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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2023-03-06
(45)【発行日】2023-03-14
(54)【発明の名称】積層フィルム及びそれを用いた偏光板
(51)【国際特許分類】
G02B 5/30 20060101AFI20230307BHJP
B32B 3/30 20060101ALI20230307BHJP
B32B 7/023 20190101ALI20230307BHJP
G02F 1/1335 20060101ALI20230307BHJP
G09F 9/00 20060101ALI20230307BHJP
H10K 50/86 20230101ALI20230307BHJP
H10K 59/10 20230101ALI20230307BHJP
【ＦＩ】
G02B5/30
B32B3/30
B32B7/023
G02F1/1335 510
G09F9/00 313
G09F9/00 324
H10K50/86
H10K59/10
【請求項の数】
7
(21)【出願番号】P 2018194622
(22)【出願日】2018-10-15
(65)【公開番号】P2019124918
(43)【公開日】2019-07-25
【審査請求日】2021-06-17
(31)【優先権主張番号】P 2018002583
(32)【優先日】2018-01-11
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(31)【優先権主張番号】P 2018002584
(32)【優先日】2018-01-11
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(31)【優先権主張番号】P 2018002585
(32)【優先日】2018-01-11
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(31)【優先権主張番号】P 2018002586
(32)【優先日】2018-01-11
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(31)【優先権主張番号】P 2018002587
(32)【優先日】2018-01-11
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(73)【特許権者】
【識別番号】000003160
【氏名又は名称】東洋紡株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110000796
【氏名又は名称】弁理士法人三枝国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】井上 俊樹
(72)【発明者】
【氏名】阿部 尭永
(72)【発明者】
【氏名】柴野 博史
【審査官】中村 説志
(56)【参考文献】
【文献】特開２０１２－１１８２０１（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１５－１３２６９１（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１４－０６５８８７（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１４－０１６４２５（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１３－２００４４５（ＪＰ，Ａ）
【文献】国際公開第２０１６／１５８３００（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特開２０１７－１６１５９９（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１６－２００８１６（ＪＰ，Ａ）
【文献】国際公開第２０１３／１０００４４（ＷＯ，Ａ１）
【文献】国際公開第２０１７／１７０２１１（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特開２００７－２６１１４０（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１４－０１６４７６（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｇ０２Ｂ ５／３０
Ｂ３２Ｂ １／００ －４３／００
Ｇ０２Ｆ １／１３３５
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
下記の特徴（ａ）～（ｈ）を有する、基材フィルムと光学等方層とを有する積層フィルム、偏光子、及び液晶化合物からなる位相差層をこの順に有する偏光板。（ａ）基材フィルムの少なくとも片面は凹凸面であり、凹凸面の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．４～４μｍである。
（ｂ）基材フィルムの屈折率異方性（ΔＢｆＮｘｙ）が０．０７～０．２である。
（ｃ）基材フィルムの凹凸面上には光学等方層が設けられており、光学等方層の屈折率がＢｆｎｙ－０．１５～Ｂｆｎｘ＋０．１５であり、かつ、１．５７以上である。
（但し、基材フィルムの遅相軸方向の屈折率をＢｆｎｘ、進相軸方向の屈折率をＢｆｎｙとし、ΔＢｆＮｘｙ＝Ｂｆｎｘ－Ｂｆｎｙとする）
（ｄ）基材フィルムのリタデーション差（ΔＲｅ）が９０～８００ｎｍである。
（但し、ΔＲｅ＝Ｒａ×ΔＢｆＮｘｙである）
（ｅ）基材フィルムの面内リタデーションが３０００～３００００ｎｍである。
（ｆ）基材フィルムのＢｆｎｘが１．６７～１．７３である。
（ｇ）基材フィルムがポリエステルフィルムである。
（ｈ）光学等方層は、前記凹凸面上に他の層を介することなく直接接触して設けられているか、又は、易接着層のみを介して設けられている。
【請求項2】
前記基材フィルムの面配向度（ΔＰ）が０．０９～０．１５である請求項１に記載の偏光板。
【請求項3】
前記光学等方層の屈折率がＢｆｎｙ～Ｂｆｎｘである請求項１又は２に記載の偏光板。
【請求項4】
前記光学等方層の屈折率がＢｆｎｙ＋０．０２～Ｂｆｎｘである請求項１～３のいずれかに記載の偏光板。
【請求項5】
請求項１～４のいずれかに記載の偏光板を有する液晶表示装置。
【請求項6】
請求項１～４のいずれかに記載の偏光板を有する有機ＥＬ表示装置。
【請求項7】
ＱＤ（量子ドット）光源、及び／又は、赤色領域用にＫＳＦ蛍光体を用いた光源を有する、請求項５に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、積層フィルム及びそれを用いた偏光板に関する。
【背景技術】
【0002】
ポリエステルフィルムなどの複屈折性を有するフィルムを蛍光灯又は冷陰極管光源の環境下で使用した場合、レタデーションに起因する虹斑が生じることが知られていた。そのため、液晶ディスプレイなどに用いられる偏光子の保護フィルムには光学的に等方性を有するセルロース系のフィルムが用いられてきた。
【0003】
最近、高いレタデーションを有するフィルムを連続的な発光スペクトルを有する白色光源と組み合わせることで虹斑を解消する技術が提案されており（例えば、特許文献１、特許文献２等）、偏光サングラスに対応した偏光解消フィルム又は偏光子保護フィルムとして液晶ディスプレイ等で実用化されてきた。しかしながら、この技術は、冷陰極管光源又はＫＳＦ蛍光体（Ｋ２ＳｉＦ６結晶にＭｎを添加した蛍光体）と呼ばれるような発光スペクトルの赤色域に急峻な発光ピークを持つ光源を用いる場合に改善の余地があった。また、高いレタデーションを確保するためにはフィルムに厚みが必要であり、近年の画像表示装置の薄型化には十分対応しきれない恐れがあった。
【0004】
急峻な発光ピークを持つ光源を用いた液晶ディスプレイの偏光解消フィルムとして、複屈折を有するフィルムの表面に凹凸を設けることで肉眼で視認可能なレベルより小さな領域内で局所的にλ／４以上の位相差を発生させたフィルムが提案されている（例えば特許文献３）。しかし、かかる従来技術には、コントラストが低い、強い外光環境下では画面が白くなり画像が見えにくい、という問題点があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【文献】特開２０１１－２１５６４６号公報
【文献】国際公開第２０１１/１６２１９８号
【文献】特開２０１７－１６１５９９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
本発明は、かかる従来技術の課題を背景になされたものである。すなわち、本発明の目的は、急峻な発光ピークを持つ光源の環境下で用いる場合等に、虹斑を抑制し、高い透明性、及び鮮やかな画像表示性を確保できる位相差層付偏光板を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明者は、かかる目的を達成するために鋭意検討した結果、本発明の完成に至った。
すなわち本発明は、以下の態様を包含する。
項１．
下記（ａ）～（ｃ）の特徴を有する、基材フィルムと光学等方層とを有する積層フィルム、偏光子、及び液晶化合物からなる位相差層をこの順に有する偏光板。
（ａ）基材フィルムの少なくとも片面は凹凸面であり、凹凸面の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．２～１０μｍである。
（ｂ）基材フィルムの屈折率異方性（Ｂｆｎｘ－Ｂｆｎｙ）が０．０４～０．２である。
（ｃ）基材フィルムの凹凸面上には光学等方層が設けられており、光学等方層の屈折率がＢｆｎｙ－０．１５～Ｂｆｎｘ＋０．１５である。
（但し、基材フィルムの遅相軸方向の屈折率をＢｆｎｘ、進相軸方向の屈折率をＢｆｎｙとする）
項２．
項１に記載の偏光板を含む液晶表示装置。
項３．
項１に記載の偏光板を含む有機ＥＬ表示装置。
すなわち本発明は、以下の態様を包含する。
項１．
下記（ａ）～（ｃ）の特徴を有する、基材フィルムと光学等方層とを有する積層フィルム、偏光子、及び液晶化合物からなる位相差層をこの順に有する偏光板。
（ａ）基材フィルムの少なくとも片面は凹凸面であり、凹凸面の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．２～１０μｍである。
（ｂ）基材フィルムの屈折率異方性（Ｂｆｎｘ－Ｂｆｎｙ）が０．０４～０．２である。
（ｃ）基材フィルムの凹凸面上には光学等方層が設けられており、光学等方層の屈折率がＢｆｎｙ－０．１５～Ｂｆｎｘ＋０．１５である。
（但し、基材フィルムの遅相軸方向の屈折率をＢｆｎｘ、進相軸方向の屈折率をＢｆｎｙとする）
項２．
項１に記載の偏光板を含む液晶表示装置。
項３．
項１に記載の偏光板を含む有機ＥＬ表示装置。
【発明の効果】
【0008】
本発明の偏光板により、急峻な発光ピークを有する光源の環境下で用いる場合等に、虹斑を抑制し、高い透明性、及び鮮やかな画像表示性を確保することができる。一実施形態において、本発明の位相差層付偏光板は薄型化に適しており、液晶表示装置の光学補償機能を一体化させた偏光板として、また有機EL表示装置などの反射防止用の円偏光板として好適に用いることができる。
【発明を実施するための形態】
【0009】
偏光板は、凹凸面（粗面化面）を有する屈折率異方性の基材フィルムと光学等方層とを有する積層フィルム、偏光子、及び液晶化合物からなる位相差層をこの順に有するこのが好ましい。なお、以下、単に「積層フィルム」という場合は凹凸面（粗面化面）を有する屈折率異方性の基材フィルムと光学等方層との積層フィルムを意味する。また、積層フィルムに偏光子が積層されたものを「偏光子積層フィルム」と称する場合がある。
（基材フィルム）
まず、基材フィルムに関して説明する。
（基材フィルム）
まず、基材フィルムに関して説明する。
【0010】
少なくとも基材フィルムとしては、屈折率異方性を持たせられるものであれば特に限定はなく、ポリエステル、ポリアミド、ポリスチレン、シンジオタクチックポリスチレン、ポリアミド、ポリカーボネートなどが挙げられる。中でも屈折率異方性の高いフィルムが容易に得られる点でポリエステルが好ましい。ポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリテトラメチレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレートなどが挙げられ、中でもポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートが好ましい。これらのポリエステルは、フィルムとしての機械的物性、耐熱性、及び寸法安定性を損なわない程度（例えば１０モル％以下）であれば、テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリメチレングリコール、テトラメチレングリコール、シクロヘキサンジメタノールビスフェノールＡのエチレンオキシド（ＥＯ）１～２モル付加物等を共重合してもよい。なお、例えばポリエチレンテレフタレートの重合体であれば通常重合時に副生成物のジエチレングリコールが１～２モル共重合するが、このような副生成物を含んでいてもよい。
【0011】
基材フィルムは複屈折性を有する。基材フィルムの遅相軸方向屈折率（Ｂｆｎｘ）の下限は、好ましくは1.65であり、より好ましくは1.66であり、さらに好ましくは1.67であり、特に好ましくは1.68である。基材フィルムの遅相軸方向屈折率（Ｂｆｎｘ）の上限は、好ましくは1.73であり、より好ましくは1.72であり、さらに好ましくは1.71であり、特に好ましくは1.7である。
【0012】
基材フィルムの進相軸方向屈折率（Ｂｆｎｙ）の下限は、好ましくは1.53であり、より好ましくは1.55であり、さらに好ましくは1.56であり、特に好ましくは1.57である。基材フィルムの進相軸方向屈折率（Ｂｆｎｙ）の上限は、好ましくは1.62であり、より好ましくは1.61であり、さらに好ましくは1.6である。
【0013】
基材フィルムの屈折率異方性（ΔＢｆＮｘｙ＝Ｂｆｎｘ－Ｂｆｎｙ）の下限は、好ましくは0.04であり、より好ましくは0.05であり、さらに好ましくは0.06であり、特に好ましくは0.07である。当該下限が0.04以上であると虹斑をより効果的に解消することができる。基材フィルムの屈折率異方性の上限は、好ましくは0.2であり、より好ましくは0.18であり、さらに好ましくは0.17であり、特に好ましくは0.16である。当該上限が0.2以下であると進相軸方向の機械的強度を実用範囲に調節することができ、製造も容易になる。なお、基材フィルムの屈折率は、波長５８９ｎｍの条件で測定される値である。
【0014】
凹凸面付与前（粗面化前）の基材フィルムの厚みの下限は、好ましくは15μｍであり、より好ましくは20μｍであり、さらに好ましくは25μｍである。当該下限が15μｍ以上であれば、凹凸付与時に厚みが低減しても、優れた機械的強度を有する。凹凸面付与前の基材フィルムの厚みの上限は、好ましくは200μｍであり、より好ましくは150μｍであり、さらに好ましくは100μｍであり、特に好ましくは90μｍであり、最も好ましくは80μｍである。当該上限が200μｍ以下であれば、取り扱い性に優れており、薄型にする（例：薄型の画像表示装置に用いる）のに好適である。
【0015】
凹凸面付与前の基材フィルムの面内レタデーション（Ｒｅ）の下限は、好ましくは2000ｎｍであり、より好ましくは2500ｎｍであり、さらに好ましくは3000ｎｍであり、特に好ましくは3500ｎｍであり、最も好ましくは4000ｎｍである。当該下限が2000ｎｍ以上であると虹斑をより効果的に解消することができる。凹凸面付与前の基材フィルムの面内レタデーション（Ｒｅ）の上限は、好ましくは30000ｎｍであり、より好ましくは20000ｎｍであり、さらに好ましくは15000ｎｍであり、よりさらに好ましくは12000ｎｍであり、特に好ましくは10000ｎｍであり、より特に好ましくは9000ｎｍであり、最も好ましくは8000ｎｍであり、特に最も好ましくは7500ｎｍである。当該上限が30000ｎｍ以下であると薄型化に適する。
【0016】
凹凸面付与前の基材フィルムの面内レタデーション（Ｒｅ）と厚み方向のレタデーション（Ｒｔｈ）との比（Ｒｅ／Ｒｔｈ）の下限は、好ましくは0.2であり、より好ましくは0.5であり、さらに好ましくは0.6である。当該下限が0.2以上であると虹斑をより効果的に解消することができる。凹凸面付与前の基材フィルムのＲｅ／Ｒｔｈの上限は、機械的強度の観点で好ましくは2であり、より好ましくは1.5であり、さらに好ましくは1.2であり、特に好ましくは1である。
【0017】
基材フィルムのNz係数の下限は、好ましくは1.3であり、より好ましくは1.4であり、さらに好ましくは1.45である。当該下限が1.3以上であると進相軸方向の機械的強度も優れる。基材フィルムのNz係数の上限は、好ましくは2.5であり、より好ましくは2.2であり、さらに好ましくは2であり、特に好ましくは1.8であり、最も好ましくは1.7である。当該上限が2.5以下であると虹斑をより効果的に解消することができる。
【0018】
基材フィルムの面配向度ΔPの下限は、好ましくは0.08であり、より好ましくは0.09であり、さらに好ましくは0.1である。当該下限が0.08以上であると虹斑をより効果的に解消することができるだけでなく、フィルムの厚み斑を低減することもできる。基材フィルムの面配向度ΔPの上限は、好ましくは0.15であり、より好ましくは0.14であり、さらに好ましくは0.13である。当該上限が0.15以下であると屈折率異方性をより高く保つことができる。
【0019】
