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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2023-02-15
(45)【発行日】2023-02-24
(54)【発明の名称】複層ガラスユニット
(51)【国際特許分類】
C03C 27/06 20060101AFI20230216BHJP
E06B 3/677 20060101ALI20230216BHJP
E06B 3/66 20060101ALI20230216BHJP
【ＦＩ】
C03C27/06 101H
E06B3/677
E06B3/66 E
【請求項の数】
27
【外国語出願】
(21)【出願番号】P 2021131738
(22)【出願日】2021-08-12
(62)【分割の表示】P 2017519908の分割
【原出願日】2015-10-09
(65)【公開番号】P2021191727
(43)【公開日】2021-12-16
【審査請求日】2021-09-10
(31)【優先権主張番号】62/065,883
(32)【優先日】2014-10-20
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(73)【特許権者】
【識別番号】591229107
【氏名又は名称】ピルキントン グループ リミテッド
(74)【代理人】
【識別番号】100147485
【弁理士】
【氏名又は名称】杉村 憲司
(74)【代理人】
【識別番号】230118913
【弁護士】
【氏名又は名称】杉村 光嗣
(74)【代理人】
【識別番号】100195556
【弁理士】
【氏名又は名称】柿沼 公二
(72)【発明者】
【氏名】ステファン エーミール ワイドナー
(72)【発明者】
【氏名】ニール マクスポーラン
【審査官】青木 千歌子
(56)【参考文献】
【文献】米国特許出願公開第２０１３／００８９６８４（ＵＳ，Ａ１）
【文献】国際公開第００／０３７３７６（ＷＯ，Ａ１）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｃ０３Ｃ ２７／０６
Ｅ０６Ｂ ３／６７７
Ｅ０６Ｂ ３／６６
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
複層ガラスユニットが設置された建物であって、前記複層ガラスユニットは、第１の板ガラス材料のシートと、第２の板ガラス材料のシートとを備え、前記第１の板ガラス材料のシートと前記第２の板ガラス材料のシートとの間に第１の空間があり、前記第１の板ガラス材料のシートは、第１の主面と、対向する第２の主面とを有し、前記第２の板ガラス材料のシートは、第１の主面と、対向する第２の主面とを有し、前記第１の板ガラス材料のシートの前記第２の主面と、前記第２の板ガラス材料のシートの前記第１の主面とは、前記第１の空間に面し、前記第１の板ガラス材料のシートは、前記第２の板ガラス材料のシートから１ｍｍ未満離間し、前記第１の空間は、大気圧未満の圧力を有する低圧空間であり、前記第１の空間に配置された複数のスペーサがあり、
前記第２の板ガラス材料のシートの前記第２の主面が、低放射率被覆をその上に有し、前記低放射率被覆は少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層を備え、前記低放射率被覆と前記第２の板ガラス材料のシートとの間に第１の虹色抑制被覆がある、ことを特徴とし、
当該複層ガラスユニットが、前記第２の板ガラス材料のシートの前記第２の主面が建物の内部に面するようにして設置された、建物。
【請求項2】
複層ガラスユニットが設置された建物であって、前記複層ガラスユニットは、第１の板ガラス材料のシートと、第２の板ガラス材料のシートとを備え、前記第１の板ガラス材料のシートと前記第２の板ガラス材料のシートとの間に第１の空間があり、前記第１の板ガラス材料のシートは、第１の主面と、対向する第２の主面とを有し、前記第２の板ガラス材料のシートは、第１の主面と、対向する第２の主面とを有し、前記第１の板ガラス材料のシートの前記第２の主面と、前記第２の板ガラス材料のシートの前記第１の主面とは、前記第１の空間に面し、前記第１の板ガラス材料のシートは、前記第２の板ガラス材料のシートから１ｍｍ未満離間し、前記第１の空間は、大気圧未満の圧力を有する低圧空間であり、前記第１の空間に配置された複数のスペーサがあり、
前記第２の板ガラス材料のシートの前記第１の主面上に低放射率被覆があり、前記第２の板ガラス材料のシートの前記第２の主面が、低放射率被覆をその上に有し、前記第２の板ガラス材料のシートの前記第２の主面上の低放射率被覆は少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層を備え、前記第２の板ガラス材料のシートの前記第２の主面上の低放射率被覆と前記第２の板ガラス材料のシートとの間に第１の虹色抑制被覆がある、ことを特徴とし、
当該複層ガラスユニットが、前記第２の板ガラス材料のシートの前記第２の主面が建物の外部に面するようにして設置された、建物。
【請求項3】
フッ素ドープ酸化錫の前記少なくとも１つの層の幾何学的厚さが、１００ｎｍ～６００ｎｍであるか、又は、フッ素ドープ酸化錫の前記少なくとも１つの層の幾何学的厚さが、１００ｎｍ～３００ｎｍである、請求項１又は２に記載の建物。
【請求項4】
前記第１の虹色抑制被覆が第１の層と第２の層とを備え、前記第１の虹色抑制被覆の前記第１の層が、前記第１の虹色抑制被覆の前記第２の層よりも高い屈折率を有し、前記第１の虹色抑制被覆の前記第２の層が、前記第１の虹色抑制被覆の前記第１の層と前記低放射率被覆との間にある、請求項１～３のいずれかに記載の建物。
【請求項5】
前記第１の虹色抑制被覆の前記第１の層が酸化錫を含む、請求項４に記載の建物。
【請求項6】
前記第１の虹色抑制被覆の前記第２の層がシリカを含む、請求項４または５に記載の建物。
【請求項7】
前記第１の虹色抑制被覆の前記第１の層が、１０ｎｍ～５０ｎｍの幾何学的厚さを有し、及び／または、前記第１の虹色抑制被覆の前記第２の層が、１０ｎｍ～５０ｎｍの幾何学的厚さを有する、請求項４～６のいずれかに記載の建物。
【請求項8】
前記第２の板ガラス材料のシートと前記第１の虹色抑制被覆との間に第１のヘイズ低減層をさらに備える、請求項１～７のいずれかに記載の建物。
【請求項9】
前記第１のヘイズ低減層がシリカを含む、請求項８に記載の建物。
【請求項10】
前記第１のヘイズ低減層の幾何学的厚さが、５ｎｍ～５０ｎｍである、請求項８または９に記載の建物。
【請求項11】
前記第１の板ガラス材料のシートの前記第２の主面上に低放射率被覆があり、かつ／または前記第２の板ガラス材料のシートの前記第１の主面上に低放射率被覆がある、請求項１に記載の建物。
【請求項12】
前記第１の板ガラス材料のシートの前記第２の主面上に低放射率被覆がある、請求項２に記載の建物。
【請求項13】
前記第１の板ガラス材料のシートの前記第２の主面上の前記低放射率被覆、及び／または前記第２の板ガラス材料のシートの前記第１の主面上の低放射率被覆が、少なくとも１つの銀層、及び／または少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層を備える、請求項１１に記載の建物。
【請求項14】
前記第１の板ガラス材料のシートの前記第２の主面上の前記低放射率被覆、及び／または前記第２の板ガラス材料のシートの前記第１の主面上の前記低放射率被覆が、５ｎｍ～２０ｎｍの幾何学的厚さを有する少なくとも１つの銀層を備える、請求項１３に記載の建物。
【請求項15】
前記第１の板ガラス材料のシートの前記第２の主面上の前記低放射率被覆、及び／または前記第２の板ガラス材料のシートの前記第１の主面上の前記低放射率被覆が、１００ｎｍ～６００ｎｍの幾何学的厚さを有する少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層を備える、請求項１３または請求項１４に記載の建物。
【請求項16】
前記第１の板ガラス材料のシートの前記第１の主面上に低放射率被覆を備える、請求項１～１５のいずれかに記載の建物。
【請求項17】
前記第１の板ガラス材料のシートの前記第１の主面上の前記低放射率被覆上に、シリカの層またはチタニアの層があり、及び／または、前記第１の板ガラス材料のシートの前記第１の主面上の前記低放射率被覆上に、反射防止被覆がある；あるいは、前記第１の板ガラス材料のシートの前記第１の主面上の前記低放射率被覆上に他の層がない、請求項１６に記載の建物。
【請求項18】
前記第１の板ガラス材料のシートの前記第１の主面上の前記低放射率被覆が、２０ｎｍ未満の粗さを有する、請求項１６または請求項１７に記載の建物。
【請求項19】
前記第２の板ガラス材料のシートの前記第２の主面上の前記低放射率被覆上に、シリカの層またはチタニアの層がある、請求項１～１８のいずれかに記載の建物。
【請求項20】
前記第２の板ガラス材料のシートの前記第２の主面上の前記低放射率被覆上に、反射防止被覆がある、請求項１～１９のいずれかに記載の建物。
【請求項21】
前記第２の板ガラス材料のシートの前記第２の主面上の前記低放射率被覆上に、他の層がない、請求項１～１８のいずれかに記載の建物。
【請求項22】
前記第２の板ガラス材料のシートの前記第２の主面上の前記低放射率被覆が、２０ｎｍ未満の粗さを有する、請求項１～２１のいずれかに記載の建物。
【請求項23】
前記複層ガラスユニットが、前記第１の板ガラス材料のシートに面し、第２の空間によって前記第１の板ガラス材料のシートから離される、第３の板ガラス材料のシートを備え、前記第３の板ガラス材料のシートが、第１の主面と第２の主面とを有し、前記複層ガラスユニットは、前記第３の板ガラス材料のシートの前記第２の主面と前記第１の板ガラス材料のシートの前記第１の主面とが、前記第２の空間に面するように構成される、請求項１～２２のいずれかに記載の建物。
【請求項24】
前記第２の板ガラス材料のシートの前記第２の主面上の前記低放射率被覆が、前記複層ガラスユニットの面４上にある、請求項１～２２のいずれかに記載の建物。
【請求項25】
複層ガラスユニットが設置された建物であって、前記複層ガラスユニットは、第１の板ガラス材料のシートと、第２の板ガラス材料のシートとを備え、前記第１の板ガラス材料のシートと前記第２の板ガラス材料のシートとの間に第１の空間があり、前記第１の板ガラス材料のシートは、第１の主面と、対向する第２の主面とを有し、前記第２の板ガラス材料のシートは、第１の主面と、対向する第２の主面とを有し、前記第１の板ガラス材料のシートの前記第２の主面と、前記第２の板ガラス材料のシートの前記第１の主面とは、前記第１の空間に面し、前記第１の板ガラス材料のシートは、前記第２の板ガラス材料のシートから１ｍｍ未満離間し、前記第１の空間は、大気圧未満の圧力を有する低圧空間であり、前記第１の空間に配置された複数のスペーサがあり、
前記第２の板ガラス材料のシートの前記第１の主面、及び／または前記第１の板ガラス材料のシートの前記第２の主面が、その上に低放射率被覆を有し、前記複層ガラスユニットが、前記第１の板ガラス材料のシートに面し、第２の空間によって前記第１の板ガラス材料のシートから離される、第３の板ガラス材料のシートをさらに備え、前記第３の板ガラス材料のシートが、第１の主面と第２の主面とを有し、前記第３の板ガラス材料のシートの前記第２の主面と、前記第１の板ガラス材料のシートの前記第１の主面とが、前記第２の空間に面し、前記第３の板ガラス材料のシートの前記第２の主面がその上に低放射率被覆を有し、前記第３の板ガラス材料のシートの前記第１の主面がその上に低放射率被覆を有することを特徴とし、
当該複層ガラスユニットが、前記第２の板ガラス材料のシートの前記第２の主面が建物の内部に面するようにして設置された、建物。
【請求項26】
前記第３の板ガラス材料のシートの前記第１の主面上の前記低放射率被覆が、少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層を備える、請求項２５に記載の建物。
【請求項27】
前記第３の板ガラス材料のシートの前記第１の主面上の前記低放射率被覆のフッ素ドープ酸化錫の前記少なくとも１つの層の幾何学的厚さが、１００ｎｍ～６００ｎｍである、請求項２６に記載の建物。【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、断熱性能が改善された複層ガラスユニットに関する。
【0002】
少なくとも２つの離間したガラスのシートを含む複層ガラスユニットが、知られている
。１つのこのようなタイプの複層ガラスユニットは、周辺シールによって離間した２つの
ガラスのシートを含み、二重ガラスユニットとして従来知られている。
。１つのこのようなタイプの複層ガラスユニットは、周辺シールによって離間した２つの
ガラスのシートを含み、二重ガラスユニットとして従来知られている。
【0003】
別のタイプの複層ガラスユニットは、減圧空間によって離間した２つのガラスのシート
を含む。２つのガラスのシート間で約０．２ｍｍの空間を維持するための複数のスペーサ
が、減圧空間に配置される。２つのガラスのシートの周辺は、例えば、欧州特許第０８６
０４０６Ｂ１号に説明されるように、はんだガラスによって封止されてもよく、または、
欧州特許出願第１６３０３４４Ａ１号に説明されるように有機材料によって封止されても
よい。このタイプの複層ガラスユニットは、しばしば真空複層ガラスユニット、即ち、Ｖ
ＩＧと称される。ＶＩＧは、国際特許出願第９５／１５２９６Ａ１号及び欧州特許出願０
９９９３３０Ａ１号でも説明される。
を含む。２つのガラスのシート間で約０．２ｍｍの空間を維持するための複数のスペーサ
が、減圧空間に配置される。２つのガラスのシートの周辺は、例えば、欧州特許第０８６
０４０６Ｂ１号に説明されるように、はんだガラスによって封止されてもよく、または、
欧州特許出願第１６３０３４４Ａ１号に説明されるように有機材料によって封止されても
よい。このタイプの複層ガラスユニットは、しばしば真空複層ガラスユニット、即ち、Ｖ
ＩＧと称される。ＶＩＧは、国際特許出願第９５／１５２９６Ａ１号及び欧州特許出願０
９９９３３０Ａ１号でも説明される。
【0004】
ＶＩＧは、例えば、欧州特許０８６０４０Ｂ１号、欧州特許出願１０３０２３Ａ１号、
及び米国特許８，３７７，５２４Ｂ２号で説明されるように、１枚の二重ガラスユニット
であってもよいことも知られる。ＶＩＧは、ガラスシートなどの別のガラス板から離間す
る。このタイプの複層ガラスユニットは、減圧された低圧空間及び空隙（典型的に、アル
ゴンまたはクリプトンなどの不活性ガスが充填される）を有する。
及び米国特許８，３７７，５２４Ｂ２号で説明されるように、１枚の二重ガラスユニット
であってもよいことも知られる。ＶＩＧは、ガラスシートなどの別のガラス板から離間す
る。このタイプの複層ガラスユニットは、減圧された低圧空間及び空隙（典型的に、アル
ゴンまたはクリプトンなどの不活性ガスが充填される）を有する。
【0005】
二重ガラスユニットなどの複層ガラスユニットの外面は、外面上に結露を形成するため
、曇り得るということが知られている。これは、外側のガラスからの熱の放射の結果であ
る。外部に面する二重ガラスユニットの面、即ち外面のために、不十分な熱が内部空間か
ら外面に流れると、低いＵ値を有する複層ガラスユニットの場合のように、外面の温度が
降下する。十分に高い相対外部大気湿度がある場合、これが、露点温度を下回って下がる
外面の温度の結果として、曇り、即ち、結露または着霜をもたらす。
、曇り得るということが知られている。これは、外側のガラスからの熱の放射の結果であ
る。外部に面する二重ガラスユニットの面、即ち外面のために、不十分な熱が内部空間か
ら外面に流れると、低いＵ値を有する複層ガラスユニットの場合のように、外面の温度が
降下する。十分に高い相対外部大気湿度がある場合、これが、露点温度を下回って下がる
