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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2023-03-27
(45)【発行日】2023-04-04
(54)【発明の名称】加硫装置
(51)【国際特許分類】
B29C 33/04 20060101AFI20230328BHJP
B29C 35/02 20060101ALI20230328BHJP
B29L 30/00 20060101ALN20230328BHJP
【ＦＩ】
B29C33/04
B29C35/02
B29L30:00
【請求項の数】
4
(21)【出願番号】P 2019127695
(22)【出願日】2019-07-09
(65)【公開番号】P2021011090
(43)【公開日】2021-02-04
【審査請求日】2022-05-24
(73)【特許権者】
【識別番号】000183233
【氏名又は名称】住友ゴム工業株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110000280
【氏名又は名称】弁理士法人サンクレスト国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】加藤 翔太
(72)【発明者】
【氏名】森岡 大輔
【審査官】神田 和輝
(56)【参考文献】
【文献】特開２０１３－０４３４３６（ＪＰ，Ａ）
【文献】実開昭６２－０９３７３８（ＪＰ，Ｕ）
【文献】特開２０００－０４３０４７（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｂ２９
Ｆ２２
Ｆ２４
Ｆ２８
Ｇ０１Ｍ ３／００－３／４０
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
金型を覆うジャケットと、前記ジャケットに接続される熱媒体の供給管と、
前記供給管に設けられ、開閉することが可能な供給弁と、
前記ジャケットに接続される前記熱媒体の排出管と、
前記排出管に設けられ、前記熱媒体に含まれるドレンを前記熱媒体から分離するためのドレントラップと、
前記熱媒体が通る配管に設けられる温度計と、
前記温度計によって計測される前記熱媒体の温度に基づいて、前記供給弁の開閉を制御する制御装置と、
を備え、
前記制御装置は、前記供給弁の開時間に基づいて、前記熱媒体の漏れが発生しているか否かを判定する、
加硫装置。
【請求項2】
前記制御装置は、前記開時間が閾値以上である場合に、前記熱媒体の漏れが発生していると判定する、請求項１に記載の加硫装置。
【請求項3】
前記制御装置は、加硫条件に基づいて、前記閾値を設定する、請求項２に記載の加硫装置。
【請求項4】
前記制御装置は、複数回の加硫サイクルにおける前記供給弁の開時間の平均値に基づいて、前記熱媒体の漏れが発生しているか否かを判定する、請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の加硫装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、加硫装置に関する。
【背景技術】
【0002】
特許文献１には、ブラダーに熱圧媒体を供給する供給管と、ブラダーから熱圧媒体を排出する排出管と、排出管に設けられて熱圧媒体に含まれるドレンを熱圧媒体から分離するドレントラップとを備えるタイヤ加硫機が開示されている。特許文献１に開示されているタイヤ加硫機では、ドレントラップにおいて熱圧媒体とドレンとが分離された後、熱圧媒体が供給管に戻される一方、ドレンが外部に排出される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【文献】特開２０１３－０４３４３６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
ドレントラップの故障により、熱圧媒体であるスチームが外部に漏れることがある。スチームの漏れはタイヤの成形不良の原因となり得るため、スチーム漏れの発生を迅速に特定することが望まれる。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本発明の一態様に係る加硫装置は、金型を覆うジャケットと、前記ジャケットに接続される熱媒体の供給管と、前記供給管に設けられ、開閉することが可能な供給弁と、前記ジャケットに接続される前記熱媒体の排出管と、前記排出管に設けられ、前記熱媒体に含まれるドレンを前記熱媒体から分離するためのドレントラップと、前記熱媒体が通る配管に設けられる温度計と、前記温度計によって計測される前記熱媒体の温度に基づいて、前記供給弁の開閉を制御する制御装置と、を備え、前記制御装置は、前記供給弁の開時間に基づいて、前記熱媒体の漏れの発生しているか否かを判定する。
【発明の効果】
【0006】
本発明によれば、加硫装置におけるスチームの漏れの発生を迅速に特定することができる。
【図面の簡単な説明】
【0007】
【図1】実施形態に係る加硫装置の構成の一例を示す模式図である。
【図2】実施形態に係る加硫機の構成の一例を示す図である。