基材フィルムは屈折率異方性を持たせるため、一軸方向に配向されていることが好ましい。配向方法としては、それぞれの樹脂に合わせた通常の方法で行うことができる。例えば、溶融した樹脂を冷却ロール上にシート状に押し出して製造する場合であれば、冷却ロールを押し出される樹脂の速度以上に設定して配向させる方法、溶融して押し出された未延伸フィルムを加熱したロール群で縦方向に延伸して配向させる方法、溶融して押し出された未延伸フィルムをテンター内で加熱して横方向又は斜め方向に延伸して配向させる方法などが挙げられる。
【0020】
これらの中でも、基材フィルムの配向方法としては、溶融して押し出された未延伸フィルムを加熱したロール群で縦方向に延伸して配向させる方法、及び、溶融して押し出された未延伸フィルムをテンター内で加熱して横方向又は斜め方向に延伸して配向させる方法が好ましい。縦方向の延伸倍率としては、２．５～１０倍が好ましく、より好ましくは３～８倍であり、特に好ましくは３．３～７倍である。横方向、又は斜め方向の延伸倍率としては、２．５～１０倍が好ましく、より好ましくは３～８倍であり、特に好ましくは３．３～７倍である。
【0021】
なお、縦方向に配向させる場合であっても、配向方向に対して垂直方向の機械的強度を高めたり、収縮特性を調整するために、縦方向の延伸前に弱い（２．２倍程度以下の）横方向の延伸を加えたり、縦方向の延伸後に弱い（１．５倍程度以下の）横方向の延伸を加えてもよい。同様に、横方向に配向させる場合であっても、配向方向に対して垂直方向の機械的強度を高めたり、収縮特性を調整するために、横方向の延伸前に弱い（２．２倍程度以下の）縦方向の延伸を加えたり、横方向の延伸後に弱い（１．５倍程度以下の）縦方向の延伸を加えてもよい。また、より配向方向の配向性を上げるため、横方向の延伸時又は延伸後に縦方向に若干収縮させてもよい。収縮後の幅は、延伸時の幅に対して０．７～０．９９５倍が好ましく、さらには０．８～０．９９倍が好ましく、特には０．９～０．９８倍が好ましい。なお、縦方向の延伸、及び横方向の延伸は、テンター型の同時二軸延伸機で行ってもよい。
【0022】
延伸時の温度（及び予備加熱の温度）は、縦方向、及び横方向とも８０～１５０℃が好ましい。また、延伸後は、基材フィルムの耐熱性を確保するため、延伸時の加熱温度より高温で熱固定することが好ましい。熱固定温度としては１５０～２５０℃が好ましく、さらに好ましくは１７０～２４５℃である。
【0023】
基材フィルムは、波長３８０ｎｍの光線透過率が２０％以下であることが望ましい。波長３８０ｎｍの光線透過率は１５％以下がより好ましく、１０％以下がさらに好ましく、５％以下が特に好ましい。なお、波長３８０ｎｍの光線透過率は、フィルムの平面に対して垂直方向に測定したものであり、分光光度計（例えば、日立Ｕ－３５００型）を用いて測定することができる。
【0024】
基材フィルムの波長３８０ｎｍの光線透過率を２０％以下にするためには、基材フィルムに配合する紫外線吸収剤の種類、濃度、及び基材フィルムの厚みを適宜調節することが望ましい。本発明で使用される紫外線吸収剤としては、有機系紫外線吸収剤及び無機系紫外線吸収剤が挙げられる。透明性の観点から、有機系紫外線吸収剤が好ましい。有機系紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、環状イミノエステル系等、及びその組み合わせが挙げられるが、上述した光線透過率の範囲であれば特に限定されない。耐久性の観点からは、ベンゾトリアゾール系、及び環状イミノエステル系が特に好ましい。２種以上の紫外線吸収剤を併用した場合には、別々の波長の紫外線を同時に吸収させることができるので、より紫外線吸収効果を改善することができる。
【0025】
基材フィルムには、紫外線吸収剤以外に、本発明の効果を妨げない範囲で、各種の添加剤を含有させることも好ましい。添加剤として、例えば、無機粒子、耐熱性高分子粒子、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、リン化合物、帯電防止剤、耐光剤、難燃剤、熱安定剤、酸化防止剤、ゲル化防止剤、界面活性剤等が挙げられる。これらの添加剤は、単独で又は二種以上組み合わせて使用することができる。
また、高い透明性を奏するためには、基材フィルムに粒子を実質的に含有させないことも好ましい。「粒子を実質的に含有させない」とは、例えば無機粒子の場合、蛍光Ｘ線分析で基材フィルム中の無機元素を定量した場合に５０ｐｐｍ以下、好ましくは１０ｐｐｍ以下、特に好ましくは検出限界以下となる含有量を意味する。
また、高い透明性を奏するためには、基材フィルムに粒子を実質的に含有させないことも好ましい。「粒子を実質的に含有させない」とは、例えば無機粒子の場合、蛍光Ｘ線分析で基材フィルム中の無機元素を定量した場合に５０ｐｐｍ以下、好ましくは１０ｐｐｍ以下、特に好ましくは検出限界以下となる含有量を意味する。
【0026】
（表面凹凸付与）
本発明では、基材フィルムの少なくとも片面に凹凸面を有する。凹凸面は、基材フィルムの片面のみに設けてもよいし、両面に設けてもよい。なお、凹凸面を有する基材フィルムを、粗面化した基材フィルムと称する場合がある。
本発明では、基材フィルムの少なくとも片面に凹凸面を有する。凹凸面は、基材フィルムの片面のみに設けてもよいし、両面に設けてもよい。なお、凹凸面を有する基材フィルムを、粗面化した基材フィルムと称する場合がある。
【0027】
粗面化した基材フィルムの凹凸面の算術平均粗さ（Ra）の下限は、好ましくは0.2μｍであり、より好ましくは0.4μｍであり、さらに好ましくは0.6μｍであり、特に好ましくは0.7μｍであり、最も好ましくは0.8μｍである。当該Raの上限は、好ましくは10μｍであり、より好ましくは7μｍであり、さらに好ましくは5μｍであり、特に好ましくは4μｍであり、最も好ましくは3μｍである。
【0028】
粗面化した基材フィルムの凹凸面の二乗平均平方根粗さ（Rq）の下限は、好ましくは0.3μｍであり、より好ましくは0.5μｍであり、さらに好ましくは0.7μｍであり、特に好ましくは0.9μｍであり、最も好ましくは1μｍである。当該Rqの上限は、好ましくは13μｍであり、より好ましくは10μｍであり、さらに好ましくは7μｍであり、特に好ましくは5μｍであり、最も好ましくは4μｍである。
【0029】
粗面化した基材フィルムの凹凸面の十点平均粗さ（Rz）の下限は、好ましくは1.0μｍであり、より好ましくは2.0μｍであり、さらに好ましくは3.0μｍであり、特に好ましくは3.5μｍであり、最も好ましくは4.0μｍである。当該Rzの上限は、好ましくは15μｍであり、より好ましくは12μｍであり、さらに好ましくは10μｍであり、特に好ましくは8μｍである。
【0030】
粗面化した基材フィルムの凹凸面の最大高さ（Ry）の下限は、好ましくは2.0μｍであり、より好ましくは3.0μｍであり、さらに好ましくは4.0μｍであり、特に好ましくは4.5μｍであり、最も好ましくは5.0μｍである。当該Ryの上限は、好ましくは20μｍであり、より好ましくは17μｍであり、さらに好ましくは15μｍであり、特に好ましくは13μｍである。
【0031】
粗面化した基材フィルムの凹凸面の最大山高さ（Rp）の下限は、好ましくは1.0μｍであり、より好ましくは1.5μｍであり、さらに好ましくは2.0μｍであり、特に好ましくは2.5μｍである。当該Rpの上限は、好ましくは15μｍであり、より好ましくは12μｍであり、さらに好ましくは10μｍであり、特に好ましくは8μｍである。
【0032】
粗面化した基材フィルムの凹凸面の最大谷深さ（Rv）の下限は、好ましくは1.0μｍであり、より好ましくは1.5μｍであり、さらに好ましくは2.0μｍであり、特に好ましくは2.5μｍである。当該Rvの上限は、好ましくは15μｍであり、より好ましくは12μｍであり、さらに好ましくは10μｍであり、特に好ましくは8μｍである。
【0033】
Ra、Rq、Rz、Ry、Rp、及びRvの値が下限以上であると虹斑をより効果的に解消できる。Ra、Rq、Rz、Ry、Rp、及びRvの値が上限以上であると生産性に優れる。Ra、Rq、Rz、Ry、Rp、及びRvは、ＪＩＳ Ｂ０６０１－１９９４又はＪＩＳ Ｂ０６０１－２００１に準拠して、接触型粗さ計を用いて測定される粗さ曲線から算出される。
【0034】
基材フィルムの表面に凹凸を設ける（粗面化する）ことにより、微少領域でリタデーション差を設け、それぞれの領域でのリタデーションによる着色（虹斑）はあるものの、視覚的に着色を見えなくすることができる。このリタデーション差ΔＲｅは、ΔＲｅ＝Ｒａ×ΔＢｆＮｘｙで表すことができる。ΔＲｅの下限は、好ましくは30ｎｍであり、より好ましくは50ｎｍであり、さらに好ましくは70ｎｍであり、特に好ましくは90ｎｍであり、最も好ましくは100ｎｍである。当該下限が30ｎｍ以上であると虹斑をより効果的に解消することができる。ΔＲｅの上限は、好ましくは1500ｎｍであり、より好ましくは1000ｎｍであり、さらに好ましくは800ｎｍであり、特に好ましくは500ｎｍであり、最も好ましくは300ｎｍである。当該上限が1500ｎｍ以下であると生産性にも優れる。
【0035】
粗面化した基材フィルムの凹凸の平均間隔（Ｓｍ）の下限は、好ましくは5μｍであり、より好ましくは10μｍであり、さらに好ましくは15μｍであり、特に好ましくは20μｍであり、最も好ましくは25μｍである。当該下限が5μｍ以上であると凹凸の斜面が緩やかとなり、画像がより鮮明になる。粗面化した基材フィルムの凹凸の平均間隔（Ｓｍ）の上限は、好ましくは500μｍであり、より好ましくは450μｍであり、さらに好ましくは400μｍであり、特に好ましくは350μｍであり、最も好ましくは300μｍである。当該上限が500μｍ以下であると微少領域のそれぞれのリタデーションによる着色感、又はちらつき感を防止することができる。Ｓｍは、ＪＩＳ Ｂ０６０１－１９９４に準拠して、接触型粗さ計を用いて測定される粗さ曲線から算出される。
【0036】
凹凸を付与し、粗面化することで基材フィルムは元の厚みから薄くなることがある。粗面化した基材フィルムの厚みの下限は、好ましくは10μｍであり、より好ましくは15μｍであり、さらに好ましくは20μｍであり、特に好ましくは25μｍであり、最も好ましくは30μｍである。当該下限が10μｍ以上であると保護フィルムとしての強度を十分に確保することができる。粗面化した基材フィルムの厚みの上限は、好ましくは150μｍであり、より好ましくは120μｍであり、さらに好ましくは100μｍであり、特に好ましくは90μｍであり、最も好ましくは80μｍである。当該上限が150μｍ以下であると薄型化に適する。
粗面化した基材フィルムの厚みは、粗面化した基材フィルムをエポキシ樹脂に包埋し、断面の切片を切り出して顕微鏡観察し、凹凸面は視野の凸部と凹部の中央を基準として、等間隔で１０点の厚みを測定し、その平均値として算出される。
粗面化した基材フィルムの厚みは、粗面化した基材フィルムをエポキシ樹脂に包埋し、断面の切片を切り出して顕微鏡観察し、凹凸面は視野の凸部と凹部の中央を基準として、等間隔で１０点の厚みを測定し、その平均値として算出される。
【0037】
粗面化した基材フィルムの面内レタデーション（Ｒｅ）のの下限は、好ましくは2000ｎｍであり、より好ましくは2500ｎｍであり、さらに好ましくは3000ｎｍであり、特に好ましくは3500ｎｍであり、最も好ましくは4000ｎｍである。当該下限が2000ｎｍ以上であると虹斑をより有効に解消することができる。粗面化した基材フィルムの面内レタデーション（Ｒｅ）の上限は、好ましくは30000ｎｍであり、より好ましくは20000ｎｍであり、さらに好ましくは15000ｎｍであり、よりさらに好ましくは12000ｎｍであり、特に好ましくは10000ｎｍであり、より特に好ましくは9000ｎｍであり、最も好ましくは8000ｎｍであり、特に最も好ましくは7500ｎｍである。当該上限が30000ｎｍ以下であると薄型化に適する。
【0038】
凹凸付与方法は特に限定するものではなく、従来から知られている粗面化処理の方法が挙げられる。例えば、サンドブラスト処理、サンドペーパー又はやすり、砥石等による処理、サンダー（オービタルサンダー、ランダムサンダー、デルタサンダー、ベルトサンダー、ディスクサンダー、ロールサンダーなど）による処理、金属ブラシなどによる処理、ケミカルエッチング、金型でプレスすることによる賦型等が挙げられる。これらのうち、サンドブラスト処理、サンダーによる処理、ケミカルエッチングが好ましい。
サンドブラスト処理は、例えば、遠心式ブラスト機にロール状の基材フィルムを供給して、基材フィルム面に研磨材を投射する方法であってもよい。この場合、粗さは、研磨材の種類、研磨材の大きさ、処理時間、回転翼の速度等により調節することができる。また、サンドブラスト処理は、ガラス板に基材フィルムを貼り付け、エアーブラストにセットし、基材フィルム面に研磨材を吹きつける方法であってもよい。この場合、粗さは、研磨材の種類、研磨材の大きさ、吹きつけ圧力、処理時間等により調節することができる。
サンダーによる処理は、例えば、ロール状の基材フィルムを、フィルムの搬送ロールの一部のロール表面にサンディングペーパーを貼り付けたもの（ロールサンダー）を有する搬送装置に導き処理する方法であってもよい。この場合、粗さはサンディングペーパーの種類、ロールサンダーの回転数、フィルムの搬送速度等で調節することができる。また、処理方向は、ロールサンダーとフィルムとの抱き付け角度、ロールサンダーの回転数、フィルムの搬送速度等で調節することができる。
また、サンダーによる処理は、ガラス板にウレタンフォームを貼り付け、さらにその上に基材フィルムを貼り付け、基材フィルム面をサンダーで縦、横、斜め（４５度、１３５度）の合計４方向から処理する方法であってもよい。粗さは、サンダーのサンディングディスクの種類、処理時間等により調節することができる。
なお、サンダー処理、及びサンドブラスト処理したものは、局所突起を除くため、さらに処理表面をサンドペーパー等で研磨してもよい。
ケミカルエッチングは、酸又はアルカリ溶液に浸漬し、水洗した後、マスキングフィルムを剥離し、乾燥する方法であってもよい。粗さは、浸漬時間等により調節することができる。基本的にケミカルエッチングは両面処理になるが、片面のみ処理する場合は、例えば、基材フィルムの片面にマスキングフィルムを貼り合せて行う。
サンドブラスト処理は、例えば、遠心式ブラスト機にロール状の基材フィルムを供給して、基材フィルム面に研磨材を投射する方法であってもよい。この場合、粗さは、研磨材の種類、研磨材の大きさ、処理時間、回転翼の速度等により調節することができる。また、サンドブラスト処理は、ガラス板に基材フィルムを貼り付け、エアーブラストにセットし、基材フィルム面に研磨材を吹きつける方法であってもよい。この場合、粗さは、研磨材の種類、研磨材の大きさ、吹きつけ圧力、処理時間等により調節することができる。
サンダーによる処理は、例えば、ロール状の基材フィルムを、フィルムの搬送ロールの一部のロール表面にサンディングペーパーを貼り付けたもの（ロールサンダー）を有する搬送装置に導き処理する方法であってもよい。この場合、粗さはサンディングペーパーの種類、ロールサンダーの回転数、フィルムの搬送速度等で調節することができる。また、処理方向は、ロールサンダーとフィルムとの抱き付け角度、ロールサンダーの回転数、フィルムの搬送速度等で調節することができる。
また、サンダーによる処理は、ガラス板にウレタンフォームを貼り付け、さらにその上に基材フィルムを貼り付け、基材フィルム面をサンダーで縦、横、斜め（４５度、１３５度）の合計４方向から処理する方法であってもよい。粗さは、サンダーのサンディングディスクの種類、処理時間等により調節することができる。
なお、サンダー処理、及びサンドブラスト処理したものは、局所突起を除くため、さらに処理表面をサンドペーパー等で研磨してもよい。
ケミカルエッチングは、酸又はアルカリ溶液に浸漬し、水洗した後、マスキングフィルムを剥離し、乾燥する方法であってもよい。粗さは、浸漬時間等により調節することができる。基本的にケミカルエッチングは両面処理になるが、片面のみ処理する場合は、例えば、基材フィルムの片面にマスキングフィルムを貼り合せて行う。
【0039】
（光学等方層）
基材フィルムの凹凸面上には光学等方層が設けられていることが好ましい。光学等方層は、前記凹凸面上に接触して設けられていることが好ましい。「接触して設けられている」とは、凹凸面に他の層を介することなく直接接触して設けられていることを意味する。但し、凹凸面と光学等方層との接着力を向上させるための易接着層は設けられていてもよい。易接着層の厚みは光学的に感知されない厚みであることが好ましく、１００ｎｍ以下が好ましく、さらに好ましくは５０ｎｍ以下であり、特に好ましくは２０ｎｍ以下である。なお、易接着層が下記の光学等方層の屈折率の範囲を満たすのであれば、易接着層及びその上に設けられている光学等方層を合わせて、１つの光学等方層とみなすことができる。また、易接着層が光学等方層として十分な厚みを有するのであれば、易接着層を光学等方層とみなしてもよい。光学等方層を設けることで、基材フィルムの表面の凹凸による乱反射を低減させ、透明性を確保することができる。なお、易接着層の好ましい屈折率は、下記の光学等方層の好ましい屈折率の範囲と同様であり、その屈折率の調整方法も同様である。
基材フィルムの凹凸面上には光学等方層が設けられていることが好ましい。光学等方層は、前記凹凸面上に接触して設けられていることが好ましい。「接触して設けられている」とは、凹凸面に他の層を介することなく直接接触して設けられていることを意味する。但し、凹凸面と光学等方層との接着力を向上させるための易接着層は設けられていてもよい。易接着層の厚みは光学的に感知されない厚みであることが好ましく、１００ｎｍ以下が好ましく、さらに好ましくは５０ｎｍ以下であり、特に好ましくは２０ｎｍ以下である。なお、易接着層が下記の光学等方層の屈折率の範囲を満たすのであれば、易接着層及びその上に設けられている光学等方層を合わせて、１つの光学等方層とみなすことができる。また、易接着層が光学等方層として十分な厚みを有するのであれば、易接着層を光学等方層とみなしてもよい。光学等方層を設けることで、基材フィルムの表面の凹凸による乱反射を低減させ、透明性を確保することができる。なお、易接着層の好ましい屈折率は、下記の光学等方層の好ましい屈折率の範囲と同様であり、その屈折率の調整方法も同様である。