外面の温度の結果として、曇り、即ち、結露または着霜をもたらす。
【0006】
本発明は、改善された熱性能を有する複層ガラスユニットを提供する。
【0007】
第１の態様に従って、本発明は、第１の板ガラス材料のシートと、第２の板ガラス材料
のシートとを含み、第１の板ガラス材料のシートと第２の板ガラス材料のシートとの間に
第１の空間があり、第１の板ガラス材料のシートが、第１の主面と、対向する第２の主面
とを有し、第２の板ガラス材料のシートが、第１の主面と、対向する第２の主面とを有し
、第１の板ガラス材料のシートの第２の主面と、第２の板ガラス材料のシートの第１の主
面とが、第１の空間に面し、第１の空間が大気圧よりも低い圧力を有する低圧空間であり
、複数のスペーサが第１の空間に配置され、第２の板ガラス材料のシートの第２の主面が
、その上に低放射率被覆を有することを特徴とし、低放射率被覆が、少なくとも１つのフ
ッ素ドープ酸化錫の層を含み、低放射率被覆と第２の板ガラス材料のシートとの間に第１
の虹色抑制被覆がある、複層ガラスユニットを提供する。
のシートとを含み、第１の板ガラス材料のシートと第２の板ガラス材料のシートとの間に
第１の空間があり、第１の板ガラス材料のシートが、第１の主面と、対向する第２の主面
とを有し、第２の板ガラス材料のシートが、第１の主面と、対向する第２の主面とを有し
、第１の板ガラス材料のシートの第２の主面と、第２の板ガラス材料のシートの第１の主
面とが、第１の空間に面し、第１の空間が大気圧よりも低い圧力を有する低圧空間であり
、複数のスペーサが第１の空間に配置され、第２の板ガラス材料のシートの第２の主面が
、その上に低放射率被覆を有することを特徴とし、低放射率被覆が、少なくとも１つのフ
ッ素ドープ酸化錫の層を含み、低放射率被覆と第２の板ガラス材料のシートとの間に第１
の虹色抑制被覆がある、複層ガラスユニットを提供する。
【0008】
第２の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆の提供は、複層ガラスユニ
ットのＵ値を、第２の板ガラス材料のシートの第２の主面上に低放射率被覆を有しない同
じ複層ガラスユニットと比較して、減少させる。
ットのＵ値を、第２の板ガラス材料のシートの第２の主面上に低放射率被覆を有しない同
じ複層ガラスユニットと比較して、減少させる。
【0009】
このような複層ガラスユニットは、建物に設置されてもよい。建物に設置される場合、
第１の板ガラス材料のシートの第１の主面が建物の外部に面し、第２の板ガラス材料のシ
ートの第２の主面が建物の内部に面することが好ましい。代替的に、複層ガラスユニット
は、第１の板ガラス材料のシートの第１の主面が建物の内部に面し、第２の板ガラス材料
のシートの第２の主面が建物の外部に面するように建物に設置されてもよい。複層ガラス
ユニットが、第２の板ガラス材料のシートの第２の主面が、複層ガラスユニットが設置さ
れる建物の外部に面するように構成される場合、第２の板ガラス材料のシートの第２の主
面上の低放射率被覆の提供は、第２の板ガラス材料のシートの温度が上昇させられ得るた
め、第２の板ガラス材料のシートの第２の主面上の結露の形成を減少させるのに役立つ。
第１の板ガラス材料のシートの第１の主面が建物の外部に面し、第２の板ガラス材料のシ
ートの第２の主面が建物の内部に面することが好ましい。代替的に、複層ガラスユニット
は、第１の板ガラス材料のシートの第１の主面が建物の内部に面し、第２の板ガラス材料
のシートの第２の主面が建物の外部に面するように建物に設置されてもよい。複層ガラス
ユニットが、第２の板ガラス材料のシートの第２の主面が、複層ガラスユニットが設置さ
れる建物の外部に面するように構成される場合、第２の板ガラス材料のシートの第２の主
面上の低放射率被覆の提供は、第２の板ガラス材料のシートの温度が上昇させられ得るた
め、第２の板ガラス材料のシートの第２の主面上の結露の形成を減少させるのに役立つ。
【0010】
好適には、第１の板ガラス材料のシートは、第２の板ガラス材料のシートから１ｍｍ未
満、好ましくは０．０５ｍｍ～０．５ｍｍ、より好ましくは０．１ｍｍ～０．３ｍｍ離間
する。
満、好ましくは０．０５ｍｍ～０．５ｍｍ、より好ましくは０．１ｍｍ～０．３ｍｍ離間
する。
【0011】
好適には、板ガラス材料の第１及び第２のシートの各々の周辺の周りに延在する気密シ
ールは、第１の板ガラス材料のシートを第２の板ガラス材料のシートに接合する。気密シ
ールは、第１の空間が好適に低圧に維持されることを確実にする。第１の空間に配置され
るスペーサは、第１の板ガラス材料のシートの第２の主面が、第２の板ガラス材料のシー
トの第１の主面と接触することを防止する。
ールは、第１の板ガラス材料のシートを第２の板ガラス材料のシートに接合する。気密シ
ールは、第１の空間が好適に低圧に維持されることを確実にする。第１の空間に配置され
るスペーサは、第１の板ガラス材料のシートの第２の主面が、第２の板ガラス材料のシー
トの第１の主面と接触することを防止する。
【0012】
被覆が層Ｂ上に層Ａを有する場合、１つ以上の他の層、即ち、層Ａと層Ｂとの間に層Ｃ
、Ｄ、Ｅなどがある可能性を除外しないことが、本発明の文脈内で理解されるべきである
。同様に、板ガラス材料のシートの面がその上に層Ａ’を有する場合、１つ以上の他の層
、即ち、層Ａと板ガラス材料のシートの面との間に層Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅなどがある可能性を
除外しない。
、Ｄ、Ｅなどがある可能性を除外しないことが、本発明の文脈内で理解されるべきである
。同様に、板ガラス材料のシートの面がその上に層Ａ’を有する場合、１つ以上の他の層
、即ち、層Ａと板ガラス材料のシートの面との間に層Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅなどがある可能性を
除外しない。
【0013】
明確性のために、第１の板ガラス材料のシートの第１の主面は、複層ガラスユニットの面ｉとも称される。明確性のために、第１の板ガラス材料のシートの第２の主面は、複層ガラスユニットの面ｉｉとも称される。明確性のために、第２の板ガラス材料のシートの第１の主面は、複層ガラスユニットの面ｉｉｉとも称される。明確性のために、第２の板ガラス材料のシートの第２の主面は、複層ガラスユニットの面ｉｖとも称される。
【0014】
板ガラス材料のシートの主面を指すこの表記を使用することで、及び、疑義を避けるた
めに、本発明の第１の態様による複層ガラスユニットは、面ｉｖ上に低放射率被覆を有す
る。
めに、本発明の第１の態様による複層ガラスユニットは、面ｉｖ上に低放射率被覆を有す
る。
【0015】
再び疑義を避けるために、複層ガラスユニットの方位に依存して、建物などに設置され
る場合、面ｉは建物の内部または建物の外部のいずれかに面してもよい。
る場合、面ｉは建物の内部または建物の外部のいずれかに面してもよい。
【0016】
当該技術分野において従来的であるように、複層ガラスユニットが設置された構造の外
部環境に直接面するように構成された複層ガラスユニットの面は、面１と称される。面１
に対向する面は、面２と称され、即ち、面１は、ガラス板の１つの主面であり、面２は、
ガラス板の対向する主面である。複層ガラスユニットの面２に対向する面は面３と称され
る。面３に対向する面は面４と称され、追加のガラス板についても同様である。例えば、
２つの離間したガラス板、即ちガラスを有する複層ガラスユニットに関して、複層ガラス
ユニットの面１は、複層ガラスユニットが設置される構造の外部に面し、面４は、複層ガ
ラスユニットが設置される構造の内部に面する。本出願において採用される命名規則に関
連して、本発明の第１の態様の複層ガラスユニットの面ｉまたは面ｉｖは、面１であって
もよい。
部環境に直接面するように構成された複層ガラスユニットの面は、面１と称される。面１
に対向する面は、面２と称され、即ち、面１は、ガラス板の１つの主面であり、面２は、
ガラス板の対向する主面である。複層ガラスユニットの面２に対向する面は面３と称され
る。面３に対向する面は面４と称され、追加のガラス板についても同様である。例えば、
２つの離間したガラス板、即ちガラスを有する複層ガラスユニットに関して、複層ガラス
ユニットの面１は、複層ガラスユニットが設置される構造の外部に面し、面４は、複層ガ
ラスユニットが設置される構造の内部に面する。本出願において採用される命名規則に関
連して、本発明の第１の態様の複層ガラスユニットの面ｉまたは面ｉｖは、面１であって
もよい。
【0017】
好ましくは、面ｉｖ上の低放射率被覆の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層の幾何
学的厚さは、１００ｎｍ～６００ｎｍである。
学的厚さは、１００ｎｍ～６００ｎｍである。
【0018】
いくつかの実施形態では、好ましくは、面ｉｖ上の低放射率被覆の少なくとも１つのフ
ッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、１００ｎｍ～３００ｎｍ、より好ましくは１００
ｎｍ～２９０ｎｍ、さらにより好ましくは１００ｎｍ～２５０ｎｍである。
ッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、１００ｎｍ～３００ｎｍ、より好ましくは１００
ｎｍ～２９０ｎｍ、さらにより好ましくは１００ｎｍ～２５０ｎｍである。
【0019】
フッ素ドープ酸化錫の薄い層を有することによって、被覆の粗さが低くなるため、低放
射率被覆が表面損傷を受けにくい。また、結露防止性能を達成するために必要な被覆が少
ないため、費用が減少する。さらに、複層ガラスユニットのＧ値が、フッ素ドープ酸化錫
のより厚い層を有する同じ複層ガラスユニットと比較して、より高い。
射率被覆が表面損傷を受けにくい。また、結露防止性能を達成するために必要な被覆が少
ないため、費用が減少する。さらに、複層ガラスユニットのＧ値が、フッ素ドープ酸化錫
のより厚い層を有する同じ複層ガラスユニットと比較して、より高い。
【0020】
いくつかの実施形態では、好ましくは、面ｉｖ上の低放射率被覆の少なくとも１つのフ
ッ素ドープ酸化錫の層の幾何学的厚さは、３００ｎｍ～４００ｎｍ、より好ましくは、３
００ｎｍ～３５０ｎｍである。
ッ素ドープ酸化錫の層の幾何学的厚さは、３００ｎｍ～４００ｎｍ、より好ましくは、３
００ｎｍ～３５０ｎｍである。
【0021】
いくつかの実施形態では、好ましくは、面ｉｖ上の低放射率被覆の少なくとも１つのフ
ッ素ドープ酸化錫の層の幾何学的厚さは、４００ｎｍ～６００ｎｍ、より好ましくは、５
００ｎｍ～５８０ｎｍである。
ッ素ドープ酸化錫の層の幾何学的厚さは、４００ｎｍ～６００ｎｍ、より好ましくは、５
００ｎｍ～５８０ｎｍである。
【0022】
好ましくは、第１の虹色抑制層は、第１の層と第２の層とを含み、第１の虹色抑制層の
第１の層は、第１の虹色抑制層の第２の層よりも高い屈折率を有し、第１の虹色抑制層の
第２の層は、第１の虹色抑制層の第１の層と第１の低放射率被覆との間にある。
第１の層は、第１の虹色抑制層の第２の層よりも高い屈折率を有し、第１の虹色抑制層の
第２の層は、第１の虹色抑制層の第１の層と第１の低放射率被覆との間にある。
【0023】
好ましくは、第１の虹色抑制層の第１の層は、酸化錫を含む。
【0024】
好ましくは、第１の虹色抑制層の第２の層は、シリカを含む。
【0025】
好ましくは、第１の虹色抑制層の第１の層は、１０ｎｍ～５０ｎｍ、好ましくは、１５
ｎｍ～３５ｎｍの幾何学的厚さを有する。
ｎｍ～３５ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【0026】
好ましくは、第１の虹色抑制層の第２の層は、１０ｎｍ～５０ｎｍ、好ましくは、１５
ｎｍ～３５ｎｍの幾何学的厚さを有する。
ｎｍ～３５ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【0027】
好ましくは、第２の板ガラス材料のシートと第１の虹色抑制層との間に第１のヘイズ低
減層がある。
減層がある。
【0028】
好ましくは、第１のヘイズ低減層は、シリカを含む。
【0029】
好ましくは、第１のヘイズ低減層の幾何学的厚さは、５ｎｍ～５０ｎｍ、より好ましく
は５ｎｍ～２５ｎｍである。
は５ｎｍ～２５ｎｍである。
【0030】
いくつかの実施形態では、面ｉｉｉ上に低放射率被覆がある。
【0031】
好ましくは、面ｉｉｉ上の低放射率被覆と第２の板ガラス材料のシートとの間に虹色抑
制被覆がある。
制被覆がある。
【0032】
面ｉｉｉ上の低放射率被覆と第２の板ガラス材料のシートとの間の虹色抑制被覆は、第
１の虹色抑制被覆に関して上述したのと同じ好ましい特徴を有する。
１の虹色抑制被覆に関して上述したのと同じ好ましい特徴を有する。
【0033】
好ましくは、面ｉｉｉ上の低放射率被覆は、少なくとも１つの銀層、及び／または少な
くとも１つのフッ素ドープ酸化錫層を含む。
くとも１つのフッ素ドープ酸化錫層を含む。
【0034】
面ｉｉｉ上の低放射率被覆が少なくとも１つの銀層を含む場合、好ましくは、少なくと
も１つの銀層の幾何学的厚さは、５ｎｍ～２０ｎｍである。
も１つの銀層の幾何学的厚さは、５ｎｍ～２０ｎｍである。
【0035】
面ｉｉｉ上の低放射率被覆が少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層を含む場合、好ま
しくは、面ｉｉｉ上の低放射率被覆の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層の幾何学的
厚さは、１００ｎｍ～６００ｎｍである。
しくは、面ｉｉｉ上の低放射率被覆の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層の幾何学的
厚さは、１００ｎｍ～６００ｎｍである。
【0036】
いくつかの実施形態では、好ましくは、面ｉｉｉ上の低放射率被覆の少なくとも１つの
フッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、１００ｎｍ～３００ｎｍ、より好ましくは１０
０ｎｍ～２９０ｎｍ、さらにより好ましくは１００ｎｍ～２５０ｎｍである。
フッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、１００ｎｍ～３００ｎｍ、より好ましくは１０
０ｎｍ～２９０ｎｍ、さらにより好ましくは１００ｎｍ～２５０ｎｍである。
【0037】
いくつかの実施形態では、好ましくは、面ｉｉｉ上の低放射率被覆の少なくとも１つの
フッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、２５０ｎｍ～３５０ｎｍである。
フッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、２５０ｎｍ～３５０ｎｍである。
【0038】
いくつかの実施形態では、好ましくは、面ｉｉｉ上の低放射率被覆の少なくとも１つの
フッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、３００ｎｍ～４００ｎｍ、より好ましくは３０
０ｎｍ～３５０ｎｍである。
フッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、３００ｎｍ～４００ｎｍ、より好ましくは３０
０ｎｍ～３５０ｎｍである。
【0039】
いくつかの実施形態では、好ましくは、面ｉｉｉ上の低放射率被覆の少なくとも１つの
フッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、４００ｎｍ～６００ｎｍ、より好ましくは５０
０ｎｍ～５８０ｎｍである。
フッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、４００ｎｍ～６００ｎｍ、より好ましくは５０
０ｎｍ～５８０ｎｍである。
【0040】
面ｉｉｉ上の低放射率被覆が少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層を含む場合、好ま
しくは、面３上の低放射率被覆と第２の板ガラス材料のシートとの間にＳｉＣＯｘの虹色
抑制層がある。好ましくは、ＳｉＣＯｘ層は、５０ｎｍ～１００ｎｍの幾何学的厚さを有
する。
しくは、面３上の低放射率被覆と第２の板ガラス材料のシートとの間にＳｉＣＯｘの虹色
抑制層がある。好ましくは、ＳｉＣＯｘ層は、５０ｎｍ～１００ｎｍの幾何学的厚さを有
する。
【0041】
いくつかの実施形態では、面ｉｉ上に低放射率被覆がある。
【0042】
好ましくは、面ｉｉ上の低放射率被覆と第１の板ガラス材料のシートとの間に虹色抑制
被覆がある。
被覆がある。
【0043】
面ｉｉ上の低放射率被覆と第１の板ガラス材料のシートとの間の虹色抑制被覆は、第１
の虹色抑制被覆に関連して上述したのと同じ好ましい特徴を有する。
の虹色抑制被覆に関連して上述したのと同じ好ましい特徴を有する。
【0044】
好ましくは、面ｉｉ上の低放射率被覆は、少なくとも１つの銀層、及び／または少なく
とも１つのフッ素ドープ酸化錫層を含む。
とも１つのフッ素ドープ酸化錫層を含む。
【0045】
面ｉｉ上の低放射率被覆が少なくとも１つの銀層を含む場合、好ましくは、少なくとも
１つの銀層の幾何学的厚さが、５ｎｍ～２０ｎｍである。
１つの銀層の幾何学的厚さが、５ｎｍ～２０ｎｍである。
【0046】
面ｉｉ上の低放射率被覆は、少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層を含み、好ましく
は、面ｉｉ上の低放射率被覆の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは
、１００ｎｍ～６００ｎｍである。いくつかの実施形態では、好ましくは、面ｉｉ上の低
放射率被覆の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、１００ｎｍ～３
００ｎｍ、より好ましくは１００ｎｍ～２９０ｎｍ、さらにより好ましくは１００ｎｍ～
２５０ｎｍである。
は、面ｉｉ上の低放射率被覆の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは
、１００ｎｍ～６００ｎｍである。いくつかの実施形態では、好ましくは、面ｉｉ上の低
放射率被覆の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、１００ｎｍ～３
００ｎｍ、より好ましくは１００ｎｍ～２９０ｎｍ、さらにより好ましくは１００ｎｍ～
２５０ｎｍである。
【0047】
いくつかの実施形態では、好ましくは、面ｉｉ上の低放射率被覆の少なくとも１つのフ
ッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、２５０ｎｍ～３５０ｎｍである。
ッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、２５０ｎｍ～３５０ｎｍである。
【0048】
いくつかの実施形態では、好ましくは、面ｉｉ上の低放射率被覆の少なくとも１つのフ
ッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、３００ｎｍ～４００ｎｍ、より好ましくは、３０
０ｎｍ～３５０ｎｍである。
ッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、３００ｎｍ～４００ｎｍ、より好ましくは、３０
０ｎｍ～３５０ｎｍである。
【0049】
いくつかの実施形態では、好ましくは、面ｉｉ上の低放射率被覆の少なくとも１つのフ
ッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、４００ｎｍ～６００ｎｍ、より好ましくは、５０
０ｎｍ～５８０ｎｍである。
ッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、４００ｎｍ～６００ｎｍ、より好ましくは、５０
０ｎｍ～５８０ｎｍである。
【0050】
面ｉｉ上の低放射率被覆が少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層を含む場合、好まし
くは、面ｉｉ上の低放射率被覆と第１の板ガラス材料のシートとの間のＳｉＣＯｘの虹色
抑制層がある。好ましくは、ＳｉＣＯｘ層は、５０ｎｍ～１００ｎｍの幾何学的厚さを有
する。
くは、面ｉｉ上の低放射率被覆と第１の板ガラス材料のシートとの間のＳｉＣＯｘの虹色
抑制層がある。好ましくは、ＳｉＣＯｘ層は、５０ｎｍ～１００ｎｍの幾何学的厚さを有
する。
【0051】
いくつかの実施形態では、面ｉ上に低放射率被覆がある。
【0052】
複層ガラスユニットが、第１の板ガラス材料のシートの第１の主面（即ち、面ｉ）が、複
層ガラスユニットが設置される建物の外部に面するように構成される場合、第１の板ガラ
ス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆の提供は、第１の板ガラス材料のシートの
温度が上昇させられ得るため、第１の主面上の結露の形成を減少させるのに役立つ。
層ガラスユニットが設置される建物の外部に面するように構成される場合、第１の板ガラ
ス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆の提供は、第１の板ガラス材料のシートの
温度が上昇させられ得るため、第１の主面上の結露の形成を減少させるのに役立つ。
【0053】
好ましくは、面ｉ上の低放射率被覆と第１の板ガラス材料のシートとの間に虹色抑制被
覆がある。
覆がある。
【0054】
面ｉ上の低放射率被覆と第１の板ガラス材料のシートとの間の虹色抑制被覆は、第１の
虹色抑制被覆に関連して上述されたのと同じ好ましい特徴を有する。
虹色抑制被覆に関連して上述されたのと同じ好ましい特徴を有する。
【0055】
いくつかの実施形態では、少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層を含む面ｉ上の低
放射率被覆がある。
放射率被覆がある。
【0056】
好ましくは、面ｉ上の低放射率被覆の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層の幾何学
的厚さは、１００ｎｍ～６００ｎｍである。
的厚さは、１００ｎｍ～６００ｎｍである。
【0057】
好ましくは、面ｉ上の低放射率被覆の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層の幾何学
的厚さは、１００ｎｍ～３００ｎｍ、より好ましくは１００ｎｍ～２９０ｎｍ、さらによ
り好ましくは１００ｎｍ～２５０ｎｍである。
的厚さは、１００ｎｍ～３００ｎｍ、より好ましくは１００ｎｍ～２９０ｎｍ、さらによ
り好ましくは１００ｎｍ～２５０ｎｍである。
【0058】
フッ素ドープ酸化錫の薄い層を有することによって、被覆の粗さが低くなるため、低放
射率被覆が表面損傷を受けにくい。また、結露防止性能を達成するために必要な被覆が少
ないため、費用が減少する。さらに、複層ガラスユニットのＧ値が、フッ素ドープ酸化錫
のより厚い層を有する同じ複層ガラスユニットと比較して、より高い。
射率被覆が表面損傷を受けにくい。また、結露防止性能を達成するために必要な被覆が少
ないため、費用が減少する。さらに、複層ガラスユニットのＧ値が、フッ素ドープ酸化錫
のより厚い層を有する同じ複層ガラスユニットと比較して、より高い。
【0059】
いくつかの実施形態では、好ましくは、面ｉ上の低放射率被覆の少なくとも１つのフッ
素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、３００ｎｍ～４００ｎｍ、より好ましくは３００ｎ
ｍ～３５０ｎｍである。
素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、３００ｎｍ～４００ｎｍ、より好ましくは３００ｎ
ｍ～３５０ｎｍである。
【0060】
いくつかの実施形態では、好ましくは、面ｉ上の低放射率被覆の少なくとも１つのフッ
素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、４００ｎｍ～６００ｎｍ、より好ましくは５００ｎ
ｍ～５８０ｎｍである。
素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、４００ｎｍ～６００ｎｍ、より好ましくは５００ｎ
ｍ～５８０ｎｍである。
【0061】
本発明の第１の態様による複層ガラスユニットは、他の好ましい特徴を有する。
【0062】
いくつかの実施形態では、面ｉｖ上の低放射率被覆上に他の層がない。
【0063】
いくつかの実施形態では、面ｉｖ上の低放射率被覆に層がある。好ましくは、面ｉｖ上
の低放射率被覆上のシリカの層は、５ｎｍ～５０ｎｍの幾何学的厚さを有する。
の低放射率被覆上のシリカの層は、５ｎｍ～５０ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【0064】
いくつかの実施形態では、面ｉｖ上の低放射率被覆上にチタニアの層がある。好ましく
は、面ｉｖ上の低放射率被覆上のチタニアの層は、５ｎｍ～５０ｎｍの幾何学的厚さを有
する。
は、面ｉｖ上の低放射率被覆上のチタニアの層は、５ｎｍ～５０ｎｍの幾何学的厚さを有
する。
【0065】
面ｉ上に低放射率被覆がある、実施形態では、好ましくは、面ｉ上に低放射率被覆上の
シリカの層がある。好ましくは、面ｉ上の低放射率被覆上のシリカの層は、５ｎｍ～５０
ｎｍの幾何学的厚さを有する。
シリカの層がある。好ましくは、面ｉ上の低放射率被覆上のシリカの層は、５ｎｍ～５０
ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【0066】
面ｉ上に低放射率被覆がある実施形態では、好ましくは、面ｉ上に低放射率被覆上のチ
タニアの層がある。好ましくは、面ｉ上の低放射率被覆上のチタニアの層は、５ｎｍ～５
０ｎｍの幾何学的厚さを有する。
タニアの層がある。好ましくは、面ｉ上の低放射率被覆上のチタニアの層は、５ｎｍ～５
０ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【0067】
面ｉ上に低放射率被覆がある実施形態では、好ましくは、面ｉ上の低放射率被覆上に他
の層がない。
の層がない。
【0068】
いくつかの実施形態では、面ｉｖ上の低放射率被覆上に虹色抑制被覆がある。
【0069】
好ましくは、面ｉｖ上の低放射率被覆上の虹色抑制被覆は、少なくとも４つの層を含む
。
。
【0070】
好ましくは、面ｉｖ上の低放射率被覆上の虹色抑制被覆は、順に、第１の酸化錫の層と
、第２のシリカの層と、第３のフッ素ドープ酸化錫の層と、第４のシリカの層とを含み、
第１の酸化錫の層が、第２のシリカの層と、面ｉｖ上の低放射率被覆との間にある。
、第２のシリカの層と、第３のフッ素ドープ酸化錫の層と、第４のシリカの層とを含み、
第１の酸化錫の層が、第２のシリカの層と、面ｉｖ上の低放射率被覆との間にある。
【0071】
好ましくは、面ｉｖ上の低放射率被覆上の反射防止被覆の第１の酸化錫の層は、１０ｎ
ｍ～１５ｎｍの幾何学的厚さを有する。
ｍ～１５ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【0072】
好ましくは、面ｉｖ上の低放射率被覆上の反射防止被覆の第２のシリカの層は、２０ｎ
ｍ～３０ｎｍの幾何学的厚さを有する。
ｍ～３０ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【0073】
好ましくは、面ｉｖ上の低放射率被覆上の反射防止被覆の第３のフッ素ドープ酸化錫の
層は、１００ｎｍ～１５０ｎｍの幾何学的厚さを有する。
層は、１００ｎｍ～１５０ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【0074】
好ましくは、面ｉｖ上の低放射率被覆上の反射防止被覆の第４のシリカの層は、８０ｎ
ｍ～１００ｎｍの幾何学的厚さを有する。
ｍ～１００ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【0075】
面ｉ上に低放射率被覆がある実施形態では、好ましくは、面ｉ上の低放射率被覆上に反
射防止被覆がある。
射防止被覆がある。
【0076】
好ましくは、面ｉ上の低放射率被覆上の反射防止被覆は、少なくとも４つの層を含む。
【0077】
好ましくは、面ｉ上の低放射率被覆上の反射防止被覆は、順に、第１の酸化錫の層と、
第２のシリカの層と、第３のフッ素ドープ酸化錫の層と、第４のシリカの層とを含み、第
１の酸化錫の層が、第２のシリカの層と、面１上の低放射率被覆との間にある。
第２のシリカの層と、第３のフッ素ドープ酸化錫の層と、第４のシリカの層とを含み、第
１の酸化錫の層が、第２のシリカの層と、面１上の低放射率被覆との間にある。
【0078】
好ましくは、面ｉ上の低放射率被覆上の反射防止被覆の第１の酸化錫の層は、８ｎｍ～
１５ｎｍ、より好ましくは１１ｎｍ～１３ｎｍの幾何学的厚さを有する。
１５ｎｍ、より好ましくは１１ｎｍ～１３ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【0079】
好ましくは、面ｉ上の低放射率被覆上の反射防止被覆の第２のシリカの層は、２０ｎｍ
～３０ｎｍ、より好ましくは２２ｎｍ～２７ｎｍの幾何学的厚さを有する。
～３０ｎｍ、より好ましくは２２ｎｍ～２７ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【0080】
好ましくは、面ｉ上の低放射率被覆上の反射防止被覆の第３のフッ素ドープ酸化錫の層
は、１００ｎｍ～１５０ｎｍ、より好ましくは１２０ｎｍ～１４０ｎｍの幾何学的厚さを
有する。
は、１００ｎｍ～１５０ｎｍ、より好ましくは１２０ｎｍ～１４０ｎｍの幾何学的厚さを
有する。
【0081】
好ましくは、面ｉ上の低放射率被覆上の反射防止被覆の第４のシリカの層は、７０ｎｍ
～１２０ｎｍ、より好ましくは８０ｎｍ～１００ｎｍの幾何学的厚さを有する。
～１２０ｎｍ、より好ましくは８０ｎｍ～１００ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【0082】
いくつかの実施形態では、面ｉｖ上の低放射率被覆の粗さは、２０ｎｍ未満であり、よ
り好ましくは３ｎｍ～１５ｎｍ、さらにより好ましくは５ｎｍ～１２ｎｍである。
り好ましくは３ｎｍ～１５ｎｍ、さらにより好ましくは５ｎｍ～１２ｎｍである。
【0083】
面ｉ上に低放射率被覆がある実施形態では、好ましくは、面ｉ上の低放射率被覆の粗さ
は、２０ｎｍ未満であり、より好ましくは３ｎｍ～１５ｎｍ、さらにより好ましくは５ｎ
ｍ～１２ｎｍである。
は、２０ｎｍ未満であり、より好ましくは３ｎｍ～１５ｎｍ、さらにより好ましくは５ｎ
ｍ～１２ｎｍである。
【0084】
本発明の第１の態様のいくつかの実施形態では、複層ガラスユニットは、第１の板ガラ
ス材料のシートに面し、第２の空間によって第１の板ガラス材料のシートから離される第
３の板ガラス材料のシートを含み、第３の板ガラス材料のシートは、第１の主面と第２の
主面とを有し、複層ガラスユニットは、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面と第１
の板ガラス材料のシートの第１の主面（即ち、面ｉ）とが、第２の空間に面するように構
成される。
ス材料のシートに面し、第２の空間によって第１の板ガラス材料のシートから離される第
