特許 7233991 複合めっき材およびその製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2023-02-27

(45)【発行日】2023-03-07

(54)【発明の名称】複合めっき材およびその製造方法

(51)【国際特許分類】

   C25D 15/02 20060101AFI20230228BHJP

   C25D 21/12 20060101ALI20230228BHJP

   C25D 5/12 20060101ALI20230228BHJP

   C25D 7/00 20060101ALI20230228BHJP

【ＦＩ】

C25D15/02 L

C25D15/02 J

C25D15/02 M

C25D15/02 Q

C25D21/12 J

C25D5/12

C25D7/00 H

C25D15/02 F

【請求項の数】 10

(21)【出願番号】P 2019049376

(22)【出願日】2019-03-18

(65)【公開番号】P2020152929

(43)【公開日】2020-09-24

【審査請求日】2022-01-17

(73)【特許権者】

【識別番号】506365131

【氏名又は名称】ＤＯＷＡメタルテック株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100107548

【弁理士】

【氏名又は名称】大川 浩一

(72)【発明者】

【氏名】園田 悠太

(72)【発明者】

【氏名】加藤 有紀也

(72)【発明者】

【氏名】成枝 宏人

【審査官】國方 康伸

(56)【参考文献】

【文献】特開２００７－０１６２５０（ＪＰ，Ａ）

【文献】中国特許出願公開第１０１２５６９０３（ＣＮ，Ａ）

【文献】特開２００６－１６９６０９（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１３－２１６９７１（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１８－０８３９６０（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｃ２５Ｄ １／００－ ９／１２

Ｃ２５Ｄ １３／００－２１／２２

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

ケイ酸塩を含む炭素粒子の分散液を添加したスルホン酸系銀めっき液を使用して電気めっきを行うことにより、銀層中に炭素粒子を含有する複合材からなる複合めっき皮膜を素材上に形成することを特徴とする、複合めっき材の製造方法。

【請求項2】

前記炭素粒子が、平均粒径１～１５μｍのグラファイト粒子であることを特徴とする、請求項１に記載の複合めっき材の製造方法。

【請求項3】

前記スルホン酸系銀めっき液に添加する炭素粒子の量が１０～１００ｇ／Ｌであることを特徴とする、請求項１または２に記載の複合めっき材の製造方法。

【請求項4】

前記電気めっきを電流密度１～２０Ａ／ｄｍ^２で行うことを特徴とする、請求項１乃至３のいずれかに記載の複合めっき材の製造方法。

【請求項5】

前記素材が銅または銅合金からなることを特徴とする、請求項１乃至４のいずれかに記載の複合めっき材の製造方法。

【請求項6】

前記複合材からなる皮膜を形成する前に、前記素材上にニッケルめっき皮膜を形成することを特徴とする、請求項１乃至５のいずれかに記載の複合めっき材の製造方法。

【請求項7】

銀層中に炭素粒子を含有する複合材からなる複合めっき皮膜が素材上に形成され、複合めっき皮膜の表面の炭素粒子が占める割合が３０～９０面積％であり、複合めっき皮膜がＳｉを含むことを特徴とする、複合めっき材。

【請求項8】

前記複合めっき皮膜中のＳｉ含有量が０．０１～１質量％であることを特徴とする、請求項７に記載の複合めっき材。

【請求項9】

前記複合めっき皮膜の厚さが０．５～２０μｍであることを特徴とする、請求項７または８に記載の複合めっき材。

【請求項10】

前記複合めっき皮膜と前記素材との間にニッケルめっき皮膜が形成されていることを特徴とする、請求項７乃至９のいずれかに記載の複合めっき材。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、複合めっき材およびその製造方法に関し、特に、スイッチやコネクタなどの摺動接点部品などの材料として使用される複合めっき材およびその製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

従来、スイッチやコネクタなどの摺動接点部品などの材料として、摺動過程における加熱による銅や銅合金などの導体素材の酸化を防止するために、導体素材に銀めっきを施した銀めっき材が使用されている。

