３００ｍＬ）、エタノール（３００ｍＬ）を順次加えた。この混合液を室温で終夜撹拌した。この混合液に酢酸エチル（６００ｍＬ）を加え、分層した。この水層を酢酸エチル（６００ｍＬ）で２回抽出した。得られた有機層を合わせて（但し、有機層１及び有機層２を除く）、飽和食塩水と水の混合液（１Ｌ、飽和食塩水／水＝１／１）で洗浄した。この有機層に硫酸ナトリウム（１２０ｇ）と活性炭（３０ｇ）を加え、室温で１時間撹拌した。この混合液をセライトを通してろ過し、不溶物をろ去した。この不溶物を酢酸エチル（３Ｌ）で洗浄した。得られたろ液を合わせて濃縮し、室温で３時間減圧乾燥することで、表題化合物の粗生成物（５６１ｇ）を得た。
別途、上記有機層１と有機層２を合わせて濃縮した。この残渣にトルエン（４５０ｍＬ）と水（４５０ｍＬ）を加え、分層した。この水層をトルエン（４５０ｍＬ）で２回洗浄した。この水層に酢酸エチル（４５０ｍＬ）を加えた。この混合液に氷冷下、６Ｎ塩酸（７０ｍＬ）を滴下した。この混合液に酢酸エチル（３００ｍＬ）を加え、分層した。この水層を酢酸エチル（１５０ｍＬ）で抽出した。得られた酢酸エチルの有機層を合わせて、飽和食塩水と水の混合液（２２５ｍＬ、飽和食塩水／水＝１／１）で洗浄した。この有機層に硫酸ナトリウム（３０ｇ）と活性炭（７．５ｇ）を加え、室温で１時間撹拌した。この混合液をろ過し、不溶物をろ去した。この不溶物を酢酸エチル（７５０ｍＬ）で洗浄した。得られたろ液を合わせて濃縮し、室温で３時間減圧乾燥することで、表題化合物の粗生成物（８７．３ｇ）を得た。
この粗生成物を上記で得られた表題化合物の粗生成物と合わせた混合物に、窒素気流下、ＣＰＭＥ（３Ｌ）を加えた。この混合液を１２０℃で撹拌した。この混合液を１７時間３４分撹拌して、室温まで徐冷した。この混合液を氷冷して内温約１℃で３時間撹拌した。この析出物をろ取し、冷やしたＣＰＭＥ（９００ｍＬ）で洗浄した。この析出物を５０℃で終夜減圧乾燥することで、表題化合物（５８５ｇ）を３工程収率７５％で得た。表題化合物の生成はＨＰＬＣ分析及びＮＭＲにより確認した。
ＨＰＬＣの測定機器及び条件は工程２と同じである。本ＨＰＬＣ測定条件における表題化合物の保持時間は、約３．１分であった。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.33 (d, 3H, J = 6.5 Hz), 2.68-2.85 (m, 2H), 3.33-3.48 (m, 2H), 3.80 (s, 6H), 4.43 (s, 2H), 6.42-6.46 (m, 2H), 7.11-7.15 (m, 1H).
【化15】
別途、上記有機層１と有機層２を合わせて濃縮した。この残渣にトルエン（４５０ｍＬ）と水（４５０ｍＬ）を加え、分層した。この水層をトルエン（４５０ｍＬ）で２回洗浄した。この水層に酢酸エチル（４５０ｍＬ）を加えた。この混合液に氷冷下、６Ｎ塩酸（７０ｍＬ）を滴下した。この混合液に酢酸エチル（３００ｍＬ）を加え、分層した。この水層を酢酸エチル（１５０ｍＬ）で抽出した。得られた酢酸エチルの有機層を合わせて、飽和食塩水と水の混合液（２２５ｍＬ、飽和食塩水／水＝１／１）で洗浄した。この有機層に硫酸ナトリウム（３０ｇ）と活性炭（７．５ｇ）を加え、室温で１時間撹拌した。この混合液をろ過し、不溶物をろ去した。この不溶物を酢酸エチル（７５０ｍＬ）で洗浄した。得られたろ液を合わせて濃縮し、室温で３時間減圧乾燥することで、表題化合物の粗生成物（８７．３ｇ）を得た。
この粗生成物を上記で得られた表題化合物の粗生成物と合わせた混合物に、窒素気流下、ＣＰＭＥ（３Ｌ）を加えた。この混合液を１２０℃で撹拌した。この混合液を１７時間３４分撹拌して、室温まで徐冷した。この混合液を氷冷して内温約１℃で３時間撹拌した。この析出物をろ取し、冷やしたＣＰＭＥ（９００ｍＬ）で洗浄した。この析出物を５０℃で終夜減圧乾燥することで、表題化合物（５８５ｇ）を３工程収率７５％で得た。表題化合物の生成はＨＰＬＣ分析及びＮＭＲにより確認した。
ＨＰＬＣの測定機器及び条件は工程２と同じである。本ＨＰＬＣ測定条件における表題化合物の保持時間は、約３．１分であった。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.33 (d, 3H, J = 6.5 Hz), 2.68-2.85 (m, 2H), 3.33-3.48 (m, 2H), 3.80 (s, 6H), 4.43 (s, 2H), 6.42-6.46 (m, 2H), 7.11-7.15 (m, 1H).
【0067】
（工程４）（３Ｒ，４Ｒ）－１－（２，４－ジメトキシベンジル）－４－メチル－５－オキソピロリジン－３－カルボン酸と（１Ｒ，２Ｒ）－（－）－２－アミノ－１－（４－ニトロフェニル）－１，３－プロパンジオールのジアステレオマー塩の製造
工程３で得られた（トランス）－１－（２，４－ジメトキシベンジル）－４－メチル－５－オキソピロリジン－３－カルボン酸（５８５ｇ）に、窒素気流下、室温でアセトニトリル（２．９Ｌ）を加えた。この混合液を８５℃で撹拌した。この混合液に８５℃で、（１Ｒ，２Ｒ）－（－）－２－アミノ－１－（４－ニトロフェニル）－１，３－プロパンジオール（２５４ｇ）を１４分間かけて加えた。この反応混合液を９０℃で２時間４８分撹拌した。この反応混合液を終夜撹拌して、室温まで冷却した。この析出物をろ取し、アセトニトリル（２．４Ｌ）で洗浄した。この析出物を８．５時間、室温、常圧で乾燥することで、表題化合物の粗結晶（５１６ｇ）を得た。この粗結晶に窒素気流下、室温でアセトニトリル（２．５Ｌ）と水（０．５Ｌ）を加えた。この混合液を１００℃で１時間１４分撹拌した。この混合液に１００℃でアセトニトリル（１．５Ｌ）を１時間７分かけて滴下した。この混合液を１００℃で１０分間撹拌した。この混合液を２１時間１０分撹拌して、室温まで冷却した。この混合液を氷冷下、３時間５４分撹拌した。この析出物をろ取し、アセトニトリル（１．５Ｌ）で洗浄した。この析出物を４時間、室温、常圧で乾燥することで、表題化合物（４４８ｇ、９９．８％ｄｅ）を収率４５％で得た。表題化合物の生成はＨＰＬＣ分析により確認した。
ＨＰＬＣの測定機器及び条件を以下に示す。
測定機器：ＨＰＬＣシステム 島津製作所 高速液体クロマトグラフ Ｐｒｏｍｉｎｅｎｃｅ