【図3】実施形態に係る制御装置の構成の一例を示すブロック図である。
【図4】実施形態に係る制御装置の機能の一例を示す機能ブロック図である。
【図5】実施形態に係る制御装置による蒸気供給制御処理の手順の一例を示すフローチャートである。
【図6】実施形態に係る制御装置による蒸気漏れ判定処理の手順の一例を示すフローチャートである。
【図7】第２変形例に係る制御装置による蒸気漏れ判定処理の手順の一例を示すフローチャートである。
【図8】第３変形例に係る制御装置による蒸気漏れ判定処理の手順の一例を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【0008】
＜本発明の実施形態の概要＞
以下、本発明の実施形態の概要を列記して説明する。
以下、本発明の実施形態の概要を列記して説明する。
【0009】
（１） 本実施形態に係る加硫装置は、金型を覆うジャケットと、前記ジャケットに接続される熱媒体の供給管と、前記供給管に設けられ、開閉することが可能な供給弁と、前記ジャケットに接続される前記熱媒体の排出管と、前記排出管に設けられ、前記熱媒体に含まれるドレンを前記熱媒体から分離するためのドレントラップと、前記熱媒体が通る配管に設けられる温度計と、前記温度計によって計測される前記熱媒体の温度に基づいて、前記供給弁の開閉を制御する制御装置と、を備え、前記制御装置は、前記供給弁の開時間に基づいて、前記熱媒体の漏れが発生しているか否かを判定する。
【0010】
熱媒体の漏れはジャケット及び金型の温度低下を招く。このため、熱媒体の漏れが発生すると、温度を維持するため制御装置は供給弁の開状態を維持する。上記の構成により、供給弁の開時間に基づいて、熱媒体の漏れの発生を迅速に判定することができる。
【0011】
（２） 本実施形態に係る加硫装置において、前記制御装置は、前記開時間が閾値以上である場合に、前記熱媒体の漏れが発生していると判定してもよい。
【0012】
熱媒体の漏れが発生していない場合、一定の正常な時間内に加硫が完了する。したがって、熱媒体の漏れが発生していない場合に加硫が完了する時間に応じて閾値を設定することにより、熱媒体の漏れの発生を正確に判定することができる。
【0013】
（３） 本実施形態に係る加硫装置において、前記制御装置は、加硫条件に基づいて、前記閾値を設定してもよい。
【0014】
加硫条件（例えば、熱媒体の温度、圧力など）に応じて、加硫に要する時間は変化する。加硫条件に基づいて閾値を設定することにより、熱媒体の漏れの発生をさらに正確に判定することが可能となる。
【0015】
（４） 本実施形態に係る加硫装置において、前記制御装置は、複数回の加硫サイクルにおける前記供給弁の開時間の平均値に基づいて、前記熱媒体の漏れが発生しているか否かを判定してもよい。
【0016】
１回の加硫サイクルにおいて、熱媒体の漏れとは異なる原因によって供給弁の開時間が突発的に長くなることがあり得る。供給弁の開時間の平均値に基づいて熱媒体の漏れの発生を判定することにより、開時間が突発的に長時間化した場合の誤判定を抑制することができる。なお、ここでいう「開時間の平均値」とは、複数回の加硫サイクルにおける供給弁の開時間の総和を加硫サイクルの回数で除した結果としての平均値（平均時間）、すなわち、単位を「時間」とする数量に限定されない。平均化された開時間の長短を評価できればよいので、平均時間を基準値で割るなどして正規化した値（無次元量）であってもよい。
【0017】
＜本発明の実施形態の詳細＞
以下、図面を参照しつつ、本発明の実施形態の詳細を説明する。なお、以下に記載する実施形態の少なくとも一部を任意に組み合わせてもよい。
以下、図面を参照しつつ、本発明の実施形態の詳細を説明する。なお、以下に記載する実施形態の少なくとも一部を任意に組み合わせてもよい。
【0018】
［加硫装置の全体構成］
図１は、本実施形態に係る加硫装置の構成の一例を示す模式図である。図１に示すように、加硫装置１は、加硫機１００と、供給管３と、排出管４と、ドレントラップ５と、供給弁６と、複数の弁９と、温度計１４と、制御装置２００とを含む。
図１は、本実施形態に係る加硫装置の構成の一例を示す模式図である。図１に示すように、加硫装置１は、加硫機１００と、供給管３と、排出管４と、ドレントラップ５と、供給弁６と、複数の弁９と、温度計１４と、制御装置２００とを含む。
【0019】
加硫機１００は、投入されたタイヤの原料（以下、ローカバーという。未架橋タイヤとも称される）に対して加硫サイクルを実行し、タイヤを製造する。加硫機１００には、供給管３及び排出管４が接続される。
【0020】
供給管３は、熱媒体の一例である高温・高圧の蒸気及び圧力媒体の一例である高圧の窒素ガスを通流し、加硫機１００へ供給する。供給された蒸気及び窒素ガスにより加硫機１００における加硫サイクルが進行する。
【0021】
供給管３の端部には、蒸気を加硫機１００へ供給するための分岐管１５と、窒素ガスを加硫機１００へ供給するための分岐管１６とが設けられている。分岐管１５には供給弁６が設けられており、分岐管１６には弁９が設けられている。供給弁６は開閉することが可能である。供給弁６が開くことによって蒸気が供給管３へ供給され、供給弁６が閉じることによって供給管３への蒸気の供給が停止される。具体的な一例では、供給弁６は、電磁弁が各ポートに接続されたシリンダ弁である。電磁弁が開閉されることによって水等の流体がシリンダ弁に供給されたり、シリンダ弁から排出されたりし、シリンダ弁が駆動される。弁９も、供給弁６と同様に構成することができる。
