(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2023-02-27
(45)【発行日】2023-03-07
(54)【発明の名称】組成物
(51)【国際特許分類】
C08L 1/26 20060101AFI20230228BHJP
C11D 3/22 20060101ALI20230228BHJP
C11D 1/83 20060101ALI20230228BHJP
【ＦＩ】
C08L1/26
C11D3/22
C11D1/83
【請求項の数】
14
(21)【出願番号】P 2019558248
(86)(22)【出願日】2018-12-05
(86)【国際出願番号】 JP2018044720
(87)【国際公開番号】W WO2019111947
(87)【国際公開日】2019-06-13
【審査請求日】2021-09-15
(31)【優先権主張番号】P 2017234709
(32)【優先日】2017-12-06
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(73)【特許権者】
【識別番号】000000918
【氏名又は名称】花王株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110002620
【氏名又は名称】弁理士法人大谷特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】齋藤 隆儀
(72)【発明者】
【氏名】伊森 洋一郎
(72)【発明者】
【氏名】小山 皓大
(72)【発明者】
【氏名】山脇 有希子
【審査官】尾立 信広
(56)【参考文献】
【文献】特開２０１４－１６９４１７（ＪＰ，Ａ）
【文献】国際公開第２００６／０９４５８２（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特表２００４－５１９５１９（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１５－２２７４１２（ＪＰ，Ａ）
【文献】BEHESHTI,N. et al，Interaction behaviors in aqueous solutions of negatively and positively charged hydrophobically modified hydroxyethylcellulose in the presence of an anionic surfactant，Colloids and Surfaces, A: Physicochemical and Engineering Aspects，2008年，Vol.328, No.1-3，pp.79-89
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｃ０８Ｌ １／００－１０１／１４
Ｃ０８Ｋ ３／００－１３／０８
ＣＡｐｌｕｓ／ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ）
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
変性ヒドロキシアルキルセルロースと、アニオン性界面活性剤及びノニオン性界面活性剤とを含有し、該変性ヒドロキシアルキルセルロースは、ヒドロキシアルキルセルロースの水酸基から水素原子を除いた基に、カチオン性基、及び式（１）で表される疎水基が結合している、組成物であって、
【化1】
（式（１）中、Ｚは単結合、又は酸素原子を有する炭化水素基を示し、Ｒ１は炭素数２以上の炭化水素基を示し、＊はヒドロキシアルキルセルロースの水酸基から水素原子を除いた基との結合位置を示す。）
式（１）で表される疎水基が、下記式（１－１－１）で表される疎水基、式（１－１－２）で表される疎水基、式（１－２－１）で表される疎水基、及び式（１－２－２）で表される疎水基から選ばれる少なくとも１つを含む、組成物。
【化2】
【請求項2】
ｎ１が０以上３以下の整数である、請求項１に記載の組成物。
【請求項3】
水を含有する、請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項4】
変性ヒドロキシアルキルセルロースの含有量に対するアニオン性界面活性剤及びノニオン界面活性剤の合計含有量の質量比が、０．１以上２０００以下である、請求項１～３のいずれかに記載の組成物。
【請求項5】
ノニオン性界面活性剤であるアミド系ノニオン性界面活性剤の含有量が、変性ヒドロキシアルキルセルロース１質量部に対し、５質量部以下である、請求項１～４のいずれかに記載の組成物。
【請求項6】
変性ヒドロキシアルキルセルロースの疎水基の置換度（ＭＳＲ）とカチオン性基の置換度（ＭＳＣ）の比（ＭＳＲ／ＭＳＣ）が０．００１以上１０以下である、請求項１～５のいずれかに記載の組成物。
【請求項7】
変性ヒドロキシアルキルセルロースにおけるカチオン性基の置換度が、０．００１以上１以下である、請求項１～６のいずれかに記載の組成物。
【請求項8】
変性ヒドロキシアルキルセルロースにおける式（１）で表される疎水基の置換度が、０．０００１以上１以下である、請求項１～７のいずれかに記載の組成物。
【請求項9】
ヒドロキシアルキルセルロースの重量平均分子量が１，０００以上３，０００，０００以下である、請求項１～８のいずれかに記載の組成物。
【請求項10】
カチオン性基が、第４級アンモニウムカチオンを含む、請求項１～９のいずれかに記載の組成物。
【請求項11】
カチオン性基が、式（２－１）又は式（２－２）で表される、請求項１～１０のいずれかに記載の組成物。【化3】
（式（２－１）及び式（２－２）中、Ｒ２１～Ｒ２３はそれぞれ独立に、炭素数１以上４以下の炭化水素基を示し、Ｘ－はアニオンを示し、ｔは０以上３以下の整数を示し、＊はヒドロキシアルキルセルロースの水酸基から水素原子を除いた基との結合位置を示す。）
【請求項12】
洗浄剤組成物である、請求項１～１１のいずれかに記載の組成物。
【請求項13】
衣料用洗浄剤組成物である、請求項１～１１のいずれかに記載の組成物。
【請求項14】
疎水性表面の洗浄剤組成物である、請求項１～１１のいずれかに記載の組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は組成物に関する。
【背景技術】
【0002】
多糖誘導体は、シャンプーやリンス、トリートメント、コンディショナー等の毛髪洗浄剤組成物や衣料の洗浄剤組成物の配合成分に用いられ、その用途は多岐にわたる。
特開２０００－１７８３０３号公報（特許文献１）には、洗濯用仕上げ剤として、特定のアルキル基、カルボキシメチル基、及びカチオン基で置換されている多糖誘導体が記載されている。
特開２０１５－１６８６６６号公報（特許文献２）には、特定の界面活性剤、カチオン性基含有セルロースエーテル及びグリセリルエーテルを含有する、水性毛髪洗浄剤が記載されている。
特表２０１３－５２９６４４号公報（特許文献３）には、多糖類、及びカチオン性モノマーを含有する合成ポリマーからなる群から選択される特定の持続性ポリマーを含む、パーソナルケア組成物添加剤が開示されている。
特開２０００－１７８３０３号公報（特許文献１）には、洗濯用仕上げ剤として、特定のアルキル基、カルボキシメチル基、及びカチオン基で置換されている多糖誘導体が記載されている。
特開２０１５－１６８６６６号公報（特許文献２）には、特定の界面活性剤、カチオン性基含有セルロースエーテル及びグリセリルエーテルを含有する、水性毛髪洗浄剤が記載されている。
特表２０１３－５２９６４４号公報（特許文献３）には、多糖類、及びカチオン性モノマーを含有する合成ポリマーからなる群から選択される特定の持続性ポリマーを含む、パーソナルケア組成物添加剤が開示されている。
【発明の概要】
【0003】
本発明は以下の＜１＞に関する。
＜１＞ 変性ヒドロキシアルキルセルロースと、アニオン性界面活性剤及びノニオン性界面活性剤から選ばれる１種以上とを含有し、該変性ヒドロキシアルキルセルロースは、ヒドロキシアルキルセルロースの水酸基から水素原子を除いた基に、カチオン性基、及び式（１）で表される疎水基が結合している、組成物。
＜１＞ 変性ヒドロキシアルキルセルロースと、アニオン性界面活性剤及びノニオン性界面活性剤から選ばれる１種以上とを含有し、該変性ヒドロキシアルキルセルロースは、ヒドロキシアルキルセルロースの水酸基から水素原子を除いた基に、カチオン性基、及び式（１）で表される疎水基が結合している、組成物。
【0004】
【化1】
（式（１）中、Ｚは単結合、又は酸素原子を有する炭化水素基を示し、Ｒ１は炭素数２以上の炭化水素基を示し、＊はヒドロキシアルキルセルロースの水酸基から水素原子を除いた基との結合位置を示す。）
【発明を実施するための形態】
【0005】
衣類等の表面処理用の組成物として、洗浄時に汚れの洗浄性を向上させることができる、組成物が求められている。しかしながら、従来の剤では充分な性能を発揮することができていない。
本発明は、対象物に処理することで、洗浄時の汚れの洗浄性を向上することができる、組成物に関する。
本発明者等は、特定の組成物により、上記の課題が解決されることを見出した。
なお、以下の説明において、「洗浄性能」とは、洗浄時の汚れの落ちやすさを向上させる性能を意味する。
本発明は、対象物に処理することで、洗浄時の汚れの洗浄性を向上することができる、組成物に関する。
本発明者等は、特定の組成物により、上記の課題が解決されることを見出した。
なお、以下の説明において、「洗浄性能」とは、洗浄時の汚れの落ちやすさを向上させる性能を意味する。
【0006】
［組成物］
本発明の組成物は、変性ヒドロキシアルキルセルロース（以下、「本発明の変性ヒドロキシアルキルセルロース」ともいう。）と、アニオン性界面活性剤及びノニオン性界面活性剤から選ばれる１種以上とを含有し、該変性ヒドロキシアルキルセルロースは、ヒドロキシアルキルセルロースの水酸基から水素原子を除いた基に、カチオン性基、及び式（１）で表される疎水基が結合している。
本発明の組成物は、変性ヒドロキシアルキルセルロース（以下、「本発明の変性ヒドロキシアルキルセルロース」ともいう。）と、アニオン性界面活性剤及びノニオン性界面活性剤から選ばれる１種以上とを含有し、該変性ヒドロキシアルキルセルロースは、ヒドロキシアルキルセルロースの水酸基から水素原子を除いた基に、カチオン性基、及び式（１）で表される疎水基が結合している。
【0007】
【化2】
（式（１）中、Ｚは単結合、又は酸素原子を有する炭化水素基を示し、Ｒ１は炭素数２以上の炭化水素基を示し、＊はヒドロキシアルキルセルロースの水酸基から水素原子を除いた基との結合位置を示す。）
【0008】
本発明者らは、本発明の変性ヒドロキシアルキルセルロースと、アニオン性界面活性剤及びノニオン性界面活性剤から選ばれる１種以上とを含む洗浄剤組成物などの組成物を、衣類等の対象物に処理することにより、洗浄時の汚れの落ちやすさが向上することを見出した。その詳細な作用機構は不明であるが、一部は以下のように推定される。
本発明の組成物が含有する変性ヒドロキシアルキルセルロースは、カチオン性基と疎水基の両方を有するため、衣類等の対象物の表面に対して吸着することにより表面に均質かつ適度な親水性を付与すると考えられる。そして、前記変性ヒドロキシアルキルセルロースは、アニオン性界面活性剤と静電相互作用、あるいはノニオン性界面活性剤と疎水性相互作用する等して、表面に効率よく吸着するため、表面が汚れの落ちやすい状態に改質されて、洗浄効果が向上すると推定される。
本発明の組成物が含有する変性ヒドロキシアルキルセルロースは、カチオン性基と疎水基の両方を有するため、衣類等の対象物の表面に対して吸着することにより表面に均質かつ適度な親水性を付与すると考えられる。そして、前記変性ヒドロキシアルキルセルロースは、アニオン性界面活性剤と静電相互作用、あるいはノニオン性界面活性剤と疎水性相互作用する等して、表面に効率よく吸着するため、表面が汚れの落ちやすい状態に改質されて、洗浄効果が向上すると推定される。
【0009】
＜変性ヒドロキシアルキルセルロース＞
本発明の変性ヒドロキシアルキルセルロースは、ヒドロキシアルキルセルロースの水酸基から水素原子を除いた基に、カチオン性基、及び式（１）で表される疎水基が結合している。
本発明の変性ヒドロキシアルキルセルロースは、ヒドロキシアルキルセルロースの水酸基から水素原子を除いた基に、カチオン性基、及び式（１）で表される疎水基が結合している。
【0010】
【化3】
（式（１）中、Ｚは単結合、又は酸素原子を有する炭化水素基を示し、Ｒ１は炭素数２以上の炭化水素基を示し、＊はヒドロキシアルキルセルロースの水酸基から水素原子を除いた基との結合位置を示す。）
【0011】
洗浄性能の観点から、前記ヒドロキシアルキルセルロースが有するヒドロキシアルキル基は、ヒドロキシエチル基及びヒドロキシプロピル基から選ばれる少なくとも１つが好ましく、ヒドロキシエチル基又はヒドロキシプロピル基のみであることがより好ましく、ヒドロキシエチル基のみであることが更に好ましい。前記ヒドロキシアルキルセルロースは、ヒドロキシエチル基及びヒドロキシプロピル基の双方を有していてもよく、いずれか一方のみを有することが好ましく、ヒドロキシエチル基のみを有することがより好ましい。