３の板ガラス材料のシートを含み、第３の板ガラス材料のシートは、第１の主面と第２の
主面とを有し、複層ガラスユニットは、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面と第１
の板ガラス材料のシートの第１の主面（即ち、面ｉ）とが、第２の空間に面するように構
成される。
【0085】
好ましくは、第２の空間は、空隙である。
【0086】
好ましくは、第２の空間は、アルゴンまたはクリプトンなどの不活性ガスが充填される
。
。
【0087】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートは、第１の板ガラス材料のシートから２ｍｍ
以上、好ましくは５ｍｍ～５０ｍｍ、より好ましくは５ｍｍ～２５ｍｍ離間する。
以上、好ましくは５ｍｍ～５０ｍｍ、より好ましくは５ｍｍ～２５ｍｍ離間する。
【0088】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面は、その上に低放射率被覆を有
する。
する。
【0089】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面は、その上に低放射率被覆を有
する。好ましくは、第３の板ガラス材料の第２の主面上のシート上の低放射率被覆は、少
なくとも１つの銀の層、及び／または少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫を含む。
する。好ましくは、第３の板ガラス材料の第２の主面上のシート上の低放射率被覆は、少
なくとも１つの銀の層、及び／または少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫を含む。
【0090】
第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上に低放射率被覆を有する第３の板ガラス材
料のシートを有する本発明の第１の態様の実施形態は、他の好ましい特徴を有する。
料のシートを有する本発明の第１の態様の実施形態は、他の好ましい特徴を有する。
【0091】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆と、第３の板
ガラス材料のシートとの間に虹色抑制被覆がある。
ガラス材料のシートとの間に虹色抑制被覆がある。
【0092】
好ましくは、虹色抑制層は、第１の層と第２の層とを含み、虹色抑制層の第１の層は、
虹色抑制層の第２の層よりも高い屈折率を有し、虹色抑制層の第２の層は、虹色抑制層の
第１の層と、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆との間にある。
虹色抑制層の第２の層よりも高い屈折率を有し、虹色抑制層の第２の層は、虹色抑制層の
第１の層と、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆との間にある。
【0093】
好ましくは、虹色抑制層の第１の層は、酸化錫を含む。
【0094】
好ましくは、虹色抑制層の第２の層は、シリカを含む。
【0095】
好ましくは、虹色抑制層の第１の層は、１０ｎｍ～５０ｎｍ、好ましくは１５ｎｍ～３
５ｎｍの幾何学的厚さを有する。
５ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【0096】
好ましくは、虹色抑制層の第２の層は、１０ｎｍ～５０ｎｍ、好ましくは１５ｎｍ～３
５ｎｍの幾何学的厚さを有する。
５ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【0097】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートと、第３の板ガラス材料のシートの第１の主
面上の虹色抑制被覆との間にヘイズ低減層がある。
面上の虹色抑制被覆との間にヘイズ低減層がある。
【0098】
好ましくは、ヘイズ低減層は、シリカを含む。
【0099】
好ましくは、ヘイズ低減層の厚さは、５ｎｍ～５０ｎｍ、より好ましくは５ｎｍ～２５
ｎｍである。
ｎｍである。
【0100】
第３の板ガラス材料のシートの第１の主面がその上に低放射率被覆を有する場合、好ま
しくは、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆は、少なくとも１つ
のフッ素ドープ酸化錫の層を含む。
しくは、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆は、少なくとも１つ
のフッ素ドープ酸化錫の層を含む。
【0101】
好ましくは、第３の板ガラス材料の第１の主面上の低放射率被覆の少なくとも１つのフ
ッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、１００ｎｍ～６００ｎｍである。
ッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、１００ｎｍ～６００ｎｍである。
【0102】
好ましくは、第３の板ガラス材料の第１の主面上の低放射率被覆の少なくとも１つのフ
ッ素ドープ酸化錫の層の幾何学的厚さは、１００ｎｍ～３００ｎｍ、より好ましくは１０
０ｎｍ～２９０ｎｍ、さらにより好ましくは１００ｎｍ～２５０ｎｍである。
ッ素ドープ酸化錫の層の幾何学的厚さは、１００ｎｍ～３００ｎｍ、より好ましくは１０
０ｎｍ～２９０ｎｍ、さらにより好ましくは１００ｎｍ～２５０ｎｍである。
【0103】
フッ素ドープ酸化錫の薄い層を有することによって、被覆の粗さが低くなるため、第３
の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆が表面損傷を受けにくい。また、
結露防止性能を達成するために必要な被覆が少ないため、費用が減少する。さらに、複層
ガラスユニットのＧ値が、フッ素ドープ酸化錫のより厚い層を有する同じ複層ガラスユニ
ットと比較して、より高い。
の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆が表面損傷を受けにくい。また、
結露防止性能を達成するために必要な被覆が少ないため、費用が減少する。さらに、複層
ガラスユニットのＧ値が、フッ素ドープ酸化錫のより厚い層を有する同じ複層ガラスユニ
ットと比較して、より高い。
【0104】
好ましくは、第３の板ガラス材料の第１の主面上の低放射率被覆の少なくとも１つのフ
ッ素ドープ酸化錫の層の幾何学的厚さは、３００ｎｍ～４００ｎｍ、より好ましくは３０
０ｎｍ～３５０ｎｍである。
ッ素ドープ酸化錫の層の幾何学的厚さは、３００ｎｍ～４００ｎｍ、より好ましくは３０
０ｎｍ～３５０ｎｍである。
【0105】
好ましくは、第３の板ガラス材料の第１の主面上の低放射率被覆の少なくとも１つのフ
ッ素ドープ酸化錫の層の幾何学的厚さは、４００ｎｍ～６００ｎｍ、より好ましくは５０
０ｎｍ～５８０ｎｍである。
ッ素ドープ酸化錫の層の幾何学的厚さは、４００ｎｍ～６００ｎｍ、より好ましくは５０
０ｎｍ～５８０ｎｍである。
【0106】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆上に他の層が
ない。
ない。
【0107】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆上にシリカの
層がある。好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆上の
シリカの層は、５ｎｍ～５０ｎｍの幾何学的厚さを有する。
層がある。好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆上の
シリカの層は、５ｎｍ～５０ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【0108】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆上にチタニア
の層がある。好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆上
のチタニアの層は、５ｎｍ～５０ｎｍの幾何学的厚さを有する。
の層がある。好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆上
のチタニアの層は、５ｎｍ～５０ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【0109】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆上に反射防止
被覆がある。
被覆がある。
【0110】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆上の反射防止
被覆が、少なくとも４つの層を含む。
被覆が、少なくとも４つの層を含む。
【0111】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆上の反射防止
被覆は、順に、第１の酸化錫の層と、第２のシリカの層と、第３のフッ素ドープ酸化錫の
層と、第４のシリカの層とを含み、第３の板ガラス材料のシートの場合、第１の酸化錫の
層が、第２のシリカの層と、第１の主面上の低放射率被覆との間にある。
被覆は、順に、第１の酸化錫の層と、第２のシリカの層と、第３のフッ素ドープ酸化錫の
層と、第４のシリカの層とを含み、第３の板ガラス材料のシートの場合、第１の酸化錫の
層が、第２のシリカの層と、第１の主面上の低放射率被覆との間にある。
【0112】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆上の反射防止
被覆の第１の酸化錫の層は、１０ｎｍ～１５ｎｍの幾何学的厚さを有する。
被覆の第１の酸化錫の層は、１０ｎｍ～１５ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【0113】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆上の反射防止
被覆の第２のシリカの層は、２０ｎｍ～３０ｎｍの幾何学的厚さを有する。
被覆の第２のシリカの層は、２０ｎｍ～３０ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【0114】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆上の反射防止
被覆の第３のフッ素ドープ酸化錫の層は、１００ｎｍ～１５０ｎｍの幾何学的厚さを有す
る。
被覆の第３のフッ素ドープ酸化錫の層は、１００ｎｍ～１５０ｎｍの幾何学的厚さを有す
る。
【0115】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆上の反射防止
被覆の第４のシリカの層は、８０ｎｍ～１００ｎｍの幾何学的厚さを有する。
被覆の第４のシリカの層は、８０ｎｍ～１００ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【0116】
第２の主面上に低放射率被覆を有する第３の板ガラス材料のシートを有する本発明の第
１の態様の実施形態は、他の好ましい特徴を有する。
１の態様の実施形態は、他の好ましい特徴を有する。
【0117】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆と、第３の板
ガラス材料のシートとの間に虹色抑制被覆がある。
ガラス材料のシートとの間に虹色抑制被覆がある。
【0118】
好ましくは、虹色抑制層が第１の層と第２の層とを含み、虹色抑制層の第１の層が、虹
色抑制層の第２の層よりも高い屈折率を有し、虹色抑制層の第２の層が虹色抑制層の第１
の層と、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆との間にある。
色抑制層の第２の層よりも高い屈折率を有し、虹色抑制層の第２の層が虹色抑制層の第１
の層と、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆との間にある。
【0119】
好ましくは、虹色抑制層の第１の層が、酸化錫を含む。
【0120】
好ましくは、虹色抑制層の第２の層が、シリカを含む。
【0121】
好ましくは、虹色抑制層の第１の層が、１０ｎｍ～５０ｎｍ、好ましくは１５ｎｍ～３
５ｎｍの幾何学的厚さを有する。
５ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【0122】
好ましくは、虹色抑制層の第２の層が、１０ｎｍ～５０ｎｍ、好ましくは１５ｎｍ～３
５ｎｍの幾何学的厚さを有する。
５ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【0123】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートと、第３の板ガラス材料のシートの第２の主
面上の虹色抑制被覆との間にヘイズ低減層がある。
面上の虹色抑制被覆との間にヘイズ低減層がある。
【0124】
好ましくは、ヘイズ低減層は、シリカを含む。
【0125】
好ましくは、ヘイズ低減層の厚さは、５ｎｍ～５０ｎｍ、より好ましくは５ｎｍ～２５
ｎｍである。
ｎｍである。
【0126】
いくつかの実施形態では、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆
は、少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層を含む。
は、少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層を含む。
【0127】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆の少なくとも
１つのフッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、１００ｎｍ～６００ｎｍである。
１つのフッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、１００ｎｍ～６００ｎｍである。
【0128】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆の少なくとも
１つのフッ素ドープ酸化錫の層の幾何学的厚さは、１００ｎｍ～３００ｎｍ、より好まし
くは１００ｎｍ～２９０ｎｍ、さらにより好ましくは１００ｎｍ～２５０ｎｍである。
１つのフッ素ドープ酸化錫の層の幾何学的厚さは、１００ｎｍ～３００ｎｍ、より好まし
くは１００ｎｍ～２９０ｎｍ、さらにより好ましくは１００ｎｍ～２５０ｎｍである。
【0129】
フッ素ドープ酸化錫の薄い層を有することによって、被覆の粗さが低くなるため、第３
の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆が表面損傷（例えば、輸送される
とき、または複層ガラスユニットの組み立て中に）を受けにくい。また、結露防止性能を
達成するために必要な被覆が少ないため、費用が減少する。さらに、複層ガラスユニット
のＧ値が、フッ素ドープ酸化錫のより厚い層を有する同じ複層ガラスユニットと比較して
、より高い。
の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆が表面損傷（例えば、輸送される
とき、または複層ガラスユニットの組み立て中に）を受けにくい。また、結露防止性能を
達成するために必要な被覆が少ないため、費用が減少する。さらに、複層ガラスユニット
のＧ値が、フッ素ドープ酸化錫のより厚い層を有する同じ複層ガラスユニットと比較して