【0022】
排出管は、加硫に用いられた蒸気及び窒素ガスを加硫機１００から排出する。
【0023】
排出管の端部には、高圧ガスを回収するための分岐管１０と、バキューム用の分岐管１２と、ドレン用の分岐管１３とが設けられている。分岐管１０，１２，１３のそれぞれには弁９が設けられている。排出管４には、管内の温度を測定する温度計１４が設けられている。
【0024】
分岐管１３にはドレントラップ５が取り付けられている。ドレントラップ５は、蒸気に含まれるドレンを蒸気から分離して外部に排出する。なお、ドレントラップ５としては、公知のフロートタイプ、サーモスタチィクタイプ等のいずれでもよく、フロートタイプ及びサーモスタチィクタイプを併用してもよい。
【0025】
［加硫機の構成］
図２は、本実施形態に係る加硫機の構成の一例を示す図である。なお、以下ではプラテン型の加硫機の構成を説明するが、ドーム型の加硫機であってもよい。
図２は、本実施形態に係る加硫機の構成の一例を示す図である。なお、以下ではプラテン型の加硫機の構成を説明するが、ドーム型の加硫機であってもよい。
【0026】
図２に示された加硫機１００は、ブラダー１０４と、モールド１０６と、コンテナ１０８と、上側プラテン１１０と、下側プラテン１１２とを備えている。コンテナ１０８、上側プラテン１１０、及び下側プラテン１１２は、ジャケットの例である。この図１において、左右方向は半径方向であり、上下方向は軸方向である。図２中、Ｒで示されているのは、ローカバーである。
【0027】
ブラダー１０４は、モールド１０６の内側に位置している。ブラダー１０４は、架橋ゴムからなる。ブラダー１０４は、袋状である。このブラダー１０４は、その内部が蒸気又は窒素ガス（以下、「ガス」という）で満たされるように構成されている。ブラダー１０４にガスが充填されると、このブラダー１０４は膨張する。一方、ブラダー１０４からガスが排出されると、このブラダー１０４は収縮する。図１に示されたブラダー１０４は、膨張状態にある。
【0028】
モールド１０６は、ブラダー１０４の外側に位置している。モールド１０６は、セクターシュー１１４と、セグメント１１６と、上下一対のサイドプレート１１８と、上下一対のビードリング１２０と、上側ベースプレート１２２と、下側ベースプレート１２４とを備えている。このモールド１０６は、いわゆる「割モールド」である。
【0029】
図２に示されたモールド１０６は、閉じられた状態にある。この状態において、セグメント１１６、サイドプレート１１８及びビードリング１２０が組み合わされ、キャビティ面１２６が構成される。キャビティ面１２６は、ローカバーＲと当接し、タイヤの外面を形成する。
【0030】
コンテナ１０８は、モールド１０６の半径方向外側に位置している。コンテナ１０８は、リング状である。コンテナ１０８は、モールド１０６の外周面に沿って周方向に延在している。図示されているように、コンテナ１０８の内部には、スペース１３２が設けられている。このコンテナ１０８は、このスペース１３２が蒸気で満たされるように構成されている。このスペース１３２が蒸気で満たされることにより、このコンテナ１０８の温度が上昇する。高い温度を有するコンテナ１０８により、前述のモールド１０６は加熱される。
【0031】
上側プラテン１１０は、円盤状である。上側プラテン１１０は、モールド１０６の上側に位置している。図示されているように、上側プラテン１１０の内部には、スペース１３４が設けられている。この上側プラテン１１０は、このスペース１３４が、前述のコンテナ１０８に供給される蒸気と同等の蒸気で満たされるように構成されている。このスペース１３４が蒸気で満たされることにより、この上側プラテン１１０の温度が上昇する。高い温度を有する上側プラテン１１０により、前述のモールド１０６は加熱される。
【0032】
下側プラテン１１２は、円盤状である。下側プラテン１１２は、モールド１０６の下側に位置している。図示されているように、下側プラテン１１２の内部には、スペース１３６が設けられている。この下側プラテン１１２は、このスペース１３６が、前述のコンテナ１０８に供給される蒸気と同等の温度の蒸気で満たされるように構成されている。このスペース１３６が蒸気で満たされることにより、この下側プラテン１１２の温度が上昇する。高い温度を有する下側プラテン１１２により、前述のモールド１０６は加熱される。
【0033】
この加硫機１００では、コンテナ１０８、上側プラテン１１０及び下側プラテン１１２は、ヒーターとも称される。換言すれば、この加硫機１００は、ヒーターを備えている。このヒーターの内部は、蒸気で満たされる。
【0034】
［加硫サイクル］
