特許 7244611 デジタル印刷処理

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2023-03-13

(45)【発行日】2023-03-22

(54)【発明の名称】デジタル印刷処理

(51)【国際特許分類】

   B41M 5/00 20060101AFI20230314BHJP

   B41M 5/52 20060101ALI20230314BHJP

   B41J 2/01 20060101ALI20230314BHJP

   C09D 11/30 20140101ALI20230314BHJP

【ＦＩ】

B41M5/00 100

B41M5/52 100

B41M5/00 132

B41M5/00 120

B41J2/01 101

B41J2/01 123

B41J2/01 125

C09D11/30

【請求項の数】 45

(21)【出願番号】P 2021186789

(22)【出願日】2021-11-17

(62)【分割の表示】P 2018562655の分割

【原出願日】2017-05-30

(65)【公開番号】P2022033778

(43)【公開日】2022-03-02

【審査請求日】2021-12-03

(31)【優先権主張番号】62/343,108

(32)【優先日】2016-05-30

(33)【優先権主張国・地域又は機関】US

(31)【優先権主張番号】62/343,123

(32)【優先日】2016-05-30

(33)【優先権主張国・地域又は機関】US

(73)【特許権者】

【識別番号】514210005

【氏名又は名称】ランダ コーポレイション リミテッド

(74)【代理人】

【識別番号】100114775

【弁理士】

【氏名又は名称】高岡 亮一

(74)【代理人】

【識別番号】100121511

【弁理士】

【氏名又は名称】小田 直

(74)【代理人】

【識別番号】100202751

【弁理士】

【氏名又は名称】岩堀 明代

(74)【代理人】

【識別番号】100191086

【弁理士】

【氏名又は名称】高橋 香元

(72)【発明者】

【氏名】ランダ，ベンジオン

(72)【発明者】

【氏名】アブラモヴィッチ，サギ

(72)【発明者】

【氏名】レバノン，モシェ

(72)【発明者】

【氏名】ゴロデッツ，ガリア

(72)【発明者】

【氏名】チェチク，ヘレナ

(72)【発明者】

【氏名】メロ，オン

(72)【発明者】

【氏名】カートサー，タチアナ

(72)【発明者】

【氏名】ガリリ，アヤル

(72)【発明者】

【氏名】ポムランツ，ウリエル

(72)【発明者】

【氏名】アヴィタル，ダン

(72)【発明者】

【氏名】クパーウェイサー，ホゼ

(72)【発明者】

【氏名】アシュケナジ，オメル

【審査官】福田 由紀

(56)【参考文献】

【文献】特表２０１５－５１７９２８（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１５－２１２０８２（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１６－１７９６７８（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｂ４１Ｍ ５／００，５／５０－５／５２

Ｂ４１Ｊ ２／０１

Ｃ０９Ｄ １１／３０

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

ａ．以下の特性すなわち、（ｉ）シリコーン系剥離層表面上に堆積された蒸留水滴の後退接触角が最大６０度であること、および、（ｉｉ）前記シリコーン系剥離層表面上に堆積された蒸留水滴の１０秒動的接触角（ＤＣＡ）が最大１０８度であること、のうちの少なくとも１つを満足するよう十分な親水性を示す前記シリコーン系剥離層表面を含む中間転写部材（ＩＴＭ）を提供することと、
ｂ．以下：
ｉ．摂氏２５度において少なくとも５％の水溶解度を有する少なくとも１重量％の少なくとも１つの水溶性ポリマー、および、
ｉｉ．水を含むキャリア液体であって、前記水は、水性処理調合物の少なくとも５０重量％を占める、キャリア液体、
を含む前記水性処理調合物を提供することと、
ｃ．前記水性処理調合物を前記ＩＴＭの前記シリコーン系剥離層表面に塗布して、最大０．８μｍの厚さを有する湿潤処理層を前記シリコーン系剥離層表面上に形成することと、
ｄ．前記湿潤処理層に乾燥処理を施して、前記湿潤処理層から、前記シリコーン系剥離層表面上に乾燥処理薄膜を形成すること、ここで、前記湿潤処理層の前記乾燥処理の間、前記湿潤処理層の動粘性係数は、最大１秒の期間内で、少なくとも５００倍増加する、と、
ｅ．水性インクの液滴を前記乾燥処理薄膜上に堆積して、前記シリコーン系剥離層表面上にインク画像を形成することと、
ｆ．前記インク画像を乾燥させて前記シリコーン系剥離層表面上に残留インク画像を残すことと、
ｇ．前記ＩＴＭと印刷基板との間の加圧接触により、前記残留インク画像を前記印刷基板上に転送することと
を含む、印刷方法。

【請求項2】

前記水性処理調合物の乾燥は、ビーディングを防止するために行われる、請求項１に記載の方法。

【請求項3】

前記印刷基板上に転送された前記残留インク画像が、その構造的完全性を保持し、小片に細分化されるのではなく、一枚の皮膜として剥離されるように、ステップａ～ｇが行われる、請求項１または請求項２に記載の方法。

【請求項4】

前記提供される水性処理調合物の摂氏６０度蒸発負荷は、最大で８：１である、請求項１～３のうちのいずれか１項に記載の方法。

【請求項5】

前記乾燥処理薄膜が滑らかな上方表面を有するよう、ステップａ～ｄが行われ、
前記乾燥処理薄膜の前記滑らかな上方表面は、最大１２ナノメートルの平均粗度Ｒ_ａにより特徴付けられる、請求項１～４のうちのいずれか１項に記載の方法。

【請求項6】

（ｉ）ステップｃで形成される前記湿潤処理層の厚さは最大０．６μｍであり、かつ（ｉｉ）前記乾燥処理薄膜の厚さは最大１５０ｎｍである、請求項１～５のうちのいずれか１項に記載の方法。

【請求項7】

（ｉ）ステップｃで形成される前記湿潤処理層の厚さは最大０．４μｍであり、かつ（ｉｉ）前記乾燥処理薄膜の厚さは最大１００ｎｍである、請求項１～６のうちのいずれか１項に記載の方法。

【請求項8】

前記湿潤処理層の前記乾燥処理の間、前記湿潤処理層の動粘性係数は、最大２５０ミリ秒の期間内で、少なくとも１０００倍増加する、請求項１～請求項７のうちのいずれか１項に記載の方法。

【請求項9】

前記乾燥処理薄膜は、後続の前記残留インク画像の転送の間、印刷エリアおよび非印刷エリアの両方において前記乾燥処理薄膜が完全に前記ＩＴＭから分離して、前記乾燥インク画像とともに前記印刷基板に転送されるよう、ステップｄで生産される、請求項１～８のうちのいずれか１項に記載の方法。

【請求項10】

前記水性インク液滴が堆積される前記乾燥処理薄膜と前記乾燥処理薄膜の表面とは、（ｉ）平均粗度Ｒ_ａと、（ｉｉ）前記乾燥処理層の厚さと、の間の無次元比により特徴付けられ、前記無次元比は最大０．１５である、請求項１～９のうちのいずれか１項に記載の方法。

【請求項11】

前記水性処理調合物の静的表面張力は、摂氏２５度において２０～４０ダイン／ｃｍの範囲内である、請求項１～１０のうちのいずれか１項に記載の方法。

【請求項12】

前記シリコーン系剥離層表面上に堆積された蒸留水滴の後退接触角が最大６０度であるように、前記シリコーン系剥離層表面が十分な親水性を示す、請求項１～１１のうちのいずれか１項に記載の方法。

【請求項13】

前記シリコーン系剥離層表面上に堆積された蒸留水滴の１０秒動的接触角（ＤＣＡ）が最大１０８度であるように、前記シリコーン系剥離層表面が十分な親水性を示す、請求項１～１１のうちのいずれか１項に記載の方法。

【請求項14】

（ｉ）前記シリコーン系剥離層表面上に堆積された蒸留水滴の後退接触角が最大６０度であり、かつ（ｉｉ）前記シリコーン系剥離層表面上に堆積された蒸留水滴の１０秒動的接触角（ＤＣＡ）が最大１０８度であるように、前記シリコーン系剥離層表面が十分な親水性を示す、請求項１～１１のうちのいずれか１項に記載の方法。

【請求項15】

前記提供されるＩＴＭは、支持層と、前記シリコーン系剥離層表面、および（ｉ）前記シリコーン系剥離層表面に対向し、かつ（ｉｉ）前記支持層に付着された第２表面を有する剥離層とを含み、前記剥離層は付加硬化型シリコーン物質で形成される、請求項１～１４のうちのいずれか１項に記載の方法。

【請求項16】

前記剥離層の厚さは最大５００マイクロメートル（μｍ）である、請求項１５に記載の方法。

【請求項17】

前記付加硬化型シリコーン物質は、実質的に付加硬化型シリコーンからなるか、または少なくとも９５重量％の付加硬化型シリコーンを含む、請求項１５または請求項１６に記載の方法。

【請求項18】

官能基は前記付加硬化型シリコーン物質の最大５重量％を占める、請求項１７に記載の方法。

【請求項19】

官能基は前記付加硬化型シリコーン物質の最大３重量％を占める、請求項１７に記載の方法。

【請求項20】

官能基は前記付加硬化型シリコーン物質の最大５重量％を占める、請求項１５または請求項１６に記載の方法。

【請求項21】

官能基は前記付加硬化型シリコーン物質の最大３重量％を占める、請求項１５または請求項１６に記載の方法。

【請求項22】

前記剥離層のシリコーンポリマー骨格は、その極性基が前記ＩＴＭ表面の局部的表面に対して垂直であり、かつ前記剥離層表面に面する方向に向けられるように、構築される、請求項１～２１のうちのいずれか１項に記載の方法。

【請求項23】

前記剥離層のシリコーンポリマー骨格は、その極性基が前記ＩＴＭ表面の局部的表面に対して垂直であり、かつ前記剥離層表面に向かって上向きに面する方向に向けられるように、構築される、請求項１～２１のうちのいずれか１項に記載の方法。

【請求項24】

前記提供されるＩＴＭの前記剥離層は、インク受容表面の極性基が、前記第２表面から離間する方向または前記第２表面と逆の方向を有するよう、適応される、請求項１５～２１のうちのいずれか１項に記載の方法。

【請求項25】

前記提供される水性処理調合物内の液体吸湿剤の濃度は、最大１．５重量％、最大１重量％、最大０．５重量％、最大０．３重量％、または最大０．１重量％であるか、または前記水性処理調合物は液体吸湿剤を含まない、請求項１～２４のうちのいずれか１項に記載の方法。

【請求項26】

前記提供される水性処理調合物内の液体吸湿剤の濃度は最大０．３重量％であるか、または前記水性処理調合物は液体吸湿剤を含まない、請求項１～２４のうちのいずれか１項に記載の方法。

【請求項27】

ａ．以下の特性すなわち、（ｉ）シリコーン系剥離層表面上に堆積された蒸留水滴の後退接触角が最大６０度であること、および、（ｉｉ）前記シリコーン系剥離層表面上に堆積された蒸留水滴の１０秒動的接触角（ＤＣＡ）が最大１０８度であること、のうちの少なくとも１つを満足するよう十分な親水性を示す前記シリコーン系剥離層表面を含む中間転写部材（ＩＴＭ）と、
ｂ．以下：
ｉ．摂氏２５度において少なくとも５％の水溶解度を有する、少なくとも１重量％の少なくとも１つの水溶性ポリマー、および、
ｉｉ．水を含むキャリア液体であって、前記水は、水性処理調合物の少なくとも５０重量％を占める、キャリア液体、
を含む、ある量の前記水性処理調合物と、
ｃ．前記水性処理調合物を前記ＩＴＭの前記シリコーン系剥離層表面に塗布して、最大０．８μｍの厚さを有する湿潤処理層を前記シリコーン系剥離層表面上に形成するよう構成された、処理ステーションと、
ｄ．前記処理ステーションの下流に配置された画像形成ステーションであって、前記画像形成ステーションは、前記ＩＴＭの前記シリコーン系剥離層表面にインク画像を形成するよう構成された、画像形成ステーションと、
ｅ．前記インク画像が前記ＩＴＭ表面から基板に転送される、印圧ステーションと
を含む印刷システムであって、
前記システムは、
Ａ．前記処理ステーションの下流、および前記画像形成ステーションの上流の位置で、前記ＩＴＭ上で、前記湿潤処理層に乾燥処理が施され、
Ｂ．前記乾燥処理は、前記湿潤処理層から親水性の乾燥処理薄膜を形成するのに有効であり、
Ｃ．前記湿潤処理層の前記乾燥処理の間、前記湿潤処理層の動粘性係数は、最大１秒の期間内で、少なくとも５００倍増加し、
Ｄ．前記画像形成ステーションで、前記ＩＴＭの前記シリコーン系剥離層表面上に存在する前記乾燥処理薄膜上に、水性インクの液滴を堆積することによりインク画像が形成される
ように構成される、印刷システム。

【請求項28】

前記水性処理調合物の摂氏６０度蒸発負荷は重量で最大８：１である、請求項２７に記載のシステム。

【請求項29】

前記湿潤処理層の前記乾燥処理の間、前記湿潤処理層の前記動粘性係数は、最大１秒の期間内に少なくとも２５００倍増加する、請求項２８に記載のシステム。

【請求項30】

前記印圧ステーションで前記印刷基板上に転送された前記残留インク画像が、その構造的完全性を保持し、小片に細分化されるのではなく、一枚の皮膜として剥離されるように構成される、請求項２７～２９のうちのいずれか１項に記載のシステム。

【請求項31】

前記シリコーン系剥離層表面上に堆積された蒸留水滴の後退接触角が最大６０度であるように、前記シリコーン系剥離層表面が十分な親水性を示す、請求項２７～３０のうちのいずれか１項に記載のシステム。

【請求項32】

前記シリコーン系剥離層表面上に堆積された蒸留水滴の１０秒動的接触角（ＤＣＡ）が最大１０８度であるように、前記シリコーン系剥離層表面が十分な親水性を示す、請求項２７～３１のうちのいずれか１項に記載のシステム。

【請求項33】

（ｉ）前記シリコーン系剥離層表面上に堆積された蒸留水滴の後退接触角が最大６０度であり、かつ（ｉｉ）前記シリコーン系剥離層表面上に堆積された蒸留水滴の１０秒動的接触角（ＤＣＡ）が最大１０８度であるように、前記シリコーン系剥離層表面が十分な親水性を示す、請求項２７～３２のうちのいずれか１項に記載のシステム。

【請求項34】

前記提供されるＩＴＭは、支持層と、前記シリコーン系剥離層表面、および（ｉ）前記シリコーン系剥離層表面に対向し、かつ（ｉｉ）前記支持層に付着された第２表面を有する剥離層とを含み、前記剥離層は付加硬化型シリコーン物質で形成される、請求項２７～３３のうちのいずれか１項に記載のシステム。

【請求項35】

前記剥離層の厚さは最大５００マイクロメートル（μｍ）である、請求項３４に記載のシステム。

【請求項36】

前記付加硬化型シリコーン物質は、実質的に付加硬化型シリコーンからなるか、または少なくとも９５重量％の付加硬化型シリコーンを含む、請求項３４または請求項３５に記載のシステム。

【請求項37】

官能基は前記付加硬化型シリコーン物質の最大５重量％を占める、請求項３６に記載のシステム。

【請求項38】

官能基は前記付加硬化型シリコーン物質の最大３重量％を占める、請求項３６に記載のシステム。

【請求項39】

官能基は前記付加硬化型シリコーン物質の最大５重量％を占める、請求項３４または請求項３５に記載のシステム。

【請求項40】

官能基は前記付加硬化型シリコーン物質の最大３重量％を占める、請求項３４または請求項３５に記載のシステム。

【請求項41】

前記剥離層のシリコーンポリマー骨格は、その極性基が前記ＩＴＭ表面の局部的表面に対して垂直であり、かつ前記剥離層表面に面する方向に向けられるように、構築される、請求項２７～４０のうちのいずれか１項に記載のシステム。

【請求項42】

前記剥離層のシリコーンポリマー骨格は、その極性基が前記ＩＴＭ表面の局部的表面に対して垂直であり、かつ前記剥離層表面に向かって上向きに面する方向に向けられるように、構築される、請求項２７～４０のうちのいずれか１項に記載のシステム。

【請求項43】

前記提供されるＩＴＭの前記剥離層は、インク受容表面の極性基が、前記第２表面から離間する方向または前記第２表面と逆の方向を有するよう、適応される、請求項３４～４０のうちのいずれか１項に記載のシステム。

【請求項44】

前記提供される水性処理調合物内の液体吸湿剤の濃度は、最大１．５重量％、最大１重量％、最大０．５重量％、最大０．３重量％、または最大０．１重量％であるか、または前記水性処理調合物は液体吸湿剤を含まない、請求項２７～４３のうちのいずれか１項に記載のシステム。

【請求項45】

前記提供される水性処理調合物内の液体吸湿剤の濃度は最大０．３重量％であるか、または前記水性処理調合物は液体吸湿剤を含まない、請求項２７～４３のうちのいずれか１項に記載のシステム。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

関連出願の相互参照
本開示は、２０１６年５月３０に出願された米国特許出願整理番号第６２／３４３，１２３号および２０１６年５月３０日に出願された米国特許出願整理番号第６２／３４３，１０８号の優先権を主張する。これらの特許出願は、参照することによりその全体が本願に援用される。

【0002】

本開示は、デジタル印刷プロセス、水性処理調合物、および関連するキットならびにシステムに関する。

【背景技術】

【0003】

以下の特許広報は、潜在的に関連する背景資料を提供し、これらの特許広報のすべては、参照することによりその全体が援用される。
ＷＯ／２０１７／００９７２２（２０１６年５月２５日に出願されたＰＣＴ／ＩＢ２０１６／０５３０４９の広報）、
ＷＯ／２０１６／１６６６９０（２０１６年４月４日に出願されたＰＣＴ／ＩＢ２０１６／０５２１２０の広報）、
ＷＯ／２０１６／１５１４６２（２０１６年３月２０日に出願されたＰＣＴ／ＩＢ２０１６／０５１５６０の広報）、
ＷＯ／２０１６／１１３６９８（２０１６年１月１４日に出願されたＰＣＴ／ＩＢ２０１６／０５０１７０の広報）、
ＷＯ／２０１５／１１０９８８（２０１５年１月２２日に出願されたＰＣＴ／ＩＢ２０１５／０５０５０１の広報）、
ＷＯ／２０１５／０３６８１２（２０１３年９月１２日に出願されたＰＣＴ／ＩＢ２０１３／００２５７１の広報）、
ＷＯ／２０１５／０３６８６４（２０１４年９月１１日に出願されたＰＣＴ／ＩＢ２０１４／００２３６６の広報）、
ＷＯ／２０１５／０３６８６５（２０１４年９月１１日に出願されたＰＣＴ／ＩＢ２０１４／００２３９５の広報）、
ＷＯ／２０１５／０３６９０６（２０１４年９月１２日に出願されたＰＣＴ／ＩＢ２０１４／０６４２７７の広報）、
ＷＯ／２０１３／１３６２２０（２０１３年３月５日に出願されたＰＣＴ／ＩＢ２０１３／０５１７１９の広報）、
ＷＯ／２０１３／１３２４１９（２０１３年３月５日に出願されたＰＣＴ／ＩＢ２０１３／０５１７１７の広報）、
ＷＯ／２０１３／１３２４２４（２０１３年３月５日に出願されたＰＣＴ／ＩＢ２０１３／０５１７２７の広報）、
ＷＯ／２０１３／１３２４２０（２０１３年３月５日に出願されたＰＣＴ／ＩＢ２０１３／０５１７１８の広報）、
ＷＯ／２０１３／１３２４３９（２０１３年３月５日に出願されたＰＣＴ／ＩＢ２０１３／０５１７５５の広報）、
ＷＯ／２０１３／１３２４３８（２０１３年３月５日に出願されたＰＣＴ／ＩＢ２０１３／０５１７５１の広報）、
ＷＯ／２０１３／１３２４１８（２０１３年３月５日に出願されたＰＣＴ／ＩＢ２０１３／０５１７１６の広報）、
ＷＯ／２０１３／１３２３５６（２０１３年１月１０日に出願されたＰＣＴ／ＩＢ２０１３／０５０２４５の広報）、
ＷＯ／２０１３／１３２３４５（２０１３年３月５日に出願されたＰＣＴ／ＩＢ２０１３／０００８４０の広報）、
ＷＯ／２０１３／１３２３３９（２０１３年３月５日に出願されたＰＣＴ／ＩＢ２０１３／０００７５７の広報）、
ＷＯ／２０１３／１３２３４３（２０１３年３月５日に出願されたＰＣＴ／ＩＢ２０１３／０００８２２の広報）、
ＷＯ／２０１３／１３２３４０（２０１３年３月５日に出願されたＰＣＴ／ＩＢ２０１３／０００７８２の広報）、
ＷＯ／２０１３／１３２４３２（２０１３年３月５日に出願されたＰＣＴ／ＩＢ２０１３／０５１７４３の広報）。

【0004】

図１は、インク画像が中間転写部材（ＩＴＭ）に堆積される前にＩＴＭが前処理される従来型印刷処理のフローチャートである。ステップＳ１では、ＩＴＭ表面を前処理するために処理溶液が疎水性ＩＴＭの表面に塗布される。ステップＳ９では、水性インクの液滴が前処理済みＩＴＭ表面上にインクジェットされ、それによりインク画像が形成される。ステップＳ１３では、インク画像がＩＴＭ表面上で乾燥する。ステップＳ１７では、乾燥されたインク画像は基板上に転送される。

【0005】

本発明の様々な実施形態は、改善された印刷処理に、改善されたＩＴＭ（またはＩＴＭの部分）に、および、水性インクの液滴を堆積する前にＩＴＭを前処理するために使用される改善された組成物に、関する。

【発明の概要】

【0006】

本発明の様々な態様は、ａ．以下の特性すなわち、（ｉ）シリコーン系剥離層表面上に堆積された蒸留水滴の後退接触角が最大６０度であること、および、（ｉｉ）シリコーン系剥離層表面上に堆積された蒸留水滴の１０秒動的接触角（ＤＣＡ）が最大１０８度であること、のうちの少なくとも１つを満足するよう十分な親水性を示すシリコーン系剥離層表面を含む中間転写部材（ＩＴＭ）を提供することと、ｂ．ｉ．摂氏２５度において少なくとも５％の水溶解度を有する少なくとも３重量％の第四級アンモニウム塩、ｉｉ．摂氏２５度において少なくとも５％の水溶解度を有する少なくとも１重量％の少なくとも１つの水溶性ポリマー、および、ｉｉｉ．水を含むキャリア液体であって、該水は、水性処理調合物の少なくとも６５重量％を占める、キャリア液体、を含む水性処理調合物であって、下の特性、すなわち、ｉ．摂氏２５度において２０～４０ダイン／ｃｍの範囲内の静的表面張力、ｉｉ．少なくとも１０ｃＰである摂氏２５度粘性係数、および、ｉｉｉ．重量で最大８：１の摂氏６０度蒸発負荷、を有する、水性処理調合物を提供することと、ｃ．水性処理調合物をＩＴＭのシリコーン系剥離層表面に塗布して、最大０．８μｍの厚さを有する湿潤処理層を前述のシリコーン系剥離層表面上に形成することと、ｄ．湿潤処理層に乾燥処理を施して、湿潤処理層から、シリコーン系剥離層表面上に乾燥処理薄膜を形成することと、ｅ．水性インクの液滴を乾燥処理薄膜上に堆積して、シリコーン系剥離層表面の剥離層表面上にインク画像を形成することと、ｆ．インク画像を乾燥させてシリコーン系剥離層表面上に残留インク画像を残すことと、ｇ．ＩＴＭと印刷基板との間の加圧接触により、残留インク画像を印刷基板上に転送することと、を含む、印刷方法に関する。

【0007】

本発明の様々な態様は、ａ．以下の特性すなわち、（ｉ）シリコーン系剥離層表面上に堆積された蒸留水滴の後退接触角が最大６０度であること、および、（ｉｉ）シリコーン系剥離層表面上に堆積された蒸留水滴の１０秒動的接触角（ＤＣＡ）が最大１０８度であること、のうちの少なくとも１つを満足するよう十分な親水性を示すシリコーン系剥離層表面を含む中間転写部材（ＩＴＭ）を提供することと、ｂ．ｉ．摂氏２５度において少なくとも５％の水溶解度を有する少なくとも３重量％の第四級アンモニウム塩、ｉｉ．摂氏２５度において少なくとも５％の水溶解度を有する少なくとも１重量％の少なくとも１つの水溶性ポリマー、および、ｉｉｉ．水を含むキャリア液体であって、該水は、水性処理調合物の少なくとも６５重量％を占める、キャリア液体、を含む水性処理調合物であって、下の特性、すなわち、ｉ．摂氏２５度において２０～４０ダイン／ｃｍの範囲内の静的表面張力、ｉｉ．少なくとも１０ｃＰである摂氏２５度粘性係数、および、ｉｉｉ．重量で最大８：１の摂氏６０度蒸発負荷、を有する、水性処理調合物を提供することと、ｃ．水性処理調合物をＩＴＭのシリコーン系剥離層表面に塗布して、シリコーン系剥離層表面上に湿潤処理層を形成することと、ｄ．湿潤処理層に乾燥処理を施して、湿潤処理層から、シリコーン系剥離層表面上に乾燥処理薄膜を形成することと、ｅ．水性インクの液滴を乾燥処理薄膜上に堆積して、シリコーン系剥離層表面の剥離層表面上にインク画像を形成することと、ｆ．インク画像を乾燥させてシリコーン系剥離層表面上に残留インク画像を残すことと、ｇ．ＩＴＭと印刷基板との間の加圧接触により、残留インク画像を６０°基板上に転送することと、を含む、印刷方法に関する。

【0008】

いくつかの実施形態では、提供される水性処理調合物の摂氏６０度蒸発負荷は、最大で６：１、最大で５：１、最大で４：１、最大で３．５：１、または最大で３：１、および所望により、少なくとも２：１、少なくとも２．２：１、または少なくとも２．５：１である。

【0009】

いくつかの実施形態では、提供される水性処理調合物内における該第四級アンモニウム塩の濃度は３～１５％の範囲内、該水溶性ポリマーの濃度は２．５～１０％または２．５～８％の範囲内、摂氏６０度蒸発負荷は２．５：１～４：１の範囲内であり、該粘度は少なくとも１２ｃＰであり、所望により少なくとも１４ｃＰまたは少なくとも１６ｃＰである。

【0010】

いくつかの実施形態では、提供される水性処理調合物は、少なくとも６％、少なくとも７％、少なくとも８％、少なくとも９％、または少なくとも１０％、および所望により、６～４０％、６～３０％、６～２０％、７～３０％、７～２０％、７～１５％、８～２５％、８～２０％、８～１５％、または８～１３％の範囲内の総界面活性剤濃度を有する。

【0011】

いくつかの実施形態では、提供される水性処理調合物内の有機溶媒の合計濃度は、最大３重量％、最大２重量％、最大１重量％、または最大０．５重量％であるか、または調合物は有機溶媒を含まない。

【0012】

いくつかの実施形態では、提供される水性処理調合物内の液体吸湿剤の濃度は、最大１．５重量％、最大１重量％、最大０．５重量％、最大０．３重量％、または最大０．１重量％であるか、または水性処理調合物は液体吸湿剤を含まない。

【0013】

いくつかの実施形態では、提供される水性処理調合物内における第四級アンモニウム塩は有機第四級アンモニウム塩である。

【0014】

いくつかの実施形態では、該有機第四級アンモニウム塩の第１炭素鎖は少なくとも６炭素原子の長さを、および所望により、６～２０、６～１８、８～２０、または８～１８炭素原子の範囲内の長さを、有する。

【0015】

いくつかの実施形態では、該有機第四級アンモニウム塩の第２炭素鎖は、最大３炭素原子、または最大２炭素原子の長さを有する。

【0016】

いくつかの実施形態では、該有機第四級アンモニウム塩の第３炭素鎖は、最大３炭素原子、最大２炭素原子、または１炭素原子の長さを有する。

【0017】

いくつかの実施形態では、該有機第四級アンモニウム塩は、所望により硫酸アニオンまたはリン酸アニオンを有するカチオン有機第四級アンモニウム塩である。

【0018】

いくつかの実施形態では、シリコーン系の剥離層表面は、以下の特性、すなわち、シリコーン系剥離層表面上に堆積された蒸留水滴の後退接触角が最大６０度であることのうちの少なくとも１つを満足するにあたり十分な親水性を示す。

【0019】

いくつかの実施形態では、シリコーン系剥離層表面は、以下の特性、すなわち、シリコーン系剥離層表面上に堆積された蒸留水滴の１０秒動的接触角（ＤＣＡ）が最大１０８度であることのうちの少なくとも１つを満足するにあたり十分な親水性を示す。

【0020】

いくつかの実施形態では、提供されるＩＴＭは、支持層と、該シリコーン系剥離層表面、および、（ｉ）該シリコーン系剥離層表面に対向し、かつ（ｉｉ）該支持造に付着された、第２表面を有する剥離層と、を含み、該剥離層は付加硬化型シリコーン物質で形成され、該剥離層の厚さは最大５００マイクロメートル（μｍ）である。

【0021】

いくつかの実施形態では、提供されるＩＴＭの剥離層は、実質的に付加硬化型シリコーンからなるか、または少なくとも９５重量％の付加硬化型シリコーンを含む。

【0022】

いくつかの実施形態では、提供されるＩＴＭの該シリコーン系剥離層表面内の官能基は、該付加硬化型シリコーン物質の最大３重量％を構成する。

【0023】

いくつかの実施形態では、ポリエーテルグリコール官能化ポリジメチルシロキサンが、提供されるＩＴＭの該付加硬化型シリコーン物質に充填される。

【0024】

いくつかの実施形態では、提供されるＩＴＭの剥離層は、インク受容表面の極性基が、第２表面から離間する方向または第２表面と逆の方向を有するよう、適応される。

【0025】

いくつかの実施形態では、提供されるＩＴＭのシリコーン系剥離層表面の表面疎水性は、剥離層内の硬化シリコーン物質のバルク疎水性よりも小さい。なお、表面疎水性はインク受容表面上における蒸留水液滴の後退接触角により特徴付けられ、バルク疎水性は、露出エリアを形成するために剥離層内の硬化シリコーン物質のエリアを露出させることにより形成された内側表面上に堆積された蒸留水液滴の後退接触角により特徴付けられる。

【0026】

いくつかの実施形態では、水性処理調合物は、湿潤処理層の厚さが最大０．５μｍ、または最大０．４μｍとなるよう、シリコーン系剥離層表面に塗布される。

【0027】

いくつかの実施形態では、湿潤処理層は、丸みを帯びた表面をＩＴＭに向かって、またはその逆方向に、付勢することにより、形成され、および／または、薄くされる。ここで、ｉ．丸みを帯びた表面は最大２ｍｍ、または最大１．５ｍｍ、または最大１．２５ｍｍ、または最大１ｍｍの曲率半径を有し、および／または、ｉｉ．付勢は、少なくとも２５０ｇ／ｃｍ、または少なくとも３５０ｇ／ｃｍ、または少なくとも４００ｇｍ／ｃｍ、および／または、最大１ｋｇ／ｃｍ、または最大７５０ｇ／ｃｍ、または最大６００ｇ／ｃｍの交差印刷方向における力密度で行われ、および／または、ｉｉｉ．付勢は、ＩＴＭとの間に圧力を印加することにより行われ、圧力の大きさは、少なくとも０．１バール、または少なくとも０．２５バール、または少なくとも０．３５バール、または少なくとも０．５バール、および所望により最大２バール、または最大１．５バール、または最大１バールである。

【0028】

いくつかの実施形態では、湿潤処理層は、移動中のＩＴＭに対して力を直接的または間接的に印加し、それにより（ｉ）ＩＴＭを変形させてＩＴＭに凹部を生じさせ、かつ、（ｉｉ）流れる水性処理調合物の速度勾配を確立するする、静止アプリケータおよび／または丸みを帯びた表面により、形成され、および／または薄くされる。なお、この速度勾配は、ＩＴＭに対して垂直であり、ＩＴＭと静止アプリケータとの間の間隙領域に形成される。

【0029】

いくつかの実施形態では、速度勾配の大きさは、少なくとも１０^６／秒または少なくとも２×１０^６／秒である。

【0030】

いくつかの実施形態では、水性処理調合物は、その上に湿潤処理層を形成するために少なくとも１メートル／秒、または少なくとも１．５メートル／秒、または少なくとも２メートル／秒の速度で移動中のＩＴＭの少なくとも１部分（単数または複数）に塗布される。

【0031】

いくつかの実施形態では、湿潤処理層の形成、または湿潤処理層を薄くすることは、ＩＴＭに対して垂直な速度勾配が確立され、速度勾配の大きさが少なくとも１０^６／秒または少なくとも２×１０^６／秒となるよう、水性処理調合物を強制的に流すことを含む。