ヒドロキシアルキルセルロースは、洗浄性能の観点から、好ましくはヒドロキシエチルセルロース（以下、「ＨＥＣ」ともいう）、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシブチルセルロース、より好ましくはＨＥＣ、ヒドロキシプロピルセルロース、更に好ましくはＨＥＣである。
本発明の変性ヒドロキシアルキルセルロースは、洗浄性能の観点から、好ましくは変性ヒドロキシエチルセルロース（以下、「変性ＨＥＣ」ともいう）、変性ヒドロキシプロピルセルロース、変性ヒドロキシブチルセルロース、より好ましくは変性ＨＥＣ、変性ヒドロキシプロピルセルロース、更に好ましくは変性ＨＥＣである。
ヒドロキシアルキルセルロースは、洗浄性能の観点から、好ましくはヒドロキシエチルセルロース（以下、「ＨＥＣ」ともいう）、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシブチルセルロース、より好ましくはＨＥＣ、ヒドロキシプロピルセルロース、更に好ましくはＨＥＣである。
本発明の変性ヒドロキシアルキルセルロースは、洗浄性能の観点から、好ましくは変性ヒドロキシエチルセルロース（以下、「変性ＨＥＣ」ともいう）、変性ヒドロキシプロピルセルロース、変性ヒドロキシブチルセルロース、より好ましくは変性ＨＥＣ、変性ヒドロキシプロピルセルロース、更に好ましくは変性ＨＥＣである。
【0012】
ヒドロキシアルキルセルロースにおけるヒドロキシアルキル基の置換度は、溶解性の観点から、好ましくは０．１以上、より好ましくは０．５以上、更に好ましくは１以上、より更に好ましくは１．５以上であり、そして、洗浄性能の観点から、好ましくは１０以下、より好ましくは８以下、更に好ましくは５以下、より更に好ましくは３以下である。
本発明において、Ｘ基の置換度とは、Ｘ基のモル平均置換度であり、セルロースの構成単糖単位あたりのＸ基の置換数を意味する。例えば、「ヒドロキシエチル基の置換度」は、アンヒドログルコース単位１モルに対して導入された（結合している）ヒドロキシエチル基の平均モル数を意味する。
前記ヒドロキシアルキルセルロースが、ヒドロキシエチル基及びヒドロキシプロピル基の双方を有する場合には、ヒドロキシアルキル基の置換度は、ヒドロキシエチル基の置換度と、ヒドロキシプロピル基の置換度の合計である。
本発明において、Ｘ基の置換度とは、Ｘ基のモル平均置換度であり、セルロースの構成単糖単位あたりのＸ基の置換数を意味する。例えば、「ヒドロキシエチル基の置換度」は、アンヒドログルコース単位１モルに対して導入された（結合している）ヒドロキシエチル基の平均モル数を意味する。
前記ヒドロキシアルキルセルロースが、ヒドロキシエチル基及びヒドロキシプロピル基の双方を有する場合には、ヒドロキシアルキル基の置換度は、ヒドロキシエチル基の置換度と、ヒドロキシプロピル基の置換度の合計である。
【0013】
（重量平均分子量）
本発明において、ヒドロキシアルキルセルロースの重量平均分子量は、洗浄性能の観点から、好ましくは１，０００以上、より好ましくは１万以上、更に好ましくは３万以上、より更に好ましくは５万以上、より更に好ましくは７万以上、より更に好ましくは１０万以上、より更に好ましくは１３万以上であり、そして、組成物中での溶解性の観点から、好ましくは３００万以下、より好ましくは１５０万以下、更に好ましくは１２０万以下、より更に好ましくは７９万以下、より更に好ましくは６０万以下、より更に好ましくは５０万以下、より更に好ましくは４０万以下である。
ヒドロキシアルキルセルロースとして、製品を入手して使用する場合には、製造社の公表値を使用してもよい。
本発明において、ヒドロキシアルキルセルロースの重量平均分子量は、洗浄性能の観点から、好ましくは１，０００以上、より好ましくは１万以上、更に好ましくは３万以上、より更に好ましくは５万以上、より更に好ましくは７万以上、より更に好ましくは１０万以上、より更に好ましくは１３万以上であり、そして、組成物中での溶解性の観点から、好ましくは３００万以下、より好ましくは１５０万以下、更に好ましくは１２０万以下、より更に好ましくは７９万以下、より更に好ましくは６０万以下、より更に好ましくは５０万以下、より更に好ましくは４０万以下である。
ヒドロキシアルキルセルロースとして、製品を入手して使用する場合には、製造社の公表値を使用してもよい。
【0014】
（カチオン性基）
本発明の変性ヒドロキシアルキルセルロースは、上述したヒドロキシアルキルセルロースの水酸基から水素原子を除いた基に、カチオン性基が結合している。前記水酸基は、セルロースに結合したヒドロキシアルキル基が有する水酸基と、セルロース骨格を形成するグルコースが有する水酸基（ヒドロキシアルキル基が結合していない水酸基）とを含む。
変性ヒドロキシアルキルセルロースが有するカチオン性基は、第４級アンモニウムカチオンを含むことが好ましく、全体として、以下の式（２－１）又は式（２－２）で表されることが好ましい。
本発明の変性ヒドロキシアルキルセルロースは、上述したヒドロキシアルキルセルロースの水酸基から水素原子を除いた基に、カチオン性基が結合している。前記水酸基は、セルロースに結合したヒドロキシアルキル基が有する水酸基と、セルロース骨格を形成するグルコースが有する水酸基（ヒドロキシアルキル基が結合していない水酸基）とを含む。
変性ヒドロキシアルキルセルロースが有するカチオン性基は、第４級アンモニウムカチオンを含むことが好ましく、全体として、以下の式（２－１）又は式（２－２）で表されることが好ましい。
【0015】
【化4】
（式（２－１）及び式（２－２）中、Ｒ２１～Ｒ２３はそれぞれ独立に、炭素数１以上４以下の炭化水素基を示し、Ｘ－はアニオンを示し、ｔは０以上３以下の整数を示し、＊はヒドロキシアルキルセルロースの水酸基から水素原子を除いた基との結合位置を示す。）
【0016】
Ｒ２１～Ｒ２３はそれぞれ独立に、炭素数１以上４以下の直鎖又は分岐の炭化水素基であることが好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましく、Ｒ２１～Ｒ２３の全てがメチル基又はエチル基であることが更に好ましく、Ｒ２１～Ｒ２３の全てがメチル基であることがより更に好ましい。
ｔは、好ましくは１以上３以下の整数、より好ましくは１又は２、更に好ましくは１である。
Ｘ－は、第４級アンモニウムカチオンの対イオンであり、炭素数１以上３以下のアルキル硫酸イオン、硫酸イオン、リン酸イオン、炭素数１以上３以下のカルボン酸イオン（ギ酸イオン、酢酸イオン、プロピオン酸イオン）、及びハロゲン化物イオンが例示される。
これらの中でも、製造の容易性及び原料入手容易性の観点から、Ｘ－は、好ましくはメチル硫酸イオン、エチル硫酸イオン、塩化物イオン、及び臭化物イオンから選択される１種以上であり、得られる変性ヒドロキシアルキルセルロースの水溶性及び化学的安定性の観点から、より好ましくは塩化物イオンである。
Ｘ－は１種単独であってもよく、２種以上であってもよい。
ｔは、好ましくは１以上３以下の整数、より好ましくは１又は２、更に好ましくは１である。
Ｘ－は、第４級アンモニウムカチオンの対イオンであり、炭素数１以上３以下のアルキル硫酸イオン、硫酸イオン、リン酸イオン、炭素数１以上３以下のカルボン酸イオン（ギ酸イオン、酢酸イオン、プロピオン酸イオン）、及びハロゲン化物イオンが例示される。
これらの中でも、製造の容易性及び原料入手容易性の観点から、Ｘ－は、好ましくはメチル硫酸イオン、エチル硫酸イオン、塩化物イオン、及び臭化物イオンから選択される１種以上であり、得られる変性ヒドロキシアルキルセルロースの水溶性及び化学的安定性の観点から、より好ましくは塩化物イオンである。
Ｘ－は１種単独であってもよく、２種以上であってもよい。
【0017】
式（２－１）又は式（２－２）で表される基は、カチオン性基の導入剤（以下、「カチオン化剤」ともいう）を使用することによって得ることができる。カチオン化剤としては、例えば、グリシジルトリアルキルアンモニウムクロリド、３－クロロ－２－ヒドロキシプロピルトリアルキルアンモニウムクロリドが挙げられ、原料の入手の容易性及び化学的安定性の観点から、グリシジルトリアルキルアンモニウムクロリドが好ましい。
これらのカチオン化剤は、単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
これらのカチオン化剤は、単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【0018】
本発明の変性ヒドロキシアルキルセルロースにおけるカチオン性基の置換度（以下、「ＭＳＣ」ともいう）は、洗浄性能の観点から、好ましくは０．００１以上、より好ましくは０．００５以上、更に好ましくは０．０１以上、より更に好ましくは０．０２以上、より更に好ましくは０．０５以上、より更に好ましくは０．０７以上であり、そして、好ましくは１以下、より好ましくは０．７以下、更に好ましくは０．４以下、より更に好ましくは０．３５以下、より更に好ましくは０．３以下、より更に好ましくは０．２５以下、より更に好ましくは０．２以下、より更に好ましくは０．１５以下、より更に好ましくは０．１以下である。
カチオン性基の置換度は、実施例に記載の方法により測定される。
カチオン性基の置換度は、実施例に記載の方法により測定される。
【0019】
（疎水基）
本発明の変性ヒドロキシアルキルセルロースは、ヒドロキシアルキルセルロースの水酸基から水素原子を除いた基に、下記式（１）で表される疎水基が結合している。
本発明の変性ヒドロキシアルキルセルロースは、ヒドロキシアルキルセルロースの水酸基から水素原子を除いた基に、下記式（１）で表される疎水基が結合している。
【0020】
【化5】
（式（１）中、Ｚは単結合、又は酸素原子を有する炭化水素基を示し、Ｒ１は炭素数２以上の炭化水素基を示し、＊はヒドロキシアルキルセルロースの水酸基から水素原子を除いた基との結合位置を示す。）
【0021】
Ｒ１は、洗浄性能の観点から、好ましくはアルキル基又はアルケニル基、より好ましくはアルキル基、更に好ましくは直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基、より更に好ましくは直鎖状のアルキル基である。
Ｒ１の炭素数は、洗浄性能の観点から、２以上、好ましくは４以上、より好ましくは６以上、更に好ましくは８以上、より更に好ましくは１０以上であり、そして、好ましくは２４以下、より好ましくは２２以下、更に好ましくは１８以下、より更に好ましくは１６以下、より更に好ましくは１４以下である。
Ｒ１は、炭化水素基の炭素数が最大となるように定義される。従って、式（１）において、Ｚ中のＲ１と結合する原子は、例えば酸素原子、カーボネート炭素、水酸基が結合している炭素原子、ヒドロキシアルキル基が結合している炭素原子等である。
Ｒ１の炭素数は、洗浄性能の観点から、２以上、好ましくは４以上、より好ましくは６以上、更に好ましくは８以上、より更に好ましくは１０以上であり、そして、好ましくは２４以下、より好ましくは２２以下、更に好ましくは１８以下、より更に好ましくは１６以下、より更に好ましくは１４以下である。
Ｒ１は、炭化水素基の炭素数が最大となるように定義される。従って、式（１）において、Ｚ中のＲ１と結合する原子は、例えば酸素原子、カーボネート炭素、水酸基が結合している炭素原子、ヒドロキシアルキル基が結合している炭素原子等である。
【0022】
Ｒ１のモル平均炭素数は、洗浄性能の観点から、好ましくは４以上、より好ましくは７以上、更に好ましくは１０以上であり、そして、好ましくは２４以下、より好ましくは１８以下、更に好ましくは１４以下である。Ｒ１のモル平均炭素数とは、Ｒ１における炭素数分布のモル平均値である。Ｒ１のモル平均炭素数は、例えば、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）を用いて測定することができる。
【0023】
炭化水素基Ｒ１中の炭素数が９以上の炭化水素基の割合は、洗浄性能の観点から、好ましくは２５ｍｏｌ％以上、より好ましくは５０ｍｏｌ％以上、更に好ましくは７０ｍｏｌ％以上、より更に好ましくは９０ｍｏｌ％以上であり、そして、好ましくは１００ｍｏｌ％以下であり、１００ｍｏｌ％であってもよい。
炭素数が９以上の炭化水素基の割合は、例えば、ＧＣを用いて測定することができる。
炭素数が９以上の炭化水素基の割合は、例えば、ＧＣを用いて測定することができる。
【0024】
Ｚは、単結合、又は酸素原子を有する炭化水素基を表す。前記炭化水素基は、アルキレン基であることが好ましく、アルキレン基の一部のメチレン基がエーテル結合で置換されていてもよく、メチレン基の一部が、カルボニル基（－Ｃ（＝Ｏ）－）で置換されていてもよく、アルキレン基の一部の水素原子が、水酸基、アルキル基、ヒドロキシアルキル基で置換されていてもよい。