この加硫機１００を用いて、タイヤは次のような加硫サイクルにより製造される。以下、１回の加硫サイクルを説明する。まず、予備成形によって、ローカバーＲが得られる。ローカバーＲは、モールド１０６が開いておりブラダー１０４が収縮している状態で、モールド１０６に投入される。モールド１０６は閉じられ、第一締め付け力で締め付けられる。供給弁６が開かれ、コンテナ１０８、上側プラテン１１０及び下側プラテン１１２それぞれの内部に、蒸気が供給される。蒸気の温度は、１９８℃に調整されている。蒸気の圧力は、１．４７ＭＰａに調整されている。内部が蒸気で満たされたコンテナ１０８、上側プラテン１１０及び下側プラテン１１２により、モールド１０６は加熱される。加熱されたモールド１０６により、ローカバーＲは加熱される。この加熱工程では、第一締め付け力でモールド１０６が締め付けられつつ、ローカバーＲは加熱される。温度計１４の測定温度が所定の目標値に到達すると、供給弁６が閉じられ、供給管３からの蒸気の供給が停止する。
この加硫機１００を用いて、タイヤは次のような加硫サイクルにより製造される。以下、１回の加硫サイクルを説明する。まず、予備成形によって、ローカバーＲが得られる。ローカバーＲは、モールド１０６が開いておりブラダー１０４が収縮している状態で、モールド１０６に投入される。モールド１０６は閉じられ、第一締め付け力で締め付けられる。供給弁６が開かれ、コンテナ１０８、上側プラテン１１０及び下側プラテン１１２それぞれの内部に、蒸気が供給される。蒸気の温度は、１９８℃に調整されている。蒸気の圧力は、１．４７ＭＰａに調整されている。内部が蒸気で満たされたコンテナ１０８、上側プラテン１１０及び下側プラテン１１２により、モールド１０６は加熱される。加熱されたモールド１０６により、ローカバーＲは加熱される。この加熱工程では、第一締め付け力でモールド１０６が締め付けられつつ、ローカバーＲは加熱される。温度計１４の測定温度が所定の目標値に到達すると、供給弁６が閉じられ、供給管３からの蒸気の供給が停止する。
【0035】
モールド１０６は、上記第一締め付け力よりも大きな第二締め付け力でさらに締め付けられる。この第二型締め工程の後、供給管３からブラダー１０４の内部に窒素ガスがさらに供給される。この窒素ガスの供給により、ブラダー１０４の内圧が高められる。ローカバーＲはブラダー１０４によってモールド１０６のキャビティ面１２６に押しつけられ、加圧される。この状態のローカバーＲが、図２に示されている。同時にローカバーＲは、加熱される。この加圧工程では、加圧と加熱とによりゴム組成物が流動する。加熱によりゴムが架橋反応を起こし、タイヤが形成される。加圧工程が完了すると、ブラダー１０４から排出管４を通じて蒸気及び窒素ガスが排出される。モールド１０６が開かれ、タイヤが取り出される。
【0036】
［制御装置の構成］
図３は、本実施形態に係る制御装置２００の構成の一例を示すブロック図である。具体的な一例では、制御装置２００は、プロセッサ２１０と、非一過性メモリ２２０と、一過性メモリ２３０と、入出力インタフェース２４０と、表示部２５０と、スピーカ２６０とを備える。
図３は、本実施形態に係る制御装置２００の構成の一例を示すブロック図である。具体的な一例では、制御装置２００は、プロセッサ２１０と、非一過性メモリ２２０と、一過性メモリ２３０と、入出力インタフェース２４０と、表示部２５０と、スピーカ２６０とを備える。
【0037】
一過性メモリ２３０は、例えばＳＲＡＭ（Static Random Access Memory）、ＤＲＡＭ（Dynamic Random Access Memory）等の揮発性メモリである。非一過性メモリ２２０は、例えばフラッシュメモリ、ハードディスク、ＲＯＭ（Read Only Memory）等の不揮発性メモリである。非一過性メモリ２２０には、コンピュータプログラムである制御プログラム２１１及び制御プログラム２１１の実行に使用されるデータが格納される。制御装置２００は、コンピュータを備えて構成され、制御装置２００の各機能は、前記コンピュータの記憶装置に記憶されたコンピュータプログラムである制御プログラム２１１がＣＰＵであるプロセッサ２１０によって実行されることで発揮される。制御プログラム２１１は、フラッシュメモリ、ＲＯＭ、ＣＤ－ＲＯＭなどの記録媒体に記憶させることができる。プロセッサ２１０は、制御プログラム２１１を実行することにより、後述するような蒸気供給制御処理及び蒸気漏れ判定処理を実行する。
【0038】
なお、プロセッサ２１０は、ＣＰＵに限られない。プロセッサ２１０は、例えば、ＡＳＩＣ（Application Specific Integrated Circuit）、ゲートアレイ、ＦＰＧＡ（Field Programmable Gate Array）等のハードウェアロジック回路であってもよい。この場合、ハードウェアロジック回路は、制御プログラム２１１と同様の処理を実行可能に構成される。
【0039】
入出力インタフェース２４０は供給弁６及び温度計１４に接続される（図１参照）。制御装置２００は、信号線を介して供給弁６へ制御信号を送信することができる。制御装置２００は、信号線を介して温度計１４から温度の測定結果を受信することができる。
【0040】
表示部２５０は、例えば液晶パネルを含み、文字及び画像を表示することができる。スピーカ２６０は、音声を出力することができる。
【0041】
図４は、本実施形態に係る制御装置２００の機能の一例を示す機能ブロック図である。制御装置２００は、入力部２０１、フィードバック制御部２０２、制御信号出力部２０３、開時間計測部２０４、判定部２０５、及び通知部２０６としての機能を有する。