【0040】
光学等方層の屈折率の下限は、好ましくはＢｆｎｙ－0.15であり、より好ましくはＢｆｎｙ－0.12であり、さらに好ましくはＢｆｎｙ－0.1であり、よりさらに好ましくはＢｆｎｙ－0.08であり、特に好ましくはＢｆｎｙであり、最も好ましくはＢｆｎｙ＋0.02である。
光学等方層の屈折率の上限は、好ましくはＢｆｎｘ＋0.15であり、より好ましくはＢｆｎｘ＋0.12であり、さらに好ましくはＢｆｎｘ＋0.1であり、よりさらに好ましくはＢｆｎｘ＋0.08であり、特に好ましくはＢｆｎｘであり、最も好ましくはＢｆｎｘ－0.02である。
上記範囲にすることにより、コントラスト又は画像の鮮鋭性を維持し、強い外光があたった場合に画面が白っぽくなる現象を抑制することができる。
光学等方層の屈折率の上限は、好ましくはＢｆｎｘ＋0.15であり、より好ましくはＢｆｎｘ＋0.12であり、さらに好ましくはＢｆｎｘ＋0.1であり、よりさらに好ましくはＢｆｎｘ＋0.08であり、特に好ましくはＢｆｎｘであり、最も好ましくはＢｆｎｘ－0.02である。
上記範囲にすることにより、コントラスト又は画像の鮮鋭性を維持し、強い外光があたった場合に画面が白っぽくなる現象を抑制することができる。
【0041】
光学等方層の屈折率の下限は、好ましくは１．４４であり、より好ましくは１．４７であり、さらに好ましくは１．４９であり、よりさらに好ましくは１．５１であり、特に好ましくは１．５３であり、より特に好ましくは１．５５であり、最も好ましくは１．５７であり、特に最も好ましくは１．５９である。光学等方層の屈折率の上限は、好ましくは１．８５であり、より好ましくは１．８３であり、さらに好ましくは１．８０であり、よりさらに好ましくは１．７８であり、特に好ましくは１．７６であり、より特に好ましくは１．７４であり、最も好ましくは１．７２であり、より最も好ましくは１．７０であり、特に最も好ましくは１．６８である。上記範囲にすることによりコントラスト又は画像の鮮鋭性を維持し、強い外光があたった場合に画面が白っぽくなる現象を抑制することができる。なお、光学等方層の屈折率も、波長５８９ｎｍの条件で測定される値である。
【0042】
光学等方層の組成としては、特に限定するものではないが、アクリル、ポリスチレン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリウレタン、エポキシ樹脂、チオエポキシ樹脂等が好ましい。適宜組成を調整することで、屈折率を上記範囲に設定することが可能である。例えば、ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）の場合、一般的に屈折率は１．４９程度である。アクリル系の粘着剤では長鎖又は分岐アルキル基を導入する場合が多く、さらに屈折率が低下する。屈折率を上げるためには、芳香族基を有するアクリルモノマーを共重合するか、又はスチレンを共重合することが有効である。
ポリマー又は樹脂中にイオウ、臭素、フルオレン基などを導入することも屈折率を上げる上で好ましい方法であり、これらを含有するモノマーを共重合させたアクリル、フルオレン基含有ポリエステル、フルオレン基含有ポリカーボネート、チオエポキシ樹脂などが高屈折率樹脂として好ましい。
ポリマー又は樹脂中にイオウ、臭素、フルオレン基などを導入することも屈折率を上げる上で好ましい方法であり、これらを含有するモノマーを共重合させたアクリル、フルオレン基含有ポリエステル、フルオレン基含有ポリカーボネート、チオエポキシ樹脂などが高屈折率樹脂として好ましい。
【0043】
また、ポリマー又は樹脂中に高屈折微粒子を添加することも屈折率を調整する好適な方法である。高屈折微粒子の屈折率は１．６０～２．７４であることが好ましい。高屈折微粒子としては、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＣｅＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＢａＴｉＯ3、Ｎｂ2Ｏ5、及びＳｎＯ2等の微粒子が挙げられる。高屈折微粒子は、ＴＥＭ（透過電子顕微鏡）観察による平均一次粒子径が３ｎｍ～１００ｎｍであることが好ましい。これらの高屈折微粒子を１種又は２種以上組み合わせて用いてもよい。
なお、明細書において、「平均一次粒径」又は「一次粒子の平均粒子径」とは、体積累積の５０％粒径を指す。より詳細には、粒子の一次粒子２００個を顕微鏡観察により適切な倍率で観察し、それぞれの直径を測長してその体積を算出し、その体積累積の５０％粒径を平均一次粒径とする。
なお、明細書において、「平均一次粒径」又は「一次粒子の平均粒子径」とは、体積累積の５０％粒径を指す。より詳細には、粒子の一次粒子２００個を顕微鏡観察により適切な倍率で観察し、それぞれの直径を測長してその体積を算出し、その体積累積の５０％粒径を平均一次粒径とする。
【0044】
光学等方層は架橋硬化されていることが好ましい。硬化方法としては特に限定されず、熱硬化、紫外線、電子線などの放射線硬化が好ましい。硬化のための架橋剤としては、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、カルボジイミド、オキサゾリン化合物、メラミンなどのアミノ樹脂、多官能アクリレート等が挙げられる。
【0045】
光学等方層は、上記の成分からなるコート剤を基材フィルムの凹凸面に塗布する、離型フィルムに塗布して作製した光学等方層を基材フィルムの凹凸面に転写する、又は他のフィルム上に設けた光学等方層を基材フィルムの凹凸面に貼り合わせる等の方法で積層することができる。この場合、コート剤は、溶媒で溶解又は希釈して、塗工し易い粘度にすることが好ましい。また、コート剤は、アクリル系など放射線硬化タイプのコート剤であれば無溶剤であってもよい。
【0046】
例えば、アクリル系など放射線硬化タイプのコート剤は、通常、光重合性化合物を含有する。
【0047】
光重合性化合物としては、光重合性モノマー、光重合性オリゴマー、光重合性ポリマーが挙げられ、これらを適宜調整して用いることができる。光重合性化合物としては、光重合性モノマーと、光重合性オリゴマーまたは光重合性ポリマーとの組み合わせが好ましい。
【0048】
光重合性モノマー
光重合性モノマーは、重量平均分子量が１０００未満のものである。光重合性モノマーとしては、光重合性官能基を２つ（すなわち、２官能）以上有する多官能モノマーが好ましい。本明細書において、「重量平均分子量」は、ＴＨＦ等の溶媒に溶解して、従来公知のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法によるポリスチレン換算により得られる値である。
光重合性モノマーは、重量平均分子量が１０００未満のものである。光重合性モノマーとしては、光重合性官能基を２つ（すなわち、２官能）以上有する多官能モノマーが好ましい。本明細書において、「重量平均分子量」は、ＴＨＦ等の溶媒に溶解して、従来公知のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法によるポリスチレン換算により得られる値である。
【0049】
多官能モノマーとしては、例えば、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート、ポリエステルトリ（メタ）アクリレート、ポリエステルジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールジ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、アダマンチルジ（メタ）アクリレート、イソボロニルジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、これらをＰＯ、ＥＯ等で変性したものが挙げられる。
【0050】
これらの中でも硬度が高い機能層を得る観点から、ペンタエリスリトールトリアクリレート(ＰＥＴＡ）、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＤＰＰＡ）等が好ましい。
【0051】
光重合性オリゴマー
光重合性オリゴマーは、重量平均分子量が１０００以上１００００未満のものである。光重合性オリゴマーとしては、２官能以上の多官能オリゴマーが好ましい。多官能オリゴマーとしては、ポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル－ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、イソシアヌレート（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
光重合性オリゴマーは、重量平均分子量が１０００以上１００００未満のものである。光重合性オリゴマーとしては、２官能以上の多官能オリゴマーが好ましい。多官能オリゴマーとしては、ポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル－ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、イソシアヌレート（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【0052】
光重合性ポリマー
光重合性ポリマーは、重量平均分子量が１００００以上のものであり、重量平均分子量としては１００００以上８００００以下が好ましく、１００００以上４００００以下がより好ましい。重量平均分子量が８００００を超える場合は、粘度が高いため塗工適性が低下してしまい、得られる積層フィルムの外観が悪化するおそれがある。光重合性ポリマーとしては、２官能以上の多官能ポリマーが好ましい。多官能ポリマーとしては、ウレタン（メタ）アクリレート、イソシアヌレート（メタ）アクリレート、ポリエステル－ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
光重合性ポリマーは、重量平均分子量が１００００以上のものであり、重量平均分子量としては１００００以上８００００以下が好ましく、１００００以上４００００以下がより好ましい。重量平均分子量が８００００を超える場合は、粘度が高いため塗工適性が低下してしまい、得られる積層フィルムの外観が悪化するおそれがある。光重合性ポリマーとしては、２官能以上の多官能ポリマーが好ましい。多官能ポリマーとしては、ウレタン（メタ）アクリレート、イソシアヌレート（メタ）アクリレート、ポリエステル－ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【0053】
コート剤には、上記成分の他に重合開始剤、架橋剤の触媒、重合禁止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、レベリング剤、界面活性剤などが含まれていてもよい。
【0054】
また、基材フィルムの凹凸面上に溶融させた光学等方層組成物を押し出して積層する、基材フィルムの凹凸面と別のフィルムとの間に溶融させた光学等方層組成物を押し出してラミネートするなどの方法も好ましい。
【0055】
光学等方層は凹凸面に設けられることで凹凸面の乱反射を低減する機能を有するが、併せて他の機能を持つものであってもよい。光学等方層は、例えば、ハードコート層、反射防止層、防眩層、帯電防止層などの機能を有していてもよい。また、光学等方層は、他のフィルム又はシート、装置の構成部材と貼り合わせるための粘着剤層、又は接着剤層であってもよい。
【0056】
光学等方層の厚みの下限は、好ましくは0.5μｍであり、より好ましくは1.0μｍであり、さらに好ましくは2μｍであり、特に好ましくは3μｍであり、最も好ましくは4μｍである。当該厚みが0.5μｍ以上であると、基材フィルムの凹凸を平坦化しヘイズを低減することができ、鮮明性を向上することができる。
光学等方層の厚みの上限は、好ましくは30μｍであり、より好ましくは25μｍであり、さらに好ましくは20μｍであり、特に好ましくは15μｍであり、最も好ましくは10μｍである。当該厚みが30μｍ以下であると薄型化に適する。
光学等方層の厚みは、後述の積層フィルムの厚みから、粗面化した基材フィルムの厚みを引いた値である。
光学等方層の厚みの上限は、好ましくは30μｍであり、より好ましくは25μｍであり、さらに好ましくは20μｍであり、特に好ましくは15μｍであり、最も好ましくは10μｍである。当該厚みが30μｍ以下であると薄型化に適する。
光学等方層の厚みは、後述の積層フィルムの厚みから、粗面化した基材フィルムの厚みを引いた値である。
【0057】
光学等方層の面内レタデーションの上限は、虹斑の発生を抑制する観点で、好ましくは50ｎｍであり、より好ましくは30ｎｍであり、さらに好ましくは10ｎｍであり、特に好ましくは5ｎｍである。
【0058】
光学等方層の最も屈折率の高い方向の屈折率と最も屈折率の低い方向の屈折率との屈折率差の上限は、虹斑の発生を抑制する観点で、好ましくは0.01であり、より好ましくは0.007であり、さらに好ましくは0.005であり、特に好ましくは0.003であり、最も好ましくは0.002である。
【0059】
（積層フィルム）
積層フィルムの厚みの下限は、好ましくは１２μｍであり、より好ましくは１５μｍであり、さらに好ましくは１８μｍであり、特に好ましくは２０μｍである。当該下限が１２μｍ以上であると積層フィルムの強度に優れ、製造又はその後の加工の取り扱いが容易になる。
積層フィルムの厚みの上限は、好ましくは１８０μｍであり、より好ましくは１５０μｍであり、さらに好ましくは１２０μｍであり、特に好ましくは１００μｍであり、最も好ましくは９０μｍである。当該上限が１８０μｍ以下であると、各種用途での薄型化に適する。
積層フィルムの厚みは、積層フィルムをエポキシ樹脂に包埋し、断面の切片を切り出して顕微鏡観察し、等間隔で１０点の厚みを測定し、その平均値として算出される。
積層フィルムの厚みの下限は、好ましくは１２μｍであり、より好ましくは１５μｍであり、さらに好ましくは１８μｍであり、特に好ましくは２０μｍである。当該下限が１２μｍ以上であると積層フィルムの強度に優れ、製造又はその後の加工の取り扱いが容易になる。
積層フィルムの厚みの上限は、好ましくは１８０μｍであり、より好ましくは１５０μｍであり、さらに好ましくは１２０μｍであり、特に好ましくは１００μｍであり、最も好ましくは９０μｍである。当該上限が１８０μｍ以下であると、各種用途での薄型化に適する。
積層フィルムの厚みは、積層フィルムをエポキシ樹脂に包埋し、断面の切片を切り出して顕微鏡観察し、等間隔で１０点の厚みを測定し、その平均値として算出される。
【0060】
積層フィルムのヘイズの上限は、好ましくは10％であり、より好ましくは7％であり、さらに好ましくは5％であり、特に好ましくは4％であり、最も好ましくは3％であり、より最も好ましくは2.5％であり、特に最も好ましくは2％である。当該上限が10％以下であると、コントラストの低下、及び、強い外光があたった場合に画面が白っぽくなることをより有効に抑制することができる。
【0061】
積層フィルムは基材フィルムの片面のみが凹凸面であってもよいが、基材フィルムのΔRｅが比較的低くかったり、凹凸の粗さが比較的小さかったりして虹斑が十分に解消されない場合は、両面に凹凸面と光学等方層を設けることが好ましい。
【0062】
本発明の積層フィルムは、凹凸面（粗面化面）を有する基材フィルムを２枚以上有していてもよく、光学等方層を２層以上有していてもよく、凹凸面（粗面化面）を有する基材フィルムと光学等方層以外のフィルム又は層を有していてもよい。
積層例としては、下記のタイプ１～４などが挙げられる。
（タイプ１）基材フィルム（凹凸面）／光学等方層（接着剤又は粘着剤）／他のフィルム
（タイプ２）基材フィルム（凹凸面）／光学等方層（接着剤又は粘着剤）／（凹凸面）基材フィルム
（タイプ３）基材フィルム（凹凸面）／光学等方層（接着剤又は粘着剤）／他のフィルム／光学等方層（接着剤又は粘着剤）／（凹凸面）基材フィルム
（タイプ４）他のフィルム／光学等方層（接着剤又は粘着剤）／（凹凸面）基材フィルム（凹凸面）／光学等方層（接着剤又は粘着剤）／他のフィルム
屈折率異方性の基材フィルムのΔＢｆＮｘｙが比較的小さかったり、凹凸の粗さが比較的小さい場合は、タイプ２～タイプ４の構成を採ることが好ましい。なお、以下の本発明の積層フィルムの用途等の説明で、積層フィルムという場合には上記タイプ１～４の構成も含むものとする。タイプ２～タイプ４の場合、２枚の基材フィルムの遅相軸は、互いに平行又は垂直であることが好ましく、製造の容易さからは平行であることが好ましい。ここで、「平行又は垂直」とは０度又は９０度から好ましくは±１０度、さらには±７度、特には±５度まで許容される。
積層例としては、下記のタイプ１～４などが挙げられる。
（タイプ１）基材フィルム（凹凸面）／光学等方層（接着剤又は粘着剤）／他のフィルム
（タイプ２）基材フィルム（凹凸面）／光学等方層（接着剤又は粘着剤）／（凹凸面）基材フィルム
（タイプ３）基材フィルム（凹凸面）／光学等方層（接着剤又は粘着剤）／他のフィルム／光学等方層（接着剤又は粘着剤）／（凹凸面）基材フィルム
（タイプ４）他のフィルム／光学等方層（接着剤又は粘着剤）／（凹凸面）基材フィルム（凹凸面）／光学等方層（接着剤又は粘着剤）／他のフィルム
屈折率異方性の基材フィルムのΔＢｆＮｘｙが比較的小さかったり、凹凸の粗さが比較的小さい場合は、タイプ２～タイプ４の構成を採ることが好ましい。なお、以下の本発明の積層フィルムの用途等の説明で、積層フィルムという場合には上記タイプ１～４の構成も含むものとする。タイプ２～タイプ４の場合、２枚の基材フィルムの遅相軸は、互いに平行又は垂直であることが好ましく、製造の容易さからは平行であることが好ましい。ここで、「平行又は垂直」とは０度又は９０度から好ましくは±１０度、さらには±７度、特には±５度まで許容される。