【0032】

いくつかの実施形態では、ＩＴＭの剥離表面は、最大５０、または最大４５、または最大４０、または最大３５、または最大３０、または最大２５、または最大２０、または最大１５のショアＡ硬度を有する。

【0033】

いくつかの実施形態では、湿潤処理層の乾燥処理は、表面張力により誘導されるビーディングが阻害されて、乾燥された処理薄膜が滑らかな上方表面を有するように、水性処理調合物の粘度が十分迅速に大きくなるよう、十分迅速に行われる。

【0034】

いくつかの実施形態では、乾燥された処理薄膜の滑らかな上方表面は、最大１２ナノメートル、または最大１０ナノメートル、または最大９ナノメートル、または最大８ナノメートル、または最大７ナノメートル、または最大５ナノメートルの平均粗度Ｒ_ａにより特徴付けられる。

【0035】

いくつかの実施形態では、処理溶液の乾燥は、ビーディングが防止され、かつ、最大２００ｎｍ、または最大１５０ｎｍ、または最大１２０ｎｍ、または最大１００ｎｍ、または最大８０ｎｍ、または最大７０ｎｍ、または最大６０ｎｍ、または最大５０ｎｍ、または最大４０ｎｍ、または最大３０ｎｍの厚さを有する親水性および凝集性を有する連続的なポリマー処理薄膜が残されるよう、十分迅速に行われる。

【0036】

いくつかの実施形態では、水性インク液滴が堆積される乾燥処理薄膜の厚さは最大２００ｎｍ、または最大１２０ｎｍ、または最大１００ｎｍ、または最大８０ｎｍである。

【0037】

いくつかの実施形態では、水性インク液滴が堆積される乾燥処理薄膜の厚さは少なくとも１５ｎｍ、または少なくとも２０ｎｍ、または少なくとも３０ｎｍである。

【0038】

いくつかの実施形態では、乾燥処理薄膜は、ＩＴＭの剥離表面の長方形全体にわたり連続的である。なお該長方形は少なくとも１０ｃｍの幅および少なくとも１０メートルの長さを有する。

【0039】

いくつかの実施形態では、長方形の面積の少なくとも５０％、または少なくとも７５％、または少なくとも９０％、または少なくとも９５％ 少なくとも９５％、または少なくとも９９％、または１００％に対して、乾燥処理薄膜の厚さは、５０％、または４０％、または３０％を越えて長方形内の平均厚さ値から逸脱しない。

【0040】

いくつかの実施形態では、湿潤処理層の乾燥処理の間、湿潤処理層の動的粘度は、最大２５０ミリ秒の期間内で、少なくとも１０００倍増加する。

【0041】

いくつかの実施形態では、乾燥処理薄膜の液体含有量は、最大１０重量／重量％、または最大７．５重量／重量％、または最大５重量／重量％、または最大２．５重量／重量％、または最大１．５重量／重量％、または最大１重量／重量％である。

【0042】

いくつかの実施形態では、水性インクの液滴はインクジェットにより乾燥処理薄膜上に堆積される。

【0043】

いくつかの実施形態では、残留インク画像は、乾燥処理薄膜の非印刷エリアとともに、印刷基板上に転送される。

【0044】

いくつかの実施形態では、乾燥処理薄膜の厚さは最大１２０ｎｍである。

【0045】

いくつかの実施形態では、乾燥処理薄膜は、残留インク画像の転送の間、印刷エリアおよび非印刷エリアの両方において乾燥処理薄膜が完全にＩＴＭから分離して、乾燥インク画像とともに印刷基板に転送されるよう、十分な凝集性を有する。

【0046】

いくつかの実施形態では、残留インク画像の転送は、最大摂氏１００度または最大摂氏９０度の転送温度で行われる。

【0047】

いくつかの実施形態では、水性インクの固形物（例えばナノ色素および／または樹脂）は乾燥処理薄膜のバルク中へと流動し、乾燥処理薄膜内に存在する第四級アンモニウム塩と反応（例えば結合）する（それにより、例えば液滴の展開が助長される）。

【0048】

いくつかの実施形態では、水性インクの固形物は乾燥処理薄膜のバルク中に流動し、乾燥処理薄膜内に存在する第四級アンモニウム塩と反応し、それにより液滴の展開が助長される。

【0049】

いくつかの実施形態では、この方法は、ｉ．インク基板上に存在するインクドットのインクドットセットＩＤＳが形成され、ｉｉ．ＩＴＭ上に存在する乾燥処理薄膜上に堆積された水性インク液滴の液滴複数性（ｄｒｏｐｌｅｔ ｐｌｕｒａｌｉｔｙ）ＤＰが、所与の液滴が所与の基板上に存在するインクドットを生じさせ、および／または基板上に存在するインクドットに進化するように、Ａ．液滴複数性ＤＰの各所与の液滴と、Ｂ．インクドットセットのそれぞれの所与の基板上に存在するインクドットと、の間に対応関係が存在するよう、インク基板上に存在するインクドットのインクドットセットＩＤＳを形成し、ｉｉｉ．堆積の間、液滴複数性の液滴がＩＴＭ上の乾燥処理薄膜と衝突するときはつねに、衝突する液滴の運動エネルギーが液滴を変化させ、ｉｖ．ＩＴＭの表面の上方で変形した液滴のうちの各液滴の最大衝突半径が最大衝突半径値Ｒ_{ＭＡＸ＿ＩＭＰＡＣＴ}を有し、ｖ．衝突の後、基板上に存在するインクドットセットＩＤＳの各インクドットが乾燥ドット半径Ｒ_{ＤＲＩＥＤ＿ＤＯＴ＿ＯＮ＿ＳＵＢＳＴＲＡＴＥ}を有するよう、物理化学的な力が変形された液滴を展開させ、ｖｉ．液滴複数性の各液滴およびインクドットセットＩＤＳの対応するインクドットに対して、Ａ．基板上に存在する乾燥ドット半径Ｒ_{ＤＲＩＥＤ＿ＤＯＴ＿ＯＮ＿ＳＵＢＳＴＲＡＴＥ}と、Ｂ．変形された液滴最大衝突半径値Ｒ_{ＭＡＸ＿ＩＭＰＡＣＴ}と、の比が少なくとも１．１となるよう、実行される。

【0050】

いくつかの実施形態では、この方法は、ｉ．ＩＴＭ上に存在する乾燥処理薄膜上に堆積された液滴の液滴複数性ＤＰが基板上に存在するインクドットのインクドットセットＩＤＳ（すなわち、上部基板表面に固定的に付着された）を生成し、液滴複数性ＤＰの各液滴はインクドットセットＩＤＳの異なるそれぞれの基板上に存在するインクドットに対応し、ｉｉ．液滴複数性ＤＰの各インク液滴が、噴出パラメータにしたがって、基板上に堆積され、ｉｉｉ．液滴複数性ＤＰのインク液滴の物理化学的特性とともに噴出パラメータが共同的にインクジェット紙ドット半径Ｒ_{ＤＩＲＥＣＴ－ＪＥＴＴＩＮＧ－ＯＮＴＯ－ＩＮＫ－ＪＥＴ－ＰＡＰＥＲ－ＴＨＥＯＲＥＴＩＣＡＬ}を定義し、なお、インクジェット紙ドット半径Ｒ_{ＤＩＲＥＣＴ－ＪＥＴＴＩＮＧ－ＯＮＴＯ－ＩＮＫ－ＪＥＴ－ＰＡＰＥＲ－ＴＨＥＯＲＥＴＩＣＡＬ}は、インク液滴が乾燥処理薄膜上にではなく直接的にインクジェット紙にインクジェットされた場合に取得されるインクドットの半径であり、ｉｖ．（Ａ）インクドットセットＩＤＳのドットの乾燥ドット半径Ｒ_{ＤＲＩＥＤ＿ＤＯＴ＿ＯＮ＿ＳＵＢＳＴＲＡＴＥ}と、（Ｂ）インクジェット紙ドット半径Ｒ_{ＤＩＲＥＣＴ－ＪＥＴＴＩＮＧ－ＯＮＴＯ－ＩＮＫ－ＪＥＴ－ＰＡＰＥＲ－ＴＨＥＯＲＥＴＩＣＡＬ}と、の間の比が少なくとも１．１となるよう、実行される。

【0051】

いくつかの実施形態では、インクドットセットの濃度は、少なくとも５、または少なくとも１０、または少なくとも２０、または少なくとも５０、または少なくとも１００であり、インクドットセットの各インクドットは基板上で明確に区別される。

【0052】

いくつかの実施形態では、インクドットセットのインクドットは、印刷基板上で突起する正方形幾何学的突起物内に含まれる。インクドットセットの各インクドットは、印刷基板の表面に固定的に付着され、該正方形幾何学的突起物内の全部の該インクドットはインクドットセットＩＤＳの個々の部材としてみなされる。

【0053】

いくつかの実施形態では、この方法は、ｉ．インク基板上に存在するインクドットのインクドットセットＩＤＳが形成され、ｉｉ．インクドットセットの濃度が、少なくとも５、または少なくとも１０、または少なくとも２０、または少なくとも５０、または少なくとも１００となり、インクドットセットの各インクドットは基板上で明確に区別され、ｉｉｉ．インクドットセットのインクドットは、印刷基板上で突起する正方形幾何学的突起物内に含まれ、インクドットセットの各インクドットは、印刷基板の表面に固定的に付着され、該正方形幾何学的突起物内の全部の該インクドットはインクドットセットＩＤＳの個々の部材としてみなされ、ｉｖ．該インクドットの各インクドットは、有機ポリマー樹脂中に分散された少なくとも１つの着色剤を含み、該ドットの各ドットは、２，０００ｎｍより小さい平均厚さ、および５～３００マイクロメートルの直径を有し、ｖ．該インクドットの各インクドットは、略凸形状を有し、ここで凸形状からの偏差（ＤＣ_ｄｏｔ）は、ＤＣ_ｄｏｔ＝１－ＡＡ／ＣＳＡにより定義され、式中、ＡＡは該ドットの計算された投影エリアであり、該投影エリアは該印刷基板に対して略平行であり、ＣＳＡは該投影エリアの輪郭を最小に閉ざす凸形状の表面積であり、ｖｉ．該インクドットセットの凸性からの平均偏差（ＤＣ_{ｄｏｔ ｍｅａｎ}）が最大０．０５、最大０．０４、最大０．０３、最大０．０２５、最大０．０２２、最大０．０２、最大０．０１８、最大０．０１７、最大０．０１６、最大０．０１５、または最大０．０１４となるよう、実行される。

【0054】

いくつかの実施形態では、水性処理調合物は、その上に湿潤処理層を形成するために少なくとも１メートル／秒、または少なくとも１．５メートル／秒、または少なくとも２メートル／秒の速度で移動中のＩＴＭの少なくとも１部分（単数または複数）に塗布される。

【0055】

いくつかの実施形態では、この方法は、水性処理調合物内の水溶性ポリマーの水溶性ポリマー濃度が最大１０重量％、または最大８重量％、または最大６重量％、または最大５重量％となるよう実行される。

【0056】

印刷システムの中間転写部材とともに使用するための水性処理調合物であって、（ａ）第１界面活性剤を含む第１界面活性剤組成物であって、該第１界面活性剤は、摂氏２５度において少なくとも５％の水溶解度を有する第四級アンモニウム塩を含む、第１界面活性剤組成物と、（ｂ）摂氏２５度において少なくとも５％の水溶解度を有する少なくとも１重量％の少なくとも１つの水溶性ポリマーと、（ｃ）水を含むキャリア液体であって、該水は処理調合物の少なくとも６５重量％を占める、キャリア液体と、を含み、水性処理調合物内の該第四級アンモニウム塩の濃度は少なくとも３重量％であり、処理調合物は、（ｉ）摂氏２５度において２０～４０ダイン／ｃｍの範囲内の静的表面張力、（ｉｉ）重量で最大８：１の摂氏６０度蒸発負荷、および、（ｉｉｉ）１０ｃＰ～１００ｃＰの範囲内の摂氏２５度粘度を有する、水性処理調合物。

【0057】

いくつかの実施形態では、該第四級アンモニウム塩の該溶解度は少なくとも７％、少なくとも１０％、少なくとも１５％、もしくは少なくとも２０％、所望により最大５０％、最大４０％、もしくは最大３５％、または、さらに所望により、５～４０％、５～３０％、５～２５％、７～３５％、１０～３５％、１２～３５％、または１５～３５％の範囲内である。

【0058】

いくつかの実施形態では、水性処理調合物内の該第四級アンモニウム塩の濃度は、少なくとも４％、少なくとも５％、少なくとも６％、もしくは少なくとも７％、所望により、最大３０％、最大２５％、もしくは最大２０％、またはさらに所望により、２～３０％、３～３０％、４～３０％、４～２０％、５～２５％、６～２５％、６～２０％、もしくは７～２０％の範囲内である。

【0059】

いくつかの実施形態では、水性処理調合物内の該水溶性ポリマーの濃度は、少なくとも１．５重量％、もしくは少なくとも２重量％、少なくとも２．５重量％、少なくとも３重量％、もしくは少なくとも３．５重量％、所望により、最大１０％、もしくは最大９％、もしくは最大８％、もしくは最大７％、もしくは最大６％、またはさらに所望により、１．５～２０％、もしくは２～１０％、２～８％、２～７％、２．５～１０％、２．５～８％、２．５～７％、２．５～６％、３～８％、３～７％、３～６％、３～６％、３．５～１０％、３．５～８％、３．５～７％、３．５～６％、もしくは４～６％の範囲内である。

【0060】

いくつかの実施形態では、該水溶性ポリマーの該水溶解度は少なくとも７％、少なくとも１０％、少なくとも１２％、または少なくとも１５％である。

【0061】

いくつかの実施形態では、該水溶性ポリマーは、ポリビニルアルコール、水溶性セルロース、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、ポリエチレンオキシド、ポリエチレンイミン、および水溶性アクリラートからなる群より選択される。

【0062】

いくつかの実施形態では、摂氏６０度蒸発負荷は、最大で６：１、最大で５：１、最大で４：１、最大で３．５：１、または最大で３：１、および所望により、少なくとも２：１、少なくとも２．２：１、または少なくとも２．５：１である。

【0063】

いくつかの実施形態では、水性処理調合物の静的表面張力を低下させるよう選択された第２界面活性剤をさらに含み、該第２界面活性剤は所望によりシリコンポリエーテルであり、該第２界面活性剤は所望により調合物内で少なくとも１重量％、少なくとも１．５重量％、少なくとも２重量％、少なくとも２．５重量％、もしくは、少なくとも３重量％、所望により、最大１５％、最大１２％、最大１０％、最大８％、もしくは最大７％、または、さらに所望により、１．５～１３％、１．５～１０％、２～１３％、２～１０％、２．５～１３％、２．５～１０％、もしくは３～１０％の範囲内の濃度を有する。

【0064】

いくつかの実施形態では、処理調合物は、少なくとも摂氏２５度～摂氏６０度の範囲内の該キャリア液体内に配置された吸水剤をさらに含む。それにより、水性処理溶液は蒸発されて、固体膜を形成する。該吸水剤は吸水体として機能する。

【0065】

いくつかの実施形態では、該キャリア液体内に配置された吸水剤をさらに含む。該吸水剤は、純粋状態において、少なくとも摂氏２５度～摂氏６０度の範囲内において固体であり、水性処理溶液が蒸発して固体膜が形成されるとき該吸水剤は吸水体として作用する。

【0066】

いくつかの実施形態では、該吸水剤は、１～２５％、１～１５％、１～１０％、２．５～２０％、２．５～１２％、３～１５％、３～１２％、３～１０％、または３．５～１２％の濃度を有する。

【0067】

いくつかの実施形態では、該第四級アンモニウム塩の該濃度は３～１５％の範囲内であり、該水溶性ポリマーの濃度は２．５～１０％、２．５～８％、または２．５～７％、または２．５～６％の範囲内であり、摂氏５６０度蒸発負荷は２．５：１～４：１の範囲内であり、該粘度は少なくとも１２ｃＰであり、所望より少なくとも１４ｃＰまたは少なくとも１６ｃＰである。

【0068】

いくつかの実施形態では、該静的表面張力は２５～３６ダイン／ｃｍの範囲内である。

【0069】

いくつかの実施形態では、該吸水剤は２．５～１０％の濃度を有する。

【0070】

いくつかの実施形態では、水性処理調合物は、少なくとも６％、少なくとも７％、少なくとも８％、少なくとも９％、または少なくとも１０％、および所望により６～４０％、６～３０％、６～２０％、７～３０％、７～２０％、７～１５％、８～２５％、８～２０％、８～１５％、または８～１３％の範囲内、の合計界面活性剤濃度を有する。

【0071】

いくつかの実施形態では、水性処理調合物の全成分は完全に溶解される。

【0072】

いくつかの実施形態では、水性処理調合物内の有機溶媒の合計濃度は最大３重量％、最大２重量％、最大１重量％、または最大０．５重量％であるか、または調合物は有機溶媒を含まない。

【0073】

いくつかの実施形態では、水性処理調合物内の液体吸湿剤の濃度は、最大１．５重量％、最大１重量％、最大０．５重量％、最大０．３重量％、または最大０．１重量％であるか、または水性処理調合物は液体吸湿剤を含まない。

【0074】

いくつかの実施形態では、該第四級アンモニウム塩は有機第四級アンモニウム塩である。

【0075】

いくつかの実施形態では、該有機第四級アンモニウム塩の第１炭素鎖は少なくとも６炭素原子の長さを、および所望により、６～２０、６～１８、８～２０、または８～１８炭素原子の範囲内の長さを、有する。

【0076】

いくつかの実施形態では、該有機第四級アンモニウム塩の第２炭素鎖は、最大３炭素原子、または最大２炭素原子の長さを有する。

【0077】

いくつかの実施形態では、該有機第四級アンモニウム塩の第３炭素鎖は、最大３炭素原子、最大２炭素原子、または１炭素原子の長さを有する。

【0078】

いくつかの実施形態では、該有機第四級アンモニウム塩は、所望により硫酸アニオンまたはリン酸アニオンを有するカチオン有機第四級アンモニウム塩である。

【0079】

いくつかの実施形態では、該ポリエチレンイミンは、調合物の最大０．８重量％、０．６重量％、０．４重量％、または０．３重量％、または０．２重量％、または０．１重量％を占めるか、またはポリエチレンイミンは該水溶性ポリマー最大３０重量％、最大２０重量％、最大１５重量％、最大１０重量％、または最大５重量％を占める。

【0080】

いくつかの実施形態では、該粘度は少なくとも１２ｃＰ、少なくとも１４ｃＰ、または少なくとも１６ｃＰ、所望により、最大９０ｃＰ、最大８０ｃＰ、最大７０ｃＰ、最大６０ｃＰ、最大５５ｃＰ、または最大５０ｃＰ、およびさらに所望により、１０～８０ｃＰ、１２～８０ｃＰ、１２～６０ｃＰ、１２～５５ｃＰ、または１４～６０ｃＰの範囲内である。

【0081】

いくつかの実施形態では、水性処理調合物内の水溶性ポリマーの水溶性ポリマー濃度は最大１０重量％または最大８重量％または最大６重量％または最大５重量％である。

【0082】

いくつかの実施形態では、提供されるＩＴＭは、（ａ）支持層と、（ｂ）インク画像を受容するためのインク受容表面および該インク受容表面に対向する第２表面を有する剥離層と、を含み、該第２表面は該支持層に付着され、該剥離層は付加硬化型シリコーン物質から形成され、該剥離層は最大５００マイクロメートル（μｍ）の厚さを有し、ＩＴＭは以下の構造特性、すなわち、（１）該インク受容表面の全表面エネルギーが、対応剥離層のインク受容表面に標準的エージング手順を施すことにより生産された変更されたインク受容表面の全表面エネルギーよりも、少なくとも２ｍＮ／ｍ、少なくとも３ｍＮ／ｍ、少なくとも４ｍＮ／ｍ、少なくとも５ｍＮ／ｍ、少なくとも６ｍＮ／ｍ、少なくとも８ｍＮ／ｍ、または少なくとも１０ｍＮ／ｍ高いこと、（２）該インク受容表面の全表面エネルギーが、該硬化されたシリコーン物質のシリコーン前駆体の標準的空気硬化により準備された対応剥離層の疎水性インク受容表面の全表面エネルギーよりも、少なくとも４ｍＮ／ｍ、少なくとも６ｍＮ／ｍ、少なくとも８ｍＮ／ｍ、少なくとも１０ｍＮ／ｍ、少なくとも１２ｍＮ／ｍ、少なくとも１４ｍＮ／ｍ、または少なくとも１６ｍＮ／ｍ高いことと、（３）該インク受容表面上の蒸留水液滴の後退接触角が、該硬化されたシリコーン物質のシリコーン前駆体の標準的空気硬化により準備された対応剥離層のインク受容表面上の蒸留水液滴の後退接触角よりも、少なくとも７度、少なくとも８度、少なくとも１０度、少なくとも１２度、少なくとも１４度、少なくとも１６度、少なくとも１８度、または、少なくとも２０度低いことと、（４）該インク受容表面上の蒸留水液滴の後退接触角が、該インク受容表面に標準的なエージング手順を施すことにより生産されたエージングされた表面上の蒸留水液滴の後退接触角よりも少なくとも５度、少なくとも６度、少なくとも７度、または、少なくとも８度小さいことと、（５）該インク受容表面の表面疎水性が該剥離層内の該硬化されたシリコーン物質のバルク疎水性よりも小さく、該表面疎水性は該インク受容表面上の蒸留水液滴の後退接触角により特徴付けられ、該バルク疎水性は、露出エリアを形成するために該剥離層内の該硬化されたシリコーン物質のエリアを露出させることにより形成された内側表面上に配置された蒸留水液滴の後退接触角により特徴付けられ、該インク受容表面上で測定された該後退接触角は、該露出エリアで測定された該後退接触角よりも、少なくとも７度、少なくとも８度、少なくとも１０度、少なくとも１２度、少なくとも１４度、少なくとも１６度、少なくとも１８度であるか、または、少なくとも２０度低いことと、（６）該インク受容表面上の蒸留水液滴の後退接触角は最大６０度、最大５８度、最大５６度、最大５４度、最大５２度、最大５０度、最大４８度、最大４６度、最大４４度、最大４２度、最大４０度、最大３８度、または最大３６度であることと、のうちの少なくとも１つを含む。

【0083】

いくつかの実施形態では、該付加硬化型シリコーン物質は、実質的に付加硬化型シリコーンからなるか、または、少なくとも９５重量％の該付加硬化型シリコーンを含む。

【0084】

いくつかの実施形態では、官能基は該付加硬化型シリコーン物質の最大５重量％、最大３重量％、最大２重量％、または最大１重量％を占めるか、または該付加硬化型シリコーン物質は実質的に該官能基を含まない。

【0085】

いくつかの実施形態では、ポリエーテルグリコール官能化ポリジメチルシロキサンが、該付加硬化型シリコーン物質に充填される。

【0086】

いくつかの実施形態では、ポリエーテルグリコール官能化シロキサンが該付加硬化型シリコーン物質に充填されるが、該付加硬化型シリコーン物質の共有構造の一部を形成しない。

【0087】

印刷システムとともに使用するための中間転写部材（ＩＴＭ）（例えば、これは「提供されるＩＴＭ」であるＩＴＭであり得る）であって、（ａ）支持層と、（ｂ）インク画像を受容するためのインク受容表面、および、該インク受容表面に対向する第２表面を有する、剥離層であって、該第２表面は該支持層に付着されている、剥離層と、を含み、該剥離層は付加硬化型シリコーン物質から形成され、該剥離層は最大５００マイクロメートル（μｍ）の厚さを有し、該インク受容表面は、以下の構造特性、すなわち、（ｉ）該インク受容表面上の蒸留水液滴の後退接触角が最大６０度であることと、（ｉｉ）該インク受容表面上に堆積された蒸留水液滴について、１０秒動的接触角（ＤＣＡ）が最大１０８度であること、のうちの少なくとも一方を含み、該剥離層は以下の構造特性、すなわち、（１）該付加硬化型シリコーン物質は、実質的に付加硬化型シリコーンからなるか、または、少なくとも９５重量％の該付加硬化型シリコーンを含むことと、（２）官能基は、該付加硬化型シリコーン物質の最大３重量％を占めることと、のうちの少なくとも一方を有するＩＴＭ。

【0088】

いくつかの実施形態では、該後退接触角は最大５８度、最大５６度、最大５４度、最大５２度、最大５０度、最大４８度、最大４６度、最大４４度、最大４２度、最大４０度、最大３８度、または最大３７度である。

【0089】

いくつかの実施形態では、提供されるＩＴＭ（例えばこの印刷方法のＩＴＭ）は、次の特徴を有する。すなわち、該官能基は、該付加硬化型シリコーン物質の最大２重量％、最大１重量％、最大０．５重量％、最大０．２重量％、または最大０．１重量％を占めるか、または、該付加硬化型シリコーン物質は実質的に該官能基を含まない。いくつかの実施形態では、ポリエーテルグリコール官能化ポリジメチルシロキサンが、該付加硬化型シリコーン物質に充填される。

【0090】

いくつかの実施形態では、提供されるＩＴＭ（すなわち、この印刷方法のＩＴＭ）は次の特徴を有する。すなわち、ポリエーテルグリコール官能化シロキサンが該付加硬化型シリコーン物質に充填されるが、該付加硬化型シリコーン物質の共有構造の一部を形成しない。

【0091】

いくつかの実施形態では、提供されるＩＴＭ（例えばこの印刷方法のＩＴＭ）は、次の特徴を有する。すなわち、該剥離層の厚さは、最大５００μｍ、最大１００μｍ、最大５０μｍ、最大２５μｍ、または最大１５μである。

【0092】

いくつかの実施形態では、提供されるＩＴＭ（例えばこの印刷方法のＩＴＭ）は、次の特徴を有する。すなわち、該剥離層の厚さは、１～１００μｍ、５～１００μｍ、８～１００μｍ、１０～１００μｍ、または１０～８０μｍの範囲内である。

【0093】

いくつかの実施形態では、提供されるＩＴＭ（例えばこの印刷方法のＩＴＭ）は、次の特徴を有する。すなわち、該支持層の厚さは、約５０～１０００マイクロメートル（μ）、１００～１０００μ、１００～８００μ、または１００～５００μの範囲内である。

【0094】

いくつかの実施形態では、提供されるＩＴＭ（すなわちこの方法のＩＴＭ）は次の特徴を有する。すなわち、インク受容表面の全表面エネルギーは、対応剥離層のインク受容表面に標準的なエージング手順を施すことにより生産された変更されたインク受容表面の全表面エネルギーよりも、少なくとも２Ｊ／ｍ^２、少なくとも３Ｊ／ｍ^２、少なくとも４Ｊ／ｍ^２、少なくとも５Ｊ／ｍ^２、少なくとも６Ｊ／ｍ^２、少なくとも８Ｊ／ｍ^２、または、少なくとも１０Ｊ／ｍ^２高い。

【0095】

いくつかの実施形態では、提供されるＩＴＭ（すなわちこの方法のＩＴＭ）は次の特徴を有する。すなわち、インク受容表面の全表面エネルギーは、硬化されたシリコーン物質のシリコーン前駆体の標準的空気硬化により準備された対応剥離層の疎水性インク受容表面の全表面エネルギーよりも、少なくとも４Ｊ／ｍ^２、少なくとも６Ｊ／ｍ^２、少なくとも８Ｊ／ｍ^２、少なくとも１０Ｊ／ｍ^２、少なくとも１２Ｊ／ｍ^２、少なくとも１４Ｊ／ｍ^２、または、少なくとも１６Ｊ／ｍ^２大きい。

【0096】

いくつかの実施形態では、提供されるＩＴＭ（すなわち、この印刷方法のＩＴＭ）は次の特徴を有する。すなわち、インク受容表面上の蒸留水液滴の後退接触角が、硬化されたシリコーン物質のシリコーン前駆体の標準的空気硬化により準備された対応剥離層のインク受容表面上の蒸留水液滴の後退接触角よりも、少なくとも７度、少なくとも８度、少なくとも１０度、少なくとも１２度、少なくとも１５度、少なくとも１８度、または、少なくとも２０度低い。

【0097】

いくつかの実施形態では、インク受容表面上の蒸留水液滴の後退接触角は、インク受容表面に標準的エージング手順を施すことにより生産されたエージングされた表面上の蒸留水液滴の後退接触角よりも、少なくとも５度、少なくとも６度、少なくとも７度、または、少なくとも８度低い。

【0098】

いくつかの実施形態では、インク受容表面の表面疎水性は剥離層内の硬化されたシリコーン物質のバルク疎水性よりも小さい。なお、表面疎水性はインク受容表面上における蒸留水液滴の後退接触角により特徴付けられ、バルク疎水性は、露出エリアを形成するために剥離層内の硬化シリコーン物質のエリアを露出させることにより形成された内側表面上に堆積された蒸留水液滴の後退接触角により特徴付けられる。

【0099】

いくつかの実施形態では、提供されるＩＴＭ（すなわち、この印刷方法のＩＴＭ）は次の特徴を有する。すなわち、インク受容表面上で測定された後退接触角は、露出エリアで測定された後退接触角よりも、少なくとも７度、少なくとも８度、少なくとも１０度、少なくとも１２度、少なくとも１４度、少なくとも１６度、少なくとも１８度、または、少なくとも２０度低い。

【0100】

いくつかの実施形態では、インク受容表面上の該蒸留水液滴の該後退接触角は、少なくとも２５度、少なくとも２８度、少なくとも３０度、少なくとも３２度、少なくとも３４度、または少なくとも３６度、および、さらに所望により、２５度～６０度、２８度～６０度、３０度～６０度、３０度～６０度、３０度～５５度、３０度～５０度、３２度～６０度、３２度～５５度、３２度～４４度、３５度～６０度、３５度～５５度、３６度～４４度、または３８度～５０度の範囲内である。

【0101】

いくつかの実施形態では、剥離層は、インク受容表面の極性基が離間する方向または第２表面と逆の方向を有するよう、適応される。

【0102】

いくつかの実施形態では、剥離層は、該インク受容表面が周囲環境に曝露される動作モードにＩＴＭがあるとき、インク受容表面の該極性基が該周囲環境に向かう方向または対向する方向を有するよう、適応される。

【0103】

いくつかの実施形態では、提供されるＩＴＭ（例えばこの印刷方法のＩＴＭ）は、次の特徴を有する。すなわち、ＩＴＭがデジタル印刷システムにおける構成要素を形成する。

【0104】

いくつかの実施形態では、提供されるＩＴＭ（すなわち、この印刷方法のＩＴＭ）は、次の特徴を有する。すなわち、該支持層は該剥離層の該第２表面に付着された弾性コンプライアンス層を含み、該弾性コンプライアンス層は、該インク画像が印圧される印刷基板の表面輪郭に近接して追随するよう適応される。

【0105】

いくつかの実施形態では、提供されるＩＴＭ（すなわち、この印刷方法のＩＴＭ）は次の特徴を有する。すなわち、支持層は該コンプライアンス層に付着された補強層を含む。

【0106】

いくつかの実施形態では、提供されるＩＴＭ（例えばこの印刷方法のＩＴＭ）は次の特徴を有する。すなわち、該剥離層は、そのシリコーンポリマーマトリックス内に、最大３重量％、最大２重量％、最大１重量％、最大０．５重量％、最大０．２重量％、または実質的に０重量％の合計量の官能基を含む。

【0107】

いくつかの実施形態では、提供されるＩＴＭ（例えばこの印刷方法のＩＴＭ）は次の特徴を有する。すなわち、該剥離層は、そのシリコーンポリマーマトリックス内に、最大３重量％、最大２重量％、最大１重量％、最大０．５重量％、最大０．２重量％、または実質的に０重量％の合計量の、Ｃ＝Ｏ、Ｓ＝Ｏ、Ｏ－Ｈ、およびＣＯＯを含む部分の群から選択される官能基を含む。

【0108】

いくつかの実施形態では、提供されるＩＴＭ（例えばこの印刷方法のＩＴＭ）は次の特徴を有する。すなわち、該剥離層は、そのシリコーンポリマーマトリックス内に、最大３重量％、最大２重量％、最大１重量％、最大０．５重量％、最大０．２重量％、または実質的に０重量％の合計量の、シラン部分、アルコキシ部分、アミド部分、およびアミド・アルコキシ部分からなる群より選択される官能基を含む。

【0109】

いくつかの実施形態では、提供されるＩＴＭ（例えばこの印刷方法のＩＴＭ）は次の特徴を有する。すなわち、該剥離層は、そのシリコーンポリマーマトリックス内に、最大３重量％、最大２重量％、最大１重量％、最大０．５重量％、最大０．２重量％、または実質的に０重量％の合計量の、アミン、アンモニウム、アルデヒド、ＳＯ_２、ＳＯ_３、ＳＯ_４、ＰＯ_３、ＰＯ_４、およびＣ－Ｏ－Ｃからなる群より選択される官能基を含む。