【0042】
入力部２０１は、温度計１４による温度の測定結果を示す温度情報の入力を受け付ける。入力部２０１は、入出力インタフェース２４０によって実現される。
【0043】
フィードバック制御部２０２は、温度による供給弁６のフィードバック制御を行う。フィードバック制御では、入力部２０１からフィードバック制御部２０２へ温度情報が与えられる。フィードバック制御部２０２は、温度情報と加硫サイクルとに基づいて、供給弁６を開状態とするか閉状態とするかを決定する。フィードバック制御部２０２は、決定結果に応じて供給弁６を制御するための制御信号を生成する。供給弁６は、制御信号に応じて開状態又は閉状態となる。以上の制御サイクルが繰り返されることによって、フィードバック制御が実行される。
【0044】
制御信号出力部２０３は、フィードバック制御部２０２によって生成された制御信号を供給弁６へ送信する。制御信号出力部２０３は、入出力インタフェース２４０によって実現される。
【0045】
開時間計測部２０４は、供給弁６の開時間ＴＯＰを計測する。本実施形態において、開時間ＴＯＰは、供給弁６が開いた時点から現時点までの時間である。本実施形態では、開時間計測部２０４は、加硫サイクル毎に開時間ＴＯＰを計測する。開時間計測部２０４は、１回の加硫サイクルで開時間ＴＯＰを計測し、次の加硫サイクルでは開時間ＴＯＰをリセットする。
【0046】
判定部２０５は、開時間計測部２０４によって計測された開時間ＴＯＰに基づいて、ドレントラップ５における蒸気の漏れが発生しているか否かを判定する。具体的な一例では、判定部２０５は、開時間計測部２０４によって計測された開時間ＴＯＰを、予め設定された閾値ＴＨと比較し、開時間ＴＯＰが閾値ＴＨ以上である場合に、蒸気の漏れが発生していると判定し、開時間ＴＯＰが閾値ＴＨ未満である場合に、蒸気の漏れが発生していないと判定する。
【0047】
通知部２０６は、判定部２０５によって蒸気の漏れが発生していると判定された場合、即ち開時間ＴＯＰが閾値ＴＨ以上である場合、オペレータに蒸気の漏れの発生を通知する。具体的な一例では、通知部２０６は、表示部２５０に、蒸気の漏れの発生を通知する画面を表示させたり、スピーカ２６０から、警報音を出力させたりすることができる。
【0048】
フィードバック制御部２０２、開時間計測部２０４、判定部２０５、及び通知部２０６は、プロセッサ２１０によって実現される。
【0049】
［制御装置の動作］
次に、本実施形態に係る制御装置２００の動作について説明する。図５は、本実施形態に係る制御装置２００による蒸気供給制御処理の手順の一例を示すフローチャートである。図５には、１回の加硫サイクルにおける制御処理が示される。
次に、本実施形態に係る制御装置２００の動作について説明する。図５は、本実施形態に係る制御装置２００による蒸気供給制御処理の手順の一例を示すフローチャートである。図５には、１回の加硫サイクルにおける制御処理が示される。
【0050】
加硫サイクルが始まる前において、供給弁６は閉じている。加硫サイクルが始まると、プロセッサ２１０は、供給弁６を開き、加硫機１００への蒸気の供給を開始する（ステップＳ１０１）。
【0051】
温度計１４は、排出管４の内部の温度を測定する。制御装置２００は、温度計１４から出力された温度情報を受信する（ステップＳ１０２）。
【0052】
プロセッサ２１０は、温度計１４による測定温度が所定の目標値に到達したか否かを判定する（ステップＳ１０３）。測定温度が目標値に到達していないと判定された場合（ステップＳ１０３においてＮＯ）、プロセッサ２１０は、処理をステップＳ１０２へ戻す。これにより、新たな温度情報が取得され、測定温度が目標値に到達したか否かの判定が繰り返し実行される。
【0053】
測定温度が目標値に到達したと判定された場合（ステップＳ１０３においてＹＥＳ）、プロセッサ２１０は、供給弁６を閉じ、加硫機１００への蒸気の供給を停止する（ステップＳ１０４）。以上で、蒸気供給制御処理が終了する。
【0054】
制御装置２００は、上述した蒸気供給制御処理と並行して、蒸気漏れ判定処理を実行する。図６は、本実施形態に係る制御装置２００による蒸気漏れ判定処理の手順の一例を示すフローチャートである。
【0055】
まず、プロセッサ２１０は、加硫機１００への蒸気の供給が開始されたか否か、すなわち、供給弁６が開かれたか否かを判定する（ステップＳ２０１）。例えばプロセス間通信により、蒸気供給制御処理において供給弁６を開いた場合に、蒸気供給の開始が蒸気漏れ判定処理に通知される。この通知を受け付けることにより、プロセッサ２１０は供給弁６が開いたと判定する。なお、供給弁６の開状態及び閉状態を検出するセンサを供給弁６に取り付け、プロセッサ２１０がセンサの検出結果に基づいて供給弁６が開かれたか否かを判定してもよい。
【0056】
加硫機１００への蒸気の供給が開始されていないと判定された場合（ステップＳ２０１においてＮＯ）、プロセッサ２１０は、ステップＳ２０１の処理を再度実行する。他方、加硫機１００への蒸気の供給が開始されたと判定された場合（ステップＳ２０１においてＹＥＳ）、プロセッサ２１０は、供給弁６の開時間ＴＯＰの計測を開始する（ステップＳ２０２）。なお、開時間ＴＯＰの初期値は０である。