【0063】
なお、明細書中で粘着剤、又は粘着層という場合は、対象物に粘着剤用のコート剤を塗工して架橋又は乾燥させたもの、又は基材レスの光学用粘着剤シートを転写したものを意味する。
【0064】
積層フィルムは各用途に合わせて、表面に各種の機能層を設けてもよい。各種の機能層とは、ハードコート層、防眩層、反射防止層、低反射層、導電層、帯電防止層、着色層、紫外線吸収層、防汚層、粘着層等が挙げられる。
【0065】
（偏光子）
偏光板に用いる偏光子の種類は特に制限されない。例えば、一軸延伸したポリビニルアルコール（ＰＶＡ）にヨウ素や有機系の二色性色素を吸着させた偏光子、液晶化合物と有機系の二色性色素を配向させた偏光子、液晶性の二色性色素からなる液晶性の偏光子、ワイヤーグリッド方式の偏光子などを挙げることができる。
偏光板に用いる偏光子の種類は特に制限されない。例えば、一軸延伸したポリビニルアルコール（ＰＶＡ）にヨウ素や有機系の二色性色素を吸着させた偏光子、液晶化合物と有機系の二色性色素を配向させた偏光子、液晶性の二色性色素からなる液晶性の偏光子、ワイヤーグリッド方式の偏光子などを挙げることができる。
【0066】
一軸延伸したポリビニルアルコール（ＰＶＡ）にヨウ素や有機系の二色性色素を吸着させたフィルム状の偏光子の場合は、偏光子の少なくとも片側に積層フィルムを積層させ、偏光板とすることができる。積層は、ＰＶＡ系の接着剤、紫外線硬化型の接着剤、粘着剤を用いて行うことができる。また、凹凸を設けた屈折率異方性のフィルムの凹凸面と偏光子とを光学等方層に該当する特性を有する接着剤または粘着剤で貼り合わせても良い。この場合、屈折率異方性のフィルムと接着剤または粘着剤が本発明における凹凸面を有する屈折率異方性の基材フィルムと光学等方層を有する積層フィルムとなる。このタイプの偏光子の厚みは、例えば、５～５０μｍ、好ましくは１０～３０μｍ、より好ましくは１２～２５μｍである。接着剤や粘着剤の厚さは、例えば、１～１０μｍ、好ましくは２～５μｍである。
【0067】
一実施形態において、未延伸または一軸延伸した基材にＰＶＡを塗工し、基材と共に一軸延伸してヨウ素や有機系の二色性色素を吸着させた偏光子（基材積層延伸偏光子）が好ましい。この場合、基材に積層された偏光子と積層フィルムとを接着剤または粘着剤で貼り合わせ、その後偏光子を作成する時に用いた基材フィルムを剥離することで、偏光板とすることができる。また、凹凸を設けた屈折率異方性のフィルムの凹凸面と偏光子とを光学等方層に該当する特性を有する接着剤または粘着剤で貼り合わせても良い。偏光子の厚みは、例えば、１～１０μｍ、好ましくは２～８μｍ、より好ましくは３～６μｍである。接着剤や粘着剤の厚さは、例えば、１～１０μｍ、好ましくは２～５μｍである。
【0068】
この様に非常に薄い偏光子であっても離型性支持基材があるために取り扱いが容易であり、薄型の偏光子をポリエステル基材フィルムに容易に積層させることができる。このような薄型の偏光子を用いることでさらに薄型化に対応することができる。このような偏光子は、例えば、特開２００１－３５００２１号公報、特開２００９－９３０７４号公報など多く紹介されている。
【0069】
上記の偏光子は、例えば、次のような手順で得ることができる。未延伸又は長手方向に対して垂直方向に一軸延伸された熱可塑性樹脂の離型性支持基材にＰＶＡを塗布し、その後ＰＶＡを塗布した熱可塑性樹脂の離型性支持基材とＰＶＡの積層体を長手方向に２～２０倍、好ましくは３～１５倍に延伸する。延伸温度は好ましくは８０～１８０℃、さらに好ましくは１００～１６０℃である。引き続き延伸された積層体を二色性色素を含有する浴に浸漬し二色性色素を吸着させる。二色性色素としては、例えば、ヨウ素や有機染料等が挙げられる。ヨウ素を用いる場合は、ヨウ素とヨウ化カリウムの水溶液が好ましい。次いで、ホウ酸の水溶液に浸漬して処理を行い、水洗後、乾燥させる。なお、二色性色素の吸着前に予備延伸として１．５～３倍の延伸を行っても良い。この手順は一例であり、延伸前に二色性色素の吸着を行ってもよく、二色性色素の吸着前にホウ酸での処理を行ってもよい。二色性色素を含有する浴内やホウ酸水溶液の浴中で延伸しても良い。また、これらの工程を多段階に分けて組み合わせて行っても良い。
【0070】
熱可塑性樹脂の離型性支持基材としては、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル、ポリプロピレン、ポリエチレンなどのポリオレフィン、ポリアミド、ポリウレタンなどが用いられる。熱可塑性樹脂の離型性支持基材には、コロナ処理を行ったり、離型コートや易接着コートなどを設け、剥離力を調整することができる。
【0071】
液晶性の偏光子は、積層フィルムに液晶化合物と有機系の二色性色素を配向させたものや液晶性の二色性色素を含有するコート液を塗工後、乾燥させ、光または熱硬化させて偏光子を積層し、偏光板とすることができる。液晶性の偏光子を配向させる方法としては、積層フィルムの表面をラビング処理する方法、偏光の紫外線を照射して液晶性の偏光子を配向させながら硬化させる方法などが挙げられる。なお、積層フィルムの基材面には、ある程度の配向制御力があるため、塗布のみでも配向が可能な場合がある。また、液晶性の偏光子を設ける前に、積層フィルムに配向層を設けることも好ましい方法である。配向層を設ける方法としては、下記を挙げることができる。
・ポリビニルアルコールおよびその誘導体、ポリイミドおよびその誘導体、アクリル樹脂、ポリシロキサン誘導体などを塗工しその表面をラビング処理して配向層（ラビング配向層）とする方法。
・シンナモイル基及びカルコン基等の光反応性基を有するポリマー又はモノマーと溶剤とを含む塗工液を基材フィルムに塗布し、偏光紫外線を照射することによって配向硬化させ配向層（光配向層）とする方法。
なお、凹凸を設けた屈折率異方性のフィルムの凹凸面に光学等方層に該当する特性を有するラビング配向層を設けて凹凸面を有する屈折率異方性の基材フィルムと光学等方性を有するラビング配向層とで積層フィルムを構成してもよい。
・ポリビニルアルコールおよびその誘導体、ポリイミドおよびその誘導体、アクリル樹脂、ポリシロキサン誘導体などを塗工しその表面をラビング処理して配向層（ラビング配向層）とする方法。
・シンナモイル基及びカルコン基等の光反応性基を有するポリマー又はモノマーと溶剤とを含む塗工液を基材フィルムに塗布し、偏光紫外線を照射することによって配向硬化させ配向層（光配向層）とする方法。
なお、凹凸を設けた屈折率異方性のフィルムの凹凸面に光学等方層に該当する特性を有するラビング配向層を設けて凹凸面を有する屈折率異方性の基材フィルムと光学等方性を有するラビング配向層とで積層フィルムを構成してもよい。
【0072】
次に、液晶性化合物に二色性色素を配合した塗工偏光子に関して詳しく説明する。発明において、基材となる積層フィルム上に直接偏光膜を設けても良いが、積層フィルム上に配向層を設け、その上に偏光膜を設けても良い。なお、本発明において、配向膜と偏光膜を総称して偏光子と呼ぶことがあり、積層フィルム上に配向膜を設けずに偏光膜を設けた場合、偏光膜を偏光子と称することがある。
【0073】
（配向層）
配向層は偏光膜の配向方向を制御することで、より偏光度の高い偏光膜を与えることができる。配向層としては、偏光膜の液晶化合物を所望の配向状態にすることができるものであれば、どのような配向層でもよい。配向層に配向状態を与える方法としては、例えば、表面へのラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成などが挙げられる。さらに、偏光の光照射により分子を配向させて配向機能を生じさせる光配向層とする方法も好ましい。以下に好ましいラビング処理配向層と光配向層の２例を説明する。
配向層は偏光膜の配向方向を制御することで、より偏光度の高い偏光膜を与えることができる。配向層としては、偏光膜の液晶化合物を所望の配向状態にすることができるものであれば、どのような配向層でもよい。配向層に配向状態を与える方法としては、例えば、表面へのラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成などが挙げられる。さらに、偏光の光照射により分子を配向させて配向機能を生じさせる光配向層とする方法も好ましい。以下に好ましいラビング処理配向層と光配向層の２例を説明する。
【0074】
（ラビング処理配向層）
ラビング処理により形成される配向層に用いられるポリマー材料としては、ポリビニルアルコールおよびその誘導体、ポリイミドおよびその誘導体、アクリル樹脂、ポリシロキサン誘導体などが好ましく用いられる。
ラビング処理により形成される配向層に用いられるポリマー材料としては、ポリビニルアルコールおよびその誘導体、ポリイミドおよびその誘導体、アクリル樹脂、ポリシロキサン誘導体などが好ましく用いられる。
【0075】
まず、上記のポリマー材料を含むラビング処理配向層塗布液を基板フィルム上に塗布した後、加熱乾燥等を行ない、ラビング処理前の配向層を得る。配向層塗布液は架橋剤を有していても良い。
【0076】
ラビング処理配向層塗布液の溶剤としては、ポリマー材料を溶解するものであれば制限なく用いることができる。具体例としては、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、セロソルブ、などのアルコール；酢酸エチル、酢酸ブチル、ガンマーブチロラクトン、などのエステル系溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、などのケトン系溶剤；トルエン又はキシレンなどの芳香族炭化水素溶剤、；テトラヒドロフラン又はジメトキシエタンなどのエーテル系溶剤などが挙げられる。これら溶剤は、単独で用いてもよいし、組み合わせてもよい。
【0077】
ラビング処理配向層塗布液の濃度は、ポリマーの種類や製造しようとする配向層の厚みによって適宜調節できるが、固形分濃度で表して、０．２～２０質量％とすることが好ましく、０．３～１０質量％の範囲が特に好ましい。
【0078】
塗布方法としては、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、バーコーティング法及びアプリケータ法などの塗布法や、フレキソ法などの印刷法などの公知の方法が挙げられる。
【0079】
加熱乾燥の温度は、基材フィルムにもよるが、ＰＥＴの場合３０℃～１７０℃の範囲が好ましく、より好ましくは、５０～１５０℃、さらに好ましくは、７０～１３０℃である。乾燥温度が低い場合は乾燥時間を長く取る必要が生じ生産性に劣る場合がある。乾燥温度が高すぎる場合、基材フィルムの配向状態に影響を及ぼし、レタデーションが低下したり、基材フィルムの熱収縮が大きくななったりし、設計通りの光学機能が達成できない、平面性が悪くなるといった場合がある。加熱乾燥時間は例えば０．５～３０分であればよく、１～２０分がより好ましく、さらには２～１０分がより好ましい。
【0080】
ラビング処理配向層の厚さは、０．０１～１０μｍであることが好ましく、さらには０．０５～５μｍ、特には０．１μｍ～１μｍであることが好ましい。
【0081】
ラビング処理は、一般にはポリマー層の表面を、紙や布で一定方向に擦ることにより実施することができる。一般的には、ナイロン、ポリエステル、アクリルなどの繊維の起毛布のラビングローラーを用い、配向膜表面をラビング処理する。
【0082】
ラビングする方向の角度の調整は、ラビングローラーと基材フィルムとの角度調整、基材フィルムの搬送速度とローラーの回転数の調整で行うことが出来る。
【0083】
なお、基材フィルムに直接ラビング処理を行い基材フィルム表面に配向層機能を持たせることも可能で、この場合も本発明の技術範囲に含まれる。
【0084】
（光配向層）
光配向層とは、光反応性基を有するポリマー又はモノマーと溶剤とを含む塗工液を基材フィルムに塗布し、偏光、好ましくは偏光紫外線を照射することによって配向規制力を付与した配向膜のことをいう。光反応性基とは、光照射により液晶配向能を生じる基をいう。具体的には、光を照射することで生じる分子の配向誘起又は異性化反応、二量化反応、光架橋反応、あるいは光分解反応のような、液晶配向能の起源となる光反応を生じるものである。当該光反応性基の中でも、二量化反応又は光架橋反応を起こすものが、配向性に優れ、偏光膜のスメクチック液晶状態を保持する点で好ましい。以上のような反応を生じうる光反応性基としては、不飽和結合、特に二重結合であると好ましく、Ｃ＝Ｃ結合、Ｃ＝Ｎ結合、Ｎ＝Ｎ結合、Ｃ＝Ｏ結合からなる群より選ばれる少なくとも一つを有する基が特に好ましい。
光配向層とは、光反応性基を有するポリマー又はモノマーと溶剤とを含む塗工液を基材フィルムに塗布し、偏光、好ましくは偏光紫外線を照射することによって配向規制力を付与した配向膜のことをいう。光反応性基とは、光照射により液晶配向能を生じる基をいう。具体的には、光を照射することで生じる分子の配向誘起又は異性化反応、二量化反応、光架橋反応、あるいは光分解反応のような、液晶配向能の起源となる光反応を生じるものである。当該光反応性基の中でも、二量化反応又は光架橋反応を起こすものが、配向性に優れ、偏光膜のスメクチック液晶状態を保持する点で好ましい。以上のような反応を生じうる光反応性基としては、不飽和結合、特に二重結合であると好ましく、Ｃ＝Ｃ結合、Ｃ＝Ｎ結合、Ｎ＝Ｎ結合、Ｃ＝Ｏ結合からなる群より選ばれる少なくとも一つを有する基が特に好ましい。
【0085】
Ｃ＝Ｃ結合を有する光反応性基としては例えば、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾ－ル基、スチルバゾリウム基、カルコン基及びシンナモイル基などが挙げられる。Ｃ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、芳香族シッフ塩基及び芳香族ヒドラゾンなどの構造を有する基が挙げられる。Ｎ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基及びホルマザン基などや、アゾキシベンゼンを基本構造とするものが挙げられる。Ｃ＝Ｏ結合を有する光反応性基としては、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基及びマレイミド基などが挙げられる。これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリ－ル基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基及びハロゲン化アルキル基などの置換基を有していてもよい。
【0086】
上記の中でも、光二量化反応を起こしうる光反応性基が好ましく、シンナモイル基及びカルコン基が、光配向に必要な偏光照射量が比較的少なく、かつ、熱安定性や経時安定性に優れる光配向層が得られやすいため好ましい。光反応性基を有するポリマーとしては、当該ポリマー側鎖の末端部が桂皮酸構造となるようなシンナモイル基を有するものが特に好ましい。主鎖の構造としては、ポリイミド、ポリアミド、（メタ）アクリル、ポリエステル等が挙げられる。
【0087】
具体的な配向層は、例えば、特開２００６－２８５１９７号公報、特開２００７－７６８３９号公報、特開２００７－１３８１３８号公報、特開２００７－９４０７１号公報、特開２００７－１２１７２１号公報、特開２００７－１４０４６５号公報、特開２００７－１５６４３９号公報、特開２００７－１３３１８４号公報、特開２００９－１０９８３１号公報、特開２００２－２２９０３９号公報、特開２００２－２６５５４１号公報、特開２００２－３１７０１３号公報、特表２００３－５２０８７８号公報、特表２００４－５２９２２０号公報、特開２０１３－３３２４８号公報、特開２０１５－７７０２号公報、特開２０１５－１２９２１０号公報に記載の配向層が挙げられる。
【0088】
光配向層形成用塗工液の溶剤としては、光反応性基を有するポリマー及びモノマーを溶解するものであれば制限なく用いることができる。具体例としてはラビング処理配向層で挙げたものが例示できる。光配向層形成用塗工液には、光重合開始剤、重合禁止剤、各種安定剤を添加することも好ましい。また、光反応性基を有するポリマー及びモノマー以外のポリマーや光反応性基を有するモノマーと共重合可能な光反応性基を有しないモノマーを加えていても良い。
【0089】
光配向層形成用塗工液の濃度、塗布方法、乾燥条件もラビング処理配向層で挙げたものが例示できる。厚みもラビング処理配向層の好ましい厚みと同様である。
【0090】
この様にして得られた配向前の光配向層に偏光を照射することにより、光配向層が得られる。
【0091】
偏光は、配向前の光配向層に配向層面から照射してもよい。なお、光配向膜の配向方向を積層フィルムの基材フィルムの配向方向と平行又は垂直とする場合は積層フィルムを透過させて照射してもよい。
【0092】
偏光の波長は、光反応性基を有するポリマー又はモノマーの光反応性基が、光エネルギーを吸収できる波長領域のものが好ましい。具体的には、波長２５０～４００ｎｍの範囲の紫外線が好ましい。
【0093】
偏光の光源は、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ＫｒＦ、ＡｒＦなどの紫外光レ－ザ－などが挙げられ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ及びメタルハライドランプが好ましい。
【0094】
偏光は、例えば前記光源からの光を、偏光子を通過させることにより得られる。前記偏光子の偏光角を調整することにより、偏光の方向を調整することができる。前記偏光子は、偏光フィルターやグラントムソン、グランテ－ラ－等の偏光プリズムやワイヤーグリッドタイプの偏光子が挙げられる。偏光は、実質的に平行光であると好ましい。