測定条件：
カラム：ＣＨＩＲＡＬ ＰＡＫ ＡＤ－３Ｒ：３μｍ，１５０ｍｍ×４．６ｍｍ（ダイセル）
カラム温度：４０℃
流速：０．５０ｍＬ／ｍｉｎ．
分析時間：１０ｍｉｎ．
検出波長：ＵＶ（２２０ｎｍ）
移動相：（Ａ液）１０ｍＭ リン酸（ナトリウム）バッファー（ｐＨ＝２．６）、（Ｂ液）アセトニトリル
移動相の送液：Ａ液及びＢ液の混合比（Ａ液／Ｂ液（体積％））は、６０／４０を保持した。
上記ＨＰＬＣ測定条件における、（３Ｒ，４Ｒ）－１－（２，４－ジメトキシベンジル）－４－メチル－５－オキソピロリジン－３－カルボン酸の保持時間は約５．６分、（３Ｓ，４Ｓ）－１－（２，４－ジメトキシベンジル）－４－メチル－５－オキソピロリジン－３－カルボン酸の保持時間は約６．５分であった。
表題化合物の立体構造は、メチルイソブチルケトンから再結晶して得られた単結晶のＸ線結晶構造解析により、決定した。
ジアステレオマー過剰率は、本測定結果におけるＨＰＬＣ面積百分率により決定した（（３Ｒ，４Ｒ）体／（３Ｓ，４Ｓ）体＝９９．８８６％／０．１１４％）。
【化16】
ＨＰＬＣの測定機器及び条件を以下に示す。
測定機器：ＨＰＬＣシステム 島津製作所 高速液体クロマトグラフ Ｐｒｏｍｉｎｅｎｃｅ
測定条件：
カラム：ＣＨＩＲＡＬ ＰＡＫ ＡＤ－３Ｒ：３μｍ，１５０ｍｍ×４．６ｍｍ（ダイセル）
カラム温度：４０℃
流速：０．５０ｍＬ／ｍｉｎ．
分析時間：１０ｍｉｎ．
検出波長：ＵＶ（２２０ｎｍ）
移動相：（Ａ液）１０ｍＭ リン酸（ナトリウム）バッファー（ｐＨ＝２．６）、（Ｂ液）アセトニトリル
移動相の送液：Ａ液及びＢ液の混合比（Ａ液／Ｂ液（体積％））は、６０／４０を保持した。
上記ＨＰＬＣ測定条件における、（３Ｒ，４Ｒ）－１－（２，４－ジメトキシベンジル）－４－メチル－５－オキソピロリジン－３－カルボン酸の保持時間は約５．６分、（３Ｓ，４Ｓ）－１－（２，４－ジメトキシベンジル）－４－メチル－５－オキソピロリジン－３－カルボン酸の保持時間は約６．５分であった。
表題化合物の立体構造は、メチルイソブチルケトンから再結晶して得られた単結晶のＸ線結晶構造解析により、決定した。
ジアステレオマー過剰率は、本測定結果におけるＨＰＬＣ面積百分率により決定した（（３Ｒ，４Ｒ）体／（３Ｓ，４Ｓ）体＝９９．８８６％／０．１１４％）。
【0068】
（工程５）（３Ｒ，４Ｒ）－１－（２，４－ジメトキシベンジル）－４－メチル－５－オキソピロリジン－３－カルボン酸の製造
工程４で得られた（３Ｒ，４Ｒ）－１－（２，４－ジメトキシベンジル）－４－メチル－５－オキソピロリジン－３－カルボン酸と（１Ｒ，２Ｒ）－（－）－２－アミノ－１－（４－ニトロフェニル）－１，３－プロパンジオールのジアステレオマー塩（４４８ｇ）に、室温で酢酸エチル（１．８Ｌ）と水（１．３４Ｌ）を加えた。この混合液に室温で、６Ｎ塩酸（１６８ｍＬ）を１６分間かけて滴下した。この混合液を分層した。この水層を酢酸エチル（４５０ｍＬ）で３回抽出した。得られた有機層を合わせて、２Ｎ塩酸（２２４ｍＬ）、飽和食塩水（２２４ｍＬ）で順次洗浄し、硫酸ナトリウム（９０ｇ）で乾燥し、濃縮した。この残渣にトルエン（２２０ｍＬ）を加え、濃縮した。この残渣を室温で減圧乾燥することで表題化合物（２５４ｇ）を収率９８％で得た。
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.15 (d, 3H, J = 7.2 Hz), 2.50-2.58 (m, 1H), 2.73-2.83 (m, 1H), 3.18-3.25 (m, 1H), 3.30-3.38 (m, 1H), 3.75 (s, 3H), 3.77 (s, 3H), 4.19-4.35 (m, 2H), 6.48 (dd, 1H, J = 8.4, 2.3 Hz), 6.56 (d, 1H, J = 2.3 Hz), 7.00 (d, 1H, J = 8.4 Hz), 12.61 (br s, 1H).
【化17】
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.15 (d, 3H, J = 7.2 Hz), 2.50-2.58 (m, 1H), 2.73-2.83 (m, 1H), 3.18-3.25 (m, 1H), 3.30-3.38 (m, 1H), 3.75 (s, 3H), 3.77 (s, 3H), 4.19-4.35 (m, 2H), 6.48 (dd, 1H, J = 8.4, 2.3 Hz), 6.56 (d, 1H, J = 2.3 Hz), 7.00 (d, 1H, J = 8.4 Hz), 12.61 (br s, 1H).
【0069】
［実施例１］（３Ｒ，４Ｒ）－Ｎ－（５－（３－（ｔｅｒｔ－ブトキシ）－５－フルオロフェニル）－１－（トリフルオロメチル）－１Ｈ－ピラゾール－３－イル）－４－メチル－５－オキソピロリジン－３－カルボキサミドの合成
【化18】
【0070】
（工程１）３－（２，５－ジメチル－１Ｈ－ピロール－１－イル）－１Ｈ－ピラゾールの製造
１Ｈ－ピラゾール－３－アミン（１００ｇ）に室温で、酢酸（１Ｌ）を加え、５分間撹拌した。この混合液に、室温で２，５－ヘキサンジオン（１４８ｍＬ）を加え、５分間撹拌した。この反応混合液を１２０℃にて２．５時間撹拌し、室温まで冷却した。この反応混合液に水（１Ｌ）を室温で加えた。この反応混合液を室温で５０分間撹拌した。析出した固体をろ取し、水（１Ｌ）で洗浄した。得られた湿固体を室温、常圧で終夜乾燥後、６５℃で３日と８．５時間減圧乾燥することで、表題化合物（１７２．４７ｇ）を収率８９％で得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.11 (s, 6H), 5.90 (s, 2H), 6.25 (d, 1H, J = 2.4 Hz), 7.51 (d, 1H, J = 2.4 Hz).
【化19】
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.11 (s, 6H), 5.90 (s, 2H), 6.25 (d, 1H, J = 2.4 Hz), 7.51 (d, 1H, J = 2.4 Hz).