【0057】
プロセッサ２１０は、開時間ＴＯＰと閾値ＴＨとを比較することによって、蒸気漏れの発生を判定する（ステップＳ２０３）。開時間ＴＯＰが閾値ＴＨ未満である場合、すなわち、蒸気漏れが発生していないと判定された場合（ステップＳ２０３においてＮＯ）、プロセッサ２１０は、加硫機１００への蒸気の供給が停止されたか否か、すなわち、供給弁６が閉じられたか否かを判定する（ステップＳ２０４）。
【0058】
加硫機１００への蒸気の供給が停止されていないと判定された場合（ステップＳ２０４においてＮＯ）、プロセッサ２１０は、ステップＳ２０３へ処理を戻す。他方、加硫機１００への蒸気の供給が停止されたと判定された場合（ステップＳ２０４においてＹＥＳ）、蒸気漏れが発生したと判定されずに、加硫サイクルが完了している。したがって、プロセッサ２１０は、オペレータに蒸気漏れの発生を通知すること無く、蒸気漏れ判定処理を終了する。
【0059】
開時間ＴＯＰが閾値ＴＨ以上である場合、すなわち、蒸気漏れが発生したと判定された場合（ステップＳ２０３においてＹＥＳ）、プロセッサ２１０は、蒸気漏れ発生の通知を出力する（ステップＳ２０５）。上述したように、この処理では、例えば表示部２５０によって蒸気漏れ発生の通知画面が表示され、スピーカ２６０から蒸気漏れ発生の警報音が出力される。以上で、蒸気漏れ判定処理が終了する。
【0060】
［第１変形例］
加硫機１００における加硫条件（例えば、蒸気の温度又は圧力）に応じて、加硫時間は変化する。したがって、制御装置２００は、加硫条件に応じて閾値ＴＨを設定してもよい。具体的な一例では、オペレータが加硫条件を制御装置２００に設定する。プロセッサ２１０は、設定された加硫条件に応じて、閾値ＴＨを設定することができる。例えば、加硫条件における蒸気の温度が上がれば閾値ＴＨが低く設定され、蒸気の温度が下がれば閾値ＴＨが高く設定される。
加硫機１００における加硫条件（例えば、蒸気の温度又は圧力）に応じて、加硫時間は変化する。したがって、制御装置２００は、加硫条件に応じて閾値ＴＨを設定してもよい。具体的な一例では、オペレータが加硫条件を制御装置２００に設定する。プロセッサ２１０は、設定された加硫条件に応じて、閾値ＴＨを設定することができる。例えば、加硫条件における蒸気の温度が上がれば閾値ＴＨが低く設定され、蒸気の温度が下がれば閾値ＴＨが高く設定される。
【0061】
［第２変形例］
制御装置２００が、複数回の加硫サイクルにおける供給弁６の開時間の平均値に基づいて、熱媒体の漏れが発生しているか否かを判定してもよい。本変形例では、開時間計測部２０４が、複数回の加硫サイクルにおける供給弁６の開時間の平均値（以下、「平均開時間」という）ＴＡＶＥを算出する（図４参照）。判定部２０５は、平均開時間ＴＡＶＥに基づいて、ドレントラップ５における蒸気の漏れが発生しているか否かを判定する。具体的な一例では、判定部２０５は、平均開時間ＴＡＶＥを、予め設定された閾値ＴＨと比較し、平均開時間ＴＡＶＥが閾値ＴＨ以上である場合に、蒸気の漏れが発生していると判定し、平均開時間ＴＡＶＥが閾値ＴＨ未満である場合に、蒸気の漏れが発生していないと判定する。
制御装置２００が、複数回の加硫サイクルにおける供給弁６の開時間の平均値に基づいて、熱媒体の漏れが発生しているか否かを判定してもよい。本変形例では、開時間計測部２０４が、複数回の加硫サイクルにおける供給弁６の開時間の平均値（以下、「平均開時間」という）ＴＡＶＥを算出する（図４参照）。判定部２０５は、平均開時間ＴＡＶＥに基づいて、ドレントラップ５における蒸気の漏れが発生しているか否かを判定する。具体的な一例では、判定部２０５は、平均開時間ＴＡＶＥを、予め設定された閾値ＴＨと比較し、平均開時間ＴＡＶＥが閾値ＴＨ以上である場合に、蒸気の漏れが発生していると判定し、平均開時間ＴＡＶＥが閾値ＴＨ未満である場合に、蒸気の漏れが発生していないと判定する。
【0062】
図７は、本変形例に係る制御装置２００による蒸気漏れ判定処理の手順の一例を示すフローチャートである。プロセッサ２１０は、加硫サイクルの回数の変数ＮＣ及び開時間の総和（以下、「総開時間」という）の変数ＴＳＵＭのそれぞれを初期値０に設定し（ステップＳ３０１）、開時間の変数ＴＯＰを初期値０に設定する（ステップＳ３０２）。
【0063】
プロセッサ２１０は、加硫機１００への蒸気の供給が開始されたか否か、すなわち、供給弁６が開かれたか否かを判定する（ステップＳ３０３）。加硫機１００への蒸気の供給が開始されていないと判定された場合（ステップＳ３０３においてＮＯ）、プロセッサ２１０は、ステップＳ３０３の処理を再度実行する。他方、加硫機１００への蒸気の供給が開始されたと判定された場合（ステップＳ３０３においてＹＥＳ）、プロセッサ２１０は、加硫サイクル回数ＮＣを１つインクリメントし（ステップＳ３０４）、供給弁６の開時間ＴＯＰの計測を開始する（ステップＳ３０５）。
【0064】
プロセッサ２１０は、加硫機１００への蒸気の供給が停止されたか否か、すなわち、供給弁６が閉じられたか否かを判定する（ステップＳ３０６）。加硫機１００への蒸気の供給が停止されていないと判定された場合（ステップＳ３０６においてＮＯ）、プロセッサ２１０は、ステップＳ３０６の処理を再度実行する。