【0110】

いくつかの実施形態では、提供されるＩＴＭ（すなわち、この印刷方法のＩＴＭ）は次の特徴を有する。すなわち、該付加硬化型シリコーン物質はビニル官能シリコーンから構築された構造を有する。

【0111】

いくつかの実施形態では、提供されるＩＴＭ（すなわち、この印刷方法のＩＴＭ）は次の特徴を有する。すなわち、該付加硬化型シリコーン物質は「ＭＱ」型の極性基を含む。

【0112】

いくつかの実施形態では、提供されるＩＴＭ（例えばこの印刷方法のＩＴＭ）は、次の特徴を有する。すなわち、該インク受容表面の全表面エネルギーは、Ｏｗｅｎｓ－Ｗｅｎｄｔ表面エネルギーモデルを使用して評価される。

【0113】

いくつかの実施形態では、提供されるＩＴＭ（すなわち、この印刷方法のＩＴＭ）は次の特徴を有する。すなわち、該１０秒ＤＣＡは、最大１０８度、最大１０６度、最大１０３度、最大１００度、最大９６度、最大９２度、または最大８８度、所望により、少なくとも６０度、少なくとも６５度、少なくとも７０度、少なくとも７５度、少なくとも７８度、少なくとも８０度、少なくとも８２度、少なくとも８４度、または少なくとも８６度、およびさらに所望により、６０～１０８度、６５～１０５度、７０～１０５度、７０～１００度、７０～９６度、７０～９２度、７５～１０５度、７５～１００度、８０～１０５度、８０～１００度、８５～１０５度、または８５～１００度の範囲内である。

【0114】

いくつかの実施形態では、提供されるＩＴＭ（すなわち、この印刷方法のＩＴＭ）は次の特徴を有する。すなわち、該インク受容表面は、該インク受容表面上に堆積された該蒸留水液滴に対して、該７０秒動的接触角（ＤＣＡ）と該１０秒ＤＣＡとの間の差異が、少なくとも７度、少なくとも８度、少なくとも１０度，または少なくとも１２度、所望により、最大２５度、最大２２度、最大２０度、最大１８度，または最大１７度、および、さらに所望により、６～２５度、６～２２度、６～２０度、６～１８度、６～１７度、７～２５度、７～２０度、７～１７度、８～２５度、８～２２度、１８～２０度、８～１８度、８～１７度、１０～２５度、１０～２２度、１０～２０度、１０～１８度、または１０～１７度の範囲内となるよう、適応されている。

【0115】

いくつかの実施形態では、該インク受容表面は、該インク受容表面上に堆積された該蒸留水液滴に対して、該７０秒ＤＣＡが、最大９２度、最大９０度、最大８８度、最大８５度、最大８２度、最大８０度、最大７８度、最大７６度、最大７４度、または最大７２度、所望により、少なくとも５５度、少なくとも６０度、少なくとも６５度、または、少なくとも６８度、およびさらに所望により、５５～９２度、５５～９０度、５５～８５度、５５～８０度、６５～９２度、６５～９０度、６５～８５度、６５～８０度、６８～８５度、６８～８０度、７０～９２度、７０～９０度、７０～８５度、または７０～８０度の範囲内となるよう適応されている。

【0116】

ａ．複数のガイドローラ上に搭載された可撓性エンドレスベルトを含む中間転写部材（ＩＴＭ）と、ｂ．ＩＴＭの表面上にインク画像を形成するよう構成された画像形成ステーションであって、ガイドローラの第１および第２が、画像形成ステーションを通過する上方行程と、下方行程と、を画成するために、画像形成ステーションの上流および下流に配置されている、画像形成ステーションと、ｂ．ＩＴＭの下方行程が通過する印圧ステーションであって、画像形成ステーションの下流に配置され、かつ、インク画像をＩＴＭ表面から基板に転送するよう構成された、印圧ステーションと、ｄ．印圧ステーションの下流に配置され、かつ、画像形成ステーションの上流に配置された、液体処理調合物の均一な薄層をＩＴＭの下方行程においてＩＴＭ表面上に形成するための処理ステーションであって、ｉ．液体処理調合物を用いてＩＴＭを被覆するための被覆器を、および、ｉｉ．処理調合物の所望の均一な薄層のみが残されるよう過剰液体を除去するための被覆厚さ調節組立体であって、下方行程においてＩＴＭ表面に対向する丸みを帯びた先端部を含む、被覆厚さ調節組立体を、含む、処理ステーションと、を含む印刷システム。

【0117】

いくつかの実施形態では、丸みを帯びた先端部はドクターブレードの先端部である。

【0118】

いくつかの実施形態では、ドクターブレードはＩＴＭ表面に対して垂直方向に向けられている。

【0119】

いくつかの実施形態では、丸みを帯びた先端部はＩＴＭ表面に向って付勢され、および／または、ＩＴＭ表面は丸みを帯びた先端部に向かって付勢される。

【0120】

いくつかの実施形態では、柔らかい外側表面を有するバッキングローラにより、丸みを帯びた先端部はＩＴＭ表面に向って付勢され、および／またはＩＴＭ表面は丸みを帯びた先端部に向かって付勢される。

【0121】

いくつかの実施形態では、（ｉ）バッキングローラはエンドレスベルトの閉じたループの内側に配置され、かつ、ブレードの反対側に配置され、および／または、（ｉｉ）バッキングローラおよび丸みを帯びた先端部はＩＴＭの下方行程の対向側面上に配置される。

【0122】

いくつかの実施形態では、バッキングローラの外側表面は、以下の特性、すなわち、（ｉ）弾性、（ｉｉ）ゼロメモリ、（ｉｉｉ）一定範囲の温度全域においてその柔らかい外側表面を保持する、（ｉｖ）ポリウレタンから構築される、のうちの１つまたは複数を有する。

【0123】

いくつかの実施形態では、温度範囲の最大と最小との間の差異は、少なくとも摂氏１０度、または少なくとも摂氏２０度、または少なくとも摂氏５０度であり、および／または温度範囲の平均値は摂氏５０度～摂氏１２０度の範囲内である。

【0124】

いくつかの実施形態では、バッキングローラは、丸みを帯びた先端部がＩＴＭ表面に向かって、および／または、ＩＴＭ表面が丸みを帯びた先端部に向かって、付勢されたときに、丸みを帯びた先端部が貫入深さにおいてＩＴＭに貫入するよう圧縮される圧縮性表面を有する。

【0125】

いくつかの実施形態では、丸みを帯びた先端部がＩＴＭ表面に向って、および／またはＩＴＭ表面が丸みを帯びた先端部に向かって、付勢されたとき、丸みを帯びた先端部は貫入深さにおいてＩＴＭに貫入する。

【0126】

いくつかの実施形態では、貫入深さの大きさは、少なくとも１ｍまたは少なくとも２ｍｍ、および／または最大５ｍｍまたは最大４ｍｍまたは最大３ｍｍである。

【0127】

いくつかの実施形態では、丸みを帯びた先端部は、ＩＴＭに向かって、および／または、ＩＴＭが丸みを帯びた先端部に向かって、丸みを帯びた先端部と、丸みを帯びた先端部に対向するＩＭＴ表面の部分との間の間隙に配置された液体溶液に抗して、釣り合った力で付勢され、それにより間隙は一定に維持される。

【0128】

いくつかの実施形態では、間隙の大きさは、処理調合物の所望の均一薄層の厚さを調整する。

【0129】

いくつかの実施形態では、間隙と、所望の均一薄層の厚さと、の間の比は少なくとも０．１、または少なくとも０．２５、または少なくとも０．５、および／または、最大１０、または最大４、または最大２である。

【0130】

いくつかの実施形態では、（ｉ）間隙の大きさは、最大２ミクロン、または最大１ミクロン、または最大０．８ミクロン、または最大０．６ミクロンであり、および／または、（ｉｉ）間隙の大きさと、丸みを帯びた先端部がＩＴＭ表面に貫入する貫入深さと、の間の比は、最大０．０１、または最大０．００５、または最大０．００１、または最大０．０００５である。

【0131】

いくつかの実施形態では、貫入深さは設定値に設定され、付勢の力の大きさは、貫入深さが設定値に維持されるよう、調節される。

【0132】

いくつかの実施形態では、丸みを帯びたドクターブレードの曲率半径は最大２ｍｍ、または最大１．５ｍｍ、または最大１．２５ｍｍ、または最大１ｍｍである。

【0133】

いくつかの実施形態では、ＩＴＭを被覆するための被覆器は、（ｉ）スプレー装置と、（ｉｉ）ＩＴＭ下方行程の下方に配置された、その内部に液体処理調合物が配置される湿潤トレイと、からなる群より選択される。

【0134】

いくつかの実施形態では、このシステムは、印圧ステーションの下流、かつコンディショニング・ステーションの上流に配置された、洗浄ステーションを含む。この洗浄ステーションは、インク画像が基板に転送された後にＩＴＭ表面上に残る残留物質を除去するためのものである。

【0135】

いくつかの実施形態では、このドクターブレードは、表面に向って付勢されるドクターブレードの交換を支援するために、回転可能なタレットの周縁部上に搭載された複数のドクターブレードのうちの１つである。

【0136】

いくつかの実施形態では、タレット周縁部上のブレードの間隔は、ドクターブレードを交換するためにタレットを回転させる間、交換ブレードが機能を開始するまで、交換されるブレードが機能を停止しないよう、設定される。

【0137】

いくつかの実施形態では、現在機能しないドクターブレードに付着するあらゆる付着物を除去するために、ブレード洗浄装置がタレットの近傍に提供される。

【0138】

いくつかの実施形態では、現在機能しないドクターブレードに付着するあらゆる付着物を除去するために、ブレード洗浄装置がタレットの近傍に提供される。

【0139】

いくつかの実施形態では、洗浄装置は回転ブラシである。

【0140】

印刷方法は、ａ．水性インク、水性処理調合物、および、剥離表面を有する中間転写部材（ＩＴＭ）を提供することと、ｂ．水性処理調合物をＩＴＭの剥離表面に塗布して、剥離表面上に湿潤処理層を形成することと、ｃ．湿潤処理層に乾燥処理を施して、湿潤処理層からＩＴＭ上に乾燥処理薄膜を形成することと、ｄ．水性インクの液滴を乾燥処理薄膜上に堆積して、乾燥処理薄膜上にインク画像を形成することと、ｅ．インク画像を乾燥させてＩＴＭの剥離表面上に残留インク画像を残すことと、ｆ．ＩＴＭと印刷基板との間の加圧接触により、残留インク画像を印刷基板上に転送することと、を含む。

【0141】

いくつかの実施形態では、残留インク画像は、乾燥処理薄膜の非印刷エリアとともに、印刷基板上に転送される。

【0142】

いくつかの実施形態では、転送の間、および／または転送の直後、乾燥処理薄膜は非印刷エリアを残留インク画像に機械的に接触および／または結合させる。

【0143】

いくつかの実施形態では、残留インク画像の直後、乾燥処理薄膜は、複数の別個の基板上に存在するインクドットにわたり連続的である。

【0144】

いくつかの実施形態では、ＩＴＭの少なくとも剥離表面は、最大５０、または最大４５、または最大４０、または最大３５、または最大３０、または最大２５、または最大２０、または最大１５のショアＡ硬度を有する。

【0145】

いくつかの実施形態では、ＩＴＭは、複数のローラ上に搭載されたエンドレスベルトの形状を有する。湿潤処理層は、上流ローラと下流ローラとの間のローラ間位置においてＩＴＭの表面に圧力を（法線方向に）印加することにより形成される。

【0146】

いくつかの実施形態では、ＩＴＭ上に湿潤処理層を形成するために、（ｉ）少なくとも部分（１つまたは複数）が少なくとも０．５メートル／秒、または少なくとも１メートル／秒、または少なくとも１．５メートル／秒、または少なくとも２メートル／秒、または少なくとも２．５メートル／秒、または少なくとも３メートル／秒の速度で移動するよう、水性処理調合物はＩＴＭが移動する間にＩＴＭに塗布され、（ｉｉ）水性処理調合物はＩＴＭの移動部分（単数または複数）に塗布される。

【0147】

いくつかの実施形態では、湿潤処理層は、最大５ｍｍ、または最大３ｍｍ、または最大２．５ｍｍ、または最大２ｍｍ、または最大１．７５ｍｍ、または最大１．５ｍｍ、または最大１．２５ｍｍ、または最大１ｍｍの曲率半径を有する非常に丸みを帯びた表面からＩＴＭに力を印加することにより形成される。

【0148】

いくつかの実施形態では、非常に丸みを帯びた表面はドクターブレードの表面である。

【0149】

いくつかの実施形態では、ドクターブレードは交差印刷方向に向けられ、交差印刷方向において、少なくとも２５０ｇ／ｃｍ、または少なくとも３５０ｇ／ｃｍ、または少なくとも４００ｇｍ／ｃｍ、および／または最大１ｋｇ／ｃｍ、または最大７５０ｇ／ｃｍ、または最大６００ｇ／ｃｍの力密度でＩＴＭに抗して付勢される。

【0150】

いくつかの実施形態では、ドクターブレードは１００を越えるブリネル硬度を有する耐摩耗性物質で形成される。

【0151】

いくつかの実施形態では、ドクターブレードは滑らかで、および／または規則的な円筒形表面を有する。

【0152】

いくつかの実施形態では、ドクターブレードの表面粗さＲＡは、最大で数ミクロン、または最大１ミクロン、または最大０．５ミクロンである。

【0153】

いくつかの実施形態では、このドクターブレードは、ＩＴＭの表面と相互作用しているドクターブレードの素早い交換が可能となるよう回転可能なタレット上に搭載された複数のドクターブレードのうちの１つである。

【0154】

いくつかの実施形態では、タレット周縁部上のブレードの間隔は、ドクターブレードを交換するためにタレットを回転させる間、交換ブレードがＩＴＭとの相互作用を停止するまで、交換されるブレードがＩＴＭとの相互作用を停止させないよう、設定される。

【0155】

いくつかの実施形態では、回転ブラシなどの洗浄装置が、現在ＩＴＭと相互作用しないドクターブレードのうちの少なくとも１つのドクターブレードの丸みを帯びた縁部に対してタレットの近傍に提供される。

【0156】

いくつかの実施形態では、ＩＴＭの剥離表面に水性処理溶液を塗布する前に、先行する印刷サイクルの完了後に剥離表面上に残るあらゆる処理薄膜を除去するために、ＩＴＭの剥離表面は洗浄される。

【0157】

いくつかの実施形態では、ＩＴＭの剥離表面の洗浄は、剥離表面上のあらゆる乾燥処理薄膜を溶解するための水性処理溶液を使用して実施される。

【0158】

いくつかの実施形態では、湿潤処理層の厚さは、最大２μ、または最大１．５μ、または最大１μ、または最大０．９μ、または最大０．８μ、または最大０．７μ、または最大０．６μ、または最大０．５μ、または最大０．５μ、または最大０．４μ、または最大０．３μ、または最大０．２μ、または最大０．１５μである。

【0159】

いくつかの実施形態では、湿潤処理層は均一な厚さを有する。

【0160】

いくつかの実施形態では、少なくともｗｃｍの幅および少なくともｌｃｍの長さを有する長方形上で、長方形の全体は、湿潤処理薄膜の厚さが、長方形内の平均厚さ値から、５０％を越えて、または４０％を越えて、または３０％を越えて、または２０％を越えて、または１０％を越えて、または５％を越えて、または２．５％を越えて、または１％を越えて逸脱しないよう、湿潤処理薄膜により覆われる。なお（ｉ）ｗの値は、少なくとも１０、または少なくとも２０、または少なくとも３０、および／または最大１００、または最大８０、または最大６０であり、（ｉｉ）ｌの値は、少なくとも５０、または少なくとも１００、または少なくとも２５０、または少なくとも５００、または少なくとも１０００である。

【0161】

いくつかの実施形態では、ｉ．薄い湿潤処理層の形成は、（Ａ）ＩＴＭの剥離表面から垂直方向に（例えば、最大３ミクロン、または最大２ミクロン、または最大１ミクロンだけ）離間し、および／または、（Ｂ）アプリケータと、アプリケータの剥離表面と、の間に位置する、強力速度勾配（ＩＶＧ）位置において、水性処理溶液の速度勾配を作ることを含み、ｉｉ．ＩＶＧ位置において、速度勾配の大きさは、ＶＧ値に等しいかまたはＶＧ値を越え、ＶＧ値は少なくとも１０^６／秒、または少なくとも２×１０^６／秒、または少なくとも４×１０^６／秒、または少なくとも５×１０^６／秒、または少なくとも７．５×１０^６／秒、または少なくとも１０^７／秒、または少なくとも２×１０^７／秒、または少なくとも４×１０^７／秒、または少なくとも５×１０^７／秒、または少なくとも７．５×１０^７／秒である。

【0162】

いくつかの実施形態では、速度勾配は、ｉ．ＩＶＧ位置の上流である上流位置において、最大速度勾配はＩＶＧ位置における速度勾配の値の最大ｘ％となり、ｉｉ．ＩＶＧ位置の下流である下流位置において、最大速度勾配はＩＶＧ位置における速度勾配の値の最大ｘ％となり、ｉｉｉ．ｘの値は、最大５０、または最大３０、または最大２０、または最大１０となり、および／または、ｉｖ．上流位置および下流位置はそれぞれ、最大２ｃｍ、または最大１．５ｃｍ、または最大１．２５ｃｍ、または最大１ｃｍ、または最大９ｍｍ、または最大８ｍｍ、または最大７．５ｍｍ、または最大７ｍｍ、または最大６ｍｍ、または最大５ｍｍだけ、印刷方向に沿ってＩＶＧ位置から離間されるよう、印刷方向に沿って局在化される。

【0163】

いくつかの実施形態では、処理溶液の乾燥は、ビーディングが防止され、かつ、最大２００ｎｍ、または最大１５０ｎｍ、または最大１２０ｎｍ、または最大１００ｎｍ、または最大８０ｎｍ、または最大７０ｎｍ、または最大６０ｎｍ、または最大５０ｎｍ、または最大４０ｎｍ、または最大３０ｎｍの厚さ（例えば、実質的に均一な厚さ）を有する親水性および凝集性を有する連続的なポリマー処理薄膜が残されるよう、十分迅速に行われる。

【0164】

それにも関わらず、異なる実施形態では、たとえ乾燥処理薄膜が極度に薄い場合でさえも、単層または単層型の構成体よりも厚い。したがって、異なる実施形態では、乾燥処理層の厚さは、少なくとも２０ナノメートル、または少なくとも３０ナノメートル、または少なくとも４０ナノメートル、または少なくとも５０ナノメートルであり得る。いくつかの実施形態では、この多くの「バルク」（すなわち、最小厚さ特徴－例えば、以下で説明する他の特徴（単数または複数）とともに）を提供することは凝集性および／または弾性を示す乾燥処理薄膜の形成を支援する。このことは、乾燥処理薄膜がＩＴＭから基板に転送される際に（すなわち、乾燥処理薄膜上に乾燥インク画像を保持する段階において）その構造的完全性を維持することが望ましいステップＳ１１７において、有用であり得る。

【0165】

いくつかの実施形態では、水性インク液滴が堆積される乾燥処理薄膜の厚さは最大２００ｎｍ、または最大１００ｎｍ、または最大５０ｎｍ、または最大３０ｎｍである。

【0166】

いくつかの実施形態では、水性インク液滴が堆積される乾燥処理薄膜の厚さは少なくとも１５ｎｍ、または少なくとも２０ｎｍ、または少なくとも３０ｎｍ、または少なくとも５０ｎｍ、または少なくとも７５ｎｍである。

【0167】

いくつかの実施形態では、乾燥処理薄膜は、ＩＴＭの剥離表面の長方形全体にわたり連続的である。なお該長方形は少なくともｗｃｍの幅および少なくともｌメートルの長さを有する。なお（ｉ）ｗの値は、少なくとも１０、または少なくとも２０、または少なくとも３０、および／または最大１００、または最大８０、または最大６０であり、（ｉｉ）ｌの値は、少なくとも５０、または少なくとも１００、または少なくとも２５０、または少なくとも５００、または少なくとも１０００である。

【0168】

いくつかの実施形態では、長方形の面積の少なくとも５０％、または少なくとも７５％、または少なくとも９０％、または少なくとも９５％、または少なくとも９９％、または１００％に対して、乾燥処理薄膜の厚さが長方形内において平均厚さ値から、５０％を越えて、または４０％を越えて、または３０％を越えて、または２０％を越えて、または１０％を越えて、または５％を越えて、または２．５％を越えて、または１％を越えて逸脱しないよう、乾燥処理薄膜は連続的である。

【0169】

いくつかの実施形態では、湿潤処理層の乾燥処理の間、湿潤処理層の動粘性係数は、最大１秒、または最大５００ミリ秒、または最大２５０ミリ秒、または最大１５０ミリ秒、または最大１００ミリ秒、または最大７５ミリ秒、または最大５０ミリ秒、または最大２５ミリ秒、または最大１５ミリ秒、または最大１０ミリ秒の時間的期間内に、少なくとも１００倍、または少なくとも５００倍、または少なくとも１０００倍、または少なくとも２５００倍、または少なくとも５０００倍、または少なくとも１０，０００倍、または少なくとも２５，０００倍増加する。

【0170】

いくつかの実施形態では、乾燥処理薄膜の液体含有量は、最大１０重量／重量％、または最大７．５重量／重量％、または最大５重量／重量％、または最大２．５重量／重量％、または最大１．５重量／重量％、または最大１重量／重量％である。

【0171】

いくつかの実施形態では、乾燥処理は、乾燥処理薄膜を形成するために、（例えば、少なくとも１秒、または少なくとも０．５秒、または少なくとも１００ミリ秒、または少なくとも５０ミリ秒、または少なくとも２５ミリ秒、または少なくとも１０ミリ秒の時間的期間内に）湿潤処理層中の水の少なくとも８０重量％、または少なくとも９０重量％、または少なくとも９５重量％を除去する。

【0172】

いくつかの実施形態では、乾燥処理は、乾燥処理薄膜を形成するために、摂氏６０度／１ａｔｍの液体の少なくとも８０重量／重量％、少なくとも少なくとも９０重量／重量％、少なくとも少なくとも９５重量／重量％を湿潤処理層から除去する。

【0173】

いくつかの実施形態では、水性インク液滴が堆積される乾燥処理薄膜の表面（例えば乾燥処理薄膜の上方表面）は、最大３０ナノメートル、または最大２５ナノメートル、または最大２０ナノメートル、または最大１８ナノメートル、または最大１６ナノメートル、または最大１５ナノメートル、または最大１４ナノメートル、または最大１２ナノメートル、または最大１０ナノメートル、または最大９ナノメートル、または最大８ナノメートル、または最大７ナノメートル、または最大５ナノメートル、および／または少なくとも３ナノメートル、または少なくとも５ナノメートルの平均粗度Ｒａ（一般に使用される１次元平均粗度パラメータ）により特徴付けられる。

【0174】

いくつかの実施形態では、水性インク液滴が堆積される乾燥処理薄膜、および乾燥処理薄膜の表面（例えば乾燥処理薄膜の上方表面）は、（ｉ）平均粗度Ｒａと、（ｉｉ）乾燥処理層の厚さと、の間の寸法比により特徴付けられる。なお該寸法比は、少なくとも０．０２、または少なくとも０．０３、または少なくとも０．０４、または少なくとも０．０５、または少なくとも０．０６、または少なくとも０．０７、または少なくとも０．０８、または少なくとも０．０９、または少なくとも０．１０、または少なくとも０．１１、または少なくとも０．１２、または少なくとも０．１３、または少なくとも０．１４、または少なくとも０．１５、または少なくとも０．１６、または少なくとも０．１７、または少なくとも０．１８、または少なくとも０．１９、または少なくとも０．２である。

【0175】

いくつかの実施形態では、水性インク液滴が堆積される乾燥処理薄膜、および乾燥処理薄膜の表面（例えば乾燥処理薄膜の上方表面）は、（ｉ）平均粗度Ｒａと、（ｉｉ）乾燥処理層の厚さと、の間の寸法比により特徴付けられる。なお該無次元比は、少なくとも０．５、少なくとも０．４、少なくとも０．３、少なくとも０．２５、少なくとも０．２、少なくとも０．１５、または少なくとも０．１、および所望により、少なくとも０．０２、または少なくとも０．０３、または少なくとも０．０４、または少なくとも０．０５、または少なくとも０．０６、または少なくとも０．０７、または少なくとも０．０８である。

【0176】

いくつかの実施形態では、乾燥時、乾燥処理薄膜は連続的である。

【0177】

いくつかの実施形態では、水性処理調合物は溶液の形態で提供される。

【0178】

いくつかの実施形態では、水性処理調合物は分散の形態で提供される。

【0179】

いくつかの実施形態では、水性インクの固形物（例えばナノ色素および／または樹脂）は乾燥処理薄膜のバルク中へと流動し、乾燥処理薄膜内に存在する第四級アンモニウム塩と反応（例えば結合）する（それにより、例えば液滴の展開が助長される）。

【0180】

いくつかの実施形態では、基板は、未被覆繊維性印刷基板、市販の被覆済み繊維性印刷基板、および、プラスチック印刷基板からなる群より選択される。

【0181】

いくつかの実施形態では、印刷基板は、所望により、ボンド紙、未被覆オフセット印刷用紙、被覆済みオフセット印刷用紙、複写用紙、更紙、被覆済み更紙、上級紙、被覆済み上級紙、およびレーザー用紙からなる紙の群より選択される紙である。

【0182】

いくつかの実施形態では、転送は、最大摂氏１２０度、または最大摂氏１２０度、または最大摂氏１００度、または最大摂氏９０度、または最大摂氏８０度の転送温度で実行される。

【0183】

いくつかの実施形態では、水性インクの固形物（例えばナノ色素および／または樹脂）は乾燥処理薄膜のバルク中へと流動し、乾燥処理薄膜内に存在する第四級アンモニウム塩と反応（例えば結合）する。

【0184】

いくつかの実施形態では、この方法は、インク基板上に存在するインクドットのインクドットセットＩＤＳが形成されるよう実行される。

【0185】

いくつかの実施形態では、この方法は、所与の液滴が所与の基板上に存在するインクドットを生じさせ、および／または基板上に存在するインクドットに進化するように、（ｉ）液滴複数性ＤＰの各所与の液滴と、（ｉｉ）インクドットセットのそれぞれの所与の基板上に存在するインクドットと、の間に対応関係が存在するように、ＩＴＭ上に存在する乾燥処理薄膜上に堆積された水性インク液滴の液滴複数性ＤＰが、インク基板上に存在するインクドットのインクトットセットＩＤＳを形成するよう、実行される。

【0186】

いくつかの実施形態では、この方法は、堆積の間、液滴複数性の液滴がＩＴＭ上の乾燥処理薄膜と衝突するときはつねに、衝突する液滴の運動エネルギーが液滴を変化させるよう、実行される。

【0187】

いくつかの実施形態では、この方法は、（ｉ）ＩＴＭの表面の上方で変形した液滴のうちの各液滴の最大衝突半径が最大衝突半径値Ｒ_{ＭＡＸ＿ＩＭＰＡＣＴ}を有し、（ｉｉ）衝突の後、および／または、転送の間、および／または転送後、基板上に存在するインクドットセットＩＤＳの各インクドットが乾燥ドット半径Ｒ_{ＤＲＩＥＤ＿ＤＯＴ＿ＯＮ＿ＳＵＢＳＴＲＡＴＥ}を有するよう、物理化学的な力が、変形された液滴を、または係る液滴から誘導されるドットを、展開させ、
（ｉｉｉ）液滴複数性の各液滴およびインクドットセットＩＤＳの対応するインクドットに対して、
ｉ．基板上に存在する乾燥ドット半径Ｒ_{ＤＲＩＥＤ＿ＤＯＴ＿ＯＮ＿ＳＵＢＳＴＲＡＴＥ}と、
ｉｉ．変形された液滴最大衝突半径値Ｒ_{ＭＡＸ＿ＩＭＰＡＣＴ}と、
の比が、少なくとも１、または少なくとも１．０１、または少なくとも１．０２、または少なくとも１．０３、または少なくとも１．０４、または少なくとも１．０５、または少なくとも１．１、または少なくとも１．１５、または少なくとも１．２、または少なくとも１．２５、または少なくとも１．３、または少なくとも１．３５、または少なくとも１．４、または少なくとも１．４５、または少なくとも１．５、および所望により、最大２、最大１．８、最大１．７、最大１．６、または最大１．５５となるよう、実行される。

【0188】

いくつかの実施形態では、この方法は、ｉ．ＩＴＭ上に存在する乾燥処理薄膜上に堆積された液滴の液滴複数性ＤＰが基板上に存在するインクドット（すなわち、上部基板表面に固定的に付着された）を生成し、液滴複数性ＤＰの各液滴はインクドットセットＩＤＳの異なるそれぞれの基板上に存在するインクドットに対応し、ｉｉ．液滴複数性ＤＰの各インク液滴が、噴出パラメータにしたがって、基板上に堆積され、ｉｉｉ．液滴複数性ＤＰのインク液滴の物理化学的特性とともに噴出パラメータが共同的にインクジェット紙ドット半径Ｒ_{ＤＩＲＥＣＴ－ＪＥＴＴＩＮＧ－ＯＮＴＯ－ＩＮＫ－ＪＥＴ－ＰＡＰＥＲ－ＴＨＥＯＲＥＴＩＣＡＬ}を定義し、なお、インクジェット紙ドット半径Ｒ_{ＤＩＲＥＣＴ－ＪＥＴＴＩＮＧ－ＯＮＴＯ－ＩＮＫ－ＪＥＴ－ＰＡＰＥＲ－ＴＨＥＯＲＥＴＩＣＡＬ}は、インク液滴が乾燥処理薄膜上にではなく直接的にインクジェット紙にインクジェットされた場合に取得されるインクドットの半径であり、ｉｖ．（Ａ）インクドットセットＩＤＳのドットの乾燥ドット半径Ｒ_{ＤＲＩＥＤ＿ＤＯＴ＿ＯＮ＿ＳＵＢＳＴＲＡＴＥ}と、（Ｂ）インクジェット紙ドット半径Ｒ_{ＤＩＲＥＣＴ－ＪＥＴＴＩＮＧ－ＯＮＴＯ－ＩＮＫ－ＪＥＴ－ＰＡＰＥＲ－ＴＨＥＯＲＥＴＩＣＡＬ}と、との間の比が少なくとも１、または少なくとも１．０１、または少なくとも１．０２、または少なくとも１．０３、または少なくとも１．０４、または少なくとも１．０５、または少なくとも１．１、または少なくとも１．１５、または少なくとも１．２、または少なくとも１．２５、または少なくとも１．３、または少なくとも１．３５、または少なくとも１．４、または少なくとも１．４５、または少なくとも１．５、および所望により、最大２、最大１．８、最大１．７、最大１．６、または最大１．５５となるよう、実行される。

【0189】

いくつかの実施形態では、インクドットセットの濃度は、少なくとも５、または少なくとも１０、または少なくとも２０、または少なくとも５０、または少なくとも１００であり、インクドットセットの各インクドットは基板上で明確に区別される。

【0190】

いくつかの実施形態では、この方法は、インクドットセットのインクドットが印刷基板上で突起する正方形幾何学的突起物内に含まれ、インクドットセットの各インクドットが印刷基板の表面に固定的に付着され、該正方形幾何学的突起物内の全部の該インクドットがインクドットセットＩＤＳの個々の部材としてみなされるよう、実行される。

【0191】

いくつかの実施形態では、この方法は、該インクドットの各インクドットが、有機ポリマー樹脂中に分散された少なくとも１つの着色剤を含み、該ドットの各ドットが２，０００ｎｍより小さい平均厚さ、および５～３００マイクロメートルの直径を有するよう、実行される。

【0192】

いくつかの実施形態では、この方法は、該インクドットの各インクドットが略凸形状を有し、ここで凸形状からの偏差（ＤＣ_ｄｏｔ）が、ＤＣ_ｄｏｔ＝１－ＡＡ／ＣＳＡにより定義され、式中、ＡＡは該ドットの計算された投影エリアであり、この投影エリアは該印刷基板に対して略平行であり、ＣＳＡは該投影エリアの輪郭を最小に閉ざす凸形状の表面積であり、該インクドットセットの凸性からの平均偏差（ＤＣ_{ｄｏｔ ｍｅａｎ}）が最大０．０５、最大０．０４、最大０．０３、最大０．０２５、最大０．０２２、最大０．０２、最大０．０１８、最大０．０１７、最大０．０１６、最大０．０１５、または最大０．０１４となるよう、実行される。