【0071】
（工程２）１－（ブロモジフルオロメチル）－３－（２，５－ジメチル－１Ｈ－ピロール－１－イル）－１Ｈ－ピラゾール及び１－（ブロモジフルオロメチル）－５－（２，５－ジメチル－１Ｈ－ピロール－１－イル）－１Ｈ－ピラゾールの混合物の製造
アルゴン気流下、氷冷下でＤＭＦ（１００ｍＬ）を水素化ナトリウム（１４．９ｇ）に加えた。この混合液に工程１で得られた３－（２，５－ジメチル－１Ｈ－ピロール－１－イル）－１Ｈ－ピラゾール（４０ｇ）のＤＭＦ（１５０ｍＬ）懸濁液を氷冷下で２０分間かけて滴下した。使用した滴下ロートをＤＭＦ（５０ｍＬ）で洗浄し、洗浄液を反応混合液に加えた。この反応混合液を水冷下で１．５時間撹拌した。この反応混合液に氷冷下でテトラブチルアンモニウムブロミド（０．８０ｇ）を加えた。この反応混合液を氷冷下、１５分間撹拌した。この反応混合液に、ジブロモジフルオロメタン（４５ｍＬ）のＤＭＦ（５０ｍＬ）溶液を氷冷下、１５分間かけて滴下した。この反応混合液を水冷下、２時間１０分撹拌した。この反応混合液にアルゴン雰囲気下、ジブロモジフルオロメタン（２０ｍＬ）を水冷下、滴下した。この反応混合液を水冷下、４０分間撹拌した後、終夜静置した。この反応混合液に氷冷下、飽和塩化アンモニウム水溶液（２００ｍＬ）を加えた。この反応混合液に酢酸エチル及び水を加えた。この反応混合液をセライトを通してろ過し、分層した。この水層を酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を合わせ、そこに飽和食塩水を加えた。この混合液をセライトを通してろ過し、分層した。この水層を酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を合わせて硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮した。この残渣にトルエン（２５０ｍＬ）を加え、濃縮した。この作業を再度行った。この残渣に酢酸エチル（約１５０ｍＬ）を加え、不溶物をろ去した。この不溶物を酢酸エチルで洗浄した。得られたろ液を合わせて濃縮した。この残渣を撹拌しながら１０分間室温で減圧乾燥した。この残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ－ヘキサン／酢酸エチル＝３０／１から２０／１）で精製することにより、表題化合物（４０．６ｇ、３．７重量％のヘキサンを含む、１－（ブロモジフルオロメチル）－３－（２，５－ジメチル－１Ｈ－ピロール－１－イル）－１Ｈ－ピラゾール：１－（ブロモジフルオロメチル）－５－（２，５－ジメチル－１Ｈ－ピロール－１－イル）－１Ｈ－ピラゾール＝約３：１）を収率５４％で得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.03 (s, 1.5H), 2.18 (s, 4.5H), 5.89 (s, 1.5H), 5.91 (s, 0.5H), 6.39-6.41 (m, 1H), 7.86-7.88 (m, 1H).
【化20】
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.03 (s, 1.5H), 2.18 (s, 4.5H), 5.89 (s, 1.5H), 5.91 (s, 0.5H), 6.39-6.41 (m, 1H), 7.86-7.88 (m, 1H).
【0072】
（工程３）３－（２，５－ジメチル－１Ｈ－ピロール－１－イル）－１－（トリフルオロメチル）－１Ｈ－ピラゾール及び５－（２，５－ジメチル－１Ｈ－ピロール－１－イル）－１－（トリフルオロメチル）－１Ｈ－ピラゾールの混合物の製造
工程２で得られた１－（ブロモジフルオロメチル）－３－（２，５－ジメチル－１Ｈ－ピロール－１－イル）－１Ｈ－ピラゾール及び１－（ブロモジフルオロメチル）－５－（２，５－ジメチル－１Ｈ－ピロール－１－イル）－１Ｈ－ピラゾールの混合物（４０．６ｇ、３．７重量％のヘキサンを含む）のスルホラン（４００ｍＬ）溶液に、アルゴン気流下、室温でテトラメチルアンモニウムフルオリド（１３．０ｇ）を加えた。この反応混合液を１００℃で１時間撹拌した。この反応混合液に１００℃でテトラメチルアンモニウムフルオリド（９．４ｇ）を追加した。この反応混合液を１００℃で１時間１５分撹拌した。この反応混合液に１００℃でテトラメチルアンモニウムフルオリド（１０ｇ）を追加した。この反応混合液を１００℃で４０分間撹拌した。さらに、この反応混合液に１００℃でテトラメチルアンモニウムフルオリド（５ｇ）を追加した。この反応混合液を１００℃で２時間５分撹拌し、室温に冷却した。この反応混合液に氷冷下で水（４００ｍＬ）及び飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２００ｍＬ）を順次ゆっくり加えた。この反応混合液にｎ－ヘキサン／酢酸エチル（２／３）混合液（４００ｍＬ）を加えた。この反応混合液をセライトを通してろ過し、分層した。この有機層を飽和食塩水で洗浄した。得られた水層を合わせ、ｎ－ヘキサン／酢酸エチル（２／３）混合液（３００ｍＬ）で抽出した。この有機層を飽和食塩水で洗浄した。得られた有機層を合わせ、硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮した。この残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ－ヘキサン／酢酸エチル＝３０／１から２５／１）で精製することにより、表題化合物（２１．８５ｇ、２４．４重量％のｎ－ヘキサンを含む、３－（２，５－ジメチル－１Ｈ－ピロール－１－イル）－１－（トリフルオロメチル）－１Ｈ－ピラゾール：５－（２，５－ジメチル－１Ｈ－ピロール－１－イル）－１－（トリフルオロメチル）－１Ｈ－ピラゾール＝約６：１）を収率５１％で得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.00 (s, 0.86H), 2.16 (s, 5.1H), 5.89 (s, 1.7H), 5.91 (s, 0.29H), 6.40 (d, 0.86H, J = 2.8 Hz), 6.42 (d, 0.14H, J = 1.6 Hz), 7.83 (d, 0.14H, J = 1.6 Hz), 7.87 (d, 0.86H, J = 2.8 Hz).
【化21】
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.00 (s, 0.86H), 2.16 (s, 5.1H), 5.89 (s, 1.7H), 5.91 (s, 0.29H), 6.40 (d, 0.86H, J = 2.8 Hz), 6.42 (d, 0.14H, J = 1.6 Hz), 7.83 (d, 0.14H, J = 1.6 Hz), 7.87 (d, 0.86H, J = 2.8 Hz).
【0073】
（工程４）３－（２，５－ジメチル－１Ｈ－ピロール－１－イル）－５－ヨード－１－（トリフルオロメチル）－１Ｈ－ピラゾールの製造
工程３で得られた３－（２，５－ジメチル－１Ｈ－ピロール－１－イル）－１－（トリフルオロメチル）－１Ｈ－ピラゾール及び５－（２，５－ジメチル－１Ｈ－ピロール－１－イル）－１－（トリフルオロメチル）－１Ｈ－ピラゾールの混合物（２１．８５ｇ、２４．４重量％のｎ－ヘキサンを含む）のＴＨＦ（１８０ｍＬ）溶液に、アルゴン雰囲気下、－７０℃でｎ－ブチルリチウムのｎ－ヘキサン溶液（１．５５Ｍ、５１．１ｍＬ）を５分間かけて滴下した。この反応混合液を－７０℃で２５分間撹拌した。この反応混合液に－７０℃でヨウ素（１８．３ｇ）のＴＨＦ（５０ｍＬ）溶液を５分間かけて滴下した。使用した滴下ロートをＴＨＦ（１０ｍＬ）で洗浄し、洗浄液を反応混合液に加えた。この反応混合液を－７０℃で３０分間撹拌した。この反応混合液に－７０℃でヨウ素（０．９０ｇ）を追加した。この反応混合液を－７０℃で０．５時間撹拌した。この反応混合液に水（２５０ｍＬ）、酢酸エチル（２５０ｍＬ）を－７０℃で順次加えた。この反応混合液を室温で撹拌し、分層した。この有機層を１０重量％の亜硫酸水素ナトリウム水溶液（２５０ｍＬ）、飽和食塩水（１５０ｍＬ）で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮した。この残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ－ヘキサン／酢酸エチル＝５０／１から３０／１）で精製した。表題化合物を含有する画分を収集し、濃縮した。この残渣にｎ－ヘキサンを加えた。残渣の重量が２７．５ｇになるまで濃縮した。この残渣にｎ－ヘキサン（２０ｍＬ）を加えた。この懸濁液を室温で１０分間撹拌した。この析出物をろ取し、ｎ－ヘキサン（３０ｍＬ）で洗浄し、減圧乾燥することで表題化合物（１７．１４ｇ）を収率６７％で得た。さらに、このろ液を濃縮した。この残渣をｎ－ヘキサンから結晶化させて、表題化合物（１．６３ｇ）を収率６．４％で得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.15 (s, 6H), 5.88 (s, 2H), 6.60 (s, 1H).
