(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2023-04-21
(45)【発行日】2023-05-01
(54)【発明の名称】溶融ガラス撹拌チャンバ
(51)【国際特許分類】
C03B 5/187 20060101AFI20230424BHJP
C03C 3/093 20060101ALI20230424BHJP
【ＦＩ】
C03B5/187
C03C3/093
【請求項の数】
8
(21)【出願番号】P 2020562064
(86)(22)【出願日】2019-01-29
(65)【公表番号】
(43)【公表日】2021-05-13
(86)【国際出願番号】 KR2019001227
(87)【国際公開番号】W WO2019151747
(87)【国際公開日】2019-08-08
【審査請求日】2022-01-31
(31)【優先権主張番号】10-2018-0011606
(32)【優先日】2018-01-30
(33)【優先権主張国・地域又は機関】KR
(73)【特許権者】
【識別番号】397068274
【氏名又は名称】コーニング インコーポレイテッド
(74)【代理人】
【識別番号】100073184
【弁理士】
【氏名又は名称】柳田 征史
(74)【代理人】
【識別番号】100123652
【弁理士】
【氏名又は名称】坂野 博行
(74)【代理人】
【識別番号】100175042
【弁理士】
【氏名又は名称】高橋 秀明
(72)【発明者】
【氏名】キム，ドンビン
(72)【発明者】
【氏名】シン，ドンウォン
(72)【発明者】
【氏名】キム，ウイホ
(72)【発明者】
【氏名】パク，ヒョンジン
(72)【発明者】
【氏名】クォン，ヨンギュ
(72)【発明者】
【氏名】キム，ジヒョン
(72)【発明者】
【氏名】オム，チュチョン
(72)【発明者】
【氏名】ムン，チョンス
(72)【発明者】
【氏名】キム，ドンウォン
【審査官】須藤 英輝
(56)【参考文献】
【文献】特開２０１２－０４１２６４（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１４－００９１３７（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１０－１２６４３２（ＪＰ，Ａ）
【文献】特表２０１３－５１２１８４（ＪＰ，Ａ）
【文献】特表２０１２－５０４０９６（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｃ０３Ｂ ５／００－５／４４
Ｃ０３Ｂ ７／０８－７／０９８
Ｃ０３Ｃ １／００－１４／００
Ｃ０４Ｂ ３８／００－３８／１０
ＩＮＴＥＲＧＬＡＤ
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
撹拌チャンバであって、溶融ガラスを受け入れるように構成された撹拌容器；
前記撹拌容器上に位置づけられたカバー；及び
前記カバーを通過し、前記溶融ガラスを撹拌するように構成されたスターラー
を備えており、
前記カバーが、カバー本体と、該カバー本体の表面を覆う無機セラミック層とを含み、
前記カバー本体は、多孔質であり、凹部と、該凹部内に配置された熱源とを含み、
前記熱源は、無機フィラーに囲まれた前記凹部内に保持され、
前記無機セラミック層が、前記カバー本体の少なくとも上面及び底面と、前記無機フィラーの露出部分とを覆っている、
撹拌チャンバ。
【請求項2】
前記無機セラミック層がガラス層を含む、請求項１に記載の撹拌チャンバ。
【請求項3】
前記ガラス層が、８０質量％～９０質量％のシリカ（ＳｉＯ２）、１質量％～３質量％の酸化ホウ素（Ｂ２Ｏ３）、２質量％～５質量％のアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、１質量％～３質量％の酸化ナトリウム（Ｎａ２Ｏ）、２質量％～４質量％の酸化カリウム（Ｋ２Ｏ）、２質量％～６質量％の酸化亜鉛（ＺｎＯ）、及び０．１質量％～２質量％のジルコニア（ＺｒＯ２）を含む、請求項２に記載の撹拌チャンバ。
【請求項4】
前記無機フィラーがセメントである、請求項１～３のいずれか一項に記載の撹拌チャンバ。
【請求項5】
前記カバーが、前記カバー本体の少なくとも上面及び底面を覆う貴金属クラッド層、および、該貴金属クラッド層の下面に設けられた耐火酸化物層をさらに含み、該貴金属クラッド層が前記無機セラミック層上に設けられている、請求項１～４のいずれか一項に記載の撹拌チャンバ。
【請求項6】
前記カバーが、前記スターラーが通過する中心孔を有しており、かつ、境界領域に沿って第１の本体と第２の本体とに分割されており、前記第１の本体が、長手方向に前記境界領域に沿って水平に突出するシート部分を含む、
請求項１～５のいずれか一項に記載の撹拌チャンバ。
【請求項7】
前記シート部分が、前記第２の本体と少なくとも部分的に重なっている、請求項６に記載の撹拌チャンバ。
【請求項8】
前記シート部分が、前記撹拌容器の内側部分に面している前記第１の本体の下側部分に設けられている、請求項７に記載の撹拌チャンバ。
【発明の詳細な説明】
【関連出願の相互参照】
【0001】
本出願は、その内容が依拠され、その全体がここに参照することによって本願に援用される、２０１８年１月３０日出願の韓国特許出願第１０－２０１８－００１１６０６号の米国法典第３５編特許法１１９条に基づく優先権の利益を主張する。
【技術分野】
【0002】
本開示は、溶融ガラスから形成されたガラスシートの欠陥を低減することができる溶融ガラス撹拌チャンバに関する。
【背景技術】
【0003】
平坦なガラスシートの製造装置は、溶融ガラスを撹拌するための撹拌装置を含む。
【0004】
撹拌装置は、溶融ガラスを収容するように構成された撹拌容器、該撹拌容器を覆うように構成されたカバー、及び撹拌容器内に配置された撹拌翼を備えている。時間の経過とともに、カバーの内側に配置された白金をベースとした熱源が大気中の酸素と反応する。酸化された白金は、望ましくないことに、白金凝縮物の形態でガラスに取り込まれ、したがってガラスシートに欠陥を生じさせる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
本開示は、カバーから生じる欠陥を低減することができる溶融ガラス撹拌チャンバを提供する。
【課題を解決するための手段】
【0006】
１つ以上の実施形態によれば、撹拌チャンバは、溶融ガラスを受け入れるように構成された撹拌容器；該撹拌容器上に位置づけられたカバー；及び、該カバーを通過し、溶融ガラスを撹拌するように構成されたスターラーを備えることができ、該カバーは、多孔質のカバー本体と、該カバー本体の表面を覆う無機セラミック層とを含む。
【0007】
無機セラミック層はガラス層を含みうる。ガラス層は、約８０質量％～約９０質量％のシリカ（ＳｉＯ２）、約１質量％～約３質量％の酸化ホウ素（Ｂ２Ｏ３）、約２質量％～約５質量％のアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、約１質量％～約３質量％の酸化ナトリウム（Ｎａ２Ｏ）、約２質量％～約４質量％の酸化カリウム（Ｋ２Ｏ）、約２質量％～約６質量％の酸化亜鉛（ＺｎＯ）、及び約０．１質量％～約２質量％のジルコニア（ＺｒＯ２）を含みうる。