Ｚが酸素原子を有する炭化水素基（以下、炭化水素基（Ｚ）ともいう。）である場合、炭化水素基（Ｚ）は、エポキシ基由来の基、オキシグリシジル基由来の基、又はカルボン酸（若しくはその無水物）由来の基を含むことが好ましく、洗浄性能の観点から、オキシグリシジル基由来の基を含むことがより好ましい。
式（１）で表される基は、下記式（１－１－１）～（１－４）のいずれかで表される基を含むことがより好ましい。
Ｚが酸素原子を有する炭化水素基（以下、炭化水素基（Ｚ）ともいう。）である場合、炭化水素基（Ｚ）は、エポキシ基由来の基、オキシグリシジル基由来の基、又はカルボン酸（若しくはその無水物）由来の基を含むことが好ましく、洗浄性能の観点から、オキシグリシジル基由来の基を含むことがより好ましい。
式（１）で表される基は、下記式（１－１－１）～（１－４）のいずれかで表される基を含むことがより好ましい。
【0025】
【化6】
（式（１－１－１）～式（１－４）中、Ｒ１１及びＲ１２はそれぞれ独立に、炭素数２～４のアルキレン基を示し、Ｒ１は式（１）におけるＲ１と同義であり、＊はヒドロキシアルキルセルロースの水酸基から水素原子を除いた基との結合位置を示し、ｎ１は－Ｒ１１－Ｏ－の付加モル数を示し、ｎ２は－Ｒ１２－Ｏ－の付加モル数を示し、ｎ１及びｎ２は０以上３０以下の整数である。）
【0026】
式（１－１－１）～式（１－４）におけるＲ１の好ましい態様は、式（１）中のＲ１と同じである。式（１－１－１）～式（１－４）からＲ１を除いた基は、炭化水素基Ｚの好ましい態様である。
Ｒ１１及びＲ１２はそれぞれ独立に、好ましくはエチレン基又はプロピレン基、より好ましくはエチレン基である。Ｒ１１及びＲ１２の炭素数は、好ましくは２以上３以下である。Ｒ１１及びＲ１２が複数存在する場合、それぞれ同一でも異なっていてもよい。ｎ１及びｎ２は、好ましくは２０以下、より好ましくは１０以下、更に好ましくは５以下、より更に好ましくは３以下、より更に好ましくは１以下であり、そして、０以上であってもよく、０であることがより更に好ましい。
Ｒ１１及びＲ１２はそれぞれ独立に、好ましくはエチレン基又はプロピレン基、より好ましくはエチレン基である。Ｒ１１及びＲ１２の炭素数は、好ましくは２以上３以下である。Ｒ１１及びＲ１２が複数存在する場合、それぞれ同一でも異なっていてもよい。ｎ１及びｎ２は、好ましくは２０以下、より好ましくは１０以下、更に好ましくは５以下、より更に好ましくは３以下、より更に好ましくは１以下であり、そして、０以上であってもよく、０であることがより更に好ましい。
【0027】
式（１）で表される基が、式（１－１－１）で表される基及び式（１－１－２）で表される基から選択される少なくとも１つの基を含有する場合、－Ｒ１１－Ｏ－の平均付加モル数は、ソイルリリース性能の観点から、好ましくは２０以下、より好ましくは１０以下、更に好ましくは５以下、より更に好ましくは３以下、より更に好ましくは１以下であり、そして、好ましくは０以上である。
式（１）で表される基が、式（１－４）で表される基を含有する場合、式（１－４）における－Ｒ１２－Ｏ－の平均付加モル数は、ソイルリリース性能の観点から、好ましくは２０以下、より好ましくは１０以下、更に好ましくは５以下、より更に好ましくは３以下、より更に好ましくは１以下であり、そして、好ましくは０以上である。
式（１）で表される基が、式（１－４）で表される基を含有する場合、式（１－４）における－Ｒ１２－Ｏ－の平均付加モル数は、ソイルリリース性能の観点から、好ましくは２０以下、より好ましくは１０以下、更に好ましくは５以下、より更に好ましくは３以下、より更に好ましくは１以下であり、そして、好ましくは０以上である。
【0028】
式（１－１－１）及び式（１－１－２）は、グリシジル（（ポリ）アルキレンオキシ）ヒドロカルビルエーテルに由来する基であり、Ｚがオキシグリシジル基又は（ポリ）アルキレンオキシグリシジル基由来の基である。式（１－１－１）又は式（１－１－２）で表される基は、疎水基の導入剤（以下、「疎水化剤」ともいう）として、グリシジル（アルキレンオキシ）ヒドロカルビルエーテル、好ましくはグリシジル（アルキレンオキシ）アルキルエーテル、より好ましくはグリシジルアルキルエーテルを使用することによって得られる。
式（１－２－１）及び式（１－２－２）は、Ｚがエポキシ基に由来する基である。式（１－２－１）及び式（１－２－２）で表される基は、疎水化剤として、末端エポキシ化炭化水素、好ましくは末端エポキシ化アルカンを使用することで得られる。
式（１－３）は、疎水基が直接にヒドロキシアルキルセルロースの水酸基から水素原子を除いた基と結合している場合である。式（１－３）で表される基は、疎水化剤として、ハロゲン化炭化水素を使用することで得られる。
式（１－４）は、Ｚがカルボニル基を含有する。式（１－４）で表される基は、疎水化剤として、Ｒ１－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＨ、Ｒ１－Ｃ（＝Ｏ）－Ａ（Ａはハロゲン原子を示す。）、Ｒ１－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ１等を使用することで得られる。
これらの中でも、変性ヒドロキシアルキルセルロースの製造時に塩の副生がなく、また、洗浄性能の観点から、式（１－１－１）、式（１－１－２）、式（１－２－１）又は式（１－２－２）で表される基であることが好ましく、より好ましくは式（１－１－１）又は式（１－１－２）で表される基である。
式（１）で表される疎水基の中で、式（１－１－１）で表される疎水基、式（１－１－２）で表される疎水基、式（１－２－１）で表される疎水基、式（１－２－２）で表される疎水基、式（１－３）で表される疎水基、及び式（１－４）で表される疎水基の合計含有量は、好ましくは５０ｍｏｌ％、より好ましくは８０ｍｏｌ％以上、更に好ましくは９０ｍｏｌ％以上であり、１００ｍｏｌ％以下であり、１００ｍｏｌ％であることがより更に好ましい。
式（１－２－１）及び式（１－２－２）は、Ｚがエポキシ基に由来する基である。式（１－２－１）及び式（１－２－２）で表される基は、疎水化剤として、末端エポキシ化炭化水素、好ましくは末端エポキシ化アルカンを使用することで得られる。
式（１－３）は、疎水基が直接にヒドロキシアルキルセルロースの水酸基から水素原子を除いた基と結合している場合である。式（１－３）で表される基は、疎水化剤として、ハロゲン化炭化水素を使用することで得られる。
式（１－４）は、Ｚがカルボニル基を含有する。式（１－４）で表される基は、疎水化剤として、Ｒ１－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＨ、Ｒ１－Ｃ（＝Ｏ）－Ａ（Ａはハロゲン原子を示す。）、Ｒ１－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ１等を使用することで得られる。
これらの中でも、変性ヒドロキシアルキルセルロースの製造時に塩の副生がなく、また、洗浄性能の観点から、式（１－１－１）、式（１－１－２）、式（１－２－１）又は式（１－２－２）で表される基であることが好ましく、より好ましくは式（１－１－１）又は式（１－１－２）で表される基である。
式（１）で表される疎水基の中で、式（１－１－１）で表される疎水基、式（１－１－２）で表される疎水基、式（１－２－１）で表される疎水基、式（１－２－２）で表される疎水基、式（１－３）で表される疎水基、及び式（１－４）で表される疎水基の合計含有量は、好ましくは５０ｍｏｌ％、より好ましくは８０ｍｏｌ％以上、更に好ましくは９０ｍｏｌ％以上であり、１００ｍｏｌ％以下であり、１００ｍｏｌ％であることがより更に好ましい。
【0029】
本発明において、変性ヒドロキシアルキルセルロースにおける疎水基の置換度（以下、「ＭＳＲ」ともいう）は、洗浄性能の観点から、好ましくは０．０００１以上、より好ましくは０．００１以上、更に好ましくは０．００５以上、より更に好ましくは０．００８以上、より更に好ましくは０．０１以上、より更に好ましくは０．０１５以上であり、そして、溶解性の観点から、好ましくは１以下、より好ましくは０．４以下、更に好ましくは０．２以下、より更に好ましくは０．１以下、より更に好ましくは０．０８以下、より更に好ましくは０．０６以下、より更に好ましくは０．０５以下、より更に好ましくは０．０４以下、より更に好ましくは０．０３以下である。
疎水基の置換度は、実施例に記載の方法により測定される。
疎水基の置換度は、実施例に記載の方法により測定される。
【0030】
本発明において、変性ヒドロキシアルキルセルロースの疎水基の置換度（ＭＳＲ）とカチオン性基の置換度（ＭＳＣ）の比（ＭＳＲ／ＭＳＣ）は、洗浄性能の観点から、好ましくは０．００１以上、より好ましくは０．００５以上、更に好ましくは０．０１以上、より更に好ましくは０．０５以上であり、そして、好ましくは１０以下、より好ましくは５以下、更に好ましくは３以下、より更に好ましくは２以下、より更に好ましくは１．２以下、より更に好ましくは０．８以下、より更に好ましくは０．６以下、より更に好ましくは０．５以下、より更に好ましくは０．３以下である。
【0031】
本発明において、疎水基及びカチオン性基は、洗浄性能の観点から、ヒドロキシアルキルセルロースの有する、異なる水酸基から水素原子を除いた基と結合していることが好ましい。すなわち、一つの側鎖上に疎水基及びカチオン性基を有するものではないことが好ましい。換言すれば、疎水基及びカチオン性基が、ヒドロキシアルキルセルロースの異なる側鎖上に結合していることが好ましい。
【0032】
本発明の変性ヒドロキシアルキルセルロースは、アニオン性基を有していてもよい。変性ヒドロキシアルキルセルロースにおけるアニオン性基の置換度（以下、「ＭＳＡ」ともいう）とカチオン性基の置換度の比（ＭＳＡ／ＭＳＣ）は、洗浄性能の観点から、好ましくは３以下、より好ましくは１．７以下、更に好ましくは１．５以下、より更に好ましくは１以下、より更に好ましくは０．５以下、より更に好ましくは０．１以下であり、そして、０以上であってもよく、０であることがより更に好ましい。
ＭＳＡは、洗浄性能の観点から、好ましくは０．０１未満、より好ましくは０．００１以下である。
変性ヒドロキシアルキルセルロースがアニオン性基を有する場合、該アニオン性基としては、カルボキシメチル基等が例示される。
カルボキシメチル基の導入反応（カルボキシメチル化反応）は、ヒドロキシアルキルセルロースに塩基性化合物の存在下、モノハロゲン化酢酸及び／又はその金属塩を反応させることにより行われる。
モノハロゲン化酢酸及びモノハロゲン化酢酸の金属塩としては、具体的には、モノクロル酢酸、モノクロロ酢酸ナトリウム、モノクロロ酢酸カリウム、モノブロモ酢酸ナトリウム、モノブロモ酢酸カリウム等が例示される。これらモノハロゲン化酢酸及びその金属塩は単独あるいは２種以上を組み合せても使用することができる。
ＭＳＡは、洗浄性能の観点から、好ましくは０．０１未満、より好ましくは０．００１以下である。
変性ヒドロキシアルキルセルロースがアニオン性基を有する場合、該アニオン性基としては、カルボキシメチル基等が例示される。
カルボキシメチル基の導入反応（カルボキシメチル化反応）は、ヒドロキシアルキルセルロースに塩基性化合物の存在下、モノハロゲン化酢酸及び／又はその金属塩を反応させることにより行われる。
モノハロゲン化酢酸及びモノハロゲン化酢酸の金属塩としては、具体的には、モノクロル酢酸、モノクロロ酢酸ナトリウム、モノクロロ酢酸カリウム、モノブロモ酢酸ナトリウム、モノブロモ酢酸カリウム等が例示される。これらモノハロゲン化酢酸及びその金属塩は単独あるいは２種以上を組み合せても使用することができる。
【0033】
本発明において、変性ヒドロキシアルキルセルロースは、置換基としてグリセロール基を有していてもよい。グリセロール基の置換度は、洗浄性能の観点から、好ましくは０．５未満、より好ましくは０．１未満であり、そして、０以上であってもよく、０であることが更に好ましい。
グリセロール基を有する変性ヒドロキシアルキルセルロースは、例えば後述の変性ヒドロキシアルキルセルロースの製造工程において、グリセロール化剤を作用させることによって得られる。該グリセロール化剤としては、グリシドール、３－クロロ－１，２－プロパンジオール、３－ブロモ－１，２－プロパンジオール、グリセリン、グリセリンカーボネート等が挙げられ、塩が副生しないこと、及び反応性の観点から、グリシドールが好ましい。
グリセロール基を有する変性ヒドロキシアルキルセルロースは、例えば後述の変性ヒドロキシアルキルセルロースの製造工程において、グリセロール化剤を作用させることによって得られる。該グリセロール化剤としては、グリシドール、３－クロロ－１，２－プロパンジオール、３－ブロモ－１，２－プロパンジオール、グリセリン、グリセリンカーボネート等が挙げられ、塩が副生しないこと、及び反応性の観点から、グリシドールが好ましい。
【0034】
＜変性ヒドロキシアルキルセルロースの製造方法＞
本発明の変性ヒドロキシアルキルセルロースは、ヒドロキシアルキルセルロースに対し、カチオン化剤及び疎水化剤と反応させて、カチオン性基及び疎水基を導入して得ることが好ましい。