【化22】
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.15 (s, 6H), 5.88 (s, 2H), 6.60 (s, 1H).
【0074】
（工程５）５－ヨード－１－（トリフルオロメチル）－１Ｈ－ピラゾール－３－アミンの製造
工程４で得られた３－（２，５－ジメチル－１Ｈ－ピロール－１－イル）－５－ヨード－１－（トリフルオロメチル）－１Ｈ－ピラゾール（１８．７７ｇ）に、室温でエタノールと水の混合液（エタノール／水＝２／１、４８０ｍＬ）、ヒドロキシルアミン・塩酸塩（７３．５ｇ）、トリエチルアミン（１４．７ｍＬ）を順次加えた。この反応混合液を１００℃で３８時間２０分撹拌した。この反応混合液を室温に冷却し、エタノールを留去した。この反応混合液に氷冷下、水酸化ナトリウム（４２．３ｇ）の水（１３０ｍＬ）溶液をゆっくり加え、続いて酢酸エチル（２００ｍＬ）を加えた。この反応混合液を撹拌した後、分層した。この水層を酢酸エチル（２００ｍＬ）で抽出した。得られた有機層を合わせて、飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮した。この残渣に酢酸エチル（３０ｍＬ）及びｎ－ヘキサン（３０ｍＬ）を加えて、不溶物をろ去した。このろ液を濃縮した。この残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ－ヘキサン／酢酸エチル＝４／１から３／１）で精製することにより、表題化合物（１６．２７ｇ、１４重量％の酢酸エチルを含む）を収率９６％で得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 3.93 (br s, 2H), 6.09 (s, 1H).
【化23】
1H-NMR (CDCl3) δ: 3.93 (br s, 2H), 6.09 (s, 1H).
【0075】
（工程６）５－（３－（ｔｅｒｔ－ブトキシ）－５－フルオロフェニル）－１－（トリフルオロメチル）－１Ｈ－ピラゾール－３－アミンの製造
工程５で得られた５－ヨード－１－（トリフルオロメチル）－１Ｈ－ピラゾール－３－アミン（８０ｍｇ、１４重量％の酢酸エチルを含む）のトルエン（３ｍＬ）溶液に、アルゴン雰囲気下、室温で［製造例１］の（工程２）で得られた２－（３－（ｔｅｒｔ－ブトキシ）－５－フルオロフェニル）－４，４，５，５－テトラメチル－１，３，２－ジオキサボロラン（１２７ｍｇ）、酢酸パラジウム（ＩＩ）（６．５ｍｇ）、２－ジシクロヘキシルホスフィノ－２’，６’－ジメトキシビフェニル（２０ｍｇ）を順次加えた。この反応混合液を室温で４分間撹拌した。この反応混合液に、室温で２Ｍリン酸三カリウム水溶液（１．５ｍＬ）を加えた。この反応混合液を９０℃で４７分間撹拌した。この反応混合液を室温に冷却した。この反応混合液に、酢酸エチル及び飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えた。この反応混合液を綿栓を通してろ過し、酢酸エチルで抽出した。この有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮した。この残渣と、別途、工程５で得られた５－ヨード－１－（トリフルオロメチル）－１Ｈ－ピラゾール－３－アミン（７０ｍｇ、１４重量％の酢酸エチルを含む）を用いて本工程と同様にして得られた表題化合物の一部（１５ｍｇ）とを合わせ、それらをシリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ－ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）で精製することにより、表題化合物（１０８ｍｇ）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.36 (s, 9H), 3.93 (br s, 2H), 5.83 (s, 1H), 6.75-6.85 (m, 3H).
【化24】
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.36 (s, 9H), 3.93 (br s, 2H), 5.83 (s, 1H), 6.75-6.85 (m, 3H).
【0076】
（工程７）（３Ｒ，４Ｒ）－Ｎ－（５－（３－（ｔｅｒｔ－ブトキシ）－５－フルオロフェニル）－１－（トリフルオロメチル）－１Ｈ－ピラゾール－３－イル）－１－（２，４－ジメトキシベンジル）－４－メチル－５－オキソピロリジン－３－カルボキサミドの製造
アルゴン雰囲気下、［製造例２］の（工程５）と同様にして得られた（３Ｒ，４Ｒ）－１－（２，４－ジメトキシベンジル）－４－メチル－５－オキソピロリジン－３－カルボン酸（５５ｍｇ）のクロロホルム（０．５５ｍＬ）溶液に、氷冷下、ＤＭＦ（１μＬ）と塩化オキサリル（３３μＬ）を順次加えた。この反応混合液を氷冷下で５０分間撹拌した。この反応混合液を濃縮し、減圧乾燥した。この残渣にアルゴン雰囲気下、氷冷下でクロロホルム（０．４ｍＬ）、工程６で得られた５－（３－（ｔｅｒｔ－ブトキシ）－５－フルオロフェニル）－１－（トリフルオロメチル）－１Ｈ－ピラゾール－３－アミン（４０ｍｇ）を順次加えた。この反応混合液に氷冷下、ピリジン（５０μＬ）を加えた。この反応混合液を氷冷下で５分間、室温で３５分間撹拌した。この反応混合液に室温で飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。この有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮した。この残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ－ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）で精製することにより、表題化合物（６０ｍｇ）を収率８０％で得た。表題化合物の生成は薄層クロマトグラフィーにより確認した（展開溶媒：ｎ－ヘキサン／酢酸エチル＝２／１、Ｒｆ値：０．１９）。
【化25】
【0077】
（工程８）（３Ｒ，４Ｒ）－Ｎ－（５－（３－フルオロ－５－ヒドロキシフェニル）－１－（トリフルオロメチル）－１Ｈ－ピラゾール－３－イル）－４－メチル－５－オキソピロリジン－３－カルボキサミドの製造
工程７で得られた（３Ｒ，４Ｒ）－Ｎ－（５－（３－（ｔｅｒｔ－ブトキシ）－５－フルオロフェニル）－１－（トリフルオロメチル）－１Ｈ－ピラゾール－３－イル）－１－（２，４－ジメトキシベンジル）－４－メチル－５－オキソピロリジン－３－カルボキサミド（６０ｍｇ）に、室温でアニソール（５８μＬ）及びトリフルオロ酢酸（２ｍＬ）を加えた。この反応混合液を８０℃で１時間２０分撹拌した。この反応混合液を濃縮した。この残渣に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。この有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮した。この残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶媒：クロロホルム／酢酸エチル＝１／１）で精製することにより、表題化合物（２９．９ｍｇ）を収率７６％で得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 1.06 (d, 3H, J = 7.2 Hz), 2.50-2.53 (m, 1H), 2.96-3.04 (m, 1H), 3.17-3.23 (m, 1H), 3.40-3.46 (m, 1H), 6.67-6.81 (m, 3H), 6.96 (s, 1H), 7.67 (s, 1H), 10.34 (s, 1H), 11.26 (s, 1H).
【化26】
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 1.06 (d, 3H, J = 7.2 Hz), 2.50-2.53 (m, 1H), 2.96-3.04 (m, 1H), 3.17-3.23 (m, 1H), 3.40-3.46 (m, 1H), 6.67-6.81 (m, 3H), 6.96 (s, 1H), 7.67 (s, 1H), 10.34 (s, 1H), 11.26 (s, 1H).