、より高い。
【0130】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆の少なくとも
１つのフッ素ドープ酸化錫の層の幾何学的厚さは、３００ｎｍ～４００ｎｍ、より好まし
くは３００ｎｍ～３５０ｎｍである。
１つのフッ素ドープ酸化錫の層の幾何学的厚さは、３００ｎｍ～４００ｎｍ、より好まし
くは３００ｎｍ～３５０ｎｍである。
【0131】
いくつかの実施形態では、好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の
低放射率被覆の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層の幾何学的厚さは、４００ｎｍ
～６００ｎｍ、より好ましくは５００ｎｍ～５８０ｎｍである。
低放射率被覆の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層の幾何学的厚さは、４００ｎｍ
～６００ｎｍ、より好ましくは５００ｎｍ～５８０ｎｍである。
【0132】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆上に他の層が
ない。
ない。
【0133】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆上にシリカの
層がある。好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆上の
シリカの層は、５ｎｍ～５０ｎｍの幾何学的厚さを有する。
層がある。好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆上の
シリカの層は、５ｎｍ～５０ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【0134】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆上にチタニア
の層がある。好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆上
のチタニアの層は、５ｎｍ～５０ｎｍの幾何学的厚さを有する。
の層がある。好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆上
のチタニアの層は、５ｎｍ～５０ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【0135】
第２の態様から、本発明は、第１の板ガラス材料のシートと、第２の板ガラス材料のシ
ートとを含み、第１の板ガラス材料のシートと第２の板ガラス材料のシートとの間に第１
の空間があり、第１の板ガラス材料のシートが、第１の主面と、対向する第２の主面とを
有し、第２の板ガラス材料のシートが、第１の主面と、対向する第２の主面とを有し、第
１の板ガラス材料のシートの第２の主面と、第２の板ガラス材料のシートの第１の主面と
が、第１の空間に面し、第１の空間が大気圧よりも低い圧力を有する低圧空間であり、第
１の空間に複数のスペーサがあり、第２の板ガラス材料のシートの第１の主面、及び／ま
たは板ガラス材料の第１のシートの第２の主面が、その上に低放射率被覆を有し、複層ガ
ラスユニットが、第１の板ガラス材料のシートに面し、第２の空間によって第１の板ガラ
ス材料のシートから離される第３の板ガラス材料のシートをさらに含み、第３の板ガラス
材料のシートが第１の主面と第２の主面とを有し、第３の板ガラス材料のシートの第２の
主面と、第１の板ガラス材料のシートの第１の主面とが、第２の空間に面し、第３の板ガ
ラス材料のシートの第２の主面がその上に低放射率被覆を有し、第３の板ガラス材料のシ
ートの第１の主面がその上に低放射率被覆を有することを特徴とする、複層ガラスユニッ
トを提供する。
ートとを含み、第１の板ガラス材料のシートと第２の板ガラス材料のシートとの間に第１
の空間があり、第１の板ガラス材料のシートが、第１の主面と、対向する第２の主面とを
有し、第２の板ガラス材料のシートが、第１の主面と、対向する第２の主面とを有し、第
１の板ガラス材料のシートの第２の主面と、第２の板ガラス材料のシートの第１の主面と
が、第１の空間に面し、第１の空間が大気圧よりも低い圧力を有する低圧空間であり、第
１の空間に複数のスペーサがあり、第２の板ガラス材料のシートの第１の主面、及び／ま
たは板ガラス材料の第１のシートの第２の主面が、その上に低放射率被覆を有し、複層ガ
ラスユニットが、第１の板ガラス材料のシートに面し、第２の空間によって第１の板ガラ
ス材料のシートから離される第３の板ガラス材料のシートをさらに含み、第３の板ガラス
材料のシートが第１の主面と第２の主面とを有し、第３の板ガラス材料のシートの第２の
主面と、第１の板ガラス材料のシートの第１の主面とが、第２の空間に面し、第３の板ガ
ラス材料のシートの第２の主面がその上に低放射率被覆を有し、第３の板ガラス材料のシ
ートの第１の主面がその上に低放射率被覆を有することを特徴とする、複層ガラスユニッ
トを提供する。
【0136】
好適には、第１の板ガラス材料のシートは、第２の板ガラス材料のシートから１ｍｍ未
満、好ましくは０．０５ｍｍ～０．５ｍｍ、より好ましくは０．１～０．３ｍｍ離間する
。
満、好ましくは０．０５ｍｍ～０．５ｍｍ、より好ましくは０．１～０．３ｍｍ離間する
。
【0137】
好ましくは、第２の空間は、空隙である。
【0138】
好ましくは、第２の空間は、アルゴンまたはクリプトンなどの不活性ガスが充填される
。
。
【0139】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートは、第１の板ガラス材料のシートから２ｍｍ
以上、好ましくは５ｍｍ～５０ｍｍ、より好ましくは５ｍｍ～２５ｍｍ離間する。
以上、好ましくは５ｍｍ～５０ｍｍ、より好ましくは５ｍｍ～２５ｍｍ離間する。
【0140】
好ましくは、少なくとも１つの銀の層、及び／または少なくとも１つのフッ素ドープ酸
化錫上に含む、第１の板ガラス材料のシートの第２の主面上に低放射率被覆がある。
化錫上に含む、第１の板ガラス材料のシートの第２の主面上に低放射率被覆がある。
【0141】
好ましくは、少なくとも１つの銀層、及び／または少なくとも１つのフッ素ドープ酸化
錫上に含む、第２の板ガラス材料のシートの第１の主面上に低放射率被覆がある。
錫上に含む、第２の板ガラス材料のシートの第１の主面上に低放射率被覆がある。
【0142】
好ましくは、第３の板ガラス材料の第１の主面上の低放射率被覆と、第３の板ガラス材
料のシートとの間に虹色抑制被覆がある。
料のシートとの間に虹色抑制被覆がある。
【0143】
好ましくは、虹色抑制層が第１の層と第２の層とを含み、虹色抑制層の第１の層が、虹
色抑制層の第２の層よりも高い屈折率を有し、虹色抑制層の第２の層が虹色抑制層の第１
の層と、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆との間にある。
色抑制層の第２の層よりも高い屈折率を有し、虹色抑制層の第２の層が虹色抑制層の第１
の層と、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆との間にある。
【0144】
好ましくは、虹色抑制層の第１の層が、酸化錫を含む。
【0145】
好ましくは、虹色抑制層の第２の層が、シリカを含む。
【0146】
好ましくは、虹色抑制層の第１の層が、１０ｎｍ～５０ｎｍ、好ましくは１５ｎｍ～３
５ｎｍの幾何学的厚さを有する。
５ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【0147】
好ましくは、虹色抑制層の第２の層が、１０ｎｍ～５０ｎｍ、好ましくは１５ｎｍ～３
５ｎｍの幾何学的厚さを有する。
５ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【0148】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートと、第３の板ガラス材料のシートの第１の主
面上の虹色抑制被覆との間にヘイズ低減層がある。
面上の虹色抑制被覆との間にヘイズ低減層がある。
【0149】
好ましくは、ヘイズ低減層は、シリカを含む。
【0150】
好ましくは、ヘイズ低減層の厚さは５ｎｍ～５０ｎｍ、より好ましくは５ｎｍ～２５ｎ
ｍである。
ｍである。
【0151】
本発明の第２の態様のいくつかの実施形態では、第３の板ガラス材料のシートの第１の
主面上の低放射率被覆は、少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層を含む。
主面上の低放射率被覆は、少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層を含む。
【0152】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆の少なくとも
１つのフッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、１００ｎｍ～６００ｎｍである。
１つのフッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、１００ｎｍ～６００ｎｍである。
【0153】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆の少なくとも
１つのフッ素ドープ酸化錫の層の幾何学的厚さは、１００ｎｍ～３００ｎｍ、より好まし
くは１００ｎｍ～２９０ｎｍ、さらにより好ましくは１００ｎｍ～２５０ｎｍである。
１つのフッ素ドープ酸化錫の層の幾何学的厚さは、１００ｎｍ～３００ｎｍ、より好まし
くは１００ｎｍ～２９０ｎｍ、さらにより好ましくは１００ｎｍ～２５０ｎｍである。
【0154】
フッ素ドープ酸化錫の薄い層を有することによって、被覆の粗さが低くなるため、低放
射率被覆が表面損傷を受けにくい。また、結露防止性能を達成するために必要な被覆が少
ないため、費用が減少する。さらに、複層ガラスユニットのＧ値が、フッ素ドープ酸化錫
のより厚い層を有する同じ複層ガラスユニットと比較して、より高い。
射率被覆が表面損傷を受けにくい。また、結露防止性能を達成するために必要な被覆が少
ないため、費用が減少する。さらに、複層ガラスユニットのＧ値が、フッ素ドープ酸化錫
のより厚い層を有する同じ複層ガラスユニットと比較して、より高い。
【0155】
第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆の少なくとも１つのフッ素
ドープ酸化錫の層の幾何学的厚さのいくつかの実施形態では、２５０ｎｍ～３５０ｎｍで
ある。
ドープ酸化錫の層の幾何学的厚さのいくつかの実施形態では、２５０ｎｍ～３５０ｎｍで
ある。
【0156】
いくつかの実施形態では、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆
の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層の幾何学的厚さは、３００ｎｍ～４００ｎｍ
、より好ましくは３００ｎｍ～３５０ｎｍである。
の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層の幾何学的厚さは、３００ｎｍ～４００ｎｍ
、より好ましくは３００ｎｍ～３５０ｎｍである。
【0157】
いくつかの実施形態では、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆
の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層の幾何学的厚さは、４００ｎｍ～６００ｎｍ
、好ましくは５００ｎｍ～５８０ｎｍである。
の少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層の幾何学的厚さは、４００ｎｍ～６００ｎｍ
、好ましくは５００ｎｍ～５８０ｎｍである。
【0158】
本発明の第２の態様のいくつかの実施形態では、第３の板ガラス材料のシートの第１の
主面上の低放射率被覆上に他の層がない。
主面上の低放射率被覆上に他の層がない。
【0159】
本発明の第２の態様のいくつかの実施形態では、好ましくは、第３の板ガラス材料のシ
ートの第１の主面上の低放射率被覆上にシリカの層がある。好ましくは、第３の板ガラス
材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆上のシリカの層は、５ｎｍ～５０ｎｍの幾何
学的厚さを有する。
ートの第１の主面上の低放射率被覆上にシリカの層がある。好ましくは、第３の板ガラス
材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆上のシリカの層は、５ｎｍ～５０ｎｍの幾何
学的厚さを有する。
【0160】
本発明の第２の態様のいくつかの実施形態では、第３の板ガラス材料のシートの第１の
主面上の低放射率被覆上にチタニアの層がある。好ましくは、第３の板ガラス材料のシー
トの第１の主面上の低放射率被覆上のチタニアの層は、５ｎｍ～５０ｎｍの幾何学的厚さ
を有する。
主面上の低放射率被覆上にチタニアの層がある。好ましくは、第３の板ガラス材料のシー
トの第１の主面上の低放射率被覆上のチタニアの層は、５ｎｍ～５０ｎｍの幾何学的厚さ
を有する。
【0161】
本発明の第２の態様のいくつかの実施形態では、第３の板ガラス材料のシートの第１の
主面上の低放射率被覆上に反射防止被覆がある。
主面上の低放射率被覆上に反射防止被覆がある。
【0162】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆上の反射防止
被覆が、少なくとも４つの層を含む。
被覆が、少なくとも４つの層を含む。
【0163】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第１の主面上の低放射率被覆上の反射防止
被覆は、順に、第１の酸化錫の層と、第２のシリカの層と、第３のフッ素ドープ酸化錫の
層と、第４のシリカの層とを含み、第３の板ガラス材料のシートの場合、第１の酸化錫の
層が、第２のシリカの層と、第１の主面上の低放射率被覆との間にある。
被覆は、順に、第１の酸化錫の層と、第２のシリカの層と、第３のフッ素ドープ酸化錫の
層と、第４のシリカの層とを含み、第３の板ガラス材料のシートの場合、第１の酸化錫の
層が、第２のシリカの層と、第１の主面上の低放射率被覆との間にある。
【0164】
好ましくは、第１の酸化錫の層は、１０ｎｍ～１５ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【0165】
好ましくは、第２のシリカの層は、２０ｎｍ～３０ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【0166】
好ましくは、第３のフッ素ドープ酸化錫の層は、１００ｎｍ～１５０ｎｍの幾何学的厚
さを有する。
さを有する。
【0167】
好ましくは、第４のシリカの層は、８０ｎｍ～１００ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【0168】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆と、第３の板
ガラス材料のシートとの間に虹色抑制被覆がある。
ガラス材料のシートとの間に虹色抑制被覆がある。
【0169】
好ましくは、虹色抑制層が第１の層と第２の層とを含み、虹色抑制層の第１の層が、虹
色抑制層の第２の層よりも高い屈折率を有し、虹色抑制層の第２の層が虹色抑制層の第１