ヒドロキシアルキルセルロースに対する、カチオン性基の導入反応（以下、「カチオン化反応」ともいう）及び疎水基の導入反応（以下、「疎水化反応」ともいう）は、いずれも塩基性化合物の共存下で行うことが好ましい。塩基性化合物としては、導入反応の反応速度の観点から、アルカリ金属水酸化物が好ましく、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムがより好ましい。
前記反応は、反応性の観点から、非水溶剤の存在下で行ってもよい。前記非水溶剤としては、２－プロパノール等の極性溶剤が挙げられる。
反応後は、酸を用いて塩基性化合物を中和することができる。酸としては、例えばリン酸等の無機酸、酢酸等の有機酸が挙げられる。
得られた変性ヒドロキシアルキルセルロースは、必要に応じて、濾過、洗浄等により精製してもよい。
本発明の変性ヒドロキシアルキルセルロースは、ヒドロキシアルキルセルロースに対し、カチオン化剤及び疎水化剤と反応させて、カチオン性基及び疎水基を導入して得ることが好ましい。
ヒドロキシアルキルセルロースに対する、カチオン性基の導入反応（以下、「カチオン化反応」ともいう）及び疎水基の導入反応（以下、「疎水化反応」ともいう）は、いずれも塩基性化合物の共存下で行うことが好ましい。塩基性化合物としては、導入反応の反応速度の観点から、アルカリ金属水酸化物が好ましく、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムがより好ましい。
前記反応は、反応性の観点から、非水溶剤の存在下で行ってもよい。前記非水溶剤としては、２－プロパノール等の極性溶剤が挙げられる。
反応後は、酸を用いて塩基性化合物を中和することができる。酸としては、例えばリン酸等の無機酸、酢酸等の有機酸が挙げられる。
得られた変性ヒドロキシアルキルセルロースは、必要に応じて、濾過、洗浄等により精製してもよい。
【0035】
＜アニオン性界面活性剤＞
本発明の組成物は、アニオン性界面活性剤、及び後述するノニオン性界面活性剤から選ばれる少なくとも１つを含有する。
アニオン性界面活性剤としては、界面活性剤の疎水基、好ましくはアルキル基の１級炭素原子又はフェニル基にアニオン性基が結合した末端アニオン性界面活性剤、及び疎水基、好ましくはアルキル基の２級炭素原子にアニオン性基が結合した内部アニオン性界面活性剤が挙げられる。
末端アニオン性界面活性剤としては、アルキルベンゼンスルホン酸塩（ＬＡＳ）、α－オレフィンスルホン酸塩、アルキル硫酸エステル塩（ＡＳ）、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル硫酸塩（ＡＥＳ）、α－スルホ脂肪酸エステル塩、及び脂肪酸塩から選ばれる１種以上のアニオン性界面活性剤が挙げられる。内部アニオン性界面活性剤としては、特開２０１５－０２８１２３の段落００１１に記載の、内部オレフィンスルホン酸塩のオレフィン体（ＩＯＳ）及びヒドロキシ体（ＨＡＳ）が挙げられる。
洗浄性能の観点から、これらの中でも、ＬＡＳ、ＡＳ、ＡＥＳ、ＩＯＳ、及びＨＡＳから選ばれる１種以上のアニオン性界面活性剤が好ましい。末端アニオン性界面活性剤のアルキル基の炭素数は、好ましくは８以上、より好ましくは１０以上、より好ましくは１２以上であり、そして、好ましくは１８以下、より好ましくは１６以下、より好ましくは１４以下である。内部アニオン性界面活性剤のアルキル基の炭素数は、好ましくは１２以上、より好ましくは１４以上、より好ましくは１６以上であり、そして、好ましくは２４以下、より好ましくは２２以下、より好ましくは１８以下である。ＡＥＳが有するオキシアルキレン基は、好ましくはエチレンオキシ基であり、その平均付加モル数は、好ましくは０．５以上、より好ましくは１以上であり、そして、好ましくは１０以下、より好ましくは５以下である。
アニオン性界面活性剤の塩は、ナトリウム塩、カリウム塩、及びアンモニウム塩が好ましい。アニオン性界面活性剤を用いることは、洗濯液のヌルつきがあることの観点からより好ましい。
本発明において前記アニオン性界面活性剤は、下記式（１３）で表されるＡＳやＡＥＳであってもよい。
Ｒ５１Ｏ（Ａ５１Ｏ）ｍＳＯ３Ｍ５１ （１３）
（式中、Ｒ５１は、炭素数８以上、２０以下の炭化水素基を示し、Ａ５１は、炭素数２以上、４以下のアルキレン基を示し、Ｍ５１は水素原子、アルカリ金属又はＮＨ４を示す。また、ｍは平均値で０以上、４以下の数である。）
アニオン性界面活性剤は１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
本発明の組成物は、アニオン性界面活性剤、及び後述するノニオン性界面活性剤から選ばれる少なくとも１つを含有する。
アニオン性界面活性剤としては、界面活性剤の疎水基、好ましくはアルキル基の１級炭素原子又はフェニル基にアニオン性基が結合した末端アニオン性界面活性剤、及び疎水基、好ましくはアルキル基の２級炭素原子にアニオン性基が結合した内部アニオン性界面活性剤が挙げられる。
末端アニオン性界面活性剤としては、アルキルベンゼンスルホン酸塩（ＬＡＳ）、α－オレフィンスルホン酸塩、アルキル硫酸エステル塩（ＡＳ）、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル硫酸塩（ＡＥＳ）、α－スルホ脂肪酸エステル塩、及び脂肪酸塩から選ばれる１種以上のアニオン性界面活性剤が挙げられる。内部アニオン性界面活性剤としては、特開２０１５－０２８１２３の段落００１１に記載の、内部オレフィンスルホン酸塩のオレフィン体（ＩＯＳ）及びヒドロキシ体（ＨＡＳ）が挙げられる。
洗浄性能の観点から、これらの中でも、ＬＡＳ、ＡＳ、ＡＥＳ、ＩＯＳ、及びＨＡＳから選ばれる１種以上のアニオン性界面活性剤が好ましい。末端アニオン性界面活性剤のアルキル基の炭素数は、好ましくは８以上、より好ましくは１０以上、より好ましくは１２以上であり、そして、好ましくは１８以下、より好ましくは１６以下、より好ましくは１４以下である。内部アニオン性界面活性剤のアルキル基の炭素数は、好ましくは１２以上、より好ましくは１４以上、より好ましくは１６以上であり、そして、好ましくは２４以下、より好ましくは２２以下、より好ましくは１８以下である。ＡＥＳが有するオキシアルキレン基は、好ましくはエチレンオキシ基であり、その平均付加モル数は、好ましくは０．５以上、より好ましくは１以上であり、そして、好ましくは１０以下、より好ましくは５以下である。
アニオン性界面活性剤の塩は、ナトリウム塩、カリウム塩、及びアンモニウム塩が好ましい。アニオン性界面活性剤を用いることは、洗濯液のヌルつきがあることの観点からより好ましい。
本発明において前記アニオン性界面活性剤は、下記式（１３）で表されるＡＳやＡＥＳであってもよい。
Ｒ５１Ｏ（Ａ５１Ｏ）ｍＳＯ３Ｍ５１ （１３）
（式中、Ｒ５１は、炭素数８以上、２０以下の炭化水素基を示し、Ａ５１は、炭素数２以上、４以下のアルキレン基を示し、Ｍ５１は水素原子、アルカリ金属又はＮＨ４を示す。また、ｍは平均値で０以上、４以下の数である。）
アニオン性界面活性剤は１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【0036】
＜ノニオン性界面活性剤＞
ノニオン性界面活性剤としては、アルキル基等の疎水基と、ポリオキシエチレン基等の非イオン性の親水基とを有するものが挙げられる。前記疎水基としては、洗浄性能の観点から、好ましくは炭化水素基、より好ましくはアルキル基である。前記疎水基の炭素数は、変性ヒドロキシアルキルセルロースの水への分散性の向上の点から、前記疎水基の炭素数は、好ましくは８以上、より好ましくは１０以上、更に好ましくは１２以上、そして、好ましくは１８以下、より好ましくは１６以下、更に好ましくは１４以下である。
ノニオン性界面活性剤としては、アルキル基等の疎水基と、ポリオキシエチレン基等の非イオン性の親水基とを有するものが挙げられる。前記疎水基としては、洗浄性能の観点から、好ましくは炭化水素基、より好ましくはアルキル基である。前記疎水基の炭素数は、変性ヒドロキシアルキルセルロースの水への分散性の向上の点から、前記疎水基の炭素数は、好ましくは８以上、より好ましくは１０以上、更に好ましくは１２以上、そして、好ましくは１８以下、より好ましくは１６以下、更に好ましくは１４以下である。
【0037】
ノニオン性界面活性剤としては、ポリオキシアルキレン基を有するノニオン性界面活性剤、アルキルポリグリコシド、アルキルグリセリルエーテルが挙げられる。これらの中でも、洗浄性能の観点から、ポリオキシアルキレン基を有するノニオン性界面活性剤が好ましく、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシアルキレンアルケニルエーテル、ポリオキシアルキレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレン脂肪酸エステル、及びポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックポリマーから選ばれる１種以上がより好ましく、変性ヒドロキシアルキルセルロースの水への分散性に優れる点から、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルが更に好ましい。
洗浄性能の観点から、オキシアルキレン基としては、好ましくはオキシエチレン基、オキシプロピレン基、より好ましくはオキシエチレン基である。オキシアルキレン基の炭素数は、２以上３以下が好ましい。
変性ヒドロキシアルキルセルロースの水への分散性の向上の観点から、オキシアルキレン基の平均付加モル数は、好ましくは５以上、より好ましくは６以上、更に好ましくは７以上であり、そして、好ましくは２０以下、より好ましくは１８以下、更に好ましくは１６以下、より更に好ましくは１４以下、より更に好ましくは１２以下である。
ノニオン性界面活性剤は、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
洗浄性能の観点から、オキシアルキレン基としては、好ましくはオキシエチレン基、オキシプロピレン基、より好ましくはオキシエチレン基である。オキシアルキレン基の炭素数は、２以上３以下が好ましい。
変性ヒドロキシアルキルセルロースの水への分散性の向上の観点から、オキシアルキレン基の平均付加モル数は、好ましくは５以上、より好ましくは６以上、更に好ましくは７以上であり、そして、好ましくは２０以下、より好ましくは１８以下、更に好ましくは１６以下、より更に好ましくは１４以下、より更に好ましくは１２以下である。
ノニオン性界面活性剤は、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【0038】
本発明において、ノニオン性界面活性剤として、アミド系ノニオン性界面活性剤を含有してもよい。洗浄性能及び変性ヒドロキシアルキルセルロースの吸着促進の観点から、その含有量は、変性ヒドロキシアルキルセルロース１質量部に対して、好ましくは５質量部以下、より好ましくは３質量部以下、更に好ましくは１質量部以下、より更に好ましくは０．１質量部以下であり、そして、０質量部以上であってもよく、より更に好ましくは０質量部である。
【0039】
アミド系ノニオン性界面活性剤としては、脂肪酸アルカノールアミド系界面活性剤が例示され、モノアルカノールアミド、ジアルカノールアミドのいずれでもよく、炭素数２～３のヒドロキシアルキル基を有するものが入手容易であり、例えばオレイン酸ジエタノールアミド、パーム核油脂肪酸ジエタノールアミド、ヤシ油脂肪酸ジエタノールアミド、ラウリン酸ジエタノールアミド、ポリオキシエチレンヤシ油脂肪酸モノエタノールアミド、ヤシ油脂肪酸モノエタノールアミド、ラウリン酸イソプロパノールアミド、ラウリン酸モノエタノールアミド等が挙げられる。これらの中でも、天然脂肪酸ジエタノールアミドが汎用的であり、ヤシ油脂肪酸ジエタノールアミド（コカミドＤＥＡ（１：１）、コカミドＤＥＡ（１：２））、パーム核油脂肪酸ジエタノールアミド（パーム核脂肪酸アミドＤＥＡ）などが例示される。
脂肪族アルカノールアミド系界面活性剤としては、下記式（１４）で表される化合物が例示される。
脂肪族アルカノールアミド系界面活性剤としては、下記式（１４）で表される化合物が例示される。
【0040】
【化7】
式（１４）中、Ｒ６１は、炭素数７～１９のアルキル基又はアルケニル基を示し、ｓ１及びｓ２はそれぞれ独立に０～１０の整数を示し、ｓ１＋ｓ２≧１である。
【0041】
本発明の組成物は、アニオン性界面活性剤及びノニオン性界面活性剤から選ばれる少なくとも１つを有していればよく、より高い洗浄性能を得る観点から、アニオン性界面活性剤及びノニオン性界面活性剤の双方を有することが好ましい。
【0042】
＜組成物の組成＞
本発明の組成物は、少なくとも変性ヒドロキシアルキルセルロースと、アニオン性界面活性剤及びノニオン性界面活性剤から選ばれる１種以上とを含有する。
本発明の組成物において、変性ヒドロキシアルキルセルロースの含有量に対するアニオン性界面活性剤及びノニオン性界面活性剤の合計含有量の質量比（アニオン性界面活性剤及びノニオン性界面活性剤の合計含有量／変性ヒドロキシアルキルセルロースの含有量）は、洗浄性能の観点から、好ましくは０．１以上、より好ましくは１以上、更に好ましくは１０以上、より更に好ましくは３０以上であり、そして、好ましくは２，０００以下、より好ましくは１，０００以下、更に好ましくは５００以下、より更に好ましくは３００以下、より更に好ましくは、２００以下である。