【0078】
（工程９）（３Ｒ，４Ｒ）－Ｎ－（５－（３－（ｔｅｒｔ－ブトキシ）－５－フルオロフェニル）－１－（トリフルオロメチル）－１Ｈ－ピラゾール－３－イル）－４－メチル－５－オキソピロリジン－３－カルボキサミドの製造
工程８で得られた（３Ｒ，４Ｒ）－Ｎ－（５－（３－フルオロ－５－ヒドロキシフェニル）－１－（トリフルオロメチル）－１Ｈ－ピラゾール－３－イル）－４－メチル－５－オキソピロリジン－３－カルボキサミド（３０ｍｇ）に、室温で二炭酸ジ－ｔｅｒｔ－ブチル、クロロホルム（１ｍＬ）、過塩素酸マグネシウムを順次加えた。この反応混合物を５５℃で０．５時間撹拌した。この反応混合液に５５℃で過塩素酸マグネシウムを加えた。この反応混合液を５５℃で１時間１０分撹拌した。この反応混合液に５５℃でさらに過塩素酸マグネシウムを加えた。この反応混合液を５５℃で２０分間撹拌した。この反応混合液を室温に冷却し、酢酸エチルを加えた。この反応混合液を１Ｎ塩酸、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮した。この残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶媒：クロロホルム／メタノール＝１５／１）で精製することにより、表題化合物（１９．２ｍｇ）を収率５６％で得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 1.08 (d, 3H, J = 7.2 Hz), 1.34 (s, 9H), 2.51-2.55 (m, 1H), 2.98-3.06 (m, 1H), 3.19-3.25 (m, 1H), 3.42-3.48 (m, 1H), 6.95 (s, 1H) , 7.00-7.07 (m, 2H) , 7.11-7.17 (m, 1H), 7.68 (s, 1H), 11.28 (s, 1H).
MS (M+H) 443, MS (M-H) 441
【化27】
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 1.08 (d, 3H, J = 7.2 Hz), 1.34 (s, 9H), 2.51-2.55 (m, 1H), 2.98-3.06 (m, 1H), 3.19-3.25 (m, 1H), 3.42-3.48 (m, 1H), 6.95 (s, 1H) , 7.00-7.07 (m, 2H) , 7.11-7.17 (m, 1H), 7.68 (s, 1H), 11.28 (s, 1H).
MS (M+H) 443, MS (M-H) 441
【0079】
（工程１０）（３Ｒ，４Ｒ）－Ｎ－（５－（３－（ｔｅｒｔ－ブトキシ）－５－フルオロフェニル）－１－（トリフルオロメチル）－１Ｈ－ピラゾール－３－イル）－４－メチル－５－オキソピロリジン－３－カルボキサミドの結晶の製造
表題化合物（１００ｍｇ）をエタノール（０．４ｍＬ）に６５℃で８分間撹拌することにより溶解させた。この混合溶液に６５℃で水（０．４ｍＬ）を２分間かけて滴下した。この混合液を６５℃で１０分間撹拌した。この混合液を２時間かけて２５℃になるまで撹拌した。さらに、この混合液を室温で２時間撹拌した。この混合液より析出した固体をろ取した。得られた固体をエタノール／水（＝１／１）で洗浄し、６０℃で減圧乾燥することで表題化合物の結晶（８７．８ｍｇ）を８８％の収率で得た。
表題化合物（１００ｍｇ）をエタノール（０．４ｍＬ）に６５℃で８分間撹拌することにより溶解させた。この混合溶液に６５℃で水（０．４ｍＬ）を２分間かけて滴下した。この混合液を６５℃で１０分間撹拌した。この混合液を２時間かけて２５℃になるまで撹拌した。さらに、この混合液を室温で２時間撹拌した。この混合液より析出した固体をろ取した。得られた固体をエタノール／水（＝１／１）で洗浄し、６０℃で減圧乾燥することで表題化合物の結晶（８７．８ｍｇ）を８８％の収率で得た。
【0080】
［参考例］
下記表で表される化合物Ａ、化合物Ｂ及び化合物Ｃを、国際公開第２０１３／０３１９２２号公報の記載に基づいて得た。
下記表で表される化合物Ａ、化合物Ｂ及び化合物Ｃを、国際公開第２０１３／０３１９２２号公報の記載に基づいて得た。
【表1】
【0081】
下記表で表される代謝物１（化合物１の代謝物）及び代謝物Ｃ（化合物Ｃの代謝物）を各々、本実施例１及び国際公開第２０１３／０３１９２２号公報の記載に基づいて得た。
【表2】
【0082】
［試験例１］
被験化合物のＳＧＬＴ１阻害活性（ＩＣ５０値）は、ＳＧＬＴ１によって輸送されるα－メチル－Ｄ－グルコピラノシドのラベル体（１４Ｃ－ＡＭＧ）の細胞内取り込み量を基に算出した。
１）ヒトＳＧＬＴ１発現プラスミドの構築
ｐＣＭＶ６－ｈＳＧＬＴ１（ＯｒｉＧｅｎｅ社）を鋳型とし、ベクター由来のＫｏｚａｃ ｃｏｎｓｅｎｓｕｓ配列の前にＮｈｅＩ認識切断配列を付加し、ヒトＳＧＬＴ１のタンパク質翻訳領域の直後に終止コドンＴＡＧとＳａｌＩ認識切断配列を付加した、ヒトＳＧＬＴ１を含むＤＮＡ断片をＰＣＲ（Ｐｏｌｙｍｅｒａｓｅ Ｃｈａｉｎ Ｒｅａｃｔｉｏｎ）により増幅した。精製したＤＮＡ断片を、制限酵素ＮｈｅＩとＳａｌＩで消化した後、ＮｈｅＩとＸｈｏＩで消化したｐｃＤＮＡ３．１（＋）と連結してヒトＳＧＬＴ１発現プラスミドｐｃＤＮＡ－ｈＳＧＬＴ１を構築した。ベクターに挿入したヒトＳＧＬＴ１の塩基配列は、ＧｅｎＢａｎｋ登録のヒトＳＧＬＴ１配列（Ａｃｃｅｓｓｉｏｎ ｎｕｍｂｅｒ ＮＭ＿０００３４３）のタンパク質翻訳領域と完全に一致し、また、ベクターとの接続部分の配列も想定どおりであった。
被験化合物のＳＧＬＴ１阻害活性（ＩＣ５０値）は、ＳＧＬＴ１によって輸送されるα－メチル－Ｄ－グルコピラノシドのラベル体（１４Ｃ－ＡＭＧ）の細胞内取り込み量を基に算出した。
１）ヒトＳＧＬＴ１発現プラスミドの構築