の層と、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆との間にある。
色抑制層の第２の層よりも高い屈折率を有し、虹色抑制層の第２の層が虹色抑制層の第１
の層と、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆との間にある。
【0170】
好ましくは、虹色抑制層の第１の層が、酸化錫を含む。
【0171】
好ましくは、虹色抑制層の第２の層が、シリカを含む。
【0172】
好ましくは、虹色抑制層の第１の層が、１０ｎｍ～５０ｎｍ、好ましくは１５ｎｍ～３
５ｎｍの幾何学的厚さを有する。
５ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【0173】
好ましくは、虹色抑制層の第２の層が、１０ｎｍ～５０ｎｍ、好ましくは１５ｎｍ～３
５ｎｍの幾何学的厚さを有する。
５ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【0174】
本発明の第２の態様のいくつかの実施形態では、好ましくは、第３の板ガラス材料のシ
ートと、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の虹色抑制被覆との間にヘイズ低減
層がある。
ートと、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の虹色抑制被覆との間にヘイズ低減
層がある。
【0175】
好ましくは、ヘイズ低減層は、シリカを含む。
【0176】
好ましくは、ヘイズ低減層の厚さは５ｎｍ～５０ｎｍ、より好ましくは５ｎｍ～２５ｎ
ｍである。
ｍである。
【0177】
本発明の第２の態様のいくつかの実施形態では、第３の板ガラス材料のシートの第２の
主面上の低放射率被覆は、少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層を含む。
主面上の低放射率被覆は、少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層を含む。
【0178】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆の少なくとも
１つのフッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、１００ｎｍ～６００ｎｍである。
１つのフッ素ドープ酸化錫層の幾何学的厚さは、１００ｎｍ～６００ｎｍである。
【0179】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆の少なくとも
１つのフッ素ドープ酸化錫の層の幾何学的厚さは、１００ｎｍ～３００ｎｍ、より好まし
くは１００ｎｍ～２９０ｎｍ、さらにより好ましくは１００ｎｍ～２５０ｎｍである。
１つのフッ素ドープ酸化錫の層の幾何学的厚さは、１００ｎｍ～３００ｎｍ、より好まし
くは１００ｎｍ～２９０ｎｍ、さらにより好ましくは１００ｎｍ～２５０ｎｍである。
【0180】
フッ素ドープ酸化錫の薄い層を有することによって、被覆の粗さが低くなるため、低放
射率被覆が表面損傷を受けにくい。また、結露防止性能を達成するために必要な被覆が少
ないため、費用が減少する。さらに、複層ガラスユニットのＧ値が、フッ素ドープ酸化錫
のより厚い層を有する同じ複層ガラスユニットと比較して、より高い。
射率被覆が表面損傷を受けにくい。また、結露防止性能を達成するために必要な被覆が少
ないため、費用が減少する。さらに、複層ガラスユニットのＧ値が、フッ素ドープ酸化錫
のより厚い層を有する同じ複層ガラスユニットと比較して、より高い。
【0181】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆の少なくとも
１つのフッ素ドープ酸化錫の層の幾何学的厚さは、３００ｎｍ～４００ｎｍ、より好まし
くは３００ｎｍ～３５０ｎｍである。
１つのフッ素ドープ酸化錫の層の幾何学的厚さは、３００ｎｍ～４００ｎｍ、より好まし
くは３００ｎｍ～３５０ｎｍである。
【0182】
好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆の少なくとも
１つのフッ素ドープ酸化錫の層の幾何学的厚さは、４００ｎｍ～６００ｎｍ、より好まし
くは５００ｎｍ～５８０ｎｍである。
１つのフッ素ドープ酸化錫の層の幾何学的厚さは、４００ｎｍ～６００ｎｍ、より好まし
くは５００ｎｍ～５８０ｎｍである。
【0183】
本発明の第２の態様のいくつかの実施形態では、第３の板ガラス材料のシートの第２の
主面上の低放射率被覆上に他の層がない。
主面上の低放射率被覆上に他の層がない。
【0184】
いくつかの実施形態では、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆
上にシリカの層がある。好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放
射率被覆上のシリカの層は、５ｎｍ～５０ｎｍの幾何学的厚さを有する。
上にシリカの層がある。好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放
射率被覆上のシリカの層は、５ｎｍ～５０ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【0185】
いくつかの実施形態では、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低放射率被覆
上にチタニアの層がある。好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低
放射率被覆上のチタニアの層は、５ｎｍ～５０ｎｍの幾何学的厚さを有する。
上にチタニアの層がある。好ましくは、第３の板ガラス材料のシートの第２の主面上の低
放射率被覆上のチタニアの層は、５ｎｍ～５０ｎｍの幾何学的厚さを有する。
【0186】
本発明の第１及び第２の態様の実施形態は、他の好ましい特徴を有する。これらの他の
好ましい特徴は、任意の組み合わせで、及び本発明の第１及び／または第２の態様で、使
用されてもよくてよい。
好ましい特徴は、任意の組み合わせで、及び本発明の第１及び／または第２の態様で、使
用されてもよくてよい。
【0187】
本発明の第１及び第２の態様において、好適な板ガラス材料はガラスであり、特に、ソ
ーダ石灰シリカガラスまたはホウケイ酸ガラスである。典型的なソーダ石灰シリカガラス
の組成（重量による）は、ＳｉＯ２ ６９～７４％、Ａｌ２Ｏ３ ０～３％、Ｎａ２Ｏ
１０～１６％、Ｋ２Ｏ ０～５％、ＭｇＯ ０～６％、ＣａＯ ５～１４％、ＳＯ３ ０
～２％、Ｆｅ２Ｏ３ ０．００５～２％である。
ーダ石灰シリカガラスまたはホウケイ酸ガラスである。典型的なソーダ石灰シリカガラス
の組成（重量による）は、ＳｉＯ２ ６９～７４％、Ａｌ２Ｏ３ ０～３％、Ｎａ２Ｏ
１０～１６％、Ｋ２Ｏ ０～５％、ＭｇＯ ０～６％、ＣａＯ ５～１４％、ＳＯ３ ０
～２％、Ｆｅ２Ｏ３ ０．００５～２％である。
【0188】
好ましくは、本発明の第１及び第２の態様において使用される板ガラス材料のシートは
、２ｍｍ～１０ｍｍ、より好ましくは３ｍｍ～８ｍｍ、さらにより好ましくは３ｍｍ～６
ｍｍの厚さを有する。
、２ｍｍ～１０ｍｍ、より好ましくは３ｍｍ～８ｍｍ、さらにより好ましくは３ｍｍ～６
ｍｍの厚さを有する。
【0189】
特定の複層ガラスユニットについて、板ガラス材料のシートは、同じ、または異なる厚
さを有してもよい。
さを有してもよい。
【0190】
特定の複層ガラスユニットについて、板ガラス材料のシートは、同じ、または異なるガ
ラスの組成を有してもよい。
ラスの組成を有してもよい。
【0191】
本発明の第１及び第２の態様による複層ガラスは、３つ以上の板ガラス材料のシートを
含んでもよい。
含んでもよい。
【0192】
本発明の第１及び第２の態様による複層ガラスは、２つ以上の低圧空間を含んでもよい
。
。
【0193】
本発明の第１及び第２の態様による複層ガラスは、２つまたは真空複層ガラス板を含ん
でもよい。
でもよい。
【0194】
本発明の第１及び第２の態様によるガラスユニットは、建物における窓として使用され
てもよく、第２の板ガラス材料のシートの第２の主面が建物の内部に面する。
てもよく、第２の板ガラス材料のシートの第２の主面が建物の内部に面する。
【0195】
本明細書で説明された被覆のいずれも、大気圧化学蒸着（ＡＰＣＶＤ）またはスパッタ
リングなどの、既知の蒸着技術を使用して蒸着されてもよい。当該技術分野で知られてい
るように、酸化物層は、典型的にＡＰＣＶＤを使用して蒸着される。銀層は、既知のスパ
ッタリング技術を使用して蒸着されてもよい。
リングなどの、既知の蒸着技術を使用して蒸着されてもよい。当該技術分野で知られてい
るように、酸化物層は、典型的にＡＰＣＶＤを使用して蒸着される。銀層は、既知のスパ
ッタリング技術を使用して蒸着されてもよい。
【0196】
本発明の文脈において、Ｕ値は、ＥＮ１２８９８及びＥＮ６７３に従って判定された。
【0197】
本発明の文脈において、粗さの値は、原子間力顕微鏡を使用して判定され、ＩＳＯ／Ｄ
ＩＳ ２５１７８－２（２００７）に従い、パラメータについて定義された。
ＩＳ ２５１７８－２（２００７）に従い、パラメータについて定義された。
【0198】
ここで、本発明の実施形態を、添付の図面（正寸ではない）を参照して例示の目的のみ
で説明する。
で説明する。
【図面の簡単な説明】
【0199】
【図1】本発明の第１の態様による真空複層ガラスの一部の概略図を示す。
【図2】本発明の第１の態様による別の真空複層ガラスの一部の概略図を示す。
【図3】本発明の第１の態様による複層ガラスユニットの一部の概略図を示す。
【図4】本発明の第１の態様による別の真空複層ガラスの一部の概略図を示す。
【図5】本発明の第２の態様による複層ガラスユニットの一部の概略図を示す。
【図6】本発明の第１または第２の態様による複層ガラスにおける使用用の被覆ガラスシートの概略図を示す。
【0200】
図１は、本発明の第１の態様による複層ガラスユニットの一部の概略図を示す。この特
定の例において、複層ガラスユニットは、真空複層ガラスユニット１（ＶＩＧ）である。
ＶＩＧなどの製造が、例えば、欧州特許出願０９９９３３０Ａ１号において説明される。
定の例において、複層ガラスユニットは、真空複層ガラスユニット１（ＶＩＧ）である。
ＶＩＧなどの製造が、例えば、欧州特許出願０９９９３３０Ａ１号において説明される。
【0201】
ＶＩＧ１は、第１のガラスのシート３と、第２のガラスのシート５とを有する。第１の
ガラスのシート３は、第１の主面７と、対向する第２の主面（図において標識されていな
い）とを有する。第２の被覆ガラスのシートは、第１の主面と、対向する第２の主面とを
有する（両方とも図において標識されていない）。
ガラスのシート３は、第１の主面７と、対向する第２の主面（図において標識されていな
い）とを有する。第２の被覆ガラスのシートは、第１の主面と、対向する第２の主面とを
有する（両方とも図において標識されていない）。
【0202】
ガラス３、５の各シートは、フロート法を使用して作製されたソーダ石灰シリカ組成物
である。各ガラスシート３、５は、３ｍｍの厚さである。
である。各ガラスシート３、５は、３ｍｍの厚さである。
【0203】
第１のガラスのシート３は、複数のステンレス鋼のスペーサ１１（そのうち５つのみが
図１に示される）によって第２のガラスのシート５から離間される。スペーサは、２つの
ガラスシート３、５間に空間１２を維持する。空間１２は、ＶＩＧ１の構築中に減圧され
た低圧空間である。はんだガラスなどの周辺シール１０は、空間１２が低圧のままである
ことを確実にし、即ち、周辺シール１０は気密シールである。
図１に示される）によって第２のガラスのシート５から離間される。スペーサは、２つの
ガラスシート３、５間に空間１２を維持する。空間１２は、ＶＩＧ１の構築中に減圧され
た低圧空間である。はんだガラスなどの周辺シール１０は、空間１２が低圧のままである
ことを確実にし、即ち、周辺シール１０は気密シールである。
【0204】
第１のガラスのシート３の第２の主面上に、低放射率被覆１３がある。第２のガラスの
シート５の第２の主面上に、低放射率被覆１５がある。
シート５の第２の主面上に、低放射率被覆１５がある。
【0205】
ＶＩＧ１は、使用において、被覆ガラス３の第１のシートの第１の主面７が、ＶＩＧ１
が設置される建物の外部に面し、被覆ガラス５の第２のシートの第２の主面（及び結果的
に低放射率被覆１５）が、ＶＩＧが設置される建物の内部に面するように構成される。
が設置される建物の外部に面し、被覆ガラス５の第２のシートの第２の主面（及び結果的
に低放射率被覆１５）が、ＶＩＧが設置される建物の内部に面するように構成される。
【0206】
ＶＩＧの面についての従来の命名体系を使用して、第１の主面７はＶＩＧの面１であり
、第１のガラス３のシートの第２の対向する主面は、ＶＩＧの面２であり、被覆ガラス５
の第２のシートの第１の主面は、ＶＩＧの面３であり、第２のガラスシート５の第２の主
面上の低放射率被覆１５の外の面は、ＶＩＧの面４である。低放射率被覆１５の外面は、
図１において数字９で標識されている。
、第１のガラス３のシートの第２の対向する主面は、ＶＩＧの面２であり、被覆ガラス５
の第２のシートの第１の主面は、ＶＩＧの面３であり、第２のガラスシート５の第２の主
面上の低放射率被覆１５の外の面は、ＶＩＧの面４である。低放射率被覆１５の外面は、
図１において数字９で標識されている。
【0207】
本出願において採用される表記を使用して、第１の主面７は、面ｉに対応してもよく、
その場合、第２の対向するガラスシート３の主面は、面ｉｉに対応し、被覆ガラス５の第
２のシートの第１の主面は、面ｉｉｉ（即ち、空間１２に面する被覆ガラスシート５の面
）に対応し、ガラスシート５の対向する主面は、面ｉｖに対応する。
その場合、第２の対向するガラスシート３の主面は、面ｉｉに対応し、被覆ガラス５の第
２のシートの第１の主面は、面ｉｉｉ（即ち、空間１２に面する被覆ガラスシート５の面
）に対応し、ガラスシート５の対向する主面は、面ｉｖに対応する。
【0208】
低放射率被覆１３は、単一のスパッタリングされた銀の層を含むが、スパッタリングさ
れた銀の二重の層または三重の層を含んでもよい。各銀層は、５ｎｍ～２０ｎｍの厚さを
有してもよい。このような被覆の例は、米国特許５，３４４，７１８号及び米国特許５，
５５７，４６２号で説明される。代替的に、低放射率被覆１３は、大気圧化学蒸着を使用
してガラス面上に蒸着された少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層を含む。低放射率
被覆１３は、低放射率被覆１５と同じであってもよい。低放射率被覆１３は、７５ｎｍの
幾何学的厚さを有するＳｉＣＯｘの下地層と、３２０ｎｍの幾何学的厚さを有するフッ素
ドープ酸化錫（ＳｎＯ２：Ｆ）の下地層の上の低放射率層とからなり、即ち、第２の主面
上の低放射率被覆１３を有するガラスシート３は、ガラス／ＳｉＣＯｘ（７５ｎｍ）／Ｓ
ｎＯ２Ｆ（３２０ｎｍ）の構造を有する。
れた銀の二重の層または三重の層を含んでもよい。各銀層は、５ｎｍ～２０ｎｍの厚さを
有してもよい。このような被覆の例は、米国特許５，３４４，７１８号及び米国特許５，
５５７，４６２号で説明される。代替的に、低放射率被覆１３は、大気圧化学蒸着を使用
してガラス面上に蒸着された少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層を含む。低放射率
被覆１３は、低放射率被覆１５と同じであってもよい。低放射率被覆１３は、７５ｎｍの
幾何学的厚さを有するＳｉＣＯｘの下地層と、３２０ｎｍの幾何学的厚さを有するフッ素
ドープ酸化錫（ＳｎＯ２：Ｆ）の下地層の上の低放射率層とからなり、即ち、第２の主面