本発明の組成物は、少なくとも変性ヒドロキシアルキルセルロースと、アニオン性界面活性剤及びノニオン性界面活性剤から選ばれる１種以上とを含有する。
本発明の組成物において、変性ヒドロキシアルキルセルロースの含有量に対するアニオン性界面活性剤及びノニオン性界面活性剤の合計含有量の質量比（アニオン性界面活性剤及びノニオン性界面活性剤の合計含有量／変性ヒドロキシアルキルセルロースの含有量）は、洗浄性能の観点から、好ましくは０．１以上、より好ましくは１以上、更に好ましくは１０以上、より更に好ましくは３０以上であり、そして、好ましくは２，０００以下、より好ましくは１，０００以下、更に好ましくは５００以下、より更に好ましくは３００以下、より更に好ましくは、２００以下である。
【0043】
本発明の組成物は、前記成分に加え、必要に応じて他の成分を含有していてもよい。本発明の組成物を、衣料用洗浄剤組成物として使用する場合、水、公知のアルカリ剤、キレート剤、有機溶剤、分散剤等を含有してもよく、安定性の観点から、好ましくは水を含有する。
【0044】
＜用途＞
本発明の組成物は、洗浄剤組成物として使用することが好ましく、本発明の組成物で洗浄することにより、衣類等の表面に変性ヒドロキシアルキルセルロースが吸着し、汚れが落ちやすくなり、洗浄時の汚れの洗浄性を向上することができると考えられる。従って、次回の洗浄時に、より優れた洗浄性が得られる。
前記汚れとしては、本発明の効果をより発現させる観点から、皮脂汚れ等の油性の汚れが好ましい。
本発明の組成物を洗浄剤組成物として使用する場合、その対象は、本発明の効果をより発現させる観点から、疎水性の表面が好ましい。
本発明の組成物は、衣料用洗浄剤組成物として使用することが好ましい。
本発明の組成物が、例えば衣料用洗浄剤組成物である場合、好ましくは使用時には水等の溶剤で希釈される。本発明の組成物は、その用途によって、使用時に希釈されてもよい。
本発明の変性ヒドロキシアルキルセルロースは、洗浄性能の観点から、衣類等の対象物に対して処理する際の水溶液中の濃度が、好ましくは０．０１ｍｇ／Ｌ以上、より好ましくは０．１ｍｇ／Ｌ以上、更に好ましくは０．３ｍｇ／以上、より更に好ましくは０．５ｍｇ／Ｌ以上であり、そして、経済性の観点から、好ましくは１０，０００ｍｇ／Ｌ以下、より好ましくは１，０００ｍｇ／Ｌ以下、更に好ましくは５００ｍｇ／以下、より更に好ましくは１００ｍｇ／Ｌ以下である。
本発明の組成物は、洗浄剤組成物として使用することが好ましく、本発明の組成物で洗浄することにより、衣類等の表面に変性ヒドロキシアルキルセルロースが吸着し、汚れが落ちやすくなり、洗浄時の汚れの洗浄性を向上することができると考えられる。従って、次回の洗浄時に、より優れた洗浄性が得られる。
前記汚れとしては、本発明の効果をより発現させる観点から、皮脂汚れ等の油性の汚れが好ましい。
本発明の組成物を洗浄剤組成物として使用する場合、その対象は、本発明の効果をより発現させる観点から、疎水性の表面が好ましい。
本発明の組成物は、衣料用洗浄剤組成物として使用することが好ましい。
本発明の組成物が、例えば衣料用洗浄剤組成物である場合、好ましくは使用時には水等の溶剤で希釈される。本発明の組成物は、その用途によって、使用時に希釈されてもよい。
本発明の変性ヒドロキシアルキルセルロースは、洗浄性能の観点から、衣類等の対象物に対して処理する際の水溶液中の濃度が、好ましくは０．０１ｍｇ／Ｌ以上、より好ましくは０．１ｍｇ／Ｌ以上、更に好ましくは０．３ｍｇ／以上、より更に好ましくは０．５ｍｇ／Ｌ以上であり、そして、経済性の観点から、好ましくは１０，０００ｍｇ／Ｌ以下、より好ましくは１，０００ｍｇ／Ｌ以下、更に好ましくは５００ｍｇ／以下、より更に好ましくは１００ｍｇ／Ｌ以下である。
【0045】
本発明は、更に、以下の＜１＞～＜９８＞を開示する。
＜１＞ 変性ヒドロキシアルキルセルロースと、アニオン性界面活性剤及びノニオン性界面活性剤から選ばれる１種以上とを含有し、該変性ヒドロキシアルキルセルロースは、ヒドロキシアルキルセルロースの水酸基から水素原子を除いた基に、カチオン性基、及び式（１）で表される疎水基が結合している、組成物。
＜１＞ 変性ヒドロキシアルキルセルロースと、アニオン性界面活性剤及びノニオン性界面活性剤から選ばれる１種以上とを含有し、該変性ヒドロキシアルキルセルロースは、ヒドロキシアルキルセルロースの水酸基から水素原子を除いた基に、カチオン性基、及び式（１）で表される疎水基が結合している、組成物。
【0046】
【化8】
（式（１）中、Ｚは単結合、又は酸素原子を有する炭化水素基を示し、Ｒ１は炭素数２以上の炭化水素基を示し、＊はヒドロキシアルキルセルロースの水酸基から水素原子を除いた基との結合位置を示す。）
【0047】
＜２＞ 変性ヒドロキシアルキルセルロースが、変性ヒドロキシエチルセルロースである、＜１＞に記載の組成物。
＜３＞ ヒドロキシアルキルセルロースにおけるヒドロキシアルキル基の置換度が、１．５以上である、＜１＞又は＜２＞に記載の組成物。
＜４＞ ヒドロキシアルキルセルロースにおけるヒドロキシアルキル基の置換度が、３以下である、＜１＞～＜３＞のいずれかに記載の組成物。
＜５＞ ヒドロキシアルキルセルロースの重量平均分子量が１３万以上である、＜１＞～＜４＞のいずれかに記載の組成物。
＜６＞ ヒドロキシアルキルセルロースの重量平均分子量が１２０万以下である、＜１＞～＜５＞のいずれかに記載の組成物。
＜７＞ ヒドロキシアルキルセルロースの重量平均分子量が７９万以下である、＜１＞～＜５＞のいずれかに記載の組成物。
＜８＞ ヒドロキシアルキルセルロースの重量平均分子量が４０万以下である、＜１＞～＜５＞のいずれかに記載の組成物。
＜３＞ ヒドロキシアルキルセルロースにおけるヒドロキシアルキル基の置換度が、１．５以上である、＜１＞又は＜２＞に記載の組成物。
＜４＞ ヒドロキシアルキルセルロースにおけるヒドロキシアルキル基の置換度が、３以下である、＜１＞～＜３＞のいずれかに記載の組成物。
＜５＞ ヒドロキシアルキルセルロースの重量平均分子量が１３万以上である、＜１＞～＜４＞のいずれかに記載の組成物。
＜６＞ ヒドロキシアルキルセルロースの重量平均分子量が１２０万以下である、＜１＞～＜５＞のいずれかに記載の組成物。
＜７＞ ヒドロキシアルキルセルロースの重量平均分子量が７９万以下である、＜１＞～＜５＞のいずれかに記載の組成物。
＜８＞ ヒドロキシアルキルセルロースの重量平均分子量が４０万以下である、＜１＞～＜５＞のいずれかに記載の組成物。
【0048】
＜９＞ カチオン性基が、第４級アンモニウムカチオンを含む、＜１＞～＜８＞のいずれかに記載の組成物。
＜１０＞ カチオン性基が、式（２－１）又は式（２－２）で表される、＜１＞～＜９＞のいずれかに記載の組成物。
＜１０＞ カチオン性基が、式（２－１）又は式（２－２）で表される、＜１＞～＜９＞のいずれかに記載の組成物。
【0049】
【化9】
（式（２－１）及び式（２－２）中、Ｒ２１～Ｒ２３はそれぞれ独立に、炭素数１以上４以下の炭化水素基を示し、Ｘ－はアニオンを示し、ｔは０以上３以下の整数を示し、＊はヒドロキシアルキルセルロースの水酸基から水素原子を除いた基との結合位置を示す。）
【0050】
＜１１＞ Ｒ２１～Ｒ２３の全てがメチル基又はエチル基である、＜１０＞に記載の組成物。
＜１２＞ Ｒ２１～Ｒ２３の全てがメチル基である、＜１０＞に記載の組成物。
＜１３＞ ｔが１である、＜１０＞～＜１２＞のいずれかに記載の組成物。
＜１４＞ Ｘ－が、メチル硫酸イオン、エチル硫酸イオン、塩化物イオン、及び臭化物イオンから選択される１種以上である、＜１０＞～＜１３＞のいずれかに記載の組成物。
＜１５＞ Ｘ－が塩化物イオンである、＜１０＞～＜１３＞のいずれかに記載の組成物。
＜１６＞ 変性ヒドロキシアルキルセルロースにおけるカチオン性基の置換度（ＭＳＣ）が０．０１以上である、＜１＞～＜１５＞のいずれかに記載の組成物。
＜１７＞ ＭＳＣが０．０２以上である、＜１＞～＜１５＞のいずれかに記載の組成物。
＜１８＞ ＭＳＣが０．０５以上である、＜１＞～＜１５＞のいずれかに記載の組成物。
＜１９＞ ＭＳＣが０．０７以上である、＜１＞～＜１５＞のいずれかに記載の組成物。
＜２０＞ ＭＳＣが０．２以下である、＜１＞～＜１９＞のいずれかに記載の組成物。
＜２１＞ ＭＳＣが０．１５以下である、＜１＞～＜１９＞のいずれかに記載の組成物。
＜２２＞ ＭＳＣが０．１以下である、＜１＞～＜１９＞のいずれかに記載の組成物。
＜１２＞ Ｒ２１～Ｒ２３の全てがメチル基である、＜１０＞に記載の組成物。
＜１３＞ ｔが１である、＜１０＞～＜１２＞のいずれかに記載の組成物。
＜１４＞ Ｘ－が、メチル硫酸イオン、エチル硫酸イオン、塩化物イオン、及び臭化物イオンから選択される１種以上である、＜１０＞～＜１３＞のいずれかに記載の組成物。
＜１５＞ Ｘ－が塩化物イオンである、＜１０＞～＜１３＞のいずれかに記載の組成物。
＜１６＞ 変性ヒドロキシアルキルセルロースにおけるカチオン性基の置換度（ＭＳＣ）が０．０１以上である、＜１＞～＜１５＞のいずれかに記載の組成物。
＜１７＞ ＭＳＣが０．０２以上である、＜１＞～＜１５＞のいずれかに記載の組成物。
＜１８＞ ＭＳＣが０．０５以上である、＜１＞～＜１５＞のいずれかに記載の組成物。
＜１９＞ ＭＳＣが０．０７以上である、＜１＞～＜１５＞のいずれかに記載の組成物。
＜２０＞ ＭＳＣが０．２以下である、＜１＞～＜１９＞のいずれかに記載の組成物。
＜２１＞ ＭＳＣが０．１５以下である、＜１＞～＜１９＞のいずれかに記載の組成物。
＜２２＞ ＭＳＣが０．１以下である、＜１＞～＜１９＞のいずれかに記載の組成物。
【0051】
＜２３＞ Ｒ１がアルキル基である、＜１＞～＜２２＞のいずれかに記載の組成物。
＜２４＞ Ｒ１の炭素数が６以上である、＜１＞～＜２３＞のいずれかに記載の組成物。
＜２５＞ Ｒ１の炭素数が８以上である、＜１＞～＜２３＞のいずれかに記載の組成物。
＜２６＞ Ｒ１の炭素数が１０以上である、＜１＞～＜２３＞のいずれかに記載の組成物。
＜２７＞ Ｒ１の炭素数が２４以下である、＜１＞～＜２６＞のいずれかに記載の組成物。
＜２８＞ Ｒ１の炭素数が１８以下である、＜１＞～＜２６＞のいずれかに記載の組成物。
＜２９＞ Ｒ１の炭素数が１６以下である、＜１＞～＜２６＞のいずれかに記載の組成物。
＜３０＞ Ｒ１の炭素数が１４以下である、＜１＞～＜２６＞のいずれかに記載の組成物。
＜２４＞ Ｒ１の炭素数が６以上である、＜１＞～＜２３＞のいずれかに記載の組成物。
＜２５＞ Ｒ１の炭素数が８以上である、＜１＞～＜２３＞のいずれかに記載の組成物。
＜２６＞ Ｒ１の炭素数が１０以上である、＜１＞～＜２３＞のいずれかに記載の組成物。
＜２７＞ Ｒ１の炭素数が２４以下である、＜１＞～＜２６＞のいずれかに記載の組成物。
＜２８＞ Ｒ１の炭素数が１８以下である、＜１＞～＜２６＞のいずれかに記載の組成物。
＜２９＞ Ｒ１の炭素数が１６以下である、＜１＞～＜２６＞のいずれかに記載の組成物。
＜３０＞ Ｒ１の炭素数が１４以下である、＜１＞～＜２６＞のいずれかに記載の組成物。
【0052】
＜３１＞ Ｒ１のモル平均炭素数が、４以上である、＜１＞～＜３０＞のいずれかに記載の組成物。
＜３２＞ Ｒ１のモル平均炭素数が、７以上である、＜１＞～＜３０＞のいずれかに記載の組成物。
＜３３＞ Ｒ１のモル平均炭素数が、１０以上である、＜１＞～＜３０＞のいずれかに記載の組成物。
＜３４＞ Ｒ１のモル平均炭素数が、２４以下である、＜１＞～＜３３＞のいずれかに記載の組成物。
＜３５＞ Ｒ１のモル平均炭素数が、１８以下である、＜１＞～＜３３＞のいずれかに記載の組成物。
＜３６＞ Ｒ１のモル平均炭素数が、１４以下である、＜１＞～＜３３＞のいずれかに記載の組成物。
＜３２＞ Ｒ１のモル平均炭素数が、７以上である、＜１＞～＜３０＞のいずれかに記載の組成物。
＜３３＞ Ｒ１のモル平均炭素数が、１０以上である、＜１＞～＜３０＞のいずれかに記載の組成物。
＜３４＞ Ｒ１のモル平均炭素数が、２４以下である、＜１＞～＜３３＞のいずれかに記載の組成物。
＜３５＞ Ｒ１のモル平均炭素数が、１８以下である、＜１＞～＜３３＞のいずれかに記載の組成物。
＜３６＞ Ｒ１のモル平均炭素数が、１４以下である、＜１＞～＜３３＞のいずれかに記載の組成物。
【0053】
＜３７＞ 炭化水素基Ｒ１中の炭素数が９以上の炭化水素基の割合が、２５ｍｏｌ％以上である、＜１＞～＜３６＞のいずれかに記載の組成物。
＜３８＞ 炭化水素基Ｒ１中の炭素数が９以上の炭化水素基の割合が、５０ｍｏｌ％以上である、＜１＞～＜３６＞のいずれかに記載の組成物。
＜３９＞ 炭化水素基Ｒ１中の炭素数が９以上の炭化水素基の割合が、７０ｍｏｌ％以上である、＜１＞～＜３６＞のいずれかに記載の組成物。
＜４０＞ 炭化水素基Ｒ１中の炭素数が９以上の炭化水素基の割合が、９０ｍｏｌ％以上である、＜１＞～＜３６＞のいずれかに記載の組成物。
＜４１＞ 炭化水素基Ｒ１中の炭素数が９以上の炭化水素基の割合が、１００ｍｏｌ％以下である、＜１＞～＜４０＞のいずれかに記載の組成物。