【0008】
カバー本体は、凹部と、該凹部内に配置された熱源とを含みうる。熱源は、無機フィラーに囲まれた凹部に保持することができる。無機セラミック層は、カバー本体の少なくとも上面及び底面と、無機フィラーの露出部分とを覆うことができる。無機フィラーはセメントでありうる。
【0009】
カバーは、カバー本体の少なくとも上面及び底面を覆う貴金属クラッド層をさらに含んでよく、該貴金属クラッド層は無機セラミック層上に設けられる。カバーは、撹拌容器の内側部分に面している貴金属クラッド層の表面を覆う耐火酸化物層をさらに備えることができる。
【0010】
カバーは、スターラーが通過する中心孔を有することができ、境界領域に沿って第１の本体と第２の本体とに分割することができ、第１の本体は、長手方向に境界領域に沿って水平に突出するシート部分を含む。シート部分は、第２の本体と少なくとも部分的に重なり合うことができる。シート部分は、撹拌容器の内側部分に面している第１の本体の下側部分に設けることができる。
【0011】
１つ以上の実施形態によれば、撹拌チャンバは、溶融ガラスを受け入れるように構成された撹拌容器；該撹拌容器上のカバー；及び、該カバーを通過し、溶融ガラスを撹拌するように構成されたスターラーを備えることができ、該カバーは、スターラーが通過する中心孔を有する、多孔質のカバー本体を含み、該カバー本体は、境界領域に沿って第１の本体と第２の本体とを含み、該第１の本体は、長手方向に境界領域に沿って水平に突出するシート部分を含む。
【0012】
シート部分は、第２の本体と少なくとも部分的に重なり合うことができる。第１の本体及び第２の本体の各々の表面は、無機セラミック層で覆うことができる。第１の本体の下側部分は貴金属クラッド層を含み、シート部分は貴金属クラッド層の表面に取り付けられる。
【0013】
１つ以上の実施形態によれば、撹拌チャンバは、溶融ガラスを受け入れるように構成された撹拌容器；該撹拌容器上のカバー；及びカバーを通過し、溶融ガラスを撹拌するように構成されたスターラーを備えることができ、該カバーは、カバーの少なくとも下面に貴金属クラッド層を含み、溶融するガラスに面している貴金属クラッド層の表面は、約３質量％～約５質量％のＣａＯ、約０．２質量％～約１質量％のＳｉＯ２、約０．２質量％～約１質量％のＡｌ２Ｏ３、約０．５質量％～約３．５質量％のＨｆＯ２、及び残余のＺｒＯ２を含む耐火酸化物層によって覆われている。
【0014】
耐火酸化物層は、約０．０１質量％～約０．３質量％のＦｅ２Ｏ３及び約０．０１質量％～約０．９質量％のＭｇＯをさらに含みうる。
【0015】
耐火酸化物層の厚さは、約２ミル（約０．０５０８ｍｍ）～約８ミル（約０．２０３２ｍｍ）でありうる。
【0016】
カバーは、撹拌本体を通過する中心孔を有するカバー本体を備えることができ、該カバーは、中心孔を通って延びる境界領域に沿って第１の本体と第２の本体とに分割されており、該第１の本体及び第２の本体の各々の表面は、無機セラミック層によって覆われ、境界領域を横切って水平に突出するシート部分が第１の本体に設けられる。
【0017】
本開示の実施形態は、添付の図面と併せて、以下の詳細な説明からより明確に理解されるであろう。
【図面の簡単な説明】
【0018】
【図1】本開示の一実施形態によるガラス製造装置の略図
【図2】本開示の一実施形態による溶融ガラス撹拌チャンバの斜視図
【図3】本開示の一実施形態によるカバーの第１の本体の斜視図
【図6】本開示の別の実施形態によるカバーの第１の本体の側面断面図
【図7A】本開示の実施形態によるカバー用の第１の本体を製造する方法を逐次的に示す側面断面図
【図7B】本開示の実施形態によるカバー用の第１の本体を製造する方法を逐次的に示す側面断面図
【図7C】本開示の実施形態によるカバー用の第１の本体を製造する方法を逐次的に示す側面断面図
【図8】本開示の別の実施形態によるカバーの第１の本体の側面断面図
【図9A】本開示の一実施形態によるカバーの第１の本体の表面に耐火酸化物層を形成する方法を示す斜視図
【図9B】本開示の一実施形態によるカバーの第１の本体の表面に耐火酸化物層を形成する方法を示す斜視図
【図10】本開示の一実施形態によるカバーの第１の本体を示す図
【図11A】本開示の他の実施形態によるカバーの第１の本体の断面図
【図11B】本開示の他の実施形態によるカバーの第１の本体の断面図
【図12】本開示の一実施形態による、無機セラミック層の性能を試験するための試験装置を示す概念図
【図13】実施例１及び比較例１のヘリウムガス漏洩試験の実施結果を示すグラフ
【図14A】実施例２及び比較例２における垂下比較試験のための試料の分解斜視図
【図14B】実施例３及び比較例３における垂下比較試験のための試料の分解斜視図
【図15】実施例２及び３並びに比較例２及び３における垂下比較試験の実施結果を示すグラフ
【発明を実施するための形態】
【0019】
これより、添付の図面を参照して、例示的な実施形態を以下により充分に説明する；しかしながら、特許請求の範囲は異なる形態で具体化することができ、本明細書に記載される実施形態に限定されると解釈されるべきではない。むしろ、これらの実施形態は、この開示が徹底的かつ完全であり、例示的な実装形態を当業者に十分に伝えるように提供されている。
【0020】
図において、層及び領域の寸法は、説明を明確にするために誇張されている場合がある。層又は要素が別の層又は要素の「上」にあると称される場合、それは他方の層又は要素の上に直接存在してもよく、あるいは、介在層が存在してもよいことも理解されよう。加えて、層が２つの層の「間にある」と称される場合、それは２つの層の間の唯一の層であってもよく、あるいは、１つ以上の介在層が存在してもよいこともまた理解されよう。同様の参照番号は、全体を通して同様の要素を指す。
【0021】
本明細書で用いられる場合、「及び／又は」という用語は、関連する列挙された項目の１つ以上のありとあらゆる組合せを含む。例えば、「又は」という用語は排他的ではなく、「及び／又は」と同じ意味を有すると理解することができる。「～の少なくとも１つ」などの表現は、要素のリストに付随する場合、その要素のリスト全体を修飾するのであって、リストの個々の要素は修飾しない。
【0022】
「第１」、「第２」などの用語は、さまざまな構成要素を説明するために使用されうるが、このような構成要素は、上記の用語に限定されてはならない。上記の用語は、ある構成要素を別の構成要素と区別するためにのみ用いられる。例えば、以下で論じられる第１の構成要素は、本開示の教示から逸脱することなく、第２の構成要素と呼ぶことができ、同様に、第２の構成要素は、第１の構成要素と呼ぶことができる。
【0023】