【0003】

しかし、銀めっきは、軟質で摩耗し易く、一般に摩擦係数が高いため、摺動により剥離し易いという問題がある。この問題を解消するため、耐熱性、磨耗性、潤滑性などに優れた黒鉛やカーボンブラックなどの炭素粒子のうち、黒鉛粒子を銀マトリクス中に分散させた複合材の皮膜を電気めっきにより導体素材上に形成して耐摩耗性を向上させる方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。また、黒鉛粒子の分散に適した湿潤剤が添加されためっき浴を使用することにより、黒鉛粒子を含む銀めっき皮膜を製造する方法が提案されている（例えば、特許文献２参照）。さらに、ゾル－ゲル法によって炭素粒子を金属酸化物などでコーティングして、銀と炭素粒子の複合めっき液中における炭素粒子の分散性を高め、めっき皮膜中に複合化する炭素粒子の量を増大する方法が提案されている（例えば、特許文献３参照）。

【0004】

しかし、特許文献１～３の方法により製造された複合めっき材は、摩擦係数が比較的高く、接点や端子の高寿命化に対応することができないという問題があり、特許文献１～３の方法により製造された複合めっき材よりも炭素粒子の含有量や表面の炭素粒子が占める割合を増大させて、さらに優れた耐摩耗性の複合めっき材を提供することが望まれている。

【0005】

このような複合めっき材を製造する方法として、酸化処理を行った炭素粒子を添加したシアン系銀めっき液を使用して電気めっきを行うことにより、銀層中に炭素粒子を含有する複合材からなる皮膜を素材上に形成する方法（例えば、特許文献４参照）、電解処理を行った炭素粒子を添加したシアン系銀めっき液を使用して電気めっきを行うことにより、銀層中に炭素粒子を含有する複合材からなる皮膜を素材上に形成する方法（例えば、特許文献５参照）、酸化処理を行った後にシランカップリング処理を施した炭素粒子を硝酸銀と硝酸アンモニウムを含む銀めっき液に添加した複合めっき液を使用して電気めっきを行うことにより、銀層中に炭素粒子を含む複合材からなる皮膜を素材上に形成する方法（例えば、特許文献６参照）などが提案されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0006】

【文献】特開平９－７４４５号公報（段落番号０００５－０００７）

【文献】特表平５－５０５８５３号公報（第１－２頁）

【文献】特開平３－２５３５９８号公報（第２頁）

【文献】特開２００６－３７２２５号公報（段落番号０００９）

【文献】特開２００７－１６２５１号公報（段落番号０００９）

【文献】特開２００７－２６２５２８号公報（段落番号０００８－０００９）

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0007】

しかし、特許文献４～５の方法では、シアン浴を使用するため、シアン含有排水に対する排水処理が必要であり、排水処理設備のコストが大きい。また、特許文献６の方法では、硝酸銀と硝酸アンモニウムを含む銀めっき浴で電気めっきすることにより、Ａｇがデンドライト状に析出するため、外観ムラが大きく、また、銀めっき浴の長期安定性に劣り、複合めっき材の量産に向いていない。

【0008】

したがって、本発明は、このような従来の問題点に鑑み、シアン系銀めっき液や硝酸銀を銀塩とする銀めっき液を使用しないで、外観ムラが少なく、耐摩耗性に優れた複合めっき材およびその製造方法を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0009】

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意研究した結果、炭素粒子の分散液を添加したスルホン酸系銀めっき液を使用して電気めっきを行うことにより、銀層中に炭素粒子を含有する複合材からなる複合めっき皮膜を素材上に形成すれば、シアン系銀めっき液や硝酸銀を銀塩とする銀めっき液を使用しないで、外観ムラが少なく、耐摩耗性に優れた複合めっき材を製造することができることを見出し、本発明を完成するに至った。

【0010】

すなわち、本発明による複合めっき材の製造方法は、炭素粒子の分散液を添加したスルホン酸系銀めっき液を使用して電気めっきを行うことにより、銀層中に炭素粒子を含有する複合材からなる複合めっき皮膜を素材上に形成することを特徴とする。

【0011】

この複合めっき材の製造方法において、炭素粒子の分散液がケイ酸塩を含むのが好ましい。また、炭素粒子が、平均粒径１～１５μｍのグラファイト粒子であるのが好ましい。また、スルホン酸系銀めっき液に添加する炭素粒子の量が１０～１００ｇ／Ｌであるのが好ましい。また、複合めっき皮膜を形成する際の電気めっきを電流密度１～２０Ａ／ｄｍ^２で行うのが好ましい。さらに、素材が銅または銅合金からなるのが好ましい。また、複合材からなる皮膜を形成する前に、素材上にニッケルめっき皮膜を形成してもよい。