＜４２＞ 炭化水素基Ｒ１中の炭素数が９以上の炭化水素基の割合が、１００ｍｏｌ％である、＜１＞～＜３６＞のいずれかに記載の組成物。
＜３８＞ 炭化水素基Ｒ１中の炭素数が９以上の炭化水素基の割合が、５０ｍｏｌ％以上である、＜１＞～＜３６＞のいずれかに記載の組成物。
＜３９＞ 炭化水素基Ｒ１中の炭素数が９以上の炭化水素基の割合が、７０ｍｏｌ％以上である、＜１＞～＜３６＞のいずれかに記載の組成物。
＜４０＞ 炭化水素基Ｒ１中の炭素数が９以上の炭化水素基の割合が、９０ｍｏｌ％以上である、＜１＞～＜３６＞のいずれかに記載の組成物。
＜４１＞ 炭化水素基Ｒ１中の炭素数が９以上の炭化水素基の割合が、１００ｍｏｌ％以下である、＜１＞～＜４０＞のいずれかに記載の組成物。
＜４２＞ 炭化水素基Ｒ１中の炭素数が９以上の炭化水素基の割合が、１００ｍｏｌ％である、＜１＞～＜３６＞のいずれかに記載の組成物。
【0054】
＜４３＞ 式（１）で表される基が、下記式（１－１－１）～（１－４）のいずれかで表される基を含む、＜１＞～＜４２＞のいずれかに記載の組成物。
【0055】
【化10】
（式（１－１－１）～式（１－４）中、Ｒ１１及びＲ１２はそれぞれ独立に、炭素数２～４のアルキレン基を示し、Ｒ１は式（１）におけるＲ１と同義であり、＊はヒドロキシアルキルセルロースの水酸基から水素原子を除いた基との結合位置を示し、ｎ１は－Ｒ１１－Ｏ－の付加モル数を示し、ｎ２は－Ｒ１２－Ｏ－の付加モル数を示し、ｎ１及びｎ２は０以上３０以下の整数である。）
【0056】
＜４４＞ Ｒ１１及びＲ１２がエチレン基である、＜４３＞に記載の組成物。
＜４５＞ ｎ１及びｎ２が２０以下である、＜４３＞又は＜４４＞に記載の組成物。
＜４６＞ ｎ１及びｎ２が１０以下である、＜４３＞又は＜４４＞に記載の組成物。
＜４７＞ ｎ１及びｎ２が５以下である、＜４３＞又は＜４４＞に記載の組成物。
＜４８＞ ｎ１及びｎ２が３以下である、＜４３＞又は＜４４＞に記載の組成物。
＜４９＞ ｎ１及びｎ２が１以下である、＜４３＞又は＜４４＞に記載の組成物。
＜５０＞ ｎ１及びｎ２が０以上である、＜４３＞～＜４９＞のいずれかに記載の組成物。
＜５１＞ ｎ１及びｎ２が０である、＜４３＞又は＜４４＞に記載の組成物。
＜５２＞ －Ｏ－Ｒ１１－及び－Ｏ－Ｒ１２－の平均付加モル数が２０以下である、＜４３＞～＜５１＞のいずれかに記載の組成物。
＜５３＞ －Ｏ－Ｒ１１－及び－Ｏ－Ｒ１２－の平均付加モル数が１０以下である、＜４３＞～＜５１＞のいずれかに記載の組成物。
＜５４＞ －Ｏ－Ｒ１１－及び－Ｏ－Ｒ１２－の平均付加モル数が５以下である、＜４３＞～＜５１＞のいずれかに記載の組成物。
＜５５＞ －Ｏ－Ｒ１１－及び－Ｏ－Ｒ１２－の平均付加モル数が３以下である、＜４３＞～＜５１＞のいずれかに記載の組成物。
＜５６＞ －Ｏ－Ｒ１１－及び－Ｏ－Ｒ１２－の平均付加モル数が１以下である、＜４３＞～＜５１＞のいずれかに記載の組成物。
＜５７＞ －Ｏ－Ｒ１１－及び－Ｏ－Ｒ１２－の平均付加モル数が０以上である、＜４３＞～＜５６＞のいずれかに記載の組成物。
＜５８＞ 式（１）で表される基が、式（１－１－１）、式（１－１－２）、式（１－２－１）及び式（１－２－２）で表される基から選ばれる少なくとも１つを含む、＜４３＞～＜５７＞のいずれかに記載の組成物。
＜５９＞ 式（１）で表される基が、式（１－１－１）及び式（１－１－２）で表される基から選ばれる少なくとも１つを含む、＜４３＞～＜５７＞のいずれかに記載の組成物。
＜４５＞ ｎ１及びｎ２が２０以下である、＜４３＞又は＜４４＞に記載の組成物。
＜４６＞ ｎ１及びｎ２が１０以下である、＜４３＞又は＜４４＞に記載の組成物。
＜４７＞ ｎ１及びｎ２が５以下である、＜４３＞又は＜４４＞に記載の組成物。
＜４８＞ ｎ１及びｎ２が３以下である、＜４３＞又は＜４４＞に記載の組成物。
＜４９＞ ｎ１及びｎ２が１以下である、＜４３＞又は＜４４＞に記載の組成物。
＜５０＞ ｎ１及びｎ２が０以上である、＜４３＞～＜４９＞のいずれかに記載の組成物。
＜５１＞ ｎ１及びｎ２が０である、＜４３＞又は＜４４＞に記載の組成物。
＜５２＞ －Ｏ－Ｒ１１－及び－Ｏ－Ｒ１２－の平均付加モル数が２０以下である、＜４３＞～＜５１＞のいずれかに記載の組成物。
＜５３＞ －Ｏ－Ｒ１１－及び－Ｏ－Ｒ１２－の平均付加モル数が１０以下である、＜４３＞～＜５１＞のいずれかに記載の組成物。
＜５４＞ －Ｏ－Ｒ１１－及び－Ｏ－Ｒ１２－の平均付加モル数が５以下である、＜４３＞～＜５１＞のいずれかに記載の組成物。
＜５５＞ －Ｏ－Ｒ１１－及び－Ｏ－Ｒ１２－の平均付加モル数が３以下である、＜４３＞～＜５１＞のいずれかに記載の組成物。
＜５６＞ －Ｏ－Ｒ１１－及び－Ｏ－Ｒ１２－の平均付加モル数が１以下である、＜４３＞～＜５１＞のいずれかに記載の組成物。
＜５７＞ －Ｏ－Ｒ１１－及び－Ｏ－Ｒ１２－の平均付加モル数が０以上である、＜４３＞～＜５６＞のいずれかに記載の組成物。
＜５８＞ 式（１）で表される基が、式（１－１－１）、式（１－１－２）、式（１－２－１）及び式（１－２－２）で表される基から選ばれる少なくとも１つを含む、＜４３＞～＜５７＞のいずれかに記載の組成物。
＜５９＞ 式（１）で表される基が、式（１－１－１）及び式（１－１－２）で表される基から選ばれる少なくとも１つを含む、＜４３＞～＜５７＞のいずれかに記載の組成物。
【0057】
＜６０＞ 変性ヒドロキシアルキルセルロースにおける疎水基の置換度（ＭＳＲ）が、０．００５以上である、＜１＞～＜５９＞のいずれかに記載の組成物。
＜６１＞ ＭＳＲが、０．００８以上である、＜１＞～＜５９＞のいずれかに記載の組成物。
＜６２＞ ＭＳＲが、０．０１以上である、＜１＞～＜５９＞のいずれかに記載の組成物。
＜６３＞ ＭＳＲが、０．０１５以上である、＜１＞～＜５９＞のいずれかに記載の組成物。
＜６４＞ ＭＳＲが、０．０６以下である、＜１＞～＜６３＞のいずれかに記載の組成物。
＜６５＞ ＭＳＲが、０．０５以下である、＜１＞～＜６３＞のいずれかに記載の組成物。
＜６６＞ ＭＳＲが、０．０４以下である、＜１＞～＜６３＞のいずれかに記載の組成物。
＜６７＞ ＭＳＲが、０．０３以下である、＜１＞～＜６３＞のいずれかに記載の組成物。
＜６１＞ ＭＳＲが、０．００８以上である、＜１＞～＜５９＞のいずれかに記載の組成物。
＜６２＞ ＭＳＲが、０．０１以上である、＜１＞～＜５９＞のいずれかに記載の組成物。
＜６３＞ ＭＳＲが、０．０１５以上である、＜１＞～＜５９＞のいずれかに記載の組成物。
＜６４＞ ＭＳＲが、０．０６以下である、＜１＞～＜６３＞のいずれかに記載の組成物。
＜６５＞ ＭＳＲが、０．０５以下である、＜１＞～＜６３＞のいずれかに記載の組成物。
＜６６＞ ＭＳＲが、０．０４以下である、＜１＞～＜６３＞のいずれかに記載の組成物。
＜６７＞ ＭＳＲが、０．０３以下である、＜１＞～＜６３＞のいずれかに記載の組成物。
【0058】
＜６８＞ 変性ヒドロキシアルキルセルロースの疎水基の置換度（ＭＳＲ）とカチオン性基の置換度（ＭＳＣ）の比（ＭＳＲ／ＭＳＣ）が、好ましくは０．００１以上、より好ましくは０．００５以上、更に好ましくは０．０１以上、より更に好ましくは０．０５以上であり、そして、好ましくは１０以下、より好ましくは５以下、更に好ましくは３以下、より更に好ましくは２以下、より更に好ましくは１．２以下、より更に好ましくは０．８以下、より更に好ましくは０．６以下、より更に好ましくは０．５以下、より更に好ましくは０．３以下である、＜１＞～＜６７＞のいずれかに記載の組成物。
【0059】
＜６９＞ 疎水基及びカチオン性基が、ヒドロキシアルキルセルロースの有する、異なる水酸基から水素原子を除いた基と結合している、＜１＞～＜６８＞のいずれかに記載の組成物。
＜７０＞ 変性ヒドロキシアルキルセルロースにおけるアニオン性基の置換度（ＭＳＡ）とカチオン性基の置換度（ＭＳＣ）の比（ＭＳＡ／ＭＳＣ）が、０．５以下である、＜１＞～＜６９＞のいずれかに記載の組成物。
＜７１＞ ＭＳＡ／ＭＳＣが、０．１以下である、＜１＞～＜６９＞のいずれかに記載の組成物。
＜７２＞ ＭＳＡ／ＭＳＣが、０以上である、＜１＞～＜７１＞のいずれかに記載の組成物。
＜７３＞ ＭＳＡ／ＭＳＣが、０である、＜１＞～＜６９＞のいずれかに記載の組成物。
＜７４＞ 変性ヒドロキシアルキルセルロースにおけるグリセロール基の置換度が０．５未満である、＜１＞～＜７３＞のいずれかに記載の組成物。
＜７５＞ 前記グリセロール基の置換度が０．１未満である、＜１＞～＜７３＞のいずれかに記載の組成物。
＜７６＞ 前記グリセロール基の置換度が０以上である、＜１＞～＜７５＞のいずれかに記載の組成物。
＜７７＞ 前記グリセロール基の置換度が０である、＜１＞～＜７３＞のいずれかに記載の組成物。
＜７０＞ 変性ヒドロキシアルキルセルロースにおけるアニオン性基の置換度（ＭＳＡ）とカチオン性基の置換度（ＭＳＣ）の比（ＭＳＡ／ＭＳＣ）が、０．５以下である、＜１＞～＜６９＞のいずれかに記載の組成物。
＜７１＞ ＭＳＡ／ＭＳＣが、０．１以下である、＜１＞～＜６９＞のいずれかに記載の組成物。
＜７２＞ ＭＳＡ／ＭＳＣが、０以上である、＜１＞～＜７１＞のいずれかに記載の組成物。
＜７３＞ ＭＳＡ／ＭＳＣが、０である、＜１＞～＜６９＞のいずれかに記載の組成物。
＜７４＞ 変性ヒドロキシアルキルセルロースにおけるグリセロール基の置換度が０．５未満である、＜１＞～＜７３＞のいずれかに記載の組成物。
＜７５＞ 前記グリセロール基の置換度が０．１未満である、＜１＞～＜７３＞のいずれかに記載の組成物。
＜７６＞ 前記グリセロール基の置換度が０以上である、＜１＞～＜７５＞のいずれかに記載の組成物。
＜７７＞ 前記グリセロール基の置換度が０である、＜１＞～＜７３＞のいずれかに記載の組成物。
【0060】
＜７８＞ アニオン性界面活性剤が、界面活性剤の疎水基、好ましくはアルキル基の１級炭素原子又はフェニル基にアニオン性基が結合した末端アニオン性界面活性剤、及び疎水基、好ましくはアルキル基の２級炭素原子にアニオン性基が結合した内部アニオン性界面活性剤から選択される、＜１＞～＜７７＞のいずれかに記載の組成物。
＜７９＞ アニオン性界面活性剤が、ＬＡＳ、ＡＳ、ＡＥＳ、ＩＯＳ、及びＨＡＳから選ばれる１種以上である、＜１＞～＜７８＞のいずれかに記載の組成物。
＜８０＞ アニオン性界面活性剤がＡＥＳである、＜１＞～＜７８＞のいずれかに記載の組成物。
＜８１＞ 末端アニオン性界面活性剤のアルキル基の炭素数が１２以上である、＜７８＞に記載の組成物。
＜８２＞ 末端アニオン性界面活性剤のアルキル基の炭素数が１４以下である、＜７８＞又は＜８１＞に記載の組成物。
＜８３＞ 内部アニオン性界面活性剤のアルキル基の炭素数が１６以上である、＜７８＞に記載の組成物。
＜８４＞ 内部アニオン性界面活性剤のアルキル基の炭素数が１８以下である、＜７８＞又は＜８３＞に記載の組成物。
＜７９＞ アニオン性界面活性剤が、ＬＡＳ、ＡＳ、ＡＥＳ、ＩＯＳ、及びＨＡＳから選ばれる１種以上である、＜１＞～＜７８＞のいずれかに記載の組成物。
＜８０＞ アニオン性界面活性剤がＡＥＳである、＜１＞～＜７８＞のいずれかに記載の組成物。
＜８１＞ 末端アニオン性界面活性剤のアルキル基の炭素数が１２以上である、＜７８＞に記載の組成物。
＜８２＞ 末端アニオン性界面活性剤のアルキル基の炭素数が１４以下である、＜７８＞又は＜８１＞に記載の組成物。
＜８３＞ 内部アニオン性界面活性剤のアルキル基の炭素数が１６以上である、＜７８＞に記載の組成物。
＜８４＞ 内部アニオン性界面活性剤のアルキル基の炭素数が１８以下である、＜７８＞又は＜８３＞に記載の組成物。
【0061】
＜８５＞ ノニオン性界面活性剤が、ポリオキシアルキレン基を有するノニオン性界面活性剤である、＜１＞～＜８４＞のいずれかに記載の組成物。
＜８６＞ ノニオン性界面活性剤が、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルである、＜１＞～＜８４＞のいずれかに記載の組成物。
＜８７＞ アミド系ノニオン性界面活性剤の含有量が、変性ヒドロキシアルキルセルロース１質量部に対して、５質量部以下である、＜１＞～＜８６＞のいずれかに記載の組成物。
＜８８＞ アミド系ノニオン性界面活性剤の含有量が、変性ヒドロキシアルキルセルロース１質量部に対して、３質量部以下である、＜１＞～＜８６＞のいずれかに記載の組成物。
＜８９＞ アミド系ノニオン性界面活性剤の含有量が、変性ヒドロキシアルキルセルロース１質量部に対して、１質量部以下である、＜１＞～＜８６＞のいずれかに記載の組成物。
＜９０＞ アミド系ノニオン性界面活性剤の含有量が、変性ヒドロキシアルキルセルロース１質量部に対して、０．１質量部以下である、＜１＞～＜８６＞のいずれかに記載の組成物。
＜９１＞ アミド系ノニオン性界面活性剤の含有量が、変性ヒドロキシアルキルセルロース１質量部に対して、０質量部以上である、＜１＞～＜９０＞のいずれかに記載の組成物。
＜９２＞ アミド系ノニオン性界面活性剤の含有量が、変性ヒドロキシアルキルセルロース１質量部に対して、０質量部である、＜１＞～＜８６＞のいずれかに記載の組成物。
＜９３＞ アニオン性界面活性剤及びノニオン性界面活性剤の双方を有する、＜１＞～＜９２＞のいずれかに記載の組成物。