【0065】
加硫機１００への蒸気の供給が停止されたと判定された場合（ステップＳ３０６においてＹＥＳ）、プロセッサ２１０は、供給弁６の開時間ＴＯＰの計測を停止する（ステップＳ３０７）。
【0066】
プロセッサ２１０は、総開時間ＴＳＵＭに開時間ＴＯＰを加算し、その結果を新たな総開時間ＴＳＵＭとする（ステップＳ３０８）。プロセッサ２１０は、総開時間ＴＳＵＭを加硫サイクル回数ＮＣで除して、平均開時間ＴＡＶＥを算出する（ステップＳ３０９）。
【0067】
プロセッサ２１０は、平均開時間ＴＡＶＥと閾値ＴＨとを比較することによって、蒸気漏れの発生を判定する（ステップＳ３１０）。平均開時間ＴＡＶＥが閾値ＴＨ未満である場合、すなわち、蒸気漏れが発生していないと判定された場合（ステップＳ３１０においてＮＯ）、プロセッサ２１０は、ステップＳ３０２へ処理を戻す。
【0068】
他方、平均開時間ＴＡＶＥが閾値ＴＨ以上である場合、すなわち、蒸気漏れが発生したと判定された場合（ステップＳ３１０においてＹＥＳ）、プロセッサ２１０は、蒸気漏れ発生の通知を出力する（ステップＳ３１１）。以上で、蒸気漏れ判定処理が終了する。
【0069】
［第３変形例］
制御装置２００が、直近の所定回数の加硫サイクルにおける供給弁６の開時間の平均値（移動平均）に基づいて、熱媒体の漏れが発生しているか否かを判定してもよい。本変形例では、開時間計測部２０４が、供給弁６の開時間の移動平均（以下、「移動平均開時間」という）ＴＭＡＶＥを算出する（図４参照）。判定部２０５は、移動平均開時間ＴＭＡＶＥに基づいて、ドレントラップ５における蒸気の漏れが発生しているか否かを判定する。具体的な一例では、判定部２０５は、移動平均開時間ＴＭＡＶＥを、予め設定された閾値ＴＨと比較し、移動平均開時間ＴＭＡＶＥが閾値ＴＨ以上である場合に、蒸気の漏れが発生していると判定し、移動平均開時間ＴＭＡＶＥが閾値ＴＨ未満である場合に、蒸気の漏れが発生していないと判定する。
制御装置２００が、直近の所定回数の加硫サイクルにおける供給弁６の開時間の平均値（移動平均）に基づいて、熱媒体の漏れが発生しているか否かを判定してもよい。本変形例では、開時間計測部２０４が、供給弁６の開時間の移動平均（以下、「移動平均開時間」という）ＴＭＡＶＥを算出する（図４参照）。判定部２０５は、移動平均開時間ＴＭＡＶＥに基づいて、ドレントラップ５における蒸気の漏れが発生しているか否かを判定する。具体的な一例では、判定部２０５は、移動平均開時間ＴＭＡＶＥを、予め設定された閾値ＴＨと比較し、移動平均開時間ＴＭＡＶＥが閾値ＴＨ以上である場合に、蒸気の漏れが発生していると判定し、移動平均開時間ＴＭＡＶＥが閾値ＴＨ未満である場合に、蒸気の漏れが発生していないと判定する。
【0070】
図８は、本変形例に係る制御装置２００による蒸気漏れ判定処理の手順の一例を示すフローチャートである。プロセッサ２１０は、加硫サイクルの回数の変数ＮＣを初期値０に設定する（ステップＳ４０１）。ステップＳ４０２～Ｓ４０６は、第２変形例におけるステップＳ３０３～Ｓ３０７と同様であるので、その説明を省略する。
【0071】
プロセッサ２１０は、計測された開時間を例えば一過性メモリ２３０に格納する（ステップＳ４０７）。ここで、新たに計測された開時間は、過去の開時間とは区別して記憶される。つまり、供給弁６の開時間の履歴が記憶される。
【0072】
プロセッサ２１０は、直近の所定回数の加硫サイクルにおける開時間の平均値、つまり移動平均開時間ＴＭＡＶＥを算出する（ステップＳ４０８）。例えば、５回の加硫サイクルの移動平均開時間を算出する場合、プロセッサ２１０は、直近の５つの開時間の総和を５で除することにより、移動平均開時間ＴＭＡＶＥを算出する。
【0073】
プロセッサ２１０は、移動平均開時間ＴＭＡＶＥと閾値ＴＨとを比較することによって、蒸気漏れの発生を判定する（ステップＳ４０９）。移動平均開時間ＴＭＡＶＥが閾値ＴＨ未満である場合、すなわち、蒸気漏れが発生していないと判定された場合（ステップＳ４０９においてＮＯ）、プロセッサ２１０は、ステップＳ４０２へ処理を戻す。
【0074】
他方、移動平均開時間ＴＭＡＶＥが閾値ＴＨ以上である場合、すなわち、蒸気漏れが発生したと判定された場合（ステップＳ４０９においてＹＥＳ）、プロセッサ２１０は、蒸気漏れ発生の通知を出力する（ステップＳ４１０）。以上で、蒸気漏れ判定処理が終了する。
【0075】
［効果］
以上のように、加硫装置１は、モールド１０６を覆うコンテナ１０８、上側プラテン１１０、及び下側プラテン１１２と、蒸気の供給管３と、供給弁６と、蒸気の排出管４と、ドレントラップ５と、温度計１４と、制御装置２００と、を備える。供給管３は、上側プラテン１１０、及び下側プラテン１１２に接続される。供給弁６は、供給管３に設けられ、開閉することが可能である。排出管４は、上側プラテン１１０、及び下側プラテン１１２に接続される。ドレントラップ５は、排出管４に設けられ、蒸気に含まれるドレンを蒸気から分離する。温度計１４は、蒸気が通る配管の１つである排出管４に設けられる。制御装置２００は、温度計１４によって計測される蒸気の温度に基づいて、供給弁６の開閉を制御する。制御装置２００は、供給弁６の開時間ＴＯＰに基づいて、蒸気の漏れが発生しているか否かを判定する。