【0012】

また、本発明による複合めっき材は、銀層中に炭素粒子を含有する複合材からなる複合めっき皮膜が素材上に形成され、複合めっき皮膜の表面の炭素粒子が占める割合が３０～９０面積％であり、複合めっき皮膜がＳｉを含むことを特徴とする。

【0013】

この複合めっき材において、複合めっき皮膜中のＳｉ含有量が０．０１～１質量％であるのが好ましい。また、複合めっき皮膜の厚さが０．５～２０μｍであるのが好ましい。また、複合めっき皮膜と素材との間にニッケルめっき皮膜を形成してもよい。

【発明の効果】

【0014】

本発明によれば、シアン系銀めっき液や硝酸銀を銀塩とする銀めっき液を使用しないで、外観ムラが少なく、耐摩耗性に優れた複合めっき材を製造することができる。

【発明を実施するための形態】

【0015】

本発明による複合めっき材の製造方法の実施の形態では、炭素粒子の分散液を添加したスルホン酸系銀めっき液を使用して電気めっきを行うことにより、銀層中に炭素粒子を含有する複合材からなる複合めっき皮膜を（好ましくは銅または銅合金からなる）素材上に形成する。炭素粒子を銀めっき液中に添加して懸濁させただけでは、めっき皮膜中に炭素粒子を取り込ませることができないが、この実施の形態のように、炭素粒子の分散液をスルホン酸系銀めっき液中に添加することにより、銀めっき液中の炭素粒子の分散性を向上させることができる。

【0016】

炭素粒子の分散液は、炭素粒子が分散媒に分散している分散液であり、分散媒が水であるのが好ましい。この炭素粒子の分散液は、ケイ酸カリウムなどのケイ酸塩を含むのが好ましい。このケイ酸塩の量は、５～２０質量％であるのが好ましく、１０～１５質量％であるのがさらに好ましい。この炭素粒子の分散液は、炭素粒子の分散液中の分散性を向上させるために、分散剤を含んでもよい。この分散剤は、炭素粒子の沈降分離を防止することができる分散剤であればよく、例えば、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロースなどのアニオン系分散剤や、アルキルポリオキシエチレンエーテルなどの非イオン系分散剤や、アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウムなどのカチオン系分散剤のいずれでもよい。なお、この炭素粒子の分散液は、攪拌して炭素粒子を分散媒に分散させた後、５分間放置した場合に、炭素粒子の９０％以上が分散状態を維持しているのが好ましい。また、炭素粒子は、グラファイト粒子であるのが好ましく、このグラファイト粒子の平均粒径は、０．５～１５μｍであるのが好ましく、１～１０μｍであるのがさらに好ましい。

【0017】

スルホン酸系銀めっき液は、Ａｇイオン源としてのスルホン酸銀と、錯化剤としてのスルホン酸を含み、光沢剤などの添加剤を含んでもよい。この銀めっき液中のＡｇ濃度は、５～１５０ｇ／Ｌであるのが好ましく、１０～１２０ｇ／Ｌであるのがさらに好ましく、２０～１００ｇ／Ｌであるのが最も好ましい。このスルホン酸系銀めっき液に含まれるスルホン酸銀として、メタンスルホン酸銀、アルカノールスルホン酸銀、フェノールスルホン酸銀などを使用することができる。

【0018】

また、スルホン酸系銀めっき液に添加する炭素粒子の量は、１０～１００ｇ／Ｌであるのが好ましく、２０～９０ｇ／Ｌであるのがさらに好ましく、３０～８０ｇ／Ｌであるのが最も好ましい。スルホン酸系銀めっき液中の炭素粒子の量が１０ｇ／Ｌ未満であると、複合めっき皮膜中の炭素粒子の含有量を十分に多くすることができないおそれがあり、１００ｇ／Ｌより多くしても、複合めっき皮膜中の炭素粒子の含有量を多くすることはできない。