本明細書で用いられる用語は、単に特定の実施形態のみを説明する目的のためのものであり、限定することは意図されていない。文脈で明確に異なる意味を有しない限り、単数で使用される表現には複数での表現が包含される。本明細書で用いられる場合、例えば、「含む」、「含有する」、「含んでいる」、及び／又は「含有している」などの用語は、述べられた特徴、整数、工程、動作、要素、成分、及び／又はそれらのグループの存在を指定するが、１つ以上の他の特徴、整数、工程、動作、要素、成分、及び／又はそれらのグループのうちの１つ以上の存在又は追加を排除するものではないことが理解されよう。
【0024】
特に定義されない限り、本明細書で用いられるすべての用語（技術用語及び科学用語を含む）は、本願が属する分野の当業者によって一般に理解されるものと同じ意味を有する。一般的に使用される辞書で定義されているような用語は、関連技術の文脈におけるそれらの意味と一致する意味を有すると解釈されるべきであり、本明細書に明示的に定義されていない限り、理想化された又は過度に形式的な意味で解釈されないことがさらに理解されよう。
【0025】
本明細書に記載されるすべての方法の動作は、本明細書に別段の指示がない限り、又は文脈によって明らかに矛盾しない限り、任意の適切な順序で実施することができる。実施形態は、記載された動作の順序に限定されない。例えば、２つの連続して記載されたプロセスは、実質的に同時に実行してもよく、あるいは、記載された順序とは逆の順序で実行してもよい。
【0026】
よって、例えば製造技術及び／又は許容誤差の結果として、図の形状からの変化が予想される。したがって、実施形態は、本明細書に示される領域の特定の形状に限定されると解釈されるべきではなく、例えば製造に起因する、形状の偏差を含むべきである。
【0027】
図１は、さまざまな実施形態による例示的なガラス製造装置１の略図である。
【0028】
図１を参照すると、ガラス製造装置１は、溶融容器１００、清澄容器２００、溶融ガラス撹拌チャンバ３００、送達容器５００、及び成形装置７００を備えることができる。幾つかの実施形態によれば、ガラス製造装置１は、シートタイプのガラスを製造することができるが、さらなる実施形態では、ガラス製造装置は、ガラス棒、ガラス管、ガラス容器、及びガラス外囲器を含むさまざまな他のガラス物品を製造することができる。
【0029】
溶融容器１００、清澄容器２００、溶融ガラス撹拌チャンバ３００、送達容器５００、及び成形装置７００は、直列に配置されたガラス製造プロセスステーションとすることができる。ガラス製品を製造するための所定のプロセスが、これらのステーションで実行される。幾つかの実施形態によれば、ガラス製造装置によって実行される製造プロセスは、ダウンドロープロセス、スロットドロー溶融成形プロセス（二重溶融プロセスを含む）、フロートガラス成形プロセス、及び圧延プロセスを含みうる。
【0030】
幾つかの実施形態によれば、溶融容器１００、清澄容器２００、溶融ガラス撹拌チャンバ３００、送達容器５００、及び成形装置７００の各々は、白金、又は白金－ロジウム、白金－イリジウム、及びそれらの組合せなどの白金含有金属を含みうる。幾つかの実施形態によれば、溶融容器１００、清澄容器２００、溶融ガラス撹拌チャンバ３００、送達容器５００、及び成形装置７００の各々は、パラジウム、レニウム、ルテニウム、及びオスミウム、並びに他の金属を含みうる。幾つかの実施形態によれば、成形装置７００は、セラミック材料又はガラスセラミック材料を含みうる。
【0031】
溶融容器１００は、貯蔵容器１０からバッチ材料１１を受け入れる。バッチ材料１１は、駆動装置１５が備わったバッチ送達装置１３によって溶融容器１００に挿入される。選択コントローラ１７は、矢印ａ１で示されるように、所望の量のバッチ材料１１を溶融容器１００に導入するように駆動装置１５が動作するように構成することができる。幾つかの実施形態によれば、ガラスレベルプローブ１９を使用して、スタンドパイプ２１内の溶融ガラスＭＧのレベルを測定し、測定された溶融ガラスＭＧのレベルを、通信回線２３を介してコントローラ１７に送信することができる。
【0032】
幾つかの実施形態によれば、清澄容器２００は、第１の導管１５０によって溶融容器１００に接続される。第１の導管１５０は、溶融ガラスＭＧが流れる通路を含む。以下に記載される第２及び第３の導管２５０及び３５０もまた、溶融ガラスＭＧが流れる通路を提供する。第１の導管１５０は、導電性を有し、高温条件で使用可能な材料を含みうる。幾つかの実施形態によれば、第１の導管は、例えば、白金、白金－ロジウム、白金－イリジウム、又はそれらの組合せなどの白金含有金属を含みうる。幾つかの実施形態によれば、第１から第３の導管は、モリブデン、パラジウム、レニウム、タンタル、チタン、タングステン、ルテニウム、オスミウム、ジルコニウム、又はそれらの合金、及び／又は二酸化ジルコニウムを含みうる。
【0033】
清澄容器２００は、清澄管として機能する。清澄容器２００は溶融容器１００の下流に配置される。清澄容器２００は、溶融容器１００から溶融ガラスＭＧを受け入れる。幾つかの実施形態によれば、高温プロセスを清澄容器２００内で実行して、溶融ガラスＭＧからブリスタ（すなわち、ガス状含有物）を除去することができる。幾つかの実施形態によれば、清澄容器２００は、溶融ガラスＭＧを加熱することによって溶融ガラスＭＧが清澄容器２００を通過する間に、溶融ガラスＭＧからブリスタを除去するように構成される。幾つかの実施形態によれば、溶融ガラスＭＧが清澄容器２００内で加熱されると、溶融ガラスＭＧに含まれる清澄剤が酸化還元反応を起こし、それによって、酸素及び他のガスを溶融ガラスＭＧから除去することができる。具体的には、溶融ガラスＭＧに含まれるブリスタは、酸素、二酸化炭素及び／又は二酸化硫黄を含む可能性があり、清澄剤の還元反応で発生する酸素と結合することができ、したがって、ブリスタの体積が増加しうる。成長したブリスタは、清澄容器２００内の溶融ガラスＭＧの自由表面に向かって浮上し、溶融ガラスＭＧから分離されうる。ブリスタは、清澄容器２００の上部の気相空間を通じて清澄容器２００の外部に排出されうる。
【0034】
幾つかの実施形態によれば、溶融ガラス撹拌チャンバ３００は、清澄容器２００の下流に配置される。溶融ガラス撹拌チャンバ３００は、清澄容器２００から供給される溶融ガラスＭＧを均質化することができる。溶融ガラス撹拌チャンバ３００にスターラー３１０を設けて、溶融ガラス撹拌チャンバ３００に対して回転させ、その中で溶融ガラスＭＧを流動させて混合させることができる。スターラー３１０は、溶融ガラスＭＧを撹拌して、撹拌チャンバ３００を出る前に溶融ガラスＭＧを均質化することができる。
【0035】
送達容器５００は、溶融ガラス撹拌チャンバ３００の下流に配置することができる。送達容器５００は、第３の導管３５０によって溶融ガラス撹拌チャンバ３００に接続される。出口導管６００が送達容器５００に接続される。溶融ガラスＭＧは、出口導管６００を通じて成形装置７００の入口６５０に移送される。
【0036】