【0193】

いくつかの実施形態では、この方法は、各インクドットが、有機ポリマー樹脂中に分散された少なくとも１つの着色剤を含み、各該インクドットが基板の上部表面の連続エリアをカバーし、（ｉ）該上部基板表面に向かって下方に延長する投影垂直線が、該連続エリアにおける各点において、該上部基板表面に遭遇する前に最初に該インクドットに遭遇し、および／または、（ｉｉ）各該インクドットが１５～３００マイクロメートルの直径を有し、および／または、（ｉｉｉ）該インクドットの各インクドットが最大１，８００ｎｍの平均厚さを有し、該インクドットの各インクドットがＲ_{ａｓｐｅｃｔ}＝Ｄ_ｄｏｔ／Ｈ_ｄｏｔにより定義される無次元アスペクト比（Ｒ_{ａｓｐｅｃｔ}）により特徴付けられ、ただし式中Ｄ_ｄｏｔは該直径であり、Ｈ_ｄｏｔは該平均厚さであり、および／または、（ｉｖ）該アスペクト比が少なくとも５０、または少なくとも６０、または少なくとも７５、または少なくとも９５、または少なくとも１１０、または少なくとも１２０、または少なくとも１３５、または少なくとも１５０、または少なくとも１７０、または少なくとも１８０、または少なくとも１９０、または少なくとも２００、または少なくとも２２０、または少なくとも２４０、または少なくとも２６０、または少なくとも２８０、または少なくとも３００となるよう、各該インクドットが該連続エリア上の全体に配置されるよう、実行される。

【0194】

いくつかの実施形態では、この方法は、該アスペクト比が最大４００、最大３５０、または最大３２５となるよう、実行される。

【0195】

いくつかの実施形態では、この方法は、各インクドットが、有機ポリマー樹脂中に分散された少なくとも１つの着色剤を含み、各該インクドットが基板の上部表面の連続エリアをカバーし、（ｉ）該上部基板表面に向かって下方に延長する投影垂直線が、該連続エリアにおける各点において、該上部基板表面に遭遇する前に最初に該インクドットに遭遇し、および／または、（ｉｉ）各該インクドットが１５～３００マイクロメートルの直径を有し、および／または、（ｉｉｉ）該インクドットの各インクドットが最大１，８００ｎｍの平均厚さを有し、該インクドットの各インクドットがＲ_{ａｓｐｅｃｔ}＝Ｄ_ｄｏｔ／Ｈ_ｄｏｔにより定義される無次元アスペクト比（Ｒ_{ａｓｐｅｃｔ}）により特徴付けられ、ただし式中、Ｄ_ｄｏｔは該直径であり、Ｈ_ｄｏｔは該平均厚さであり、および／または、（ｉｖ）該アスペクト比が１４０～４００、１５０～３００、１６０～３００、１８０～３００、２００～３００、２１０～３００、２２０～３００、２３０～３００、２４０～３００の範囲内となるよう、各該インクドットが該連続エリア上の全体に配置されるよう、実行される。

【0196】

いくつかの実施形態では、この方法は、インクドットセットＩＤＳの該インクドットの少なくとも１つ（または少なくとも大部分または全部）が電荷ダイレクタの２％未満を含むよう、実行される。

【0197】

いくつかの実施形態では、この方法は、インクドットセットＩＤＳの該インクドットの少なくとも１つ（または少なくとも大部分または全部）が電荷ダイレクタを含まないよう、実行される。

【0198】

いくつかの実施形態では、この方法は、インクドットセットＩＤＳの該インクドットの少なくとも１つ（または少なくとも大部分または全部）は、最大１，５００ｎｍ、または最大１０００ｎｍ、または最大８００ｎｍ、または最大６００ｎｍ、または最大４００ｎｍ、または最大３５０ｎｍ、または最大３００ｎｍ、または最大２５０ｎｍである厚さを有するよう、実行される。

【0199】

いくつかの実施形態では、この方法は、インクドットセットＩＤＳの該インクドットの少なくとも１つ（または少なくとも大部分または全部）が該着色剤の少なくとも１．２重量％を含むよう、実行される。

【0200】

いくつかの実施形態では、この方法は、インクドットセットＩＤＳの該インクドットの少なくとも１つ（または少なくとも大部分または全部）が該樹脂の少なくとも５重量％を含むよう、実行される。

【0201】

いくつかの実施形態では、この方法は、該インクドット内の該着色剤および該樹脂の合計濃度が少なくとも４０％となるように、インクドットセットＩＤＳの該インクドットの少なくとも１つ（または少なくとも大部分または全部）が構成されるよう、実行される。

【0202】

いくつかの実施形態では、この方法は、該樹脂と該インクドット内の該色素との重量比が少なくとも１：１となるように、インクドットセットＩＤＳの該インクドットの少なくとも１つ（または少なくとも大部分または全部）が構成されるよう、実行される。

【0203】

いくつかの実施形態では、この方法は、標準的なテープテストを施されたときに、インクドットセットＩＤＳの該インクドットの少なくとも１つ（または少なくとも大部分または全部）が接着障害を有さないよう、実行される。

【0204】

いくつかの実施形態では、この方法は、各インクドットの上方薄膜表面における窒素の表面濃度が該薄膜内の窒素のバルク濃度を越え、該バルク濃度は該上方薄膜表面の少なくとも３０ナノメートル下方の深さにおいて測定され、該表面濃度と該バルク濃度との比が少なくとも１．１～１となる少なくとも１つ（または少なくとも大部分または全部）であるよう、実行される。

【0205】

いくつかの実施形態では、この方法は、少なくとも１つ（または少なくとも大部分または全部）の各該インクドットの上方薄膜表面が４０２．０±０．４ｅＶにおいてＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）ピークを示すよう、実行される。

【0206】

いくつかの実施形態では、この方法は、少なくとも１つ（または少なくとも大部分または全部）の該インク滴セットの該インクドットが、摂氏９０～摂氏１９５度の範囲内の温度で、１０^６ｃＰ～３×１０^８ｃＰの範囲内の第１粘性係数を有するよう、実行される。

【0207】

いくつかの実施形態では、この方法は、第１動粘性係数が最大７×１０^７ｃＰとなるよう、実行される。

【0208】

いくつかの実施形態では、この方法は、該第１動粘性係数が１０^６ｃＰ～１０^８ｃＰの範囲内となるよう、実行される。

【0209】

いくつかの実施形態では、この方法は、該第１粘性係数が少なくとも４×１０^６ｃＰとなるよう、実行される。

【0210】

いくつかの実施形態では、この方法は、少なくとも１つ（または少なくともダイブ分または全部）が複数の連続的インクドットとなるよう、実行される。

【0211】

いくつかの実施形態では、この方法は、少なくとも１つ（または少なくとも大部分または全部）に対して、厚さが最大１，２００ｎｍ、または最大１，０００ｎｍ、または最大８００ｎｍ、または最大６５０ｎｍ、または最大５００ｎｍ、または最大４５０ｎｍ、または最大４００ｎｍとなるよう、実行される。

【0212】

いくつかの実施形態では、この方法は、このＩＴＭが本明細書で記載の任意のＩＴＭであり、および／または、この水性処理溶液が本明細書で記載の任意の水性処理溶液であるよう、実行される。

【0213】

いくつかの実施形態では、水性インクは、色素、結合剤、分散剤、および少なくとも１つの添加剤を含む。

【0214】

印刷システムのいくつかの実施形態について、ここで添付の図面を参照して説明する。この説明は、図面と併せると、本開示の教示が、非限定的な実施例により、どのように実施され得るかを当業者に明らかにする。これらの図面は例示的な説明を目的とするものであり、本開示の根本的な理解のために必要となる以上に詳細に実施形態の構造的詳細を示すことは意図しない。明瞭性および簡素性のために、図面に示されるいくつかの物体は縮尺通りではない。

【図面の簡単な説明】

【0215】

【図1】先行技術の印刷処理のフローチャートである。

【図2】本発明のいくつかの実施形態に係る印刷処理のフローチャートである。

【図3A】印刷システムまたは印刷システムの構成要素を示す図である。

【図3B】印刷システムまたは印刷システムの構成要素を示す図である。

【図3C】 印刷システムまたは印刷システムの構成要素を示す図である。

【図3D】 印刷システムまたは印刷システムの構成要素を示す図である。

【図4A】印刷システムまたは印刷システムの構成要素を示す図である。

【図4B】印刷システムまたは印刷システムの構成要素を示す図である。

【図5】印刷システムまたは印刷システムの構成要素を示す図である。

【図6】印刷システムまたは印刷システムの構成要素を示す図である。

【図7】印刷システムまたは印刷システムの構成要素を示す図である。

【図8】印刷システムまたは印刷システムの構成要素を示す図である。

【図9】印刷システムまたは印刷システムの構成要素を示す図である。

【図10A】印刷システムまたは印刷システムの構成要素を示す図である。

【図10B】印刷システムまたは印刷システムの構成要素を示す図である。

【図11A】印刷システムまたは印刷システムの構成要素を示す図である。

【図11B】印刷システムまたは印刷システムの構成要素を示す図である。

【図11C】印刷システムまたは印刷システムの構成要素を示す図である。

【図11D】位置の関数としての剪断強度を示す図である。

【図12】本発明のいくつかの実施形態に係る印刷処理のフローチャートである。

【図13A】インク液滴がＩＴＭ（例えばＩＴＭの剥離表面）上に堆積されるプロセスを概略的に説明する図である。

【図13B】インク液滴がＩＴＭ（例えばＩＴＭの剥離表面）上に堆積されるプロセスを概略的に説明する図である。

【図13C】インク液滴がＩＴＭ（例えばＩＴＭの剥離表面）上に堆積されるプロセスを概略的に説明する図である。

【図13D】インク液滴がＩＴＭ（例えばＩＴＭの剥離表面）上に堆積されるプロセスを概略的に説明する図である。

【図13E】インク液滴がＩＴＭ（例えばＩＴＭの剥離表面）上に堆積されるプロセスを概略的に説明する図である。

【図14A】本発明にしたがって生産された乾燥処理薄膜の機械的にプロットされたトポグラフィー的プロファイルを示す図である。

【図14B】本発明にしたがって生産された乾燥処理薄膜の機械的にプロットされたトポグラフィー的プロファイルを示す図である。

【図15A】紙基板上のインクドットのいくつかの例を示す図である。

【図15B】紙基板上のインクドットのいくつかの例を示す図である。

【図15C】紙基板上のインクドットのいくつかの例を示す図である。

【図15D】紙基板上のインクドットのいくつかの例を示す図である。

【図16】担体の概略断面図である。

【図17】本方法に係るＩＴＭ製造の異なる段階を示す概略図である。

【図18】本方法に係るＩＴＭ製造の異なる段階を示す概略図である。

【図19】本方法に係るＩＴＭ製造の異なる段階を示す概略図である。

【図20】本方法に係るＩＴＭ製造の異なる段階を示す概略図である。

【図21】本方法に係るＩＴＭ製造の異なる段階を示す概略図である。

【図22】印刷システムへの設置後の完成ＩＴＭの断面図である。

【図23A】先行技術にしたがって準備された剥離層の概略断面図である。

【図23B】先行技術にしたがって準備された剥離層の概略断面図である。

【図23C】本方法にしたがって準備された剥離層の概略断面図である。

【図24A】本方法のいくつかの実施形態が実施され得る装置の、異なる製造段階を示す概略図である。

【図24B】本方法のいくつかの実施形態が実施され得る装置の、異なる製造段階を示す概略図である。

【図24C】本方法のいくつかの実施形態が実施され得る装置の、異なる製造段階を示す概略図である。

【図24D】本方法のいくつかの実施形態が実施され得る装置の、異なる製造段階を示す概略図である。

【図25A】剥離層がＰＥＴ担体表面に対して硬化された本発明のＩＴＭの剥離層上に印刷されたインクパターンの画像である。

【図25B】剥離層がＰＥＴ担体表面に対して硬化された本発明のＩＴＭの剥離層上に印刷されたインクパターンの画像である。

【図25C】剥離層がＰＥＴ担体表面に対して硬化された本発明のＩＴＭの剥離層上に印刷されたインクパターンの画像である。

【図26A】剥離層が空気硬化された本発明のＩＴＭの剥離層上に印刷されたインクパターンの画像である。

【図26B】剥離層が空気硬化された本発明のＩＴＭの剥離層上に印刷されたインクパターンの画像である。

【図26C】剥離層が空気硬化された本発明のＩＴＭの剥離層上に印刷されたインクパターンの画像である。

【発明を実施するための形態】

【0216】

ここで本発明について、添付の図面を参照しつつ、単に例示として説明する。ここで詳細な図面を特に参照して、本明細書で示す特定事項が、例として、および、本発明の好適な実施形態に関する例示的説明のためにのみ、本発明の原理および概念的側面に関する最も有用で容易に理解される説明であると考えられる内容を提供することを目的として提示されたものであることが、強調される。この点に関して、本発明を基本的に理解するにあたり要求される以上に本発明の構造的詳細を示すことはまったく意図するところではない。以下の図面と併せて説明を読むことにより、当業者には、本発明のいくつかの形態がどのように実際に実施され得るかが明らかになるであろう。これらの図面の全体を通して、同様の参考番号は全般に同様の要素を指すために使用される。

【0217】

定義
本願では、以下の用語は、以下の意味を有するものとして理解されたい。
ａ）「後退接触角」または「ＲＣＡ」という用語は、Ｄｒｏｐ Ｓｈａｐｅ Ｍｅｔｈｏｄを使用することにより、Ｄａｔａｐｈｙｓｉｃｓ ＯＣＡ１５ Ｐｒｏ Ｃｏｎｔａｃｔ Ａｎｇｌｅ ｍｅａｓｕｒｉｎｇ ｄｅｖｉｃｅまたは同等のＶｉｄｅｏ－Ｂａｓｅｄ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｏｎｔａｃｔ Ａｎｇｌｅ Ｍｅａｓｕｒｉｎｇ Ｓｙｓｔｅｍを使用して測定された接触角を指す。類似した「前進接触角」または「ＡＣＡ」と言う用語は、実質的に同一の方法で測定された前進接触角を指す。
ｂ）「標準エージング手続き」という用語は、標準的な対流炉において摂氏１６０度において２時間にわたり各試験剥離層に対して行われる加速されたエージング手順を指す。
ｃ）「標準的空気硬化」と言う用語は、剥離層を硬化するための従来の硬化処理を指し、この硬化処理では、剥離層を硬化させる間、剥離層表面（または「インク受容表面」）が空気に曝露される。
ｄ）「バルク疎水性」という用語は、剥離層の内側表面上に堆積された蒸留水液滴の後退接触角により特徴付けられる。なお、内側表面は、剥離層内における硬化されたシリコーン物質のエリアを曝露することにより形成される。
ｅ）「画像転送部材」または「中間転写部材」または「転送部材」という用語は、インクが印刷ヘッド部により（例えばインクジェットヘッド部により）最初に塗布される部材であって、その後、ジェットされた画像は当該部材から他の基板（単数または複数）（通常は最終的な印刷基板）に転送される、印刷システムの構成要素を指す。
ｆ）「ブランケット」という用語は、２つ以上のローラ上にベルト状の構造体が形成されるよう、印刷装置内に搭載が可能である可撓性転送部材を指す。なお、これらのローラのうちの少なくとも１つは、ブランケットを回転および移動させて（例えばそのベルトを移動させることにより）、ローラの周り移動させることが可能である。
ｇ）インク画像または残留インクなどの物体に対して「剥離表面上」という用語は、その剥離表面により、および／またはその剥離表面の上方で、支持されることを意味する。「剥離表面上」という用語は、インク画像または残留インクと剥離表面との間の直接的接触を必ずしも意味するものではない。
ｈ）その調合物内の特定の界面活性剤に対して「水性処理調合物の該静的表面張力を増加させるために十分に高い静的表面張力を有する」などの用語は、その特定の界面活性剤の追加的な量または分量を調合物に加え、達成された調合物の静的表面張力と、これらの分量を追加する以前の調合物の静的表面張力と、を比較することにより、評価される。
ｉ）「液体吸湿剤」という用語は、摂氏２５度～摂氏９０度の範囲内の少なくとも１つの温度において液体であり、かつ、純粋状態において摂氏９０度で、最大０．０５ａｔａ、より典型的には最大０．０２ａｔａ、最大０．０１ａｔａ、または最大０．００３ａｔａの蒸気圧を有する、吸湿剤を指す。「液体吸湿剤」という用語はグリセロールなどの物質を指すことが特に意図される。
ｊ）「疎水性」および「親水性」、その他の用語は、相対的な意味で使用され得、必ずしも絶対的な意味で使用されるものではない。
ｋ）「（処理）調合物」という用語はまたは溶液または［ｄｉｓｐｅｒｓｉｏｎ］を指す。
ｌ）摂氏ｘ（ｘは正の整数）度蒸発負荷を、ここで定義する。溶液が摂氏ｘ度においてｙ％固体（重量／重量）、およびｚ％液体（重量／重量）であるとき、当該溶液の「摂氏ｘ度蒸発負荷」は比ｚ／ｙである。「蒸発負荷」の単位は、「溶媒重量／全溶質重量」である。本開示に関して、蒸発負荷はつねに大気圧で定義される。本開示に関して、「ｘ」のデフォルト値は摂氏６０度である。すなわち温度を指定する接頭辞を有さない「蒸発負荷」という用語は大気圧における摂氏６０度蒸発負荷を指す。
ｍ）ＩＴＭの１部分がｖメートル／秒の速さで運動中であるとき、このことは、ブランケットＩＴＭの当該部分が、その局所的位置表面／平面に対して平行な方向に、例えば静止するアプリケータに対して、少なくともｖメートル／秒の速さで移動していることを意味する。
ｎ）「静的表面張力」と言う用語は摂氏２５度および大気圧における静的表面張力を指す。
ｏ）濡れた層の「厚さ」という用語は、以下のように定義される。体積ｖｏｌの物質が、面積ＳＡを有する表面の表面エリアを湿潤層で被覆するとき、湿潤層の厚さは、ｖｏｌ／ＳＡとみなされる。
ｐ）乾燥薄膜の「厚さ」は、以下のように定義される。ｘ重量％が液体である体積ｖｏｌの物質が、表面積ＳＡの表面を湿潤または被覆し、全液体が蒸発して湿潤層が乾燥薄膜に変換されたとき、乾燥薄膜の厚さは次の式として与えられるものとみなされる。
ｖｏｌ／ρ_{ｗｅｔ ｌａｙｅｒ}（１００－ｘ）／（）ＳＡ・ρ_{ｄｒｙ ｌａｙｅｒ}）
式中、ρ_{ｗｅｔ ｌａｙｅｒ}は湿潤層の比重、ρ_{ｄｒｙ ｌａｙｅｒ}は乾燥層の比重である。
ｑ）「連続湿潤層」という用語は、凸状領域の外辺部内において露出した小領域がまったく存在しない状態で凸状領域を被覆する連続的な湿潤層を指す。
ｒ）「連続乾燥薄膜」という用語は、凹状領域の外辺部内において不連続箇所がまったく存在しない状態で凹状領域を被覆する連続的な乾燥薄膜を指す。
ｓ）「凝集性薄膜／引っ張り強度」という用語は、付着していた表面から剥がされたときに一体化された状態を保つ構成体を指す。すなわち、表面から剥離されたとき、「凝集性薄膜」はその構造的完全性を保持し、小片に細分化されるのではなく、一枚の皮膜として剥離される。
ｔ）「垂直に印加される力」という用語は、法線方向において少なくとも１つの成分を有する力を指す。所望により、「垂直方向に印加される」力は、他の方向（例えば力が印加される表面に沿った方向）における追加的な成分を有し得る。
ｕ）特記なきかぎり、液体（例えば処理調合物）の物理的特性（例えば粘度および表面張力など）は摂氏２５度における特性を指す。
ｖ）特記なきかぎり「濃度」という用語は、重量／重量、すなわち（調合物の１成分の重量）／（当該調合物の全重量）を指す。

【0218】

図２に関する説明
図２は、水性インクを中間転写部材（ＩＴＭ）のシリコーン系剥離層表面に間接印刷する方法のフローチャートである。いくつかの実施形態では、図２の方法（または図２の方法のステップの任意の組み合わせ）は図３Ａ～図３Ｂ、図４Ａ～図４Ｂ、図５～図９、図１０Ａ～図１０Ｄ、および図１１Ａ～図１１Ｃに開示の装置（または係る装置の構成要素）を使用して実行され得る。特に、以下で説明するように、本発明の様々な実施形態は、均一なミクロン未満の厚さの湿潤処理層を、ＩＴＭの広い面積を覆って、および／または高い印刷スピードで、生産するにあたり有用である方法および装置に関する。

【0219】

異なる実施形態では、図２は、以下の特徴（すなわち、均一かつ制御されたドットゲイン、良好かつ均一な印刷光沢、および、安定したドット凸部（ｄｏｔ ｃｏｎｖｅｘｉｔｙ）および／または良好に画成された境界を有する高品質ドットに起因する良好な画像品質）の任意の組み合わせにより特徴付けられるインク画像を生産するために実行され得る。

【0220】

ステップＳ２０１～Ｓ２０５は、図２の印刷処理において使用される成分または構成要素または消耗品に関し、その一方で、ステップＳ２０９～Ｓ２２５は処理自体に関する。

【0221】

簡略に述べると、図２のステップは以下の通りである。すなわちステップＳ２０１およびステップＳ２０５では、ＩＴＭ（すなわちシリコーン系剥離層表面を含む）、および水性処理調合物（例えば溶液）が提供され、これらの各構成要素は以下で説明する特定の特性を有する。ステップＳ２０９では、水性処理調合物がＩＴＭの剥離層表面に塗布されて、剥離層表面上に湿潤処理層が形成される。ステップＳ２１３では、湿潤処理層に乾燥処理が施され、湿潤処理層から乾燥処理薄膜がＩＴＭ上に形成される。ステップＳ２１７では、水性インクの液滴がこの乾燥処理薄膜上に堆積されて、ＩＴＭ表面上にインク画像が形成される。ステップＳ２２１では、このインク画像が乾燥されて、ＩＴＭ表面上に残留インク画像が残され、ステップＳ２２５では、この残留インク画像は印刷基板に転送される。

【0222】

本発明の様々な実施形態は、好適には高い印刷スピードが最優先される生産環境において、ドットゲイン、画像光沢、およびドット品質の潜在的に競合する目的を達成するための方法、装置、およびキットに関する。いくつかの実施形態によれば、発明者らは、ステップＳ２１３において形成された乾燥処理薄膜が、非常に薄く（例えば最大１５０ナノメートル、または最大１２０ナノメートル、または最大１００ナノメートル、または最大８０ナノメートル、または最大７０ナノメートル、または最大６０ナノメートル、または最大５０ナノメートル、および所望により少なくとも２０ナノメートル、または少なくとも３０ナノメートル）、および／または、広い面積にわたり連続的であり、および／または、非常に滑らかな上方表面により特徴付けられ、および／または、第四級アンモニウム塩を豊富に含み（例えばドットゲインを助長するために）、および／または、ＩＴＭから基板への良好な転送を助長する特性（すなわち、薄膜自体の特性、またはＩＴＭ表面に対する薄膜の特性）を有するよう、図２の方法を実行することが有用であることを見出した。

【0223】

例えば、転送後は乾燥残留インクが処理薄膜の下方に、および基板表面上に存在し得るため、処理薄膜が厚いほど、処理薄膜の光沢または均一性に悪影響が及ぶ。したがって、非常に薄い処理薄膜を生産することが好ましいものであり得る。

【0224】

例えば、処理薄膜の不連続性および／または変動する厚さの処理薄膜は、基板上に不均一な光沢の画像をもたらし得るか、または、基板に転送されたときにその機械的完全性を失う残留インク画像（ステップＳ１１３において）を生産し得る。したがって、広い面積にわたり連続的であり（好適には、印刷基板に構造的完全性が保持されるよう十分な凝集性を有し）、および／または、摂氏７５度～摂氏１５０度の転送温度において処理薄膜が粘着性を有するような熱レオロジー特性を有する、処理薄膜を産出することが好ましいものとなり得る。

【0225】

例えば、乾燥処理薄膜に第四級アンモニウム塩が存在すると、インク滴が拡がることを助長し得るが、必ずしもインク滴の拡がりは均一とはならない。しかし、（ｉ）乾燥処理薄膜における高濃度の第四級アンモニウム塩と、（ｉｉ）非常に滑らかである上方表面を有する均一な厚さの処理薄膜と、の組み合わせは、均一なインク液の拡がりを助長し得る。

【0226】

本発明の様々な実施形態は、これらの結果を、たとえこれらの結果が潜在的に競合する目的を必然的に伴うものであったとしても、同時に達成するための技術に関する。例えば、処理薄膜が非常に薄いものとなることが要求されると、広い面積にわたり連続的であり、および／または、基板への良好な転送のために十分な凝集性を有し、および／または、非常に滑らかかつ均一な上方表面を有する、処理薄膜を形成することは困難となり得る。

【0227】

ステップＳ２０１に関する説明
ステップＳ２０１で提供されるＩＴＭはシリコーン系剥離層を有するが、その剥離表面は、多数の従来型シリコーン系剥離層よりも、疎水性が低いかまたは感知可能に低いものであり得る。この構造特性は、様々な方法で測定され、特徴付けられ得る。

【0228】

例えば図２のステップＳ２０１で示されるように、中間転写部材（ＩＴＭ）は、以下の特性、すなわち、（ｉ）シリコーン系剥離層表面上に堆積された蒸留水滴の後退接触角が最大６０度であること、および、（ｉｉ）シリコーン系剥離層表面上に堆積された蒸留水滴の１０秒動的接触角（ＤＣＡ）が最大１０８度であること、のうちの少なくとも一方を満足するよう十分な親水性を示すシリコーン系剥離層表面を含む。

【0229】

シリコーン系剥離層の疎水性を低下させるためのいくつかの技術のうちのいずれか１つが用いられ得る。

【0230】

いくつかの実施形態では、極性官能基が、シリコーン系剥離層に導入され、および／またはシリコーン系剥離層において生成される。１つの事例では、官能基がプレポリマーバッチ（例えば溶液中のモノマー）に追加され、これらの官能基は、硬化時に、シリコーンポリマー網状組織の一体化された部分となり得る。代替的または追加的に、シリコーン系剥離層は前処理が施され（例えば、コロナ放電により、または電子ビームにより）、それにより剥離層の表面エネルギーが増加される。

【0231】

代替的に、シリコーン系剥離層は、官能基を実質的に有さないときでさえも、低い疎水性を有するよう製造され得る。１つの事例では、剥離層のシリコーンポリマー骨格は、その極性基（例えばＯ－Ｓｉ－Ｏ）が、ＩＴＭ表面の局部的平面に対して略垂直であり、かつ、剥離層表面に向かって「上向き」に面する、方向に向けられるよう、構築され得る。

【0232】

現在、発明者らは、前段落の技術が卓越した画像転送を提供するもの（ステップＳ２２５）と考える。

【0233】

図２のステップＳ２０５に関する説明
ステップＳ２０５で提供される水性処理調合物の１つの特徴は、水性処理調合物の静的表面張力が２０～４０ダイン／ｃｍの範囲内であることである。例えば、水性処理調合物は１つまたは複数の界面活性剤を含む。

【0234】

したがってステップＳ２０５の水性処理調合物は、多くの従来型処理溶液よりも親水性が低く、水よりも親水性が顕著に低い。

【0235】

いくつかの実施形態では、（ｉ）低い疎水性を有するシリコーン系剥離層（ステップＳ２０１）と、（ｉｉ）低い親水性を有する水性処理調合物と、の組み合わせは、従来型水性処理溶液のビーディングを助長する表面張力効果を低下させる（しかし、必ずしも解消しない）。

【0236】

２０～４０ダイン／ｃｍの範囲内の静的表面張力に加えて、ステップＳ２０５で提供される水性処理調合物は以下の特性を有する。
ａ．水性処理調合物は少なくとも３重量％の第四級アンモニウム塩を含む。このことは、乾燥処理薄膜（すなわちステップＳ２１７で生産される）が第四級アンモニウム塩を豊富に含むことを保証するにあたり有用である。
ｂ．水性処理調合物は少なくとも１重量％（例えば少なくとも１．５％、または少なくとも２％、または少なくとも３％）の、少なくとも５％の少なくとも１つの水溶性ポリマー（摂氏２５度において少なくとも５％の水溶解度を有する）を含む。このことは、ステップ２２５における良好な転送のために十分な凝集性を有する乾燥処理薄膜（ステップＳ２１７において生産される）におけるポリマー膜またはポリマーマトリックスの形成を助長するにあたり有用であり得る。
ｃ．少なくとも１０ｃＰである摂氏２５度粘性係数。以下で説明するように、高い粘度は、ビーディングに向かう表面張力に起因する任意の傾向を打ち消すにあたり有用である。
ｄ．最大８：１（例えば最大７：１、または最大６：１、または最大５：１、または最大４：１）の重量による摂氏６０度蒸発負荷。したがって、溶液は、より高い蒸発負荷を有する従来型処理調合物と比較して、低い比熱容量を有する。さらに、水性処理溶液に対する、および、水性処理溶液に送達される所与の熱出力に対する、特定の必要残留厚さに対して、水性処理調合物の粘度は、表面張力を効果的に打ち消す高い絶対粘度を達成するために、蒸発の関数として迅速に増加するであろう。

【0237】

物理的に、高い粘度を有する流体の流れを誘導することは、より低い粘度を有する流体よりも、困難である。すなわち、より高い粘度を有する流体の流れを誘導するためには、より大きい駆動力が必要とされる。少なくとも中程度の初期粘度（すなわち少なくとも１０ｃＰである摂氏２５度粘性係数）と、ＩＴＭ表面上における蒸発後の迅速な粘度上昇（例えば低い蒸発負荷による）と、の組み合わせは、水性処理調合物が比較的短い時間的期間（例えば最大１秒または最大０．５秒）で比較的「高い」（例えば少なくとも１０，０００ｃＰ）粘度を達成することを保証する。したがって、ビーディングに向かう何らかの熱力学的傾向が存在したとしても、乾燥処理薄膜（すなわちステップＳ２１３で形成される）の特性に悪影響を及ぼし得る実際のビーディングは、阻止されるか、または感知可能に緩和される。

【0238】

いくつかの実施形態では、初期水性処理調合物の摂氏２５度粘性係数は少なくとも１２ｃＰ、または少なくとも１４ｃＰ、例えば１０～１００ｃＰ、１２～１００ｃＰ、１４～１００ｃＰ、１０～６０ｃＰ、または１２～４０ｃＰの範囲内であり得る。

【0239】

要約すると、（Ａ）以下の特性、すなわち、（ｉ）シリコーン系剥離層表面上に堆積された蒸留水滴の後退接触角が最大６０度であること、および、（ｉｉ）シリコーン系剥離層表面上に堆積された蒸留水滴の１０秒動的接触角（ＤＣＡ）が最大１０８度であること、のうちの少なくとも一方を満足するために十分な親水性を有する剥離層と、（Ｂ）２０～４０ダイン／ｃｍの範囲の水性処理調合物の静的表面張力と、の組み合わせは、ビーディングを生じさせ得る熱力学的駆動力の大きさを最小化するにあたり有用である。さらに、前述の粘度に関連する特徴は、この駆動力に対して抗するにあたり有用である。

【0240】

この傾向に対して抗するとともに、ビーディングを駆動する熱力学的力の大きさを減少させることは、ビーディングを生じさせるあらゆる傾向により、ステップＳ２０９において、均一な厚さを有する処理調合物の湿潤層の形成が妨げられないことを保証する。

【0241】

本発明の様々な実施形態では、水性処理調合物は水を含むキャリア液体を含み、該水は、水性処理調合物の少なくとも６５重量％（例えば少なくとも７０％または少なくとも７５％）を構成する。

【0242】

ステップＳ２０９に関する説明
ステップＳ２０９では、水性処理調合物がＩＴＭのシリコーン系剥離層表面に塗布されて、０．８μｍ（例えば最大０．７μｍ、または最大０．６μｍ、または最大０．５μｍ）の厚さを有する湿潤処理層が当該剥離層表面上に形成される。

【0243】

「湿潤層の厚さ」は以下のように定義される。すなわち、体積ｖｏｌの物質が面積ＳＡを有する表面の表面積を湿潤層で被覆するとき、湿潤層の厚さはｖｏｌ／ＳＡとみなされる。

【0244】

好適には、ステップＳ２０９は、湿潤処理層が、好適には広い面積にわたり（例えば剥離層の全面積にわたり）、均一な厚さを有し、かつ欠陥を有さないものとなるよう、実行される。このことは、湿潤処理層がミクロン未満の厚さであるとき、特に困難となり得る。

【0245】

上述のように、ビーディングを打ち消すためには、水性処理調合物が少なくとも「中程度の粘度」（例えば少なくとも１０ｃＰである摂氏２５度粘性係数）を有すると有用である。それにも関わらず、係る粘度において、均一であり、かつミクロン未満の厚さの水性処理調合物を取得することに関連する難しい課題が存在し得る。