【0019】

また、複合めっき皮膜を形成する際の電気めっきを電流密度１～２０Ａ／ｄｍ^２で行うのが好ましく、２～１５Ａ／ｄｍ^２であるのがさらに好ましい。Ａｇ濃度や電流密度が低過ぎると、複合めっき皮膜の形成が遅くなって効率的でなく、Ａｇ濃度や電流密度が高過ぎると、複合めっき皮膜の外観にムラが生じ易い。

【0020】

このように炭素粒子の分散液をスルホン酸系銀めっき液に添加することにより、銀めっき液中に炭素粒子を良好に分散させることができ、この銀めっき液を使用して電気めっきを行うことにより、銀層中に炭素粒子が分散した複合材からなる皮膜が素材上に形成され、表面の炭素粒子が占める割合が多く、耐摩耗性に優れた複合めっき材を製造することができる。

【0021】

また、本発明による複合めっき材の実施の形態は、銀層中に炭素粒子を含有する複合材からなる複合めっき皮膜が（好ましくは銅または銅合金からなる）素材上に形成され、複合めっき皮膜の表面の炭素粒子が占める割合が３０～９０面積％（好ましくは４０～８５面積％）であり、複合めっき皮膜が（好ましくは０．０１～１質量％、さらに好ましくは０．０５～０．３質量％の）Ｓｉを含む。複合めっき皮膜の表面の炭素粒子が占める割合が３０面積％未満であると、複合めっき材の耐摩耗性が十分でなく、９０面積％を超えると、複合めっき材の接触抵抗が高くなる。

【0022】

複合めっき皮膜の厚さは、０．５～２０μｍであるのが好ましく、３～１０μｍであるのがさらに好ましく、３～８μｍであるのが最も好ましい。複合めっき皮膜の厚さが０．５μｍ未満であると、複合めっき材の耐摩耗性が十分でなく、２０μｍを超えると、銀の量が多くなり、複合めっき材の製造コストが高くなる。また、複合めっき材の耐熱性を向上させるために、これらの間に（好ましくは厚さ０．５～５μｍの）ニッケルめっき皮膜を形成してもよい。

【0023】

なお、本発明による複合めっき材の実施の形態から２枚の試験片を切り出して、一方の試験片を平板状試験片（評価試料）とするとともに、他方の試験片をインデント加工（内側Ｒ＝１．０ｍｍの半球状の打ち出し加工）してインデント付き試験片（圧子）とし、摺動摩耗試験機により、平板状試験片にインデント付き試験片を一定の加重（２Ｎ）で押し当てながら、素材が露出するまで往復摺動動作（摺動距離１０ｍｍ、摺動速度３ｍｍ／ｓ）を継続して、平板状試験片の磨耗状態を確認する磨耗試験を行うことにより、耐摩耗性の評価を行ったときに、１０，０００回の往復摺動動作後に、素材が露出することがないのが好ましい。また、上記の往復摺動動作中に水平方向にかかる力を測定してその平均値Ｆを算出し、平板状試験片とインデント付き試験片との間の動摩擦係数（μ）をμ＝Ｆ／Ｎから算出すると、動摩擦係数が０．５以下であるのが好ましい。

【実施例】

【0024】

以下、本発明による複合めっき材およびその製造方法の実施例について詳細に説明する。

【0025】

［実施例１］
素材として厚さ０．２ｍｍのＣｕ－Ｎｉ－Ｓｎ－Ｐ合金からなる板材（１．０質量％のＮｉと０．９質量％のＳｎと０．０５質量％のＰを含み、残部がＣｕである銅合金の板材）（ＤＯＷＡメタルテック株式会社製のＮＢ１０９ＥＨ）を用意し、この素材をカソード、（チタンのメッシュ素材を白金めっきした）チタン白金メッシュ電極板をアノードとして使用して、錯化剤としてスルホン酸を含むスルホン酸系Ａｇストライクめっき液（大和化成株式会社製のダインシルバーＧＰＥ－ＳＴ）中において、電流密度３Ａ／ｄｍ^２で１０秒間電気めっき（Ａｇストライクめっき）を行った。

