【図1】
例示的な実施例により構成される発光積層構造の概略横断面図である。
【図2】
例示的な実施例により構成される発光積層構造の横断面図である。
【図3】
例示的な実施例による発光積層構造の概略横断面図である。
【図4】
例示的な実施例によるディスプレイデバイスの平面図である。
【図5】
図4の部分P1の拡大平面図である。
【図6】
例示的な実施例によるディスプレイデバイスのブロック図である。
【図7】
例示的な実施例によるパッシブマトリクスタイプのディスプレイデバイス用の1つのピクセルの回路図である。
【図8】
例示的な実施例によるアクティブマトリクスタイプのディスプレイデバイス用の1つのピクセルの回路図である。
【図9】
例示的な実施例によるピクセルの平面図である。
【図10】
図9のラインI-I’に沿った横断面図である。
【図11】
例示的な実施例により、第1、第2および第3エピタキシャルスタックを形成する方法を例示する平面図である。
【図12】
図11のラインI-I’に沿った横断面図である。
【図13】
例示的な実施例により、第1、第2および第3エピタキシャルスタックを形成する方法を例示する平面図である。
【図14】
図13のラインI-I’に沿った横断面図である。
【図15】
例示的な実施例により、第1、第2および第3エピタキシャルスタックを形成する方法を例示する平面図である。
【図16】
図15のラインI-I’に沿った横断面図である。
【図17】
例示的な実施例により、第1、第2および第3エピタキシャルスタックを形成する方法を例示する平面図である。
【図18】
図17のラインI-I’に沿った横断面図である。
【図19】
例示的な実施例により、第1、第2および第3エピタキシャルスタックを形成する方法を例示する平面図である。
【図20】
図19のラインI-I’に沿った横断面図である。
【図21】
例示的な実施例により、第1、第2および第3エピタキシャルスタックを形成する方法を例示する平面図である。
【図22】
図21のラインI-I’に沿った横断面図である。
【図23】
例示的な実施例により、第1、第2および第3エピタキシャルスタックを形成する方法を例示する平面図である。
【図24】
図23のラインI-I’に沿った横断面図である。
【図25】
例示的な実施例により、第1、第2および第3エピタキシャルスタックを形成する方法を例示する平面図である。
【図26】
図25のラインI-I’に沿った横断面図である。
【図27】
例示的な実施例により、第1、第2および第3エピタキシャルスタックを形成する方法を例示する平面図である。
【図28】
図27のラインI-I’に沿った横断面図である。
【図29】
例示的な実施例により、第1、第2および第3エピタキシャルスタックを形成する方法を例示する平面図である。
【図30】
図29のラインI-I’に沿った横断面図である。
【図31】
例示的な実施例により、第1、第2および第3エピタキシャルスタックを形成する方法を例示する平面図である。
【図32】
図31のラインI-I’に沿った横断面図である。
【図33】
例示的な実施例により、第1、第2および第3エピタキシャルスタックを形成する方法を例示する平面図である。
【図34】
図33のラインI-I’に沿った横断面図である。
【図35】
例示的な実施例によるディスプレイデバイスの概略平面図である。
【図36】
例示的な実施例によるディスプレイ用の発光ダイオードピクセルの概略横断面図である。
【図37】
例示的な実施例によるディスプレイデバイスの概略回路図である。
【図38】
例示的な実施例によるディスプレイデバイスの概略平面図である。
【図39】
図38のディスプレイデバイスの1つのピクセルの拡大平面図である。
【図40A】
図39のラインA-Aに沿った概略横断面図である。
【図40B】
図39のラインB-Bに沿った概略横断面図である。
【図40C】
図39のラインC-Cに沿った概略横断面図である。
【図40D】
図39のラインD-Dに沿った概略横断面図である。
【図41A】
例示的な実施例によるディスプレイデバイスを製造する方法を例示する概略平面図および横断面図である。
【図41B】
例示的な実施例によるディスプレイデバイスを製造する方法を例示する概略平面図および横断面図である。
【図41C】
例示的な実施例によるディスプレイデバイスを製造する方法を例示する概略平面図および横断面図である。
【図42A】
例示的な実施例によるディスプレイデバイスを製造する方法を例示する概略平面図および横断面図である。
【図42B】
例示的な実施例によるディスプレイデバイスを製造する方法を例示する概略平面図および横断面図である。
【図43A】
例示的な実施例によるディスプレイデバイスを製造する方法を例示する概略平面図および横断面図である。
【図43B】
例示的な実施例によるディスプレイデバイスを製造する方法を例示する概略平面図および横断面図である。
【図44A】
例示的な実施例によるディスプレイデバイスを製造する方法を例示する概略平面図および横断面図である。
【図44B】
例示的な実施例によるディスプレイデバイスを製造する方法を例示する概略平面図および横断面図である。
【図45A】
例示的な実施例によるディスプレイデバイスを製造する方法を例示する概略平面図および横断面図である。
【図45B】
例示的な実施例によるディスプレイデバイスを製造する方法を例示する概略平面図および横断面図である。
【図46A】
例示的な実施例によるディスプレイデバイスを製造する方法を例示する概略平面図および横断面図である。
【図46B】
例示的な実施例によるディスプレイデバイスを製造する方法を例示する概略平面図および横断面図である。
【図47A】
例示的な実施例によるディスプレイデバイスを製造する方法を例示する概略平面図および横断面図である。
【図47B】
例示的な実施例によるディスプレイデバイスを製造する方法を例示する概略平面図および横断面図である。
【図48A】
例示的な実施例によるディスプレイデバイスを製造する方法を例示する概略平面図および横断面図である。
【図48B】
例示的な実施例によるディスプレイデバイスを製造する方法を例示する概略平面図および横断面図である。
【図49A】
例示的な実施例によるディスプレイデバイスを製造する方法を例示する概略平面図および横断面図である。
【図49B】
例示的な実施例によるディスプレイデバイスを製造する方法を例示する概略平面図および横断面図である。
【図50A】
例示的な実施例によるディスプレイデバイスを製造する方法を例示する概略平面図および横断面図である。
【図50B】
例示的な実施例によるディスプレイデバイスを製造する方法を例示する概略平面図および横断面図である。
【図51】
例示的な実施例によるディスプレイデバイスを製造する方法を例示する概略平面図および横断面図である。
【図52A】
例示的な実施例によるディスプレイデバイスを製造する方法を例示する概略平面図および横断面図である。
【図52B】
例示的な実施例によるディスプレイデバイスを製造する方法を例示する概略平面図および横断面図である。
【図53】
例示的な実施例によるディスプレイデバイスを製造する方法を例示する概略平面図および横断面図である。
【図54】
他の例示的な実施例によるディスプレイデバイスの概略横断面図である。