【0095】
照射する偏光の角度を調整することにより、光配向層の配向規制力の方向を任意に調整することができる。
【0096】
照射強度は重合開始剤や樹脂（モノマー）の種類や量で異なるが、例えば３６５ｎｍ基準で１０～１００００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、さらには２０～５０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましい。
【0097】
（偏光膜）
偏光膜は一方向のみの偏光を通過させる偏光子としての機能を有し、二色性色素を含む。
偏光膜は一方向のみの偏光を通過させる偏光子としての機能を有し、二色性色素を含む。
【0098】
（二色性色素）
二色性色素とは、分子の長軸方向における吸光度と、短軸方向における吸光度とが異なる性質を有する色素をいう。
二色性色素とは、分子の長軸方向における吸光度と、短軸方向における吸光度とが異なる性質を有する色素をいう。
【0099】
二色性色素は、３００～７００ｎｍの範囲に吸収極大波長（λＭＡＸ）を有するものが好ましい。このような二色性色素は、例えば、アクリジン色素、オキサジン色素、シアニン色素、ナフタレン色素、アゾ色素及びアントラキノン色素などが挙げられるが、中でもアゾ色素が好ましい。アゾ色素は、モノアゾ色素、ビスアゾ色素、トリスアゾ色素、テトラキスアゾ色素及びスチルベンアゾ色素などが挙げられ、好ましくはビスアゾ色素及びトリスアゾ色素である。二色性色素は単独でも、組み合わせても良いが、色調を調整（無彩色）にするため、２種以上を組み合わせることが好ましい。特には３種類以上を組み合わせるのが好ましい。特に、３種類以上のアゾ化合物を組み合わせるのが好ましい。
【0100】
好ましいアゾ化合物としては、特開２００７－１２６６２８号公報、特開２０１０－１６８５７０号、特開２０１３－１０１３２８号、特開２０１３－２１０６２４号に記載の色素が挙げられる。
【0101】
二色性色素はアクリルなどのポリマーの側鎖に導入された二色性色素ポリマーであることも好ましい形態である。これら二色性色素ポリマーとしては特開２０１６－４０５５号で挙げられるポリマー、特開２０１４－２０６６８２号の［化６］～［化１２］の化合物が重合されたポリマーが例示できる。
【0102】
偏光膜中の二色性色素の含有量は、二色性色素の配向を良好にする観点から、偏光膜中、０．１～３０質量％が好ましく、０．５～２０質量％がより好ましく、１．０～１５質量％がさらに好ましく、２．０～１０質量％が特に好ましい。
【0103】
偏光膜には、膜強度や偏光度、膜均質性の向上のため、さらに重合性液晶化合物が含まれていることが好ましい。なお、ここで重合性液晶化合物は膜として重合後の物も含まれる。
【0104】
（重合性液晶化合物）
重合性液晶化合物とは、重合性基を有し、かつ、液晶性を示す化合物である。重合性基とは、重合反応に関与する基を意味し、光重合性基であることが好ましい。光重合性基は、後述する光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸などによって重合反応し得る基のことをいう。重合性基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１－クロロビニル基、イソプロペニル基、４－ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。液晶性を示す化合物は、サーモトロピック性液晶でもリオトロピック液晶でもよく、また、サーモトロピック液晶における、ネマチック液晶でもスメクチック液晶でもよい。
重合性液晶化合物とは、重合性基を有し、かつ、液晶性を示す化合物である。重合性基とは、重合反応に関与する基を意味し、光重合性基であることが好ましい。光重合性基は、後述する光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸などによって重合反応し得る基のことをいう。重合性基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１－クロロビニル基、イソプロペニル基、４－ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。液晶性を示す化合物は、サーモトロピック性液晶でもリオトロピック液晶でもよく、また、サーモトロピック液晶における、ネマチック液晶でもスメクチック液晶でもよい。
【0105】
重合性液晶化合物は、より高い偏光特性が得られるという点でスメクチック液晶化合物が好ましく、高次スメクチック液晶化合物がより好ましい。重合性液晶化合物が形成する液晶相が高次スメクチック相であると、配向秩序度のより高い偏光膜を製造することができる。
【0106】
具体的な好ましい重合性液晶化合物は、例えば、特開２００２－３０８８３２号公報、特開２００７－１６２０７号公報、特開２０１５－１６３５９６号公報、特表２００７－５１０９４６号公報、特開２０１３－１１４１３１号公報、ＷＯ２００５／０４５４８５号公報、Ｌｕｂ ｅｔ ａｌ． Ｒｅｃｌ．Ｔｒａｖ．Ｃｈｉｍ．Ｐａｙｓ－Ｂａｓ，１１５， ３２１－３２８（１９９６）などに記載のものが挙げられる。
【0107】
偏光膜中の重合性液晶化合物の含有割合は、重合性液晶化合物の配向性を高くするという観点から、偏光膜中７０～９９．５質量％が好ましく、より好ましくは７５～９９質量％、さらに好ましくは８０～９７質量％であり、特に好ましくは８３～９５質量％である。
【0108】
偏光膜は偏光膜組成物塗料を塗工して設けることができる。偏光膜組成物塗料は、溶剤、重合開始剤、増感剤、重合禁止剤、レベリング剤及び、重合性非液晶化合物、架橋剤等を含んでもよい。
【0109】
溶剤としては、配向層塗布液の溶剤として挙げたものが好ましく用いられる。
【0110】
重合開始剤は、重合性液晶化合物を重合させるものであれば限定はされないが、光により活性ラジカルを発生する光重合開始剤が好ましい。重合開始剤としては、例えばベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、アルキルフェノン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、トリアジン化合物、ヨードニウム塩及びスルホニウム塩などが挙げられる。
【0111】
増感剤は光増感剤が好ましい、例えば、キサントン化合物、アントラセン化合物、フェノチアジン、ルブレン等が挙げられる。
【0112】
重合禁止剤としては、ハイドロキノン類、カテコール類、チオフェノール類が挙げられる。
【0113】
重合性非液晶化合物としては、重合性液晶化合物と共重合するものが好ましく、例えば、重合性液晶化合物が（メタ）アクリロイルオキシ基を有する場合は（メタ）クレート類が挙げられる。（メタ）クリレート類は単官能であっても多官能であっても良い。多官能の（メタ）アクリレート類を用いることで、偏光膜の強度を向上させることができる。重合性非液晶化合物を用いる場合は偏光膜中に１～１５質量％とすることが好ましく、さらには２～１０質量％、特には３～７質量％にすることが好ましい。１５質量％を越えると偏光度が低下することがある。
【0114】
架橋剤としては、重合性液晶化合物、重合性非液晶化合物の官能基と反応しうる化合物が挙げられ、イソシアネート化合物、メラミン、エポキシ樹脂、オキサゾリン化合物などが挙げられる。
【0115】
偏光膜組成物塗料を基材フィルム上または配向層上に直接塗工後、必要により乾燥、加熱、硬化することにより、偏光膜が設けられる。
【0116】
塗工方法としては、塗布する方法としては、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、バーコーティング法及びアプリケータ法などの塗布法や、フレキソ法などの印刷法などの公知の方法が採用される。
【0117】
乾燥は、塗工後の基材フィルムを温風乾燥機、赤外線乾燥機などに導き、３０～１７０℃、より好ましくは５０～１５０℃、さらに好ましくは７０～１３０℃で乾燥される。乾燥時間は０．５～３０分が好ましく、１～２０分がより好ましく、さらには２～１０分がより好ましい。
【0118】
加熱は、偏光膜中の二色性色素および重合性液晶化合物をより強固に配向させるために行うことができる。加熱温度は、重合性液晶化合物が液晶相を形成する温度範囲にすることが好ましい。
【0119】
偏光膜組成物塗料に重合性液晶化合物が含まれる場合は、硬化するのが好ましい。硬化方法としては、加熱及び光照射が挙げられ、光照射が好ましい。硬化により二色性色素を配向した状態で固定することができる。硬化は、重合性液晶化合物に液晶相を形成させた状態で行うのが好ましく、液晶相を示す温度で光照射して硬化してもよい。
光照射における光は、可視光、紫外光及びレーザー光が挙げられる。取り扱いやすい点で、紫外光が好ましい。
光照射における光は、可視光、紫外光及びレーザー光が挙げられる。取り扱いやすい点で、紫外光が好ましい。
【0120】
照射強度は重合開始剤や樹脂（モノマー）の種類や量で異なるが、例えば３６５ｎｍ基準で１００～１００００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、さらには２００～５０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましい。
【0121】
偏光膜は、偏光膜組成物塗料を配向層上に塗布することで、色素が配向層の配向方向に添って配向し、その結果、所定方向の偏光透過軸を有することになるが、配向層を設けず直接基材に塗工した場合は、偏光光を照射して偏光膜形成用組成物を硬化させることで、偏光膜を配向させることもできる。
【0122】
偏光膜の厚さは、０．１～５μｍであり、好ましくは０．３～３μｍ、より好ましくは０．５～２μｍである。
【0123】
（偏光子と基材フィルムの積層）
基材フィルムに直接配向層や偏光層を設けて積層する方法だけでなく、別の離型性フィルム上に上記の方法に準じて偏光層を設け、これを基材フィルムに転写することも好ましい方法である。離型フィルムとしては前述の離型性支持基材と積層された離型性支持基材積層偏光子で用いられた離型性支持基材が好ましい例として挙げられ、ポリエステルフィルム、ポリプロピレンフィルムなどが、特に好ましい離型フィルムとして挙げられる。離型フィルムはコロナ処理を行ったり、離型コートや易接着コートなどを設け、剥離力を調整しても良い。
基材フィルムに直接配向層や偏光層を設けて積層する方法だけでなく、別の離型性フィルム上に上記の方法に準じて偏光層を設け、これを基材フィルムに転写することも好ましい方法である。離型フィルムとしては前述の離型性支持基材と積層された離型性支持基材積層偏光子で用いられた離型性支持基材が好ましい例として挙げられ、ポリエステルフィルム、ポリプロピレンフィルムなどが、特に好ましい離型フィルムとして挙げられる。離型フィルムはコロナ処理を行ったり、離型コートや易接着コートなどを設け、剥離力を調整しても良い。
【0124】
基材フィルムに偏光層を転写する方法も前述の離型性支持基材と積層された離型性支持基材積層偏光子での方法と同様である。
【0125】
液晶性の偏光子の厚みとしては、０．１～７μｍが好ましく、さらには０．３～５μｍが好ましく、特には０．５～３μｍが好ましい。接着剤又は粘着剤の厚みは、１～１０μｍが好ましく、さらに好ましくは２～５μｍである。
【0126】
ワイヤーグリッド方式であれば、本発明の積層フィルム上に微細導電ワイヤーを設ければよい。微細導電ワイヤーを設けるために微細な溝が必要な場合は、別途溝を設けるための層を設けてもよいし、溝を設けるための層を本発明でいう光学等方層としてもよい。
【0127】
偏光子の透過軸と積層フィルムの遅相軸とがなす角度は特に限定するものではないが、積層フィルムを、通常の透過光を直線偏光とするための偏光板の偏光子保護フィルムとして用いる場合は、平行又は垂直であることが好ましい。「平行又は垂直」とは０度又は９０度から好ましくは±１０度、さらには±７度、特には±５度まで許容される。
【0128】
また、積層フィルムを、画像表示装置の視認側に用いる場合などで偏光を解消した光を出射する偏光板の偏光子保護フィルムとして用いる場合は、偏光子の透過軸と積層フィルムの遅相軸とがなす角度は、好ましくは２０～７０度であり、より好ましくは２５～６５度であり、さらに好ましくは３０～６０度であり、特に好ましくは３５～５５度である。
【0129】
上記で、本発明の積層フィルムの偏光子を積層する面は、基材フィルム面であっても光学等方層面のいずれであってもよい。
【0130】
これらの中でも、偏光板が薄型にできるという点で、基材と共に一軸延伸してヨウ素や有機系の二色性色素を吸着させた偏光子（基材積層延伸偏光子）、液層化合物からなる偏光子が好ましい。
【0131】
（位相差層）
偏光子の積層フィルムとは反対側には位相差層を設けることが好ましい。位相差層は薄型化できるという点で液晶化合物からなるものが好ましい。液晶化合物としては、生や負のＡプレート、正や負のＣプレート、Ｏプレートなど、目的に合わせて棒状液晶化合物やディスコティック液晶化合物などを使用することができる。
偏光子の積層フィルムとは反対側には位相差層を設けることが好ましい。位相差層は薄型化できるという点で液晶化合物からなるものが好ましい。液晶化合物としては、生や負のＡプレート、正や負のＣプレート、Ｏプレートなど、目的に合わせて棒状液晶化合物やディスコティック液晶化合物などを使用することができる。
【0132】
位相差の程度は、液晶表示装置の光学補償として用いられる場合は、液晶セルのタイプ、セルに用いられる液晶化合物の性質により適宜設定される。例えば、ＴＮ方式の場合はディスコティック液晶を用いたＯプレートが好ましく用いられる。ＶＡ方式やＩＰＳ方式の場合、棒状液晶化合物やディスコティック液晶化合物を用いたＣプレートやＡプレートが好ましく用いられる。また、円偏光板のλ／４位相差層、λ／２位相差層の場合は、棒状化合物を用いて、Ａプレートとすることが好ましく用いられる。これらの位相差層は単層だけでなく、組み合わせて複数の層にして用いても良い。
【0133】
これらの位相差層に用いられる液晶化合物としては、配向状態を固定できるという観点で、二重結合などの重合性基を持つ重合性液晶化合物が好ましい。
【0134】
棒状液晶化合物の例としては、特開２００２－０３００４２号公報、特開２００４－２０４１９０号公報、特開２００５－２６３７８９号公報、特開２００７－１１９４１５号公報、特開２００７－１８６４３０号公報、及び特開平１１－５１３３６０号公報に記載された重合性基を有する棒状液晶化合物が挙げられる。
具体的な化合物としては、
CH2=CHCOO-(CH2)m-O-Ph1-COO-Ph2-OCO-Ph1-O-(CH2)n-OCO-CH=CH2
CH2=CHCOO-(CH2)m-O-Ph1-COO-NPh-OCO-Ph1-O-(CH2)n-OCO-CH=CH2
CH2=CHCOO-(CH2)m-O-P1h-COO-Ph2-OCH3
CH2=CHCOO-(CH2)m-O-Ph1-COO-Ph-Ph-CH2CH(CH3)C2H5
ｍ、ｎは２～６の正数
Ph1、Ph2：１，４－フェニル基（Ph2は２位がメチル基であっても良い）
NPh：２，６－ナフチル基
が挙げられる。
これらは、ＢＡＳＦ社製からＬＣ２４２等として市販されており利用することができる。
具体的な化合物としては、
CH2=CHCOO-(CH2)m-O-Ph1-COO-Ph2-OCO-Ph1-O-(CH2)n-OCO-CH=CH2
CH2=CHCOO-(CH2)m-O-Ph1-COO-NPh-OCO-Ph1-O-(CH2)n-OCO-CH=CH2
CH2=CHCOO-(CH2)m-O-P1h-COO-Ph2-OCH3
CH2=CHCOO-(CH2)m-O-Ph1-COO-Ph-Ph-CH2CH(CH3)C2H5
ｍ、ｎは２～６の正数
Ph1、Ph2：１，４－フェニル基（Ph2は２位がメチル基であっても良い）
NPh：２，６－ナフチル基
が挙げられる。
これらは、ＢＡＳＦ社製からＬＣ２４２等として市販されており利用することができる。
【0135】
これらの棒状液晶化合物は複数種を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【0136】
また、ディスコティック液晶化合物としては、ベンゼン誘導体、トルキセン誘導体、シクロヘキサン誘導体、アザクラウン系、フェニルアセチレン系マクロサイクル等が挙げられ、特開２００１－１５５８６６号公報に様々なものが記載されており、これらが好適に用いられる。 中でもディスコティック化合物としては、下記一般式で表されるトリフェニレン環を有する化合物が好ましく用いられる。
【0137】
【化1】
【0138】
【化2】
【0139】
位相差層は位相差層用組成物塗料を塗工して設けることができる。位相差層用組成物塗料は、溶剤、重合開始剤、増感剤、重合禁止剤、レベリング剤及び、重合性非液晶化合物、架橋剤等を含んでもよい。これらは、配向層や液晶偏光子の部分で説明した物を用いることができる。
【0140】
位相差層用組成物塗料を偏光子上（転写型であれば基材フィルム上）または配向層上に直接塗工後、乾燥、加熱、硬化することにより、偏光膜が設けられる。これらの条件も配向層や液晶偏光子の部分で説明した条件が好ましい条件として用いられる。
【0141】
偏光子面への位相差層の積層は、偏光子に液晶化合物や配向層を塗布して設けても良いが、別の離型性フィルム上に上記の方法に準じて位相差層を設け、これを偏光子上に転写することも好ましい方法である。複数の位相差層の場合、すべての位相差層を転写で設ける必要はなく、偏光子の上の第一層を偏光子への塗工で設け、さらにその上の第二層を転写で設けても良い。第一層と第二層を別々に転写しても良く、第一層と第二層を離型フィルム上に積層して設け（離型基材／第二層／第一層）これを転写しても良い。
【0142】