成形装置７００は、送達容器５００から溶融ガラスＭＧを受け入れる。成形装置７００は、溶融ガラスＭＧをシート状のガラス製品へと成形することができるが、さらなる実施形態では、成形装置は、溶融ガラスを、棒、管、外囲器などの他の形状の物体へと成形することができる。例えば、成形装置７００は、溶融ガラスＭＧを連続したガラスリボンへと成形するための溶融延伸機を含みうる。成形装置７００に流入した溶融ガラスＭＧは、成形装置７００から溢れ出ることができる。溢れ出た溶融ガラスＭＧは、重力と、エッジロール７５０及び牽引ロール８００などの適切に配置されたロールの組合せとによって下方向に移動して、溶融ガラスリボンを形成する。
【0037】
図２は、一実施形態による溶融ガラス撹拌チャンバ３００の斜視図である。
【0038】
図２を参照すると、溶融ガラス撹拌チャンバ３００は、内部に溶融ガラスＭＧを収容するように構成された撹拌容器３２０、該撹拌容器３２０上に配置されたカバー３３０、及び該カバー３３０を貫通して溶融ガラスＭＧを撹拌するように構成されたスターラー３１０を含みうる。
【0039】
撹拌容器３２０は、第２の導管２５０及び第３の導管３５０に接続されうる。上述のように、溶融ガラスＭＧは、第２の導管２５０を通じて撹拌容器３２０内に導入され、第３の導管３５０を通じて撹拌容器３２０の外に排出される。
【0040】
スターラー３１０は、撹拌棒３１４と、それに取り付けられた複数のブレード３１２とを含みうる。
【0041】
カバー３３０は、撹拌容器３２０の開口部を覆うように構成される。カバー３３０の中心には、そこを通じて撹拌棒３１４が貫通する中心孔３３８を設けることができる。カバー３３０の内部には、熱源３３２を設けることができる。
【0042】
カバー３３０は、２つの本体、すなわち、第１の本体３３０ａ及び第２の本体３３０ｂを含むことができる。第１の本体３３０ａ及び第２の本体３３０ｂは互いに分離されてよく、それらの間に配置され、中心孔３３８と交差する境界領域を有する。図２は、カバー３３０が２つの本体に分割される例を示しているが、別の実施形態では、カバー３３０は３つ以上の本体に分割されてもよい。
【0043】
第１の本体３３０ａ及び第２の本体３３０ｂは、それぞれ、カバー本体３３４と、その内部に埋め込まれた熱源３３２とを含みうる。
【0044】
熱源３３２は、白金又は白金合金を含み、電力が供給されると熱を発生することができる。具体的には、熱源３３２は、純粋な白金又は白金合金を含むことができる。白金合金は、白金と、ロジウム（Ｒｈ）、イリジウム（Ｉｒ）、ルテニウム（Ｒｕ）、パラジウム（Ｐｄ）、及びオスミウム（Ｏｓ）のうちの少なくとも１つとの合金でありうる。
【0045】
カバー本体３３４は耐火材を含むことができる。幾つかの実施形態では、カバー本体３３４は多孔質材料を含むことができる。例として、カバー本体３３４は、例えばＣｒｙｓｔａｌｌｉｔｅ ＨＦ３３９（ＢＵＣＨＥＲ Ｅｍｈａｒｔ Ｇｌａｓｓ社から入手可能）又はＡＮ４８５（Ｓａｉｎｔ Ｇｏｂａｉｎ社から入手可能）などの材料を含むことができる。
【0046】
図３は、一実施形態によるカバー３３０の第１の本体３３０ａの斜視図であり、図４は、図３の線ＩＶ－ＩＶ’に沿った断面を示している。以下の説明は第１の本体３３０ａに焦点を当てているが、この説明が第２の本体３３０ｂ、又はカバー３３０が３つ以上の本体に分割される実施形態における追加の本体にも等しく適用できることは、当業者に理解されるであろう。
【0047】
図３及び４を参照すると、カバー本体３３４には、熱源３３２を収容するように構成された凹部３３４Ｒを設けることができる。凹部３３４Ｒは、図４の視線の方向に延在してもよく、あるいは、カバー本体３３４の円周方向又は半径方向など、別の方向に延在してもよい。凹部３３４Ｒ内に熱源３３２を収容することができる。
【0048】
熱源３３２は、無機フィラー３３４ｆに囲まれた凹部３３４Ｒに埋め込まれ、固定されうる。無機フィラー３３４ｆは、例えばセメントでありうる。
【0049】
図４に示されるように、無機フィラー３３４ｆは、カバー本体３３４から少なくとも部分的に露出させることができる。幾つかの実施形態では、無機フィラー３３４ｆの表面は、カバー本体３３４の表面と同一平面上とすることができる。
【0050】
カバー本体３３４の表面を無機セラミック層３３６で覆うことができる。一実施形態では、本明細書で用いられる無機セラミック層３３６は、原子間結合が完全にイオン性であるか又は主にイオン性である金属及び非金属元素間の無機化合物であり、結晶構造、部分的に結晶構造、又は非結晶（すなわち、ガラス）構造を有する材料を含む。幾つかの実施形態では、無機セラミック層３３６は、主成分としてシリカを含むガラス層でありうる。例えば、無機セラミック層３３６は、約８０質量％～約９０質量％のシリカ（ＳｉＯ２）、約１質量％～約３質量％の酸化ホウ素（Ｂ２Ｏ３）、約２質量％～約５質量％のアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、約１質量％～約３質量％の酸化ナトリウム（Ｎａ２Ｏ）、約２質量％～約４質量％の酸化カリウム（Ｋ２Ｏ）、約２質量％～約６質量％の酸化亜鉛（ＺｎＯ）、及び約０．１質量％～約２質量％のジルコニア（ＺｒＯ２）を含みうる。
【0051】
幾つかの実施形態では、無機セラミック層３３６はカバー本体３３４の上面を覆うことができる。幾つかの実施形態では、無機セラミック層３３６はカバー本体３３４の下面を覆うことができる。幾つかの実施形態では、無機セラミック層３３６は無機フィラー３３４ｆの露出面を覆うことができる。
【0052】
高温での酸素との接触に起因して、白金が酸化されて気体のＰｔＯ２として失われる可能性があることから、熱源３３２に含まれる白金との酸素の接触を防止又は低減することが望ましい。望ましくないことに、このような気体のＰｔＯ２は、撹拌チャンバ３００内の溶融ガラスＭＧ中の含有物を含めた凝縮物として、望ましくない位置に堆積する可能性がある。無機セラミック層３３６は、熱源３３２に含まれる白金と酸素との接触を防止又は低減することができる。
【0053】
無機セラミック層３３６の厚さは、約１ｍｍから約５ｍｍの範囲でありうる。無機セラミック層３３６の厚さが厚すぎると、層３３６の剥離に起因して粒子が発生する可能性がある。一方、無機セラミック層３３６の厚さが薄すぎると、熱源３３２に含まれる白金の酸化を防止する効果が不十分となる可能性がある。
【0054】
一方、カバー本体３３４が多孔質である場合、カバー本体３３４と無機セラミック層３３６との界面が曖昧になる可能性がある。言い換えれば、無機セラミック層３３６は、多孔質のカバー本体３３４と接触する領域において、部分的にカバー本体３３４の細孔内に入り込む可能性がある。
【0055】
図５は、図４の線Ｖ－Ｖ’に沿って切断した断面に関して、カバー本体３３４と無機セラミック層３３６との間の界面を画成する方法を概念的に示すグラフである。図５において、横軸は図４の線Ｖ－Ｖ’に沿った位置を表し、縦軸は無機セラミック層３３６を構成する材料とカバー本体３３４を構成する材料の質量分率を表している。図５を参照すると、カバー本体３３４と無機セラミック層３３６の質量分率が、カバー本体３３４が無機セラミック層３３６と接触している界面ＩＦの周りで段階的に変化するセクションが存在しうる。カバー本体３３４と無機セラミック層３３６の質量分率がそれぞれ約０．５となる仮想的な界面を、カバー本体３３４と無機セラミック層３３６との間の界面として定義することができる。