【0246】

ステップＳ２０９では、水性処理調合物がシリコーン系剥離層表面に塗布されると、最大０．８μｍの厚さを有する湿潤処理層が形成される。

【0247】

本発明の様々な実施形態は、好適にはＩＴＭの広い面積にわたり厚さが均一となるよう、この湿潤処理層に塗布するための装置および方法に関する。

【0248】

いくつかの実施形態では、水性処理調合物の初期被覆でＩＴＭ表面を被覆した後、過剰な処理調合物は、初期被覆から除去されてもよく、または最大０．８μｍの均一な厚さを有する湿潤処理層を取得してもよい。

【0249】

いくつかの実施形態では、このことは、（例えばドクターブレードの）非常に丸みを帯びた表面をＩＴＭに向かって、またはその逆方向に、付勢することにより、達成され得る。例えば、非常に丸みを帯びた表面の曲率半径は、最大１．５ｍｍ、または最大１．２５ｍｍ、または最大１ｍｍであり得る。

【0250】

高い印刷スピードにおいて（例えば、ＩＴＭの表面速度が比較的大きい（例えば少なくとも１メートル／秒、または少なくとも１．２５メートル／秒、または少なくとも１．５メートル／秒）場合）、過剰な液体を除去してミクロン未満の厚さを有する処理層を形成することは、高い表面（ｈｉｇｈｌｙ ｓｕｒｆａｃｅ）とＩＴＭとの間の間隙領域（すなわち、速度勾配はＩＴＭ表面に対して、法線である）において比較的大きい速度勾配（すなわち剪断）－例えば、少なくとも１０^６／秒、または少なくとも２×１０^６／秒の速度勾配を確立することを必然的に伴い得る。

【0251】

上述のように、処理調合物の摂氏２５度粘性係数は少なくとも１０ｃＰであり得る。ステップＳ２０９がより高い圧力で実行されたとしても、これらのより高い温度における粘性係数は少なくとも３ｃＰ、または少なくとも５ｃＰ、または少なくとも１０ｃＰであり得る。したがって、本発明のいくつかの実施形態では、必要な均一な０．８μｍ未満（好適には）の均一な厚さを達成するためには比較的大きい力（例えば、非常に丸みを帯びた表面をＩＴＭに向かって（またはその逆方向に）付勢するための力）が要求される。

【0252】

いくつかの実施形態では、少なくとも２５０ｇ／ｃｍ、または少なくとも３５０ｇ／ｃｍ、または少なくとも４００ｇｍ／ｃｍ、および／または最大１ｋｇ／ｃｍ、または最大７５０ｇ／ｃｍ、または最大６００ｇ／ｃｍの交差印刷方向における力密度で、丸みを帯びた表面がＩＴＭに付勢されるか、またはＩＴＭが丸みを帯びた表面に付勢される。

【0253】

いくつかの実施形態では、湿潤処理層は、アプリケータとＩＴＭとの間に圧力を印加することにより形成され、その圧力の大きさは、少なくとも０．１バール、または少なくとも０．２５バール、または少なくとも０．３５バール、または少なくとも０．５バール、および所望により、最大２バール、または最大１．５バール、または最大１バールである。

【0254】

ステップＳ２１３に関する説明
ステップＳ２１３では、湿潤処理層に乾燥処理が施され、湿潤処理層から乾燥処理薄膜が形成される。

【0255】

例えば、湿潤処理層の乾燥処理の間、湿潤処理層の動的粘度は、最大０．５秒、または最大０．２５秒の時間的期間内で、少なくとも１０００倍増加する。

【0256】

いくつかの実施形態では、乾燥処理薄膜（例えば凝集性ポリマー処理薄膜）の厚さは、最大１５０ナノメートル、または最大１２０ナノメートル、または最大１００ナノメートル、または最大８０ナノメートル、または最大６０ナノメートルである。

【0257】

いくつかの実施形態では、乾燥処理薄膜は滑らかな上方表面を有する。例えば、湿潤処理層の乾燥処理は、表面張力により誘導されるビーディングが阻害されて乾燥処理薄膜が滑らかな上方表面を有するように水性処理調合物の粘度が十分迅速に大きくなるよう、十分迅速に行われる。

【0258】

いくつかの実施形態では、乾燥された処理薄膜の滑らかな上方表面は、最大１２ナノメートル、または最大１０ナノメートル、または最大９ナノメートル、または最大８ナノメートル、または最大７ナノメートル、または最大５ナノメートルの平均粗度Ｒ_ａにより特徴付けられる。当業者は図１３に、および、付随する説明に、誘導される。

【0259】

いくつかの実施形態では、乾燥処理薄膜は、ＩＴＭの剥離表面の長方形全体にわたり連続的である。なお該長方形は少なくとも１０ｃｍの幅および少なくとも１０メートルの長さを有する。

【0260】

いくつかの実施形態では、処理薄膜は透明である。

【0261】

乾燥処理薄膜の目的の１つは、処理薄膜上に堆積された水性インク液滴に直接的に接触しないよう、ＩＴＭ表面を保護することである。しかし、特に乾燥処理薄膜が薄い（例えば最大１５０、または最大１２０、または最大１００、または最大８０ナノメートル）場合には、水性インクの液滴は乾燥処理薄膜の厚さを「浸食貫通」し得る。したがっていくつかの実施形態では、（例えば図２のステップＳ２０５または図１２のステップＳ９５において）提供される水性処理調合物内の水溶性ポリマーの水溶性ポリマー濃度（重量による）は、最大１０％、または最大８％、または最大６％、または最大５％である。

【0262】

ステップＳ２１７～Ｓ２２１に関する説明
ステップＳ２１７では、水性インクの液滴が（例えばインク液滴堆積により）乾燥処理薄膜上に堆積されて、ＩＴＭ表面上にインク画像が形成される。ステップＳ２２１では、インク画像は乾燥されて、ＩＴＭ表面上に残留インク画像が残される。

【0263】

例えば、乾燥処理薄膜内に第四級アンモニウム塩が存在することは、液滴が堆積されたとき、または堆積直後に、ドット拡散および／またはドットゲイン（例えば均一なドット拡散および／またはドットゲイン）を助長するにあたり有用である。当業者は図１３Ａ～図１３Ｅを参照する以下の説明に誘導される。上述のように、均一な厚さを有し、および／または、欠陥を有さず、および／または非常に滑らかな上方表面を有する、乾燥処理薄膜の形成（ステップＳ２１３における）は、薄膜上方表面上における水性インクの均一な流れを助長し得る。

【0264】

ステップＳ２２５に関する説明
ステップＳＳ２５では、残留インク画像は基板に転送される。例えば、残留インク画像は、乾燥処理薄膜の非印刷エリアとともに、印刷基板上に転送される。

【0265】

いくつかの実施形態では、乾燥処理薄膜は、残留インク画像の転送の間、印刷エリアおよび非印刷エリアの両方において乾燥処理薄膜が完全にＩＴＭから分離して、乾燥インク画像とともに印刷基板に転送されるよう、十分な凝集性を有する。

【0266】

いくつかの実施形態では、転送時のＩＴＭの温度は摂氏８０度～摂氏１２０度の範囲内である。いくつかの実施形態では、ＩＴＭ温度は最大摂氏１００度、または最大摂氏９０度である。いくつかの実施形態では、ＩＴＭ温度は少なくとも摂氏１００度、または少なくとも摂氏１１０度、または少なくとも摂氏１２０度である。

【0267】

いくつかの実施形態では、ステップＳ２０５で提供される水性処理溶液における水性処理溶液水溶性ポリマーの存在は、ステップＳ２１３において形成される乾燥処理薄膜が、転送の間、十分な凝集性を有することを保証する（例えばポリマー膜またはポリマーマトリックスを形成することにより）ことを支援する。

【0268】

いくつかの実施形態では、インク画像が存在する基板は、光沢紙（例えば光沢コート紙）である。

【0269】

この転送は完璧であり得る（すなわち残留インク画像および乾燥処理薄膜の全体が基板に転送される）。代替的に、転送が完璧に達しない場合がある。この目的に対して、洗浄ステーションが、Ｓ２２５の転送ステップの後にＩＴＭ表面に残る物質を一掃する。

【0270】

図３Ａ～図３Ｂに関する説明
図３Ａでは、本発明のいくつかの実施形態に係る間接印刷のためのシステムの概略図が示されている。図３Ａのシステムは、複数の可ガイドローラ２３２、２４０、２５０、２５１、２５３、２４２上に搭載された撓性を有するエンドレスベルトを含む中間転写部材（ＩＴＭ）２１０を含む。他の事例（図示せず）では、ＩＴＭ２２０はドラムまたはドラムの周りに巻かれたベルトである。

【0271】

図３Ａの事例では、ＩＴＭ２１０（すなわち、ＩＴＭ２１０のベルト）は時計方向に動く。ベルト移動方向は、上流方向および下流方向を画成する。ローラ２４２、２４０はそれぞれ、画像形成ステーション２１２の上流および下流に位置される。したがってローラ２４２は「上流ローラ」と呼ばれ、ローラ２４０は「下流ローラ」と呼ばれ得る。

【0272】

図３Ａのシステムは
（ａ）ＩＴＭ２１０の表面上にインク画像（図示せず）を形成する（例えば、乾燥処理薄膜上への液滴堆積により－例えば図２のステップＳ２１７または図１２のステップＳ１０９参照）よう構成された画像形成ステーション２１２（例えば印刷バー２２２Ａ～２２２Ｄを含む。なお各印刷バーはインクジェットヘッド部（単数または複数）を含む）と、
（ｂ）インク画像を乾燥させる（例えば図２のステップＳ２２１または図１２のステップＳ１１３参照）ための乾燥ステーション２１４と、
（ｃ）インク画像がＩＴＭ２１０の表面からシート基板または織物基板に転送される（例えば図２のステップＳ２２５または図１２のステップ１１７参照）または印圧ステーション２１６と、
図３Ａの特定的な非限定的事例では、印圧ステーション２１６は印圧シリンダ２２０と、圧縮性ブランケット２１９を保持するブランケットシリンダ２１８と、を含む。いくつかの実施形態では、加熱器２３１が、基板（例えばシート基板または織物基板）への転送が助長されるようインク薄膜の粘着性を付与することを支援するために、画像転送ステーションのシリンダ２１８とシリンダ２２０との間のニップ部の直前に提供され得る。基板供給は概略的に図示されている。
（ｄ）残留物質（例えば処理済みの処理薄膜および／またはインク画像またはその一部）がＩＴＭ２１０の表面から洗浄される（図２では洗浄ステップは図示されない）洗浄ステーション２５８（すなわち図３Ａでは概略的にブロックとして図示される）と、
（ｅ）液体処理調合物（例えば水性処理調合物）の層（例えば均一な厚さを有する）がＩＴＭ表面上に形成される（例えば図２のステップＳ２０９または図１２のステップＳ１０１参照）処理ステーション２６０（すなわち図３Ａでは概略的にブロックとして図示される）と、
をさらに含む。

【0273】

当業者は図３Ａに図示される構成要素が必ずしもすべて要求されないことを理解するであろう。

【0274】

図３Ｂでは、空間において固定された複数の「位置」Ｌｏｃ_Ａ～Ｌｏｃ_Ｊが図示されている。Ｌｏｃ_Ａはローラ２４２にあり、Ｌｏｃ_Ｂは画像ステーション２１２の「始点」、Ｌｏｃ_Ｃは画像ステーション２１２の「終点」、などである。したがって、インク画像は（例えば図２のステップＳ２１７参照）ＩＴＭ２１０の上方行程上の画像形成ステーション２１２において位置ＬｏｃＡと位置ＬｏｃＢとの間の領域で形成される。インク画像は、残留インク画像を形成するために位置Ｌｏｃ_Ｃと位置Ｌｏｃ_Ｅとの間の領域で乾燥される（例えば図２のステップＳ２２１および図１２のステップＳ１０５参照）。この乾燥は、インク画像が乾燥ステーション２１４を通って移動する（例えばＩＴＭの時計方向回転により）につれて行われる。残留インク画像は、位置Ｌｏｃ_Ｅと位置Ｌｏｃ_Ｆとの間の印圧ステーション２１６においてＩＴＭ表面から基板に転送される（図２のステップＳ２２５および図１２のステップＳ１１７参照）。残留インク画像の転送後ＩＴＭ２１０の表面上に残る物質は、位置Ｌｏｃ_Ｇと位置Ｌｏｃ_Ｈとの間の洗浄ステーション２５８においてＩＴＭ２１０の表面から洗浄され得る。湿潤処理層は、位置Ｌｏｃ_Ｉと位置Ｌｏｃ_Ｊとの間にある処理ステーション２６０においてＩＴＭ２１０の表面上で図２のステップＳ２０９（または図１２のステップＳ１０１）において形成され得る（例えば図２のステップＳ２０９または図１２のステップＳ１０１参照）。この湿潤処理層は、乾燥処理（すなわち湿潤処理層を乾燥処理薄膜に変換するために）が施される（例えば、図２のステップＳ２１３または図１２のステップＳ１０５参照）。乾燥処理は右手側の位置Ｌｏｃ_Ｊと位置Ｌｏｃ_Ａとの間で行われる。乾燥処理薄膜が画像形成ステーション２１２に（例えばＩＴＭ ２１０の反時計方向の回転により）輸送された後、引き続きインク画像が乾燥処理薄膜に対する液滴堆積により形成され得る（例えば図２のステップＳ２１７または図２のステップＳ１０９参照）。

【0275】

図３Ａ～図３Ｂに示されているように、位置Ｌｏｃ_Ａと位置Ｌｏｃ_Ｄとの間のＩＴＭの部分はＩＴＭ２１０（すなわちＩＴＭ２１０のベルト）の上方行程である。この上方行程（図３Ｃに図示）は、（ｉ）画像形成ステーション２１２に対して上流にある上流ガイドローラ２４２と、（ｉｉ）画像形成ステーションに対して下流にある下流ガイドローラ２４０と、の間にある。上方行程は画像形成ステーション２１２を通過する。

【0276】

ＩＴＭの下方行程はＩＴＭ２１０の位置Ｌｏｃ_Ｄと位置Ｌｏｃ_Ａとの間にあり、図３Ｄに示されている。この下方行程は印圧ステーション２１６、洗浄ステーション２５８、および処理ステーション２６０を通過する。

【0277】

処理ステーションの１例が図４Ａに示されている。

【0278】

図４Ａの特定的な非限定的実施形態では、ＩＴＭ２１０は矢印２０１２により表されるように、全体が参照番号２０１４で示され、かつ、好適にはタンク２０１６内に搭載されている、ドクターブレードの上方で、向かって右から左に移動される。図４Ａでは、ドクターブレード２０２０１４はドクターロッド型であり剛性棒材から形成されるか、または、ＩＴＭ２１０の幅全体にわたり延長するホルダ２０２０である。ＩＴＭ２１０の下面に対向するその上方表面において、棒材２０２０は流路または溝部２４を有する状態で形成される。溝部２４内に、石英ガラス製で粗度がわずか数ミクロン（好適には１０ミクロン未満、特に０．５ミクロン未満）の滑らかでかつ規則的な円筒形表面を有する、棒状体２０２２が支持されている。

【0279】

ドクターブレード２０１４の上方を通過する以前に、ＩＴＭ２１０（または下方行程）の下面は、過剰な処理調合物（例えば溶液）２０３０（例えば図２のステップＳ２０５または図１２のステップＳ９５で提供される）を用いて被覆される。この例示説明において、過剰な処理調合物（例えば溶液）がＩＴＭ２１０（特にその下面）に塗布される様式は、図５を参照して以下で説明されるが、本発明に対して本質的な重要性を有さない。ＩＴＭ２１０は、例えば、単に液体を含むタンクに浸漬されてもよく、処理調合物（例えば溶液）の噴流の上方を通されてもよく、または図５で示すように上向きのジェット１１２８を用いて噴霧されてもよい。

【0280】

本発明の一実施形態では、液体浸透性の布地は、液体が布地に浸透し、被覆されるべき表面に面する布地の側に層が形成されるよう、上向きの噴霧ヘッド部の上方に配置される。この場合、噴霧ヘッド部は、布地を表面に向って付勢するよう作用するであろうが、布地を浸透する液体が表面に接触することが防止され、この液体は、流体軸受における場合と同様に作用する。

【0281】

図面に示されているように、ＩＴＭ２１０がドクターブレード２０１４に接近するにつれて、ＩＴＭ２１０は、ＩＴＭ２１０に塗布される薄膜の望ましい厚さよりも顕著に大きい液体の被覆２０３０を有する。

【0282】

ドクターブレード２０１４の機能は、過剰液体２０３０をＩＴＭ２１０から除去すること、および、残った液体がＩＴＭ２１０の表面全体にわたり均等かつ均一に拡がることを保証することである。これを達成するためにＩＴＭ２１０はドクターブレード２０１４に向かって、例えば空気圧（図示せず）により、付勢される。代替的に、ＩＴＭ２１０をドクターブレード２０１４に向かって付勢する力は、いくつかの実施形態では、織物の上方側面または反対側面に対して下方に押圧する（例えばそれ自体の重量により、またはバネの作用により）スポンジローラなどのバッキングローラ１１４１であり得る。さらなる代替例として、ドクターブレード２０１４自体がＩＴＭ２１０に向かって付勢され、ＩＴＭ２１０が張力下に維持されてもよい。

【0283】

円筒形の滑らかな棒状体２０２２からなるドクターブレード２０１４の先端部は、ＩＴＭ２１０の幅全体にわたり均一な半径を有し、その滑らかさは、先端部とＩＴＭ２１０の下面との間の間隙において液体の層流を保証する。この流れの性質は、流体軸受における液体潤滑剤の性質に類似し得、ＩＴＭ２１０の下面（すなわちＩＴＭの「下方行程」の表面）に対する付着状態を維持する液体２０３０の薄膜を、ＩＴＭをドクターブレード２０１４に抗して付勢する力と、棒状体２０２２の曲率半径と、に依存する厚さに減少させる。半径および力の両方が織物の幅全体にわたり一定であるため、結果的に生成される薄膜は均一であり、その厚さは、印加される力および棒状体直径の適切な選択により設定が可能である。ドクターブレード２０１４により除去される過剰な液体は、タンク２０１６に落下する前に棒状体２０２２のすぐ上流において小さいプール２０３２を作る。

【0284】

本発明の代替的な実施形態では、液体で被覆されるべきＩＴＭ２１０の表面は下向きに代わって上向きであってもよい。この場合、過剰な液体をＩＴＭ２１０（すなわちＩＴＭの「下方行程」の表面）に塗布することに代わって、液体は、ワイパブレードと織物の上方側の表面との間の接触線において、同様に液体の小さいプールが成長および維持されるよう、計量しながら表面上に供給される。空気ナイフが、この場合、プールからの処理調合物（例えば溶液）がＩＴＭ２１０の横方向縁部を越えて流出することを防止するために、提供され得る。

【0285】

本発明の様々な実施形態では、プール２０３２は、たとえ液体が、何らの理由で、ドクターブレード２０１４に到達する以前に、織物の表面の一部から反発（例えば「ビーディング」により）されたとしても、ＩＴＭ２１０のエリア全体が被覆されるよう、ＩＴＭ２１０の幅全体にわたって処理調合物（例えば溶液）の一定供給を提供する。

【0286】

余剰処理調合物（例えば溶液）が落下するタンク２０１６は、織物の下面を被覆するための液体がそこから吸い込まれる主要貯留タンクであってもよく、または、タンク２０１６は、主要貯留タンクにドレインされ、および／または好適な廃棄システムに注がれる、別のタンクであってもよい。

【0287】

棒状体２０２２は摩耗に対して耐性を示すために石英ガラスなどの固い物質で作られる。液体中には粗粒または粉塵などの小さい粒子が存在し得、係る粒子により、液体が流れる丸みを帯びた縁部が損傷され得る。石英ガラス以外の物質を使用することも可能であり得るが、使用する物質は好適には１００を越える（例えば、２００を越える、５００を越える、または１０００さえを越える）ブリネル硬度を有するべきである。本発明の様々な実施形態では、使用する物質は、均一な直径を有し、かつ、１０ミクロン未満（特に０．５ミクロン未満）の表面粗さを有する、滑らかな棒状体に形成されることが可能であるべきである。

【0288】

６ｍｍの半径を有してもよいが可能ならばわずか０．５ｍｍの半径を有し得る棒状体２０２２は比較的脆弱であり、支持のために棒材２０２０を必要とし得る。棒状体２０２２を正確に定位置に保持するために棒材２０２０には溝部２４が設けられており、溝部２４内に棒状体２０２２が支えられる。棒状体２０２２は任意の好適な様式で溝部２４内に保持され得る。例えば、接着剤を使用して、接着剤が固まるまで棒材２０２０を使用して棒状体２０２２を平坦表面、たとえばガラス板に押圧することも可能である。さらなる代替例として、溝部２４は、棒状体２０２２の直径よりもわずかに狭くなるよう正確に機械加工され、熱収縮を使用して、棒状体２０２２が溝部２４内の定位置に保持されてもよい。

【0289】

特定の調合物（例えば溶液）を塗布するために係るドクターブレードが使用される場合、溶液の堆積物３４がドクターブレード２０１４の下流側に蓄積される。理論に拘束されることを望むものではないが、この現象は、調合物（例えば溶液）の静止薄膜がドクターブレードの下流側に付着し、係る静止薄膜が乾燥するために溶質が残されるという事実に起因するものであり得ると考えられる。係る堆積物およびその組成物の形成に関する理由の如何に関わらず、過剰に成長することが許された場合には、係る堆積物はＩＴＭ２１０に塗布される処理調合物（例えば溶液）の層と次第に干渉することとなるであろう。

【0290】

本発明の様々な実施形態は、ドクターブレード２０１４が汚損したときにドクターブレード２０１４を切り替えるための装置および方法に関する。図４Ｂでは、好適には織物被覆処理または、そのＩＴＭに調整剤が塗布されることを要求する印刷システムを中断することなくドクターブレードを容易に切り替えるための１例が、示されている。

【0291】

図４Ｂでは、１２個のドクターブレード１１２２が、円筒形回転可能タレット１１２０の周縁部周りに配置された凹陥部に均等に搭載されている。軸方向に延長するドクターブレード１１２２は、図４Ａのドクターロッド１１２２と同様の挙動を示し、タレット１１２０はロッドホルダ２０２０と同一の目的を有する。円形断面の棒状体を使用することに代わり、ドクターブレード１１２２は、滑らかで丸みを帯び、かつ研磨された縁部を有する帯状細片として構築されている。均一な曲率半径の丸みを帯びた縁部を有する帯状細片は、例えば、円形断面の棒状体を平坦化することにより、生産され得る。ドクターブレード１１２２は好適にはステンレス鋼で作られ得るが、代替的に、摩耗に対して耐性を示す他の固い物質が使用され得る。

【0292】

タレット１１２０およびドクターブレード１２２がＩＴＭ１１０と相互作用する様式が図５に示されており、図５では、洗浄ステーション２５８と、処理ステーション２６０（例えば処理調合物の湿潤層を塗布するためのステーション。図２のステップＳ２０９または図２のステップＳ１０１参照）と、の１例が示されている。

【0293】

図５の事例では、２つの別個のタンク１１２５、１１２７が示されている。一定量の処理溶液（例えば、図２のステップＳ２０５または図１２のステップＳ９５の特性（単数または複数）を有する）がタンク１１２５に格納されている。例えば、この処理溶液はＩＴＭ２１０の表面に噴出（すなわち噴出装置７７４により）噴出され得る。ＩＴＭ２１０の表面から物質を機械的に除去して、ＩＴＭ表面を洗浄するためのブラシ１１２６Ａおよびブラシ１１２６Ｂも図５に示されている。例えば圧力が、ブラシ１１２６Ａの逆側に配置されたバッキングローラ７７２Ａとブラシ１１２６Ｂの逆側に配置されたバッキングローラ７７２Ｂとの間に印加され得る。

【0294】

いくつかの実施形態では、ＩＴＭの表面から除去された物質は、例えば、タンク１１２５に格納される液体処理調合物（例えば図２のステップＳ２０５または図１２のステップＳ９５の特定（１つまたは複数）を有する）に再溶解可能であり得る乾燥処理薄膜を含む。これは、処理調合物のリサイクルを可能にし得る。

【0295】

システムの機械的特性の如何に関わらず、本発明の様々な実施形態では、図２のステップＳ２０５または図１２のステップＳ９５で提供される水性処理調合物は、完全に再溶解可能である（例えば乾燥後、水性処理調合物に完全に溶解し得る）。

【0296】

処理調合物１１２８は噴出装置１１２８により噴出され得る。図５の事例では、ドクターブレード１１２２のうちの１つが有効化されており、この有効化されたドクターブレードは１１２２_{ＡＣＴＩＶＥ}と標示される。比較的厚い層の処理調合物が塗布され（例えば、装置１１２８により）、過剰な処理調合物はドクターブレード１１２２_{ＡＣＴＩＶＥ}と、ドクターブレード１１２２_{ＡＣＴＩＶＥ}に向かって付勢されるバッキングローラ１１４１と、の組み合わせにより除去され得る。

【0297】

噴出装置１１２８は、処理調合物の被覆材をＩＴＭ２１０の表面に塗布するための「被覆器」の１例である。被覆器の他の例は、プールの液体含有量がＩＴＭ表面上に保持されたときのプール２０３２である。

【0298】

ドクターブレード１１２２_{ＡＣＴＩＶＥ}（またはドクターブレード１１２２_{ＡＣＴＩＶＥ}の丸みを帯びた先端部）およびバッキングローラ１１４１（または代替的に丸みを帯びた先端部１１２３に向かって空気圧を提供するための装置）が共同的に被覆厚さ調節組立体となり、図１０Ａおよび図１１Ａにおいて、処理調合物の「最終厚さ」は、先端部１１２３をＩＴＭ２１０の対向部分に向かって（例えばバッキングローラ１１４１に向かって）またはその逆方向に付勢する力の量にしたがって調節され得る。

【0299】

図５の事例では、１つのみのドクターブレード１２２がＩＴＭ１１０と任意の所与の時間において相互作用するが、ブレードが汚損されると、タレット１２０が回転されて、次の隣接するドクターブレードが、当該ブレードが機能する（すなわち、過剰な液体を除去し、所望の厚さの薄膜のみが装置の下流側表面に付着されることが可能となるよう表面に対して十分に接近する）動作位置に運ばれる。

【0300】

動作位置に戻る前に、タレット回転サイクルにおける何らかの後段段階において、汚損されたブレード１１２２は洗浄装置（例えばブラシ１１３０）を通過し、この洗浄装置により、あらゆる堆積物が除去され、およびブレードが洗浄され、その後、ブレードは機能を回復させる。

【0301】

タレット１１２０の回転は操作員による要求に基づいて行われてもよく、または規則的間隔で実施されてもよい。

【0302】

タレット１１２０上のドクターブレードの個数は必ずしも１２である必要はないが、切り替え時に、図８～図９に示されるように、２つのドクターブレード１１２２が同時に機能しかつＩＴＭ１１０と相互作用する時間が存在するよう、十分な個数が存在することが望ましい。その結果、薄膜計量供給動作に中断がまったく発生せず、かつ、それにより印刷システムの中断なしにドクターブレードの切り替えが可能となるよう、ブレードの十分に連続的な交換が行われる。

【0303】

図８～図９はそれぞれ、タレット１１２０およびドクターブレード洗浄ブラシ１１３０の、より詳細な透視拡大断面図である。両方は、タンク１１２７に浸漬された金属フレーム１１４０において回転可能に支持されたアクスル上に搭載されている。タレット１１２０のアクスルおよびドクターブレード洗浄ブラシ１１３０は、タンク１１２７の外部に搭載された駆動モータ１４１２および駆動モータ１１４４に接続されている。図７から見られ得るように、タレット１１２０は中空円筒から作られ、その円筒形表面は、その重量および慣性モーメントが低減される一方で、ドクターブレード１１２２を支持するにあたり依然として十分な強度が提供されるよう、穿孔され得る。

【0304】

タレット１１２０により支持されるドクターブレード１１２２が平坦な帯状細片として示されているが、ドクターブレード１１２２は代替的に図４を参照して説明したように円形棒状体として形成されてもよいことが理解されるべきである。

【0305】

調整剤の溶液を激しく攪拌すると、特定の調整剤に対しては、気泡または泡沫が形成されることが知られている。超音波を使用して気泡を破壊することが可能であり、係る発泡防止装置がタンク１１２５に組み込まれ得る。

【0306】

図１０Ａに示されるように、ドクターブレード１１２２_{ＡＣＴＩＶＥ}がバッキングローラ１１４１に向かって（またはその逆方向に）付勢されると、ドクターブレードはＩＴＭ２１０の下方行程に向かって進入し得る。図１０Ａに示されているように、ＩＴＭ２１０（すなわちＩＴＭ２１０の下方行程）はローラ１１４１とドクターブレード１１２２_{ＡＣＴＩＶＥ}との間に配置される。したがってローラ１１４１がドクターブレード１１２２_{ＡＣＴＩＶＥ}に向かって付勢されると、ローラ１１４１はＩＴＭ２１０（すなわちＩＴＭ２１０の下方行程）を押圧し、ＩＴＭ２１０はドクターブレード１１２２_{ＡＣＴＩＶＥ}に向かって付勢される。その逆も成り立つ。

【0307】

図１０Ａ～図１０Ｂの事例では、ドクターブレード１１２２_{ＡＣＴＩＶＥ}の中心軸１１８８が示されている。図１０Ａ～図１０Ｂでは、ドクターブレード１１２２_{ＡＣＴＩＶＥ}の丸みを帯びた先端部は１１２３として標示されている。

【0308】

図１０Ａの事例では、先端部１１２３はＩＴＭ２１０の表面（すなわち局所的法線）に対向する。図１０Ａの事例では、ドクターブレード１１２２_{ＡＣＴＩＶＥ}は、丸みを帯びた先端部１１２３に対向するＩＴＭ２１０の局所的表面に対して実質的に垂直方向に向けられる。

【0309】

図１０Ａの事例では、下向きの力がローラ１１４１により（すなわちＩＴＭを介して）丸みを帯びた先端部１１２３に向かって印加される。代替例として、丸みを帯びた先端部１１２３に向かってＩＴＭ２１０を付勢するために、空気圧が使用され得る。結果的に、ドクターブレード１２２_{ＡＣＴＩＶＥ}は、曲率半径および印加される圧力により決定される厚さを有する液体薄膜（例えば通常は１マイクロメートルより薄い）を残して全部を除去することとなる。

【0310】

噴出装置１１２８、または、ＩＴＭ表面が浸され得る処理槽、または、初期被覆を塗布するための任意の他の装置が、液体処理調合物でＩＴＭを被覆するための「被覆器」と考えられ得る。さらに、（ｉ）丸みを帯びた表面１１２３（例えば丸みを帯びた先端部）と、丸みを帯びた表面１１１２をＩＴＭ２１０の対向表面に向かって付勢するための対向する力を印加するための装置（例えばローラ１１４１）と、の組み合わせが、処理調合物所望の均一の厚さ（例えばミクロン未満の厚さ）の層のみが残されるよう過剰な液体を除去するための厚さ調節組立体を形成する。

【0311】

本発明の様々な実施形態では、丸みを帯びた先端部１１２３が対向するＩＴＭ表面に対して接触しない（例えば先端部とＩＴＭ表面との間に間隙を維持するために）場合でも、アプリケータは依然として処理流体を介してＩＴＭに圧力を間接的に印加し得る。

【0312】

いくつかの実施形態では、丸みを帯びた先端部は少なくとも０．１バール、または少なくとも０．２５バール、または少なくとも０．３５バール、または少なくとも０．５バール、および所望により最大２バール、または最大１．５バール、または最大１バールの圧力を印加する。

【0313】

この圧力は、印刷方向に局所的であり得る。例えば、「圧力の帯状細片」（例えば、帯状細片は交差印刷方向に細長いものであり得る）（例えば少なくとも１０ｃｍ、または少なくとも３０ｃｍ、または少なくとも５０ｃｍの長さを有する）が、（ｉ）帯状細片内においてＩＴＭに印加される最大圧力がＰ＿ＳＴＲＩＰ＿ＭＡＸであり、Ｐ＿ＳＴＲＩＰ＿ＭＡＸの値が、少なくとも０．１バール、または少なくとも０．２５バール、または少なくとも０．３５バール、または少なくとも０．５バール、および所望により最大２バール、または最大１．５バール、または最大１バールとなり、かつ、（ｉｉ）帯状細片内のすべての位置において、アプリケータによりＩＴＭに印加される局所的圧力が少なくとも０．５×Ｐ＿ＳＴＲＩＰ＿ＭＡＸとなり、かつ、（ｉｉｉ）帯状細片の交差印刷方向において反対側上のすべての位置（上流側側面および下流側側面－帯状細片から最大２ｃｍ、または最大１ｃｍ、または最大５ｍｍ、または最大３ｍｍ、または最大２ｍｍ、または最大１ｍｍ、または最大０．５ｍｍだけ離間される）で、最大圧力が最大０．２×Ｐ＿ＳＴＲＩＰ＿ＭＡＸまたは最大０．１×Ｐ＿ＳＴＲＩＰ＿ＭＡＸとなるよう、アプリケータによりＩＴＭに印加され得る。