＜８６＞ ノニオン性界面活性剤が、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルである、＜１＞～＜８４＞のいずれかに記載の組成物。
＜８７＞ アミド系ノニオン性界面活性剤の含有量が、変性ヒドロキシアルキルセルロース１質量部に対して、５質量部以下である、＜１＞～＜８６＞のいずれかに記載の組成物。
＜８８＞ アミド系ノニオン性界面活性剤の含有量が、変性ヒドロキシアルキルセルロース１質量部に対して、３質量部以下である、＜１＞～＜８６＞のいずれかに記載の組成物。
＜８９＞ アミド系ノニオン性界面活性剤の含有量が、変性ヒドロキシアルキルセルロース１質量部に対して、１質量部以下である、＜１＞～＜８６＞のいずれかに記載の組成物。
＜９０＞ アミド系ノニオン性界面活性剤の含有量が、変性ヒドロキシアルキルセルロース１質量部に対して、０．１質量部以下である、＜１＞～＜８６＞のいずれかに記載の組成物。
＜９１＞ アミド系ノニオン性界面活性剤の含有量が、変性ヒドロキシアルキルセルロース１質量部に対して、０質量部以上である、＜１＞～＜９０＞のいずれかに記載の組成物。
＜９２＞ アミド系ノニオン性界面活性剤の含有量が、変性ヒドロキシアルキルセルロース１質量部に対して、０質量部である、＜１＞～＜８６＞のいずれかに記載の組成物。
＜９３＞ アニオン性界面活性剤及びノニオン性界面活性剤の双方を有する、＜１＞～＜９２＞のいずれかに記載の組成物。
【0062】
＜９４＞ 水を含有する、＜１＞～＜９３＞のいずれかに記載の組成物。
＜９５＞ 洗浄剤組成物である、＜１＞～＜９４＞のいずれかに記載の組成物。
＜９６＞ 衣料用洗浄剤組成物である、＜１＞～＜９４＞のいずれかに記載の組成物。
＜９７＞ 処理する際の水溶液中の濃度が、好ましくは０．０１ｍｇ／Ｌ以上、より好ましくは０．１ｍｇ／Ｌ以上、更に好ましくは０．３ｍｇ／以上、より更に好ましくは０．５ｍｇ／Ｌ以上であり、そして、好ましくは１０，０００ｍｇ／Ｌ以下、より好ましくは１，０００ｍｇ／Ｌ以下、更に好ましくは５００ｍｇ／以下、より更に好ましくは１００ｍｇ／Ｌ以下である、＜１＞～＜９６＞のいずれかに記載の組成物。
＜９８＞ ＜１＞～＜９７＞のいずれかに記載の組成物の疎水性表面への使用。
＜９５＞ 洗浄剤組成物である、＜１＞～＜９４＞のいずれかに記載の組成物。
＜９６＞ 衣料用洗浄剤組成物である、＜１＞～＜９４＞のいずれかに記載の組成物。
＜９７＞ 処理する際の水溶液中の濃度が、好ましくは０．０１ｍｇ／Ｌ以上、より好ましくは０．１ｍｇ／Ｌ以上、更に好ましくは０．３ｍｇ／以上、より更に好ましくは０．５ｍｇ／Ｌ以上であり、そして、好ましくは１０，０００ｍｇ／Ｌ以下、より好ましくは１，０００ｍｇ／Ｌ以下、更に好ましくは５００ｍｇ／以下、より更に好ましくは１００ｍｇ／Ｌ以下である、＜１＞～＜９６＞のいずれかに記載の組成物。
＜９８＞ ＜１＞～＜９７＞のいずれかに記載の組成物の疎水性表面への使用。
【実施例】
【0063】
実施例及び比較例で使用した測定方法は以下の通りである。
［置換度（モル平均置換度（ＭＳ））の測定］
・前処理
粉末状の変性ヒドロキシアルキルセルロース１ｇを１００ｇのイオン交換水に溶かした後、水溶液を透析膜（スペクトラポア、分画分子量１，０００）に入れ、２日間透析を行った。得られた水溶液を、凍結乾燥機（ｅｙｅｌａ，ＦＤＵ１１００）を用いて凍結乾燥することで精製した変性ヒドロキシアルキルセルロースを得た。
［置換度（モル平均置換度（ＭＳ））の測定］
・前処理
粉末状の変性ヒドロキシアルキルセルロース１ｇを１００ｇのイオン交換水に溶かした後、水溶液を透析膜（スペクトラポア、分画分子量１，０００）に入れ、２日間透析を行った。得られた水溶液を、凍結乾燥機（ｅｙｅｌａ，ＦＤＵ１１００）を用いて凍結乾燥することで精製した変性ヒドロキシアルキルセルロースを得た。
【0064】
＜ケルダール法によるカチオン性基質量の算出＞
精製した変性ヒドロキシアルキルセルロースの２００ｍｇを精秤し、硫酸１０ｍＬとケルダール錠（Ｍｅｒｃｋ）１錠を加え、ケルダール分解装置（ＢＵＣＨＩ社、Ｋ－４３２）にて加熱分解を行った。分解終了後、サンプルにイオン交換水３０ｍＬを加え、自動ケルダール蒸留装置（ＢＵＣＨＩ社、Ｋ－３７０）を用いてサンプルの窒素含量（質量％）を求めることで、カチオン性基の質量を算出した。
精製した変性ヒドロキシアルキルセルロースの２００ｍｇを精秤し、硫酸１０ｍＬとケルダール錠（Ｍｅｒｃｋ）１錠を加え、ケルダール分解装置（ＢＵＣＨＩ社、Ｋ－４３２）にて加熱分解を行った。分解終了後、サンプルにイオン交換水３０ｍＬを加え、自動ケルダール蒸留装置（ＢＵＣＨＩ社、Ｋ－３７０）を用いてサンプルの窒素含量（質量％）を求めることで、カチオン性基の質量を算出した。
【0065】
＜Ｚｅｉｓｅｌ法による疎水基（アルキル基）質量の算出＞
以下に、実施例１（炭化水素基の導入剤として、ラウリルグリシジルエーテルを使用）の場合を例に、炭化水素基であるアルキル基質量の算出方法を説明する。なお、他の導入剤を使用した場合も、検量線用の試料（ヨードアルカンや炭化水素基の導入剤など）を適宜選択することによって測定可能である。
精製したセルロース誘導体２００ｍｇ、アジピン酸２２０ｍｇを１０ｍＬバイアル（マイティーバイアルＮｏ．３）に精秤し、内標溶液（テトラデカン／ｏ－キシレン＝１／２５（ｖ／ｖ）） ３ｍＬ及びヨウ化水素酸３ｍＬを加えて密栓した。また、セルロース誘導体の代わりに１－ヨードドデカンを２、４、又は９ｍｇ加えた検量線用の試料を調製した。各試料をスターラーチップにより撹拌しながら、ブロックヒーター（ＰＩＥＲＣＥ社、Ｒｅａｃｔｉ－ＴｈｅｒｍIII Ｈｅａｔｉｎｇ／Ｓｔｉｒｒｉｎｇ ｍｏｄｕｌｅ）を用いて１６０℃、２時間の条件で加熱した。試料を放冷した後、上層（ｏ－キシレン層）を回収し、ガスクロマトグラフィー（株式会社島津製作所、ＧＣ－２０１０ ｐｌｕｓ）にて、１－ヨードドデカン量を分析した。
以下に、実施例１（炭化水素基の導入剤として、ラウリルグリシジルエーテルを使用）の場合を例に、炭化水素基であるアルキル基質量の算出方法を説明する。なお、他の導入剤を使用した場合も、検量線用の試料（ヨードアルカンや炭化水素基の導入剤など）を適宜選択することによって測定可能である。
精製したセルロース誘導体２００ｍｇ、アジピン酸２２０ｍｇを１０ｍＬバイアル（マイティーバイアルＮｏ．３）に精秤し、内標溶液（テトラデカン／ｏ－キシレン＝１／２５（ｖ／ｖ）） ３ｍＬ及びヨウ化水素酸３ｍＬを加えて密栓した。また、セルロース誘導体の代わりに１－ヨードドデカンを２、４、又は９ｍｇ加えた検量線用の試料を調製した。各試料をスターラーチップにより撹拌しながら、ブロックヒーター（ＰＩＥＲＣＥ社、Ｒｅａｃｔｉ－ＴｈｅｒｍIII Ｈｅａｔｉｎｇ／Ｓｔｉｒｒｉｎｇ ｍｏｄｕｌｅ）を用いて１６０℃、２時間の条件で加熱した。試料を放冷した後、上層（ｏ－キシレン層）を回収し、ガスクロマトグラフィー（株式会社島津製作所、ＧＣ－２０１０ ｐｌｕｓ）にて、１－ヨードドデカン量を分析した。
【0066】
・ＧＣ分析条件
カラム：Ａｇｉｌｅｎｔ ＨＰ－１（長さ：３０ｍ、液相膜厚：０．２５μＬ、内径：３２ｍｍ）
スプリット比：２０
カラム温度：１００℃（２ｍｉｎ）→１０℃／ｍｉｎ→３００℃（１５ｍｉｎ）
インジェクター温度：３００℃
検出器：ＦＩＤ
検出器温度：３３０℃
打ち込み量：２μＬ
ＧＣにより得られた１－ヨードドデカンの検出量から、サンプル中のアルキル基の質量を求めた。
カラム：Ａｇｉｌｅｎｔ ＨＰ－１（長さ：３０ｍ、液相膜厚：０．２５μＬ、内径：３２ｍｍ）
スプリット比：２０
カラム温度：１００℃（２ｍｉｎ）→１０℃／ｍｉｎ→３００℃（１５ｍｉｎ）
インジェクター温度：３００℃
検出器：ＦＩＤ
検出器温度：３３０℃
打ち込み量：２μＬ
ＧＣにより得られた１－ヨードドデカンの検出量から、サンプル中のアルキル基の質量を求めた。
【0067】
＜ヒドロキシアルキル基質量の測定＞
ヒドロキシアルキル基由来のヨウ化アルキルを定量することで、前述のアルキル基質量の測定と同様にして行った。
ヒドロキシアルキル基由来のヨウ化アルキルを定量することで、前述のアルキル基質量の測定と同様にして行った。
【0068】
＜カチオン性基、疎水基、及びヒドロキシアルキル基の置換度（モル平均置換度）の算出＞
上述のカチオン性基と疎水基（アルキル基）の質量及び全サンプル質量からＨＥＣ骨格の質量を計算し、それぞれ物質量（ｍｏｌ）に変換することで、カチオン性基の置換度（ＭＳＣ）、及び疎水基であるアルキル基の置換度（ＭＳＲ）を算出した。
上述のカチオン性基と疎水基（アルキル基）の質量及び全サンプル質量からＨＥＣ骨格の質量を計算し、それぞれ物質量（ｍｏｌ）に変換することで、カチオン性基の置換度（ＭＳＣ）、及び疎水基であるアルキル基の置換度（ＭＳＲ）を算出した。
【0069】
変性ヒドロキシアルキルセルロースの合成に用いた原料は、以下の通りである。
・Ｎａｔｒｏｓｏｌ ２５０ ＧＲ：ＨＥＣ（重量平均分子量：３０万、ヒドロキシエチル基の置換度：２．５、Ａｓｈｌａｎｄ社製）
・Ｎａｔｒｏｓｏｌ ２５０ ＨＲ：ＨＥＣ（重量平均分子量：１００万、ヒドロキシエチル基の置換度：２．５、Ａｓｈｌａｎｄ社製）
・Ｎａｔｒｏｓｏｌ ２５０ ＪＲ：ＨＥＣ（重量平均分子量：１５万、ヒドロキシエチル基の置換度：２．５、Ａｓｈｌａｎｄ社製）
・ＩＰＡ：２－プロパノール
・ＬＡ－ＥＰ：ラウリルグリシジルエーテル、四日市合成株式会社製
・１，２－エポキシテトラデカン、和光純薬工業株式会社製
・ＧＭＡＣ：グリシジルトリメチルアンモニウムクロリド、阪本薬品工業株式会社製「ＳＹ－ＧＴＡ８０」
・Ｎａｔｒｏｓｏｌ ２５０ ＧＲ：ＨＥＣ（重量平均分子量：３０万、ヒドロキシエチル基の置換度：２．５、Ａｓｈｌａｎｄ社製）
・Ｎａｔｒｏｓｏｌ ２５０ ＨＲ：ＨＥＣ（重量平均分子量：１００万、ヒドロキシエチル基の置換度：２．５、Ａｓｈｌａｎｄ社製）
・Ｎａｔｒｏｓｏｌ ２５０ ＪＲ：ＨＥＣ（重量平均分子量：１５万、ヒドロキシエチル基の置換度：２．５、Ａｓｈｌａｎｄ社製）
・ＩＰＡ：２－プロパノール
・ＬＡ－ＥＰ：ラウリルグリシジルエーテル、四日市合成株式会社製
・１，２－エポキシテトラデカン、和光純薬工業株式会社製
・ＧＭＡＣ：グリシジルトリメチルアンモニウムクロリド、阪本薬品工業株式会社製「ＳＹ－ＧＴＡ８０」
【0070】
合成例１：変性ヒドロキシアルキルセルロース（Ｍ－ＨＥＣ－１）の合成
ヒドロキシアルキルセルロースとして、Ｎａｔｒｏｓｏｌ ２５０ ＧＲ ９０ｇを１Ｌセパラフラスコに入れ、窒素フローを行った。イオン交換水７７．２ｇ、ＩＰＡ ４１４．５ｇを加え、５分間撹拌した後、４８％水酸化ナトリウム水溶液１０．９ｇを加え、更に１５分間撹拌した。次に、疎水化剤として、ＬＡ－ＥＰ ４．５ｇを加え、８０℃で５時間疎水化反応を行った。更にカチオン化剤として、ＧＭＡＣ １０．３ｇを加え、５０℃で１．５時間カチオン化反応を行った。その後、９０質量％酢酸水溶液１０．９ｇを加え、３０分撹拌することで中和反応を行った。
得られた懸濁液を５００ｍＬの遠沈管２本に均等に移し替え、高速冷却遠心機（日立工機株式会社、ＣＲ２１Ｇ III）を用いて１，５００Ｇで４０秒遠心分離を行った。上澄みをデカンテーションにより取り除き、取り除いた上澄みと同量の８５質量％ＩＰＡ水溶液を加え、再分散を行った。再度、遠心分離と再分散の操作を繰り返し、３回目の遠心分離を行った後に沈殿物を取り出した。得られた沈殿物を真空乾燥機（アドバンテック社、ＶＲ－４２０）を用いて８０℃で１２時間以上減圧乾燥し、エクストリームミル（ワーリング社、ＭＸ－１２００ＸＴＭ）により解砕することで、粉末状の変性ヒドロキシエチルセルロース（Ｍ－ＨＥＣ－１）を得た。
得られたＭ－ＨＥＣ－１のカチオン性基の置換度（ＭＳＣ）は、０．０８５であり、疎水基（アルキル基）の置換度（ＭＳＲ）は０．０２であった。
ヒドロキシアルキルセルロースとして、Ｎａｔｒｏｓｏｌ ２５０ ＧＲ ９０ｇを１Ｌセパラフラスコに入れ、窒素フローを行った。イオン交換水７７．２ｇ、ＩＰＡ ４１４．５ｇを加え、５分間撹拌した後、４８％水酸化ナトリウム水溶液１０．９ｇを加え、更に１５分間撹拌した。次に、疎水化剤として、ＬＡ－ＥＰ ４．５ｇを加え、８０℃で５時間疎水化反応を行った。更にカチオン化剤として、ＧＭＡＣ １０．３ｇを加え、５０℃で１．５時間カチオン化反応を行った。その後、９０質量％酢酸水溶液１０．９ｇを加え、３０分撹拌することで中和反応を行った。
得られた懸濁液を５００ｍＬの遠沈管２本に均等に移し替え、高速冷却遠心機（日立工機株式会社、ＣＲ２１Ｇ III）を用いて１，５００Ｇで４０秒遠心分離を行った。上澄みをデカンテーションにより取り除き、取り除いた上澄みと同量の８５質量％ＩＰＡ水溶液を加え、再分散を行った。再度、遠心分離と再分散の操作を繰り返し、３回目の遠心分離を行った後に沈殿物を取り出した。得られた沈殿物を真空乾燥機（アドバンテック社、ＶＲ－４２０）を用いて８０℃で１２時間以上減圧乾燥し、エクストリームミル（ワーリング社、ＭＸ－１２００ＸＴＭ）により解砕することで、粉末状の変性ヒドロキシエチルセルロース（Ｍ－ＨＥＣ－１）を得た。