【0056】
図６は、別の実施形態による第１の本体３３０ａ’の側面断面図である。図６の第１の本体３３０ａ’は、無機セラミック層３３６ａがカバー本体３３４の下面のみに形成されるという点で、図４の第１の本体３３０ａとは異なっている。したがって、以後、このような相違点を主に説明し、重複する説明は省略する。
【0057】
図６を参照すると、無機セラミック層３３６ａは、カバー本体３３４の表面全体にわたっては形成されていない。幾つかの実施形態では、無機セラミック層３３６ａは、熱源３３２が設けられているカバー本体３３４の表面のみをコーティングすることができる。幾つかの実施形態では、無機セラミック層３３６ａは、無機フィラー３３４ｆの露出面を覆うことができる。幾つかの実施形態では、無機セラミック層３３６ａは、無機フィラー３３４ｆの露出面と実質的に同一平面上にあるカバー本体３３４の表面を覆うことができる。幾つかの実施形態では、無機セラミック層３３６ａは、無機フィラー３３４ｆの露出面と同一平面上にないカバー本体３３４の表面は覆わない可能性がある。
【0058】
熱源３３２において白金を酸化する酸素の最短経路は、無機フィラー３３４ｆが配置されている側の表面からであることから、無機セラミック層３３６ａが片面のみ（すなわち、凹部３３４Ｒが形成された面のみ）に形成されている場合でも、図４と同様にＰｔの酸化及び喪失を防止する効果を得ることができる。さらには、図６の実施形態における第１の本体３３０ａ’は、図４の実施形態よりも少量の無機セラミック層３３６ａを使用し、したがって、第１の本体３３０ａ’は、比較的費用効率が高く、製造が容易である。加えて、第１の本体３３０ａ’は、（無機セラミック層３３６の量が少ないことに起因して）図４の第１の本体３３０ａよりも軽量でありうることから、動作温度でのカバー３３０の垂下が発生する可能性が低くなりうる。
【0059】
図７Ａ～７Ｃは、実施形態による、第１の本体３３０ａ及び３３０ａ’を製造する方法を逐次的に示す側面断面図である。
【0060】
【0061】
図７Ｂを参照すると、凹部３３４Ｒに熱源３３２を配置することができ、凹部３３４Ｒの内面と熱源３３２との間の空間を無機フィラー３３４ｆで満たすことができる。無機フィラー３３４ｆの材料については上述しているため、さらなる詳細な説明は省略する。
【0062】
図７Ｃを参照すると、無機セラミック材料層３３６ｐが、カバー本体３３４及び無機フィラー３３４ｆの表面に形成されている。無機セラミック材料層３３６ｐは、例えば、無機セラミック材料を分散媒に分散させたスラリー層でありうる。幾つかの実施形態では、無機セラミック層３３６ｐは、約８０質量％～約９０質量％のシリカ（ＳｉＯ２）、約１質量％～約３質量％の酸化ホウ素（Ｂ２Ｏ３）、約２質量％～約５質量％のアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、約１質量％～約３質量％の酸化ナトリウム（Ｎａ２Ｏ）、約２質量％～約４質量％の酸化カリウム（Ｋ２Ｏ）、約２質量％～約６質量％の酸化亜鉛（ＺｎＯ）、及び約０．１質量％～約２質量％のジルコニア（ＺｒＯ２）を含む固体粉末が、水などの分散媒と約１：２～約２：１の質量比で混合された混合物を含みうる。
【0063】
無機セラミック材料層３３６ｐは、ブラッシング、噴霧、ディップコーティング、又はスピンコーティングによって形成することができるが、本開示の実施形態はそれらに限定されない。
【0064】
その後、無機セラミック材料層３３６ｐは、約８００℃～約２，０００℃の温度で約１０秒～約６０分間アニールされて無機セラミック層３３６ａを形成し、図４に示される第１の本体３３０ａを得ることができる。
【0065】
図６に示される第１の本体３３０ａ’は、無機セラミック材料層３３６ｐが図７Ｃのカバー本体３３４の下面のみに形成されることを除き、図７Ａ～７Ｃを参照して説明される方法と同じ方法によって製造することができる。
【0066】
図８は、別の実施形態による第１の本体３３０ａ”の側面断面図である。図８の第１の本体３３０ａ”は、第１の本体３３０ａ”が貴金属クラッド層３３３と、該貴金属クラッド層３３３の１つの表面に耐火酸化物層３３７をさらに含むという点で、図４の第１の本体３３０ａとは異なっている。したがって、以後、このような相違点を主に説明し、重複する説明は省略する。
【0067】
貴金属クラッド層３３３は、少なくとも貴金属クラッド層３３３の上面３３３ＵＳ又は下面３３３ＬＳに形成されうる。貴金属は、白金（Ｐｔ）、金（Ａｕ）、ルテニウム（Ｒｕ）、ロジウム（Ｒｈ）、パラジウム（Ｐｄ）、銀（Ａｇ）、オスミウム（Ｏｓ）、イリジウム（Ｉｒ）、銅（Ｃｕ）、及びレニウム（Ｒｅ）などの腐食及び酸化に耐性のある金属として定義される。幾つかの実施形態では、貴金属クラッド層３３３は、カバー本体３３４の上面及び下面の両方に形成することができる。幾つかの実施形態では、貴金属クラッド層３３３は、（図８の側壁部分ＳＷに対応する）中心孔３３８の内面にも形成されうる。
【0068】
貴金属クラッド層３３３は、例えば、白金又は白金合金を含むことができる。例えば、白金合金は、白金と、ロジウム（Ｒｈ）、イリジウム（Ｉｒ）、ルテニウム（Ｒｕ）、パラジウム（Ｐｄ）、及びオスミウム（Ｏｓ）のうちの少なくとも１つとの合金でありうる。
【0069】
耐火酸化物層３３７は、貴金属クラッド層３３３の下面３３３ＬＳに設けることができる。耐火酸化物層３３７は、非常に耐熱性のある酸化物材料でできている。下面３３３ＬＳは、撹拌容器３２０に面する表面でありうる。耐火酸化物層３３７は、高温に曝される白金又は白金合金を覆い、曝される領域の面積を減少させ、それにより、白金の酸化還元反応及びその結果としてのカバー及び撹拌容器の内面上の反応生成物が凝縮して溶融ガラスＭＧに落下する可能性を低減する。これにより、このような含有物によって生じる製品不良を低減することができる。
【0070】
耐火酸化物層３３７の厚さは、約１ミル（＝０．００１インチ（約０．０２５４ｍｍ））～約１０ミル（約０．２５４ｍｍ）の範囲でありうる。幾つかの実施形態では、耐火酸化物層３３７の厚さは、約２ミル（＝０．００２インチ＝約０．０５０８ｍｍ）～約８ミル（約０．２０３２ｍｍ）の範囲でありうる。
【0071】
耐火酸化物層３３７がその上に形成される貴金属クラッド層３３３の下面３３３ＬＳは、粗面化されうる。幾つかの実施形態では、貴金属クラッド層３３３の下面３３３ＬＳの粗さＲａは、ＢＳ ＥＮ ＩＳＯ ４２８７：２０００規格で測定して、約０．１μｍ～約５０μｍの範囲でありうる。本明細書では、Ｒａは算術平均粗さであり、これは、粗さプロファイルの算術平均偏差である。粗さＲａが大きすぎると、耐火酸化物層３３７の形成後の平坦性が不十分となる場合がある。粗さＲａが小さすぎると、耐火酸化物層３３７と貴金属クラッド層３３３との付着性が不十分となる場合がある。
【0072】
図９Ａ及び９Ｂは、一実施形態による、第１の本体３３０ａの表面に耐火酸化物層３３７を形成する方法を示す斜視図である。
【0073】