【0314】

図１１Ａで示すように、丸みを帯びた先端部１１２３（例えばドクターブレード）（例えば静止状態で保持される）が存在することにより剪断場または速度勾配が生じ得る（例えば図１１Ｂおよび図１１Ｃ参照）。ＩＴＭ表面の位置において、処理流体の速度は、非粘着性境界状態により、非ゼロ（例えばＩＴＭの速度に実質的に等しい）であり得、アプリケータにおいて処理液体の速度はゼロであり得る。

【0315】

いくつかの実施形態では、ｉ．薄い湿潤処理層の形成（例えば図２のステップＳ２０９または図１２のステップＳ１０１における）は、（ｉ）ＩＴＭの剥離表面から垂直方向に（例えば、最大３ミクロン、または最大２ミクロン、または最大１ミクロン）離間され、および／または、アプリケータとアプリケータの剥離表面との間である強力速度勾配ＩＶＧ位置ｘ＝ｘ_{ＩＶＧ＿ｌｏｃａｔｉｏｎ}位置において、水性処理溶液の速度勾配（例えばＩＴＭ表面に対して垂直な方向における）を作ることを含み、ｉｉ．ＩＶＧ位置において、速度勾配の大きさは、ＶＧ値に等しいかまたはＶＧ値を越え、ＶＧ値は少なくとも１０^６／秒、または少なくとも２×１０^６／秒、または少なくとも４×１０^６／秒、または少なくとも５×１０^６／秒、または少なくとも７．５×１０^６／秒、または少なくとも１０^７／秒、または少なくとも２×１０^７／秒、または少なくとも４×１０^７／秒、または少なくとも５×１０^７／秒、または少なくとも７．５×１０^７／秒である。

【0316】

いくつかの実施形態では、速度勾配は、
ｉ．ＩＶＧ位置の上流である上流位置において、最大速度勾配はＩＶＧ位置における速度勾配の値の最大ｘ％となり、
ｉｉ．ＩＶＧ位置の下流である下流位置において、最大速度勾配はＩＶＧ位置における速度勾配の値の最大ｘ％となり、
ｉｉｉ．ｘの値は、最大５０、または最大３０、または最大２０、または最大１０となり、および／または、
ｉｖ．上流位置および下流位置はＩＶＧ位置からそれぞれ最大２ｃｍ、または最大１．５ｃｍ、または最大１．２５ｃｍ、または最大１ｃｍ、または最大９ｍｍ、または最大８ｍｍ、または最大７．５ｍｍ、または最大７ｍｍ、または最大６ｍｍ、または最大５ｍｍだけ離間されるよう、
印刷方向に沿って局在化される。

【0317】

いくつかの実施形態では、少なくとも２５０ｇ／ｃｍ、または少なくとも３５０ｇ／ｃｍ、または少なくとも４００ｇｍ／ｃｍ、および／または最大１ｋｇ／ｃｍ、または最大７５０ｇ／ｃｍ、または最大６００ｇ／ｃｍの交差印刷方向における力密度で、丸みを帯びた表面がＩＴＭに付勢されるか、またはＩＴＭが丸みを帯びた表面に付勢される。

【0318】

図１２に関する説明
本発明の様々な態様は、図１２で説明する印刷処理に関する。いくつかの非限定的な実施形態では、図３～図１１で説明される装置、システム、およびデバイスは図１２の方法を実行するために用いられ得る。図１２におけるステップの順序は限定的であることを意図するものではなく、特にステップＳ９１～Ｓ９９は任意の順序で実行され得る。いくつかの実施形態では、ステップＳ１０１～Ｓ１１７は図１２に示す順序で実行される。

【0319】

いくつかの実施形態では、ステップＳ９１は図２のステップＳ２０１の任意の特徴または特徴の組み合わせを提供するために実行され得る。

【0320】

いくつかの実施形態では、ステップＳ９５は図２のステップＳ２０５の任意の特徴または特徴の組み合わせを提供するために実行され得る。

【0321】

いくつかの実施形態では、ステップＳ１０１は図２のステップＳ２０９の任意の特徴または特徴の組み合わせを提供するために実行され得る。

【0322】

いくつかの実施形態では、ステップＳ１０５は図２のステップＳ２１３の任意の特徴または特徴の組み合わせを提供するために実行され得る。

【0323】

いくつかの実施形態では、ステップＳ１０９は図２のステップＳ２１７の任意の特徴または特徴の組み合わせを提供するために実行され得る。

【0324】

いくつかの実施形態では、ステップＳ１１３は図２のステップＳ２２１の任意の特徴または特徴の組み合わせを提供するために実行され得る。

【0325】

いくつかの実施形態では、ステップＳ１１７は図２のステップＳ２２５の任意の特徴または特徴の組み合わせを提供するために実行され得る。

【0326】

ステップＳ９１～Ｓ９９は、図１２の処理において使用される成分または構成要素または消耗品に関し、その一方で、ステップＳ１０１～Ｓ１１７は処理自体に関する。要約すると、（ｉ）ステップＳ１０１において、湿潤処理調合物の薄い処理層が中間転写部材（ＩＴＭ。疎水特性を有する剥離層を有する）に塗布され、（ｉｉ）ステップＳ１０５において、この処理層が、ＩＴＭの剥離表面上の薄い乾燥処理薄膜に乾燥（例えば高速乾燥）され、（ｉｉｉ）ステップＳ１０９において、水性インクの液滴が薄い乾燥処理薄膜上に堆積され（例えば噴出により）、（ｖｉ）ステップＳ１１３において、インク画像が乾燥されて、ＩＴＭ上の乾燥処理薄膜上にインク画像が残され、（ｖ）ステップＳ１１７において、インク画像が印刷基板上に転送される（例えば乾燥処理薄膜とともに）。

【0327】

ステップＳ９１～Ｓ９９の含有物に関する詳細について、ならびに処理ステップＳ１０１～Ｓ１１７について、以下で説明する。

【0328】

本発明の様々な実施形態では、ステップＳ９１～Ｓ１１７は、以下のように実行される。
（Ａ）ステップＳ９１において、ＩＴＭが提供される。なおこのＩＴＭは例えば、最大でも中程度の疎水性を有し、および／または、疎水特性を有し、および／または、シリコーン系であり、および／またはわずかに中程度の疎水性を有し、および／または、官能基を有さない、剥離層を有する。
（Ｂ）ステップＳ９５において、例えば（ｉ）低い蒸発負荷を有し、および／または（ｉｉ）界面活性剤を豊富に含み、および／または、（ｉｉ）中程度のみの親水性を示し、および／または、（ｉｉｉ）水溶性ポリマーを含み、および／または（ｉｖ）第四級アンモニウム塩を含み、および／または（ｖ）溶液が均一な薄い層に拡がり得るよう十分に低い粘度を有し、（ｖｉ）吸湿性物質を含み、および／または（ｖｉｉ）有機溶媒を実質的に含まず、および／または（ｖｉｉｉ）最大で低濃度の凝集剤（多価カチオンを含む）を有する、水性処理溶液が提供される。
（Ｃ）ステップＳ９９において水性インクが提供される。
（Ｄ）ステップＳ１０１において、水性処理調合物がＩＴＭ（例えば移動中のＩＴＭ）の剥離表面に塗布され、それにより、剥離表面上に薄い湿潤処理層（例えば厚さ≦０．８μ）が形成される。
（Ｅ）ステップＳ１０５では、薄い湿潤処理層にＩＴＭ剥離表面上で乾燥処理（例えば高速乾燥）が施され、水溶性ポリマーの薄い乾燥処理薄膜（例えば厚さ≦０．０８μ）がＩＴＭ剥離表面上に残される。例えば、薄い乾燥処理薄膜は、次の特性、すなわち、（ｉ）例えば処理薄膜が連続性および／または凝集性の薄膜であること、および（ｉｉ）乾燥処理薄膜の上方表面が非常に低い粗度により特徴付けられること、の一方または両方を有し得る。
（Ｆ）ステップＳ１０９において、水性インクの液滴が薄い乾燥処理薄膜上に堆積され（例えばインク噴出により）て、当該処理薄膜上にインク画像が形成される。
（Ｇ）ステップＳ１１９において、インク画像は乾燥処理薄膜上に残留インクを残す（例えば良好なインクドット拡散を達成するために）。
（Ｈ）ステップＳ１１９において、乾燥インク画像は（例えば比較的低い温度で）（例えば乾燥処理薄膜とともに）ＩＴＭ表面から印刷基板（例えば紙系またはプラスチック系）に転送される。

【0329】

いくつかの実施形態では、図１２の処理は、水性処理溶液がステップＳ１０１においてＩＴＭに塗布されたとき、ビーディングがほとんど存在しないかまたはまったく存在せず、それにより、結果的に生成された薄い乾燥処理薄膜（すなわちステップＳ１０５において取得される）が連続的であり、および／または滑らか（例えば極めて滑らか）な上方表面を有するよう実行される。この滑らかな上方表面は、高品質な基板上に存在するインク画像を取得するにあたり重要であり得る。

【0330】

ＩＴＭに前処理が施され、前処理済みのＩＴＭの上部にインク画像が塗布される従来の処理に関連する１つの特徴は、基板への転送後、乾燥処理調合物が（例えば乾燥後）インク画像上に存在し、インク画像に望ましくない光沢を増加させ得ることである。この潜在的に望ましくない効果を克服または最小化するために、薄い乾燥処理薄膜がステップＳ１０５において取得される（例えば、最大４００ナノメートル、または最大２００ナノメートル、または最大１００ナノメートル、またはさらに小さい厚さを有する）。さらに、いくつかの実施形態では、この薄い乾燥処理薄膜（すなわちステップＳ１０５で取得される）は連続的であり、このことは以下で説明するように、有利であり得る。

【0331】

限定ではないが、いくつかの実施形態では、図１２の処理は、ステップＳ１１７の画像転送が（例えば未被覆基板に対して）低温で実施されるよう、実行される。例えばその温度は最大摂氏９０度、または最大摂氏８５度、最大摂氏８０度、または最大摂氏７５度、最大摂氏７０度、または最大摂氏６５度、最大摂氏６０度－例えば約摂氏６０度である。

【0332】

図１２のステップＳ９１に関する説明
異なる実施形態では、ＩＴＭ（すなわち図１２のステップＳ９１または図２のステップＳ２０１で提供されるＩＴＭ）は以下の特徴Ａ１～Ａ５のうちの１つまたは複数を提供し得る。
Ａ１：いくつかの実施形態では、剥離層はシリコーン物質（例えば、付加硬化型）から形成される。このことにより、ＩＴＭはステップＳ１１７において有用である疎水特性を有する。
Ａ２：図１２の方法における使用の前に、シリコーン系剥離層は、その疎水性が低減されるよう、生産される。例えば、剥離層に親水性を付与するにあたり官能反応性基の添加に依存することに代わり、極性基における極性原子（例えば極性Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ部分における酸素原子）が剥離層表面に対して外向きに整列されるかまたは別様に配向されるよう、シリコーン剥離層を硬化することが可能である。この事例では、「Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ」における酸素原子は、通常の処理状態下では、ステップＳ１１７において処理溶液中の物質に、乾燥インク画像に、および／または乾燥処理薄膜に、化学的に結合する能力を有さない。しかしステップＳ１０１～Ｓ１０５では、外向きに配向された極性「Ｏ」の親水性は利点を提供することが可能である。
Ａ３：ＩＴＭの剥離表面は中程度の疎水特性を有するが、過度の疎水性を示さない。しかがって、剥離表面は、少なくとも２３ダイン／ｃｍ、より典型的には少なくとも２５ダイン／ｃｍ、少なくとも２８ダイン／ｃｍ、少なくとも３０ダイン／ｃｍ、少なくとも３２ダイン／ｃｍ、少なくとも３４ダイン／ｃｍ、または少なくとも３６ダイン／ｃｍ、および／または最大４８ダイン／ｃｍ、最大４６ダイン／ｃｍ、最大４４ダイン／ｃｍ、最大４２ダイン／ｃｍ、最大４０ダイン／ｃｍ、最大３８ダイン／ｃｍ、または最大３７ダインの表面エネルギー（摂氏２５度において）を有し得る。
Ａ４：インク受容表面または剥離層表面上の蒸留水液滴の後退接触角は、典型的には少なくとも３０度、およびより典型的には３０度～７５度、３０度～６５度、３０度～５５度、または３５度～５５度である。
Ａ５：ＩＴＭの剥離層は、架橋ポリマー構造内で結合された官能基を有さないかまたは実質的に有さない。発明者らは、係る官能基は望ましい粘着を増加または促進し得るものと考える。

【0333】

図１２のステップＳ９５に関する説明
ステップＳ９５において水性処理調合物が提供される。この処理調合物は少なくとも５０％重量／重量、または少なくとも５５％重量／重量、または少なくとも６０％重量／重量、または少なくとも６５％重量／重量の水キャリア液体を含む。

【0334】

異なる実施形態では、水性処理調合物（すなわち図１２のステップＳ１０１の塗布以前のその初期状態における水性処理調合物または図１のステップＳ２０５の塗布以前のその初期状態における水性処理調合物）は以下の特徴のうちの１つまたは複数（すなわち任意の組み合わせ）を提供し得る。
Ｂ１．低い蒸発負荷－いくつかの実施形態では、初期の水性処理調合物は低い蒸発負荷を有し、摂氏６０度（および大気圧）において固体である物質を比較的豊富に含む。以下で説明されるように、いくつかの実施形態では、このことは、ステップＳ１０５の実行中、粘度が非常に短い時間的期間において急速に増加し、それにより、水性処理調合物がＩＴＭの剥離表面（疎水特性を有する）上でビーディングを形成させるあらゆる傾向が抑制され得るため、有用であり得る。例えば摂氏６０度蒸発負荷は、最大１０：１、または最大９：１、または最大８：１、または最大６：１、または最大５：１、または最大４：１であり得る。いくつかの実施形態では、このことは、露出した部分を有さない連続的な乾燥処理薄膜を達成するにあたり好適である。
Ｂ２．界面活性剤を豊富に含む－いくつかの実施形態では、初期水性処理調合物は、少なくとも２％重量／重量、または少なくとも２．５％重量／重量、少なくとも３％重量／重量、または少なくとも４％重量／重量、または少なくとも５％重量／重量、または少なくとも６％重量／重量、または少なくとも７％重量／重量、または少なくとも８％重量／重量、または少なくとも９％重量／重量、または少なくとも１０％重量／重量の界面活性剤（単数または複数）を含む。本発明の様々な実施形態では、初期水性処理調合物中に存在する界面活性剤（例えば、処理調合物において少なくとも５０重量％、または少なくとも７５重量％、または少なくとも９０重量％の界面活性剤）は摂氏６０度において固体であり得、それにより蒸発負荷が低くなることに貢献する。いくつかの実施形態では、初期水性処理調合物中に比較的高い濃度の界面活性剤が存在することは、水性処理調合物の親水性が低下することに貢献し、それにより、ステップＳ１０１および／またはステップＳ１０５において水性処理調合物がＩＴＭの剥離表面上でビーズ状に凝集する傾向が低減される。いくつかの実施形態では、界面活性剤が湿潤剤であるため、比較的高い濃度の界面活性剤は、ステップＳ１０９および／またはＳ１１３の実行時に乾燥インク薄膜の表面上で水性インク液滴を拡散させ（またはインク液滴が収縮しようとするあらゆる傾向を抑制し）、それにより、結果的に生成されるインクドットの被覆範囲が拡がり、次第に基板上に存在するようになることに対して有用であり得る。
Ｂ３．第四級アンモニウム塩が（例えば比較的高い濃度で）存在すること－いくつかの実施形態では、初期水性処理調合物は少なくとも１．５％重量／重量（例えば少なくとも２％、少なくとも２．５％、少なくとも３％、少なくとも４％、少なくとも５％）の第四級アンモニウム塩を含む。いくつかの実施形態では、水における第四級アンモニウム塩の溶解度は摂氏２５度において少なくとも５％である。いくつかの実施形態では、アンモニウム第四級アンモニウム塩は脂肪族置換基を含む。
Ｂ４．中程度の親水性を有する初期水性処理調合物－いくつかの実施形態では、初期水性処理調合物は中程度にのみ親水性を示し、例えば、摂氏２５度で最大３２ダイン／ｃｍ（例えば２０～３２ダイン／ｃｍ）または最大３０ダイン／ｃｍ（例えば２０～３２ダイン／ｃｍ）または最大２８ダイン／ｃｍ（例えば２０～３２ダイン／ｃｍ）の静的表面張力を有する。ＩＴＭの剥離表面が中程度の疎水性（または中程度の親水性）特性を示すため、ステップＳ１０１および／またはステップＳ１０５においてＩＴＭの表面上に水性処理調合物のビーディングを生じさせ得る高い親水性を有する初期水性処理調合物を用いないことは有用であり得る。このことは、特に、湿潤処理層の厚さが小さい状態に対して特に重要であり得、薄い乾燥処理薄膜が連続的となるよう露出した部分を防止することが望まれる。
Ｂ５．ポリマーマトリックスを形成する水溶性ポリマーの存在（例えば図２１のステップＳ１０５または図２のステップＳ２１３における乾燥時における）－いくつかの実施形態では、初期水性調合物は、摂氏２５度において少なくとも５％の水溶解度を有する、少なくとも１．５重量％（例えば少なくとも２重量％、少なくとも２．５重量％、または少なくとも３重量％）の少なくとも１つの水溶性ポリマー、より詳細にはマトリックス形成ポリマーを含む。係るポリマー（単数または複数）は、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、例えばヒドロキシプロピルメチルセルロース、ＰＶＰ、ポリエチレンオキシド、およびアクリル樹脂などのその誘導体を含む水溶性セルロースを含むがこれらに限定されない。いくつかの実施形態では、ポリマーマトリックスの形成により、薄膜の形成が助長され、および／または、乾燥処理薄膜がかなり薄い場合でさえも、所望の弾力性および／または凝集性、または引っ張り強度が乾燥処理薄膜に付与される。
Ｂ６．図１２のステップＳ１０１におけるＩＴＭ上への塗布（または図２のステップＳ２０９におけるＩＴＭへの塗布）以前における比較的低い粘度－以下で説明されるように、図１２のステップＳ１０１（または図２のステップＳ２０９）において、発明者らは、水性処理調合物の薄いが比較的均一な湿潤層を塗布することが望ましいことを見出した。この目的のために、初期水性処理調合物の摂氏２５度粘性係数は、最大１００ｃＰ、または最大８０ｃＰ、または最大４０ｃＰ、または最大３０ｃＰであり得る。代替的または追加的に、初期水性処理調合物の摂氏２５度粘性係数は、少なくとも８ｃＰ、または少なくとも１０ｃＰ、または少なくとも１２ｃＰ、または少なくとも１４ｃＰ－例えば８～１００ｃＰ、１０～１００ｃＰ、１２～１００ｃＰ、１４～１００ｃＰ、１０～６０ｃＰ、または１２～４０ｃＰの範囲内であり得る。

【0335】

いくつかの実施形態では、この特徴は、（アプリケータ装置－例えば静止アプリケータ装置を通過する際に）高速移動するＩＴＭに処理調合物を塗布する場合に、特に有用であり得る。
Ｂ７．グリセロールなどの有機溶媒を有さないこと－いくつかの実施形態では、低い蒸気圧の有機溶媒が存在した場合、ステップＳ１０５におけるＩＴＭの表面上の処理調合物の乾燥が妨げられ、および／または処理薄膜が、転送ステップＳ１１７に対して望ましい所望の弾力性および／または凝集性、または、引っ張り強度を失い得る。いくつかの実施形態では、調合物は、純粋状態における蒸気圧に関わらず有機溶媒を含まず、および／または、最大３重量％、最大２重量％、最大１重量％、または最大０．５重量％、または最大０．２５重量％、または最大０．１重量％の有機溶媒を含む。特に、いくつかの実施形態では、調合物は、有機溶媒を含まず、および／または、最大３重量％、最大２重量％、最大１重量％、または最大０．５重量％、または最大０．２５重量％、または最大０．１重量％のグリセロールを含む。いくつかの実施形態では、調合物はグリセロール完全に含まない。
Ｂ８．吸水性物質を含む－いくつかの実施形態では、初期水性処理調合物は、吸水剤が固体の乾燥処理薄膜内に配置されたときにインクから水を吸収するよう選択された固体吸水剤を含む。例えば、係る固体吸水剤は最大摂氏６０度、または最大摂氏５０度、または最大摂氏４０度、または最大摂氏３０度、または最大摂氏２５度－例えば少なくとも１．５％重量／重量、または少なくとも２％重量／重量、または少なくとも２．５％重量／重量、または少なくとも３％重量／重量の融点（すなわち純粋状態にあるとき）を有し得る。係る吸水剤の例としては、スクロース、尿素、ソルビトール、およびイソマルトースが挙げられるが、これらに限定されない。
Ｂ９．その表面張力が全体としての調合物の表面張力を越える少なくとも１つの界面活性剤を含む複数種類の界面活性剤の存在。－いくつかの実施形態では、初期水性処理調合物は、第１界面活性剤および第２界面活性剤を含む。なお第１界面活性剤は第２界面活性剤（例えば第四級アンモニウム塩）よりも大きい疎水性（およびより低い表面張力）を有する。１つの事例では、第１界面活性剤はシリコンポリエーテルを含み、および／または第２界面活性剤は第四級アンモニウム塩である。例えば、第１界面活性剤と第２界面活性剤との間のそれぞれの表面張力における差異の絶対値は、少なくとも５ダイン／ｃｍ、または少なくとも７．５ダイン／ｃｍ、または少なくとも１０ダイン／ｃｍであり得る。例えば、（ｉ）第１界面活性剤の表面張力は初期水性処理調合物の表面張力よりも小さい（その差異は例えば、少なくとも１ダイン／ｃｍ、または少なくとも２ダイン／ｃｍ、または少なくとも３ダイン／ｃｍ、または少なくとも４ダイン／ｃｍ、または少なくとも５ダイン／ｃｍ、または少なくとも７ダイン／ｃｍである）、および／または、（ｉｉ）第２界面活性剤の表面張力は初期水性処理調合物の表面張力よりも大きい（その差異は例えば、少なくとも１ダイン／ｃｍ、または少なくとも２ダイン／ｃｍ、または少なくとも３ダイン／ｃｍ、または少なくとも４ダイン／ｃｍ、または少なくとも５ダイン／ｃｍ、または少なくとも７ダイン／ｃｍである）。

【0336】

いくつかの実施形態では、第１界面活性剤の主要目的は、例えば処理調合物がステップＳ１０１および／またはＳ１０５においてビーズ状に凝集することがないよう、初期水性処理調合物の親水性を低下させる（例えば上記の「特徴Ａ４」説明した値に）ことである。代替的または追加的に、第２界面活性剤の主要目的は上記のＢ３で説明したあらゆる特徴を提供することである。

【0337】

異なる実施形態では、初期水性処理調合物は、少なくとも２％（重量／重量）、または少なくとも２．５％（重量／重量）、少なくとも３％（重量／重量）、または少なくとも４％（重量／重量）、または少なくとも５％（重量／重量）の第１界面活性剤、および／または、少なくとも２％（重量／重量）、または少なくとも２．５％（重量／重量）、または少なくとも３％（重量／重量）、または少なくとも４％（重量／重量）、または少なくとも５％（重量／重量）の第２界面活性剤を含む。例えば、第１界面活性剤の濃度（重量／重量）と第２界面活性剤の濃度重量／重量との間の比は、少なくとも０．１、または少なくとも０．２、またはａｔ０．２５、または少なくとも０．３３、または少なくとも０．５、または少なくとも０．７５、および／または最大１０、または最大４、または最大３最大２、または最大４／３である。
Ｂ１０．最大でも低い濃度の、多価カチオン（例えば塩化カルシウムなど）を含む凝集剤を有すること。－いくつかの実施形態では、これらの化合物は画像品質に対して良好ではないと考えられる。

【0338】

図１２のステップＳ９９に関する説明
水性インクの潜在的特徴：
特徴Ｃ１：（例えば図２または図１２の方法に関する）いくつかの実施形態では、インクは、ＰＣＴ／ＩＢ１３／５１７５５、またはＵＳ２０１５／００２５１７９、ＰＣＴ／ＩＢ１４／０２３９５、またはＵＳ１４／９１７４６１に記載の１つまたは複数の特徴（特徴の任意の組み合わせ）を提供する。以上の特許の全部は参照することにより本願に援用される。

【0339】

図１２のステップＳ１０５に関する説明
特徴Ｄ１：ステップＳ１０５で形成される乾燥処理層は、薄いが単層（例えば単層よりも顕著に厚い）ではなく、例えば最大で１００ナノメートルの厚さを有する。いくつかの実施形態では、乾燥処理層は極度に薄く、最大８０ナノメートル、または最大７５ナノメートル、または最大７０ナノメートル、または最大６５ナノメートル、または最大６０ナノメートル、または最大５５ナノメートル、または最大５０ナノメートルの厚さを有する。それにも関わらず、異なる実施形態では、たとえ乾燥処理薄膜が極度に薄い場合でさえも、単層または単層型の構成体よりも厚い。したがって、異なる実施形態では、乾燥処理層の厚さは、少なくとも２０ナノメートル、または少なくとも３０ナノメートル、または少なくとも４０ナノメートル、または少なくとも５０ナノメートルであり得る。いくつかの実施形態では、この大きい「バルク」（すなわち最小厚さ特徴）を、例えば他の以下で説明する他の特徴（単数または複数）とともに提供することは、粘着性および／または弾性を示す乾燥処理薄膜の形成を支援する。このことは、乾燥処理薄膜がＩＴＭから基板に転送される際に（すなわち、乾燥処理薄膜上に乾燥インク画像を保持する段階において）その構造的完全性を維持することが望ましいステップＳ１１７において、有用であり得る。

【0340】

いくつかの実施形態では、乾燥処理調合物は、基板に転送され後に結果的に生成されるインク画像に望ましくない光沢を加え得る。したがって薄いが凝集性を有する乾燥処理層を形成する能力は、有用であり得る。薄い層は、蒸発、および層が乾燥して薄膜になることも、支援する。
特徴Ｄ２：ステップＳ１０５においてＩＴＭ上に形成される乾燥処理薄膜は連続的であり、薄さまたは極度の薄さに関わらず、乾燥処理薄膜上に「露出部分」を有さない。以下で説明されるように、いくつかの実施形態では、この目的を達成するために（特に薄い層または非常に薄い層に対して）、以下の項目すなわち、（ｉ）ステップＳ１０１において塗布された初期塗布湿潤層は、初期塗布湿潤層が比較的薄く、最大約１μ（または最大０．８μ、または最大０．６μ、または最大０．４μ、さらに典型的には最大０．３μ、最大０．２５μ、または最大０．２μ、および／または少なくとも０．１μ）の厚さを有する場合でさえも、連続的であり露出部分を有さないこと、および、（ｉｉ）ステップＳ１０５の乾燥処理は非常に急速に実行され、乾燥処理調合物の粘度が非常に急速に増加する（例えば最大１００ミリ秒以内、最大５０ミリ秒以内、最大４０ミリ秒以内、最大３０ミリ秒以内、最大２５ミリ秒以内、最大２０ミリ秒以内、最大１５ミリ秒以内、または最大１０ミリ秒内に、少なくとも１００倍、または少なくとも１０００倍、または少なくとも１０，０００倍）こと、の両方が要求され得る。水性処理調合物がＩＴＭ剥離層に塗布されるとき、ＩＴＭ剥離層が疎水特性を有し、処理調合物が水性であり、かつ、より大きい親水性を有するため、水性処理調合物はビーディングを生じさせ得る。しかし、湿潤処理層の塗布後に粘度が急速に上昇するならば、より高い粘度の処理調合物は、より低い粘度の調合物よりも、ビーディングに対して、より良好に抗し得る。いくつかの実施形態では、上記の特徴「Ｂ１」で論じたように、水性処理調合物は、固体を豊富に含み、および／または、低い蒸発負荷を含む。このことは、粘度の急速な増加を支援し得る。

【0341】

連続的な乾燥処理薄膜を取得するにあたり有用である他の耐ビーディング特徴（すなわちステップＳ１０１～Ｓ１０５の耐ビーディング）は、（ｉ）いくつかの実施形態では疎水特性を有するが、過度の疎水性は示さないＩＴＭの剥離表面（特徴「ＢＡ」参照）、と、（ｉｉ）いくつかの実施形態では親水特性を有するが、過度の親水性は示さない水性処理調合物（特徴「Ｂ４」参照）と、の相対的特性に関し得る。水性処理調合物とＩＴＭの剥離層との間の静的表面張力が比較的小さい場合は、ビーディングに向かう駆動力は小さく、水性処理調合物の粘度は（例えば急速に増大するため）ビーディングを防止するにあたり十分であり得る。

【0342】

上記で論じるように、ＩＴＭの剥離層の疎水性が中程度にすぎないにも関わらず（特徴「Ａ３」参照）、ＩＴＭ剥離層は、ＩＴＭ剥離層と乾燥処理薄膜との間の粘着を制限する特定的な特性を有し得る（特徴「Ａ５」参照）。したがって、たとえ処理表面が、ステップＳ１０１および／またはＳ１０５において処理表面上での処理調合物のビーディングを回避するために中程度にのみ疎水性を示す場合でさえも、ＩＴＭの剥離層と乾燥処理薄膜との間の粘着力を最小化することが後に望まれるときに、ステップＳ１１７においてこの利点に対する「代償」を払うことを回避することが可能であり得る（例えば少なくとも部分的に特徴「Ｂ２」のために）。

【0343】

いくつかの実施形態では、このことは、適切な画像品質を有する基板に存在するインク画像を生産するために有用である（例えば図１５Ａ～図１５Ｄ参照）。
特徴Ｄ３：ステップＳ１０５においてＩＴＭ上に形成される乾燥処理薄膜は極度に低い表面粗さにより特徴付けられる。いくつかの実施形態では、表面粗さは、最大２０ナノメートル、または最大１８ナノメートル、または最大１６ナノメートル、または最大１５ナノメートル、または最大１４ナノメートル、または最大１２ナノメートル、または最大１０ナノメートル、または最大９ナノメートル、または最大８ナノメートル、または最大７ナノメートル、または最大６ナノメートルの粗さ平均Ｒ_ａ（一般的に使用される１次元粗度パラメータ）により特徴付けられる。ＩＴＭ上に形成される乾燥処理薄膜は少なくとも３ナノメートルまたは少なくとも５ナノメートルのＲ_ａを有し得る。

【0344】

いくつかの実施形態では、ステップＳ１０５において形成される薄いかまたは極度に薄い乾燥処理薄膜に対してさえも、例えば、粗さ平均Ｒａと乾燥処理層の厚さとの間の比が、少なくとも０．０２、または少なくとも０．０３、または少なくとも０．０４、または少なくとも０．０５、または少なくとも０．０６、または少なくとも０．０７、または少なくとも０．０８、または少なくとも０．９、または少なくとも０．１、または少なくとも０．１１、または少なくとも０．１２、または少なくとも０．１３、または少なくとも０．１４、または少なくとも０．１５、または少なくとも０．１６、または少なくとも０．１７、または少なくとも０．１８、または少なくとも０．１９、または少なくとも０．２である場合でさえも、係る低い粗さ平均Ｒａを達成することが可能であり得る。

【0345】

いくつかの実施形態では、水性インク液滴が堆積される乾燥処理薄膜および乾燥処理薄膜の表面（例えば乾燥処理薄膜の上方表面）は、（ｉ）平均粗さＲ_ａと、（ｉｉ）乾燥処理層の厚さと、の無次元比により特徴付けられる。なお該無次元比は、少なくとも０．５、少なくとも０．４、少なくとも０．３、少なくとも０．２５、少なくとも０．２、少なくとも０．１５、または少なくとも０．１、および所望により、少なくとも０．０２、または少なくとも０．０３、または少なくとも０．０４、または少なくとも０．０５、または少なくとも０．０６、または少なくとも０．０７、または少なくとも０．０８である。
特徴Ｄ４：いくつかの実施形態では、少なくとも１０ｃｍ×１メートル、または１ｍ２、３ｍ２、または１０ｍ２の全体の長方形の全体を覆う連続的な乾燥薄膜を取得することが可能である。この薄膜は、最大１２０ｎｍ、最大１００ｎｍ、最大８０ｎｍ、最大６０ｎｍ、最大５０ｎｍ、または最大４０ｎｍ、および典型的には、少なくとも２０ｎｍ、少なくとも２５ｎｍ、または少なくとも３０ｎｍの厚さまたは平均厚さを有し得る。