偏光子と位相差層の間に保護層を設けても良い。保護層を設けることで位相差層を設ける場合の溶剤や転写で用いる接着剤や粘着剤の溶剤による偏光子の乱れや位相差層や接着層や粘着剤の添加物による偏光子への影響を防ぐことができる。また、位相差層の上や位相差層の間に保護層が設けられていても良い。同様に上層を塗工する時の溶剤の影響等、位相差層面に接着剤や粘着剤を設けて他の部材と貼り合わせる時の溶剤の影響、接着剤や粘着剤の影響を防ぐことができる。
【0143】
保護層としては透明樹脂の塗工層が挙げられる。透明樹脂としては、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール共重合体、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリスチレン、アクリル樹脂、エポキシ樹脂など特に限定するものではない。これら樹脂に架橋剤を加え架橋構造としても良い。また、アクリルなどの光硬化性の組成物を硬化させたものであっても良い。
【0144】
（液晶表示装置）
これらの偏光板は液晶表示装置の光源側偏光板、視認側偏光板としてのいずれかの側、または両方に用いることができる。偏光板は積層フィルムを外側として液晶セルに貼り合わせて使用される。貼り合わせは基材レスの光学用粘着剤が好ましい。
これらの偏光板は液晶表示装置の光源側偏光板、視認側偏光板としてのいずれかの側、または両方に用いることができる。偏光板は積層フィルムを外側として液晶セルに貼り合わせて使用される。貼り合わせは基材レスの光学用粘着剤が好ましい。
【0145】
液晶表示装置のバックライトとしては、青色発光ダイオードと黄色蛍光体の光源、青緑赤の各色発光ダイオード光源、青色発光ダイオードと緑色蛍光体と赤色蛍光体の光源、量子ドットによる波長変換光源、半導体レーザー光源、冷陰極管など特に制限無く用いることができる。
【0146】
本発明の位相差層を有する偏光板は急峻なピークを持つ光源を持つ液晶表示装置であっても虹斑が認識できないレベルに低減されており、各色の発光ピークの半値幅が狭い光源との組合せがより好ましい形態である。光源の半値幅としては、最も半値幅の狭いピークが、好ましくは２５ｎｍ以下、より好ましくは２０ｎｍ以下、さらに好ましくは１５ｎｍ以下、特に好ましくは１０ｎｍ以下である。半値幅の下限は現実的な値や測定器の分解能の面で０．５ｎｍである。具体的に好適な光源として、ＱＤ光源や赤色領域用にＫＳＦ蛍光体を用いた光源が挙げられ、一つの好適な光源としてＫＳＦ蛍光体を用いたものである。
【0147】
なお、本発明の位相差層を有する偏光板を近年の薄型化に合わせて用いる場合には、位相差層を有する偏光板の厚みも２０～８０μｍが好ましく、より好ましくは２５～７０μｍさらに好ましくは２８～６０μｍとなる。（なお、ここで言う位相差層を有する偏光板の厚みとは、位相差層から積層フィルムまでの厚みを意味し、積層フィルムの反射防止層などの表面塗布層や位相差層上の保護コート層は含まれるが、偏光板を他の部材と積層するための粘着層や接着層は含まれないものとする。このような薄型化のディスプレイの場合は青色発光ダイオードと黄色蛍光体の光源、ＫＳＦ蛍光体を用いた光源、ＱＤ光源、白色の有機ＥＬ光源などが好ましい。
【0148】
（ＥＬ表示装置）
本発明の偏光板は、ＥＬ表示装置等の反射防止用の円偏光板としても好適に用いることができる。円偏光板とするために、位相差層は１／４波長層であることが好ましい。１／４波長層の正面レタデーションは１００～１８０ｎｍが好ましく、さらに好ましくは１２０～１５０ｎｍである。
本発明の偏光板は、ＥＬ表示装置等の反射防止用の円偏光板としても好適に用いることができる。円偏光板とするために、位相差層は１／４波長層であることが好ましい。１／４波長層の正面レタデーションは１００～１８０ｎｍが好ましく、さらに好ましくは１２０～１５０ｎｍである。
【0149】
また、１／４波長層単独では可視光の広い波長領域で１／４波長とならず、着色する場合がある。この様な場合には、さらに１／２波長層を設けても良い。この場合、偏光子と１／４波長層との間に１／２波長層を設けることが好ましい。１／２波長層の正面レタデーションは２００～３６０ｎｍが好ましく、さらに好ましくは２４０～３００ｎｍである。
【0150】
円偏光板として１／４波長層のみを用いる場合、１／４波長層の配向軸（遅相軸）と偏光子の透過軸は３５～５５度が好ましく、より好ましくは４０度～５０度、さらに好ましくは４２～４８度である。
【0151】
円偏光板として１／４波長層、１／２波長層を組み合わせて用いる場合、１／２波長層の配向軸（遅相軸）と偏光子の透過軸の角度（θ）は５～２０度が好ましく、より好ましくは７度～１７度である。１／２波長層の配向軸（遅相軸）と１／４波長層の配向軸（遅相軸）との角度は、２θ＋４５度±１０度の範囲が好ましく、より好ましくは２θ＋４５度±５度の範囲であり、さらに好ましくは２θ＋４５度±３度の範囲である。これらの角度は、ラビングの角度や偏光紫外線の照射角度で制御することができる。
【0152】
さらに、斜めから見た場合の着色の変化などを低減するために１／４波長層の上にＣプレート層を設けることも好ましい形態である。Ｃプレート層は１／４波長層や１／２波長層の特性に合わせ、正または負のＣプレート層が用いられる。
【0153】
これらの位相差層の積層方法としては、１／２波長層と１／４波長層であれば、例えば、下記を挙げることができる。
・偏光子上に転写により１／２波長層を設け、さらにその上に１／４波長層を転写により設ける。
・離型フィルム上に１／４波長層と１／２波長層をこの順に設け、これを偏光子上に転写する。
・塗布により偏光子上に１／２波長層を設け、１／４波長層は転写により設ける。
・塗布により偏光子上に１／２波長層を設け、さらに塗布により１／４波長層を設ける。
などの様々な方法を採用することができる。
・偏光子上に転写により１／２波長層を設け、さらにその上に１／４波長層を転写により設ける。
・離型フィルム上に１／４波長層と１／２波長層をこの順に設け、これを偏光子上に転写する。
・塗布により偏光子上に１／２波長層を設け、１／４波長層は転写により設ける。
・塗布により偏光子上に１／２波長層を設け、さらに塗布により１／４波長層を設ける。
などの様々な方法を採用することができる。
【0154】
また、Ｃプレートを積層する場合も、偏光子上に設けられた１／４波長層の上にＣプレート層を塗布又は転写により設ける方法、転写や貼り合わせる１／４波長層、１／４波長層に予め積層しておく方法、など様々な方法が採用できる。
【0155】
このようにして得られた円偏光板の厚みは、１００μｍ以下であることが好ましい。さらには８０μｍ以下、特には７０μｍ以下が好ましく、最も好ましくは６０μｍ以下である。
【実施例】
【0156】
以下、実施例を参照して本発明をより具体的に説明する。本発明は、下記実施例に限定されず、本発明の趣旨に適合し得る範囲で適宜変更を加えて実施することも可能である。なお、それらは、いずれも本発明の技術的範囲に含まれる。
実施例における物性の評価方法は以下の通りである。
実施例における物性の評価方法は以下の通りである。
【0157】
（１）基材フィルムの遅相軸方向屈折率（Ｂｆｎｘ）、進相軸方向屈折率（Ｂｆｎｙ）、及び屈折率異方性（△ＢｆＮｘｙ）
分子配向計（王子計測器株式会社製、ＭＯＡ－６００４型分子配向計）を用いて、粗面化する前の基材フィルムの配向軸方向を求め、配向軸方向が長辺となるように４ｃｍ×２ｃｍの長方形を切り出し、測定用サンプルとした。このサンプルについて、直交する二軸の屈折率（Ｂｆｎｘ，Ｂｆｎｙ）、及び厚さ方向の屈折率（Ｂｆｎｚ）をアッベ屈折率計（アタゴ社製、ＮＡＲ－４Ｔ、測定波長５８９ｎｍ）を用いて測定し、前記二軸の屈折率の差の絶対値（｜Ｂｆｎｙ－Ｂｆｎｘ｜）を屈折率異方性（△ＢｆＮｘｙ）とした。なお、粗面化した基材フィルムの屈折率は、耐水性の紙やすり等で研磨して粗面化面を平坦化して測定することができる。
分子配向計（王子計測器株式会社製、ＭＯＡ－６００４型分子配向計）を用いて、粗面化する前の基材フィルムの配向軸方向を求め、配向軸方向が長辺となるように４ｃｍ×２ｃｍの長方形を切り出し、測定用サンプルとした。このサンプルについて、直交する二軸の屈折率（Ｂｆｎｘ，Ｂｆｎｙ）、及び厚さ方向の屈折率（Ｂｆｎｚ）をアッベ屈折率計（アタゴ社製、ＮＡＲ－４Ｔ、測定波長５８９ｎｍ）を用いて測定し、前記二軸の屈折率の差の絶対値（｜Ｂｆｎｙ－Ｂｆｎｘ｜）を屈折率異方性（△ＢｆＮｘｙ）とした。なお、粗面化した基材フィルムの屈折率は、耐水性の紙やすり等で研磨して粗面化面を平坦化して測定することができる。
【0158】
（２）原反フィルムの厚みｄ
電気マイクロメータ（ファインリューフ社製、ミリトロン１２４５Ｄ）を用いて、５点の厚みを測定し、その平均値を求めた。
電気マイクロメータ（ファインリューフ社製、ミリトロン１２４５Ｄ）を用いて、５点の厚みを測定し、その平均値を求めた。
【0159】
（３）面内リタデーション（Ｒｅ）
屈折率の異方性（△ＢｆＮｘｙ）とフィルムの厚みｄ（ｎｍ）との積（△ＢｆＮｘｙ×ｄ）より、面内リタデーション（Ｒｅ）を求めた。
屈折率の異方性（△ＢｆＮｘｙ）とフィルムの厚みｄ（ｎｍ）との積（△ＢｆＮｘｙ×ｄ）より、面内リタデーション（Ｒｅ）を求めた。
【0160】
（４）Ｎｚ係数
｜Ｂｆｎｘ－Ｂｆｎｚ｜／｜Ｂｆｎｘ－Ｂｆｎｙ｜で得られる値をＮｚ係数とした。
｜Ｂｆｎｘ－Ｂｆｎｚ｜／｜Ｂｆｎｘ－Ｂｆｎｙ｜で得られる値をＮｚ係数とした。
【0161】
（５）面配向度（ΔＰ）
（Ｂｆｎｘ＋Ｂｆｎｙ）/２－Ｂｆｎｚで得られる値を面配向度（ΔＰ）とした。
（Ｂｆｎｘ＋Ｂｆｎｙ）/２－Ｂｆｎｚで得られる値を面配向度（ΔＰ）とした。
【0162】
（６）厚さ方向リタデーション（Ｒｔｈ）
厚さ方向リタデーションとは、フィルム厚さ方向断面から見たときの２つの複屈折△ＢｆＮｘｚ（＝｜Ｂｆｎｘ－Ｂｆｎｚ｜）、△ＢｆＮｙｚ（＝｜Ｂｆｎｙ－Ｂｆｎｚ｜）にそれぞれフィルム厚さｄを掛けて得られるリタデーションの平均を示すパラメーターである。前記と同様の方法でＢｆｎｘ、Ｂｆｎｙ、Ｂｆｎｚとフィルム厚みｄ（ｎｍ）を求め、（△ＢｆＮｘｚ×ｄ）と（△ＢｆＮｙｚ×ｄ）との平均値を算出して厚さ方向リタデーション（Ｒｔｈ）を求めた：Ｒｔｈ＝（△ＢｆＮｘｚ×ｄ＋△ＢｆＮｙｚ×ｄ）／２。
厚さ方向リタデーションとは、フィルム厚さ方向断面から見たときの２つの複屈折△ＢｆＮｘｚ（＝｜Ｂｆｎｘ－Ｂｆｎｚ｜）、△ＢｆＮｙｚ（＝｜Ｂｆｎｙ－Ｂｆｎｚ｜）にそれぞれフィルム厚さｄを掛けて得られるリタデーションの平均を示すパラメーターである。前記と同様の方法でＢｆｎｘ、Ｂｆｎｙ、Ｂｆｎｚとフィルム厚みｄ（ｎｍ）を求め、（△ＢｆＮｘｚ×ｄ）と（△ＢｆＮｙｚ×ｄ）との平均値を算出して厚さ方向リタデーション（Ｒｔｈ）を求めた：Ｒｔｈ＝（△ＢｆＮｘｚ×ｄ＋△ＢｆＮｙｚ×ｄ）／２。
【0163】
（７）表面粗さ（Ｒａ、Ｒｑ、Ｒｚ、Ｒｙ、Ｒｐ、Ｒｖ、Ｓｍ）
表面粗さの各パラメータは、接触型粗さ計（ミツトヨ社製，ＳＪ-４１０，検出器：１７８－３９６－２，スタイラス：標準スタイラス１２２ＡＣ７３１（２μｍ））を用いて測定される粗さ曲線から求めた。設定は以下の通りに行った。
曲線：R
フィルタ：GAUSS
λc：0.8mm
λs：2.5μm
測定長さ：5mm
測定速度：0.5mm/s
なお、ＲｑはＪＩＳ Ｂ０６０１－２００１に準拠し、その他はＪＩＳ Ｂ０６０１－１９９４に準拠して、求めた。
表面粗さの各パラメータは、接触型粗さ計（ミツトヨ社製，ＳＪ-４１０，検出器：１７８－３９６－２，スタイラス：標準スタイラス１２２ＡＣ７３１（２μｍ））を用いて測定される粗さ曲線から求めた。設定は以下の通りに行った。
曲線：R
フィルタ：GAUSS
λc：0.8mm
λs：2.5μm
測定長さ：5mm
測定速度：0.5mm/s
なお、ＲｑはＪＩＳ Ｂ０６０１－２００１に準拠し、その他はＪＩＳ Ｂ０６０１－１９９４に準拠して、求めた。
【0164】
（８）光学等方層の厚み
粗面化した基材フィルム及び積層フィルムの厚みは、各フィルムをエポキシ樹脂に包埋し、断面の切片を切り出し、顕微鏡で観察して等間隔で１０点の厚みを測定し、その平均値とした。なお、界面が見にくい場合は偏光顕微鏡を用いた。また、粗面化した基材フィルムの凹凸面は、視野の凸部と凹部の中央を基準とした。光学等方層の厚みは、積層フィルムの厚みから、粗面化した基材フィルムの厚みを引くことにより求めた。
粗面化した基材フィルム及び積層フィルムの厚みは、各フィルムをエポキシ樹脂に包埋し、断面の切片を切り出し、顕微鏡で観察して等間隔で１０点の厚みを測定し、その平均値とした。なお、界面が見にくい場合は偏光顕微鏡を用いた。また、粗面化した基材フィルムの凹凸面は、視野の凸部と凹部の中央を基準とした。光学等方層の厚みは、積層フィルムの厚みから、粗面化した基材フィルムの厚みを引くことにより求めた。
【0165】
（９）光学等方層の屈折率
離型フィルムに光学異方層を凹凸面に設ける場合と同じ条件で、厚みが約２０μｍとなるように設け、離型フィルムから剥離したサンプルの屈折率を基材フィルムと同様にして測定した。ｎｘ、ｎｙ、ｎｚが同じ値であることを確認した。
離型フィルムに光学異方層を凹凸面に設ける場合と同じ条件で、厚みが約２０μｍとなるように設け、離型フィルムから剥離したサンプルの屈折率を基材フィルムと同様にして測定した。ｎｘ、ｎｙ、ｎｚが同じ値であることを確認した。
【0166】
（易接着層成分の製造）
（ポリエステル樹脂の重合）
攪拌機、温度計、及び部分還流式冷却器を具備するステンレススチール製オートクレーブに、ジメチルテレフタレート１９４．２質量部、ジメチルイソフタレート１８４．５質量部、ジメチル－５－ナトリウムスルホイソフタレート１４．８質量部、ジエチレングリコール２３３．５質量部、エチレングリコール１３６．６質量部、及びテトラ－ｎ－ブチルチタネート０．２質量部を仕込み、１６０℃から２２０℃の温度で４時間かけてエステル交換反応を行った。次いで２５５℃まで昇温し、反応系を徐々に減圧した後、３０Ｐａの減圧下で１時間３０分反応させ、共重合ポリエステル樹脂を得た。得られた共重合ポリエステル樹脂は、淡黄色透明であった。共重合ポリエステル樹脂の還元粘度を測定したところ０．７０ｄｌ／ｇであった。ＤＳＣによるガラス転移温度は４０℃であった。
（ポリエステル樹脂の重合）
攪拌機、温度計、及び部分還流式冷却器を具備するステンレススチール製オートクレーブに、ジメチルテレフタレート１９４．２質量部、ジメチルイソフタレート１８４．５質量部、ジメチル－５－ナトリウムスルホイソフタレート１４．８質量部、ジエチレングリコール２３３．５質量部、エチレングリコール１３６．６質量部、及びテトラ－ｎ－ブチルチタネート０．２質量部を仕込み、１６０℃から２２０℃の温度で４時間かけてエステル交換反応を行った。次いで２５５℃まで昇温し、反応系を徐々に減圧した後、３０Ｐａの減圧下で１時間３０分反応させ、共重合ポリエステル樹脂を得た。得られた共重合ポリエステル樹脂は、淡黄色透明であった。共重合ポリエステル樹脂の還元粘度を測定したところ０．７０ｄｌ／ｇであった。ＤＳＣによるガラス転移温度は４０℃であった。
【0167】
（ポリエステル水分散体の調製）
攪拌機、温度計及び還流装置を備えた反応器に、共重合ポリエステル樹脂３０質量部、及びエチレングリコールｎ－ブチルエーテル１５質量部を入れ、１１０℃で加熱、攪拌し、樹脂を溶解した。樹脂が完全に溶解した後、水５５質量部をポリエステル溶液に攪拌しつつ徐々に添加した。添加後、液を攪拌しつつ室温まで冷却して、固形分３０質量％の乳白色のポリエステル水分散体を作製した。
攪拌機、温度計及び還流装置を備えた反応器に、共重合ポリエステル樹脂３０質量部、及びエチレングリコールｎ－ブチルエーテル１５質量部を入れ、１１０℃で加熱、攪拌し、樹脂を溶解した。樹脂が完全に溶解した後、水５５質量部をポリエステル溶液に攪拌しつつ徐々に添加した。添加後、液を攪拌しつつ室温まで冷却して、固形分３０質量％の乳白色のポリエステル水分散体を作製した。
【0168】
（易接着層で用いるブロックポリイソシアネート系架橋剤の重合）
攪拌機、温度計、及び還流冷却管を備えたフラスコに、ヘキサメチレンジイソシアネートを原料としたイソシアヌレート構造を有するポリイソシアネート化合物（旭化成ケミカルズ製、デュラネートＴＰＡ）１００質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５５質量部、及びポリエチレングリコールモノメチルエーテル（平均分子量７５０）３０質量部を仕込み、窒素雰囲気下、７０℃で４時間保持した。その後、反応液温度を５０℃に下げ、メチルエチルケトオキシム４７質量部を滴下した。反応液の赤外スペクトルを測定し、イソシアネート基の吸収が消失したことを確認し、固形分７５質量％のブロックポリイソシアネート水分散液を得た。
攪拌機、温度計、及び還流冷却管を備えたフラスコに、ヘキサメチレンジイソシアネートを原料としたイソシアヌレート構造を有するポリイソシアネート化合物（旭化成ケミカルズ製、デュラネートＴＰＡ）１００質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５５質量部、及びポリエチレングリコールモノメチルエーテル（平均分子量７５０）３０質量部を仕込み、窒素雰囲気下、７０℃で４時間保持した。その後、反応液温度を５０℃に下げ、メチルエチルケトオキシム４７質量部を滴下した。反応液の赤外スペクトルを測定し、イソシアネート基の吸収が消失したことを確認し、固形分７５質量％のブロックポリイソシアネート水分散液を得た。
【0169】
（易接着層用塗工液の調整）
下記の塗剤を混合しＰ１塗布液を作成した。
水 ５０．００質量％
イソプロパノール ３３．００質量％
ポリエステル水分散体 １２．００質量％
ブロックイソシアネート系架橋剤 ０．８０質量％
粒子 １．４０質量％
（平均粒径１００ｎｍのシリカゾル、固形分濃度４０質量％）
触媒
（有機スズ系化合物 固形分濃度１４質量％） ０．３０質量％
界面活性剤 ０．５０質量％
（シリコン系、固形分濃度１０質量％）
下記の塗剤を混合しＰ１塗布液を作成した。