以上のように、加硫装置１は、モールド１０６を覆うコンテナ１０８、上側プラテン１１０、及び下側プラテン１１２と、蒸気の供給管３と、供給弁６と、蒸気の排出管４と、ドレントラップ５と、温度計１４と、制御装置２００と、を備える。供給管３は、上側プラテン１１０、及び下側プラテン１１２に接続される。供給弁６は、供給管３に設けられ、開閉することが可能である。排出管４は、上側プラテン１１０、及び下側プラテン１１２に接続される。ドレントラップ５は、排出管４に設けられ、蒸気に含まれるドレンを蒸気から分離する。温度計１４は、蒸気が通る配管の１つである排出管４に設けられる。制御装置２００は、温度計１４によって計測される蒸気の温度に基づいて、供給弁６の開閉を制御する。制御装置２００は、供給弁６の開時間ＴＯＰに基づいて、蒸気の漏れが発生しているか否かを判定する。
【0076】
蒸気の漏れは、上側プラテン１１０、及び下側プラテン１１２並びにモールド１０６の温度低下を招く。このため、蒸気の漏れが発生すると、温度を維持するため制御装置２００は供給弁６の開状態を維持する。上記の構成により、供給弁６の開時間ＴＯＰに基づいて、蒸気の漏れの発生を迅速に判定することができる。
【0077】
制御装置２００は、開時間ＴＯＰが閾値ＴＨ以上である場合に、蒸気の漏れが発生していると判定してもよい。
【0078】
蒸気の漏れが発生していない場合、一定の正常な時間内に加硫が完了する。したがって、蒸気の漏れが発生していない場合に加硫が完了する時間に応じて閾値ＴＨを設定することにより、蒸気の漏れの発生を正確に判定することができる。
【0079】
制御装置２００は、加硫条件に基づいて、閾値ＴＨを設定してもよい。
【0080】
加硫条件（例えば、熱媒体の温度、圧力など）に応じて、加硫に要する時間は変化する。加硫条件に基づいて閾値ＴＨを設定することにより、蒸気の漏れの発生をさらに正確に判定することが可能となる。
【0081】
制御装置２００は、複数回の加硫サイクルにおける供給弁６の開時間ＴＯＰの平均値に基づいて、蒸気の漏れが発生しているか否かを判定してもよい。
【0082】
１回の加硫サイクルにおいて、蒸気の漏れとは異なる原因によって供給弁６の開時間が突発的に長くなることがあり得る。供給弁６の開時間ＴＯＰの平均値に基づいて蒸気の漏れの発生を判定することにより、開時間ＴＯＰが突発的に長時間化した場合の誤判定を抑制することができる。
【0083】
［補記］
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって、制限的ではない。本発明の権利範囲は、上述の実施形態ではなく特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味及びその範囲内でのすべての変更が含まれる。
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって、制限的ではない。本発明の権利範囲は、上述の実施形態ではなく特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味及びその範囲内でのすべての変更が含まれる。
【符号の説明】
【0084】
１ 加硫装置
３ 供給管
４ 排出管
５ ドレントラップ
６ 供給弁
９ 弁
１０，１２，１３，１５，１６ 分岐管
１４ 温度計
１００ 加硫機
１０４ ブラダー
１０６ モールド
１０８ コンテナ
１１０ 上側プラテン
１１２ 下側プラテン
１１４ セクターシュー
１１６ セグメント
１１８ サイドプレート
１１８ａ 上側サイドプレート
１２０ ビードリング
１２０ａ 上側ビードリング
１２２ 上側ベースプレート
１２４ 下側ベースプレート
１２６ キャビティ面
１２８ 内面
１３０ 山
１３２，１３４，１３６ スペース
１３８ 内面
２００ 制御装置
２０１ 入力部
２０２ フィードバック制御部
２０３ 制御信号出力部
２０４ 開時間計測部
２０５ 判定部
２０６ 通知部
２１０ プロセッサ
２１１ 制御プログラム
２２０ 非一過性メモリ
２３０ 一過性メモリ
２４０ 入出力インタフェース
２５０ 表示部
２６０ スピーカ
３ 供給管
４ 排出管
５ ドレントラップ
６ 供給弁
９ 弁
１０，１２，１３，１５，１６ 分岐管
１４ 温度計
１００ 加硫機
１０４ ブラダー
１０６ モールド
１０８ コンテナ
１１０ 上側プラテン
１１２ 下側プラテン
１１４ セクターシュー
１１６ セグメント
１１８ サイドプレート
１１８ａ 上側サイドプレート
１２０ ビードリング
１２０ａ 上側ビードリング
１２２ 上側ベースプレート
１２４ 下側ベースプレート
１２６ キャビティ面
１２８ 内面
１３０ 山
１３２，１３４，１３６ スペース
１３８ 内面
２００ 制御装置
２０１ 入力部
２０２ フィードバック制御部
２０３ 制御信号出力部
２０４ 開時間計測部
２０５ 判定部
２０６ 通知部
２１０ プロセッサ
２１１ 制御プログラム
２２０ 非一過性メモリ
２３０ 一過性メモリ
２４０ 入出力インタフェース
２５０ 表示部
２６０ スピーカ
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】