【0346】

ステップＳ１０９～Ｓ１１７に関する説明
異なる実施形態では、ステップＳ１０９および／またはＳ１１３および／またはＳ１１７が実行されると、以下の処理関連特徴のうちの１つまたは複数が提供され得る。
特徴Ｅ１：いくつかの実施形態では、たとえ画像が未被覆基板に転送される場合でさえも、ステップＳ１１７は低い転送温度（例えば最大摂氏９０度、または摂氏８０度、または摂氏７５度、または摂氏７０度、または摂氏６５度、または摂氏６０度－熱可塑性物質特性および／または引っ張り強度のために）で実行される。いくつかの実施形態では、低温転送ステップを提供することは、インクジェットヘッド部の目詰まりを低減または回避するにあたり有用であり得、および／または、印刷処理の全体を、環境に対する配慮の面でより良好なものとするにあたり有用であり得る。
いくつかの実施形態では、乾燥処理薄膜および乾燥インク画像の両方は、転送温度において粘着性を示し、したがって、比較的低い温度においてさえも、剥離層からきれいに剥離されやすい。この特性は、初期水性処理溶液の化学的性質に少なくとも部分的に寄与し得る。いくつかの実施形態では、剥離層の化学的性質および構造（例えば特徴「Ａ５」参照）も、ステップＳ１１７において低温転送処理を提供するにあたり有用であり得る。
特徴Ｅ２：展開－液滴が薄膜上に堆積される様式（例えば濡れ角）および処理薄膜の物理的および／または化学的特性（Ａ２および／またはＡ３および／またはＡ８－インク中のナノ粒子も寄与する）は、インクドットの半径が、乾燥処理薄膜上への衝突直後の前駆体液滴の半径を越える（例えば、各液滴のサイズが、液滴の衝突エネルギーにより生じる液滴の拡散に起因するサイズを超えて増加する）ものとなるよう、設定される。［Ｄｍａｘ＝２・Ｒｍａｘ、またはＤｉｍｐａｃｔ－ｍａｘ＝２・Ｒｉｍｐａｃｔ－ｍａｘ］

【0347】

図１３Ａ～図１３Ｅでは、インク液滴がＩＴＭ（例えばＩＴＭの剥離表面）上に堆積されるプロセスが概略的に説明されている。図１３Ａではインク液滴がＩＴＭに向かって移動する。図１３Ｂ～図１３Ｃでは、（ｉ）液滴と（ｉｉ）ＩＴＭ（またはＩＴＭの乾燥処理薄膜）との間の衝突直後におけるインク液滴が説明されている。液滴の運動エネルギーにより液滴に変形が生じる。これについては図１３Ｂ～図１３Ｃで示される。特に、液滴の運動エネルギーにより液滴は外向きに拡張する。図１３Ｃでは衝突時の液滴の最大半径（すなわち、液滴の運動エネルギーにより生じた変形に起因する半径の最大増加）が示されている。液滴が、運動エネルギーに駆動される液滴変形により、衝突の１０ミリ秒内に、この最大半径（「Ｒ ｕｐｏｎ ｉｍｐａｃｔ」または「Ｒ ｍａｘ ｉｍｐａｃｔ」、これらは相互交換可能に使用される）に到達した後、液滴（または、液滴に取って代わるドット（なぜなら各液滴は次第に乾燥してインクドットになるため））は最初、図１３Ｄに示すようにＩＴＭ上に存在し（例えば乾燥処理薄膜を介して）、転送後、インク液滴は図１３Ｅに示すように基板上に存在する。液滴または液滴に取って代わるドットは、物理化学的力または化学的相互作用により、さらに拡張し得る。これは、図１３Ｃまたは図１３Ｄと図１３Ｂとの比較により概略的に示される展開現象である。ここで再び、図１３Ａ～図１３Ｅが概略図であり、変形された液滴が図１３Ａ～図１３Ｅに示す特定的な形状を有することがまったく要求されないことに注意すべきである。

【0348】

図１４Ａ～図１４Ｂでは、本発明の様々な実施形態にしたがって生産された乾燥処理薄膜の機械的にプロットされたトポグラフィー的プロファイルが提供される。

【0349】

図２および図１２に関する全般的コメント－いくつかの実施形態では、図２のステップＳ２０１を実行すると、図１２のステップＳ９１の特徴の任意の特徴または組み合わせが提供され得る。いくつかの実施形態では、図２のステップＳ２０５を実行すると、図１２のステップＳ９５の任意の特徴または特徴の組み合わせが提供され得る。いくつかの実施形態では、図２のステップＳ２０９を実行すると、図１２のステップＳ１０１の任意の特徴または特徴の組み合わせが提供され得る。いくつかの実施形態では、図２のステップＳ２１３を実行すると、図１２のステップＳ１０５の任意の特徴または特徴の組み合わせが提供され得る。いくつかの実施形態では、図２のステップＳ２１７を実行すると、図１２のステップＳ１０９の任意の特徴または特徴の組み合わせが提供され得る。いくつかの実施形態では、図２のステップＳ２２１を実行すると、図１２のステップＳ１１３の任意の特徴または特徴の組み合わせが提供され得る。いくつかの実施形態では、図２のステップＳ２２５を実行すると、図１２のステップＳ１１７の任意の特徴または特徴の組み合わせが提供され得る。

【0350】

図１４Ａ～図１４Ｂでは、本発明のいくつかの実施形態にしたがって生産された乾燥された連続的な処理薄膜の機械的にプロットされたトポグラフィー的プロファイルが提供される。Ｚｙｇｏレーザー干渉計により生産されたこれらのトポグラフィー的プロファイルは、およそ４０～５０ナノメートル（図１４Ａ）およびおよそ１００ナノメートル（図１４Ｂ）の平均薄膜厚さを、それぞれ表示する。この薄膜表面は例外的に滑らかで、図１４Ａでは約７ナノメートルの平均粗度（Ｒ_ａ）、および図１４Ｂでは７ナノメートルよりもやや小さい平均粗度（Ｒ_ａ）を示す。他のトポグラフィー的プロファイルでは、およそ４０ナノメートルの平均薄膜厚さ、および約５ナノメートルのＲ_ａが観察されている。

【0351】

薄膜の厚さ（典型的には最大１２０ｎｍ、最大１００ｎｍ、最大８０ｎｍ、最大７０ｎｍ、最大６０ｎｍ、最大５０ｎｍ、または最大４０ｎｍ、およびより典型的には３０～１００ｎｍ、４０～１００ｎｍ、４０～８０ｎｍ、４０～７０ｎｍ、または４０～６０ｎｍ）にも関わらず、この薄膜は典型的には、２０ｃｍ^２、５０ｃｍ^２、もしくは２００ｃｍ^２、またはそれ以上の大きい面積においてさえ、露出スポットを有さず、欠陥が存在しない。

【0352】

理論に拘束されることを望むものではないが、発明者らは、乾燥処理薄膜が極めて滑らかな表面を有することにより、インクドットの展開が、望ましくない細流（ｒｉｖｕｌｅｔ）などの形成が感知可能に緩和または回避されるよう、一様かつ制御された様式で発生し得るものと考える。結果的に生成されるインクドット形状が、Ｌａｎｄａ社の出願番号第ＰＣＴ／ＩＢ２０１３／０００８４０号において達成された卓越した形状（凸性、粗さ、縁部シャープネス）に品質において相当に類似する。なおＰＣＴ／ＩＢ２０１３／０００８４０は、あたかも本明細書に完全に記載されるかのように、すべての目的のために、参照することにより援用される。このことは、本開示により利用される展開機構を鑑みると、当該出願において開示される表面張力により制御される落下固定および収縮（ｄｒｏｐ ｐｉｎｎｉｎｇ ａｎｄ ｃｏｎｔｒａｃｔｉｏｎ）と比較して、特に愕くべきである。

【0353】

図１５Ａ～図１５Ｄでは、紙基板上のインクドットのいくつかの例が示されている。特に、図１５Ａでは、本発明のいくつかの実施形態にしたがって、ＩＴＭ上にインクジェットされ、そこから転送された後の、被覆済み紙基板（１３０ＧＳＭ）に付着された単一のインクドットの拡大画像の上面図が提供され、図１５Ｂでは、本発明のいくつかの実施形態にしたがって、被覆済み紙基板（１３０ＧＳＭ）上の視野域内に配置された複数のインクジェットインクドットの拡大画像の上面図が提供され、図１５Ｃでは、本発明のいくつかの実施形態にしたがって、ＩＴＭ上にインクジェットされ、ＩＴＭから転送された後の、未被覆の紙基板に付着する単一インクドットの拡大画像の上面図が提供され、図１５Ｄでは、本発明のいくつかの実施形態にしたがって、未被覆の紙基板上の視野域内に配置された複数のインクジェットインクドットの拡大画像の上面図が提供されている。

【0354】

ドットおよび凸性測定が、ＰＣＴ／ＩＢ２０１３／０００８４０により開示される手順にしたがって実行された。加えて、ドットおよび凸性測定は、実質的に以下で説明するように実行された。

【0355】

画像取得方法
ドット画像の取得がＬＥＸＴ（Ｏｌｙｍｐｕｓ）ＯＬＳ３０００顕微鏡を使用して実行された。画像はＸ１００およびＸ２０の光学ズームを用いて収集された。カラー画像が６４０×６４０ピクセルの解像度を有する非圧縮フォーマット（Ｔｉｆｆ）で保存された。

【0356】

加えて、ドット厚さおよび直径を測定するためにＸ１００レンズを有するＺＹＧＯ顕微鏡が使用された。

【0357】

分析について
本願に含まれる、対象となる基本パラメータ（およびその単位）は以下の通りである。
・直径－円に適合する ［Ｄｄｏｔ］ ［ｍｉｃ］
・外周［Ｐ］ ［ｍｉｃ］
・測定面積［Ａ］ ［ｐｉｘ＾２］
・最小凸状形状面積［ＣＳＡ］ ［ｐｉｘ＾２］
・光学的均一性［ＳＴＤ］ ［８ｂｉｔ階調値］
・厚さ［Ｈｄｏｔ］ ［ｍｉｃ］

【0358】

これらのパラメータから、以下が計算された。
・アスペクト比：Ｒａｓｐｅｃｔ＝Ｄｄｏｔ／Ｈｄｏｔ ［無次元］
・ドット真円度：ＥＲ＝Ｐ２／（４π・Ａ） ［無次元］
・ＤＲｄｏｔ：ＥＲ－１ ［無次元］
・凸性：ＣＸ＝ＡＡ／ＣＳＡ ［無次元］
・非凸性：Ｄｃｄｏｔ＝１－ＣＸ ［無次元］

【0359】

分析は、可能である場合にはＷＯ２０１３／１３２４１８で適用された上記の分析手順を利用して、ＭＡＴＬＡＢ画像処理ツールを使用して行われた。

【0360】

ブランケット
ＩＴＭは、図１７～図２２により説明される、本発明の様式で製造され得る。係るＩＴＭはＬａｎｄａ社のＮａｎｏｇｒａｐｈｉｃ Ｐｒｉｎｔｉｎｇ（登録商標）技術に対して特に好適である。

【0361】

ここで図１６を参照すると、図１６では、担体１０を通る断面が概略的に示されている。これら全部の図面では、仕上げられた物品の部分を形成する層から区別するために、担体１０は中実の黒い線として示されている。担体１０は担体接触表面１２を有する。

【0362】

いくつかの実施形態では、担体接触表面１２は、最大約５０ｎｍ、最大３０ｎｍ、最大２０ｍ、最大１５ｎｍ、最大１２ｎｍ、または、より典型的には、最大１０ｎｍ、最大７ｎｍ、または最大５ｎｍの粗度（Ｒ_ａ）を有する良好に研磨された平坦表面であり得る。いくつかの実施形態では、担体接触表面１２は、１～５０ｎｍ、３～２５ｎｍ、３～２０ｎｍ、または５ｎｍ～２０ｎｍである。

【0363】

担体接触表面１２の親水特性については以下で説明する。

【0364】

いくつかの実施形態では、担体１０は、可撓性を有さず、例えば１枚のガラスまたは厚い金属シートで形成され得る。

【0365】

いくつかの実施形態では、担体１０は、可撓性を有する箔（例えば、主にアルミニウム、ニッケル、および／またはクロムからなるか、またはこれを含む可撓性箔）で形成されると有利であり得る。一実施形態では、この箔は、アルミニウム処理されたＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート、ポリエステル）、例えば蒸発されたアルミニウム金属で被覆されたＰＥＴのシートである。アルミニウムの上部被覆はポリマー被覆により保護され得る。なおこのシートは典型的には、可撓性を維持しつつもシワを回避するために小さい半径で曲がりにくいよう、０．０５ｍｍ～１．００ｍｍの厚さを有する。

【0366】

いくつかの実施形態では、担体１０は静電防止ポリマー薄膜（たばＰＥＴなどのポリエステル薄膜など）で形成されると有利であり得る。静電防止薄膜の静電防止特性は、様々な添加剤（例えばアンモニウム塩など）をポリマー組成物に添加することを含む当業者に周知の様々な手段により達成される。

【0367】

結果が図１７に示される本ＩＴＭ製造方法のステップでは、流体第１硬化組成物（図２４Ｂにおいて３６として示される）が提供され、層１６が当該組成物から担体接触表面１２上に形成される。層１６は、外側のインク転送表面１４を有する初期剥離層を構成する。

【0368】

層１６の流体第１硬化可能組成物は、典型的にはシリコーンポリマー（例えばポリジメチルシロキサン（例えば、ビニル末端ポリジメチルシロキサンなど））からなるエラストマーを含み得る。

【0369】

いくつかの実施形態では、流体第１硬化可能物質は、ビニル官能シリコーンポリマー（例えば、例えばビニル官能ポリジメチルシロキサンなどの末端ビニル基に加えて少なくとも１つの側鎖ビニル基を含むビニールシリコーンポリマー）を含む。

【0370】

いくつかの例示的な実施形態では、流体第１硬化可能物質は、ビニル末端ポリジメチルシロキサンと、末端ビニル基に加えてポリシロキサン鎖上に少なくとも１つの側鎖ビニル基を含むビニル官能ポリジメチルシロキサンと、架橋剤と、付加硬化型触媒と、所望により、さらに硬化抑制剤と、を含む。

【0371】

当該技術分野で周知のように、硬化可能な接着剤組成物は、単位モルベースで任意の好適な量（典型的には１モルあたり最大０．０１％のプレポリマー）の付加硬化型触媒を含み得る。

【0372】

流体第１硬化可能物質に対する代表的な配合は以下の事例において提供される。

【0373】

流体第１硬化可能組成物の層１６が担体接触表面１２に塗布され、その後、硬化される。層１６は、例えばドクターブレード（ロール上に搭載されたナイフ）を使用して、ドクターブレードが、ＩＴＭのインク転送表面１４として最終的に機能することになる表面に接触せず、それによりドクターブレードにおける欠陥が完成品の品質に影響を及ぼさないよう、所望の厚さに展開され得る。硬化後、「剥離」層１６は、約２マイクロメートル～約２００マイクロメートルの厚さを有し得る。係るステップおよび方法が実装される装置が図２４Ａおよび図２４Ｂで概略的に示されている。

【0374】

例えば、上記で詳述した剥離層調合物が、５～２００マイクロメートル（μ）の厚さに均一化され、摂氏１２０度～摂氏１３０度でおよそ２～１０分間硬化された、ＰＥＴ保持体上に均一に塗布され得る。驚くべきことに、蒸留水の０．５～５マイクロリットル（μｌ）液滴に関するその後退接触角（ＲＣＡ）により推定される、そのように準備された剥離層のインク転送表面の疎水性は、およそ６０度であり得る。その一方で、同一の剥離層の他の側部（空気界面を用いて従来準備された層の疎水性を近似する作用を有する）は顕著により高い（典型的にはおよそ９０度）ＲＣＡを有し得る。インク転送表面１４を生産するために使用されたＰＥＴ担体は典型的におよそ４０度以下のＲＣＡを示し得る。接触角度測定は、接触角分析器－Ｋｒｕｓｓ（登録商標）「Ｅａｓｙ Ｄｒｏｐ」ＦＭ４０Ｍｋ２および／またはＤａｔａｐｈｙｓｉｃｓ ＯＣＡ１５ Ｐｒｏ（オーストラリア、ニューサウスウェールズ州、ゴスフォードのＰａｒｔｉｃｌｅ ａｎｄ Ｓｕｒｆａｃｅ Ｓｃｉｅｎｃｅｓ Ｐｔｙ社）を用いて実施された。

【0375】

その結果が図１８で示される、この方法の後続ステップにおいて、追加層１８（コンプライアンス層と呼ばれる）が、インク転送表面１４に対して逆側において層１６に塗布される。コンプライアンス層１８は、層１６およびその最外部表面１４が、インク画像が印圧されている基板の表面輪郭に近接して追随することを可能にするエラストマー層である。コンプライアンス層１８をインク転送表面１４の反対側の側部に取り付けることは、コンプライアンス層１８の物質に加えて、接着または結合組成物の塗布を含み得る。通常、コンプライアンス層１８は典型的には、約１００マイクロメートル～約３００マイクロメートル以上の厚さを有する。

【0376】

コンプライアンス層１８が剥離層１６と同一の組成を有する一方で、物質および処理の経済性の観点からは、より安価な物質を使用することが是認され得る。さらに、コンプライアンス層１８は典型的には、剥離層１６とは異なる機械的特性（例えば張力に対する耐性がより大きい）を有するよう選択される。特性における係る所望の差異は、例えば剥離層１６に対して異なる組成を利用することにより、剥離層１６の調合物を準備するために使用された成分との間で割合を変化させることにより、さらなる成分を係る調合物に加えることにより、および／または、異なる硬化条件を選択することにより、達成され得る。例えば、充填剤粒子の添加により、剥離層１６と比較してコンプライアンス層１８の機械的強度は望ましく向上し得る。

【0377】

いくつかの実施形態では、コンプライアンス層１８は多様なゴムを含み得る。好適には係るゴムは、少なくとも摂氏１００度の温度で安定であり、アクリル酸アルキルコポリマーゴム（ＡＣＭ）、メチルビニルシリコーンゴム（ＶＭＱ）、エチレンプロピレンジエンモノマーゴム（ＥＰＤＭ）、フルオロエラストマポリマー、ニトリルブタジエンゴム（ＮＢＲ）、エチレンアクリルエラストマー（ＥＡＭ）、および水素化ニトリルブタジエンゴム（ＨＮＢＲ）などのゴムを含み得る。

【0378】

非限定的な例として、２つの成分が１：１の比で混合された２成分液体シリコーンゴムであるＳｉｌｏｐｒｅｎ（登録商標）ＬＳＲ２５３０（ニューヨーク州のＭｏｍｅｎｔｉｖｅ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ社）が前述の硬化剥離層１６に塗布された。シリコーンゴム混合物は、ナイフブレードを用いて、約２５０マイクロメートルの厚さを有する初期コンプライアンス層１８を取得するために、計量しながら供給され／均一化され、次にコンプライアンス層１８は摂氏１５０度～摂氏１６０度でおよそ５分間にわたり硬化された。

【0379】

その結果が図１９において示される、この方法の後続ステップでは、補強層または支持層２０がコンプライアンス層１８上に構築される。支持層２０は典型的には、ＩＴＭが印刷システムにおいて張力下で保持されたときに伸張に耐えるための十分な構造的完全性を有する支持層２０を提供するために、織物または織地の形態にある繊維補強材を含む。支持層２０は、後に硬化されかつ硬化後に可撓性を保持する樹脂で、繊維補強材を被覆することにより形成される。

【0380】

代替的に、支持層２０は、補強層として別に形成され、独立的に硬化された樹脂内に埋め込まれ、および／または注入された係る繊維を含み得る。この場合、支持層２０は、接着層を介してコンプライアンス層１８に取り付けられ得、所望により、現場で支持層２０を硬化する必要性が排除される。全般的に、支持層２０は、現場でコンプライアンス層１８上に形成された場合でも、または別個に形成された場合でも、約１００マイクロメートル～約５００マイクロメートルの厚さを有し得、その一部は繊維または織地の厚さに寄与し、その厚さは通常約５０マイクロメートル～約３００マイクロメートルで変動する。しかし支持層厚さは限定的ではない。高耐久性の用途に対しては、例えば支持層は、２００マイクロメートル以上、５００マイクロメートル以上、または１ｍｍ以上の厚さを有し得る。

【0381】

例えば、ビニル官能化された剥離被覆１６および２成分シリコーンゴムコンプライアンス層１８を含む本明細書で記載の多層化されたＩＴＭ構造に対して、ガラス繊維の編み込み織地を含む支持層２０が塗布された。約１００マイクロメートルの厚さを有するガラス繊維織地は、垂直方向に１６ヤーン／ｃｍを有する平織物であった。ガラス繊維織地は、コンプライアンス層に対応する液体シリコーンゴムＳｉｌｏｐｒｅｎ（登録商標）ＬＳＲ２５３０を含む硬化可能流体に埋め込まれた。全体的に、結果的に生成された支持層２０は、約２００マイクロメートルの厚さを有し、およそ２～５分間にわたり摂氏１５０度で硬化された。好適には、より高密度の織物（例えば２４×２３ヤーン／ｃｍを有する）が使用され得る。

【0382】

支持層２０を現場で形成した後、または支持層２０を取り付けた後、必要に応じて追加層がその反対側に構築され得る。図２０では、支持層２０の反対側に固定された（例えば硬化接着剤または樹脂により）所望によるフェルトブランケット２２が示されており、図２１では、ブランケット２２の反対側上に被覆された高摩擦層２４が示されている。当業者に理解されるであろうように、様々な比較的柔らかいゴムが、高摩擦特性を有する層を準備するために用いられ得る。係るゴムの単なる一例としてシリコーンエラストマーが挙げられる。ブランケット２２などの介在する層が存在しない状況では、高摩擦層２４が支持層２０に直接的に取り付けられ得る。

【0383】

上述のように、ＩＴＭの剥離層に加えられるすべての層（例えば、１８、２０、２２、２４、または任意の介在する接着層もしくは下塗り層、その他）は、図２３Ｃにおける基部２００に対して示されるように、共同して構造体の基部を形成する。

【0384】

ＩＴＭが使用される前に、図２２に示すように、担体１０を取り除いて、剥離層１６のインク転送表面１４を露出させることが必要である。通常は、完成品を単に担体１０から引きはがすとよい。

【0385】

担体１０が可撓性を有する箔である場合、ＩＴＭが印刷システムに据え付けられる等のときまでＩＴＭ上の定位置に残されるほうが好適であり得る。この箔は、格納、輸送、および据え付けの際に、ＩＴＭのインク転送表面１４を保護する作用を有するであろう。加えて担体１０は、製造プロセスの完了後、保護膜として好適である代替的な箔と交換され得る。

【0386】

図２４Ａ～図２４Ｄでは、ＩＴＭがその中で製造され得る装置９０が概略的に示されている。図２４Ａでは、可撓性を有するループコンベア１００を移動させる巻き出しローラ４０および巻き取りローラ４２を有する係る装置９０の概略が提供されている。コンベア１００により追従される経路に沿って、所望のＩＴＭに対して好適である硬化可能な流体組成物を吐出することが可能な吐出ステーション５２と、ステーションの下流方向に移動するにつれて硬化可能層の厚さを制御することが可能なレベリングステーション５４と、後続ステップが存在する場合に後続ステップに対する初期層として機能することが可能となるよう、層を少なくとも部分的に硬化することが可能な硬化ステーション５６と、が配置される。吐出ステーション５２、レベリングステーション５４、および硬化ステーション５６は層形成ステーション５０ａを構成する。５０ｂにより示されるように、装置９０は所望により２個以上の層形成ステーションを含み得る。さらに、形成ステーション５０は、ステーション５０ａにおいて吐出ローラ５８により示される追加的な下位ステーションを含み得る。

【0387】

いくつかの実施形態では、ループコンベア１００に対する必要性は省略され、担体１０は直接的にローラ４０とローラ４２との間で張架される。未処理の担体１０が巻き出しローラ４０から巻き出され、ステーション５０ａおよび５０ｂを通過した後、巻き取りローラ４２に巻き取られる。

【0388】

図面には示されないが、この装置はさらに、吐出ステーションの上流側に「表面処理」ステーションを含み得る。この表面処理ステーションは、必要に応じて、硬化可能な組成物を後に塗布することを、または、場合によっては担体接触表面または初期層に硬化可能な組成物を取り付けることを、支援する。担体に関して上述したように、所望による表面処理ステーション（図示せず）は物理的処理（例えば、コロナ処理、プラズマ処理、オゾン処理、その他）に対して好適であり得る。

【0389】

図２４Ｂでは、装置９０の形成ステーション５０においてコンベア１００上に配置された担体１０が被覆される得る様子が概略的に示されている。吐出ステーション５２において、剥離層１６の硬化可能な組成物３６が担体接触表面１２に塗布される。担体１０が矢印の方向に駆動されるにつれて、硬化可能な組成物３６は、例えばドクターブレードを使用することにより、レベリングステーション５４において所望の厚さに均一化される。均一化された層が下流方向に進行するにつれて、当該層は硬化ステーション５６に進入する。硬化ステーション５６は、硬化可能組成物３６を少なくとも部分的に硬化させ、それにより初期層１６が硬化ステーションの出口側で形成されることが可能となるよう、構成されている。係る代表的ステップについては、図１６および図１７に関連してすでに説明した。

【0390】

図２４Ｃおよび図２４Ｄでは、追加的な層（基部を形成する）が塗布される様子が概略的に示されている。図２４Ｃでは、硬化可能組成物３８が吐出ステーション５２（図９Ｂで示す剥離層１６で担体を被覆するために使用されたステーションと同一であってもよく異なってもよい）において吐出される。硬化可能組成物３８はレベリングステーション５４において所望の厚さに均一化され、次に硬化ステーション５６に入り、後続のステップなどのための初期層１８として機能するよう十分に硬化された状態で、硬化ステーション５６から出る。係る代表的ステップについては、図１８に関連してすでに説明した。ここで図２４Ｃを参照すると、図２４Ｃでは、硬化可能組成物３９が吐出ステーション５２において塗布される様子が概略的に示されている。支持層（例えば織地）の基幹は吐出ローラ５８により供給され得る。代表的な織地は、硬化ステーション５６に進入する前に、ステーション６０において硬化可能組成物の下方に沈み込み得る。そのようにして、支持層２０が硬化ステーションの出口側において形成され得る。

【0391】

図２３Ａおよび図２３Ｂでは、欠陥が、上記の方法にしたがって準備された外側層８０（例えば剥離層）の断面に現れる様子が概略的に示されている。図２３Ａでは、気泡が排除され（例えばガス抜きにより）得る前に硬化が生じた場合に、あらゆる硬化可能組成物に捕捉され得る気泡に関連する、異なる現象が示されている。図面において見られるように、泡沫８２は製造の間、本体８００の上方で、矢印で示される流動方向に空気界面に向かって層８０の方向に流動する。したがってこれらの泡沫８２は合併して、より大きい気泡になることができる。気泡は、そのサイズの大小に関わらず、層のバルク内に、またはその表面上に、捕捉された状態に留まり得る。気泡エンベロープの上方部分は突起８４を形成する。層の硬化が進行中に表面に隣接する気泡が破裂すると、表面から突出する気泡エンベロープの区域が消失したとしても、クレータ８６は残存し得る。これらの現象は、したがって典型的には、気泡の「勾配」を提供する。上方区域は、全般的に、下方区域と比較してより大きい気泡で占められ、および／または、断面積または堆積あたり、より高い密度の気泡を有する。なお、下方および上方は、その製造時における層の方向に関するものである。気泡に誘導される欠陥が表面に与える影響は自明であり、表面の不均質性は通常、例えばインク画像に対する、あらゆる後続の相互作用に対して悪影響を及ぼす。係るＩＴＭが通常、張力下および／または圧力下で動作する状況下では、時間とともに、クレータは拡がり、合併して、より顕著な亀裂が形成される。したがって、係る現象は、表面の構造的完全性および係る完全性がＩＴＭに付与したであろう任意の機械的特性に影響を及ぼし得る。

【0392】

図２３Ｂでは、粉塵などの固体汚染物質に関する異なる現象が概略的に示されている。本例示説明では、粉塵が気泡に追加されるものとして表現されているが、このことは必ずしも真であるとは限らず、係る表面欠陥または層欠陥は独立的に発生することが可能である。図面において見られるように、固体汚染物質は表面上に留まり得る。外側層８０が硬化された後に汚染物質が定着するならば、係る汚染物質９２は、外側層を好適に洗浄するのみで、除去され得る。それでも、使用可能となる前に係るＩＴＭの追加的洗浄が必要となり得るため、係る現象は望ましくない。層がまだ未硬化状態にあるとき係る汚染物質が発生する場合、汚染物質は、層８０の表面上に捕捉される（例えば、「浮かんで」いるように見受けられる汚染物質９４）か、または、隔離層内に沈下していることさえ可能である（例えば汚染物質９６）。容易に理解可能であるように、より大きい／より重い汚染物質は、小さい汚染物質よりも、より深く沈下し得る。

【0393】

当該技術分野で周知の方法とは異なり、本明細書で開示の方法は、層の一方の側部が担体接触表面に接触する状態で流体第１硬化可能物質の層を形成することを含む。なおこの層は初期剥離層を構成する。担体接触表面は、初期剥離層を保護する機能を有する。それにより、インク転送層に所望の特性が与えられる一方で、担体は、ＩＴＭが完成するまで他の層がその上に追加されてＩＴＭが形成される物理的に堅牢な支持構造体として機能する。その結果として、欠陥の多数の潜在的原因が回避される。さらに、インク転送表面の仕上げは、主に、排他的ではないとしても、担体接触表面により決定される。

【0394】

図２３Ｃでは、本方法にしたがって準備された外側層１６（たとえば剥離層）を通る断面が概略的に示されている。以前の図面と比較するために、この断面は、担体を示すことなく、図２３Ａおよび図２３Ｂと同一の方向で示されているが、製造は矢印により示されるように逆方向に実行されている。基部２００（後に詳述する）は、第１外側層１６が少なくとも部分的に硬化された後、第１外側層１６に取り付けられ、したがって、製造過程の間にすでに支持体として機能する本体８００とは等価でない。単に例示目的のために、層１６は、多数の気泡８２を含むものとして表現されているが、これは必ずしも真実ではない。しかし、存在するならば、係る気泡は、以前に記述した気泡のパターンよりも、特異的パターンを示すであろう。第１に、層１６のここでは最上方となっているインク転送表面１４は、以前は担体と接触していたため、突起は観察されず、したがって剥離層は、表面から突出する気泡８４により以前に示されたような現象が存在しない。同様に、キャビティ８６として以前示されたクレータはほとんど存在しない。なぜなら、係るクレータは、相性の悪い硬化可能な層および担体の使用を意味するためである。本方法によれば、外側層を形成する硬化可能物質は好適に担体を湿潤させ、担体と、担体上に形成される初期層と、の間に捕捉され得る気泡が実質的にはまったくないと考えられる。したがって、たとえ存在したとしても、係る気泡は層のバルク内に配置されるであろう。しかし、製造が従来の方法と比較して反転方向で行われるため、気泡の勾配は、同一の理由のために、反転されるであろう。したがって、図２３Ｃに示されるように、小さい気泡は、より大きい気泡よりも外側表面により近接し、より大きい気泡は基部により近接するであろう。

【0395】

付加硬化型調合物から生産された本発明の独創的な剥離層構造は、ポリマーマトリックス内に共有結合した官能基を、実質的に全く含まないか、またはごく小数（ごく少数のＯＨ基）しか含み得ない。係る官能基は、例えばＣ＝Ｏ、Ｓ＝Ｏ、およびＯＨなどの部分を含み得る。

【0396】

これらの剥離層構造は、最大でも、ごく少数しか係る官能基を含まないため、その剥離層が高い疎水性を示すであろうことは期待されるであろう。しかし発明者らは驚くべきことに、本方法により生産された剥離層表面が実際にいくらか親水性を示し、対応する剥離層（すなわち、同一の組成を有するが、剥離層が空気に曝露される従来の硬化技術（「標準的空気硬化」）を使用して製造された剥離層）よりも認知可能により大きい親水性を示すことを見出した。理論に拘束されることを望むものではないが、発明者らは、担体接触表面と初期剥離層表面との間の緊密な接触により、担体接触表面のいくらかの親水特性が剥離層表面に含まれるものと考える。