水 ５０．００質量％
イソプロパノール ３３．００質量％
ポリエステル水分散体 １２．００質量％
ブロックイソシアネート系架橋剤 ０．８０質量％
粒子 １．４０質量％
（平均粒径１００ｎｍのシリカゾル、固形分濃度４０質量％）
触媒
（有機スズ系化合物 固形分濃度１４質量％） ０．３０質量％
界面活性剤 ０．５０質量％
（シリコン系、固形分濃度１０質量％）
【0170】
（フィルム用ポリエステル樹脂の製造）
（製造例１－ポリエステルＸ）
エステル化反応缶を昇温し、２００℃に到達した時点で、テレフタル酸を８６．４質量部及びエチレングリコール６４．６質量部を仕込み、撹拌しながら触媒として三酸化アンチモンを０．０１７質量部、酢酸マグネシウム４水和物を０．０６４質量部、及びトリエチルアミン０．１６質量部を仕込んだ。ついで、加圧昇温を行い、ゲージ圧０．３４ＭＰａ、２４０℃の条件で加圧エステル化反応を行った後、エステル化反応缶を常圧に戻し、リン酸０．０１４質量部を添加した。さらに、１５分かけて２６０℃に昇温し、リン酸トリメチル０．０１２質量部を添加した。次いで１５分後に、高圧分散機で分散処理を行い、１５分後、得られたエステル化反応生成物を重縮合反応缶に移送し、２８０℃で減圧下重縮合反応を行った。
（製造例１－ポリエステルＸ）
エステル化反応缶を昇温し、２００℃に到達した時点で、テレフタル酸を８６．４質量部及びエチレングリコール６４．６質量部を仕込み、撹拌しながら触媒として三酸化アンチモンを０．０１７質量部、酢酸マグネシウム４水和物を０．０６４質量部、及びトリエチルアミン０．１６質量部を仕込んだ。ついで、加圧昇温を行い、ゲージ圧０．３４ＭＰａ、２４０℃の条件で加圧エステル化反応を行った後、エステル化反応缶を常圧に戻し、リン酸０．０１４質量部を添加した。さらに、１５分かけて２６０℃に昇温し、リン酸トリメチル０．０１２質量部を添加した。次いで１５分後に、高圧分散機で分散処理を行い、１５分後、得られたエステル化反応生成物を重縮合反応缶に移送し、２８０℃で減圧下重縮合反応を行った。
【0171】
重縮合反応が終了した後、９５％カット径が５μｍのナスロン（登録商標）製フィルターで濾過処理を行い、ノズルからストランド状に押出し、予め濾過処理（孔径：１μｍ以下）を行った冷却水を用いて冷却し、固化させ、ペレット状にカットした。得られたポリエチレンテレフタレート樹脂（Ｘ）の固有粘度は０．６２ｄｌ／ｇであり、不活性粒子及び内部析出粒子は実質上含有していなかった。（以後、ＰＥＴ（Ｘ）と略す。）
【0172】
（原反フィルムＡ、Ｂの製造）
フィルム用原料として粒子を含有しないＰＥＴ（Ｘ）樹脂ペレットを押出機に供給し、口金よりシート状にして押し出した後、静電印加キャスト法を用いて表面温度３０℃のキャスティングドラムに巻きつけて冷却固化し、未延伸フィルムを作った。次いで、リバースロール法によりこの未延伸ＰＥＴフィルムの両面にＰ１塗布液をいずれも乾燥後の塗布量が０．１２ｇ／ｍ２になるように塗布した後、乾燥機に導き８０℃で２０秒間乾燥した。
フィルム用原料として粒子を含有しないＰＥＴ（Ｘ）樹脂ペレットを押出機に供給し、口金よりシート状にして押し出した後、静電印加キャスト法を用いて表面温度３０℃のキャスティングドラムに巻きつけて冷却固化し、未延伸フィルムを作った。次いで、リバースロール法によりこの未延伸ＰＥＴフィルムの両面にＰ１塗布液をいずれも乾燥後の塗布量が０．１２ｇ／ｍ２になるように塗布した後、乾燥機に導き８０℃で２０秒間乾燥した。
【0173】
この塗布層を形成した未延伸フィルムをテンター延伸機に導き、フィルムの端部をクリップで把持しながら、温度１３５℃の熱風ゾーンに導き、幅方向に３．８倍に延伸した。次に、幅方向に延伸された幅を保ったまま、温度２２５℃で３０秒間処理し、その後、１３０℃まで冷却したフィルムの両端部をシェア刃で切断し、０．５ｋｇ／ｍｍ２の張力で耳部を切り取った後に巻き取り、フィルム厚み８０μｍの原反フィルムＡを得た。
【0174】
キャスティング以降のラインスピードを速くして未延伸フィルムの厚みを変えた以外は原反フィルムＡと同様にして製膜し、フィルム厚みの異なる原反フィルムＢを得た。
【0175】
（原反フィルムＣの製造）
原反フィルムＡと同様の方法により作製された未延伸フィルム（易接着層塗工済み）を、加熱されたロール群及び赤外線ヒーターを用いて１０５℃に加熱し、その後周速差のあるロール群で走行方向に２．０倍延伸した後、原反フィルムＡと同様の方法により温度１３５℃の熱風ゾーンに導き幅方向に４．０倍延伸し、原反フィルムＣを得た。
原反フィルムＡと同様の方法により作製された未延伸フィルム（易接着層塗工済み）を、加熱されたロール群及び赤外線ヒーターを用いて１０５℃に加熱し、その後周速差のあるロール群で走行方向に２．０倍延伸した後、原反フィルムＡと同様の方法により温度１３５℃の熱風ゾーンに導き幅方向に４．０倍延伸し、原反フィルムＣを得た。
【0176】
（原反フィルムＤ）
原反フィルムＡと同様の方法により作製された未延伸フィルム（易接着層塗工済み）を、加熱されたロール群及び赤外線ヒーターを用いて１０５℃に加熱し、その後周速差のあるロール群で走行方向に３．５倍延伸した後、原反フィルムＡと同様の方法により温度１３５℃の熱風ゾーンに導き幅方向に３．５倍延伸し、原反フィルムＤを得た。
原反フィルムＡと同様の方法により作製された未延伸フィルム（易接着層塗工済み）を、加熱されたロール群及び赤外線ヒーターを用いて１０５℃に加熱し、その後周速差のあるロール群で走行方向に３．５倍延伸した後、原反フィルムＡと同様の方法により温度１３５℃の熱風ゾーンに導き幅方向に３．５倍延伸し、原反フィルムＤを得た。
【0177】
【表1】
【0178】
（表面粗面化フィルムの製造）
ガラス板にウレタンフォームを貼り付け、さらにその上に原反フィルムＡの周辺を両面テープで貼り付け、この原反フィルム面を手持ちタイプのベルトサンダー（サンディングベルト＃３２０）で縦、横、斜め（４５度、１３５度）の合計４方向から処理を行い、表面粗面化フィルムＡ１を得た。
ガラス板に原反フィルムＡの周辺を両面テープで貼り付け、乾式のサンドブラスターにセットし、研磨材を吹き付けで処理（サンドブラスト処理）し、表面粗面化フィルムＡ２を得た。
原反フィルムＡの片面にポリプロピレンフィルム製マスキングフィルムを貼り合わせ、これを３８％の水酸化カリウム水溶液（９５℃）に浸漬（ケミカルエッチング）し、水洗した後、マスキングフィルムを剥離して乾燥し、表面粗面化フィルムＡ４を得た。
ベルトサンダーの条件（サンディングベルトの種類等）、サンドブラストの条件（研磨材の粒径等）を変え、原反フィルムＡ、Ｂ、Ｃ、及びＤから表２に示す各表面粗面化フィルムを得た。
なお、Ｂ１及びＣ１の製造には＃３２０のサンディングベルトを用い、Ａ３及びＤ１の製造には＃１８０のサンディングベルトを用いた。また、サンドブラスターの研磨材はＡ５、Ａ６、Ｂ２、Ａ２の順に大きなものを用いた。
なお、ベルトサンダー処理、及びサンドブラスト処理したものは、局所突起の影響を除くため、処理表面を＃４００のサンドペーパーで軽く研磨した。
ガラス板にウレタンフォームを貼り付け、さらにその上に原反フィルムＡの周辺を両面テープで貼り付け、この原反フィルム面を手持ちタイプのベルトサンダー（サンディングベルト＃３２０）で縦、横、斜め（４５度、１３５度）の合計４方向から処理を行い、表面粗面化フィルムＡ１を得た。
ガラス板に原反フィルムＡの周辺を両面テープで貼り付け、乾式のサンドブラスターにセットし、研磨材を吹き付けで処理（サンドブラスト処理）し、表面粗面化フィルムＡ２を得た。
原反フィルムＡの片面にポリプロピレンフィルム製マスキングフィルムを貼り合わせ、これを３８％の水酸化カリウム水溶液（９５℃）に浸漬（ケミカルエッチング）し、水洗した後、マスキングフィルムを剥離して乾燥し、表面粗面化フィルムＡ４を得た。
ベルトサンダーの条件（サンディングベルトの種類等）、サンドブラストの条件（研磨材の粒径等）を変え、原反フィルムＡ、Ｂ、Ｃ、及びＤから表２に示す各表面粗面化フィルムを得た。
なお、Ｂ１及びＣ１の製造には＃３２０のサンディングベルトを用い、Ａ３及びＤ１の製造には＃１８０のサンディングベルトを用いた。また、サンドブラスターの研磨材はＡ５、Ａ６、Ｂ２、Ａ２の順に大きなものを用いた。
なお、ベルトサンダー処理、及びサンドブラスト処理したものは、局所突起の影響を除くため、処理表面を＃４００のサンドペーパーで軽く研磨した。
【0179】
【表2】
【0180】
（積層フィルムＦ１～Ｆ１７の製造）
（光学等方層用のコート剤の準備）
光学等方層用のコート剤として表３に示すものを準備した。
（光学等方層用のコート剤の準備）
光学等方層用のコート剤として表３に示すものを準備した。
【0181】
【表3】
【0182】
２０ｃｍ×３０ｃｍの表面粗面化フィルムＡ１の凹凸面に、上述の易接着層を水／イソプロパノール＝２／１の溶液で４倍に希釈したものを塗工して乾燥させ、約３０ｎｍの易接着層を設けた。さらにその上に光学等方層用のコート剤ａをアプリケーターで塗工した後、塗工面から高圧水銀灯で硬化させて積層フィルムＦ１を得た。
【0183】
表面粗面化フィルム及び／又はコート剤の種類を変更した以外は、実施例１と同様にして、積層フィルムＦ２～Ｆ１６を得た。なお、積層フィルムＦ１４は両面に光学等方層を設けた。
【0184】
２０ｃｍ×３０ｃｍの粗面化フィルムＢ２の凹凸面に、バイロン（登録商標）２００（ＲＶ２００）（東洋紡社製）の２０％トルエン／メチルエチルケトン混合溶媒の溶液を塗工した後に乾燥させ、光学等方層を設けた。得られた２枚の光学等方層積層フィルムの光学等方層面を重ね、１００℃に加熱したロール間を通過させ、２枚の光学等方層積層フィルムを貼り合せ、光学等方層積層フィルムＦ１７を得た。なお、貼り合せの際、粗面化フィルムＢ２の遅相軸同士が平行となるように貼り合わせた。バイロン２００の屈折率は１．５５である。
【0185】
積層フィルムＦ１～Ｆ１７の構成及び物性を表４に示す。
【0186】
【表4】
【0187】
（積層フィルムの評価）
（クロスニコル下での虹斑の観察）
積層フィルムを、クロスニコルに配置した２枚の偏光板の間に基材フィルムの遅相軸が光源側の偏光板の透過軸と４５度になるように置き、視認側の偏光板から約６０ｃｍ離れた正面から透過光の状態を観察し、虹斑の有無を下記の基準に従って評価した。なお、光源は冷陰極管を用いた。
○：虹斑は観察されなかった
△：わずかに虹斑が観察された
×：虹斑が観察された
（クロスニコル下での虹斑の観察）
積層フィルムを、クロスニコルに配置した２枚の偏光板の間に基材フィルムの遅相軸が光源側の偏光板の透過軸と４５度になるように置き、視認側の偏光板から約６０ｃｍ離れた正面から透過光の状態を観察し、虹斑の有無を下記の基準に従って評価した。なお、光源は冷陰極管を用いた。
○：虹斑は観察されなかった
△：わずかに虹斑が観察された
×：虹斑が観察された
【0188】
（白化）
積層フィルムの光学等方層を上にし、下方からハロゲンランプを照射し、斜め上方４５度の方向から積層体の白化度合いを下記の基準に従って評価した。
◎：白化はほとんど認められなかった。
○：少し白化が認められたが、透明性は高かった。
△：白化が認められ、透明性がやや劣っていた。
×：白化があり、透明性も低かった。
なお、実施例３１～３６は偏光板で評価を行った。実施例３１～３６の結果は表５に記載した。
積層フィルムの光学等方層を上にし、下方からハロゲンランプを照射し、斜め上方４５度の方向から積層体の白化度合いを下記の基準に従って評価した。
◎：白化はほとんど認められなかった。
○：少し白化が認められたが、透明性は高かった。
△：白化が認められ、透明性がやや劣っていた。
×：白化があり、透明性も低かった。
なお、実施例３１～３６は偏光板で評価を行った。実施例３１～３６の結果は表５に記載した。
【0189】
偏光子Ａ（単層偏光子）の製造
ケン化度９９．９％のポリビニルアルコール樹脂フィルムを、周速差のあるロールに導き、１００℃で３倍に一軸延伸を行った。得られた延伸ポリビニルアルコール延伸フィルムを、ヨウ化カリウム（０．３％）とヨウ素（０．０５％）の混合水溶液中で染色した後、７２℃のホウ酸１０％水溶液中で、１．８倍に一軸延伸した。その後、イオン交換水で水洗処理を行い、さらに６％ヨウ化カリウム水溶液に浸漬し、エアナイフで水溶液を除去した後、４５℃で乾燥して偏光子を得た。偏光子の厚みは１８μｍであった。
ケン化度９９．９％のポリビニルアルコール樹脂フィルムを、周速差のあるロールに導き、１００℃で３倍に一軸延伸を行った。得られた延伸ポリビニルアルコール延伸フィルムを、ヨウ化カリウム（０．３％）とヨウ素（０．０５％）の混合水溶液中で染色した後、７２℃のホウ酸１０％水溶液中で、１．８倍に一軸延伸した。その後、イオン交換水で水洗処理を行い、さらに６％ヨウ化カリウム水溶液に浸漬し、エアナイフで水溶液を除去した後、４５℃で乾燥して偏光子を得た。偏光子の厚みは１８μｍであった。
【0190】
偏光子Ｂ（基材積層偏光子）の製造
熱可塑性樹脂基材としてポリエステルＸを用いて厚さ１００μｍの未延伸フィルムを作成し、この未延伸フィルムの片面に、重合度２４００、ケン化度９９．９モル％のポリビニルアルコールの水溶液を塗布および乾燥して、ＰＶＡ層を形成した。 得られた積層体を、１２０℃で周速の異なるロール間で長手方向に２倍に延伸して巻き取った。次に、得られた積層体を４％のホウ酸水溶液で３０秒間の処理を行った後、ヨウ素（０．２％）とヨウ化カリウム（１％）の混合水溶液で６０秒間浸漬し染色し、引き続き、ヨウ化カリウム（３％）とホウ酸（３％）の混合水溶液で３０秒間処理した。さらに、この積層体を７２℃のホウ酸（４％）とヨウ化カリウム（５％）混合水溶液中で長手方向に一軸延伸を行い、引き続き、４％ヨウ化カリウム水溶液で洗浄、エアナイフで水溶液を除去した後に８０℃のオーブンで乾燥し、両端部をスリットして巻き取り、幅３０ｃｍ、長さ１０００ｍの基材積層偏光子１を得た。合計の延伸倍率は６．５倍で、偏光子の厚みは５μｍであった。なお、厚みは基材積層偏光子をエポキシ樹脂に包埋して切片を切り出し、光学顕微鏡で観察して読み取った。
熱可塑性樹脂基材としてポリエステルＸを用いて厚さ１００μｍの未延伸フィルムを作成し、この未延伸フィルムの片面に、重合度２４００、ケン化度９９．９モル％のポリビニルアルコールの水溶液を塗布および乾燥して、ＰＶＡ層を形成した。 得られた積層体を、１２０℃で周速の異なるロール間で長手方向に２倍に延伸して巻き取った。次に、得られた積層体を４％のホウ酸水溶液で３０秒間の処理を行った後、ヨウ素（０．２％）とヨウ化カリウム（１％）の混合水溶液で６０秒間浸漬し染色し、引き続き、ヨウ化カリウム（３％）とホウ酸（３％）の混合水溶液で３０秒間処理した。さらに、この積層体を７２℃のホウ酸（４％）とヨウ化カリウム（５％）混合水溶液中で長手方向に一軸延伸を行い、引き続き、４％ヨウ化カリウム水溶液で洗浄、エアナイフで水溶液を除去した後に８０℃のオーブンで乾燥し、両端部をスリットして巻き取り、幅３０ｃｍ、長さ１０００ｍの基材積層偏光子１を得た。合計の延伸倍率は６．５倍で、偏光子の厚みは５μｍであった。なお、厚みは基材積層偏光子をエポキシ樹脂に包埋して切片を切り出し、光学顕微鏡で観察して読み取った。
【0191】
偏光子Ｃ（液晶化合物偏光子（ラビング処理））の製造方法
（ラビング配向層の形成）
積層フィルムに下記組成のラビング配向層用塗料をバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で３分間乾燥し厚み２００ｎｍの膜を形成した。引き続き、得られた膜の表面をナイロン製の起毛布でラビング処理した。配向制御方向はラビング方向で調整した。
（ラビング配向層の形成）
積層フィルムに下記組成のラビング配向層用塗料をバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で３分間乾燥し厚み２００ｎｍの膜を形成した。引き続き、得られた膜の表面をナイロン製の起毛布でラビング処理した。配向制御方向はラビング方向で調整した。
【0192】
ラビング配向層用塗料
完全ケン化型ポリビニルアルコール 分子量８００ ２質量部
イオン交換水 １００質量部
完全ケン化型ポリビニルアルコール 分子量８００ ２質量部
イオン交換水 １００質量部
【0193】
（重合性液晶化合物の合成）
特表２００７－５１０９４６号公報の［０１３４］段落の記載および、Ｌｕｂ ｅｔ ａｌ．Ｒｅｃｌ．Ｔｒａｖ．Ｃｈｉｍ．Ｐａｙｓ－Ｂａｓ，１１５，３２１－３２８（１９９６）を参考にして、下記式の化合物（イ：上段）及び（ロ：下段）を合成した。
特表２００７－５１０９４６号公報の［０１３４］段落の記載および、Ｌｕｂ ｅｔ ａｌ．Ｒｅｃｌ．Ｔｒａｖ．Ｃｈｉｍ．Ｐａｙｓ－Ｂａｓ，１１５，３２１－３２８（１９９６）を参考にして、下記式の化合物（イ：上段）及び（ロ：下段）を合成した。
【0194】
【化3】
【0195】
特開昭６３－３０１８５０号公報の実施例１を参考にして、下記式の色素（ハ）を合成した。
【0196】
【化4】
【0197】
特公平５－４９７１０号公報の実施例２を参考にして下記式の色素（ニ）を合成した。
【0198】
【化5】
【0199】
特公昭６３－１３５７号公報の一般式（１）の化合物の製造方法を参考にして、下記式の色素（ホ）を合成した。
【0200】
【化6】
【0201】
（偏光膜の形成）
化合物（イ）７５質量部、化合物（ロ）２５質量部、色素（ハ）２．５質量部、色素（ニ）２．５質量部、色素（ホ）２．５質量部、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（Ｒ） ３６９Ｅ（ＢＡＳＦ社製）６質量部、オルトキシレン２５０質量部からなる偏光膜用塗料をバーコーターを用いて塗布し、１１０℃で３分間乾燥し厚み２μｍの膜を形成した。引き続きＵＶ光を照射し、液晶化合物からなる偏光子を設けた。