上の低放射率被覆１３を有するガラスシート３は、ガラス／ＳｉＣＯｘ（７５ｎｍ）／Ｓ
ｎＯ２Ｆ（３２０ｎｍ）の構造を有する。
【0209】
低放射率被覆１５は、図６を参照して、より詳細に説明される。
【0210】
【0211】
図１に示される実施形態の別の代替では、ガラスの方位が、第１の被覆ガラスのシート
３の第１の主面７が、ＶＩＧ１が設置される建物の内部に面し、第２の被覆ガラスのシー
ト５の第２の主面（及び、結果的に低放射率被覆１５）が、ＶＩＧが設置される建物の外
部に面するように変えられ、即ち、低放射率被覆１５が太陽に面する。ＶＩＧがこのよう
に構成される場合、ＶＩＧの主面に面する外部上の低放射率被覆は、ガラス５のシートの
温度が上昇させられ得るため、その上の結露の形成を減少させるのに役立つ。この代替に
おいて、ガラスシート３は、被覆されていないガラスのシートであってもよい。
３の第１の主面７が、ＶＩＧ１が設置される建物の内部に面し、第２の被覆ガラスのシー
ト５の第２の主面（及び、結果的に低放射率被覆１５）が、ＶＩＧが設置される建物の外
部に面するように変えられ、即ち、低放射率被覆１５が太陽に面する。ＶＩＧがこのよう
に構成される場合、ＶＩＧの主面に面する外部上の低放射率被覆は、ガラス５のシートの
温度が上昇させられ得るため、その上の結露の形成を減少させるのに役立つ。この代替に
おいて、ガラスシート３は、被覆されていないガラスのシートであってもよい。
【0212】
図１に関連して上述された代替のいずれでも、ガラスシート５の第１の主面上に低放射
率被覆があってもよく、即ち、ガラスシート５の面は、空間１２に面する。
率被覆があってもよく、即ち、ガラスシート５の面は、空間１２に面する。
【0213】
図２は、本発明の第１の態様による別の複層ガラスユニットの一部の概略図である。複
層ガラスユニットは、真空複層ガラスユニット２１（ＶＩＧ）でもある。
層ガラスユニットは、真空複層ガラスユニット２１（ＶＩＧ）でもある。
【0214】
ＶＩＧ２１は、第１のガラス２３のシートと、第２のガラスのシート２５とを有する。
ガラス２３の第１のシートは、第１の主面と、対向する第２の主面とを有する（両方とも
図において標識されていない）。第２のガラスのシートは、第１の主面と、対向する第２
の主面とを有する（両方とも図において標識されていない）。
ガラス２３の第１のシートは、第１の主面と、対向する第２の主面とを有する（両方とも
図において標識されていない）。第２のガラスのシートは、第１の主面と、対向する第２
の主面とを有する（両方とも図において標識されていない）。
【0215】
ガラス２３、２５の各シートは、フロート法を使用して作製されたソーダ石灰シリカ組
成物である。各ガラスシート３、５は、３ｍｍの厚さであるが、６ｍｍの厚さであっても
よい。
成物である。各ガラスシート３、５は、３ｍｍの厚さであるが、６ｍｍの厚さであっても
よい。
【0216】
第１のガラス２３のシートは、複数のステンレス鋼スペーサ２２（そのうち５つのみが
図２に示され、スペーサ２２は図１におけるスペーサ１１と同じである）によって第２の
ガラスのシート２５から離間する。スペーサ２２は、２つのガラスシート２３、２５間の
空間３２を維持する。空間３２は、ＶＩＧ２１の構築中に減圧された低圧空間である。は
んだガラスなどの周辺シール３０が、空間３２が低圧のままであることを確実にし、即ち
、周辺シール３０は気密シールである。
図２に示され、スペーサ２２は図１におけるスペーサ１１と同じである）によって第２の
ガラスのシート２５から離間する。スペーサ２２は、２つのガラスシート２３、２５間の
空間３２を維持する。空間３２は、ＶＩＧ２１の構築中に減圧された低圧空間である。は
んだガラスなどの周辺シール３０が、空間３２が低圧のままであることを確実にし、即ち
、周辺シール３０は気密シールである。
【0217】
第１のガラスのシート２３の第１の主面上には、低放射率被覆３１がある。第１のガラ
スのシート２３の第２の主面上には、低放射率被覆３３がある。第２のガラスのシート２
５の第２の主面上には、低放射率被覆３５がある。
スのシート２３の第２の主面上には、低放射率被覆３３がある。第２のガラスのシート２
５の第２の主面上には、低放射率被覆３５がある。
【0218】
ＶＩＧ２１は、使用において、被覆ガラスの第１のシート２３の第１の主面（及び、結
果的に低放射率被覆３１）が、ＶＩＧ２１が設置される建物の外部に面し、被覆ガラスの
第２のシート２５の第２の主面（及び、結果的に低放射率被覆３５）が、ＶＩＧ２１が設
置される建物の内部に面するように構成される。
果的に低放射率被覆３１）が、ＶＩＧ２１が設置される建物の外部に面し、被覆ガラスの
第２のシート２５の第２の主面（及び、結果的に低放射率被覆３５）が、ＶＩＧ２１が設
置される建物の内部に面するように構成される。
【0219】
低放射率被覆３３は、スパッタリングされた銀の単一の層を含むが、スパッタリングさ
れた銀の二重の層または三重の層を含んでもよい。各銀層は、５ｎｍ～２０ｎｍの厚さを
有してもよい。このような被覆の例は、米国特許５，３４４，７１８号及び米国特許５，
５５７，４６２号で説明される。代替的に、低放射率被覆３３は、典型的にガラスがフロ
ート法で製造される場合、大気圧化学蒸着を使用してガラス面上に蒸着された少なくとも
１つのフッ素ドープ酸化錫の層を含む。低放射率被覆３３は、低放射率被覆３５と同じで
あってもよい。低放射率被覆３３は、７５ｎｍの幾何学的厚さを有するＳｉＣＯｘの下地
層と、３２０ｎｍの幾何学的厚さを有するフッ素ドープ酸化錫の下地層の上の低放射率層
とからなり、即ち、第２の主面上の低放射率被覆３３を有するガラスシート２３は、ガラ
ス／ＳｉＣＯｘ（７５ｎｍ）／ＳｎＯ２：Ｆ（３２０ｎｍ）の構造を有する。
れた銀の二重の層または三重の層を含んでもよい。各銀層は、５ｎｍ～２０ｎｍの厚さを
有してもよい。このような被覆の例は、米国特許５，３４４，７１８号及び米国特許５，
５５７，４６２号で説明される。代替的に、低放射率被覆３３は、典型的にガラスがフロ
ート法で製造される場合、大気圧化学蒸着を使用してガラス面上に蒸着された少なくとも
１つのフッ素ドープ酸化錫の層を含む。低放射率被覆３３は、低放射率被覆３５と同じで
あってもよい。低放射率被覆３３は、７５ｎｍの幾何学的厚さを有するＳｉＣＯｘの下地
層と、３２０ｎｍの幾何学的厚さを有するフッ素ドープ酸化錫の下地層の上の低放射率層
とからなり、即ち、第２の主面上の低放射率被覆３３を有するガラスシート２３は、ガラ
ス／ＳｉＣＯｘ（７５ｎｍ）／ＳｎＯ２：Ｆ（３２０ｎｍ）の構造を有する。
【0220】
低放射率被覆３１及び３５は、図６を参照して、より詳細に説明される。
【0221】
図３は、複層ガラスユニット４１の一部を示す。複層ガラスユニット４１は、図１を参
照して説明されるように、シートの主面上に低放射率被覆４５を有する３ｍｍのソーダ石
灰シリカガラス４３のシートと、ＶＩＧ１とを含む。このような複層ガラスユニットは、
３つの板ガラス材料のシートと、シート間に２つの空間とがあるため、典型的に、三重複
層ガラスユニットと称される。
照して説明されるように、シートの主面上に低放射率被覆４５を有する３ｍｍのソーダ石
灰シリカガラス４３のシートと、ＶＩＧ１とを含む。このような複層ガラスユニットは、
３つの板ガラス材料のシートと、シート間に２つの空間とがあるため、典型的に、三重複
層ガラスユニットと称される。
【0222】
ＶＩＧ１は、金属のスペーサ４４と、ポリウレタンなどの周辺シール４１０とによって
、被覆ガラスシートから約１２ｍｍ離間し、それによって空間４２を作る。空間４２は、
空隙であり、アルゴンまたはクリプトンなどの不活性ガスが充填されてもよい。
、被覆ガラスシートから約１２ｍｍ離間し、それによって空間４２を作る。空間４２は、
空隙であり、アルゴンまたはクリプトンなどの不活性ガスが充填されてもよい。
【0223】
低放射率被覆４５は、空間４２に面するガラスシート４３の主面上にある。
【0224】
低放射率被覆４５は、スパッタリングされた銀の単一の層を含むが、スパッタリングさ
れた銀の二重の層または三重の層を含んでもよい。各銀層は、５ｎｍ～２０ｎｍの厚さを
有してもよい。このような被覆の例は、米国特許５，３４４，７１８号及び米国特許５，
５５７，４６２号で説明される。代替的に、低放射率被覆４５は、典型的にガラスがフロ
ート法で製造される場合、大気圧化学蒸着を使用してガラス面上に蒸着された少なくとも
１つのフッ素ドープ酸化錫の層を含む。低放射率被覆４５は、低放射率被覆１５と同じで
あってもよい。低放射率被覆４５は、７５ｎｍの幾何学的厚さを有するＳｉＣＯｘの下地
層と、３２０ｎｍの幾何学的厚さを有するフッ素ドープ酸化錫の下地層の上の低放射率層
とからなってもよく、即ち、第２の主面上の低放射率被覆４５を有するガラスシート４３
は、ガラス／ＳｉＣＯｘ（７５ｎｍ）／ＳｎＯ２：Ｆ（３２０ｎｍ）の構造を有する。
れた銀の二重の層または三重の層を含んでもよい。各銀層は、５ｎｍ～２０ｎｍの厚さを
有してもよい。このような被覆の例は、米国特許５，３４４，７１８号及び米国特許５，
５５７，４６２号で説明される。代替的に、低放射率被覆４５は、典型的にガラスがフロ
ート法で製造される場合、大気圧化学蒸着を使用してガラス面上に蒸着された少なくとも
１つのフッ素ドープ酸化錫の層を含む。低放射率被覆４５は、低放射率被覆１５と同じで
あってもよい。低放射率被覆４５は、７５ｎｍの幾何学的厚さを有するＳｉＣＯｘの下地
層と、３２０ｎｍの幾何学的厚さを有するフッ素ドープ酸化錫の下地層の上の低放射率層
とからなってもよく、即ち、第２の主面上の低放射率被覆４５を有するガラスシート４３
は、ガラス／ＳｉＣＯｘ（７５ｎｍ）／ＳｎＯ２：Ｆ（３２０ｎｍ）の構造を有する。
【0225】
複層ガラスユニット４１は、使用において、ガラスシート４３の被覆されない面が、建
物の外部に面するように構成される。これは面１と称される。ガラスシート４３の被覆面
は、空隙４２に面し、面２と称される。空隙４２にエイシングするＶＩＧ１のガラスシー
ト３の面は、面３と称される。低圧空間１２に面するＶＩＧ１のガラスシート３の被覆面
は、面４と称される。低圧空間１２に面するＶＩＧ１のガラスシート５の被覆されていな
い面は、面５と称され、ＶＩＧ１のガラスシート５の被覆面は、面６と称され、建物の内
部に面する。
物の外部に面するように構成される。これは面１と称される。ガラスシート４３の被覆面
は、空隙４２に面し、面２と称される。空隙４２にエイシングするＶＩＧ１のガラスシー
ト３の面は、面３と称される。低圧空間１２に面するＶＩＧ１のガラスシート３の被覆面
は、面４と称される。低圧空間１２に面するＶＩＧ１のガラスシート５の被覆されていな
い面は、面５と称され、ＶＩＧ１のガラスシート５の被覆面は、面６と称され、建物の内
部に面する。
【0226】
これは、三重複層ガラスユニットの面を命名するための従来の規則である。
【0227】
面２、４、及び６上の低放射率被覆４５、１３、及び１５は、複層ガラスユニット４１
のＵ値をそれぞれ減少させる。
のＵ値をそれぞれ減少させる。
【0228】
図３に示される例の変形では、ガラスのシート４３は、低放射率被覆を有する両方の主
面が被覆されてもよく、即ち、面１は低放射率被覆をその上に有する。
面が被覆されてもよく、即ち、面１は低放射率被覆をその上に有する。
【0229】
変形では、面１上の低放射率被覆は、低放射率被覆４５と同じであってもよい。空隙に
面するガラスシート４３の主面上の低放射率被覆は、少なくとも１つのフッ素ドープ酸化
錫層を含むことが好ましく、図６を参照して説明された低放射率被覆１５と同じであるこ
とが好ましい。好ましくは、面１上の低放射率被覆は、図１及び６を参照して説明される
被覆１５と同じである。面１上の低放射率被覆の提供は、ガラスシート４３の温度を上昇
させるのに役立ち、それによってその上の結露の形成を減少させるのに役立つ。
面するガラスシート４３の主面上の低放射率被覆は、少なくとも１つのフッ素ドープ酸化
錫層を含むことが好ましく、図６を参照して説明された低放射率被覆１５と同じであるこ
とが好ましい。好ましくは、面１上の低放射率被覆は、図１及び６を参照して説明される
被覆１５と同じである。面１上の低放射率被覆の提供は、ガラスシート４３の温度を上昇
させるのに役立ち、それによってその上の結露の形成を減少させるのに役立つ。
【0230】
図３に示される複層ガラスの別の変形では、ガラス４３のシートの位置及びＶＩＧ１は
逆であってもよい。
逆であってもよい。
【0231】
図４は、本発明の第１の態様による別の複層ガラスユニットの概略図である。特定の例
では、複層ガラスユニットは、真空複層ガラスユニット５１（ＶＩＧ）であり、上述され
たＶＩＧ１及びＶＩＧ２１と同様である。
では、複層ガラスユニットは、真空複層ガラスユニット５１（ＶＩＧ）であり、上述され
たＶＩＧ１及びＶＩＧ２１と同様である。
【0232】
ＶＩＧ５１は、第１のガラスのシート５３と、第２のガラスのシート５５とを有する。
第１のガラスのシート５３は、第１の主面と、第２の主面とを有する（両方とも図におい
て標識されていない）。被覆ガラスの第２のシートは、第１の主面と、第２の主面とを有
する（両方とも図において標識されていない）。
第１のガラスのシート５３は、第１の主面と、第２の主面とを有する（両方とも図におい
て標識されていない）。被覆ガラスの第２のシートは、第１の主面と、第２の主面とを有
する（両方とも図において標識されていない）。
【0233】
各ガラスのシート５３、５５は、フロート法を使用して作製されたソーダ石灰シリカ組
成物である。各ガラスシート５３、５５は、３ｍｍの厚さである。
成物である。各ガラスシート５３、５５は、３ｍｍの厚さである。
【0234】
第１のガラスのシート５３は、複数のステンレス鋼のスペーサ５２によって第２のガラ
スのシート５５から離間する（そのうちの５つのみが図４に示される）。スペーサは、空
間６２を約０．２ｍｍの２つのガラスシート５３、５５間に維持する。空間６２は、ＶＩ
Ｇ５１の構築中に減圧される低圧空間である。はんだガラスなどの周辺シール６０は、空
間６２が低圧のままであることを確実にし、即ち、周辺シール６０は気密シールである。
スのシート５５から離間する（そのうちの５つのみが図４に示される）。スペーサは、空
間６２を約０．２ｍｍの２つのガラスシート５３、５５間に維持する。空間６２は、ＶＩ
Ｇ５１の構築中に減圧される低圧空間である。はんだガラスなどの周辺シール６０は、空
間６２が低圧のままであることを確実にし、即ち、周辺シール６０は気密シールである。
【0235】
ガラスシート５３の第２の主面は、空間６２に面する。ガラスシート５５の第１の主面
は、空間６２に面する。
は、空間６２に面する。
【0236】
ガラスシート５３の両方の主面は被覆されない。ガラスシート５５の第１の主面上に、
低放射率被覆６３がある。ガラスシート５５の第２の主面上に、低放射率被覆６５がある
。
低放射率被覆６３がある。ガラスシート５５の第２の主面上に、低放射率被覆６５がある
。
【0237】
ＶＩＧ５１は、使用において、第１のシート５３の第１の主面が、ＶＩＧ５１が設置さ
れる建物の外部に面し、ガラスの第２のシート５５の第２の主面（及び、結果的に低放射
率被覆６５）が、ＶＩＧ５１が設置される建物の内部に面するように構成される。
れる建物の外部に面し、ガラスの第２のシート５５の第２の主面（及び、結果的に低放射
率被覆６５）が、ＶＩＧ５１が設置される建物の内部に面するように構成される。
【0238】
低放射率被覆６３は、スパッタリングされた銀の単一の層を含むが、スパッタリングさ
れた銀の二重の層または三重の層を含んでもよい。各銀層は、５ｎｍ～２０ｎｍの厚さを
有してもよい。このような被覆の例は、米国特許５，３４４，７１８号及び米国特許５，
５５７，４６２号で説明される。代替的に、低放射率被覆６３は、大気圧化学蒸着を使用