得られたＭ－ＨＥＣ－１のカチオン性基の置換度（ＭＳＣ）は、０．０８５であり、疎水基（アルキル基）の置換度（ＭＳＲ）は０．０２であった。
【0071】
合成例２～１０
使用したヒドロキシアルキルセルロース、疎水化剤、及びカチオン化剤を、表１に示す通りにした以外は、合成例１と同様の操作を行い、粉末状の変性ヒドロキシエチルセルロース（Ｍ－ＨＥＣ－２～Ｍ－ＨＥＣ－１０）を得た。
使用したヒドロキシアルキルセルロース、疎水化剤、及びカチオン化剤を、表１に示す通りにした以外は、合成例１と同様の操作を行い、粉末状の変性ヒドロキシエチルセルロース（Ｍ－ＨＥＣ－２～Ｍ－ＨＥＣ－１０）を得た。
【0072】
合成例１１：
ＬＡ－ＥＰ ４．５ｇを、１，２－エポキシテトラデカン １２．８ｇに代えた以外は、合成例１と同様にして、粉末状の変性ヒドロキシエチルセルロース（Ｍ－ＨＥＣ－１１）を得た。
ＬＡ－ＥＰ ４．５ｇを、１，２－エポキシテトラデカン １２．８ｇに代えた以外は、合成例１と同様にして、粉末状の変性ヒドロキシエチルセルロース（Ｍ－ＨＥＣ－１１）を得た。
【0073】
【表1】
【0074】
Ｍ－ＨＥＣ－１～Ｍ－ＨＥＣ－１１において、疎水基のＲ１の、モル平均炭素数は１２、炭素数が９以上の炭化水素基の割合は１００ｍｏｌ％である。
【0075】
合成例１２：Ｃ１６ＩＯＳの合成
撹拌装置付きフラスコに、１－ヘキサデカノール（製品名：カルコール６０９８、花王株式会社製）７０００ｇと、触媒としてγ－アルミナ（Ｓｔｒｅｍ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ， Ｉｎｃ．製）７００ｇとを仕込み、撹拌下、２８０℃にて、系内に窒素（７０００ｍＬ／分）を流通させながら反応を行い、Ｃ１６オレフィン純度９９．６％の粗内部オレフィンを得た。前記粗内部オレフィンを、１３６～１６０℃、４．０ｍｍＨｇで蒸留することで、オレフィン純度１００％の炭素数１６の内部オレフィンを得た。得られた内部オレフィンの二重結合分布は、Ｃ１位２．３％、Ｃ２位２３．６％、Ｃ３位１８．９％、Ｃ４位１７．６％、Ｃ５位１３．６％、Ｃ６位１１．４％、Ｃ７位、８位の合計が７．４％であった。
前記内部オレフィンを、薄膜式スルホン化反応器に入れ、反応器外部ジャケットに２０℃の冷却水を通液する条件下で、ＳＯ３ガスを用いてスルホン化反応を行った。反応モル比（ＳＯ３／内部オレフィン）のモル比は１．００５に設定した。得られたスルホン化物を、理論酸価に対し１．０５モル倍に相当する水酸化カリウム水溶液と混合し、３０℃で１時間中和した。中和物をオートクレーブ中で１７０℃、１時間加熱することで加水分解を行い、対スルホン化物１．０質量％の過酸化水素水で脱色し、対スルホン化物０．１５質量％の亜硫酸ナトリウムで還元することで、炭素数１６の内部オレフィンスルホン酸カリウム（Ｃ１６ＩＯＳ）を得た。
Ｃ１６ＩＯＳにおけるヒドロキシ体とオレフィン体との質量比（ＨＡＳ／ＩＯＳ）は、８４／１６であった。Ｃ１６ＩＯＳの固形分中の原料内部オレフィンの含有量は０．５質量％、無機化合物は１．２質量％であった。
撹拌装置付きフラスコに、１－ヘキサデカノール（製品名：カルコール６０９８、花王株式会社製）７０００ｇと、触媒としてγ－アルミナ（Ｓｔｒｅｍ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ， Ｉｎｃ．製）７００ｇとを仕込み、撹拌下、２８０℃にて、系内に窒素（７０００ｍＬ／分）を流通させながら反応を行い、Ｃ１６オレフィン純度９９．６％の粗内部オレフィンを得た。前記粗内部オレフィンを、１３６～１６０℃、４．０ｍｍＨｇで蒸留することで、オレフィン純度１００％の炭素数１６の内部オレフィンを得た。得られた内部オレフィンの二重結合分布は、Ｃ１位２．３％、Ｃ２位２３．６％、Ｃ３位１８．９％、Ｃ４位１７．６％、Ｃ５位１３．６％、Ｃ６位１１．４％、Ｃ７位、８位の合計が７．４％であった。
前記内部オレフィンを、薄膜式スルホン化反応器に入れ、反応器外部ジャケットに２０℃の冷却水を通液する条件下で、ＳＯ３ガスを用いてスルホン化反応を行った。反応モル比（ＳＯ３／内部オレフィン）のモル比は１．００５に設定した。得られたスルホン化物を、理論酸価に対し１．０５モル倍に相当する水酸化カリウム水溶液と混合し、３０℃で１時間中和した。中和物をオートクレーブ中で１７０℃、１時間加熱することで加水分解を行い、対スルホン化物１．０質量％の過酸化水素水で脱色し、対スルホン化物０．１５質量％の亜硫酸ナトリウムで還元することで、炭素数１６の内部オレフィンスルホン酸カリウム（Ｃ１６ＩＯＳ）を得た。
Ｃ１６ＩＯＳにおけるヒドロキシ体とオレフィン体との質量比（ＨＡＳ／ＩＯＳ）は、８４／１６であった。Ｃ１６ＩＯＳの固形分中の原料内部オレフィンの含有量は０．５質量％、無機化合物は１．２質量％であった。
【0076】
実施例１～２３、及び比較例１～６
〔洗浄性能の評価〕
（１）洗浄評価用の化学繊維の調製
１Ｌのビーカーに、下記組成の組成物１．２ｍＬ、硬度が４°ｄＨである水５９８．８ｍＬ、及び６ｃｍ×６ｃｍの正方形にカットしたポリエステル布（「ポリエステルファイユ」、染色試材株式会社製）５枚を投入し、回転方向が１０秒ごとに切り替わるように設定されたモーター（新東科学株式会社製「スリーワンモーター」）に撹拌用のプロペラを接続し、２００ｒ／ｍｉｎで５分間、ビーカー内を撹拌した。
次に、２槽式洗濯機（株式会社日立製作所製、ＰＳ－Ｈ４５Ｌ形）でポリエステル布を１分間脱水した。その後、硬度が４°ｄＨである水６００ｍＬを入れた１Ｌビーカーにポリエステル布を入れ、上記の同様の条件で撹拌を行った。次に前述した２槽式洗濯機でポリエステル布を１分間脱水し、１２時間自然乾燥させた。
〔洗浄性能の評価〕
（１）洗浄評価用の化学繊維の調製
１Ｌのビーカーに、下記組成の組成物１．２ｍＬ、硬度が４°ｄＨである水５９８．８ｍＬ、及び６ｃｍ×６ｃｍの正方形にカットしたポリエステル布（「ポリエステルファイユ」、染色試材株式会社製）５枚を投入し、回転方向が１０秒ごとに切り替わるように設定されたモーター（新東科学株式会社製「スリーワンモーター」）に撹拌用のプロペラを接続し、２００ｒ／ｍｉｎで５分間、ビーカー内を撹拌した。
次に、２槽式洗濯機（株式会社日立製作所製、ＰＳ－Ｈ４５Ｌ形）でポリエステル布を１分間脱水した。その後、硬度が４°ｄＨである水６００ｍＬを入れた１Ｌビーカーにポリエステル布を入れ、上記の同様の条件で撹拌を行った。次に前述した２槽式洗濯機でポリエステル布を１分間脱水し、１２時間自然乾燥させた。
【0077】
＜組成物の組成＞
表２及び表３に示す配合組成にて、本発明の組成物を調製した。各配合量は、固形分換算（有効成分量）である。組成物の合計が１００質量部となるように、イオン交換水を配合した。使用した各成分は、以下の通りである。
・変性ヒドロキシアルキルセルロース：上記合成例１～１１で合成したＭ－ＨＥＣ－１～Ｍ－ＨＥＣ－１１
・Ｃ１２ＥＳ：ポリオキシエチレン（２）ラウリルエーテル硫酸ナトリウム、花王株式会社製「エマール ２７０Ｊ」
・Ｃ１２ＥＯ１０：ポリオキシエチレン（１０）ラウリルエーテル（ラウレス－１０）
・ＬＡＳ：ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、花王株式会社製「ネオぺレックス Ｇ－６５」
・Ｃ１２ＡＳ：ラウリル硫酸ナトリウム、花王株式会社製「エマール ２Ｆ ペースト」
・Ｃ１６ＩＯＳ：前記合成例１２で得られたＣ１６ＩＯＳ
・コカミドＤＥＡ：パーム核油脂肪酸ジエタノールアミド、花王株式会社製「アミノーン ＰＫ－０２Ｓ」
・ＨＥＣ：Ａｓｈｌａｎｄ社製「Ｎａｔｒｏｓｏｌ ２５０ＧＲ」
・Ａ－ＨＥＣ：合成例１において、疎水化剤を１，２－エポキシテトラデカン（和光純薬工業株式会社製）１１．４ｇに変更し、カチオン化剤との反応を行わなかった以外は同様にして、作製した。
・Ｃ－ＨＥＣ：合成例１において、ＧＭＡＣの量を７．８ｇに変更し、疎水化剤との反応を行わなかった以外は同様にして、作製した。
・ＳＬ１００：ダウ・ケミカル社製「ＳｏｆｔＣＡＴＴＭ ＳＬ Ｐｏｌｙｍｅｒ ＳＬ１００」
表２及び表３に示す配合組成にて、本発明の組成物を調製した。各配合量は、固形分換算（有効成分量）である。組成物の合計が１００質量部となるように、イオン交換水を配合した。使用した各成分は、以下の通りである。
・変性ヒドロキシアルキルセルロース：上記合成例１～１１で合成したＭ－ＨＥＣ－１～Ｍ－ＨＥＣ－１１
・Ｃ１２ＥＳ：ポリオキシエチレン（２）ラウリルエーテル硫酸ナトリウム、花王株式会社製「エマール ２７０Ｊ」
・Ｃ１２ＥＯ１０：ポリオキシエチレン（１０）ラウリルエーテル（ラウレス－１０）
・ＬＡＳ：ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、花王株式会社製「ネオぺレックス Ｇ－６５」
・Ｃ１２ＡＳ：ラウリル硫酸ナトリウム、花王株式会社製「エマール ２Ｆ ペースト」
・Ｃ１６ＩＯＳ：前記合成例１２で得られたＣ１６ＩＯＳ
・コカミドＤＥＡ：パーム核油脂肪酸ジエタノールアミド、花王株式会社製「アミノーン ＰＫ－０２Ｓ」
・ＨＥＣ：Ａｓｈｌａｎｄ社製「Ｎａｔｒｏｓｏｌ ２５０ＧＲ」
・Ａ－ＨＥＣ：合成例１において、疎水化剤を１，２－エポキシテトラデカン（和光純薬工業株式会社製）１１．４ｇに変更し、カチオン化剤との反応を行わなかった以外は同様にして、作製した。
・Ｃ－ＨＥＣ：合成例１において、ＧＭＡＣの量を７．８ｇに変更し、疎水化剤との反応を行わなかった以外は同様にして、作製した。
・ＳＬ１００：ダウ・ケミカル社製「ＳｏｆｔＣＡＴＴＭ ＳＬ Ｐｏｌｙｍｅｒ ＳＬ１００」
【0078】
（２）汚染布の調製
以下のモデル皮脂人工汚染液０．１ｍＬを、前記（１）において調製したポリエステル布（３６ｃｍ２）に均一に塗布し、室温にて３時間放置し、乾燥させた。
＜モデル皮脂人工汚染液＞
・オレイン酸：３５質量％
・トリオレイン：３０質量％
・スクアレン：１０質量％
・パルミチン酸２－エチルヘキシル：２５質量％
以上の混合物に、０．０２質量％のスダンIIIを混合して、モデル皮脂人工汚染液を調製した。
以下のモデル皮脂人工汚染液０．１ｍＬを、前記（１）において調製したポリエステル布（３６ｃｍ２）に均一に塗布し、室温にて３時間放置し、乾燥させた。
＜モデル皮脂人工汚染液＞
・オレイン酸：３５質量％
・トリオレイン：３０質量％
・スクアレン：１０質量％
・パルミチン酸２－エチルヘキシル：２５質量％
以上の混合物に、０．０２質量％のスダンIIIを混合して、モデル皮脂人工汚染液を調製した。
【0079】
（３）洗浄試験
上記（２）で得られた汚染布に対して、上記（１）と同様の操作を行った。
上記（２）で得られた汚染布に対して、上記（１）と同様の操作を行った。
【0080】
〔洗浄率の評価〕
汚染前のポリエステル原布、及び洗浄前後のポリエステル布の４６０ｎｍにおける反射率を測色色差計（日本電色工業株式会社製「ＳＥ－２０００」）にて測定し、次式によって洗浄率（％）を求めた。
洗浄率（％）＝１００×［（洗浄後の反射率－洗浄前の反射率）／（原布の反射率－洗浄前の反射率）］
汚染前のポリエステル原布、及び洗浄前後のポリエステル布の４６０ｎｍにおける反射率を測色色差計（日本電色工業株式会社製「ＳＥ－２０００」）にて測定し、次式によって洗浄率（％）を求めた。
洗浄率（％）＝１００×［（洗浄後の反射率－洗浄前の反射率）／（原布の反射率－洗浄前の反射率）］
【0081】
【表2】
【0082】
【表3】
【0083】
表２及び表３から明らかなように、本発明の組成物の処理により、皮脂汚れの洗浄性を向上させることが明らかとなった。
一方、カチオン性基のみが導入されたヒドロキシアルキルセルロース（Ｃ－ＨＥＣ）、疎水基のみが導入されたヒドロキシアルキルセルロース（Ａ－ＨＥＣ）、疎水基を有するカチオン性基が導入されたＳｏｆｔｃａｔでは、十分な洗浄性能が得られなかった。
アニオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤を単独で使用した場合に比して、両者を併用した場合に、高い洗浄性能が得られた。
アミド系ノニオン性界面活性剤であるコカミドＤＥＡを使用した場合に対し、使用しない場合の方が、高い洗浄性能が得られた。
一方、カチオン性基のみが導入されたヒドロキシアルキルセルロース（Ｃ－ＨＥＣ）、疎水基のみが導入されたヒドロキシアルキルセルロース（Ａ－ＨＥＣ）、疎水基を有するカチオン性基が導入されたＳｏｆｔｃａｔでは、十分な洗浄性能が得られなかった。
アニオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤を単独で使用した場合に比して、両者を併用した場合に、高い洗浄性能が得られた。
アミド系ノニオン性界面活性剤であるコカミドＤＥＡを使用した場合に対し、使用しない場合の方が、高い洗浄性能が得られた。
【産業上の利用可能性】
【0084】
本発明によれば、衣類等の対象物に処理することで、洗浄時の汚れの落ちやすさを向上させることができる。本発明の組成物は、衣類用の洗浄剤組成物として使用することが好適であり、これらの組成物で処理された衣類等に対して、洗浄性能の向上という、極めて優れた効果を付与しうる。