化合物（イ）７５質量部、化合物（ロ）２５質量部、色素（ハ）２．５質量部、色素（ニ）２．５質量部、色素（ホ）２．５質量部、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（Ｒ） ３６９Ｅ（ＢＡＳＦ社製）６質量部、オルトキシレン２５０質量部からなる偏光膜用塗料をバーコーターを用いて塗布し、１１０℃で３分間乾燥し厚み２μｍの膜を形成した。引き続きＵＶ光を照射し、液晶化合物からなる偏光子を設けた。
【0202】
偏光子Ｄ（液晶化合物偏光子（光配向））の製造方法
（光配向層用塗料の合成）
特開２０１３－３３２４８号公報の実施例１、実施例２、実施例３の記載に基づき、下記式のポリマー（ヘ）のシクロペンタノン５質量％溶液を製造した。
（光配向層用塗料の合成）
特開２０１３－３３２４８号公報の実施例１、実施例２、実施例３の記載に基づき、下記式のポリマー（ヘ）のシクロペンタノン５質量％溶液を製造した。
【0203】
【化7】
基材として二軸延伸ポリエステルフィルムを用いた以外は偏光子Ｃと同様にした。
【0204】
（光配向層の形成）
積層フィルムに上記組成の光配向層用塗料をバーコーターを用いて塗布し、８０℃で１分間乾燥し厚み１５０ｎｍの膜を形成した。引き続き、偏光ＵＶ光を照射し、光配向層を積層した。配向制御方向は、ＵＶの偏光方向で制御した。
積層フィルムに上記組成の光配向層用塗料をバーコーターを用いて塗布し、８０℃で１分間乾燥し厚み１５０ｎｍの膜を形成した。引き続き、偏光ＵＶ光を照射し、光配向層を積層した。配向制御方向は、ＵＶの偏光方向で制御した。
【0205】
λ／４、λ／２複合相差層転写フィルムの製造
基材として厚み５０μｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムをラビング処理した。ラビング処理面に、位相差層形成用溶液をバーコート法により塗布し、乾燥、配向処理後、紫外線を照射して硬化させ、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム上に１／４波長層を設けた。さらに、１／４波長層上にポリビニルアルコール（ポリビニルアルコール１０００完全ケン化型の２質量％水溶液（界面活性剤０．２％）を塗布、乾燥し、厚さ約１００ｎｍのポリビニルアルコール膜を得た。続いて、ポリビニルアルコール膜の表面にラビング処理を施した。ＰＶＡのラビング処理面に、位相差層形成用溶液をバーコート法により塗布し、乾燥、配向処理後、紫外線を照射して硬化させ、１／２波長層を設けた。１／４波長層を設ける際のラビング方向と１／２波長層を設ける際のラビング方向との角度は６０度となるように行った。
基材として厚み５０μｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムをラビング処理した。ラビング処理面に、位相差層形成用溶液をバーコート法により塗布し、乾燥、配向処理後、紫外線を照射して硬化させ、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム上に１／４波長層を設けた。さらに、１／４波長層上にポリビニルアルコール（ポリビニルアルコール１０００完全ケン化型の２質量％水溶液（界面活性剤０．２％）を塗布、乾燥し、厚さ約１００ｎｍのポリビニルアルコール膜を得た。続いて、ポリビニルアルコール膜の表面にラビング処理を施した。ＰＶＡのラビング処理面に、位相差層形成用溶液をバーコート法により塗布し、乾燥、配向処理後、紫外線を照射して硬化させ、１／２波長層を設けた。１／４波長層を設ける際のラビング方向と１／２波長層を設ける際のラビング方向との角度は６０度となるように行った。
【0206】
位相差層形成用溶液
ＬＣ２４２（ＢＡＳＦ社製） ７５質量部
下記化合物 ２０質量部
ＬＣ２４２（ＢＡＳＦ社製） ７５質量部
下記化合物 ２０質量部
【0207】
【化8】
イルガキュア３７９ ３質量部
界面活性剤 ０．１質量部
メチルエチルケトン ２５０質量部
【0208】
λ／４相差層転写フィルムの製造
厚み５０μｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムにポリビニルアルコール（ポリビニルアルコール１０００完全ケン化型の２質量％水溶液（界面活性剤０．２％）を塗布、乾燥し、厚さ約１００ｎｍのポリビニルアルコール膜を得た。続いて、ポリビニルアルコール膜の表面にラビング処理を施した。ＰＶＡのラビング処理面に、位相差層形成用溶液をバーコート法により塗布し、乾燥、配向処理後、紫外線を照射して硬化させ、λ／４波長層を設けた。
厚み５０μｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムにポリビニルアルコール（ポリビニルアルコール１０００完全ケン化型の２質量％水溶液（界面活性剤０．２％）を塗布、乾燥し、厚さ約１００ｎｍのポリビニルアルコール膜を得た。続いて、ポリビニルアルコール膜の表面にラビング処理を施した。ＰＶＡのラビング処理面に、位相差層形成用溶液をバーコート法により塗布し、乾燥、配向処理後、紫外線を照射して硬化させ、λ／４波長層を設けた。
【0209】
なお、これらにおいて、位相差は位相差層の厚みでコントロールした。位相差層の厚みは、１／４波長層で１．２μｍ、１／２波長層で２．３μｍであった。
【0210】
実施例１～２６、比較例１～６
積層フィルムＦ１～Ｆ１７の基材フィルム面または光学等方層面に市販の紫外線硬化型のアクリル系接着剤をアプリケーターで塗工した。この塗工面に偏光子Ｂ（基材積層偏光子）の偏光子面を貼り合わせ、積層フィルム面から高圧水銀灯を照射して硬化させた。その後、基材積層偏光子の基材フィルムを剥離して偏光子を積層した。積層フィルムの基材フィルムの遅相軸と偏光子の透光軸は平行になるようにした。この偏光子に市販の光学用粘着剤シートを貼り合わせ、光学用粘着剤面に転写型λ／４、λ／２複合相差層転写フィルムの位相差面を貼り合わせ、基材のＰＥＴフィルムを剥離し、位相差層を有する偏光板を得た。貼り合わせは偏光子の吸収軸と、１／２波長層の配向方向（ラビング方向が１５度）、１／４波長層の配向方向（ラビング方向）が７５度となるようにした。
積層フィルムＦ１～Ｆ１７の基材フィルム面または光学等方層面に市販の紫外線硬化型のアクリル系接着剤をアプリケーターで塗工した。この塗工面に偏光子Ｂ（基材積層偏光子）の偏光子面を貼り合わせ、積層フィルム面から高圧水銀灯を照射して硬化させた。その後、基材積層偏光子の基材フィルムを剥離して偏光子を積層した。積層フィルムの基材フィルムの遅相軸と偏光子の透光軸は平行になるようにした。この偏光子に市販の光学用粘着剤シートを貼り合わせ、光学用粘着剤面に転写型λ／４、λ／２複合相差層転写フィルムの位相差面を貼り合わせ、基材のＰＥＴフィルムを剥離し、位相差層を有する偏光板を得た。貼り合わせは偏光子の吸収軸と、１／２波長層の配向方向（ラビング方向が１５度）、１／４波長層の配向方向（ラビング方向）が７５度となるようにした。
【0211】
実施例２７～３０
積層フィルムの基材フィルムの遅相軸と偏光子の透光軸が垂直になるようにした以外は実施例４、５、１７、１８と同様にして、位相差層を有する偏光板を得た。
積層フィルムの基材フィルムの遅相軸と偏光子の透光軸が垂直になるようにした以外は実施例４、５、１７、１８と同様にして、位相差層を有する偏光板を得た。
【0212】
実施例３１
【0213】
凹凸面を有するフィルムＡ１の凹凸面に下記高屈折率粘着剤ｋを乾燥後厚みが５μｍになるよう塗工し、加熱して溶剤を除去した後、この塗工面に偏光子Ｂ（基材積層偏光子）の偏光子面を貼り合わせ、積層フィルム面から高圧水銀灯を照射して硬化させた。その後、基材積層偏光子の基材フィルムを剥離して偏光子を積層した。後は上と同様にしてλ／４、λ／２複合相差層を積層した。
【0214】
高屈折率粘着剤ｋの作成
２－エチルヘキシルアクリレート３０質量部、エトキシ化ｏ－フェニルフェノールアク
リレート（新中村化学工業社製，製品名：Ａ－ＬＥＮ－１０）７０質量部と重合開始剤と
して０．２５質量部をアゾビスイソブチロニトリルを酢酸エチル中で反応させて共重合体
（Ｍｗ＝４０万）の酢酸エチル溶液（固形分濃度３０質量％）を得た。
２－エチルヘキシルアクリレート３０質量部、エトキシ化ｏ－フェニルフェノールアク
リレート（新中村化学工業社製，製品名：Ａ－ＬＥＮ－１０）７０質量部と重合開始剤と
して０．２５質量部をアゾビスイソブチロニトリルを酢酸エチル中で反応させて共重合体
（Ｍｗ＝４０万）の酢酸エチル溶液（固形分濃度３０質量％）を得た。
【0215】
実施例３２～３４
凹凸面を有するフィルムＡ１の凹凸面にそれぞれ光学等方層用コート剤ｂ、ｅ、ｆを厚みが５μｍとなるよう塗布し、この塗工面に偏光子Ｂ（基材積層偏光子）の偏光子面を貼り合わせ、積層フィルム面から高圧水銀灯を照射して硬化させた。その後、基材積層偏光子の基材フィルムを剥離して偏光子を積層した。後は上と同様にしてλ／４、λ／２複合相差層を積層した。
実施例３５、３６
凹凸面を有するフィルムとしてＢ１を用いた以外は実施例３１、３３と同様にした。
凹凸面を有するフィルムＡ１の凹凸面にそれぞれ光学等方層用コート剤ｂ、ｅ、ｆを厚みが５μｍとなるよう塗布し、この塗工面に偏光子Ｂ（基材積層偏光子）の偏光子面を貼り合わせ、積層フィルム面から高圧水銀灯を照射して硬化させた。その後、基材積層偏光子の基材フィルムを剥離して偏光子を積層した。後は上と同様にしてλ／４、λ／２複合相差層を積層した。
実施例３５、３６
凹凸面を有するフィルムとしてＢ１を用いた以外は実施例３１、３３と同様にした。
【0216】
実施例３７
積層フィルムＦ５の光学等方層面に市販の紫外線硬化型のアクリル系接着剤をアプリケーターで塗工した。この塗工面に偏光子Ｅ（転写型液晶化合物偏光子）の偏光子面を貼り合わせ、積層フィルム面から高圧水銀灯を照射して硬化させた。その後、転写型液晶化合物偏光子の基材フィルムを剥離して偏光子を積層した。積層フィルムの基材フィルムの遅相軸と偏光子の透光軸は平行になるようにした。この偏光子面に市販の光学用粘着剤シートを貼り合わせ、光学用粘着剤面に転写型λ／４相差層転写フィルムの位相差面を貼り合わせ、基材のＰＥＴフィルムを剥離した。貼り合わせは偏光子の吸収軸と１／４波長層の配向方向（ラビング方向）が４５度となるようにした。
積層フィルムＦ５の光学等方層面に市販の紫外線硬化型のアクリル系接着剤をアプリケーターで塗工した。この塗工面に偏光子Ｅ（転写型液晶化合物偏光子）の偏光子面を貼り合わせ、積層フィルム面から高圧水銀灯を照射して硬化させた。その後、転写型液晶化合物偏光子の基材フィルムを剥離して偏光子を積層した。積層フィルムの基材フィルムの遅相軸と偏光子の透光軸は平行になるようにした。この偏光子面に市販の光学用粘着剤シートを貼り合わせ、光学用粘着剤面に転写型λ／４相差層転写フィルムの位相差面を貼り合わせ、基材のＰＥＴフィルムを剥離した。貼り合わせは偏光子の吸収軸と１／４波長層の配向方向（ラビング方向）が４５度となるようにした。
【0217】
実施例３８
積層フィルムＦ５の光学等方層面に偏光子Ｃ（液晶化合物偏光子（ラビング処理））を設けた。引き続き、実施例３７と同様にしてλ／４層を設けた。
積層フィルムＦ５の光学等方層面に偏光子Ｃ（液晶化合物偏光子（ラビング処理））を設けた。引き続き、実施例３７と同様にしてλ／４層を設けた。
【0218】
実施例３９
積層フィルムＦ５の光学等方層面に偏光子Ｄ（液晶化合物偏光子（光配向））を設けた。引き続き、実施例３７と同様にしてλ／４層を設けた。
積層フィルムＦ５の光学等方層面に偏光子Ｄ（液晶化合物偏光子（光配向））を設けた。引き続き、実施例３７と同様にしてλ／４層を設けた。
【0219】
実施例４０～４２
実施例３７～３９と同様に指定積層フィルムＦ６の基材フィルム面に偏光子－位相差層を設けた。
実施例３７～３９と同様に指定積層フィルムＦ６の基材フィルム面に偏光子－位相差層を設けた。
【0220】
実施例４３
積層フィルムの基材フィルムの遅相軸と偏光子の透光軸が４５度になるようにした以外は実施例５と同様にした。
積層フィルムの基材フィルムの遅相軸と偏光子の透光軸が４５度になるようにした以外は実施例５と同様にした。
【0221】
実施例４４
積層フィルムＦ６の基材フィルム面に偏光子Ｃ（液晶化合物偏光子（ラビング処理））を基材フィルムの遅相軸と偏光子の透光軸が４５度になるようにしたて設けた。さらに偏光子の上に実施例３７と同様にしてλ／４層を設けた。
積層フィルムＦ６の基材フィルム面に偏光子Ｃ（液晶化合物偏光子（ラビング処理））を基材フィルムの遅相軸と偏光子の透光軸が４５度になるようにしたて設けた。さらに偏光子の上に実施例３７と同様にしてλ／４層を設けた。
【0222】
ハードコート層、低屈折率層、高屈折率層の作成
（低屈折層用組成物）
ペルトロン(TM) Ａ－２５０８ＬＲ（ペルノックス株式会社製 中空シリカ含有タイプ 屈折率１．３３（アッベ法））
（高屈折層用組成物）
ペルトロン(TM) Ａ－２３００（ペルノックス株式会社製 屈折率１．６５（アッベ法））
（ハードコート用組成物）
ペルトロン(TM) Ａ－２００５（ペルノックス株式会社製）
（低屈折層用組成物）
ペルトロン(TM) Ａ－２５０８ＬＲ（ペルノックス株式会社製 中空シリカ含有タイプ 屈折率１．３３（アッベ法））
（高屈折層用組成物）
ペルトロン(TM) Ａ－２３００（ペルノックス株式会社製 屈折率１．６５（アッベ法））
（ハードコート用組成物）
ペルトロン(TM) Ａ－２００５（ペルノックス株式会社製）
【0223】
対象フィルムに上記組成物をバーコーターで塗工後、８０℃で乾燥、溶剤を除去した、さらに高圧水銀灯で紫外線を照射し硬化させた。これら組成物において、光重合開始剤としてイルガキュア１８４（３質量％、対固形分）を用いた。膜厚を薄くする場合は、メチルイソブチルケトンで希釈して調整した。
【0224】
実施例４５
積層フィルムＦ５の基材フィルム面に低屈折率層（厚み３μｍ）を設けた。これ以外は実施例５と同様にした。
積層フィルムＦ５の基材フィルム面に低屈折率層（厚み３μｍ）を設けた。これ以外は実施例５と同様にした。
【0225】
実施例４６
積層フィルムＦ５の基材フィルム面にハードコート層（厚さ３μｍ）を設け、さらにその上に高屈折率層（厚さ１３０ｎｍ）、低屈折率層（厚さ８６ｎｍ）を設けた。これ以外は実施例５と同様にした。
積層フィルムＦ５の基材フィルム面にハードコート層（厚さ３μｍ）を設け、さらにその上に高屈折率層（厚さ１３０ｎｍ）、低屈折率層（厚さ８６ｎｍ）を設けた。これ以外は実施例５と同様にした。
【0226】
実施例４７
積層フィルムＦ６の光学等方層面に低屈折率層（厚み８５ｎｍ）を設けた以外は実施例１９と同様に行った。
積層フィルムＦ６の光学等方層面に低屈折率層（厚み８５ｎｍ）を設けた以外は実施例１９と同様に行った。
【0227】
実施例４８
偏光子として偏光子Ａ（単層偏光子）を用いた以外は実施例４５と同様に行った。
偏光子として偏光子Ａ（単層偏光子）を用いた以外は実施例４５と同様に行った。
【0228】
市販の有機ＥＬを用いた携帯用端末の円偏光板を剥がし、代わりに上記で得られた円偏光板を置いて評価した。円偏光板の偏光子の透過軸方向は元の円偏光板の透過軸方向と同じになるようにした。評価は、虹斑の確認と画像のコントラストを観察した。
【0229】
（円偏光板の評価）
市販の有機ＥＬを用いた携帯用端末の円偏光板を剥がし、代わりに上記で得られた円偏光板を置いて評価した。円偏光板の偏光子の透過軸方向は元の円偏光板の透過軸方向と同じになるようにした。評価は、虹斑の確認と画像のコントラストを観察した。
市販の有機ＥＬを用いた携帯用端末の円偏光板を剥がし、代わりに上記で得られた円偏光板を置いて評価した。円偏光板の偏光子の透過軸方向は元の円偏光板の透過軸方向と同じになるようにした。評価は、虹斑の確認と画像のコントラストを観察した。
【0230】
（虹斑の観察）
ディスプレイの表示を白一色にし、正面及び斜め方向から見て虹斑の有無を確認した。
○：虹斑は観察されなかった
△：わずかに虹斑が観察された
×：虹斑が観察された
ディスプレイの表示を白一色にし、正面及び斜め方向から見て虹斑の有無を確認した。
○：虹斑は観察されなかった
△：わずかに虹斑が観察された
×：虹斑が観察された
【0231】
（コントラストの観察）
ディスプレイの表示を風景の画像とし、上方から卓上の蛍光灯の光を照射して正面からのコントラストを観察した。
◎：鮮やかなコントラストのままであった。
○：散乱光によりわすかにコントラストの低下が認められた。
△：コントラストの低下が認められたが、画像の観察は可能であった。
×：散乱光により、画像が見にくくなった
ディスプレイの表示を風景の画像とし、上方から卓上の蛍光灯の光を照射して正面からのコントラストを観察した。
◎：鮮やかなコントラストのままであった。
○：散乱光によりわすかにコントラストの低下が認められた。
△：コントラストの低下が認められたが、画像の観察は可能であった。
×：散乱光により、画像が見にくくなった
【0232】
（反射防止効果）
○：駆動用配線の輝きが認められた。
×：金属配線の輝きは目立たなかった。
○：駆動用配線の輝きが認められた。
×：金属配線の輝きは目立たなかった。
【0233】
（偏光解消）
偏光サングラスをかけ、偏光子の透過軸が水平方向になる角度で観察した。
○：ブラックアウトすることはなかった。
×：ブラックアウトし、画面が見えなくなった。
偏光サングラスをかけ、偏光子の透過軸が水平方向になる角度で観察した。
○：ブラックアウトすることはなかった。
×：ブラックアウトし、画面が見えなくなった。
【0234】
各実施例の構成及び及び評価結果を表５に示す。
【0235】
【表5】
２＊：粗面化フィルム番号
３＊：凹凸面
４＊：光学等方性層コート剤
５＊：光学等方層屈折率
６＊：偏光子を積層した表面
７＊：白化評価
８＊： 偏光子
９＊：偏光子の透過軸と基材フィルムの遅相軸との角度
１０＊：位相差層
１１＊：画像コントラスト
１２＊：虹斑評価
１３＊：反射防止効果
１４＊：偏光解消性
【産業上の利用可能性】
【0236】
本発明の偏光板により、急峻なピークを有する光源の環境下で用いる場合等に、虹斑を抑制し、高い透明性、及び鮮やかな画像表示性を確保することができる。