してガラス面上に蒸着された少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層を含む。低放射率
被覆６３は、低放射率被覆６５と同じであってもよい。低放射率被覆６３は、７５ｎｍの
幾何学的厚さを有するＳｉＣＯｘの下地層と、３２０ｎｍの幾何学的厚さを有するフッ素
ドープ酸化錫の下地層の上の低放射率層とからなってもよく、即ち、ガラスシート５５は
、第１の主面上の低放射率被覆６３を有するガラス／ＳｉＣＯｘ（７５ｎｍ）／ＳｎＯ２
：Ｆ（３２０ｎｍ）の構造を有する。
れた銀の二重の層または三重の層を含んでもよい。各銀層は、５ｎｍ～２０ｎｍの厚さを
有してもよい。このような被覆の例は、米国特許５，３４４，７１８号及び米国特許５，
５５７，４６２号で説明される。代替的に、低放射率被覆６３は、大気圧化学蒸着を使用
してガラス面上に蒸着された少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層を含む。低放射率
被覆６３は、低放射率被覆６５と同じであってもよい。低放射率被覆６３は、７５ｎｍの
幾何学的厚さを有するＳｉＣＯｘの下地層と、３２０ｎｍの幾何学的厚さを有するフッ素
ドープ酸化錫の下地層の上の低放射率層とからなってもよく、即ち、ガラスシート５５は
、第１の主面上の低放射率被覆６３を有するガラス／ＳｉＣＯｘ（７５ｎｍ）／ＳｎＯ２
：Ｆ（３２０ｎｍ）の構造を有する。
【0239】
低放射率被覆６５は、図６を参照して、より詳細に説明される。
【0240】
図４に示される実施形態の代替では、ＶＩＧ５１の方位は、使用において、即ち、建物
に設置される場合、低放射率被覆６５が建物の外部に面し、空間６２に面さない第１のガ
ラスシート５３の被覆されていない主面は、ＶＩＧが設置される建物の内部に面するよう
に、逆であってもよい。
に設置される場合、低放射率被覆６５が建物の外部に面し、空間６２に面さない第１のガ
ラスシート５３の被覆されていない主面は、ＶＩＧが設置される建物の内部に面するよう
に、逆であってもよい。
【0241】
【0242】
図５は、本発明の第２の態様による複層ガラスユニット７１の一部の概略図である。
【0243】
複層ガラスユニット７１は、金属スペーサ７２によってＶＩＧ８１から１２ｍｍ離間す
る３ｍｍの厚さのソーダ石灰シリカガラス７３のシートと、周辺シール７４とを含む。ガ
ラスシート７３とＶＩＧ８１との間に空隙７６がある。
る３ｍｍの厚さのソーダ石灰シリカガラス７３のシートと、周辺シール７４とを含む。ガ
ラスシート７３とＶＩＧ８１との間に空隙７６がある。
【0244】
ガラスシート７３は、第１及び第２の対向する主面を有する。ガラスシート７３の第２
の主面は、空隙７６に面する。ガラスシート７３の第１の主面上に低放射率被覆７５があ
り、ガラスシート７３の第２の主面上に低放射率被覆７７がある。
の主面は、空隙７６に面する。ガラスシート７３の第１の主面上に低放射率被覆７５があ
り、ガラスシート７３の第２の主面上に低放射率被覆７７がある。
【0245】
低放射率被覆７７は、スパッタリングされた銀の単一の層を含むが、スパッタリングさ
れた銀の二重の層または三重の層を含んでもよい。各銀層は、５ｎｍ～２０ｎｍの厚さを
有してもよい。このような被覆の例は、米国特許５，３４４，７１８号及び米国特許５，
５５７，４６２号で説明される。代替的に、低放射率被覆７７は、大気圧化学蒸着を使用
してガラス面上に蒸着された少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層を含む。低放射率
被覆７７は、低放射率被覆７５と同じであってもよい。低放射率被覆７７は、７５ｎｍの
幾何学的厚さを有するＳｉＣＯｘの下地層と、３２０ｎｍの幾何学的厚さを有するフッ素
ドープ酸化錫の下地層の上の低放射率層とからなってもよく、即ち、ＳｉＣＯｘ層は、ガ
ラス面と接触しており、ＳｎＯ２：Ｆ層は、ＳｉＣＯｘ層上にある。
れた銀の二重の層または三重の層を含んでもよい。各銀層は、５ｎｍ～２０ｎｍの厚さを
有してもよい。このような被覆の例は、米国特許５，３４４，７１８号及び米国特許５，
５５７，４６２号で説明される。代替的に、低放射率被覆７７は、大気圧化学蒸着を使用
してガラス面上に蒸着された少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫の層を含む。低放射率
被覆７７は、低放射率被覆７５と同じであってもよい。低放射率被覆７７は、７５ｎｍの
幾何学的厚さを有するＳｉＣＯｘの下地層と、３２０ｎｍの幾何学的厚さを有するフッ素
ドープ酸化錫の下地層の上の低放射率層とからなってもよく、即ち、ＳｉＣＯｘ層は、ガ
ラス面と接触しており、ＳｎＯ２：Ｆ層は、ＳｉＣＯｘ層上にある。
【0246】
低放射率被覆７５は、図６を参照して、より詳細に説明される。
【0247】
ＶＩＧ８１は、複数のステンレス鋼のスペーサ８２によって、互いから約０．２ｍｍ離
間する、第１のガラスのシート８３と、第２のガラスのシート８５とを含む。スペーサは
、空間９２を２つのガラスシート８３、８５間に維持する。空間９２は、ＶＩＧ８１の構
築中に減圧された低圧空間である。はんだガラスなどの周辺シール８０は、空間９２が低
圧のままであることを確実にし、即ち、周辺シール８０は気密シールである。
間する、第１のガラスのシート８３と、第２のガラスのシート８５とを含む。スペーサは
、空間９２を２つのガラスシート８３、８５間に維持する。空間９２は、ＶＩＧ８１の構
築中に減圧された低圧空間である。はんだガラスなどの周辺シール８０は、空間９２が低
圧のままであることを確実にし、即ち、周辺シール８０は気密シールである。
【0248】
ガラスシート８３は、空隙７６に面する第１の主面と、低圧空間９２に面する第２の主
面とを有する。ガラスシート８３の第２の主面上に、低放射率被覆９３がある。低放射率
被覆は、低放射率被覆７７と同じであってもよい。
面とを有する。ガラスシート８３の第２の主面上に、低放射率被覆９３がある。低放射率
被覆は、低放射率被覆７７と同じであってもよい。
【0249】
ガラスシート８５は、低圧空間９２に面する第１の主面と、第２の対向する主面とを有
する。ガラスシート８５の両方の主面は、被覆されていない。
する。ガラスシート８５の両方の主面は、被覆されていない。
【0250】
使用において、ガラスシート８５の第２の主面は、複層ガラスユニット７１が設置され
る建物の内部に面する。
る建物の内部に面する。
【0251】
図５において、面１上の追加の低放射率被覆７５は、ガラスシート７３の温度を上昇さ
せるのに役立ち、その上の結露の形成を減少させる。
せるのに役立ち、その上の結露の形成を減少させる。
【0252】
図６は、本発明の第１または第２の態様のいずれかによる複層ガラスにおけるガラス板
として有用な被覆ガラスの断面を示す。
として有用な被覆ガラスの断面を示す。
【0253】
図６を参照すると、３ｍｍの厚さの透明フロートガラスのシート１０５を含む被覆ガラ
ス板１０１は、例えば、国際出願９７／４２３５７Ａ１号で説明されるように、フロート
炉のフロートバス領域において大気化学蒸着を使用して被覆構造１１５で被覆される。
ス板１０１は、例えば、国際出願９７／４２３５７Ａ１号で説明されるように、フロート
炉のフロートバス領域において大気化学蒸着を使用して被覆構造１１５で被覆される。
【0254】
ガラスシート１０５の組成物は、Ｆｅ２Ｏ３の０．１１重量％の含有量を有する従来の
透明フロートガラス組成物（ソーダ石灰シリカガラス）であるが、別の実施形態では、Ｆ
ｅ２Ｏ３の含有量は０．００１重量％～０．１重量％であり、典型的には約０．０５重量
％であった。別の例では、約０．１８重量％のＦｅ２Ｏ３の含有量を有する、より高いＦ
ｅ２Ｏ３含有量のフロートガラス組成物が使用された。
透明フロートガラス組成物（ソーダ石灰シリカガラス）であるが、別の実施形態では、Ｆ
ｅ２Ｏ３の含有量は０．００１重量％～０．１重量％であり、典型的には約０．０５重量
％であった。別の例では、約０．１８重量％のＦｅ２Ｏ３の含有量を有する、より高いＦ
ｅ２Ｏ３含有量のフロートガラス組成物が使用された。
【0255】
ホットフロートガラスリボンは、まず、１５ｎｍの幾何学的厚さを有するＳｉＯ２の層
１０２で被覆される。この層１０２は、本発明による被覆ガラスシートが、この層を有し
ない被覆ガラスシートよりも少ないヘイズを有するようなヘイズ低減層である。例えばＳ
ｉ３Ｎ４などの他のこのような被覆が使用されてもよい。
１０２で被覆される。この層１０２は、本発明による被覆ガラスシートが、この層を有し
ない被覆ガラスシートよりも少ないヘイズを有するようなヘイズ低減層である。例えばＳ
ｉ３Ｎ４などの他のこのような被覆が使用されてもよい。
【0256】
次に、２５ｎｍの幾何学的厚さを有するＳｎＯ２の層１０４が、ＳｉＯ２層上に蒸着さ
れる。この層は、虹色抑制被覆構造の一部を形成する。次に、３０ｎｍの幾何学的厚さを
有するＳｉＯ２の層１０６がＳｎＯ２層１０４上に蒸着される。ＳｎＯ２の２５ｎｍの層
とＳｉＯ２の３０ｎｍの層との組み合わせが、虹色抑制被覆である。層１０４は、虹色抑
制被覆の第１の層である、層１０６は、虹色抑制被覆の第２の層である。
れる。この層は、虹色抑制被覆構造の一部を形成する。次に、３０ｎｍの幾何学的厚さを
有するＳｉＯ２の層１０６がＳｎＯ２層１０４上に蒸着される。ＳｎＯ２の２５ｎｍの層
とＳｉＯ２の３０ｎｍの層との組み合わせが、虹色抑制被覆である。層１０４は、虹色抑
制被覆の第１の層である、層１０６は、虹色抑制被覆の第２の層である。
【0257】
最後に、フッ素ドープ酸化錫（ＳｎＯ２：Ｆ）の層１０８は、３０ｎｍの厚さのＳｉＯ
２層上に蒸着された。ＳｎＯ２：Ｆ層１０８は、２３０ｎｍの幾何学的厚さを有した。
２層上に蒸着された。ＳｎＯ２：Ｆ層１０８は、２３０ｎｍの幾何学的厚さを有した。
【0258】
層１０２、１０４、１０６、及び１０８は、被覆構造１１５を形成する。被覆構造１１
５は、低放射率被覆である。
５は、低放射率被覆である。
【0259】
【0260】
ＳｎＯ２：Ｆ層１０８が厚すぎる場合、例えば、取り扱われるとき、または清掃される
ときに損傷を受ける傾向がより多い。結果的に、低放射率被覆１０８上のいずれの追加の
被覆層を使用する必要もない。他の被覆層が低放射率被覆１０８上に蒸着されてもよいが
、これは費用及び製造の複雑さを増加させる。
ときに損傷を受ける傾向がより多い。結果的に、低放射率被覆１０８上のいずれの追加の
被覆層を使用する必要もない。他の被覆層が低放射率被覆１０８上に蒸着されてもよいが
、これは費用及び製造の複雑さを増加させる。
【0261】
【0262】
ＳｎＯ２：Ｆ層の粗さは、約１０ｎｍであると判定された。粗さは、原子間力顕微鏡を
使用して測定され、ＩＳＯ／ＤＩＳ ２５１７８－２（２００７）に従い、パラメータに
ついて定義された。
使用して測定され、ＩＳＯ／ＤＩＳ ２５１７８－２（２００７）に従い、パラメータに
ついて定義された。
【0263】
上述と同じ被覆は、３．９２ｍｍの厚さの低鉄フロートガラスのシート上に蒸着された
（０．０２重量％のＦｅ２Ｏ３を有する）。この被覆されたシートの可視光線透過率は、
ＥＮ４１０（２０１１）／６７３（ＣＥＮ）に従って算出され、８４．６％であった。
（０．０２重量％のＦｅ２Ｏ３を有する）。この被覆されたシートの可視光線透過率は、
ＥＮ４１０（２０１１）／６７３（ＣＥＮ）に従って算出され、８４．６％であった。
【0264】
図６に示された被覆構造１１５の代替では、ＳｉＯ２の層１０２がなくてもよく、代わ
りに層１０４がガラスシート１０５の面に接触している。この実施形態では、ＳｎＯ２の
層１０４の幾何学的厚さは、２０ｎｍ～３０ｎｍであってもよく、層１０４上のＳｉＯ２
の層１０６の幾何学的厚さは、１０ｎｍ～３０ｎｍの幾何学的厚さを有してもよい。Ｓｉ
Ｏ２層１０６上のフッ素ドープ酸化錫（ＳｎＯ２：Ｆ）の層１０８は、３００ｎｍ～４０
０ｎｍの幾何学的厚さを有してもよく、典型的に、約３２０ｎｍである。代替的に、Ｓｉ
Ｏ２層１０６上のフッ素ドープ酸化錫（ＳｎＯ２：Ｆ）層１０８は、４００ｎｍより大き
な幾何学的厚さを有してもよく、典型的に、約６００ｎｍまでであり、即ち、５００～５
８０ｎｍ内である。
りに層１０４がガラスシート１０５の面に接触している。この実施形態では、ＳｎＯ２の
層１０４の幾何学的厚さは、２０ｎｍ～３０ｎｍであってもよく、層１０４上のＳｉＯ２
の層１０６の幾何学的厚さは、１０ｎｍ～３０ｎｍの幾何学的厚さを有してもよい。Ｓｉ
Ｏ２層１０６上のフッ素ドープ酸化錫（ＳｎＯ２：Ｆ）の層１０８は、３００ｎｍ～４０
０ｎｍの幾何学的厚さを有してもよく、典型的に、約３２０ｎｍである。代替的に、Ｓｉ
Ｏ２層１０６上のフッ素ドープ酸化錫（ＳｎＯ２：Ｆ）層１０８は、４００ｎｍより大き
な幾何学的厚さを有してもよく、典型的に、約６００ｎｍまでであり、即ち、５００～５
８０ｎｍ内である。
【0265】
説明されたような被覆構造１１５は、本発明の第１及び第２の態様による、１つ以上の
板ガラス材料の主面上の低放射率被覆として使用されてもよい。
板ガラス材料の主面上の低放射率被覆として使用されてもよい。
【0266】
本発明の例は、露出面上に低放射率被覆を有しない等価の複層ガラスユニットと比べて
、Ｕ値を減少させた。複層ガラスユニットの外部に面する面（即ち、面１）上の低放射率
被覆の提供は、上述の面上の低放射率被覆を上から覆う必要を伴わずに、結露防止の性質
を複層ガラスユニットに提供することができるという利点を有する。これは、製造費用及
び製造の複雑性を減少させる。比較的薄い低放射率層を使用することによって、被覆は、
比較的滑らかであり、外部環境に露出している同様のより厚い被覆に、さもなければ起こ
り得る損害をより受けにくい。
、Ｕ値を減少させた。複層ガラスユニットの外部に面する面（即ち、面１）上の低放射率
被覆の提供は、上述の面上の低放射率被覆を上から覆う必要を伴わずに、結露防止の性質
を複層ガラスユニットに提供することができるという利点を有する。これは、製造費用及
び製造の複雑性を減少させる。比較的薄い低放射率層を使用することによって、被覆は、
比較的滑らかであり、外部環境に露出している同様のより厚い被覆に、さもなければ起こ
り得る損害をより受けにくい。
【0267】
要するに、第１の態様から、間に低圧空間を有する板ガラス材料の第１及び第２のシー
トを含む複層ガラスユニットが、本明細書で説明される。低圧空間に面さない板ガラス材
料の第２のシートの主面は、その上に少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層を含む低放
射率被覆を有する。低放射率被覆と、板ガラス材料の第２のシートとの間に第１の虹色抑
制被覆がある。また、第２の態様から、第１及び第２の板ガラス材料のシート間に低圧空
間と、第１及び第３の板ガラス材料のシート間に第２の空間とを有する、板ガラス材料の
３つの（第１、第２、及び第３の）シートを含む複層ガラスユニットが本明細書で説明さ
れる。第２の態様では、低圧空間に面する１つまたは両方の主面上の低放射率被覆があり
、板ガラス材料の第３のシートは、両方の対向する主面上に低放射率被覆を有する。
トを含む複層ガラスユニットが、本明細書で説明される。低圧空間に面さない板ガラス材
料の第２のシートの主面は、その上に少なくとも１つのフッ素ドープ酸化錫層を含む低放
射率被覆を有する。低放射率被覆と、板ガラス材料の第２のシートとの間に第１の虹色抑
制被覆がある。また、第２の態様から、第１及び第２の板ガラス材料のシート間に低圧空
間と、第１及び第３の板ガラス材料のシート間に第２の空間とを有する、板ガラス材料の
３つの（第１、第２、及び第３の）シートを含む複層ガラスユニットが本明細書で説明さ
れる。第２の態様では、低圧空間に面する１つまたは両方の主面上の低放射率被覆があり
、板ガラス材料の第３のシートは、両方の対向する主面上に低放射率被覆を有する。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】