図９Ａを参照すると、第１の本体３３０ａの外面を無機セラミック層３３６で覆うことができる。第１の本体３３０ａの上面及び下面に貴金属クラッド層３３３を設けることができる。加えて、第１の本体３３０ａの側壁ＳＷにも、貴金属クラッド層３３３を少なくとも部分的に設けることができる。
【0074】
その後、貴金属クラッド層３３３の下面３３３ＬＳは粗面化されうる。図９Ａでは、理解の便宜上、第１の本体３３０ａは、下面３３３ＬＳが上向きになるように、逆さまになっている。粗面化は、例えばサンドブラストによって行うことができるが、これに限定されない。結果として、粗面化された下面３３３ＳＢを得ることができる。
【0075】
図９Ｂを参照すると、貴金属クラッド層３３３の粗面化された下面３３３ＳＢに耐火酸化物層３３７が形成される。
【0076】
耐火酸化物層３３７は、主成分としてジルコニア（ＺｒＯ２）を含む材料層でありうる。幾つかの実施形態では、耐火酸化物層３３７は、約３質量％～約５質量％の酸化カルシウム（ＣａＯ）、約０．２質量％～約１質量％のシリカ（ＳｉＯ２）、約０．２質量％～約１質量％のアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、及び約０．５質量％～約３．５質量％の酸化ハフニウム（ＨｆＯ２）及び約０．５質量％～約３．５質量％の酸化ハフニウム（ＨｆＯ２）を含むことができ、残りはジルコニア（ＺｒＯ２）及び不可避的不純物である。耐火酸化物層３３７は、約０．０１質量％～約０．３質量％の酸化鉄（Ｆｅ２Ｏ３）及び約０．０１質量％～約０．９質量％の酸化マグネシウム（ＭｇＯ）をさらに含みうる。
【0077】
幾つかの実施形態では、耐火酸化物層３３７は、約１質量％～約２質量％の酸化ハフニウム（ＨｆＯ２）、約２．５質量％～約４．５質量％の酸化カルシウム（ＣａＯ）、約０．２質量％～約１．０質量％のシリカ（ＳｉＯ２）、約０．３質量％～約１．２質量％のアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、約０．０１質量％～約０．２質量％の酸化鉄（Ｆｅ２Ｏ３）、約０．０５質量％～約０．２質量％のチタニア（ＴｉＯ２）、及び約０．０１質量％～約０．１質量％の酸化マグネシウム（ＭｇＯ）を含むことができ、残りはジルコニア（ＺｒＯ２）及び不可避的不純物である。
【0078】
幾つかの実施形態では、耐火酸化物層３３７は、原料粉末をプラズマで溶融し、溶融した原料粉末を噴霧することによって形成されうる。図９Ｂは、耐火酸化物層３３７が下面３３３ＳＢに形成されうることを示すために、露出される下面３３３ＳＢの一部を示している。しかしながら、他の実施形態では、耐火酸化物層３３７は、粗面化された下面３３３ＳＢの全体に形成することができる。
【0079】
図１０は、一実施形態による、カバー３３０の第１の本体３３１ａを示している。第１の本体３３１ａは、第２の本体３３１ｂとともにカバー３３０を構成することができる。
【0080】
図１０を参照すると、第１の本体３３１ａと第２の本体３３１ｂとの境界領域ＢＤに沿って突出するシート部分３３９が、耐火酸化物層３３７の下に設けられうる。
【0081】
シート部分３３９は、第１の本体３３１ａの下面に取り付けられているが、シート部分３３９の突出部分は、第２の本体３３１ｂと少なくとも部分的に重なりうる。言い換えれば、シート部分３３９は、中心孔３３８を除き、境界領域ＢＤをほぼ完全に覆うことができる。幾つかの実施形態では、シート部分３３９が第１の本体３３１ａから第２の本体３３１ｂに向かって突出する幅Ｇ１は、第１の本体３３１ａとび第２の本体３３１ｂとの間のギャップＧ２より大きくなりうる。
【0082】
シート部分３３９は、金属又は無機材料を含みうる。幾つかの実施形態では、シート部分３３９は、白金又は白金合金などの金属を含みうる。幾つかの実施形態では、シート部分３３９は、シリカをベースとした無機材料、ジルコニアをベースとした無機材料、又はアルミナをベースとした無機材料を含みうる。幾つかの実施形態では、シート部分３３９は、白金とロジウムとの合金を含みうる。
【0083】
図１１Ａ及び１１Ｂは、他の実施形態による、カバーの第１の本体３３１ａ’及び３３１ａ”の断面図である。
【0084】
図１１Ａを参照すると、シート部分３３９は、無機セラミック層３３６の表面に直接取り付けられうる。図１１Ａの第１の本体３３１ａ’は、耐火酸化物層３３７及び貴金属クラッド層３３３が省かれていることを除き、図１０の実施形態における第１の本体３３１ａと実質的に同じでありうる。
【0085】
図１１Ｂを参照すると、シート部分３３９は、貴金属クラッド層３３３の表面に直接取り付けられうる。図１１Ｂの第１の本体３３１ａ”は、耐火酸化物層３３７が省かれていることを除き、図１０の実施形態における第１の本体３３１ａと実質的に同じでありうる。
【実施例】
【0086】
以下に、具体的な実施例及び比較例を参照して、本発明の構成及び効果についてさらに詳しく説明する。しかしながら、これらの例は、本開示を明確にすることのみを意図しており、本開示の範囲を限定することは意図していない。
【0087】
図１２は、一実施形態による、無機セラミック層の性能を試験するためのヘリウムガス漏洩試験装置を示す略図である。
【0088】
図１２を参照すると、チャンバ５１は、一方の側に開口部５４を備えており、試料ＳＡはチャンバ５１の開口部５４に固定されている。試料ＳＡとチャンバ５１との間で漏れが生じていない状態で、入口弁５２を開き、所定の圧力でヘリウム（Ｈｅ）ガスを供給し、出口弁５３を閉じる。
【0089】
ガスが試料ＳＡを通過することができる経路が多いと、ヘリウムセンサ４３によって検出されるヘリウムの漏れの量が増加する。反対に、ガスが試料ＳＡを通過することができる経路が少ないと、ヘリウムセンサ４３によって検出されるヘリウムの漏れの量が減少する。
【0090】
約８５．０５質量％のシリカ（ＳｉＯ２）、約２．２５質量％の酸化ホウ素（Ｂ２Ｏ３）、約３．２５質量％のアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、約１．７質量％の酸化ナトリウム（Ｎａ２Ｏ）、約２．５質量％の酸化カリウム（Ｋ２Ｏ）、約４．１質量％の酸化亜鉛（ＺｎＯ）、及び約１．１５質量％のジルコニア（ＺｒＯ２）を含む無機セラミック層を、多孔質のＡＮ４８５（Ｓａｉｎｔ Ｇｏｂａｉｎ社から入手可能）試料上に約３ｍｍの厚さまで形成した。
【0091】
無機セラミック層を有する試料（実施例１）及び無機セラミック層を有しない試料（比較例１）をチャンバの開口部に固定し、その上でヘリウムガス漏洩試験を行った。
【0092】
その結果、図１３に示されるように、無機セラミック層を形成した場合、無機セラミック層がない場合と比べて、ガスの漏れが４分の１以下に低減されたことがわかった。したがって、無機セラミック層によって、熱源に含まれる白金の酸化を防止することができることがわかる。
【0093】
図１４Ａ及び１４Ｂは、実施例２及び３並びに比較例２及び３における垂下比較試験のための試料の分解斜視図である。
【0094】