ｐＣＭＶ６－ｈＳＧＬＴ１（ＯｒｉＧｅｎｅ社）を鋳型とし、ベクター由来のＫｏｚａｃ ｃｏｎｓｅｎｓｕｓ配列の前にＮｈｅＩ認識切断配列を付加し、ヒトＳＧＬＴ１のタンパク質翻訳領域の直後に終止コドンＴＡＧとＳａｌＩ認識切断配列を付加した、ヒトＳＧＬＴ１を含むＤＮＡ断片をＰＣＲ（Ｐｏｌｙｍｅｒａｓｅ Ｃｈａｉｎ Ｒｅａｃｔｉｏｎ）により増幅した。精製したＤＮＡ断片を、制限酵素ＮｈｅＩとＳａｌＩで消化した後、ＮｈｅＩとＸｈｏＩで消化したｐｃＤＮＡ３．１（＋）と連結してヒトＳＧＬＴ１発現プラスミドｐｃＤＮＡ－ｈＳＧＬＴ１を構築した。ベクターに挿入したヒトＳＧＬＴ１の塩基配列は、ＧｅｎＢａｎｋ登録のヒトＳＧＬＴ１配列（Ａｃｃｅｓｓｉｏｎ ｎｕｍｂｅｒ ＮＭ＿０００３４３）のタンパク質翻訳領域と完全に一致し、また、ベクターとの接続部分の配列も想定どおりであった。
【0083】
２）ヒトＳＧＬＴ１安定発現細胞株の樹立
ヒトＳＧＬＴ発現プラスミドｐｃＤＮＡ－ｈＳＧＬＴ１をそれぞれＣＨＯ－Ｋ１細胞にＬｉｐｏｆｅｃｔａｍｉｎｅ２０００（ｉｎｖｉｔｒｏｇｅｎ社）を用いてトランスフェクションし、Ｇ４１８（ナカライテスク）存在下で薬剤耐性細胞株を選抜した。得られた薬剤耐性細胞株から、細胞あたりの１４Ｃ－ＡＭＧ取り込み量と、ＳＧＬＴ阻害剤であるｐｈｌｏｒｉｚｉｎ添加時の１４Ｃ－ＡＭＧ取り込み量の比（Ｓ／Ｂ比）が最も高い細胞株をヒトＳＧＬＴ１安定発現細胞株として選抜した。
ヒトＳＧＬＴ発現プラスミドｐｃＤＮＡ－ｈＳＧＬＴ１をそれぞれＣＨＯ－Ｋ１細胞にＬｉｐｏｆｅｃｔａｍｉｎｅ２０００（ｉｎｖｉｔｒｏｇｅｎ社）を用いてトランスフェクションし、Ｇ４１８（ナカライテスク）存在下で薬剤耐性細胞株を選抜した。得られた薬剤耐性細胞株から、細胞あたりの１４Ｃ－ＡＭＧ取り込み量と、ＳＧＬＴ阻害剤であるｐｈｌｏｒｉｚｉｎ添加時の１４Ｃ－ＡＭＧ取り込み量の比（Ｓ／Ｂ比）が最も高い細胞株をヒトＳＧＬＴ１安定発現細胞株として選抜した。
【0084】
３）ＳＧＬＴ１阻害活性の評価
ヒトＳＧＬＴ１安定発現細胞株をＢｉｏＣｏａｔＴＭ Ｐｏｌｙ－Ｄ－Ｌｙｓｉｎｅ ９６ ｗｅｌｌ ｐｌａｔｅ ｗｉｔｈ Ｌｉｄ（Ｂｅｃｔｏｎ，Ｄｉｃｋｉｎｓｏｎ ａｎｄ Ｃｏｍｐａｎｙ社）に５×１０４ｃｅｌｌｓ／ｗｅｌｌで播種し、３７℃、５％ＣＯ２で一晩培養した。培地を１００μＬ／ｗｅｌｌのＮａ（－）ｂｕｆｆｅｒ（１４０ｍＭ ｃｈｏｌｉｎｅ ｃｈｌｏｒｉｄｅ、２ｍＭ ＫＣｌ、１ｍＭ ＭｇＣｌ２、１ｍＭ ＣａＣｌ２、１０ｍＭ ＨＥＰＥＳ、５ｍＭ Ｔｒｉｓ、ｐＨ７．４）に交換し３７℃，５％ＣＯ２で２０分間静置した。Ｎａ（－）ｂｕｆｆｅｒを除去後、ＢＳＡを含むＮａ（＋）ｂｕｆｆｅｒ（１４０ｍＭ ＮａＣｌ、２ｍＭ ＫＣｌ、１ｍＭ ＭｇＣｌ２、１ｍＭ ＣａＣｌ２、１０ｍＭ ＨＥＰＥＳ、５ｍＭ Ｔｒｉｓ、ｐＨ７．４）を用いて調製した被験物質溶液を４０μＬ／ｗｅｌｌ添加した。更に、８ｋＢｑの１４Ｃ－ＡＭＧ及び２ｍＭ ＡＭＧを含むＮａ（＋）ｂｕｆｆｅｒを４０μＬ／ｗｅｌｌ加えて混和した。ブランクには、ＢＳＡを含むＮａ（－）ｂｕｆｆｅｒを４０μＬ／ｗｅｌｌ添加し、更に８ｋＢｑの１４Ｃ－ＡＭＧ及び２ｍＭ ＡＭＧを含むＮａ（－）ｂｕｆｆｅｒを４０μＬ／ｗｅｌｌ加えて混和した。３７℃、５％ＣＯ２で１時間静置した後、１００μＬ／ｗｅｌｌの氷冷したｗａｓｈ ｂｕｆｆｅｒ（１００ｍＭ ＡＭＧ、 １４０ｍＭ ｃｈｏｌｉｎｅ ｃｈｌｏｒｉｄｅ、２ｍＭ ＫＣｌ、１ｍＭ ＭｇＣｌ２、１ｍＭ ＣａＣｌ２、１０ｍＭ ＨＥＰＥＳ、５ｍＭ Ｔｒｉｓ、ｐＨ７．４）で細胞を２回洗浄して反応を停止した。５０μＬ／ｗｅｌｌの０．２Ｎ ＮａＯＨ水溶液を添加して細胞ライセートを調製した。１４Ｃ－ＡＭＧの取り込み能評価には、ＭｉｃｒｏＳｃｉｎｔ－４０（Ｐｅｒｋｉｎ－Ｅｌｍｅｒ社）を１００μＬ／ｗｅｌｌ分注したＯｐｔｉＰｌａｔｅ９６（Ｐｅｒｋｉｎ－Ｅｌｍｅｒ社）に細胞ライセートを全量移し、ＴＯＰＣＯＵＮＴ ＮＸＴ（Ｐｅｒｋｉｎ－Ｅｌｍｅｒ社）で１４ＣのＣＰＭを測定した。
各処置をしたウェルのＣＰＭの平均値からブランクウェルのＣＰＭの平均値を差し引いた値をデータとした。被験物質の各濃度の阻害率は、以下の式から算出した：
［（Ａ－Ｂ）／Ａ］×１００
（式中、Ａは溶媒対照のデータ、Ｂは被験物質処置のデータを示す）
被験物質のＩＣ５０値（５０％阻害濃度）は、阻害率が５０％を挟む２点の濃度とその阻害率から算出した。本試験によって、化合物１がＳＧＬＴ１阻害活性を有することを確認した。
ヒトＳＧＬＴ１安定発現細胞株をＢｉｏＣｏａｔＴＭ Ｐｏｌｙ－Ｄ－Ｌｙｓｉｎｅ ９６ ｗｅｌｌ ｐｌａｔｅ ｗｉｔｈ Ｌｉｄ（Ｂｅｃｔｏｎ，Ｄｉｃｋｉｎｓｏｎ ａｎｄ Ｃｏｍｐａｎｙ社）に５×１０４ｃｅｌｌｓ／ｗｅｌｌで播種し、３７℃、５％ＣＯ２で一晩培養した。培地を１００μＬ／ｗｅｌｌのＮａ（－）ｂｕｆｆｅｒ（１４０ｍＭ ｃｈｏｌｉｎｅ ｃｈｌｏｒｉｄｅ、２ｍＭ ＫＣｌ、１ｍＭ ＭｇＣｌ２、１ｍＭ ＣａＣｌ２、１０ｍＭ ＨＥＰＥＳ、５ｍＭ Ｔｒｉｓ、ｐＨ７．４）に交換し３７℃，５％ＣＯ２で２０分間静置した。Ｎａ（－）ｂｕｆｆｅｒを除去後、ＢＳＡを含むＮａ（＋）ｂｕｆｆｅｒ（１４０ｍＭ ＮａＣｌ、２ｍＭ ＫＣｌ、１ｍＭ ＭｇＣｌ２、１ｍＭ ＣａＣｌ２、１０ｍＭ ＨＥＰＥＳ、５ｍＭ Ｔｒｉｓ、ｐＨ７．４）を用いて調製した被験物質溶液を４０μＬ／ｗｅｌｌ添加した。更に、８ｋＢｑの１４Ｃ－ＡＭＧ及び２ｍＭ ＡＭＧを含むＮａ（＋）ｂｕｆｆｅｒを４０μＬ／ｗｅｌｌ加えて混和した。ブランクには、ＢＳＡを含むＮａ（－）ｂｕｆｆｅｒを４０μＬ／ｗｅｌｌ添加し、更に８ｋＢｑの１４Ｃ－ＡＭＧ及び２ｍＭ ＡＭＧを含むＮａ（－）ｂｕｆｆｅｒを４０μＬ／ｗｅｌｌ加えて混和した。３７℃、５％ＣＯ２で１時間静置した後、１００μＬ／ｗｅｌｌの氷冷したｗａｓｈ ｂｕｆｆｅｒ（１００ｍＭ ＡＭＧ、 １４０ｍＭ ｃｈｏｌｉｎｅ ｃｈｌｏｒｉｄｅ、２ｍＭ ＫＣｌ、１ｍＭ ＭｇＣｌ２、１ｍＭ ＣａＣｌ２、１０ｍＭ ＨＥＰＥＳ、５ｍＭ Ｔｒｉｓ、ｐＨ７．４）で細胞を２回洗浄して反応を停止した。５０μＬ／ｗｅｌｌの０．２Ｎ ＮａＯＨ水溶液を添加して細胞ライセートを調製した。１４Ｃ－ＡＭＧの取り込み能評価には、ＭｉｃｒｏＳｃｉｎｔ－４０（Ｐｅｒｋｉｎ－Ｅｌｍｅｒ社）を１００μＬ／ｗｅｌｌ分注したＯｐｔｉＰｌａｔｅ９６（Ｐｅｒｋｉｎ－Ｅｌｍｅｒ社）に細胞ライセートを全量移し、ＴＯＰＣＯＵＮＴ ＮＸＴ（Ｐｅｒｋｉｎ－Ｅｌｍｅｒ社）で１４ＣのＣＰＭを測定した。