【0397】

上述のように、低い表面エネルギーを有するＩＴＭ剥離層は、乾燥インク画像を印刷基板に転送することを支援し得る。しかし、インク受容段階の間、係る低エネルギーの疎水性剥離層に噴出された水性インク液滴は、初期衝突の後、ビーズ状に凝集し、それにより画像品質が損なわれる傾向がある。エネルギーが高く、より疎水性が低い剥離層は、この効果を緩和し得るが、画像転送品質に対して有害である。発明者らは、本発明の剥離層構造が通常は、蒸留水に対する最大８０度、または最大７０度、典型的には最大６０度、または最大５０度、およびより典型的に３０度～６０度、３５度～６０度、３０度～５５度、３０度～５０度、３０度～４５度、または３５度～５０度の後退接触角により表される特性的に中程度の疎水性の剥離表面を有することを見出した。しかし驚くべきことに、乾燥、加熱されたインク画像のインク受容およびインク転送の両方が良好な品質であり得る。より高い親水性を有する（蒸留水滴に対する接触角がより低い）担体表面を用いることにより、および／または、コロナ（または同様の）処理により、さらに低い値の後退接触角（および以下で論じられる動的接触角）が達成され得ることが強調されなければならない。

【0398】

理論に拘束されることを望むものではないが、発明者らは、上述の誘導された表面特性が、剥離層表面上の極性基（例えばＯ－Ｓｉ－Ｏ）と、剥離層表面上に堆積された水性液体（例えば水性インクジェットインク）における対応する極性部分（例えば水の中のＯＨ基）と、の間の相互作用を改善するものと考える。引き続き、インクを乾燥させ、インク薄膜を転送温度に加熱した後、これらの相互作用は弱められ、乾燥された、または実質的に乾燥されたインク画像の完全な転送が可能となる。したがって、本発明の独創的な剥離層構造の性能は、インク受容段階およびインク薄膜転送段階の両方において、中程度の疎水性を有するが、担体接触表面により誘導される特別な表面構造および特性を有さない剥離層に期待されるよりも、感知可能に良好である。

【0399】

実施例
ここで以下の実施例を参照する。上記の説明と併せて、これらの実施例は非限定的な様式で本発明を例示する。

【0400】

【表1】

【0401】

剥離層表面の生産において基板として使用された担体は、（１）静電防止ポリエステル薄膜（実施例１～７）、（２）未処理ポリエステル薄膜、すなわち静電防止ではない（実施例１１）、および、（３）アルミニウム処理済みポリエステル薄膜（実施例１０）を含む。

【0402】

実施例１
実施例１のＩＴＭ剥離層は以下の組成（重量／重量）を含む。

【表2】

【0403】

剥離層は、以下で提供される本ブランケット準備手順で実施的に説明されるように準備された。

【0404】

ブランケット準備手続き（担体表面に対して硬化された剥離層のための）
剥離層調合物の全成分は完全に混合された。所望の厚さの初期剥離層は、ロッド／ナイフを使用して（他の被覆方法が使用されてもよい）ＰＥＴシート上に被覆された後、摂氏１５０度で３分間にわたり硬化された。引き続き、所望の厚さを達成するために、Ｓｉｌｏｐｒｅｎｅ ＬＳＲ ２５３０がナイフを使用して剥離層の上部上に被覆された。次に硬化が３分間にわたり摂氏１５０度で行われた。Ｓｉｌｏｐｒｅｎｅ ＬＳＲ２５３０の追加層が以前の（硬化された）シリコーン層の上部上に被覆され、湿潤化されたシリコーンが織物構造に貫入するよう、ガラス繊維織地がこの湿潤化された新鮮な層に組み込まれた。次に硬化が３分間にわたり摂氏１５０度で行われた。次に、Ｓｉｌｏｐｒｅｎｅ ＬＳＲ ２５３０の最終層がガラス繊維織地上に被覆され、再び硬化が３分間にわたり摂氏１５０度で行われた。次に一体型ブランケット構造は室温まで冷却され、ＰＥＴが除去された。

【0405】

実施例２
実施例２のＩＴＭ剥離層は以下の組成を有する。

【表3】

【0406】

このブランケットは実質的に実施例１で説明したように準備された。

【0407】

実施例３
実施例３のＩＴＭ剥離層は以下の組成を有する。

【表4】

【0408】

このブランケットは実質的に実施例１で説明したように準備された。

【0409】

実施例４
実施例４のＩＴＭ剥離層は以下の組成を有する。

【表5】

【0410】

このブランケットは実質的に実施例１で説明したように準備された。

【0411】

実施例５
実施例５のＩＴＭ剥離層は、２つの成分が１：１の比で混合された２成分液体シリコーンゴムであるＳｉｌｏｐｒｅｎ（登録商標）ＬＳＲ２５３０（ニューヨーク州ウォーターフォードのＭｏｍｅｎｔｉｖｅ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ社）から準備された。このブランケットは実質的に実施例１で説明したように準備された。

【0412】

実施例６
実施例６のＩＴＭ剥離層は、実施例４のＩＴＭ剥離層と実質的に同一の組成を有するが、極性基を含む市販のシリコーン系樹脂であるＳＲ５４５（ニューヨーク州、ウォーターフォードのＭｏｍｅｎｔｉｖｅ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ社）を含む。極性基は「ＭＱ」型であり、「Ｍ」はＭｅ_３ＳｉＯを表し、「Ｑ」はＳｉＯ_４を表す。全組成を以下に挙げる。

【表6】

【0413】

このブランケットは実質的に実施例１で説明したように準備された。

【0414】

実施例７
実施例７のＩＴＭ剥離層は、実施例６のＩＴＭ剥離層と実質的に同一の組成を有するが、上述のように高密度のビニル基を有するビニル官能ポリジメチルシロキサンを含むポリマーＲＶ５０００を含む。全組成を以下に挙げる。

【表7】

【0415】

このブランケットは実質的に実施例１で説明したように準備された。

【0416】

比較例１Ａ～１Ｆ
ＩＴＭ剥離層は、対応剥離層（比較例１Ａ～１Ｆと指定される）がそれぞれ実施例１～６と同一の組成を有するよう、実施例１～６の組成に対する「対応剥離層」または「参照剥離層」として準備された。しかし剥離層の硬化の間、剥離層表面（または「インク受容表面」）は、以下で提供される従来の準備手順にしたがって空気に曝露された（「標準的空気硬化」）。

【0417】

比較ブランケット準備手続き（硬化の間、空気に曝露される剥離層のための）
ＳｉｌｏｐｒｅｎｅＬＳＲ２５３０の第１層がロッド／ナイフを使用してＰＥＴシート上に被覆された後、所望の厚さを達成するために摂氏１５０度で３分間にわたり硬化された。Ｓｉｌｏｐｒｅｎｅ ＬＳＲ２５３０の追加層が以前の（硬化された）シリコーン層の上部上に被覆され、湿潤化されたシリコーンが織物構造に貫入するよう、ガラス繊維織地がこの湿潤化された新鮮な層に組み込まれた。次に、ＳｉｌｏｐｒｅｎｅＬＳＲ２５３０がガラス繊維織地の上部上に被覆され、引き続き、硬化が３分間にわたり摂氏１５０度で行われた。初期剥離層を形成する前に、剥離層調合物の全成分が一緒に完全に混合された。剥離層は、所望の厚さを達成するために、硬化されたＳｉｌｏｐｒｅｎｅＬＳＲ２５３０の上部上に被覆され、引き続き、３分間にわたり摂氏１５０度で硬化され、その一方で、剥離層表面は空気に曝露された。

【0418】

実施例８
剥離層表面上蒸留水滴の接触角は、専用のＤａｔａｐｈｙｓｉｃｓ ＯＣＡ１５ Ｐｒｏ接触角測定装置（オーストラリア、ニューサウスウェールズ州、ゴスフォードのＰａｒｔｉｃｌｅ ａｎｄ Ｓｕｒｆａｃｅ Ｓｃｉｅｎｃｅｓ Ｐｔｙ社）を使用して測定された。後退接触角（ＲＣＡ）および前進接触角（ＡＣＡ）測定を実施するために使用された手順は、Ｄｒ． Ｒｏｇｅｒ Ｐ． Ｗｏｏｄｗａｒｄ （“Ｃｏｎｔａｃｔ Ａｎｇｌｅ Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔｓ Ｕｓｉｎｇ ｔｈｅ Ｄｒｏｐ Ｓｈａｐｅ Ｍｅｔｈｏｄ”、とりわけｗｗｗ．ｆｉｒｓｔｔｅｎａｎｇｓｔｒｏｍｓ．ｃｏｍ／ｐｄｆｄｏｃｓ／ＣＡＰａｐｅｒ．ｐｄｆ）により詳述される従来の技術である。

【0419】

実施例１～６の結果は、比較例１Ａ～１Ｆにしたがって準備された剥離層に対する結果とともに、以下に提供されている。

【0420】

実質的にすべての場合において、担体表面に対して生産された剥離表面は、空気中で硬化された同一の調合物よりも小さい後退接触角を示した。さらに詳細には、担体表面に対して生産された剥離表面は、少なくとも５度、少なくとも７度、少なくとも１０度、少なくとも１２度、または少なくとも１５度の差異だけ低い後退接触角を、または、５度～３０度、７度～３０度、１０度～３０度、５度～２５度、５度～２２度、７度～２５度、または１０度～２５度の範囲内の差異だけ低い後退接触角を、表した。

【0421】

実施例９
実施例１～６において生産された剥離層、および、比較例１Ａ～１Ｆにおいて生産されたそれぞれの剥離層は、長い動作条件下でのエージングをシミュレートするために、２時間にわたり摂氏１６０度においてエージングが施された。後退接触角が測定され、その結果を以下に挙げる。

【表8】

【0422】

比較例に関しては、後退接触角がエージング処理の実施後は実質的に維持されたことが明らかである。しかし本発明の実施例１～６に関しては、後退接触角がエージング処理の実施後は典型的には４度～１５度だけ増加したことが明らかである。理論に拘束されることを望むものではないが、発明者らは、本発明の剥離層構造における接触角の増加の原因が、剥離層表面における極性基（例えばＳｉ－Ｏ－Ｓｉ）の位置における何らかの変化に起因する親水性挙動における損失（または増加された疎水性挙動）にあるものと考える。

【0423】

実施例１０
実施例２の組成の剥離層を含むブランケットは、実質的に実施例１で説明したように準備されたが、アルミニウム処理されたＰＥＴ担体表面に対して準備された。

【0424】

実施例１１
実施例２の剥離層組成を有する剥離層が、実質的に実施例１で説明したように準備されたが、静電防止前処理が施されていない市販のＰＥＴ担体表面に対して準備された。

【0425】

実施例１２
本発明に係る実施例２、１０、および１１において生産された剥離層に対して接触角測定が実施され、前進接触角および後退接触角の両方が決定された。結果は以下に提供される。

【表9】

【0426】

実施例１０および１１は、剥離層が空気に曝露された状態で硬化された同一の組成物の後退接触角よりも約３０度小さい後退接触角を示した。静電防止ＰＥＴ担体表面に対して準備された実施例２の剥離層表面は、空気に曝露されている間に準備された同一の組成物の後退接触角よりも約５０度小さい後退接触角を示した。

【0427】

実施例１３
実施例２、１０、および１１で利用された担体表面に対して接触角測定が実施され、前進接触角および後退接触角の両方が決定された。結果は以下に提供される。

【表10】

【0428】

３つの担体表面が親水性挙動を示したこと、および静電防止処理が施されたＰＥＴが最大度の親水性挙動を示したことが、取得された後退接触角から見られ得る。（２０度ＲＣＡ対４０度ＲＣＡ）

【0429】

重大なことに、担体表面の親水性挙動がそれぞれの剥離表面に少なくとも部分的に誘導され、空気に曝露される間に硬化された調合物は６５度のＲＣＡを有し、静電防止ＰＥＴ表面に対して準備された同一の調合物は４５度のＲＣＡを有し、使用された静電防止ＰＥＴ担体は２０度のＲＣＡを示す。したがって、本発明の剥離層構造は、その親水性／疎水性特性が空気中で硬化された同一の調合物の特性と、担体表面自体の特性と、の間に存在する剥離表面を有する。

【0430】

実施例１４
剥離表面エネルギーが以下の実施例のインク受容表面に対して計算された。これらの実施例は、空気に対して曝露される状況下で硬化された実施例１Ａ、静電防止ＰＥＴ表面に対して硬化された実施例１、および、静電防止ＰＥＴ表面に対して硬化された後、引き続き摂氏１６０度で２時間にわたり標準的なエージング手順が施された実施例１、である。これら３つの実施例は同一の化学的組成を有する。

【0431】

これら３つの実施例のうちの各実施例に対して、全表面エネルギー伝統的な「調和平均」法（Ｏｗｅｎｓ－Ｗｅｎｄｔ表面エネルギーモデルとしても知られる。例えばＫＲＵＳＳ Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ Ｎｏｔｅ ＴＮ３０６ｅ参照）を使用して計算された。結果は以下に提供される。

【表11】

【0432】

空気に対して曝露される状況下で硬化された実施例１Ａでは剥離層表面は極度の疎水性を示し、当該表面の全表面エネルギーは低く、期待されたように２０．９Ｊ／ｍ^２であった。これは、ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）に関して表面エネルギーに対する文献値にかなり近い値である。重要なことに、静電防止ＰＥＴ表面に対して硬化された実施例１は、約２６Ｊ／ｍ^２の全表面エネルギーを示した。この実施例１は「空気硬化」された試料よりもやや小さい疎水性を示す。この調合物が標準的なエージング手順を施された後、全表面エネルギーは約２６Ｊ／ｍ^２から２３Ｊ／ｍ^２未満に減少した。この結果は、この代表的な配合の、様々なエージングが施され、および、エージングが施されていない物質に対して取得されたＲＣＡ結果を裏付けるように見受けられるであろう。

【0433】

実施例１５
剥離層表面エネルギーが以下の実施例のインク受容表面に対して計算された。これらの実施例は、空気に対して曝露される状況下で硬化された実施例２Ａ、静電防止ＰＥＴ表面に対して硬化された実施例２、および、静電防止ＰＥＴ表面に対して硬化された後、引き続き摂氏１６０度で２時間にわたり標準的なエージング手順が施された実施例２、である。これら３つの実施例は同一の化学的組成を有する。

【0434】

実施例１４と同様に、全表面エネルギーは伝統的な「調和平均」法を使用して計算された。結果は以下に提供される。

【表12】

【0435】

空気に対して曝露される状況下で硬化された実施例２Ａでは剥離層表面は実施例１Ａの剥離層よりも疎水性が小さく、この表面の全表面エネルギーは約３５Ｊ／ｍ２である。静電防止ＰＥＴ表面に対して硬化された実施例２は、約４９Ｊ／ｍ２の全表面エネルギーを示した。この実施例２は「空気硬化」された試料よりも顕著に小さい疎水性を示す。この調合物が標準的なエージング手順を施された後、全表面エネルギーは約４９Ｊ／ｍ２から約４０Ｊ／ｍ２に減少した。この結果は、この代表的な配合の、様々なエージングが施され、および、エージングが施されていない物質に対して取得されたＲＣＡ結果を裏付けるように見受けられるであろう。

【0436】

実施例１６
ブランケット表面上の温度は摂氏７５度に保持される。画像（通常に１０～１００％のカラーグラデーション）は１２００ｄｐｉの解像度で１．７ｍ／秒の速度でブランケット上に印刷される。未被覆紙（Ａ４ Ｘｅｒｏｘプレミアム・コピー用紙、８０ｇｓｍ）が加圧ローラとブランケットとの間にセットされ、圧力が３バールに設定されて、加圧ローラはブランケットに対して加圧される。加圧ローラは紙上で移動し、ブランケットと紙との間の接触線上に圧力を印加し、転送プロセスを促進させる。いくつかの場合では、不完全な転送（残留インクがブランケット表面上に残った状態）が観察され得る。残留インクの程度を評価するために、光沢紙（Ａ４ Ｂｕｒｇｏ光沢紙１３０ｇｓｍ）が未被覆紙と同様にブランケット上に置かれ、転送プロセスが再び実施される。ブランケット上に残され、かつ未被覆紙に転送されないあらゆるインクは光沢紙に転送されるであろう。したがって、光沢紙は以下のスケール（画像表面エリアの％）にしたがって残留インクに対して評価され得る。
Ａ－視認可能な残留なし
Ｂ－視認可能な残留は１～５％
Ｃ－視認可能な残留は５％より大きい
評価の結果は以下に提供される。

【表13】

【0437】

実施例１７
実施例１６は実施例２および実施例３の剥離表面に対して反復された。ただし印刷速度はブランケット上で３．４ｍ／秒であった。両方の剥離表面はＡの転送等級を保持した。

【0438】

実施例１８
実施例２および実施例３のＩＴＭ剥離層組成物は実施例１で提供される手順にしたがってＰＥＴ基板に対して硬化された。実施例２および実施例３のＩＴＭ剥離層組成物は比較例１Ｂおよび比較例１Ｃで提供される手順にしたがって空気に対して硬化された。次に、これらの試料は、以下の手順にしたがって、１０秒において、および引き続き７０秒において、動的接触角（ＤＣＡ）測定が施された。

【0439】

液滴は、運動エネルギーが液滴を展開させないよう、可能なかぎり小さい液滴が落下する状態で、滑らかなＰＴＦＥ薄膜表面上に配置される。次に垂滴が形成される。引き続き、標本は液滴の底部に接触するまで上昇させられる。液滴が十分に大きい場合、表面に対する付着はニードルの先端部から液滴を引き離すであろう。ニードル先端部は、表面の上方において、成長する垂滴が表面に接触し、かつ、それ自体の重さにより自由落下する以前に分離する、高さに配置される。

【0440】

次に、動的接触角は１０秒および７０秒において測定される。結果は以下に提供される。

【表14】

【0441】

１０秒における動的接触角の初期測定が剥離層表面の親水性の強力な指示を提供することが観察される。その後の７０秒における測定は、剥離層内に配置された任意の液体（例えばポリエーテルグリコール官能化ポリジメチルシロキサンなど）が液滴に組み込まれる程度の指示を提供する。係る組み込みは、測定されたＤＣＡをさらに減少させ得る。

【0442】

したがってＰＥＴに対して硬化された試料は、空気に対して硬化されたそれぞれの試料の親水性初期ＤＣＡ測定（１１４度、１１３度）と比較して実質的に低い（親水性が大きい）初期ＤＣＡ測定（１０５度、８７度）を示した。表示された親水性に加えて、ＰＥＴに対して硬化された試料は、第１測定と第２測定との間で８～１７度のＤＣＡにおける低下を示した。

【0443】

図２５Ａ～図２５Ｃでは、本発明のＩＴＭの剥離層上に印刷された様々なインクパターンの画像が提供されている。ここでは、実施例２の剥離層はＰＥＴ担体表面に対して硬化された。図２６Ａ～図２６Ｃは、実施例２の剥離層上に印刷された同一インクパターンの画像である。なおここでは、この剥離層は空気に対して硬化された。図２５Ａと図２６Ａとの間を比較すると、本発明のＩＴＭがより高い光学濃度を示し、インク画像パターンをより正確に反映することは明らかである。図２５Ｃと図２６Ｃとの間の比較は同一の結論を呈する。ここで図２５Ｂと図２６Ｂとの間を比較すると、図２５Ｂにおける各インクドットが図２６Ｂにおける各インクドットよりも認知可能に大きいことは明らかである。

【0444】

本明細書、および添付の請求項で使用される「後退接触角」または「ＲＣＡ」という用語は、Ｄａｔａｐｈｙｓｉｃｓ ＯＣＡ１５ Ｐｒｏ Ｃｏｎｔａｃｔ Ａｎｇｌｅ ｍｅａｓｕｒｉｎｇ ｄｅｖｉｃｅを、または類似のＶｉｄｅｏ－Ｂａｓｅｄ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｏｎｔａｃｔ Ａｎｇｌｅ Ｍｅａｓｕｒｉｎｇ Ｓｙｓｔｅｍを使用して、上述のＤｒｏｐ Ｓｈａｐｅ Ｍｅｔｈｏｄを使用して、大気温度で測定された後退接触角を指す。類似した「前進接触角」または「ＡＣＡ」と言う用語は、実質的に同一の方法で測定された前進接触角を指す。

【0445】

本明細書、および添付の請求項で使用される「動的接触角」または「ＤＣＡ」という用語は、Ｄａｔａｐｈｙｓｉｃｓ ＯＣＡ１５ Ｐｒｏ Ｃｏｎｔａｃｔ Ａｎｇｌｅ ｍｅａｓｕｒｉｎｇ ｄｅｖｉｃｅまたは類似のＶｉｄｅｏ－Ｂａｓｅｄ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｏｎｔａｃｔ Ａｎｇｌｅ Ｍｅａｓｕｒｉｎｇ Ｓｙｓｔｅｍを使用して、上記で参照した「Ｃｏｎｔａｃｔ Ａｎｇｌｅ Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔｓ Ｕｓｉｎｇ ｔｈｅ Ｄｒｏｐ Ｓｈａｐｅ Ｍｅｔｈｏｄ」においてＤｒ． Ｒｏｇｅｒ Ｐ． Ｗｏｏｄｗａｒｄにより詳述され、上記の実施例１７で詳述された方法を使用して、測定された動的接触角を指す。

【0446】

本明細書、および添付の請求項で使用される「標準エージング手続き」という用語は、標準的な対流炉において摂氏１６０度において２時間にわたり各試験剥離層に対して行われる加速されたエージング手順を指す。

【0447】

本明細書、および添付の請求項で使用される「標準的空気硬化」と言う用語は、比較例１Ａ～１Ｆに関して説明した剥離層を硬化するための従来の硬化処理を指し、この硬化処理では、剥離層を硬化させる間、剥離層表面（または「インク受容表面」）が空気に曝露される。

【0448】

明細書、および添付の請求項で使用される「バルク疎水性」という用語は、剥離層の内側表面上に配置された蒸留水液滴の後退接触角により特徴付けられる。なお、この内側表面は、剥離層内の硬化シリコーン物質のエリアを露出させることにより形成される。

【0449】

実施例Ｃ１～Ｃ１２
本発明のＩＴＭ水性処理液体の代表的な組成が以下の表に提供されている。

【表15】

【0450】

実施例Ｃ１３～Ｃ２２
ＩＴＭ水性処理液体の組成およびその様々な特性が実施例組成Ｃ１３～Ｃ２２として以下の表に提供されている。

【表16】

【0451】

実施例Ｃ１～Ｃ１２に関して、室温で測定された各試料の粘度を以下で提供する（すべての値の単位はｃＰ）。
Ｃ１＝１９．２
Ｃ２＝１８．１５
Ｃ３＝２２．３
Ｃ４＝３６．２
Ｃ５＝１９．８
Ｃ６＝２１．２
Ｃ７＝２８．１
Ｃ８＝１８．０
Ｃ９＝５０．０
Ｃ１０＝４８．２
Ｃ１１＝２０．２
Ｃ１２＝２０．７

【0452】

これらの処理調合物に対する表面張力は、これらの１２の代表的な調合物よりも、より均一であり、室温において全般的に２６～２９ｍＮ／ｍまたは２６～２８ｍＮ／ｍの範囲内であった。

【0453】

実施例Ｃ２３
追加的な水性処理調合物が実施例Ｃ２３において提供される。この調合物は、水性処理調合物の表面張力を十分に低減させるよう比較的高いパーセンテージ（８重量％）で存在する第四級アンモニウム塩（Ｌａｒｏｓｔａｔｅ ２６４）以外の界面活性剤を有さない。この表面張力および粘度は室温においてそれぞれ３２．３ｍＮ／ｍおよび１７．８ｃＰである。

【表17】

【0454】

色素の準備
以下で説明する実施例で使用される色素は全般的に、数マイクロメートルの初期粒子サイズが与えられている。係る色素は、分散剤が存在する中でサブミクロン範囲に粉砕された。２つの物質が水性混合物として粉砕装置に供給された。別記なきかぎり、３０ｇ色素が、以下の実施例で示される重量比を満足する重量の分散剤と混合された。脱イオン化水が２００ｇの残余に加えられた。この液体スラリーは、Ｕｎｉｏｎ Ｐｒｏｃｅｓｓ社製の磨砕機ＨＤＤＭ－０１／ＨＤ－０１内で、１００ｎｍ以下（Ｄ_Ｖ５０≦１００ｎｍ）の中央径（粒子体積あたりで分析された）を有する顔料粒子を含む練り顔料（ｍｉｌｌｂａｓｅ）を準備するにあたり十分な期間にわたり十分なエネルギー入力で、０．８ｍｍの直径を有する４５００ｇのクロム鋼ビーズ（米国、Ｇｌｅｎ Ｍｉｌｌｓ社）の存在する環境でサイズが低減された。典型的には、この磨砕機は少なくとも４８時間にわたり約３０００ｒｐｍで運転された。なお磨砕期間は初期粒径にも依存した。

【0455】

そのように準備された組成物における粒径および粒径分布は、ＤＬＳ方法（Ｍａｌｖｅｒｎ Ｚｅｔａｓｉｚｅｒ Ｎａｎｏ ＺＳ）を使用して決定された。特記なきかぎり、一定分量が、対象となる組成物から取り出され、必要に応じて、約１重量％の固体濃度を有する試料が取得されるよう、再蒸留水（ＤＤＷ）で希釈された。粒径および分布を推定する際に色素粒子が適切に分散されることが保証されるよう、ＤＬＳ測定の実施以前に、液体試料は短く超音波分解された（Ｓｏｎｉｃｓ Ｖｉｂｒａｃｅｌｌ ＶＣＸ ７５０（７５０ワット）において、最大出力の７５％で、約７秒間）。結果は粒子の体積に基づいて分析された。

【0456】

色素・分散剤混合物が所望の粒径に到達すると、ただちに５０ｇの水が粉砕装置のチャンバに加えられ、その結果的に生成された希釈済み分散物が当該混合物から抽出された。ビーズは好適なメッシュを通して希釈済み練り顔料を濾過することにより分離された。この時点での色素濃度は１２重量％であった。

【0457】

色素・分散剤を含む練り顔料に対してドデカン酸ナトリウム（ＳＤＤ）、および／または、以下の添加物、すなわち、ドデカン酸カリウム、オレイン酸ナトリウム、オレイン酸カリウム、ミリスチン酸ナトリウム、ミリスチン酸カリウム、ドデシル硫酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、オクタン酸カリウム、およびオクタン酸ナトリウムからの少なくとも１つの添加物が加えられた。必要に応じて、１０重量％の色素濃度を有する組成物が得られるよう、加えられた。

【0458】

実施例Ｉ１－インク組成物
本実施例では、インク組成物の準備について説明する。Ｈｅｌｉｏｇｅｎ（登録商標）ＢｌｕｅＤ７０７９が前述のようにＨＤＤＭ－０１／ＨＤ－０１磨砕機においてＤｉｓｐｅｒｂｙｋ（登録商標）１９０を用いて粉砕された。これらの物質は以下の割合で混合された。

【表18】

磨砕された濃縮物は、現時点では１００ｎｍより小さいＤ_Ｖ５０を有し、５０ｇの水でさらに希釈され、１２重量％色素濃度において粉砕装置から抽出された。練り顔料濃縮物は、インク組成物の準備のために以下で説明するように、さらに処理された。第１段階において、２．４ｇのドデカン酸ナトリウムが２００ｇの練り顔料濃縮物に加えられ、それにより練り顔料が得られた。混合物は均質性に達するまで攪拌され（５分、５０ｒｐｍにおいて磁力スターラー）、摂氏６０度で１日間にわたり培養された。次に混合物は大気温度にまで冷却するよう、放置された。第２段階において、インク成分が以下のように練り顔料に加えられた。

【表19】

この混合物は大気温度において３０分間にわたり攪拌され、その結果、１０ｃＰより小さい粘度を有するインクジェット可能なインク組成物が生成された。

【0459】

実施例Ｉ２～Ｉ５－インク組成物
実施例Ｉ１のインクが調合されたが、ＴＷＥＥＮ２０が５、１０、１２、および１５ｇがそれぞれ加えられた。

【0460】

ドットゲイン
ドットゲインとは、初期の球形滴径に対するドットサイズにおける増加を指す。ドットゲインは、最終ドット径と初期滴径との比により決定される。滴体積を増加させる必要なしにドットサイズを増加させる方法を見出すことは大いに好ましい。

【0461】

本明細書で記載の本発明の技術を利用して、発明者らは、少なくとも１．５、もしくは１．６、およびさらに典型的には少なくとも１．７、少なくとも１．８、少なくとも１．９、もしくは少なくとも２．０、または１．５～２．２、１．５～２．１、１．７～２．１、もしくは１．８～２．１の範囲内のドットゲインを達成した。

【0462】

例えば、６．３ピコリットル（Ｄ＝２２．９マイクロメートル）の体積を有する滴を使用して、および本発明の水性処理調合物を使用して、得られた乾燥済みインクドットは４０～４８マイクロメートルの直径範囲内であった。

【0463】

本明細書で、および添付の請求項で使用される「疎水性」および「親水性」、その他の用語は、相対的な意味で使用され得、必ずしも絶対的な意味で使用されるものではない。

【0464】

本明細書および添付の請求項で使用される「官能基」という用語は、従来の付加硬化型シリコーンのＯ－Ｓｉ－Ｏ基よりも高い極性を有する、剥離層のポリマー構造に結合された基または部分を指す。様々な例が本明細書で提供される。発明者らは、純粋な付加硬化型ポリジメチルシロキサンポリマーがＯ－Ｓｉ－Ｏ、ＳｉＯ_４、Ｓｉ－ＣＨ_３、およびＣ－Ｃ基を含むこと、および、大部分の他の官能基がより高い双極子を有し、それにより係る官能基が「機能的」であるとみなされ得ること、を観察する。係る官能基が、摂氏１２０度までの処理温度で間接的インクジェット印刷において利用される水性インクに典型的に存在する成分と反応する傾向または強い傾向を有し得ることは、当業者に明らかとなるであろう。

【0465】

特記なき限り、本明細書で使用されるすべての技術用語および科学用語は、本発明が属する技術分野の当業者によって一般的に理解される意味と同じ意味を有する。矛盾する場合には、定義を含めた本明細書が優先する。

【0466】

本明細書および本開示の請求項において、「含む」、「包含する」、および「有する」という動詞およびその活用は、当該動詞の目的語（単数または複数）が、必ずしも、当該動詞の主題（単数または複数）の部材、構成要素、要素、ステップ、または部分の完全な一覧ではないことを示すために使用される。これらの用語は、「～からなる」および「実質的に～からなる」という用語を包含する。

【0467】

本明細書で使用される単数形「ａ」、「ａｎ」、および「ｔｈｅ」は複数形の参照を含み、特記なき限り、「少なくとも１つ」または「１つまたは複数」を意味する。

【0468】

「上」、「下」、「右」、「左」、「底部」、「下方」、「低下」、「低」、「上部」、「上方」、「上昇」、「高」、「垂直」、「水平」、「逆方向」、「前方」、「上流」、および「下流」などの位置または運動関連の用語、およびにその文法的変形は、本明細書では、例示目的のために、特定構成要素の相対的位置、配置、移動を示すために、現在の例示における第１成分および第２成分を示すために、または、両方を示すために、使用され得る。係る用語は必ずしも、例えば「底部」構成要素が「上部」構成要素の下方にあることを示さず、係る方向、構成要素、またはその両方が空間において反転、回転、移動され、対角線方向または位置に配置され、垂直または水平に配置され、同様に変更され得る。

【0469】

特記なき限り、選択のための選択肢一覧の最後の２つの要素間における「および／または」という表現の使用は、一覧された選択肢の１つまたは複数の選択が可能であることを示す。

【0470】

本明細書で、および添付の請求項で使用される「％」という用語は、特記なき限り、重量％を指す。

【0471】

同様に、本明細書および添付の請求項において使用される「比」という用語は、特記なき限り、重量比を指す。

【0472】

本開示では、特記なき限り、本技術の一実施形態の特徴（単数または複数）の状態または関係特性を修飾する「実質的に」および「約」という形容詞は、状態または特性が、本技術が意図された応用に対する実施形態の動作に対して許容可能である誤差の範囲内で定められることを意味するものと理解すべきである。

【0473】

本開示については、特定の実施形態および全般的に関連する方法に関連して、説明してきたが、本発明の様々な実施形態および方法の改変および置換は当業者には明らかとなるであろう。本開示は、本明細書で説明した特定の実施形態に限定されるものではなく、添付の請求項の範囲によってのみ限定されることが理解されるべきである。

【図1】

【図2】

【図3A】

【図3B】

【図3C】

【図3D】

【図4A】

【図4B】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10A】

【図10B】

【図11A】

【図11B】

【図11C】

【図11D】

【図12】

【図13A】

【図13B】

【図13C】

【図13D】

【図13E】

【図14A】

【図14B】

【図15A】

【図15B】

【図15C】

【図15D】

【図16】

【図17】

【図18】

【図19】

【図20】

【図21】

【図22】

【図23A】

【図23B】

【図23C】

【図24A】

【図24B】

【図24C】

【図24D】

【図25A-25C】

【図26A-26C】