棒状体の試料６１の表面に縦凹部６１ｒを形成し、熱源（図示せず）及び無機フィラー６３を凹部６１ｒの上に形成し、次に、無機セラミック層６７をその上に形成した（実施例２）。凹部６１ｒの延在方向を長手方向と直交する方向に変更したことを除き、実施例２と同様にして、試料を製造した。比較のために無機セラミック層６７を形成しなかったことを除き、実施例２及び３の試料と実質的に同じである比較例２及び３の試料を製造した。
【0095】
これらの試料を、所定の間隔で互いに離間した２つの支持体６９で支持し、１，５００℃で３日間放置した。次に、２つの支持体６９の間の中央における垂下長さを測定して、図１５に示す結果を得た。垂下長さとは、中央における、元の高さと１，５００℃で３日間加熱した後の高さとの間の高低差である。
【0096】
図１５を参照すると、無機セラミック層６７は、凹部の延在方向にかかわらず、試料の垂下の低減にも寄与することが分かる。実施例２の垂下長さは、比較例２の垂下長さの３分の１未満である。実施例３の垂下長さは、比較例３の垂下長さの約半分である。
【0097】
本開示は、それらの実施形態を参照して特に示され、説明されてきたが、以下の特許請求の範囲の精神及び範囲から逸脱することなく、それらに形態及び詳細のさまざまな変更がなされうることが理解されよう。
【0098】
以下、本発明の好ましい実施形態を項分け記載する。
【0099】
実施形態１
撹拌チャンバであって、
溶融ガラスを受け入れるように構成された撹拌容器；
前記撹拌容器上に位置づけられたカバー；及び
前記カバーを通過し、前記溶融ガラスを撹拌するように構成されたスターラー
を備えており、
前記カバーが、カバー本体と、該カバー本体の表面を覆う無機セラミック層とを含み、前記カバー本体が多孔質である、
撹拌チャンバ。
撹拌チャンバであって、
溶融ガラスを受け入れるように構成された撹拌容器；
前記撹拌容器上に位置づけられたカバー；及び
前記カバーを通過し、前記溶融ガラスを撹拌するように構成されたスターラー
を備えており、
前記カバーが、カバー本体と、該カバー本体の表面を覆う無機セラミック層とを含み、前記カバー本体が多孔質である、
撹拌チャンバ。
【0100】
実施形態２
前記無機セラミック層がガラス層を含む、実施形態１に記載の撹拌チャンバ。
前記無機セラミック層がガラス層を含む、実施形態１に記載の撹拌チャンバ。
【0101】
実施形態３
前記ガラス層が、約８０質量％～約９０質量％のシリカ（ＳｉＯ２）、約１質量％～約３質量％の酸化ホウ素（Ｂ２Ｏ３）、約２質量％～約５質量％のアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、約１質量％～約３質量％の酸化ナトリウム（Ｎａ２Ｏ）、約２質量％～約４質量％の酸化カリウム（Ｋ２Ｏ）、約２質量％～約６質量％の酸化亜鉛（ＺｎＯ）、及び約０．１質量％～約２質量％のジルコニア（ＺｒＯ２）を含む、実施形態２に記載の撹拌チャンバ。
前記ガラス層が、約８０質量％～約９０質量％のシリカ（ＳｉＯ２）、約１質量％～約３質量％の酸化ホウ素（Ｂ２Ｏ３）、約２質量％～約５質量％のアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、約１質量％～約３質量％の酸化ナトリウム（Ｎａ２Ｏ）、約２質量％～約４質量％の酸化カリウム（Ｋ２Ｏ）、約２質量％～約６質量％の酸化亜鉛（ＺｎＯ）、及び約０．１質量％～約２質量％のジルコニア（ＺｒＯ２）を含む、実施形態２に記載の撹拌チャンバ。
【0102】
実施形態４
前記カバー本体が、凹部と、該凹部内に配置された熱源とを含む、実施形態１～３のいずれかに記載の撹拌チャンバ。
前記カバー本体が、凹部と、該凹部内に配置された熱源とを含む、実施形態１～３のいずれかに記載の撹拌チャンバ。
【0103】
実施形態５
前記熱源が、無機フィラーに囲まれた前記凹部内に保持される、実施形態４に記載の撹拌チャンバ。
前記熱源が、無機フィラーに囲まれた前記凹部内に保持される、実施形態４に記載の撹拌チャンバ。
【0104】
実施形態６
前記無機セラミック層が、前記カバー本体の少なくとも上面及び底面と、前記無機フィラーの露出部分とを覆っている、実施形態５に記載の撹拌チャンバ。
前記無機セラミック層が、前記カバー本体の少なくとも上面及び底面と、前記無機フィラーの露出部分とを覆っている、実施形態５に記載の撹拌チャンバ。
【0105】
実施形態７
前記無機フィラーがセメントである、請求項６に記載の撹拌チャンバ。
前記無機フィラーがセメントである、請求項６に記載の撹拌チャンバ。
【0106】
前記無機フィラーがセメントである、実施形態６に記載の撹拌チャンバ。
【0107】
実施形態８
前記カバーが、前記カバー本体の少なくとも上面及び底面を覆う貴金属クラッド層をさらに含み、該貴金属クラッド層が前記無機セラミック層上に設けられている、実施形態１～７のいずれかに記載の撹拌チャンバ。
前記カバーが、前記カバー本体の少なくとも上面及び底面を覆う貴金属クラッド層をさらに含み、該貴金属クラッド層が前記無機セラミック層上に設けられている、実施形態１～７のいずれかに記載の撹拌チャンバ。
【0108】
実施形態９
前記カバーが、前記撹拌容器の内側部分に面している前記貴金属クラッド層の表面を覆う耐火酸化物層をさらに含む、実施形態８に記載の撹拌チャンバ。
前記カバーが、前記撹拌容器の内側部分に面している前記貴金属クラッド層の表面を覆う耐火酸化物層をさらに含む、実施形態８に記載の撹拌チャンバ。
【0109】
実施形態１０
前記カバーが、前記スターラーが通過する中心孔を有しており、かつ、境界領域に沿って第１の本体と第２の本体とに分割されており、
前記第１の本体が、長手方向に前記境界領域に沿って水平に突出するシート部分を含む、
実施形態１～９のいずれかに記載の撹拌チャンバ。
前記カバーが、前記スターラーが通過する中心孔を有しており、かつ、境界領域に沿って第１の本体と第２の本体とに分割されており、
前記第１の本体が、長手方向に前記境界領域に沿って水平に突出するシート部分を含む、
実施形態１～９のいずれかに記載の撹拌チャンバ。
【0110】
実施形態１１
前記シート部分が、前記第２の本体と少なくとも部分的に重なっている、実施形態１０に記載の撹拌チャンバ。
前記シート部分が、前記第２の本体と少なくとも部分的に重なっている、実施形態１０に記載の撹拌チャンバ。
【0111】
実施形態１２
前記シート部分が、前記撹拌容器の内側部分に面している前記第１の本体の下側部分に設けられている、実施形態１１に記載の撹拌チャンバ。
前記シート部分が、前記撹拌容器の内側部分に面している前記第１の本体の下側部分に設けられている、実施形態１１に記載の撹拌チャンバ。
【0112】
実施形態１３
撹拌チャンバであって、
溶融ガラスを受け入れるように構成された撹拌容器；
前記撹拌容器上のカバー；及び
前記カバーを通過し、前記溶融ガラスを撹拌するように構成されたスターラー
を備えており、
前記カバーが、前記スターラーが通過する中心孔を有する、多孔質のカバー本体を含み、
前記カバーが、境界領域に沿って第１の本体と第２の本体とを含み、かつ
前記第１の本体が、長手方向に前記境界領域に沿って水平に突出するシート部分を含む、
撹拌チャンバ。