各処置をしたウェルのＣＰＭの平均値からブランクウェルのＣＰＭの平均値を差し引いた値をデータとした。被験物質の各濃度の阻害率は、以下の式から算出した：
［（Ａ－Ｂ）／Ａ］×１００
（式中、Ａは溶媒対照のデータ、Ｂは被験物質処置のデータを示す）
被験物質のＩＣ５０値（５０％阻害濃度）は、阻害率が５０％を挟む２点の濃度とその阻害率から算出した。本試験によって、化合物１がＳＧＬＴ１阻害活性を有することを確認した。
【0085】
［試験例２］
ＯＧＴＴ（経口グルコース負荷試験）
約４時間絶食した雄性、ＳＤラット（８週齢、日本チャールス・リバー株式会社）（各群６例）に、媒体（０．５％メチルセルロース液）、又は０．５％メチルセルロース液に懸濁した化合物１（１、３又は１０ｍｇ／ｋｇ）を５ｍＬ／ｋｇで経口投与した。その１６時間後に０．４ｇ／ｍＬのグルコース溶液を５ｍＬ／ｋｇで経口投与することによりグルコース負荷した。グルコース負荷の直前、負荷後３０分、負荷後６０分及び負荷後１２０分に尾静脈から採血を行い、生化学自動分析装置（ＨＩＴＡＣＨＩ、型式７１８０）を用いて血糖値を測定した。
結果を図１に示す。データは、媒体群に対する化合物投与群のグルコース負荷後１２０分までの血糖値の曲線下面積（ΔＡＵＣ）の割合（％ ｏｆ Ｖｅｈｉｃｌｅ）の平均値±標準偏差を表す。統計解析は、Ｓｔｅｅｌの多重検定を行った。有意水準は両側５％とした。その結果、化合物１はグルコース負荷後の血糖値を媒体と比較して有意に低下させた。
ＯＧＴＴ（経口グルコース負荷試験）
約４時間絶食した雄性、ＳＤラット（８週齢、日本チャールス・リバー株式会社）（各群６例）に、媒体（０．５％メチルセルロース液）、又は０．５％メチルセルロース液に懸濁した化合物１（１、３又は１０ｍｇ／ｋｇ）を５ｍＬ／ｋｇで経口投与した。その１６時間後に０．４ｇ／ｍＬのグルコース溶液を５ｍＬ／ｋｇで経口投与することによりグルコース負荷した。グルコース負荷の直前、負荷後３０分、負荷後６０分及び負荷後１２０分に尾静脈から採血を行い、生化学自動分析装置（ＨＩＴＡＣＨＩ、型式７１８０）を用いて血糖値を測定した。
結果を図１に示す。データは、媒体群に対する化合物投与群のグルコース負荷後１２０分までの血糖値の曲線下面積（ΔＡＵＣ）の割合（％ ｏｆ Ｖｅｈｉｃｌｅ）の平均値±標準偏差を表す。統計解析は、Ｓｔｅｅｌの多重検定を行った。有意水準は両側５％とした。その結果、化合物１はグルコース負荷後の血糖値を媒体と比較して有意に低下させた。
【0086】
［試験例３］
ＯＧＴＴ（経口グルコース負荷試験）
約４時間絶食した雄性、ＳＤラット（８週齢、日本チャールス・リバー株式会社）（各群５例）に、媒体（０．５％メチルセルロース液）、又は０．５％メチルセルロース液に懸濁した化合物１、化合物Ａ又は化合物Ｂ（各３ｍｇ／ｋｇ）を５ｍＬ／ｋｇで経口投与した。その１６時間後に０．４ｇ／ｍＬのグルコース溶液を５ｍＬ／ｋｇで経口投与することによりグルコース負荷した。グルコース負荷の直前、負荷後３０分、負荷後６０分及び負荷後１２０分に尾静脈から採血を行い、生化学自動分析装置（ＨＩＴＡＣＨＩ、型式７１８０）を用いて血糖値を測定した。
結果を図２に示す。データは、媒体群に対する化合物投与群のグルコース負荷後１２０分までの血糖値の曲線下面積（ΔＡＵＣ）の割合（％ ｏｆ Ｖｅｈｉｃｌｅ）の平均値±標準偏差を表す。統計解析は、Ｄｕｎｎｅｔｔの多重群検定を行った。有意水準は両側５％とした。その結果、化合物１のみがグルコース負荷後の血糖値を媒体と比較して有意に低下させた。
ＯＧＴＴ（経口グルコース負荷試験）
約４時間絶食した雄性、ＳＤラット（８週齢、日本チャールス・リバー株式会社）（各群５例）に、媒体（０．５％メチルセルロース液）、又は０．５％メチルセルロース液に懸濁した化合物１、化合物Ａ又は化合物Ｂ（各３ｍｇ／ｋｇ）を５ｍＬ／ｋｇで経口投与した。その１６時間後に０．４ｇ／ｍＬのグルコース溶液を５ｍＬ／ｋｇで経口投与することによりグルコース負荷した。グルコース負荷の直前、負荷後３０分、負荷後６０分及び負荷後１２０分に尾静脈から採血を行い、生化学自動分析装置（ＨＩＴＡＣＨＩ、型式７１８０）を用いて血糖値を測定した。
結果を図２に示す。データは、媒体群に対する化合物投与群のグルコース負荷後１２０分までの血糖値の曲線下面積（ΔＡＵＣ）の割合（％ ｏｆ Ｖｅｈｉｃｌｅ）の平均値±標準偏差を表す。統計解析は、Ｄｕｎｎｅｔｔの多重群検定を行った。有意水準は両側５％とした。その結果、化合物１のみがグルコース負荷後の血糖値を媒体と比較して有意に低下させた。
【0087】
［試験例４］
Ａｍｅｓ試験（復帰突然変異試験）
代謝物１及び代謝物Ｃを以下のとおり試験した。本試験の目的は、各代謝物について、ネズミチフス菌（ＴＡ９８、ＴＡ１５３７、ＴＡ１００及びＴＡ１５３５）及び大腸菌（ＷＰ２ｕｖｒＡ）の標準菌株においてラット肝代謝活性化系（Ｓ９ ｍｉｘ）の存在下又は非存在下における復帰突然変異誘発能の有無を評価することである。
本試験では溶媒としてジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ，１００μＬ／プレート）を用いた。