【0026】

また、錯化剤としてスルホン酸を含むＡｇ濃度８０ｇ／Ｌのスルホン酸系銀めっき液（大和化成株式会社製のダインシルバーＧＰＥ－ＰＬ（無光沢））に、炭素粒子として平均粒径４μｍのグラファイト粒子が水に分散した（２０質量％の炭素と１１～１４質量％のケイ酸カリウムと分散剤を含む）炭素粒子分散液（日本黒鉛工業株式会社製のプロハイトＮＳ５）を２６０ｇ／Ｌになるように添加して、５３ｇ／Ｌの炭素粒子を含むスルホン酸系銀めっき液を用意した。

【0027】

次に、上記のＡｇストライクめっきした素材をカソード、Ａｇ電極板をアノードとして使用して、上記の炭素粒子分散液を添加したスルホン酸系銀めっき液中において、スターラにより５００ｒｐｍで撹拌しながら、温度２５℃、電流密度３Ａ／ｄｍ^２で２５０秒間電気めっき（電流効率９５％）を行い、銀めっき層中に炭素粒子を含有する複合めっき皮膜が素材上に形成された複合めっき材を作製した。

【0028】

このようにして得られた複合めっき材の複合めっき皮膜（の中央部分の直径１．０ｍｍの範囲）の厚さを蛍光Ｘ線膜厚計（株式会社日立ハイテクサイエンス製のＦＴ９４５０）で測定したところ、６．５μｍであった。

【0029】

また、この複合めっき材から切り出した試験片の表面を観察することにより、複合めっき皮膜の表面の炭素粒子が占める割合（面積率（面積％））を算出した。この複合めっき皮膜の表面の炭素粒子の面積率は、試験片の表面に電子プローブマイクロアナライザ（ＥＰＭＡ）（日本電子株式会社製のＪＸＡ８１００）により照射電流３×１０^－７Ａ、加速電圧１５ｋＶで電子線を照射して反射電子検出器から得られた（倍率１０００倍の）反射電子組成（ＣＯＭＰＯ）像を、画像解析アプリケーション（画像編集・加工ソフトＧＩＭＰ２．１０．６）を使用して、（全ピクセルのうち最も高い輝度を２５５、最も低い輝度を０とすると、輝度が１２７以下のピクセルが黒、輝度が１２７を超えるピクセルが白になるように）階調を二値化し、銀の部分（白い部分）と炭素粒子の部分（黒い部分）に分離して、画像全体のピクセル数Ｘに対する炭素粒子の部分のピクセル数Ｙの比Ｙ／Ｘとして算出した。その結果、複合めっき皮膜の表面の炭素粒子が占める割合（面積率）は、５８面積％であった。また、複合めっき皮膜の表面を目視により観察したところ、表面は灰色でムラもなく、外観が良好であった。

【0030】

また、この複合めっき材について、電子プローブマイクロアナライザ（ＥＰＭＡ）（日本電子株式会社製のＪＸＡ８１００）を使用して、加圧電圧１５ｋＶ、照射電流３．０×１０^－７Ａ、直径５０μｍの分析領域として、ＺＡＦ法による定性定量分析により表面分析を行ったところ、複合めっき皮膜中に０．２質量％のＳｉが含まれていることがわかった。

【0031】

また、この複合めっき材から２枚の試験片を切り出して、一方の試験片を平板状試験片（評価試料）とするとともに、他方の試験片をインデント加工（内側Ｒ＝１．０ｍｍの半球状の打ち出し加工）してインデント付き試験片（圧子）とし、摺動摩耗試験機（株式会社山崎精機研究所製）により、平板状試験片にインデント付き試験片を一定の加重（２Ｎ）で押し当てながら、素材が露出するまで往復摺動動作（摺動距離１０ｍｍ、摺動速度３ｍｍ／ｓ）を継続して、平板状試験片の磨耗状態を確認する磨耗試験を行うことにより、耐摩耗性の評価を行った。その結果、１０，０００回の往復摺動動作後に、マイクロスコープ（株式会社キーエンス製のＶＨＸ－１０００）により平板状試験片の摺動痕の中心部を倍率２００倍で観察したところ、（茶色の）素材が露出していないことが確認され、また、平板状試験片の複合めっき皮膜（の摺動痕中央部分の直径０．１ｍｍの範囲）の厚さを蛍光Ｘ線膜厚計（株式会社日立ハイテクサイエンス製のＦＴ９４５０）で測定したところ、５．２μｍであり、耐摩耗性に優れていることがわかった。また、上記の往復摺動動作中に水平方向にかかる力を測定してその平均値Ｆを算出し、平板状試験片とインデント付き試験片との間の動摩擦係数（μ）をμ＝Ｆ／Ｎから算出したところ、動摩擦係数は０．３０であった。