撹拌チャンバであって、
溶融ガラスを受け入れるように構成された撹拌容器；
前記撹拌容器上のカバー；及び
前記カバーを通過し、前記溶融ガラスを撹拌するように構成されたスターラー
を備えており、
前記カバーが、前記スターラーが通過する中心孔を有する、多孔質のカバー本体を含み、
前記カバーが、境界領域に沿って第１の本体と第２の本体とを含み、かつ
前記第１の本体が、長手方向に前記境界領域に沿って水平に突出するシート部分を含む、
撹拌チャンバ。
【0113】
実施形態１４
前記シート部分が、前記第２の本体と少なくとも部分的に重なっている、実施形態１３に記載の撹拌チャンバ。
前記シート部分が、前記第２の本体と少なくとも部分的に重なっている、実施形態１３に記載の撹拌チャンバ。
【0114】
実施形態１５
前記第１の本体及び前記第２の本体の各々の表面が無機セラミック層によって覆われている、実施形態１３又は１４に記載の撹拌チャンバ。
前記第１の本体及び前記第２の本体の各々の表面が無機セラミック層によって覆われている、実施形態１３又は１４に記載の撹拌チャンバ。
【0115】
実施形態１６
前記第１の本体の下側部分が貴金属クラッド層を含み、前記シート部分が前記貴金属クラッド層の表面に取り付けられている、実施形態１５に記載の撹拌チャンバ。
前記第１の本体の下側部分が貴金属クラッド層を含み、前記シート部分が前記貴金属クラッド層の表面に取り付けられている、実施形態１５に記載の撹拌チャンバ。
【0116】
実施形態１７
撹拌チャンバであって、
溶融ガラスを受け入れるように構成された撹拌容器；
前記撹拌容器上のカバー；及び
前記カバーを通過し、前記溶融ガラスを撹拌するように構成されたスターラー
を備えており、
前記カバーが、前記カバーの少なくとも下面に貴金属クラッド層を含んでおり、前記溶融ガラスに面する前記貴金属クラッド層の表面が、約３質量％～約５質量％のＣａＯ、約０．２質量％～約１質量％のＳｉＯ２、約０．２質量％～約１質量％のＡｌ２Ｏ３、約０．５質量％～約３．５質量％のＨｆＯ２、及び残余のＺｒＯ２を含む耐火酸化物層によって覆われている、
撹拌チャンバ。
撹拌チャンバであって、
溶融ガラスを受け入れるように構成された撹拌容器；
前記撹拌容器上のカバー；及び
前記カバーを通過し、前記溶融ガラスを撹拌するように構成されたスターラー
を備えており、
前記カバーが、前記カバーの少なくとも下面に貴金属クラッド層を含んでおり、前記溶融ガラスに面する前記貴金属クラッド層の表面が、約３質量％～約５質量％のＣａＯ、約０．２質量％～約１質量％のＳｉＯ２、約０．２質量％～約１質量％のＡｌ２Ｏ３、約０．５質量％～約３．５質量％のＨｆＯ２、及び残余のＺｒＯ２を含む耐火酸化物層によって覆われている、
撹拌チャンバ。
【0117】
実施形態１８
前記耐火酸化物層が、約０．０１質量％～約０．３質量％のＦｅ２Ｏ３及び約０．０１質量％～約０．９質量％のＭｇＯをさらに含む、実施形態１７に記載の撹拌チャンバ。
前記耐火酸化物層が、約０．０１質量％～約０．３質量％のＦｅ２Ｏ３及び約０．０１質量％～約０．９質量％のＭｇＯをさらに含む、実施形態１７に記載の撹拌チャンバ。
【0118】
実施形態１９
前記耐火酸化物層の厚さが約２ミル（約０．０５０８ｍｍ）～約８ミル（約０．２０３２ｍｍ）である、実施形態１７又は１８に記載の撹拌チャンバ。
前記耐火酸化物層の厚さが約２ミル（約０．０５０８ｍｍ）～約８ミル（約０．２０３２ｍｍ）である、実施形態１７又は１８に記載の撹拌チャンバ。
【0119】
実施形態２０
前記カバーが、前記撹拌本体が通過する中心孔を備えたカバー本体を含み、かつ、前記カバーが、前記中心孔を通って延びる境界領域に沿って第１の本体と第２の本体とに分割されており、
前記第１の本体及び前記第２の本体の各々の表面が無機セラミック層によって覆われており、前記境界領域を横切って水平に突出するシート部分が前記第１の本体に設けられている、
実施形態１７～１９のいずれかに記載の撹拌チャンバ。
前記カバーが、前記撹拌本体が通過する中心孔を備えたカバー本体を含み、かつ、前記カバーが、前記中心孔を通って延びる境界領域に沿って第１の本体と第２の本体とに分割されており、
前記第１の本体及び前記第２の本体の各々の表面が無機セラミック層によって覆われており、前記境界領域を横切って水平に突出するシート部分が前記第１の本体に設けられている、
実施形態１７～１９のいずれかに記載の撹拌チャンバ。
【符号の説明】
【0120】
１ ガラス製造装置
１０ 貯蔵容器
１１ バッチ材料
１３ バッチ送達装置
１５ 駆動装置
１７ コントローラ
１９ ガラスレベルプローブ
２１ スタンドパイプ
２３ 通信回線
４３ ヘリウムセンサ
５１ チャンバ
５２ 入口弁
５３ 出口弁
５４ 開口部
６１ 試料
６１ｒ 縦凹部
６３ 無機フィラー
６７ 無機セラミック層
６９ 支持体
１００ 溶融容器
１５０ 第１の導管
２００ 清澄容器
２５０ 第２の導管
３００ 溶融ガラス撹拌チャンバ
３１０ スターラー
３１２ ブレード
３１４ 撹拌棒
３２０ 撹拌容器
３３０ カバー
３３０ａ，３３０ａ”，３３１ａ，３３１ａ’，３３１ａ” 第１の本体
３３０ｂ，３３１ｂ 第２の本体
３３２ 熱源
３３３ 貴金属クラッド層
３３３ＵＳ 上面
３３３ＬＳ 下面
３３３ＳＢ 粗面化された下面
３３４ カバー本体
３３４ｆ 無機フィラー
３３４Ｒ 凹部
３３６ 無機セラミック層
３３６ｐ 無機セラミック材料層
３３７ 耐火酸化物層
３３８ 中心孔
３３９ シート部分
３５０ 第３の導管
５００ 送達容器
６００ 出口導管
６５０ 入口
７００ 成形装置
７５０ エッジロール
８００ 牽引ロール
１０ 貯蔵容器
１１ バッチ材料
１３ バッチ送達装置
１５ 駆動装置
１７ コントローラ
１９ ガラスレベルプローブ
２１ スタンドパイプ
２３ 通信回線
４３ ヘリウムセンサ
５１ チャンバ
５２ 入口弁
５３ 出口弁
５４ 開口部
６１ 試料
６１ｒ 縦凹部
６３ 無機フィラー
６７ 無機セラミック層
６９ 支持体
１００ 溶融容器
１５０ 第１の導管
２００ 清澄容器
２５０ 第２の導管
３００ 溶融ガラス撹拌チャンバ
３１０ スターラー
３１２ ブレード
３１４ 撹拌棒
３２０ 撹拌容器
３３０ カバー
３３０ａ，３３０ａ”，３３１ａ，３３１ａ’，３３１ａ” 第１の本体
３３０ｂ，３３１ｂ 第２の本体
３３２ 熱源
３３３ 貴金属クラッド層
３３３ＵＳ 上面
３３３ＬＳ 下面
３３３ＳＢ 粗面化された下面
３３４ カバー本体
３３４ｆ 無機フィラー
３３４Ｒ 凹部
３３６ 無機セラミック層
３３６ｐ 無機セラミック材料層
３３７ 耐火酸化物層
３３８ 中心孔
３３９ シート部分
３５０ 第３の導管
５００ 送達容器
６００ 出口導管
６５０ 入口
７００ 成形装置
７５０ エッジロール
８００ 牽引ロール
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7A】
【図7B】
【図7C】
【図8】
【図9A】
【図9B】
【図10】
【図11A】
【図11B】
【図12】
【図13】
【図14A】
【図14B】
【図15】