Ｓ９ ｍｉｘの存在下又は非存在下にてプレインキュベーション法を用いて試験を行った。Ｓ９ ｍｉｘ非存在下での試験では、リン酸ナトリウム緩衝液（ｐＨ７．４）を加えた。
Ｓ９ ｍｉｘ ０．５ｍＬ又は０．１ｍｏｌ／Ｌリン酸ナトリウム緩衝液（ｐＨ７．４）０．５ｍＬ及び菌培養液０．１ｍＬを、陰性対照物質（ＤＭＳＯのみ）０．１ｍＬ、代謝物又は陽性対照物質を含む試験管に加えた。この混合物を３７℃にて２０分間振盪しながらプレインキュベーションした。プレインキュベーション後、上層寒天２ｍＬを加え、混合物をボルテックスミキサーで混合し、プレート上に播種した。各処理あたり２つのプレートを用いた。各プレートを３７±１℃にて４８時間以上インキュベーションし、復帰突然変異コロニーを計数した。次いで、各処理プレートあたりの復帰突然変異コロニーの平均数を算出した。被験物質の抗菌作用による生育阻害及び被験物質の析出の有無を、肉眼又は実体顕微鏡で観察した。平均復帰突然変異コロニー数が１以上の用量で陰性対照の２倍を超える用量依存的増加を示した場合、結果を陽性と判断した。統計的比較を用いずに、平均値に基づき評価した。
本試験の結果を以下の表に示す（表１～４及び表５～７）。結果として、代謝物１は試験菌株のいずれにおいても復帰突然変異誘発能を示さなかったのに対し、代謝物ＣはＳ９ ｍｉｘ存在下でのＴＡ９８及びＳ９ ｍｉｘ存在下でのＴＡ１００の試験菌株で復帰突然変異誘発能を示した。
Ａｍｅｓ試験（復帰突然変異試験）
代謝物１及び代謝物Ｃを以下のとおり試験した。本試験の目的は、各代謝物について、ネズミチフス菌（ＴＡ９８、ＴＡ１５３７、ＴＡ１００及びＴＡ１５３５）及び大腸菌（ＷＰ２ｕｖｒＡ）の標準菌株においてラット肝代謝活性化系（Ｓ９ ｍｉｘ）の存在下又は非存在下における復帰突然変異誘発能の有無を評価することである。
本試験では溶媒としてジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ，１００μＬ／プレート）を用いた。
Ｓ９ ｍｉｘの存在下又は非存在下にてプレインキュベーション法を用いて試験を行った。Ｓ９ ｍｉｘ非存在下での試験では、リン酸ナトリウム緩衝液（ｐＨ７．４）を加えた。
Ｓ９ ｍｉｘ ０．５ｍＬ又は０．１ｍｏｌ／Ｌリン酸ナトリウム緩衝液（ｐＨ７．４）０．５ｍＬ及び菌培養液０．１ｍＬを、陰性対照物質（ＤＭＳＯのみ）０．１ｍＬ、代謝物又は陽性対照物質を含む試験管に加えた。この混合物を３７℃にて２０分間振盪しながらプレインキュベーションした。プレインキュベーション後、上層寒天２ｍＬを加え、混合物をボルテックスミキサーで混合し、プレート上に播種した。各処理あたり２つのプレートを用いた。各プレートを３７±１℃にて４８時間以上インキュベーションし、復帰突然変異コロニーを計数した。次いで、各処理プレートあたりの復帰突然変異コロニーの平均数を算出した。被験物質の抗菌作用による生育阻害及び被験物質の析出の有無を、肉眼又は実体顕微鏡で観察した。平均復帰突然変異コロニー数が１以上の用量で陰性対照の２倍を超える用量依存的増加を示した場合、結果を陽性と判断した。統計的比較を用いずに、平均値に基づき評価した。
本試験の結果を以下の表に示す（表１～４及び表５～７）。結果として、代謝物１は試験菌株のいずれにおいても復帰突然変異誘発能を示さなかったのに対し、代謝物ＣはＳ９ ｍｉｘ存在下でのＴＡ９８及びＳ９ ｍｉｘ存在下でのＴＡ１００の試験菌株で復帰突然変異誘発能を示した。
【0088】
【表3】
【0089】
【表4】
【0090】
【表5】
【0091】
【表6】
【0092】
【表7】
【0093】
【表8】
【0094】
【表9】
【0095】
［製剤例］
本発明化合物の製剤例としては、例えば下記の製剤処方が挙げられる。しかしながら、本発明はこれら製剤例によって限定されるものではない。
製剤例１（カプセルの製造）
（１）化合物１ ３０ｍｇ
（２）微結晶セルロース １０ｍｇ
（３）乳糖 １９ｍｇ
（４）ステアリン酸マグネシウム １ｍｇ
成分（１）、（２）、（３）及び（４）を混合して、ゼラチンカプセルに充填する。
本発明化合物の製剤例としては、例えば下記の製剤処方が挙げられる。しかしながら、本発明はこれら製剤例によって限定されるものではない。
製剤例１（カプセルの製造）
（１）化合物１ ３０ｍｇ
（２）微結晶セルロース １０ｍｇ
（３）乳糖 １９ｍｇ
（４）ステアリン酸マグネシウム １ｍｇ
成分（１）、（２）、（３）及び（４）を混合して、ゼラチンカプセルに充填する。
【0096】
製剤例２（錠剤の製造）
（１）化合物１ １０ｇ
（２）乳糖 ５０ｇ
（３）トウモロコシデンプン １５ｇ
（４）カルメロースカルシウム ４４ｇ
（５）ステアリン酸マグネシウム １ｇ
成分（１）、（２）、（３）の全量及び３０ｇの成分（４）を水で練合し、真空乾燥後、整粒を行う。この整粒末に１４ｇの成分（４）及び１ｇの成分（５）を混合し、打錠機により打錠する。このようにして、１錠あたり化合物１を１０ｍｇ含有する錠剤１０００錠を得る。
（１）化合物１ １０ｇ
（２）乳糖 ５０ｇ
（３）トウモロコシデンプン １５ｇ
（４）カルメロースカルシウム ４４ｇ
（５）ステアリン酸マグネシウム １ｇ
成分（１）、（２）、（３）の全量及び３０ｇの成分（４）を水で練合し、真空乾燥後、整粒を行う。この整粒末に１４ｇの成分（４）及び１ｇの成分（５）を混合し、打錠機により打錠する。このようにして、１錠あたり化合物１を１０ｍｇ含有する錠剤１０００錠を得る。
【産業上の利用可能性】
【0097】
式［Ｉ］の化合物又はその製薬上許容される塩は、ＳＧＬＴ１阻害活性を有することから、ＳＧＬＴ１活性の調節により改善が期待され得る各種疾患又は状態の治療及び／又は予防に有用であり得る。式［Ｉ］の化合物又はその製薬上許容される塩はまた、血糖値が高くなることにより引き起こされ得る各種疾患又は状態の治療及び／又は予防にも有用であり得る。
【図1】
【図2】