【0032】

［実施例２］
Ａｇ濃度が３０ｇ／Ｌである以外は実施例１と同様のスルホン酸系銀めっき液に実施例１と同様の炭素粒子分散液を１００ｇ／Ｌになるように添加して、２０ｇ／Ｌの炭素粒子を含むスルホン酸系銀めっき液を使用して電気めっき（銀めっき）（電流効率９０％）を行った以外は、実施例１と同様の方法により、複合めっき材を作製した。

【0033】

このようにして得られた複合めっき材の複合めっき皮膜の厚さを実施例１と同様の方法により測定したところ、５．９μｍであった。

【0034】

この複合めっき材について、実施例１と同様の方法により、複合めっき皮膜の表面の炭素粒子が占める割合（面積率）を算出したところ、７７面積％であった。また、複合めっき皮膜の表面は、灰色でムラもなく、外観が良好であった。また、実施例１と同様の方法により、表面分析を行ったところ、複合めっき皮膜中に０．１質量％のＳｉが含まれていることがわかった。

【0035】

また、この複合めっき材について、実施例１と同様の方法により、摺動摩耗試験を行って耐摩耗性の評価を行ったところ、１０，０００回の往復摺動動作後に、素材が露出することはなく、複合めっき皮膜の厚さは５．１μｍであり、耐摩耗性に優れていることがわかった。また、実施例１と同様の方法により、平板状試験片とインデント付き試験片との間の動摩擦係数を算出したところ、動摩擦係数は０．３４であった。

【0036】

［実施例３］
炭素粒子として平均粒径２μｍのグラファイト粒子が水に分散した（２４質量％の炭素と少量のケイ酸塩と分散剤と増粘剤を含む）炭素粒子分散液（日本黒鉛工業株式会社製のプロハイトＳ－２）を実施例１と同様のスルホン酸系銀めっき液に添加して、６４ｇ／Ｌの炭素粒子を含むスルホン酸系銀めっき液を使用して電気めっき（銀めっき）（電流効率９５％）を行った以外は、実施例１と同様の方法により、複合めっき材を作製した。

【0037】

このようにして得られた複合めっき材の複合めっき皮膜の厚さを実施例１と同様の方法により測定したところ、５．８μｍであった。

【0038】

この複合めっき材について、実施例１と同様の方法により、複合めっき皮膜の表面の炭素粒子が占める割合（面積率）を算出したところ、７９面積％であった。また、複合めっき皮膜の表面は、灰色でムラもなく、外観が良好であった。また、実施例１と同様の方法により、表面分析を行ったところ、複合めっき皮膜中に０．２質量％のＳｉが含まれていることがわかった。

【0039】

また、この複合めっき材について、実施例１と同様の方法により、摺動摩耗試験を行って耐摩耗性の評価を行ったところ、１０，０００回の往復摺動動作後に、素材が露出することはなく、複合めっき皮膜の厚さは４．６μｍであり、耐摩耗性に優れていることがわかった。また、実施例１と同様の方法により、平板状試験片とインデント付き試験片との間の動摩擦係数を算出したところ、動摩擦係数は０．２１であった。

【0040】

［実施例４］
素材として厚さ０．３ｍｍのタフピッチ鋼からなる板材（Ｃ１１００Ｈ）を用意し、この素材をカソード、Ｎｉ電極板をアノードとして使用して、８０ｇ／Ｌのスルファミン酸ニッケルと４５ｇ／Ｌのホウ酸からなるニッケルめっき浴中において、液温４５℃、電流密度４Ａ／ｄｍ^２で攪拌しながら１４０秒間電気めっき（Ｎｉめっき）を行って、素材上に厚さ１．０μｍのＮｉめっき皮膜を形成した後、実施例１と同様の方法により、Ａｇストライクめっきを行い、その後、実施例１と同様の方法により、電気めっき（銀めっき）を行って、複合めっき材を作製した。

