特許7208043IP Force 特許公報全文掲載

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超純水の製造に際して有用な濃縮器、濃度計測装置及び超純水製造装置

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

しかしながら、シリカなどの弱電解質成分を逆浸透膜装置を利用して濃縮する場合、ろ過されない溶質が、逆浸透膜の厚さ方向に濃度の勾配を作る現象、つまり、濃度分極が生じ得る。濃度分極の影響が大きくなると、膜透過側への溶質の漏洩が増える。特にシリカなどの弱電解質成分の濃度分極の影響は、他の溶質よりも大きい。このため、逆浸透膜装置における被処理水の回収率や濃縮率などが適切に設定されていないと、弱電解質成分の回収率が低下し、十分な濃縮倍率を得られない。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明の濃縮器は、送水流路、第１及び第２の逆浸透膜装置、第１及び第２の帰還流路、第１及び第２の分岐流路、並びに流量調整機構を備えている。送水流路には、被処理水が送水される。第１の逆浸透膜装置は、送水流路上に設けられている。第２の逆浸透膜装置は、送水流路上における第１の逆浸透膜装置よりも下流側に設けられている。第１の帰還流路は、第１の逆浸透膜装置における濃縮水出口から延び、送水流路上における第・・・　続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明によれば、被処理水中に不純物として含まれた弱電解質成分の回収率を高め、かつ高い濃縮倍率を得ることができる濃縮器、濃度計測装置及び超純水製造装置を提供することが可能である。

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 本発明の超純水製造装置の構成を示すブロック図。
【図2】 図１の超純水製造装置が備える二次純水製造部及び濃度計測装置の構成を示すブロック図。
【図3】 図２の濃度計測装置が備える濃縮器の構成を示す図。
【図4】 比較例１の濃縮器の構成を示す図。
【図5】 比較例２の濃縮器の構成を示す図。
【図6】 図３の濃縮器とは構成が一部異なる他の濃縮器の構成を示す図。

代表図 図1本件の代表的な図

１０…超純水製造装置、１４…一次純水製造部、１６…タンク、１７…流路、１８…二次純水製造部、１９…濃度計測装置、１９ａ…濃縮器、１９ｂ…検出部、１９ｃ…演算部、２０…ユースポイント（ＰＯＵ）、２１…流量調整機構、２１ａ…制御部、３１…逆浸透膜装置（第１の逆浸透膜装置）、３２…逆浸透膜装置（第２の逆浸透膜装置）、３３，３４…ポンプ、３５…送水流路、３６…帰還流路（第１の帰還流路）、３７…帰還流路（第２の帰還流路）、３８…分岐流路（第１の分岐流路）、３９…分岐流路（第２の分岐流路）、４１～４９…バルブ。

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