【0041】

このようにして得られた複合めっき材の複合めっき皮膜の厚さを実施例１と同様の方法により測定したところ、５．１μｍであった。

【0042】

この複合めっき材について、実施例１と同様の方法により、複合めっき皮膜の表面の炭素粒子が占める割合（面積率）を算出したところ、５７面積％であった。また、複合めっき皮膜の表面は、灰色でムラもなく、外観が良好であった。また、実施例１と同様の方法により、表面分析を行ったところ、複合めっき皮膜中に０．２質量％のＳｉが含まれていることがわかった。

【0043】

また、この複合めっき材について、実施例１と同様の方法により、摺動摩耗試験を行って耐摩耗性の評価を行ったところ、１０，０００回の往復摺動動作後に、素材が露出することはなく、複合めっき皮膜の厚さは４．１μｍであり、耐摩耗性に優れていることがわかった。また、実施例１と同様の方法により、平板状試験片とインデント付き試験片との間の動摩擦係数を算出したところ、動摩擦係数は０．３５であった。

【0044】

［比較例１］
実施例１のスルホン酸系銀めっき液に、炭素粒子分散液に代えて、平均粒径５μｍの疎水性の乾燥した炭素粒子（ＳＥＣカーボン株式会社製のＳＮ－５）を８０ｇ／Ｌになるように添加して、８０ｇ／Ｌの疎水性炭素粒子を含むスルホン酸系銀めっき液を使用して電気めっき（銀めっき）（電流効率９５％）を行った以外は、実施例１と同様の方法により、複合めっき材を作製した。

【0045】

このようにして得られた複合めっき材の複合めっき皮膜の厚さを実施例１と同様の方法により測定したところ、５．５μｍであった。

【0046】

この複合めっき材について、実施例１と同様の方法により、複合めっき皮膜の表面の炭素粒子が占める割合（面積率）を算出したところ、８面積％であった。また、複合めっき皮膜の表面は、光沢のない白色でムラはなかった。また、実施例１と同様の方法により、表面分析を行ったところ、複合めっき皮膜中のＳｉ含有量は０質量％であった。

【0047】

また、この複合めっき材について、実施例１と同様の方法により、摺動摩耗試験を行って耐摩耗性の評価を行ったところ、１０，０００回の往復摺動動作後に、素材が露出し、複合めっき皮膜の厚さは０μｍであり、耐摩耗性が良好でないことがわかった。また、実施例１と同様の方法により、平板状試験片とインデント付き試験片との間の動摩擦係数を算出したところ、動摩擦係数は１．１０であった。

【0048】

［比較例２］
スルホン酸系Ａｇストライクめっき液に代えて、３ｇ／Ｌのシアン銀カリウムと１００ｇ／Ｌのシアン化カリウムを含むシアン銀めっき液を使用して電気めっき（Ａｇストライクめっき）を行い、スルホン酸系銀めっき液に代えて、１００ｇ／Ｌのシアン銀カリウムと１２０ｇ／Ｌのシアン化カリウムと４ｍｇ／Ｌのシアン化セレン酸カリウムとからなるシアン銀めっき液を使用して電気めっき（銀めっき）（電流効率９５％）を行った以外は、実施例１と同様の方法により、複合めっき材を作製した。

【0049】

このようにして得られた複合めっき材の複合めっき皮膜の厚さを実施例１と同様の方法により測定したところ、５．６μｍであった。

【0050】

この複合めっき材について、実施例１と同様の方法により、複合めっき皮膜の表面の炭素粒子が占める割合（面積率）を算出したところ、０面積％であった。また、複合めっき皮膜の表面は、光沢のある白っぽい銀色でムラはなかった。また、実施例１と同様の方法により、表面分析を行ったところ、複合めっき皮膜中のＳｉ含有量は０質量％であった。

【0051】

また、この複合めっき材について、実施例１と同様の方法により、摺動摩耗試験を行って耐摩耗性の評価を行ったところ、１０，０００回の往復摺動動作後に、素材が露出し、複合めっき皮膜の厚さは０μｍであり、耐摩耗性が良好でないことがわかった。また、実施例１と同様の方法により、平板状試験片とインデント付き試験片との間の動摩擦係数を算出したところ、動摩擦係数は１．２０であった。

【0052】

これらの実施例および比較例の複合めっき材の製造条件および特性を表１～表３に示す。

【0053】

【表1】

【0054】

【表2】

【0055】

【表3】